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(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】公開特許公報(A)
(11)【公開番号】P2022153246
(43)【公開日】2022-10-12
(54)【発明の名称】水不溶性の高分子化合物及びそれを含む表面処理剤等
(51)【国際特許分類】
C08F 212/14 20060101AFI20221004BHJP
C12M 3/00 20060101ALI20221004BHJP
【ＦＩ】
C08F212/14
C12M3/00 A
【審査請求】未請求
【請求項の数】8
【出願形態】ＯＬ
(21)【出願番号】P 2021177013
(22)【出願日】2021-10-29
(31)【優先権主張番号】P 2021054591
(32)【優先日】2021-03-29
(33)【優先権主張国・地域又は機関】JP
(71)【出願人】
【識別番号】000003300
【氏名又は名称】東ソー株式会社
(72)【発明者】
【氏名】陳孫 詩蒙
(72)【発明者】
【氏名】根津 友祐
(72)【発明者】
【氏名】今富 伸哉
(72)【発明者】
【氏名】伊藤 博之
【テーマコード（参考）】
4B029
4J100
【Ｆターム（参考）】
4B029AA02
4B029AA08
4B029AA21
4B029BB11
4B029CC02
4B029CC08
4B029CC11
4B029GB09
4J100AB02Q
4J100AB07P
4J100AL03R
4J100BA16P
4J100CA05
4J100DA01
4J100DA04
4J100FA03
4J100FA18
4J100JA01
4J100JA51
(57)【要約】
【課題】細胞接着性高分子を含む表面処理剤を提供すること。
【解決手段】（Ａ）酸性を示す官能基を持つ単量体、（Ｂ）ＨＬＢ値（グリフィン法）が０～５．０の範囲にある単量体、（Ｃ）ＨＬＢ値（グリフィン法）が５．０～９．０の範囲にある単量体の構成成分を含み、（Ａ）、（Ｂ）及び（Ｃ）における（Ｃ）の比率が１０～５０ｍｏｌ％であることを特徴とする水不溶性の高分子化合物により前記課題を解決する。
【選択図】なし
【解決手段】（Ａ）酸性を示す官能基を持つ単量体、（Ｂ）ＨＬＢ値（グリフィン法）が０～５．０の範囲にある単量体、（Ｃ）ＨＬＢ値（グリフィン法）が５．０～９．０の範囲にある単量体の構成成分を含み、（Ａ）、（Ｂ）及び（Ｃ）における（Ｃ）の比率が１０～５０ｍｏｌ％であることを特徴とする水不溶性の高分子化合物により前記課題を解決する。
【選択図】なし
【特許請求の範囲】
【請求項1】
下記（Ａ）（Ｂ）（Ｃ）の構成成分を含み、（Ａ）、（Ｂ）及び（Ｃ）における（Ｃ）の比率が１０～５０ｍｏｌ％であることを特徴とする水不溶性の高分子化合物。
（Ａ）酸性を示す官能基を持つ単量体。
（Ｂ）ＨＬＢ値（グリフィン法）が０～５．０の範囲にある単量体。
（Ｃ）ＨＬＢ値（グリフィン法）が５．０～９．０の範囲にある単量体。
（Ａ）酸性を示す官能基を持つ単量体。
（Ｂ）ＨＬＢ値（グリフィン法）が０～５．０の範囲にある単量体。
（Ｃ）ＨＬＢ値（グリフィン法）が５．０～９．０の範囲にある単量体。
【請求項2】
構成成分（Ａ）と（Ｂ）のモル比Ａ／Ｂが０．１～２．０（ｍｏｌ／ｍｏｌ）である請求項１記載の水不溶性の高分子化合物。
【請求項3】
構成成分（Ａ）の酸性を示す官能基が、ヒドロキシ基、カルボキシ基、スルホン酸基、リン酸基から選択される請求項１又は２に記載の水不溶性の高分子化合物。
【請求項4】
構成成分（Ａ）の酸性を示す官能基の酸解離定数ｐＫａが－５．０～６．０である請求項１～３いずれか１項に記載の水不溶性の高分子化合物。
【請求項5】
請求項１～４いずれか１項に記載の水不溶性の高分子化合物を含む表面処理剤。
【請求項6】
請求項５記載の表面処理剤を基材に塗布してなる膜。
【請求項7】
基材の材質がプラスチック製である請求項６に記載の膜。
【請求項8】
請求項６又は７に記載の膜を表面に被覆した細胞培養基材。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、水不溶性の高分子化合物に関する。
【背景技術】
【0002】
細胞を原料とするバイオ医薬品は薬効の高さから普及が期待されており、原料細胞を大量に培養する技術に注目が集まっている。
【0003】
多くの有用細胞は培養する際に何らかの基材に接着する必要があり、優れた細胞接着性を持つ培養基材が求められる。細胞接着性を得るための一般的な方法としてプラズマ処理が挙げられるが、十分な細胞接着性を有しているとはいえず、細胞培養効率向上のために新規な細胞接着性を付与する技術が求められた。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0004】
【特許文献1】特開昭５７－１８６４９１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0005】
本発明の目的は、細胞接着性を有する水不溶性の高分子化合物を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【0006】
本発明者らは、以上の点を鑑み、鋭意研究を重ねた結果、（Ａ）酸性を示す官能基を持つ単量体と、（Ｂ）ＨＬＢ値（グリフィン法）が０～５の範囲にある単量体、（Ｃ）ＨＬＢ値（グリフィン法）が５～９の範囲にある単量体、の構成成分を含み、（Ａ）、（Ｂ）及び（Ｃ）における（Ｃ）の比率が１０～５０ｍｏｌ％であることを特徴とする水不溶性の高分子化合物は、一般的なプラスチック製基材への侵襲性の低い有機溶媒に溶解することができ、基材に被覆することで細胞接着性を付与できることを見出し、本発明を完成した。すなわち本発明は以下の態様を包含する。
＜１＞ 下記（Ａ）（Ｂ）（Ｃ）の構成成分を含み、（Ａ）、（Ｂ）及び（Ｃ）における（Ｃ）の比率が１０～５０ｍｏｌ％であることを特徴とする水不溶性の高分子化合物。
（Ａ）酸性を示す官能基を持つ単量体。
（Ｂ）ＨＬＢ値（グリフィン法）が０～５．０の範囲にある単量体。
（Ｃ）ＨＬＢ値（グリフィン法）が５．０～９．０の範囲にある単量体。
＜２＞ 構成成分（Ａ）と（Ｂ）のモル比Ａ／Ｂが０．１～２．０（ｍｏｌ／ｍｏｌ）である＜１＞記載の水不溶性の高分子化合物。
＜３＞ 構成成分（Ａ）の酸性を示す官能基が、ヒドロキシ基、カルボキシ基、スルホン酸基、リン酸基から選択される＜１＞又は＜２＞に記載の水不溶性の高分子化合物。
＜４＞ 構成成分（Ａ）の酸性を示す官能基の酸解離定数ｐＫａが－５．０～６．０である＜１＞～＜３＞いずれか１項に記載の水不溶性の高分子化合物。
＜５＞ ＜１＞～＜４＞いずれか１項に記載の水不溶性の高分子化合物を含む表面処理剤。
＜６＞ ＜５＞記載の表面処理剤を基材に塗布してなる膜。
＜７＞ 基材の材質がプラスチック製である＜６＞に記載の膜。
＜８＞ ＜６＞又は＜７＞に記載の膜を表面に被覆した細胞培養基材。
＜１＞ 下記（Ａ）（Ｂ）（Ｃ）の構成成分を含み、（Ａ）、（Ｂ）及び（Ｃ）における（Ｃ）の比率が１０～５０ｍｏｌ％であることを特徴とする水不溶性の高分子化合物。
（Ａ）酸性を示す官能基を持つ単量体。
（Ｂ）ＨＬＢ値（グリフィン法）が０～５．０の範囲にある単量体。
（Ｃ）ＨＬＢ値（グリフィン法）が５．０～９．０の範囲にある単量体。
＜２＞ 構成成分（Ａ）と（Ｂ）のモル比Ａ／Ｂが０．１～２．０（ｍｏｌ／ｍｏｌ）である＜１＞記載の水不溶性の高分子化合物。
＜３＞ 構成成分（Ａ）の酸性を示す官能基が、ヒドロキシ基、カルボキシ基、スルホン酸基、リン酸基から選択される＜１＞又は＜２＞に記載の水不溶性の高分子化合物。
＜４＞ 構成成分（Ａ）の酸性を示す官能基の酸解離定数ｐＫａが－５．０～６．０である＜１＞～＜３＞いずれか１項に記載の水不溶性の高分子化合物。
＜５＞ ＜１＞～＜４＞いずれか１項に記載の水不溶性の高分子化合物を含む表面処理剤。
＜６＞ ＜５＞記載の表面処理剤を基材に塗布してなる膜。
＜７＞ 基材の材質がプラスチック製である＜６＞に記載の膜。
＜８＞ ＜６＞又は＜７＞に記載の膜を表面に被覆した細胞培養基材。
【発明の効果】
【0007】
（Ａ）酸性を示す官能基を持つ単量体と、（Ｂ）ＨＬＢ値（グリフィン法）が０～５．０の範囲にある単量体、（Ｃ）ＨＬＢ値（グリフィン法）が５．０～９．０の範囲にある単量体、の構成成分を含み、（Ａ）、（Ｂ）及び（Ｃ）における（Ｃ）の比率が１０～５０ｍｏｌ％であることを特徴とする水不溶性の高分子化合物は、一般的なプラスチック製基材への侵襲性の低い有機溶媒に溶解することができ、それを基材に被覆することで細胞接着性を付与することができる。
【発明を実施するための形態】
【0008】
以下、本発明を実施するための形態（以下、単に「本実施の形態」という。）について詳細に説明する。以下の本実施の形態は、本発明を説明するための例示であり、本発明を以下の内容に限定する趣旨ではない。本発明は、その趣旨の範囲内で適宜に変形して実施できる。
【0009】
本発明の細胞接着性ポリマーは、（Ａ）酸性を示す官能基を持つ単量体と、（Ｂ）ＨＬＢ値（グリフィン法）が０～５．０の範囲にある単量体、（Ｃ）ＨＬＢ値（グリフィン法）が５．０～９．０の範囲にある単量体、の構成成分を含み、（Ａ）、（Ｂ）及び（Ｃ）における（Ｃ）の比率が１０～５０ｍｏｌ％であることを特徴とする水不溶性の高分子化合物である。
【0010】
本発明の構成成分（Ａ）の酸性を示す官能基とは水中で電離してアニオン性を示す官能基であり、特に限定はないが、一例として、ヒドロキシ基、カルボキシ基、スルホン酸基、リン酸基から選択される。これらの中でも酸性の制御が容易なことから、カルボキシ基が好ましい。またこれら単量体中に官能基を二つ以上含んでも良いし、これら以外の官能基、例えば、アルデヒド基、カルボニル基、ニトロ基、アミノ基、エーテル基、エステル基、アミド基を含んでも良い。
【0011】
本明細書の酸解離定数は水中における酸解離定数ｐＫａを指す。本明細書の酸解離定数ｐＫａは高分子構造の側鎖構造から特定する。細胞接着性を付与するために細胞－基材間の静電結合を促進する必要があり、本発明の構成成分（Ａ）の酸性を示す官能基の酸解離定数ｐＫａは特に限定はないが、例えば－５．０～６．０であり、好ましくは－３．０～５．０、より好まくは１～４．５である。酸解離定数ｐＫａが－５．０未満であると構成成分（Ｂ）との共重合が困難になる場合があり、酸解離定数ｐＫａが６．０を超えると静電結合の促進効果が弱まる場合がある。酸解離定数の一例として、アクリル酸の側鎖構造は－ＣＯＯＨであるから４．７６、カルボキシスチレンの側鎖構造は－Ｃ６Ｈ４ＣＯＯＨであるから４．２０、スチレンスルホン酸の側鎖構造は－Ｃ６Ｈ４ＳＯ３Ｈであるから－２．８である。
【0012】
本発明の高分子化合物は水不溶性である。本明細書における水不溶性とは２０℃の水１００ｇ当たりの高分子化合物の溶解量が１００ｍｇ以下であることを言う。
【0013】
本発明の構成成分（Ａ）の構造は特に限定はないが、一例として、アクリル酸、カルボキシスチレン（カルボキシ基はオルト位、メタ位、パラ位のいずれであっても良い）、スチレンスルホン酸（スルホン酸基はオルト位、メタ位、パラ位のいずれであっても良い）およびその誘導体が挙げられる。これらの中でもより好ましいｐＫａの側鎖構造を有することからｐ－カルボキシスチレン、アクリル酸、又はｐ－スチレンスルホン酸が好ましく、ｐ－カルボキシスチレンがさらに好ましい。
【0014】
本明細書において、ＨＬＢ値（ＨＬＢ；Ｈｙｄｒｏｐｈｉｌｅ－Ｌｉｐｏｐｈｉｌｅ Ｂａｌａｎｃｅ）とは、Ｗ．Ｃ．Ｇｒｉｆｆｉｎ，Ｊｏｕｒｎａｌ ｏｆ ｔｈｅ Ｓｏｃｉｅｔｙ ｏｆ Ｃｏｓｍｅｔｉｃ Ｃｈｅｍｉｓｔｓ，１，３１１（１９４９）．に記載の、水と油への親和性の程度を表す値である。計算によって決定する方法として、アトラス法、グリフィン法、デイビス法、川上法があるが、本発明においてはグリフィン法で計算した値を使用し、繰り返し単位中の親水部の式量と繰り返し単位の総式量を元に、下記の計算式で求めた。
ＨＬＢ値＝２０×（親水部の式量）÷（総式量）
グリフィン法ではＨＬＢ値が０から２０までの値を取り、０に近いほど疎水性が高く、２０に近いほど親水性が高くなる。前述の、各ブロックの繰り返し単位中の親水部の定義として、スルホ基部（－ＳＯ３－）、ホスホ基部（－ＰＯ３－）、カルボキシ基部（－ＣＯＯＨ）、エステル部（－ＣＯＯ－）、アミド部（－ＣＯＮＨ－）、イミド部（－ＣＯＮ－）、アルデヒド基部（－ＣＨＯ）、カルボニル基部（－ＣＯ－）、ヒドロキシ基部（－ＯＨ）、アミノ基部（－ＮＨ２）、アセチル基部（－ＣＯＣＨ３）、エチレンアミン部（－ＣＨ２ＣＨ２Ｎ－）、エチレンオキシ部（－ＣＨ２ＣＨ２Ｏ－）、アルカリ金属イオン、アルカリ土類金属イオン、アンモニウムイオン、ハロゲン化物イオン、酢酸イオンを例示することができる。繰り返し単位中の親水部の算出では、親水部を構成する原子が、他の親水部を構成する原子として重複してはならない。繰り返し単位中のＨＬＢ値の算出例を以下に記載した。例えば、スチレン（分子量：１０４．１５）の場合、親水部はなく、親水部の分子量は０であるから、ＨＬＢ値は０．０である。カルボキシスチレン（分子量：１４８．１５）の場合、親水部はカルボキシ基が１部であり、親水部の分子量は４５．０２であるから、ＨＬＢ値は６．１である。ｎ－ブチルアクリレート（分子量：１２８．２）の場合、親水部はエステル部が１部であり、親水部の分子量は４４．０１であるから、ＨＬＢ値は６．９である。
ＨＬＢ値＝２０×（親水部の式量）÷（総式量）
グリフィン法ではＨＬＢ値が０から２０までの値を取り、０に近いほど疎水性が高く、２０に近いほど親水性が高くなる。前述の、各ブロックの繰り返し単位中の親水部の定義として、スルホ基部（－ＳＯ３－）、ホスホ基部（－ＰＯ３－）、カルボキシ基部（－ＣＯＯＨ）、エステル部（－ＣＯＯ－）、アミド部（－ＣＯＮＨ－）、イミド部（－ＣＯＮ－）、アルデヒド基部（－ＣＨＯ）、カルボニル基部（－ＣＯ－）、ヒドロキシ基部（－ＯＨ）、アミノ基部（－ＮＨ２）、アセチル基部（－ＣＯＣＨ３）、エチレンアミン部（－ＣＨ２ＣＨ２Ｎ－）、エチレンオキシ部（－ＣＨ２ＣＨ２Ｏ－）、アルカリ金属イオン、アルカリ土類金属イオン、アンモニウムイオン、ハロゲン化物イオン、酢酸イオンを例示することができる。繰り返し単位中の親水部の算出では、親水部を構成する原子が、他の親水部を構成する原子として重複してはならない。繰り返し単位中のＨＬＢ値の算出例を以下に記載した。例えば、スチレン（分子量：１０４．１５）の場合、親水部はなく、親水部の分子量は０であるから、ＨＬＢ値は０．０である。カルボキシスチレン（分子量：１４８．１５）の場合、親水部はカルボキシ基が１部であり、親水部の分子量は４５．０２であるから、ＨＬＢ値は６．１である。ｎ－ブチルアクリレート（分子量：１２８．２）の場合、親水部はエステル部が１部であり、親水部の分子量は４４．０１であるから、ＨＬＢ値は６．９である。
【0015】
細胞接着性を付与するために細胞－基材間の疎水結合を促進する必要があり、本発明の構成成分（Ｂ）のＨＬＢ値は０～５．０の範囲にある単量体であり、好ましくは０～３．０である。ＨＬＢ値が５．０を超えると疎水結合の促進効果が弱まる。
【0016】
本発明の構成成分（Ｂ）は特に限定はないが、一例として、スチレン、ビニルナフタレン、ビニルアントラセン、およびその誘導体が挙げられる。これらの中でも構成成分（Ａ）や（Ｃ）との共重合が容易であることからスチレンが好ましい。
【0017】
一般的なプラスチック製基材への侵襲性の低い有機溶媒に溶解するために、本発明の構成成分（Ｃ）のＨＬＢ値は５．０～９．０の範囲にある単量体であり、好ましくは５．０～８．０である。ＨＬＢ値が５．０未満では有機溶媒への溶解性が低下し、ＨＬＢ値が９．０を超えると水に溶解しやすくなる。
【0018】
本発明の構成成分（Ｃ）は特に限定はないが、一例として、アクリル酸エステルやメタクリル酸エステルが挙げられる。これらの中でも構成成分（Ａ）や（Ｂ）との共重合が容易であることからｎ－ブチル（メタ）アクリレートが好ましい。
【0019】
本発明の構成成分（Ａ）、（Ｂ）及び（Ｃ）における（Ｃ）の比率は１０～５０ｍｏｌ％である。１０ｍｏｌ％未満では有機溶媒への溶解性が低下し、表面処理剤として用いる場合にコートムラが発生することがある。５０ｍｏｌ％を超えると十分な細胞接着性を発現することが困難になる。
【0020】
本発明の構成成分（Ａ）と（Ｂ）のモル比Ａ／Ｂ（ｍｏｌ／ｍｏｌ）は特に限定はないが、例えば０．１～２．０であり、好ましくは０．２～１．０であり、さらに好ましくは０．５～０．９である。ＡとＢのバランスが細胞接着性の発現に重要であり、０．１～２．０の範囲を超えると十分な細胞接着性が得られないことがある。
【0021】
本発明の高分子化合物には構成成分（Ａ）（Ｂ）（Ｃ）以外の構成成分が含まれていても良い。また、構成成分がランダムに配列したランダム共重合体であっても良く、それぞれの構成成分からなる高分子が連結したブロック共重合体であっても良い。
【0022】
本発明の高分子化合物は特に限定はないが、数平均分子量Ｍｎが５，０００～１，０００，０００であり、好ましくは１０，０００～３００，０００である。５，０００未満では水に溶解しやすくなり、１，０００，０００を超えると溶剤への溶解性が低下する。
【0023】
本発明の高分子化合物の重合方法は特に限定はなく、一例として、付加重合、重縮合、イオン重合、開環重合、リビングラジカル重合、配位重合を選択できる。
【0024】
本発明の高分子化合物の製法は特に限定はなく、一例として、塊状重合、溶液縮合、懸濁重合、乳化重合を選択できる。
【0025】
本発明の高分子化合物は溶剤に溶解することで表面処理剤として用いることができる。表面処理剤の溶剤は特に限定はないが、被覆する基材が溶解しない溶剤を選択することが好ましく、一例として、メタノール、エタノール、１－プロパノール、２－プロパノール、１－ブタノール、２－ブタノール、ｔ－ブタノール、アセトン、メチルエチルケトン、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジメチルホルムアミド、ｎ－ヘキサン、ベンゼン、トルエン、１，４－ジオキサン、２－メトキシエタノール、１－メトキシ－２－プロパノール、およびこれらから選択される混合液を用いることができる。表面処理剤中の高分子化合物の濃度は特に限定はないが、一例として、０．０１～１０ｗｔ％である。また本発明の高分子化合物以外の化合物を含んでも良い。
【0026】
本発明の表面処理剤は基材に塗布して乾燥などで溶媒を除去することで、基材表面に本発明の高分子化合物からなる膜を成形することができる。基材の種類に特に限定はなく、一例として、プラスチック（例えばポリエチレン、ポリプロピレン、ポリオレフィン、アクリル系ポリマー、メタクリル酸系ポリマー、シリコーンゴム、ポリスチレン、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート等）、金属、セラミックス、ガラスが挙げられる。また、基材の形状は特に限定はないが、一例として、板状、フィルム状、ビーズ状、繊維状の形状のほか、板状の基材に設けられた穴や溝や突起なども挙げられる。膜の成型方法に特に限定はなく、一例として、はけ塗り、ディップコーティング、スピンコーティング、バーコーティング、流し塗り、スプレー塗装、ロール塗装、エアーナイフコーティング、ブレードコーティングなど通常知られている各種の方法を用いることが可能である。膜厚は特に限定はなく、一例として１ｎｍ～１００μｍである
本発明の膜を表面に被覆した基材は、細胞培養基材として用いることができる。本発明の細胞培養基材に適用可能な細胞は特に限定はないが、一例として、間葉系幹細胞、チャイニーズハムスター卵巣由来ＣＨＯ細胞、マウス結合組織Ｌ９２９細胞、ヒト胎児腎臓由来細胞ＨＥＫ２９３細胞、ヒト子宮頸癌由来ＨｅＬａ細胞、更に生体内の各組織、臓器を構成する上皮細胞や内皮細胞、収縮性を示す骨格筋細胞、平滑筋細胞、心筋細胞、神経系を構成するニューロン細胞、グリア細胞、繊維芽細胞、生体の代謝に関与する肝実質細胞、肝非実質細胞や脂肪細胞、分化能を有する細胞として、種々の組織に存在する幹細胞、さらにはそれらから分化誘導した細胞等を用いることができる。これら以外でも、血液、リンパ液、髄液、喀痰、尿又は便に含まれる細胞や、体内あるいは環境中に存在する微生物、ウイルス、原虫等を例示できる。
本発明の膜を表面に被覆した基材は、細胞培養基材として用いることができる。本発明の細胞培養基材に適用可能な細胞は特に限定はないが、一例として、間葉系幹細胞、チャイニーズハムスター卵巣由来ＣＨＯ細胞、マウス結合組織Ｌ９２９細胞、ヒト胎児腎臓由来細胞ＨＥＫ２９３細胞、ヒト子宮頸癌由来ＨｅＬａ細胞、更に生体内の各組織、臓器を構成する上皮細胞や内皮細胞、収縮性を示す骨格筋細胞、平滑筋細胞、心筋細胞、神経系を構成するニューロン細胞、グリア細胞、繊維芽細胞、生体の代謝に関与する肝実質細胞、肝非実質細胞や脂肪細胞、分化能を有する細胞として、種々の組織に存在する幹細胞、さらにはそれらから分化誘導した細胞等を用いることができる。これら以外でも、血液、リンパ液、髄液、喀痰、尿又は便に含まれる細胞や、体内あるいは環境中に存在する微生物、ウイルス、原虫等を例示できる。
【実施例0027】
以下に本発明の実施例を説明するが、本発明はこれら実施例により何ら制限されるものではない。なお、断りのない限り、試薬は市販品を用いた。
＜ブロック共重合体の組成＞
核磁気共鳴測定装置（日本電子（株）製、商品名ＪＮＭ－ＥＣＺ４００Ｓ／Ｌ１）を用いたプロトン核磁気共鳴分光（１Ｈ－ＮＭＲ）スペクトル分析より求めた。
＜ブロック共重合体の分子量、分子量分布＞
重量平均分子量（Ｍｗ）、数平均分子量（Ｍｎ）および分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）は、ゲル・パーミエーション・クロマトグラフィー（ＧＰＣ）によって測定した。ＧＰＣ装置は東ソー（株）製 ＨＬＣ－８３２０ＧＰＣを用い、カラムは東ソー製 ＴＳＫｇｅｌ Ｓｕｐｅｒ ＡＷＭ－Ｈを２本用い、カラム温度を４０℃に設定し、溶離液は１０ｍＭトリフルオロ酢酸ナトリウムを含む１０ｍＭトリフルオロ酢酸ナトリウムを用いて測定した。測定試料は１．０ｍｇ／ｍＬで調製して測定した。分子量の検量線は、分子量既知のポリメタクリル酸メチル（ポリマーラボラトリーズ製）を用いた。
＜細胞数と細胞生存率の計測＞
細胞懸濁液中から１０μＬを細胞数測定用スライド（Ｔｈｅｒｍｏ Ｆｉｓｈｅｒ Ｓｃｉｅｎｔｉｆｉｃ（株）製、商品名Ｃｏｕｎｔｅｓｓ Ｃｅｌｌ Ｃｏｕｎｔｉｎｇ Ｃｈａｍｂｅｒ Ｓｌｉｄ）に添加し自動セルカウンター（Ｔｈｅｒｍｏ Ｆｉｓｈｅｒ Ｓｃｉｅｎｔｉｆｉｃ（株）製、商品名ＣｏｕｎｔｅｓｓＲ ＩＩ）を用いて、細胞数と細胞生存率を測定した。
＜ブロック共重合体の組成＞
核磁気共鳴測定装置（日本電子（株）製、商品名ＪＮＭ－ＥＣＺ４００Ｓ／Ｌ１）を用いたプロトン核磁気共鳴分光（１Ｈ－ＮＭＲ）スペクトル分析より求めた。
＜ブロック共重合体の分子量、分子量分布＞
重量平均分子量（Ｍｗ）、数平均分子量（Ｍｎ）および分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）は、ゲル・パーミエーション・クロマトグラフィー（ＧＰＣ）によって測定した。ＧＰＣ装置は東ソー（株）製 ＨＬＣ－８３２０ＧＰＣを用い、カラムは東ソー製 ＴＳＫｇｅｌ Ｓｕｐｅｒ ＡＷＭ－Ｈを２本用い、カラム温度を４０℃に設定し、溶離液は１０ｍＭトリフルオロ酢酸ナトリウムを含む１０ｍＭトリフルオロ酢酸ナトリウムを用いて測定した。測定試料は１．０ｍｇ／ｍＬで調製して測定した。分子量の検量線は、分子量既知のポリメタクリル酸メチル（ポリマーラボラトリーズ製）を用いた。
＜細胞数と細胞生存率の計測＞
細胞懸濁液中から１０μＬを細胞数測定用スライド（Ｔｈｅｒｍｏ Ｆｉｓｈｅｒ Ｓｃｉｅｎｔｉｆｉｃ（株）製、商品名Ｃｏｕｎｔｅｓｓ Ｃｅｌｌ Ｃｏｕｎｔｉｎｇ Ｃｈａｍｂｅｒ Ｓｌｉｄ）に添加し自動セルカウンター（Ｔｈｅｒｍｏ Ｆｉｓｈｅｒ Ｓｃｉｅｎｔｉｆｉｃ（株）製、商品名ＣｏｕｎｔｅｓｓＲ ＩＩ）を用いて、細胞数と細胞生存率を測定した。
【0028】
実施例１
２００ｍＬ２口フラスコに構成成分（Ａ）としてｐ－カルボキシスチレン（ＣＳｔ，ｐＫａ＝４．２０）０．８８９ｇ（６ｍｍｏｌ）と構成成分（Ｂ）としてスチレン（Ｓｔ，ＨＬＢ値＝０）０．８３３ｇ（８ｍｍｏｌ）と構成成分（Ｃ）としてｎ－ブチルアクリレート（ＢＡ， ＨＬＢ値＝６．９）０．７６９ｇ（６ｍｍｏｌ）を加え、さらにアゾビスイソブチロニトリル１６ｍｇ（１００μｍｏｌ）とｔｅｒｔ－ブチルアルコール２０ｍＬを加え、窒素ガス置換後、６４℃で２４時間加熱撹拌した。反応液をｎ－ヘプタンで再沈精製し、減圧乾燥することで白色固体の高分子化合物１ ｐｏｌｙ（ＣＳｔ／Ｓｔ／ＢＡ）を１．２８８ｇ得た。得られた高分子化合物１の組成はＣＳｔ：Ｓｔ：ＢＡ＝２８：４９：２３（ｍｏｌ％）、モル比Ａ／Ｂは０．５７、数平均分子量Ｍｎは９．１×１０４、分子量分布Ｍｗ／Ｍｎは１．９であった。
２００ｍＬ２口フラスコに構成成分（Ａ）としてｐ－カルボキシスチレン（ＣＳｔ，ｐＫａ＝４．２０）０．８８９ｇ（６ｍｍｏｌ）と構成成分（Ｂ）としてスチレン（Ｓｔ，ＨＬＢ値＝０）０．８３３ｇ（８ｍｍｏｌ）と構成成分（Ｃ）としてｎ－ブチルアクリレート（ＢＡ， ＨＬＢ値＝６．９）０．７６９ｇ（６ｍｍｏｌ）を加え、さらにアゾビスイソブチロニトリル１６ｍｇ（１００μｍｏｌ）とｔｅｒｔ－ブチルアルコール２０ｍＬを加え、窒素ガス置換後、６４℃で２４時間加熱撹拌した。反応液をｎ－ヘプタンで再沈精製し、減圧乾燥することで白色固体の高分子化合物１ ｐｏｌｙ（ＣＳｔ／Ｓｔ／ＢＡ）を１．２８８ｇ得た。得られた高分子化合物１の組成はＣＳｔ：Ｓｔ：ＢＡ＝２８：４９：２３（ｍｏｌ％）、モル比Ａ／Ｂは０．５７、数平均分子量Ｍｎは９．１×１０４、分子量分布Ｍｗ／Ｍｎは１．９であった。
【0029】
高分子化合物１を０．０５ｇ量り取り、２－ブタノール９．９５ｇに溶解した。本溶液を６０ｍｍのＩＷＡＫＩ浮遊培養用ポリスチレンディッシュに１００μＬ滴下し、３０００ｒｐｍで６０秒スピンコートすることで高分子化合物１を被覆した細胞培養基材を調製した。本細胞培養基材にヒト骨髄由来間葉系幹細胞（ロンザジャパン（株）製、Ｐｒｏｄｕｃｔ Ｃｏｄｅ：ＰＴ－２５０１）を１．０×１０５ｃｅｌｌｓ播種し、３７℃、ＣＯ２濃度５％で培養した。培養液にはウシ胎児血清（コロンビア産）を１０ｖｏｌ％含むダルベッコ・フォークト変法イーグル最小必須培地（１０ｖｏｌ％ＦＢＳ／ＤＭＥＭ）を用いた。６日間培養後に細胞数を計測したところ、４．０×１０５ｃｅｌｌｓであった。
【0030】
実施例２
２００ｍＬ２口フラスコに構成成分（Ａ）としてｐ－カルボキシスチレン（ＣＳｔ，ｐＫａ＝４．２０）０．８８９ｇ（６ｍｍｏｌ）と構成成分（Ｂ）としてスチレン（Ｓｔ，ＨＬＢ値＝０）０．６２５ｇ（６ｍｍｏｌ）と構成成分（Ｃ）としてｎ－ブチルアクリレート（ＢＡ， ＨＬＢ値＝６．９）１．２８２ｇ（１０ｍｍｏｌ）を加え、さらにアゾビスイソブチロニトリル１６ｍｇ（１００μｍｏｌ）とｔｅｒｔ－ブチルアルコール２０ｍＬを加え、窒素ガス置換後、６４℃で２４時間加熱撹拌した。反応液をｎ－ヘプタンで再沈精製し、減圧乾燥することで白色固体の高分子化合物２ ｐｏｌｙ（ＣＳｔ／Ｓｔ／ＢＡ）を１．１２８ｇ得た。得られた高分子化合物２の組成はＣＳｔ：Ｓｔ：ＢＡ＝２５：２９：４６（ｍｏｌ％）、モル比Ａ／Ｂは０．８６、数平均分子量Ｍｎは９．４×１０４、分子量分布Ｍｗ／Ｍｎは１．９であった。
２００ｍＬ２口フラスコに構成成分（Ａ）としてｐ－カルボキシスチレン（ＣＳｔ，ｐＫａ＝４．２０）０．８８９ｇ（６ｍｍｏｌ）と構成成分（Ｂ）としてスチレン（Ｓｔ，ＨＬＢ値＝０）０．６２５ｇ（６ｍｍｏｌ）と構成成分（Ｃ）としてｎ－ブチルアクリレート（ＢＡ， ＨＬＢ値＝６．９）１．２８２ｇ（１０ｍｍｏｌ）を加え、さらにアゾビスイソブチロニトリル１６ｍｇ（１００μｍｏｌ）とｔｅｒｔ－ブチルアルコール２０ｍＬを加え、窒素ガス置換後、６４℃で２４時間加熱撹拌した。反応液をｎ－ヘプタンで再沈精製し、減圧乾燥することで白色固体の高分子化合物２ ｐｏｌｙ（ＣＳｔ／Ｓｔ／ＢＡ）を１．１２８ｇ得た。得られた高分子化合物２の組成はＣＳｔ：Ｓｔ：ＢＡ＝２５：２９：４６（ｍｏｌ％）、モル比Ａ／Ｂは０．８６、数平均分子量Ｍｎは９．４×１０４、分子量分布Ｍｗ／Ｍｎは１．９であった。
【0031】
高分子化合物２を用いたこと以外は実施例１と同様の方法で細胞培養基材を調製し、ヒト骨髄由来間葉系幹細胞の培養を実施した。６日間培養後に細胞数を計測したところ、３．６×１０５ｃｅｌｌｓであった。
【0032】
実施例３
２００ｍＬ２口フラスコに構成成分（Ａ）としてｐ－カルボキシスチレン（ＣＳｔ，ｐＫａ＝４．２０）０．５９３ｇ（４ｍｍｏｌ）と構成成分（Ｂ）としてスチレン（Ｓｔ，ＨＬＢ値＝０）０．７２９ｇ（７ｍｍｏｌ）と構成成分（Ｃ）としてｎ－ブチルアクリレート（ＢＡ， ＨＬＢ値＝６．９）０．３８５ｇ（３ｍｍｏｌ）を加え、さらにアゾビスイソブチロニトリル１６ｍｇ（１００μｍｏｌ）とｔｅｒｔ－ブチルアルコール２０ｍＬを加え、窒素ガス置換後、６４℃で２４時間加熱撹拌した。反応液をｎ－ヘプタンで再沈精製し、減圧乾燥することで白色固体の高分子化合物３ ｐｏｌｙ（ＣＳｔ／Ｓｔ／ＢＡ）を１．０８９ｇ得た。得られた高分子化合物３の組成はＣＳｔ：Ｓｔ：ＢＡ＝３１：５１：１８（ｍｏｌ％）、モル比Ａ／Ｂは０．６１、数平均分子量Ｍｎは９．０×１０４、分子量分布Ｍｗ／Ｍｎは１．９であった。
２００ｍＬ２口フラスコに構成成分（Ａ）としてｐ－カルボキシスチレン（ＣＳｔ，ｐＫａ＝４．２０）０．５９３ｇ（４ｍｍｏｌ）と構成成分（Ｂ）としてスチレン（Ｓｔ，ＨＬＢ値＝０）０．７２９ｇ（７ｍｍｏｌ）と構成成分（Ｃ）としてｎ－ブチルアクリレート（ＢＡ， ＨＬＢ値＝６．９）０．３８５ｇ（３ｍｍｏｌ）を加え、さらにアゾビスイソブチロニトリル１６ｍｇ（１００μｍｏｌ）とｔｅｒｔ－ブチルアルコール２０ｍＬを加え、窒素ガス置換後、６４℃で２４時間加熱撹拌した。反応液をｎ－ヘプタンで再沈精製し、減圧乾燥することで白色固体の高分子化合物３ ｐｏｌｙ（ＣＳｔ／Ｓｔ／ＢＡ）を１．０８９ｇ得た。得られた高分子化合物３の組成はＣＳｔ：Ｓｔ：ＢＡ＝３１：５１：１８（ｍｏｌ％）、モル比Ａ／Ｂは０．６１、数平均分子量Ｍｎは９．０×１０４、分子量分布Ｍｗ／Ｍｎは１．９であった。
【0033】
高分子化合物３を用いたこと以外は実施例１と同様の方法で細胞培養基材を調製し、ヒト骨髄由来間葉系幹細胞の培養を実施した。６日間培養後に細胞数を計測したところ、３．４×１０５ｃｅｌｌｓであった。
【0034】
実施例４
２００ｍＬ２口フラスコに構成成分（Ａ）としてｐ－カルボキシスチレン（ＣＳｔ，ｐＫａ＝４．２０）１．４８２ｇ（１０ｍｍｏｌ）と構成成分（Ｂ）としてスチレン（Ｓｔ，ＨＬＢ値＝０）０．５２１ｇ（５ｍｍｏｌ）と構成成分（Ｃ）としてｎ－ブチルメタクリレート（ＢＭＡ， ＨＬＢ値＝６．２）１．４８２ｇ（１０ｍｍｏｌ）を加え、さらにアゾビスイソブチロニトリル１６ｍｇ（１００μｍｏｌ）とｔｅｒｔ－ブチルアルコール２０ｍＬを加え、窒素ガス置換後、６４℃で２４時間加熱撹拌した。反応液をｎ－ヘプタンで再沈精製し、減圧乾燥することで白色固体の高分子化合物７ ｐｏｌｙ（ＣＳｔ／Ｓｔ／ＢＭＡ）を１．３０１ｇ得た。得られた高分子化合物７の組成はＣＳｔ：Ｓｔ：ＢＭＡ＝３８：２０：４２（ｍｏｌ％）、モル比Ａ／Ｂは１．９０、数平均分子量Ｍｎは９．０×１０４、分子量分布Ｍｗ／Ｍｎは２．０であった。
２００ｍＬ２口フラスコに構成成分（Ａ）としてｐ－カルボキシスチレン（ＣＳｔ，ｐＫａ＝４．２０）１．４８２ｇ（１０ｍｍｏｌ）と構成成分（Ｂ）としてスチレン（Ｓｔ，ＨＬＢ値＝０）０．５２１ｇ（５ｍｍｏｌ）と構成成分（Ｃ）としてｎ－ブチルメタクリレート（ＢＭＡ， ＨＬＢ値＝６．２）１．４８２ｇ（１０ｍｍｏｌ）を加え、さらにアゾビスイソブチロニトリル１６ｍｇ（１００μｍｏｌ）とｔｅｒｔ－ブチルアルコール２０ｍＬを加え、窒素ガス置換後、６４℃で２４時間加熱撹拌した。反応液をｎ－ヘプタンで再沈精製し、減圧乾燥することで白色固体の高分子化合物７ ｐｏｌｙ（ＣＳｔ／Ｓｔ／ＢＭＡ）を１．３０１ｇ得た。得られた高分子化合物７の組成はＣＳｔ：Ｓｔ：ＢＭＡ＝３８：２０：４２（ｍｏｌ％）、モル比Ａ／Ｂは１．９０、数平均分子量Ｍｎは９．０×１０４、分子量分布Ｍｗ／Ｍｎは２．０であった。
【0035】
高分子化合物７を用いたこと以外は実施例１と同様の方法で細胞培養基材を調製し、ヒト骨髄由来間葉系幹細胞の培養を実施した。６日間培養後に細胞数を計測したところ、３．８×１０５ｃｅｌｌｓであった。
【0036】
実施例５
２００ｍＬ２口フラスコに構成成分（Ａ）としてアクリル酸（ＡＡ，ｐＫａ＝４．７６）０．３６０ｇ（５ｍｍｏｌ）と構成成分（Ｂ）としてスチレン（Ｓｔ，ＨＬＢ値＝０）１．２５０ｇ（１２ｍｍｏｌ）と構成成分（Ｃ）としてｎ－ブチルアクリレート（ＢＡ， ＨＬＢ値＝６．９）０．６４１ｇ（５ｍｍｏｌ）を加え、さらにアゾビスイソブチロニトリル１６ｍｇ（１００μｍｏｌ）とｔｅｒｔ－ブチルアルコール２０ｍＬを加え、窒素ガス置換後、６４℃で２４時間加熱撹拌した。反応液をｎ－ヘプタンで再沈精製し、減圧乾燥することで白色固体の高分子化合物８ ｐｏｌｙ（ＡＡ／Ｓｔ／ＢＡ）を１．０８４ｇ得た。得られた高分子化合物８の組成はＡＡ：Ｓｔ：ＢＡ＝２５：５９：１６（ｍｏｌ％）、モル比Ａ／Ｂは０．４２、数平均分子量Ｍｎは５．０×１０４、分子量分布Ｍｗ／Ｍｎは２．３であった。
２００ｍＬ２口フラスコに構成成分（Ａ）としてアクリル酸（ＡＡ，ｐＫａ＝４．７６）０．３６０ｇ（５ｍｍｏｌ）と構成成分（Ｂ）としてスチレン（Ｓｔ，ＨＬＢ値＝０）１．２５０ｇ（１２ｍｍｏｌ）と構成成分（Ｃ）としてｎ－ブチルアクリレート（ＢＡ， ＨＬＢ値＝６．９）０．６４１ｇ（５ｍｍｏｌ）を加え、さらにアゾビスイソブチロニトリル１６ｍｇ（１００μｍｏｌ）とｔｅｒｔ－ブチルアルコール２０ｍＬを加え、窒素ガス置換後、６４℃で２４時間加熱撹拌した。反応液をｎ－ヘプタンで再沈精製し、減圧乾燥することで白色固体の高分子化合物８ ｐｏｌｙ（ＡＡ／Ｓｔ／ＢＡ）を１．０８４ｇ得た。得られた高分子化合物８の組成はＡＡ：Ｓｔ：ＢＡ＝２５：５９：１６（ｍｏｌ％）、モル比Ａ／Ｂは０．４２、数平均分子量Ｍｎは５．０×１０４、分子量分布Ｍｗ／Ｍｎは２．３であった。
【0037】
高分子化合物８を用いたこと以外は実施例１と同様の方法で細胞培養基材を調製し、ヒト骨髄由来間葉系幹細胞の培養を実施した。６日間培養後に細胞数を計測したところ、３．６×１０５ｃｅｌｌｓであった。
【0038】
実施例６
ｐ－スチレンスルホン酸ナトリウムをイオン交換水に溶解し、Ｈ型陽イオン交換樹脂を充填したカラムに通液した。さらに２０℃でロータリーエバポレーターを用い濃縮と乾燥を行うことで白色粉末のｐ－スチレンスルホン酸を得た。
ｐ－スチレンスルホン酸ナトリウムをイオン交換水に溶解し、Ｈ型陽イオン交換樹脂を充填したカラムに通液した。さらに２０℃でロータリーエバポレーターを用い濃縮と乾燥を行うことで白色粉末のｐ－スチレンスルホン酸を得た。
【0039】
２００ｍＬ２口フラスコに構成成分（Ａ）としてｐ－スチレンスルホン酸（ＳＳＡ，ｐＫａ＝－２．８０）１．２８９ｇ（７ｍｍｏｌ）と構成成分（Ｂ）としてスチレン（Ｓｔ，ＨＬＢ値＝０）１．０４２ｇ（１０ｍｍｏｌ）と構成成分（Ｃ）としてｎ－ブチルアクリレート（ＢＡ， ＨＬＢ値＝６．９）１．５３８ｇ（１２ｍｍｏｌ）を加え、さらにアゾビスイソブチロニトリル１６ｍｇ（１００μｍｏｌ）とエタノール２０ｍＬを加え、窒素ガス置換後、６４℃で２４時間加熱撹拌した。反応液をｎ－ヘプタンで再沈精製し、減圧乾燥することで白色固体の高分子化合物９ ｐｏｌｙ（ＳＳＡ／Ｓｔ／ＢＡ）を１．４９７ｇ得た。得られた高分子化合物９の組成はＳＳＡ：Ｓｔ：ＢＡ＝２４：３１：４５（ｍｏｌ％）、モル比Ａ／Ｂは０．７７、数平均分子量Ｍｎは３．３×１０４、分子量分布Ｍｗ／Ｍｎは２．６であった。
【0040】
高分子化合物９を用いたこと以外は実施例１と同様の方法で細胞培養基材を調製し、ヒト骨髄由来間葉系幹細胞の培養を実施した。６日間培養後に細胞数を計測したところ、３．５×１０５ｃｅｌｌｓであった。
【0041】
比較例１
２００ｍＬ２口フラスコに構成成分（Ａ）としてｐ－カルボキシスチレン（ＣＳｔ，ｐＫａ＝４．２０）２．３７１ｇ（１６ｍｍｏｌ）と構成成分（Ｂ）としてスチレン（Ｓｔ，ＨＬＢ値＝０）０．４１７ｇ（４ｍｍｏｌ）と構成成分（Ｃ）としてｎ－ブチルアクリレート（ＢＡ， ＨＬＢ値＝６．９）０．７６９ｇ（６ｍｍｏｌ）を加え、さらにアゾビスイソブチロニトリル１６ｍｇ（１００μｍｏｌ）とｔｅｒｔ－ブチルアルコール２０ｍＬを加え、窒素ガス置換後、６４℃で２４時間加熱撹拌した。反応液をｎ－ヘプタンで再沈精製し、減圧乾燥することで白色固体の高分子化合物４ ｐｏｌｙ（ＣＳｔ／Ｓｔ／ＢＡ）を１．２２４ｇ得た。得られた高分子化合物４の組成はＣＳｔ：Ｓｔ：ＢＡ＝７９：７：１４（ｍｏｌ％）、モル比Ａ／Ｂは１１．２９、数平均分子量Ｍｎは９．４×１０４、分子量分布Ｍｗ／Ｍｎは１．９であった。
２００ｍＬ２口フラスコに構成成分（Ａ）としてｐ－カルボキシスチレン（ＣＳｔ，ｐＫａ＝４．２０）２．３７１ｇ（１６ｍｍｏｌ）と構成成分（Ｂ）としてスチレン（Ｓｔ，ＨＬＢ値＝０）０．４１７ｇ（４ｍｍｏｌ）と構成成分（Ｃ）としてｎ－ブチルアクリレート（ＢＡ， ＨＬＢ値＝６．９）０．７６９ｇ（６ｍｍｏｌ）を加え、さらにアゾビスイソブチロニトリル１６ｍｇ（１００μｍｏｌ）とｔｅｒｔ－ブチルアルコール２０ｍＬを加え、窒素ガス置換後、６４℃で２４時間加熱撹拌した。反応液をｎ－ヘプタンで再沈精製し、減圧乾燥することで白色固体の高分子化合物４ ｐｏｌｙ（ＣＳｔ／Ｓｔ／ＢＡ）を１．２２４ｇ得た。得られた高分子化合物４の組成はＣＳｔ：Ｓｔ：ＢＡ＝７９：７：１４（ｍｏｌ％）、モル比Ａ／Ｂは１１．２９、数平均分子量Ｍｎは９．４×１０４、分子量分布Ｍｗ／Ｍｎは１．９であった。
【0042】
高分子化合物４を用いたこと以外は実施例１と同様の方法で細胞培養基材を調製し、ヒト骨髄由来間葉系幹細胞の培養を実施した。６日間培養後に細胞数を計測したところ、１．２×１０５ｃｅｌｌｓであった。
【0043】
比較例２
２００ｍＬ２口フラスコに構成成分（Ｂ）としてスチレン（Ｓｔ，ＨＬＢ値＝０）１．４５８ｇ（１４ｍｍｏｌ）と構成成分（Ｃ）としてｎ－ブチルアクリレート（ＢＡ， ＨＬＢ値＝６．９）０．７６９ｇ（６ｍｍｏｌ）を加え、さらにアゾビスイソブチロニトリル１６ｍｇ（１００μｍｏｌ）とｔｅｒｔ－ブチルアルコール２０ｍＬを加え、窒素ガス置換後、６４℃で２４時間加熱撹拌した。実施例１と同様の方法で精製することで、高分子化合物５ ｐｏｌｙ（Ｓｔ／ＢＡ）を１．２１５ｇ得た。得られた高分子化合物５の組成はＳｔ：ＢＡ＝６０：４０（ｍｏｌ％）、モル比Ａ／Ｂは０．０、数平均分子量Ｍｎは８．３×１０４、分子量分布Ｍｗ／Ｍｎは２．０であった。
２００ｍＬ２口フラスコに構成成分（Ｂ）としてスチレン（Ｓｔ，ＨＬＢ値＝０）１．４５８ｇ（１４ｍｍｏｌ）と構成成分（Ｃ）としてｎ－ブチルアクリレート（ＢＡ， ＨＬＢ値＝６．９）０．７６９ｇ（６ｍｍｏｌ）を加え、さらにアゾビスイソブチロニトリル１６ｍｇ（１００μｍｏｌ）とｔｅｒｔ－ブチルアルコール２０ｍＬを加え、窒素ガス置換後、６４℃で２４時間加熱撹拌した。実施例１と同様の方法で精製することで、高分子化合物５ ｐｏｌｙ（Ｓｔ／ＢＡ）を１．２１５ｇ得た。得られた高分子化合物５の組成はＳｔ：ＢＡ＝６０：４０（ｍｏｌ％）、モル比Ａ／Ｂは０．０、数平均分子量Ｍｎは８．３×１０４、分子量分布Ｍｗ／Ｍｎは２．０であった。
【0044】
高分子化合物５を用いたこと以外は実施例１と同様の方法で細胞培養基材を調製し、ヒト骨髄由来間葉系幹細胞の培養を実施した。６日間培養後に細胞数を計測したところ、２．３×１０５ｃｅｌｌｓであった。
【0045】
比較例３
２００ｍＬ２口フラスコに構成成分（Ａ）としてｐ－カルボキシスチレン（ＣＳｔ，ｐＫａ＝４．２０）２．２２２ｇ（１５ｍｍｏｌ）と構成成分（Ｂ）としてスチレン（Ｓｔ，ＨＬＢ値＝０）０．５２１ｇ（５ｍｍｏｌ）を加え、さらにアゾビスイソブチロニトリル１６ｍｇ（１００μｍｏｌ）とｔｅｒｔ－ブチルアルコール２０ｍＬを加え、窒素ガス置換後、６４℃で２４時間加熱撹拌した。反応液をｎ－ヘプタンで再沈精製し、減圧乾燥することで白色個体の高分子化合物６ ｐｏｌｙ（ＣＳｔ／Ｓｔ）を１．５３０ｇ得た。得られた高分子化合物６の組成はＣＳｔ：Ｓｔ＝８０：２０（ｍｏｌ％）、モル比Ａ／Ｂは４．００、数平均分子量Ｍｎは８．９×１０４、分子量分布Ｍｗ／Ｍｎは１．９であった。
２００ｍＬ２口フラスコに構成成分（Ａ）としてｐ－カルボキシスチレン（ＣＳｔ，ｐＫａ＝４．２０）２．２２２ｇ（１５ｍｍｏｌ）と構成成分（Ｂ）としてスチレン（Ｓｔ，ＨＬＢ値＝０）０．５２１ｇ（５ｍｍｏｌ）を加え、さらにアゾビスイソブチロニトリル１６ｍｇ（１００μｍｏｌ）とｔｅｒｔ－ブチルアルコール２０ｍＬを加え、窒素ガス置換後、６４℃で２４時間加熱撹拌した。反応液をｎ－ヘプタンで再沈精製し、減圧乾燥することで白色個体の高分子化合物６ ｐｏｌｙ（ＣＳｔ／Ｓｔ）を１．５３０ｇ得た。得られた高分子化合物６の組成はＣＳｔ：Ｓｔ＝８０：２０（ｍｏｌ％）、モル比Ａ／Ｂは４．００、数平均分子量Ｍｎは８．９×１０４、分子量分布Ｍｗ／Ｍｎは１．９であった。
【0046】
高分子化合物６を０．０５ｇ量り取り、２－ブタノール９．９５ｇへの溶解を試みたが、溶解できなかった。本懸濁液を６０ｍｍのＩＷＡＫＩ浮遊培養用ポリスチレンディッシュに１００μＬ滴下し、３０００ｒｐｍで６０秒スピンコートしたが培養基材表面にコートムラが現れてしまい、均一なコーティングができなかった。本細胞培養基材を用いたこと以外は実施例１と同様の方法でヒト骨髄由来間葉系幹細胞の培養を実施した。６日間培養後に細胞数を計測したところ、３．７×１０５ｃｅｌｌｓであった。
【0047】
比較例４
６０ｍｍのＩＷＡＫＩ浮遊培養用ポリスチレンディッシュにヒト骨髄由来間葉系幹細胞（ロンザジャパン（株）製、Ｐｒｏｄｕｃｔ Ｃｏｄｅ：ＰＴ－２５０１）を１．０×１０５ｃｅｌｌｓ播種し、３７℃、ＣＯ２濃度５％で培養した。培養液にはウシ胎児血清（コロンビア産）を１０ｖｏｌ％含むダルベッコ・フォークト変法イーグル最小必須培地（１０ｖｏｌ％ＦＢＳ／ＤＭＥＭ）を用いた。６日間培養後に細胞数を計測したところ、２．０×１０５ｃｅｌｌｓであった。
６０ｍｍのＩＷＡＫＩ浮遊培養用ポリスチレンディッシュにヒト骨髄由来間葉系幹細胞（ロンザジャパン（株）製、Ｐｒｏｄｕｃｔ Ｃｏｄｅ：ＰＴ－２５０１）を１．０×１０５ｃｅｌｌｓ播種し、３７℃、ＣＯ２濃度５％で培養した。培養液にはウシ胎児血清（コロンビア産）を１０ｖｏｌ％含むダルベッコ・フォークト変法イーグル最小必須培地（１０ｖｏｌ％ＦＢＳ／ＤＭＥＭ）を用いた。６日間培養後に細胞数を計測したところ、２．０×１０５ｃｅｌｌｓであった。
【0048】
比較例５
６０ｍｍのＩＷＡＫＩ接着培養用ポリスチレンディッシュにヒト骨髄由来間葉系幹細胞（ロンザジャパン（株）製、Ｐｒｏｄｕｃｔ Ｃｏｄｅ：ＰＴ－２５０１）を１．０×１０５ｃｅｌｌｓ播種し、３７℃、ＣＯ２濃度５％で培養した。培養液にはウシ胎児血清（コロンビア産）を１０ｖｏｌ％含むダルベッコ・フォークト変法イーグル最小必須培地（１０ｖｏｌ％ＦＢＳ／ＤＭＥＭ）を用いた。６日間培養後に細胞数を計測したところ、３．０×１０５ｃｅｌｌｓであった。
６０ｍｍのＩＷＡＫＩ接着培養用ポリスチレンディッシュにヒト骨髄由来間葉系幹細胞（ロンザジャパン（株）製、Ｐｒｏｄｕｃｔ Ｃｏｄｅ：ＰＴ－２５０１）を１．０×１０５ｃｅｌｌｓ播種し、３７℃、ＣＯ２濃度５％で培養した。培養液にはウシ胎児血清（コロンビア産）を１０ｖｏｌ％含むダルベッコ・フォークト変法イーグル最小必須培地（１０ｖｏｌ％ＦＢＳ／ＤＭＥＭ）を用いた。６日間培養後に細胞数を計測したところ、３．０×１０５ｃｅｌｌｓであった。
【0049】
【表1】