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(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】公開特許公報(A)
(11)【公開番号】P2022120853
(43)【公開日】2022-08-18
(54)【発明の名称】光学積層体の製造方法、光学積層体および画像表示装置
(51)【国際特許分類】
G02B 5/30 20060101AFI20220810BHJP
G09F 9/00 20060101ALI20220810BHJP
H05B 33/02 20060101ALI20220810BHJP
H01L 51/50 20060101ALI20220810BHJP
H01L 27/32 20060101ALI20220810BHJP
【ＦＩ】
G02B5/30
G09F9/00 313
H05B33/02
H05B33/14 A
H01L27/32
【審査請求】有
【請求項の数】14
【出願形態】ＯＬ
(21)【出願番号】P 2022086713
(22)【出願日】2022-05-27
(62)【分割の表示】P 2019562205の分割
【原出願日】2018-12-27
(31)【優先権主張番号】P 2017254390
(32)【優先日】2017-12-28
(33)【優先権主張国・地域又は機関】JP
(31)【優先権主張番号】P 2018233812
(32)【優先日】2018-12-13
(33)【優先権主張国・地域又は機関】JP
(71)【出願人】
【識別番号】306037311
【氏名又は名称】富士フイルム株式会社
(74)【代理人】
【識別番号】100152984
【弁理士】
【氏名又は名称】伊東 秀明
(74)【代理人】
【識別番号】100148080
【弁理士】
【氏名又は名称】三橋 史生
(72)【発明者】
【氏名】柴田 直也
(72)【発明者】
【氏名】西村 直弥
(72)【発明者】
【氏名】星野 渉
(72)【発明者】
【氏名】藤木 優壮
(72)【発明者】
【氏名】米本 隆
(57)【要約】
【課題】本発明は、光配向層の表面が擦られても光吸収異方性層に配向欠陥が生じ難い光学積層体の製造方法、光学積層体、および、画像表示装置を提供することを課題とする。
【解決手段】本発明の光学積層体の製造方法は、光配向層および光吸収異方性層を有する、正面透過率が６０％以下の光学積層体を作製する光学積層体の製造方法であって、ポリマーフィルム上に、光配向層を形成する光配向層形成工程と、光配向層上に、二色性物質および高分子液晶性化合物を含有する液晶組成物を塗布して光吸収異方性層を形成する光吸収異方性層形成工程とを有する、光学積層体の製造方法である。
【選択図】なし
【解決手段】本発明の光学積層体の製造方法は、光配向層および光吸収異方性層を有する、正面透過率が６０％以下の光学積層体を作製する光学積層体の製造方法であって、ポリマーフィルム上に、光配向層を形成する光配向層形成工程と、光配向層上に、二色性物質および高分子液晶性化合物を含有する液晶組成物を塗布して光吸収異方性層を形成する光吸収異方性層形成工程とを有する、光学積層体の製造方法である。
【選択図】なし
【特許請求の範囲】
【請求項1】
光配向層および光吸収異方性層を有する、正面透過率が６０％以下の光学積層体を作製する光学積層体の製造方法であって、
ポリマーフィルム上に、光配向層を形成する光配向層形成工程と、
前記光配向層上に、二色性物質および高分子液晶性化合物を含有する液晶組成物を塗布して光吸収異方性層を形成する光吸収異方性層形成工程とを有する、光学積層体の製造方法。
ポリマーフィルム上に、光配向層を形成する光配向層形成工程と、
前記光配向層上に、二色性物質および高分子液晶性化合物を含有する液晶組成物を塗布して光吸収異方性層を形成する光吸収異方性層形成工程とを有する、光学積層体の製造方法。
【請求項2】
前記光配向層形成工程と、前記光吸収異方性層形成工程との間に、前記光配向層の前記液晶組成物を塗布する側の表面が、搬送ロールに接触する工程を有する、請求項１に記載の光学積層体の製造方法。
【請求項3】
前記光配向層形成工程と、前記光吸収異方性層形成工程との間に、前記光配向層が形成されたポリマーフィルムを巻き取る工程を有する、請求項１または２に記載の光学積層体の製造方法。
【請求項4】
前記光配向層形成工程が、光反応性基を有する化合物を含有する光配向層形成用組成物を前記ポリマーフィルム上に塗布して塗膜を形成する工程と、前記塗膜を加熱により乾燥させる工程と、乾燥後の前記塗膜に対して偏光または前記塗膜表面に対して斜め方向から非偏光を照射する工程とを有する、請求項１～３のいずれか１項に記載の光学積層体の製造方法。
【請求項5】
前記光配向層形成用組成物が、光反応性基および架橋性基を有する化合物を含有し、ラジカル重合開始剤を含有しない組成物である、請求項４に記載の光学積層体の製造方法。
【請求項6】
前記光吸収異方性層形成工程が、前記液晶組成物を前記光配向層上に塗布して塗膜を形成する工程と、前記塗膜に含まれる液晶性成分を配向させる工程とを有する、請求項１～５のいずれか１項に記載の光学積層体の製造方法。
【請求項7】
光配向層および光吸収異方性層を有する、正面透過率が６０％以下の光学積層体であって、
前記光吸収異方性層が、二色性物質および高分子液晶性化合物を含有する液晶組成物から形成された層である、光学積層体。
前記光吸収異方性層が、二色性物質および高分子液晶性化合物を含有する液晶組成物から形成された層である、光学積層体。
【請求項8】
前記液晶組成物における前記高分子液晶性化合物の固形分割合が５５質量％以上９５質量％以下であり、前記二色性物質の固形分割合が２質量％以上３５質量％以下である、請求項７に記載の光学積層体。
【請求項9】
前記液晶組成物における前記高分子液晶性化合物の固形分割合が７５質量％以上９５質量％以下であり、前記二色性物質の固形分割合が５質量％以上２５質量％以下である、請求項７または８に記載の光学積層体。
【請求項10】
前記液晶組成物が、下記式（１）で表される繰り返し単位を有する高分子液晶性化合物を含有する、請求項７～９のいずれか１項に記載の光学積層体。
ここで、前記式（１）中、
Ｒは、水素原子またはメチル基を表す。
Ｌは、単結合または２価の連結基を表す。
Ｂは、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、アルキル基、アルコキシ基、アミノ基、オキシカルボニル基、アシルオキシ基、アシルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、スルホニルアミノ基、スルファモイル基、カルバモイル基、アルキルチオ基、フルホニル基、スルフィニル基、ウレイド基または架橋性基を表す。
Ｍは、下記式（１－１）で表されるメソゲン基を表す。
ここで、前記式（１－１）中、
Ａｒ１１およびＡｒ１２は、それぞれ独立に、置換基を有していてもよいフェニレン基またはビフェニレン基を表す。
Ｌ１１およびＬ１２は、それぞれ独立に、単結合、または、アゾ基を含まない２価の連結基を表す。
Ｙは、イミノ基、－ＯＣＯ－ＣＨ＝ＣＨ－基、または、－ＣＨ＝ＣＨ－ＣＯ２－基を表す。
ｍ１およびｍ２は、それぞれ独立に、１～３の整数を表す。
ｍ１が２～３の整数の場合、複数のＡｒ１１はそれぞれ同一であっても異なっていてもよく、複数のＬ１１はそれぞれ同一であっても異なっていてもよい。
ｍ２が２～３の整数の場合、複数のＡｒ１２はそれぞれ同一であっても異なっていてもよく、複数のＬ１２はそれぞれ同一であっても異なっていてもよい。
【化1】
Ｒは、水素原子またはメチル基を表す。
Ｌは、単結合または２価の連結基を表す。
Ｂは、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、アルキル基、アルコキシ基、アミノ基、オキシカルボニル基、アシルオキシ基、アシルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、スルホニルアミノ基、スルファモイル基、カルバモイル基、アルキルチオ基、フルホニル基、スルフィニル基、ウレイド基または架橋性基を表す。
Ｍは、下記式（１－１）で表されるメソゲン基を表す。
【化2】
Ａｒ１１およびＡｒ１２は、それぞれ独立に、置換基を有していてもよいフェニレン基またはビフェニレン基を表す。
Ｌ１１およびＬ１２は、それぞれ独立に、単結合、または、アゾ基を含まない２価の連結基を表す。
Ｙは、イミノ基、－ＯＣＯ－ＣＨ＝ＣＨ－基、または、－ＣＨ＝ＣＨ－ＣＯ２－基を表す。
ｍ１およびｍ２は、それぞれ独立に、１～３の整数を表す。
ｍ１が２～３の整数の場合、複数のＡｒ１１はそれぞれ同一であっても異なっていてもよく、複数のＬ１１はそれぞれ同一であっても異なっていてもよい。
ｍ２が２～３の整数の場合、複数のＡｒ１２はそれぞれ同一であっても異なっていてもよく、複数のＬ１２はそれぞれ同一であっても異なっていてもよい。
【請求項11】
前記液晶組成物が、下記式（２）で表される繰り返し単位を有する高分子液晶性化合物を含有し、
下記式（２）において、Ｐ１、Ｌ１およびＳＰ１のｌｏｇＰ値と、Ｍ１のｌｏｇＰ値との差が、４以上である、請求項７～９のいずれか１項に記載の光学積層体。
ここで、前記式（２）中、
Ｐ１は、繰り返し単位の主鎖を表し、Ｌ１は、単結合または２価の連結基を表し、ＳＰ１は、スペーサー基を表し、Ｍ１は、メソゲン基を表し、Ｔ１は、末端基を表す。
ただし、Ｍ１が連結基を有する場合、連結基としてアゾ基を含まない。
下記式（２）において、Ｐ１、Ｌ１およびＳＰ１のｌｏｇＰ値と、Ｍ１のｌｏｇＰ値との差が、４以上である、請求項７～９のいずれか１項に記載の光学積層体。
【化3】
Ｐ１は、繰り返し単位の主鎖を表し、Ｌ１は、単結合または２価の連結基を表し、ＳＰ１は、スペーサー基を表し、Ｍ１は、メソゲン基を表し、Ｔ１は、末端基を表す。
ただし、Ｍ１が連結基を有する場合、連結基としてアゾ基を含まない。
【請求項12】
前記液晶組成物が、ラジカル重合性基を有する高分子液晶性化合物を含有する、請求項７～１１のいずれか１項に記載の光学積層体。
【請求項13】
前記液晶組成物が、ラジカル重合性基を有する低分子液晶性化合物を含有する、請求項７～１２のいずれか１項に記載の光学積層体。
【請求項14】
前記光配向層が、シンナモイル基を有する化合物を含有する組成物から形成された層である、請求項７～１３のいずれか１項に記載の光学積層体。
【請求項15】
前記光配向層が、シンナモイル基および架橋基を有する化合物を含有する組成物から形成された層である、請求項７～１４のいずれか１項に記載の光学積層体。
【請求項16】
前記光配向層が、シンナモイル基およびラジカル重合性基を有する化合物を含有する組成物から形成された層である、請求項７～１５のいずれか１項に記載の光学積層体。
【請求項17】
前記光配向層が、光活性基としてアゾ基を有する光活性化合物を含む光配向層であり、前記光活性化合物が、分子量１０００以下の重合性基を持たない低分子化合物である、請求項７～１３のいずれか１項に記載の光学積層体。
【請求項18】
更に、λ／４板を有する、請求項７～１７のいずれか１項に記載の光学積層体。
【請求項19】
請求項７～１８のいずれか１項に記載の光学積層体を有する画像表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、光学積層体の製造方法、光学積層体および画像表示装置に関する。
【背景技術】
【0002】
近年、有機発光ダイオード（Organic Light Emitting Diode：ＯＬＥＤ）の開発が進んでおり、使用される各部材に対してフレキシブル化が進んでいる。中でも、外光の反射防止のために使用されている円偏光板は、高い偏光度とフレキシブル性が求められる。
従来、円偏光板にはヨウ素偏光子が使用されているが、ヨウ素偏光子は、ヨウ素をポリビニルアルコールのような高分子材料に溶解又は吸着させ、その膜を一方向にフィルム状に高倍率に延伸することで作製されるため、十分なフレキブル性がなかった。
従来、円偏光板にはヨウ素偏光子が使用されているが、ヨウ素偏光子は、ヨウ素をポリビニルアルコールのような高分子材料に溶解又は吸着させ、その膜を一方向にフィルム状に高倍率に延伸することで作製されるため、十分なフレキブル性がなかった。
【0003】
そのため、透明フィルムなどの基板上に二色性色素を塗布し、分子間相互作用などを利用して配向させた偏光子が検討されている。
例えば、特許文献１には、二色性アゾ色素を高い配向性有する液晶マトリクス中に相溶させ、高い二色比を有する偏光素子が提案されている。
また、特許文献２には、二色性アゾ色素を用いて高濃度かつ薄膜で高い偏光度を有する偏光子が提案されている。
更に、特許文献３には、光照射により配向を規制する光配向層を用いて二色性色素の配向を制御できることが記載されている。
例えば、特許文献１には、二色性アゾ色素を高い配向性有する液晶マトリクス中に相溶させ、高い二色比を有する偏光素子が提案されている。
また、特許文献２には、二色性アゾ色素を用いて高濃度かつ薄膜で高い偏光度を有する偏光子が提案されている。
更に、特許文献３には、光照射により配向を規制する光配向層を用いて二色性色素の配向を制御できることが記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0004】
【特許文献1】特許第５９２３９４１号公報
【特許文献2】特許第５４３７７４４号公報
【特許文献3】特許第５３００７７６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0005】
本発明者らは、支持体上に、光活性化合物を含む光配向層を光照射により配向させた後、二色性物質を含有する光吸収異方性層を積層させて偏光子を作製する検討を行った。
検討の結果、本発明者らは、光配向層の表面が、搬送ロール等によって擦られた場合には、積層させた光吸収異方性層に配向欠陥が生じることを見出した。
検討の結果、本発明者らは、光配向層の表面が、搬送ロール等によって擦られた場合には、積層させた光吸収異方性層に配向欠陥が生じることを見出した。
【0006】
そこで、本発明は、光配向層の表面が擦られても光吸収異方性層に配向欠陥が生じ難い光学積層体の製造方法、光学積層体、および、画像表示装置を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【0007】
本発明者らは、上記課題を達成すべく鋭意検討した結果、光配向層上に、二色性物質および高分子液晶性化合物を含有する液晶組成物を塗布して光吸収異方性層を形成することにより、光配向層の表面が擦られても光吸収異方性層に配向欠陥が生じ難くなることを見出し、本発明を完成させた。
すなわち、本発明者らは、以下の構成により上記課題が解決できることを見出した。
すなわち、本発明者らは、以下の構成により上記課題が解決できることを見出した。
【0008】
［１］ 光配向層および光吸収異方性層を有する、正面透過率が６０％以下の光学積層体を作製する光学積層体の製造方法であって、
ポリマーフィルム上に、光配向層を形成する光配向層形成工程と、
光配向層上に、二色性物質および高分子液晶性化合物を含有する液晶組成物を塗布して光吸収異方性層を形成する光吸収異方性層形成工程とを有する、光学積層体の製造方法。
［２］ 光配向層形成工程と、光吸収異方性層形成工程との間に、光配向層の液晶組成物を塗布する側の表面が、搬送ロールに接触する工程を有する、［１］に記載の光学積層体の製造方法。
［３］ 光配向層形成工程と、光吸収異方性層形成工程との間に、光配向層が形成されたポリマーフィルムを巻き取る工程を有する、［１］または［２］に記載の光学積層体の製造方法。
［４］ 光配向層形成工程が、光反応性基を有する化合物を含有する光配向層形成用組成物をポリマーフィルム上に塗布して塗膜を形成する工程と、塗膜を加熱により乾燥させる工程と、乾燥後の塗膜に対して偏光または塗膜表面に対して斜め方向から非偏光を照射する工程とを有する、［１］～［３］のいずれかに記載の光学積層体の製造方法。
［５］ 光配向層形成用組成物が、光反応性基および架橋性基を有する化合物を含有し、ラジカル重合開始剤を含有しない組成物である、［４］に記載の光学積層体の製造方法。
［６］ 光吸収異方性層形成工程が、液晶組成物を光配向層上に塗布して塗膜を形成する工程と、塗膜に含まれる液晶性成分を配向させる工程とを有する、［１］～［５］のいずれかに記載の光学積層体の製造方法。
ポリマーフィルム上に、光配向層を形成する光配向層形成工程と、
光配向層上に、二色性物質および高分子液晶性化合物を含有する液晶組成物を塗布して光吸収異方性層を形成する光吸収異方性層形成工程とを有する、光学積層体の製造方法。
［２］ 光配向層形成工程と、光吸収異方性層形成工程との間に、光配向層の液晶組成物を塗布する側の表面が、搬送ロールに接触する工程を有する、［１］に記載の光学積層体の製造方法。
［３］ 光配向層形成工程と、光吸収異方性層形成工程との間に、光配向層が形成されたポリマーフィルムを巻き取る工程を有する、［１］または［２］に記載の光学積層体の製造方法。
［４］ 光配向層形成工程が、光反応性基を有する化合物を含有する光配向層形成用組成物をポリマーフィルム上に塗布して塗膜を形成する工程と、塗膜を加熱により乾燥させる工程と、乾燥後の塗膜に対して偏光または塗膜表面に対して斜め方向から非偏光を照射する工程とを有する、［１］～［３］のいずれかに記載の光学積層体の製造方法。
［５］ 光配向層形成用組成物が、光反応性基および架橋性基を有する化合物を含有し、ラジカル重合開始剤を含有しない組成物である、［４］に記載の光学積層体の製造方法。
［６］ 光吸収異方性層形成工程が、液晶組成物を光配向層上に塗布して塗膜を形成する工程と、塗膜に含まれる液晶性成分を配向させる工程とを有する、［１］～［５］のいずれかに記載の光学積層体の製造方法。
【0009】
［７］ 光配向層および光吸収異方性層を有する、正面透過率が６０％以下の光学積層体であって、
光吸収異方性層が、二色性物質および高分子液晶性化合物を含有する液晶組成物から形成された層である、光学積層体。
［８］ 液晶組成物における高分子液晶性化合物の固形分割合が５５質量％以上９５質量％以下であり、二色性物質の固形分割合が２質量％以上３５質量％以下である、［７］に記載の光学積層体。
［９］ 液晶組成物における高分子液晶性化合物の固形分割合が７５質量％以上９５質量％以下であり、二色性物質の固形分割合が５質量％以上２５質量％以下である、［７］または［８］に記載の光学積層体。
［１０］ 液晶組成物が、下記式（１）で表される繰り返し単位を有する高分子液晶性化合物を含有する、［７］～［９］のいずれかに記載の光学積層体。
ここで、上記式（１）中、
Ｒは、水素原子またはメチル基を表す。
Ｌは、単結合または２価の連結基を表す。
Ｂは、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、アルキル基、アルコキシ基、アミノ基、オキシカルボニル基、アシルオキシ基、アシルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、スルホニルアミノ基、スルファモイル基、カルバモイル基、アルキルチオ基、フルホニル基、スルフィニル基、ウレイド基または架橋性基を表す。
Ｍは、下記式（１－１）で表されるメソゲン基を表す。
ここで、上記式（１－１）中、
Ａｒ１１およびＡｒ１２は、それぞれ独立に、置換基を有していてもよいフェニレン基またはビフェニレン基を表す。
Ｌ１１およびＬ１２は、それぞれ独立に、単結合、または、アゾ基を含まない２価の連結基を表す。
Ｙは、イミノ基、－ＯＣＯ－ＣＨ＝ＣＨ－基、または、－ＣＨ＝ＣＨ－ＣＯ２－基を表す。
ｍ１およびｍ２は、それぞれ独立に、１～３の整数を表す。
ｍ１が２～３の整数の場合、複数のＡｒ１１はそれぞれ同一であっても異なっていてもよく、複数のＬ１１はそれぞれ同一であっても異なっていてもよい。
ｍ２が２～３の整数の場合、複数のＡｒ１２はそれぞれ同一であっても異なっていてもよく、複数のＬ１２はそれぞれ同一であっても異なっていてもよい。
［１１］ 液晶組成物が、下記式（２）で表される繰り返し単位を有する高分子液晶性化合物を含有し、
下記式（２）において、Ｐ１、Ｌ１およびＳＰ１のｌｏｇＰ値と、Ｍ１のｌｏｇＰ値との差が、４以上である、［７］～［９］のいずれかに記載の光学積層体。
ここで、上記式（２）中、
Ｐ１は、繰り返し単位の主鎖を表し、Ｌ１は、単結合または２価の連結基を表し、ＳＰ１は、スペーサー基を表し、Ｍ１は、メソゲン基を表し、Ｔ１は、末端基を表す。
ただし、Ｍ１が連結基を有する場合、連結基としてアゾ基を含まない。
［１２］ 液晶組成物が、ラジカル重合性基を有する高分子液晶性化合物を含有する、［７］～［１１］のいずれかに記載の光学積層体。
［１３］ 液晶組成物が、ラジカル重合性基を有する低分子液晶性化合物を含有する、［７］～［１２］のいずれかに記載の光学積層体。
［１４］ 光配向層が、シンナモイル基を有する化合物を含有する組成物から形成された層である、［７］～［１３］のいずれかに記載の光学積層体。
［１５］ 光配向層が、シンナモイル基および架橋基を有する化合物を含有する組成物から形成された層である、［７］～［１４］のいずれかに記載の光学積層体。
［１６］ 光配向層が、シンナモイル基およびラジカル重合性基を有する化合物を含有する組成物から形成された層である、［７］～［１５］のいずれかに記載の光学積層体。
［１７］ 光配向層が、光活性基としてアゾ基を有する光活性化合物を含む光配向層であり、光活性化合物が、分子量１０００以下の重合性基を持たない低分子化合物である、［７］～［１３］のいずれかに記載の光学積層体。
［１８］ 更に、λ／４板を有する、［７］～［１７］のいずれかに記載の光学積層体。
［１９］ ［７］～［１８］のいずれかに記載の光学積層体を有する画像表示装置。
光吸収異方性層が、二色性物質および高分子液晶性化合物を含有する液晶組成物から形成された層である、光学積層体。
［８］ 液晶組成物における高分子液晶性化合物の固形分割合が５５質量％以上９５質量％以下であり、二色性物質の固形分割合が２質量％以上３５質量％以下である、［７］に記載の光学積層体。
［９］ 液晶組成物における高分子液晶性化合物の固形分割合が７５質量％以上９５質量％以下であり、二色性物質の固形分割合が５質量％以上２５質量％以下である、［７］または［８］に記載の光学積層体。
［１０］ 液晶組成物が、下記式（１）で表される繰り返し単位を有する高分子液晶性化合物を含有する、［７］～［９］のいずれかに記載の光学積層体。
【化1】
Ｒは、水素原子またはメチル基を表す。
Ｌは、単結合または２価の連結基を表す。
Ｂは、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、アルキル基、アルコキシ基、アミノ基、オキシカルボニル基、アシルオキシ基、アシルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、スルホニルアミノ基、スルファモイル基、カルバモイル基、アルキルチオ基、フルホニル基、スルフィニル基、ウレイド基または架橋性基を表す。
Ｍは、下記式（１－１）で表されるメソゲン基を表す。
【化2】
Ａｒ１１およびＡｒ１２は、それぞれ独立に、置換基を有していてもよいフェニレン基またはビフェニレン基を表す。
Ｌ１１およびＬ１２は、それぞれ独立に、単結合、または、アゾ基を含まない２価の連結基を表す。
Ｙは、イミノ基、－ＯＣＯ－ＣＨ＝ＣＨ－基、または、－ＣＨ＝ＣＨ－ＣＯ２－基を表す。
ｍ１およびｍ２は、それぞれ独立に、１～３の整数を表す。
ｍ１が２～３の整数の場合、複数のＡｒ１１はそれぞれ同一であっても異なっていてもよく、複数のＬ１１はそれぞれ同一であっても異なっていてもよい。
ｍ２が２～３の整数の場合、複数のＡｒ１２はそれぞれ同一であっても異なっていてもよく、複数のＬ１２はそれぞれ同一であっても異なっていてもよい。
［１１］ 液晶組成物が、下記式（２）で表される繰り返し単位を有する高分子液晶性化合物を含有し、
下記式（２）において、Ｐ１、Ｌ１およびＳＰ１のｌｏｇＰ値と、Ｍ１のｌｏｇＰ値との差が、４以上である、［７］～［９］のいずれかに記載の光学積層体。
【化3】
Ｐ１は、繰り返し単位の主鎖を表し、Ｌ１は、単結合または２価の連結基を表し、ＳＰ１は、スペーサー基を表し、Ｍ１は、メソゲン基を表し、Ｔ１は、末端基を表す。
ただし、Ｍ１が連結基を有する場合、連結基としてアゾ基を含まない。
［１２］ 液晶組成物が、ラジカル重合性基を有する高分子液晶性化合物を含有する、［７］～［１１］のいずれかに記載の光学積層体。
［１３］ 液晶組成物が、ラジカル重合性基を有する低分子液晶性化合物を含有する、［７］～［１２］のいずれかに記載の光学積層体。
［１４］ 光配向層が、シンナモイル基を有する化合物を含有する組成物から形成された層である、［７］～［１３］のいずれかに記載の光学積層体。
［１５］ 光配向層が、シンナモイル基および架橋基を有する化合物を含有する組成物から形成された層である、［７］～［１４］のいずれかに記載の光学積層体。
［１６］ 光配向層が、シンナモイル基およびラジカル重合性基を有する化合物を含有する組成物から形成された層である、［７］～［１５］のいずれかに記載の光学積層体。
［１７］ 光配向層が、光活性基としてアゾ基を有する光活性化合物を含む光配向層であり、光活性化合物が、分子量１０００以下の重合性基を持たない低分子化合物である、［７］～［１３］のいずれかに記載の光学積層体。
［１８］ 更に、λ／４板を有する、［７］～［１７］のいずれかに記載の光学積層体。
［１９］ ［７］～［１８］のいずれかに記載の光学積層体を有する画像表示装置。
【発明の効果】
【0010】
本発明によれば、光配向層の表面が擦られても光吸収異方性層に配向欠陥が生じ難い光学積層体の製造方法、光学積層体、および、画像表示装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【0011】
【発明を実施するための形態】
【0012】
以下、本発明について詳細に説明する。
以下に記載する構成要件の説明は、本発明の代表的な実施態様に基づいてなされることがあるが、本発明はそのような実施態様に限定されるものではない。
なお、本明細書において、「～」を用いて表される数値範囲は、「～」の前後に記載される数値を下限値および上限値として含む範囲を意味する。
また、本明細書において、各成分は、各成分に該当する物質を１種単独でも用いても、２種以上を併用してもよい。ここで、各成分について２種以上の物質を併用する場合、その成分についての含有量とは、特段の断りが無い限り、併用した物質の合計の含有量を指す。
また、本明細書において、「（メタ）アクリレート」は、「アクリレート」または「メタクリレート」を表す表記であり、「（メタ）アクリル」は、「アクリル」または「メタクリル」を表す表記であり、「（メタ）アクリロイル」は、「アクリロイル」または「メタクリロイル」を表す表記である。
以下に記載する構成要件の説明は、本発明の代表的な実施態様に基づいてなされることがあるが、本発明はそのような実施態様に限定されるものではない。
なお、本明細書において、「～」を用いて表される数値範囲は、「～」の前後に記載される数値を下限値および上限値として含む範囲を意味する。
また、本明細書において、各成分は、各成分に該当する物質を１種単独でも用いても、２種以上を併用してもよい。ここで、各成分について２種以上の物質を併用する場合、その成分についての含有量とは、特段の断りが無い限り、併用した物質の合計の含有量を指す。
また、本明細書において、「（メタ）アクリレート」は、「アクリレート」または「メタクリレート」を表す表記であり、「（メタ）アクリル」は、「アクリル」または「メタクリル」を表す表記であり、「（メタ）アクリロイル」は、「アクリロイル」または「メタクリロイル」を表す表記である。
【0013】
［光学積層体の製造方法］
本発明の光学積層体の製造方法は、光配向層および光吸収異方性層を有する、正面透過率が６０％以下の光学積層体を作製する光学積層体の製造方法である。
本発明の光学積層体の製造方法は、ポリマーフィルム上に、光配向層を形成する光配向層形成工程と、光配向層上に、二色性物質および高分子液晶性化合物を含有する液晶組成物を塗布して光吸収異方性層を形成する光吸収異方性層形成工程とを有する。
本発明の光学積層体の製造方法は、光配向層および光吸収異方性層を有する、正面透過率が６０％以下の光学積層体を作製する光学積層体の製造方法である。
本発明の光学積層体の製造方法は、ポリマーフィルム上に、光配向層を形成する光配向層形成工程と、光配向層上に、二色性物質および高分子液晶性化合物を含有する液晶組成物を塗布して光吸収異方性層を形成する光吸収異方性層形成工程とを有する。
【0014】
本発明の光学積層体の製造方法においては、上述した通り、光配向層上に、二色性物質および高分子液晶性化合物を含有する液晶組成物を塗布して光吸収異方性層を形成することにより、光配向層の表面が擦られていても光吸収異方性層における配向欠陥の発生を抑制することができる。
この理由の詳細は未だ明らかになっていないが、本発明者らは以下の理由によるものと推測している。
まず、光配向層は、表面が擦られると、その部分の配向に局所的な乱れが生じると考えられる。
そのため、二色性物質および高分子液晶性化合物を含有する液晶組成物を用いると、高分子液晶性化合物が有する多数のメソゲン部位により、光配向層に付与された配向規制力を周囲に伝播することができ、その結果、光配向層に存在する局所的な配向の乱れに影響されずに周囲と同じ配向が実現できていると推察できる。
次に、本発明の光学積層体の製造方法が有する光配向層形成工程および光吸収異方性層形成工程ならびに任意の他の工程について詳述する。
この理由の詳細は未だ明らかになっていないが、本発明者らは以下の理由によるものと推測している。
まず、光配向層は、表面が擦られると、その部分の配向に局所的な乱れが生じると考えられる。
そのため、二色性物質および高分子液晶性化合物を含有する液晶組成物を用いると、高分子液晶性化合物が有する多数のメソゲン部位により、光配向層に付与された配向規制力を周囲に伝播することができ、その結果、光配向層に存在する局所的な配向の乱れに影響されずに周囲と同じ配向が実現できていると推察できる。
次に、本発明の光学積層体の製造方法が有する光配向層形成工程および光吸収異方性層形成工程ならびに任意の他の工程について詳述する。
【0015】
〔光配向層形成工程〕
本発明の光学積層体の製造方法が有する光配向層形成工程は、ポリマーフィルム上に、光配向層を形成する工程である。
本発明の光学積層体の製造方法が有する光配向層形成工程は、ポリマーフィルム上に、光配向層を形成する工程である。
【0016】
＜ポリマーフィルム＞
ポリマーフィルムは、特に限定されず、通常用いるポリマーフィルム（例えば、偏光子保護フィルムなど）を用いることができる。
ポリマーフィルムを構成するポリマーとしては、具体的には、例えば、セルロース系ポリマー；ポリメチルメタクリレート、ラクトン環含有重合体等のアクリル酸エステル重合体を有するアクリル系ポリマー；熱可塑性ノルボルネン系ポリマー；ポリカーボネート系ポリマー；ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系ポリマー；ポリスチレン、アクリロニトリル・スチレン共重合体（ＡＳ樹脂）等のスチレン系ポリマー；ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン・プロピレン共重合体等のポリオレフィン系ポリマー；塩化ビニル系ポリマー；ナイロン、芳香族ポリアミド等のアミド系ポリマー；イミド系ポリマー；スルホン系ポリマー；ポリエーテルスルホン系ポリマー；ポリエーテルエーテルケトン系ポリマー；ポリフェニレンスルフィド系ポリマー；塩化ビニリデン系ポリマー；ビニルアルコール系ポリマー；ビニルブチラール系ポリマー；アリレート系ポリマー；ポリオキシメチレン系ポリマー；エポキシ系ポリマー；またはこれらのポリマーを混合したポリマーが挙げられる。
ポリマーフィルムは、特に限定されず、通常用いるポリマーフィルム（例えば、偏光子保護フィルムなど）を用いることができる。
ポリマーフィルムを構成するポリマーとしては、具体的には、例えば、セルロース系ポリマー；ポリメチルメタクリレート、ラクトン環含有重合体等のアクリル酸エステル重合体を有するアクリル系ポリマー；熱可塑性ノルボルネン系ポリマー；ポリカーボネート系ポリマー；ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系ポリマー；ポリスチレン、アクリロニトリル・スチレン共重合体（ＡＳ樹脂）等のスチレン系ポリマー；ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン・プロピレン共重合体等のポリオレフィン系ポリマー；塩化ビニル系ポリマー；ナイロン、芳香族ポリアミド等のアミド系ポリマー；イミド系ポリマー；スルホン系ポリマー；ポリエーテルスルホン系ポリマー；ポリエーテルエーテルケトン系ポリマー；ポリフェニレンスルフィド系ポリマー；塩化ビニリデン系ポリマー；ビニルアルコール系ポリマー；ビニルブチラール系ポリマー；アリレート系ポリマー；ポリオキシメチレン系ポリマー；エポキシ系ポリマー；またはこれらのポリマーを混合したポリマーが挙げられる。
【0017】
これらのうち、トリアセチルセルロースに代表される、セルロース系ポリマー（以下、「セルロースアシレート」ともいう。）を好ましく用いることができる。
また、加工性および光学性能の観点から、アクリル系ポリマーを用いるのも好ましい。
アクリル系ポリマーとしては、ポリメチルメタクリレートや、特開２００９－９８６０５号公報の段落［００１７］～［０１０７］に記載されるラクトン環含有重合体等が挙げられる。
また、加工性および光学性能の観点から、アクリル系ポリマーを用いるのも好ましい。
アクリル系ポリマーとしては、ポリメチルメタクリレートや、特開２００９－９８６０５号公報の段落［００１７］～［０１０７］に記載されるラクトン環含有重合体等が挙げられる。
【0018】
本発明においては、作製される光学積層体から剥離可能なポリマーフィルムを用いる態様では、セルロース系ポリマーまたはポリエステル系ポリマーを好ましく用いることができる。
【0019】
また、本発明においては、上記ポリマーフィルムは、透明であることが好ましい。
ここで、本発明でいう「透明」とは、可視光の透過率が６０％以上であることを示し、好ましくは８０％以上であり、特に好ましくは９０％以上である。
ここで、本発明でいう「透明」とは、可視光の透過率が６０％以上であることを示し、好ましくは８０％以上であり、特に好ましくは９０％以上である。
【0020】
ポリマーフィルムの厚さは特に限定されないが、光学積層体の厚みを薄くできる等の理由から４０μｍ以下が好ましい。下限は特に限定されないが通常５μｍ以上である。
【0021】
＜光配向層＞
上述したポリマーフィルム上に形成される光配向層は、光活性化合物（光反応性基を有する化合物）を含有する光配向層である。
本発明においては、光配向層は、光反応性基を有する化合物を含有する組成物（以下、「光配向層形成用組成物」とも略す。）を上述したポリマーフィルム上に塗布して塗膜を形成する工程と、塗膜を加熱により乾燥させる工程と、乾燥後の塗膜に対して偏光または塗膜表面に対して斜め方向から非偏光を照射する工程とを経ることによって得られる、配向規制力が付与された配向層であることが好ましい。
上述したポリマーフィルム上に形成される光配向層は、光活性化合物（光反応性基を有する化合物）を含有する光配向層である。
本発明においては、光配向層は、光反応性基を有する化合物を含有する組成物（以下、「光配向層形成用組成物」とも略す。）を上述したポリマーフィルム上に塗布して塗膜を形成する工程と、塗膜を加熱により乾燥させる工程と、乾燥後の塗膜に対して偏光または塗膜表面に対して斜め方向から非偏光を照射する工程とを経ることによって得られる、配向規制力が付与された配向層であることが好ましい。
【0022】
光反応性基とは、光を照射することにより液晶配向能を生じる基をいう。具体的には、光を照射することで生じる分子（光活性化合物と呼ぶ）の配向誘起又は異性化反応、二量化反応、光架橋反応、あるいは光分解反応のような、液晶配向能の起源となる光反応を生じるものである。
光反応性基としては、不飽和結合、特に二重結合を有するものが好ましく、炭素－炭素二重結合（Ｃ＝Ｃ結合）、炭素－窒素二重結合（Ｃ＝Ｎ結合）、窒素－窒素二重結合（Ｎ＝Ｎ結合）及び炭素－酸素二重結合（Ｃ＝Ｏ結合）からなる群より選ばれる少なくとも一つを有する基が挙げられる。
光反応性基としては、不飽和結合、特に二重結合を有するものが好ましく、炭素－炭素二重結合（Ｃ＝Ｃ結合）、炭素－窒素二重結合（Ｃ＝Ｎ結合）、窒素－窒素二重結合（Ｎ＝Ｎ結合）及び炭素－酸素二重結合（Ｃ＝Ｏ結合）からなる群より選ばれる少なくとも一つを有する基が挙げられる。
【0023】
Ｃ＝Ｃ結合を有する光反応性基としては、例えば、ビニル基、ポリエン基、スチルベン基、スチルバゾ－ル基、スチルバゾリウム基、カルコン基及びシンナモイル基が挙げられる。
Ｃ＝Ｎ結合を有する光反応性基としては、例えば、芳香族シッフ塩基及び芳香族ヒドラゾン等の構造を有する基が挙げられる。
Ｃ＝Ｏ結合を有する光反応性基としては、例えば、ベンゾフェノン基、クマリン基、アントラキノン基及びマレイミド基が挙げられる。
Ｎ＝Ｎ結合を有する光反応性基（以下、「アゾ基」とも略す。）としては、例えば、アゾベンゼン基、アゾナフタレン基、芳香族複素環アゾ基、ビスアゾ基及びホルマザン基などや、アゾキシベンゼンを基本構造とする基が挙げられる。
これらの基は、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、アリルオキシ基、シアノ基、アルコキシカルボニル基、ヒドロキシル基、スルホン酸基又はハロゲン化アルキル基等の置換基を有していてもよい。
これらの基の中でも、シンナモイル基またはアゾベンゼン基は、光配向に必要な偏光照射量が比較的少なく、かつ、熱安定性や経時安定性に優れる光配向層が得られやすいため好ましい。
Ｃ＝Ｎ結合を有する光反応性基としては、例えば、芳香族シッフ塩基及び芳香族ヒドラゾン等の構造を有する基が挙げられる。
Ｃ＝Ｏ結合を有する光反応性基としては、例えば、ベンゾフェノン基、クマリン基、アントラキノン基及びマレイミド基が挙げられる。
Ｎ＝Ｎ結合を有する光反応性基（以下、「アゾ基」とも略す。）としては、例えば、アゾベンゼン基、アゾナフタレン基、芳香族複素環アゾ基、ビスアゾ基及びホルマザン基などや、アゾキシベンゼンを基本構造とする基が挙げられる。
これらの基は、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、アリルオキシ基、シアノ基、アルコキシカルボニル基、ヒドロキシル基、スルホン酸基又はハロゲン化アルキル基等の置換基を有していてもよい。
これらの基の中でも、シンナモイル基またはアゾベンゼン基は、光配向に必要な偏光照射量が比較的少なく、かつ、熱安定性や経時安定性に優れる光配向層が得られやすいため好ましい。
【0024】
アゾベンゼン基を有する光活性化合物としては、特に好ましいのは下記一般式（Ｉ）で表されることを特徴とする光活性化合物である。
【0025】
一般式（Ｉ）
【化4】
【0026】
式中、Ｒ２１～Ｒ２４はそれぞれ独立に、水素原子又は置換基を表すが、但し、Ｒ２１～Ｒ２４で表される基の少なくとも一つは、カルボキシル基又はスルホ基を表し；ｍは１～４の整数を表し、ｎは１～４の整数を表し、ｏは１～５の整数を表し、ｐは１～５の整数を表すが、ｍ、ｎ、ｏ、及びｐが２以上の整数を表すとき、複数個ある、Ｒ２１～Ｒ２４は、同一でも異なっていてもよい。
【0027】
一般式（Ｉ）中、Ｒ２１～Ｒ２４でそれぞれ表される置換基としては以下の基を挙げることができる。
カルボキシル基（アルカリ金属と塩を形成していてもよく、好ましくは塩を形成していないか、ナトリウム塩を形成しているカルボキシル基であり、より好ましくはナトリウム塩を形成しているカルボキシル基である）、スルホ基（アルカリ金属と塩を形成していてもよく、好ましくは塩を形成していないか、ナトリウム塩を形成しているスルホ基であり、より好ましくはナトリウム塩を形成しているスルホ基である）、アルキル基（好ましくは炭素数１～２０、より好ましくは炭素数１～１２、特に好ましくは炭素数１～８のアルキル基であり、例えば、メチル基、エチル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ｎ－オクチル基、ｎ－デシル基、ｎ－ヘキサデシル基、シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基などが挙げられる）、アルケニル基（好ましくは炭素数２～２０、より好ましくは炭素数２～１２、特に好ましくは炭素数２～８のアルケニル基であり、例えば、ビニル基、アリール基、２－ブテニル基、３－ペンテニル基などが挙げられる）、アルキニル基（好ましくは炭素数２～２０、より好ましくは炭素数２～１２、特に好ましくは炭素数２～８のアルキニル基であり、例えば、プロパルギル基、３－ペンチニル基などが挙げられる）、アリール基（好ましくは炭素数６～３０、より好ましくは炭素数６～２０、特に好ましくは炭素数６～１２のアリール基であり、例えば、フェニル基、２，６－ジエチルフェニル基、３，５－ジトリフルオロメチルフェニル基、ナフチル基、ビフェニル基などが挙げられる）、置換もしくは無置換のアミノ基（好ましくは炭素数０～２０、より好ましくは炭素数０～１０、特に好ましくは炭素数０～６のアミノ基であり、例えば、無置換アミノ基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、アニリノ基などが挙げられる）、
カルボキシル基（アルカリ金属と塩を形成していてもよく、好ましくは塩を形成していないか、ナトリウム塩を形成しているカルボキシル基であり、より好ましくはナトリウム塩を形成しているカルボキシル基である）、スルホ基（アルカリ金属と塩を形成していてもよく、好ましくは塩を形成していないか、ナトリウム塩を形成しているスルホ基であり、より好ましくはナトリウム塩を形成しているスルホ基である）、アルキル基（好ましくは炭素数１～２０、より好ましくは炭素数１～１２、特に好ましくは炭素数１～８のアルキル基であり、例えば、メチル基、エチル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ｎ－オクチル基、ｎ－デシル基、ｎ－ヘキサデシル基、シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基などが挙げられる）、アルケニル基（好ましくは炭素数２～２０、より好ましくは炭素数２～１２、特に好ましくは炭素数２～８のアルケニル基であり、例えば、ビニル基、アリール基、２－ブテニル基、３－ペンテニル基などが挙げられる）、アルキニル基（好ましくは炭素数２～２０、より好ましくは炭素数２～１２、特に好ましくは炭素数２～８のアルキニル基であり、例えば、プロパルギル基、３－ペンチニル基などが挙げられる）、アリール基（好ましくは炭素数６～３０、より好ましくは炭素数６～２０、特に好ましくは炭素数６～１２のアリール基であり、例えば、フェニル基、２，６－ジエチルフェニル基、３，５－ジトリフルオロメチルフェニル基、ナフチル基、ビフェニル基などが挙げられる）、置換もしくは無置換のアミノ基（好ましくは炭素数０～２０、より好ましくは炭素数０～１０、特に好ましくは炭素数０～６のアミノ基であり、例えば、無置換アミノ基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、アニリノ基などが挙げられる）、
【0028】
アルコキシ基（好ましくは炭素数１～２０、より好ましくは炭素数１～１０、特に好ましくは炭素数１～６であり、例えば、メトキシ基、エトキシ基、ブトキシ基などが挙げられる）、アルコキシカルボニル基（好ましくは炭素数２～２０、より好ましくは炭素数２～１０、特に好ましくは２～６であり、例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基などが挙げられる）、アシルオキシ基（好ましくは炭素数２～２０、より好ましくは炭素数２～１０、特に好ましくは２～６であり、例えば、アセトキシ基、ベンゾイルオキシ基などが挙げられる）、アシルアミノ基（好ましくは炭素数２～２０、より好ましくは炭素数２～１０、特に好ましくは炭素数２～６であり、例えばアセチルアミノ基、ベンゾイルアミノ基などが挙げられる）、アルコキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数２～２０、より好ましくは炭素数２～１０、特に好ましくは炭素数２～６であり、例えば、メトキシカルボニルアミノ基などが挙げられる）、アリールオキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数７～２０、より好ましくは炭素数７～１６、特に好ましくは炭素数７～１２であり、例えば、フェニルオキシカルボニルアミノ基などが挙げられる）、スルホニルアミノ基（好ましくは炭素数１～２０、より好ましくは炭素数１～１０、特に好ましくは炭素数１～６であり、例えば、メタンスルホニルアミノ基、ベンゼンスルホニルアミノ基などが挙げられる）、スルファモイル基（好ましくは炭素数０～２０、より好ましくは炭素数０～１０、特に好ましくは炭素数０～６であり、例えば、スルファモイル基、メチルスルファモイル基、ジメチルスルファモイル基、フェニルスルファモイル基などが挙げられる）、カルバモイル基（好ましくは炭素数１～２０、より好ましくは炭素数１～１０、特に好ましくは炭素数１～６であり、例えば、無置換のカルバモイル基、メチルカルバモイル基、ジエチルカルバモイル基、フェニルカルバモイル基などが挙げられる）、
【0029】
アルキルチオ基（好ましくは炭素数１～２０、より好ましくは炭素数１～１０、特に好ましくは炭素数１～６であり、例えば、メチルチオ基、エチルチオ基などが挙げられる）、アリールチオ基（好ましくは炭素数６～２０、より好ましくは炭素数６～１６、特に好ましくは炭素数６～１２であり、例えば、フェニルチオ基などが挙げられる）、スルホニル基（好ましくは炭素数１～２０、より好ましくは炭素数１～１０、特に好ましくは炭素数１～６であり、例えば、メシル基、トシル基などが挙げられる）、スルフィニル基（好ましくは炭素数１～２０、より好ましくは炭素数１～１０、特に好ましくは炭素数１～６であり、例えば、メタンスルフィニル基、ベンゼンスルフィニル基などが挙げられる）、ウレイド基（好ましくは炭素数１～２０、より好ましくは炭素数１～１０、特に好ましくは炭素数１～６であり、例えば、無置換のウレイド基、メチルウレイド基、フェニルウレイド基などが挙げられる）、リン酸アミド基（好ましくは炭素数１～２０、より好ましくは炭素数１～１０、特に好ましくは炭素数１～６であり、例えば、ジエチルリン酸アミド基、フェニルリン酸アミド基などが挙げられる）、ヒドロキシ基、メルカプト基、ハロゲン原子（例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、シアノ基、ニトロ基、ヒドロキサム酸基、スルフィノ基、ヒドラジノ基、イミノ基、ヘテロ環基（好ましくは炭素数１～３０、より好ましくは１～１２のヘテロ環基であり、例えば、窒素原子、酸素原子、硫黄原子等のヘテロ原子を有するヘテロ環基であり、例えば、イミダゾリル基、ピリジル基、キノリル基、フリル基、ピペリジル基、モルホリノ基、ベンゾオキサゾリル基、ベンズイミダゾリル基、ベンズチアゾリル基などが挙げられる）、シリル基（好ましくは、炭素数３～４０、より好ましくは炭素数３～３０、特に好ましくは、炭素数３～２４のシリル基であり、例えば、トリメチルシリル基、トリフェニルシリル基などが挙げられる）が含まれる。
【0030】
これらの置換基はさらにこれらの置換基によって置換されていてもよい。また、置換基が二つ以上有する場合は、同じでも異なってもよい。また、可能な場合には互いに結合して環を形成していてもよい。Ｒ２１～Ｒ２４で表される基は、重合性基又は重合性基を含む置換基であってもよい。
【0031】
一般式（Ｉ）中、Ｒ２１～Ｒ２４で表される基としては、好ましくは水素原子、カルボキシル基、スルホ基、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、シアノ基、ニトロ基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基であり、より好ましくは水素原子、カルボキシル基、スルホ基、ハロゲン原子、ハロゲン化メチル基、ハロゲン化メトキシ基、シアノ基、ニトロ基、メトキシカルボニル基であり、特に好ましくは水素原子、カルボキシル基、スルホ基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基である。
【0032】
Ｒ２１～Ｒ２４で表される基の少なくとも一つは、カルボキシル基又はスルホ基である。カルボキシル基又はスルホ基の置換位置については特に制限はないが、光活性作用の観点では、少なくとも１つのＲ２１及び／又は少なくとも１つのＲ２２がスルホ基であるのが好ましく、少なくとも１つのＲ２１及び少なくとも１つのＲ２２がスルホ基であるのがより好ましい。また、同観点から、少なくとも１つのＲ２３及び／又は少なくとも１つのＲ２４がカルボキシル基であるのが好ましく、少なくとも１つのＲ２３及び少なくとも１つのＲ２４がカルボキシル基であるのがより好ましい。カルボキシル基は、アゾ基に対してメタ位に置換したＲ２３及びＲ２４であるのがさらに好ましい。
【0033】
一般式（Ｉ）において、ｍは１～４の整数を表し、ｎは１～４の整数を表し、ｏは１～５の整数を表し、ｐは１～５の整数を表す。好ましくは、ｍは１～２の整数、ｎは１～２の整数、ｏは１～２の整数、ｐは１～２の整数である。
【0034】
以下に、一般式（Ｉ）で表される化合物の具体例を挙げるが、以下の具体例に制限されるものではない。
【0035】
【化5】
【0036】
本発明においては、配向度に優れる理由から、窒素－窒素二重結合（Ｎ＝Ｎ結合）を有するアゾ基（特に、アゾベンゼン基）を有する化合物としては、上述したＥ－１～Ｅ－１７などで表される、分子量１０００以下の重合性基を持たない低分子量の化合物であることが好ましい。
【0037】
一方、シンナモイル基を有する光活性化合物としては、光配向層の接触による影響が小さい理由から、ポリマーであることが好ましい。
また、光配向層の接触による影響が更に小さくなるい理由から、シンナモイル基とともに架橋性基を有するポリマーであることが好ましい。
架橋性基は、架橋反応を起こして架橋する基であればよいが、例えば、エポキシ基等のカチオン性重合性基；アクリレート、メタクリレート等のラジカル重合性基；などが挙げられる。
一方、後述する密着性改良のためには、光配向層の硬膜には、機能分離して用いることができる点で、カチオン性重合性基とラジカル重合性基をどちらも有することがさらに好ましい。
また、光配向層の接触による影響が更に小さくなるい理由から、シンナモイル基とともに架橋性基を有するポリマーであることが好ましい。
架橋性基は、架橋反応を起こして架橋する基であればよいが、例えば、エポキシ基等のカチオン性重合性基；アクリレート、メタクリレート等のラジカル重合性基；などが挙げられる。
一方、後述する密着性改良のためには、光配向層の硬膜には、機能分離して用いることができる点で、カチオン性重合性基とラジカル重合性基をどちらも有することがさらに好ましい。
【0038】
（光配向性共重合体）
シンナモイル基とともに架橋性基を有するポリマーとしては、下記式（Ａ）で表されるシンナモイル基を含む繰り返し単位Ａと、下記式（Ｂ）で表される架橋性基を含む繰り返し単位Ｂとを有する、光配向性共重合体が好適に挙げられる。
シンナモイル基とともに架橋性基を有するポリマーとしては、下記式（Ａ）で表されるシンナモイル基を含む繰り返し単位Ａと、下記式（Ｂ）で表される架橋性基を含む繰り返し単位Ｂとを有する、光配向性共重合体が好適に挙げられる。
【化6】
【0039】
上記式（Ａ）中、Ｒ１は、水素原子またはメチル基を表す。Ｌ１は、窒素原子とシクロアルカン環とを含む２価の連結基を表し、シクロアルカン環を構成する炭素原子の一部が、窒素、酸素および硫黄からなる群から選択されるヘテロ原子で置換されていてもよい。
Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５およびＲ６は、それぞれ独立に、水素原子または置換基を表し、
Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５およびＲ６のうち、隣接する２つの基が結合して環を形成していてもよい。
上記式（Ｂ）中、Ｒ７は、水素原子またはメチル基を表し、Ｌ２は、２価の連結基を表し、Ｘは、架橋性基を表す。
Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５およびＲ６は、それぞれ独立に、水素原子または置換基を表し、
Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５およびＲ６のうち、隣接する２つの基が結合して環を形成していてもよい。
上記式（Ｂ）中、Ｒ７は、水素原子またはメチル基を表し、Ｌ２は、２価の連結基を表し、Ｘは、架橋性基を表す。
【0040】
本発明においては、上記式（Ａ）で表されるシンナモイル基を含む繰り返し単位Ａと、上記式（Ｂ）で表される架橋性基を含む繰り返し単位Ｂとを有する光配向性共重合体を用いることにより、得られる光配向層の耐溶剤性、および、後述する光吸収異方性層を形成する際の高分子液晶性化合物の配向性（以下、「液晶配向性」と略す。）が良好となる。
これは、詳細には明らかではないが、本発明者らは以下のように推測している。
すなわち、上記式（Ａ）中のＬ１で表される２価の連結基が、窒素原子とシクロアルカン環とを含むことにより、水素結合性および分子剛直性が高まることで分子運動が抑制され、その結果、耐溶剤性が向上したと考えられる。
同様に、上記式（Ａ）中のＬ１で表される２価の連結基が、窒素原子とシクロアルカン環とを含むことにより、共重合体のガラス転移温度が上昇し、得られる光配向層の経時安定性が向上した結果、光学異方性層を形成するタイミングに寄らず、液晶配向性が良好になったと考えられる。
これは、詳細には明らかではないが、本発明者らは以下のように推測している。
すなわち、上記式（Ａ）中のＬ１で表される２価の連結基が、窒素原子とシクロアルカン環とを含むことにより、水素結合性および分子剛直性が高まることで分子運動が抑制され、その結果、耐溶剤性が向上したと考えられる。
同様に、上記式（Ａ）中のＬ１で表される２価の連結基が、窒素原子とシクロアルカン環とを含むことにより、共重合体のガラス転移温度が上昇し、得られる光配向層の経時安定性が向上した結果、光学異方性層を形成するタイミングに寄らず、液晶配向性が良好になったと考えられる。
【0041】
次に、上記式（Ａ）中のＬ１が表す、窒素原子とシクロアルカン環とを含む２価の連結基について説明する。なお、本発明においては、上述した通り、シクロアルカン環を構成する炭素原子の一部は、窒素、酸素および硫黄からなる群から選択されるヘテロ原子で置換されていてもよい。また、シクロアルカン環を構成する炭素原子の一部が窒素原子で置換されている場合は、シクロアルカン環とは別に窒素原子を有していなくてもよい。
【0042】
また、上記式（Ａ）中のＬ１が表す２価の連結基に含まれるシクロアルカン環は、炭素数６以上のシクロアルカン環であることが好ましく、その具体例としては、シクロヘキサン環、シクロペプタン環、シクロオクタン環、シクロドデカン環、シクロドコサン環等が挙げられる。
【0043】
本発明においては、液晶配向性がより良好となる理由から、上記式（Ａ）中のＬ１が、
下記式（１）～（１０）のいずれかで表される２価の連結基であることが好ましい。
上記式（１）～（１０）中、＊１は、上記式（Ａ）中の主鎖を構成する炭素原子との結合位置を表し、＊２は、上記式（Ａ）中のカルボニル基を構成する炭素原子との結合位置を表す。
下記式（１）～（１０）のいずれかで表される２価の連結基であることが好ましい。
【化7】
【0044】
上記式（１）～（１０）のいずれかで表される２価の連結基のうち、光配向層を形成する際に用いる溶媒に対する溶解性と、得られる光配向層の耐溶剤性とのバランスが良好となる理由から、上記式（２）、（３）、（７）および（８）のいずれかで表される２価の連結基であることが好ましい。
【0045】
次に、上記記式（Ａ）中のＲ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５およびＲ６の一態様が表す置換基について説明する。なお、上記式（Ａ）中のＲ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５およびＲ６が、置換基ではなく水素原子であってもよいことは上述した通りである。
【0046】
上記式（Ａ）中のＲ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５およびＲ６の一態様が表す置換基は、シンナモイル基が液晶性化合物と相互作用しやすくなり、液晶配向性がより良好となる理由から、それぞれ独立に、ハロゲン原子、炭素数１～２０の直鎖状、分岐状もしくは環状のアルキル基、炭素数１～２０の直鎖状のハロゲン化アルキル基、炭素数１～２０のアルコキシ基、
炭素数６～２０のアリール基、炭素数６～２０のアリールオキシ基、シアノ基、アミノ基、または、下記式（１１）で表される基であることが好ましい。
ここで、上記式（１１）中、＊は、上記式（Ａ）中のベンゼン環との結合位置を表し、
Ｒ９は、１価の有機基を表す。
炭素数６～２０のアリール基、炭素数６～２０のアリールオキシ基、シアノ基、アミノ基、または、下記式（１１）で表される基であることが好ましい。
【化8】
ここで、上記式（１１）中、＊は、上記式（Ａ）中のベンゼン環との結合位置を表し、
Ｒ９は、１価の有機基を表す。
【0047】
ハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などが挙げられ、中でも、フッ素原子、塩素原子であるのが好ましい。
【0048】
炭素数１～２０の直鎖状、分岐状もしくは環状のアルキル基について、直鎖状のアルキル基としては、炭素数１～６のアルキル基が好ましく、具体的には、例えば、メチル基、
エチル基、ｎ－プロピル基などが挙げられる。
分岐状のアルキル基としては、炭素数３～６のアルキル基が好ましく、具体的には、例えば、イソプロピル基、ｔｅｒｔ－ブチル基などが挙げられる。
環状のアルキル基としては、炭素数３～６のアルキル基が好ましく、具体的には、例えば、シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基などが挙げられる。
エチル基、ｎ－プロピル基などが挙げられる。
分岐状のアルキル基としては、炭素数３～６のアルキル基が好ましく、具体的には、例えば、イソプロピル基、ｔｅｒｔ－ブチル基などが挙げられる。
環状のアルキル基としては、炭素数３～６のアルキル基が好ましく、具体的には、例えば、シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基などが挙げられる。
【0049】
炭素数１～２０の直鎖状のハロゲン化アルキル基としては、炭素数１～４のフルオロアルキル基が好ましく、具体的には、例えば、トリフルオロメチル基、パーフルオロエチル基、パーフルオロプロピル基、パーフルオロブチル基などが挙げられ、中でも、トリフルオロメチル基が好ましい。
【0050】
炭素数１～２０のアルコキシ基としては、炭素数１～１８のアルコキシ基が好ましく、
炭素数６～１８のアルコキシ基がより好ましく、炭素数６～１４のアルコキシ基が更に好ましい。具体的には、例えば、メトキシ基、エトキシ基、ｎ－ブトキシ基、メトキシエトキシ基、ｎ－ヘキシルオキシ基、ｎ－オクチルオキシ基、ｎ－デシルオキシ基、ｎ－ドデシルオキシ基、ｎ－テトラデシルオキシ基などが好適に挙げられ、中でも、ｎ－ヘキシルオキシ基、ｎ－オクチルオキシ基、ｎ－デシルオキシ基、ｎ－ドデシルオキシ基、ｎ－テトラデシルオキシ基がより好ましい。
炭素数６～１８のアルコキシ基がより好ましく、炭素数６～１４のアルコキシ基が更に好ましい。具体的には、例えば、メトキシ基、エトキシ基、ｎ－ブトキシ基、メトキシエトキシ基、ｎ－ヘキシルオキシ基、ｎ－オクチルオキシ基、ｎ－デシルオキシ基、ｎ－ドデシルオキシ基、ｎ－テトラデシルオキシ基などが好適に挙げられ、中でも、ｎ－ヘキシルオキシ基、ｎ－オクチルオキシ基、ｎ－デシルオキシ基、ｎ－ドデシルオキシ基、ｎ－テトラデシルオキシ基がより好ましい。
【0051】
炭素数６～２０のアリール基としては、炭素数６～１２のアリール基が好ましく、具体的には、例えば、フェニル基、α－メチルフェニル基、ナフチル基などが挙げられ、中でも、フェニル基が好ましい。
【0052】
炭素数６～２０のアリールオキシ基としては、炭素数６～１２のアリールオキシ基が好ましく、具体的には、例えば、フェニルオキシ基、２－ナフチルオキシ基などが挙げられ、中でも、フェニルオキシ基が好ましい。
【0053】
アミノ基としては、例えば、第１級アミノ基（－ＮＨ２）；メチルアミノ基などの第２級アミノ基；ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジベンジルアミノ基、含窒素複素環化合物（例えば、ピロリジン、ピペリジン、ピペラジンなど）の窒素原子を結合手とした基などの第３級アミノ基；が挙げられる。
【0054】
上記式（１１）で表される基について、上記式（１１）中のＲ９が表す１価の有機基としては、例えば、炭素数１～２０の直鎖状または環状のアルキル基が挙げられる。
直鎖状のアルキル基としては、炭素数１～６のアルキル基が好ましく、具体的には、例えば、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基などが挙げられ、中でも、メチル基またはエチル基が好ましい。
環状のアルキル基としては、炭素数３～６のアルキル基が好ましく、具体的には、例えば、シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基などが挙げられ、中でも、
シクロヘキシル基が好ましい。
なお、上記式（１１）中のＲ９が表す１価の有機基としては、上述した直鎖状のアルキル基および環状のアルキル基を直接または単結合を介して複数組み合わせたものであってもよい。
直鎖状のアルキル基としては、炭素数１～６のアルキル基が好ましく、具体的には、例えば、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基などが挙げられ、中でも、メチル基またはエチル基が好ましい。
環状のアルキル基としては、炭素数３～６のアルキル基が好ましく、具体的には、例えば、シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基などが挙げられ、中でも、
シクロヘキシル基が好ましい。
なお、上記式（１１）中のＲ９が表す１価の有機基としては、上述した直鎖状のアルキル基および環状のアルキル基を直接または単結合を介して複数組み合わせたものであってもよい。
【0055】
本発明においては、シンナモイル基が液晶性化合物と相互作用しやすくなり、液晶配向性がより良好となる理由から、上記式（Ａ）中のＲ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５およびＲ６のうち、
少なくともＲ４が上述した置換基を表していることが好ましく、更に、得られる光配向性共重合体の直線性が向上し、液晶性化合物と相互作用しやすくなり、液晶配向性が更に良好となる理由から、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ５およびＲ６がいずれも水素原子を表すことがより好ましい。
少なくともＲ４が上述した置換基を表していることが好ましく、更に、得られる光配向性共重合体の直線性が向上し、液晶性化合物と相互作用しやすくなり、液晶配向性が更に良好となる理由から、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ５およびＲ６がいずれも水素原子を表すことがより好ましい。
【0056】
本発明においては、得られる光配向層に光照射した際に反応効率が向上する理由から、
上記式（Ａ）中のＲ４が電子供与性の置換基であることが好ましい。
ここで、電子供与性の置換基（電子供与性基）とは、ハメット値（Ｈａｍｍｅｔｔ置換基定数σｐ）が０以下の置換基のことをいい、例えば、上述した置換基のうち、アルキル基、ハロゲン化アルキル基、アルコキシ基などが挙げられる。
これらのうち、アルコキシ基であることが好ましく、液晶配向性がより良好となる理由から、炭素数が６～１６のアルコキシ基であることがより好ましく、炭素数７～１０のアルコキシ基であることが更に好ましい。
上記式（Ａ）中のＲ４が電子供与性の置換基であることが好ましい。
ここで、電子供与性の置換基（電子供与性基）とは、ハメット値（Ｈａｍｍｅｔｔ置換基定数σｐ）が０以下の置換基のことをいい、例えば、上述した置換基のうち、アルキル基、ハロゲン化アルキル基、アルコキシ基などが挙げられる。
これらのうち、アルコキシ基であることが好ましく、液晶配向性がより良好となる理由から、炭素数が６～１６のアルコキシ基であることがより好ましく、炭素数７～１０のアルコキシ基であることが更に好ましい。
【0057】
次に、上記式（Ｂ）中のＬ２が表す２価の連結基について説明する。
【0058】
２価の連結基としては、シンナモイル基が液晶性化合物と相互作用しやすくなり、液晶配向性がより良好となる理由から、置換基を有していてもよい炭素数１～１８の直鎖状、分岐状または環状のアルキレン基、置換基を有していてもよい炭素数６～１２のアリーレン基、エーテル基（－Ｏ－）、カルボニル基（－Ｃ（＝Ｏ）－）、および、置換基を有していてもよいイミノ基（－ＮＨ－）からなる群から選択される少なくとも２以上の基を組み合わせた２価の連結基であることが好ましい。
【0059】
ここで、アルキレン基、アリーレン基およびイミノ基が有していてもよい置換基としては、例えば、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、アリールオキシ基、シアノ基、カルボキシ基、アルコキシカルボニル基および水酸基などが挙げられる。
ハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などが挙げられ、中でも、フッ素原子、塩素原子であるのが好ましい。
アルキル基としては、例えば、炭素数１～１８の直鎖状、分岐鎖状または環状のアルキル基が好ましく、炭素数１～８のアルキル基（例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔ－ブチル基、シクロヘキシル基等）がより好ましく、炭素数１～４のアルキル基であることが更に好ましく、メチル基またはエチル基であるのが特に好ましい。
アルコキシ基としては、例えば、炭素数１～１８のアルコキシ基が好ましく、炭素数１～８のアルコキシ基（例えば、メトキシ基、エトキシ基、ｎ－ブトキシ基、メトキシエトキシ基等）がより好ましく、炭素数１～４のアルコキシ基であることが更に好ましく、メトキシ基またはエトキシ基であるのが特に好ましい。
アリール基としては、例えば、炭素数６～１２のアリール基が挙げられ、具体的には、
例えば、フェニル基、α－メチルフェニル基、ナフチル基などが挙げられ、中でも、フェニル基が好ましい。
アリールオキシ基としては、例えば、フェノキシ、ナフトキシ、イミダゾイルオキシ、
ベンゾイミダゾイルオキシ、ピリジン－４－イルオキシ、ピリミジニルオキシ、キナゾリニルオキシ、プリニルオキシ、チオフェン－３－イルオキシなどが挙げられる。
アルコキシカルボニル基としては、例えば、メトキシカルボニル、エトキシカルボニルなどが挙げられる。
ハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などが挙げられ、中でも、フッ素原子、塩素原子であるのが好ましい。
アルキル基としては、例えば、炭素数１～１８の直鎖状、分岐鎖状または環状のアルキル基が好ましく、炭素数１～８のアルキル基（例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔ－ブチル基、シクロヘキシル基等）がより好ましく、炭素数１～４のアルキル基であることが更に好ましく、メチル基またはエチル基であるのが特に好ましい。
アルコキシ基としては、例えば、炭素数１～１８のアルコキシ基が好ましく、炭素数１～８のアルコキシ基（例えば、メトキシ基、エトキシ基、ｎ－ブトキシ基、メトキシエトキシ基等）がより好ましく、炭素数１～４のアルコキシ基であることが更に好ましく、メトキシ基またはエトキシ基であるのが特に好ましい。
アリール基としては、例えば、炭素数６～１２のアリール基が挙げられ、具体的には、
例えば、フェニル基、α－メチルフェニル基、ナフチル基などが挙げられ、中でも、フェニル基が好ましい。
アリールオキシ基としては、例えば、フェノキシ、ナフトキシ、イミダゾイルオキシ、
ベンゾイミダゾイルオキシ、ピリジン－４－イルオキシ、ピリミジニルオキシ、キナゾリニルオキシ、プリニルオキシ、チオフェン－３－イルオキシなどが挙げられる。
アルコキシカルボニル基としては、例えば、メトキシカルボニル、エトキシカルボニルなどが挙げられる。
【0060】
炭素数１～１８の直鎖状、分岐状または環状のアルキレン基について、直鎖状のアルキレン基としては、具体的には、例えば、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基、ペンチレン基、ヘキシレン基、デシレン基、ウンデシレン基、ドデシレン基、トリデシレン基、テトラデシレン基、ペンタデシレン基、ヘキサデシレン基、ヘプタデシレン基、オクタデシレン基などが挙げられる。
また、分岐状のアルキレン基としては、具体的には、例えば、ジメチルメチレン基、メチルエチレン基、２，２－ジメチルプロピレン基、２－エチル－２－メチルプロピレン基などが挙げられる。
また、環状のアルキレン基としては、具体的には、例えば、シクロプロピレン基、シクロブチレン基、シクロペンチレン基、シクロヘキシレン基、シクロオクチレン基、シクロデシレン基、アダマンタン－ジイル基、ノルボルナン－ジイル基、ｅｘｏ－テトラヒドロジシクロペンタジエン－ジイル基などが挙げられ、中でも、シクロヘキシレン基が好ましい。
また、分岐状のアルキレン基としては、具体的には、例えば、ジメチルメチレン基、メチルエチレン基、２，２－ジメチルプロピレン基、２－エチル－２－メチルプロピレン基などが挙げられる。
また、環状のアルキレン基としては、具体的には、例えば、シクロプロピレン基、シクロブチレン基、シクロペンチレン基、シクロヘキシレン基、シクロオクチレン基、シクロデシレン基、アダマンタン－ジイル基、ノルボルナン－ジイル基、ｅｘｏ－テトラヒドロジシクロペンタジエン－ジイル基などが挙げられ、中でも、シクロヘキシレン基が好ましい。
【0061】
炭素数６～１２のアリーレン基としては、具体的には、例えば、フェニレン基、キシリレン基、ビフェニレン基、ナフチレン基、２，２’－メチレンビスフェニル基などが挙げられ、中でも、フェニレン基が好ましい。
【0062】
次に、上記式（Ｂ）中のＸが表す架橋性基について説明する。
【0063】
上記式（Ｂ）中のＸ（架橋性基）としては、具体的には、例えば、エポキシ基、エポキシシクロヘキシル基、オキセタニル基、および、エチレン性不飽和二重結合を有する官能基などが挙げられ、中でも、下記式（Ｘ１）～（Ｘ４）からなる群から選択される少なくとも１種の架橋性基であることが好ましい。
上記式（Ｘ１）～（Ｘ４）中、＊は、上記式（Ｂ）中のＬ２との結合位置を表し、Ｒ８は、水素原子、メチル基およびエチル基のいずれかを表し、上記式（Ｘ４）中、Ｓは、エチレン性不飽和二重結合を有する官能基を表す。
ここで、エチレン性不飽和二重結合を有する官能基としては、具体的には、例えば、ビニル基、アリル基、スチリル基、アクリロイル基、メタクリロイル基が挙げられ、アクリロイル基またはメタクリロイル基であることが好ましい。
【化9】
ここで、エチレン性不飽和二重結合を有する官能基としては、具体的には、例えば、ビニル基、アリル基、スチリル基、アクリロイル基、メタクリロイル基が挙げられ、アクリロイル基またはメタクリロイル基であることが好ましい。
【0064】
本発明においては、後述する本発明の光学積層体の強度が高くなり、後述する本発明の光学積層体を用いて他の層を形成する際のハンドリング性が良好となる理由から、繰り返し単位Ｂが、上記式（Ｂ）中のＸが上記式（Ｘ１）～（Ｘ３）のいずれかで表される架橋性基である繰り返し単位（以下、「繰り返し単位Ｂ１」とも略す。）と、上記式（Ｂ）中のＸが上記式（Ｘ４）で表される架橋性基である繰り返し単位（以下、「繰り返し単位Ｂ
２」とも略す。）とを含んでいることが好ましい。
２」とも略す。）とを含んでいることが好ましい。
【0065】
上記式（Ａ）表されるシンナモイル基を含む繰り返し単位Ａとしては、具体的には、例えば、以下に示す繰り返し単位Ａ－１～Ａ－４４が挙げられる。なお、下記式中、Ｍｅはメチル基を表し、Ｅｔはエチル基を表す。なお、以下の具体例中、繰り返し単位Ａ－１～Ａ－１０の２価の連結基に含まれる「１，４－シクロヘキシル基」は、シス体およびトランス体のいずれであってもよいが、トランス体であることが好ましい。
【化10】
【化11】
【0066】
一方、上記式（Ｂ）表される架橋性基を含む繰り返し単位Ｂ（繰り返し単位Ｂ１）としては、具体的には、例えば、以下に示す繰り返し単位Ｂ－１～Ｂ－１７が挙げられる。
【化12】
【0067】
また、上記式（Ｂ）表される架橋性基を含む繰り返し単位Ｂ（繰り返し単位Ｂ２）としては、具体的には、例えば、以下に示す繰り返し単位Ｂ－１８～Ｂ－４７が挙げられる。
【化13】
【0068】
上記光配向性共重合体は、上述した繰り返し単位Ａの含有量ａと、上述した繰り返し単位Ｂの含有量ｂとが、質量比で下記式（１２）を満たしていることが好ましく、下記式（１３）を満たしていることがより好ましく、下記式（１４）を満たしていることが更に好ましく、下記式（１５）を満たしていることが特に好ましい。
０．０３ ≦ ａ／（ａ＋ｂ） ≦ ０．５ ・・・（１２）
０．０３ ≦ ａ／（ａ＋ｂ） ≦ ０．３ ・・・（１３）
０．０３ ≦ ａ／（ａ＋ｂ） ≦ ０．２ ・・・（１４）
０．０５ ≦ ａ／（ａ＋ｂ） ≦ ０．２ ・・・（１５）
０．０３ ≦ ａ／（ａ＋ｂ） ≦ ０．５ ・・・（１２）
０．０３ ≦ ａ／（ａ＋ｂ） ≦ ０．３ ・・・（１３）
０．０３ ≦ ａ／（ａ＋ｂ） ≦ ０．２ ・・・（１４）
０．０５ ≦ ａ／（ａ＋ｂ） ≦ ０．２ ・・・（１５）
【0069】
また、上記光配向性共重合体は、上述した繰り返し単位Ｂ１とともに上述した繰り返し単位Ｂ２を有する場合、良好な液晶配向性、密着性を維持しつつ、光配向層を含む光学異方性層の強度をより高められる理由から、上述した繰り返し単位Ａの含有量ａと、上述した繰り返し単位Ｂ１の含有量ｂ１と、上述した繰り返し単位Ｂ２の含有量ｂ２とが、質量比で下記式（１６）を満たしていることが好ましく、下記式（１７）を満たしていることがより好ましく、下記式（１８）を満たしていることが更に好ましい。
０．０５ ≦ ｂ２／（ａ＋ｂ１＋ｂ２） ≦ ０．７ ・・・（１６）
０．１０ ≦ ｂ２／（ａ＋ｂ１＋ｂ２） ≦ ０．５ ・・・（１７）
０．１２ ≦ｂ２／ （ａ＋ｂ１＋ｂ２） ≦ ０．３５ ・・・（１８）
０．０５ ≦ ｂ２／（ａ＋ｂ１＋ｂ２） ≦ ０．７ ・・・（１６）
０．１０ ≦ ｂ２／（ａ＋ｂ１＋ｂ２） ≦ ０．５ ・・・（１７）
０．１２ ≦ｂ２／ （ａ＋ｂ１＋ｂ２） ≦ ０．３５ ・・・（１８）
【0070】
上記光配向性共重合体は、本発明の効果を阻害しない限り、上述した繰り返し単位Ａおよび繰り返し単位Ｂ以外に、他の繰り返し単位を有していてもよい。
このような他の繰り返し単位を形成するモノマー（ラジカル重合性単量体）としては、
例えば、アクリル酸エステル化合物、メタクリル酸エステル化合物、マレイミド化合物、
アクリルアミド化合物、アクリロニトリル、マレイン酸無水物、スチレン化合物、ビニル化合物等が挙げられる。
このような他の繰り返し単位を形成するモノマー（ラジカル重合性単量体）としては、
例えば、アクリル酸エステル化合物、メタクリル酸エステル化合物、マレイミド化合物、
アクリルアミド化合物、アクリロニトリル、マレイン酸無水物、スチレン化合物、ビニル化合物等が挙げられる。
【0071】
上記光配向性共重合体の合成法は特に限定されず、例えば、上述した繰り返し単位Ａを形成するモノマー、上述した繰り返し単位Ｂを形成するモノマー、および、任意の他の繰り返し単位を形成するモノマーを混合し、有機溶剤中で、ラジカル重合開始剤を用いて重合することにより合成することができる。
【0072】
上記光配向性共重合体の重量平均分子量（Ｍｗ）は、液晶配向性がより向上する理由から、１００００～５０００００が好ましく、３００００～３０００００がより好ましい。
【0073】
上記光配向性共重合体を用いる場合、光配向層形成用組成物における上記光配向性共重合体の含有量は特に限定されないが、後述する有機溶媒を含有する場合、有機溶媒１００質量部に対して０．１～５０質量部であるのが好ましく、０．５～１０質量部であるのがより好ましい。
【0074】
（添加剤）
光配向層形成用組成物は、光活性化合物以外の他の添加剤の１種以上を含んでいてもよい。例えば、添加剤は、光配向層形成用組成物の屈折率調整の目的として添加される。添加剤としては、光活性化合物との相溶性の観点から親水性基と（メタ）アクリロイルオキシ基を有する化合物が好ましく、配向能を著しく低下させない程度添加することができる。親水性基としては、ヒドロキシル基、カルボキシル基、スルホ基、アミノ基等が挙げられる。
光配向層形成用組成物は、光活性化合物以外の他の添加剤の１種以上を含んでいてもよい。例えば、添加剤は、光配向層形成用組成物の屈折率調整の目的として添加される。添加剤としては、光活性化合物との相溶性の観点から親水性基と（メタ）アクリロイルオキシ基を有する化合物が好ましく、配向能を著しく低下させない程度添加することができる。親水性基としては、ヒドロキシル基、カルボキシル基、スルホ基、アミノ基等が挙げられる。
【0075】
（有機溶媒）
光配向層形成用組成物は、光配向層を作製する作業性等の観点から、有機溶媒を含有するのが好ましい。
有機溶媒としては、具体的には、例えば、ケトン類（例えば、アセトン、２－ブタノン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、シクロペンタノンなど）、エーテル類（例えば、ジオキサン、テトラヒドロフランなど）、脂肪族炭化水素類（例えば、ヘキサンなど）、脂環式炭化水素類（例えば、シクロヘキサンなど）、芳香族炭化水素類（例えば、トルエン、キシレン、トリメチルベンゼンなど）、ハロゲン化炭素類（例えば、ジクロロメタン、ジクロロエタン、ジクロロベンゼン、クロロトルエンなど）、エステル類（例えば、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチルなど）、水、アルコール類（例えば、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、シクロヘキサノールなど）、セロソルブ類（例えば、メチルセロソルブ、エチルセロソルブなど）、セロソルブアセテート類、スルホキシド類（例えば、ジメチルスルホキシドなど）、アミド類（例えば、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミドなど）等が挙げられ、これらを１種単独で用いてもよく、２種類以上を併用してもよい。
光配向層形成用組成物は、光配向層を作製する作業性等の観点から、有機溶媒を含有するのが好ましい。
有機溶媒としては、具体的には、例えば、ケトン類（例えば、アセトン、２－ブタノン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、シクロペンタノンなど）、エーテル類（例えば、ジオキサン、テトラヒドロフランなど）、脂肪族炭化水素類（例えば、ヘキサンなど）、脂環式炭化水素類（例えば、シクロヘキサンなど）、芳香族炭化水素類（例えば、トルエン、キシレン、トリメチルベンゼンなど）、ハロゲン化炭素類（例えば、ジクロロメタン、ジクロロエタン、ジクロロベンゼン、クロロトルエンなど）、エステル類（例えば、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチルなど）、水、アルコール類（例えば、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、シクロヘキサノールなど）、セロソルブ類（例えば、メチルセロソルブ、エチルセロソルブなど）、セロソルブアセテート類、スルホキシド類（例えば、ジメチルスルホキシドなど）、アミド類（例えば、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミドなど）等が挙げられ、これらを１種単独で用いてもよく、２種類以上を併用してもよい。
【0076】
光配向層形成用組成物は、上記以外の他の成分を含有してもよく、例えば、架橋触媒（例えば、熱反応性の酸発生剤）、密着改良剤、レベリング剤、界面活性剤、可塑剤などが挙げられる。
【0077】
添加剤を、光配向層形成用組成物の屈折率調整の目的で用いる場合には、添加剤の屈折率は１．４～１．６が好ましく、１．４～１．５５がより好ましい。
【0078】
本発明においては、光配向層と後述する光吸収異方性層との密着性が良好となる理由から、光配向層形成用組成物が、光反応性基および架橋性基を有する化合物（例えば、上述した光配向性共重合体など）を含有し、ラジカル重合開始剤を含有しない組成物であることが好ましい。
【0079】
（塗布工程）
光配向層形成用組成物を上述したポリマーフィルム上に塗布する方法としては、例えば、スピンコ－ティング法、エクストルージョン法、グラビアコーティング法、ダイコーティング法、バーコーティング法及びアプリケータ法等の塗布法や、フレキソ法等の印刷法などの公知の方法が採用される。
なお、光学積層体の製造を、ＲｏｌｌｔｏＲｏｌｌ形式の連続的製造方法により実施する場合、塗布方法としては、通常、グラビアコーティング法、ダイコーティング法又はフレキソ法等の印刷法が採用される。
光配向層形成用組成物を上述したポリマーフィルム上に塗布する方法としては、例えば、スピンコ－ティング法、エクストルージョン法、グラビアコーティング法、ダイコーティング法、バーコーティング法及びアプリケータ法等の塗布法や、フレキソ法等の印刷法などの公知の方法が採用される。
なお、光学積層体の製造を、ＲｏｌｌｔｏＲｏｌｌ形式の連続的製造方法により実施する場合、塗布方法としては、通常、グラビアコーティング法、ダイコーティング法又はフレキソ法等の印刷法が採用される。
【0080】
（乾燥工程）
上記塗布工程により形成された塗膜を加熱により乾燥させる方法は特に限定されず、乾燥温度は、５０～１８０℃の範囲が好ましく、８０～１５０℃の範囲がより好ましい。
乾燥時間は、１０秒間～１０分間が好ましく、３０秒間～５分間がより好ましい。
光配向層形成用組成物が、熱反応性の酸発生剤等の架橋触媒およびカチオン重合性の架橋性基を有する化合物を含有する場合は、この工程で、熱により塗膜の架橋反応による硬化を進めることが好ましい。
上記塗布工程により形成された塗膜を加熱により乾燥させる方法は特に限定されず、乾燥温度は、５０～１８０℃の範囲が好ましく、８０～１５０℃の範囲がより好ましい。
乾燥時間は、１０秒間～１０分間が好ましく、３０秒間～５分間がより好ましい。
光配向層形成用組成物が、熱反応性の酸発生剤等の架橋触媒およびカチオン重合性の架橋性基を有する化合物を含有する場合は、この工程で、熱により塗膜の架橋反応による硬化を進めることが好ましい。
【0081】
（光照射工程）
上記乾燥工程後の塗膜に対して照射する偏光は特に制限はなく、例えば、直線偏光、円偏光、楕円偏光などが挙げられ、中でも、直線偏光が好ましい。
また、非偏光を照射する「斜め方向」とは、塗膜表面の法線方向に対して極角θ（０＜θ＜９０°）傾けた方向である限り、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、θが２０～８０°であることが好ましい。
本明細書において、「直線偏光の照射」および「非偏光の照射」は、光活性化合物に光反応を生じせしめるための操作である。用いる光の波長は、用いる光活性化合物により異なり、その光反応に必要な波長であれば特に限定されるものではない。光照射に用いる光のピーク波長は、２００ｎｍ～７００ｎｍが好ましく、光のピーク波長が４００ｎｍ以下の紫外光がより好ましい。
上記乾燥工程後の塗膜に対して照射する偏光は特に制限はなく、例えば、直線偏光、円偏光、楕円偏光などが挙げられ、中でも、直線偏光が好ましい。
また、非偏光を照射する「斜め方向」とは、塗膜表面の法線方向に対して極角θ（０＜θ＜９０°）傾けた方向である限り、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、θが２０～８０°であることが好ましい。
本明細書において、「直線偏光の照射」および「非偏光の照射」は、光活性化合物に光反応を生じせしめるための操作である。用いる光の波長は、用いる光活性化合物により異なり、その光反応に必要な波長であれば特に限定されるものではない。光照射に用いる光のピーク波長は、２００ｎｍ～７００ｎｍが好ましく、光のピーク波長が４００ｎｍ以下の紫外光がより好ましい。
【0082】
光照射に用いる光源は、通常使われる光源、例えばタングステンランプ、ハロゲンランプ、キセノンランプ、キセノンフラッシュランプ、水銀ランプ、水銀キセノンランプおよびカーボンアークランプ等のランプ、各種のレーザー［例、半導体レーザー、ヘリウムネオンレーザー、アルゴンイオンレーザー、ヘリウムカドミウムレーザーおよびＹＡＧ（イットリウム・アルミニウム・ガーネット）レーザー］、発光ダイオード、ならびに、陰極線管などを挙げることができる。
【0083】
直線偏光を得る手段としては、偏光板（例えば、ヨウ素偏光板、２色色素偏光板、および、ワイヤーグリッド偏光板）を用いる方法、プリズム系素子（例えば、グラントムソンプリズム）もしくはブリュースター角を利用した反射型偏光子を用いる方法、または、偏光を有するレーザー光源から出射される光を用いる方法が採用できる。また、フィルタまたは波長変換素子等を用いて必要とする波長の光のみを選択的に照射してもよい。
【0084】
照射する光は、直線偏光の場合には、配向層に対して上面、又は裏面から配向層表面に対して垂直、又は斜めから光を照射する方法が採用される。光の入射角度は、光活性化合物によって異なるが、０～９０°（垂直）が好ましく、４０～９０°が好ましい。
非偏光の場合には、配向層に対して、斜めから非偏光を照射する。その入射角度は、１０～８０°が好ましく、２０～６０°がより好ましく、３０～５０°が更に好ましい。
照射時間は、１分～６０分が好ましく、１分～１０分がより好ましい。
非偏光の場合には、配向層に対して、斜めから非偏光を照射する。その入射角度は、１０～８０°が好ましく、２０～６０°がより好ましく、３０～５０°が更に好ましい。
照射時間は、１分～６０分が好ましく、１分～１０分がより好ましい。
【0085】
パターン化が必要な場合には、フォトマスクを用いた光照射をパターン作製に必要な回数施す方法、または、レーザー光走査によるパターンの書き込みによる方法を採用できる。
【0086】
本発明に用いられる光配向層は、波長５５０ｎｍにおける平均屈折率が１．５５以上１．８以下である配向層であることが好ましい。より反射防止性能を向上させるという観点で、光吸収異方性層との屈折率差を小さくするため、波長５５０ｎｍにおける平均屈折率は１．５５～１．７であることがさらに好ましい。
【0087】
また、本発明に用いられる光配向層は、波長５５０ｎｍにおける面内の屈折率異方性Δｎが０．０５以上０．４５以下であることが好ましい。０．１以上０．４以下であることがより好ましく、０．１以上０．３以下であることがさらに好ましい。
光配向層の屈折率異方性を適切に制御することで、より反射防止機能を向上させることができる。
光配向層の屈折率異方性を適切に制御することで、より反射防止機能を向上させることができる。
【0088】
本発明において、光配向層の厚さは、１０ｎｍ～１００００ｎｍの範囲であることが好ましく、１０ｎｍ～１０００ｎｍの範囲であることがより好ましく、１０～３００ｎｍの範囲であることが更に好ましい。光配向層の厚さを適切に制御することで、干渉を利用し、さらに反射防止性能を高めることができる。
【0089】
〔光吸収異方性層形成工程〕
本発明の光学積層体の製造方法が有する光吸収異方性層形成工程は、光配向層上に、二色性物質および高分子液晶性化合物を含有する液晶組成物を塗布して光吸収異方性層を形成する工程である。
以下に、光吸収異方性層の形成に用いられる液晶組成物に含まれる各成分について詳述する。
本発明の光学積層体の製造方法が有する光吸収異方性層形成工程は、光配向層上に、二色性物質および高分子液晶性化合物を含有する液晶組成物を塗布して光吸収異方性層を形成する工程である。
以下に、光吸収異方性層の形成に用いられる液晶組成物に含まれる各成分について詳述する。
【0090】
＜高分子液晶性化合物＞
光吸収異方性層の形成に用いられる液晶組成物は、高分子液晶性化合物を含有する。高分子液晶性化合物を含むことで、二色性物質の析出を抑止しながら、二色性物質を高い配向度で配向させることができる。
ここで、「高分子液晶性化合物」とは、化学構造中に繰り返し単位を有する液晶性化合物のことをいう。本発明における液晶性化合物とは、二色性を示さない液晶性化合物である。
高分子液晶性化合物としては、例えば、特開２０１１－２３７５１３号公報に記載されているサーモトロピック液晶性高分子が挙げられる。また、高分子液晶性化合物は、末端に架橋性基（例えば、アクリロイル基およびメタクリロイル基）を有していてもよい。
高分子液晶性化合物は、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
高分子液晶性化合物を含有する場合において、高分子液晶性化合物の含有量は、固形分比率として、７５～９５質量部が好ましく、７５～９０質量部がより好ましく、８０～９０質量部がさらに好ましい。高分子液晶性化合物の含有量が上記範囲内にあることで、光吸収異方性層の配向度がより向上する。
光吸収異方性層の形成に用いられる液晶組成物は、高分子液晶性化合物を含有する。高分子液晶性化合物を含むことで、二色性物質の析出を抑止しながら、二色性物質を高い配向度で配向させることができる。
ここで、「高分子液晶性化合物」とは、化学構造中に繰り返し単位を有する液晶性化合物のことをいう。本発明における液晶性化合物とは、二色性を示さない液晶性化合物である。
高分子液晶性化合物としては、例えば、特開２０１１－２３７５１３号公報に記載されているサーモトロピック液晶性高分子が挙げられる。また、高分子液晶性化合物は、末端に架橋性基（例えば、アクリロイル基およびメタクリロイル基）を有していてもよい。
高分子液晶性化合物は、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
高分子液晶性化合物を含有する場合において、高分子液晶性化合物の含有量は、固形分比率として、７５～９５質量部が好ましく、７５～９０質量部がより好ましく、８０～９０質量部がさらに好ましい。高分子液晶性化合物の含有量が上記範囲内にあることで、光吸収異方性層の配向度がより向上する。
【0091】
高分子液晶性化合物の構造としては、下記式（１）で表される繰り返し単位を含む高分子液晶性化合物を含有することが好ましい。
ここで、上記式（６）中、
Ｒは、水素原子またはメチル基を表す。
Ｌは、単結合または２価の連結基を表す。
Ｂは、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、アルキル基、アルコキシ基、アミノ基、オキシカルボニル基、アシルオキシ基、アシルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、スルホニルアミノ基、スルファモイル基、カルバモイル基、アルキルチオ基、フルホニル基、スルフィニル基、ウレイド基または架橋性基を表す。
Ｍは、下記式（１－１）で表されるメソゲン基を表す。
ここで、上記式（１－１）中、
Ａｒ１１およびＡｒ１２は、それぞれ独立に、置換基を有していてもよいフェニレン基またはビフェニレン基を表す。
Ｌ１１およびＬ１２は、それぞれ独立に、単結合、または、アゾ基を含まない２価の連結基を表す。
Ｙは、イミノ基、－ＯＣＯ－ＣＨ＝ＣＨ－基、または、－ＣＨ＝ＣＨ－ＣＯ2－基を表す。
ｍ１およびｍ２は、それぞれ独立に、１～３の整数を表す。
ｍ１が２～３の整数の場合、複数のＡｒ１１はそれぞれ同一であっても異なっていてもよく、複数のＬ１１はそれぞれ同一であっても異なっていてもよい。
ｍ２が２～３の整数の場合、複数のＡｒ１２はそれぞれ同一であっても異なっていてもよく、複数のＬ１２はそれぞれ同一であっても異なっていてもよい。
【化14】
Ｒは、水素原子またはメチル基を表す。
Ｌは、単結合または２価の連結基を表す。
Ｂは、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、アルキル基、アルコキシ基、アミノ基、オキシカルボニル基、アシルオキシ基、アシルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、スルホニルアミノ基、スルファモイル基、カルバモイル基、アルキルチオ基、フルホニル基、スルフィニル基、ウレイド基または架橋性基を表す。
Ｍは、下記式（１－１）で表されるメソゲン基を表す。
【化15】
Ａｒ１１およびＡｒ１２は、それぞれ独立に、置換基を有していてもよいフェニレン基またはビフェニレン基を表す。
Ｌ１１およびＬ１２は、それぞれ独立に、単結合、または、アゾ基を含まない２価の連結基を表す。
Ｙは、イミノ基、－ＯＣＯ－ＣＨ＝ＣＨ－基、または、－ＣＨ＝ＣＨ－ＣＯ2－基を表す。
ｍ１およびｍ２は、それぞれ独立に、１～３の整数を表す。
ｍ１が２～３の整数の場合、複数のＡｒ１１はそれぞれ同一であっても異なっていてもよく、複数のＬ１１はそれぞれ同一であっても異なっていてもよい。
ｍ２が２～３の整数の場合、複数のＡｒ１２はそれぞれ同一であっても異なっていてもよく、複数のＬ１２はそれぞれ同一であっても異なっていてもよい。
【0092】
上記式（１）中のＬが表す２価の連結基について説明する。
２価の連結基としては、例えば、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－Ｏ－ＣＯ－Ｏ－、－ＮＲNＣＯ－、－ＣＯＮＲN－、アルキレン基、または、これらの基を２以上組み合わせた２価の基などが挙げられる。なお、ＲNは、水素原子またはアルキル基を表す。
これらのうち、－Ｏ－、－ＣＯＯ－および－ＯＣＯ－からなる群から選択される１種以上の基とアルキレン基とを組み合わせた２価の基であることが好ましい。
また、アルキレン基の炭素数は、２～１６であることが好ましい。
２価の連結基としては、例えば、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－Ｏ－ＣＯ－Ｏ－、－ＮＲNＣＯ－、－ＣＯＮＲN－、アルキレン基、または、これらの基を２以上組み合わせた２価の基などが挙げられる。なお、ＲNは、水素原子またはアルキル基を表す。
これらのうち、－Ｏ－、－ＣＯＯ－および－ＯＣＯ－からなる群から選択される１種以上の基とアルキレン基とを組み合わせた２価の基であることが好ましい。
また、アルキレン基の炭素数は、２～１６であることが好ましい。
【0093】
上記式（１）中のＭが表す、上記式（１－１）で表されるメソゲン基について説明する。なお、上記式（１－１）中、＊は、上記式（１）中のＬまたはＢとの結合位置を表す。
【0094】
上記式（１－１）中、Ａｒ１１およびＡｒ１２は、それぞれ独立に、置換基を有していてもよいフェニレン基またはビフェニレン基を表す。
ここで、置換基としては、特に限定されず、ハロゲン原子、アルキル基、アルキルオキシ基、アルキルチオ基、オキシカルボニル基、チオアルキル基、アシルオキシ基、アシルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、スルホニルアミノ基、スルファモイル基、カルバモイル基、スルフィニル基、および、ウレイド基などが挙げられる。
ここで、置換基としては、特に限定されず、ハロゲン原子、アルキル基、アルキルオキシ基、アルキルチオ基、オキシカルボニル基、チオアルキル基、アシルオキシ基、アシルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、スルホニルアミノ基、スルファモイル基、カルバモイル基、スルフィニル基、および、ウレイド基などが挙げられる。
【0095】
上記式（１－１）中、Ｌ１１およびＬ１２は、それぞれ独立に、単結合またはアゾ基を含まない２価の連結基を表す。
ここで、２価の連結基としては、例えば、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－Ｏ－ＣＯ－Ｏ－、－ＮＲＮＣＯ－、－ＣＯＮＲＮ－、アルキレン基、または、これらの基を２以上組み合わせた２価の基などが挙げられる。なお、ＲＮは、水素原子またはアルキル基を表す。
ここで、２価の連結基としては、例えば、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－Ｏ－ＣＯ－Ｏ－、－ＮＲＮＣＯ－、－ＣＯＮＲＮ－、アルキレン基、または、これらの基を２以上組み合わせた２価の基などが挙げられる。なお、ＲＮは、水素原子またはアルキル基を表す。
【0096】
上記式（１－１）中、Ｙは、イミノ基、－ＯＣＯ－ＣＨ＝ＣＨ－基、または、－ＣＨ＝ＣＨ－ＣＯ2－基を表す。
【0097】
上記式（１－１）中、ｍ１およびｍ２は、それぞれ独立に、１～３の整数を表す。
ここで、ｍ１およびｍ２は、合計して２～５の整数であることが好ましく、合計して２～４の整数であることが好ましい。
ここで、ｍ１およびｍ２は、合計して２～５の整数であることが好ましく、合計して２～４の整数であることが好ましい。
【0098】
上記式（１）中のＢについて説明する。
Ｂは、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、アルキル基、アルコキシ基、アミノ基、オキシカルボニル基、アルコキシカルボニル基、アシルオキシ基、（ポリ）アルキレンオキシ基、アシルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、スルホニルアミノ基、スルファモイル基、カルバモイル基、アルキルチオ基、フルホニル基、スルフィニル基、または、
ウレイド基を表す。
これらのうち、相転移温度調整の観点、および、溶解性の観点などから、シアノ基、アルキル基、アルコキシ基、オキシカルボニル基、アルコキシカルボニル基、（ポリ）アルキレンオキシ基、または、アルキルチオ基であることが好ましく、アルキル基、アルコキシ基、または、（ポリ）アルキレンオキシ基であることがより好ましい。
また、Ｂのうち、水素原子、ハロゲン原子およびシアノ基以外のアルキル基等は、相転移温度調整の観点、および、溶解性の観点などから、炭素原子数が１～２０であることが好ましく、１～１１であることがより好ましい。
Ｂは、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、アルキル基、アルコキシ基、アミノ基、オキシカルボニル基、アルコキシカルボニル基、アシルオキシ基、（ポリ）アルキレンオキシ基、アシルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、スルホニルアミノ基、スルファモイル基、カルバモイル基、アルキルチオ基、フルホニル基、スルフィニル基、または、
ウレイド基を表す。
これらのうち、相転移温度調整の観点、および、溶解性の観点などから、シアノ基、アルキル基、アルコキシ基、オキシカルボニル基、アルコキシカルボニル基、（ポリ）アルキレンオキシ基、または、アルキルチオ基であることが好ましく、アルキル基、アルコキシ基、または、（ポリ）アルキレンオキシ基であることがより好ましい。
また、Ｂのうち、水素原子、ハロゲン原子およびシアノ基以外のアルキル基等は、相転移温度調整の観点、および、溶解性の観点などから、炭素原子数が１～２０であることが好ましく、１～１１であることがより好ましい。
【0099】
上記式（１）中のＢが架橋性基を表す場合について説明する。
架橋性基としては、例えば、特開２０１０－２４４０３８号公報の［００４０］～［００５０］段落に記載された重合性基が挙げられ、中でも、反応性および合成適性の観点から、ラジカル重合性基であることが好ましく、アクリロイル基、メタクリロイル基、エポキシ基、オキセタニル基、または、スチリル基が好ましく、アクリロイル基またはメタクリロイル基（以下、「（メタ）アクリロイル基」とも略す。）がより好ましい。
架橋性基としては、例えば、特開２０１０－２４４０３８号公報の［００４０］～［００５０］段落に記載された重合性基が挙げられ、中でも、反応性および合成適性の観点から、ラジカル重合性基であることが好ましく、アクリロイル基、メタクリロイル基、エポキシ基、オキセタニル基、または、スチリル基が好ましく、アクリロイル基またはメタクリロイル基（以下、「（メタ）アクリロイル基」とも略す。）がより好ましい。
【0100】
上記高分子液晶性化合物の液晶性は、ネマチック性およびスメクチック性のいずれを示してもよいが、少なくともネマチック性を示すことが好ましい。
ネマチック相を示す温度範囲は、室温（２３℃）～３００℃であることが好ましく、取り扱いまたは製造適性の観点から、５０℃～２００℃であることが好ましい。
ネマチック相を示す温度範囲は、室温（２３℃）～３００℃であることが好ましく、取り扱いまたは製造適性の観点から、５０℃～２００℃であることが好ましい。
【0101】
さらに、本発明においては、上記高分子液晶性化合物の重量平均分子量（Ｍｗ）が、１０００～１０００００であることが好ましく、２０００～６００００であることがより好ましい。また、数平均分子量（Ｍｎ）が、５００～８００００であることが好ましく、１０００～３００００であることがより好ましい。
ここで、本発明における重量平均分子量および数平均分子量は、ゲル浸透クロマトグラフ（ＧＰＣ）法により測定された値である。
・溶媒（溶離液）：テトラヒドロフラン
・装置名：ＴＯＳＯＨ ＨＬＣ－８２２０ＧＰＣ
・カラム：ＴＯＳＯＨ ＴＳＫｇｅｌ Ｓｕｐｅｒ ＨＺＭ－Ｈ（４．６ｍｍ×１５ｃｍ）を３本接続して使用
・カラム温度：２５℃
・試料濃度：０．１質量％
・流速：０．３５ｍｌ／ｍｉｎ
・校正曲線：ＴＯＳＯＨ製ＴＳＫ標準ポリスチレン Ｍｗ＝２８０００００～１０５０（Ｍｗ／Ｍｎ＝１．０３～１．０６）までの７サンプルによる校正曲線を使用
ここで、本発明における重量平均分子量および数平均分子量は、ゲル浸透クロマトグラフ（ＧＰＣ）法により測定された値である。
・溶媒（溶離液）：テトラヒドロフラン
・装置名：ＴＯＳＯＨ ＨＬＣ－８２２０ＧＰＣ
・カラム：ＴＯＳＯＨ ＴＳＫｇｅｌ Ｓｕｐｅｒ ＨＺＭ－Ｈ（４．６ｍｍ×１５ｃｍ）を３本接続して使用
・カラム温度：２５℃
・試料濃度：０．１質量％
・流速：０．３５ｍｌ／ｍｉｎ
・校正曲線：ＴＯＳＯＨ製ＴＳＫ標準ポリスチレン Ｍｗ＝２８０００００～１０５０（Ｍｗ／Ｍｎ＝１．０３～１．０６）までの７サンプルによる校正曲線を使用
【0102】
本発明においては、可視光領域での吸収が少なく、可視光領域での二色性物質の配向をより維持しやすくなる理由から、上記高分子液晶性化合物の極大吸収波長が３８０ｎｍ以下であることが好ましい。
【0103】
また、本発明においては、光吸収異方性層の２色比がより向上する理由から、上記高分子液晶性化合物のメソゲン基に含まれるベンゼン環の数が３個以上であることが好ましい。
【0104】
上記式（１）で表される繰り返し単位を有する高分子液晶性化合物としては、具体的には、例えば、下記構造式で表される高分子液晶性化合物が挙げられる。なお、下記構造式中、Ｒは、水素原子またはメチル基を表す。
【化16】
【化17】
【0105】
本発明においてさらに好ましい高分子液晶性化合物としては、後述する式（２）で表される繰り返し単位を含む高分子液晶性化合物を含有することが好ましい。後述する式（２）において、Ｐ１（以下、「主鎖」ともいう。）、Ｌ１、およびＳＰ１（以下、「スペーサー基」ともいう。）のｌｏｇＰ値と、Ｍ１（以下、「メソゲン基」ともいう。）のｌｏｇＰ値との差が、４以上である。
上記高分子液晶性化合物を用いることで、配向度の高い光吸収異方性層を形成できる。この理由の詳細は明らかではないが、概ね以下のように推定している。
ｌｏｇＰ値は、化学構造の親水性および疎水性の性質を表現する指標である。後述する式（２）で表される繰り返し単位は、主鎖、Ｌ１およびスペーサー基のｌｏｇＰ値と、メソゲン基のｌｏｇ値と、が所定値以上離れているので、主鎖からスペーサー基までの構造とメソゲン基との相溶性が低い状態にある。これにより、高分子液晶性化合物の結晶性が高くなり、高分子液晶性化合物の配向度が高い状態にあると推測される。このように、高分子液晶性化合物の配向度が高いと、高分子液晶性化合物と二色性物質との相溶性が低下して（すなわち、二色性物質の結晶性が向上する）、二色性物質の配向度が向上すると推測される。その結果、得られる光吸収異方性層の配向度が高くなると考えられる。
上記高分子液晶性化合物を用いることで、配向度の高い光吸収異方性層を形成できる。この理由の詳細は明らかではないが、概ね以下のように推定している。
ｌｏｇＰ値は、化学構造の親水性および疎水性の性質を表現する指標である。後述する式（２）で表される繰り返し単位は、主鎖、Ｌ１およびスペーサー基のｌｏｇＰ値と、メソゲン基のｌｏｇ値と、が所定値以上離れているので、主鎖からスペーサー基までの構造とメソゲン基との相溶性が低い状態にある。これにより、高分子液晶性化合物の結晶性が高くなり、高分子液晶性化合物の配向度が高い状態にあると推測される。このように、高分子液晶性化合物の配向度が高いと、高分子液晶性化合物と二色性物質との相溶性が低下して（すなわち、二色性物質の結晶性が向上する）、二色性物質の配向度が向上すると推測される。その結果、得られる光吸収異方性層の配向度が高くなると考えられる。
【0106】
本発明において好ましい高分子液晶性化合物は、下記式（２）で表される繰り返し単位（本明細書において、「繰り返し単位（２）」ともいう。）を含む。また、繰り返し単位（２）において、Ｐ１、Ｌ１およびＳＰ１のｌｏｇＰ値と、Ｍ１のｌｏｇＰ値との差が４以上である。
【0107】
【化18】
【0108】
式（２）中、Ｐ１は繰り返し単位の主鎖を表し、Ｌ１は単結合または２価の連結基を表し、ＳＰ１はスペーサー基を表し、Ｍ１はメソゲン基を表し、Ｔ１は末端基を表す。
ただし、Ｍ１が連結基を有する場合、連結基としてアゾ基を含まない。
ただし、Ｍ１が連結基を有する場合、連結基としてアゾ基を含まない。
【0109】
Ｐ１が表す繰り返し単位の主鎖としては、具体的には、例えば、下記式（Ｐ１－Ａ）～（Ｐ１－Ｄ）で表される基が挙げられ、なかでも、原料となる単量体の多様性および取り扱いが容易である観点から、下記式（Ｐ１－Ａ）で表される基が好ましい。
【0110】
【化19】
【0111】
式（Ｐ１－Ａ）～（Ｐ１－Ｄ）において、「＊」は、式（２）におけるＬ１との結合位置を表す。
式（Ｐ１－Ａ）～（Ｐ１－Ｄ）において、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲ４はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１～１０のアルキル基、または、炭素数１～１０のアルコキシ基を表す。上記アルキル基は、直鎖または分岐のアルキル基であってもよいし、環状構造を有するアルキル基（シクロアルキル基）であってもよい。また、上記アルキル基の炭素数は、１～５が好ましい。
式（Ｐ１－Ａ）で表される基は、（メタ）アクリル酸エステルの重合によって得られるポリ（メタ）アクリル酸エステルの部分構造の一単位であることが好ましい。
式（Ｐ１－Ｂ）で表される基は、エポキシ基を有する化合物のエポキシ基を開環重合して形成されるエチレングリコール単位であることが好ましい。
式（Ｐ１－Ｃ）で表される基は、オキセタン基を有する化合物のオキセタン基を開環重合して形成されるプロピレングリコール単位であることが好ましい。
式（Ｐ１－Ｄ）で表される基は、アルコキシシリル基およびシラノール基の少なくとも一方の基を有する化合物の縮重合によって得られるポリシロキサンのシロキサン単位であることが好ましい。ここで、アルコキシシリル基およびシラノール基の少なくとも一方の基を有する化合物としては、式ＳｉＲ４（ＯＲ５）２－で表される基を有する化合物が挙げられる。式中、Ｒ４は、（Ｐ１－Ｄ）におけるＲ４と同義であり、複数のＲ５はそれぞれ独立に、水素原子または炭素数１～１０のアルキル基を表す。
式（Ｐ１－Ａ）～（Ｐ１－Ｄ）において、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲ４はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１～１０のアルキル基、または、炭素数１～１０のアルコキシ基を表す。上記アルキル基は、直鎖または分岐のアルキル基であってもよいし、環状構造を有するアルキル基（シクロアルキル基）であってもよい。また、上記アルキル基の炭素数は、１～５が好ましい。
式（Ｐ１－Ａ）で表される基は、（メタ）アクリル酸エステルの重合によって得られるポリ（メタ）アクリル酸エステルの部分構造の一単位であることが好ましい。
式（Ｐ１－Ｂ）で表される基は、エポキシ基を有する化合物のエポキシ基を開環重合して形成されるエチレングリコール単位であることが好ましい。
式（Ｐ１－Ｃ）で表される基は、オキセタン基を有する化合物のオキセタン基を開環重合して形成されるプロピレングリコール単位であることが好ましい。
式（Ｐ１－Ｄ）で表される基は、アルコキシシリル基およびシラノール基の少なくとも一方の基を有する化合物の縮重合によって得られるポリシロキサンのシロキサン単位であることが好ましい。ここで、アルコキシシリル基およびシラノール基の少なくとも一方の基を有する化合物としては、式ＳｉＲ４（ＯＲ５）２－で表される基を有する化合物が挙げられる。式中、Ｒ４は、（Ｐ１－Ｄ）におけるＲ４と同義であり、複数のＲ５はそれぞれ独立に、水素原子または炭素数１～１０のアルキル基を表す。
【0112】
Ｌ１は、単結合または２価の連結基である。
Ｌ１が表す２価の連結基としては、－Ｃ（Ｏ）Ｏ－、－ＯＣ（Ｏ）－、－Ｏ－、－Ｓ－、－Ｃ（Ｏ）ＮＲ３－、－ＮＲ３Ｃ（Ｏ）－、－ＳＯ２－、および、－ＮＲ３Ｒ４－などが挙げられる。式中、Ｒ３およびＲ４はそれぞれ独立に、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数１～６のアルキル基を表わす。
Ｐ１が式（Ｐ１－Ａ）で表される基である場合には、Ｌ１は－Ｃ（Ｏ）Ｏ－で表される基が好ましい。
Ｐ１が式（Ｐ１－Ｂ）～（Ｐ１－Ｄ）で表される基である場合には、Ｌ１は単結合が好ましい。
Ｌ１が表す２価の連結基としては、－Ｃ（Ｏ）Ｏ－、－ＯＣ（Ｏ）－、－Ｏ－、－Ｓ－、－Ｃ（Ｏ）ＮＲ３－、－ＮＲ３Ｃ（Ｏ）－、－ＳＯ２－、および、－ＮＲ３Ｒ４－などが挙げられる。式中、Ｒ３およびＲ４はそれぞれ独立に、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数１～６のアルキル基を表わす。
Ｐ１が式（Ｐ１－Ａ）で表される基である場合には、Ｌ１は－Ｃ（Ｏ）Ｏ－で表される基が好ましい。
Ｐ１が式（Ｐ１－Ｂ）～（Ｐ１－Ｄ）で表される基である場合には、Ｌ１は単結合が好ましい。
【0113】
ＳＰ１が表すスペーサー基は、液晶性を発現しやすいことや、原材料の入手性などの理由から、オキシエチレン構造、オキシプロピレン構造、ポリシロキサン構造およびフッ化アルキレン構造からなる群より選択される少なくとも１種の構造を含むことが好ましい。
ここで、ＳＰ１が表すオキシエチレン構造は、＊－（ＣＨ２－ＣＨ２Ｏ）ｎ１－＊で表される基が好ましい。式中、ｎ１は１～２０の整数を表し、＊はＬ１またはＭ１との結合位置を表す。
また、ＳＰ１が表すオキシプロピレン構造は、＊－（ＣＨ（ＣＨ３）－ＣＨ２Ｏ）ｎ２－＊で表される基が好ましい。式中、ｎ２は１～３の整数を表し、＊はＬ１またはＭ１との結合位置を表す。
また、ＳＰ１が表すポリシロキサン構造は、＊－（Ｓｉ（ＣＨ３）２－Ｏ）ｎ３－＊で表される基が好ましい。式中、ｎ３は６～１０の整数を表し、＊はＬ１またはＭ１との結合位置を表す。
また、ＳＰ１が表すフッ化アルキレン構造は、＊－（ＣＦ２－ＣＦ２）ｎ４－＊で表される基が好ましい。式中、ｎ４は６～１０の整数を表し、＊はＬ１またはＭ１との結合位置を表す。
ここで、ＳＰ１が表すオキシエチレン構造は、＊－（ＣＨ２－ＣＨ２Ｏ）ｎ１－＊で表される基が好ましい。式中、ｎ１は１～２０の整数を表し、＊はＬ１またはＭ１との結合位置を表す。
また、ＳＰ１が表すオキシプロピレン構造は、＊－（ＣＨ（ＣＨ３）－ＣＨ２Ｏ）ｎ２－＊で表される基が好ましい。式中、ｎ２は１～３の整数を表し、＊はＬ１またはＭ１との結合位置を表す。
また、ＳＰ１が表すポリシロキサン構造は、＊－（Ｓｉ（ＣＨ３）２－Ｏ）ｎ３－＊で表される基が好ましい。式中、ｎ３は６～１０の整数を表し、＊はＬ１またはＭ１との結合位置を表す。
また、ＳＰ１が表すフッ化アルキレン構造は、＊－（ＣＦ２－ＣＦ２）ｎ４－＊で表される基が好ましい。式中、ｎ４は６～１０の整数を表し、＊はＬ１またはＭ１との結合位置を表す。
【0114】
Ｍ１が表すメソゲン基とは、液晶形成に寄与する液晶分子の主要骨格を示す基である。液晶分子は、結晶状態と等方性液体状態の中間の状態（メソフェーズ）である液晶性を示す。メソゲン基については特に制限はなく、例えば、「Ｆｌｕｓｓｉｇｅ Ｋｒｉｓｔａｌｌｅ ｉｎ Ｔａｂｅｌｌｅｎ ＩＩ」（ＶＥＢ Ｄｅｕｔｓｃｈｅ Ｖｅｒｌａｇ ｆｕｒＧｒｕｎｄｓｔｏｆｆ Ｉｎｄｕｓｔｒｉｅ，Ｌｅｉｐｚｉｇ、１９８４年刊）、特に第７頁～第１６頁の記載、および、液晶便覧編集委員会編、液晶便覧（丸善、２０００年刊）、特に第３章の記載、を参照することができる。
メソゲン基としては、例えば、芳香族炭化水素基、複素環基、および脂環式基からなる群より選択される少なくとも１種の環状構造を有する基が好ましい。
メソゲン基としては、例えば、芳香族炭化水素基、複素環基、および脂環式基からなる群より選択される少なくとも１種の環状構造を有する基が好ましい。
【0115】
メソゲン基としては、液晶性の発現、液晶相転移温度の調整、原料入手性および合成適性という観点から、下記式（Ｍ１－Ａ）または下記式（Ｍ１－Ｂ）で表される基が好ましい。
【0116】
【化20】
【0117】
式（Ｍ１－Ａ）中、Ａ１は、芳香族炭化水素基、複素環基および脂環式基からなる群より選択される２価の基である。これらの基は、アルキル基、フッ化アルキル基またはアルコキシ基などの置換基で置換されていてもよい。
Ａ１で表される２価の基は、４～６員環であることが好ましい。また、Ａ１で表される２価の基は、単環でも、縮環であってもよい。
＊は、ＳＰ１またはＴ１との結合位置を表す。
Ａ１で表される２価の基は、４～６員環であることが好ましい。また、Ａ１で表される２価の基は、単環でも、縮環であってもよい。
＊は、ＳＰ１またはＴ１との結合位置を表す。
【0118】
Ａ１が表す２価の芳香族炭化水素基としては、フェニレン基、ナフチレン基、フルオレン－ジイル基、アントラセン－ジイル基およびテトラセン－ジイル基などが挙げられ、メソゲン骨格の設計の多様性や原材料の入手性などの観点から、フェニレン基またはナフチレン基が好ましく、フェニレン基がより好ましい。
【0119】
Ａ１が表す２価の複素環基としては、芳香族または非芳香族のいずれであってもよいが、配向度がより向上するという観点から、２価の芳香族複素環基であることが好ましい。
２価の芳香族複素環基を構成する炭素以外の原子としては、窒素原子、硫黄原子および酸素原子が挙げられる。芳香族複素環基が炭素以外の環を構成する原子を複数有する場合、これらは同一であっても異なっていてもよい。
２価の芳香族複素環基の具体例としては、例えば、ピリジレン基（ピリジン－ジイル基）、ピリダジン－ジイル基、イミダゾール－ジイル基、チエニレン（チオフェン－ジイル基）、キノリレン基（キノリン－ジイル基）、イソキノリレン基（イソキノリン－ジイル基）、オキサゾール－ジイル基、チアゾール－ジイル基、オキサジアゾール－ジイル基、ベンゾチアゾール－ジイル基、ベンゾチアジアゾール－ジイル基、フタルイミド－ジイル基、チエノチアゾール－ジイル基、チアゾロチアゾール－ジイル基、チエノチオフェン－ジイル基、および、チエノオキサゾール－ジイル基などが挙げられる。
２価の芳香族複素環基を構成する炭素以外の原子としては、窒素原子、硫黄原子および酸素原子が挙げられる。芳香族複素環基が炭素以外の環を構成する原子を複数有する場合、これらは同一であっても異なっていてもよい。
２価の芳香族複素環基の具体例としては、例えば、ピリジレン基（ピリジン－ジイル基）、ピリダジン－ジイル基、イミダゾール－ジイル基、チエニレン（チオフェン－ジイル基）、キノリレン基（キノリン－ジイル基）、イソキノリレン基（イソキノリン－ジイル基）、オキサゾール－ジイル基、チアゾール－ジイル基、オキサジアゾール－ジイル基、ベンゾチアゾール－ジイル基、ベンゾチアジアゾール－ジイル基、フタルイミド－ジイル基、チエノチアゾール－ジイル基、チアゾロチアゾール－ジイル基、チエノチオフェン－ジイル基、および、チエノオキサゾール－ジイル基などが挙げられる。
【0120】
Ａ１が表す２価の脂環式基の具体例としては、シクロペンチレン基およびシクロへキシレン基などが挙げられる。
【0121】
式（Ｍ１－Ａ）中、ａ１は１～１０の整数を表す。ａ１が２以上である場合には、複数のＡ１は同一でも異なっていてもよい。
【0122】
式（Ｍ１－Ｂ）中、Ａ２およびＡ３はそれぞれ独立に、芳香族炭化水素基、複素環基および脂環式基からなる群より選択される２価の基である。Ａ２およびＡ３の具体例および好適態様は、式（Ｍ１－Ａ）のＡ１と同様であるので、その説明を省略する。
式（Ｍ１－Ｂ）中、ａ２は１～１０の整数を表し、ａ２が２以上である場合には、複数のＡ２は同一でも異なっていてもよく、複数のＡ３は同一でも異なっていてもよく、複数のＬＡ１は同一でも異なっていてもよい。
式（Ｍ１－Ｂ）中、ａ２が１である場合には、ＬＡ１は２価の連結基である。ａ２が２以上である場合には、複数のＬＡ１はそれぞれ独立に、単結合または２価の連結基であり、複数のＬＡ１のうち少なくとも１つが２価の連結基である。
式（Ｍ１－Ｂ）中、ａ２は１～１０の整数を表し、ａ２が２以上である場合には、複数のＡ２は同一でも異なっていてもよく、複数のＡ３は同一でも異なっていてもよく、複数のＬＡ１は同一でも異なっていてもよい。
式（Ｍ１－Ｂ）中、ａ２が１である場合には、ＬＡ１は２価の連結基である。ａ２が２以上である場合には、複数のＬＡ１はそれぞれ独立に、単結合または２価の連結基であり、複数のＬＡ１のうち少なくとも１つが２価の連結基である。
【0123】
式（Ｍ１－Ｂ）中、ＬＡ１が表す２価の連結基としては、－Ｏ－、－（ＣＨ２）ｇ－、－（ＣＦ２）ｇ－、－Ｓｉ（ＣＨ３）２－、－（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）ｇ－、－（ＯＳｉ（ＣＨ３）２）ｇ－（ｇは１～１０の整数を表す。）、－Ｎ（Ｚ）－、－Ｃ（Ｚ）＝Ｃ（Ｚ’）－、－Ｃ（Ｚ）＝Ｎ－、－Ｎ＝Ｃ（Ｚ）－、－Ｃ（Ｚ）２－Ｃ（Ｚ’）２－、－Ｃ（Ｏ）－、－ＯＣ（Ｏ）－、－Ｃ（Ｏ）Ｏ－、－Ｏ－Ｃ（Ｏ）Ｏ－、－Ｎ（Ｚ）Ｃ（Ｏ）－、－Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｚ）－、－Ｃ（Ｚ）＝Ｃ（Ｚ’）－Ｃ（Ｏ）Ｏ－、－Ｏ－Ｃ（Ｏ）－Ｃ（Ｚ）＝Ｃ（Ｚ’）－、－Ｃ（Ｚ）＝Ｎ－、－Ｎ＝Ｃ（Ｚ）－、－Ｃ（Ｚ）＝Ｃ（Ｚ’）－Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｚ”）－、－Ｎ（Ｚ”）－Ｃ（Ｏ）－Ｃ（Ｚ）＝Ｃ（Ｚ’）－、－Ｃ（Ｚ）＝Ｃ（Ｚ’）－Ｃ（Ｏ）－Ｓ－、－Ｓ－Ｃ（Ｏ）－Ｃ（Ｚ）＝Ｃ（Ｚ’）－（Ｚ、Ｚ’、Ｚ”は独立に、水素、Ｃ１～Ｃ４アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、シアノ基、または、ハロゲン原子を表す。）、－Ｃ≡Ｃ－、－Ｓ－、－Ｓ（Ｏ）－、－Ｓ（Ｏ）（Ｏ）－、－（Ｏ）Ｓ（Ｏ）Ｏ－、－Ｏ（Ｏ）Ｓ（Ｏ）Ｏ－、－ＳＣ（Ｏ）－、および、－Ｃ（Ｏ）Ｓ－などが挙げられる。ＬＡ１は、これらの基を２つ以上組み合わせた基であってもよい。
なお、ＬＡ１が表す２価の連結基としては、アゾ基は含む場合は、可視光領域での吸収が高く好ましくない。
なお、ＬＡ１が表す２価の連結基としては、アゾ基は含む場合は、可視光領域での吸収が高く好ましくない。
【0124】
Ｍ１の具体例としては、例えば以下の構造が挙げられる。なお、下記具体例において、「Ａｃ」は、アセチル基を表す。
【0125】
【化21】
【0126】
【化22】
【0127】
Ｔ１が表す末端基としては、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、ヒドロキシ基、炭素数１～１０のアルキル基、炭素数１～１０のアルコキシ基、炭素数１～１０のアルキルチオ基、炭素数１～１０のオキシカルボニル基、炭素数１～１０のアシルオキシ基、炭素数１～１０のアシルアミノ基、炭素数１～１０のアルコキシカルボニル基、炭素数１～１０のアルコキシカルボニルアミノ基、炭素数１～１０のスルホニルアミノ基、炭素数１～１０のスルファモイル基、炭素数１～１０のカルバモイル基、炭素数１～１０のスルフィニル基、および、炭素数１～１０のウレイド基などが挙げられる。これらの末端基は、これらの基、または、特開２０１０－２４４０３８号公報に記載の重合性基によって、さらに置換されていてもよい。
Ｔ１の主鎖の原子数は、１～２０が好ましく、１～１５がより好ましく、１～１０がさらに好ましく、１～７が特に好ましい。Ｔ１の主鎖の原子数が２０以下であることで、光吸収異方性層の配向度がより向上する。ここで、Ｔ１おける「主鎖」とは、Ｍ１と結合する最も長い分子鎖を意味し、水素原子はＴ１の主鎖の原子数にカウントしない。例えば、Ｔ１がｎ－ブチル基である場合には主鎖の原子数は４であり、Ｔ１がｓｅｃ－ブチル基である場合の主鎖の原子数は３である。
Ｔ１の主鎖の原子数は、１～２０が好ましく、１～１５がより好ましく、１～１０がさらに好ましく、１～７が特に好ましい。Ｔ１の主鎖の原子数が２０以下であることで、光吸収異方性層の配向度がより向上する。ここで、Ｔ１おける「主鎖」とは、Ｍ１と結合する最も長い分子鎖を意味し、水素原子はＴ１の主鎖の原子数にカウントしない。例えば、Ｔ１がｎ－ブチル基である場合には主鎖の原子数は４であり、Ｔ１がｓｅｃ－ブチル基である場合の主鎖の原子数は３である。
【0128】
繰り返し単位（２）の含有量は、高分子液晶性化合物が有する全繰り返し単位１００質量％に対して、２０～１００質量％が好ましく、３０～９９．９質量％がより好ましく、４０～９９．０質量％がさらに好ましい。
本発明において、高分子液晶性化合物に含まれる各繰り返し単位の含有量は、各繰り返し単位を得るために使用される各単量体の仕込み量（質量）に基づいて算出される。
繰り返し単位（２）は、高分子液晶性化合物中において、１種単独で含まれていてもよいし、２種以上含まれていてもよい。高分子液晶性化合物が繰り返し単位（２）を２種以上含むと、高分子液晶性化合物の溶媒に対する溶解性が向上すること、および、液晶相転移温度の調整が容易になることなどの利点がある。繰り返し単位（２）を２種以上含む場合には、その合計量が上記範囲内であることが好ましい。
本発明において、高分子液晶性化合物に含まれる各繰り返し単位の含有量は、各繰り返し単位を得るために使用される各単量体の仕込み量（質量）に基づいて算出される。
繰り返し単位（２）は、高分子液晶性化合物中において、１種単独で含まれていてもよいし、２種以上含まれていてもよい。高分子液晶性化合物が繰り返し単位（２）を２種以上含むと、高分子液晶性化合物の溶媒に対する溶解性が向上すること、および、液晶相転移温度の調整が容易になることなどの利点がある。繰り返し単位（２）を２種以上含む場合には、その合計量が上記範囲内であることが好ましい。
【0129】
繰り返し単位（２）を２種以上含む場合には、Ｔ１に重合性基を含まない繰り返し単位（２）と、Ｔ１に重合性基を含む繰り返し単位（２）と、を併用してもよい。これにより、光吸収異方性層の硬化性がより向上する。
この場合、高分子液晶性化合物中における、Ｔ１に重合性基を含まない繰り返し単位（２）に対する、Ｔ１に重合性基を含む繰り返し単位（２）の割合（Ｔ１に重合性基を含む繰り返し単位（２）／Ｔ１に重合性基を含まない繰り返し単位（２））が、質量比で０．００５～４が好ましく、０．０１～２．４がより好ましい。質量比が４以下であると、配向度に優れるという利点がある。質量比が０．０５以上であると、光吸収異方性層の硬化性がより向上する。
この場合、高分子液晶性化合物中における、Ｔ１に重合性基を含まない繰り返し単位（２）に対する、Ｔ１に重合性基を含む繰り返し単位（２）の割合（Ｔ１に重合性基を含む繰り返し単位（２）／Ｔ１に重合性基を含まない繰り返し単位（２））が、質量比で０．００５～４が好ましく、０．０１～２．４がより好ましい。質量比が４以下であると、配向度に優れるという利点がある。質量比が０．０５以上であると、光吸収異方性層の硬化性がより向上する。
【0130】
（ｌｏｇＰ値）
式（２）において、Ｐ１、Ｌ１およびＳＰ１のｌｏｇＰ値（以下、「ｌｏｇＰ１」ともいう。）と、Ｍ１のｌｏｇＰ値（以下、「ｌｏｇＰ２」ともいう。）との差（｜ｌｏｇＰ１－ｌｏｇＰ２｜）が４以上であり、光吸収異方性層の配向度がより向上する観点から、４．２５以上が好ましく、４．５以上がより好ましい。
また、上記差の上限値は、液晶相転移温度の調整および合成適性という観点から、１５以下が好ましく、１２以下がより好ましく、１０以下がさらに好ましい。
ここで、ｌｏｇＰ値は、化学構造の親水性および疎水性の性質を表現する指標であり、親疎水パラメータと呼ばれることがある。ｌｏｇＰ値は、ＣｈｅｍＢｉｏＤｒａｗ ＵｌｔｒａまたはＨＳＰｉＰ(Ｖｅｒ．４．１．０７)などのソフトウェアを用いて計算できる。また、ＯＥＣＤ Ｇｕｉｄｅｌｉｎｅｓ ｆｏｒ ｔｈｅ Ｔｅｓｔｉｎｇ ｏｆ Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ，Ｓｅｃｔｉｏｎｓ １，Ｔｅｓｔ Ｎｏ．１１７の方法などにより、実験的に求めることもできる。本発明では特に断りのない限り、ＨＳＰｉＰ(Ｖｅｒ．４．１．０７)に化合物の構造式を入力して算出される値をｌｏｇＰ値として採用する。
式（２）において、Ｐ１、Ｌ１およびＳＰ１のｌｏｇＰ値（以下、「ｌｏｇＰ１」ともいう。）と、Ｍ１のｌｏｇＰ値（以下、「ｌｏｇＰ２」ともいう。）との差（｜ｌｏｇＰ１－ｌｏｇＰ２｜）が４以上であり、光吸収異方性層の配向度がより向上する観点から、４．２５以上が好ましく、４．５以上がより好ましい。
また、上記差の上限値は、液晶相転移温度の調整および合成適性という観点から、１５以下が好ましく、１２以下がより好ましく、１０以下がさらに好ましい。
ここで、ｌｏｇＰ値は、化学構造の親水性および疎水性の性質を表現する指標であり、親疎水パラメータと呼ばれることがある。ｌｏｇＰ値は、ＣｈｅｍＢｉｏＤｒａｗ ＵｌｔｒａまたはＨＳＰｉＰ(Ｖｅｒ．４．１．０７)などのソフトウェアを用いて計算できる。また、ＯＥＣＤ Ｇｕｉｄｅｌｉｎｅｓ ｆｏｒ ｔｈｅ Ｔｅｓｔｉｎｇ ｏｆ Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ，Ｓｅｃｔｉｏｎｓ １，Ｔｅｓｔ Ｎｏ．１１７の方法などにより、実験的に求めることもできる。本発明では特に断りのない限り、ＨＳＰｉＰ(Ｖｅｒ．４．１．０７)に化合物の構造式を入力して算出される値をｌｏｇＰ値として採用する。
【0131】
上記ｌｏｇＰ１は、上述したように、Ｐ１、Ｌ１およびＳＰ１のｌｏｇＰ値を意味する。「Ｐ１、Ｌ１およびＳＰ１のｌｏｇＰ値」とは、Ｐ１、Ｌ１およびＳＰ１を一体とした構造のｌｏｇＰ値を意味しており、Ｐ１、Ｌ１およびＳＰ１のそれぞれのｌｏｇＰ値を合計したものではない、具体的には、ｌｏｇＰ１は、式（２）におけるＰ１～ＳＰ１までの一連の構造式を上記ソフトウェアに入力することで算出される。
ただし、ｌｏｇＰ１の算出にあたって、Ｐ１～ＳＰ１までの一連の構造式のうち、Ｐ１で表される基の部分に関しては、Ｐ１で表される基そのものの構造（例えば、上述した式（Ｐ１－Ａ）～式（Ｐ１－Ｄ）など）を用いてもよいし、式（２）で表される繰り返し単位を得るために使用する単量体を重合した後にＰ１になりうる基の構造を用いてもよい。
ここで、後者（Ｐ１になりうる基）の具体例は、次の通りである。Ｐ１が（メタ）アクリル酸エステルの重合によって得られる場合には、ＣＨ２＝Ｃ（Ｒ１）－で表される基（Ｒ１は、水素原子またはメチル基を表す。）である。また、Ｐ１がエチレングリコールの重合によって得られる場合にはエチレングリコールであり、Ｐ１がプロピレングリコールの重合により得られる場合にはプロピレングリコールである。また、Ｐ１がシラノールの重縮合により得られる場合にはシラノール（式Ｓｉ（Ｒ２）３（ＯＨ）で表される化合物。複数のＲ２はそれぞれ独立に、水素原子またはアルキル基を表す。ただし、複数のＲ２の少なくとも１つはアルキル基を表す。）である。
ただし、ｌｏｇＰ１の算出にあたって、Ｐ１～ＳＰ１までの一連の構造式のうち、Ｐ１で表される基の部分に関しては、Ｐ１で表される基そのものの構造（例えば、上述した式（Ｐ１－Ａ）～式（Ｐ１－Ｄ）など）を用いてもよいし、式（２）で表される繰り返し単位を得るために使用する単量体を重合した後にＰ１になりうる基の構造を用いてもよい。
ここで、後者（Ｐ１になりうる基）の具体例は、次の通りである。Ｐ１が（メタ）アクリル酸エステルの重合によって得られる場合には、ＣＨ２＝Ｃ（Ｒ１）－で表される基（Ｒ１は、水素原子またはメチル基を表す。）である。また、Ｐ１がエチレングリコールの重合によって得られる場合にはエチレングリコールであり、Ｐ１がプロピレングリコールの重合により得られる場合にはプロピレングリコールである。また、Ｐ１がシラノールの重縮合により得られる場合にはシラノール（式Ｓｉ（Ｒ２）３（ＯＨ）で表される化合物。複数のＲ２はそれぞれ独立に、水素原子またはアルキル基を表す。ただし、複数のＲ２の少なくとも１つはアルキル基を表す。）である。
【0132】
ｌｏｇＰ１は、上述したｌｏｇＰ２との差が４以上であれば、ｌｏｇＰ２よりも低くてもよいし、ｌｏｇＰ２よりも高くてもよい。
ここで、一般的なメソゲン基のｌｏｇＰ値（上述したｌｏｇＰ２）は、４～６の範囲内になる傾向がある。このとき、ｌｏｇＰ１がｌｏｇＰ２よりも低い場合には、ｌｏｇＰ１の値は、１以下が好ましく、０以下がより好ましい。一方で、ｌｏｇＰ１がｌｏｇＰ２よりも高い場合には、ｌｏｇＰ１の値は、８以上が好ましく、９以上がより好ましい。
上記式（２）におけるＰ１が（メタ）アクリル酸エステルの重合によって得られ、かつ、ｌｏｇＰ１がｌｏｇＰ２よりも低い場合には、上記式（２）におけるＳＰ１のｌｏｇＰ値は、０．７以下が好ましく、０．５以下がより好ましい。一方、上記式（２）におけるＰ１が（メタ）アクリル酸エステルの重合によって得られ、かつ、ｌｏｇＰ１がｌｏｇＰ２よりも高い場合には、上記式（２）におけるＳＰ１のｌｏｇＰ値は、３．７以上が好ましく、４．２以上がより好ましい。
なお、ｌｏｇＰ値が１以下の構造としては、例えば、オキシエチレン構造およびオキシプロピレン構造などが挙げられる。ｌｏｇＰ値が６以上の構造としては、ポリシロキサン構造およびフッ化アルキレン構造などが挙げられる。
ここで、一般的なメソゲン基のｌｏｇＰ値（上述したｌｏｇＰ２）は、４～６の範囲内になる傾向がある。このとき、ｌｏｇＰ１がｌｏｇＰ２よりも低い場合には、ｌｏｇＰ１の値は、１以下が好ましく、０以下がより好ましい。一方で、ｌｏｇＰ１がｌｏｇＰ２よりも高い場合には、ｌｏｇＰ１の値は、８以上が好ましく、９以上がより好ましい。
上記式（２）におけるＰ１が（メタ）アクリル酸エステルの重合によって得られ、かつ、ｌｏｇＰ１がｌｏｇＰ２よりも低い場合には、上記式（２）におけるＳＰ１のｌｏｇＰ値は、０．７以下が好ましく、０．５以下がより好ましい。一方、上記式（２）におけるＰ１が（メタ）アクリル酸エステルの重合によって得られ、かつ、ｌｏｇＰ１がｌｏｇＰ２よりも高い場合には、上記式（２）におけるＳＰ１のｌｏｇＰ値は、３．７以上が好ましく、４．２以上がより好ましい。
なお、ｌｏｇＰ値が１以下の構造としては、例えば、オキシエチレン構造およびオキシプロピレン構造などが挙げられる。ｌｏｇＰ値が６以上の構造としては、ポリシロキサン構造およびフッ化アルキレン構造などが挙げられる。
【0133】
本発明に用いられる高分子液晶性化合物は、上記式（２）で表される繰り返し単位（２）に加えて、下記式（３）で表される繰り返し単位（３）を含むことが、光吸収異方性層の膜強度向上および光吸収異方性層と光配向層間の密着強化の観点で好ましい。
【0134】
【化23】
【0135】
式（３）中、Ｐ２は、繰り返し単位の主鎖を表す。
式（３）中、Ｌ２は、単結合、置換基を有していてもよい２価の脂環式基または置換基を有していてもよい２価の芳香族基を表す。
式（３）中、ＳＰ２は、主鎖の原子数が１０以上のアルキレン基を表す。ただし、ＳＰ２が表すアルキレン基を構成する１個以上の－ＣＨ２－は、－Ｏ－、－Ｓ－、－Ｎ（Ｒ２１）－、－Ｃ（＝Ｏ）－、－Ｃ（＝Ｓ）－、－Ｃ（Ｒ２２）＝Ｃ（Ｒ２３）－、アルキニレン基、－Ｓｉ（Ｒ２４）（Ｒ２５）－、－Ｎ＝Ｎ－、－Ｃ（Ｒ２６）＝Ｎ－Ｎ＝Ｃ（Ｒ２７）－、－Ｃ（Ｒ２８）＝Ｎ－および－Ｓ（＝Ｏ）２－からなる群より選択される少なくとも一種の基（以下、「基２Ｃ」ともいう。）によって置き換えられていてもよく、Ｒ２１～Ｒ２８はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基または炭素数１～１０の直鎖状もしくは分岐状のアルキル基を表す。また、ＳＰ２が表すアルキレン基を構成する１個以上の－ＣＨ２－に含まれる水素原子は、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、水酸基、炭素数１～１０の直鎖状のアルキル基および炭素数１～１０の分岐状のアルキル基からなる群より選択される少なくとも１種の基（以下、「基２Ｈ」ともいう。）によって置き換えられていてもよい。
式（３）中、Ｔ２は、水素原子、メチル基、水酸基、カルボキシ基、スルホン酸基、リン酸基、ボロン酸基、アミノ基、シアノ基、ニトロ基、ビニル基、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、エポキシ基、置換基を有していても良いオキセタニル基、置換基を有していてもよいフェニル基またはマレイミド基を表す。
式（３）中、Ｌ２は、単結合、置換基を有していてもよい２価の脂環式基または置換基を有していてもよい２価の芳香族基を表す。
式（３）中、ＳＰ２は、主鎖の原子数が１０以上のアルキレン基を表す。ただし、ＳＰ２が表すアルキレン基を構成する１個以上の－ＣＨ２－は、－Ｏ－、－Ｓ－、－Ｎ（Ｒ２１）－、－Ｃ（＝Ｏ）－、－Ｃ（＝Ｓ）－、－Ｃ（Ｒ２２）＝Ｃ（Ｒ２３）－、アルキニレン基、－Ｓｉ（Ｒ２４）（Ｒ２５）－、－Ｎ＝Ｎ－、－Ｃ（Ｒ２６）＝Ｎ－Ｎ＝Ｃ（Ｒ２７）－、－Ｃ（Ｒ２８）＝Ｎ－および－Ｓ（＝Ｏ）２－からなる群より選択される少なくとも一種の基（以下、「基２Ｃ」ともいう。）によって置き換えられていてもよく、Ｒ２１～Ｒ２８はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基または炭素数１～１０の直鎖状もしくは分岐状のアルキル基を表す。また、ＳＰ２が表すアルキレン基を構成する１個以上の－ＣＨ２－に含まれる水素原子は、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、水酸基、炭素数１～１０の直鎖状のアルキル基および炭素数１～１０の分岐状のアルキル基からなる群より選択される少なくとも１種の基（以下、「基２Ｈ」ともいう。）によって置き換えられていてもよい。
式（３）中、Ｔ２は、水素原子、メチル基、水酸基、カルボキシ基、スルホン酸基、リン酸基、ボロン酸基、アミノ基、シアノ基、ニトロ基、ビニル基、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、エポキシ基、置換基を有していても良いオキセタニル基、置換基を有していてもよいフェニル基またはマレイミド基を表す。
【0136】
Ｐ２の具体例および好適態様は、式（２）のＰ１と同様であるので、その説明を省略する。
【0137】
Ｌ２が表す置換基を有していてもよい２価の脂環式基の具体例としては、式（Ｍ１－Ａ）におけるＡ１で説明した２価の脂環式基と同様であるので、その説明を省略する。また、置換基としては、後述の置換基Ｗが挙げられ、なかでも、フッ素原子、塩素原子、アルキル基、シアノ基、ヒドロキシ基、カルボキシ基、アルコキシ基、ニトロ基、アシルオキシ基、アミノ基、メルカプト基、アルキルチオ基、アルキルスルホニル基、アルキルスルホニルアミノ基、スルホ基、アルキルスルフィニル基、エポキシシクロアルキル基またはアルコキシカルボニル基が好ましい。
Ｌ２が表す置換基を有していてもよい２価の芳香族基としては、２価の芳香族炭化水素基および２価の芳香族複素環基が挙げられる。２価の芳香族炭化水素基の具体例および好適態様は、式（Ｍ１－Ａ）におけるＡ１で説明した２価の芳香族炭化水素基と同様であるので、その説明を省略する。また、２価の芳香族複素環基の具体例および好適態様は、式（Ｍ１－Ａ）におけるＡ１で説明した２価の芳香族複素環基と同様であるので、その説明を省略する。また、置換基としては、後述の置換基Ｗが挙げられ、なかでも、フッ素原子、塩素原子、アルキル基、シアノ基、ヒドロキシ基、カルボキシ基、アルコキシ基、ニトロ基、アシルオキシ基、アミノ基、メルカプト基、アルキルチオ基、アルキルスルホニル基、アルキルスルホニルアミノ基、スルホ基、アルキルスルフィニル基またはアルコキシカルボニル基が好ましい。
Ｌ２としては、本発明の効果がより発揮される点から、単結合が好ましい。
Ｌ２が表す置換基を有していてもよい２価の芳香族基としては、２価の芳香族炭化水素基および２価の芳香族複素環基が挙げられる。２価の芳香族炭化水素基の具体例および好適態様は、式（Ｍ１－Ａ）におけるＡ１で説明した２価の芳香族炭化水素基と同様であるので、その説明を省略する。また、２価の芳香族複素環基の具体例および好適態様は、式（Ｍ１－Ａ）におけるＡ１で説明した２価の芳香族複素環基と同様であるので、その説明を省略する。また、置換基としては、後述の置換基Ｗが挙げられ、なかでも、フッ素原子、塩素原子、アルキル基、シアノ基、ヒドロキシ基、カルボキシ基、アルコキシ基、ニトロ基、アシルオキシ基、アミノ基、メルカプト基、アルキルチオ基、アルキルスルホニル基、アルキルスルホニルアミノ基、スルホ基、アルキルスルフィニル基またはアルコキシカルボニル基が好ましい。
Ｌ２としては、本発明の効果がより発揮される点から、単結合が好ましい。
【0138】
ＳＰ２は、主鎖の原子数が１０以上のアルキレン基を表し、アルキレン基を構成する１個以上の－ＣＨ２－は上述の基２Ｃによって置き換えられていてもよく、アルキレン基を構成する１個以上の－ＣＨ２－に含まれる水素原子は上述の基２Ｈによって置き換えられていてもよい。
ＳＰ２の主鎖の原子数は、１０以上であり、密着性および面状均一性により優れた光吸収異方性層が得られる点から、１５以上が好ましく、１９以上がより好ましい。また、ＳＰ２の主鎖の原子数の上限は、配向度により優れた光吸収異方性層が得られる点から、７０以下が好ましく、６０以下がより好ましく、５０以下が特に好ましい。
ここで、ＳＰ２における「主鎖」とは、Ｌ２とＴ２とを直接連結するために必要な部分構造を意味し、「主鎖の原子数」とは、上記部分構造を構成する原子の個数を意味する。換言すれば、ＳＰ２における「主鎖」は、Ｌ２とＴ２を連結する原子の数が最短になる部分構造である。例えば、ＳＰ２が３，７－ジメチルデカニル基である場合の主鎖の原子数は１０であり、ＳＰ２が４，６－ジメチルドデカニル基の場合の主鎖の原子数は１２である。また、下記式（２－１）においては、点線の四角形で表す枠内がＳＰ２に相当し、ＳＰ２の主鎖の原子数（点線の丸で囲った原子の合計数に相当）は１１である。
ＳＰ２の主鎖の原子数は、１０以上であり、密着性および面状均一性により優れた光吸収異方性層が得られる点から、１５以上が好ましく、１９以上がより好ましい。また、ＳＰ２の主鎖の原子数の上限は、配向度により優れた光吸収異方性層が得られる点から、７０以下が好ましく、６０以下がより好ましく、５０以下が特に好ましい。
ここで、ＳＰ２における「主鎖」とは、Ｌ２とＴ２とを直接連結するために必要な部分構造を意味し、「主鎖の原子数」とは、上記部分構造を構成する原子の個数を意味する。換言すれば、ＳＰ２における「主鎖」は、Ｌ２とＴ２を連結する原子の数が最短になる部分構造である。例えば、ＳＰ２が３，７－ジメチルデカニル基である場合の主鎖の原子数は１０であり、ＳＰ２が４，６－ジメチルドデカニル基の場合の主鎖の原子数は１２である。また、下記式（２－１）においては、点線の四角形で表す枠内がＳＰ２に相当し、ＳＰ２の主鎖の原子数（点線の丸で囲った原子の合計数に相当）は１１である。
【0139】
【化24】
【0140】
ＳＰ２が表すアルキレン基は、直鎖状であっても分岐状であってもよい。
ＳＰ２が表すアルキレン基の炭素数は、配向度により優れた光吸収異方性層が得られる点から、８～８０が好ましく、１５～８０が好ましく、２５～７０がより好ましく、２５～６０が特に好ましい。
ＳＰ２が表すアルキレン基の炭素数は、配向度により優れた光吸収異方性層が得られる点から、８～８０が好ましく、１５～８０が好ましく、２５～７０がより好ましく、２５～６０が特に好ましい。
【0141】
ＳＰ２が表すアルキレン基を構成する１個以上の－ＣＨ２－は、密着性および面状均一性により優れた光吸収異方性層が得られる点から、上述の基２Ｃによって置き換えられているのが好ましい。
また、ＳＰ２が表すアルキレン基を構成する－ＣＨ２－が複数ある場合、密着性および面状均一性により優れた光吸収異方性層が得られる点から、複数の－ＣＨ２－の一部のみが基２Ｃによって置き換えられていることがより好ましい。
また、ＳＰ２が表すアルキレン基を構成する－ＣＨ２－が複数ある場合、密着性および面状均一性により優れた光吸収異方性層が得られる点から、複数の－ＣＨ２－の一部のみが基２Ｃによって置き換えられていることがより好ましい。
【0142】
基２Ｃは、上述したように、－Ｏ－、－Ｓ－、－Ｎ（Ｒ２１）－、－Ｃ（＝Ｏ）－、－Ｃ（＝Ｓ）－、－Ｃ（Ｒ２２）＝Ｃ（Ｒ２３）－、アルキニレン基、－Ｓｉ（Ｒ２４）（Ｒ２５）－、－Ｎ＝Ｎ－、－Ｃ（Ｒ２６）＝Ｎ－Ｎ＝Ｃ（Ｒ２７）－、－Ｃ（Ｒ２８）＝Ｎ－および－Ｓ（＝Ｏ）２－からなる群より選択される少なくとも一種の基であり、密着性および面状均一性により優れた光吸収異方性層が得られる点から、－Ｏ－、－Ｎ（Ｒ２１）－、－Ｃ（＝Ｏ）－および－Ｓ（＝Ｏ）２－からなる群より選択される少なくとも一種の基が好ましく、－Ｏ－、－Ｎ（Ｒ２１）－および－Ｃ（＝Ｏ）－からなる群より選択される少なくとも１種の基がより好ましい。
特に、ＳＰ２は、アルキレン基を構成する１個以上の－ＣＨ２－が－Ｏ－によって置き換えられたオキシアルキレン構造、アルキレン基を構成する１個以上の－ＣＨ２－ＣＨ２－が－Ｏ－および－Ｃ（＝Ｏ）－によって置き換えられたエステル構造、ならびに、アルキレン基を構成する１個以上の－ＣＨ２－ＣＨ２－ＣＨ２－が－Ｏ－、－Ｃ（＝Ｏ）－および－ＮＨ－によって置き換えられたウレタン結合からなる群より選択される少なくとも１つを含む基であるのが好ましい。
特に、ＳＰ２は、アルキレン基を構成する１個以上の－ＣＨ２－が－Ｏ－によって置き換えられたオキシアルキレン構造、アルキレン基を構成する１個以上の－ＣＨ２－ＣＨ２－が－Ｏ－および－Ｃ（＝Ｏ）－によって置き換えられたエステル構造、ならびに、アルキレン基を構成する１個以上の－ＣＨ２－ＣＨ２－ＣＨ２－が－Ｏ－、－Ｃ（＝Ｏ）－および－ＮＨ－によって置き換えられたウレタン結合からなる群より選択される少なくとも１つを含む基であるのが好ましい。
【0143】
ＳＰ２が表すアルキレン基を構成する１個以上の－ＣＨ２－に含まれる水素原子は、上述の基２Ｈによって置き換えられていてもよい。この場合、－ＣＨ２－に含まれる水素原子の１個以上が基２Ｈに置き換えられていればよい。すなわち、－ＣＨ２－に含まれる水素原子の１個のみが基２Ｈによって置き換えられていてもよいし、－ＣＨ２－に含まれる水素原子の全て（２個）が基２Ｈによって置き換えられていてもよい。
基２Ｈは、上述したように、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、水酸基、炭素数１～１０の直鎖状のアルキル基および炭素数１～１０の分岐状のアルキル基からなる群より選択される少なくとも１種の基であり、水酸基、炭素数１～１０の直鎖状のアルキル基および炭素数１～１０の分岐状のアルキル基からなる群より選択される少なくとも１種の基が好ましく、水酸基がより好ましい。
基２Ｈは、上述したように、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、水酸基、炭素数１～１０の直鎖状のアルキル基および炭素数１～１０の分岐状のアルキル基からなる群より選択される少なくとも１種の基であり、水酸基、炭素数１～１０の直鎖状のアルキル基および炭素数１～１０の分岐状のアルキル基からなる群より選択される少なくとも１種の基が好ましく、水酸基がより好ましい。
【0144】
Ｔ２は、上述したように、水素原子、メチル基、水酸基、カルボキシ基、スルホン酸基、リン酸基、ボロン酸基、アミノ基、シアノ基、ニトロ基、ビニル基、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、エポキシ基、オキセタニル基またはマレイミド基を表す。
これらの中でも、架橋、および／または、下地層（例えば、基材または配向膜）との相互作用によって密着性が向上する点から、Ｔ２は、水酸基、カルボキシ基、スルホン酸基、リン酸基、ボロン酸基、アミノ基、シアノ基、ニトロ基、ビニル基、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、エポキシ基、オキセタニル基またはマレイミド基が好ましく、光吸収異方性層自体が架橋することによって、光吸収異方性層の凝集破壊をより抑制できる結果、密着性がより向上する点から、ビニル基、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、エポキシ基、オキセタニル基またはマレイミド基がより好ましい。
上記のように繰り返し単位（３）が架橋性基を有する場合は、高分子液晶全体の質量に対するに対する繰り返し単位（３）の比率が、５％～３０％が好ましく、８％～２０％がより好ましい。
これらの中でも、架橋、および／または、下地層（例えば、基材または配向膜）との相互作用によって密着性が向上する点から、Ｔ２は、水酸基、カルボキシ基、スルホン酸基、リン酸基、ボロン酸基、アミノ基、シアノ基、ニトロ基、ビニル基、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、エポキシ基、オキセタニル基またはマレイミド基が好ましく、光吸収異方性層自体が架橋することによって、光吸収異方性層の凝集破壊をより抑制できる結果、密着性がより向上する点から、ビニル基、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、エポキシ基、オキセタニル基またはマレイミド基がより好ましい。
上記のように繰り返し単位（３）が架橋性基を有する場合は、高分子液晶全体の質量に対するに対する繰り返し単位（３）の比率が、５％～３０％が好ましく、８％～２０％がより好ましい。
【0145】
繰り返し単位（３）の具体例としては、例えば以下の構造が挙げられる。なお、下記具体例において、ｎ１は２以上の整数を表し、ｎ２は１以上の整数を表す。
【0146】
【化25】
【0147】
＜二色性物質＞
光吸収異方性層の形成に用いられる液晶組成物は、二色性物質を含有する。
二色性物質は、特に限定されず、可視光吸収物質（二色性色素）、発光物質（蛍光物質、燐光物質）、紫外線吸収物質、赤外線吸収物質、非線形光学物質、カーボンナノチューブ、無機物質（例えば量子ロッド）、などが挙げられ、従来公知の二色性物質（二色性色素）を使用することができる。
具体的には、例えば、特開２０１３－２２８７０６号公報の［００６７］～［００７１］段落、特開２０１３－２２７５３２号公報の［０００８］～［００２６］段落、特開２０１３－２０９３６７号公報の［０００８］～［００１５］段落、特開２０１３－１４８８３号公報の［００４５］～［００５８］段落、特開２０１３－１０９０９０号公報の［００１２］～［００２９］段落、特開２０１３－１０１３２８号公報の［０００９］～［００１７］段落、特開２０１３－３７３５３号公報の［００５１］～［００６５］段落、特開２０１２－６３３８７号公報の［００４９］～［００７３］段落、特開平１１－３０５０３６号公報の［００１６］～［００１８］段落、特開２００１－１３３６３０号公報の［０００９］～［００１１］段落、特開２０１１－２１５３３７号公報の［００３０］～［０１６９］、特開２０１０－１０６２４２号公報の［００２１］～［００７５］段落、特開２０１０－２１５８４６号公報の［００１１］～［００２５］段落、特開２０１１－０４８３１１号公報の［００１７］～［００６９］段落、特開２０１１－２１３６１０号公報の［００１３］～［０１３３］段落、特開２０１１－２３７５１３号公報の［００７４］～［０２４６］段落、特開２０１６－００６５０２号公報の［０００５］～［００５１］段落、ＷＯ２０１６／０６０１７３号公報の［０００５］～［００４１］段落、ＷＯ２０１６／１３６５６１号公報の［０００８］～［００６２］段落、国際公開第２０１７／１５４８３５号の［００１４］～［００３３］段落、国際公開第２０１７／１５４６９５号の［００１４］～［００３３］段落、国際公開第２０１７／１９５８３３号の［００１３］～［００３７］段落、国際公開第２０１８／１６４２５２号の［００１４］～［００３４］段落などに記載されたものが挙げられる。
光吸収異方性層の形成に用いられる液晶組成物は、二色性物質を含有する。
二色性物質は、特に限定されず、可視光吸収物質（二色性色素）、発光物質（蛍光物質、燐光物質）、紫外線吸収物質、赤外線吸収物質、非線形光学物質、カーボンナノチューブ、無機物質（例えば量子ロッド）、などが挙げられ、従来公知の二色性物質（二色性色素）を使用することができる。
具体的には、例えば、特開２０１３－２２８７０６号公報の［００６７］～［００７１］段落、特開２０１３－２２７５３２号公報の［０００８］～［００２６］段落、特開２０１３－２０９３６７号公報の［０００８］～［００１５］段落、特開２０１３－１４８８３号公報の［００４５］～［００５８］段落、特開２０１３－１０９０９０号公報の［００１２］～［００２９］段落、特開２０１３－１０１３２８号公報の［０００９］～［００１７］段落、特開２０１３－３７３５３号公報の［００５１］～［００６５］段落、特開２０１２－６３３８７号公報の［００４９］～［００７３］段落、特開平１１－３０５０３６号公報の［００１６］～［００１８］段落、特開２００１－１３３６３０号公報の［０００９］～［００１１］段落、特開２０１１－２１５３３７号公報の［００３０］～［０１６９］、特開２０１０－１０６２４２号公報の［００２１］～［００７５］段落、特開２０１０－２１５８４６号公報の［００１１］～［００２５］段落、特開２０１１－０４８３１１号公報の［００１７］～［００６９］段落、特開２０１１－２１３６１０号公報の［００１３］～［０１３３］段落、特開２０１１－２３７５１３号公報の［００７４］～［０２４６］段落、特開２０１６－００６５０２号公報の［０００５］～［００５１］段落、ＷＯ２０１６／０６０１７３号公報の［０００５］～［００４１］段落、ＷＯ２０１６／１３６５６１号公報の［０００８］～［００６２］段落、国際公開第２０１７／１５４８３５号の［００１４］～［００３３］段落、国際公開第２０１７／１５４６９５号の［００１４］～［００３３］段落、国際公開第２０１７／１９５８３３号の［００１３］～［００３７］段落、国際公開第２０１８／１６４２５２号の［００１４］～［００３４］段落などに記載されたものが挙げられる。
【0148】
本発明においては、２種以上の二色性物質を併用してもよく、例えば、光吸収異方性層を黒色に近づける観点から、波長３７０～５５０ｎｍの範囲に極大吸収波長を有する少なくとも１種の色素化合物（第１の二色性色素）と、波長５００～７００ｎｍの範囲に極大吸収波長を有する少なくとも１種の色素化合物（第２の二色性色素）とを併用することが好ましい。
【0149】
本発明においては、耐押圧性がより良好となる理由から、二色性物質が架橋性基を有していることが好ましい。
架橋性基としては、具体的には、例えば、（メタ）アクリロイル基、エポキシ基、オキセタニル基、スチリル基などが挙げられ、中でも、（メタ）アクリロイル基が好ましい。
架橋性基としては、具体的には、例えば、（メタ）アクリロイル基、エポキシ基、オキセタニル基、スチリル基などが挙げられ、中でも、（メタ）アクリロイル基が好ましい。
【0150】
本発明においては、液晶組成物に含まれる二色性物質の含有量は、光吸収異方性層の配向度および均一性のバランスが良好となる観点から、固形分割合として２～３５質量％であることが好ましく、５～２５質量％であることがより好ましく、５～２０質量％であることが更に好ましく、１０～１５質量％であることが特に好ましい。
【0151】
液晶組成物は、下記式（４）で表される二色性物質（以下、「特定二色性色素化合物」とも略す。）を含有することが好ましい。
【化26】
【0152】
ここで、式（４）中、Ａ１、Ａ２およびＡ３は、それぞれ独立に、置換基を有していてもよい２価の芳香族基を表す。
また、式（４）中、Ｌ１およびＬ２は、それぞれ独立に、置換基を表す。
また、式（４）中、ｍは、１～４の整数を表し、ｍが２～４の整数の場合、複数のＡ２は互いに同一でも異なっていてもよい。なお、ｍは、１または２であることが好ましい。
また、式（４）中、Ｌ１およびＬ２は、それぞれ独立に、置換基を表す。
また、式（４）中、ｍは、１～４の整数を表し、ｍが２～４の整数の場合、複数のＡ２は互いに同一でも異なっていてもよい。なお、ｍは、１または２であることが好ましい。
【0153】
上記式（４）中、Ａ１、Ａ２およびＡ３が表す「置換基を有していてもよい２価の芳香族基」について説明する。
上記置換基としては、例えば、特開２０１１－２３７５１３号公報の［０２３７］～［０２４０］段落に記載された置換基群Ｇが挙げられ、中でも、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基（例えば、メトキシカルボニル、エトキシカルボニルなど）、アリールオキシカルボニル基（例えば、フェノキシカルボニル、４－メチルフェノキシカルボニル、４－メトキシフェニルカルボニルなど）等が好適に挙げられ、アルキル基がより好適に挙げられ、炭素数１～５のアルキル基がさらに好適に挙げられる。
一方、２価の芳香族基としては、例えば、２価の芳香族炭化水素基および２価の芳香族複素環基が挙げられる。
上記２価の芳香族炭化水素基としては、例えば、炭素数６～１２のアリーレン基が挙げられ、具体的には、フェニレン基、クメニレン基、メシチレン基、トリレン基、キシリレン基等が挙げられる。中でもフェニレン基が好ましい。
また、上記２価の芳香族複素環基としては、単環または２環性の複素環由来の基が好ましい。芳香族複素環基を構成する炭素以外の原子としては、窒素原子、硫黄原子および酸素原子が挙げられる。芳香族複素環基が炭素以外の環を構成する原子を複数有する場合、これらは同一であっても異なっていてもよい。芳香族複素環基としては、具体的には、ピリジレン基（ピリジン－ジイル基）、キノリレン基（キノリン－ジイル基）、イソキノリレン基（イソキノリン－ジイル基）、ベンゾチアジアゾール－ジイル基、フタルイミド－ジイル基、チエノチアゾール－ジイル基（以下、「チエノチアゾール基」と略す。）等が挙げられる。
上記２価の芳香族基の中でも、２価の芳香族炭化水素基が好ましい。
上記置換基としては、例えば、特開２０１１－２３７５１３号公報の［０２３７］～［０２４０］段落に記載された置換基群Ｇが挙げられ、中でも、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基（例えば、メトキシカルボニル、エトキシカルボニルなど）、アリールオキシカルボニル基（例えば、フェノキシカルボニル、４－メチルフェノキシカルボニル、４－メトキシフェニルカルボニルなど）等が好適に挙げられ、アルキル基がより好適に挙げられ、炭素数１～５のアルキル基がさらに好適に挙げられる。
一方、２価の芳香族基としては、例えば、２価の芳香族炭化水素基および２価の芳香族複素環基が挙げられる。
上記２価の芳香族炭化水素基としては、例えば、炭素数６～１２のアリーレン基が挙げられ、具体的には、フェニレン基、クメニレン基、メシチレン基、トリレン基、キシリレン基等が挙げられる。中でもフェニレン基が好ましい。
また、上記２価の芳香族複素環基としては、単環または２環性の複素環由来の基が好ましい。芳香族複素環基を構成する炭素以外の原子としては、窒素原子、硫黄原子および酸素原子が挙げられる。芳香族複素環基が炭素以外の環を構成する原子を複数有する場合、これらは同一であっても異なっていてもよい。芳香族複素環基としては、具体的には、ピリジレン基（ピリジン－ジイル基）、キノリレン基（キノリン－ジイル基）、イソキノリレン基（イソキノリン－ジイル基）、ベンゾチアジアゾール－ジイル基、フタルイミド－ジイル基、チエノチアゾール－ジイル基（以下、「チエノチアゾール基」と略す。）等が挙げられる。
上記２価の芳香族基の中でも、２価の芳香族炭化水素基が好ましい。
【0154】
ここで、Ａ１、Ａ２およびＡ３のうちいずれか１つが、置換基を有していてもよい２価のチエノチアゾール基であることも好ましい。なお、２価のチエノチアゾール基の置換基の具体例は、上述した「置換基を有していてもよい２価の芳香族基」における置換基と同じであり、好ましい態様も同じである。
また、Ａ１、Ａ２およびＡ３のうち、Ａ２が２価のチエノチアゾール基であることがより好ましい。この場合には、Ａ１およびＡ２は、置換基を有していてもよい２価の芳香族基を表す。
Ａ２が２価のチエノチアゾール基である場合には、Ａ１およびＡ２の少なくとも一方が置換基を有していてもよい２価の芳香族炭化水素基であることが好ましく、Ａ１およびＡ２の両方が置換基を有していてもよい２価の芳香族炭化水素基であることが好ましい。
また、Ａ１、Ａ２およびＡ３のうち、Ａ２が２価のチエノチアゾール基であることがより好ましい。この場合には、Ａ１およびＡ２は、置換基を有していてもよい２価の芳香族基を表す。
Ａ２が２価のチエノチアゾール基である場合には、Ａ１およびＡ２の少なくとも一方が置換基を有していてもよい２価の芳香族炭化水素基であることが好ましく、Ａ１およびＡ２の両方が置換基を有していてもよい２価の芳香族炭化水素基であることが好ましい。
【0155】
上記式（４）中、Ｌ１およびＬ２が表す「置換基」について説明する。
上記置換基としては、溶解性やネマティック液晶性を高めるために導入される基、色素としての色調を調節するために導入される電子供与性や電子吸引性を有する基、または、配向を固定化するために導入される架橋性基（重合性基）を有する基が好ましい。
例えば、置換基としては、アルキル基（好ましくは炭素数１～２０、より好ましくは炭素数１～１２、特に好ましくは炭素数１～８のアルキル基であり、例えば、メチル基、エチル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ｎ－オクチル基、ｎ－デシル基、ｎ－ヘキサデシル基、シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基などが挙げられる）、アルケニル基（好ましくは炭素数２～２０、より好ましくは炭素数２～１２、特に好ましくは炭素数２～８のアルケニル基であり、例えば、ビニル基、アリール基、２－ブテニル基、３－ペンテニル基などが挙げられる）、アルキニル基（好ましくは炭素数２～２０、より好ましくは炭素数２～１２、特に好ましくは炭素数２～８のアルキニル基であり、例えば、プロパルギル基、３－ペンチニル基などが挙げられる）、アリール基（好ましくは炭素数６～３０、より好ましくは炭素数６～２０、特に好ましくは炭素数６～１２のアリール基であり、例えば、フェニル基、２，６－ジエチルフェニル基、３，５－ジトリフルオロメチルフェニル基、スチリル基、ナフチル基、ビフェニル基などが挙げられる）、置換もしくは無置換のアミノ基（好ましくは炭素数０～２０、より好ましくは炭素数０～１０、特に好ましくは炭素数０～６のアミノ基であり、例えば、無置換アミノ基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、アニリノ基などが挙げられる）、アルコキシ基（好ましくは炭素数１～２０、より好ましくは炭素数１～１５であり、例えば、メトキシ基、エトキシ基、ブトキシ基などが挙げられる）、オキシカルボニル基（好ましくは炭素数２～２０、より好ましくは炭素数２～１５、特に好ましくは２～１０であり、例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、フェノキシカルボニル基などが挙げられる）、アシルオキシ基（好ましくは炭素数２～２０、より好ましくは炭素数２～１０、特に好ましくは２～６であり、例えば、アセトキシ基、ベンゾイルオキシ基、アクリロイル基およびメタクリロイル基などが挙げられる）、アシルアミノ基（好ましくは炭素数２～２０、より好ましくは炭素数２～１０、特に好ましくは炭素数２～６であり、例えばアセチルアミノ基、ベンゾイルアミノ基などが挙げられる）、アルコキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数２～２０、より好ましくは炭素数２～１０、特に好ましくは炭素数２～６であり、例えば、メトキシカルボニルアミノ基などが挙げられる）、アリールオキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数７～２０、より好ましくは炭素数７～１６、特に好ましくは炭素数７～１２であり、例えば、フェニルオキシカルボニルアミノ基などが挙げられる）、スルホニルアミノ基（好ましくは炭素数１～２０、より好ましくは炭素数１～１０、特に好ましくは炭素数１～６であり、例えば、メタンスルホニルアミノ基、ベンゼンスルホニルアミノ基などが挙げられる）、スルファモイル基（好ましくは炭素数０～２０、より好ましくは炭素数０～１０、特に好ましくは炭素数０～６であり、例えば、スルファモイル基、メチルスルファモイル基、ジメチルスルファモイル基、フェニルスルファモイル基などが挙げられる）、カルバモイル基（好ましくは炭素数１～２０、より好ましくは炭素数１～１０、特に好ましくは炭素数１～６であり、例えば、無置換のカルバモイル基、メチルカルバモイル基、ジエチルカルバモイル基、フェニルカルバモイル基などが挙げられる）、アルキルチオ基（好ましくは炭素数１～２０、より好ましくは炭素数１～１０、特に好ましくは炭素数１～６であり、例えば、メチルチオ基、エチルチオ基などが挙げられる）、アリールチオ基（好ましくは炭素数６～２０、より好ましくは炭素数６～１６、特に好ましくは炭素数６～１２であり、例えば、フェニルチオ基などが挙げられる）、スルホニル基（好ましくは炭素数１～２０、より好ましくは炭素数１～１０、特に好ましくは炭素数１～６であり、例えば、メシル基、トシル基などが挙げられる）、スルフィニル基（好ましくは炭素数１～２０、より好ましくは炭素数１～１０、特に好ましくは炭素数１～６であり、例えば、メタンスルフィニル基、ベンゼンスルフィニル基などが挙げられる）、ウレイド基（好ましくは炭素数１～２０、より好ましくは炭素数１～１０、特に好ましくは炭素数１～６であり、例えば、無置換のウレイド基、メチルウレイド基、フェニルウレイド基などが挙げられる）、リン酸アミド基（好ましくは炭素数１～２０、より好ましくは炭素数１～１０、特に好ましくは炭素数１～６であり、例えば、ジエチルリン酸アミド基、フェニルリン酸アミド基などが挙げられる）、ヒドロキシ基、メルカプト基、ハロゲン原子（例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、シアノ基、ニトロ基、ヒドロキサム酸基、スルフィノ基、ヒドラジノ基、イミノ基、アゾ基、ヘテロ環基（好ましくは炭素数１～３０、より好ましくは１～１２のヘテロ環基であり、例えば、窒素原子、酸素原子、硫黄原子等のヘテロ原子を有するヘテロ環基であり、例えば、エポキシ基、オキセタニル基、イミダゾリル基、ピリジル基、キノリル基、フリル基、ピペリジル基、モルホリノ基、ベンゾオキサゾリル基、ベンズイミダゾリル基、ベンズチアゾリル基などが挙げられる）、シリル基（好ましくは、炭素数３～４０、より好ましくは炭素数３～３０、特に好ましくは、炭素数３～２４のシリル基であり、例えば、トリメチルシリル基、トリフェニルシリル基などが挙げられる）が含まれる。
これらの置換基はさらにこれらの置換基によって置換されていてもよい。また、置換基を２つ以上有する場合は、同じでも異なってもよい。また、可能な場合には互いに結合して環を形成していてもよい。
上記置換基としては、溶解性やネマティック液晶性を高めるために導入される基、色素としての色調を調節するために導入される電子供与性や電子吸引性を有する基、または、配向を固定化するために導入される架橋性基（重合性基）を有する基が好ましい。
例えば、置換基としては、アルキル基（好ましくは炭素数１～２０、より好ましくは炭素数１～１２、特に好ましくは炭素数１～８のアルキル基であり、例えば、メチル基、エチル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ｎ－オクチル基、ｎ－デシル基、ｎ－ヘキサデシル基、シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基などが挙げられる）、アルケニル基（好ましくは炭素数２～２０、より好ましくは炭素数２～１２、特に好ましくは炭素数２～８のアルケニル基であり、例えば、ビニル基、アリール基、２－ブテニル基、３－ペンテニル基などが挙げられる）、アルキニル基（好ましくは炭素数２～２０、より好ましくは炭素数２～１２、特に好ましくは炭素数２～８のアルキニル基であり、例えば、プロパルギル基、３－ペンチニル基などが挙げられる）、アリール基（好ましくは炭素数６～３０、より好ましくは炭素数６～２０、特に好ましくは炭素数６～１２のアリール基であり、例えば、フェニル基、２，６－ジエチルフェニル基、３，５－ジトリフルオロメチルフェニル基、スチリル基、ナフチル基、ビフェニル基などが挙げられる）、置換もしくは無置換のアミノ基（好ましくは炭素数０～２０、より好ましくは炭素数０～１０、特に好ましくは炭素数０～６のアミノ基であり、例えば、無置換アミノ基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、アニリノ基などが挙げられる）、アルコキシ基（好ましくは炭素数１～２０、より好ましくは炭素数１～１５であり、例えば、メトキシ基、エトキシ基、ブトキシ基などが挙げられる）、オキシカルボニル基（好ましくは炭素数２～２０、より好ましくは炭素数２～１５、特に好ましくは２～１０であり、例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、フェノキシカルボニル基などが挙げられる）、アシルオキシ基（好ましくは炭素数２～２０、より好ましくは炭素数２～１０、特に好ましくは２～６であり、例えば、アセトキシ基、ベンゾイルオキシ基、アクリロイル基およびメタクリロイル基などが挙げられる）、アシルアミノ基（好ましくは炭素数２～２０、より好ましくは炭素数２～１０、特に好ましくは炭素数２～６であり、例えばアセチルアミノ基、ベンゾイルアミノ基などが挙げられる）、アルコキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数２～２０、より好ましくは炭素数２～１０、特に好ましくは炭素数２～６であり、例えば、メトキシカルボニルアミノ基などが挙げられる）、アリールオキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数７～２０、より好ましくは炭素数７～１６、特に好ましくは炭素数７～１２であり、例えば、フェニルオキシカルボニルアミノ基などが挙げられる）、スルホニルアミノ基（好ましくは炭素数１～２０、より好ましくは炭素数１～１０、特に好ましくは炭素数１～６であり、例えば、メタンスルホニルアミノ基、ベンゼンスルホニルアミノ基などが挙げられる）、スルファモイル基（好ましくは炭素数０～２０、より好ましくは炭素数０～１０、特に好ましくは炭素数０～６であり、例えば、スルファモイル基、メチルスルファモイル基、ジメチルスルファモイル基、フェニルスルファモイル基などが挙げられる）、カルバモイル基（好ましくは炭素数１～２０、より好ましくは炭素数１～１０、特に好ましくは炭素数１～６であり、例えば、無置換のカルバモイル基、メチルカルバモイル基、ジエチルカルバモイル基、フェニルカルバモイル基などが挙げられる）、アルキルチオ基（好ましくは炭素数１～２０、より好ましくは炭素数１～１０、特に好ましくは炭素数１～６であり、例えば、メチルチオ基、エチルチオ基などが挙げられる）、アリールチオ基（好ましくは炭素数６～２０、より好ましくは炭素数６～１６、特に好ましくは炭素数６～１２であり、例えば、フェニルチオ基などが挙げられる）、スルホニル基（好ましくは炭素数１～２０、より好ましくは炭素数１～１０、特に好ましくは炭素数１～６であり、例えば、メシル基、トシル基などが挙げられる）、スルフィニル基（好ましくは炭素数１～２０、より好ましくは炭素数１～１０、特に好ましくは炭素数１～６であり、例えば、メタンスルフィニル基、ベンゼンスルフィニル基などが挙げられる）、ウレイド基（好ましくは炭素数１～２０、より好ましくは炭素数１～１０、特に好ましくは炭素数１～６であり、例えば、無置換のウレイド基、メチルウレイド基、フェニルウレイド基などが挙げられる）、リン酸アミド基（好ましくは炭素数１～２０、より好ましくは炭素数１～１０、特に好ましくは炭素数１～６であり、例えば、ジエチルリン酸アミド基、フェニルリン酸アミド基などが挙げられる）、ヒドロキシ基、メルカプト基、ハロゲン原子（例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、シアノ基、ニトロ基、ヒドロキサム酸基、スルフィノ基、ヒドラジノ基、イミノ基、アゾ基、ヘテロ環基（好ましくは炭素数１～３０、より好ましくは１～１２のヘテロ環基であり、例えば、窒素原子、酸素原子、硫黄原子等のヘテロ原子を有するヘテロ環基であり、例えば、エポキシ基、オキセタニル基、イミダゾリル基、ピリジル基、キノリル基、フリル基、ピペリジル基、モルホリノ基、ベンゾオキサゾリル基、ベンズイミダゾリル基、ベンズチアゾリル基などが挙げられる）、シリル基（好ましくは、炭素数３～４０、より好ましくは炭素数３～３０、特に好ましくは、炭素数３～２４のシリル基であり、例えば、トリメチルシリル基、トリフェニルシリル基などが挙げられる）が含まれる。
これらの置換基はさらにこれらの置換基によって置換されていてもよい。また、置換基を２つ以上有する場合は、同じでも異なってもよい。また、可能な場合には互いに結合して環を形成していてもよい。
【0156】
Ｌ１およびＬ２が表す置換基として好ましくは、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアルケニル基、置換基を有していてもよいアルキニル基、置換基を有していてもよいアリール基、置換基を有していてもよいアルコキシ基、置換基を有していてもよいオキシカルボニル基、置換基を有していてもよいアシルオキシ基、置換基を有していてもよいアシルアミノ基、置換基を有していてもよいアミノ基、置換基を有していてもよいアルコキシカルボニルアミノ基、置換基を有していてもよいスルホニルアミノ基、置換基を有していてもよいスルファモイル基、置換基を有していてもよいカルバモイル基、置換基を有していてもよいアルキルチオ基、置換基を有していてもよいスルホニル基、置換基を有していてもよいウレイド基、ニトロ基、ヒドロキシ基、シアノ基、イミノ基、アゾ基、ハロゲン原子、および、ヘテロ環基であり、より好ましくは、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアルケニル基、置換基を有していてもよいアリール基、置換基を有していてもよいアルコキシ基、置換基を有していてもよいオキシカルボニル基、置換基を有していてもよいアシルオキシ基、置換基を有していてもよいアミノ基、ニトロ基、イミノ基、および、アゾ基である。
【0157】
Ｌ１およびＬ２の少なくとも一方は、架橋性基（重合性基）を含むことが好ましく、Ｌ１およびＬ２の両方に架橋性基を含むことがより好ましい。
架橋性基としては、具体的には、特開２０１０－２４４０３８号公報の［００４０］～［００５０］段落に記載された重合性基が挙げられ、反応性および合成適性の観点から、アクリロイル基、メタクリロイル基、エポキシ基、オキセタニル基、および、スチリル基が好ましく、アクリロイル基およびメタクリロイル基が好ましい。
架橋性基としては、具体的には、特開２０１０－２４４０３８号公報の［００４０］～［００５０］段落に記載された重合性基が挙げられ、反応性および合成適性の観点から、アクリロイル基、メタクリロイル基、エポキシ基、オキセタニル基、および、スチリル基が好ましく、アクリロイル基およびメタクリロイル基が好ましい。
【0158】
Ｌ１およびＬ２の好適な態様としては、上記架橋性基で置換されたアルキル基、上記架橋性基で置換されたジアルキルアミノ基、および、上記架橋性基で置換されたアルコキシ基が挙げられる。
【0159】
（第２の二色性色素）
液晶組成物は、長波側で高い配向度を達成できるという観点で、下記式（５）で表される二色性アゾ色素を含有することが好ましい。
液晶組成物は、長波側で高い配向度を達成できるという観点で、下記式（５）で表される二色性アゾ色素を含有することが好ましい。
【0160】
【化27】
【0161】
上記式（５）中、Ｃ１およびＣ２は、それぞれ独立に、１価の置換基を表す。ただし、Ｃ１およびＣ２の少なくとも一方は、架橋性基を表す。
上記式（５）中、Ｍ１およびＭ２は、それぞれ独立に、２価の連結基を表す。ただし、Ｍ１およびＭ２の少なくとも一方は、主鎖の原子の数が４個以上である。
上記式（５）中、Ａｒ１およびＡｒ２は、それぞれ独立に、置換基を有していてもよいフェニレン基、置換基を有していてもよいナフチレン基および置換基を有していてもよいビフェニレン基のいずれかの基を表す。
上記式（５）中、Ｅは、窒素原子、酸素原子および硫黄原子のいずれかの原子を表す。
上記式（５）中、Ｒ１は、水素原子または置換基を表す。
上記式（５）中、Ｒ２は、水素原子または置換基を有していてもよいアルキル基を表す。
上記式（５）中、ｎは、０または１を表す。ただし、Ｅが窒素原子である場合には、ｎは１であり、Ｅが酸素原子または硫黄原子である場合には、ｎは０である。
上記式（５）中、Ｍ１およびＭ２は、それぞれ独立に、２価の連結基を表す。ただし、Ｍ１およびＭ２の少なくとも一方は、主鎖の原子の数が４個以上である。
上記式（５）中、Ａｒ１およびＡｒ２は、それぞれ独立に、置換基を有していてもよいフェニレン基、置換基を有していてもよいナフチレン基および置換基を有していてもよいビフェニレン基のいずれかの基を表す。
上記式（５）中、Ｅは、窒素原子、酸素原子および硫黄原子のいずれかの原子を表す。
上記式（５）中、Ｒ１は、水素原子または置換基を表す。
上記式（５）中、Ｒ２は、水素原子または置換基を有していてもよいアルキル基を表す。
上記式（５）中、ｎは、０または１を表す。ただし、Ｅが窒素原子である場合には、ｎは１であり、Ｅが酸素原子または硫黄原子である場合には、ｎは０である。
【0162】
式（５）において、Ｃ１およびＣ２が表す１価の置換基について説明する。
Ｃ１およびＣ２が表す１価の置換基としては、アゾ化合物の溶解性またはネマチック液晶性を高めるために導入される基、色素としての色調を調節するために導入される電子供与性や電子吸引性を有する基、または、配向を固定化するために導入される架橋性基（重合性基）が好ましい。
例えば、置換基としては、アルキル基（好ましくは炭素数１～２０、より好ましくは炭素数１～１２、特に好ましくは炭素数１～８のアルキル基であり、例えば、メチル基、エチル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ-ブチル基、ｎ-オクチル基、ｎ-デシル基、ｎ-ヘキサデシル基、シクロプロピル基、シクロペンチル基、および、シクロヘキシル基などが挙げられる）、アルケニル基（好ましくは炭素数２～２０、より好ましくは炭素数２～１２、特に好ましくは炭素数２～８のアルケニル基であり、例えば、ビニル基、アリール基、２-ブテニル基、および、３-ペンテニル基などが挙げられる）、アルキニル基（好ましくは炭素数２～２０、より好ましくは炭素数２～１２、特に好ましくは炭素数２～８のアルキニル基であり、例えば、プロパルギル基、および、３－ペンチニル基などが挙げられる）、アリール基（好ましくは炭素数６～３０、より好ましくは炭素数６～２０、特に好ましくは炭素数６～１２のアリール基であり、例えば、フェニル基、２，６-ジエチルフェニル基、３，５-ジトリフルオロメチルフェニル基、スチリル基、ナフチル基、および、ビフェニル基などが挙げられる）、置換もしくは無置換のアミノ基（好ましくは炭素数０～２０、より好ましくは炭素数０～１０、特に好ましくは炭素数０～６のアミノ基であり、例えば、無置換アミノ基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、および、アニリノ基などが挙げられる）、アルコキシ基（好ましくは炭素数１～２０、より好ましくは炭素数１～１５であり、例えば、メトキシ基、エトキシ基、および、ブトキシ基などが挙げられる）、オキシカルボニル基（好ましくは炭素数２～２０、より好ましくは炭素数２～１５、特に好ましくは２～１０であり、例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、および、フェノキシカルボニル基などが挙げられる）、アシルオキシ基（好ましくは炭素数２～２０、より好ましくは炭素数２～１０、特に好ましくは２～６であり、例えば、アセトキシ基、ベンゾイルオキシ基、アクリロイル基、および、メタクリロイル基などが挙げられる）、アシルアミノ基（好ましくは炭素数２～２０、より好ましくは炭素数２～１０、特に好ましくは炭素数２～６であり、例えば、アセチルアミノ基、および、ベンゾイルアミノ基などが挙げられる）、アルコキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数２～２０、より好ましくは炭素数２～１０、特に好ましくは炭素数２～６であり、例えば、メトキシカルボニルアミノ基などが挙げられる）、アリールオキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数７～２０、より好ましくは炭素数７～１６、特に好ましくは炭素数７～１２であり、例えば、フェニルオキシカルボニルアミノ基などが挙げられる）、スルホニルアミノ基（好ましくは炭素数１～２０、より好ましくは炭素数１～１０、特に好ましくは炭素数１～６であり、例えば、メタンスルホニルアミノ基、および、ベンゼンスルホニルアミノ基などが挙げられる）、スルファモイル基（好ましくは炭素数０～２０、より好ましくは炭素数０～１０、特に好ましくは炭素数０～６であり、例えば、スルファモイル基、メチルスルファモイル基、ジメチルスルファモイル基、および、フェニルスルファモイル基などが挙げられる）、カルバモイル基（好ましくは炭素数１～２０、より好ましくは炭素数１～１０、特に好ましくは炭素数１～６であり、例えば、無置換のカルバモイル基、メチルカルバモイル基、ジエチルカルバモイル基、および、フェニルカルバモイル基などが挙げられる）、アルキルチオ基（好ましくは炭素数１～２０、より好ましくは炭素数１～１０、特に好ましくは炭素数１～６であり、例えば、メチルチオ基、および、エチルチオ基などが挙げられる）、アリールチオ基（好ましくは炭素数６～２０、より好ましくは炭素数６～１６、特に好ましくは炭素数６～１２であり、例えば、フェニルチオ基などが挙げられる）、スルホニル基（好ましくは炭素数１～２０、より好ましくは炭素数１～１０、特に好ましくは炭素数１～６であり、例えば、メシル基、および、トシル基などが挙げられる）、スルフィニル基（好ましくは炭素数１～２０、より好ましくは炭素数１～１０、特に好ましくは炭素数１～６であり、例えば、メタンスルフィニル基、および、ベンゼンスルフィニル基などが挙げられる）、ウレイド基（好ましくは炭素数１～２０、より好ましくは炭素数１～１０、特に好ましくは炭素数１～６であり、例えば、無置換のウレイド基、メチルウレイド基、および、フェニルウレイド基などが挙げられる）、リン酸アミド基（好ましくは炭素数１～２０、より好ましくは炭素数１～１０、特に好ましくは炭素数１～６であり、例えば、ジエチルリン酸アミド基、および、フェニルリン酸アミド基などが挙げられる）、ヒドロキシ基、メルカプト基、ハロゲン原子（例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、および、ヨウ素原子）、シアノ基、ニトロ基、ヒドロキサム酸基、スルフィノ基、ヒドラジノ基、イミノ基、アゾ基、ヘテロ環基（好ましくは炭素数１～３０、より好ましくは１～１２のヘテロ環基であり、例えば、窒素原子、酸素原子、硫黄原子等のヘテロ原子を有するヘテロ環基であり、例えば、エポキシ基、オキセタニル基、イミダゾリル基、ピリジル基、キノリル基、フリル基、ピペリジル基、モルホリノ基、ベンゾオキサゾリル基、ベンズイミダゾリル基、および、ベンズチアゾリル基などが挙げられる）、および、シリル基（好ましくは、炭素数３～４０、より好ましくは炭素数３～３０、特に好ましくは、炭素数３～２４のシリル基であり、例えば、トリメチルシリル基、および、トリフェニルシリル基などが挙げられる）が含まれる。
これらの置換基はさらにこれらの置換基によって置換されていてもよい。また、置換基を２つ以上有する場合は、同じでも異なってもよい。また、可能な場合には互いに結合して環を形成していてもよい。
Ｃ１およびＣ２が表す１価の置換基としては、アゾ化合物の溶解性またはネマチック液晶性を高めるために導入される基、色素としての色調を調節するために導入される電子供与性や電子吸引性を有する基、または、配向を固定化するために導入される架橋性基（重合性基）が好ましい。
例えば、置換基としては、アルキル基（好ましくは炭素数１～２０、より好ましくは炭素数１～１２、特に好ましくは炭素数１～８のアルキル基であり、例えば、メチル基、エチル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ-ブチル基、ｎ-オクチル基、ｎ-デシル基、ｎ-ヘキサデシル基、シクロプロピル基、シクロペンチル基、および、シクロヘキシル基などが挙げられる）、アルケニル基（好ましくは炭素数２～２０、より好ましくは炭素数２～１２、特に好ましくは炭素数２～８のアルケニル基であり、例えば、ビニル基、アリール基、２-ブテニル基、および、３-ペンテニル基などが挙げられる）、アルキニル基（好ましくは炭素数２～２０、より好ましくは炭素数２～１２、特に好ましくは炭素数２～８のアルキニル基であり、例えば、プロパルギル基、および、３－ペンチニル基などが挙げられる）、アリール基（好ましくは炭素数６～３０、より好ましくは炭素数６～２０、特に好ましくは炭素数６～１２のアリール基であり、例えば、フェニル基、２，６-ジエチルフェニル基、３，５-ジトリフルオロメチルフェニル基、スチリル基、ナフチル基、および、ビフェニル基などが挙げられる）、置換もしくは無置換のアミノ基（好ましくは炭素数０～２０、より好ましくは炭素数０～１０、特に好ましくは炭素数０～６のアミノ基であり、例えば、無置換アミノ基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、および、アニリノ基などが挙げられる）、アルコキシ基（好ましくは炭素数１～２０、より好ましくは炭素数１～１５であり、例えば、メトキシ基、エトキシ基、および、ブトキシ基などが挙げられる）、オキシカルボニル基（好ましくは炭素数２～２０、より好ましくは炭素数２～１５、特に好ましくは２～１０であり、例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、および、フェノキシカルボニル基などが挙げられる）、アシルオキシ基（好ましくは炭素数２～２０、より好ましくは炭素数２～１０、特に好ましくは２～６であり、例えば、アセトキシ基、ベンゾイルオキシ基、アクリロイル基、および、メタクリロイル基などが挙げられる）、アシルアミノ基（好ましくは炭素数２～２０、より好ましくは炭素数２～１０、特に好ましくは炭素数２～６であり、例えば、アセチルアミノ基、および、ベンゾイルアミノ基などが挙げられる）、アルコキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数２～２０、より好ましくは炭素数２～１０、特に好ましくは炭素数２～６であり、例えば、メトキシカルボニルアミノ基などが挙げられる）、アリールオキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数７～２０、より好ましくは炭素数７～１６、特に好ましくは炭素数７～１２であり、例えば、フェニルオキシカルボニルアミノ基などが挙げられる）、スルホニルアミノ基（好ましくは炭素数１～２０、より好ましくは炭素数１～１０、特に好ましくは炭素数１～６であり、例えば、メタンスルホニルアミノ基、および、ベンゼンスルホニルアミノ基などが挙げられる）、スルファモイル基（好ましくは炭素数０～２０、より好ましくは炭素数０～１０、特に好ましくは炭素数０～６であり、例えば、スルファモイル基、メチルスルファモイル基、ジメチルスルファモイル基、および、フェニルスルファモイル基などが挙げられる）、カルバモイル基（好ましくは炭素数１～２０、より好ましくは炭素数１～１０、特に好ましくは炭素数１～６であり、例えば、無置換のカルバモイル基、メチルカルバモイル基、ジエチルカルバモイル基、および、フェニルカルバモイル基などが挙げられる）、アルキルチオ基（好ましくは炭素数１～２０、より好ましくは炭素数１～１０、特に好ましくは炭素数１～６であり、例えば、メチルチオ基、および、エチルチオ基などが挙げられる）、アリールチオ基（好ましくは炭素数６～２０、より好ましくは炭素数６～１６、特に好ましくは炭素数６～１２であり、例えば、フェニルチオ基などが挙げられる）、スルホニル基（好ましくは炭素数１～２０、より好ましくは炭素数１～１０、特に好ましくは炭素数１～６であり、例えば、メシル基、および、トシル基などが挙げられる）、スルフィニル基（好ましくは炭素数１～２０、より好ましくは炭素数１～１０、特に好ましくは炭素数１～６であり、例えば、メタンスルフィニル基、および、ベンゼンスルフィニル基などが挙げられる）、ウレイド基（好ましくは炭素数１～２０、より好ましくは炭素数１～１０、特に好ましくは炭素数１～６であり、例えば、無置換のウレイド基、メチルウレイド基、および、フェニルウレイド基などが挙げられる）、リン酸アミド基（好ましくは炭素数１～２０、より好ましくは炭素数１～１０、特に好ましくは炭素数１～６であり、例えば、ジエチルリン酸アミド基、および、フェニルリン酸アミド基などが挙げられる）、ヒドロキシ基、メルカプト基、ハロゲン原子（例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、および、ヨウ素原子）、シアノ基、ニトロ基、ヒドロキサム酸基、スルフィノ基、ヒドラジノ基、イミノ基、アゾ基、ヘテロ環基（好ましくは炭素数１～３０、より好ましくは１～１２のヘテロ環基であり、例えば、窒素原子、酸素原子、硫黄原子等のヘテロ原子を有するヘテロ環基であり、例えば、エポキシ基、オキセタニル基、イミダゾリル基、ピリジル基、キノリル基、フリル基、ピペリジル基、モルホリノ基、ベンゾオキサゾリル基、ベンズイミダゾリル基、および、ベンズチアゾリル基などが挙げられる）、および、シリル基（好ましくは、炭素数３～４０、より好ましくは炭素数３～３０、特に好ましくは、炭素数３～２４のシリル基であり、例えば、トリメチルシリル基、および、トリフェニルシリル基などが挙げられる）が含まれる。
これらの置換基はさらにこれらの置換基によって置換されていてもよい。また、置換基を２つ以上有する場合は、同じでも異なってもよい。また、可能な場合には互いに結合して環を形成していてもよい。
【0163】
式（５）において、Ｃ１およびＣ２の少なくとも一方は、架橋性基を表し、光吸収異方性層の耐久性がより優れるという点から、Ｃ１およびＣ２の両方が架橋性基であることが好ましい。
架橋性基としては、具体的には、特開２０１０－２４４０３８号公報の［００４０］～［００５０］段落に記載された重合性基が挙げられ、反応性および合成適性の観点から、アクリロイル基、メタクリロイル基、エポキシ基、オキセタニル基、または、スチリル基が好ましく、アクリロイル基またはメタクリロイル基が好ましい。
架橋性基としては、具体的には、特開２０１０－２４４０３８号公報の［００４０］～［００５０］段落に記載された重合性基が挙げられ、反応性および合成適性の観点から、アクリロイル基、メタクリロイル基、エポキシ基、オキセタニル基、または、スチリル基が好ましく、アクリロイル基またはメタクリロイル基が好ましい。
【0164】
式（５）において、Ｍ１およびＭ２が表す２価の連結基について説明する。
２価の連結基としては、例えば、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＣＯ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－Ｏ－ＣＯ－Ｏ－、－ＣＯ－ＮＲＮ－、－Ｏ－ＣＯ－ＮＲＮ－、－ＳＯ２－、－ＳＯ－、アルキレン基、シクロアルキレン基、および、アルケニレン基、ならびに、これらの基を２つ以上組み合わせた基などが挙げられる。
これらの中でも、アルキレン基と、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＣＯ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－Ｏ－ＣＯ－Ｏ－、－ＣＯ－ＮＲＮ－、－Ｏ－ＣＯ－ＮＲＮ－、－ＳＯ２－および－ＳＯ－からなる群より選択される１種以上の基と、を組み合わせた基が好ましい。なお、ＲＮは、水素原子またはアルキル基を表す。
２価の連結基としては、例えば、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＣＯ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－Ｏ－ＣＯ－Ｏ－、－ＣＯ－ＮＲＮ－、－Ｏ－ＣＯ－ＮＲＮ－、－ＳＯ２－、－ＳＯ－、アルキレン基、シクロアルキレン基、および、アルケニレン基、ならびに、これらの基を２つ以上組み合わせた基などが挙げられる。
これらの中でも、アルキレン基と、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＣＯ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－Ｏ－ＣＯ－Ｏ－、－ＣＯ－ＮＲＮ－、－Ｏ－ＣＯ－ＮＲＮ－、－ＳＯ２－および－ＳＯ－からなる群より選択される１種以上の基と、を組み合わせた基が好ましい。なお、ＲＮは、水素原子またはアルキル基を表す。
【0165】
また、Ｍ１およびＭ２の少なくとも一方は、主鎖の原子の数が４個以上であり、７個以上であることが好ましく、１０個以上であることがより好ましい。また、主鎖の原子の数の上限値は、２０個以下であることが好ましく、１５個以下であることがより好ましい。
ここで、Ｍ１における「主鎖」とは、式（５）における「Ｃ１」と「Ａｒ１」とを直接連結するために必要な部分を指し、「主鎖の原子の数」とは、上記部分を構成する原子の個数のことを指す。同様に、Ｍ２における「主鎖」とは、式（５）における「Ｃ２」と「Ｅ」とを直接連結するために必要な部分を指し、「主鎖の原子の数」とは、上記部分を構成する原子の数のことを指す。なお、「主鎖の原子の数」には、後述する分岐鎖の原子の数は含まない。
具体的には、下記式（Ｄ７）においては、Ｍ１の主鎖の原子の数は６個（下記式（Ｄ７）の左側の点線枠内の原子の数）であり、Ｍ２の主鎖の原子の数は７個（下記式（Ｄ７）の右側の点線枠内の原子の数）である。
ここで、Ｍ１における「主鎖」とは、式（５）における「Ｃ１」と「Ａｒ１」とを直接連結するために必要な部分を指し、「主鎖の原子の数」とは、上記部分を構成する原子の個数のことを指す。同様に、Ｍ２における「主鎖」とは、式（５）における「Ｃ２」と「Ｅ」とを直接連結するために必要な部分を指し、「主鎖の原子の数」とは、上記部分を構成する原子の数のことを指す。なお、「主鎖の原子の数」には、後述する分岐鎖の原子の数は含まない。
具体的には、下記式（Ｄ７）においては、Ｍ１の主鎖の原子の数は６個（下記式（Ｄ７）の左側の点線枠内の原子の数）であり、Ｍ２の主鎖の原子の数は７個（下記式（Ｄ７）の右側の点線枠内の原子の数）である。
【0166】
【化28】
【0167】
本発明においては、Ｍ１およびＭ２の少なくとも一方が、主鎖の原子の数が４個以上の基であればよく、Ｍ１およびＭ２の一方の主鎖の原子の数が４個以上であれば、他方の主鎖の原子数は３個以下であってもよい。
Ｍ１およびＭ２の主鎖の原子の数の合計は、５～３０個が好ましく、７～２７個がより好ましい。主鎖の原子の数の合計が５個以上であることで、二色性物質がより重合しやすくなり、主鎖の原子の数の合計が３０個以下であることで、配向度に優れた光吸収異方性層が得られたり、二色性物質の融点が上がり耐熱性に優れた光吸収異方性層が得られたりする。
Ｍ１およびＭ２の主鎖の原子の数の合計は、５～３０個が好ましく、７～２７個がより好ましい。主鎖の原子の数の合計が５個以上であることで、二色性物質がより重合しやすくなり、主鎖の原子の数の合計が３０個以下であることで、配向度に優れた光吸収異方性層が得られたり、二色性物質の融点が上がり耐熱性に優れた光吸収異方性層が得られたりする。
【0168】
Ｍ１およびＭ２は、分岐鎖を有していてもよい。ここで、Ｍ１における「分岐鎖」とは、式（５）におけるＣ１とＡｒ１とを直接連結するために必要な部分以外の部分をいう。同様に、Ｍ２における「分岐鎖」とは、式（５）におけるＣ２とＥとを直接連結するために必要な部分以外の部分をいう。
分岐鎖の原子の数は、３個以下であることが好ましい。分岐鎖の原子の数が３個以下であることで、光吸収異方性層の配向度がより向上するなどの利点がある。なお、分岐鎖の原子の数には、水素原子の数は含まれない。
分岐鎖の原子の数は、３個以下であることが好ましい。分岐鎖の原子の数が３個以下であることで、光吸収異方性層の配向度がより向上するなどの利点がある。なお、分岐鎖の原子の数には、水素原子の数は含まれない。
【0169】
以下にＭ１およびＭ２の好ましい構造を例示するが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、下記構造中「＊」は、Ｃ１とＡｒ１との連結部、または、Ｃ２とＥとの連結部を表す。
【0170】
【化29】
【0171】
式（５）におけるＡｒ１およびＡｒ２が表す、「置換基を有していてもよいフェニレン基」、「置換基を有していてもよいナフチレン基」、および、「置換基を有していてもよいビフェニレン基」について説明する。
置換基としては、特に限定されず、ハロゲン原子、アルキル基、アルキルオキシ基、アルキルチオ基、オキシカルボニル基、チオアルキル基、アシルオキシ基、アシルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、スルホニルアミノ基、スルファモイル基、カルバモイル基、スルフィニル基、および、ウレイド基などが挙げられる。これらの置換基はさらにこれらの置換基で置換されていてもよい。これらの中でも、アルキル基が好ましく、炭素数１～５のアルキル基がさらに好ましく、原材料の入手が容易であることおよび配向度の観点から、メチル基およびエチル基が好ましい。
Ａｒ１およびＡｒ２は、置換基を有していてもよいフェニレン基、置換基を有していてもよいナフチレン基、または、置換基を有していてもよいビフェニレン基であるが、置換基を有していてもよい原材料の入手が容易であることおよび配向度の観点から、フェニレン基であることが好ましい。
式（５）において、Ａｒ１と連結する「Ｍ１」および「Ｎ」は、Ａｒ１におけるパラ位に位置することが好ましい。また、Ａｒ２と連結する「Ｅ」および「Ｎ」は、Ａｒ１におけるパラ位に位置することが好ましい。
置換基としては、特に限定されず、ハロゲン原子、アルキル基、アルキルオキシ基、アルキルチオ基、オキシカルボニル基、チオアルキル基、アシルオキシ基、アシルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、スルホニルアミノ基、スルファモイル基、カルバモイル基、スルフィニル基、および、ウレイド基などが挙げられる。これらの置換基はさらにこれらの置換基で置換されていてもよい。これらの中でも、アルキル基が好ましく、炭素数１～５のアルキル基がさらに好ましく、原材料の入手が容易であることおよび配向度の観点から、メチル基およびエチル基が好ましい。
Ａｒ１およびＡｒ２は、置換基を有していてもよいフェニレン基、置換基を有していてもよいナフチレン基、または、置換基を有していてもよいビフェニレン基であるが、置換基を有していてもよい原材料の入手が容易であることおよび配向度の観点から、フェニレン基であることが好ましい。
式（５）において、Ａｒ１と連結する「Ｍ１」および「Ｎ」は、Ａｒ１におけるパラ位に位置することが好ましい。また、Ａｒ２と連結する「Ｅ」および「Ｎ」は、Ａｒ１におけるパラ位に位置することが好ましい。
【0172】
上記式（５）中、Ｅは、窒素原子、酸素原子および硫黄原子のいずれかの原子を表し、合成適性の観点からは窒素原子であることが好ましい。
また、二色性物質を短波長側に吸収を持つもの（例えば、５００～５３０ｎｍ付近に極大吸収波長を持つもの）にすることが容易になるという観点からは、上記式（５）におけるＥは、酸素原子であることが好ましい。
一方、二色性物質を長波長側に吸収を持つもの（例えば、６００ｎｍ付近に極大吸収波長を持つもの）にすることが容易になるという観点からは、上記式（５）におけるＥは、窒素原子であることが好ましい。
また、二色性物質を短波長側に吸収を持つもの（例えば、５００～５３０ｎｍ付近に極大吸収波長を持つもの）にすることが容易になるという観点からは、上記式（５）におけるＥは、酸素原子であることが好ましい。
一方、二色性物質を長波長側に吸収を持つもの（例えば、６００ｎｍ付近に極大吸収波長を持つもの）にすることが容易になるという観点からは、上記式（５）におけるＥは、窒素原子であることが好ましい。
【0173】
上記式（５）中、Ｒ１は、水素原子または置換基を表す。
Ｒ１が表す「置換基」の具体例および好適態様は、上述したＡｒ１およびＡｒ２における置換基と同じであり、好ましい態様も同じであるので、その説明を省略する。
Ｒ１が表す「置換基」の具体例および好適態様は、上述したＡｒ１およびＡｒ２における置換基と同じであり、好ましい態様も同じであるので、その説明を省略する。
【0174】
上記式（５）中、Ｒ２は、水素原子または置換基を有していてもよいアルキル基を表し、置換基を有していてもよいアルキル基であることが好ましい。
置換基としては、例えば、ハロゲン原子、水酸基、エステル基、エーテル基、および、チオエーテル基等が挙げられる。
アルキル基としては、炭素数１～８の直鎖状、分岐鎖状または環状のアルキル基が挙げられる。中でも、炭素数１～６の直鎖状のアルキル基が好ましく、炭素数１～３の直鎖状のアルキル基がより好ましく、メチル基またはエチル基がさらに好ましい。
なお、Ｒ２は、Ｅが窒素原子である場合に式（５）中で存在する基となる（すなわち、ｎ＝１の場合を意味する）。一方で、Ｒ２は、Ｅが酸素原子または硫黄原子である場合、式（５）中で存在しない基となる（すなわち、ｎ＝０の場合を意味する）。
置換基としては、例えば、ハロゲン原子、水酸基、エステル基、エーテル基、および、チオエーテル基等が挙げられる。
アルキル基としては、炭素数１～８の直鎖状、分岐鎖状または環状のアルキル基が挙げられる。中でも、炭素数１～６の直鎖状のアルキル基が好ましく、炭素数１～３の直鎖状のアルキル基がより好ましく、メチル基またはエチル基がさらに好ましい。
なお、Ｒ２は、Ｅが窒素原子である場合に式（５）中で存在する基となる（すなわち、ｎ＝１の場合を意味する）。一方で、Ｒ２は、Ｅが酸素原子または硫黄原子である場合、式（５）中で存在しない基となる（すなわち、ｎ＝０の場合を意味する）。
【0175】
上記式（５）中、ｎは、０または１を表す。ただし、Ｅが窒素原子である場合には、ｎは１であり、Ｅが酸素原子または硫黄原子である場合には、ｎは０である。
【0176】
以下に、二色性物質の具体例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【0177】
【化30】
【0178】
（第１の二色性色素）
液晶組成物は、短波側で高い配向度を達成できるという観点で、下記式（６）で表される二色性アゾ色素を含有することが好ましい。
液晶組成物は、短波側で高い配向度を達成できるという観点で、下記式（６）で表される二色性アゾ色素を含有することが好ましい。
【0179】
【化31】
【0180】
式（６）中、ＡおよびＢは、それぞれ独立に、架橋性基を表す。
式（６）中、ａおよびｂは、それぞれ独立に、０または１を表す。ただし、ａ＋ｂ≧１である。
式（６）中、ａ＝０の場合にはＬ１は１価の置換基を表し、ａ＝１の場合にはＬ１は単結合または２価の連結基を表す。また、ｂ＝０の場合にはＬ２は１価の置換基を表し、ｂ＝１の場合にはＬ２は単結合または２価の連結基を表す。
式（６）中、Ａｒ１は（ｎ１＋２）価の芳香族炭化水素基または複素環基を表し、Ａｒ２は（ｎ２＋２）価の芳香族炭化水素基または複素環基を表し、Ａｒ３は（ｎ３＋２）価の芳香族炭化水素基または複素環基を表す。
式（６）中、Ｒ１、Ｒ２およびＲ３は、それぞれ独立に、１価の置換基を表す。ｎ１≧２である場合には複数のＲ１は互いに同一でも異なっていてもよく、ｎ２≧２である場合には複数のＲ２は互いに同一でも異なっていてもよく、ｎ３≧２である場合には複数のＲ３は互いに同一でも異なっていてもよい。
式（６）中、ｋは、１～４の整数を表す。ｋ≧２の場合には、複数のＡｒ２は互いに同一でも異なっていてもよく、複数のＲ２は互いに同一でも異なっていてもよい。
式（６）中、ｎ１、ｎ２およびｎ３は、それぞれ独立に、０～４の整数を表す。ただし、ｋ＝１の場合にはｎ１＋ｎ２＋ｎ３≧０であり、ｋ≧２の場合にはｎ１＋ｎ２＋ｎ３≧１である。
式（６）中、ａおよびｂは、それぞれ独立に、０または１を表す。ただし、ａ＋ｂ≧１である。
式（６）中、ａ＝０の場合にはＬ１は１価の置換基を表し、ａ＝１の場合にはＬ１は単結合または２価の連結基を表す。また、ｂ＝０の場合にはＬ２は１価の置換基を表し、ｂ＝１の場合にはＬ２は単結合または２価の連結基を表す。
式（６）中、Ａｒ１は（ｎ１＋２）価の芳香族炭化水素基または複素環基を表し、Ａｒ２は（ｎ２＋２）価の芳香族炭化水素基または複素環基を表し、Ａｒ３は（ｎ３＋２）価の芳香族炭化水素基または複素環基を表す。
式（６）中、Ｒ１、Ｒ２およびＲ３は、それぞれ独立に、１価の置換基を表す。ｎ１≧２である場合には複数のＲ１は互いに同一でも異なっていてもよく、ｎ２≧２である場合には複数のＲ２は互いに同一でも異なっていてもよく、ｎ３≧２である場合には複数のＲ３は互いに同一でも異なっていてもよい。
式（６）中、ｋは、１～４の整数を表す。ｋ≧２の場合には、複数のＡｒ２は互いに同一でも異なっていてもよく、複数のＲ２は互いに同一でも異なっていてもよい。
式（６）中、ｎ１、ｎ２およびｎ３は、それぞれ独立に、０～４の整数を表す。ただし、ｋ＝１の場合にはｎ１＋ｎ２＋ｎ３≧０であり、ｋ≧２の場合にはｎ１＋ｎ２＋ｎ３≧１である。
【0181】
式（６）において、ＡおよびＢが表す架橋性基としては、例えば、特開２０１０－２４４０３８号公報の［００４０］～［００５０］段落に記載された重合性基が挙げられる。これらの中でも、反応性および合成適性の向上の観点から、アクリロイル基、メタクリロイル基、エポキシ基、オキセタニル基、および、スチリル基が好ましく、溶解性をより向上できるという観点から、アクリロイル基およびメタクリロイル基がより好ましい。
【0182】
式（６）において、ａおよびｂはそれぞれ独立に、０または１を表すが、ａ＋ｂ≧１である。すなわち、二色性物質は、末端に少なくとも１つの架橋性基を有する。
ここで、ａおよびｂは両方が１であること、すなわち架橋性基が二色性物質の両末端に導入されていることが好ましい。これにより、二色性物質の溶解性がより向上したり、光吸収異方性層の耐久性が向上するという利点がある。
ここで、ａおよびｂは両方が１であること、すなわち架橋性基が二色性物質の両末端に導入されていることが好ましい。これにより、二色性物質の溶解性がより向上したり、光吸収異方性層の耐久性が向上するという利点がある。
【0183】
式（６）において、ａ＝０の場合にはＬ１は１価の置換基を表し、ａ＝１の場合にはＬ１は単結合または２価の連結基を表す。また、ｂ＝０の場合にはＬ２は１価の置換基を表し、ｂ＝１の場合にはＬ２は単結合または２価の連結基を表す。
Ｌ１およびＬ２は、両方が単結合または２価の連結基であることが好ましく、両方が２価の連結基であることが好ましい。これにより、二色性物質の溶解性がより向上する。
Ｌ１およびＬ２は、両方が単結合または２価の連結基であることが好ましく、両方が２価の連結基であることが好ましい。これにより、二色性物質の溶解性がより向上する。
【0184】
Ｌ１およびＬ２が表す１価の置換基としては、二色性物質の溶解性を高めるために導入される基、または、色素としての色調を調節するために導入される電子供与性や電子吸引性を有する基が好ましい。
例えば、置換基としては、
アルキル基（好ましくは炭素数１～２０、より好ましくは炭素数１～１２、特に好ましくは炭素数１～８のアルキル基であり、例えば、メチル基、エチル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ-ブチル基、ｎ-オクチル基、ｎ-デシル基、ｎ-ヘキサデシル基、シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基などが挙げられる）、
アルケニル基（好ましくは炭素数２～２０、より好ましくは炭素数２～１２、特に好ましくは炭素数２～８のアルケニル基であり、例えば、ビニル基、アリル基、２-ブテニル基、３-ペンテニル基などが挙げられる）、
アルキニル基（好ましくは炭素数２～２０、より好ましくは炭素数２～１２、特に好ましくは炭素数２～８のアルキニル基であり、例えば、プロパルギル基、３－ペンチニル基などが挙げられる）、
アリール基（好ましくは炭素数６～３０、より好ましくは炭素数６～２０、特に好ましくは炭素数６～１２のアリール基であり、例えば、フェニル基、２，６-ジエチルフェニル基、３，５-ジトリフルオロメチルフェニル基、ナフチル基、および、ビフェニル基などが挙げられる）、
置換もしくは無置換のアミノ基（好ましくは炭素数０～２０、より好ましくは炭素数０～１０、特に好ましくは炭素数０～６のアミノ基であり、例えば、無置換アミノ基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、アニリノ基などが挙げられる）、
アルコキシ基（好ましくは炭素数１～２０、より好ましくは炭素数１～１５であり、例えば、メトキシ基、エトキシ基、ブトキシ基などが挙げられる）、
オキシカルボニル基（好ましくは炭素数２～２０、より好ましくは炭素数２～１５、特に好ましくは２～１０であり、例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、フェノキシカルボニル基などが挙げられる）、
アシルオキシ基（好ましくは炭素数２～２０、より好ましくは炭素数２～１０、特に好ましくは２～６であり、例えば、アセトキシ基およびベンゾイルオキシ基などが挙げられる）、
アシルアミノ基（好ましくは炭素数２～２０、より好ましくは炭素数２～１０、特に好ましくは炭素数２～６であり、例えばアセチルアミノ基およびベンゾイルアミノ基などが挙げられる）、
アルコキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数２～２０、より好ましくは炭素数２～１０、特に好ましくは炭素数２～６であり、例えば、メトキシカルボニルアミノ基などが挙げられる）、
アリールオキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数７～２０、より好ましくは炭素数７～１６、特に好ましくは炭素数７～１２であり、例えば、フェニルオキシカルボニルアミノ基などが挙げられる）、
スルホニルアミノ基（好ましくは炭素数１～２０、より好ましくは炭素数１～１０、特に好ましくは炭素数１～６であり、例えば、メタンスルホニルアミノ基、ベンゼンスルホニルアミノ基などが挙げられる）、
スルファモイル基（好ましくは炭素数０～２０、より好ましくは炭素数０～１０、特に好ましくは炭素数０～６であり、例えば、スルファモイル基、メチルスルファモイル基、ジメチルスルファモイル基、フェニルスルファモイル基などが挙げられる）、
カルバモイル基（好ましくは炭素数１～２０、より好ましくは炭素数１～１０、特に好ましくは炭素数１～６であり、例えば、無置換のカルバモイル基、メチルカルバモイル基、ジエチルカルバモイル基、フェニルカルバモイル基などが挙げられる）、
アルキルチオ基（好ましくは炭素数１～２０、より好ましくは炭素数１～１０、特に好ましくは炭素数１～６であり、例えば、メチルチオ基、エチルチオ基などが挙げられる）、
アリールチオ基（好ましくは炭素数６～２０、より好ましくは炭素数６～１６、特に好ましくは炭素数６～１２であり、例えば、フェニルチオ基などが挙げられる）、
スルホニル基（好ましくは炭素数１～２０、より好ましくは炭素数１～１０、特に好ましくは炭素数１～６であり、例えば、メシル基、トシル基などが挙げられる）、
スルフィニル基（好ましくは炭素数１～２０、より好ましくは炭素数１～１０、特に好ましくは炭素数１～６であり、例えば、メタンスルフィニル基、ベンゼンスルフィニル基などが挙げられる）、
ウレイド基（好ましくは炭素数１～２０、より好ましくは炭素数１～１０、特に好ましくは炭素数１～６であり、例えば、無置換のウレイド基、メチルウレイド基、フェニルウレイド基などが挙げられる）、
リン酸アミド基（好ましくは炭素数１～２０、より好ましくは炭素数１～１０、特に好ましくは炭素数１～６であり、例えば、ジエチルリン酸アミド基、フェニルリン酸アミド基などが挙げられる）、
ヘテロ環基（好ましくは炭素数１～３０、より好ましくは１～１２のヘテロ環基であり、例えば、窒素原子、酸素原子、硫黄原子等のヘテロ原子を有するヘテロ環基であり、例えば、イミダゾリル基、ピリジル基、キノリル基、フリル基、ピペリジル基、モルホリノ基、ベンゾオキサゾリル基、ベンズイミダゾリル基、ベンズチアゾリル基などが挙げられる）、
シリル基（好ましくは、炭素数３～４０、より好ましくは炭素数３～３０、特に好ましくは、炭素数３～２４のシリル基であり、例えば、トリメチルシリル基、トリフェニルシリル基などが挙げられる）、
ハロゲン原子（例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、
ヒドロキシ基、メルカプト基、シアノ基、ニトロ基、ヒドロキサム酸基、スルフィノ基、ヒドラジノ基、イミノ基、および、アゾ基、などを用いることができる。
これらの置換基はさらにこれらの置換基によって置換されていてもよい。また、置換基を２つ以上有する場合は、同じでも異なってもよい。また、可能な場合には互いに結合して環を形成していてもよい。
上記置換基がさらに上記置換基によって置換された基としては、例えば、アルコキシ基がアルキル基で置換された基である、ＲＢ－（Ｏ－ＲＡ）ｎａ－基が挙げられる。ここで、式中、ＲＡは炭素数１～５のアルキレン基を表し、ＲＢは炭素数１～５のアルキル基を表し、ｎａは１～１０（好ましくは１～５、より好ましくは１～３）の整数を表す。
これらの中でも、Ｌ１およびＬ２が表す１価の置換基としては、アルキル基、アルケニル基、アルコキシ基、および、これらの基がさらにこれらの基によって置換された基（例えば、上述したＲＢ－（Ｏ－ＲＡ）ｎａ－基）が好ましく、アルキル基、アルコキシ基、および、これらの基がさらにこれらの基によって置換された基（例えば、上述したＲＢ－（Ｏ－ＲＡ）ｎａ－基）がより好ましい。
例えば、置換基としては、
アルキル基（好ましくは炭素数１～２０、より好ましくは炭素数１～１２、特に好ましくは炭素数１～８のアルキル基であり、例えば、メチル基、エチル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ-ブチル基、ｎ-オクチル基、ｎ-デシル基、ｎ-ヘキサデシル基、シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基などが挙げられる）、
アルケニル基（好ましくは炭素数２～２０、より好ましくは炭素数２～１２、特に好ましくは炭素数２～８のアルケニル基であり、例えば、ビニル基、アリル基、２-ブテニル基、３-ペンテニル基などが挙げられる）、
アルキニル基（好ましくは炭素数２～２０、より好ましくは炭素数２～１２、特に好ましくは炭素数２～８のアルキニル基であり、例えば、プロパルギル基、３－ペンチニル基などが挙げられる）、
アリール基（好ましくは炭素数６～３０、より好ましくは炭素数６～２０、特に好ましくは炭素数６～１２のアリール基であり、例えば、フェニル基、２，６-ジエチルフェニル基、３，５-ジトリフルオロメチルフェニル基、ナフチル基、および、ビフェニル基などが挙げられる）、
置換もしくは無置換のアミノ基（好ましくは炭素数０～２０、より好ましくは炭素数０～１０、特に好ましくは炭素数０～６のアミノ基であり、例えば、無置換アミノ基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、アニリノ基などが挙げられる）、
アルコキシ基（好ましくは炭素数１～２０、より好ましくは炭素数１～１５であり、例えば、メトキシ基、エトキシ基、ブトキシ基などが挙げられる）、
オキシカルボニル基（好ましくは炭素数２～２０、より好ましくは炭素数２～１５、特に好ましくは２～１０であり、例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、フェノキシカルボニル基などが挙げられる）、
アシルオキシ基（好ましくは炭素数２～２０、より好ましくは炭素数２～１０、特に好ましくは２～６であり、例えば、アセトキシ基およびベンゾイルオキシ基などが挙げられる）、
アシルアミノ基（好ましくは炭素数２～２０、より好ましくは炭素数２～１０、特に好ましくは炭素数２～６であり、例えばアセチルアミノ基およびベンゾイルアミノ基などが挙げられる）、
アルコキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数２～２０、より好ましくは炭素数２～１０、特に好ましくは炭素数２～６であり、例えば、メトキシカルボニルアミノ基などが挙げられる）、
アリールオキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数７～２０、より好ましくは炭素数７～１６、特に好ましくは炭素数７～１２であり、例えば、フェニルオキシカルボニルアミノ基などが挙げられる）、
スルホニルアミノ基（好ましくは炭素数１～２０、より好ましくは炭素数１～１０、特に好ましくは炭素数１～６であり、例えば、メタンスルホニルアミノ基、ベンゼンスルホニルアミノ基などが挙げられる）、
スルファモイル基（好ましくは炭素数０～２０、より好ましくは炭素数０～１０、特に好ましくは炭素数０～６であり、例えば、スルファモイル基、メチルスルファモイル基、ジメチルスルファモイル基、フェニルスルファモイル基などが挙げられる）、
カルバモイル基（好ましくは炭素数１～２０、より好ましくは炭素数１～１０、特に好ましくは炭素数１～６であり、例えば、無置換のカルバモイル基、メチルカルバモイル基、ジエチルカルバモイル基、フェニルカルバモイル基などが挙げられる）、
アルキルチオ基（好ましくは炭素数１～２０、より好ましくは炭素数１～１０、特に好ましくは炭素数１～６であり、例えば、メチルチオ基、エチルチオ基などが挙げられる）、
アリールチオ基（好ましくは炭素数６～２０、より好ましくは炭素数６～１６、特に好ましくは炭素数６～１２であり、例えば、フェニルチオ基などが挙げられる）、
スルホニル基（好ましくは炭素数１～２０、より好ましくは炭素数１～１０、特に好ましくは炭素数１～６であり、例えば、メシル基、トシル基などが挙げられる）、
スルフィニル基（好ましくは炭素数１～２０、より好ましくは炭素数１～１０、特に好ましくは炭素数１～６であり、例えば、メタンスルフィニル基、ベンゼンスルフィニル基などが挙げられる）、
ウレイド基（好ましくは炭素数１～２０、より好ましくは炭素数１～１０、特に好ましくは炭素数１～６であり、例えば、無置換のウレイド基、メチルウレイド基、フェニルウレイド基などが挙げられる）、
リン酸アミド基（好ましくは炭素数１～２０、より好ましくは炭素数１～１０、特に好ましくは炭素数１～６であり、例えば、ジエチルリン酸アミド基、フェニルリン酸アミド基などが挙げられる）、
ヘテロ環基（好ましくは炭素数１～３０、より好ましくは１～１２のヘテロ環基であり、例えば、窒素原子、酸素原子、硫黄原子等のヘテロ原子を有するヘテロ環基であり、例えば、イミダゾリル基、ピリジル基、キノリル基、フリル基、ピペリジル基、モルホリノ基、ベンゾオキサゾリル基、ベンズイミダゾリル基、ベンズチアゾリル基などが挙げられる）、
シリル基（好ましくは、炭素数３～４０、より好ましくは炭素数３～３０、特に好ましくは、炭素数３～２４のシリル基であり、例えば、トリメチルシリル基、トリフェニルシリル基などが挙げられる）、
ハロゲン原子（例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、
ヒドロキシ基、メルカプト基、シアノ基、ニトロ基、ヒドロキサム酸基、スルフィノ基、ヒドラジノ基、イミノ基、および、アゾ基、などを用いることができる。
これらの置換基はさらにこれらの置換基によって置換されていてもよい。また、置換基を２つ以上有する場合は、同じでも異なってもよい。また、可能な場合には互いに結合して環を形成していてもよい。
上記置換基がさらに上記置換基によって置換された基としては、例えば、アルコキシ基がアルキル基で置換された基である、ＲＢ－（Ｏ－ＲＡ）ｎａ－基が挙げられる。ここで、式中、ＲＡは炭素数１～５のアルキレン基を表し、ＲＢは炭素数１～５のアルキル基を表し、ｎａは１～１０（好ましくは１～５、より好ましくは１～３）の整数を表す。
これらの中でも、Ｌ１およびＬ２が表す１価の置換基としては、アルキル基、アルケニル基、アルコキシ基、および、これらの基がさらにこれらの基によって置換された基（例えば、上述したＲＢ－（Ｏ－ＲＡ）ｎａ－基）が好ましく、アルキル基、アルコキシ基、および、これらの基がさらにこれらの基によって置換された基（例えば、上述したＲＢ－（Ｏ－ＲＡ）ｎａ－基）がより好ましい。
【0185】
Ｌ１およびＬ２が表す２価の連結基としては、例えば、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＣＯ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－Ｏ－ＣＯ－Ｏ－、－ＣＯ－ＮＲＮ－、－Ｏ－ＣＯ－ＮＲＮ－、－ＮＲＮ－ＣＯ－ＮＲＮ－、－ＳＯ２－、－ＳＯ－、アルキレン基、シクロアルキレン基、および、アルケニレン基、ならびに、これらの基を２つ以上組み合わせた基などが挙げられる。
これらの中でも、アルキレン基と、－Ｏ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－および－Ｏ－ＣＯ－Ｏ－からなる群より選択される１種以上の基と、を組み合わせた基が好ましい。
ここで、ＲＮは、水素原子またはアルキル基を表す。ＲＮが複数存在する場合には、複数のＲＮは互いに同一でも異なっていてもよい。
これらの中でも、アルキレン基と、－Ｏ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－および－Ｏ－ＣＯ－Ｏ－からなる群より選択される１種以上の基と、を組み合わせた基が好ましい。
ここで、ＲＮは、水素原子またはアルキル基を表す。ＲＮが複数存在する場合には、複数のＲＮは互いに同一でも異なっていてもよい。
【0186】
二色性物質の溶解性がより向上するという観点からは、Ｌ１およびＬ２の少なくとも一方の主鎖の原子の数は、３個以上であることが好ましく、５個以上であることがより好ましく、７個以上であることがさらに好ましく、１０個以上であることが特に好ましい。また、主鎖の原子の数の上限値は、２０個以下であることが好ましく、１２個以下であることがより好ましい。
一方で、光吸収異方性層の配向度がより向上するという観点からは、Ｌ１およびＬ２の少なくとも一方の主鎖の原子の数は、１～５個であることが好ましい。
ここで、式（６）におけるＡが存在する場合には、Ｌ１における「主鎖」とは、Ｌ１と連結する「Ｏ」原子と、「Ａ」と、を直接連結するために必要な部分を指し、「主鎖の原子の数」とは、上記部分を構成する原子の個数のことを指す。同様に、式（６）におけるＢが存在する場合には、Ｌ２における「主鎖」とは、Ｌ２と連結する「Ｏ」原子と、「Ｂ」と、を直接連結するために必要な部分を指し、「主鎖の原子の数」とは、上記部分を構成する原子の数のことを指す。なお、「主鎖の原子の数」には、後述する分岐鎖の原子の数は含まない。
また、Ａが存在しない場合には、Ｌ１における「主鎖の原子の数」とは、分岐鎖を含まないＬ１の原子の個数のことをいう。Ｂが存在しない場合には、Ｌ２における「主鎖の原子の数」とは、分岐鎖を含まないＬ２の原子の個数のことをいう。
具体的には、下記式（Ｄ１）においては、Ｌ１の主鎖の原子の数は５個（下記式（Ｄ１）の左側の点線枠内の原子の数）であり、Ｌ２の主鎖の原子の数は５個（下記式（Ｄ１）の右側の点線枠内の原子の数）である。また、下記式（Ｄ１０）においては、Ｌ１の主鎖の原子の数は７個（下記式（Ｄ１０）の左側の点線枠内の原子の数）であり、Ｌ２の主鎖の原子の数は５個（下記式（Ｄ１０）の右側の点線枠内の原子の数）である。
一方で、光吸収異方性層の配向度がより向上するという観点からは、Ｌ１およびＬ２の少なくとも一方の主鎖の原子の数は、１～５個であることが好ましい。
ここで、式（６）におけるＡが存在する場合には、Ｌ１における「主鎖」とは、Ｌ１と連結する「Ｏ」原子と、「Ａ」と、を直接連結するために必要な部分を指し、「主鎖の原子の数」とは、上記部分を構成する原子の個数のことを指す。同様に、式（６）におけるＢが存在する場合には、Ｌ２における「主鎖」とは、Ｌ２と連結する「Ｏ」原子と、「Ｂ」と、を直接連結するために必要な部分を指し、「主鎖の原子の数」とは、上記部分を構成する原子の数のことを指す。なお、「主鎖の原子の数」には、後述する分岐鎖の原子の数は含まない。
また、Ａが存在しない場合には、Ｌ１における「主鎖の原子の数」とは、分岐鎖を含まないＬ１の原子の個数のことをいう。Ｂが存在しない場合には、Ｌ２における「主鎖の原子の数」とは、分岐鎖を含まないＬ２の原子の個数のことをいう。
具体的には、下記式（Ｄ１）においては、Ｌ１の主鎖の原子の数は５個（下記式（Ｄ１）の左側の点線枠内の原子の数）であり、Ｌ２の主鎖の原子の数は５個（下記式（Ｄ１）の右側の点線枠内の原子の数）である。また、下記式（Ｄ１０）においては、Ｌ１の主鎖の原子の数は７個（下記式（Ｄ１０）の左側の点線枠内の原子の数）であり、Ｌ２の主鎖の原子の数は５個（下記式（Ｄ１０）の右側の点線枠内の原子の数）である。
【0187】
【化32】
【0188】
Ｌ１およびＬ２は、分岐鎖を有していてもよい。
ここで、式（６）においてＡが存在する場合には、Ｌ１における「分岐鎖」とは、式（６）におけるＬ１と連結する「Ｏ」原子と、「Ａ」と、を直接連結するために必要な部分以外の部分をいう。同様に、式（６）においてＢが存在する場合には、Ｌ２における「分岐鎖」とは、式（６）におけるＬ２と連結する「Ｏ」原子と、「Ｂ」と、を直接連結するために必要な部分以外の部分をいう。
また、式（６）においてＡが存在しない場合には、Ｌ１における「分岐鎖」とは、式（６）におけるＬ１と連結する「Ｏ」原子を起点として延びる最長の原子鎖（すなわち主鎖）以外の部分をいう。同様に、式（６）においてＢが存在しない場合には、Ｌ２における「分岐鎖」とは、式（６）におけるＬ２と連結する「Ｏ」原子を起点として延びる最長の原子鎖（すなわち主鎖）以外の部分をいう。
分岐鎖の原子の数は、３以下であることが好ましい。分岐鎖の原子の数が３以下であることで、光吸収異方性層の配向度がより向上するなどの利点がある。なお、分岐鎖の原子の数には、水素原子の数は含まれない。
ここで、式（６）においてＡが存在する場合には、Ｌ１における「分岐鎖」とは、式（６）におけるＬ１と連結する「Ｏ」原子と、「Ａ」と、を直接連結するために必要な部分以外の部分をいう。同様に、式（６）においてＢが存在する場合には、Ｌ２における「分岐鎖」とは、式（６）におけるＬ２と連結する「Ｏ」原子と、「Ｂ」と、を直接連結するために必要な部分以外の部分をいう。
また、式（６）においてＡが存在しない場合には、Ｌ１における「分岐鎖」とは、式（６）におけるＬ１と連結する「Ｏ」原子を起点として延びる最長の原子鎖（すなわち主鎖）以外の部分をいう。同様に、式（６）においてＢが存在しない場合には、Ｌ２における「分岐鎖」とは、式（６）におけるＬ２と連結する「Ｏ」原子を起点として延びる最長の原子鎖（すなわち主鎖）以外の部分をいう。
分岐鎖の原子の数は、３以下であることが好ましい。分岐鎖の原子の数が３以下であることで、光吸収異方性層の配向度がより向上するなどの利点がある。なお、分岐鎖の原子の数には、水素原子の数は含まれない。
【0189】
式（６）において、Ａｒ１は（ｎ１＋２）価（例えば、ｎ１が１である時は３価）、Ａｒ２は（ｎ２＋２）価（例えば、ｎ２が１である時は３価）、Ａｒ３は（ｎ３＋２）価（例えば、ｎ３が１である時は３価）、の芳香族炭化水素基または複素環基を表す。ここで、Ａｒ１～Ａｒ３はそれぞれ、ｎ１～ｎ３個の置換基（後述するＲ１～Ｒ３）で置換された２価の芳香族炭化水素基または２価の複素環基と換言できる。
Ａｒ１～Ａｒ３が表す２価の芳香族炭化水素基としては、単環であっても、２環以上の縮環構造を有していてもよい。２価の芳香族炭化水素基の環数は、溶解性がより向上するという観点から、１～４が好ましく、１～２がより好ましく、１（すなわちフェニレン基であること）がさらに好ましい。
２価の芳香族炭化水素基の具体例としては、フェニレン基、アズレン－ジイル基、ナフチレン基、フルオレン－ジイル基、アントラセン－ジイル基およびテトラセン－ジイル基などが挙げられ、溶解性がより向上するという観点から、フェニレン基およびナフチレン基が好ましく、フェニレン基がより好ましい。
２価の複素環基としては、芳香族または非芳香族のいずれであってもよいが、配向度がより向上するという観点から、２価の芳香族複素環基であることが好ましい。
２価の芳香族複素環基は、単環であってもよいし、２環以上の縮環構造を有していてもよい。芳香族複素環基を構成する炭素以外の原子としては、窒素原子、硫黄原子および酸素原子が挙げられる。芳香族複素環基が炭素以外の環を構成する原子を複数有する場合、これらは同一であっても異なっていてもよい。
芳香族複素環基の具体例としては、例えば、ピリジレン基（ピリジン－ジイル基）、チエニレン（チオフェン－ジイル基）、キノリレン基（キノリン－ジイル基）、イソキノリレン基（イソキノリン－ジイル基）、チアゾール－ジイル基、ベンゾチアジアゾール－ジイル基、フタルイミド－ジイル基、チエノチアゾール－ジイル基（本発明において、「チエノチアゾール基」という。）、チエノチオフェン－ジイル基、および、チエノオキサゾール－ジイル基等が挙げられる。
上記の中でも、２価の芳香族複素環基としては、単環または下記構造式で表される２環の縮環構造を有する基が好ましく用いることができる。なお、下記構造式において、「＊」は、一般式（６）におけるアゾ基または酸素原子との結合位置を示す。
Ａｒ１～Ａｒ３が表す２価の芳香族炭化水素基としては、単環であっても、２環以上の縮環構造を有していてもよい。２価の芳香族炭化水素基の環数は、溶解性がより向上するという観点から、１～４が好ましく、１～２がより好ましく、１（すなわちフェニレン基であること）がさらに好ましい。
２価の芳香族炭化水素基の具体例としては、フェニレン基、アズレン－ジイル基、ナフチレン基、フルオレン－ジイル基、アントラセン－ジイル基およびテトラセン－ジイル基などが挙げられ、溶解性がより向上するという観点から、フェニレン基およびナフチレン基が好ましく、フェニレン基がより好ましい。
２価の複素環基としては、芳香族または非芳香族のいずれであってもよいが、配向度がより向上するという観点から、２価の芳香族複素環基であることが好ましい。
２価の芳香族複素環基は、単環であってもよいし、２環以上の縮環構造を有していてもよい。芳香族複素環基を構成する炭素以外の原子としては、窒素原子、硫黄原子および酸素原子が挙げられる。芳香族複素環基が炭素以外の環を構成する原子を複数有する場合、これらは同一であっても異なっていてもよい。
芳香族複素環基の具体例としては、例えば、ピリジレン基（ピリジン－ジイル基）、チエニレン（チオフェン－ジイル基）、キノリレン基（キノリン－ジイル基）、イソキノリレン基（イソキノリン－ジイル基）、チアゾール－ジイル基、ベンゾチアジアゾール－ジイル基、フタルイミド－ジイル基、チエノチアゾール－ジイル基（本発明において、「チエノチアゾール基」という。）、チエノチオフェン－ジイル基、および、チエノオキサゾール－ジイル基等が挙げられる。
上記の中でも、２価の芳香族複素環基としては、単環または下記構造式で表される２環の縮環構造を有する基が好ましく用いることができる。なお、下記構造式において、「＊」は、一般式（６）におけるアゾ基または酸素原子との結合位置を示す。
【0190】
【化33】
【0191】
式（６）において、Ａｒ１～Ａｒ３は、２価の芳香族炭化水素基が好ましく、フェニレン基が好ましい。
ここで、Ａｒ１がフェニレン基である場合には、Ａｒ１に結合する酸素原子とアゾ基とが、メタ位またはパラ位に位置することが好ましく、パラ位に位置することが好ましい。これにより、光吸収異方性層の配向度がより向上する。同様の観点から、Ａｒ２がフェニレン基である場合には、Ａｒ２に結合する２つのアゾ基が、メタ位またはパラ位に位置することが好ましく、パラ位に位置することが好ましい。同様に、Ａｒ３がフェニレン基である場合には、Ａｒ３に結合する酸素原子とアゾ基とが、メタ位またはパラ位に位置することが好ましく、パラ位に位置することが好ましい。
ここで、Ａｒ１がフェニレン基である場合には、Ａｒ１に結合する酸素原子とアゾ基とが、メタ位またはパラ位に位置することが好ましく、パラ位に位置することが好ましい。これにより、光吸収異方性層の配向度がより向上する。同様の観点から、Ａｒ２がフェニレン基である場合には、Ａｒ２に結合する２つのアゾ基が、メタ位またはパラ位に位置することが好ましく、パラ位に位置することが好ましい。同様に、Ａｒ３がフェニレン基である場合には、Ａｒ３に結合する酸素原子とアゾ基とが、メタ位またはパラ位に位置することが好ましく、パラ位に位置することが好ましい。
【0192】
式（６）において、Ａｒ１、Ａｒ２およびＡｒ３が縮環構造である場合には、縮環構造を構成する複数の環がいずれも、式（６）で表される構造の長手方向に沿って連結していることが好ましい。これにより、二色性物質の分子が長手方向と交差する方向（短手方向）に嵩高くなることを抑制できるので、分子の配向性が良好となり、光吸収異方性層の配向度がより向上する。
ここで、式（６）で表される構造の長手方向とは、式（６）で表される構造の延びる方向のことをいい、具体的には、Ａｒ１、Ａｒ２およびＡｒ３に結合するアゾ基の結合手およびエーテル結合（酸素原子）の結合手が延びる方向のことをいう。
縮環構造を構成する複数の環の全てが式（６）で表される構造の長手方向に沿って連結している態様の具体例として、式（Ａｒ－１）で表される縮環構造を以下に示す。すなわち、Ａｒ１、Ａｒ２およびＡｒ３が縮環構造である場合には、以下の式（Ａ－１）で表される縮環構造を有していることが好ましい。
ここで、式（６）で表される構造の長手方向とは、式（６）で表される構造の延びる方向のことをいい、具体的には、Ａｒ１、Ａｒ２およびＡｒ３に結合するアゾ基の結合手およびエーテル結合（酸素原子）の結合手が延びる方向のことをいう。
縮環構造を構成する複数の環の全てが式（６）で表される構造の長手方向に沿って連結している態様の具体例として、式（Ａｒ－１）で表される縮環構造を以下に示す。すなわち、Ａｒ１、Ａｒ２およびＡｒ３が縮環構造である場合には、以下の式（Ａ－１）で表される縮環構造を有していることが好ましい。
【0193】
【化34】
【0194】
上記式（Ａｒ－１）において、ＡｒＸ、ＡｒＹおよびＡｒＺは、それぞれ独立に、ベンゼン環または単環の複素環を表す。ｎは、０以上の整数を表す。＊は、一般式（６）におけるアゾ基または酸素原子との結合位置を表す。
上記式（Ａｒ－１）における単環の複素環としては、単環の芳香族複素環が好ましい。単環の芳香族複素環基を構成する炭素以外の原子としては、窒素原子、硫黄原子および酸素原子が挙げられる。単環の芳香族複素環としては、具体的には、ピリジン環、チオフェン環、チアゾール環およびオキサゾール環等が挙げられる。
また、ＡｒＸ、ＡｒＹおよびＡｒＺは、置換基を有していてもよい。このような置換基としては、後述するＲ１～Ｒ３における１価の置換基が挙げられる。
ｎは、０以上の整数を表すが、０～２が好ましく、０～１がより好ましく、０がさらに好ましい。
上記式（Ａｒ－１）における単環の複素環としては、単環の芳香族複素環が好ましい。単環の芳香族複素環基を構成する炭素以外の原子としては、窒素原子、硫黄原子および酸素原子が挙げられる。単環の芳香族複素環としては、具体的には、ピリジン環、チオフェン環、チアゾール環およびオキサゾール環等が挙げられる。
また、ＡｒＸ、ＡｒＹおよびＡｒＺは、置換基を有していてもよい。このような置換基としては、後述するＲ１～Ｒ３における１価の置換基が挙げられる。
ｎは、０以上の整数を表すが、０～２が好ましく、０～１がより好ましく、０がさらに好ましい。
【0195】
式（６）において、Ｒ１、Ｒ２およびＲ３は、それぞれ独立に、１価の置換基を表す。
Ｒ１、Ｒ２およびＲ３が表す１価の置換基は、ハロゲン原子、シアノ基、ヒドロキシ基、アルキル基、アルコキシ基、フッ化アルキル基、－Ｏ－（Ｃ２Ｈ４Ｏ）ｍ－Ｒ’、－Ｏ－（Ｃ３Ｈ６Ｏ）ｍ－Ｒ’、アルキルチオ基、オキシカルボニル基、チオアルキル基、アシルオキシ基、アシルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、スルホニルアミノ基、スルファモイル基、カルバモイル基、スルフィニル基、または、ウレイド基が好ましい。ここで、Ｒ’は水素原子、メチル基またはエチル基を表し、ｍは１～６の整数を表す。これらの置換基は、さらにこれらの置換基で置換されていてもよい。
これらの中でも、Ｒ１、Ｒ２およびＲ３が表す１価の置換基は、二色性物質の溶解性がより向上するという観点から、フッ素原子、塩素原子、メチル基、エチル基、プロピル基、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ヒドロキシ基、トリフルオロメチル基、－Ｏ－（Ｃ２Ｈ４Ｏ）ｍ－Ｒ’、または、－Ｏ－（Ｃ３Ｈ６Ｏ）ｍ－Ｒ’が好ましく、トリフルオロメチル基、メトキシ基、ヒドロキシ基、－Ｏ－（Ｃ２Ｈ４Ｏ）ｍ－Ｒ’、または、－Ｏ－（Ｃ３Ｈ６Ｏ）ｍ－Ｒ’がより好ましい。
Ｒ１、Ｒ２およびＲ３が表す１価の置換基において、主鎖の原子の数は、二色性物質の溶解性および光吸収異方性層の配向性のバランスの観点から、１～１５が好ましく、１～１２がより好ましい。ここで、Ｒ１、Ｒ２およびＲ３が表す１価の置換基において、「主鎖の原子の数」とは、分岐鎖を含まないＲ１、Ｒ２またはＲ３の原子の個数のことをいう。また、「分岐鎖」とは、式（６）におけるＡｒ１～Ａｒ３のいずれかを起点として延びる最長の原子鎖（すなわち主鎖）以外の部分をいう。
Ｒ１、Ｒ２およびＲ３が表す１価の置換基は、ハロゲン原子、シアノ基、ヒドロキシ基、アルキル基、アルコキシ基、フッ化アルキル基、－Ｏ－（Ｃ２Ｈ４Ｏ）ｍ－Ｒ’、－Ｏ－（Ｃ３Ｈ６Ｏ）ｍ－Ｒ’、アルキルチオ基、オキシカルボニル基、チオアルキル基、アシルオキシ基、アシルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、スルホニルアミノ基、スルファモイル基、カルバモイル基、スルフィニル基、または、ウレイド基が好ましい。ここで、Ｒ’は水素原子、メチル基またはエチル基を表し、ｍは１～６の整数を表す。これらの置換基は、さらにこれらの置換基で置換されていてもよい。
これらの中でも、Ｒ１、Ｒ２およびＲ３が表す１価の置換基は、二色性物質の溶解性がより向上するという観点から、フッ素原子、塩素原子、メチル基、エチル基、プロピル基、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ヒドロキシ基、トリフルオロメチル基、－Ｏ－（Ｃ２Ｈ４Ｏ）ｍ－Ｒ’、または、－Ｏ－（Ｃ３Ｈ６Ｏ）ｍ－Ｒ’が好ましく、トリフルオロメチル基、メトキシ基、ヒドロキシ基、－Ｏ－（Ｃ２Ｈ４Ｏ）ｍ－Ｒ’、または、－Ｏ－（Ｃ３Ｈ６Ｏ）ｍ－Ｒ’がより好ましい。
Ｒ１、Ｒ２およびＲ３が表す１価の置換基において、主鎖の原子の数は、二色性物質の溶解性および光吸収異方性層の配向性のバランスの観点から、１～１５が好ましく、１～１２がより好ましい。ここで、Ｒ１、Ｒ２およびＲ３が表す１価の置換基において、「主鎖の原子の数」とは、分岐鎖を含まないＲ１、Ｒ２またはＲ３の原子の個数のことをいう。また、「分岐鎖」とは、式（６）におけるＡｒ１～Ａｒ３のいずれかを起点として延びる最長の原子鎖（すなわち主鎖）以外の部分をいう。
【0196】
上記式（６）がＲ１、Ｒ２およびＲ３から選択される少なくとも１つ以上の置換基を有する場合において、下記条件（Ｒ１）～条件（Ｒ３）から選択される少なくとも１つの条件を満たすことが好ましい。これにより、二色性物質の溶解性がより向上する。
条件（Ｒ１）：Ａｒ１において、少なくとも１つのＲ１と、アゾ基と、が隣り合う位置にあること
条件（Ｒ２）：Ａｒ２において、少なくとも１つのＲ２と、少なくとも１つのアゾ基と、が隣り合う位置にあること
条件（Ｒ３）：Ａｒ３において、少なくとも１つのＲ３と、アゾ基と、が隣り合う位置にあること
条件（Ｒ１）の具体例としては、Ａｒ１がフェニレン基である場合に、Ａｒ１に結合するアゾ基に対するオルト位にＲ１が位置する態様が挙げられる。条件（Ｒ２）の具体例としては、Ａｒ２がフェニレン基である場合に、少なくとも１つのアゾ基に対するオルト位にＲ２が位置する態様が挙げられる。条件（Ｒ３）の具体例としては、Ａｒ３がフェニレン基である場合において、Ａｒ３に結合するアゾ基に対するオルト位にＲ３が位置する態様が挙げられる。
条件（Ｒ１）：Ａｒ１において、少なくとも１つのＲ１と、アゾ基と、が隣り合う位置にあること
条件（Ｒ２）：Ａｒ２において、少なくとも１つのＲ２と、少なくとも１つのアゾ基と、が隣り合う位置にあること
条件（Ｒ３）：Ａｒ３において、少なくとも１つのＲ３と、アゾ基と、が隣り合う位置にあること
条件（Ｒ１）の具体例としては、Ａｒ１がフェニレン基である場合に、Ａｒ１に結合するアゾ基に対するオルト位にＲ１が位置する態様が挙げられる。条件（Ｒ２）の具体例としては、Ａｒ２がフェニレン基である場合に、少なくとも１つのアゾ基に対するオルト位にＲ２が位置する態様が挙げられる。条件（Ｒ３）の具体例としては、Ａｒ３がフェニレン基である場合において、Ａｒ３に結合するアゾ基に対するオルト位にＲ３が位置する態様が挙げられる。
【0197】
式（６）において、ｋは１～４の整数を表す。ここで、優れた溶解性を担保しつつ、耐光性にも優れるという観点からはｋが２以上であることが好ましい。一方で、二色性物質の溶解性により優れるという観点からは、ｋが１であることが好ましい。
【0198】
式（６）において、ｎ１、ｎ２およびｎ３は、それぞれ独立に、０～４の整数を表すが、０～３が好ましい。
ここで、ｋ＝１の場合にはｎ１＋ｎ２＋ｎ３≧０である。すなわち、式（６）がビスアゾ構造を有する場合には、置換基（式（６）のＲ１～Ｒ３）の有無に関わらず、十分な溶解性が得られるが、溶解性をより向上する観点からは置換基を有していることが好ましい。
ｋ＝１の場合には、ｎ１＋ｎ２＋ｎ３は、０～９が好ましく、１～９がより好ましく、１～５がさらに好ましい。
一方で、ｋ≧２の場合にはｎ１＋ｎ２＋ｎ３≧１である。すなわち、式（６）がトリスアゾ構造、テトラキスアゾ構造、またはペンタキスアゾ構造を有する場合には、置換基（式（６）のＲ１～Ｒ３）を少なくとも１つ有する。
ｋ≧２の場合には、ｎ１＋ｎ２＋ｎ３は、１～９が好ましく、１～５がより好ましい。
ここで、ｋ＝１の場合にはｎ１＋ｎ２＋ｎ３≧０である。すなわち、式（６）がビスアゾ構造を有する場合には、置換基（式（６）のＲ１～Ｒ３）の有無に関わらず、十分な溶解性が得られるが、溶解性をより向上する観点からは置換基を有していることが好ましい。
ｋ＝１の場合には、ｎ１＋ｎ２＋ｎ３は、０～９が好ましく、１～９がより好ましく、１～５がさらに好ましい。
一方で、ｋ≧２の場合にはｎ１＋ｎ２＋ｎ３≧１である。すなわち、式（６）がトリスアゾ構造、テトラキスアゾ構造、またはペンタキスアゾ構造を有する場合には、置換基（式（６）のＲ１～Ｒ３）を少なくとも１つ有する。
ｋ≧２の場合には、ｎ１＋ｎ２＋ｎ３は、１～９が好ましく、１～５がより好ましい。
【0199】
以下に、上記式（６）で表される二色性物質の具体例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、下記具体例中、ｎは、１～１０の整数を表す。
【0200】
【化35】
【0201】
【化36】
【0202】
本発明において、二色性物質とは、方向によって吸光度が異なる物質を意味する。
二色性物質は、液晶性を示してもよいし、液晶性を示さなくてもよい。
二色性物質が液晶性を示す場合には、ネマチック性またはスメクチック性のいずれを示してもよい。液晶相を示す温度範囲は、室温（約２０℃～２８℃）～３００℃が好ましく、取扱い性および製造適性の観点から、５０℃～２００℃であることがより好ましい。
二色性物質は、液晶性を示してもよいし、液晶性を示さなくてもよい。
二色性物質が液晶性を示す場合には、ネマチック性またはスメクチック性のいずれを示してもよい。液晶相を示す温度範囲は、室温（約２０℃～２８℃）～３００℃が好ましく、取扱い性および製造適性の観点から、５０℃～２００℃であることがより好ましい。
【0203】
液晶組成物は、二色性物質を１種単独で含有していてもよいし、２種以上含有していてもよい。
【0204】
＜低分子液晶性化合物＞
光吸収異方性層の形成に用いられる液晶組成物は、光配向層と光吸収異方性層との密着の観点で高分子液晶性化合物に加えて低分子液晶性化合物を含むことが好ましい。ここで、「低分子液晶性化合物」とは、化学構造中に繰り返し単位を有さない液晶性化合物のことをいう。
光吸収異方性層の形成に用いられる液晶組成物は、光配向層と光吸収異方性層との密着の観点で高分子液晶性化合物に加えて低分子液晶性化合物を含むことが好ましい。ここで、「低分子液晶性化合物」とは、化学構造中に繰り返し単位を有さない液晶性化合物のことをいう。
【0205】
低分子液晶性化合物としては、例えば、特開２０１３－２２８７０６号公報に記載されている液晶性化合物、特開２０１４－０７７０６８号公報の段落［００３０］～［００３３］に記載された式（Ｍ１）、（Ｍ２）、または（Ｍ３）で表される化合物、国際公開第２０１８／１９９０９６号の［００４３］～［００５０］段落に記載されている低分子液晶性化合物などが挙げられる。
【0206】
これらのうち、反応性および合成適性の観点から、ラジカル重合性基であることが好ましく、アクリロイル基、メタクリロイル基、エポキシ基、オキセタニル基、または、スチリル基が好ましく、アクリロイル基またはメタクリロイル基がより好ましい。
【0207】
（分子量）
低分子液晶性化合物の分子量は、５０００未満であることが好ましく、２００～２０００であることがより好ましく、２００以上１５００未満であることが更に好ましい。
低分子液晶性化合物の分子量は、５０００未満であることが好ましく、２００～２０００であることがより好ましく、２００以上１５００未満であることが更に好ましい。
【0208】
（含有量）
液晶組成物が低分子液晶性化合物を含有する場合、低分子液晶性化合物の含有量は、上記高分子液晶性化合物１００質量部に対して３～３０質量部であることが好ましく、５～２０質量部であることがより好ましい。
液晶組成物が低分子液晶性化合物を含有する場合、低分子液晶性化合物の含有量は、上記高分子液晶性化合物１００質量部に対して３～３０質量部であることが好ましく、５～２０質量部であることがより好ましい。
【0209】
＜界面改良剤＞
光吸収異方性層の形成に用いられる液晶組成物は、界面改良剤を含むことが好ましい。界面改良剤を含むことにより、塗布表面の平滑性が向上し、配向度の向上や、ハジキおよびムラを抑制して、面内の均一性の向上が見込まれる。
界面改良剤としては、液晶性化合物を塗布表面側で水平にさせるものが好ましく、国際公開第２０１６／００９６４８号の［０１５５］～［０１７０］段落に記載されている化合物や特開２０１１－２３７５１３号公報の［０２５３］～［０２９３］段落に記載の化合物（水平配向剤）を用いることができる。
液晶組成物が界面改良剤を含有する場合、界面改良剤の含有量は、液晶組成物中の上記二色性物質と上記高分子液晶性化合物との合計１００質量部に対し、０．００１～５質量部が好ましく、０．０１～３質量部が好ましい。
光吸収異方性層の形成に用いられる液晶組成物は、界面改良剤を含むことが好ましい。界面改良剤を含むことにより、塗布表面の平滑性が向上し、配向度の向上や、ハジキおよびムラを抑制して、面内の均一性の向上が見込まれる。
界面改良剤としては、液晶性化合物を塗布表面側で水平にさせるものが好ましく、国際公開第２０１６／００９６４８号の［０１５５］～［０１７０］段落に記載されている化合物や特開２０１１－２３７５１３号公報の［０２５３］～［０２９３］段落に記載の化合物（水平配向剤）を用いることができる。
液晶組成物が界面改良剤を含有する場合、界面改良剤の含有量は、液晶組成物中の上記二色性物質と上記高分子液晶性化合物との合計１００質量部に対し、０．００１～５質量部が好ましく、０．０１～３質量部が好ましい。
【0210】
＜重合開始剤＞
光吸収異方性層の形成に用いられる液晶組成物は、重合開始剤を含有してもよい。
重合開始剤としては特に制限はないが、感光性を有する化合物、すなわち光重合開始剤であることが好ましい。
光重合開始剤としては、各種の化合物を特に制限なく使用できる。光重合開始剤の例には、α－カルボニル化合物（米国特許第２３６７６６１号、同２３６７６７０号の各明細書）、アシロインエーテル（米国特許第２４４８８２８号明細書）、α－炭化水素置換芳香族アシロイン化合物（米国特許第２７２２５１２号明細書）、多核キノン化合物（米国特許第３０４６１２７号および同２９５１７５８号の各明細書）、トリアリールイミダゾールダイマーとｐ－アミノフェニルケトンとの組み合わせ（米国特許第３５４９３６７号明細書）、アクリジンおよびフェナジン化合物（特開昭６０－１０５６６７号公報および米国特許第４２３９８５０号明細書）、オキサジアゾール化合物（米国特許第４２１２９７０号明細書）、ｏ－アシルオキシム化合物（特開２０１６－２７３８４号公報段落［００６５］）および、アシルフォスフィンオキシド化合物（特公昭６３－４０７９９号公報、特公平５－２９２３４号公報、特開平１０－９５７８８号公報および特開平１０－２９９９７号公報）等が挙げられる。
このような光重合開始剤としては、市販品も用いることができ、ＢＡＳＦ社製のイルガキュア１８４、イルガキュア９０７、イルガキュア３６９、イルガキュア６５１、イルガキュア８１９およびイルガキュアＯＸＥ－０１等が挙げられる。
液晶組成物が重合開始剤を含有する場合、重合開始剤の含有量は、液晶組成物中の上記二色性物質と上記液晶性化合物との合計１００質量部に対し、０．０１～３０質量部が好ましく、０．１～１５質量部が好ましい。重合開始剤の含有量が０．０１質量部以上であることで、光吸収異方性層の硬化性が良好となり、３０質量部以下であることで、光吸収異方性層の配向が良好となる。
光吸収異方性層の形成に用いられる液晶組成物は、重合開始剤を含有してもよい。
重合開始剤としては特に制限はないが、感光性を有する化合物、すなわち光重合開始剤であることが好ましい。
光重合開始剤としては、各種の化合物を特に制限なく使用できる。光重合開始剤の例には、α－カルボニル化合物（米国特許第２３６７６６１号、同２３６７６７０号の各明細書）、アシロインエーテル（米国特許第２４４８８２８号明細書）、α－炭化水素置換芳香族アシロイン化合物（米国特許第２７２２５１２号明細書）、多核キノン化合物（米国特許第３０４６１２７号および同２９５１７５８号の各明細書）、トリアリールイミダゾールダイマーとｐ－アミノフェニルケトンとの組み合わせ（米国特許第３５４９３６７号明細書）、アクリジンおよびフェナジン化合物（特開昭６０－１０５６６７号公報および米国特許第４２３９８５０号明細書）、オキサジアゾール化合物（米国特許第４２１２９７０号明細書）、ｏ－アシルオキシム化合物（特開２０１６－２７３８４号公報段落［００６５］）および、アシルフォスフィンオキシド化合物（特公昭６３－４０７９９号公報、特公平５－２９２３４号公報、特開平１０－９５７８８号公報および特開平１０－２９９９７号公報）等が挙げられる。
このような光重合開始剤としては、市販品も用いることができ、ＢＡＳＦ社製のイルガキュア１８４、イルガキュア９０７、イルガキュア３６９、イルガキュア６５１、イルガキュア８１９およびイルガキュアＯＸＥ－０１等が挙げられる。
液晶組成物が重合開始剤を含有する場合、重合開始剤の含有量は、液晶組成物中の上記二色性物質と上記液晶性化合物との合計１００質量部に対し、０．０１～３０質量部が好ましく、０．１～１５質量部が好ましい。重合開始剤の含有量が０．０１質量部以上であることで、光吸収異方性層の硬化性が良好となり、３０質量部以下であることで、光吸収異方性層の配向が良好となる。
【0211】
＜溶媒＞
光吸収異方性層の形成に用いられる液晶組成物は、作業性等の観点から、溶媒を含有するのが好ましい。
溶媒としては、例えば、ケトン類（例えば、アセトン、２－ブタノン、メチルイソブチルケトン、シクロペタンタノン、シクロヘキサノンなど）、エーテル類（例えば、ジオキサン、テトラヒドロフラン、２－メチルテトラヒドロフラン、シクロペンチルメチルエーテル、テトラヒドロピラン、ジオキソランなど）、脂肪族炭化水素類（例えば、ヘキサンなど）、脂環式炭化水素類（例えば、シクロヘキサンなど）、芳香族炭化水素類（例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン、トリメチルベンゼンなど）、ハロゲン化炭素類（例えば、ジクロロメタン、トリクロロメタン、ジクロロエタン、ジクロロベンゼン、クロロトルエンなど）、エステル類（例えば、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、乳酸エチルなど）、アルコール類（例えば、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、シクロヘキサノール、イソペンチルアルコール、ネオペンチルアルコール、ジアセトンアルコール、ベンジルアルコールなど）、セロソルブ類（例えば、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、１，２－ジメトキシエタンなど）、セロソルブアセテート類、スルホキシド類（例えば、ジメチルスルホキシドなど）、アミド類（例えば、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、Ｎ－メチルピロリドン、Ｎ－エチルピロリドンなど）、および、ヘテロ環化合物（例えば、ピリジンなど）などの有機溶媒、ならびに、水が挙げられる。これの溶媒は、１種単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
これらの溶媒のうち、溶解性に優れるという効果を活かす観点から、ケトン類（特にシクロペンタノン、シクロヘキサノン）、エーテル類（特にテトラヒドロフラン、シクロペンチルメチルエーテル、テトラヒドロピラン、ジオキソラン）、および、アミド類（特に、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、Ｎ－メチルピロリドン、Ｎ－エチルピロリドン）が好ましい。
着色組成物が溶媒を含有する場合において、溶媒の含有量は、着色組成物の全質量に対して、６０～９９質量％であることが好ましく、７０～９５質量％であることがより好ましく、７０～９０質量％であることが更に好ましい。また、８０～９９質量％であることが好ましく、８３～９７質量％であることがより好ましく、８５～９５質量％であることが更に好ましい。
光吸収異方性層の形成に用いられる液晶組成物は、作業性等の観点から、溶媒を含有するのが好ましい。
溶媒としては、例えば、ケトン類（例えば、アセトン、２－ブタノン、メチルイソブチルケトン、シクロペタンタノン、シクロヘキサノンなど）、エーテル類（例えば、ジオキサン、テトラヒドロフラン、２－メチルテトラヒドロフラン、シクロペンチルメチルエーテル、テトラヒドロピラン、ジオキソランなど）、脂肪族炭化水素類（例えば、ヘキサンなど）、脂環式炭化水素類（例えば、シクロヘキサンなど）、芳香族炭化水素類（例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン、トリメチルベンゼンなど）、ハロゲン化炭素類（例えば、ジクロロメタン、トリクロロメタン、ジクロロエタン、ジクロロベンゼン、クロロトルエンなど）、エステル類（例えば、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、乳酸エチルなど）、アルコール類（例えば、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、シクロヘキサノール、イソペンチルアルコール、ネオペンチルアルコール、ジアセトンアルコール、ベンジルアルコールなど）、セロソルブ類（例えば、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、１，２－ジメトキシエタンなど）、セロソルブアセテート類、スルホキシド類（例えば、ジメチルスルホキシドなど）、アミド類（例えば、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、Ｎ－メチルピロリドン、Ｎ－エチルピロリドンなど）、および、ヘテロ環化合物（例えば、ピリジンなど）などの有機溶媒、ならびに、水が挙げられる。これの溶媒は、１種単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
これらの溶媒のうち、溶解性に優れるという効果を活かす観点から、ケトン類（特にシクロペンタノン、シクロヘキサノン）、エーテル類（特にテトラヒドロフラン、シクロペンチルメチルエーテル、テトラヒドロピラン、ジオキソラン）、および、アミド類（特に、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、Ｎ－メチルピロリドン、Ｎ－エチルピロリドン）が好ましい。
着色組成物が溶媒を含有する場合において、溶媒の含有量は、着色組成物の全質量に対して、６０～９９質量％であることが好ましく、７０～９５質量％であることがより好ましく、７０～９０質量％であることが更に好ましい。また、８０～９９質量％であることが好ましく、８３～９７質量％であることがより好ましく、８５～９５質量％であることが更に好ましい。
【0212】
＜形成方法＞
上述した液晶組成物を用いた光吸収異方性層の形成方法は特に限定されず、上記液晶組成物を光配向層上に塗布して塗膜を形成する工程（以下、「塗膜形成工程」ともいう。）と、塗膜に含まれる液晶性成分を配向させる工程（以下、「配向工程」ともいう。）と、をこの順に含む方法が挙げられる。
上述した液晶組成物を用いた光吸収異方性層の形成方法は特に限定されず、上記液晶組成物を光配向層上に塗布して塗膜を形成する工程（以下、「塗膜形成工程」ともいう。）と、塗膜に含まれる液晶性成分を配向させる工程（以下、「配向工程」ともいう。）と、をこの順に含む方法が挙げられる。
【0213】
（塗膜形成工程）
塗膜形成工程は、液晶組成物を光配向層上に塗布して塗膜を形成する工程である。
上述した溶媒を含有する液晶組成物を用いたり、液晶組成物を加熱などによって溶融液などの液状物としたものを用いたりすることにより、光配向層上に液晶組成物を塗布することが容易になる。
液晶組成物の塗布方法としては、具体的には、例えば、ロールコーティング法、グラビア印刷法、スピンコート法、ワイヤーバーコーティング法、押し出しコーティング法、ダイレクトグラビアコーティング法、リバースグラビアコーティング法、ダイコーティング法、スプレー法、および、インクジェット法などの公知の方法が挙げられる。
塗膜形成工程は、液晶組成物を光配向層上に塗布して塗膜を形成する工程である。
上述した溶媒を含有する液晶組成物を用いたり、液晶組成物を加熱などによって溶融液などの液状物としたものを用いたりすることにより、光配向層上に液晶組成物を塗布することが容易になる。
液晶組成物の塗布方法としては、具体的には、例えば、ロールコーティング法、グラビア印刷法、スピンコート法、ワイヤーバーコーティング法、押し出しコーティング法、ダイレクトグラビアコーティング法、リバースグラビアコーティング法、ダイコーティング法、スプレー法、および、インクジェット法などの公知の方法が挙げられる。
【0214】
（配向工程）
配向工程は、塗膜に含まれる液晶性成分を配向させる工程である。これにより、光吸収異方性層が得られる。
なお、液晶性成分とは、上述した液晶性化合物だけでなく、上述した二色性物質が液晶性を有している場合は、液晶性を有する二色性物質も含む成分である。
配向工程は、乾燥処理を有していてもよい。乾燥処理によって、溶媒などの成分を塗膜から除去することができる。乾燥処理は、塗膜を室温下において所定時間放置する方法（例えば、自然乾燥）によって行われてもよいし、加熱および／または送風する方法によって行われてもよい。
ここで、液晶組成物に含まれる液晶性成分は、上述した塗膜形成工程または乾燥処理によって、配向する場合がある。例えば、液晶組成物が溶媒を含む塗布液として調製されている態様では、塗膜を乾燥して、塗膜から溶媒を除去することで、光吸収異方性を持つ塗膜（すなわち、光吸収異方性層）が得られる。
乾燥処理が塗膜に含まれる液晶性成分の液晶相への転移温度以上の温度により行われる場合には、後述する加熱処理は実施しなくてもよい。
配向工程は、塗膜に含まれる液晶性成分を配向させる工程である。これにより、光吸収異方性層が得られる。
なお、液晶性成分とは、上述した液晶性化合物だけでなく、上述した二色性物質が液晶性を有している場合は、液晶性を有する二色性物質も含む成分である。
配向工程は、乾燥処理を有していてもよい。乾燥処理によって、溶媒などの成分を塗膜から除去することができる。乾燥処理は、塗膜を室温下において所定時間放置する方法（例えば、自然乾燥）によって行われてもよいし、加熱および／または送風する方法によって行われてもよい。
ここで、液晶組成物に含まれる液晶性成分は、上述した塗膜形成工程または乾燥処理によって、配向する場合がある。例えば、液晶組成物が溶媒を含む塗布液として調製されている態様では、塗膜を乾燥して、塗膜から溶媒を除去することで、光吸収異方性を持つ塗膜（すなわち、光吸収異方性層）が得られる。
乾燥処理が塗膜に含まれる液晶性成分の液晶相への転移温度以上の温度により行われる場合には、後述する加熱処理は実施しなくてもよい。
【0215】
塗膜に含まれる液晶性成分の液晶相への転移温度は、製造適性等の面から１０～２５０℃が好ましく、２５～１９０℃がより好ましい。上記転移温度が１０℃以上であると、液晶相を呈する温度範囲にまで温度を下げるための冷却処理等が必要とならず、好ましい。また、上記転移温度が２５０℃以下であると、一旦液晶相を呈する温度範囲よりもさらに高温の等方性液体状態にする場合にも高温を要さず、熱エネルギーの浪費、ならびに、基板の変形および変質等を低減できるため、好ましい。
【0216】
配向工程は、加熱処理を有することが好ましい。これにより、塗膜に含まれる液晶性成分を配向させることができるため、加熱処理後の塗膜を光吸収異方性層として好適に使用できる。
加熱処理は、製造適性等の面から１０～２５０℃が好ましく、２５～１９０℃がより好ましい。また、加熱時間は、１～３００秒が好ましく、１～６０秒がより好ましい。
加熱処理は、製造適性等の面から１０～２５０℃が好ましく、２５～１９０℃がより好ましい。また、加熱時間は、１～３００秒が好ましく、１～６０秒がより好ましい。
【0217】
配向工程は、加熱処理後に実施される冷却処理を有していてもよい。冷却処理は、加熱後の塗膜を室温（２０～２５℃）程度まで冷却する処理である。これにより、塗膜に含まれる液晶性成分の配向を固定することができる。冷却手段としては、特に限定されず、公知の方法により実施できる。
以上の工程によって、光吸収異方性層を得ることができる。
なお、本態様では、塗膜に含まれる液晶性成分を配向する方法として、乾燥処理および加熱処理などを挙げているが、これに限定されず、公知の配向処理によって実施できる。
以上の工程によって、光吸収異方性層を得ることができる。
なお、本態様では、塗膜に含まれる液晶性成分を配向する方法として、乾燥処理および加熱処理などを挙げているが、これに限定されず、公知の配向処理によって実施できる。
【0218】
（他の工程）
光吸収異方性層の形成方法は、上記配向工程後に、光吸収異方性層を硬化させる工程（以下、「硬化工程」ともいう。）を有していてもよい。
硬化工程は、例えば、光吸収異方性層が架橋性基（重合性基）を有している場合には、加熱および／または光照射（露光）によって実施される。このなかでも、硬化工程は光照射によって実施されることが好ましい。
また、光配向層が、光反応性のラジカル重合性基を有する化合物を含有している場合、ラジカル重合開始剤を光配向層に含ませない方法、または、酸素濃度の高い環境で露光を行う方法などで光配向層の表面に未反応のラジカル重合性基を残存させることができる。この光配向層の表面に存在する未反応のラジカル重合性基と、光吸収異方性層のラジカル重合性基とを「硬化工程」で反応させることにより、光配向層と光吸収異方性層との密着性を高めることが可能となる。
硬化に用いる光源は、赤外線、可視光または紫外線など、種々の光源を用いることが可能であるが、紫外線であることが好ましい。また、硬化時に加熱しながら紫外線を照射してもよいし、特定の波長のみを透過するフィルタを介して紫外線を照射してもよい。
露光が加熱しながら行われる場合、露光時の加熱温度は、光吸収異方性層に含まれる液晶性成分の液晶相への転移温度にもよるが、２５～１４０℃であることが好ましい。
また、露光は、窒素雰囲気下で行われてもよい。ラジカル重合によって光吸収異方性層の硬化が進行する場合において、酸素による重合の阻害が低減されるため、窒素雰囲気下で露光することが好ましい。
光吸収異方性層の形成方法は、上記配向工程後に、光吸収異方性層を硬化させる工程（以下、「硬化工程」ともいう。）を有していてもよい。
硬化工程は、例えば、光吸収異方性層が架橋性基（重合性基）を有している場合には、加熱および／または光照射（露光）によって実施される。このなかでも、硬化工程は光照射によって実施されることが好ましい。
また、光配向層が、光反応性のラジカル重合性基を有する化合物を含有している場合、ラジカル重合開始剤を光配向層に含ませない方法、または、酸素濃度の高い環境で露光を行う方法などで光配向層の表面に未反応のラジカル重合性基を残存させることができる。この光配向層の表面に存在する未反応のラジカル重合性基と、光吸収異方性層のラジカル重合性基とを「硬化工程」で反応させることにより、光配向層と光吸収異方性層との密着性を高めることが可能となる。
硬化に用いる光源は、赤外線、可視光または紫外線など、種々の光源を用いることが可能であるが、紫外線であることが好ましい。また、硬化時に加熱しながら紫外線を照射してもよいし、特定の波長のみを透過するフィルタを介して紫外線を照射してもよい。
露光が加熱しながら行われる場合、露光時の加熱温度は、光吸収異方性層に含まれる液晶性成分の液晶相への転移温度にもよるが、２５～１４０℃であることが好ましい。
また、露光は、窒素雰囲気下で行われてもよい。ラジカル重合によって光吸収異方性層の硬化が進行する場合において、酸素による重合の阻害が低減されるため、窒素雰囲気下で露光することが好ましい。
【0219】
本発明においては、光吸収異方性層の厚みは特に限定されず、０．１～５．０μｍであることが好ましく、０．３～１．５μｍであることがより好ましい。
【0220】
本発明の光学積層体の製造方法は、光配向層の表面が擦られ蓋然性が高くなり、本発明の有用性が高まる理由から、上述した光配向層形成工程と、上述した光吸収異方性層形成工程との間に、光配向層の液晶組成物を塗布する側の表面が、搬送ロールに接触する工程を有していることが好ましい。
また、同様の理由から、上述した光配向層形成工程と、上述した光吸収異方性層形成工程との間に、光配向層が形成されたポリマーフィルムを巻き取る工程を有していることが好ましい。
また、同様の理由から、上述した光配向層形成工程と、上述した光吸収異方性層形成工程との間に、光配向層が形成されたポリマーフィルムを巻き取る工程を有していることが好ましい。
【0221】
［光学積層体］
本発明の光学積層体は、光配向層および光吸収異方性層を有する、正面透過率が６０％以下の光学積層体である。
また、本発明の光学積層体は、光吸収異方性層が、二色性物質および高分子液晶性化合物を含有する液晶組成物から形成された層である。
更に、本発明の光学積層体は、偏光子を想定しており、正面透過率は６０％以下であり、２５％～６０％が好ましく、３５％～５５％がさらに好ましい。
更にまた、本発明の光学積層体は、透明ポリマーフィルムおよび／または酸素遮断層を光配向層の側に存在してもよい。
本発明の光学積層体は、光配向層および光吸収異方性層を有する、正面透過率が６０％以下の光学積層体である。
また、本発明の光学積層体は、光吸収異方性層が、二色性物質および高分子液晶性化合物を含有する液晶組成物から形成された層である。
更に、本発明の光学積層体は、偏光子を想定しており、正面透過率は６０％以下であり、２５％～６０％が好ましく、３５％～５５％がさらに好ましい。
更にまた、本発明の光学積層体は、透明ポリマーフィルムおよび／または酸素遮断層を光配向層の側に存在してもよい。
【0222】
図１Ａおよび図１Ｂに、本発明の光学積層体の一例を示す模式的な断面図を示す。
ここで、図１Ａに示す光学積層体１００は、透明ポリマーフィルム１２、酸素遮断層１４、光配向層１６および光吸収異方性層１８をこの順に有する層構成（以下、「構成Ａ」とも略す。）の光学積層体である。
また、図１Ｂに示す光学積層体２００は、透明支持体１２、光配向層１６および光吸収異方性層１８をこの順に有する層構成（以下、「構成Ｂ」とも略す）の光学積層体である。
また、図１Ｃに示す光学積層体３００は、透明支持体１２、光配向層１６および光吸収異方性層１８、硬化層２０、酸素遮断層１４をこの順に有する層構成（以下、「構成Ｃ」とも略す）の光学積層体である。
以下に、本発明の光学積層体が有する任意の酸素遮断層などについて詳述する。なお、本発明の光学積層体が有する光配向層および光吸収異方性層については、上述した本発明の光学積層体の製造方法において説明したものと同様である。
ここで、図１Ａに示す光学積層体１００は、透明ポリマーフィルム１２、酸素遮断層１４、光配向層１６および光吸収異方性層１８をこの順に有する層構成（以下、「構成Ａ」とも略す。）の光学積層体である。
また、図１Ｂに示す光学積層体２００は、透明支持体１２、光配向層１６および光吸収異方性層１８をこの順に有する層構成（以下、「構成Ｂ」とも略す）の光学積層体である。
また、図１Ｃに示す光学積層体３００は、透明支持体１２、光配向層１６および光吸収異方性層１８、硬化層２０、酸素遮断層１４をこの順に有する層構成（以下、「構成Ｃ」とも略す）の光学積層体である。
以下に、本発明の光学積層体が有する任意の酸素遮断層などについて詳述する。なお、本発明の光学積層体が有する光配向層および光吸収異方性層については、上述した本発明の光学積層体の製造方法において説明したものと同様である。
【0223】
〔硬化層〕
本発明の光学積層体は、光吸収異方性層と隣接層の間の屈折率差を小さくする目的で、光吸収異方性層の光配向層とは反対側に、厚み１００ｎｍ以下の硬化層を有していてもよい。
このような硬化層は、特に限定はなく、各種公知のものを使用できる。例えば、液晶性化合物を含む層や、多官能モノマーを含む組成物を硬化させた層があげられる。光吸収異方性層とインデックスマッチングを行えるような屈折率を有することが好ましい。
本発明の光学積層体は、光吸収異方性層と隣接層の間の屈折率差を小さくする目的で、光吸収異方性層の光配向層とは反対側に、厚み１００ｎｍ以下の硬化層を有していてもよい。
このような硬化層は、特に限定はなく、各種公知のものを使用できる。例えば、液晶性化合物を含む層や、多官能モノマーを含む組成物を硬化させた層があげられる。光吸収異方性層とインデックスマッチングを行えるような屈折率を有することが好ましい。
【0224】
〔酸素遮断層〕
本発明の光学積層体は、耐光性を向上させる目的で、光配向層の光吸収異方性層とは反対側および光吸収異方性層の光配向層とは反対側のいずれか一方あるいは両方に、酸素遮断層を有していてもよい。なお、以下の説明において、光配向層の光吸収異方性層とは反対側に有する酸素遮断層を「酸素遮断層１」とも略し、光吸収異方性層の光配向層とは反対側に有する酸素遮断層を「酸素遮断層２」とも略す。
「酸素遮断層」とは、酸素遮断機能のある酸素遮断膜であり、具体例としては、ポリビニルアルコール、ポリエチレンビニルアルコール、ポリビニルエーテル、ポリビニルピロリドン、ポリアクリルアミド、ポリアクリル酸、セルロースエーテル、ポリアミド、ポリイミド、スチレン／マレイン酸共重合体、ゼラチン、塩化ビニリデン、および、セルロースナノファイバー、などの有機化合物を含む層が挙げられる。
本発明の光学積層体は、耐光性を向上させる目的で、光配向層の光吸収異方性層とは反対側および光吸収異方性層の光配向層とは反対側のいずれか一方あるいは両方に、酸素遮断層を有していてもよい。なお、以下の説明において、光配向層の光吸収異方性層とは反対側に有する酸素遮断層を「酸素遮断層１」とも略し、光吸収異方性層の光配向層とは反対側に有する酸素遮断層を「酸素遮断層２」とも略す。
「酸素遮断層」とは、酸素遮断機能のある酸素遮断膜であり、具体例としては、ポリビニルアルコール、ポリエチレンビニルアルコール、ポリビニルエーテル、ポリビニルピロリドン、ポリアクリルアミド、ポリアクリル酸、セルロースエーテル、ポリアミド、ポリイミド、スチレン／マレイン酸共重合体、ゼラチン、塩化ビニリデン、および、セルロースナノファイバー、などの有機化合物を含む層が挙げられる。
【0225】
なお、本明細書において酸素遮断機能とは、酸素を全く通さない状態に限らず、目的の性能に応じて若干酸素を通す状態も含む。
【0226】
透明ポリマーフィルム上に酸素遮断層を設け、その上に前述した一般式（Ｉ）で表されるアゾベンゼン化合物を有する光配向層を設ける場合は、配向性を高める観点から、酸素遮断層に鹸化度９５ｍｏｌ％以上のポリビニルアルコールまたは鹸化度９５ｍｏｌ％以上の変性ポリビニルアルコールを用いることが好ましい。
【0227】
また、金属化合物からなる薄層（金属化合物薄層）も挙げられる。金属化合物薄層の形成方法は、目的の薄層を形成できる方法であればいかなる方法でも用いることができる。例えば、スパッタリング法、真空蒸着法、イオンプレーティング法、および、プラズマＣＶＤ（Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｖａｐｏｒ Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）法などが適しており、具体的には特許第３４００３２４号、特開２００２－３２２５６１号、特開２００２－３６１７７４号各公報記載の形成方法を採用することができる。
【0228】
金属化合物薄層に含まれる成分は、酸素遮断機能を発揮できるものであれば特に限定されないが、例えば、Ｓｉ、Ａｌ、Ｉｎ、Ｓｎ、Ｚｎ、Ｔｉ、Ｃｕ、Ｃｅ、またはＴａ等から選ばれる１種以上の金属を含む酸化物、窒化物もしくは酸化窒化物などを用いることができる。これらの中でも、Ｓｉ、Ａｌ、Ｉｎ、Ｓｎ、ＺｎおよびＴｉから選ばれる金属の酸化物、窒化物もしくは酸化窒化物が好ましく、特に、Ｓｉ、Ａｌ、ＳｎおよびＴｉから選ばれる金属酸化物、窒化物もしくは酸化窒化物が好ましい。これらは、副次的な成分として他の元素を含有してもよい。
【0229】
また酸素遮断層は、例えば米国特許第６４１３６４５号公報、特開２０１５－２２６９９５号公報、特開２０１３－２０２９７１号公報、特開２００３－３３５８８０号公報、特公昭５３－１２９５３号公報、特開昭５８－２１７３４４号公報、に記載されているように、上記の有機素材を含む層と金属化合物薄層の積層した形態であってもよいし、国際公開２０１１／１１８３６号公報、特開２０１３－２４８８３２号公報、特許第３８５５００４号公報、に記載されているように、有機化合物と無機化合物とをハイブリッドした層であってもよい。
【0230】
本発明の光学積層体が、後述するλ／４板を有し、λ／４板が支持体上にλ／４機能を有する光学異方性層を設けた位相差フィルムである場合、上記酸素遮断層がλ／４機能を有する光学異方性層の配向膜を兼ねてもよい。そのような場合、ポリビニルアルコール、ポリアミド、またはポリイミドを含む酸素遮断層であることが好ましい。
【0231】
酸素遮断層の膜厚は、有機化合物を含む層の場合は、０．１～１０μｍが好ましく、０．５～５．５μｍがより好ましい。金属化合物薄層の場合は、酸素遮断層の膜厚は、５ｎｍ～５００ｎｍが好ましく、１０ｎｍ～２００ｎｍがより好ましい。
【0232】
〔粘着層〕
本発明の光学積層体は、上述した光吸収異方性層の光配向層とは反対側、または、上述した酸素遮断層２を有する場合には、上述した酸素遮断層２の光吸収異方性層側とは反対側に、他の機能層（例えば、後述するλ／４板など）を貼合する観点から、粘着層を有していてもよい。
本発明の光学積層体は、上述した光吸収異方性層の光配向層とは反対側、または、上述した酸素遮断層２を有する場合には、上述した酸素遮断層２の光吸収異方性層側とは反対側に、他の機能層（例えば、後述するλ／４板など）を貼合する観点から、粘着層を有していてもよい。
【0233】
粘着層に含まれる粘着剤としては、例えば、ゴム系粘着剤、アクリル系粘着剤、シリコーン系粘着剤、ウレタン系粘着剤、ビニルアルキルエーテル系粘着剤、ポリビニルアルコール系粘着剤、ポリビニルピロリドン系粘着剤、ポリアクリルアミド系粘着剤、セルロース系粘着剤等が挙げられる。
これらのうち、透明性、耐候性、耐熱性などの観点から、アクリル系粘着剤（感圧粘着剤）であるのが好ましい。
これらのうち、透明性、耐候性、耐熱性などの観点から、アクリル系粘着剤（感圧粘着剤）であるのが好ましい。
【0234】
粘着層は、例えば、粘着剤の溶液を離型シート上に塗布し、乾燥した後に後、透明樹脂層の表面に転写する方法；粘着剤の溶液を透明樹脂層の表面に直接塗布し、乾燥させる方法；等により形成することができる。
粘着剤の溶液は、例えば、トルエンや酢酸エチル等の溶剤に、粘着剤を溶解または分散させた１０～４０質量％程度の溶液として調製される。
塗布法は、リバースコーティング、グラビアコーティング等のロールコーティング法、スピンコーティング法、スクリーンコーティング法、ファウンテンコーティング法、ディッピング法、スプレー法などを採用できる。
粘着剤の溶液は、例えば、トルエンや酢酸エチル等の溶剤に、粘着剤を溶解または分散させた１０～４０質量％程度の溶液として調製される。
塗布法は、リバースコーティング、グラビアコーティング等のロールコーティング法、スピンコーティング法、スクリーンコーティング法、ファウンテンコーティング法、ディッピング法、スプレー法などを採用できる。
【0235】
また、離型シートの構成材料としては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリエチレンテレフタレートなどの合成樹脂フィルム；ゴムシート；紙；布；不織布；ネット；発泡シート；金属箔；等の適宜な薄葉体等が挙げられる。
【0236】
本発明においては、任意の粘着層の厚みは特に限定されないが、３μｍ～５０μｍであることが好ましく、４μｍ～４０μｍであることがより好ましく、５μｍ～３０μｍであることが更に好ましい。
【0237】
〔機能層〕
光吸収異方性層よりも視認側に、短波光を低減する機能を有する機能層を有することが好ましい。短波光を低減することで、色素化合物の光分解を抑制し、耐光性に優れた光学積層体が提供できる。
一態様としては、前述の粘着層もしくは酸素遮断層が、短波光を低減する機能を有することが好ましい。
また別の一態様として、光吸収異方性層よりも視認側に、新たに短波光を低減する機能を有する層を設けることも好ましい。
光吸収異方性層よりも視認側に、短波光を低減する機能を有する機能層を有することが好ましい。短波光を低減することで、色素化合物の光分解を抑制し、耐光性に優れた光学積層体が提供できる。
一態様としては、前述の粘着層もしくは酸素遮断層が、短波光を低減する機能を有することが好ましい。
また別の一態様として、光吸収異方性層よりも視認側に、新たに短波光を低減する機能を有する層を設けることも好ましい。
【0238】
短波光を低減する方法は特に限定されず、吸収剤等による光吸収を用いる方法、および多層膜による波長選択反射を用いる方法が例示される。
【0239】
前述の短波光とは４３０ｎｍ以下の波長の光を指す。４３０ｎｍ以下の波長の光を低減することで、太陽光もしくはＪＩＳ Ｂ ７７５１およびＪＩＳ Ｂ ７７５４の耐光性試験にて使用される光源光による色素化合物の光分解を抑制できる。
また可視光における偏光子の性能に影響を与えないために、４５０ｎｍ以上波長域では透明であることが好ましい。
また可視光における偏光子の性能に影響を与えないために、４５０ｎｍ以上波長域では透明であることが好ましい。
【0240】
〔λ／４板〕
本発明の光学積層体は、上述した粘着層の光吸収異方性層または酸素遮断層２側とは反対側にλ／４板を有していてもよい。
ここで、「λ／４板」とは、λ／４機能を有する板であり、具体的には、ある特定の波長の直線偏光を円偏光に（または円偏光を直線偏光に）変換する機能を有する板である。
λ／４板の具体例としては、例えば米国特許出願公開２０１５／０２７７００６号などが挙げられる。
例えば、λ／４板が単層構造である態様としては、具体的には、延伸ポリマーフィルムや、支持体上にλ／４機能を有する光学異方性層を設けた位相差フィルム等が挙げられ、また、λ／４板が複層構造である態様としては、具体的には、λ／４板とλ／２板とを積層してなる広帯域λ／４板が挙げられる。
λ／４機能を有する光学異方性層を設けた位相差フィルムは、ネマチック液晶層またはスメクチック液晶層を発現する液晶モノマーを重合して形成した液晶性化合物（円盤状液晶、棒状液晶性化合物など）の少なくともひとつを含む１層以上の位相差フィルムであることがより好ましい。
また、光学性能に優れたλ／４板として、逆波長分散性の液晶性化合物を用いることもさらに好ましい。具体的には、国際公開番号ＷＯ２０１７／０４３４３８に記載の一般式（ＩＩ）の液晶性化合物が好ましく用いられる。逆波長分散性の液晶性化合物を用いたλ／４板の作成方法についても、ＷＯ２０１７／０４３４３８の実施例１～１０や特開２０１６－９１０２２の実施例１の記載を参考にできる。
本発明の光学積層体は、上述した粘着層の光吸収異方性層または酸素遮断層２側とは反対側にλ／４板を有していてもよい。
ここで、「λ／４板」とは、λ／４機能を有する板であり、具体的には、ある特定の波長の直線偏光を円偏光に（または円偏光を直線偏光に）変換する機能を有する板である。
λ／４板の具体例としては、例えば米国特許出願公開２０１５／０２７７００６号などが挙げられる。
例えば、λ／４板が単層構造である態様としては、具体的には、延伸ポリマーフィルムや、支持体上にλ／４機能を有する光学異方性層を設けた位相差フィルム等が挙げられ、また、λ／４板が複層構造である態様としては、具体的には、λ／４板とλ／２板とを積層してなる広帯域λ／４板が挙げられる。
λ／４機能を有する光学異方性層を設けた位相差フィルムは、ネマチック液晶層またはスメクチック液晶層を発現する液晶モノマーを重合して形成した液晶性化合物（円盤状液晶、棒状液晶性化合物など）の少なくともひとつを含む１層以上の位相差フィルムであることがより好ましい。
また、光学性能に優れたλ／４板として、逆波長分散性の液晶性化合物を用いることもさらに好ましい。具体的には、国際公開番号ＷＯ２０１７／０４３４３８に記載の一般式（ＩＩ）の液晶性化合物が好ましく用いられる。逆波長分散性の液晶性化合物を用いたλ／４板の作成方法についても、ＷＯ２０１７／０４３４３８の実施例１～１０や特開２０１６－９１０２２の実施例１の記載を参考にできる。
【0241】
〔用途〕
本発明の光学積層体は、偏光素子（偏光板）として使用でき、具体的には、例えば、直線偏光板または円偏光板として使用できる。
本発明の光学積層体が上記λ／４板などの光学異方性層を有さない場合には、光学積層体は直線偏光板として使用できる。一方、本発明の光学積層体が上記λ／４板を有する場合には、光学積層体は円偏光板として使用できる。
本発明の光学積層体は、偏光素子（偏光板）として使用でき、具体的には、例えば、直線偏光板または円偏光板として使用できる。
本発明の光学積層体が上記λ／４板などの光学異方性層を有さない場合には、光学積層体は直線偏光板として使用できる。一方、本発明の光学積層体が上記λ／４板を有する場合には、光学積層体は円偏光板として使用できる。
【0242】
［画像表示装置］
本発明の画像表示装置は、上述した本発明の光学積層体を有する。
本発明の画像表示装置に用いられる表示素子は特に限定されず、例えば、液晶セル、有機エレクトロルミネッセンス（以下、「ＥＬ」と略す。）表示パネル、および、プラズマディスプレイパネル等が挙げられる。
これらのうち、液晶セルまたは有機ＥＬ表示パネルであるのが好ましく、液晶セルであるのがより好ましい。すなわち、本発明の画像表示装置としては、表示素子として液晶セルを用いた液晶表示装置、表示素子として有機ＥＬ表示パネルを用いた有機ＥＬ表示装置であるのが好ましく、液晶表示装置であるのがより好ましい。
本発明の画像表示装置は、上述した本発明の光学積層体を有する。
本発明の画像表示装置に用いられる表示素子は特に限定されず、例えば、液晶セル、有機エレクトロルミネッセンス（以下、「ＥＬ」と略す。）表示パネル、および、プラズマディスプレイパネル等が挙げられる。
これらのうち、液晶セルまたは有機ＥＬ表示パネルであるのが好ましく、液晶セルであるのがより好ましい。すなわち、本発明の画像表示装置としては、表示素子として液晶セルを用いた液晶表示装置、表示素子として有機ＥＬ表示パネルを用いた有機ＥＬ表示装置であるのが好ましく、液晶表示装置であるのがより好ましい。
【0243】
〔液晶表示装置〕
本発明の画像表示装置の一例である液晶表示装置としては、上述した本発明の光学積層体（ただし、λ／４板を含まない）と、液晶セルと、を有する液晶表示装置である。
なお、本発明においては、液晶セルの両側に設けられる光学積層体のうち、フロント側の偏光素子として本発明の光学積層体を用いるのが好ましく、フロント側およびリア側の偏光素子として本発明の光学積層体を用いるのがより好ましい。
以下に、液晶表示装置を構成する液晶セルについて詳述する。
本発明の画像表示装置の一例である液晶表示装置としては、上述した本発明の光学積層体（ただし、λ／４板を含まない）と、液晶セルと、を有する液晶表示装置である。
なお、本発明においては、液晶セルの両側に設けられる光学積層体のうち、フロント側の偏光素子として本発明の光学積層体を用いるのが好ましく、フロント側およびリア側の偏光素子として本発明の光学積層体を用いるのがより好ましい。
以下に、液晶表示装置を構成する液晶セルについて詳述する。
【0244】
＜液晶セル＞
液晶表示装置に利用される液晶セルは、ＶＡ（Ｖｅｒｔｉｃａｌ Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）モード、ＯＣＢ（Ｏｐｔｉｃａｌｌｙ Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｅｄ Ｂｅｎｄ）モード、ＩＰＳ（Ｉｎ－Ｐｌａｎｅ－Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）モード、またはＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ）であることが好ましいが、これらに限定されるものではない。
ＴＮモードの液晶セルでは、電圧無印加時に棒状液晶性分子（棒状液晶性化合物）が実質的に水平配向し、更に６０～１２０゜にねじれ配向している。ＴＮモードの液晶セルは、カラーＴＦＴ液晶表示装置として最も多く利用されており、多数の文献に記載がある。
ＶＡモードの液晶セルでは、電圧無印加時に棒状液晶性分子が実質的に垂直に配向している。ＶＡモードの液晶セルには、（１）棒状液晶性分子を電圧無印加時に実質的に垂直に配向させ、電圧印加時に実質的に水平に配向させる狭義のＶＡモードの液晶セル（特開平２－１７６６２５号公報記載）に加えて、（２）視野角拡大のため、ＶＡモードをマルチドメイン化した（ＭＶＡモード（Ｍｕｌｔｉ－ｄｏｍａｉｎ Ｖｅｒｔｉｃａｌ Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）の）液晶セル（ＳＩＤ９７、Ｄｉｇｅｓｔ ｏｆ ｔｅｃｈ．Ｐａｐｅｒｓ（予稿集）２８（１９９７）８４５記載）、（３）棒状液晶性分子を電圧無印加時に実質的に垂直配向させ、電圧印加時にねじれマルチドメイン配向させるモード（ｎ－ＡＳＭ（Ａｘｉａｌｌｙ ｓｙｍｍｅｔｒｉｃ ａｌｉｇｎｅｄ ｍｉｃｒｏｃｅｌｌ）モード）の液晶セル（日本液晶討論会の予稿集５８～５９（１９９８）記載）および（４）ＳＵＲＶＩＶＡＬモードの液晶セル（ＬＣＤ（ｌｉｑｕｉｄ ｃｒｙｓｔａｌ ｄｉｓｐｌａｙ）インターナショナル９８で発表）が含まれる。また、ＰＶＡ（Ｐａｔｔｅｒｎｅｄ Ｖｅｒｔｉｃａｌ Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）型、光配向型（Ｏｐｔｉｃａｌ Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）、およびＰＳＡ（Ｐｏｌｙｍｅｒ－Ｓｕｓｔａｉｎｅｄ Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）のいずれであってもよい。これらのモードの詳細については、特開２００６－２１５３２６号公報、および特表２００８－５３８８１９号公報に詳細な記載がある。
ＩＰＳモードの液晶セルは、棒状液晶性分子が基板に対して実質的に平行に配向しており、基板面に平行な電界が印加することで液晶分子が平面的に応答する。ＩＰＳモードは電界無印加時で黒表示となり、上下一対の偏光板の吸収軸は直交している。光学補償シートを用いて、斜め方向での黒表示時の漏れ光を低減させ、視野角を改良する方法が、特開平１０－５４９８２号公報、特開平１１－２０２３２３号公報、特開平９－２９２５２２号公報、特開平１１－１３３４０８号公報、特開平１１－３０５２１７号公報、特開平１０－３０７２９１号公報などに開示されている。
液晶表示装置に利用される液晶セルは、ＶＡ（Ｖｅｒｔｉｃａｌ Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）モード、ＯＣＢ（Ｏｐｔｉｃａｌｌｙ Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｅｄ Ｂｅｎｄ）モード、ＩＰＳ（Ｉｎ－Ｐｌａｎｅ－Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）モード、またはＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ）であることが好ましいが、これらに限定されるものではない。
ＴＮモードの液晶セルでは、電圧無印加時に棒状液晶性分子（棒状液晶性化合物）が実質的に水平配向し、更に６０～１２０゜にねじれ配向している。ＴＮモードの液晶セルは、カラーＴＦＴ液晶表示装置として最も多く利用されており、多数の文献に記載がある。
ＶＡモードの液晶セルでは、電圧無印加時に棒状液晶性分子が実質的に垂直に配向している。ＶＡモードの液晶セルには、（１）棒状液晶性分子を電圧無印加時に実質的に垂直に配向させ、電圧印加時に実質的に水平に配向させる狭義のＶＡモードの液晶セル（特開平２－１７６６２５号公報記載）に加えて、（２）視野角拡大のため、ＶＡモードをマルチドメイン化した（ＭＶＡモード（Ｍｕｌｔｉ－ｄｏｍａｉｎ Ｖｅｒｔｉｃａｌ Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）の）液晶セル（ＳＩＤ９７、Ｄｉｇｅｓｔ ｏｆ ｔｅｃｈ．Ｐａｐｅｒｓ（予稿集）２８（１９９７）８４５記載）、（３）棒状液晶性分子を電圧無印加時に実質的に垂直配向させ、電圧印加時にねじれマルチドメイン配向させるモード（ｎ－ＡＳＭ（Ａｘｉａｌｌｙ ｓｙｍｍｅｔｒｉｃ ａｌｉｇｎｅｄ ｍｉｃｒｏｃｅｌｌ）モード）の液晶セル（日本液晶討論会の予稿集５８～５９（１９９８）記載）および（４）ＳＵＲＶＩＶＡＬモードの液晶セル（ＬＣＤ（ｌｉｑｕｉｄ ｃｒｙｓｔａｌ ｄｉｓｐｌａｙ）インターナショナル９８で発表）が含まれる。また、ＰＶＡ（Ｐａｔｔｅｒｎｅｄ Ｖｅｒｔｉｃａｌ Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）型、光配向型（Ｏｐｔｉｃａｌ Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）、およびＰＳＡ（Ｐｏｌｙｍｅｒ－Ｓｕｓｔａｉｎｅｄ Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）のいずれであってもよい。これらのモードの詳細については、特開２００６－２１５３２６号公報、および特表２００８－５３８８１９号公報に詳細な記載がある。
ＩＰＳモードの液晶セルは、棒状液晶性分子が基板に対して実質的に平行に配向しており、基板面に平行な電界が印加することで液晶分子が平面的に応答する。ＩＰＳモードは電界無印加時で黒表示となり、上下一対の偏光板の吸収軸は直交している。光学補償シートを用いて、斜め方向での黒表示時の漏れ光を低減させ、視野角を改良する方法が、特開平１０－５４９８２号公報、特開平１１－２０２３２３号公報、特開平９－２９２５２２号公報、特開平１１－１３３４０８号公報、特開平１１－３０５２１７号公報、特開平１０－３０７２９１号公報などに開示されている。
【0245】
〔有機ＥＬ表示装置〕
本発明の画像表示装置の一例である有機ＥＬ表示装置としては、例えば、視認側から、上述した本発明の光学積層体（ただし、粘着層およびλ／４板を含む）と、有機ＥＬ表示パネルと、をこの順で有する態様が好適に挙げられる。構成Ａの態様においては、光学積層体は、視認側から、必要に応じて除去される透明支持体、透明酸素遮断層、必要に応じて設けられる配向層、光吸収異方性層、必要に応じて設けられる透明酸素遮断層、粘着層、および、λ／４板の順に配置されている。
一方、構成Ｂ，Ｃの態様においては、光学積層体は、視認側から、必要に応じて設けられる透明酸素遮断層、必要に応じて設けられる硬化層、光吸収異方性層、必要に応じて除去される配向層、必要に応じて除去される透明支持体、粘着層、および、λ／４板の順に配置されている。
また、有機ＥＬ表示パネルは、電極間（陰極および陽極間）に有機発光層（有機エレクトロルミネッセンス層）を挟持してなる有機ＥＬ素子を用いて構成された表示パネルである。有機ＥＬ表示パネルの構成は特に制限されず、公知の構成が採用される。
本発明の画像表示装置の一例である有機ＥＬ表示装置としては、例えば、視認側から、上述した本発明の光学積層体（ただし、粘着層およびλ／４板を含む）と、有機ＥＬ表示パネルと、をこの順で有する態様が好適に挙げられる。構成Ａの態様においては、光学積層体は、視認側から、必要に応じて除去される透明支持体、透明酸素遮断層、必要に応じて設けられる配向層、光吸収異方性層、必要に応じて設けられる透明酸素遮断層、粘着層、および、λ／４板の順に配置されている。
一方、構成Ｂ，Ｃの態様においては、光学積層体は、視認側から、必要に応じて設けられる透明酸素遮断層、必要に応じて設けられる硬化層、光吸収異方性層、必要に応じて除去される配向層、必要に応じて除去される透明支持体、粘着層、および、λ／４板の順に配置されている。
また、有機ＥＬ表示パネルは、電極間（陰極および陽極間）に有機発光層（有機エレクトロルミネッセンス層）を挟持してなる有機ＥＬ素子を用いて構成された表示パネルである。有機ＥＬ表示パネルの構成は特に制限されず、公知の構成が採用される。
【実施例0246】
以下に実施例に基づいて本発明をさらに詳細に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り適宜変更することができる。したがって、本発明の範囲は以下に示す実施例により限定的に解釈されるべきものではない。
【0247】
［作製例１～２２］
〔光配向層形成用組成物Ｅ１～Ｅ６の調製〕
＜光配向層形成用組成物Ｅ１の調製＞
下記の組成にて、光配向層形成用組成物Ｅ１を調製し、攪拌しながら１時間溶解し、０．４５μｍフィルターでろ過した。
―――――――――――――――――――――――――――――――――
光配向層形成用組成物Ｅ１
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・下記光活性化合物Ｅ－１ ０．３質量部
・２－ブトキシエタノール ４１．６質量部
・ジプロピレングリコールモノメチルエーテル ４１．６質量部
・純水 １６．５質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――
〔光配向層形成用組成物Ｅ１～Ｅ６の調製〕
＜光配向層形成用組成物Ｅ１の調製＞
下記の組成にて、光配向層形成用組成物Ｅ１を調製し、攪拌しながら１時間溶解し、０．４５μｍフィルターでろ過した。
―――――――――――――――――――――――――――――――――
光配向層形成用組成物Ｅ１
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・下記光活性化合物Ｅ－１ ０．３質量部
・２－ブトキシエタノール ４１．６質量部
・ジプロピレングリコールモノメチルエーテル ４１．６質量部
・純水 １６．５質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――
【0248】
光活性化合物Ｅ－１
【化37】
【0249】
＜光配向層形成用組成物Ｅ２の調製＞
光活性化合物Ｅ－１を、下記光活性化合物Ｅ－２に変更した以外は、光配向層形成用組成物Ｅ１と同様の方法で光配向層形成用組成物Ｅ２を調製した。
光活性化合物Ｅ－１を、下記光活性化合物Ｅ－２に変更した以外は、光配向層形成用組成物Ｅ１と同様の方法で光配向層形成用組成物Ｅ２を調製した。
【0250】
光活性化合物Ｅ－２
【化38】
【0251】
＜光配向層形成用組成物Ｅ３の調製＞
下記の組成にて、光配向層形成用組成物Ｅ３を調製し、攪拌しながら１時間溶解し、０．４５μｍフィルターでろ過した。
――――――――――――――――――――――――――――――――
光配向層形成用組成物Ｅ３
――――――――――――――――――――――――――――――――
・下記光活性化合物Ｅ－３ ２．０質量部
・１，１，２－トリクロロエタン ９８．０質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――
下記の組成にて、光配向層形成用組成物Ｅ３を調製し、攪拌しながら１時間溶解し、０．４５μｍフィルターでろ過した。
――――――――――――――――――――――――――――――――
光配向層形成用組成物Ｅ３
――――――――――――――――――――――――――――――――
・下記光活性化合物Ｅ－３ ２．０質量部
・１，１，２－トリクロロエタン ９８．０質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――
【0252】
光活性化合物Ｅ－３（重量平均分子量：４８０００）
【化39】
【0253】
＜光配向層形成用組成物Ｅ４の調製＞
下記の組成にて、光配向層形成用組成物Ｅ４を調製し、攪拌しながら１時間溶解し、０．４５μｍフィルターでろ過した。
――――――――――――――――――――――――――――――――
光配向層形成用組成物Ｅ４
――――――――――――――――――――――――――――――――
・下記光活性化合物Ｅ－４ ５．０質量部
・シクロペンタノン ９５．０質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――
下記の組成にて、光配向層形成用組成物Ｅ４を調製し、攪拌しながら１時間溶解し、０．４５μｍフィルターでろ過した。
――――――――――――――――――――――――――――――――
光配向層形成用組成物Ｅ４
――――――――――――――――――――――――――――――――
・下記光活性化合物Ｅ－４ ５．０質量部
・シクロペンタノン ９５．０質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――
【0254】
光活性化合物Ｅ－４（重量平均分子量；５１０００）
【化40】
【0255】
＜光配向層形成用組成物Ｅ５の調製＞
下記の組成にて、光配向層形成用組成物Ｅ５を調製し、攪拌しながら１時間溶解し、０．４５μｍフィルターでろ過した。
――――――――――――――――――――――――――――――――
光配向層形成用組成物Ｅ５
――――――――――――――――――――――――――――――――
・下記光活性化合物Ｅ－５ ２．５質量部
・テトラヒドロフラン ９７．５質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――
下記の組成にて、光配向層形成用組成物Ｅ５を調製し、攪拌しながら１時間溶解し、０．４５μｍフィルターでろ過した。
――――――――――――――――――――――――――――――――
光配向層形成用組成物Ｅ５
――――――――――――――――――――――――――――――――
・下記光活性化合物Ｅ－５ ２．５質量部
・テトラヒドロフラン ９７．５質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――
【0256】
光活性化合物Ｅ－５（重量平均分子量：２８７００）
【化41】
【0257】
＜光配向層形成用組成物Ｅ６の調製＞
（重合体Ｅ－６の合成）
撹拌機、温度計、滴下漏斗および還流冷却管を備えた反応容器に、２－（３，４－エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン１００．０質量部、メチルイソブチルケトン５００質量部、および、トリエチルアミン１０．０質量部を仕込み、室温で混合物を撹拌した。次に、脱イオン水１００質量部を滴下漏斗より３０分かけて得られた混合物に滴下した後、還流下で混合物を混合しつつ、８０℃で６時間反応させた。反応終了後、有機相を取り出し、０．２質量％硝酸アンモニウム水溶液により洗浄後の水が中性になるまで有機相を洗浄した。その後、得られた有機相から減圧下で溶媒および水を留去し、エポキシ基を有するポリオルガノシロキサンを粘調な透明液体として得た。
このエポキシ基を有するポリオルガノシロキサンについて、１Ｈ－ＮＭＲ（Nuclear Magnetic Resonance）分析を行ったところ、化学シフト（δ）＝３．２ｐｐｍ付近にオキシラニル基に基づくピークが理論強度どおりに得られ、反応中にエポキシ基の副反応が起こっていないことが確認された。このエポキシ基を有するポリオルガノシロキサンの重量平均分子量Ｍｗは２，２００、エポキシ当量は１８６ｇ／モルであった。
次に、１００ｍＬの三口フラスコに、上記で得たエポキシ基を有するポリオルガノシロキサン１０．１質量部、アクリル基含有カルボン酸（東亜合成株式会社、商品名「アロニックスＭ－５３００」、アクリル酸ω－カルボキシポリカプロラクトン（重合度ｎ≒２））０．５質量部、酢酸ブチル２０質量部、特開２０１５－２６０５０号公報の合成例１の方法で得られた桂皮酸誘導体１．５質量部、および、テトラブチルアンモニウムブロミド０．３質量部を仕込み、得られた混合物を９０℃で１２時間撹拌した。撹拌後、得られた混合物と等量（質量）の酢酸ブチルで混合物を希釈し、さらに希釈された混合物を３回水洗した。得られた混合物を濃縮し、酢酸ブチルで希釈する操作を２回繰り返し、最終的に、シンナモイル基を有するポリオルガノシロキサン（下記重合体Ｅ－６）を含む溶液を得た。この重合体Ｅ－６の重量平均分子量Ｍｗは９，０００であった。また、１Ｈ－ＮＭＲ分析の結果、重合体Ｅ－６中のシンナメート基を有する成分は２３．７質量％であった。
（重合体Ｅ－６の合成）
撹拌機、温度計、滴下漏斗および還流冷却管を備えた反応容器に、２－（３，４－エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン１００．０質量部、メチルイソブチルケトン５００質量部、および、トリエチルアミン１０．０質量部を仕込み、室温で混合物を撹拌した。次に、脱イオン水１００質量部を滴下漏斗より３０分かけて得られた混合物に滴下した後、還流下で混合物を混合しつつ、８０℃で６時間反応させた。反応終了後、有機相を取り出し、０．２質量％硝酸アンモニウム水溶液により洗浄後の水が中性になるまで有機相を洗浄した。その後、得られた有機相から減圧下で溶媒および水を留去し、エポキシ基を有するポリオルガノシロキサンを粘調な透明液体として得た。
このエポキシ基を有するポリオルガノシロキサンについて、１Ｈ－ＮＭＲ（Nuclear Magnetic Resonance）分析を行ったところ、化学シフト（δ）＝３．２ｐｐｍ付近にオキシラニル基に基づくピークが理論強度どおりに得られ、反応中にエポキシ基の副反応が起こっていないことが確認された。このエポキシ基を有するポリオルガノシロキサンの重量平均分子量Ｍｗは２，２００、エポキシ当量は１８６ｇ／モルであった。
次に、１００ｍＬの三口フラスコに、上記で得たエポキシ基を有するポリオルガノシロキサン１０．１質量部、アクリル基含有カルボン酸（東亜合成株式会社、商品名「アロニックスＭ－５３００」、アクリル酸ω－カルボキシポリカプロラクトン（重合度ｎ≒２））０．５質量部、酢酸ブチル２０質量部、特開２０１５－２６０５０号公報の合成例１の方法で得られた桂皮酸誘導体１．５質量部、および、テトラブチルアンモニウムブロミド０．３質量部を仕込み、得られた混合物を９０℃で１２時間撹拌した。撹拌後、得られた混合物と等量（質量）の酢酸ブチルで混合物を希釈し、さらに希釈された混合物を３回水洗した。得られた混合物を濃縮し、酢酸ブチルで希釈する操作を２回繰り返し、最終的に、シンナモイル基を有するポリオルガノシロキサン（下記重合体Ｅ－６）を含む溶液を得た。この重合体Ｅ－６の重量平均分子量Ｍｗは９，０００であった。また、１Ｈ－ＮＭＲ分析の結果、重合体Ｅ－６中のシンナメート基を有する成分は２３．７質量％であった。
【0258】
重合体Ｅ－６
【化42】
【0259】
（光配向層形成用組成物Ｅ６の調製）
以下の成分を混合して、光配向層形成用組成物Ｅ６を調製した。
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・上記重合体Ｅ－６ １０．６７質量部
・下記低分子化合物Ｒ－１ ５．１７質量部
・下記添加剤（Ｂ－１） ０．５３質量部
・酢酸ブチル ８２８７．３７質量部
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート
２０７１．８５質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――
以下の成分を混合して、光配向層形成用組成物Ｅ６を調製した。
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・上記重合体Ｅ－６ １０．６７質量部
・下記低分子化合物Ｒ－１ ５．１７質量部
・下記添加剤（Ｂ－１） ０．５３質量部
・酢酸ブチル ８２８７．３７質量部
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート
２０７１．８５質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――
【0260】
低分子化合物Ｒ－１
【化43】
【0261】
添加剤（Ｂ－１）：サンアプロ社製ＴＡ－６０Ｂ（以下、構造式参照）
【化44】
【0262】
〔液晶組成物Ｐ１～Ｐ１６の調製〕
【0263】
＜液晶組成物Ｐ１の調製＞
下記の組成にて、液晶組成物Ｐ１を調製し、攪拌しながら５０℃で３時間加熱溶解し、０．４５μｍフィルターでろ過した。
――――――――――――――――――――――――――――――――
液晶組成物Ｐ１
――――――――――――――――――――――――――――――――
・下記二色性物質Ｄ１ ２．１質量部
・下記二色性物質Ｄ２ ９．３質量部
・下記高分子液晶性化合物Ｍ１ ７２．２質量部
・重合開始剤ＩＲＧＡＣＵＲＥ８１９（ＢＡＳＦ社製） ０．８質量部
・下記界面改良剤Ｆ－１ ０．６質量部
・シクロペンタノン ４５７．５質量部
・テトラヒドロフラン ４５７．５質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――
下記の組成にて、液晶組成物Ｐ１を調製し、攪拌しながら５０℃で３時間加熱溶解し、０．４５μｍフィルターでろ過した。
――――――――――――――――――――――――――――――――
液晶組成物Ｐ１
――――――――――――――――――――――――――――――――
・下記二色性物質Ｄ１ ２．１質量部
・下記二色性物質Ｄ２ ９．３質量部
・下記高分子液晶性化合物Ｍ１ ７２．２質量部
・重合開始剤ＩＲＧＡＣＵＲＥ８１９（ＢＡＳＦ社製） ０．８質量部
・下記界面改良剤Ｆ－１ ０．６質量部
・シクロペンタノン ４５７．５質量部
・テトラヒドロフラン ４５７．５質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――
【0264】
二色性物質Ｄ１
【化45】
【0265】
二色性物質Ｄ２
【化46】
【0266】
高分子液晶性化合物Ｍ１（重量平均分子量：１６０００）
【化47】
【0267】
界面改良剤Ｆ－１
【化48】
【0268】
＜液晶組成物Ｐ２～Ｐ１４の調製＞
Ｐ１と同様にして、下記表１のように、二色性物質および液晶性化合物を変更し、液晶組成物Ｐ２～Ｐ１４を調製した。
Ｐ１と同様にして、下記表１のように、二色性物質および液晶性化合物を変更し、液晶組成物Ｐ２～Ｐ１４を調製した。
【表1】
【0269】
上記表１中の二色性物質Ｄ３などの構造を以下に示す。
【0270】
二色性物質Ｄ３
【化49】
【0271】
二色性物質Ｄ４
【化50】
【0272】
二色性物質Ｄ５
【化51】
【0273】
二色性物質Ｄ６
【化52】
【0274】
二色性物質Ｄ７
【化53】
【0275】
高分子液晶性化合物Ｍ２（平均分子量：１５０００）
【化54】
【0276】
高分子液晶性化合物Ｍ３（平均分子量：１８０００）
【化55】
【0277】
液晶性化合物Ｍ４（化合物Ａ／化合物Ｂ＝７５／２５で混合）
（化合物Ａ）
（化合物Ａ）
【化56】
【0278】
（化合物Ｂ）
【化57】
【0279】
＜液晶組成物Ｐ１５の調製＞
下記の組成にて、液晶組成物Ｐ１５を調製し、攪拌しながら８０℃で２時間加熱溶解し、０．４５μｍフィルターでろ過した。
――――――――――――――――――――――――――――――――
液晶組成物Ｐ１５
――――――――――――――――――――――――――――――――
・上記二色性物質Ｄ５ ２．７質量部
・上記二色性物質Ｄ６ ２．７質量部
・上記二色性物質Ｄ７ ２．７質量部
・上記高分子液晶性化合物Ｍ１ ７３．０質量部
・重合開始剤ＩＲＧＡＣＵＲＥ３６９（ＢＡＳＦ社製） ３．０質量部
・ＢＹＫ３６１Ｎ（ビックケミージャパン社製） ０．９質量部
・シクロペンタノン ９２５．０質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――
下記の組成にて、液晶組成物Ｐ１５を調製し、攪拌しながら８０℃で２時間加熱溶解し、０．４５μｍフィルターでろ過した。
――――――――――――――――――――――――――――――――
液晶組成物Ｐ１５
――――――――――――――――――――――――――――――――
・上記二色性物質Ｄ５ ２．７質量部
・上記二色性物質Ｄ６ ２．７質量部
・上記二色性物質Ｄ７ ２．７質量部
・上記高分子液晶性化合物Ｍ１ ７３．０質量部
・重合開始剤ＩＲＧＡＣＵＲＥ３６９（ＢＡＳＦ社製） ３．０質量部
・ＢＹＫ３６１Ｎ（ビックケミージャパン社製） ０．９質量部
・シクロペンタノン ９２５．０質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――
【0280】
＜液晶組成物Ｐ１６の調製＞
下記の組成にて、液晶組成物Ｐ１６を調製し、攪拌しながら８０℃で２時間加熱溶解し、０．４５μｍフィルターでろ過した。
――――――――――――――――――――――――――――――――
液晶組成物Ｐ１６
――――――――――――――――――――――――――――――――
・上記二色性物質Ｄ５ ２．７質量部
・上記二色性物質Ｄ６ ２．７質量部
・上記二色性物質Ｄ７ ２．７質量部
・上記液晶性化合物Ｍ４ ７３．０質量部
・重合開始剤ＩＲＧＡＣＵＲＥ３６９（ＢＡＳＦ社製） ３．０質量部
・ＢＹＫ３６１Ｎ（ビックケミージャパン社製） ０．９質量部
・シクロペンタノン ９２５．０質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――
下記の組成にて、液晶組成物Ｐ１６を調製し、攪拌しながら８０℃で２時間加熱溶解し、０．４５μｍフィルターでろ過した。
――――――――――――――――――――――――――――――――
液晶組成物Ｐ１６
――――――――――――――――――――――――――――――――
・上記二色性物質Ｄ５ ２．７質量部
・上記二色性物質Ｄ６ ２．７質量部
・上記二色性物質Ｄ７ ２．７質量部
・上記液晶性化合物Ｍ４ ７３．０質量部
・重合開始剤ＩＲＧＡＣＵＲＥ３６９（ＢＡＳＦ社製） ３．０質量部
・ＢＹＫ３６１Ｎ（ビックケミージャパン社製） ０．９質量部
・シクロペンタノン ９２５．０質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――
【0281】
〔作製例１の光学積層体１の作製〕
＜光配向層の作成＞
上述した光配向層形成用組成物Ｅ１をポリエチレンテレフタレートフイルム（コスモシャイン、東洋紡社製）上に塗布し、６０℃で２分間乾燥した。
その後、得られた塗膜に、偏光紫外線露光装置を用いて直線偏光紫外線（照度４．５ｍＷ、照射量５００ｍＪ／ｃｍ２）を照射し、厚み０．０３μｍの光配向層１を作製した。
＜光配向層の作成＞
上述した光配向層形成用組成物Ｅ１をポリエチレンテレフタレートフイルム（コスモシャイン、東洋紡社製）上に塗布し、６０℃で２分間乾燥した。
その後、得られた塗膜に、偏光紫外線露光装置を用いて直線偏光紫外線（照度４．５ｍＷ、照射量５００ｍＪ／ｃｍ２）を照射し、厚み０．０３μｍの光配向層１を作製した。
【0282】
＜光吸収異方性層の形成＞
得られた光配向層１上に、上述した液晶組成物Ｐ１をワイヤーバーで塗布した。
次いで、１４０℃で９０秒間加熱し、室温（２３℃）になるまで冷却した。
次いで、８０℃で６０秒間加熱し、再び室温になるまで冷却した。
その後、高圧水銀灯を用いて照度２８ｍＷ／ｃｍ２の照射条件で６０秒間照射することにより、厚み０．６μｍの光吸収異方性層を形成し、作製例１の光学積層体１が作製できた。配向度を下記の方法にて測定すると、０．９５であり、また、正面透過率は、６０％以下であった。
得られた光配向層１上に、上述した液晶組成物Ｐ１をワイヤーバーで塗布した。
次いで、１４０℃で９０秒間加熱し、室温（２３℃）になるまで冷却した。
次いで、８０℃で６０秒間加熱し、再び室温になるまで冷却した。
その後、高圧水銀灯を用いて照度２８ｍＷ／ｃｍ２の照射条件で６０秒間照射することにより、厚み０．６μｍの光吸収異方性層を形成し、作製例１の光学積層体１が作製できた。配向度を下記の方法にて測定すると、０．９５であり、また、正面透過率は、６０％以下であった。
【0283】
〔作製例２～２５の光学積層体２～２５の作製〕
光配向層形成用組成物および液晶組成物を下記表２に示すものに変更した以外は、作製例１の光学積層体１と同様の方法で、作製例２～２５の光学積層体２～２５を作製した。
ただし、二色性物質の塗布量が作製例１と同じになるように組成物の塗布量を調整した。
また、光配向層の厚みについては、Ｅ１およびＥ２は０．０３μｍ、Ｅ３およびＥ４は０．１μｍ、Ｅ５は０．２μｍ、ならびに、Ｅ６は０．３μｍとなるように組成物の塗布量を調整した。
なお、作製した光学積層体２～２５の正面透過率は、いずれも６０％以下であった。
光配向層形成用組成物および液晶組成物を下記表２に示すものに変更した以外は、作製例１の光学積層体１と同様の方法で、作製例２～２５の光学積層体２～２５を作製した。
ただし、二色性物質の塗布量が作製例１と同じになるように組成物の塗布量を調整した。
また、光配向層の厚みについては、Ｅ１およびＥ２は０．０３μｍ、Ｅ３およびＥ４は０．１μｍ、Ｅ５は０．２μｍ、ならびに、Ｅ６は０．３μｍとなるように組成物の塗布量を調整した。
なお、作製した光学積層体２～２５の正面透過率は、いずれも６０％以下であった。
【0284】
＜配向欠陥の評価＞
光学積層体の作製時に、光配向層の表面を１００Ｎ／３００ｍｍの面圧をかけて塗布面タッチするようにしてロール搬送した後に光吸収異方性層を形成し、配向欠陥の評価用積層体を作製した。
塗布面タッチした部分を偏向子と重ねてシャーカステンに載せ、配向欠陥の有無を目視にて観察し、以下の基準で評価した。結果を下記表２に示す。
（欠陥評価基準）
Ａ：配向欠陥が全く見えない
Ｂ：配向欠陥がわずかに見えるが実用上問題なし
Ｃ：配向欠陥が見えて問題である
光学積層体の作製時に、光配向層の表面を１００Ｎ／３００ｍｍの面圧をかけて塗布面タッチするようにしてロール搬送した後に光吸収異方性層を形成し、配向欠陥の評価用積層体を作製した。
塗布面タッチした部分を偏向子と重ねてシャーカステンに載せ、配向欠陥の有無を目視にて観察し、以下の基準で評価した。結果を下記表２に示す。
（欠陥評価基準）
Ａ：配向欠陥が全く見えない
Ｂ：配向欠陥がわずかに見えるが実用上問題なし
Ｃ：配向欠陥が見えて問題である
【表2】
【0285】
上記表２に示す結果から、光吸収異方性層の形成に、二色性物質とともに高分子液晶性化合物を配合した液晶組成物を用いた場合には、光配向層の表面を擦られても光吸収異方性層に配向欠陥が生じにくいことが分かった。
【0286】
＜配向欠陥の強制評価＞
作製例１３および２０～２２の光学積層体の作製時に、光配向層の表面を２００Ｎ／３００ｍｍの面圧をかけて塗布面タッチするようにしてロール搬送した後に光吸収異方性層を形成し、配向欠陥の強制評価用積層体を作製した。
塗布面タッチした部分を偏光子と重ねてシャーカステンに載せ、配向欠陥の有無を目視にて観察し、以下の基準で評価した。結果を下記表３に示す。
（欠陥評価基準）
ＡＡＡ：２００Ｎ／３００ｍｍの面圧および１００Ｎ／３００ｍｍの面圧のいずれの面圧で塗布面をタッチした場合にも配向欠陥が見えない
ＡＡ：２００Ｎ／３００ｍｍの面圧で塗布面をタッチした場合に配向欠陥がわずかに見え、１００Ｎ／３００ｍｍの面圧のいずれの面圧で塗布面をタッチした場合には配向欠陥が見えない
Ａ：２００Ｎ／３００ｍｍの面圧で塗布面をタッチした場合に配向欠陥が見えるが、１００Ｎ／３００ｍｍの面圧のいずれの面圧で塗布面をタッチした場合には配向欠陥が見えない
作製例１３および２０～２２の光学積層体の作製時に、光配向層の表面を２００Ｎ／３００ｍｍの面圧をかけて塗布面タッチするようにしてロール搬送した後に光吸収異方性層を形成し、配向欠陥の強制評価用積層体を作製した。
塗布面タッチした部分を偏光子と重ねてシャーカステンに載せ、配向欠陥の有無を目視にて観察し、以下の基準で評価した。結果を下記表３に示す。
（欠陥評価基準）
ＡＡＡ：２００Ｎ／３００ｍｍの面圧および１００Ｎ／３００ｍｍの面圧のいずれの面圧で塗布面をタッチした場合にも配向欠陥が見えない
ＡＡ：２００Ｎ／３００ｍｍの面圧で塗布面をタッチした場合に配向欠陥がわずかに見え、１００Ｎ／３００ｍｍの面圧のいずれの面圧で塗布面をタッチした場合には配向欠陥が見えない
Ａ：２００Ｎ／３００ｍｍの面圧で塗布面をタッチした場合に配向欠陥が見えるが、１００Ｎ／３００ｍｍの面圧のいずれの面圧で塗布面をタッチした場合には配向欠陥が見えない
【0287】
【表3】
【0288】
上記表３に示す結果から、作製例１３と作製例２０および２１とを比較すると、アゾベンゼン基を有する光活性化合物を用いた光配向層よりも、シンナメート基を有する光活性化合物を用いた光配向層の方が、配向欠陥が生じ難いことが分かった。
また、作製例２０および２１と作製例２２とを比較すると、光活性化合物として、シンナモイル基を含む繰り返し単位Ａと、架橋性基を含む繰り返し単位Ｂとを有する、光配向性共重合体を用いた光配向層の方が、更に配向欠陥が生じ難いことが分かった。
また、作製例２０および２１と作製例２２とを比較すると、光活性化合物として、シンナモイル基を含む繰り返し単位Ａと、架橋性基を含む繰り返し単位Ｂとを有する、光配向性共重合体を用いた光配向層の方が、更に配向欠陥が生じ難いことが分かった。
【0289】
［作製例２６～３２］
作製例１、２、３、８、１３、２０および２２と同様にして作製した光学積層体を、真空成膜装置内に設置し、下記条件にてプラズマＣＶＤ法により、光吸収異方性層の表面上に、厚さ２０ｎｍのＳｉＯｘＣｙで表される酸化珪素からなる酸素遮断層を形成し、光吸収異方性層上に酸素遮断層が形成された積層体２６～３２を作製した。
使用ガス：ヘキサメチルジシロキサン（ＨＭＤＳＯ）５ｓｃｃｍ／酸素５０ｓｃｃｍの混合ガス
印加周波数：１３．５６ＭＨｚ
印加電力：０．５ｋＷ
作製例１、２、３、８、１３、２０および２２と同様にして作製した光学積層体を、真空成膜装置内に設置し、下記条件にてプラズマＣＶＤ法により、光吸収異方性層の表面上に、厚さ２０ｎｍのＳｉＯｘＣｙで表される酸化珪素からなる酸素遮断層を形成し、光吸収異方性層上に酸素遮断層が形成された積層体２６～３２を作製した。
使用ガス：ヘキサメチルジシロキサン（ＨＭＤＳＯ）５ｓｃｃｍ／酸素５０ｓｃｃｍの混合ガス
印加周波数：１３．５６ＭＨｚ
印加電力：０．５ｋＷ
【0290】
＜耐光性の評価＞
上記作製した積層体２６～３２の支持体側から、スーパーキセノンウェザーメーター“ＳＸ－７５”（スガ試験機社製、６０℃、５０％ＲＨ条件）にて、キセノン光を１５０Ｗ／ｍ２（３００－４００ｎｍ）で３００時間照射した。所定時間の経過後、積層体の配向度の変化を測定した。作製例２６～３２で作製した、光吸収異方性層上に酸素遮断層が形成された積層体は、作製例１～２５で作製した積層体に比べて、配向度の低下が抑えられていた。
上記作製した積層体２６～３２の支持体側から、スーパーキセノンウェザーメーター“ＳＸ－７５”（スガ試験機社製、６０℃、５０％ＲＨ条件）にて、キセノン光を１５０Ｗ／ｍ２（３００－４００ｎｍ）で３００時間照射した。所定時間の経過後、積層体の配向度の変化を測定した。作製例２６～３２で作製した、光吸収異方性層上に酸素遮断層が形成された積層体は、作製例１～２５で作製した積層体に比べて、配向度の低下が抑えられていた。
【0291】
［作製例３３～３９］
〔λ／４位相差フィルム１の作製〕
〔λ／４位相差フィルム１の作製〕
【0292】
＜光学異方性層用塗布液１の調製＞
下記組成の光学異方性層用塗布液１を調製した。
―――――――――――――――――――――――――――――――――
光学異方性層用塗布液１
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・下記液晶性化合物Ｌ－３ ４２．００質量部
・下記液晶性化合物Ｌ－４ ４２．００質量部
・下記重合性化合物Ａ－１ １６．００質量部
・下記低分子化合物Ｂ－２ ６．００質量部
・下記重合開始剤Ｓ－１（オキシム型） ０．５０質量部
・下記レベリング剤Ｇ－１ ０．２０質量部
・ハイソルブＭＴＥＭ（東邦化学工業社製） ２．００質量部
・ＮＫエステルＡ－２００（新中村化学工業社製） １．００質量部
・メチルエチルケトン ４２４．８質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――
なお、下記液晶性化合物Ｌ－３およびＬ－４のアクリロイルオキシ基に隣接する基は、プロピレン基（メチル基がエチレン基に置換した基）を表し、下記液晶性化合物Ｌ－３およびＬ－４は、メチル基の位置が異なる位置異性体の混合物を表す。
下記組成の光学異方性層用塗布液１を調製した。
―――――――――――――――――――――――――――――――――
光学異方性層用塗布液１
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・下記液晶性化合物Ｌ－３ ４２．００質量部
・下記液晶性化合物Ｌ－４ ４２．００質量部
・下記重合性化合物Ａ－１ １６．００質量部
・下記低分子化合物Ｂ－２ ６．００質量部
・下記重合開始剤Ｓ－１（オキシム型） ０．５０質量部
・下記レベリング剤Ｇ－１ ０．２０質量部
・ハイソルブＭＴＥＭ（東邦化学工業社製） ２．００質量部
・ＮＫエステルＡ－２００（新中村化学工業社製） １．００質量部
・メチルエチルケトン ４２４．８質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――
なお、下記液晶性化合物Ｌ－３およびＬ－４のアクリロイルオキシ基に隣接する基は、プロピレン基（メチル基がエチレン基に置換した基）を表し、下記液晶性化合物Ｌ－３およびＬ－４は、メチル基の位置が異なる位置異性体の混合物を表す。
【0293】
【化58】
【化59】
【化60】
【化61】
【化62】
【0294】
＜光学異方性層用塗布液２の調製＞
下記組成の光学異方性層用塗布液２を調製した。
―――――――――――――――――――――――――――――――――
光学異方性層用塗布液２
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・下記液晶性化合物Ｌ－５ ２４．０質量部
・下記液晶性化合物Ｌ－６ ６．０質量部
・重合開始剤イルガキュア３６９（ＢＡＳＦジャパン製） １．０質量部
・重合開始剤ＯＸＥ－０３（ＢＡＳＦジャパン製） ０．９質量部
・重合開始剤アデカクルーズＮＣＩ－８３１（アデカ製） ０．９質量部
・ＢＹＫ３６１Ｎ（ビックケミージャパン社製） ０．２質量部
・Ｎ－メチル－２－ピロリドン ２５．０質量部
・シクロペンタノン ４２．０質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――
下記組成の光学異方性層用塗布液２を調製した。
―――――――――――――――――――――――――――――――――
光学異方性層用塗布液２
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・下記液晶性化合物Ｌ－５ ２４．０質量部
・下記液晶性化合物Ｌ－６ ６．０質量部
・重合開始剤イルガキュア３６９（ＢＡＳＦジャパン製） １．０質量部
・重合開始剤ＯＸＥ－０３（ＢＡＳＦジャパン製） ０．９質量部
・重合開始剤アデカクルーズＮＣＩ－８３１（アデカ製） ０．９質量部
・ＢＹＫ３６１Ｎ（ビックケミージャパン社製） ０．２質量部
・Ｎ－メチル－２－ピロリドン ２５．０質量部
・シクロペンタノン ４２．０質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――
【0295】
【化63】
【0296】
＜セルロースアシレートフィルム１の作製＞
（コア層セルロースアシレートドープの作製）
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、撹拌して、各成分を溶解し、コア層セルロースアシレートドープとして用いるセルロースアセテート溶液を調製した。
─────────────────────────────────
コア層セルロースアシレートドープ
─────────────────────────────────
・アセチル置換度２．８８のセルロースアセテート １００質量部
・特開２０１５－２２７９５５号公報の実施例に記載された
ポリエステル化合物Ｂ １２質量部
・下記化合物Ｆ ２質量部
・メチレンクロライド（第１溶媒） ４３０質量部
・メタノール（第２溶剤） ６４質量部
─────────────────────────────────
（コア層セルロースアシレートドープの作製）
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、撹拌して、各成分を溶解し、コア層セルロースアシレートドープとして用いるセルロースアセテート溶液を調製した。
─────────────────────────────────
コア層セルロースアシレートドープ
─────────────────────────────────
・アセチル置換度２．８８のセルロースアセテート １００質量部
・特開２０１５－２２７９５５号公報の実施例に記載された
ポリエステル化合物Ｂ １２質量部
・下記化合物Ｆ ２質量部
・メチレンクロライド（第１溶媒） ４３０質量部
・メタノール（第２溶剤） ６４質量部
─────────────────────────────────
【0297】
化合物Ｆ
【化64】
【0298】
（外層セルロースアシレートドープの作製）
上記のコア層セルロースアシレートドープ９０質量部に下記のマット剤溶液を１０質量部加え、外層セルロースアシレートドープとして用いるセルロースアセテート溶液を調製した。
─────────────────────────────────
マット剤溶液
─────────────────────────────────
・平均粒子サイズ２０ｎｍのシリカ粒子
（ＡＥＲＯＳＩＬ Ｒ９７２、日本アエロジル（株）製） ２質量部
・メチレンクロライド（第１溶媒） ７６質量部
・メタノール（第２溶剤） １１質量部
・上記のコア層セルロースアシレートドープ １質量部
─────────────────────────────────
上記のコア層セルロースアシレートドープ９０質量部に下記のマット剤溶液を１０質量部加え、外層セルロースアシレートドープとして用いるセルロースアセテート溶液を調製した。
─────────────────────────────────
マット剤溶液
─────────────────────────────────
・平均粒子サイズ２０ｎｍのシリカ粒子
（ＡＥＲＯＳＩＬ Ｒ９７２、日本アエロジル（株）製） ２質量部
・メチレンクロライド（第１溶媒） ７６質量部
・メタノール（第２溶剤） １１質量部
・上記のコア層セルロースアシレートドープ １質量部
─────────────────────────────────
【0299】
（セルロースアシレートフィルム１の作製）
上記コア層セルロースアシレートドープと上記外層セルロースアシレートドープを平均孔径３４μｍのろ紙および平均孔径１０μｍの焼結金属フィルターでろ過した後、上記コア層セルロースアシレートドープとその両側に外層セルロースアシレートドープとを３層同時に流延口から２０℃のドラム上に流延した（バンド流延機）。
次いで、溶剤含有率略２０質量％の状態で剥ぎ取り、フィルムの幅方向の両端をテンタークリップで固定し、横方向に延伸倍率１．１倍で延伸しつつ乾燥した。
その後、熱処理装置のロール間を搬送することにより、更に乾燥し、厚み４０μｍの光学フィルムを作製し、これをセルロースアシレートフィルム１とした。得られたセルロースアシレートフィルム１の面内レターデーションは０ｎｍであった。
上記コア層セルロースアシレートドープと上記外層セルロースアシレートドープを平均孔径３４μｍのろ紙および平均孔径１０μｍの焼結金属フィルターでろ過した後、上記コア層セルロースアシレートドープとその両側に外層セルロースアシレートドープとを３層同時に流延口から２０℃のドラム上に流延した（バンド流延機）。
次いで、溶剤含有率略２０質量％の状態で剥ぎ取り、フィルムの幅方向の両端をテンタークリップで固定し、横方向に延伸倍率１．１倍で延伸しつつ乾燥した。
その後、熱処理装置のロール間を搬送することにより、更に乾燥し、厚み４０μｍの光学フィルムを作製し、これをセルロースアシレートフィルム１とした。得られたセルロースアシレートフィルム１の面内レターデーションは０ｎｍであった。
【0300】
＜λ／４位相差フィルム１の作製＞
作製したセルロースアシレートフィルム１の片側の面に、先に調製した各光配向層用組成物Ｅ６をバーコーターで塗布した。
塗布後、１２０℃のホットプレート上で１分間乾燥して溶剤を除去し、厚さ０．３μｍの光異性化組成物層を形成した。
得られた光異性化組成物層を偏光紫外線照射（１０ｍＪ／ｃｍ２、超高圧水銀ランプ使用）することで、光配向層を形成した。
次いで、光配向層上に、先に調製した光学異方性層用塗布液をバーコーターで塗布し、組成物層を形成した。
形成した組成物層をホットプレート上でいったん１１０℃まで加熱した後、６０℃に冷却させて配向を安定化させた。
その後、６０℃に保ち、窒素雰囲気下（酸素濃度１００ｐｐｍ）で紫外線照射（５００ｍＪ／ｃｍ２、超高圧水銀ランプ使用）によって配向を固定化し、厚さ２．３μｍの光学異方性層を形成し、λ／４位相差フィルム１を作製した。得られた光学積層体の面内レターデーションは１４０ｎｍであった。
作製したセルロースアシレートフィルム１の片側の面に、先に調製した各光配向層用組成物Ｅ６をバーコーターで塗布した。
塗布後、１２０℃のホットプレート上で１分間乾燥して溶剤を除去し、厚さ０．３μｍの光異性化組成物層を形成した。
得られた光異性化組成物層を偏光紫外線照射（１０ｍＪ／ｃｍ２、超高圧水銀ランプ使用）することで、光配向層を形成した。
次いで、光配向層上に、先に調製した光学異方性層用塗布液をバーコーターで塗布し、組成物層を形成した。
形成した組成物層をホットプレート上でいったん１１０℃まで加熱した後、６０℃に冷却させて配向を安定化させた。
その後、６０℃に保ち、窒素雰囲気下（酸素濃度１００ｐｐｍ）で紫外線照射（５００ｍＪ／ｃｍ２、超高圧水銀ランプ使用）によって配向を固定化し、厚さ２．３μｍの光学異方性層を形成し、λ／４位相差フィルム１を作製した。得られた光学積層体の面内レターデーションは１４０ｎｍであった。
【0301】
〔λ／４位相差フィルム２の作製〕
作製したセルロースアシレートフィルム１の片側の面に、先に調製した光配向層用組成物Ｅ４をバーコーターで塗布した。
塗布後、８０℃のホットプレート上で１分間乾燥して溶剤を除去し、厚さ０．３μｍの光異性化組成物層を形成した。
得られた光異性化組成物層を偏光紫外線照射（９０ｍＪ／ｃｍ２、超高圧水銀ランプ使用）することで、光配向層を形成した。
次いで、光配向層上に、先に調製した光学異方性層用塗布液２をバーコーターで塗布し、組成物層を形成した。
形成した組成物層をホットプレート上でいったん１２０℃まで加熱した後、６０℃に冷却させて配向を安定化させた。
その後、６０℃に保ち、窒素雰囲気下（酸素濃度１００ｐｐｍ）で紫外線照射（８００ｍＪ／ｃｍ２、超高圧水銀ランプ使用）によって配向を固定化し、厚さ２．３μｍの光学異方性層を形成し、λ／４位相差フィルム２を作製した。得られたλ／４位相差フィルム２の面内レターデーションは１４３ｎｍであった。
作製したセルロースアシレートフィルム１の片側の面に、先に調製した光配向層用組成物Ｅ４をバーコーターで塗布した。
塗布後、８０℃のホットプレート上で１分間乾燥して溶剤を除去し、厚さ０．３μｍの光異性化組成物層を形成した。
得られた光異性化組成物層を偏光紫外線照射（９０ｍＪ／ｃｍ２、超高圧水銀ランプ使用）することで、光配向層を形成した。
次いで、光配向層上に、先に調製した光学異方性層用塗布液２をバーコーターで塗布し、組成物層を形成した。
形成した組成物層をホットプレート上でいったん１２０℃まで加熱した後、６０℃に冷却させて配向を安定化させた。
その後、６０℃に保ち、窒素雰囲気下（酸素濃度１００ｐｐｍ）で紫外線照射（８００ｍＪ／ｃｍ２、超高圧水銀ランプ使用）によって配向を固定化し、厚さ２．３μｍの光学異方性層を形成し、λ／４位相差フィルム２を作製した。得られたλ／４位相差フィルム２の面内レターデーションは１４３ｎｍであった。
【0302】
〔ポジティブＣプレート膜２の作製〕
仮支持体として、市販されているトリアセチルセルロースフィルム「Ｚ－ＴＡＣ」（富士フイルム社製）を用いた（これをセルロースアシレートフィルム２とする）。セルロースアシレートフィルム２を温度６０℃の誘電式加熱ロールを通過させ、フィルム表面温度を４０℃に昇温した後に、フィルムの片面に下記に示す組成のアルカリ溶液を、バーコーターを用いて塗布量１４ｍｌ／ｍ２で塗布し、１１０℃に加熱し、（株）ノリタケカンパニーリミテド製のスチーム式遠赤外ヒーターの下に、１０秒間搬送した。
次いで、同じくバーコーターを用いて、純水を３ｍｌ／ｍ２塗布した。
次いで、ファウンテンコーターによる水洗とエアナイフによる水切りを３回繰り返した後に、７０℃の乾燥ゾーンに１０秒間搬送して乾燥し、アルカリ鹸化処理したセルロースアシレートフィルム２を作製した。
─────────────────────────────────
アルカリ溶液の組成（質量部）
─────────────────────────────────
水酸化カリウム ４．７質量部
水 １５．８質量部
イソプロパノール ６３．７質量部
含フッ素界面活性剤ＳＦ－１
（Ｃ１４Ｈ２９Ｏ（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）２０Ｈ） １．０質量部
プロピレングリコール １４．８質量部
─────────────────────────────────
仮支持体として、市販されているトリアセチルセルロースフィルム「Ｚ－ＴＡＣ」（富士フイルム社製）を用いた（これをセルロースアシレートフィルム２とする）。セルロースアシレートフィルム２を温度６０℃の誘電式加熱ロールを通過させ、フィルム表面温度を４０℃に昇温した後に、フィルムの片面に下記に示す組成のアルカリ溶液を、バーコーターを用いて塗布量１４ｍｌ／ｍ２で塗布し、１１０℃に加熱し、（株）ノリタケカンパニーリミテド製のスチーム式遠赤外ヒーターの下に、１０秒間搬送した。
次いで、同じくバーコーターを用いて、純水を３ｍｌ／ｍ２塗布した。
次いで、ファウンテンコーターによる水洗とエアナイフによる水切りを３回繰り返した後に、７０℃の乾燥ゾーンに１０秒間搬送して乾燥し、アルカリ鹸化処理したセルロースアシレートフィルム２を作製した。
─────────────────────────────────
アルカリ溶液の組成（質量部）
─────────────────────────────────
水酸化カリウム ４．７質量部
水 １５．８質量部
イソプロパノール ６３．７質量部
含フッ素界面活性剤ＳＦ－１
（Ｃ１４Ｈ２９Ｏ（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）２０Ｈ） １．０質量部
プロピレングリコール １４．８質量部
─────────────────────────────────
【0303】
上記アルカリ鹸化処理されたセルロースアシレートフィルム２を用い、下記の組成の配向層形成用塗布液を＃８のワイヤーバーで連続的に塗布した。６０℃の温風で６０秒、さらに１００℃の温風で１２０秒乾燥し、配向層を形成した。
─────────────────────────────────
配向層形成用塗布液の組成
─────────────────────────────────
ポリビニルアルコール（クラレ製、ＰＶＡ１０３） ２．４質量部
イソプロピルアルコール １．６質量部
メタノール ３６質量部
水 ６０質量部
─────────────────────────────────
─────────────────────────────────
配向層形成用塗布液の組成
─────────────────────────────────
ポリビニルアルコール（クラレ製、ＰＶＡ１０３） ２．４質量部
イソプロピルアルコール １．６質量部
メタノール ３６質量部
水 ６０質量部
─────────────────────────────────
【0304】
上記で作成した配向層を有するセルロースアシレートフィルム２上に、下記塗布液Ｎを塗布し、６０℃６０秒間熟成させた後に、空気下にて７０ｍＷ／ｃｍ２の空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて１０００ｍJ／ｃｍ２の紫外線を照射して、その配向状態を固定化することにより、重合性棒状液晶性化合物を垂直配向させ、ポジティブＣプレート膜１を作製した。波長５５０ｎｍにおいてＲｔｈが－６０ｎｍであった。
【0305】
─────────────────────────────────
光学異方性膜用塗布液Ｎの組成
─────────────────────────────────
下記液晶性化合物Ｌ－１ ８０質量部
下記液晶性化合物Ｌ－２ ２０質量部
下記垂直配液晶性化合物向剤（Ｓ０１） １質量部
エチレンオキサイド変成トリメチロールプロパントリアクリレート
（Ｖ＃３６０、大阪有機化学（株）製） ８質量部
イルガキュアー９０７（ＢＡＳＦ製） ３質量部
カヤキュアーＤＥＴＸ（日本化薬（株）製） １質量部
下記化合物Ｂ０３ ０．４質量部
メチルエチルケトン １７０質量部
シクロヘキサノン ３０質量部
─────────────────────────────────
光学異方性膜用塗布液Ｎの組成
─────────────────────────────────
下記液晶性化合物Ｌ－１ ８０質量部
下記液晶性化合物Ｌ－２ ２０質量部
下記垂直配液晶性化合物向剤（Ｓ０１） １質量部
エチレンオキサイド変成トリメチロールプロパントリアクリレート
（Ｖ＃３６０、大阪有機化学（株）製） ８質量部
イルガキュアー９０７（ＢＡＳＦ製） ３質量部
カヤキュアーＤＥＴＸ（日本化薬（株）製） １質量部
下記化合物Ｂ０３ ０．４質量部
メチルエチルケトン １７０質量部
シクロヘキサノン ３０質量部
─────────────────────────────────
【0306】
【化65】
【化66】
【化67】
【0307】
＜円偏光板の作製＞
λ／４位相差フィルム１の光学異方性層側に、粘着剤を介して上記で作製したポジティブＣプレート膜２の光学異方性層側を貼り合わせ、セルロースアシレートフィルム２および配向層を除去した。
さらに、λ／４位相差フィルム側に粘着剤を介して作製例２６～３２で作製した光学積層体２６～３２を貼り合わせて円偏光板を得た。通常の円偏光板（約１１０μｍ）に比べて非常に薄い円偏光板（約５０μｍ）が得られた。
λ／４位相差フィルム１の光学異方性層側に、粘着剤を介して上記で作製したポジティブＣプレート膜２の光学異方性層側を貼り合わせ、セルロースアシレートフィルム２および配向層を除去した。
さらに、λ／４位相差フィルム側に粘着剤を介して作製例２６～３２で作製した光学積層体２６～３２を貼り合わせて円偏光板を得た。通常の円偏光板（約１１０μｍ）に比べて非常に薄い円偏光板（約５０μｍ）が得られた。
【0308】
有機ＥＬパネル（有機ＥＬ表示素子）搭載のＳＡＭＳＵＮＧ社製ＧＡＬＡＸＹ Ｓ５を分解し、有機ＥＬ表示装置から、円偏光板付きタッチパネルを剥離し、さらにタッチパネルから円偏光板を剥がし、有機ＥＬ表示素子、タッチパネルおよび円偏光板をそれぞれ単離した。次いで、単離したタッチパネルを有機ＥＬ表示素子と再度貼合し、さらに上記作製した円偏光板をポジティブＣプレート側がパネル側になるようにタッチパネル上に貼合し、有機ＥＬ表示装置を作製した。
【0309】
作製した有機ＥＬ表示装置について、λ／４板として、ピュアエースＷＲ（帝人株式会社製）を用いた場合と同様の評価を行ったところ、λ／４板として、λ/４位相差フィルム１とポジティブＣプレート膜２の光学積層体を用いた場合でも同様の効果が発揮されることを確認した。
【0310】
［作製例４０～４８］
〔光配向層形成用組成物Ｅ７～Ｅ１２の調製〕
〔光配向層形成用組成物Ｅ７～Ｅ１２の調製〕
【0311】
＜光配向層形成用組成物Ｅ７の調整＞
以下の成分を混合して、配向層形成用組成物Ｅ７を調製した。
─────────────────────────────────
下記重合体Ｅ－７ １００．００質量部
下記酸発生剤サンエイドＳＩ－Ｂ２Ａ ５．００質量部
下記酸発生剤ＣＰＩ－１１０ＴＦ ０．００５質量部
キシレン ７００．００質量部
メチルイソブチルケトン ７０．００質量部
─────────────────────────────────
以下の成分を混合して、配向層形成用組成物Ｅ７を調製した。
─────────────────────────────────
下記重合体Ｅ－７ １００．００質量部
下記酸発生剤サンエイドＳＩ－Ｂ２Ａ ５．００質量部
下記酸発生剤ＣＰＩ－１１０ＴＦ ０．００５質量部
キシレン ７００．００質量部
メチルイソブチルケトン ７０．００質量部
─────────────────────────────────
【0312】
重合体Ｅ－７
【化68】
【0313】
上記式中、重合体Ｅ－７～Ｅ－１２におけるａ、ｂ１およびｂ２の質量比率を以下に示す。
Ｅ－７：ａ／ｂ１／ｂ２ ＝ ８／７７／１５
Ｅ－８：ａ／ｂ１／ｂ２ ＝ １２／８８／０
Ｅ－９：ａ／ｂ１／ｂ２ ＝ ８／８４／８
Ｅ－１０：ａ／ｂ１／ｂ２ ＝ ８／７０／２２
Ｅ－１１：ａ／ｂ１／ｂ２ ＝ ８／６２／３０
Ｅ－１２：ａ／ｂ１／ｂ２ ＝ ８／４２／５０
Ｅ－７：ａ／ｂ１／ｂ２ ＝ ８／７７／１５
Ｅ－８：ａ／ｂ１／ｂ２ ＝ １２／８８／０
Ｅ－９：ａ／ｂ１／ｂ２ ＝ ８／８４／８
Ｅ－１０：ａ／ｂ１／ｂ２ ＝ ８／７０／２２
Ｅ－１１：ａ／ｂ１／ｂ２ ＝ ８／６２／３０
Ｅ－１２：ａ／ｂ１／ｂ２ ＝ ８／４２／５０
【0314】
酸発生剤サンエイドＳＩ－Ｂ２Ａ
【化69】
【0315】
酸発生剤ＣＰＩ－１１０Ｆ
【化70】
【0316】
＜光配向層形成用組成物Ｅ８～Ｅ１２の調整＞
重合体Ｅ－７を重合体Ｅ－８～Ｅ－１２に変えた以外は、光配向層形成用組成物Ｅ７と同様の方法で、光配向層形成用組成物Ｅ８～Ｅ１２を調製した。
重合体Ｅ－７を重合体Ｅ－８～Ｅ－１２に変えた以外は、光配向層形成用組成物Ｅ７と同様の方法で、光配向層形成用組成物Ｅ８～Ｅ１２を調製した。
【0317】
〔液晶組成物Ｐ１７～Ｐ２０の調製〕
＜液晶組成物Ｐ１７の調製＞
下記の組成にて、液晶組成物Ｐ１７を調製し、撹拌しながら５０℃で３時間加熱溶解し、０．４５μｍフィルターでろ過した。
――――――――――――――――――――――――――――――――
液晶組成物Ｐ１７の組成
――――――――――――――――――――――――――――――――
・上記二色性物質Ｄ３ ０．３６質量部
・上記二色性物質Ｄ４ ０．５３質量部
・下記二色性物質Ｄ８ ０．３１質量部
・下記高分子液晶性化合物Ｍ５ ３．５９質量部
・重合開始剤
ＩＲＧＡＣＵＲＥＯＸＥ－０２（ＢＡＳＦ社製） ０．０５０質量部
・下記界面改良剤Ｆ－２ ０．０２５質量部
・シクロペンタノン ４７．５０質量部
・テトラヒドロフラン ４７．５０質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――
＜液晶組成物Ｐ１７の調製＞
下記の組成にて、液晶組成物Ｐ１７を調製し、撹拌しながら５０℃で３時間加熱溶解し、０．４５μｍフィルターでろ過した。
――――――――――――――――――――――――――――――――
液晶組成物Ｐ１７の組成
――――――――――――――――――――――――――――――――
・上記二色性物質Ｄ３ ０．３６質量部
・上記二色性物質Ｄ４ ０．５３質量部
・下記二色性物質Ｄ８ ０．３１質量部
・下記高分子液晶性化合物Ｍ５ ３．５９質量部
・重合開始剤
ＩＲＧＡＣＵＲＥＯＸＥ－０２（ＢＡＳＦ社製） ０．０５０質量部
・下記界面改良剤Ｆ－２ ０．０２５質量部
・シクロペンタノン ４７．５０質量部
・テトラヒドロフラン ４７．５０質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――
【0318】
Ｄ－８
【化71】
【0319】
Ｍ－５（重量平均分子量：１８０００）
【化72】
【0320】
Ｆ－２
【化73】
【0321】
＜液晶組成物Ｐ１８の調製＞
下記の組成にて、液晶組成物Ｐ１８を調製し、撹拌しながら５０℃で３時間加熱溶解し、０．４５μｍフィルターでろ過した。
――――――――――――――――――――――――――――――――
液晶組成物Ｐ１８の組成
――――――――――――――――――――――――――――――――
・上記二色性物質Ｄ３ ０．３６質量部
・上記二色性物質Ｄ４ ０．５３質量部
・上記二色性物質Ｄ８ ０．３１質量部
・上記高分子液晶性化合物Ｍ５ ３．２３質量部
・下記液晶性化合物Ｍ６ ０．３６質量部
・重合開始剤
ＩＲＧＡＣＵＲＥＯＸＥ－０２（ＢＡＳＦ社製） ０．０５０質量部
・上記界面改良剤Ｆ－２ ０．０２５質量部
・シクロペンタノン ４７．５０質量部
・テトラヒドロフラン ４７．５０質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――
下記の組成にて、液晶組成物Ｐ１８を調製し、撹拌しながら５０℃で３時間加熱溶解し、０．４５μｍフィルターでろ過した。
――――――――――――――――――――――――――――――――
液晶組成物Ｐ１８の組成
――――――――――――――――――――――――――――――――
・上記二色性物質Ｄ３ ０．３６質量部
・上記二色性物質Ｄ４ ０．５３質量部
・上記二色性物質Ｄ８ ０．３１質量部
・上記高分子液晶性化合物Ｍ５ ３．２３質量部
・下記液晶性化合物Ｍ６ ０．３６質量部
・重合開始剤
ＩＲＧＡＣＵＲＥＯＸＥ－０２（ＢＡＳＦ社製） ０．０５０質量部
・上記界面改良剤Ｆ－２ ０．０２５質量部
・シクロペンタノン ４７．５０質量部
・テトラヒドロフラン ４７．５０質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――
【0322】
液晶性化合物Ｍ６
【化74】
【0323】
＜液晶組成物Ｐ１９の調製＞
下記の組成にて、液晶組成物Ｐ１９を調製し、撹拌しながら５０℃で３時間加熱溶解し、０．４５μｍフィルターでろ過した。
――――――――――――――――――――――――――――――――
液晶組成物Ｐ１９の組成
――――――――――――――――――――――――――――――――
・上記二色性物質Ｄ３ ０．３６質量部
・上記二色性物質Ｄ４ ０．５３質量部
・上記二色性物質Ｄ８ ０．３１質量部
・上記高分子液晶性化合物Ｍ２ ３．５９質量部
・重合開始剤
ＩＲＧＡＣＵＲＥＯＸＥ－０２（ＢＡＳＦ社製） ０．０５０質量部
・上記界面改良剤Ｆ－２ ０．０２５質量部
・シクロペンタノン ４７．５０質量部
・テトラヒドロフラン ４７．５０質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――
下記の組成にて、液晶組成物Ｐ１９を調製し、撹拌しながら５０℃で３時間加熱溶解し、０．４５μｍフィルターでろ過した。
――――――――――――――――――――――――――――――――
液晶組成物Ｐ１９の組成
――――――――――――――――――――――――――――――――
・上記二色性物質Ｄ３ ０．３６質量部
・上記二色性物質Ｄ４ ０．５３質量部
・上記二色性物質Ｄ８ ０．３１質量部
・上記高分子液晶性化合物Ｍ２ ３．５９質量部
・重合開始剤
ＩＲＧＡＣＵＲＥＯＸＥ－０２（ＢＡＳＦ社製） ０．０５０質量部
・上記界面改良剤Ｆ－２ ０．０２５質量部
・シクロペンタノン ４７．５０質量部
・テトラヒドロフラン ４７．５０質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――
【0324】
＜液晶組成物Ｐ２０の調製＞
下記の組成にて、液晶組成物Ｐ１７を調製し、撹拌しながら５０℃で３時間加熱溶解し、０．４５μｍフィルターでろ過した。
―――――――――――――――――――――――――――――――――
液晶組成物Ｐ２０の組成
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・上記二色性物質Ｄ３ ０．３６質量部
・上記二色性物質Ｄ４ ０．５３質量部
・下記二色性物質Ｄ８ ０．３１質量部
・上記高分子液晶性化合物Ｍ５ ３．５８質量部
・Poly(ethylene oxide)
（平均分子量 ～８００万：シグマ・アルドリッチ社製）０．０１質量部
・重合開始剤
ＩＲＧＡＣＵＲＥＯＸＥ－０２（ＢＡＳＦ社製） ０．０５０質量部
・下記界面改良剤Ｆ－２ ０．０２５質量部
・シクロペンタノン ４５．００質量部
・テトラヒドロフラン ４５．００質量部
・ベンジルアルコール ５．００質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――
下記の組成にて、液晶組成物Ｐ１７を調製し、撹拌しながら５０℃で３時間加熱溶解し、０．４５μｍフィルターでろ過した。
―――――――――――――――――――――――――――――――――
液晶組成物Ｐ２０の組成
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・上記二色性物質Ｄ３ ０．３６質量部
・上記二色性物質Ｄ４ ０．５３質量部
・下記二色性物質Ｄ８ ０．３１質量部
・上記高分子液晶性化合物Ｍ５ ３．５８質量部
・Poly(ethylene oxide)
（平均分子量 ～８００万：シグマ・アルドリッチ社製）０．０１質量部
・重合開始剤
ＩＲＧＡＣＵＲＥＯＸＥ－０２（ＢＡＳＦ社製） ０．０５０質量部
・下記界面改良剤Ｆ－２ ０．０２５質量部
・シクロペンタノン ４５．００質量部
・テトラヒドロフラン ４５．００質量部
・ベンジルアルコール ５．００質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――
【0325】
〔硬化層形成用塗布液Ｋ１～Ｋ２の調製〕
＜硬化層形成用塗布液Ｋ１の調製＞
下記の組成にて、硬化層形成用塗布液Ｋ１を調製し、撹拌溶解した。
――――――――――――――――――――――――――――――――
・下記棒状液晶性化合物の混合物Ｌ－６ ２．６１質量部
・下記変性トリメチロールプロパントリアクリレート ０．１０質量部
・下記光重合開始剤Ｉ－１ ０．０５質量部
・上記界面改良剤Ｆ－１ ０．０３質量部
・ポリエチレングリコールジアクリレート
（新中村化学工業 Ａ－４００） ０．２１質量部
・メチルイソブチルケトン ２９７質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――
＜硬化層形成用塗布液Ｋ１の調製＞
下記の組成にて、硬化層形成用塗布液Ｋ１を調製し、撹拌溶解した。
――――――――――――――――――――――――――――――――
・下記棒状液晶性化合物の混合物Ｌ－６ ２．６１質量部
・下記変性トリメチロールプロパントリアクリレート ０．１０質量部
・下記光重合開始剤Ｉ－１ ０．０５質量部
・上記界面改良剤Ｆ－１ ０．０３質量部
・ポリエチレングリコールジアクリレート
（新中村化学工業 Ａ－４００） ０．２１質量部
・メチルイソブチルケトン ２９７質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――
【0326】
＜硬化層形成用塗布液Ｋ２の調製＞
下記の組成にて、硬化層形成用塗布液Ｋ２を調製し、撹拌溶解した。
――――――――――――――――――――――――――――――――
・下記棒状液晶性化合物の混合物Ｌ－６ ２．６３質量部
・下記変性トリメチロールプロパントリアクリレート ０．１１質量部
・下記光重合開始剤Ｉ－１ ０．０５質量部
・下記界面活性剤Ｆ－３ ０．２１質量部
・メチルイソブチルケトン ２９７質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――
下記の組成にて、硬化層形成用塗布液Ｋ２を調製し、撹拌溶解した。
――――――――――――――――――――――――――――――――
・下記棒状液晶性化合物の混合物Ｌ－６ ２．６３質量部
・下記変性トリメチロールプロパントリアクリレート ０．１１質量部
・下記光重合開始剤Ｉ－１ ０．０５質量部
・下記界面活性剤Ｆ－３ ０．２１質量部
・メチルイソブチルケトン ２９７質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――
【0327】
棒状液晶性正化合物の混合物Ｌ－６（下記式中の数値は質量％を表し、Ｒは酸素原子で結合する基を表す。）
【化75】
【0328】
変性トリメチロールプロパントリアクリレート
【化76】
【0329】
光重合開始剤Ｉ－１
【化77】
【0330】
界面活性剤Ｆ－３
【化78】
【0331】
〔作製例４０の光学積層体４０の作製〕
＜光配向層４０の形成＞
上述した光配向層形成用組成物Ｅ７を、ワイヤーバーで連続的にＴＡＣフィルムＴＪ４０ＵＬ（厚み４０μｍ、富士フイルム社製）上に塗布した。塗膜が形成された支持体を１４０℃の温風で１２０秒間乾燥し、続いて、塗膜に対して偏光紫外線照射（１０ｍＪ／ｃｍ２、超高圧水銀ランプ使用）することで、光配向層４０を形成し、光配向層付きＴＡＣフィルムを得た。光配向層の膜厚は１．０μｍであった。
＜光配向層４０の形成＞
上述した光配向層形成用組成物Ｅ７を、ワイヤーバーで連続的にＴＡＣフィルムＴＪ４０ＵＬ（厚み４０μｍ、富士フイルム社製）上に塗布した。塗膜が形成された支持体を１４０℃の温風で１２０秒間乾燥し、続いて、塗膜に対して偏光紫外線照射（１０ｍＪ／ｃｍ２、超高圧水銀ランプ使用）することで、光配向層４０を形成し、光配向層付きＴＡＣフィルムを得た。光配向層の膜厚は１．０μｍであった。
【0332】
＜光吸収異方性層Ｐ１７の形成＞
得られた光配向層４０上に、上述した液晶組成物Ｐ１７をワイヤーバーで連続的に塗布し、塗布層Ｐ１７を形成した。
次いで、塗布層Ｐ１７を１４０℃で３０秒間加熱し、塗布層Ｐ１を室温（２３℃）になるまで冷却した。
次いで、９０℃で６０秒間加熱し、再び室温になるまで冷却した。
その後、ＬＥＤ灯（中心波長３６５ｎｍ）を用いて照度２００ｍＷ／ｃｍ２の照射条件で２秒間照射することにより、配向層４０上に光吸収異方性層Ｐ１７を作製した。形成した光吸収異方性層の膜厚は０．４μｍであった。
得られた光配向層４０上に、上述した液晶組成物Ｐ１７をワイヤーバーで連続的に塗布し、塗布層Ｐ１７を形成した。
次いで、塗布層Ｐ１７を１４０℃で３０秒間加熱し、塗布層Ｐ１を室温（２３℃）になるまで冷却した。
次いで、９０℃で６０秒間加熱し、再び室温になるまで冷却した。
その後、ＬＥＤ灯（中心波長３６５ｎｍ）を用いて照度２００ｍＷ／ｃｍ２の照射条件で２秒間照射することにより、配向層４０上に光吸収異方性層Ｐ１７を作製した。形成した光吸収異方性層の膜厚は０．４μｍであった。
【0333】
＜硬化層Ｋ１の形成＞
得られた光吸収異方性層Ｐ１７上に、上述した硬化層形成用組成物Ｋ１をワイヤーバーで連続的に塗布し、硬化層Ｋ１を形成した。
次いで、硬化層Ｋ１を室温乾燥させ、次いで、室温環境下で高圧水銀灯を用いて照度２０ｍＷ／ｃｍ２の照射条件で１５秒間照射することにより、光吸収異方性層Ｐ１上に硬化層Ｋ１を作製した。硬化層Ｋ１の膜厚は、５０ｎｍであった。
得られた光吸収異方性層Ｐ１７上に、上述した硬化層形成用組成物Ｋ１をワイヤーバーで連続的に塗布し、硬化層Ｋ１を形成した。
次いで、硬化層Ｋ１を室温乾燥させ、次いで、室温環境下で高圧水銀灯を用いて照度２０ｍＷ／ｃｍ２の照射条件で１５秒間照射することにより、光吸収異方性層Ｐ１上に硬化層Ｋ１を作製した。硬化層Ｋ１の膜厚は、５０ｎｍであった。
【0334】
＜酸素遮断層Ｂ１の形成＞
硬化層Ｋ１上に、下記の組成の塗布液をワイヤーバーで連続的に塗布した。
その後、９０℃の温風で２分間乾燥することにより、硬化層Ｋ１上に、厚み１．０μｍのポリビニルアルコール（ＰＶＡ）配向層が形成された積層フィルムＢ１を形成し、光学積層体４０を作製した。なお、作製した光学積層体４０の正面透過率は、６０％以下であった。
――――――――――――――――――――――――――――――――
酸素遮断層形成用組成物Ｂ１の組成
――――――――――――――――――――――――――――――――
・下記の変性ポリビニルアルコール ３．８０質量部
・開始剤Ｉｒｇ２９５９ ０．２０質量部
・水 ７０質量部
・メタノール ３０質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――
硬化層Ｋ１上に、下記の組成の塗布液をワイヤーバーで連続的に塗布した。
その後、９０℃の温風で２分間乾燥することにより、硬化層Ｋ１上に、厚み１．０μｍのポリビニルアルコール（ＰＶＡ）配向層が形成された積層フィルムＢ１を形成し、光学積層体４０を作製した。なお、作製した光学積層体４０の正面透過率は、６０％以下であった。
――――――――――――――――――――――――――――――――
酸素遮断層形成用組成物Ｂ１の組成
――――――――――――――――――――――――――――――――
・下記の変性ポリビニルアルコール ３．８０質量部
・開始剤Ｉｒｇ２９５９ ０．２０質量部
・水 ７０質量部
・メタノール ３０質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――
【0335】
変性ポリビニルアルコール
【化79】
【0336】
〔作製例４１～４８の光学積層体４１～４８の作製〕
光配向層、光吸収異方性層および硬化層の形成に用いる組成物を下記表４に示す組成物に変更した以外は、光学積層体４０と同様の方法で、光学積層体４１～４８を作製した。
なお、作製した光学積層体４１～４８の正面透過率は、いずれも６０％以下であった。
光配向層、光吸収異方性層および硬化層の形成に用いる組成物を下記表４に示す組成物に変更した以外は、光学積層体４０と同様の方法で、光学積層体４１～４８を作製した。
なお、作製した光学積層体４１～４８の正面透過率は、いずれも６０％以下であった。
【0337】
＜配向欠陥の強制評価＞
作製した光学積層体４０～４８について、作製例１３および２０～２２で作製した光学積層体と同様、配向欠陥の強制評価を行った。結果を下記表４に示す。
作製した光学積層体４０～４８について、作製例１３および２０～２２で作製した光学積層体と同様、配向欠陥の強制評価を行った。結果を下記表４に示す。
【0338】
＜密着性の評価＞
作製した光学積層体４０～４８を２５ｍｍ×１５０ｍｍの大きさに裁断し、積層体の酸素遮断層Ｂ１表面に、粘着剤ＳＫ２０５７（総研化学社製）とＴＪ４０ＵＬの積層体からなる粘着テープを１ｋｇのローラーを用いて貼りつけた後、光学積層体の支持体を剥離した。剥離面に同様の粘着テープを貼合したあと引き剥がす試験を行い、引き剥がし時に必要な荷重の最大値を測定し、ｎ１０平均値をとって以下の基準に沿って評価した。結果を下記表４に示す。
ＡＡＡ：４．０Ｎ／１０ｍｍ以上
ＡＡ：３．０Ｎ／１０ｍｍ以上４．０Ｎ／１０ｍｍ未満
Ａ：２．０Ｎ／１０ｍｍ以上３．０Ｎ／１０ｍｍ未満
Ｂ：１．０Ｎ／１０ｍｍ以上２．０Ｎ／１０ｍｍ未満
Ｃ：１．０Ｎ／１０ｍｍ未満
作製した光学積層体４０～４８を２５ｍｍ×１５０ｍｍの大きさに裁断し、積層体の酸素遮断層Ｂ１表面に、粘着剤ＳＫ２０５７（総研化学社製）とＴＪ４０ＵＬの積層体からなる粘着テープを１ｋｇのローラーを用いて貼りつけた後、光学積層体の支持体を剥離した。剥離面に同様の粘着テープを貼合したあと引き剥がす試験を行い、引き剥がし時に必要な荷重の最大値を測定し、ｎ１０平均値をとって以下の基準に沿って評価した。結果を下記表４に示す。
ＡＡＡ：４．０Ｎ／１０ｍｍ以上
ＡＡ：３．０Ｎ／１０ｍｍ以上４．０Ｎ／１０ｍｍ未満
Ａ：２．０Ｎ／１０ｍｍ以上３．０Ｎ／１０ｍｍ未満
Ｂ：１．０Ｎ／１０ｍｍ以上２．０Ｎ／１０ｍｍ未満
Ｃ：１．０Ｎ／１０ｍｍ未満
【0339】
【表4】
【0340】
上記表４に示す結果から、ラジカル重合性基を有する高分子液晶性化合物を含有する液晶組成物から形成された光吸収異方性層と、シンナモイル基およびラジカル重合性基を有する光配向性共重合体を含有する光配向層形成用組成物から形成された光配向層とを有する光学積層体は、配向欠陥が少ないことに加えて、光吸収異方性層と光配向層との密着性にも優れることが確認できた。
【0341】
［作製例４９～５７］
特開２００８－２６２１８７号公報の実施例１の試料Ｎｏ１を参考に低反射表面保護フィルムを作製した。
作製例４０～４８で作製した光学積層体の酸素遮断層Ｂ１上に、粘着剤Ｎ１として厚み２０μｍのＳＫ２０５７（総研化学社製）を用いて、上記表面保護フィルムの支持体側を貼り合わせ,ＴＪ４０フィルムのみを除去し、光吸収異方性層付き表面保護フィルム４０～４８を作製した。
特開２００８－２６２１８７号公報の実施例１の試料Ｎｏ１を参考に低反射表面保護フィルムを作製した。
作製例４０～４８で作製した光学積層体の酸素遮断層Ｂ１上に、粘着剤Ｎ１として厚み２０μｍのＳＫ２０５７（総研化学社製）を用いて、上記表面保護フィルムの支持体側を貼り合わせ,ＴＪ４０フィルムのみを除去し、光吸収異方性層付き表面保護フィルム４０～４８を作製した。
【0342】
＜円偏光板の作製＞
上記で作製したλ／４位相差フィルム２の光学異方性層側に、上記粘着剤Ｎ１を介して上記で作成したポジティブＣプレート膜１の光学異方性層側を貼り合わせ、セルロースアシレートフィルム１および光配向層を除去した。
さらに、λ／４位相差フィルム２の光学異方性層側（光配向層を除去して露出した表面側）に上記粘着剤Ｎ１を介して、上記光吸収異方性層付き表面保護フィルム４０～４８の光配向層側を貼り合わせ、セルロースアシレートフィルム２および配向層を除去して円偏光板付き表面保護フィルム４０～４８を得た。
上記で作製したλ／４位相差フィルム２の光学異方性層側に、上記粘着剤Ｎ１を介して上記で作成したポジティブＣプレート膜１の光学異方性層側を貼り合わせ、セルロースアシレートフィルム１および光配向層を除去した。
さらに、λ／４位相差フィルム２の光学異方性層側（光配向層を除去して露出した表面側）に上記粘着剤Ｎ１を介して、上記光吸収異方性層付き表面保護フィルム４０～４８の光配向層側を貼り合わせ、セルロースアシレートフィルム２および配向層を除去して円偏光板付き表面保護フィルム４０～４８を得た。
【0343】
有機ＥＬパネル（有機ＥＬ表示素子）搭載のＳＡＭＳＵＮＧ社製ＧＡＬＡＸＹ Ｓ５を分解し、有機ＥＬ表示装置から、円偏光板付きタッチパネルを剥離し、さらにタッチパネルから円偏光板を剥がし、有機ＥＬ表示素子、タッチパネルおよび円偏光板をそれぞれ単離した。次いで、単離したタッチパネルを有機ＥＬ表示素子と再度貼合し、さらに上記作製した円偏光板付き表面保護フィルムをポジティブＣプレート側がパネル側になるようにタッチパネル上に貼合し、有機ＥＬ表示装置を作製した。
【0344】
作製した有機ＥＬ表示装置について、λ／４板として、ピュアエースＷＲ（帝人株式会社製）を用いた場合と同様の評価を行ったところ、λ／４板として、λ/４位相差フィルム１とポジティブＣプレート膜２の光学積層体を用いた場合でも同様の効果が発揮されることを確認した。
【符号の説明】
【0345】
１００、２００、３００ 光学積層体
１２ 透明ポリマーフィルム
１４ 酸素遮断層
１６ 光配向層
１８ 光吸収異方性層
２０ 硬化層
１２ 透明ポリマーフィルム
１４ 酸素遮断層
１６ 光配向層
１８ 光吸収異方性層
２０ 硬化層
【図1A】
【図1B】
【図1C】
【手続補正書】
【提出日】2022-05-31
【手続補正1】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項1】
光配向層および光吸収異方性層を有する、正面透過率が６０％以下の光学積層体であって、
前記光配向層の厚さが、１０ｎｍ～１０００ｎｍであり、
前記光吸収異方性層が、二色性物質および高分子液晶性化合物を含有する液晶組成物から形成された層である、光学積層体。
前記光配向層の厚さが、１０ｎｍ～１０００ｎｍであり、
前記光吸収異方性層が、二色性物質および高分子液晶性化合物を含有する液晶組成物から形成された層である、光学積層体。
【請求項2】
前記液晶組成物における前記高分子液晶性化合物の固形分割合が５５質量％以上９５質量％以下であり、前記二色性物質の固形分割合が２質量％以上３５質量％以下である、請求項１に記載の光学積層体。
【請求項3】
前記液晶組成物における前記高分子液晶性化合物の固形分割合が７５質量％以上９５質量％以下であり、前記二色性物質の固形分割合が５質量％以上２５質量％以下である、請求項１または２に記載の光学積層体。
【請求項4】
前記液晶組成物が、下記式（１）で表される繰り返し単位を有する高分子液晶性化合物を含有する、請求項１～３のいずれか１項に記載の光学積層体。
ここで、前記式（１）中、
Ｒは、水素原子またはメチル基を表す。
Ｌは、単結合または２価の連結基を表す。
Ｂは、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、アルキル基、アルコキシ基、アミノ基、オキシカルボニル基、アシルオキシ基、アシルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、スルホニルアミノ基、スルファモイル基、カルバモイル基、アルキルチオ基、フルホニル基、スルフィニル基、ウレイド基または架橋性基を表す。
Ｍは、下記式（１－１）で表されるメソゲン基を表す。
ここで、前記式（１－１）中、
Ａｒ１１およびＡｒ１２は、それぞれ独立に、置換基を有していてもよいフェニレン基またはビフェニレン基を表す。
Ｌ１１およびＬ１２は、それぞれ独立に、単結合、または、アゾ基を含まない２価の連結基を表す。
Ｙは、イミノ基、－ＯＣＯ－ＣＨ＝ＣＨ－基、または、－ＣＨ＝ＣＨ－ＣＯ２－基を表す。
ｍ１およびｍ２は、それぞれ独立に、１～３の整数を表す。
ｍ１が２～３の整数の場合、複数のＡｒ１１はそれぞれ同一であっても異なっていてもよく、複数のＬ１１はそれぞれ同一であっても異なっていてもよい。
ｍ２が２～３の整数の場合、複数のＡｒ１２はそれぞれ同一であっても異なっていてもよく、複数のＬ１２はそれぞれ同一であっても異なっていてもよい。
【化1】
Ｒは、水素原子またはメチル基を表す。
Ｌは、単結合または２価の連結基を表す。
Ｂは、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、アルキル基、アルコキシ基、アミノ基、オキシカルボニル基、アシルオキシ基、アシルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、スルホニルアミノ基、スルファモイル基、カルバモイル基、アルキルチオ基、フルホニル基、スルフィニル基、ウレイド基または架橋性基を表す。
Ｍは、下記式（１－１）で表されるメソゲン基を表す。
【化2】
Ａｒ１１およびＡｒ１２は、それぞれ独立に、置換基を有していてもよいフェニレン基またはビフェニレン基を表す。
Ｌ１１およびＬ１２は、それぞれ独立に、単結合、または、アゾ基を含まない２価の連結基を表す。
Ｙは、イミノ基、－ＯＣＯ－ＣＨ＝ＣＨ－基、または、－ＣＨ＝ＣＨ－ＣＯ２－基を表す。
ｍ１およびｍ２は、それぞれ独立に、１～３の整数を表す。
ｍ１が２～３の整数の場合、複数のＡｒ１１はそれぞれ同一であっても異なっていてもよく、複数のＬ１１はそれぞれ同一であっても異なっていてもよい。
ｍ２が２～３の整数の場合、複数のＡｒ１２はそれぞれ同一であっても異なっていてもよく、複数のＬ１２はそれぞれ同一であっても異なっていてもよい。
【請求項5】
前記液晶組成物が、下記式（２）で表される繰り返し単位を有する高分子液晶性化合物を含有し、
下記式（２）において、Ｐ１、Ｌ１およびＳＰ１のｌｏｇＰ値と、Ｍ１のｌｏｇＰ値との差が、４以上である、請求項１～３のいずれか１項に記載の光学積層体。
ここで、前記式（２）中、
Ｐ１は、繰り返し単位の主鎖を表し、Ｌ１は、単結合または２価の連結基を表し、ＳＰ１は、スペーサー基を表し、Ｍ１は、メソゲン基を表し、Ｔ１は、末端基を表す。
ただし、Ｍ１が連結基を有する場合、連結基としてアゾ基を含まない。
下記式（２）において、Ｐ１、Ｌ１およびＳＰ１のｌｏｇＰ値と、Ｍ１のｌｏｇＰ値との差が、４以上である、請求項１～３のいずれか１項に記載の光学積層体。
【化3】
Ｐ１は、繰り返し単位の主鎖を表し、Ｌ１は、単結合または２価の連結基を表し、ＳＰ１は、スペーサー基を表し、Ｍ１は、メソゲン基を表し、Ｔ１は、末端基を表す。
ただし、Ｍ１が連結基を有する場合、連結基としてアゾ基を含まない。
【請求項6】
光配向層および光吸収異方性層を有する、正面透過率が６０％以下の光学積層体であって、
前記光吸収異方性層が、下記式（４）で表される二色性物質、および、下記式（２）で表される繰り返し単位を有する高分子液晶性化合物を含有する液晶組成物から形成された層であり、
前記液晶組成物における前記二色性物質の固形分割合が５質量％以上２５質量％以下である、光学積層体。
ここで、前記式（４）中、
Ａ １ 、Ａ ２ およびＡ ３ は、それぞれ独立に、置換基を有していてもよい２価の芳香族基を表す。
Ｌ １ およびＬ ２ は、それぞれ独立に、置換基を表す。
ｍは、１～４の整数を表し、ｍが２～４の整数の場合、複数のＡ ２ は互いに同一でも異なっていてもよい。なお、ｍは、１または２であることが好ましい。
ここで、前記式（２）中、
Ｐ１は、繰り返し単位の主鎖を表し、Ｌ１は、単結合または２価の連結基を表し、ＳＰ１は、スペーサー基を表し、Ｍ１は、メソゲン基を表し、Ｔ１は、末端基を表す。
ただし、Ｍ１が連結基を有する場合、連結基としてアゾ基を含まない。
前記光吸収異方性層が、下記式（４）で表される二色性物質、および、下記式（２）で表される繰り返し単位を有する高分子液晶性化合物を含有する液晶組成物から形成された層であり、
前記液晶組成物における前記二色性物質の固形分割合が５質量％以上２５質量％以下である、光学積層体。
【化4】
Ａ １ 、Ａ ２ およびＡ ３ は、それぞれ独立に、置換基を有していてもよい２価の芳香族基を表す。
Ｌ １ およびＬ ２ は、それぞれ独立に、置換基を表す。
ｍは、１～４の整数を表し、ｍが２～４の整数の場合、複数のＡ ２ は互いに同一でも異なっていてもよい。なお、ｍは、１または２であることが好ましい。
【化5】
Ｐ１は、繰り返し単位の主鎖を表し、Ｌ１は、単結合または２価の連結基を表し、ＳＰ１は、スペーサー基を表し、Ｍ１は、メソゲン基を表し、Ｔ１は、末端基を表す。
ただし、Ｍ１が連結基を有する場合、連結基としてアゾ基を含まない。
【請求項7】
前記液晶組成物が、ラジカル重合性基を有する高分子液晶性化合物を含有する、請求項１～６のいずれか１項に記載の光学積層体。
【請求項8】
前記液晶組成物が、ラジカル重合性基を有する低分子液晶性化合物を含有する、請求項１～７のいずれか１項に記載の光学積層体。
【請求項9】
前記光配向層が、シンナモイル基を有する化合物を含有する組成物から形成された層である、請求項１～８のいずれか１項に記載の光学積層体。
【請求項10】
前記光配向層が、シンナモイル基および架橋基を有する化合物を含有する組成物から形成された層である、請求項１～９のいずれか１項に記載の光学積層体。
【請求項11】
前記光配向層が、シンナモイル基およびラジカル重合性基を有する化合物を含有する組成物から形成された層である、請求項１～１０のいずれか１項に記載の光学積層体。
【請求項12】
前記光配向層が、光活性基としてアゾ基を有する光活性化合物を含む光配向層であり、前記光活性化合物が、分子量１０００以下の重合性基を持たない低分子化合物である、請求項１～８のいずれか１項に記載の光学積層体。
【請求項13】
更に、λ／４板を有する、請求項１～１２のいずれか１項に記載の光学積層体。
【請求項14】
請求項１～１３のいずれか１項に記載の光学積層体を有する画像表示装置。