ホーム > 特許ランキング > ダイキン工業株式会社
▶ ダイキン工業株式会社の特許一覧 ▶ 公立大学法人大阪の特許一覧
(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】公開特許公報(A)
(11)【公開番号】P2022177135
(43)【公開日】2022-11-30
(54)【発明の名称】含フッ素化合物の製造方法
(51)【国際特許分類】
C07C 69/65 20060101AFI20221122BHJP
C07C 233/09 20060101ALI20221122BHJP
【ＦＩ】
C07C69/65 CSP
C07C233/09 Z
【審査請求】有
【請求項の数】10
【出願形態】ＯＬ
(21)【出願番号】P 2022145177
(22)【出願日】2022-09-13
(62)【分割の表示】P 2018119223の分割
【原出願日】2018-06-22
(71)【出願人】
【識別番号】000002853
【氏名又は名称】ダイキン工業株式会社
(71)【出願人】
【識別番号】519135633
【氏名又は名称】公立大学法人大阪
(74)【代理人】
【識別番号】110000796
【氏名又は名称】弁理士法人三枝国際特許事務所
(72)【発明者】
【氏名】松浦 誠
(72)【発明者】
【氏名】黒木 克親
(72)【発明者】
【氏名】岸川 洋介
(72)【発明者】
【氏名】柳 日馨
(72)【発明者】
【氏名】福山 高英
(57)【要約】 （修正有）
【課題】新たな、含フッ素メチレン基含有化合物を提供する。
【解決手段】式（１）で表される化合物である。
［式中、Ｒ１は、アリール基、エステル基、又は（Ｒ１１－）２Ｎ－Ｃ（＝Ｏ）－であり、ＲＡは、、又はＦであり、Ｒ４ａは、Ｈ、又は有機基であり、Ｒ４ｂは、Ｈ、又は有機基であり、Ｒ２は、１個以上の置換基を有していてもよいメトキシカルボニル基、又は１個以上の置換基を有していてもよいアルキル基であり、Ｒ５ ａは、Ｈ、又は有機基であり、及びＲ５ｂは、Ｈ、又は有機基である。]
【選択図】なし
【解決手段】式（１）で表される化合物である。
［式中、Ｒ１は、アリール基、エステル基、又は（Ｒ１１－）２Ｎ－Ｃ（＝Ｏ）－であり、ＲＡは、、又はＦであり、Ｒ４ａは、Ｈ、又は有機基であり、Ｒ４ｂは、Ｈ、又は有機基であり、Ｒ２は、１個以上の置換基を有していてもよいメトキシカルボニル基、又は１個以上の置換基を有していてもよいアルキル基であり、Ｒ５ ａは、Ｈ、又は有機基であり、及びＲ５ｂは、Ｈ、又は有機基である。]
【選択図】なし
【特許請求の範囲】
【請求項1】
式（１）：
［式中、
Ｒ１は、有機基であり、
ＲＡは、水素原子、又はフッ素原子であり、
Ｒ４ａは、水素原子、又は有機基であり、
Ｒ４ｂは、水素原子、又は有機基であり、
Ｒ２は、水素原子、又は有機基であり、及び
Ｒ５ａは、水素原子、又は有機基であり、
Ｒ５ｂは、水素原子、又は有機基である。
或いは、Ｒ２は、Ｒ４ａと連結して、環を形成していてもよい。］
で表される化合物の製造方法であって、
式（２）：
［式中、Ｘ１は脱離基であり、及びその他の記号は前記と同意義である。］
で表される化合物を、
所望による還元剤の存在下、且つ光照射下で、
式（３）：
［式中、Ｘ２は脱離基であり、及びその他の記号は前記と同意義である。］
で表される化合物と反応させる工程Ａを含む製造方法。
【化1】
Ｒ１は、有機基であり、
ＲＡは、水素原子、又はフッ素原子であり、
Ｒ４ａは、水素原子、又は有機基であり、
Ｒ４ｂは、水素原子、又は有機基であり、
Ｒ２は、水素原子、又は有機基であり、及び
Ｒ５ａは、水素原子、又は有機基であり、
Ｒ５ｂは、水素原子、又は有機基である。
或いは、Ｒ２は、Ｒ４ａと連結して、環を形成していてもよい。］
で表される化合物の製造方法であって、
式（２）：
【化2】
で表される化合物を、
所望による還元剤の存在下、且つ光照射下で、
式（３）：
【化3】
で表される化合物と反応させる工程Ａを含む製造方法。
【請求項2】
Ｒ１は、Ｒ１１－Ｙ－、又は（Ｒ１１－）２Ｎ－であり、
Ｙは、結合手、酸素原子、又は硫黄原子であり、及び
Ｒ１１は、各出現において独立して、１個以上の置換基を有していてもよい炭化水素基で
ある、
請求項１に記載の製造方法。
Ｙは、結合手、酸素原子、又は硫黄原子であり、及び
Ｒ１１は、各出現において独立して、１個以上の置換基を有していてもよい炭化水素基で
ある、
請求項１に記載の製造方法。
【請求項3】
Ｒ１は、Ｒ１１－Ｙ－であり、
Ｙは、結合手であり、及び
Ｒ１１は、
１個以上の置換基を有していてもよいアリール基、又は
１個以上の置換基を有していてもよいアルキル基
である、
請求項２に記載の製造方法。
Ｙは、結合手であり、及び
Ｒ１１は、
１個以上の置換基を有していてもよいアリール基、又は
１個以上の置換基を有していてもよいアルキル基
である、
請求項２に記載の製造方法。
【請求項4】
Ｒ１は、Ｒ１１－Ｙ－であり、
Ｙは、－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－、又は－Ｏ－Ｃ（＝Ｓ）－であり、及び
Ｒ１１は、１個以上の置換基を有していてもよい脂肪族炭化水素基である、
請求項２に記載の製造方法。
Ｙは、－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－、又は－Ｏ－Ｃ（＝Ｓ）－であり、及び
Ｒ１１は、１個以上の置換基を有していてもよい脂肪族炭化水素基である、
請求項２に記載の製造方法。
【請求項5】
Ｒ１は、（Ｒ１１－）２Ｎ－Ｃ（＝Ｏ）－であり、
Ｒ１１は、各出現において独立して、１個以上の置換基を有していてもよい脂肪族炭化水
素基である、
請求項２に記載の製造方法。
Ｒ１１は、各出現において独立して、１個以上の置換基を有していてもよい脂肪族炭化水
素基である、
請求項２に記載の製造方法。
【請求項6】
ＲＡは、フッ素原子である、請求項１～５に記載の製造方法。
【請求項7】
Ｒ４ａは、水素原子であり、
Ｒ４ｂは、水素原子であり、
Ｒ２は、
水素原子、
１個以上の置換基を有していてもよい炭化水素基、又は
１個以上の置換基を有していてもよいアルコキシカルボニル基
であり、
Ｒ５ａは、水素原子であり、及び
Ｒ５ｂは、水素原子である、
請求項１～６に記載の製造方法。
Ｒ４ｂは、水素原子であり、
Ｒ２は、
水素原子、
１個以上の置換基を有していてもよい炭化水素基、又は
１個以上の置換基を有していてもよいアルコキシカルボニル基
であり、
Ｒ５ａは、水素原子であり、及び
Ｒ５ｂは、水素原子である、
請求項１～６に記載の製造方法。
【請求項8】
Ｘ１は、
ハロゲン原子、
アルキルスルホニルオキシ基、又は
アリールスルホニルオキシ基
である、
請求項１～７に記載の製造方法。
ハロゲン原子、
アルキルスルホニルオキシ基、又は
アリールスルホニルオキシ基
である、
請求項１～７に記載の製造方法。
【請求項9】
Ｘ２は、
－ＳＯ２Ｒ、
－ＳＲ、
－Ｓ（＝Ｏ）Ｒ、
－ＳｅＲ、
－ＴｅＲ、
－Ｃｌ、
－Ｂｒ、
－Ｉ、
－ＰＲ２、又は
－Ｐ（＝Ｏ）Ｒ２
［これらの式中、Ｒは、各出現において独立して、有機基である。］である
請求項１～８に記載の製造方法。
－ＳＯ２Ｒ、
－ＳＲ、
－Ｓ（＝Ｏ）Ｒ、
－ＳｅＲ、
－ＴｅＲ、
－Ｃｌ、
－Ｂｒ、
－Ｉ、
－ＰＲ２、又は
－Ｐ（＝Ｏ）Ｒ２
［これらの式中、Ｒは、各出現において独立して、有機基である。］である
請求項１～８に記載の製造方法。
【請求項10】
Ｘ２は、－ＳＯ２Ｒ（当該式中、Ｒは有機基である。）である、
請求項９に記載の製造方法。
請求項９に記載の製造方法。
【請求項11】
前記還元剤が、
Ｎ－Ｈ部を有する含窒素不飽和複素環化合物である、
請求項１～１０のいずれか１項に記載の製造方法。
Ｎ－Ｈ部を有する含窒素不飽和複素環化合物である、
請求項１～１０のいずれか１項に記載の製造方法。
【請求項12】
前記還元剤が、式（４）：
［式中、
Ｒｈａ、Ｒｈｂ、Ｒｈｃ、及びＲｈｄは、同一又は異なって、アルキル基である。］
で表される化合物である請求項１～１１のいずれか１項に記載の製造方法。
【化4】
Ｒｈａ、Ｒｈｂ、Ｒｈｃ、及びＲｈｄは、同一又は異なって、アルキル基である。］
で表される化合物である請求項１～１１のいずれか１項に記載の製造方法。
【請求項13】
工程Ａの反応が、触媒の存在下で実施される請求項１～１２のいずれか１項に記載の製造
方法。
方法。
【請求項14】
前記触媒が、遷移金属錯体、及び有機色素化合物からなる群より選択される１種以上であ
る請求項１３に記載の製造方法。
る請求項１３に記載の製造方法。
【請求項15】
式（１ａ）：
［式中、
Ｒ１は、各出現において独立して、有機基であり、
ＲＡは、各出現において独立して、水素原子、又はフッ素原子であり、
Ｒ４ａは、各出現において独立して、水素原子、又は有機基であり、
Ｒ４ｂは、各出現において独立して、水素原子、又は有機基であり、及び
Ｒ２は、水素原子、又は有機基である。］
で表される化合物の製造方法であって、
式（２）：
［式中、Ｘ１は脱離基であり、及びその他の記号は前記と同意義である。］
で表される化合物を、
所望による還元剤の存在下、且つ光照射下で、
式（３）：
［式中、Ｘ２は脱離基であり、及びその他の記号は前記と同意義である。］
で表される化合物と反応させる工程Ａａを含む製造方法。
【化5】
Ｒ１は、各出現において独立して、有機基であり、
ＲＡは、各出現において独立して、水素原子、又はフッ素原子であり、
Ｒ４ａは、各出現において独立して、水素原子、又は有機基であり、
Ｒ４ｂは、各出現において独立して、水素原子、又は有機基であり、及び
Ｒ２は、水素原子、又は有機基である。］
で表される化合物の製造方法であって、
式（２）：
【化6】
で表される化合物を、
所望による還元剤の存在下、且つ光照射下で、
式（３）：
【化7】
で表される化合物と反応させる工程Ａａを含む製造方法。
【請求項16】
式（１）：
［式中、
Ｒ１は、有機基であり、
ＲＡは、水素原子、又はフッ素原子であり、
Ｒ４ａは、水素原子、又は有機基であり、
Ｒ４ｂは、水素原子、又は有機基であり、
Ｒ２は、有機基であり、
Ｒ５ａは、水素原子、又は有機基であり、及び
Ｒ５ｂは、水素原子、又は有機基である
（但し、
Ｒ１がペルフルオロアルキル基の場合、Ｒ２は炭素数２以上のアルキル基又は炭素数３以
上のエステル基である。）。]
で表される化合物。
【化8】
Ｒ１は、有機基であり、
ＲＡは、水素原子、又はフッ素原子であり、
Ｒ４ａは、水素原子、又は有機基であり、
Ｒ４ｂは、水素原子、又は有機基であり、
Ｒ２は、有機基であり、
Ｒ５ａは、水素原子、又は有機基であり、及び
Ｒ５ｂは、水素原子、又は有機基である
（但し、
Ｒ１がペルフルオロアルキル基の場合、Ｒ２は炭素数２以上のアルキル基又は炭素数３以
上のエステル基である。）。]
で表される化合物。
【請求項17】
Ｒ１は、Ｒ１１－Ｙ－であり、
Ｙは、結合手であり、及び
Ｒ１１は、
１個以上の置換基を有していてもよいアリール基、又は
１個以上の置換基を有していてもよいアルキル基
であり、
ＲＡは、水素原子、又はフッ素原子であり、及び
Ｒ２は、水素原子、又は有機基である、
請求項１６に記載の化合物。
Ｙは、結合手であり、及び
Ｒ１１は、
１個以上の置換基を有していてもよいアリール基、又は
１個以上の置換基を有していてもよいアルキル基
であり、
ＲＡは、水素原子、又はフッ素原子であり、及び
Ｒ２は、水素原子、又は有機基である、
請求項１６に記載の化合物。
【請求項18】
ＲＡは、フッ素原子である、
請求項１７に記載の化合物。
請求項１７に記載の化合物。
【請求項19】
Ｒ４ａは、水素原子であり、
Ｒ４ｂは、水素原子であり、
Ｒ２は、
水素原子、
１個以上の置換基を有していてもよいアルコキシカルボニル基、
１個以上の置換基を有していてもよいアリール基、又は
１個以上の置換基を有していてもよいアルキル基であり、
Ｒ５ａは、水素原子であり、及び
Ｒ５ｂは、水素原子である、
請求項１７又は１８に記載の化合物。
Ｒ４ｂは、水素原子であり、
Ｒ２は、
水素原子、
１個以上の置換基を有していてもよいアルコキシカルボニル基、
１個以上の置換基を有していてもよいアリール基、又は
１個以上の置換基を有していてもよいアルキル基であり、
Ｒ５ａは、水素原子であり、及び
Ｒ５ｂは、水素原子である、
請求項１７又は１８に記載の化合物。
【請求項20】
Ｒ１は、Ｒ１１－Ｙ－であり、
Ｙは、－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－、又は－Ｏ－Ｃ（＝Ｓ）－であり、
Ｒ１１は、１個以上の置換基を有していてもよい脂肪族炭化水素基であり、
ＲＡは、水素原子、又はフッ素原子であり、及び
Ｒ２は、水素原子、又は有機基である、
請求項１６に記載の化合物。
Ｙは、－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－、又は－Ｏ－Ｃ（＝Ｓ）－であり、
Ｒ１１は、１個以上の置換基を有していてもよい脂肪族炭化水素基であり、
ＲＡは、水素原子、又はフッ素原子であり、及び
Ｒ２は、水素原子、又は有機基である、
請求項１６に記載の化合物。
【請求項21】
ＲＡは、フッ素原子である、請求項２０に記載の化合物。
【請求項22】
Ｒ４ａは、水素原子であり、
Ｒ４ｂは、水素原子であり、
Ｒ２は、
水素原子、
１個以上の置換基を有していてもよいアルコキシカルボニル基、
１個以上の置換基を有していてもよいアリール基、又は
１個以上の置換基を有していてもよいアルキル基であり
Ｒ５ａは、水素原子であり、及び
Ｒ５ｂは、水素原子である、
請求項２０又は２１に記載の化合物。
Ｒ４ｂは、水素原子であり、
Ｒ２は、
水素原子、
１個以上の置換基を有していてもよいアルコキシカルボニル基、
１個以上の置換基を有していてもよいアリール基、又は
１個以上の置換基を有していてもよいアルキル基であり
Ｒ５ａは、水素原子であり、及び
Ｒ５ｂは、水素原子である、
請求項２０又は２１に記載の化合物。
【請求項23】
Ｒ１は、Ｒ１１－Ｙ－であり、
Ｙは、－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－、又は－Ｏ－Ｃ（＝Ｓ）－であり、
Ｒ１１は、１個以上の置換基を有していてもよい脂肪族炭化水素基
ＲＡは、水素原子、又はフッ素原子であり、及び
Ｒ２は、水素原子、又は有機基である、
請求項１６に記載の化合物。
Ｙは、－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－、又は－Ｏ－Ｃ（＝Ｓ）－であり、
Ｒ１１は、１個以上の置換基を有していてもよい脂肪族炭化水素基
ＲＡは、水素原子、又はフッ素原子であり、及び
Ｒ２は、水素原子、又は有機基である、
請求項１６に記載の化合物。
【請求項24】
Ｒ１は、（Ｒ１１－）２Ｎ－Ｃ（＝Ｏ）－であり、
Ｒ１１は、各出現において独立して、１個以上の置換基を有していてもよい脂肪族炭化水
素基であり、
ＲＡは、水素原子、又はフッ素原子であり、
Ｒ４ａは、水素原子であり、
Ｒ４ｂは、水素原子であり、
Ｒ２は、水素原子、又は有機基であり、
Ｒ５ａは、水素原子あり、及び
Ｒ５ｂは、水素原子、又は有機基である、
請求項１６に記載の化合物。
Ｒ１１は、各出現において独立して、１個以上の置換基を有していてもよい脂肪族炭化水
素基であり、
ＲＡは、水素原子、又はフッ素原子であり、
Ｒ４ａは、水素原子であり、
Ｒ４ｂは、水素原子であり、
Ｒ２は、水素原子、又は有機基であり、
Ｒ５ａは、水素原子あり、及び
Ｒ５ｂは、水素原子、又は有機基である、
請求項１６に記載の化合物。
【請求項25】
ＲＡは、フッ素原子である、請求項２４に記載の化合物。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本開示は含フッ素化合物の製造方法に関する。
【背景技術】
【0002】
生体内の生理活性物質には、含フッ素メチレン基含有化合物であるものが存在すること
から、フルオロメチレン基を有する化合物の医薬品等への応用が盛んに研究されている。
例えば、α位にフッ素原子及びパーフルオロ有機基からなる群より選択される１個以上
の置換基を有するカルボニル化合物である、α－フルオロメチレン化合物、及びα－ジフ
ルオロアルドール化合物等の含フッ素メチレン化合物の製造方法の有用性は高い（非特許
文献１及び２）。
から、フルオロメチレン基を有する化合物の医薬品等への応用が盛んに研究されている。
例えば、α位にフッ素原子及びパーフルオロ有機基からなる群より選択される１個以上
の置換基を有するカルボニル化合物である、α－フルオロメチレン化合物、及びα－ジフ
ルオロアルドール化合物等の含フッ素メチレン化合物の製造方法の有用性は高い（非特許
文献１及び２）。
【0003】
含フッ素メチレン基含有化合物の製造方法の例として、特許文献１には、
一般式（１）；
［式中、
Ｒ１は、有機基を表し、
ＲＸは、水素原子、又はフッ素原子を表し、及び
Ｒ２ａ、Ｒ２ｂ、Ｒ２ｃ、及びＲ２ｄは、同一又は異なって、－Ｙ－Ｒ２１、又は－Ｎ（
－Ｒ２２）２を表し、或いはＲ２ｂとＲ２ｃとは連結して結合を形成してもよく、
Ｙは、結合手、酸素原子、又は硫黄原子を表し、
Ｒ２１は、水素原子、又は有機基を表し、
Ｒ２２は、各出現において同一又は異なって、水素原子、又は有機基を表す。］
で表される化合物、又はその閉環誘導体、若しくは開環誘導体の製造方法であって、
次の一般式（２）：
［式中、Ｘは脱離基を表し、及びその他の記号は前記と同意義を表す。］
で表される化合物を、
還元剤の存在下、且つ光照射下で、
次の一般式（３）：
［式中の記号は前記と同意義を表す。］
で表される化合物と反応させる工程Ａを含む製造方法が、提案されている。
一般式（１）；
【化1】
Ｒ１は、有機基を表し、
ＲＸは、水素原子、又はフッ素原子を表し、及び
Ｒ２ａ、Ｒ２ｂ、Ｒ２ｃ、及びＲ２ｄは、同一又は異なって、－Ｙ－Ｒ２１、又は－Ｎ（
－Ｒ２２）２を表し、或いはＲ２ｂとＲ２ｃとは連結して結合を形成してもよく、
Ｙは、結合手、酸素原子、又は硫黄原子を表し、
Ｒ２１は、水素原子、又は有機基を表し、
Ｒ２２は、各出現において同一又は異なって、水素原子、又は有機基を表す。］
で表される化合物、又はその閉環誘導体、若しくは開環誘導体の製造方法であって、
次の一般式（２）：
【化2】
で表される化合物を、
還元剤の存在下、且つ光照射下で、
次の一般式（３）：
【化3】
で表される化合物と反応させる工程Ａを含む製造方法が、提案されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0004】
【特許文献1】国際公開２０１７／１５４９４８号パンフレット
【非特許文献】
【0005】
【非特許文献1】John T.Welchら、Tetrahedron, 1987年，43，14，3123頁
【非特許文献2】Svanteら、J. Am. Chem. Soc., 1981年，103，4452頁
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0006】
しかし、更に、新たな、含フッ素メチレン基含有化合物の製造方法の提供が求められて
いる。
本開示は、新たな、含フッ素メチレン基含有化合物の製造方法等を提供することを目的
とする。
いる。
本開示は、新たな、含フッ素メチレン基含有化合物の製造方法等を提供することを目的
とする。
【課題を解決するための手段】
【0007】
本開示は、次の態様を含む。
【0008】
項１．
式（１）：
［式中、
Ｒ１は、有機基であり、
ＲＡは、水素原子、又はフッ素原子であり、
Ｒ４ａは、水素原子、又は有機基であり、
Ｒ４ｂは、水素原子、又は有機基であり、
Ｒ２は、水素原子、又は有機基であり、及び
Ｒ５ａは、水素原子、又は有機基であり、
Ｒ５ｂは、水素原子、又は有機基である。
或いは、Ｒ２は、Ｒ４ａと連結して、環を形成していてもよい。］
で表される化合物の製造方法であって、
式（２）：
［式中、Ｘ１は脱離基であり、及びその他の記号は前記と同意義である。］
で表される化合物を、
所望による還元剤の存在下、且つ光照射下で、
式（３）：
［式中、Ｘ２は脱離基であり、及びその他の記号は前記と同意義である。］
で表される化合物と反応させる工程Ａを含む製造方法。
項２．
Ｒ１は、Ｒ１１－Ｙ－、又は（Ｒ１１－）２Ｎ－であり、
Ｙは、結合手、酸素原子、又は硫黄原子であり、及び
Ｒ１１は、各出現において独立して、１個以上の置換基を有していてもよい炭化水素基で
ある、
項１に記載の製造方法。
項３．
Ｒ１は、Ｒ１１－Ｙ－であり、
Ｙは、結合手であり、及び
Ｒ１１は、
１個以上の置換基を有していてもよいアリール基、又は
１個以上の置換基を有していてもよいアルキル基
である、
項２に記載の製造方法。
項４．
Ｒ１は、Ｒ１１－Ｙ－であり、
Ｙは、－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－、又は－Ｏ－Ｃ（＝Ｓ）－であり、及び
Ｒ１１は、１個以上の置換基を有していてもよい脂肪族炭化水素基である、
項２に記載の製造方法。
項５．
Ｒ１は、（Ｒ１１－）２Ｎ－Ｃ（＝Ｏ）－であり、
Ｒ１１は、各出現において独立して、１個以上の置換基を有していてもよい脂肪族炭化水
素基である、
項２に記載の製造方法。
項６．
ＲＡは、フッ素原子である、項１～５に記載の製造方法。
項７．
Ｒ４ａは、水素原子であり、
Ｒ４ｂは、水素原子であり、
Ｒ２は、
水素原子、
１個以上の置換基を有していてもよい炭化水素基、又は
１個以上の置換基を有していてもよいアルコキシカルボニル基
であり、
Ｒ５ａは、水素原子であり、及び
Ｒ５ｂは、水素原子である、
項１～６に記載の製造方法。
項８．
Ｘ１は、
ハロゲン原子、
アルキルスルホニルオキシ基、又は
アリールスルホニルオキシ基
である、
項１～７に記載の製造方法。
項９．
Ｘ２は、
－ＳＯ２Ｒ、
－ＳＲ、
－Ｓ（＝Ｏ）Ｒ、
－ＳｅＲ、
－ＴｅＲ、
－Ｃｌ、
－Ｂｒ、
－Ｉ、
－ＰＲ２、又は
－Ｐ（＝Ｏ）Ｒ２
［これらの式中、Ｒは、各出現において独立して、有機基である。］である
項１～８に記載の製造方法。
項１０．
Ｘ２は、－ＳＯ２Ｒ（当該式中、Ｒは有機基である。）である、
項９に記載の製造方法。
項１１．
前記還元剤が、
Ｎ－Ｈ部を有する含窒素不飽和複素環化合物である、
項１～１０のいずれか１項に記載の製造方法。
項１２．
前記還元剤が、式（４）：
［式中、
Ｒｈａ、Ｒｈｂ、Ｒｈｃ、及びＲｈｄは、同一又は異なって、アルキル基である。］
で表される化合物である項１～１１のいずれか１項に記載の製造方法。
項１３．
工程Ａの反応が、触媒の存在下で実施される項１～１２のいずれか１項に記載の製造方法
。
項１４．
前記触媒が、遷移金属錯体、及び有機色素化合物からなる群より選択される１種以上であ
る項１３に記載の製造方法。
項１５．
式（１ａ）：
［式中、
Ｒ１は、各出現において独立して、有機基であり、
ＲＡは、各出現において独立して、水素原子、又はフッ素原子であり、
Ｒ４ａは、各出現において独立して、水素原子、又は有機基であり、
Ｒ４ｂは、各出現において独立して、水素原子、又は有機基であり、及び
Ｒ２は、水素原子、又は有機基である。］
で表される化合物の製造方法であって、
式（２）：
［式中、Ｘ１は脱離基であり、及びその他の記号は前記と同意義である。］
で表される化合物を、
所望による還元剤の存在下、且つ光照射下で、
式（３）：
［式中、Ｘ２は脱離基であり、及びその他の記号は前記と同意義である。］
で表される化合物と反応させる工程Ａａを含む製造方法。
項１６．
式（１）：
［式中、
Ｒ１は、有機基であり、
ＲＡは、水素原子、又はフッ素原子であり、
Ｒ４ａは、水素原子、又は有機基であり、
Ｒ４ｂは、水素原子、又は有機基であり、
Ｒ２は、有機基であり、
Ｒ５ａは、水素原子、又は有機基であり、及び
Ｒ５ｂは、水素原子、又は有機基である
（但し、
Ｒ１がペルフルオロアルキル基の場合、Ｒ２は炭素数２以上のアルキル基又は炭素数３以
上のエステル基である。）。]
で表される化合物。
項１７．
Ｒ１は、Ｒ１１－Ｙ－であり、
Ｙは、結合手であり、及び
Ｒ１１は、
１個以上の置換基を有していてもよいアリール基、又は
１個以上の置換基を有していてもよいアルキル基であり、
ＲＡは、水素原子、又はフッ素原子であり、及び
Ｒ２は、水素原子、又は有機基である、
項１６に記載の化合物。
項１８．
ＲＡは、フッ素原子である、
項１７に記載の化合物。
項１９．
Ｒ４ａは、水素原子であり、
Ｒ４ｂは、水素原子であり、
Ｒ２は、
水素原子、
１個以上の置換基を有していてもよいアルコキシカルボニル基、
１個以上の置換基を有していてもよいアリール基、又は
１個以上の置換基を有していてもよいアルキル基であり、
Ｒ５ａは、水素原子であり、及び
Ｒ５ｂは、水素原子である、
項１７又は１８に記載の化合物。
項２０．
Ｒ１は、Ｒ１１－Ｙ－であり、
Ｙは、－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－、又は－Ｏ－Ｃ（＝Ｓ）－であり、
Ｒ１１は、１個以上の置換基を有していてもよい脂肪族炭化水素基であり、
ＲＡは、水素原子、又はフッ素原子であり、及び
Ｒ２は、水素原子、又は有機基である、
項１６に記載の化合物。
項２１．
ＲＡは、フッ素原子である、項２０に記載の化合物。
項２２．
Ｒ４ａは、水素原子であり、
Ｒ４ｂは、水素原子であり、
Ｒ２は、
水素原子、
１個以上の置換基を有していてもよいアルコキシカルボニル基、
１個以上の置換基を有していてもよいアリール基、又は
１個以上の置換基を有していてもよいアルキル基であり
Ｒ５ａは、水素原子であり、及び
Ｒ５ｂは、水素原子である、
項２０又は２１に記載の化合物。
項２３．
Ｒ１は、Ｒ１１－Ｙ－であり、
Ｙは、－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－、又は－Ｏ－Ｃ（＝Ｓ）－であり、
Ｒ１１は、１個以上の置換基を有していてもよい脂肪族炭化水素基
ＲＡは、水素原子、又はフッ素原子であり、及び
Ｒ２は、水素原子、又は有機基である、
項１６に記載の化合物。
項２４．
Ｒ１は、（Ｒ１１－）２Ｎ－Ｃ（＝Ｏ）－であり、
Ｒ１１は、各出現において独立して、１個以上の置換基を有していてもよい脂肪族炭化水
素基であり、
ＲＡは、水素原子、又はフッ素原子であり、
Ｒ４ａは、水素原子であり、
Ｒ４ｂは、水素原子であり、
Ｒ２は、水素原子、又は有機基であり、
Ｒ５ａは、水素原子あり、及び
Ｒ５ｂは、水素原子、又は有機基である、
項１６に記載の化合物。
項２５．
ＲＡは、フッ素原子である、項２４に記載の化合物。
式（１）：
【化4】
Ｒ１は、有機基であり、
ＲＡは、水素原子、又はフッ素原子であり、
Ｒ４ａは、水素原子、又は有機基であり、
Ｒ４ｂは、水素原子、又は有機基であり、
Ｒ２は、水素原子、又は有機基であり、及び
Ｒ５ａは、水素原子、又は有機基であり、
Ｒ５ｂは、水素原子、又は有機基である。
或いは、Ｒ２は、Ｒ４ａと連結して、環を形成していてもよい。］
で表される化合物の製造方法であって、
式（２）：
【化5】
で表される化合物を、
所望による還元剤の存在下、且つ光照射下で、
式（３）：
【化6】
で表される化合物と反応させる工程Ａを含む製造方法。
項２．
Ｒ１は、Ｒ１１－Ｙ－、又は（Ｒ１１－）２Ｎ－であり、
Ｙは、結合手、酸素原子、又は硫黄原子であり、及び
Ｒ１１は、各出現において独立して、１個以上の置換基を有していてもよい炭化水素基で
ある、
項１に記載の製造方法。
項３．
Ｒ１は、Ｒ１１－Ｙ－であり、
Ｙは、結合手であり、及び
Ｒ１１は、
１個以上の置換基を有していてもよいアリール基、又は
１個以上の置換基を有していてもよいアルキル基
である、
項２に記載の製造方法。
項４．
Ｒ１は、Ｒ１１－Ｙ－であり、
Ｙは、－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－、又は－Ｏ－Ｃ（＝Ｓ）－であり、及び
Ｒ１１は、１個以上の置換基を有していてもよい脂肪族炭化水素基である、
項２に記載の製造方法。
項５．
Ｒ１は、（Ｒ１１－）２Ｎ－Ｃ（＝Ｏ）－であり、
Ｒ１１は、各出現において独立して、１個以上の置換基を有していてもよい脂肪族炭化水
素基である、
項２に記載の製造方法。
項６．
ＲＡは、フッ素原子である、項１～５に記載の製造方法。
項７．
Ｒ４ａは、水素原子であり、
Ｒ４ｂは、水素原子であり、
Ｒ２は、
水素原子、
１個以上の置換基を有していてもよい炭化水素基、又は
１個以上の置換基を有していてもよいアルコキシカルボニル基
であり、
Ｒ５ａは、水素原子であり、及び
Ｒ５ｂは、水素原子である、
項１～６に記載の製造方法。
項８．
Ｘ１は、
ハロゲン原子、
アルキルスルホニルオキシ基、又は
アリールスルホニルオキシ基
である、
項１～７に記載の製造方法。
項９．
Ｘ２は、
－ＳＯ２Ｒ、
－ＳＲ、
－Ｓ（＝Ｏ）Ｒ、
－ＳｅＲ、
－ＴｅＲ、
－Ｃｌ、
－Ｂｒ、
－Ｉ、
－ＰＲ２、又は
－Ｐ（＝Ｏ）Ｒ２
［これらの式中、Ｒは、各出現において独立して、有機基である。］である
項１～８に記載の製造方法。
項１０．
Ｘ２は、－ＳＯ２Ｒ（当該式中、Ｒは有機基である。）である、
項９に記載の製造方法。
項１１．
前記還元剤が、
Ｎ－Ｈ部を有する含窒素不飽和複素環化合物である、
項１～１０のいずれか１項に記載の製造方法。
項１２．
前記還元剤が、式（４）：
【化7】
Ｒｈａ、Ｒｈｂ、Ｒｈｃ、及びＲｈｄは、同一又は異なって、アルキル基である。］
で表される化合物である項１～１１のいずれか１項に記載の製造方法。
項１３．
工程Ａの反応が、触媒の存在下で実施される項１～１２のいずれか１項に記載の製造方法
。
項１４．
前記触媒が、遷移金属錯体、及び有機色素化合物からなる群より選択される１種以上であ
る項１３に記載の製造方法。
項１５．
式（１ａ）：
【化8】
Ｒ１は、各出現において独立して、有機基であり、
ＲＡは、各出現において独立して、水素原子、又はフッ素原子であり、
Ｒ４ａは、各出現において独立して、水素原子、又は有機基であり、
Ｒ４ｂは、各出現において独立して、水素原子、又は有機基であり、及び
Ｒ２は、水素原子、又は有機基である。］
で表される化合物の製造方法であって、
式（２）：
【化9】
で表される化合物を、
所望による還元剤の存在下、且つ光照射下で、
式（３）：
【化10】
で表される化合物と反応させる工程Ａａを含む製造方法。
項１６．
式（１）：
【化11】
Ｒ１は、有機基であり、
ＲＡは、水素原子、又はフッ素原子であり、
Ｒ４ａは、水素原子、又は有機基であり、
Ｒ４ｂは、水素原子、又は有機基であり、
Ｒ２は、有機基であり、
Ｒ５ａは、水素原子、又は有機基であり、及び
Ｒ５ｂは、水素原子、又は有機基である
（但し、
Ｒ１がペルフルオロアルキル基の場合、Ｒ２は炭素数２以上のアルキル基又は炭素数３以
上のエステル基である。）。]
で表される化合物。
項１７．
Ｒ１は、Ｒ１１－Ｙ－であり、
Ｙは、結合手であり、及び
Ｒ１１は、
１個以上の置換基を有していてもよいアリール基、又は
１個以上の置換基を有していてもよいアルキル基であり、
ＲＡは、水素原子、又はフッ素原子であり、及び
Ｒ２は、水素原子、又は有機基である、
項１６に記載の化合物。
項１８．
ＲＡは、フッ素原子である、
項１７に記載の化合物。
項１９．
Ｒ４ａは、水素原子であり、
Ｒ４ｂは、水素原子であり、
Ｒ２は、
水素原子、
１個以上の置換基を有していてもよいアルコキシカルボニル基、
１個以上の置換基を有していてもよいアリール基、又は
１個以上の置換基を有していてもよいアルキル基であり、
Ｒ５ａは、水素原子であり、及び
Ｒ５ｂは、水素原子である、
項１７又は１８に記載の化合物。
項２０．
Ｒ１は、Ｒ１１－Ｙ－であり、
Ｙは、－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－、又は－Ｏ－Ｃ（＝Ｓ）－であり、
Ｒ１１は、１個以上の置換基を有していてもよい脂肪族炭化水素基であり、
ＲＡは、水素原子、又はフッ素原子であり、及び
Ｒ２は、水素原子、又は有機基である、
項１６に記載の化合物。
項２１．
ＲＡは、フッ素原子である、項２０に記載の化合物。
項２２．
Ｒ４ａは、水素原子であり、
Ｒ４ｂは、水素原子であり、
Ｒ２は、
水素原子、
１個以上の置換基を有していてもよいアルコキシカルボニル基、
１個以上の置換基を有していてもよいアリール基、又は
１個以上の置換基を有していてもよいアルキル基であり
Ｒ５ａは、水素原子であり、及び
Ｒ５ｂは、水素原子である、
項２０又は２１に記載の化合物。
項２３．
Ｒ１は、Ｒ１１－Ｙ－であり、
Ｙは、－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－、又は－Ｏ－Ｃ（＝Ｓ）－であり、
Ｒ１１は、１個以上の置換基を有していてもよい脂肪族炭化水素基
ＲＡは、水素原子、又はフッ素原子であり、及び
Ｒ２は、水素原子、又は有機基である、
項１６に記載の化合物。
項２４．
Ｒ１は、（Ｒ１１－）２Ｎ－Ｃ（＝Ｏ）－であり、
Ｒ１１は、各出現において独立して、１個以上の置換基を有していてもよい脂肪族炭化水
素基であり、
ＲＡは、水素原子、又はフッ素原子であり、
Ｒ４ａは、水素原子であり、
Ｒ４ｂは、水素原子であり、
Ｒ２は、水素原子、又は有機基であり、
Ｒ５ａは、水素原子あり、及び
Ｒ５ｂは、水素原子、又は有機基である、
項１６に記載の化合物。
項２５．
ＲＡは、フッ素原子である、項２４に記載の化合物。
【発明の効果】
【0009】
本開示によれば、フルオロメチレン基を有する化合物の、効率的な、新たな製造方法が
提供される。
提供される。
【発明を実施するための形態】
【0010】
用語
本明細書中の記号及び略号は、特に限定のない限り、本明細書の文脈に沿い、本開示が
属する技術分野において通常用いられる意味に理解できる。
本明細書中の記号及び略号は、特に限定のない限り、本明細書の文脈に沿い、本開示が
属する技術分野において通常用いられる意味に理解できる。
【0011】
本明細書中、語句「含有する」は、語句「から本質的になる」、及び語句「からなる」
を包含することを意図して用いられる。
を包含することを意図して用いられる。
【0012】
特に限定されない限り、本明細書中に記載されている工程、処理、又は操作は、室温で
実施され得る。
本明細書中、室温は、１０～４０℃の範囲内の温度を意味する。
実施され得る。
本明細書中、室温は、１０～４０℃の範囲内の温度を意味する。
【0013】
本明細書中、「Ｃｎ－ｍ」（ここで、ｎ及びｍは、それぞれ自然数である。）は、有機
化学分野で慣用されている通り、炭素数がｎ以上、且つｍ以下であることを表す。
化学分野で慣用されている通り、炭素数がｎ以上、且つｍ以下であることを表す。
【0014】
本明細書中、「フルオロメチレン基」は、特に限定の無い限り、モノフルオロメチレン
基、及びジフルオロメチレン基を包含する。
基、及びジフルオロメチレン基を包含する。
【0015】
本明細書中、特に限定のない限り、「ハロゲン原子」としては、例えば、フッ素原子、
塩素原子、臭素原子、及びヨウ素原子が例示される。
塩素原子、臭素原子、及びヨウ素原子が例示される。
【0016】
本明細書中、特に限定のない限り、「有機基」は、その構成原子として１個以上の炭素
原子を含有する基を意味する。
本明細書中、特に限定のない限り、「有機基」としては、炭化水素基、シアノ基、カル
ボキシ基、アルコキシ基、エステル基、エーテル基、及びアシル基が例示される。
原子を含有する基を意味する。
本明細書中、特に限定のない限り、「有機基」としては、炭化水素基、シアノ基、カル
ボキシ基、アルコキシ基、エステル基、エーテル基、及びアシル基が例示される。
【0017】
本明細書中、特に限定のない限り、「炭化水素基」は、その構成原子として、１個以上
の炭素原子、及び１個以上の水素原子を含有する基を意味する。
本明細書中、特に限定のない限り、「炭化水素基」としては、脂肪族炭化水素基、及び
芳香族炭化水素基（アリール基）、及びそれらの組み合わせ等が例示される。
の炭素原子、及び１個以上の水素原子を含有する基を意味する。
本明細書中、特に限定のない限り、「炭化水素基」としては、脂肪族炭化水素基、及び
芳香族炭化水素基（アリール基）、及びそれらの組み合わせ等が例示される。
【0018】
本明細書中、特に限定のない限り、「脂肪族炭化水素基」は、直鎖状、分枝鎖状、環状
、又はそれらの組み合わせであることができる。
、又はそれらの組み合わせであることができる。
【0019】
本明細書中、特に限定のない限り、「脂肪族炭化水素基」は、飽和、又は不飽和である
ことができる。
ことができる。
【0020】
本明細書中、特に限定のない限り、「脂肪族炭化水素基」としては、例えば、アルキル
基、アルケニル基、アルキニル基、及びシクロアルキル基が例示される。
基、アルケニル基、アルキニル基、及びシクロアルキル基が例示される。
【0021】
本明細書中、特に限定のない限り、「アルキル基」としては、例えば、メチル、エチル
、プロピル（例：ｎ－プロピル、イソプロピル）、ブチル（例：ｎ－ブチル、イソブチル
、ｓｅｃ－ブチル、ｔｅｒｔ－ブチル）、ペンチル（例：ｎ－ペンチル、ｔｅｒｔ－ペン
チル、ネオペンチル、イソペンチル、ｓｅｃ－ペンチル、３－ペンチル）、ヘキシル、ヘ
プチル、オクチル、ノニル、及びデシル等の、直鎖状又は分枝鎖状の、且つ第一級、第二
級、又は第三級のＣ１－１５アルキル基（例：Ｃ１－１２アルキル基、Ｃ１－１０アルキ
ル基）が例示される。
、プロピル（例：ｎ－プロピル、イソプロピル）、ブチル（例：ｎ－ブチル、イソブチル
、ｓｅｃ－ブチル、ｔｅｒｔ－ブチル）、ペンチル（例：ｎ－ペンチル、ｔｅｒｔ－ペン
チル、ネオペンチル、イソペンチル、ｓｅｃ－ペンチル、３－ペンチル）、ヘキシル、ヘ
プチル、オクチル、ノニル、及びデシル等の、直鎖状又は分枝鎖状の、且つ第一級、第二
級、又は第三級のＣ１－１５アルキル基（例：Ｃ１－１２アルキル基、Ｃ１－１０アルキ
ル基）が例示される。
【0022】
本明細書中、「フルオロアルキル基」は、少なくとも１個の水素原子がフッ素原子で置
換されたアルキル基である。
本明細書中、「フルオロアルキル基」が有するフッ素原子の数は、１個以上（例、１～
３個、１～６個、１～１２個、１個から置換可能な最大数）であることができる。
「フルオロアルキル基」は、パーフルオロアルキル基を包含する。「パーフルオロアル
キル基」は、全ての水素原子がフッ素原子で置換されたアルキル基である。
換されたアルキル基である。
本明細書中、「フルオロアルキル基」が有するフッ素原子の数は、１個以上（例、１～
３個、１～６個、１～１２個、１個から置換可能な最大数）であることができる。
「フルオロアルキル基」は、パーフルオロアルキル基を包含する。「パーフルオロアル
キル基」は、全ての水素原子がフッ素原子で置換されたアルキル基である。
【0023】
本明細書中、特に限定のない限り、「アルケニル基」としては、例えば、ビニル、１－
プロペニル、イソプロペニル、２－メチル－１－プロペニル、１－ブテニル、２－ブテニ
ル、３－ブテニル、２－エチル－１－ブテニル、１－ペンテニル、２－ペンテニル、３－
ペンテニル、４－ペンテニル、４－メチル－３－ペンテニル、１－ヘキセニル、２－ヘキ
セニル、３－ヘキセニル、４－ヘキセニル、及び５－ヘキセニル等の、直鎖状、又は分枝
鎖状の、炭素数１～１０のアルケニル基が例示される。
プロペニル、イソプロペニル、２－メチル－１－プロペニル、１－ブテニル、２－ブテニ
ル、３－ブテニル、２－エチル－１－ブテニル、１－ペンテニル、２－ペンテニル、３－
ペンテニル、４－ペンテニル、４－メチル－３－ペンテニル、１－ヘキセニル、２－ヘキ
セニル、３－ヘキセニル、４－ヘキセニル、及び５－ヘキセニル等の、直鎖状、又は分枝
鎖状の、炭素数１～１０のアルケニル基が例示される。
【0024】
本明細書中、特に限定のない限り、「アルキニル基」としては、例えば、エチニル、１
－プロピニル、２－プロピニル、１－ブチニル、２－ブチニル、３－ブチニル、１－ペン
チニル、２－ペンチニル、３－ペンチニル、４－ペンチニル、１－ヘキシニル、２－ヘキ
シニル、３－ヘキシニル、４－ヘキシニル、及び５－ヘキシニル等の、直鎖状、又は分枝
鎖状の、炭素数２～６のアルキニル基が例示される。
－プロピニル、２－プロピニル、１－ブチニル、２－ブチニル、３－ブチニル、１－ペン
チニル、２－ペンチニル、３－ペンチニル、４－ペンチニル、１－ヘキシニル、２－ヘキ
シニル、３－ヘキシニル、４－ヘキシニル、及び５－ヘキシニル等の、直鎖状、又は分枝
鎖状の、炭素数２～６のアルキニル基が例示される。
【0025】
本明細書中、特に限定のない限り、「シクロアルキル基」としては、例えば、シクロペ
ンチル基、シクロヘキシル基、及びシクロヘプチル等の炭素数３～１０（好ましくは、炭
素数４～１０）のシクロアルキル基が例示される。
ンチル基、シクロヘキシル基、及びシクロヘプチル等の炭素数３～１０（好ましくは、炭
素数４～１０）のシクロアルキル基が例示される。
【0026】
本明細書中、特に限定のない限り、「アルコキシ基」は、例えば、ＲＯ－（当該式中、
Ｒはアルキル基である。）で表される基である。
Ｒはアルキル基である。）で表される基である。
【0027】
本明細書中、特に限定のない限り、「エステル基」は、例えば、ＲＣＯ２－（当該式中
、Ｒはアルキル基である。）で表される基である。
、Ｒはアルキル基である。）で表される基である。
【0028】
本明細書中、特に限定のない限り、「エーテル基」は、エーテル結合（－Ｏ－）を有す
る基を意味し、ポリエーテル基を包含する。ポリエーテル基は、式：Ｒａ－（Ｏ－Ｒｂ）
ｎ－（当該式中、Ｒａはアルキル基であり、Ｒｂは各出現において同一又は異なって、ア
ルキレン基であり、及びｎは１以上の整数である。）で表される基を包含する。アルキレ
ン基は前記アルキル基から水素原子を１個除去して形成される２価の基である。
る基を意味し、ポリエーテル基を包含する。ポリエーテル基は、式：Ｒａ－（Ｏ－Ｒｂ）
ｎ－（当該式中、Ｒａはアルキル基であり、Ｒｂは各出現において同一又は異なって、ア
ルキレン基であり、及びｎは１以上の整数である。）で表される基を包含する。アルキレ
ン基は前記アルキル基から水素原子を１個除去して形成される２価の基である。
【0029】
本明細書中、特に限定のない限り、「アシル基」は、アルカノイル基を包含する。本明
細書中、特に限定のない限り、「アルカノイル基」は、例えば、ＲＣＯ－（当該式中、Ｒ
はアルキル基である。）で表される基である。
細書中、特に限定のない限り、「アルカノイル基」は、例えば、ＲＣＯ－（当該式中、Ｒ
はアルキル基である。）で表される基である。
【0030】
本明細書中、特に限定のない限り、「芳香族基」は、アリール基、及びヘテロアリール
基を包含する。
本明細書中、「アリール基」の例は、フェニル基、及びナフチル基等のＣ６－１４アリ
ール基（例：Ｃ６－１０アリール基）を包含する。
本明細書中、「ヘテロアリール基」の例は、環構成原子として、炭素原子以外に窒素原
子、硫黄原子、及び酸素原子からなる群より選ばれる１～４個のヘテロ原子を含む５～１
４員（単環、２環、又は３環式）複素環基を包含する。
本明細書中、「ヘテロアリール基」の具体例は、
（１）フリル基、チエニル基、ピリジル基、ピリミジニル基、ピリダジニル基、ピラジニ
ル基、ピロリル基、イミダゾリル基、ピラゾリル基、チアゾリル基、イソチアゾリル基、
オキサゾリル基、イソオキサゾリル基、オキサジアゾリル基、チアジアゾリル基、トリア
ゾリル基、テトラゾリル基、トリアジニル基等の単環式芳香族複素環基；並びに
（２）キノリル基、イソキノリル基、キナゾリル基、キノキサリル基、ベンゾフリル基、
ベンゾチエニル基、ベンズオキサゾリル基、ベンズイソオキサゾリル基、ベンゾチアゾリ
ル基、ベンズイミダゾリル基、ベンゾトリアゾリル基、インドリル基、インダゾリル基、
ピロロピラジニル基、イミダゾピリジニル基、イミダゾピラジニル基、イミダゾチアゾリ
ルピラゾロピリジニル基、ピラゾロチエニル基、ピラゾロトリアジニル基等の多環式（例
、二環式）芳香族複素環基を包含する。
基を包含する。
本明細書中、「アリール基」の例は、フェニル基、及びナフチル基等のＣ６－１４アリ
ール基（例：Ｃ６－１０アリール基）を包含する。
本明細書中、「ヘテロアリール基」の例は、環構成原子として、炭素原子以外に窒素原
子、硫黄原子、及び酸素原子からなる群より選ばれる１～４個のヘテロ原子を含む５～１
４員（単環、２環、又は３環式）複素環基を包含する。
本明細書中、「ヘテロアリール基」の具体例は、
（１）フリル基、チエニル基、ピリジル基、ピリミジニル基、ピリダジニル基、ピラジニ
ル基、ピロリル基、イミダゾリル基、ピラゾリル基、チアゾリル基、イソチアゾリル基、
オキサゾリル基、イソオキサゾリル基、オキサジアゾリル基、チアジアゾリル基、トリア
ゾリル基、テトラゾリル基、トリアジニル基等の単環式芳香族複素環基；並びに
（２）キノリル基、イソキノリル基、キナゾリル基、キノキサリル基、ベンゾフリル基、
ベンゾチエニル基、ベンズオキサゾリル基、ベンズイソオキサゾリル基、ベンゾチアゾリ
ル基、ベンズイミダゾリル基、ベンゾトリアゾリル基、インドリル基、インダゾリル基、
ピロロピラジニル基、イミダゾピリジニル基、イミダゾピラジニル基、イミダゾチアゾリ
ルピラゾロピリジニル基、ピラゾロチエニル基、ピラゾロトリアジニル基等の多環式（例
、二環式）芳香族複素環基を包含する。
【0031】
本明細書中、「芳香環」の例は、
（１）ベンゼン環、及びナフタレン環等の芳香族炭素環；並びに
（２）フラン環、チオフェン環、ピロール環、オキサゾール環、イソオキサゾール環、チ
アゾール環、イソチアゾール環、イミダゾール環、ピラゾール環、１，２，３－オキサジ
アゾール環、１，２，４－オキサジアゾール環、１，３，４－オキサジアゾール環、フラ
ザン環、１，２，３－チアジアゾール環、１，２，４－チアジアゾール環、１，３，４－
チアジアゾール環、１，２，３－トリアゾール環、１，２，４－トリアゾール環、テトラ
ゾール環、ピリジン環、ピリダジン環、ピリミジン環、ピラジン環、トリアジン環等の、
環構成原子として、炭素原子以外に酸素原子、硫黄原子、及び窒素原子から選ばれるヘテ
ロ原子を１～３個含有する５又は６員の単環式芳香族複素環
を包含する。
（１）ベンゼン環、及びナフタレン環等の芳香族炭素環；並びに
（２）フラン環、チオフェン環、ピロール環、オキサゾール環、イソオキサゾール環、チ
アゾール環、イソチアゾール環、イミダゾール環、ピラゾール環、１，２，３－オキサジ
アゾール環、１，２，４－オキサジアゾール環、１，３，４－オキサジアゾール環、フラ
ザン環、１，２，３－チアジアゾール環、１，２，４－チアジアゾール環、１，３，４－
チアジアゾール環、１，２，３－トリアゾール環、１，２，４－トリアゾール環、テトラ
ゾール環、ピリジン環、ピリダジン環、ピリミジン環、ピラジン環、トリアジン環等の、
環構成原子として、炭素原子以外に酸素原子、硫黄原子、及び窒素原子から選ばれるヘテ
ロ原子を１～３個含有する５又は６員の単環式芳香族複素環
を包含する。
【0032】
本明細書中、「非芳香族炭化水素環」の例は、炭素数３～８の非芳香族炭化水素環を包
含し、その具体例は、
（１）シクロプロパン、シクロブタン、シクロペンタン、シクロヘキサン、シクロヘプタ
ン、及びシクロオクタンのＣ３－８シクロアルカン；
（２）シクロペンテン、シクロヘキセン、シクロヘプテン、及びシクロオクテンのＣ５－
８シクロアルケン；
（３）シクロペンタジエン、シクロヘキサジエン、シクロヘプタジエン、シクロオクタジ
エン等のＣ５－８シクロアルカジエン；及び
（４）ビシクロ［２．１．０］ペンタン、ビシクロ［２．２．１］ヘプタン、ビシクロ［
３．２．１］オクタン、ビシクロ［２．２．１］ヘプタ－２－エン、及びトリシクロ［２
．２．１．０］ヘプタン等の炭素数５～８の橋かけ環炭化水素
を包含できる。
含し、その具体例は、
（１）シクロプロパン、シクロブタン、シクロペンタン、シクロヘキサン、シクロヘプタ
ン、及びシクロオクタンのＣ３－８シクロアルカン；
（２）シクロペンテン、シクロヘキセン、シクロヘプテン、及びシクロオクテンのＣ５－
８シクロアルケン；
（３）シクロペンタジエン、シクロヘキサジエン、シクロヘプタジエン、シクロオクタジ
エン等のＣ５－８シクロアルカジエン；及び
（４）ビシクロ［２．１．０］ペンタン、ビシクロ［２．２．１］ヘプタン、ビシクロ［
３．２．１］オクタン、ビシクロ［２．２．１］ヘプタ－２－エン、及びトリシクロ［２
．２．１．０］ヘプタン等の炭素数５～８の橋かけ環炭化水素
を包含できる。
【0033】
本明細書中、「非芳香族複素環」の例は、３～８員の非芳香族複素環等を包含し、その
具体例は、オキシラン、アゼチジン、オキセタン、チエタン、ピロリジン、ジヒドロフラ
ン、テトラヒドロフラン、テトラヒドロチオフェン、イミダゾリジン、オキサゾリジン、
イソオキサゾリン、ピペリジン、ジヒドロピラン、テトラヒドロピラン、テトラヒドロチ
オピラン、モルホリン、チオモルホリン、ピペラジン、ジヒドロオキサジン、テトラヒド
ロオキサジン、ジヒドロピリミジン、テトラヒドロピリミジン、アゼパン、オキセパン、
チエパン、オキサゼパン、チアゼパン、アゾカン、オキソカン、チオカン、オキサゾカン
、及びチアゾカンを包含する。
具体例は、オキシラン、アゼチジン、オキセタン、チエタン、ピロリジン、ジヒドロフラ
ン、テトラヒドロフラン、テトラヒドロチオフェン、イミダゾリジン、オキサゾリジン、
イソオキサゾリン、ピペリジン、ジヒドロピラン、テトラヒドロピラン、テトラヒドロチ
オピラン、モルホリン、チオモルホリン、ピペラジン、ジヒドロオキサジン、テトラヒド
ロオキサジン、ジヒドロピリミジン、テトラヒドロピリミジン、アゼパン、オキセパン、
チエパン、オキサゼパン、チアゼパン、アゾカン、オキソカン、チオカン、オキサゾカン
、及びチアゾカンを包含する。
【0034】
製造方法［化合物（１）］
【0035】
本開示の、式（１）：
［式中、
Ｒ１は、有機基であり、
ＲＡは、水素原子、又はフッ素原子であり、
Ｒ４ａは、水素原子、又は有機基であり、
Ｒ４ｂは、水素原子、又は有機基であり、
Ｒ５ａは、水素原子、又は有機基であり、
Ｒ５ｂは、水素原子、又は有機基であり、及び
Ｒ２は、水素原子、又は有機基である。
或いは、Ｒ２は、Ｒ４ａと連結して、環を形成していてもよい。］
で表される化合物［本明細書中、化合物（１）と称する場合がある。］の製造方法であっ
て、
式（２）：
［式中、Ｘ１は脱離基であり、及びその他の記号は前記と同意義である。］
で表される化合物を、
所望による還元剤の存在下、且つ光照射下で、
式（３）：
［式中、Ｘ２は脱離基であり、及びその他の記号は前記と同意義である。］
で表される化合物と反応させる工程Ａを含む。
【化12】
Ｒ１は、有機基であり、
ＲＡは、水素原子、又はフッ素原子であり、
Ｒ４ａは、水素原子、又は有機基であり、
Ｒ４ｂは、水素原子、又は有機基であり、
Ｒ５ａは、水素原子、又は有機基であり、
Ｒ５ｂは、水素原子、又は有機基であり、及び
Ｒ２は、水素原子、又は有機基である。
或いは、Ｒ２は、Ｒ４ａと連結して、環を形成していてもよい。］
で表される化合物［本明細書中、化合物（１）と称する場合がある。］の製造方法であっ
て、
式（２）：
【化13】
で表される化合物を、
所望による還元剤の存在下、且つ光照射下で、
式（３）：
【化14】
で表される化合物と反応させる工程Ａを含む。
【0036】
本発明の好適な一態様において、
Ｒ１は、Ｒ１１－Ｙ－、又は（Ｒ１１－）２Ｎ－であり、
Ｙは、結合手、酸素原子、又は硫黄原子であり、及び
Ｒ１１は、各出現において独立して、１個以上の置換基を有していてもよい炭化水素基で
ある。
Ｒ１は、Ｒ１１－Ｙ－、又は（Ｒ１１－）２Ｎ－であり、
Ｙは、結合手、酸素原子、又は硫黄原子であり、及び
Ｒ１１は、各出現において独立して、１個以上の置換基を有していてもよい炭化水素基で
ある。
【0037】
本発明のより好適な一態様において、
Ｒ１は、Ｒ１１－Ｙ－であり、
Ｙは、結合手であり、及び
Ｒ１１は、
１個以上の置換基を有していてもよいアリール基、又は
１個以上の置換基を有していてもよいアルキル基
である。
Ｒ１１は、好ましくは、アリール基、又はペルフルオロアルキル基である。
Ｒ１は、Ｒ１１－Ｙ－であり、
Ｙは、結合手であり、及び
Ｒ１１は、
１個以上の置換基を有していてもよいアリール基、又は
１個以上の置換基を有していてもよいアルキル基
である。
Ｒ１１は、好ましくは、アリール基、又はペルフルオロアルキル基である。
【0038】
本発明の、別のより好適な一態様において、
Ｒ１は、Ｒ１１－Ｙ－であり、
Ｙは、－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－、又は－Ｏ－Ｃ（＝Ｓ）－であり、及び
Ｒ１１は、１個以上の置換基を有していてもよい脂肪族炭化水素基である。
Ｒ１１は、好ましくはＣ１－６アルキル基、又はＣ７－１１アラルキル基（例：ベンジ
ル）である。
Ｒ１は、Ｒ１１－Ｙ－であり、
Ｙは、－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－、又は－Ｏ－Ｃ（＝Ｓ）－であり、及び
Ｒ１１は、１個以上の置換基を有していてもよい脂肪族炭化水素基である。
Ｒ１１は、好ましくはＣ１－６アルキル基、又はＣ７－１１アラルキル基（例：ベンジ
ル）である。
【0039】
本発明の、また別のより好適な一態様において、
Ｒ１は、（Ｒ１１－）２Ｎ－Ｃ（＝Ｏ）－であり、
Ｒ１１は、各出現において独立して、１個以上の置換基を有していてもよい脂肪族炭化水
素基である。
Ｒ１１は、好ましくは、各出現において独立して、Ｃ１－６アルキル基である。
Ｒ１は、（Ｒ１１－）２Ｎ－Ｃ（＝Ｏ）－であり、
Ｒ１１は、各出現において独立して、１個以上の置換基を有していてもよい脂肪族炭化水
素基である。
Ｒ１１は、好ましくは、各出現において独立して、Ｃ１－６アルキル基である。
【0040】
ＲＡは、好ましくはフッ素原子である。
【0041】
Ｒ２がＲ４ａと連結して形成する「環」の例は、芳香環、非芳香族炭化水素環、及び非
芳香族複素環を包含する。
当該環の置換基の例は、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、アミノ基、ヒドロキシ基
、カルボキシ基、アルキル基、アルケニル基、及びアルキニル基を包含する。
芳香族複素環を包含する。
当該環の置換基の例は、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、アミノ基、ヒドロキシ基
、カルボキシ基、アルキル基、アルケニル基、及びアルキニル基を包含する。
【0042】
Ｒ２は、好ましくは
水素原子、
１個以上の置換基を有していてもよい炭化水素基、又は
１個以上の置換基を有していてもよいアルコキシカルボニル基
である。
水素原子、
１個以上の置換基を有していてもよい炭化水素基、又は
１個以上の置換基を有していてもよいアルコキシカルボニル基
である。
【0043】
Ｒ２は、より好ましくは
水素原子、
１個以上の置換基を有していてもよいＣ１－６アルキル基、
１個以上の置換基を有していてもよいＣ６－１４アリール基、又は
１個以上の置換基を有していてもよいＣ１－６アルコキシ－カルボニル基
である。
水素原子、
１個以上の置換基を有していてもよいＣ１－６アルキル基、
１個以上の置換基を有していてもよいＣ６－１４アリール基、又は
１個以上の置換基を有していてもよいＣ１－６アルコキシ－カルボニル基
である。
【0044】
Ｒ４ａは、好ましくは、水素原子である。
Ｒ４ｂは、好ましくは、水素原子である。
Ｒ５ａは、好ましくは、水素原子である。
Ｒ５ｂは、好ましくは、水素原子である。
Ｒ４ｂは、好ましくは、水素原子である。
Ｒ５ａは、好ましくは、水素原子である。
Ｒ５ｂは、好ましくは、水素原子である。
【0045】
好ましくは、Ｒ２は、
水素原子、
１個以上の置換基を有していてもよい炭化水素基、又は
１個以上の置換基を有していてもよいアルコキシカルボニル基
であり、
Ｒ４ａは、水素原子であり、
Ｒ４ｂは、水素原子であり、
Ｒ５ａは、水素原子であり、及び
Ｒ５ｂは、水素原子である。
水素原子、
１個以上の置換基を有していてもよい炭化水素基、又は
１個以上の置換基を有していてもよいアルコキシカルボニル基
であり、
Ｒ４ａは、水素原子であり、
Ｒ４ｂは、水素原子であり、
Ｒ５ａは、水素原子であり、及び
Ｒ５ｂは、水素原子である。
【0046】
Ｘ１で表される脱離基の例は、
ハロゲン原子（例：フッ素原子、塩素原子、臭素原子、及びヨウ素原子）、
アルキルスルホニルオキシ基（例：メタンスルホニルオキシ基、トリフルオロメタンスル
ホニルオキシ基等のＣ１－６アルキルスルホニルオキシ基）、及び
アリールスルホニルオキシ基（例：ベンゼンスルホニルオキシ基、ｐ－トルエンスルホニ
ルオキシ基等のＣ６－１０アリールスルホニルオキシ基）
を包含する。
ハロゲン原子（例：フッ素原子、塩素原子、臭素原子、及びヨウ素原子）、
アルキルスルホニルオキシ基（例：メタンスルホニルオキシ基、トリフルオロメタンスル
ホニルオキシ基等のＣ１－６アルキルスルホニルオキシ基）、及び
アリールスルホニルオキシ基（例：ベンゼンスルホニルオキシ基、ｐ－トルエンスルホニ
ルオキシ基等のＣ６－１０アリールスルホニルオキシ基）
を包含する。
【0047】
Ｘ１は、好ましくは
ハロゲン原子、
アルキルスルホニルオキシ基、又は
アリールスルホニルオキシ基
である。
ハロゲン原子、
アルキルスルホニルオキシ基、又は
アリールスルホニルオキシ基
である。
【0048】
Ｘ２は、好ましくは
－ＳＯ２Ｒ、
－ＳＲ、
－Ｓ（＝Ｏ）Ｒ、
－ＳｅＲ、
－ＴｅＲ、
－Ｃｌ、
－Ｂｒ、
－Ｉ、
－ＰＲ２、又は
－Ｐ（＝Ｏ）Ｒ２
［これらの式中、Ｒは、各出現において独立して、有機基である。］
である。
－ＳＯ２Ｒ、
－ＳＲ、
－Ｓ（＝Ｏ）Ｒ、
－ＳｅＲ、
－ＴｅＲ、
－Ｃｌ、
－Ｂｒ、
－Ｉ、
－ＰＲ２、又は
－Ｐ（＝Ｏ）Ｒ２
［これらの式中、Ｒは、各出現において独立して、有機基である。］
である。
【0049】
Ｘ２は、より好ましくは
－ＳＯ２Ｒ（当該式中、Ｒは有機基である。）
である。
－ＳＯ２Ｒ（当該式中、Ｒは有機基である。）
である。
【0050】
工程Ａにおける、化合物（３）の使用量は、化合物（２）の１モルに対して、好ましく
は、１．０～２０．０モルの範囲内、より好ましくは、１．３～１０モルの範囲内、及び
更に好ましくは、１．５～５モルの範囲内である。
は、１．０～２０．０モルの範囲内、より好ましくは、１．３～１０モルの範囲内、及び
更に好ましくは、１．５～５モルの範囲内である。
【0051】
工程Ａの反応は、所望により好適に還元剤の存在下で実施される。
【0052】
前記還元剤は、無機、又は有機の還元剤であることができ、その例は、水素、ギ酸、ギ
酸アンモニウム、ギ酸ナトリウム、ギ酸－トリエチルアミン、トリエチルシラン、テトラ
メチルジシロキサン、ポリメチルヒドロシロキサン、ＮａＢＨ３ＣＮ、ＮＨＣＢＨ３（N-
heterocyclic carbene boranes）、及びＮ－Ｈ部（イミノ基）を有する含窒素不飽和複素
環化合物を包含する。
酸アンモニウム、ギ酸ナトリウム、ギ酸－トリエチルアミン、トリエチルシラン、テトラ
メチルジシロキサン、ポリメチルヒドロシロキサン、ＮａＢＨ３ＣＮ、ＮＨＣＢＨ３（N-
heterocyclic carbene boranes）、及びＮ－Ｈ部（イミノ基）を有する含窒素不飽和複素
環化合物を包含する。
【0053】
前記還元剤の好適な例は、Ｎ－Ｈ部を有する含窒素不飽和複素環化合物を包含する。
【0054】
前記還元剤としての前記「Ｎ－Ｈ部を有する含窒素不飽和複素環化合物」の好適な例は
、式（４）：
［式中、
Ｒ３ａ、Ｒ３ｂ、Ｒ３ｃ、及びＲ３ｄは、同一又は異なって、アルキル基を表す。］
で表される化合物［本明細書中、化合物（４）と称する場合がある。］を包含する。
、式（４）：
【化15】
Ｒ３ａ、Ｒ３ｂ、Ｒ３ｃ、及びＲ３ｄは、同一又は異なって、アルキル基を表す。］
で表される化合物［本明細書中、化合物（４）と称する場合がある。］を包含する。
【0055】
Ｒ３ａは、好ましくはＣ１－６アルキル基、より好ましくはメチル基、又はエチル基で
ある。
ある。
【0056】
Ｒ３ｂは、好ましくはＣ１－６アルキル基、より好ましくはメチル基、又はエチル基で
ある。
ある。
【0057】
Ｒ３ｃは、好ましくはＣ１－６アルキル基、より好ましくはメチル基、又はエチル基で
ある。
ある。
【0058】
Ｒ３ｄは、好ましくはＣ１－６アルキル基、より好ましくはメチル基、又はエチル基で
ある。
ある。
【0059】
本開示で用いることができる前記還元剤のより好適な例は、次の化学式の化合物を包含
する。これらの化合物は所謂Hantzschエステル（本明細書中、ＨＥＨと略記する場合があ
る。）である。
する。これらの化合物は所謂Hantzschエステル（本明細書中、ＨＥＨと略記する場合があ
る。）である。
【化16】
【0060】
これらの還元剤は、１種を単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい
。
。
【0061】
工程Ａの反応においては、所望により、アミン等の除酸剤を用いることができる。
ここで、化合物（４）を用いる場合、好適に、その他のアミンを用いないことができる
。
ここで、化合物（４）を用いる場合、好適に、その他のアミンを用いないことができる
。
【0062】
工程Ａにおいて還元剤を用いる場合、その量は、基質である前記式（２）で表される化
合物の１モルに対して、好ましくは、０．５～１０モルの範囲内、より好ましくは、１．
０～５．０モルの範囲内、及び更に好ましくは、１．２～３．０モルの範囲内である。
合物の１モルに対して、好ましくは、０．５～１０モルの範囲内、より好ましくは、１．
０～５．０モルの範囲内、及び更に好ましくは、１．２～３．０モルの範囲内である。
【0063】
工程Ａの反応は、触媒の存在下、又は実質的若しくは完全な不存在下で実施することが
できる。
工程Ａの反応は、好ましくは触媒の存在下で実施される。
できる。
工程Ａの反応は、好ましくは触媒の存在下で実施される。
【0064】
本開示で用いることができる前記触媒の例は、遷移金属錯体、及び有機色素化合物を包
含する。
含する。
【0065】
本開示で用いることができる前記遷移金属錯体が有する中心金属種の例は、コバルト、
ルテニウム、ロジウム、レニウム、イリジウム、ニッケル、パラジウム、オスミウム、及
び白金を包含する。
当該中心金属種の好適な例は、ルテニウム、イリジウム、及びパラジウムを包含する。
ルテニウム、ロジウム、レニウム、イリジウム、ニッケル、パラジウム、オスミウム、及
び白金を包含する。
当該中心金属種の好適な例は、ルテニウム、イリジウム、及びパラジウムを包含する。
【0066】
本開示で用いることができる前記遷移金属錯体が有する配位子の例は、及び含窒素化合
物、含酸素化合物、及び含硫黄化合物を包含する。
物、含酸素化合物、及び含硫黄化合物を包含する。
【0067】
配位子としての当該「含窒素化合物」の例は、ジアミン化合物（例：エチレンジアミン
）、及び含窒素複素環化合物（例：ピリジン、ビピリジン、フェナントロリン、ピロール
、インドール、カルバゾール、イミダゾール、ピラゾール、キノリン、イソキノリン、ア
クリジン、ピリダジン、ピリミジン、ピラジン、フタラジン、キナゾリン、及びキノキサ
リン）を包含する。
）、及び含窒素複素環化合物（例：ピリジン、ビピリジン、フェナントロリン、ピロール
、インドール、カルバゾール、イミダゾール、ピラゾール、キノリン、イソキノリン、ア
クリジン、ピリダジン、ピリミジン、ピラジン、フタラジン、キナゾリン、及びキノキサ
リン）を包含する。
【0068】
配位子としての当該「含酸素化合物」の例は、ジケトン（例：ジピバロイルメタン）、
及び含酸素複素環化合物（例：フラン、ベンゾフラン、オキサゾール、ピラン、ピロン、
クマリン、及びベンゾピロン）を包含する。
及び含酸素複素環化合物（例：フラン、ベンゾフラン、オキサゾール、ピラン、ピロン、
クマリン、及びベンゾピロン）を包含する。
【0069】
配位子としての当該「含硫黄化合物」の例は、含硫黄複素環化合物（例：チオフェン、
チオナフテン、及びチアゾール）を包含する。
チオナフテン、及びチアゾール）を包含する。
【0070】
前記遷移金属錯体において、これらの配位子の数は１個以上であることができる。但し
、いうまでもなく、その数は必ずしも明らかでなくてもよい。
、いうまでもなく、その数は必ずしも明らかでなくてもよい。
【0071】
工程Ａの反応に触媒を用いる場合、工程Ａにおける、触媒の使用量は、化合物（２）の
１モルに対して、好ましくは、０．０００１～０．１モルの範囲内、より好ましくは、０
．００１～０．０５モルの範囲内、及び更に好ましくは、０．００５～０．０２モルの範
囲内である。
１モルに対して、好ましくは、０．０００１～０．１モルの範囲内、より好ましくは、０
．００１～０．０５モルの範囲内、及び更に好ましくは、０．００５～０．０２モルの範
囲内である。
【0072】
本開示で用いることができる前記有機色素化合物は、分子内に金属原子を含有しない化
合物であることができる。
当該有機色素化合物の例は、ローズベンガル、エリスロシン、エオシン（例：エオシン
Ｂ、エオシンＹ）、アクリフラビン、リポフラビン、及びチオニンを包含する。
合物であることができる。
当該有機色素化合物の例は、ローズベンガル、エリスロシン、エオシン（例：エオシン
Ｂ、エオシンＹ）、アクリフラビン、リポフラビン、及びチオニンを包含する。
【0073】
当該触媒の好適な例は、［Ｉｒ｛ｄＦ（ＣＦ３）ｐｐｙ｝２（ｄｔｂｐｙ）］ＰＦ６、
［Ｉｒ（ｄｔｂｂｐｙ）（ｐｐｙ）２］［ＰＦ６］、Ｉｒ（ｐｐｙ）３、Ｒｕ（ｂｐｙ）
３Ｃｌ２・６Ｈ２Ｏ、［Ｒｕ（ｂｐｚ）３］［ＰＦ６］２、［Ｒｕ（ｂｐｍ）３］［Ｃｌ
］２、［Ｒｕ（ｂｐｙ）２（ｐｈｅｎ－５－ＮＨ２）］［ＰＦ６］２、［Ｒｕ（ｂｐｙ）
３］［ＰＦ６］２、Ｒｕ（ｐｈｅｎ）３Ｃｌ２、Ｃｕ（ｄａｐ）２クロリド、９－メシチ
ル－１０－メチルアクリジニウム・ペルクロラート、Ｉｒ（ｐｐｙ）３、及びＰｄ（ＰＰ
ｈ３）４を包含する。
［Ｉｒ（ｄｔｂｂｐｙ）（ｐｐｙ）２］［ＰＦ６］、Ｉｒ（ｐｐｙ）３、Ｒｕ（ｂｐｙ）
３Ｃｌ２・６Ｈ２Ｏ、［Ｒｕ（ｂｐｚ）３］［ＰＦ６］２、［Ｒｕ（ｂｐｍ）３］［Ｃｌ
］２、［Ｒｕ（ｂｐｙ）２（ｐｈｅｎ－５－ＮＨ２）］［ＰＦ６］２、［Ｒｕ（ｂｐｙ）
３］［ＰＦ６］２、Ｒｕ（ｐｈｅｎ）３Ｃｌ２、Ｃｕ（ｄａｐ）２クロリド、９－メシチ
ル－１０－メチルアクリジニウム・ペルクロラート、Ｉｒ（ｐｐｙ）３、及びＰｄ（ＰＰ
ｈ３）４を包含する。
【0074】
これらの触媒は、１種を単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
【0075】
工程Ａで用いられる触媒は、好ましくはphotoredox触媒であることができる。
【0076】
工程Ａで用いられる触媒は、担体（例：ゼオライト）に担持されていてもよい。
【0077】
工程Ａの反応は、溶媒の存在下、又は実質的若しくは完全な不存在下で実施することが
できる。
工程Ａの反応は、好ましくは、溶媒の存在下で実施される。
できる。
工程Ａの反応は、好ましくは、溶媒の存在下で実施される。
【0078】
本開示で用いることができる前記溶媒の例は、ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、トル
エン、ＣＨ３ＣＮ、エーテル、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、ベンゼン、ジメチルスル
ホキシド（ＤＭＳＯ）、ヘキサン、及びベンゾトリフルオライド（ＢＴＦ）を包含する。
エン、ＣＨ３ＣＮ、エーテル、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、ベンゼン、ジメチルスル
ホキシド（ＤＭＳＯ）、ヘキサン、及びベンゾトリフルオライド（ＢＴＦ）を包含する。
【0079】
これらの溶媒は、１種を単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
【0080】
工程Ａの反応の開始時において、その反応系の混合物における、
化合物（２）の濃度は、
好ましくは１～１００００ｍＭの範囲内、
より好ましくは１０～１０００ｍＭの範囲内、及び
更に好ましくは５０～２００ｍＭの範囲内である。
化合物（２）の濃度は、
好ましくは１～１００００ｍＭの範囲内、
より好ましくは１０～１０００ｍＭの範囲内、及び
更に好ましくは５０～２００ｍＭの範囲内である。
【0081】
工程Ａの反応の開始時において、その反応系の混合物における、化合物（３）の濃度は
、
好ましくは５０～５００００ｍＭの範囲内、
より好ましくは１００～５０００ｍＭの範囲内、及び
更に好ましくは３００～１０００ｍＭの範囲内
である。
、
好ましくは５０～５００００ｍＭの範囲内、
より好ましくは１００～５０００ｍＭの範囲内、及び
更に好ましくは３００～１０００ｍＭの範囲内
である。
【0082】
工程Ａの反応に触媒を用いる場合、その反応系の混合物における、触媒の濃度は、
好ましくは０．０１～１００ｍＭの範囲内、
より好ましくは０．１～５０ｍＭの範囲内、及び
更に好ましくは０．５～２０ｍＭの範囲内
である。
好ましくは０．０１～１００ｍＭの範囲内、
より好ましくは０．１～５０ｍＭの範囲内、及び
更に好ましくは０．５～２０ｍＭの範囲内
である。
【0083】
工程Ａは、例えば、化合物（２）、化合物（３）、所望による還元剤、所望による触媒
、及び所望による溶媒を混合することによって、実施できる。
当該混合の方法としては、慣用の方法を採用できる。
当該混合は、全ての物質を同時に混合してもよく、又は逐次的若しくは段階的に混合し
てもよい。
、及び所望による溶媒を混合することによって、実施できる。
当該混合の方法としては、慣用の方法を採用できる。
当該混合は、全ての物質を同時に混合してもよく、又は逐次的若しくは段階的に混合し
てもよい。
【0084】
工程Ａの反応は、光照射下で実施される。
当該光照射に用いられる照射光としては、例えば、工程Ａの反応を開始、及び／又は促
進できる光であれば特に限定なく使用することができる。その光源の例は、低圧、中圧、
若しくは高圧の水銀灯、タングステンランプ、及び発光ダイオード（ＬＥＤ）が挙げられ
る。
照射光は、好適に可視光であることができる。
照射光は、好ましくは３００～６００ｎｍの波長の光を含む光、より好ましくは４００
～５００ｎｍの光を含む光であることができる。
照射時間は、好ましくは１～２４時間の範囲内、より好ましくは１０～１８時間である
ことができる。
光照射の開始は、前記混合の、前、途中、同時、又は後であることができる。
光照射の強度は、工程Ａの反応を開始、及び／又は促進できるエネルギーが供給される
程度であればよく、これは、例えば、工程Ａの反応が適当に進行するように、技術常識に
基づき、光源の出力、及び光源と工程Ａの反応系の距離等を調整することにより適宜調整
することができる。
当該光照射に用いられる照射光としては、例えば、工程Ａの反応を開始、及び／又は促
進できる光であれば特に限定なく使用することができる。その光源の例は、低圧、中圧、
若しくは高圧の水銀灯、タングステンランプ、及び発光ダイオード（ＬＥＤ）が挙げられ
る。
照射光は、好適に可視光であることができる。
照射光は、好ましくは３００～６００ｎｍの波長の光を含む光、より好ましくは４００
～５００ｎｍの光を含む光であることができる。
照射時間は、好ましくは１～２４時間の範囲内、より好ましくは１０～１８時間である
ことができる。
光照射の開始は、前記混合の、前、途中、同時、又は後であることができる。
光照射の強度は、工程Ａの反応を開始、及び／又は促進できるエネルギーが供給される
程度であればよく、これは、例えば、工程Ａの反応が適当に進行するように、技術常識に
基づき、光源の出力、及び光源と工程Ａの反応系の距離等を調整することにより適宜調整
することができる。
【0085】
工程Ａの反応は、不活性ガスの存在下で実施してもよい。このような不活性ガスの例は
、窒素、及びアルゴンを包含する。
、窒素、及びアルゴンを包含する。
【0086】
工程Ａの反応温度は、好ましくは、０～１２０℃の範囲内、より好ましくは、１０～８
０℃の範囲内、更に好ましくは、２０～６０℃の範囲内である。
当該範囲内の条件であることにより、工程Ａの反応が十分に進行する。
当該範囲内の条件であることにより、コスト的に有利であり、及び望ましからぬ副反応
が抑制される。
０℃の範囲内、更に好ましくは、２０～６０℃の範囲内である。
当該範囲内の条件であることにより、工程Ａの反応が十分に進行する。
当該範囲内の条件であることにより、コスト的に有利であり、及び望ましからぬ副反応
が抑制される。
【0087】
工程Ａの反応時間は、好ましくは、１～２４時間の範囲内、より好ましくは、５～１８
時間の範囲内、更に好ましくは、１０～１５時間の範囲内である。
当該範囲内の条件であることにより、工程Ａの反応が十分に進行する。
当該範囲内の条件であることにより、コスト的に有利であり、及び望ましからぬ副反応
が抑制される。
時間の範囲内、更に好ましくは、１０～１５時間の範囲内である。
当該範囲内の条件であることにより、工程Ａの反応が十分に進行する。
当該範囲内の条件であることにより、コスト的に有利であり、及び望ましからぬ副反応
が抑制される。
【0088】
工程Ａの反応は、好適に、バッチ式、又はフロー系により実施できる。
【0089】
本開示の製造方法により得られる化合物（１）は、所望により、所望により、溶媒抽出
、乾燥、濾過、蒸留、濃縮、及びこれらの組み合わせ等の公知の精製方法によって精製す
ることができる。
、乾燥、濾過、蒸留、濃縮、及びこれらの組み合わせ等の公知の精製方法によって精製す
ることができる。
【0090】
本開示の製造方法によれば、原料である化合物（２）の転化率は、好ましくは４０％以
上、より好ましくは６０％以上であり、更に好ましくは８０％以上であることができる。
本開示の製造方法によれば、化合物（１）の選択率は好ましくは７０％以上であり、よ
り好ましくは８０％以上であることができる。
本開示の製造方法によれば、化合物（１）の収率は好ましくは４０％以上であり、より
好ましくは６０％以上であることができる。
上、より好ましくは６０％以上であり、更に好ましくは８０％以上であることができる。
本開示の製造方法によれば、化合物（１）の選択率は好ましくは７０％以上であり、よ
り好ましくは８０％以上であることができる。
本開示の製造方法によれば、化合物（１）の収率は好ましくは４０％以上であり、より
好ましくは６０％以上であることができる。
【0091】
本開示の製造方法で得られる化合物（１）は、例えば、医薬品中間体等の用途に用いる
ことができる。
ことができる。
【0092】
製造方法［化合物（１ａ）］
本明細書は、また、
式（１ａ）：
［式中、
Ｒ１は、各出現において独立して、有機基であり、
ＲＡは、各出現において独立して、水素原子、又はフッ素原子であり、
Ｒ４ａは、各出現において独立して、水素原子、又は有機基であり、
Ｒ４ｂは、各出現において独立して、水素原子、又は有機基であり、及び
Ｒ２は、水素原子、又は有機基である。］
で表される化合物の製造方法であって、
式（２）：
［式中、Ｘ１は脱離基であり、及びその他の記号は前記と同意義である。］
で表される化合物を、
所望により還元剤の存在下、且つ光照射下で、
式（３）：
［式中、Ｘ２は脱離基であり、及びその他の記号は前記と同意義である。］
で表される化合物と反応させる工程Ａａを含む製造方法
を開示する。
当該工程Ａａは、生成物が異なること以外は前記工程Ａと同じであることができる。
言い換えれば、工程Ａ（又は工程Ａａ）の反応の基質及び条件で、化合物（１）及び／
又は化合物（１ａ）が生成され得る。
本明細書は、また、
式（１ａ）：
【化17】
Ｒ１は、各出現において独立して、有機基であり、
ＲＡは、各出現において独立して、水素原子、又はフッ素原子であり、
Ｒ４ａは、各出現において独立して、水素原子、又は有機基であり、
Ｒ４ｂは、各出現において独立して、水素原子、又は有機基であり、及び
Ｒ２は、水素原子、又は有機基である。］
で表される化合物の製造方法であって、
式（２）：
【化18】
で表される化合物を、
所望により還元剤の存在下、且つ光照射下で、
式（３）：
【化19】
で表される化合物と反応させる工程Ａａを含む製造方法
を開示する。
当該工程Ａａは、生成物が異なること以外は前記工程Ａと同じであることができる。
言い換えれば、工程Ａ（又は工程Ａａ）の反応の基質及び条件で、化合物（１）及び／
又は化合物（１ａ）が生成され得る。
【0093】
したがって、当該工程Ａａは、前記工程Ａの説明に基づいて理解され得る。
ここで、化合物（Ａａ）をより優先的に生成させるためには、化合物（３）の量を、化
合物（２）の量に対して、より小さくすることが好ましい。
この場合、具体的には、化合物（３）／化合物（２）のモル比は、好適に０．９～０．
１の範囲内、及びより好適に０．５～０．２の範囲内であることができる。
ここで、化合物（Ａａ）をより優先的に生成させるためには、化合物（３）の量を、化
合物（２）の量に対して、より小さくすることが好ましい。
この場合、具体的には、化合物（３）／化合物（２）のモル比は、好適に０．９～０．
１の範囲内、及びより好適に０．５～０．２の範囲内であることができる。
【0094】
他方、化合物（Ａ）をより優先的に生成させるためには、化合物（３）の量を、化合物
（２）の量に対して、より大きくすることが好ましい。
この場合、具体的には、化合物（３）／化合物（２）のモル比は、好適に１．１～１０
の範囲内、及びより好適に２～５の範囲内であることができる。
（２）の量に対して、より大きくすることが好ましい。
この場合、具体的には、化合物（３）／化合物（２）のモル比は、好適に１．１～１０
の範囲内、及びより好適に２～５の範囲内であることができる。
【0095】
化合物（１ａ）
本明細書は、また、以下の化合物［当該化合物を化合物（１ａ）と称する場合がある。
］を開示する。
本明細書は、また、以下の化合物［当該化合物を化合物（１ａ）と称する場合がある。
］を開示する。
【0096】
式（１）：
［式中、
Ｒ１は、有機基であり、
ＲＡは、水素原子、又はフッ素原子であり、
Ｒ４ａは、水素原子、又は有機基であり、
Ｒ４ｂは、水素原子、又は有機基であり、
Ｒ２は、有機基であり、
Ｒ５ａは、水素原子、又は有機基であり、及び
Ｒ５ｂは、水素原子、又は有機基である
（但し、
Ｒ１がペルフルオロアルキル基の場合、Ｒ２は炭素数２以上のアルキル基又は炭素数３以
上のエステル基である。）。]
で表される化合物。
【化20】
Ｒ１は、有機基であり、
ＲＡは、水素原子、又はフッ素原子であり、
Ｒ４ａは、水素原子、又は有機基であり、
Ｒ４ｂは、水素原子、又は有機基であり、
Ｒ２は、有機基であり、
Ｒ５ａは、水素原子、又は有機基であり、及び
Ｒ５ｂは、水素原子、又は有機基である
（但し、
Ｒ１がペルフルオロアルキル基の場合、Ｒ２は炭素数２以上のアルキル基又は炭素数３以
上のエステル基である。）。]
で表される化合物。
【0097】
態様１ａ１
当該化合物（１ａ）において、好ましくは、
Ｒ１は、Ｒ１１－Ｙ－であり、
Ｙは、結合手であり、及び
Ｒ１１は、
１個以上の置換基を有していてもよいアリール基、又は
１個以上の置換基を有していてもよいアルキル基
であり、
ＲＡは、水素原子、又はフッ素原子であり、及び
Ｒ２は、水素原子、又は有機基である。
当該化合物（１ａ）において、好ましくは、
Ｒ１は、Ｒ１１－Ｙ－であり、
Ｙは、結合手であり、及び
Ｒ１１は、
１個以上の置換基を有していてもよいアリール基、又は
１個以上の置換基を有していてもよいアルキル基
であり、
ＲＡは、水素原子、又はフッ素原子であり、及び
Ｒ２は、水素原子、又は有機基である。
【0098】
Ｒ１１は、好ましくは、アリール基、又はペルフルオロアルキル基である。
Ｒ１１は、より好ましくは、Ｃ６－１０アリール基、又はＣ１－１０ペルフルオロアル
キル基である。
Ｒ１１は、より好ましくは、Ｃ６－１０アリール基、又はＣ１－１０ペルフルオロアル
キル基である。
【0099】
ＲＡは、好ましくは、フッ素原子である。
【0100】
Ｒ２は、好ましくは
水素原子、
１個以上の置換基を有していてもよい炭化水素基、又は
１個以上の置換基を有していてもよいアルコキシカルボニル基
である。
水素原子、
１個以上の置換基を有していてもよい炭化水素基、又は
１個以上の置換基を有していてもよいアルコキシカルボニル基
である。
【0101】
Ｒ２は、更に好ましくは
水素原子、
１個以上の置換基を有していてもよいアルコキシカルボニル基、
１個以上の置換基を有していてもよいアリール基、又は
１個以上の置換基を有していてもよいアルキル基
である。
Ｒ２は、更に好ましくは
水素原子、
１個以上の置換基を有していてもよいアルコキシカルボニル基、
１個以上の置換基を有していてもよいアリール基、又は
１個以上の置換基を有していてもよいアルキル基
である。
水素原子、
１個以上の置換基を有していてもよいアルコキシカルボニル基、
１個以上の置換基を有していてもよいアリール基、又は
１個以上の置換基を有していてもよいアルキル基
である。
Ｒ２は、更に好ましくは
水素原子、
１個以上の置換基を有していてもよいアルコキシカルボニル基、
１個以上の置換基を有していてもよいアリール基、又は
１個以上の置換基を有していてもよいアルキル基
である。
【0102】
Ｒ２は、更に好ましくは
水素原子、
１個以上の置換基を有していてもよいＣ１－６アルキル基、
１個以上の置換基を有していてもよいＣ６－１４アリール基、又は
１個以上の置換基を有していてもよいＣ１－６アルコキシ－カルボニル基
である。
水素原子、
１個以上の置換基を有していてもよいＣ１－６アルキル基、
１個以上の置換基を有していてもよいＣ６－１４アリール基、又は
１個以上の置換基を有していてもよいＣ１－６アルコキシ－カルボニル基
である。
【0103】
Ｒ２は、より更に好ましくは、
水素原子、
Ｃ１－６アルキル基、
Ｃ６－１４アリール基、
Ｃ１－６アルコキシ－カルボニル基、又は
である。
水素原子、
Ｃ１－６アルキル基、
Ｃ６－１４アリール基、
Ｃ１－６アルコキシ－カルボニル基、又は
である。
【0104】
Ｒ４ａは、好ましくは水素原子である。
Ｒ４ｂは、好ましくは水素原子である。
Ｒ５ａは、好ましくは水素原子である。
Ｒ５ｂは、好ましくは水素原子である。
Ｒ４ｂは、好ましくは水素原子である。
Ｒ５ａは、好ましくは水素原子である。
Ｒ５ｂは、好ましくは水素原子である。
【0105】
好ましくは、
Ｒ４ａは、水素原子、又は有機基であり、
Ｒ４ｂは、水素原子、又は有機基であり、
Ｒ２は、
水素原子、
１個以上の置換基を有していてもよいアルコキシカルボニル基、
１個以上の置換基を有していてもよいアリール基、又は
１個以上の置換基を有していてもよいアルキル基であり、
Ｒ５ａは、水素原子であり、及び
Ｒ５ｂは、水素原子である。
Ｒ４ａは、水素原子、又は有機基であり、
Ｒ４ｂは、水素原子、又は有機基であり、
Ｒ２は、
水素原子、
１個以上の置換基を有していてもよいアルコキシカルボニル基、
１個以上の置換基を有していてもよいアリール基、又は
１個以上の置換基を有していてもよいアルキル基であり、
Ｒ５ａは、水素原子であり、及び
Ｒ５ｂは、水素原子である。
【0106】
態様１ａ２
当該当該化合物（１ａ）において、また好ましくは、
Ｒ１は、Ｒ１１－Ｙ－であり、
Ｙは、－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－、又は－Ｏ－Ｃ（＝Ｓ）－であり、
Ｒ１１は、１個以上の置換基を有していてもよい脂肪族炭化水素基であり、
ＲＡは、水素原子、又はフッ素原子であり、及び
Ｒ２は、水素原子、又は有機基である。
当該当該化合物（１ａ）において、また好ましくは、
Ｒ１は、Ｒ１１－Ｙ－であり、
Ｙは、－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－、又は－Ｏ－Ｃ（＝Ｓ）－であり、
Ｒ１１は、１個以上の置換基を有していてもよい脂肪族炭化水素基であり、
ＲＡは、水素原子、又はフッ素原子であり、及び
Ｒ２は、水素原子、又は有機基である。
【0107】
好ましくは、ＲＡは、フッ素原子である。
【0108】
好ましくは、Ｒ２は、
水素原子、
１個以上の置換基を有していてもよいアルコキシカルボニル基、
１個以上の置換基を有していてもよいアリール基、又は
１個以上の置換基を有していてもよいアルキル基
である。
水素原子、
１個以上の置換基を有していてもよいアルコキシカルボニル基、
１個以上の置換基を有していてもよいアリール基、又は
１個以上の置換基を有していてもよいアルキル基
である。
【0109】
好ましくは、Ｒ２は、
水素原子、
１個以上の置換基を有していてもよいＣ１－６アルコキシカルボニル基、
１個以上の置換基を有していてもよいＣ６－１４アリール基、又は
１個以上の置換基を有していてもよいＣ１－６アルキル基
である。
水素原子、
１個以上の置換基を有していてもよいＣ１－６アルコキシカルボニル基、
１個以上の置換基を有していてもよいＣ６－１４アリール基、又は
１個以上の置換基を有していてもよいＣ１－６アルキル基
である。
【0110】
Ｒ４ａは、好ましくは水素原子である。
Ｒ４ｂは、好ましくは水素原子である。
Ｒ５ａは、好ましくは水素原子である。
Ｒ５ｂは、好ましくは水素原子である。
Ｒ４ｂは、好ましくは水素原子である。
Ｒ５ａは、好ましくは水素原子である。
Ｒ５ｂは、好ましくは水素原子である。
【0111】
好ましくは、
Ｒ４ａは、水素原子であり、
Ｒ４ｂは、水素原子であり、
Ｒ２は、
水素原子、
１個以上の置換基を有していてもよいアルコキシカルボニル基、
１個以上の置換基を有していてもよいアリール基、又は
１個以上の置換基を有していてもよいアルキル基であり
Ｒ５ａは、水素原子であり、及び
Ｒ５ｂは、水素原子である。
Ｒ４ａは、水素原子であり、
Ｒ４ｂは、水素原子であり、
Ｒ２は、
水素原子、
１個以上の置換基を有していてもよいアルコキシカルボニル基、
１個以上の置換基を有していてもよいアリール基、又は
１個以上の置換基を有していてもよいアルキル基であり
Ｒ５ａは、水素原子であり、及び
Ｒ５ｂは、水素原子である。
【0112】
態様１ａ３
当該当該化合物（１ａ）において、また好ましくは、
Ｒ１は、Ｒ１１－Ｙ－であり、
Ｙは、－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－、又は－Ｏ－Ｃ（＝Ｓ）－であり、
Ｒ１１は、１個以上の置換基を有していてもよい脂肪族炭化水素基
ＲＡは、水素原子、又はフッ素原子であり、及び
Ｒ２は、水素原子、又は有機基である。
当該当該化合物（１ａ）において、また好ましくは、
Ｒ１は、Ｒ１１－Ｙ－であり、
Ｙは、－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－、又は－Ｏ－Ｃ（＝Ｓ）－であり、
Ｒ１１は、１個以上の置換基を有していてもよい脂肪族炭化水素基
ＲＡは、水素原子、又はフッ素原子であり、及び
Ｒ２は、水素原子、又は有機基である。
【0113】
態様１ａ４
当該当該化合物（１ａ）において、また好ましくは、
好ましくは、
Ｒ１は、（Ｒ１１－）２Ｎ－Ｃ（＝Ｏ）－であり、
Ｒ１１は、各出現において独立して、１個以上の置換基を有していてもよい脂肪族炭化水
素基であり、
ＲＡは、水素原子、又はフッ素原子であり、及び
Ｒ２は、水素原子、又は有機基である。
Ｒ１１は、好ましくは、各出現において独立して、Ｃ１－６アルキルである。
当該当該化合物（１ａ）において、また好ましくは、
好ましくは、
Ｒ１は、（Ｒ１１－）２Ｎ－Ｃ（＝Ｏ）－であり、
Ｒ１１は、各出現において独立して、１個以上の置換基を有していてもよい脂肪族炭化水
素基であり、
ＲＡは、水素原子、又はフッ素原子であり、及び
Ｒ２は、水素原子、又は有機基である。
Ｒ１１は、好ましくは、各出現において独立して、Ｃ１－６アルキルである。
【0114】
ＲＡは、好ましくはフッ素原子である。
【0115】
製造方法［化合物（１Ｂ）の製造方法］
本明細書は、更に、式（１Ｂ）：
［式中、
Ｒ１は、有機基であり、
ＲＡは、水素原子、又はフッ素原子であり、
ＲＢ１は、水素原子、又は有機基であり、
ＲＢ２は、水素原子、又は有機基であり、及び
Ｒ２は、水素原子、又は有機基である。］
で表される化合物（本明細書中、当該化合物を、化合物（１Ｂ）と称する場合がある。）
の製造方法であって、
式（２）：
［式中、Ｘ１は脱離基であり、及びその他の記号は前記と同意義である。］
で表される化合物を、
還元剤の存在下、且つ光照射下で、
式（３）：
［式中、Ｘ２は脱離基であり、及びその他の記号は前記と同意義である。］
で表される化合物、及び
式（４）：
［式中の記号は前記と同意義である。］
で表される化合物
と反応させる工程ＡＢを含む製造方法
を開示する。
工程ＡＢにおける、化合物（４）の使用量は、化合物（２）の１モルに対して、好まし
くは、３～２０モルの範囲内、より好ましくは、４～１５モルの範囲内、及び更に好まし
くは、５～１２モルの範囲内である。
本明細書は、更に、式（１Ｂ）：
【化21】
Ｒ１は、有機基であり、
ＲＡは、水素原子、又はフッ素原子であり、
ＲＢ１は、水素原子、又は有機基であり、
ＲＢ２は、水素原子、又は有機基であり、及び
Ｒ２は、水素原子、又は有機基である。］
で表される化合物（本明細書中、当該化合物を、化合物（１Ｂ）と称する場合がある。）
の製造方法であって、
式（２）：
【化22】
で表される化合物を、
還元剤の存在下、且つ光照射下で、
式（３）：
【化23】
で表される化合物、及び
式（４）：
【化24】
で表される化合物
と反応させる工程ＡＢを含む製造方法
を開示する。
工程ＡＢにおける、化合物（４）の使用量は、化合物（２）の１モルに対して、好まし
くは、３～２０モルの範囲内、より好ましくは、４～１５モルの範囲内、及び更に好まし
くは、５～１２モルの範囲内である。
【0116】
工程ＡＢのその他の条件及び方法は、前記工程Ａの条件及び方法と同様であることがで
きる。具体的には、以下の通りである。
きる。具体的には、以下の通りである。
【0117】
工程ＡＢの反応は、光照射下で実施される。
当該光照射に用いられる照射光としては、例えば、工程Ａの反応を開始、及び／又は促
進できる光であれば特に限定なく使用することができる。その光源の例は、低圧、中圧、
若しくは高圧の水銀灯、タングステンランプ、及び発光ダイオード（ＬＥＤ）が挙げられ
る。
照射光は、好適に可視光であることができる。
照射光は、
好ましくは３００～６００ｎｍの波長の光を含む光、及び
より好ましくは４００～５００ｎｍの光を含む光
であることができる。
照射時間は、好ましくは１～２４時間の範囲内、及び
より好ましくは１０～１８時間
であることができる。
光照射の開始は、前記混合の、前、途中、同時、又は後であることができる。
光照射の強度は、工程ＡＢの反応を開始、及び／又は促進できるエネルギーが供給され
る程度であればよく、これは、例えば、工程ＡＢの反応が適当に進行するように、技術常
識に基づき、光源の出力、及び光源と工程ＡＢの反応系の距離等を調整することにより適
宜調整することができる。
当該光照射に用いられる照射光としては、例えば、工程Ａの反応を開始、及び／又は促
進できる光であれば特に限定なく使用することができる。その光源の例は、低圧、中圧、
若しくは高圧の水銀灯、タングステンランプ、及び発光ダイオード（ＬＥＤ）が挙げられ
る。
照射光は、好適に可視光であることができる。
照射光は、
好ましくは３００～６００ｎｍの波長の光を含む光、及び
より好ましくは４００～５００ｎｍの光を含む光
であることができる。
照射時間は、好ましくは１～２４時間の範囲内、及び
より好ましくは１０～１８時間
であることができる。
光照射の開始は、前記混合の、前、途中、同時、又は後であることができる。
光照射の強度は、工程ＡＢの反応を開始、及び／又は促進できるエネルギーが供給され
る程度であればよく、これは、例えば、工程ＡＢの反応が適当に進行するように、技術常
識に基づき、光源の出力、及び光源と工程ＡＢの反応系の距離等を調整することにより適
宜調整することができる。
【0118】
工程ＡＢの反応は、不活性ガスの存在下で実施してもよい。このような不活性ガスの例
は、窒素、及びアルゴンを包含する。
は、窒素、及びアルゴンを包含する。
【0119】
工程ＡＢの反応温度は、
好ましくは、０～１２０℃の範囲内、
より好ましくは、１０～８０℃の範囲内、及び
更に好ましくは、２０～６０℃の範囲内
であることができる。
当該範囲内の条件であることにより、工程ＡＢの反応が十分に進行する。
当該範囲内の条件であることにより、コスト的に有利であり、及び望ましからぬ副反応
が抑制される。
好ましくは、０～１２０℃の範囲内、
より好ましくは、１０～８０℃の範囲内、及び
更に好ましくは、２０～６０℃の範囲内
であることができる。
当該範囲内の条件であることにより、工程ＡＢの反応が十分に進行する。
当該範囲内の条件であることにより、コスト的に有利であり、及び望ましからぬ副反応
が抑制される。
【0120】
工程ＡＢの反応時間は、
好ましくは、１～２４時間の範囲内、
より好ましくは、５～１８時間の範囲内、及び
更に好ましくは、１０～１５時間の範囲内
であることができる。
当該範囲内の条件であることにより、工程ＡＢの反応が十分に進行する。
当該範囲内の条件であることにより、コスト的に有利であり、及び望ましからぬ副反応
が抑制される。
好ましくは、１～２４時間の範囲内、
より好ましくは、５～１８時間の範囲内、及び
更に好ましくは、１０～１５時間の範囲内
であることができる。
当該範囲内の条件であることにより、工程ＡＢの反応が十分に進行する。
当該範囲内の条件であることにより、コスト的に有利であり、及び望ましからぬ副反応
が抑制される。
【0121】
工程ＡＢの反応は、好適に、バッチ式、又はフロー系により実施できる。
【0122】
本開示の製造方法により得られる化合物（１Ｂ）は、所望により、所望により、溶媒抽
出、乾燥、濾過、蒸留、濃縮、及びこれらの組み合わせ等の公知の精製方法によって精製
することができる。
出、乾燥、濾過、蒸留、濃縮、及びこれらの組み合わせ等の公知の精製方法によって精製
することができる。
【0123】
本開示の製造方法によれば、原料である化合物（２）の転化率は、
好ましくは４０％以上、
より好ましくは６０％以上、及び
更に好ましくは８０％以上
であることができる。
好ましくは４０％以上、
より好ましくは６０％以上、及び
更に好ましくは８０％以上
であることができる。
【0124】
本開示の製造方法によれば、化合物（１Ｂ）の選択率は、
好ましくは７０％以上であり、及び
より好ましくは８０％以上
であることができる。
好ましくは７０％以上であり、及び
より好ましくは８０％以上
であることができる。
【0125】
本開示の製造方法によれば、
化合物（１Ｂ）の収率は、
好ましくは４０％以上であり、及び
より好ましくは６０％以上
であることができる。
化合物（１Ｂ）の収率は、
好ましくは４０％以上であり、及び
より好ましくは６０％以上
であることができる。
【0126】
本開示の製造方法で得られる化合物（１Ｂ）は、例えば、医薬品中間体等の用途に用い
ることができる。
ることができる。
【実施例0127】
以下、実施例によって本開示を更に詳細に説明するが、本開示はこれに限定されるもの
ではない。
ではない。
【0128】
本明細書中、以下の略称を使用する場合がある。
ＨＥＨ：Hantzschエステル
ＴＴＭＳＳ：トリス(トリメチルシリル)シラン
ＤＩＥＡ：Ｎ，Ｎ－ジイソプロピルエチルアミン
ｂｐｙ：２，２’－ビピリジン
ＨＥＨ：Hantzschエステル
ＴＴＭＳＳ：トリス(トリメチルシリル)シラン
ＤＩＥＡ：Ｎ，Ｎ－ジイソプロピルエチルアミン
ｂｐｙ：２，２’－ビピリジン
【0129】
以下の実施例において、特に記載の無い場合、収率は単離収率である。
【0130】
実施例１（様々な条件での、化合物３ａ及び化合物４ａの製造）
表１に記載の材料及び条件で、ガラス管中で、触媒（１ｍｏｌ％）の存在下、化合物１
ａ（０．５ｍｍｏｌ）、化合物２ａ（１．５当量、又は３．０当量）、ハンチエステルａ
（ＨＥＨ）及びアミン（２当量）の溶液（溶媒 ３ｍｌ）に対して、白色ＬＥＤランプ（
５Ｗ）を用いて、１２時間、光照射した。
その結果、化合物３ａ及び／又は化合物４ａが、表１に記載のＮＭＲ収率で得られた。
表１に記載の材料及び条件で、ガラス管中で、触媒（１ｍｏｌ％）の存在下、化合物１
ａ（０．５ｍｍｏｌ）、化合物２ａ（１．５当量、又は３．０当量）、ハンチエステルａ
（ＨＥＨ）及びアミン（２当量）の溶液（溶媒 ３ｍｌ）に対して、白色ＬＥＤランプ（
５Ｗ）を用いて、１２時間、光照射した。
その結果、化合物３ａ及び／又は化合物４ａが、表１に記載のＮＭＲ収率で得られた。
【0131】
【化25】
【表1】
【0132】
実施例２（Ru-光還元触媒による、ジフルオロハロアルキル化合物及びアリルスルホン
化合物を用いたアリル化合物の製造）
表２に記載の材料及び条件で、ガラス管中で、各化合物１、及び各化合物２、Ｒｕ（ｂ
ｐｙ）３Ｃｌ２・６Ｈ２Ｏ（１ｍｏｌ％）、ハンチエステルａ（ＨＥＨ）及びＥｔ３Ｎの
ＤＭＦ溶液に対して、白色ＬＥＤランプ（５Ｗ）を用いて、２時間、光照射した。
その結果、各化合物３が、表２に記載の収率(表中、記号ｃはＮＭＲ収率を示す。)で得
られた。
化合物を用いたアリル化合物の製造）
表２に記載の材料及び条件で、ガラス管中で、各化合物１、及び各化合物２、Ｒｕ（ｂ
ｐｙ）３Ｃｌ２・６Ｈ２Ｏ（１ｍｏｌ％）、ハンチエステルａ（ＨＥＨ）及びＥｔ３Ｎの
ＤＭＦ溶液に対して、白色ＬＥＤランプ（５Ｗ）を用いて、２時間、光照射した。
その結果、各化合物３が、表２に記載の収率(表中、記号ｃはＮＭＲ収率を示す。)で得
られた。
【0133】
【表2】
【0134】
実施例３（光照射の効果の検証）
上記スキームの条件の反応で、光照射の効果を検証するために、本システムにおける光
照射のオンオフを実施した。
光照射１０分間で、生成物３ａが収率49％で形成された。
光源をオフにして光照射を停止すると、反応は迅速に停止した。
その２６時間後、光源をオンにして光照射を再開すると、反応が迅速に再開された。
【化26】
照射のオンオフを実施した。
光照射１０分間で、生成物３ａが収率49％で形成された。
光源をオフにして光照射を停止すると、反応は迅速に停止した。
その２６時間後、光源をオンにして光照射を再開すると、反応が迅速に再開された。
【0135】
実施例４ スキームＴ
前記の実施例の化合物１及び２に加えて、本実施例では、更にアルケン（１－オクテン
５ａ）を添加することによって、３成分ラジカル反応を、上記スキームＴの条件で、試験
した。
２－ブロモ－２，２－ジフルオロ酢酸エチル１ｂ、１－オクテン５ａ及び２－メトキシ
カルボニル置換アリルスルホン２ａとの反応により、３成分からの生成物６ａが収率５０
％で得られた。
ペルフルオロデシルブロミド１ｅ、１－オクテン５ａ、及び２－フェニルアリルスルホ
ン２ａの３成分の反応により、化合物６ｂが収率５６％で得られた。
【化27】
５ａ）を添加することによって、３成分ラジカル反応を、上記スキームＴの条件で、試験
した。
２－ブロモ－２，２－ジフルオロ酢酸エチル１ｂ、１－オクテン５ａ及び２－メトキシ
カルボニル置換アリルスルホン２ａとの反応により、３成分からの生成物６ａが収率５０
％で得られた。
ペルフルオロデシルブロミド１ｅ、１－オクテン５ａ、及び２－フェニルアリルスルホ
ン２ａの３成分の反応により、化合物６ｂが収率５６％で得られた。
【手続補正書】
【提出日】2022-09-13
【手続補正1】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項1】
式（１）：
［式中、
Ｒ１は、アリール基、エステル基、又は（Ｒ １１ －） ２ Ｎ－Ｃ（＝Ｏ）－であり、
ＲＡは、水素原子、又はフッ素原子であり、
Ｒ４ａは、水素原子、又は有機基であり、
Ｒ４ｂは、水素原子、又は有機基であり、
Ｒ２は、１個以上の置換基を有していてもよいメトキシカルボニル基、又は
１個以上の置換基を有していてもよいアルキル基であり、
Ｒ５ａは、水素原子、又は有機基であり、及び
Ｒ５ｂは、水素原子、又は有機基である。]
で表される化合物。
【化1】
Ｒ１は、アリール基、エステル基、又は（Ｒ １１ －） ２ Ｎ－Ｃ（＝Ｏ）－であり、
ＲＡは、水素原子、又はフッ素原子であり、
Ｒ４ａは、水素原子、又は有機基であり、
Ｒ４ｂは、水素原子、又は有機基であり、
Ｒ２は、１個以上の置換基を有していてもよいメトキシカルボニル基、又は
１個以上の置換基を有していてもよいアルキル基であり、
Ｒ５ａは、水素原子、又は有機基であり、及び
Ｒ５ｂは、水素原子、又は有機基である。]
で表される化合物。
【請求項2】
Ｒ１は、Ｒ１１－Ｙ－であり、
Ｙは、結合手であり、及び
Ｒ１１は、
１個以上の置換基を有していてもよいアリール基であり、及び
ＲＡは、水素原子、又はフッ素原子である、
請求項１に記載の化合物。
Ｙは、結合手であり、及び
Ｒ１１は、
１個以上の置換基を有していてもよいアリール基であり、及び
ＲＡは、水素原子、又はフッ素原子である、
請求項１に記載の化合物。
【請求項3】
ＲＡは、フッ素原子である、
請求項２に記載の化合物。
請求項２に記載の化合物。
【請求項4】
Ｒ４ａは、水素原子であり、
Ｒ４ｂは、水素原子であり、
Ｒ ５ａは、水素原子であり、及び
Ｒ５ｂは、水素原子である、
請求項２又は３に記載の化合物。
Ｒ４ｂは、水素原子であり、
Ｒ ５ａは、水素原子であり、及び
Ｒ５ｂは、水素原子である、
請求項２又は３に記載の化合物。
【請求項5】
Ｒ１は、Ｒ１１－Ｙ－であり、
Ｙは、－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－、又は－Ｏ－Ｃ（＝Ｓ）－であり、
Ｒ１１は、１個以上の置換基を有していてもよい脂肪族炭化水素基であり、及び
ＲＡは、水素原子、又はフッ素原子である、
請求項１に記載の化合物。
Ｙは、－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－、又は－Ｏ－Ｃ（＝Ｓ）－であり、
Ｒ１１は、１個以上の置換基を有していてもよい脂肪族炭化水素基であり、及び
ＲＡは、水素原子、又はフッ素原子である、
請求項１に記載の化合物。
【請求項6】
ＲＡは、フッ素原子である、請求項５に記載の化合物。
【請求項7】
Ｒ４ａは、水素原子であり、
Ｒ４ｂは、水素原子であり、
Ｒ ５ａは、水素原子であり、及び
Ｒ５ｂは、水素原子である、
請求項５又は６に記載の化合物。
Ｒ４ｂは、水素原子であり、
Ｒ ５ａは、水素原子であり、及び
Ｒ５ｂは、水素原子である、
請求項５又は６に記載の化合物。
【請求項8】
Ｒ１は、Ｒ１１－Ｙ－であり、
Ｙは、－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－、又は－Ｏ－Ｃ（＝Ｓ）－であり、
Ｒ１１は、１個以上の置換基を有していてもよい脂肪族炭化水素基であり、
ＲＡは、水素原子、又はフッ素原子であり、及び
Ｒ２は、１個以上の置換基を有していてもよいアルキル基である、
請求項１に記載の化合物。
Ｙは、－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－、又は－Ｏ－Ｃ（＝Ｓ）－であり、
Ｒ１１は、１個以上の置換基を有していてもよい脂肪族炭化水素基であり、
ＲＡは、水素原子、又はフッ素原子であり、及び
Ｒ２は、１個以上の置換基を有していてもよいアルキル基である、
請求項１に記載の化合物。
【請求項9】
Ｒ１は、（Ｒ１１－）２Ｎ－Ｃ（＝Ｏ）－であり、
Ｒ１１は、各出現において独立して、１個以上の置換基を有していてもよい脂肪族炭化水素基であり、
ＲＡは、水素原子、又はフッ素原子であり、
Ｒ４ａは、水素原子であり、
Ｒ４ｂは、水素原子であり、
Ｒ ５ａは、水素原子であり、及び
Ｒ５ｂは、水素原子、又は有機基である、
請求項１に記載の化合物。
Ｒ１１は、各出現において独立して、１個以上の置換基を有していてもよい脂肪族炭化水素基であり、
ＲＡは、水素原子、又はフッ素原子であり、
Ｒ４ａは、水素原子であり、
Ｒ４ｂは、水素原子であり、
Ｒ ５ａは、水素原子であり、及び
Ｒ５ｂは、水素原子、又は有機基である、
請求項１に記載の化合物。
【請求項10】
ＲＡは、フッ素原子である、請求項９に記載の化合物。
【手続補正2】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【0035】
本開示の、式（１）：
［式中、
Ｒ１は、有機基であり、
ＲＡは、水素原子、又はフッ素原子であり、
Ｒ４ａは、水素原子、又は有機基であり、
Ｒ４ｂは、水素原子、又は有機基であり、
Ｒ５ａは、水素原子、又は有機基であり、
Ｒ５ｂは、水素原子、又は有機基であり、及び
Ｒ２は、水素原子、又は有機基である。
或いは、Ｒ２は、Ｒ４ａと連結して、環を形成していてもよい。］
で表される化合物［本明細書中、化合物（１）と称する場合がある。］の製造方法は、
式（２）：
［式中、Ｘ１は脱離基であり、及びその他の記号は前記と同意義である。］
で表される化合物を、
所望による還元剤の存在下、且つ光照射下で、
式（３）：
［式中、Ｘ２は脱離基であり、及びその他の記号は前記と同意義である。］
で表される化合物と反応させる工程Ａを含む。
【化12】
Ｒ１は、有機基であり、
ＲＡは、水素原子、又はフッ素原子であり、
Ｒ４ａは、水素原子、又は有機基であり、
Ｒ４ｂは、水素原子、又は有機基であり、
Ｒ５ａは、水素原子、又は有機基であり、
Ｒ５ｂは、水素原子、又は有機基であり、及び
Ｒ２は、水素原子、又は有機基である。
或いは、Ｒ２は、Ｒ４ａと連結して、環を形成していてもよい。］
で表される化合物［本明細書中、化合物（１）と称する場合がある。］の製造方法は、
式（２）：
【化13】
で表される化合物を、
所望による還元剤の存在下、且つ光照射下で、
式（３）：
【化14】
で表される化合物と反応させる工程Ａを含む。
【手続補正3】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【0089】
本開示の製造方法により得られる化合物（１）は、所望により、溶媒抽出、乾燥、濾過、蒸留、濃縮、及びこれらの組み合わせ等の公知の精製方法によって精製することができる。
【手続補正4】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００９２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【0092】
製造方法［化合物（１ａ）］
本明細書は、また、
式（１ａ）：
［式中、
Ｒ１は、各出現において独立して、有機基であり、
ＲＡは、各出現において独立して、水素原子、又はフッ素原子であり、
Ｒ４ａは、各出現において独立して、水素原子、又は有機基であり、
Ｒ４ｂは、各出現において独立して、水素原子、又は有機基であり、
Ｒ ２は、水素原子、又は有機基であり、
Ｒ ５ａ は、水素原子、又は有機基であり、
及びＲ ５ｂ は、水素原子、又は有機基である。］
で表される化合物の製造方法であって、
式（２）：
［式中、Ｘ１は脱離基であり、及びその他の記号は前記と同意義である。］
で表される化合物を、
所望により還元剤の存在下、且つ光照射下で、
式（３）：
［式中、Ｘ２は脱離基であり、及びその他の記号は前記と同意義である。］
で表される化合物と反応させる工程Ａａを含む製造方法
を開示する。
当該工程Ａａは、生成物が異なること以外は前記工程Ａと同じであることができる。
言い換えれば、工程Ａ（又は工程Ａａ）の反応の基質及び条件で、化合物（１）及び／又は化合物（１ａ）が生成され得る。
本明細書は、また、
式（１ａ）：
【化17】
Ｒ１は、各出現において独立して、有機基であり、
ＲＡは、各出現において独立して、水素原子、又はフッ素原子であり、
Ｒ４ａは、各出現において独立して、水素原子、又は有機基であり、
Ｒ４ｂは、各出現において独立して、水素原子、又は有機基であり、
Ｒ ２は、水素原子、又は有機基であり、
Ｒ ５ａ は、水素原子、又は有機基であり、
及びＲ ５ｂ は、水素原子、又は有機基である。］
で表される化合物の製造方法であって、
式（２）：
【化18】
で表される化合物を、
所望により還元剤の存在下、且つ光照射下で、
式（３）：
【化19】
で表される化合物と反応させる工程Ａａを含む製造方法
を開示する。
当該工程Ａａは、生成物が異なること以外は前記工程Ａと同じであることができる。
言い換えれば、工程Ａ（又は工程Ａａ）の反応の基質及び条件で、化合物（１）及び／又は化合物（１ａ）が生成され得る。
【手続補正5】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００９５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【0095】
化合物（１）
本明細書は、また、以下の化合物［当該化合物を化合物（１）と称する場合がある。］を開示する。
本明細書は、また、以下の化合物［当該化合物を化合物（１）と称する場合がある。］を開示する。
【手続補正6】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００９６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【0096】
式（１）：
［式中、
Ｒ１は、有機基であり、
ＲＡは、水素原子、又はフッ素原子であり、
Ｒ４ａは、水素原子、又は有機基であり、
Ｒ４ｂは、水素原子、又は有機基であり、
Ｒ２は、水素原子、又は有機基であり、
Ｒ５ａは、水素原子、又は有機基であり、及び
Ｒ５ｂは、水素原子、又は有機基である
（但し、
Ｒ１がペルフルオロアルキル基の場合、Ｒ２は炭素数２以上のアルキル基又は炭素数３以上のエステル基である。）。]
で表される化合物。
【化20】
Ｒ１は、有機基であり、
ＲＡは、水素原子、又はフッ素原子であり、
Ｒ４ａは、水素原子、又は有機基であり、
Ｒ４ｂは、水素原子、又は有機基であり、
Ｒ２は、水素原子、又は有機基であり、
Ｒ５ａは、水素原子、又は有機基であり、及び
Ｒ５ｂは、水素原子、又は有機基である
（但し、
Ｒ１がペルフルオロアルキル基の場合、Ｒ２は炭素数２以上のアルキル基又は炭素数３以上のエステル基である。）。]
で表される化合物。
【手続補正7】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００９７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【0097】
態様１ａ１
当該化合物（１）において、好ましくは、
Ｒ１は、Ｒ１１－Ｙ－であり、
Ｙは、結合手であり、及び
Ｒ１１は、
１個以上の置換基を有していてもよいアリール基、又は
１個以上の置換基を有していてもよいアルキル基
であり、
ＲＡは、水素原子、又はフッ素原子であり、及び
Ｒ２は、水素原子、又は有機基である。
当該化合物（１）において、好ましくは、
Ｒ１は、Ｒ１１－Ｙ－であり、
Ｙは、結合手であり、及び
Ｒ１１は、
１個以上の置換基を有していてもよいアリール基、又は
１個以上の置換基を有していてもよいアルキル基
であり、
ＲＡは、水素原子、又はフッ素原子であり、及び
Ｒ２は、水素原子、又は有機基である。
【手続補正8】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１０６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【0106】
態様１ａ２
当該化合物（１）において、また好ましくは、
Ｒ１は、Ｒ１１－Ｙ－であり、
Ｙは、－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－、又は－Ｏ－Ｃ（＝Ｓ）－であり、
Ｒ１１は、１個以上の置換基を有していてもよい脂肪族炭化水素基であり、
ＲＡは、水素原子、又はフッ素原子であり、及び
Ｒ２は、水素原子、又は有機基である。
当該化合物（１）において、また好ましくは、
Ｒ１は、Ｒ１１－Ｙ－であり、
Ｙは、－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－、又は－Ｏ－Ｃ（＝Ｓ）－であり、
Ｒ１１は、１個以上の置換基を有していてもよい脂肪族炭化水素基であり、
ＲＡは、水素原子、又はフッ素原子であり、及び
Ｒ２は、水素原子、又は有機基である。
【手続補正9】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【0112】
態様１ａ３
当該化合物（１）において、また好ましくは、
Ｒ１は、Ｒ１１－Ｙ－であり、
Ｙは、－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－、又は－Ｏ－Ｃ（＝Ｓ）－であり、
Ｒ１１は、１個以上の置換基を有していてもよい脂肪族炭化水素基
ＲＡは、水素原子、又はフッ素原子であり、及び
Ｒ２は、水素原子、又は有機基である。
当該化合物（１）において、また好ましくは、
Ｒ１は、Ｒ１１－Ｙ－であり、
Ｙは、－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－、又は－Ｏ－Ｃ（＝Ｓ）－であり、
Ｒ１１は、１個以上の置換基を有していてもよい脂肪族炭化水素基
ＲＡは、水素原子、又はフッ素原子であり、及び
Ｒ２は、水素原子、又は有機基である。
【手続補正10】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【0113】
態様１ａ４
当該化合物（１）において、また好ましくは、
好ましくは、
Ｒ１は、（Ｒ１１－）２Ｎ－Ｃ（＝Ｏ）－であり、
Ｒ１１は、各出現において独立して、１個以上の置換基を有していてもよい脂肪族炭化水素基であり、
ＲＡは、水素原子、又はフッ素原子であり、及び
Ｒ２は、水素原子、又は有機基である。
Ｒ１１は、好ましくは、各出現において独立して、Ｃ１－６アルキルである。
当該化合物（１）において、また好ましくは、
好ましくは、
Ｒ１は、（Ｒ１１－）２Ｎ－Ｃ（＝Ｏ）－であり、
Ｒ１１は、各出現において独立して、１個以上の置換基を有していてもよい脂肪族炭化水素基であり、
ＲＡは、水素原子、又はフッ素原子であり、及び
Ｒ２は、水素原子、又は有機基である。
Ｒ１１は、好ましくは、各出現において独立して、Ｃ１－６アルキルである。
【手続補正11】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【0115】
製造方法［化合物（１Ｂ）の製造方法］
本明細書は、更に、式（１Ｂ）：
［式中、
Ｒ１は、有機基であり、
ＲＡは、水素原子、又はフッ素原子であり、
ＲＢ１は、水素原子、又は有機基であり、
ＲＢ２は、水素原子、又は有機基であり、及び
Ｒ２は、水素原子、又は有機基である。］
で表される化合物（本明細書中、当該化合物を、化合物（１Ｂ）と称する場合がある。）の製造方法であって、
式（２）：
［式中、Ｘ１は脱離基であり、及びその他の記号は前記と同意義である。］
で表される化合物を、
還元剤の存在下、且つ光照射下で、
式（３）：
［式中、
Ｘ２は脱離基であり、
Ｒ ４ａ は、水素原子、又は有機基であり、
Ｒ ４ｂ は、水素原子、又は有機基であり、
Ｒ ５ａ は、水素原子、又は有機基であり、及び
Ｒ ５ｂ は、水素原子、又は有機基である。］
で表される化合物、及び
式（５）：
［式中の記号は前記と同意義である。］
で表される化合物
と反応させる工程ＡＢを含む製造方法
を開示する。
工程ＡＢにおける、化合物（５）の使用量は、化合物（２）の１モルに対して、好ましくは、３～２０モルの範囲内、より好ましくは、４～１５モルの範囲内、及び更に好ましくは、５～１２モルの範囲内である。
本明細書は、更に、式（１Ｂ）：
【化21】
Ｒ１は、有機基であり、
ＲＡは、水素原子、又はフッ素原子であり、
ＲＢ１は、水素原子、又は有機基であり、
ＲＢ２は、水素原子、又は有機基であり、及び
Ｒ２は、水素原子、又は有機基である。］
で表される化合物（本明細書中、当該化合物を、化合物（１Ｂ）と称する場合がある。）の製造方法であって、
式（２）：
【化22】
で表される化合物を、
還元剤の存在下、且つ光照射下で、
式（３）：
【化23】
Ｘ２は脱離基であり、
Ｒ ４ａ は、水素原子、又は有機基であり、
Ｒ ４ｂ は、水素原子、又は有機基であり、
Ｒ ５ａ は、水素原子、又は有機基であり、及び
Ｒ ５ｂ は、水素原子、又は有機基である。］
で表される化合物、及び
式（５）：
【化24】
で表される化合物
と反応させる工程ＡＢを含む製造方法
を開示する。
工程ＡＢにおける、化合物（５）の使用量は、化合物（２）の１モルに対して、好ましくは、３～２０モルの範囲内、より好ましくは、４～１５モルの範囲内、及び更に好ましくは、５～１２モルの範囲内である。