特開 2022-156547 純水生成装置

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】公開特許公報(A)

(11)【公開番号】P2022156547

(43)【公開日】2022-10-14

(54)【発明の名称】純水生成装置

(51)【国際特許分類】

   C02F 9/12 20060101AFI20221006BHJP

   C02F 9/02 20060101ALI20221006BHJP

   C02F 9/04 20060101ALI20221006BHJP

   C02F 1/32 20060101ALI20221006BHJP

   B01D 53/64 20060101ALI20221006BHJP

   B01D 53/78 20060101ALI20221006BHJP

   C02F 1/42 20060101ALI20221006BHJP

   B23Q 11/10 20060101ALI20221006BHJP

【ＦＩ】

C02F9/12

C02F9/02 ZAB

C02F9/04

C02F1/32

B01D53/64

B01D53/78

C02F1/42 A

C02F1/42 G

B23Q11/10 Z

B23Q11/10 E

【審査請求】未請求

【請求項の数】3

【出願形態】ＯＬ

(21)【出願番号】P 2021060291

(22)【出願日】2021-03-31

(71)【出願人】

【識別番号】000134051

【氏名又は名称】株式会社ディスコ

(74)【代理人】

【識別番号】100075177

【弁理士】

【氏名又は名称】小野 尚純

(74)【代理人】

【識別番号】100113217

【弁理士】

【氏名又は名称】奥貫 佐知子

(74)【代理人】

【識別番号】100202496

【弁理士】

【氏名又は名称】鹿角 剛二

(74)【代理人】

【識別番号】100202692

【弁理士】

【氏名又は名称】金子 吉文

(72)【発明者】

【氏名】吉田 幹

(72)【発明者】

【氏名】出島 健志

(72)【発明者】

【氏名】柏木 宏之

【テーマコード（参考）】

3C011

4D002

4D025

4D037

【Ｆターム（参考）】

3C011EE09

4D002AA31

4D002BA02

4D002CA01

4D002CA07

4D002DA35

4D002EA07

4D025AA09

4D025AB24

4D025BA07

4D025BB10

4D025CA01

4D025CA04

4D025DA04

4D025DA05

4D025DA10

4D037AA13

4D037AB08

4D037AB18

4D037BA18

4D037CA02

4D037CA03

4D037CA15

(57)【要約】

【課題】大掛かりな設備の追加の必要がなく、有毒ガスの問題を解決することができる純水生成装置を提供する。
【解決手段】排水Ｌ０を貯水する排水タンク２１と、排水タンク２１から送り出された排水Ｌ１を濾過する濾過部２２と、濾過部２２によって生成された清水Ｌ４を貯水する清水タンク２３と、清水タンク２３から送り出された清水Ｌ４に紫外線を照射して有機物を破壊する紫外線照射部２４と、紫外線照射部２４から送り出された清水Ｌ５を純水に精製するイオン交換樹脂部２５と、イオン交換樹脂部２５によって精製された純水Ｌ６を加工装置に供給する純水供給部２７と、を少なくとも含み、排水タンク２１には、排水Ｌ０から生じた有毒ガスＧ１を吸気してスクラバー５２に供給し有毒成分を水に溶かすことにより有毒ガスＧ１を無毒化して排気する無毒化手段５０が配設される。
【選択図】図２

【特許請求の範囲】

【請求項1】

排水から純水を生成する純水生成装置であって、
排水を貯水する排水タンクと、該排水タンクから送り出された排水を濾過する濾過部と、該濾過部によって生成された清水を貯水する清水タンクと、該清水タンクから送り出された清水に紫外線を照射して有機物を破壊する紫外線照射部と、該紫外線照射部から送り出された清水を純水に精製するイオン交換樹脂部と、該イオン交換樹脂部によって精製された純水を加工装置に供給する純水供給部と、を少なくとも含み、
該排水タンクには、排水から生じた有毒ガスを吸気してスクラバーに供給し有毒成分を水に溶かすことにより該有毒ガスを無毒化して排気する無毒化手段が配設される純水生成装置。

【請求項2】

該スクラバーに供給される水は、排水タンクに貯水された排水、濾過部によって濾過された清水、該イオン交換樹脂部によって精製された純水のいずれかが使用される請求項１の純水生成装置。

【請求項3】

該有毒成分を含む水は、該イオン交換樹脂部で純水に精製される請求項１に記載の純水生成装置。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、排水から純水を生成する純水生成装置に関する。

【背景技術】

【0002】

ＩＣ、ＬＳＩ等の複数のデバイスが分割予定ラインによって区画された表面に形成されたウエーハは、研削装置によって裏面が研削され所望の厚みに形成された後、ダイシング装置によって個々のデバイスチップに分割され、携帯電話、パソコン等の電気機器に利用される。

【0003】

研削装置、ダイシング装置は、加工水として純水が使用されることから、本出願人は、加工装置から排出される排水を純水に精製して循環させる装置を開発し提案している（特許文献１を参照）。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0004】

【特許文献1】特開２００９－２１４１９３号公報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0005】

上記した特許文献１に記載された純水生成装置は、排水を貯水する排水タンクと、該排水タンクから送り出された排水を濾過する濾過部と、該濾過部によって生成された清水を貯水する清水タンクと、該清水タンクから送り出された清水に紫外線を照射して有機物を破壊する紫外線照射部と、該紫外線照射部から送り出された清水を純水に精製するイオン交換樹脂部と、該イオン交換樹脂部によって精製された純水を濾過する精密フィルター部と、該精密フィルター部から送り出された純水を加工装置に供給する純水供給部とを含み構成されている。

【0006】

上記の加工装置（研削装置、ダイシング装置等）において加工される被加工物がＧａＡｓ（ガリウムヒ素）で構成されたウエーハである場合、加工装置から排出されて排水タンクに貯水される排水から人体に危害を及ぼす虞がある有毒なアルシンガスが発生する。しかし、従来の純水生成装置では、該有毒ガスを処理できないため、排水タンクの上部に排気ポートを配設してこのガスを吸引して、別途の装置として配設された浄化装置に送り、これを無毒化したうえで該加工装置が配設されたクリーンルームの外に排出している。しかし、このような浄化装置を設置する場合、設備が大掛かりとなり、不経済であるという問題が発生するため対策が求められている。

【0007】

本発明は、上記事実に鑑みなされたものであり、その主たる技術課題は、大掛かりな設備の追加の必要がなく、有毒ガスの問題を解決することができる純水生成装置を提供することにある。

【課題を解決するための手段】

【0008】

上記主たる技術課題を解決するため、本発明によれば、排水から純水を生成する純水生成装置であって、排水を貯水する排水タンクと、該排水タンクから送り出された排水を濾過する濾過部と、該濾過部によって生成された清水を貯水する清水タンクと、該清水タンクから送り出された清水に紫外線を照射して有機物を破壊する紫外線照射部と、該紫外線照射部から送り出された清水を純水に精製するイオン交換樹脂部と、該イオン交換樹脂部によって精製された純水を加工装置に供給する純水供給部と、を少なくとも含み、該排水タンクには、排水から生じた有毒ガスを吸気してスクラバーに供給し有毒成分を水に溶かすことにより該有毒ガスを無毒化して排気する無毒化手段が配設される純水生成装置が提供される。

【0009】

好ましくは、該スクラバーに供給される水は、排水タンクに貯水された排水、濾過部によって濾過された清水、該イオン交換樹脂部によって精製された純水のいずれかが使用される。また、より好ましくは、該有毒成分を含む水は、該イオン交換樹脂部で純水に精製される。

【発明の効果】

【0010】

本発明の純水生成装置は、排水から純水を生成する純水生成装置であって、排水を貯水する排水タンクと、該排水タンクから送り出された排水を濾過する濾過部と、該濾過部によって生成された清水を貯水する清水タンクと、該清水タンクから送り出された清水に紫外線を照射して有機物を破壊する紫外線照射部と、該紫外線照射部から送り出された清水を純水に精製するイオン交換樹脂部と、該イオン交換樹脂部によって精製された純水を加工装置に供給する純水供給部と、を少なくとも含み、該排水タンクには、排水から生じた有毒ガスを吸気してスクラバーに供給し有毒成分を水に溶かすことにより該有毒ガスを無毒化して排気する無毒化手段が配設されることから、有毒ガスを無毒化するための大掛かりな設備を用意する必要がなく、純水生成装置によって有毒ガスを無毒化することができ、不経済であるという問題が解消する。

【図面の簡単な説明】

【0011】

【図1】本実施形態の純水生成装置及びダイシング装置の全体斜視図である。

【図2】図１に示す純水生成装置の内部に収容された概略構成を分解して示す斜視図である。

【図3】図２に示す純水生成装置に配設された無毒化手段の概要を示す概念図である。

【発明を実施するための形態】

【0012】

以下、本発明に基づいて構成される純水生成装置に係る実施形態について添付図面を参照しながら詳細に説明する。図１には、周知のダイシング装置１に、本実施形態の純水生成装置２０を適用した例が示されている。

【0013】

本実施形態のダイシング装置１は、略直方体状の装置ハウジング２を備え、被加工物であるウエーハ１２を保持するチャックテーブル機構３と、チャックテーブル機構３に保持されたウエーハ１２を切削する切削ブレード４１を備えた切削手段４と、を含み構成されている。ダイシング装置１は、複数のウエーハ１２を収容するカセット５（２点鎖線で示す）と、カセット５に収容されたウエーハ１２を搬出して仮置きする仮置きテーブル６と、仮置きテーブル６にウエーハ１２を搬出する搬出入手段７と、仮置きテーブル６に搬出されたウエーハ１２をチャックテーブル機構３上に旋回して搬送する搬送手段８と、切削手段４により切削加工されたウエーハを洗浄する洗浄手段９（詳細は省略している）と、切削加工されたウエーハ１２をチャックテーブル機構３から洗浄手段９へ搬送する洗浄搬送手段１０と、チャックテーブル機構３上のウエーハ１２を撮像する撮像手段１１と、図示を省略する制御手段と、を備えている。カセット５は、図示しない昇降手段によって上下に移動可能に配設されたカセットテーブル５ａ上に載置されており、カセット５からウエーハ１２を搬出入手段７によって搬出する際には、カセット５の高さが適宜調整される。なお、本実施形態で加工されるウエーハ１２は、ガリウムヒ素（ＧａＡｓ）基板からなるウエーハである。

【0014】

装置ハウジング２内には、チャックテーブル機構３と切削手段４とを相対的に移動させて加工送りする手段であって、チャックテーブル機構３に配設されたチャックテーブル３０を切削送り方向である矢印Ｘで示すＸ方向に移動させるＸ方向送り手段と、切削手段４をＸ方向と直交する矢印Ｙで示すＹ方向に移動させるＹ方向送り手段と、切削手段４を該Ｘ方向及びＹ方向と直交する矢印Ｚで示すＺ方向に移動させるＺ方向送り手段（いずれも図示は省略する）とが配設されている。また、切削手段４には、チャックテーブル３０に吸引保持されたウエーハを切削する際に、純水である加工水（切削水）を切削加工位置に供給する切削水供給ノズル４２が配設されている。

【0015】

切削供給ノズル４２から供給される切削水は、切削加工が実施される際に切削加工位置に供給された後、ダイシング装置１に配設された図示を省略する回収路によって回収され、装置ハウジング２から、排水Ｌ０として経路１００を介して隣接して配設される本実施形態の純水生成装置２０に送られる。純水生成装置２０に送られた排水Ｌ０は、純水生成装置２０によって精製されて純水Ｌ８となり、経路１０８を介して、再びダイシング装置１に切削水として供給される。

【0016】

上記の純水生成装置２０について、図１に加え、図２を参照しながらより具体的に説明する。図２には、純水生成装置２０のハウジング２０Ａの内部に収容される概略構成の斜視図が示されている。

【0017】

図２に示すように、純水生成装置２０は、ダイシング装置１から経路１００を介して排出された排水Ｌ０を貯水する排水タンク２１と、排水タンク２１から、ポンプＰ１の作用により経路１０２を経由して排出された排水Ｌ１を濾過する濾過部２２と、濾過部２２によって濾過され経路１０３を経由して送られた清水Ｌ３を貯水する清水タンク２３と、経路１０４上に配設されたポンプＰ２の作用により清水タンク２３から排出された清水Ｌ４に対して紫外線を照射し、清水Ｌ４中に含まれる有機物を破壊する紫外線照射部２４と、紫外線照射部２４によって有機物が破壊された後の清水Ｌ５が経路１０５を介して導入されて清水Ｌ５を純水Ｌ６に精製するイオン交換樹脂部２５と、イオン交換樹脂部２５に接続された経路１０６を介して導入された純水Ｌ６を高精度に濾過する精密フィルター部２６と、精密フィルター部２６によって濾過され、経路１０７を介して導入される純水Ｌ７を上記のダイシング装置１に供給する純水供給部２７を備え、さらに、本実施形態の純水生成装置２０の排水タンク２１には、排水タンク２１に収容された排水Ｌ０から生じた有毒ガスＧ１を吸気して該有毒ガスＧ１を無毒化して無害な排気ガスＧ２として排出する無毒化手段５０が配設されている。

【0018】

図示の実施形態では、濾過部２２は、第１濾過フィルター２２１、第２濾過フィルター２２２を備え、純水生成装置２０の作動を止めることなく濾過部２２の作動を継続することができるように、流路切換弁Ｖ１を備えている。一方の濾過フィルターを使用中に目詰まりが検出された場合には、流路切換弁Ｖ１を作動して、経路１０２から導かれる排水Ｌ１の流れを目詰まりしていない他方の濾過フィルターに導き、目詰まりが検出された濾過フィルターを新たな濾過フィルターに交換する。なお、濾過部２２の濾過フィルターの目詰まりは、経路１０２上に配設された圧力センサＭ１によって経路１０２内の圧力を検出することで判定することが可能である。

【0019】

イオン交換樹脂部２５は、第１イオン交換樹脂部２５１、第２イオン交換樹脂部２５２を備え、純水生成装置２０の作動を止めることなくイオン交換樹脂部２５の作動を継続することができるように、流路切換弁Ｖ２を備えている。例えば、第２イオン交換樹脂部２５２の消耗が検出される場合には、流路切換弁Ｖ２を作動することにより、経路１０５から導かれる清水Ｌ５を、消耗していない第１イオン交換樹脂部２５１に導き、その間、第２イオン交換樹脂部２５２を新しいイオン交換樹脂に交換する。なお、イオン交換樹脂の消耗の度合いは、経路１０６を流れる純水Ｌ６の比抵抗値を検出する比抵抗値センサＭ２によって検出される検出値に基づいて判定することが可能である。

【0020】

イオン交換樹脂部２５によって生成された純水Ｌ６は、経路１０６を介して精密フィルター部２６に送られる。精密フィルター部２６において純水Ｌ６内に残存する不純物が除去された純水Ｌ７が生成される。なお、精密フィルター部２６の目詰まりは、経路１０６上に配設された圧力センサＭ３によって圧力を検出することで判定することが可能である。

【0021】

純水供給部２７は、図示を省略するポンプを備え、精密フィルター部２６からから排出された純水Ｌ７を貯水すると共に該純水Ｌ７の温度を適宜調整し、温度調整が施された純水Ｌ８を、経路１０８を介してダイシング装置１に供給する。

【0022】

本実施形態の無毒化手段５０について、図２、図３を参照しながら、より具体的に説明する。無毒化手段５０は、排水タンク２１に配設されている。無毒化手段５０は、ファン５１と、スクラバー５２とを備えている。図３に示すように、排水タンク２１内には排水Ｌ０が貯水され、該排水Ｌ０から発生する有毒ガスＧ１が排水タンク２１内の上部空間を満たしている。ファン５１は、この排水タンク２１内に充満する有毒ガスＧ１を吸気すべく、排水タンク２１内の上部の空間に接続された経路１０１に配設されている。ファン５１を作動することにより、排水タンク２１内に充満する有毒ガスＧ１が吸気されて、スクラバー５２に送気される。本実施形態のスクラバー５２は、図に示すように、いわゆる湿式の洗浄システム（Ｓｃｒｕｂｂｅｒ Ｓｙｓｔｅｍ）であり、スクラバーケース５３の下部空間５４に、ファン５１から送気された有毒ガスＧ１が導入される。

【0023】

スクラバーケース５３の下部空間５４の上方には、充填材５５が装着されている。充填材５５は、通気性を有し、下方から供給される有毒ガスＧ１と上方から供給される水とを接触させて有毒ガスＧ１の有毒成分を充填材５５に供給された水に溶かし、該水を充填材５５の下方に排出する機能を有する。また、充填材５５は、有毒ガスＧ１に含まれる有毒成分によって化学変化が起きない物質が選択され、例えば、ポーラスセラミック、繊維の集合体等から選択される。充填材５５の上方の上部空間５６には、経路１０２から分岐した分岐経路１０２ａに接続されたノズル部１０２ｂが配設されている。該ノズル部１０２ｂの下面には、均等間隔で形成された噴射口１０２ｃが形成され、該噴射口１０２ｃから下方に向けて経路１０２から導かれた排水Ｌ１が霧状に噴射される。該噴射口１０２ｃから噴射される排水Ｌ１は、充填材５５の上面に供給され、充填材５５内全体に浸透し保持される。ノズル部１０２ｂの上方には、防滴部材５７が配設されている。防滴部材５７は、充填材５５の上方を覆い、上記した充填材５５と同様の部材から構成することがでる。防滴部材５７は、上部空間５６から防滴部材５７の上方の排気空間５８に抜ける排気ガスＧ２に含まれる液体成分を捕らえ、充填材５５側に滴下するように機能する。排気ガスＧ２は、排気空間５８を経て排出部５９から外部に排出される。スクラバーケース５３の下面には、下部空間５４と排水タンク２１内の排水Ｌ０が貯留された領域とを接続する排水路５３ａが配設され、充填材５５に供給された排水Ｌ１に有毒成分が溶けた排水Ｌ２を排水タンク２１側に排出する。なお、排水Ｌ２と共に排水タンク２１に排出された有毒成分は、後述するようにイオン交換樹脂部２５において除去される。また、ダイシング装置１及び純水生成装置２０がクリーンルームに設置されている場合は、該排出部５９に対して、クリーンルーム外に排気ガスＧ２を排出するためのダクトを連結するようにしてもよい。

【0024】

図１に示すように、純水生成装置２０には、図示を省略する制御装置と一体的に構成された操作パネル３０が配設されている。該制御装置は、コンピュータによって構成され、上記したポンプＰ１、Ｐ２、流路切換弁Ｖ１、Ｖ２、ファン５１等に電気的に接続されている。操作パネル３０は、純水生成装置２０の作動状態を示す表示手段、操作ボタン等を備えている。オペレータが該操作ボタンを操作することで、オペレータの指示が該制御装置で生成され、該制御装置からの指示信号により、ポンプＰ１、Ｐ２、流路切換弁Ｖ１、Ｖ２、ファン５１等の作動が制御される。

【0025】

本実施形態のダイシング装置１、純水生成装置２０は、概ね上記したとおりの構成を備えており、以下に、純水生成装置２０の機能、作用について説明する。

【0026】

本実施形態において加工される被加工物は、上記したようにガリウムヒ素（ＧａＡｓ）基板によって構成されたウエーハ１２であって、図１に示すように、複数のデバイスが分割予定ラインによって区画され表面に形成されたものであり、粘着テープＴを介して環状のフレームＦに支持されている。ダイシング装置１において、ウエーハ１２に対する切削加工を実施する際には、上記した搬出入手段７、搬送手段８等を作動して、カセット５からウエーハ１２を搬送して、チャックテーブル３０の保持面に載置する。次いで、図示を省略する吸引手段を作動することにより、チャックテーブル３０の保持面に対して吸引負圧を供給して、ウエーハ１２をチャックテーブル３０に吸引保持し、チャックテーブル３０の外周に配設されたクランプ３２によって固定する。チャックテーブル３０にウエーハ１２を保持したならば、図示を省略するＸ方向送り手段を作動して、チャックテーブル３０を上記した撮像手段１１の直下に位置付けてウエーハ１２を撮像し、該分割予定ライン等の加工位置を検出するアライメント工程を実施する。次いで、該アライメント工程により検出したウエーハ１２の加工位置情報に基づいて、チャックテーブル３０を切削手段４の直下に位置付け、切削水供給ノズル４２から切削水を噴出させながら、Ｘ方向送り手段と共に、上記したＹ方向送り手段及びＺ方向送り手段を作動して切削手段４の切削ブレード４１によってウエーハ１２の該分割予定ラインを切削して、ウエーハ１２を個々のデバイスチップに分割する。

【0027】

ここで、切削水供給ノズル４２から噴出された切削水は、切削加工によって生じた切削屑等を含む排水Ｌ０となり、ダイシング装置１内に形成された図示を省略する回収路に流出する。該回収路に流出した排水Ｌ０は、ダイシング装置１から、経路１００を介して、純水生成装置２０に送られて、上記排水タンク２１に貯水される。図２に基づき説明したように、排水タンク２１に貯水された排水Ｌ０は、ポンプＰ１の作用により経路１０２を介して濾過部２２に送られて濾過された後、清水タンク２３、紫外線照射部２４、イオン交換樹脂部２５を経て純水Ｌ６とされ、該純水Ｌ６は、精密フィルター部２６に導入される。該純水Ｌ６は、精密フィルター部２６によって高精度に濾過されて純水Ｌ７とされ、上記した純水供給部２７に貯水されると共に、適宜の温度調整が施された純水Ｌ８となり、経路１０８を介して、ダイシング装置１に再び投入される。

【0028】

本実施形態の純水生成装置２０の排水タンク２１には、図２、図３に基づいて説明したように、無毒化手段５０が配設されており、ファン５１の作用により排水タンク２１に貯水された排水Ｌ０から生じた有毒ガスＧ１が吸気されて、スクラバー５２に供給される。図３に示すように、スクラバー５２に供給された有毒ガスＧ１は、スクラバーケース５３の下部空間５４に導入される。下部空間５４に導入された有毒ガスＧ１は、下部空間５４側から充填材５５内を通過して上昇する。他方、充填材５５の上面には、上記したように、経路１０２から分岐したノズル部１０２ｂの噴射口１０２ｃから排水Ｌ１が噴射されて、充填材５５内に保持されると共に、充填材５５に保持しきれなくなった排水Ｌ１は、下部空間５４側に滴下される。充填材５５内で、気体である有毒ガスＧ１と排水Ｌ１が接触することにより、有毒ガスＧ１に含まれる有毒成分（アルシンガス等）が排水Ｌ１に溶け、アルシンガス等の有毒成分を含む排水Ｌ２が、排水路５３ａを介して排出されて排水タンク２１に回収される。

【0029】

上部空間５６に排出された排気Ｇ２は、通気性を有する防滴部材５７を通過して排気空間５８に排出される。排気Ｇ２が上部空間５６を通過して上昇する際に、排気Ｇ２に含まれる水成分が除去されて、充填材５５側に滴下される。排気空間５８に排出された無毒化された排気Ｇ２は、排出部５９から排出される。

【0030】

上記したように、排水タンク２１内に貯水された排水Ｌ０にスクラバー５２から排出された排水Ｌ２が導入されることで、排水Ｌ０は、アルシンガス等の有毒成分を含む排水となる。排水タンク２１に貯水された排水Ｌ０は、ポンプＰ１に接続されたストレーナー２１ａから吸引されると共に圧送されて、経路１０２を介して濾過部２２に送られて濾過され、その後、清水タンク２３を経由して紫外線照射部２４、イオン交換樹脂部２５に送られる。紫外線照射部２４においては、紫外線照射部２４に導入される清水Ｌ４に紫外線が照射されることで、有毒成分（アルシンガス）が破壊されて、清水Ｌ５が排出される。さらに、イオン交換樹脂部２５に該清水Ｌ５が導入されて、清水Ｌ５に対するイオン交換が施されることにより、清水Ｌ５に含まれる有毒成分も除去されて、清水Ｌ５が純水Ｌ６に精製される。次いで、純水Ｌ６が精密フィルター部２６に導入され精密に濾過された純水Ｌ７が純水供給部２７に送られる。純水供給部２７では、導入された純水Ｌ７に対して温度制御等を施し、経路１０８を介して純水Ｌ８を加工装置、すなわちダイシング装置１に供給する。

【0031】

上記した実施形態によれば、有毒ガスを無毒化するための大掛かりな設備を用意する必要がなく、純水生成装置によって有毒ガスを無毒化することができ、不経済であるという問題が解消する。特に、本実施形態では、スクラバー５２において有毒成分を溶かす水が、純水生成装置２０において循環される水（本実施形態では排水Ｌ０）の一部が使用され、さらに、該有毒成分が溶かされた水に紫外線が照射されると共に、イオン交換樹脂部によってイオン交換が施されて純水とされることから、外部に有毒ガスを排出することなく、さらに、該有毒ガスは、純水生成装置２０内で破壊されて処理されることから、既存の純水生成装置２０を効率的に活用することが可能である。

【0032】

上記した実施形態では、無毒化手段５０のスクラバー５２に供給される水が、加工装置１から排出され排水タンク２１に貯水された排水Ｌ０である例を示したが、本発明はこれに限定されず、例えば、図２に破線で示すように、濾過部２２によって濾過された清水Ｌ４を無毒化手段５０のスクラバー５２に供給すべく、清水タンク２３に接続された経路１０９上のポンプＰ３に導入経路１０２ｄを接続し、該導入経路１０２ｄをスクラバー５２に接続すると共に、図３に基づき説明したノズル部１０２ｂに接続してスクラバー５２の充填材５５の上方に位置付けられる噴射口１０２ｃから、清水Ｌ４を噴射するようにしてもよい。また、これに替えて、図２に破線で示すように、イオン交換樹脂部２５にてイオン交換された純水Ｌ６を無毒化手段５０のスクラバー５２に供給すべく、経路１０６に接続された経路１１０上のポンプＰ４に、導入経路１０２ｅを接続し、該導入経路１０２ｅをスクラバー５２に接続すると共に、図３に基づき説明したノズル部１０２ｂに接続してスクラバー５２の充填材５５の上方に位置付けられる噴射口１０２ｃから、清水Ｌ６を噴射するようにしてもよい。なお、本発明は、無毒化手段５０のスクラバー５２に供給する水として、市水を除外するものではない。

【0033】

上記した実施形態では、純水生成装置１を、ダイシング装置１に適用した例を示したが、本発明はこれに限定されず、例えば、研磨装置、研削装置に適用してもよい。また、上記した実施形態では、ＧａＡｓ基板の加工に使用した後に排出される排水から純水を生成し、該排水からアルシンガスが発生する場合に適用した例を示したいが、本発明はこれに限定されず、水に溶かすことができる有毒成分を含む有毒ガスを無毒化する必要がある純水生成装置であれば、適用することが可能である。

【符号の説明】

【0034】

１：ダイシング装置
２：装置ハウジング
３：チャックテーブル機構
３０：チャックテーブル
３２：クランプ
４：切削手段
４１：切削ブレード
４２：切削水供給ノズル
５：カセット
６：仮置きテーブル
７：搬出入手段
８：搬送手段
９：洗浄手段
１０：洗浄搬送手段
１２：ウエーハ
２０：純水生成装置
２０Ａ：ハウジング
２１：排水タンク
２２：濾過部
２３：清水タンク
２４：紫外線照射部
２５：イオン交換樹脂部
２６：精密フィルター部
２７：純水供給部
５０：無毒化手段
５１：ファン
５２：スクラバー
５３：スクラバーケース
５３ａ：排水路
５４：下部空間
５５：充填材
５６：上部空間
５７：防滴部材
５８：排気空間
５９：排出部
１００～１１０：経路
１０２ａ：分岐経路
１０２ｂ：ノズル部
１０２ｃ：噴射口
１０２ｄ、１０２ｅ：導入経路
Ｇ１：有毒ガス
Ｇ２：排気ガス

【図1】

【図2】

【図3】