特開 2022-150122 露光装置

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】公開特許公報(A)

(11)【公開番号】P2022150122

(43)【公開日】2022-10-07

(54)【発明の名称】露光装置

(51)【国際特許分類】

   G03F 7/20 20060101AFI20220929BHJP

   G01B 9/02 20220101ALI20220929BHJP

   G01B 11/00 20060101ALI20220929BHJP

   H01L 21/68 20060101ALN20220929BHJP

【ＦＩ】

G03F7/20 501

G03F7/20 521

G01B9/02

G01B11/00 G

H01L21/68 G

【審査請求】未請求

【請求項の数】9

【出願形態】ＯＬ

(21)【出願番号】P 2021052581

(22)【出願日】2021-03-26

(71)【出願人】

【識別番号】000004112

【氏名又は名称】株式会社ニコン

(74)【代理人】

【識別番号】100087480

【弁理士】

【氏名又は名称】片山 修平

(74)【代理人】

【識別番号】100136261

【弁理士】

【氏名又は名称】大竹 俊成

(72)【発明者】

【氏名】▲高▼津 将彦

(72)【発明者】

【氏名】五十嵐 淑人

【テーマコード（参考）】

2F064

2F065

2H197

5F131

【Ｆターム（参考）】

2F064AA01

2F064BB01

2F064CC04

2F064FF01

2F065AA02

2F065AA03

2F065DD03

2F065FF51

2F065GG04

2F065MM02

2H197AA09

2H197CD12

2H197CD15

2H197CD17

2H197CD43

2H197CD48

2H197DB16

2H197DB17

2H197HA03

2H197HA05

5F131AA03

5F131AA32

5F131BA13

5F131CA18

5F131DA02

5F131EA02

5F131FA17

5F131JA10

5F131JA14

5F131JA15

5F131JA16

5F131JA24

5F131KA17

5F131KA63

5F131KB12

5F131KB53

(57)【要約】

【課題】 基板ステージの位置計測精度を向上する。
【解決手段】 基板上に露光光を照射して、前記基板を露光する露光装置であって、物体を保持して移動可能な移動体と、前記移動体の位置情報を計測するレーザ干渉計と、を含む露光本体部と、前記露光本体部を収納するチャンバと、浄化した気体を前記チャンバ内に吐出する吐出口を備える空調装置と、圧縮空気を導入する導入口と、前記チャンバ内の気体を取り込む取込口と、気体を吹き出す吹出口と、を有し、前記レーザ干渉計が射出するレーザ光の光路を通過する気流を生成する気流生成部と、を備え、前記気流生成部は、前記空調装置の前記吐出口の近傍に設けられる、露光装置。
【選択図】図１

【特許請求の範囲】

【請求項1】

基板上に露光光を照射して、前記基板を露光する露光装置であって、
物体を保持して移動可能な移動体と、前記移動体の位置情報を計測するレーザ干渉計と、を含む露光本体部と、
前記露光本体部を収納するチャンバと、
浄化した気体を前記チャンバ内に吐出する吐出口を備える空調装置と、
圧縮空気を導入する導入口と、前記チャンバ内の気体を取り込む取込口と、気体を吹き出す吹出口と、を有し、前記レーザ干渉計が射出するレーザ光の光路を通過する気流を生成する気流生成部と、
を備え、
前記気流生成部は、前記空調装置の前記吐出口の近傍に設けられる、
露光装置。

【請求項2】

前記気流生成部の前記取込口は、前記空調装置の前記吐出口と対向する、
請求項１に記載の露光装置。

【請求項3】

前記気流生成部は、前記空調装置の前記吐出口に固定されている、
請求項１又は請求項２に記載の露光装置。

【請求項4】

前記気流生成部は、前記レーザ干渉計を収容する筐体に固定されている、
請求項１又は請求項２に記載の露光装置。

【請求項5】

前記物体が移動される方向において、前記レーザ干渉計と、前記気流生成部と、は、前記移動体と前記空調装置の前記吐出口との間に配置される、
請求項１から請求項４のいずれか一項に記載の露光装置。

【請求項6】

前記気流生成部は、前記導入口から前記圧縮空気を導入することにより前記取込口に負圧を生じさせ、当該取込口から前記圧縮空気よりも大量の気体を吸引し、前記吹出口から噴出する、
請求項１から請求項５のいずれか一項に記載の露光装置。

【請求項7】

前記物体は、前記基板である、
請求項１から請求項６のいずれか一項に記載の露光装置。

【請求項8】

前記物体は、露光によって前記基板に形成されるパターンが形成されたマスクである、
請求項１から請求項６のいずれか一項に記載の露光装置。

【請求項9】

前記基板は、フラットパネルディスプレイ装置に用いられる基板である請求項１から請求項９に記載の露光装置。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

露光装置に関する。

【背景技術】

【0002】

従来、液晶表示素子、半導体素子（集積回路等）等の電子デバイス（マイクロデバイス）を製造するリソグラフィ工程では、例えばステップ・アンド・リピート方式の投影露光装置（いわゆるステッパ）、あるいはステップ・アンド・スキャン方式の投影露光装置（いわゆるスキャニング・ステッパ（スキャナとも呼ばれる））などが主として用いられている。

【0003】

近年、露光対象の基板の大型化及び描画パターンの高精細化に伴い、露光精度の向上が求められている。そのため、基板を保持する基板ステージの位置決め精度の向上が要求されており、基板ステージの位置を精度よく計測することが求められている（例えば、特許文献１）。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0004】

【特許文献1】特開２０１１－１３３３９８号公報

【発明の概要】

【0005】

開示の態様によれば、基板上に露光光を照射して、前記基板を露光する露光装置であって、物体を保持して移動可能な移動体と、前記移動体の位置情報を計測するレーザ干渉計と、を含む露光本体部と、前記露光本体部を収納するチャンバと、浄化した気体を前記チャンバ内に吐出する吐出口を備える空調装置と、圧縮空気を導入する導入口と、前記チャンバ内の気体を取り込む取込口と、気体を吹き出す吹出口と、を有し、前記レーザ干渉計が射出するレーザ光の光路を通過する気流を生成する気流生成部と、を備える露光装置が提供される。

【0006】

なお、後述の実施形態の構成を適宜改良しても良く、また、少なくとも一部を他の構成物に代替させても良い。更に、その配置について特に限定のない構成要件は、実施形態で開示した配置に限らず、その機能を達成できる位置に配置することができる。

【図面の簡単な説明】

【0007】

【図1】図１は、第１実施形態に係る露光装置の構成を概略的に示す図である。

【図2】図２は、第１実施形態に係る気体流量増幅型エアノズルの構造を示す断面図である。

【図3】図３は、第１実施形態における気体流量増幅型エアノズルの設置位置について説明するための図である。

【図4】図４は、第２実施形態における気体流量増幅型エアノズルの設置位置について説明するための図である。

【図5】図５（Ａ）は、変形例１に係る気体流量増幅型エアノズルの概略構成を示す図であり、図５（Ｂ）は、変形例２に係る気体流量増幅型エアノズルの概略構成を示す図である。

【発明を実施するための形態】

【0008】

《第１実施形態》
第１実施形態に係る露光装置について、図１～図３に基づいて説明する。図１は、第１実施形態に係る露光装置ＥＸの構成を概略的に示す図である。なお、図１において、矢印は、気体の流れを示している。

【0009】

露光装置ＥＸは、液晶露光装置本体１０（以下、露光装置本体１０と記載する）と、床Ｆ上に設置された箱状の気密性の高いチャンバ５０と、チャンバ５０の内部全体の空調を行うための空調システム７０と、を備える。

【0010】

空調システム７０は、チャンバ５０内に供給された空気を回収するリターンダクト７５と、空調装置７１と、を備える。

【0011】

空調装置７１は、リターンダクト７５で回収された空気が流入する調整装置７４と、複数の防塵フィルタ７２と、調整装置７４と防塵フィルタ７２とを接続するダクト７３と、を備える。

【0012】

調整装置７４は、リターンダクト７５で回収された空気の温度及び湿度を目標温度及び目標湿度に調整し、ケミカルフィルタにより所定の不純物を除去した空気を送風ファンによりチャンバ５０側に送風する。

【0013】

防塵フィルタ７２は、例えば、ＨＥＰＡ（High Efficiency Particulate Air）フィルタ又はＵＬＰＡ（Ultra Low Penetration Air）フィルタ等であり、空気中の塵埃を除去する。各防塵フィルタ７２は、ダクト７３を介して調整装置７４に接続されている。調整装置７４が送出した空気は、防塵フィルタ７２により塵埃が除去されて、吐出口７１ａからチャンバ５０内に供給される。このチャンバ５０内に供給された空気の大部分は、リターンダクト７５によって回収され、再び空調装置７１に戻されて循環使用される。

【0014】

露光装置本体１０は、全体がチャンバ５０内に設置されている。露光装置本体１０は、照明系１２、回路パターンなどが形成されたマスクＭを保持するマスクステージ１４、投影光学系１６、光学定盤１８、表面にレジスト（感応剤）が塗布された基板Ｐを保持する基板ステージ装置２０、及びこれらの制御系等を有している。以下、露光時にマスクＭと基板Ｐとが投影光学系１６に対してそれぞれ相対走査される方向をＸ軸方向とし、水平面内でＸ軸に直交する方向をＹ軸方向、Ｘ軸及びＹ軸に直交する方向をＺ軸方向として説明を行うとともに、Ｘ軸、Ｙ軸、及びＺ軸回りの回転（傾斜）方向をそれぞれθｘ、θｙ、及びθｚ方向として説明を行う。また、Ｘ軸、Ｙ軸、及びＺ軸方向に関する位置をそれぞれＸ位置、Ｙ位置、及びＺ位置として説明を行う。

【0015】

照明系１２は、例えば米国特許第５，７２９，３３１号明細書などに開示される照明系と同様に構成されている。照明系１２は、図示しない光源（例えば、水銀ランプ）から射出された光を、それぞれ図示しない反射鏡、ダイクロイックミラー、シャッター、波長選択フィルタ、各種レンズなどを介して、露光用照明光（照明光）ＩＬとしてマスクＭに照射する。

【0016】

マスクステージ１４は、光透過型のマスクＭを保持している。マスクステージ１４は、例えばリニアモータを含む駆動系（不図示）を介してマスクＭを照明系１２（照明光ＩＬ）に対してＸ軸方向（スキャン方向）に所定の長ストロークで駆動するとともに、Ｙ軸方向、及びθｚ方向に微少駆動する。マスクＭの水平面内の位置情報は、例えばレーザ干渉計またはエンコーダを含むマスクステージ位置計測系（不図示）により求められる。

【0017】

投影光学系１６は、マスクステージ１４の下方に配置されている。投影光学系１６は、例えば米国特許第６，５５２，７７５号明細書などに開示される投影光学系と同様な構成の、いわゆるマルチレンズ投影光学系であり、例えば両側テレセントリックな等倍系で正立正像を形成する複数の光学系を備えている。

【0018】

露光装置本体１０では、照明系１２からの照明光ＩＬによってマスクＭ上の照明領域が照明されると、マスクＭを通過した照明光により、投影光学系１６を介してその照明領域内のマスクＭの回路パターンの投影像（部分正立像）が、基板Ｐ上の照明領域に共役な照明光の照射領域（露光領域）に形成される。そして、照明領域（照明光ＩＬ）に対してマスクＭが走査方向に相対移動するとともに、露光領域（照明光ＩＬ）に対して基板Ｐが走査方向に相対移動することで、基板Ｐ上の１つのショット領域の走査露光が行われ、そのショット領域にマスクＭに形成されたパターンが転写される。

【0019】

光学定盤１８は、上記マスクステージ１４、及び投影光学系１６を支持している。

【0020】

基板ステージ装置２０は、基板Ｐを投影光学系１６（照明光ＩＬ）に対して高精度で位置決めするためのものであり、基板Ｐを水平面（Ｘ軸方向、及びＹ軸方向）に沿って所定の長ストロークで駆動するとともに、該基板Ｐを６自由度方向に微少駆動する。基板ステージ装置２０の構成は、特に限定されないが、例えば特開２００４－１４９１５号公報、あるいは米国特許出願公開第２０１２／００５７１４０号明細書などに開示されるような、ガントリタイプの２次元粗動ステージと、該２次元粗動ステージに対して微少駆動される微動ステージとを含む、いわゆる粗微動構成のステージ装置を用いることが好ましい。

【0021】

基板ステージ装置２０は、基板Ｐを保持する基板ステージ２１を備え、基板ステージ２１の＋Ｘ側の側面には、ミラーベース２３Ｘを介して、Ｘ軸に直交する反射面を有するＸ移動鏡（バーミラー）２２Ｘが固定されている。

【0022】

光学定盤１８の＋Ｘ方向の端部には、基板Ｐを保持する基板ステージ２１のＸ軸方向の位置を計測するレーザ干渉計システム８１が取り付けられている。

【0023】

レーザ干渉計システム８１は、レーザ干渉計８１ａと、レーザ干渉計８１ａおよびその他の構成を収容する筐体８１ｂと、を備える。レーザ干渉計８１ａは、Ｘ移動鏡２２Ｘと、投影光学系１６の近傍に固定されたＸ固定鏡２４Ｘと、に計測ビームを照射する。なお、図３では、レーザ干渉計８１ａがＸ移動鏡２２Ｘに照射する計測ビームの光路をＩＰＸ１、レーザ干渉計８１ａがＸ固定鏡２４Ｘに照射する計測ビームの光路をＩＰＸ２と表記している。レーザ干渉計８１ａは、Ｘ固定鏡２４Ｘの位置を基準として、基板ステージ２１のＸ軸方向の位置情報を計測する。

【0024】

また、不図示ではあるが、基板ステージ２１の＋Ｙ側の側面には、ミラーベースを介して、Ｙ軸に直交する反射面を有するＹ移動鏡が固定されている。また、光学定盤１８の＋Ｙ方向の端部には基板ステージ２１のＹ軸方向の位置情報を計測するレーザ干渉計システム（不図示）が取り付けられている。レーザ干渉計システムのレーザ干渉計は、Ｙ移動鏡と、投影光学系１６の近傍に固定されたＹ固定鏡と、に計測ビームを照射し、Ｙ固定鏡の位置を基準として、基板ステージ２１のＹ軸方向の位置情報を計測する。

【0025】

レーザ干渉計では、計測光路上の気体の温度や圧力、湿度等のゆらぎに起因する計測光路上の屈折率の変化が計測誤差の要因になりうる。そこで、光路上の屈折率の変化を低減するために、レーザ干渉計から射出されたレーザ光の光路に気体を流す干渉計光路空調装置を設けることが行われている。例えば、レーザ光の光路に対して、上方から空気を吹き付ける干渉計光路空調装置が知られている。

【0026】

しかしながら、干渉計光路空調装置から流す気体の温度とチャンバ５０内の雰囲気温度とが異なると、計測光路上の温度を安定化することが出来ない場合がある。また、干渉計光路空調装置から流す気体にパーティクルが含まれていると、チャンバ５０内のパーティクルを増やしてしまう。さらに、光路全体にわたって温度や圧力、湿度等を安定化させる場合、干渉計光路空調装置から流す気体の流量を増やす必要があるため、大きな圧縮空気の用力が必要である。

【0027】

そこで、本第１実施形態では、干渉計光路空調装置として、気体流量増幅型エアノズル９１を用いる。図２は、気体流量増幅型エアノズル９１の構造を示す断面図である。気体流量増幅型エアノズル９１は、ベルヌーイ効果を利用して、気体流量を増幅させるエアノズルである。

【0028】

図２に示すように、気体流量増幅型エアノズル９１は、第１本体部９２と、第２本体部９３と、を備える。第１本体部９２は、圧縮空気Ａ２を導入する導入口９２ａと、チャンバ５０内の気体Ａ１を取り込む取込口９２ｂと、を有する。第２本体部９３は、気体を吹き出す吹出口９３ａを有する。

【0029】

第１本体部９２と第２本体部９３との間には、スリット９４が形成されている。導入口９２ａから導入された圧縮空気Ａ２がスリット９４を通過することにより、その流速が増加される。そして、第２本体部９３に入った高速の圧縮空気Ａ２が第２本体部９３の内壁面に沿って流れることで真空状態（負圧状態）が作られる。これにより、取込口９２ｂからチャンバ５０内へ気体Ａ１が引き込まれるとともに、取込口９２ｂから取り込まれた気体Ａ１の移動が加速される。気体全体の流速が増すことで、吹出口９３ａから吹き出される気体Ａ４の流量と風速が大きく上昇する。さらに、吹出口９３ａから吹き出された気体Ａ４が、吹出口９３ａ周辺の気体Ａ３を誘引する。これにより、大量の気体を気体流量増幅型エアノズル９１から噴出することができる。気体流量増幅型エアノズル９１から噴出される気体の流量は、導入口９２ａから導入された圧縮空気Ａ２の流量の、例えば４～２０倍である。

【0030】

次に、気体流量増幅型エアノズル９１の設置位置について説明する。図１に示すように、気体流量増幅型エアノズル９１は、基板Ｐが移動される走査方向（Ｘ軸方向）において、基板ステージ２１と空調装置７１の吐出口７１ａとの間に設けられている。より具体的には、気体流量増幅型エアノズル９１は、空調装置７１の吐出口７１ａの近傍に設けられている。なお、レーザ干渉計８１ａも、走査方向において基板ステージ２１と空調装置７１の吐出口７１ａとの間に設けられている。

【0031】

図３は、気体流量増幅型エアノズル９１の設置位置について説明するための図である。図３に示すように、第１実施形態では、気体流量増幅型エアノズル９１は、取付部材９６を用いて、空調装置７１の吐出口７１ａに固定されている。より具体的には、気体流量増幅型エアノズル９１は、取込口９２ｂが空調装置７１の吐出口７１ａと対向するように、空調装置７１の吐出口７１ａに固定されている。

【0032】

また、気体流量増幅型エアノズル９１は、基板ステージ２１の走査方向（Ｘ軸方向）と水平面内で直交する方向（Ｙ軸方向）において、２か所に設けられている。各気体流量増幅型エアノズル９１は、気体流量増幅型エアノズル９１が噴出した気体が、Ｘ移動鏡２２Ｘとレーザ干渉計８１ａとの間の光路ＩＰＸ１と、Ｘ固定鏡２４Ｘとレーザ干渉計８１ａとの間の光路ＩＰＸ２と、を通過するよう、Ｘ軸方向、Ｙ軸方向、及びＺ軸方向において位置決めされる。なお、図３において、矢印ＦＬは、気体流量増幅型エアノズル９１から噴出された気体の流れを示している。

【0033】

このように、第１実施形態では、防塵フィルタ７２により浄化した気体をチャンバ５０内へ吐出する吐出口７１ａの近傍に気体流量増幅型エアノズル９１が設置されている。これにより、気体流量増幅型エアノズル９１には、チャンバ５０内へ供給される気体が取込口９２ｂから取り込まれる。また、気体流量増幅型エアノズル９１の吹出口９３ａから吹き出される気体Ａ４に誘引される気体Ａ３も、チャンバ５０内へ供給される気体である。このため、チャンバ５０内の雰囲気温度とほぼ同じ温度の気体を、光路ＩＰＸ１及びＩＰＸ２に流すことが出来る。これにより、光路ＩＰＸ１及びＩＰＸ２上の温度を安定化することが出来、計測光路上における気体の温度や圧力、湿度等のゆらぎに起因する計測光路上の屈折率の変化を抑制し、基板ステージ２１の位置計測精度を向上させることができる。

【0034】

また、本第１実施形態では、防塵フィルタ７２を通過したクリーンな気体を気体流量増幅型エアノズル９１の吹出口９３ａから吹き出すことができるため、光路ＩＰＸ１及びＩＰＸ２に流す気体に含まれる単位流量当たりのパーティクル量を低減させることができる。また、気体流量増幅型エアノズル９１の駆動源は圧縮空気であり、電気部品・回転部品を有さないため、気体流量増幅型エアノズル９１からパーティクルが発生しない。このため、チャンバ５０内におけるパーティクルの増加を抑制することができる。

【0035】

また、気体流量増幅型エアノズル９１は、導入口９２ａから導入された圧縮空気Ａ２の流量の、例えば４～２０倍の流量の気体を噴出する。したがって、圧縮空気の用力を節約することが出来る。

【0036】

以上、詳細に説明したように、本実施形態によれば、露光装置ＥＸは、基板Ｐを保持して移動可能な基板ステージ２１と、基板ステージ２１の位置情報を計測するレーザ干渉計８１ａと、を含む露光装置本体１０と、露光装置本体１０を収納するチャンバ５０と、浄化した気体をチャンバ５０内に吐出する吐出口７１ａを備える空調装置７１と、気体流量増幅型エアノズル９１と、を備える。気体流量増幅型エアノズル９１は、圧縮空気を導入する導入口９２ａと、チャンバ５０内の気体を取り込む取込口９２ｂと、気体を吹き出す吹出口９３ａと、を有し、レーザ干渉計８１ａが射出するレーザ光の光路ＩＰＸ１，ＩＰＸ２を通過する気流を生成する。さらに、気体流量増幅型エアノズル９１は、空調装置７１の吐出口７１ａの近傍に設けられている。

【0037】

気体流量増幅型エアノズル９１が、空調装置７１の吐出口７１ａの近傍に設けられているため、気体流量増幅型エアノズル９１には、チャンバ５０内へ供給される気体が取込口９２ｂから取り込まれる。また、気体流量増幅型エアノズル９１の吹出口９３ａから吹き出される気体Ａ４に誘引される気体Ａ３も、チャンバ５０内へ供給される気体となる。このため、チャンバ５０内の雰囲気温度とほぼ同じ温度の気体を、光路ＩＰＸ１及びＩＰＸ２に流すことが出来る。これにより、光路ＩＰＸ１及びＩＰＸ２上の温度を安定化することが出来、計測光路上における気体の温度や圧力、湿度等のゆらぎに起因する計測光路上の屈折率の変化を抑制することができる。この結果、基板ステージ２１の位置計測精度が向上する。

【0038】

また、本第１実施形態において、気体流量増幅型エアノズル９１の取込口９２ｂは、空調装置７１の吐出口７１ａと対向する。これにより、吐出口７１ａから吐出されたクリーンな気体を、確実に気体流量増幅型エアノズル９１に取り込むことができる。

【0039】

また、本第１実施形態において、気体流量増幅型エアノズル９１は、空調装置７１の吐出口７１ａに固定されている。気体流量増幅型エアノズル９１に圧縮空気を導入するときに、気体流量増幅型エアノズル９１が振動する場合がある。本第１実施形態では、露光装置本体１０と物理的に分離されている空調装置７１の吐出口７１ａに気体流量増幅型エアノズル９１が固定されているため、気体流量増幅型エアノズル９１の振動が露光装置本体１０に伝搬しない。したがって、気体流量増幅型エアノズル９１の駆動によってレーザ干渉計８１ａが振動することにより、基板ステージ２１の位置計測精度が低下することがない。

【0040】

《第２実施形態》
上記第１実施形態では、気体流量増幅型エアノズル９１を、空調装置７１の吐出口７１ａに固定していたが、気体流量増幅型エアノズル９１の駆動が基板ステージ２１の位置計測精度に与える影響が少ない場合には、気体流量増幅型エアノズル９１をレーザ干渉計システム８１の筐体８１ｂに取り付けてもよい。

【0041】

図４は、第２実施形態における気体流量増幅型エアノズル９１の設置位置について説明するための図である。図４に示すように、第２実施形態では、気体流量増幅型エアノズル９１は、取付部材９６Ａを用いて、レーザ干渉計システム８１の筐体８１ｂに固定されている。より具体的には、気体流量増幅型エアノズル９１は、取込口９２ｂが空調装置７１の吐出口７１ａと対向するように、レーザ干渉計システム８１の筐体８１ｂに固定されている。

【0042】

第２実施形態においても、気体流量増幅型エアノズル９１は、基板ステージ２１の走査方向（Ｘ軸方向）と水平面内で直交する方向（Ｙ軸方向）において、２か所に設けられている。気体流量増幅型エアノズル９１は、気体流量増幅型エアノズル９１が噴出した気体が、Ｘ移動鏡２２Ｘとレーザ干渉計８１ａとの間の光路ＩＰＸ１と、Ｘ固定鏡２４Ｘとレーザ干渉計８１ａとの間の光路ＩＰＸ２と、を通過するよう、Ｘ軸方向、Ｙ軸方向、及びＺ軸方向において位置決めされる。なお、図４においても、矢印ＦＬは、気体流量増幅型エアノズル９１から噴出された気体の流れを示している。

【0043】

第２実施形態においても、第１実施形態と同様に、防塵フィルタ７２により浄化した気体をチャンバ５０内へ吐出する吐出口７１ａの近くに気体流量増幅型エアノズル９１の取込口９２ｂが配置されている。このため、気体流量増幅型エアノズル９１には、チャンバ５０内へ供給される気体が取込口９２ｂから取り込まれる。また、気体流量増幅型エアノズル９１の吹出口９３ａから吹き出される気体Ａ４に誘引される気体Ａ３も、チャンバ５０内へ供給される気体となる。このため、チャンバ５０内の雰囲気温度とほぼ同じ温度の気体を、光路ＩＰＸ１及びＩＰＸ２に流すことが出来る。これにより、光路ＩＰＸ１及びＩＰＸ２上の温度を安定化することが出来るため、計測光路上における気体の温度や圧力、湿度等のゆらぎに起因する計測光路上の屈折率の変化を抑制し、基板ステージ２１の位置計測精度を向上させることができる。

【0044】

なお、上記第１及び第２実施形態において、基板ステージ２１のＹ軸方向の位置情報を計測するためのレーザ干渉計の光路空調に気体流量増幅型エアノズル９１を用いてもよい。

【0045】

また、上記第１及び第２実施形態では、気体流量増幅型エアノズル９１から噴出された気体が、基板ステージ２１の位置情報を計測するためのレーザ干渉計８１ａの光路を通過するように気体流量増幅型エアノズル９１を設置したが、これに限られるものではない。例えば、気体流量増幅型エアノズル９１から噴出された気体が、マスクＭを保持するマスクステージ１４の位置情報を計測するためのレーザ干渉計の光路を通過するように気体流量増幅型エアノズル９１を設置してもよい。すなわち、気体流量増幅型エアノズル９１を、マスクＭを保持するマスクステージ１４の位置情報を計測するためのレーザ干渉計の光路空調に用いてもよい。

【0046】

（変形例１）
気体流量増幅型エアノズル９１の構成は、図２に示す構成に限られるものではない。図５（Ａ）は、変形例１に係る気体流量増幅型エアノズル９１Ａの概略構成を示す図である。

【0047】

気体流量増幅型エアノズル９１Ａは、本体部９７と、ノズル９５と、を有する。本体部９７の内部は、気体Ａ１の取込口９７ａから中央部に向かって先細り、中央部から気体Ａ４の吹出口９７ｂに向かって拡大している。ノズル９５の導入口９５ａから導入された圧縮空気Ａ２が本体部９７内に吹き込まれると、本体部９７内の気体の流速が高まる。これにより、本体部９７内の気体の流量が増え、エジェクター原理によって、吹出口９７ｂから吹き出される気体の量が増加する。

【0048】

（変形例２）
図５（Ｂ）は、変形例２に係る気体流量増幅型エアノズル９１Ｂの概略構成を示す図である。

【0049】

気体流量増幅型エアノズル９１Ｂは、圧縮空気Ａ２を導入するノズル本体９８と、本体部９９と、を有する。本体部９９の側壁には、気体Ａ１の取込口９９ａが設けられている。

【0050】

ノズル本体９８の導入口９８ａから本体部９９内に圧縮空気Ａ２が導入されると、取込口９９ａに負圧が生じる。この負圧吸引作用によって、取込口９９ａから圧縮空気Ａ２よりも大量の気体Ａ１が吸引される。その結果、吹出口９９ｂから大量の気体Ａ４が噴出される。

【0051】

なお、気体流量増幅型エアノズルは、電気部品及び回転部品を用いずに気体の流量を増幅できるエアノズルであれば、第１及び第２実施形態及びその変形例の構成に限定されるものではない。

【0052】

なお、上記各実施形態では、投影光学系１６として、等倍系が用いられたが、これに限られず、縮小系、あるいは拡大系を用いても良い。

【0053】

また、上記実施形態及びその変形例ではＦＰＤ露光装置を例に用いて説明したが、上記実施形態及びその変形例を半導体露光装置に適用してもよい。

【0054】

また、露光対象となる基板はガラスプレートに限られず、例えばウエハ、セラミック基板、フィルム部材、あるいはマスクブランクスなど、他の物体でも良い。また、露光対象物がフラットパネルディスプレイ用の基板である場合、その基板の厚さは特に限定されず、例えばフィルム状（可撓性を有するシート状の部材）のものも含まれる。また、露光対象の基板が可撓性を有するシート状である場合には、該シートがロール状に形成されていても良い。

【0055】

上述した実施形態は本発明の好適な実施の例である。但し、これに限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲内において種々変形実施可能である。

【符号の説明】

【0056】

１０ 液晶露光装置本体
１４ マスクステージ
２１ 基板ステージ
５０ チャンバ
７１ 空調装置
７１ａ 吐出口
７２ 防塵フィルタ
７３ ダクト
７４ 調整装置
８１ａ レーザ干渉計
８１ｂ 筐体
９１，９１Ａ，９１Ｂ 気体流量増幅型エアノズル
９２ａ，９５ａ，９８ａ 導入口
９２ｂ，９７ａ，９９ａ 取込口
９３ａ，９７ｂ，９９ｂ 吹出口
Ａ１ チャンバ内の気体
Ａ２ 圧縮空気
Ａ４ 気体
ＥＸ 露光装置
ＩＰＸ１，ＩＰＸ２ 光路
Ｍ マスク
Ｐ 基板

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】