ホーム > 特許ランキング > 富士フイルム株式会社
(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】公開特許公報(A)
(11)【公開番号】P2022182619
(43)【公開日】2022-12-08
(54)【発明の名称】光学素子、積層体、表示装置、光学素子の製造方法
(51)【国際特許分類】
G02B 5/30 20060101AFI20221201BHJP
G02B 1/118 20150101ALI20221201BHJP
H05B 33/10 20060101ALI20221201BHJP
H05B 33/02 20060101ALI20221201BHJP
H01L 51/50 20060101ALI20221201BHJP
H01L 27/32 20060101ALI20221201BHJP
G09F 9/00 20060101ALI20221201BHJP
【ＦＩ】
G02B5/30
G02B1/118
H05B33/10
H05B33/02
H05B33/14 A
H01L27/32
G09F9/00 313
【審査請求】未請求
【請求項の数】11
【出願形態】ＯＬ
(21)【出願番号】P 2021090278
(22)【出願日】2021-05-28
(71)【出願人】
【識別番号】306037311
【氏名又は名称】富士フイルム株式会社
(74)【代理人】
【識別番号】100152984
【弁理士】
【氏名又は名称】伊東 秀明
(74)【代理人】
【識別番号】100148080
【弁理士】
【氏名又は名称】三橋 史生
(72)【発明者】
【氏名】福島 悠太
(72)【発明者】
【氏名】吉田 慎平
(72)【発明者】
【氏名】高橋 勇太
(72)【発明者】
【氏名】柴田 直也
【テーマコード（参考）】
2H149
2K009
3K107
5G435
【Ｆターム（参考）】
2H149AA02
2H149AA18
2H149AB02
2H149AB05
2H149BA02
2H149DA04
2H149DA12
2H149DB03
2H149DB15
2H149EA02
2H149EA22
2H149FA02X
2H149FA02Y
2H149FA03W
2H149FA03Z
2H149FA07Y
2H149FA08Y
2H149FA14Y
2H149FA24Y
2H149FA33Y
2H149FA36Y
2H149FA40Y
2H149FA43Y
2H149FA52Z
2H149FA56Y
2H149FA58Y
2H149FA58Z
2H149FA59Z
2H149FA63
2H149FD03
2H149FD30
2H149FD46
2H149FD48
2K009AA02
2K009CC24
3K107AA01
3K107BB01
3K107CC32
3K107FF06
3K107FF14
3K107FF15
3K107GG28
5G435AA01
5G435BB05
5G435DD12
5G435FF05
5G435HH20
5G435KK07
5G435KK10
5G435LL07
(57)【要約】
【課題】 偏光子と組み合わせて得られる偏光板を表示素子に適用した際に、黒表示における正面方向からの視認時の黒しまりが良好である光学素子、積層体、表示装置、および、光学素子の製造方法の提供。
【解決手段】 光学異方性層と、光学等方性部材と、を含み、光学異方性層と光学等方性部材とが接しており、光学異方性層の平均屈折率と、光学等方性部材の屈折率との差の絶対値が、０．０８以内であり、光学等方性部材は、光学異方性層側とは反対側に突出する凸部を有する、光学素子。
【選択図】なし
【解決手段】 光学異方性層と、光学等方性部材と、を含み、光学異方性層と光学等方性部材とが接しており、光学異方性層の平均屈折率と、光学等方性部材の屈折率との差の絶対値が、０．０８以内であり、光学等方性部材は、光学異方性層側とは反対側に突出する凸部を有する、光学素子。
【選択図】なし
【特許請求の範囲】
【請求項1】
光学異方性層と、
光学等方性部材と、を含み、
前記光学異方性層と前記光学等方性部材とが接しており、
前記光学異方性層の平均屈折率と、前記光学等方性部材の屈折率との差の絶対値が、０．０８以内であり、
前記光学等方性部材は、前記光学異方性層側とは反対側に突出する凸部を有する、光学素子。
光学等方性部材と、を含み、
前記光学異方性層と前記光学等方性部材とが接しており、
前記光学異方性層の平均屈折率と、前記光学等方性部材の屈折率との差の絶対値が、０．０８以内であり、
前記光学等方性部材は、前記光学異方性層側とは反対側に突出する凸部を有する、光学素子。
【請求項2】
前記光学異方性層および前記光学等方性部材が、いずれも液晶化合物を用いて形成された、請求項１に記載の光学素子。
【請求項3】
前記光学異方性層および前記光学等方性部材が、いずれも同一の液晶化合物を用いて形成された、請求項１または２に記載の光学素子。
【請求項4】
前記光学異方性層が、λ／４板である、請求項１～３のいずれか１項に記載の光学素子。
【請求項5】
複数の前記凸部が周期的に配置されている、請求項１～４のいずれか１項に記載の光学素子。
【請求項6】
前記複数の凸部の間隔が、０．２～２０μｍである、請求項１～５のいずれか１項に記載の光学素子。
【請求項7】
前記凸部が、ドット状、または、ストライプ状に配置されている、請求項１～６のいずれか１項に記載の光学素子。
【請求項8】
前記凸部の幅が、前記凸部の前記光学異方性層側とは反対側から前記光学異方性層側に向かって、漸増している、請求項１～７のいずれか１項に記載の光学素子。
【請求項9】
請求項１～８のいずれか１項に記載の光学素子と、前記光学素子の前記光学等方性部材側に配置された粘着層と、を有する積層体。
【請求項10】
偏光子と、請求項１～８のいずれか１項に記載の光学素子と、表示素子とを、この順で有し、
前記光学素子中の前記光学異方性層が前記偏光子側に配置されている、表示装置。
前記光学素子中の前記光学異方性層が前記偏光子側に配置されている、表示装置。
【請求項11】
重合性基を有する液晶化合物を含む組成物層を基板上に形成する工程１と、
前記組成物層に加熱処理を施して、前記組成物層中の前記液晶化合物を配向させる工程２と、
前記工程２の後、酸素濃度１体積％以上の条件下にて、前記組成物層に対して光照射を行う工程３と、
表面に凹凸構造を有する金型を、前記組成物層の前記基板側とは反対側の表面に押し当てて前記金型の凹凸構造を前記組成物層に転写する工程４と、
前記組成物層に対して硬化処理を施し、前記基板側から、光学異方性層と、前記光学異方性層側とは反対側に突出する凸部を有する光学等方性部材とを有する光学素子を形成する工程５と、を有し、
以下の要件１～４のいずれかを満たす、光学素子の製造方法。
要件１：前記工程４を、前記組成物層を構成する組成物の液晶相から等方相への相転移温度以上の加熱条件下にて実施する。
要件２：前記工程５を、前記組成物層を構成する組成物の液晶相から等方相への相転移温度以上の加熱条件下にて実施する。
要件３：前記工程３と前記工程４との間に、前記組成物層を構成する組成物の液晶相から等方相への相転移温度以上に前記組成物層を加熱する工程６をさらに有する。
要件４：前記工程４と前記工程５との間に、前記組成物層を構成する組成物の液晶相から等方相への相転移温度以上に前記組成物層を加熱する工程７をさらに有する。
前記組成物層に加熱処理を施して、前記組成物層中の前記液晶化合物を配向させる工程２と、
前記工程２の後、酸素濃度１体積％以上の条件下にて、前記組成物層に対して光照射を行う工程３と、
表面に凹凸構造を有する金型を、前記組成物層の前記基板側とは反対側の表面に押し当てて前記金型の凹凸構造を前記組成物層に転写する工程４と、
前記組成物層に対して硬化処理を施し、前記基板側から、光学異方性層と、前記光学異方性層側とは反対側に突出する凸部を有する光学等方性部材とを有する光学素子を形成する工程５と、を有し、
以下の要件１～４のいずれかを満たす、光学素子の製造方法。
要件１：前記工程４を、前記組成物層を構成する組成物の液晶相から等方相への相転移温度以上の加熱条件下にて実施する。
要件２：前記工程５を、前記組成物層を構成する組成物の液晶相から等方相への相転移温度以上の加熱条件下にて実施する。
要件３：前記工程３と前記工程４との間に、前記組成物層を構成する組成物の液晶相から等方相への相転移温度以上に前記組成物層を加熱する工程６をさらに有する。
要件４：前記工程４と前記工程５との間に、前記組成物層を構成する組成物の液晶相から等方相への相転移温度以上に前記組成物層を加熱する工程７をさらに有する。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、光学素子、積層体、表示装置、および、光学素子の製造方法に関する。
【背景技術】
【0002】
画像を表示する表示装置として、例えば、発光層を発光させることによって画像を表示する有機エレクトロルミネッセンス（有機ＥＬ）表示装置が知られている。
有機ＥＬ表示装置などの表示装置には各種光学素子が含まれる場合があり、例えば、特許文献１では、偏光部材と位相差部材とを有する円偏光板、および、第１方向に配列され且つ各々が第１方向と交差する第２方向に延びる複数の第１部分と、第１部分と第１方向に沿って交互に配置される第２部分とを有する光学シート、などが表示装置中に含まれている。
有機ＥＬ表示装置などの表示装置には各種光学素子が含まれる場合があり、例えば、特許文献１では、偏光部材と位相差部材とを有する円偏光板、および、第１方向に配列され且つ各々が第１方向と交差する第２方向に延びる複数の第１部分と、第１部分と第１方向に沿って交互に配置される第２部分とを有する光学シート、などが表示装置中に含まれている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0003】
【特許文献1】特開２０２０－１８７２６１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0004】
一方で、本発明者らは特許文献１に記載の表示装置の特性について検討したところ、黒表示にし、正面方向から視認した際に、反射光が確認され、黒しまりが必ずしも十分でなく、さらなる改良が必要であることを知見した。
【0005】
本発明は、偏光子と組み合わせて得られる偏光板を表示素子に適用した際に、黒表示における正面方向からの視認時の黒しまりが良好である、光学素子を提供することを課題とする。
また、本発明は、積層体、表示装置、および、光学素子の製造方法も提供することを課題とする。
また、本発明は、積層体、表示装置、および、光学素子の製造方法も提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【0006】
本発明者らは、従来技術の問題点について鋭意検討した結果、以下の構成により上記課題を解決できることを見出した。
【0007】
（１） 光学異方性層と、
光学等方性部材と、を含み、
光学異方性層と光学等方性部材とが接しており、
光学異方性層の平均屈折率と、光学等方性部材の屈折率との差の絶対値が、０．０８以内であり、
光学等方性部材は、光学異方性層側とは反対側に突出する凸部を有する、光学素子。
（２） 光学異方性層および光学等方性部材が、いずれも液晶化合物を用いて形成された、（１）に記載の光学素子。
（３） 光学異方性層および光学等方性部材が、いずれも同一の液晶化合物を用いて形成された、（１）または（２）に記載の光学素子。
（４） 光学異方性層が、λ／４板である、（１）～（３）のいずれかに記載の光学素子。
（５） 複数の凸部が周期的に配置されている、（１）～（４）のいずれかに記載の光学素子。
（６） 複数の凸部の間隔が、０．２～２０μｍである、（１）～（５）のいずれかに記載の光学素子。
（７） 凸部が、ドット状、または、ストライプ状に配置されている、（１）～（６）のいずれかに記載の光学素子。
（８） 凸部の幅が、凸部の光学異方性層側とは反対側から光学異方性層側に向かって、漸増している、（１）～（７）のいずれかに記載の光学素子。
（９） （１）～（８）のいずれかに記載の光学素子と、光学素子の光学等方性部材側に配置された粘着層と、を有する積層体。
（１０） 偏光子と、（１）～（８）のいずれかに記載の光学素子と、表示素子とを、この順で有し、
光学素子中の光学異方性層が偏光子側に配置されている、表示装置。
（１１） 重合性基を有する液晶化合物を含む組成物層を基板上に形成する工程１と、
組成物層に加熱処理を施して、組成物層中の液晶化合物を配向させる工程２と、
工程２の後、酸素濃度１体積％以上の条件下にて、組成物層に対して光照射を行う工程３と、
表面に凹凸構造を有する金型を、組成物層の基板側とは反対側の表面に押し当てて金型の凹凸構造を組成物層に転写する工程４と、
組成物層に対して硬化処理を施し、基板側から、光学異方性層と、光学異方性層側とは反対側に突出する凸部を有する光学等方性部材とを有する光学素子を形成する工程５と、を有し、
後述する要件１～４のいずれかを満たす、光学素子の製造方法。
光学等方性部材と、を含み、
光学異方性層と光学等方性部材とが接しており、
光学異方性層の平均屈折率と、光学等方性部材の屈折率との差の絶対値が、０．０８以内であり、
光学等方性部材は、光学異方性層側とは反対側に突出する凸部を有する、光学素子。
（２） 光学異方性層および光学等方性部材が、いずれも液晶化合物を用いて形成された、（１）に記載の光学素子。
（３） 光学異方性層および光学等方性部材が、いずれも同一の液晶化合物を用いて形成された、（１）または（２）に記載の光学素子。
（４） 光学異方性層が、λ／４板である、（１）～（３）のいずれかに記載の光学素子。
（５） 複数の凸部が周期的に配置されている、（１）～（４）のいずれかに記載の光学素子。
（６） 複数の凸部の間隔が、０．２～２０μｍである、（１）～（５）のいずれかに記載の光学素子。
（７） 凸部が、ドット状、または、ストライプ状に配置されている、（１）～（６）のいずれかに記載の光学素子。
（８） 凸部の幅が、凸部の光学異方性層側とは反対側から光学異方性層側に向かって、漸増している、（１）～（７）のいずれかに記載の光学素子。
（９） （１）～（８）のいずれかに記載の光学素子と、光学素子の光学等方性部材側に配置された粘着層と、を有する積層体。
（１０） 偏光子と、（１）～（８）のいずれかに記載の光学素子と、表示素子とを、この順で有し、
光学素子中の光学異方性層が偏光子側に配置されている、表示装置。
（１１） 重合性基を有する液晶化合物を含む組成物層を基板上に形成する工程１と、
組成物層に加熱処理を施して、組成物層中の液晶化合物を配向させる工程２と、
工程２の後、酸素濃度１体積％以上の条件下にて、組成物層に対して光照射を行う工程３と、
表面に凹凸構造を有する金型を、組成物層の基板側とは反対側の表面に押し当てて金型の凹凸構造を組成物層に転写する工程４と、
組成物層に対して硬化処理を施し、基板側から、光学異方性層と、光学異方性層側とは反対側に突出する凸部を有する光学等方性部材とを有する光学素子を形成する工程５と、を有し、
後述する要件１～４のいずれかを満たす、光学素子の製造方法。
【発明の効果】
【0008】
本発明によれば、偏光子と組み合わせて得られる偏光板を表示素子に適用した際に、黒表示における正面方向からの視認時の黒しまりが良好である、光学素子を提供できる。
また、本発明によれば、積層体、表示装置、および、光学素子の製造方法も提供できる。
また、本発明によれば、積層体、表示装置、および、光学素子の製造方法も提供できる。
【図面の簡単な説明】
【0009】
【図1】本発明の光学素子の一実施態様の概略断面図を示す。
【図3】本発明の光学素子の他の実施態様の平面図を示す。
【図4】本発明の光学素子の他の実施態様の概略断面図を示す。
【図6】工程２を説明するための組成物層の断面図である。
【図7】工程３を説明するための組成物層の断面図である。
【図8】工程４を説明するための組成物層の断面図である。
【図9】工程４を説明するための組成物層の断面図である。
【図10】光学素子を説明するための断面図である。
【図11】工程２を説明するための組成物層の断面図である。
【図12】工程３を説明するための組成物層の断面図である。
【図13】加熱処理を説明するための組成物層の断面図である。
【図14】キラル剤Ａおよびキラル剤Ｂの各々について、螺旋誘起力（ＨＴＰ：Helical Twisting Power）（μｍ-1）×濃度（質量％）と光照射量（ｍＪ／ｃｍ2）との関係をプロットしたグラフの模式図である。
【図15】キラル剤Ａおよびキラル剤Ｂを併用した系において、加重平均螺旋誘起力（μｍ-1）と光照射量（ｍＪ／ｃｍ2）との関係をプロットしたグラフの模式図である。
【図16】工程３を説明するための組成物層の断面図である。
【図17】光学素子を説明するための断面図である。
【発明を実施するための形態】
【0010】
以下、本発明について詳細に説明する。なお、本明細書において「～」を用いて表される数値範囲は、「～」の前後に記載される数値を下限値および上限値として含む範囲を意味する。まず、本明細書で用いられる用語について説明する。
【0011】
遅相軸は、特別な断りがなければ、波長５５０ｎｍにおける定義である。
【0012】
本発明において、Ｒｅ（λ）およびＲｔｈ（λ）は各々、波長λにおける面内のレタデーションおよび厚み方向のレタデーションを表す。特に記載がないときは、波長λは、５５０ｎｍとする。
本発明において、Ｒｅ（λ）およびＲｔｈ（λ）はＡｘｏＳｃａｎ（Ａｘｏｍｅｔｒｉｃｓ社製）において、波長λで測定した値である。ＡｘｏＳｃａｎにて平均屈折率（（ｎｘ＋ｎｙ＋ｎｚ）／３）と膜厚（ｄ（μｍ））を入力することにより、
遅相軸方向（°）
Ｒｅ（λ）＝Ｒ０（λ）
Ｒｔｈ（λ）＝（（ｎｘ＋ｎｙ）／２－ｎｚ）×ｄ
が算出される。
なお、Ｒ０（λ）は、ＡｘｏＳｃａｎで算出される数値として表示されるものであるが、Ｒｅ（λ）を意味している。
本発明において、Ｒｅ（λ）およびＲｔｈ（λ）はＡｘｏＳｃａｎ（Ａｘｏｍｅｔｒｉｃｓ社製）において、波長λで測定した値である。ＡｘｏＳｃａｎにて平均屈折率（（ｎｘ＋ｎｙ＋ｎｚ）／３）と膜厚（ｄ（μｍ））を入力することにより、
遅相軸方向（°）
Ｒｅ（λ）＝Ｒ０（λ）
Ｒｔｈ（λ）＝（（ｎｘ＋ｎｙ）／２－ｎｚ）×ｄ
が算出される。
なお、Ｒ０（λ）は、ＡｘｏＳｃａｎで算出される数値として表示されるものであるが、Ｒｅ（λ）を意味している。
【0013】
本明細書において、屈折率ｎｘ、ｎｙ、および、ｎｚは、アッベ屈折計（ＮＡＲ－４Ｔ、アタゴ（株）製）を使用し、光源にナトリウムランプ（λ＝５８９ｎｍ）を用いて測定する。また、波長依存性を測定する場合は、多波長アッベ屈折計ＤＲ－Ｍ２（アタゴ（株）製）にて、干渉フィルターとの組み合わせで測定できる。
また、ポリマーハンドブック（ＪＯＨＮ ＷＩＬＥＹ＆ＳＯＮＳ，ＩＮＣ）、および、各種光学フィルムのカタログの値を使用できる。主な光学フィルムの平均屈折率の値を以下に例示する：セルロースアシレート（１．４８）、シクロオレフィンポリマー（１．５２）、ポリカーボネート（１．５９）、ポリメチルメタクリレート（１．４９）、および、ポリスチレン（１．５９）。
また、ポリマーハンドブック（ＪＯＨＮ ＷＩＬＥＹ＆ＳＯＮＳ，ＩＮＣ）、および、各種光学フィルムのカタログの値を使用できる。主な光学フィルムの平均屈折率の値を以下に例示する：セルロースアシレート（１．４８）、シクロオレフィンポリマー（１．５２）、ポリカーボネート（１．５９）、ポリメチルメタクリレート（１．４９）、および、ポリスチレン（１．５９）。
【0014】
本明細書中における「光」とは、活性光線または放射線を意味し、例えば、水銀灯の輝線スペクトル、エキシマレーザーに代表される遠紫外線、極紫外線（ＥＵＶ光：Extreme Ultraviolet）、Ｘ線、紫外線、および電子線（ＥＢ：Electron Beam）などを意味する。なかでも、紫外線が好ましい。
【0015】
本明細書では、「可視光」とは、３８０～７８０ｎｍの光のことをいう。また、本明細書では、測定波長について特に付記がない場合は、測定波長は５５０ｎｍである。
【0016】
本発明の光学素子においては、光学異方性層と光学等方性部材とが接して配置されており、両者の間の屈折率差が小さいことから、両者の間での界面反射が抑制され、結果として、本発明の効果が得られている。
なお、本発明の光学素子と偏光子と組み合わせて得られる偏光板を表示素子に適用した際に、黒表示における正面方向からの視認時の黒しまりがより優れることを、以下、単に「本発明の効果がより優れる」ともいう。
後述するように、凸部が所定の構造および配置である場合（例えば、凸部が所定の大きさである場合、または、凸部の間隔が所定の範囲である場合）、本発明の発光素子と偏光子とを組み合わせて得られる偏光板を表示素子に適用した際に、白表示における斜め方向からの視認時の青味の発生が抑制される。以下、上記のように白表示における斜め方向からの視認時の青味の発生がより抑制されることを、単に「青味の発生がより抑制される」ともいう。
なお、本発明の光学素子と偏光子と組み合わせて得られる偏光板を表示素子に適用した際に、黒表示における正面方向からの視認時の黒しまりがより優れることを、以下、単に「本発明の効果がより優れる」ともいう。
後述するように、凸部が所定の構造および配置である場合（例えば、凸部が所定の大きさである場合、または、凸部の間隔が所定の範囲である場合）、本発明の発光素子と偏光子とを組み合わせて得られる偏光板を表示素子に適用した際に、白表示における斜め方向からの視認時の青味の発生が抑制される。以下、上記のように白表示における斜め方向からの視認時の青味の発生がより抑制されることを、単に「青味の発生がより抑制される」ともいう。
【0017】
＜光学素子＞
以下に、本発明の光学素子の一実施態様について図面を参照して説明する。
図１に、本発明の光学素子の一実施態様の概略断面図を示す。図２に、図１に示す光学素子の一部の平面図を示す。なお、平面図とは、図１において光学素子の一部を上方から見た図である。また、図１は、図２中のＡ－Ａ線での断面図である。なお、説明のため、図２において、図面上の左右方向をＸ軸方向、上下方向をＹ軸方向とする。
光学素子１０Ａは、光学異方性層１２と、光学等方性部材１４Ａとを有する。光学異方性層１２と光学等方性部材１４Ａとは直接接している。また、光学等方性部材１４Ａの光学異方性層１２側とは反対側の表面には、凹凸構造が形成されており、光学異方性層１２側とは反対側に突出している複数のドット状の凸部１６Ａが形成されている。より具体的には、光学等方性部材１４Ａは、ベース部１８Ａと、ベース部１８Ａ上に配置されたドット状の凸部１６Ａとを有する。凸部１６Ａは円錐台状であり、凸部１６Ａは平面視において円形状である。凸部１６Ａは複数あり、複数の凸部１６Ａは六方最密状に配置されている。つまり、複数の凸部１６Ａは、周期的に配置されている。ベース部１８Ａは、面方向に沿って連続的に連なっており、光学異方性層１２と接している。
以下に、本発明の光学素子の一実施態様について図面を参照して説明する。
図１に、本発明の光学素子の一実施態様の概略断面図を示す。図２に、図１に示す光学素子の一部の平面図を示す。なお、平面図とは、図１において光学素子の一部を上方から見た図である。また、図１は、図２中のＡ－Ａ線での断面図である。なお、説明のため、図２において、図面上の左右方向をＸ軸方向、上下方向をＹ軸方向とする。
光学素子１０Ａは、光学異方性層１２と、光学等方性部材１４Ａとを有する。光学異方性層１２と光学等方性部材１４Ａとは直接接している。また、光学等方性部材１４Ａの光学異方性層１２側とは反対側の表面には、凹凸構造が形成されており、光学異方性層１２側とは反対側に突出している複数のドット状の凸部１６Ａが形成されている。より具体的には、光学等方性部材１４Ａは、ベース部１８Ａと、ベース部１８Ａ上に配置されたドット状の凸部１６Ａとを有する。凸部１６Ａは円錐台状であり、凸部１６Ａは平面視において円形状である。凸部１６Ａは複数あり、複数の凸部１６Ａは六方最密状に配置されている。つまり、複数の凸部１６Ａは、周期的に配置されている。ベース部１８Ａは、面方向に沿って連続的に連なっており、光学異方性層１２と接している。
【0018】
図２においては、凸部１６Ａは８つしか記載されていないが、図２は光学素子の一部を取り出した平面図であり、光学素子には８つ以上の凸部１６Ａが形成されている。
図１において、凸部１６Ａは、円錐台状であるが、本発明はこの態様に限定されず、例えば、半球状、円錐状、逆円錐台状、および、角錐台状のいずれでもよい。なお、逆円錐台状とは、図１の態様とは異なり、上底の幅が下底の幅よりも大きい態様が該当する。
また、図１において、凸部１６Ａは、平面視において円形状であるが、本発明はこの態様に限定されず、例えば、多角形状、楕円状、および、不定形状のいずれでもよい。
図１において、凸部１６Ａは、断面視で上底が下底よりも小さい台形状である。つまり、凸部１６Ａの幅が、凸部１６Ａの光学異方性層１２側とは反対側から光学異方性層１２側に向かって（図中の白抜き矢印の方向に向かって）、漸増している。より具体的には、図２に示すように、凸部１６Ａの上底の幅ＷＡ１（上底の直径）が凸部１６Ａの下底の幅ＷＡ２（下底の直径）よりも小さく、凸部１６Ａの幅が上底から下底に向かって、漸増している。
なお、凸部１６Ａの断面形状は、台形形状の脚の部分が直線でなく、曲線であってもよい。
凸部１６Ａが、上記のような構造である場合、青味の発生がより抑制される。
図１において、凸部１６Ａは、円錐台状であるが、本発明はこの態様に限定されず、例えば、半球状、円錐状、逆円錐台状、および、角錐台状のいずれでもよい。なお、逆円錐台状とは、図１の態様とは異なり、上底の幅が下底の幅よりも大きい態様が該当する。
また、図１において、凸部１６Ａは、平面視において円形状であるが、本発明はこの態様に限定されず、例えば、多角形状、楕円状、および、不定形状のいずれでもよい。
図１において、凸部１６Ａは、断面視で上底が下底よりも小さい台形状である。つまり、凸部１６Ａの幅が、凸部１６Ａの光学異方性層１２側とは反対側から光学異方性層１２側に向かって（図中の白抜き矢印の方向に向かって）、漸増している。より具体的には、図２に示すように、凸部１６Ａの上底の幅ＷＡ１（上底の直径）が凸部１６Ａの下底の幅ＷＡ２（下底の直径）よりも小さく、凸部１６Ａの幅が上底から下底に向かって、漸増している。
なお、凸部１６Ａの断面形状は、台形形状の脚の部分が直線でなく、曲線であってもよい。
凸部１６Ａが、上記のような構造である場合、青味の発生がより抑制される。
【0019】
図２に示す、円錐台状の凸部１６Ａの上底の幅ＷＡ１は特に制限されず、本発明の効果がより優れる点で、０．１～２０．０μｍが好ましく、青味の発生がより抑制される点で、０．２～２０．０μｍがより好ましく、０．２～５．０μｍがさらに好ましい。
円錐台状の凸部１６Ａの下底の幅ＷＡ２は特に制限されず、本発明の効果がより優れる点で、０．１～２０．０μｍが好ましく、青味の発生がより抑制される点で、０．２～２０．０μｍがより好ましく、０．２～５．０μｍがさらに好ましい。
なお、上述したように、凸部１６Ａの上底の幅ＷＡ１は、下底の幅ＷＡ２よりも小さいほうが好ましく、凸部１６Ａの幅が上底から下底に向かって、漸増していることが好ましい。
円錐台状の凸部１６Ａの下底の幅ＷＡ２は特に制限されず、本発明の効果がより優れる点で、０．１～２０．０μｍが好ましく、青味の発生がより抑制される点で、０．２～２０．０μｍがより好ましく、０．２～５．０μｍがさらに好ましい。
なお、上述したように、凸部１６Ａの上底の幅ＷＡ１は、下底の幅ＷＡ２よりも小さいほうが好ましく、凸部１６Ａの幅が上底から下底に向かって、漸増していることが好ましい。
【0020】
凸部１６Ａの高さＨＡ１は特に制限されず、本発明の効果がより優れる点で、０．１～２０．０μｍが好ましく、青味の発生がより抑制される点で、０．２～２０．０μｍがより好ましく、０．２～５．０μｍがさらに好ましい。
ベース部１８Ａの厚みＨＡ２（光学等方性部材１４Ａの全体の厚みから凸部１６Ａの高さを除いた厚み）は特に制限されず、本発明の効果がより優れる点で、０．１～２０．０μｍが好ましく、青味の発生がより抑制される点で、０．２～２０．０μｍがより好ましく、０．２～５．０μｍがさらに好ましい。
凸部１６Ａの周期ＰＡ（隣接する凸部間の間隔）は特に制限されず、本発明の効果がより優れる点で、０．１～２０．０μｍが好ましく、青味の発生がより抑制される点で、０．２～５．０μｍがより好ましく、０．２～５．０μｍがさらに好ましい。
凸部１６Ａの周期ＰＡに対する、凸部１６Ａの高さＨＡ１の比は特に制限されず、本発明の効果がより優れる点から、０．００５～２００が好ましく、０．０１～１００がより好ましく、０．１～１０がさらに好ましい。
ベース部１８Ａの厚みＨＡ２（光学等方性部材１４Ａの全体の厚みから凸部１６Ａの高さを除いた厚み）は特に制限されず、本発明の効果がより優れる点で、０．１～２０．０μｍが好ましく、青味の発生がより抑制される点で、０．２～２０．０μｍがより好ましく、０．２～５．０μｍがさらに好ましい。
凸部１６Ａの周期ＰＡ（隣接する凸部間の間隔）は特に制限されず、本発明の効果がより優れる点で、０．１～２０．０μｍが好ましく、青味の発生がより抑制される点で、０．２～５．０μｍがより好ましく、０．２～５．０μｍがさらに好ましい。
凸部１６Ａの周期ＰＡに対する、凸部１６Ａの高さＨＡ１の比は特に制限されず、本発明の効果がより優れる点から、０．００５～２００が好ましく、０．０１～１００がより好ましく、０．１～１０がさらに好ましい。
【0021】
図１においては、円錐台状の凸部１６Ａは六方最密状に配置されているが、本発明はこの態様に限定されず、例えば、図３に示すように、円錐台状の凸部１６Ａが正方格子状に配置されていてもよいし、ランダム状に配置されていてもよい。
【0022】
また、図１においては、円錐台状の凸部１６Ａの態様について述べたが、本発明はこの態様に限定されず、凸部がストライプ状に配置されていてもよい。以下、この態様について詳述する。
図４に、本発明の光学素子の他の例の概略断面図を示す。図５に、図４に示す光学素子の一部の平面図を示す。なお、平面図とは、図４において光学素子の一部を上方から見た図である。また、図４は、図５中のＢ－Ｂ線での断面図である。なお、説明のため、図５において、図面上の左右方向をＸ軸方向、上下方向をＹ軸方向とする。
図４に、本発明の光学素子の他の例の概略断面図を示す。図５に、図４に示す光学素子の一部の平面図を示す。なお、平面図とは、図４において光学素子の一部を上方から見た図である。また、図４は、図５中のＢ－Ｂ線での断面図である。なお、説明のため、図５において、図面上の左右方向をＸ軸方向、上下方向をＹ軸方向とする。
【0023】
光学素子１０Ｂは、光学異方性層１２と、光学等方性部材１４Ｂとを有する。光学異方性層１２と光学等方性部材１４Ｂとは直接接している。また、光学等方性部材１４Ｂの光学異方性層１２側とは反対側の表面には、凹凸構造が形成されており、凸部１６Ｂがストライプ状に配置されている。より具体的には、光学等方性部材１４Ｂは、ベース部１８Ｂと、ベース部１８Ｂ上に配置されたストライプ状に配置された凸部１６Ｂとを有する。凸部１６Ｂは、Ｙ方向に延在し、延在する方向と直交する方向（Ｘ方向）に周期的に配置されている。ベース部１８Ｂは、面方向に沿って連続的に連なっており、光学異方性層１２と接している。
【0024】
図５においては、凸部１６Ｂは３つしか記載されていないが、図５は光学素子の一部を取り出した平面図であり、光学素子には３つ以上の凸部１６Ｂが形成されている。
図４に示すように、凸部１６Ｂは、延在する方向と直交する断面における形状は台形状であるが、本発明はこの態様に限定されず、半円状であってもよい。
図４において、凸部１６Ｂは、断面視で上底が下底よりも小さい台形状である。つまり、凸部１６Ｂの幅が、凸部１６Ｂの光学異方性層１２側とは反対側から光学異方性層１２側に向かって（図中の白抜き矢印の方向に向かって）、漸増している。より具体的には、図５に示すように、凸部１６Ｂの上底の幅ＷＢ１（上底の直径）が凸部１６Ｂの下底の幅ＷＢ２（下底の直径）よりも小さく、凸部１６Ｂの幅が上底から下底に向かって、漸増している。
なお、凸部１６Ｂの断面形状は、台形形状の脚の部分が直線でなく、曲線であってもよい。
凸部１６Ｂが、上記のような構造である場合、青味の発生がより抑制される。
図４に示すように、凸部１６Ｂは、延在する方向と直交する断面における形状は台形状であるが、本発明はこの態様に限定されず、半円状であってもよい。
図４において、凸部１６Ｂは、断面視で上底が下底よりも小さい台形状である。つまり、凸部１６Ｂの幅が、凸部１６Ｂの光学異方性層１２側とは反対側から光学異方性層１２側に向かって（図中の白抜き矢印の方向に向かって）、漸増している。より具体的には、図５に示すように、凸部１６Ｂの上底の幅ＷＢ１（上底の直径）が凸部１６Ｂの下底の幅ＷＢ２（下底の直径）よりも小さく、凸部１６Ｂの幅が上底から下底に向かって、漸増している。
なお、凸部１６Ｂの断面形状は、台形形状の脚の部分が直線でなく、曲線であってもよい。
凸部１６Ｂが、上記のような構造である場合、青味の発生がより抑制される。
【0025】
図５に示す、断面形状が台形状の凸部１６Ｂの上底の幅ＷＢ１は特に制限されず、上述した幅ＷＡ１と同様の範囲が好ましい。
円錐台状の凸部１６Ｂの下底の幅ＷＢ２は特に制限されず、上述した幅ＷＢ２と同様の範囲が好ましい。
なお、上述したように、凸部１６Ｂの上底の幅ＷＢ１は、下底の幅ＷＢ２よりも小さいほうが好ましく、凸部１６Ｂの幅が上底から下底に向かって、漸増していることが好ましい。
凸部１６Ｂの高さＨＢ１は特に制限されず、上述した高さＨＡ１と同様の範囲が好ましい。
ベース部１８Ｂの厚みＨＢ２（光学等方性部材１４Ｂの全体の厚みから凸部１６Ｂの高さを除いた厚み）は特に制限されず、上述した高さＨＡ２と同様の範囲が好ましい。
凸部１６Ｂの周期ＰＢは特に制限されず、上述した周期ＰＢと同様の範囲が好ましい。
凸部１６Ａの周期ＰＢに対する、凸部１６Ａの高さＨＢ１の比は特に制限されず、上述した周期ＰＡに対する高さＨＡ１の比と同様の範囲が好ましい。
円錐台状の凸部１６Ｂの下底の幅ＷＢ２は特に制限されず、上述した幅ＷＢ２と同様の範囲が好ましい。
なお、上述したように、凸部１６Ｂの上底の幅ＷＢ１は、下底の幅ＷＢ２よりも小さいほうが好ましく、凸部１６Ｂの幅が上底から下底に向かって、漸増していることが好ましい。
凸部１６Ｂの高さＨＢ１は特に制限されず、上述した高さＨＡ１と同様の範囲が好ましい。
ベース部１８Ｂの厚みＨＢ２（光学等方性部材１４Ｂの全体の厚みから凸部１６Ｂの高さを除いた厚み）は特に制限されず、上述した高さＨＡ２と同様の範囲が好ましい。
凸部１６Ｂの周期ＰＢは特に制限されず、上述した周期ＰＢと同様の範囲が好ましい。
凸部１６Ａの周期ＰＢに対する、凸部１６Ａの高さＨＢ１の比は特に制限されず、上述した周期ＰＡに対する高さＨＡ１の比と同様の範囲が好ましい。
【0026】
【0027】
本発明の光学素子において、光学異方性層と光学等方性部材とは接している。特に、光学素子の厚み方向に沿って、光学異方性層と光学等方性部材とが接していることが好ましく、より具体的には、図１および４に示すように、光学等方性部材の２つの主面のうちの一方と、光学等方性部材の２つの主面のうち凹凸構造が配置されていない主面とが接していることが好ましい。
【0028】
本発明の光学素子において、光学異方性層の平均屈折率と、光学等方性部材の屈折率との差の絶対値は、０．０８以内であり、本発明の効果がより優れる点で、０．０６以内が好ましく、０．０４以内がより好ましい。下限は特に制限されないが、０が挙げられる。
光学異方性層の平均屈折率とは、光学異方性層の面内方向の屈折率が最大となる方向における屈折率と、上記面内方向の屈折率が最大となる方向と直交する方向における屈折率とを相加平均した値である。
上記光学異方性層の平均屈折率の測定方法としては、例えば、光学素子の光学等方性部材をエッチングにより除去して、光学異方性層を露出させた状態で、偏光子を使用したアッベ屈折計を用いて、光学異方性層の面内方向の屈折率が最大となる方向における屈折率と、上記面内方向の屈折率が最大となる方向と直交する方向における屈折率とを測定し、得られた値を相加平均して、光学異方性層の平均屈折率とする。
また、光学等方性部材の屈折率の測定方法としては、光学等方性部材の一部を削り落として粉末にし、得られた粉末とは異なる屈折率の溶媒に粉末を浸漬させた際のベッケ線を観察して（いわゆる、ベッケ線法）、屈折率を決定する。
上記平均屈折率および屈折率は、測定温度２３℃、波長５８９ｎｍにおける屈折率である。
なお、後述するように、光学異方性層が、液晶化合物の配向状態が異なる領域を厚み方向に沿って複数有する場合、光学等方性部材と接している領域の平均屈折率を測定し、光学異方性層の平均屈折率とする。
光学異方性層の平均屈折率とは、光学異方性層の面内方向の屈折率が最大となる方向における屈折率と、上記面内方向の屈折率が最大となる方向と直交する方向における屈折率とを相加平均した値である。
上記光学異方性層の平均屈折率の測定方法としては、例えば、光学素子の光学等方性部材をエッチングにより除去して、光学異方性層を露出させた状態で、偏光子を使用したアッベ屈折計を用いて、光学異方性層の面内方向の屈折率が最大となる方向における屈折率と、上記面内方向の屈折率が最大となる方向と直交する方向における屈折率とを測定し、得られた値を相加平均して、光学異方性層の平均屈折率とする。
また、光学等方性部材の屈折率の測定方法としては、光学等方性部材の一部を削り落として粉末にし、得られた粉末とは異なる屈折率の溶媒に粉末を浸漬させた際のベッケ線を観察して（いわゆる、ベッケ線法）、屈折率を決定する。
上記平均屈折率および屈折率は、測定温度２３℃、波長５８９ｎｍにおける屈折率である。
なお、後述するように、光学異方性層が、液晶化合物の配向状態が異なる領域を厚み方向に沿って複数有する場合、光学等方性部材と接している領域の平均屈折率を測定し、光学異方性層の平均屈折率とする。
【0029】
光学異方性層の平均屈折率と、光学等方性部材の屈折率との差の絶対値の範囲を調整する方法は特に制限されず、例えば、光学異方性層を構成する材料の種類と光学等方性部材を構成する材料の種類とを調整する方法が挙げられ、同一の材料を用いて、光学異方性層および光学等方性部材を形成する方法が挙げられる。
後述するように、光学異方性層および光学等方性部材は、いずれも液晶化合物を用いて形成されてもよい。そのため、上述した光学異方性層の平均屈折率と、光学等方性部材の屈折率との差の絶対値の範囲にするために、光学異方性層および光学等方性部材が、いずれも同一の液晶化合物を用いて形成された層であることが好ましい。
後述するように、光学異方性層および光学等方性部材は、いずれも液晶化合物を用いて形成されてもよい。そのため、上述した光学異方性層の平均屈折率と、光学等方性部材の屈折率との差の絶対値の範囲にするために、光学異方性層および光学等方性部材が、いずれも同一の液晶化合物を用いて形成された層であることが好ましい。
【0030】
以下、光学異方性層および光学等方性部材についてより詳述する。
【0031】
＜光学異方性層＞
光学異方性層とは、光学的に異方性を示す層である。光学異方性層としては、例えば、ｎｘ、ｎｙ、および、ｎｚのうち少なくとも２つが異なる層が挙げられる。なお、ｎｘは、光学異方性層の厚み方向に垂直な方向（面内方向）であって最大の屈折率を与える方向の屈折率を表す。ｎｙは、光学異方性層の面内方向であってｎｘの方向に直交する方向の屈折率を表す。ｎｚは、光学異方性層の厚み方向の屈折率を表す。
光学異方性層としては、例えば、λ／４板、λ／２板、コレステリック液晶相を固定してなる層、および、ハイブリッド配向相を固定してなる層などが挙げられ、本発明の効果がより優れる点で、λ／４板が好ましい。
光学異方性層とは、光学的に異方性を示す層である。光学異方性層としては、例えば、ｎｘ、ｎｙ、および、ｎｚのうち少なくとも２つが異なる層が挙げられる。なお、ｎｘは、光学異方性層の厚み方向に垂直な方向（面内方向）であって最大の屈折率を与える方向の屈折率を表す。ｎｙは、光学異方性層の面内方向であってｎｘの方向に直交する方向の屈折率を表す。ｎｚは、光学異方性層の厚み方向の屈折率を表す。
光学異方性層としては、例えば、λ／４板、λ／２板、コレステリック液晶相を固定してなる層、および、ハイブリッド配向相を固定してなる層などが挙げられ、本発明の効果がより優れる点で、λ／４板が好ましい。
【0032】
λ／４板とは、ある特定の波長の直線偏光を円偏光に（または、円偏光を直線偏光に）変換する機能を有する板である。より具体的には、所定の波長λｎｍにおける面内レタデーションＲｅがλ／４（または、この奇数倍）を示す板である。
λ／４板の波長５５０ｎｍでの面内レタデーション（Ｒｅ（５５０））は、理想値（１３７．５ｎｍ）を中心として、２５ｎｍ程度の誤差があってもよく、例えば、１１０～１６０ｎｍであることが好ましく、１２０～１５０ｎｍであることがより好ましい。
また、λ／２板とは、特定の波長λｎｍにおける面内レタデーションＲｅ（λ）がＲｅ（λ）≒λ／２を満たす光学異方性膜のことをいう。この式は、可視光線領域のいずれかの波長（例えば、５５０ｎｍ）において達成されていればよい。なかでも、波長５５０ｎｍにおける面内レタデーションＲｅ（５５０）が、以下の関係を満たすことが好ましい。
２１０ｎｍ≦Ｒｅ（５５０）≦３００ｎｍ
λ／４板の波長５５０ｎｍでの面内レタデーション（Ｒｅ（５５０））は、理想値（１３７．５ｎｍ）を中心として、２５ｎｍ程度の誤差があってもよく、例えば、１１０～１６０ｎｍであることが好ましく、１２０～１５０ｎｍであることがより好ましい。
また、λ／２板とは、特定の波長λｎｍにおける面内レタデーションＲｅ（λ）がＲｅ（λ）≒λ／２を満たす光学異方性膜のことをいう。この式は、可視光線領域のいずれかの波長（例えば、５５０ｎｍ）において達成されていればよい。なかでも、波長５５０ｎｍにおける面内レタデーションＲｅ（５５０）が、以下の関係を満たすことが好ましい。
２１０ｎｍ≦Ｒｅ（５５０）≦３００ｎｍ
【0033】
光学異方性層を構成する材料は特に制限されず、液晶化合物、および、ポリマーが挙げられ、本発明の効果がより優れる点で、液晶化合物が好ましい。特に、光学異方性層は、液晶化合物を用いて形成された層であることが好ましく、重合性基を有する液晶化合物を用いて形成された層であることがより好ましい。
【0034】
液晶化合物の種類は、特に制限されない。一般的に、液晶化合物はその形状から、棒状タイプ（棒状液晶化合物）と円盤状タイプ（ディスコティック液晶化合物）とに分類できる。さらに、液晶化合物は、低分子タイプと高分子タイプとの分類できる。高分子とは一般に重合度が１００以上のものを指す（高分子物理・相転移ダイナミクス，土井正男著，２頁，岩波書店，１９９２）。本発明では、いずれの液晶化合物を用いることもできるが、棒状液晶化合物またはディスコティック液晶化合物を用いるのが好ましく、棒状液晶化合物を用いるのがより好ましい。２種以上の棒状液晶化合物、２種以上のディスコティック液晶化合物、または、棒状液晶化合物とディスコティック液晶化合物との混合物を用いてもよい。
なお、棒状液晶化合物としては、例えば、特表平１１－５１３０１９号公報の請求項１、および、特開２００５－２８９９８０号公報の段落００２６～００９８に記載の液晶化合物が挙げられる。
ディスコティック液晶化合物としては、例えば、特開２００７－１０８７３２号公報の段落００２０～００６７、および、特開２０１０－２４４０３８号公報の段落００１３～０１０８に記載の液晶化合物が挙げられる。
なお、棒状液晶化合物としては、例えば、特表平１１－５１３０１９号公報の請求項１、および、特開２００５－２８９９８０号公報の段落００２６～００９８に記載の液晶化合物が挙げられる。
ディスコティック液晶化合物としては、例えば、特開２００７－１０８７３２号公報の段落００２０～００６７、および、特開２０１０－２４４０３８号公報の段落００１３～０１０８に記載の液晶化合物が挙げられる。
【0035】
液晶化合物は、重合性基を有することが好ましい。つまり、液晶化合物は、重合性液晶化合物であることが好ましい。液晶化合物が重合性基を有する場合、後述する硬化処理によって、液晶化合物の配向状態を容易に固定化できる。
液晶化合物が有する重合性基の種類は特に制限されず、付加重合反応が可能な官能基が好ましく、重合性エチレン性不飽和基または環重合性基がより好ましく、（メタ）アクリロイル基、ビニル基、スチリル基、または、アリル基がさらに好ましい。
液晶化合物が有する重合性基の数は特に制限されないが、２以上が好ましい。上限は特に制限されないが、１０以下の場合が多い。
液晶化合物が有する重合性基の種類は特に制限されず、付加重合反応が可能な官能基が好ましく、重合性エチレン性不飽和基または環重合性基がより好ましく、（メタ）アクリロイル基、ビニル基、スチリル基、または、アリル基がさらに好ましい。
液晶化合物が有する重合性基の数は特に制限されないが、２以上が好ましい。上限は特に制限されないが、１０以下の場合が多い。
【0036】
液晶化合物は、順波長分散性および逆波長分散性のいずれを示す液晶化合物であってもよく、逆波長分散性を示す液晶化合物が好ましく、重合性基を２つ以上有し、逆波長分散性を示す液晶化合物がより好ましい。
本明細書において「逆波長分散性を示す液晶化合物」とは、この化合物を用いて作製された光学異方性膜の特定波長（可視光範囲）における面内のレタデーション（Ｒｅ）値を測定した際に、以下の式（Ａ）および式（Ｂ）の関係を満たすものをいう。
式（Ａ） Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）＜１．００
式（Ｂ） Ｒｅ（６５０）／Ｒｅ（５５０）≧１．００
Ｒｅ（４５０）は波長４５０ｎｍにおける光学異方性膜の面内レタデーションを表し、Ｒｅ（５５０）は波長５５０ｎｍにおける光学異方性膜の面内レタデーションを表し、Ｒｅ（６５０）は波長６５０ｎｍにおける光学異方性膜の面内レタデーションを表す。
本明細書において「順波長分散性を示す液晶化合物」とは、この化合物を用いて作製された光学異方性膜の特定波長（可視光範囲）における面内のレタデーション（Ｒｅ）値を測定した際に、以下の式（Ｃ）および式（Ｄ）の関係を満たすものをいう。
式（Ｃ） Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）≧１．００
式（Ｄ） Ｒｅ（６５０）／Ｒｅ（５５０）＜１．００
本明細書において「逆波長分散性を示す液晶化合物」とは、この化合物を用いて作製された光学異方性膜の特定波長（可視光範囲）における面内のレタデーション（Ｒｅ）値を測定した際に、以下の式（Ａ）および式（Ｂ）の関係を満たすものをいう。
式（Ａ） Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）＜１．００
式（Ｂ） Ｒｅ（６５０）／Ｒｅ（５５０）≧１．００
Ｒｅ（４５０）は波長４５０ｎｍにおける光学異方性膜の面内レタデーションを表し、Ｒｅ（５５０）は波長５５０ｎｍにおける光学異方性膜の面内レタデーションを表し、Ｒｅ（６５０）は波長６５０ｎｍにおける光学異方性膜の面内レタデーションを表す。
本明細書において「順波長分散性を示す液晶化合物」とは、この化合物を用いて作製された光学異方性膜の特定波長（可視光範囲）における面内のレタデーション（Ｒｅ）値を測定した際に、以下の式（Ｃ）および式（Ｄ）の関係を満たすものをいう。
式（Ｃ） Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）≧１．００
式（Ｄ） Ｒｅ（６５０）／Ｒｅ（５５０）＜１．００
【0037】
上述したように、光学異方性層は、重合性基を有する液晶化合物を用いて形成された層であることが好ましく、重合性基を有する液晶化合物の配向状態を固定してなる層であることがより好ましい。
重合性基を有する液晶化合物が取り得る配向状態は特に制限されず、例えば、ホモジニアス配向、ホメオトロピック配向、捩れ配向、コレステリック配向、ハイブリッド配向（一方の表面から他方の表面に向かって液晶化合物のチルト角が連続的に変化する配向）、および、傾斜配向（一方の表面から他方の表面に向かって液晶化合物のチルト角が一定である配向）が挙げられる。なお、捩れ配向とは、液晶化合物が厚み方向を回転軸として捩れている配向状態を表し、液晶化合物が捩れ配向するとともに、所定のチルト角（チルト角が０°超）を有する場合にはツイストハイブリッド配向に該当する。なお、本明細書において、捩れ配向とは、液晶化合物の捩れ角が３６０°未満である態様に該当し、コレステリック配向とは、液晶化合物の捩れ角が３６０°以上である態様に該当する。
なお、「固定した」状態は、液晶化合物の配向が保持された状態が最も典型的、且つ、好ましい態様である。それだけには制限されず、具体的には、通常０～５０℃、より過酷な条件下では－３０～７０℃の温度範囲において、層に流動性がなく、また、外場もしくは外力によって配向形態に変化を生じさせることなく、固定された配向形態を安定に保ち続けることができる状態であることがより好ましい。
重合性基を有する液晶化合物が取り得る配向状態は特に制限されず、例えば、ホモジニアス配向、ホメオトロピック配向、捩れ配向、コレステリック配向、ハイブリッド配向（一方の表面から他方の表面に向かって液晶化合物のチルト角が連続的に変化する配向）、および、傾斜配向（一方の表面から他方の表面に向かって液晶化合物のチルト角が一定である配向）が挙げられる。なお、捩れ配向とは、液晶化合物が厚み方向を回転軸として捩れている配向状態を表し、液晶化合物が捩れ配向するとともに、所定のチルト角（チルト角が０°超）を有する場合にはツイストハイブリッド配向に該当する。なお、本明細書において、捩れ配向とは、液晶化合物の捩れ角が３６０°未満である態様に該当し、コレステリック配向とは、液晶化合物の捩れ角が３６０°以上である態様に該当する。
なお、「固定した」状態は、液晶化合物の配向が保持された状態が最も典型的、且つ、好ましい態様である。それだけには制限されず、具体的には、通常０～５０℃、より過酷な条件下では－３０～７０℃の温度範囲において、層に流動性がなく、また、外場もしくは外力によって配向形態に変化を生じさせることなく、固定された配向形態を安定に保ち続けることができる状態であることがより好ましい。
【0038】
光学異方性層は、液晶化合物の配向状態が異なる領域を厚み方向に沿って複数有していてもよい。特に、光学異方性層は、液晶化合物の配向状態が異なる領域を厚み方向に沿って複数有し、いずれの領域の液晶化合物も固定されていることが好ましい。
例えば、光学異方性層は、厚み方向に沿って、液晶化合物がホモジニアス配向した状態を固定してなる領域と、液晶化合物が捩れ配向した状態を固定してなる領域とを有していてもよい。
例えば、光学異方性層は、厚み方向に沿って、液晶化合物がホモジニアス配向した状態を固定してなる領域と、液晶化合物が捩れ配向した状態を固定してなる領域とを有していてもよい。
【0039】
光学異方性層の厚みは特に制限されないが、０．１～１０．０μｍが好ましく、０．５～５．０μｍがより好ましい。
【0040】
光学異方性層の製造方法について、後段で詳述する。
【0041】
＜光学等方性部材＞
光学等方性部材とは、光学的に等方性を示す層である。
光学等方性部材の特定方法は以下の通りである。
まず、測定対象物である光学等方性部材の面内の一方向（以下、「方向Ｄ１」ともいう。）に沿って光学等方性部材を切断して、薄膜状（厚み２μｍ程度）の切片サンプル１を切り出す。上記方向Ｄ１をｘ方向、上記方向Ｄ１に直交する面内の方向をｙ方向、測定対象物の厚み方向をｚ方向とすると、切片サンプル１の主面は、上記測定対象物のｘｚ面に該当する。また、上記方向Ｄ１と直交する面内の方向に沿って測定対象物を切断して、薄膜状（厚み２μｍ程度）の切片サンプル２を切り出す。切片サンプル２の主面は、上記測定対象物のｙｚ面に該当する。さらに、上記方向Ｄ１に対して４５度をなす面内の方向（以下、「方向Ｄ２」ともいう。）に沿って測定対象物を切断して、薄膜状（厚み２μｍ程度）の切片サンプル３を切り出す。さらに、上記方向Ｄ２と直交する面内の方向に沿って測定対象物を切断して、薄膜状（厚み２μｍ程度）の切片サンプル４を切り出す。
次に、得られた各切片サンプル（切片サンプル１～４）を２つの主面のうち一方の主面をカバーガラスに対向させて接着剤で固定して、偏光顕微鏡を用いてクロスニコル条件下にて各切片サンプルを観察し、波長５４６ｎｍの光を用いたセナルモン法にて厚み１μｍあたりのレタデーションを測定し、いずれの切片サンプルにおいても上記厚み１μｍあたりのレタデーションが１０ｎｍ以下である場合に、測定対象物が光学的に等方性である、言い換えれば、測定対象物が光学等方性部材であるとする。
なお、上記セナルモン法の具体的な測定方法としては、まず、偏光顕微鏡の偏光子と検光子を０°（クロスニコル）の状態でＧＩＦフィルター（波長５４６ｎｍ）をセットし、切片サンプルの観察したい部分が最も明るくなるように、切片サンプルを固定したカバーガラスを回転させる。その後、セナルモンコンペンセーターをセットし、検光子を回転させ、切片サンプルの観察したい部分が一番暗くなる検光子の回転角度θを読み取る。レタデーション（Ｒｅ）はＲｅ＝（５４６ｎｍ×θ）／１８０の計算式によって算出する。
光学等方性部材とは、光学的に等方性を示す層である。
光学等方性部材の特定方法は以下の通りである。
まず、測定対象物である光学等方性部材の面内の一方向（以下、「方向Ｄ１」ともいう。）に沿って光学等方性部材を切断して、薄膜状（厚み２μｍ程度）の切片サンプル１を切り出す。上記方向Ｄ１をｘ方向、上記方向Ｄ１に直交する面内の方向をｙ方向、測定対象物の厚み方向をｚ方向とすると、切片サンプル１の主面は、上記測定対象物のｘｚ面に該当する。また、上記方向Ｄ１と直交する面内の方向に沿って測定対象物を切断して、薄膜状（厚み２μｍ程度）の切片サンプル２を切り出す。切片サンプル２の主面は、上記測定対象物のｙｚ面に該当する。さらに、上記方向Ｄ１に対して４５度をなす面内の方向（以下、「方向Ｄ２」ともいう。）に沿って測定対象物を切断して、薄膜状（厚み２μｍ程度）の切片サンプル３を切り出す。さらに、上記方向Ｄ２と直交する面内の方向に沿って測定対象物を切断して、薄膜状（厚み２μｍ程度）の切片サンプル４を切り出す。
次に、得られた各切片サンプル（切片サンプル１～４）を２つの主面のうち一方の主面をカバーガラスに対向させて接着剤で固定して、偏光顕微鏡を用いてクロスニコル条件下にて各切片サンプルを観察し、波長５４６ｎｍの光を用いたセナルモン法にて厚み１μｍあたりのレタデーションを測定し、いずれの切片サンプルにおいても上記厚み１μｍあたりのレタデーションが１０ｎｍ以下である場合に、測定対象物が光学的に等方性である、言い換えれば、測定対象物が光学等方性部材であるとする。
なお、上記セナルモン法の具体的な測定方法としては、まず、偏光顕微鏡の偏光子と検光子を０°（クロスニコル）の状態でＧＩＦフィルター（波長５４６ｎｍ）をセットし、切片サンプルの観察したい部分が最も明るくなるように、切片サンプルを固定したカバーガラスを回転させる。その後、セナルモンコンペンセーターをセットし、検光子を回転させ、切片サンプルの観察したい部分が一番暗くなる検光子の回転角度θを読み取る。レタデーション（Ｒｅ）はＲｅ＝（５４６ｎｍ×θ）／１８０の計算式によって算出する。
【0042】
光学等方性部材を構成する材料は特に制限されず、液晶化合物、および、ポリマーが挙げられ、本発明の効果がより優れる点で、液晶化合物が好ましい。特に、光学等方性部材は、液晶化合物を用いて形成された層であることが好ましく、重合性基を有する液晶化合物を用いて形成された層であることがより好ましい。
光学等方性部材の形成に用いられる液晶化合物の種類は、光学異方性層の形成に用いられる液晶化合物の種類と同じである。
なお、液晶化合物を用いて光学等方性部材を形成する方法としては、後述するように、等方相状態の液晶化合物を固定する方法が挙げられる。
光学等方性部材の形成に用いられる液晶化合物の種類は、光学異方性層の形成に用いられる液晶化合物の種類と同じである。
なお、液晶化合物を用いて光学等方性部材を形成する方法としては、後述するように、等方相状態の液晶化合物を固定する方法が挙げられる。
【0043】
上述したように、光学等方性部材は、重合性基を有する液晶化合物を用いて形成された部材であることが好ましく、等方相状態の重合性基を有する液晶化合物を固定してなる部材であることがより好ましい。
【0044】
光学等方性部材の厚み（光学等方性部材の凸部がない表面から、凸部の先端までの距離）は特に制限されないが、０．１～４０μｍが好ましく、０．４～１０μｍがより好ましい。
【0045】
光学等方性部材の製造方法について、後段で詳述する。
【0046】
＜光学素子の製造方法＞
本発明の光学素子の製造方法は特に制限されず、公知の方法を組み合わせて作製できる。
なかでも、本発明の光学素子を効率よく製造できる点で、以下の工程１～５を有し、要件１～４のいずれかを満たす、製造方法が好ましい。
工程１：重合性基を有する液晶化合物を含む組成物層を基板上に形成する工程
工程２：組成物層に加熱処理を施して、組成物層中の液晶化合物を配向させる工程
工程３：工程２の後、酸素濃度１体積％以上の条件下にて、組成物層に対して光照射を行う工程
工程４：表面に凹凸構造を有する金型を、組成物層の基板側とは反対側の表面に押し当てて金型の凹凸構造を組成物層に転写する工程
工程５：組成物層に対して加熱処理を施して液晶化合物を硬化させ、基板側から、光学異方性層と、光学異方性層側とは反対側に突出する凸部を有する光学等方性部材とを有する光学素子を形成する工程
要件１：工程４を、組成物層を構成する組成物の液晶相から等方相への相転移温度以上の加熱条件下にて実施する。
要件２：工程５を、組成物層を構成する組成物の液晶相から等方相への相転移温度以上の加熱条件下にて実施する。
要件３：工程３と工程４との間に、組成物層を構成する組成物の液晶相から等方相への相転移温度以上に組成物層を加熱する工程６をさらに有する。
要件４：工程４と工程５との間に、組成物層を構成する組成物の液晶相から等方相への相転移温度以上に組成物層を加熱する工程７をさらに有する。
以下、工程１～５について詳述する。なお、以下の説明においては、まず、要件１を満たす態様について説明する。
本発明の光学素子の製造方法は特に制限されず、公知の方法を組み合わせて作製できる。
なかでも、本発明の光学素子を効率よく製造できる点で、以下の工程１～５を有し、要件１～４のいずれかを満たす、製造方法が好ましい。
工程１：重合性基を有する液晶化合物を含む組成物層を基板上に形成する工程
工程２：組成物層に加熱処理を施して、組成物層中の液晶化合物を配向させる工程
工程３：工程２の後、酸素濃度１体積％以上の条件下にて、組成物層に対して光照射を行う工程
工程４：表面に凹凸構造を有する金型を、組成物層の基板側とは反対側の表面に押し当てて金型の凹凸構造を組成物層に転写する工程
工程５：組成物層に対して加熱処理を施して液晶化合物を硬化させ、基板側から、光学異方性層と、光学異方性層側とは反対側に突出する凸部を有する光学等方性部材とを有する光学素子を形成する工程
要件１：工程４を、組成物層を構成する組成物の液晶相から等方相への相転移温度以上の加熱条件下にて実施する。
要件２：工程５を、組成物層を構成する組成物の液晶相から等方相への相転移温度以上の加熱条件下にて実施する。
要件３：工程３と工程４との間に、組成物層を構成する組成物の液晶相から等方相への相転移温度以上に組成物層を加熱する工程６をさらに有する。
要件４：工程４と工程５との間に、組成物層を構成する組成物の液晶相から等方相への相転移温度以上に組成物層を加熱する工程７をさらに有する。
以下、工程１～５について詳述する。なお、以下の説明においては、まず、要件１を満たす態様について説明する。
【0047】
（工程１）
工程１は、重合性基を有する液晶化合物を含む組成物層を基板上に形成する工程である。本工程を実施することにより、後述する光照射処理が施される組成物層が形成される。
以下では、まず、本工程で使用される材料について詳述し、その後、工程の手順について詳述する。
工程１は、重合性基を有する液晶化合物を含む組成物層を基板上に形成する工程である。本工程を実施することにより、後述する光照射処理が施される組成物層が形成される。
以下では、まず、本工程で使用される材料について詳述し、その後、工程の手順について詳述する。
【0048】
［重合性基を有する液晶化合物］
組成物層は、重合性基を有する液晶化合物を含む。
重合性基を有する液晶化合物の説明は、上述した通りである。
組成物層は、重合性基を有する液晶化合物を含む。
重合性基を有する液晶化合物の説明は、上述した通りである。
【0049】
組成物層中における液晶化合物の含有量は特に制限されないが、液晶化合物の配向状態を制御しやすい点で、組成物層の全質量に対して、６０質量％以上が好ましく、７０質量％以上がより好ましい。上限は特に制限されないが、９９質量％以下が好ましく、９７質量％以下がより好ましい。
【0050】
［その他の成分］
組成物層は、重合性基を有する液晶化合物以外の他の成分を含んでいてもよい。
組成物層は、重合性基を有する液晶化合物以外の他の成分を含んでいてもよい。
【0051】
組成物層は、例えば、光照射により螺旋誘起力が変化する感光性キラル剤を含んでいてもよい。組成物層が感光性キラル剤を含むことにより、後述するように、捩れ配向またはコレステリック配向した液晶化合物を固定してなる領域を形成できる。
なお、キラル剤の螺旋誘起力（ＨＴＰ）は、下記式（Ａ）で表される螺旋配向能力を示すファクターである。
式（Ａ） ＨＴＰ＝１／（螺旋ピッチの長さ（単位：μｍ）×液晶化合物に対するキラル剤の濃度（質量％））［μｍ-1］
螺旋ピッチの長さとは、コレステリック液晶相の螺旋構造のピッチＰ（＝螺旋の周期）の長さをいい、液晶便覧（丸善株式会社出版）の１９６ページに記載の方法で測定できる。
なお、キラル剤の螺旋誘起力（ＨＴＰ）は、下記式（Ａ）で表される螺旋配向能力を示すファクターである。
式（Ａ） ＨＴＰ＝１／（螺旋ピッチの長さ（単位：μｍ）×液晶化合物に対するキラル剤の濃度（質量％））［μｍ-1］
螺旋ピッチの長さとは、コレステリック液晶相の螺旋構造のピッチＰ（＝螺旋の周期）の長さをいい、液晶便覧（丸善株式会社出版）の１９６ページに記載の方法で測定できる。
【0052】
光照射により螺旋誘起力が変化する感光性キラル剤（以下、単に「キラル剤Ａ」ともいう。）は、液晶性であっても、非液晶性であってもよい。キラル剤Ａは、一般に不斉炭素原子を含む場合が多い。なお、キラル剤Ａは、不斉炭素原子を含まない軸性不斉化合物または面性不斉化合物であってもよい。
【0053】
キラル剤Ａは、光照射によって螺旋誘起力が増加するキラル剤であってもよいし、減少するキラル剤であってもよい。なかでも、光照射により螺旋誘起力が減少するキラル剤であることが好ましい。
なお、本明細書において「螺旋誘起力の増加および減少」とは、キラル剤Ａの初期（光照射前）の螺旋方向を「正」としたときの増減を表す。従って、光照射により螺旋誘起力が減少し続け、０を超えて螺旋方向が「負」となった場合（つまり、初期（光照射前）の螺旋方向とは逆の螺旋方向の螺旋を誘起する場合）にも、「螺旋誘起力が減少するキラル剤」に該当する。
なお、本明細書において「螺旋誘起力の増加および減少」とは、キラル剤Ａの初期（光照射前）の螺旋方向を「正」としたときの増減を表す。従って、光照射により螺旋誘起力が減少し続け、０を超えて螺旋方向が「負」となった場合（つまり、初期（光照射前）の螺旋方向とは逆の螺旋方向の螺旋を誘起する場合）にも、「螺旋誘起力が減少するキラル剤」に該当する。
【0054】
キラル剤Ａとしては、いわゆる光反応型キラル剤が挙げられる。光反応型キラル剤とは、キラル部位と光照射によって構造変化する光反応部位を有し、例えば、照射量に応じて液晶化合物の捩れ力を大きく変化させる化合物である。
光照射によって構造変化する光反応部位の例としては、フォトクロミック化合物（内田欣吾、入江正浩、化学工業、ｖｏｌ．６４、６４０ｐ，１９９９、内田欣吾、入江正浩、ファインケミカル、ｖｏｌ．２８（９）、１５ｐ，１９９９）などが挙げられる。また、上記構造変化とは、光反応部位への光照射により生ずる、分解、付加反応、異性化、ラセミ化、［２＋２］光環化および２量化反応などを意味し、上記構造変化は不可逆的であってもよい。また、キラル部位としては、例えば、野平博之、化学総説、Ｎｏ．２２液晶の化学、７３ｐ：１９９４に記載の不斉炭素などが相当する。
光照射によって構造変化する光反応部位の例としては、フォトクロミック化合物（内田欣吾、入江正浩、化学工業、ｖｏｌ．６４、６４０ｐ，１９９９、内田欣吾、入江正浩、ファインケミカル、ｖｏｌ．２８（９）、１５ｐ，１９９９）などが挙げられる。また、上記構造変化とは、光反応部位への光照射により生ずる、分解、付加反応、異性化、ラセミ化、［２＋２］光環化および２量化反応などを意味し、上記構造変化は不可逆的であってもよい。また、キラル部位としては、例えば、野平博之、化学総説、Ｎｏ．２２液晶の化学、７３ｐ：１９９４に記載の不斉炭素などが相当する。
【0055】
キラル剤Ａとしては、例えば、特開２００１－１５９７０９号公報の段落００４４～００４７に記載の光反応型キラル剤、特開２００２－１７９６６９号公報の段落００１９～００４３に記載の光学活性化合物、特開２００２－１７９６３３号公報の段落００２０～００４４に記載の光学活性化合物、特開２００２－１７９６７０号公報の段落００１６～００４０に記載の光学活性化合物、特開２００２－１７９６６８号公報の段落００１７～００５０に記載の光学活性化合物、特開２００２－１８００５１号公報の段落００１８～００４４に記載の光学活性化合物、特開２００２－３３８５７５号公報の段落００１６～００５５に記載の光学活性イソソルビド誘導体、特開２００２－０８０４７８号公報の段落００２３～００３２に記載の光反応型光学活性化合物、特開２００２－０８０８５１号公報の段落００１９～００２９に記載の光反応型カイラル剤、特開２００２－１７９６８１号公報の段落００２２～００４９に記載の光学活性化合物、特開２００２－３０２４８７号公報の段落００１５～００４４に記載の光学活性化合物、特開２００２－３３８６６８号公報の段落００１５～００５０に記載の光学活性ポリエステル、特開２００３－０５５３１５号公報の段落００１９～００４１に記載のビナフトール誘導体、特開２００３－０７３３８１号公報の段落０００８～００４３に記載の光学活性フルギド化合物、特開２００３－３０６４９０号公報の段落００１５～００５７に記載の光学活性イソソルビド誘導体、特開２００３－３０６４９１号公報の段落００１５～００４１に記載の光学活性イソソルビド誘導体、特開２００３－３１３１８７号公報の段落００１５～００４９に記載の光学活性イソソルビド誘導体、特開２００３－３１３１８８号公報の段落００１５～００５７に記載の光学活性イソマンニド誘導体、特開２００３－３１３１８９号公報の段落００１５～００４９に記載の光学活性イソソルビド誘導体、特開２００３－３１３２９２号公報の段落００１５～００５２に記載の光学活性ポリエステル／アミド、ＷＯ２０１８／１９４１５７号公報の段落００１２～００５３に記載の光学活性化合物、および、特開２００２－１７９６８２号公報の段落００２０～００４９に記載の光学活性化合物などが挙げられる。
【0056】
キラル剤Ａとしては、なかでも、光異性化部位を少なくとも有する化合物が好ましく、光異性化部位は光異性化可能な二重結合を有する化合物がより好ましい。上記光異性化可能な二重結合を有する光異性化部位としては、光異性化が起こりやすく、かつ、光照射前後の螺旋誘起力差が大きいという点で、シンナモイル部位、カルコン部位、アゾベンゼン部位またはスチルベン部位が好ましく、さらに可視光の吸収が小さいという点で、シンナモイル部位、カルコン部位またはスチルベン部位がより好ましい。なお、光異性化部位は、上述した光照射によって構造変化する光反応部位に該当する。
【0057】
キラル剤Ａは、ビナフチル部分構造、イソソルビド部分構造（イソソルビドに由来する部分構造）、および、イソマンニド部分構造（イソマンニドに由来する部分構造）から選ばれるいずれかの部分構造を有していることが好ましい。なお、ビナフチル部分構造、イソソルビド部分構造、および、イソマンニド部分構造とは、各々以下の構造を意図する。
ビナフチル部分構造中の実線と破線が平行している部分は、一重結合または二重結合を表す。なお、以下に示す構造において、＊は、結合位置を表す。
ビナフチル部分構造中の実線と破線が平行している部分は、一重結合または二重結合を表す。なお、以下に示す構造において、＊は、結合位置を表す。
【0058】
【化1】
【0059】
キラル剤Ａは、重合性基を有していてもよい。重合性基の種類は特に制限されず、付加重合反応が可能な官能基が好ましく、重合性エチレン性不飽和基または環重合性基がより好ましく、（メタ）アクリロイル基、ビニル基、スチリル基、または、アリル基がさらに好ましい。
【0060】
キラル剤Ａとしては、式（Ｃ）で表される化合物が好ましい。
式（Ｃ） Ｒ－Ｌ－Ｒ
Ｒは、それぞれ独立に、シンナモイル部位、カルコン部位、アゾベンゼン部位、および、スチルベン部位からなる群から選択される少なくとも１つの部位を有する基を表す。
Ｌは、式（Ｄ）で表される構造から２個の水素原子を除いた形成される２価の連結基（上記ビナフチル部分構造から２個の水素原子を除いて形成される２価の連結基）、式（Ｅ）で表される２価の連結基（上記イソソルビド部分構造からなる２価の連結基）、または、式（Ｆ）で表される２価の連結基（上記イソマンニド部分構造からなる２価の連結基）を表す。
式（Ｅ）および式（Ｆ）中、＊は結合位置を表す。
式（Ｃ） Ｒ－Ｌ－Ｒ
Ｒは、それぞれ独立に、シンナモイル部位、カルコン部位、アゾベンゼン部位、および、スチルベン部位からなる群から選択される少なくとも１つの部位を有する基を表す。
Ｌは、式（Ｄ）で表される構造から２個の水素原子を除いた形成される２価の連結基（上記ビナフチル部分構造から２個の水素原子を除いて形成される２価の連結基）、式（Ｅ）で表される２価の連結基（上記イソソルビド部分構造からなる２価の連結基）、または、式（Ｆ）で表される２価の連結基（上記イソマンニド部分構造からなる２価の連結基）を表す。
式（Ｅ）および式（Ｆ）中、＊は結合位置を表す。
【0061】
【化2】
【0062】
工程１は、キラル剤Ａを２種以上用いる態様であってもよいし、少なくとも１種のキラル剤Ａと少なくとも１種の光照射により螺旋誘起力が変化しないキラル剤（以下、単に「キラル剤Ｂ」ともいう。）とを用いる態様であってもよい。
キラル剤Ｂは、液晶性であっても、非液晶性であってもよい。キラル剤Ｂは、一般に不斉炭素原子を含む場合が多い。なお、キラル剤Ｂは、不斉炭素原子を含まない軸性不斉化合物または面性不斉化合物であってもよい。
キラル剤Ｂは重合性基を有していてもよい。重合性基の種類としては、キラル剤Ａが有していてもよい重合性基が挙げられる。
キラル剤Ｂとしては、公知のキラル剤を使用できる。
キラル剤Ｂは、上述したキラル剤Ａと逆向きの螺旋を誘起するキラル剤であることが好ましい。つまり、例えば、キラル剤Ａにより誘起する螺旋が右方向の場合には、キラル剤Ｂにより誘起する螺旋は左方向となる。
キラル剤Ｂは、液晶性であっても、非液晶性であってもよい。キラル剤Ｂは、一般に不斉炭素原子を含む場合が多い。なお、キラル剤Ｂは、不斉炭素原子を含まない軸性不斉化合物または面性不斉化合物であってもよい。
キラル剤Ｂは重合性基を有していてもよい。重合性基の種類としては、キラル剤Ａが有していてもよい重合性基が挙げられる。
キラル剤Ｂとしては、公知のキラル剤を使用できる。
キラル剤Ｂは、上述したキラル剤Ａと逆向きの螺旋を誘起するキラル剤であることが好ましい。つまり、例えば、キラル剤Ａにより誘起する螺旋が右方向の場合には、キラル剤Ｂにより誘起する螺旋は左方向となる。
【0063】
キラル剤Ａおよびキラル剤Ｂのモル吸光係数は特に制限されないが、後述する工程３で照射される光の波長（例えば、３６５ｎｍ）におけるモル吸光係数は１００～１００，０００Ｌ／（ｍｏｌ・ｃｍ）が好ましく、５００～５０，０００Ｌ／（ｍｏｌ・ｃｍ）がより好ましい。
【0064】
組成物層中のキラル剤Ａおよびキラル剤Ｂの各含有量は、形成しようとする光学異方性層の特性（例えば、レタデーションや波長分散）に応じて適宜設定され得る。なお、光学異方性層中の液晶化合物の捩れ角はキラル剤Ａおよびキラル剤Ｂの種類およびその添加濃度に大きく依存するため、これらを調節することによって液晶化合物の配向状態を制御することができる。
【0065】
組成物層中におけるキラル剤の合計含有量（全てのキラル剤の総含有量）は特に制限されないが、液晶化合物の配向状態を制御しやすい点で、液晶化合物の全質量に対して、５．０質量％以下が好ましく、４．０質量％以下がより好ましく、２．０質量％以下がさらに好ましい。下限は特に制限されないが、０．０１質量％以上が好ましく、０．０２質量％以上がより好ましく、０．０５質量％以上がさらに好ましい。
【0066】
キラル剤中におけるキラル剤Ａの含有量は特に制限されないが、液晶化合物の配向状態を制御しやすい点で、キラル剤の全質量に対して、５～９５質量％が好ましく、１０～９０質量％がより好ましい。
【0067】
また、組成物層は、重合開始剤を含んでいてもよい。組成物層が重合開始剤を含む場合、より効率的に重合性基を有する液晶化合物の重合が進行する。
重合開始剤としては公知の重合開始剤が挙げられ、光重合開始剤、および、熱重合開始剤が挙げられ、光重合開始剤が好ましい。特に、後述する工程５において照射される光に感光する重合開始剤が好ましい。
重合開始剤としては公知の重合開始剤が挙げられ、光重合開始剤、および、熱重合開始剤が挙げられ、光重合開始剤が好ましい。特に、後述する工程５において照射される光に感光する重合開始剤が好ましい。
【0068】
重合開始剤は、工程３において照射される光の波長のうち最大となるモル吸光係数が、工程５において照射される光の波長のうち最大となるモル吸光係数に対して、０．１倍以下であることが好ましい。
また、重合開始剤の工程３における光照射の波長におけるモル吸光係数は、５０００Ｌ／（ｍｏｌ・ｃｍ）以下が好ましく、４０００Ｌ／（ｍｏｌ・ｃｍ）以下がより好ましく、３０００Ｌ／（ｍｏｌ・ｃｍ）以下がさらに好ましい。下限は特に制限されず、０Ｌ／（ｍｏｌ・ｃｍ）が好ましいが、３０Ｌ／（ｍｏｌ・ｃｍ）以上の場合が多い。
組成物層中における重合開始剤の含有量は特に制限されないが、組成物層の全質量に対して、０．０１～２０質量％が好ましく、０．５～１０質量％がより好ましい。
また、重合開始剤の工程３における光照射の波長におけるモル吸光係数は、５０００Ｌ／（ｍｏｌ・ｃｍ）以下が好ましく、４０００Ｌ／（ｍｏｌ・ｃｍ）以下がより好ましく、３０００Ｌ／（ｍｏｌ・ｃｍ）以下がさらに好ましい。下限は特に制限されず、０Ｌ／（ｍｏｌ・ｃｍ）が好ましいが、３０Ｌ／（ｍｏｌ・ｃｍ）以上の場合が多い。
組成物層中における重合開始剤の含有量は特に制限されないが、組成物層の全質量に対して、０．０１～２０質量％が好ましく、０．５～１０質量％がより好ましい。
【0069】
組成物層は、光増感剤を含んでいてもよい。
光増感剤の種類は特に制限されず、公知の光増感剤が挙げられる。
なお、光増感剤の工程３における光照射の波長におけるモル吸光係数は、５０００Ｌ／（ｍｏｌ・ｃｍ）以下が好ましく、４８００Ｌ／（ｍｏｌ・ｃｍ）以下がより好ましく、４５００Ｌ／（ｍｏｌ・ｃｍ）以下がさらに好ましい。下限は特に制限されず、０Ｌ／（ｍｏｌ・ｃｍ）が好ましいが、３０Ｌ／（ｍｏｌ・ｃｍ）以上の場合が多い。
組成物層中における光増感剤の含有量は特に制限されないが、組成物層の全質量に対して、０．０１～２０質量％が好ましく、０．５～１０質量％がより好ましい。
光増感剤の種類は特に制限されず、公知の光増感剤が挙げられる。
なお、光増感剤の工程３における光照射の波長におけるモル吸光係数は、５０００Ｌ／（ｍｏｌ・ｃｍ）以下が好ましく、４８００Ｌ／（ｍｏｌ・ｃｍ）以下がより好ましく、４５００Ｌ／（ｍｏｌ・ｃｍ）以下がさらに好ましい。下限は特に制限されず、０Ｌ／（ｍｏｌ・ｃｍ）が好ましいが、３０Ｌ／（ｍｏｌ・ｃｍ）以上の場合が多い。
組成物層中における光増感剤の含有量は特に制限されないが、組成物層の全質量に対して、０．０１～２０質量％が好ましく、０．５～１０質量％がより好ましい。
【0070】
組成物層は、重合性基を有する液晶化合物とは異なる重合性モノマーを含んでいてもよい。重合性モノマーとしては、ラジカル重合性化合物、および、カチオン重合性化合物が挙げられ、多官能性ラジカル重合性モノマーが好ましい。重合性モノマーとしては、例えば、特開２００２－２９６４２３号公報中の段落００１８～００２０に記載の重合性モノマーが挙げられる。
組成物層中の重合性モノマーの含有量は特に制限されないが、液晶化合物全質量に対して、１～５０質量％が好ましく、５～３０質量％がより好ましい。
組成物層中の重合性モノマーの含有量は特に制限されないが、液晶化合物全質量に対して、１～５０質量％が好ましく、５～３０質量％がより好ましい。
【0071】
組成物層は、界面活性剤を含んでいてもよい。界面活性剤としては、従来公知の化合物が挙げられるが、フッ素系化合物が好ましい。具体的には、例えば、特開２００１－３３０７２５号公報中の段落００２８～００５６に記載の化合物、および、特願２００３－２９５２１２号公報中の段落００６９～０１２６に記載の化合物が挙げられる。
【0072】
組成物層は、ポリマーを含んでいてもよい。ポリマーとしては、セルロースエステルが挙げられる。セルロースエステルとしては、特開２０００－１５５２１６号公報中の段落０１７８に記載のものが挙げられる。
組成物層中のポリマーの含有量は特に制限されないが、液晶化合物全質量に対して、０．１～１０質量％が好ましく、０．１～８質量％がより好ましい。
組成物層中のポリマーの含有量は特に制限されないが、液晶化合物全質量に対して、０．１～１０質量％が好ましく、０．１～８質量％がより好ましい。
【0073】
組成物層は、上記以外にも、液晶化合物を水平配向状態または垂直配向状態とするために、水平配向または垂直配向を促進する添加剤（配向制御剤）を含んでいてもよい。
【0074】
［基板］
後述するように、組成物層を形成する際には、基板上に組成物層を形成することが好ましい。
基板は、組成物層を支持する板である。
基板としては、透明基板が好ましい。なお、透明基板とは、可視光の透過率が６０％以上である基板を意図し、その透過率は８０％以上が好ましく、９０％以上がより好ましい。
後述するように、組成物層を形成する際には、基板上に組成物層を形成することが好ましい。
基板は、組成物層を支持する板である。
基板としては、透明基板が好ましい。なお、透明基板とは、可視光の透過率が６０％以上である基板を意図し、その透過率は８０％以上が好ましく、９０％以上がより好ましい。
【0075】
基板の波長５５０ｎｍにおける厚み方向のレタデーション値（Ｒｔｈ（５５０））は特に制限されないが、－１１０～１１０ｎｍが好ましく、－８０～８０ｎｍがより好ましい。
基板の波長５５０ｎｍにおける面内のレタデーション値（Ｒｅ（５５０））は特に制限されないが、０～５０ｎｍが好ましく、０～３０ｎｍがより好ましく、０～１０ｎｍがさらに好ましい。
基板の波長５５０ｎｍにおける面内のレタデーション値（Ｒｅ（５５０））は特に制限されないが、０～５０ｎｍが好ましく、０～３０ｎｍがより好ましく、０～１０ｎｍがさらに好ましい。
【0076】
基板を形成する材料としては、光学性能透明性、機械的強度、熱安定性、水分遮蔽性、および、等方性などに優れるポリマーが好ましい。
基板として用いることのできるポリマーフィルムとしては、例えば、セルロースアシレートフィルム（例えば、セルローストリアセテートフィルム（屈折率１．４８）、セルロースジアセテートフィルム、セルロースアセテートブチレートフィルム、セルロースアセテートプロピオネートフィルム）、ポリエチレンおよびポリプロピレンなどのポリオレフィンフィルム、ポリエチレンテレフタレートおよびポリエチレンナフタレートなどのポリエステルフィルム、ポリエーテルスルホンフィルム、ポリメチルメタクリレートなどのポリアクリルフィルム、ポリウレタンフィルム、ポリカーボネートフィルム、ポリスルホンフィルム、ポリエーテルフィルム、ポリメチルペンテンフィルム、ポリエーテルケトンフィルム、（メタ）アクリルニトリルフィルム、並びに、脂環式構造を有するポリマーのフィルム（ノルボルネン系樹脂（アートン：商品名、ＪＳＲ社製、非晶質ポリオレフィン（ゼオネックス：商品名、日本ゼオン社製）））が挙げられる。
なかでも、ポリマーフィルムの材料としては、トリアセチルセルロース、ポリエチレンテレフタレート、または、脂環式構造を有するポリマーが好ましく、トリアセチルセルロースがより好ましい。
基板として用いることのできるポリマーフィルムとしては、例えば、セルロースアシレートフィルム（例えば、セルローストリアセテートフィルム（屈折率１．４８）、セルロースジアセテートフィルム、セルロースアセテートブチレートフィルム、セルロースアセテートプロピオネートフィルム）、ポリエチレンおよびポリプロピレンなどのポリオレフィンフィルム、ポリエチレンテレフタレートおよびポリエチレンナフタレートなどのポリエステルフィルム、ポリエーテルスルホンフィルム、ポリメチルメタクリレートなどのポリアクリルフィルム、ポリウレタンフィルム、ポリカーボネートフィルム、ポリスルホンフィルム、ポリエーテルフィルム、ポリメチルペンテンフィルム、ポリエーテルケトンフィルム、（メタ）アクリルニトリルフィルム、並びに、脂環式構造を有するポリマーのフィルム（ノルボルネン系樹脂（アートン：商品名、ＪＳＲ社製、非晶質ポリオレフィン（ゼオネックス：商品名、日本ゼオン社製）））が挙げられる。
なかでも、ポリマーフィルムの材料としては、トリアセチルセルロース、ポリエチレンテレフタレート、または、脂環式構造を有するポリマーが好ましく、トリアセチルセルロースがより好ましい。
【0077】
基板には、種々の添加剤（例えば、光学的異方性調整剤、波長分散調整剤、微粒子、可塑剤、紫外線防止剤、劣化防止剤、剥離剤、など）が含まれていてもよい。
【0078】
基板の厚みは特に制限されないが、１０～２００μｍが好ましく、１０～１００μｍがより好ましく、２０～９０μｍがさらに好ましい。また、基板は複数枚の積層からなっていてもよい。基板はその上に設けられる層との接着を改善するため、基板の表面に表面処理（例えば、グロー放電処理、コロナ放電処理、紫外線（ＵＶ）処理、火炎処理）を実施してもよい。
また、基板の上に、接着層（下塗り層）を設けてもよい。
また、基板には、搬送工程でのすべり性を付与したり、巻き取った後の裏面と表面の貼り付きを防止したりするために、平均粒径が１０～１００ｎｍ程度の無機粒子を固形分質量比で５～４０質量％混合したポリマー層を基板の片側に配置してもよい。
また、基板の上に、接着層（下塗り層）を設けてもよい。
また、基板には、搬送工程でのすべり性を付与したり、巻き取った後の裏面と表面の貼り付きを防止したりするために、平均粒径が１０～１００ｎｍ程度の無機粒子を固形分質量比で５～４０質量％混合したポリマー層を基板の片側に配置してもよい。
【0079】
基板は、いわゆる仮支持体であってもよい。つまり、本発明の製造方法を実施した後、基板を光学異方性層から剥離してもよい。
【0080】
また、基板の表面に直接ラビング処理を施してもよい。つまり、ラビング処理が施された基板を用いてもよい。ラビング処理の方向は特に制限されず、液晶化合物を配向させたい方向に応じて、適宜、最適な方向が選択される。
ラビング処理は、ＬＣＤ（liquid crystal display）の液晶配向処理工程として広く採用されている処理方法を適用できる。即ち、基板の表面を、紙、ガーゼ、フェルト、ゴム、ナイロン繊維、または、ポリエステル繊維などを用いて一定方向に擦ることにより、配向を得る方法を用いることができる。
ラビング処理は、ＬＣＤ（liquid crystal display）の液晶配向処理工程として広く採用されている処理方法を適用できる。即ち、基板の表面を、紙、ガーゼ、フェルト、ゴム、ナイロン繊維、または、ポリエステル繊維などを用いて一定方向に擦ることにより、配向を得る方法を用いることができる。
【0081】
基板上には、配向膜が配置されていてもよい。
配向膜は、有機化合物（好ましくはポリマー）のラビング処理、無機化合物の斜方蒸着、マイクログルーブを有する層の形成、または、ラングミュア・ブロジェット法（ＬＢ膜）による有機化合物（例、ω－トリコサン酸、ジオクタデシルメチルアンモニウムクロライド、ステアリル酸メチル）の累積のような手段で形成できる。
さらに、電場の付与、磁場の付与、または、光照射（好ましくは偏光）により、配向機能が生じる配向膜も知られている。
配向膜は、ポリマーのラビング処理により形成することが好ましい。
配向膜は、有機化合物（好ましくはポリマー）のラビング処理、無機化合物の斜方蒸着、マイクログルーブを有する層の形成、または、ラングミュア・ブロジェット法（ＬＢ膜）による有機化合物（例、ω－トリコサン酸、ジオクタデシルメチルアンモニウムクロライド、ステアリル酸メチル）の累積のような手段で形成できる。
さらに、電場の付与、磁場の付与、または、光照射（好ましくは偏光）により、配向機能が生じる配向膜も知られている。
配向膜は、ポリマーのラビング処理により形成することが好ましい。
【0082】
配向膜に含まれるポリマーとしては、例えば、特開平８－３３８９１３号公報中の段落００２２に記載のメタクリレート系共重合体、スチレン系共重合体、ポリオレフィン、ポリビニルアルコールおよび変性ポリビニルアルコール、ポリ（Ｎ－メチロールアクリルアミド）、ポリエステル、ポリイミド、酢酸ビニル共重合体、カルボキシメチルセルロース、並びに、ポリカーボネートが挙げられる。また、シランカップリング剤をポリマーとして用いることもできる。
なかでも、水溶性ポリマー（例、ポリ（Ｎ－メチロールアクリルアミド）、カルボキシメチルセルロース、ゼラチン、ポリビニルアルコール、および、変性ポリビニルアルコール）が好ましく、ゼラチン、ポリビニルアルコールまたは変性ポリビニルアルコールがより好ましく、ポリビニルアルコールまたは変性ポリビニルアルコールがさらに好ましい。
なかでも、水溶性ポリマー（例、ポリ（Ｎ－メチロールアクリルアミド）、カルボキシメチルセルロース、ゼラチン、ポリビニルアルコール、および、変性ポリビニルアルコール）が好ましく、ゼラチン、ポリビニルアルコールまたは変性ポリビニルアルコールがより好ましく、ポリビニルアルコールまたは変性ポリビニルアルコールがさらに好ましい。
【0083】
上述したように、配向膜は、配向膜形成材料である上記ポリマーおよび任意の添加剤（例えば、架橋剤）を含む溶液を基板上に塗布した後、加熱乾燥（架橋させ）し、ラビング処理することにより形成できる。
【0084】
［工程１の手順］
工程１では、上述した成分を含む組成物層を形成するが、その手順は特に制限されない。例えば、上述した重合性基を有する液晶化合物を含む組成物を基板上に塗布して、必要に応じて乾燥処理を施す方法（以下、単に「塗布方法」ともいう。）、および、別途組成物層を形成して基板上に転写する方法が挙げられる。なかでも、生産性の点からは、塗布方法が好ましい。
以下、塗布方法について詳述する。
工程１では、上述した成分を含む組成物層を形成するが、その手順は特に制限されない。例えば、上述した重合性基を有する液晶化合物を含む組成物を基板上に塗布して、必要に応じて乾燥処理を施す方法（以下、単に「塗布方法」ともいう。）、および、別途組成物層を形成して基板上に転写する方法が挙げられる。なかでも、生産性の点からは、塗布方法が好ましい。
以下、塗布方法について詳述する。
【0085】
塗布方法で使用される組成物には、上述した重合性基を有する液晶化合物、および、その他必要に応じて用いられる他の成分（例えば、キラル剤、重合開始剤、重合性モノマー、界面活性剤、および、ポリマーなど）が含まれる。
組成物中の各成分の含有量は、上述した組成物層中の各成分の含有量となるように調整されることが好ましい。
組成物中の各成分の含有量は、上述した組成物層中の各成分の含有量となるように調整されることが好ましい。
【0086】
塗布方法は特に制限されず、例えば、ワイヤーバーコーティング法、押し出しコーティング法、ダイレクトグラビアコーティング法、リバースグラビアコーティング法、および、ダイコーティング法が挙げられる。
なお、必要に応じて、組成物の塗布後に、基板上に塗布された組成物層を乾燥する処理を実施してもよい。乾燥処理を実施することにより、組成物層から溶媒を除去できる。
なお、必要に応じて、組成物の塗布後に、基板上に塗布された組成物層を乾燥する処理を実施してもよい。乾燥処理を実施することにより、組成物層から溶媒を除去できる。
【0087】
組成物層の膜厚は特に制限されないが、０．１～２０μｍが好ましく、０．２～１５μｍがより好ましく、０．５～１０μｍがさらに好ましい。
【0088】
（工程２）
工程２は、組成物層に加熱処理を施して、組成物層中の液晶化合物を配向させる工程である。本工程を実施することにより、組成物層中の液晶化合物が所定の配向状態となる。例えば、図６に示すように、基板２０上に、液晶化合物ＬＣがホモジニアス配向した組成物層２２が形成される。
工程２は、組成物層に加熱処理を施して、組成物層中の液晶化合物を配向させる工程である。本工程を実施することにより、組成物層中の液晶化合物が所定の配向状態となる。例えば、図６に示すように、基板２０上に、液晶化合物ＬＣがホモジニアス配向した組成物層２２が形成される。
【0089】
加熱処理の条件としては、使用される液晶化合物に応じて最適な条件が選択され、液晶化合物の固体から液晶相への相転移温度以上が好ましい。
なかでも、加熱温度としては、２５～２５０℃の場合が多く、４０～１５０℃の場合がより多く、５０～１３０℃の場合がさらに多い。
加熱時間としては、０．１～６０分間の場合が多く、０．２～５分間の場合がより多い。
なかでも、加熱温度としては、２５～２５０℃の場合が多く、４０～１５０℃の場合がより多く、５０～１３０℃の場合がさらに多い。
加熱時間としては、０．１～６０分間の場合が多く、０．２～５分間の場合がより多い。
【0090】
（工程３）
工程３は、工程２の後、酸素濃度１体積％以上の条件下にて、組成物層に対して光照射を行う工程である。
図７に示すように、上述した工程３では酸素濃度１体積％以上の条件下にて、基板２０の組成物層２２側とは反対側の方向（図７中の白抜き矢印の方向）から光照射を行う。なお、図７では光照射は基板２０側から実施されているが、組成物層２２側から実施されてもよい。
その際、組成物層２２の基板２０側の下側領域２２Ａと、基板２０側とは反対側の上側領域２２Ｂとを比較すると、上側領域２２Ｂの表面のほうが空気側にあるため、上側領域２２Ｂ中の酸素濃度が高く、下側領域２２Ａ中の酸素濃度は低い。そのため、組成物層２２に対して光照射がなされると、下側領域２２Ａにおいては液晶化合物の重合が進行しやすく、液晶化合物の配向状態が固定される。
また、上側領域２２Ｂにおいては酸素濃度が高いため、光照射がなされても、液晶化合物の重合が酸素により阻害され、重合が進行しにくい。
つまり、工程３を実施することにより、組成物層の基板側の領域（下側領域）においては液晶化合物の配向状態の固定化が進行しやすい。また、組成物層の基板側と反対側の領域（上側領域）においては、液晶化合物の配向状態の固定化は進行しづらく、後述する要件１～４のいずれかを実施することにより液晶化合物が等方相を形成できる。
工程３は、工程２の後、酸素濃度１体積％以上の条件下にて、組成物層に対して光照射を行う工程である。
図７に示すように、上述した工程３では酸素濃度１体積％以上の条件下にて、基板２０の組成物層２２側とは反対側の方向（図７中の白抜き矢印の方向）から光照射を行う。なお、図７では光照射は基板２０側から実施されているが、組成物層２２側から実施されてもよい。
その際、組成物層２２の基板２０側の下側領域２２Ａと、基板２０側とは反対側の上側領域２２Ｂとを比較すると、上側領域２２Ｂの表面のほうが空気側にあるため、上側領域２２Ｂ中の酸素濃度が高く、下側領域２２Ａ中の酸素濃度は低い。そのため、組成物層２２に対して光照射がなされると、下側領域２２Ａにおいては液晶化合物の重合が進行しやすく、液晶化合物の配向状態が固定される。
また、上側領域２２Ｂにおいては酸素濃度が高いため、光照射がなされても、液晶化合物の重合が酸素により阻害され、重合が進行しにくい。
つまり、工程３を実施することにより、組成物層の基板側の領域（下側領域）においては液晶化合物の配向状態の固定化が進行しやすい。また、組成物層の基板側と反対側の領域（上側領域）においては、液晶化合物の配向状態の固定化は進行しづらく、後述する要件１～４のいずれかを実施することにより液晶化合物が等方相を形成できる。
【0091】
工程３は、酸素濃度１体積％以上の条件下にて実施される。なかでも、本発明の光学素子を製造しやすい点で、酸素濃度は２体積％以上が好ましく、５体積％以上がより好ましい。上限は特に制限されないが、１００体積％が挙げられる。
【0092】
工程３における光照射の照射量は特に制限されないが、所定の光学異方性層が形成されやすい点で、３００ｍＪ／ｃｍ2以下が好ましく、２００ｍＪ／ｃｍ2以下がより好ましく、１００Ｊ／ｃｍ2未満がさらに好ましい。下限としては、所定の光学異方性層が形成されやすい点で、１０ｍＪ／ｃｍ2以上が好ましく、３０ｍＪ／ｃｍ2以上がより好ましい。
なお、工程３での光照射は、１５～７０℃（好ましくは、１５～５０℃）にて実施されることが好ましい。
なお、工程３での光照射は、１５～７０℃（好ましくは、１５～５０℃）にて実施されることが好ましい。
【0093】
光照射に使用される光は、組成物層の基板側の領域（下側領域）において液晶化合物の配向状態の固定化が進行する光であれば特に制限されない。例えば、水銀灯の輝線スペクトル、エキシマレーザーに代表される遠紫外線、極紫外線、Ｘ線、紫外線、および、電子線が挙げられる。なかでも、紫外線が好ましい。
【0094】
（工程４）
工程４は、表面に凹凸構造を有する金型を、組成物層の基板側とは反対側の表面に押し当てて金型の凹凸構造を組成物層に転写する工程である。本工程では、図８に示すように、支持体２６上に複数の凸部２８が配置された、表面に凹凸構造を有する金型２４を用意して、図９に示すように金型２４を組成物層２２に押し当てて金型の凹凸構造を組成物層２２に転写する。
なお、本態様では、上述したように要件１を満たすことから、この工程４を、組成物層を構成する組成物の液晶相から等方相への相転移温度以上の加熱条件下にて実施する。上記加熱処理を実施することにより、組成物層２２の上側領域２２Ｂでは図示しない液晶化合物の配向状態が固定されていないため、その配向状態が乱され、等方相へと変化する。それに対して、組成物層２２の下側領域２２Ａにおいては、上述したように、上記工程３によって液晶化合物ＬＣの配向状態が固定されため、上記加熱処理を実施しても、液晶化合物ＬＣの配向状態は変化しない。
工程４は、表面に凹凸構造を有する金型を、組成物層の基板側とは反対側の表面に押し当てて金型の凹凸構造を組成物層に転写する工程である。本工程では、図８に示すように、支持体２６上に複数の凸部２８が配置された、表面に凹凸構造を有する金型２４を用意して、図９に示すように金型２４を組成物層２２に押し当てて金型の凹凸構造を組成物層２２に転写する。
なお、本態様では、上述したように要件１を満たすことから、この工程４を、組成物層を構成する組成物の液晶相から等方相への相転移温度以上の加熱条件下にて実施する。上記加熱処理を実施することにより、組成物層２２の上側領域２２Ｂでは図示しない液晶化合物の配向状態が固定されていないため、その配向状態が乱され、等方相へと変化する。それに対して、組成物層２２の下側領域２２Ａにおいては、上述したように、上記工程３によって液晶化合物ＬＣの配向状態が固定されため、上記加熱処理を実施しても、液晶化合物ＬＣの配向状態は変化しない。
【0095】
本工程で使用される金型は、形成したい光学等方性部材の凸部の形状に合わせて、適宜最適な形状の金型が採用される。
【0096】
上述した要件１（工程４を、組成物層を構成する組成物の液晶相から等方相への相転移温度以上の加熱条件下にて実施する）を実施する際の加熱条件としては、組成物層を構成する組成物の液晶相から等方相への相転移温度以上であればよく、上記相転移温度よりも５℃以上高いことが好ましい。上限は特に制限されないが、上記相転移温度よりも１００℃高い温度以下であることが好ましい。
【0097】
なお、金型の凹凸構造を組成物層に転写した後は、適宜、金型は剥離してもよい。また、後述する工程５を実施した後、金型を剥離してもよい。
【0098】
（工程５）
工程５は、組成物層に対して硬化処理を施し、基板側から、光学異方性層と、光学異方性層側とは反対側に突出する凸部を有する光学等方性部材とを有する光学素子を形成する工程である。本工程を実施することにより、図１０に示すような、光学異方性層１２と、凸部１６Ｃを有する光学等方性部材１４Ｃとを有する光学素子１０Ｃが形成される。なお、図１０の態様においては、光学異方性層１２は、ホモジニアス配向した液晶化合物を固定してなる層である。
工程５は、組成物層に対して硬化処理を施し、基板側から、光学異方性層と、光学異方性層側とは反対側に突出する凸部を有する光学等方性部材とを有する光学素子を形成する工程である。本工程を実施することにより、図１０に示すような、光学異方性層１２と、凸部１６Ｃを有する光学等方性部材１４Ｃとを有する光学素子１０Ｃが形成される。なお、図１０の態様においては、光学異方性層１２は、ホモジニアス配向した液晶化合物を固定してなる層である。
【0099】
硬化処理の方法は特に制限されず、光硬化処理および熱硬化処理が挙げられる。
熱硬化処理の温度条件は特に制限されず、重合性基を有する液晶化合物の重合反応を実施できればよく、２０～２００℃が好ましく、５０～１８０℃がより好ましい。
熱硬化処理の加熱時間は特に制限されないが、３０～６００秒間が好ましく、６０～３００秒間がより好ましい。
光硬化処理としては、紫外線照射処理が好ましい。
紫外線照射には、紫外線ランプなどの光源が利用される。
光（例えば、紫外線）の照射量は特に制限されないが、一般的には、１００～１０００ｍＪ／ｃｍ2程度が好ましく、３００ｍＪ／ｃｍ2超１０００ｍＪ／ｃｍ2以下がより好ましい。
光硬化処理を実施する場合には、酸素濃度１体積％未満（好ましくは、酸素濃度０．１体積％以下）の条件下にて実施することが好ましい。酸素濃度の下限は特に制限されないが、０体積％が挙げられる。
熱硬化処理の温度条件は特に制限されず、重合性基を有する液晶化合物の重合反応を実施できればよく、２０～２００℃が好ましく、５０～１８０℃がより好ましい。
熱硬化処理の加熱時間は特に制限されないが、３０～６００秒間が好ましく、６０～３００秒間がより好ましい。
光硬化処理としては、紫外線照射処理が好ましい。
紫外線照射には、紫外線ランプなどの光源が利用される。
光（例えば、紫外線）の照射量は特に制限されないが、一般的には、１００～１０００ｍＪ／ｃｍ2程度が好ましく、３００ｍＪ／ｃｍ2超１０００ｍＪ／ｃｍ2以下がより好ましい。
光硬化処理を実施する場合には、酸素濃度１体積％未満（好ましくは、酸素濃度０．１体積％以下）の条件下にて実施することが好ましい。酸素濃度の下限は特に制限されないが、０体積％が挙げられる。
【0100】
なお、上記では、要件１の態様について説明したが、本発明は要件１の代わりに要件２～４のいずれかを満たしていてもよい。
例えば、要件２では、工程５を、組成物層を構成する組成物の液晶相から等方相への相転移温度以上の加熱条件下にて実施する。より具体的には、工程５の硬化処理として、組成物層を構成する組成物の液晶相から等方相への相転移温度以上の加熱条件で実施される熱硬化処理を採用することにより、要件２を満たすことができる。要件２を満たす場合、上述した要件１を満たす場合と同様に、組成物層の上側領域の液晶化合物の配向状態が乱され、等方相へと変化し、結果として、所望の光学素子を形成できる。
要件２を満たす場合、工程５での熱硬化処理の温度は、組成物層を構成する組成物の液晶相から等方相への相転移温度より５℃以上高いことが好ましい。上限は特に制限されないが、上記相転移温度よりも１００℃高い温度以下であることが好ましい。
例えば、要件２では、工程５を、組成物層を構成する組成物の液晶相から等方相への相転移温度以上の加熱条件下にて実施する。より具体的には、工程５の硬化処理として、組成物層を構成する組成物の液晶相から等方相への相転移温度以上の加熱条件で実施される熱硬化処理を採用することにより、要件２を満たすことができる。要件２を満たす場合、上述した要件１を満たす場合と同様に、組成物層の上側領域の液晶化合物の配向状態が乱され、等方相へと変化し、結果として、所望の光学素子を形成できる。
要件２を満たす場合、工程５での熱硬化処理の温度は、組成物層を構成する組成物の液晶相から等方相への相転移温度より５℃以上高いことが好ましい。上限は特に制限されないが、上記相転移温度よりも１００℃高い温度以下であることが好ましい。
【0101】
また、要件３では、工程３と工程４との間に、組成物層を構成する組成物の液晶相から等方相への相転移温度以上に組成物層を加熱する工程６をさらに有する。
さらに、要件４では、工程４と工程５との間に、組成物層を構成する組成物の液晶相から等方相への相転移温度以上に組成物層を加熱する工程７をさらに有する。
上記工程６または７を実施することにより、要件１および２と同様に、組成物層の上側領域の液晶化合物の配向状態が乱され、等方相へと変化し、結果として、所望の光学素子を形成できる。
工程６および７の熱硬化処理の温度は、組成物層を構成する組成物の液晶相から等方相への相転移温度より５℃以上高いことが好ましい。上限は特に制限されないが、上記相転移温度よりも１００℃高い温度以下であることが好ましい。
さらに、要件４では、工程４と工程５との間に、組成物層を構成する組成物の液晶相から等方相への相転移温度以上に組成物層を加熱する工程７をさらに有する。
上記工程６または７を実施することにより、要件１および２と同様に、組成物層の上側領域の液晶化合物の配向状態が乱され、等方相へと変化し、結果として、所望の光学素子を形成できる。
工程６および７の熱硬化処理の温度は、組成物層を構成する組成物の液晶相から等方相への相転移温度より５℃以上高いことが好ましい。上限は特に制限されないが、上記相転移温度よりも１００℃高い温度以下であることが好ましい。
【0102】
上記では、光学異方性層が１つの液晶化合物の配向状態を固定してなる層である態様について説明したが、上記製造方法では、厚み方向に沿って、液晶化合物の配向状態が異なる領域を複数有する光学異方性層を形成することもできる。
例えば、以下では、厚み方向に沿って延びる螺旋軸に沿って捩れ配向した液晶化合物の配向状態を固定してなる第１領域と、ホモジニアス配向した液晶化合物の配向状態を固定してなる第２領域とを、厚み方向に沿って有する光学異方性層を形成する態様について説明する。
例えば、以下では、厚み方向に沿って延びる螺旋軸に沿って捩れ配向した液晶化合物の配向状態を固定してなる第１領域と、ホモジニアス配向した液晶化合物の配向状態を固定してなる第２領域とを、厚み方向に沿って有する光学異方性層を形成する態様について説明する。
【0103】
上記のような光学異方性層を形成する際には、キラル剤Ａおよびキラル剤Ｂをさらに含む組成物層を用いる方法がある。
この方法において、工程１で得られる組成物層中のキラル剤の加重平均螺旋誘起力の絶対値は、０．０～１．９μｍ-1であることが好ましく、０．０～１．５μｍ-1であることがより好ましく、０．０～１．０μｍ-1であることがさらに好ましく、０．０～０．５μｍ-1であることが特に好ましく、０．０～０．０２μｍ-1であることがより特に好ましく、０が最も好ましい。
この方法において、工程１で得られる組成物層中のキラル剤の加重平均螺旋誘起力の絶対値は、０．０～１．９μｍ-1であることが好ましく、０．０～１．５μｍ-1であることがより好ましく、０．０～１．０μｍ-1であることがさらに好ましく、０．０～０．５μｍ-1であることが特に好ましく、０．０～０．０２μｍ-1であることがより特に好ましく、０が最も好ましい。
【0104】
なお、キラル剤の加重平均螺旋誘起力とは、組成物中に２種以上のキラル剤が含まれる場合に、組成物層中に含まれる各キラル剤の螺旋誘起力と各キラル剤の組成物層中における濃度（質量％）との積を組成物層中におけるキラル剤の合計濃度（質量％）で除した値の合計値を表す。例えば、２種類のキラル剤（キラル剤Ｘおよびキラル剤Ｙ）を併用した場合、下記式（Ｙ）により表される。
式（Ｙ） 加重平均螺旋誘起力（μｍ-1）＝（キラル剤Ｘの螺旋誘起力（μｍ-1）×組成物層中におけるキラル剤Ｘの濃度（質量％）＋キラル剤Ｙの螺旋誘起力（μｍ-1）×組成物層中におけるキラル剤Ｙの濃度（質量％））／（組成物層中におけるキラル剤Ｘの濃度（質量％）＋組成物層中におけるキラル剤Ｙの濃度（質量％））
ただし、上記式（Ｙ）において、キラル剤の螺旋方向が右巻きの場合、その螺旋誘起力は正の値とする。また、キラル剤の螺旋方向が左巻きの場合、その螺旋誘起力は負の値とする。つまり、例えば、螺旋誘起力が１０μｍ-1のキラル剤の場合、上記キラル剤により誘起される螺旋の螺旋方向が右巻きであるときは、螺旋誘起力を１０μｍ-1として表す。一方、上記キラル剤により誘起される螺旋の螺旋方向が左巻きであるときは、螺旋誘起力を－１０μｍ-1として表す。
式（Ｙ） 加重平均螺旋誘起力（μｍ-1）＝（キラル剤Ｘの螺旋誘起力（μｍ-1）×組成物層中におけるキラル剤Ｘの濃度（質量％）＋キラル剤Ｙの螺旋誘起力（μｍ-1）×組成物層中におけるキラル剤Ｙの濃度（質量％））／（組成物層中におけるキラル剤Ｘの濃度（質量％）＋組成物層中におけるキラル剤Ｙの濃度（質量％））
ただし、上記式（Ｙ）において、キラル剤の螺旋方向が右巻きの場合、その螺旋誘起力は正の値とする。また、キラル剤の螺旋方向が左巻きの場合、その螺旋誘起力は負の値とする。つまり、例えば、螺旋誘起力が１０μｍ-1のキラル剤の場合、上記キラル剤により誘起される螺旋の螺旋方向が右巻きであるときは、螺旋誘起力を１０μｍ-1として表す。一方、上記キラル剤により誘起される螺旋の螺旋方向が左巻きであるときは、螺旋誘起力を－１０μｍ-1として表す。
【0105】
工程１により形成される組成物層中のキラル剤の加重平均螺旋誘起力の絶対値が０である場合には、工程２を実施することにより、図１１に示すように、基板３０上に、液晶化合物ＬＣがホモジニアス配向した組成物層３２が形成される。なお、図１１に示す組成物層３２にはキラル剤Ａとキラル剤Ｂとが同濃度で存在しており、キラル剤Ａにより誘起される螺旋方向が左巻きであり、キラル剤Ｂにより誘起される螺旋方向が右巻きであるとする。また、キラル剤Ａの螺旋誘起力の絶対値と、キラル剤Ｂの螺旋誘起力の絶対値は同じとする。
【0106】
次に、上述した工程３を実施すると、上述した態様と同様に、図１２に示すように、組成物層３２の基板３０側の下側領域３２Ａと、基板３０側とは反対側の上側領域３２Ｂとを比較すると、上側領域３２Ｂの表面のほうが空気側にあるため、上側領域３２Ｂ中の酸素濃度が高く、下側領域３２Ａ中の酸素濃度は低い。そのため、組成物層３２に対して光照射がなされると、下側領域３２Ａにおいては液晶化合物の重合が進行しやすく、液晶化合物の配向状態が固定される。なお、下側領域３２Ａにおいてもキラル剤Ａが存在しており、キラル剤Ａも感光し、螺旋誘起力が変化する。しかしながら、下側領域３２Ａでは液晶化合物の配向状態が固定されているため、要件１～４のいずれかを実施しても、液晶化合物の配向状態の変化は生じない。
また、上側領域３２Ｂにおいては酸素濃度が高いため、光照射がなされても、液晶化合物の重合が酸素により阻害され、重合が進行しにくい。そして、上側領域３２Ｂにおいてもキラル剤Ａが存在しているため、キラル剤Ａが感光し、螺旋誘起力が変化する。そのため、後述する工程８を実施すると、変化した螺旋誘起力に沿って液晶化合物の配向状態が変化する。
つまり、工程３を実施することにより、組成物層の基板側の領域（下側領域）においては液晶化合物の配向状態の固定化が進行しやすい。また、組成物層の基板側と反対側の領域（上側領域）においては、液晶化合物の配向状態の固定化は進行しづらく、感光したキラル剤Ａに応じて螺旋誘起力が変化する状態となる。
また、上側領域３２Ｂにおいては酸素濃度が高いため、光照射がなされても、液晶化合物の重合が酸素により阻害され、重合が進行しにくい。そして、上側領域３２Ｂにおいてもキラル剤Ａが存在しているため、キラル剤Ａが感光し、螺旋誘起力が変化する。そのため、後述する工程８を実施すると、変化した螺旋誘起力に沿って液晶化合物の配向状態が変化する。
つまり、工程３を実施することにより、組成物層の基板側の領域（下側領域）においては液晶化合物の配向状態の固定化が進行しやすい。また、組成物層の基板側と反対側の領域（上側領域）においては、液晶化合物の配向状態の固定化は進行しづらく、感光したキラル剤Ａに応じて螺旋誘起力が変化する状態となる。
【0107】
次に、得られた組成物層を加熱する工程８を実施する。工程８を実施することにより、組成物層３２の上側領域３２Ｂにおいて、キラル剤Ａの螺旋誘起力の変化に応じて、液晶化合物ＬＣが捩れ配向した配向状態が形成される。
なお、工程８の加熱温度は特に制限されず、液晶化合物の種類により適宜最適な温度が選択されるが、組成物層を構成する組成物が液晶相から等方相へと相転移温度する温度よりも低い温度が好ましい。工程８の加熱温度の下限は特に制限されず、固体状態から液晶相への相転移温度以上が好ましい。
以下では、上記のような配向状態の変化が生じる理由について詳述する。
なお、工程８の加熱温度は特に制限されず、液晶化合物の種類により適宜最適な温度が選択されるが、組成物層を構成する組成物が液晶相から等方相へと相転移温度する温度よりも低い温度が好ましい。工程８の加熱温度の下限は特に制限されず、固体状態から液晶相への相転移温度以上が好ましい。
以下では、上記のような配向状態の変化が生じる理由について詳述する。
【0108】
上述したように、図１１に示した組成物層３２に対して工程３を実施すると、下側領域３２Ａにおいては液晶化合物の配向状態が固定されるのに対して、上側領域３２Ｂでは液晶化合物の重合は進行しづらく、液晶化合物の配向状態が固定されていない。また、上側領域３２Ｂにおいてはキラル剤Ａの螺旋誘起力が変化している。このようなキラル剤Ａの螺旋誘起力の変化が生じると、光照射前の状態と比較すると、上側領域３２Ｂにおいて液晶化合物を捩じる力が変化している。この点をより詳細に説明する。
上述したように、図１１に示す組成物層３２にはキラル剤Ａとキラル剤Ｂとが同濃度で存在しており、キラル剤Ａにより誘起される螺旋方向が左巻きであり、キラル剤Ｂにより誘起される螺旋方向が右巻きである。また、キラル剤Ａの螺旋誘起力の絶対値と、キラル剤Ｂの螺旋誘起力の絶対値は同じである。よって、光照射を行う前の組成物層中のキラル剤の加重平均螺旋誘起力は０である。
上記の態様を図１４に示す。図１４においては、縦軸が「キラル剤の螺旋誘起力（μｍ-1）×キラル剤の濃度（質量％）」を表し、その値がゼロから離れるほど、螺旋誘起力が大きくなる。まず、光照射を行う前の組成物層中のキラル剤Ａとキラル剤Ｂとの関係は、光照射量が０の時点に該当し、「キラル剤Ａの螺旋誘起力（μｍ-1）×キラル剤Ａの濃度（質量％）」の絶対値と、「キラル剤Ｂの螺旋誘起力（μｍ-1）×キラル剤Ｂの濃度（質量％）」の絶対値とが等しい状態に該当する。つまり、左巻きを誘起するキラル剤Ａと右巻きを誘起するキラル剤Ｂとの両者の螺旋誘起力は相殺されている。
このような状態の上側領域３２Ｂにおいて光照射が行われ、図１４に示すように、光照射量によってキラル剤Ａの螺旋誘起力が減少する場合、図１５に示すように、上側領域１２Ｂにおけるキラル剤の加重平均螺旋誘起力は大きくなり、右巻きの螺旋誘起力が強くなる。つまり、液晶化合物の螺旋を誘起する螺旋誘起力は、照射量が大きいほど、キラル剤Ｂが誘起する螺旋の方向（＋）に螺旋誘起力が大きくなる。
そのため、このような加重平均螺旋誘起力の変化が生じている工程３後の組成物層３２に対して、加熱処理を施して液晶化合物の再配向を促すと、図１３に示すように、上側領域３２Ｂにおいては、組成物層３２の厚み方向に沿って延びる螺旋軸に沿って液晶化合物ＬＣが捩れ配向する。
一方で、上述したように、組成物層３２の下側領域３２Ａにおいては工程３の際に液晶化合物の重合が進行して液晶化合物の配向状態が固定されているため、液晶化合物の再配向は進行しない。
上述したように、図１１に示す組成物層３２にはキラル剤Ａとキラル剤Ｂとが同濃度で存在しており、キラル剤Ａにより誘起される螺旋方向が左巻きであり、キラル剤Ｂにより誘起される螺旋方向が右巻きである。また、キラル剤Ａの螺旋誘起力の絶対値と、キラル剤Ｂの螺旋誘起力の絶対値は同じである。よって、光照射を行う前の組成物層中のキラル剤の加重平均螺旋誘起力は０である。
上記の態様を図１４に示す。図１４においては、縦軸が「キラル剤の螺旋誘起力（μｍ-1）×キラル剤の濃度（質量％）」を表し、その値がゼロから離れるほど、螺旋誘起力が大きくなる。まず、光照射を行う前の組成物層中のキラル剤Ａとキラル剤Ｂとの関係は、光照射量が０の時点に該当し、「キラル剤Ａの螺旋誘起力（μｍ-1）×キラル剤Ａの濃度（質量％）」の絶対値と、「キラル剤Ｂの螺旋誘起力（μｍ-1）×キラル剤Ｂの濃度（質量％）」の絶対値とが等しい状態に該当する。つまり、左巻きを誘起するキラル剤Ａと右巻きを誘起するキラル剤Ｂとの両者の螺旋誘起力は相殺されている。
このような状態の上側領域３２Ｂにおいて光照射が行われ、図１４に示すように、光照射量によってキラル剤Ａの螺旋誘起力が減少する場合、図１５に示すように、上側領域１２Ｂにおけるキラル剤の加重平均螺旋誘起力は大きくなり、右巻きの螺旋誘起力が強くなる。つまり、液晶化合物の螺旋を誘起する螺旋誘起力は、照射量が大きいほど、キラル剤Ｂが誘起する螺旋の方向（＋）に螺旋誘起力が大きくなる。
そのため、このような加重平均螺旋誘起力の変化が生じている工程３後の組成物層３２に対して、加熱処理を施して液晶化合物の再配向を促すと、図１３に示すように、上側領域３２Ｂにおいては、組成物層３２の厚み方向に沿って延びる螺旋軸に沿って液晶化合物ＬＣが捩れ配向する。
一方で、上述したように、組成物層３２の下側領域３２Ａにおいては工程３の際に液晶化合物の重合が進行して液晶化合物の配向状態が固定されているため、液晶化合物の再配向は進行しない。
【0109】
なお、上記図１４および１５においては、キラル剤Ａとして光照射により螺旋誘起力が減少するキラル剤を用いた態様について説明したが、この態様には限定されない。例えば、キラル剤Ａとして光照射により螺旋誘起力が増加するキラル剤を用いてもよい。その場合、光照射によりキラル剤Ａの誘起する螺旋誘起力が大きくなり、キラル剤Ａの誘起する旋回方向に液晶化合物が捩れ配向することになる。
また、上記図１４および１５においては、キラル剤Ａとキラル剤Ｂとを併用する態様について説明したが、この態様には限定されない。例えば、２種のキラル剤Ａを用いる態様であってもよい。具体的には、左巻きを誘起するキラル剤Ａ１と、右巻きを誘起するキラル剤Ａ２とを併用する態様であってもよい。キラル剤Ａ１およびＡ２は、それぞれ独立に、螺旋誘起力が増加するキラル剤であってもよいし、螺旋誘起力が減少するキラル剤であってもよい。例えば、左巻きを誘起するキラル剤であって、光照射により螺旋誘起力が増加するキラル剤と、右巻きを誘起するキラル剤であって、光照射により螺旋誘起力が減少するキラル剤とを併用してもよい。
また、上記図１４および１５においては、キラル剤Ａとキラル剤Ｂとを併用する態様について説明したが、この態様には限定されない。例えば、２種のキラル剤Ａを用いる態様であってもよい。具体的には、左巻きを誘起するキラル剤Ａ１と、右巻きを誘起するキラル剤Ａ２とを併用する態様であってもよい。キラル剤Ａ１およびＡ２は、それぞれ独立に、螺旋誘起力が増加するキラル剤であってもよいし、螺旋誘起力が減少するキラル剤であってもよい。例えば、左巻きを誘起するキラル剤であって、光照射により螺旋誘起力が増加するキラル剤と、右巻きを誘起するキラル剤であって、光照射により螺旋誘起力が減少するキラル剤とを併用してもよい。
【0110】
次に、上記で得られた組成物層に対して、再度、工程３を実施すると、図１６に示すように、組成物層３２に対して光照射がなされると、上側領域中の基板３０側の領域である領域３２Ｃにおいては液晶化合物の重合が進行しやすく、液晶化合物の配向状態が固定される。それに対して、上側領域中の基板３０側とは反対側の領域である領域３２Ｄにおいては、液晶化合物の配向状態の固定化は進行しづらい。
そのため、得られた組成物層３２に対して、上述した工程４および５を実施し、さらに要件１～４のいずれかを満たす処理を実施した場合には、図１７に示すように、厚み方向に沿って延びる螺旋軸に沿って捩れ配向した液晶化合物の配向状態を固定してなる第１領域と、ホモジニアス配向した液晶化合物の配向状態を固定してなる第２領域とを、厚み方向に沿って有する光学異方性層１２Ａと、光学等方性部材１４Ｄとを有する光学素子１０Ｄが形成される。なお、図１７に示すように、光学等方性部材１４Ｄは、凸部１６Ｄと、ベース部１８Ｄとからなる。
そのため、得られた組成物層３２に対して、上述した工程４および５を実施し、さらに要件１～４のいずれかを満たす処理を実施した場合には、図１７に示すように、厚み方向に沿って延びる螺旋軸に沿って捩れ配向した液晶化合物の配向状態を固定してなる第１領域と、ホモジニアス配向した液晶化合物の配向状態を固定してなる第２領域とを、厚み方向に沿って有する光学異方性層１２Ａと、光学等方性部材１４Ｄとを有する光学素子１０Ｄが形成される。なお、図１７に示すように、光学等方性部材１４Ｄは、凸部１６Ｄと、ベース部１８Ｄとからなる。
【0111】
＜積層体＞
本発明の光学素子は、他の部材と組み合わせてもよい。
例えば、本発明の光学素子は、粘着層と組み合わせて、積層体としてもよい。特に、本発明の積層体は、上述した光学素子と、光学素子の光学等方性部材側に配置された粘着層とを有することが好ましい。
粘着層としては、公知の粘着層が用いられる。
本発明の光学素子は、他の部材と組み合わせてもよい。
例えば、本発明の光学素子は、粘着層と組み合わせて、積層体としてもよい。特に、本発明の積層体は、上述した光学素子と、光学素子の光学等方性部材側に配置された粘着層とを有することが好ましい。
粘着層としては、公知の粘着層が用いられる。
【0112】
また、本発明の光学素子は、偏光子と組み合わせてもよい。つまり、本発明は、本発明の光学素子と、偏光子とを有する積層体（偏光板）にも関する。
偏光子は、自然光を特定の直線偏光に変換する機能を有する部材であればよく、例えば、吸収型偏光子が挙げられる。
偏光子の種類は特に制限はなく、通常用いられている偏光子を利用でき、例えば、ヨウ素系偏光子、二色性染料を利用した染料系偏光子、および、ポリエン系偏光子が挙げられる。ヨウ素系偏光子および染料系偏光子は、一般に、ポリビニルアルコールにヨウ素または二色性染料を吸着させ、延伸することで作製される。
なお、偏光子の片面または両面には、保護膜が配置されていてもよい。
本発明の光学素子と偏光子との間には、粘着層または接着層が配置されていてもよい。
本発明の光学素子中の光学異方性層がλ／４板である場合には、本発明の光学素子と偏光子とを含む積層体は、円偏光板として好適に用いることができる。
偏光子は、自然光を特定の直線偏光に変換する機能を有する部材であればよく、例えば、吸収型偏光子が挙げられる。
偏光子の種類は特に制限はなく、通常用いられている偏光子を利用でき、例えば、ヨウ素系偏光子、二色性染料を利用した染料系偏光子、および、ポリエン系偏光子が挙げられる。ヨウ素系偏光子および染料系偏光子は、一般に、ポリビニルアルコールにヨウ素または二色性染料を吸着させ、延伸することで作製される。
なお、偏光子の片面または両面には、保護膜が配置されていてもよい。
本発明の光学素子と偏光子との間には、粘着層または接着層が配置されていてもよい。
本発明の光学素子中の光学異方性層がλ／４板である場合には、本発明の光学素子と偏光子とを含む積層体は、円偏光板として好適に用いることができる。
【0113】
＜用途＞
本発明の光学素子は、種々の用途に適用できる。例えば、本発明の光学素子は、表示装置の反射防止用途に用いることができる。より具体的には、本発明は、偏光子と、本発明の光学素子と、表示素子とをこの順で有する表示装置にも関する。
表示素子としては、有機ＥＬ表示素子、および、液晶表示素子など公知の表示素子が挙げられる。
なかでも、本発明の光学素子は、有機ＥＬ表示素子に適用されることが好ましい。特に、マイクロキャビティ構造を有する有機ＥＬ表示素子に本発明の光学素子を適用することにより、青味の発生がより抑制される。
本発明の光学素子は、種々の用途に適用できる。例えば、本発明の光学素子は、表示装置の反射防止用途に用いることができる。より具体的には、本発明は、偏光子と、本発明の光学素子と、表示素子とをこの順で有する表示装置にも関する。
表示素子としては、有機ＥＬ表示素子、および、液晶表示素子など公知の表示素子が挙げられる。
なかでも、本発明の光学素子は、有機ＥＬ表示素子に適用されることが好ましい。特に、マイクロキャビティ構造を有する有機ＥＬ表示素子に本発明の光学素子を適用することにより、青味の発生がより抑制される。
【実施例0114】
以下に実施例と比較例を挙げて本発明の特徴をさらに具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、および、処理手順などは、本発明の趣旨を逸脱しない限り適宜変更できる。従って、本発明の範囲は以下に示す具体例により制限的に解釈されるべきものではない。
【0115】
＜実施例１＞
下記組成物をミキシングタンクに投入し、撹拌して、さらに９０℃で１０分間加熱した。その後、得られた組成物を、平均孔径３４μｍのろ紙および平均孔径１０μｍの焼結金属フィルターでろ過して、ドープを調製した。ドープの固形分濃度は２３．５質量％であり、可塑剤の添加量はセルロースアシレートに対する割合であり、ドープの溶媒は塩化メチレン／メタノール／ブタノール＝８１／１８／１（質量比）である。
――――――――――――――――――――――――――――――――――
セルロースアシレートドープ
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セルロースアシレート（アセチル置換度２．８６、粘度平均重合度３１０）
１００質量部
糖エステル化合物１（化学式（Ｓ４）に示す） ６．０質量部
糖エステル化合物２（化学式（Ｓ５）に示す） ２．０質量部
シリカ粒子分散液（ＡＥＲＯＳＩＬ Ｒ９７２、日本アエロジル（株）製）
０．１質量部
溶媒（塩化メチレン／メタノール／ブタノール）
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下記組成物をミキシングタンクに投入し、撹拌して、さらに９０℃で１０分間加熱した。その後、得られた組成物を、平均孔径３４μｍのろ紙および平均孔径１０μｍの焼結金属フィルターでろ過して、ドープを調製した。ドープの固形分濃度は２３．５質量％であり、可塑剤の添加量はセルロースアシレートに対する割合であり、ドープの溶媒は塩化メチレン／メタノール／ブタノール＝８１／１８／１（質量比）である。
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セルロースアシレートドープ
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セルロースアシレート（アセチル置換度２．８６、粘度平均重合度３１０）
１００質量部
糖エステル化合物１（化学式（Ｓ４）に示す） ６．０質量部
糖エステル化合物２（化学式（Ｓ５）に示す） ２．０質量部
シリカ粒子分散液（ＡＥＲＯＳＩＬ Ｒ９７２、日本アエロジル（株）製）
０．１質量部
溶媒（塩化メチレン／メタノール／ブタノール）
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【0116】
【化3】
【0117】
【化4】
【0118】
上記で作製したドープを、ドラム製膜機を用いて流延した。０℃に冷却された金属支持体上に接するようにドープをダイから流延し、その後、得られたウェブ（フィルム）を剥ぎ取った。なお、ドラムはＳＵＳ製であった。
流延されて得られたウェブ（フィルム）を、ドラムから剥離後、フィルム搬送時に３０～４０℃で、クリップでウェブの両端をクリップして搬送するテンター装置を用いてテンター装置内で２０分間乾燥した。引き続き、ウェブをロール搬送しながらゾーン加熱により後乾燥した。得られたウェブにナーリングを施した後、巻き取った。
得られたセルロースアシレートフィルムの膜厚は４０μｍであり、波長５５０ｎｍにおける面内レタデーションＲｅ（５５０）は１ｎｍ、波長５５０ｎｍにおける厚み方向のレタデーションＲｔｈ（５５０）は２６ｎｍであった。
流延されて得られたウェブ（フィルム）を、ドラムから剥離後、フィルム搬送時に３０～４０℃で、クリップでウェブの両端をクリップして搬送するテンター装置を用いてテンター装置内で２０分間乾燥した。引き続き、ウェブをロール搬送しながらゾーン加熱により後乾燥した。得られたウェブにナーリングを施した後、巻き取った。
得られたセルロースアシレートフィルムの膜厚は４０μｍであり、波長５５０ｎｍにおける面内レタデーションＲｅ（５５０）は１ｎｍ、波長５５０ｎｍにおける厚み方向のレタデーションＲｔｈ（５５０）は２６ｎｍであった。
【0119】
作製したセルロースアシレートフィルムに連続的にラビング処理を施した。このとき、長尺状のフィルムの長手方向と搬送方向は平行であり、フィルム長手方向（搬送方向）とラビングローラーの回転軸とのなす角度は８０°とした。フィルム長手方向（搬送方向）を９０°とし、フィルム側から観察してフィルム幅手方向を基準（０°）に時計回り方向を正の値で表すと、ラビングローラーの回転軸は１０°にある。言い換えれば、ラビングローラーの回転軸の位置は、フィルム長手方向を基準に、反時計回りに８０°回転させた位置である。
上記ラビング処理したセルロースアシレートフィルムを基板として、ギーサー塗布機を用いて、下記の組成の棒状液晶化合物を含む組成物（１）を塗布して、組成物層を形成した。
次に、得られた組成物層を８０℃で６０秒間加熱した。この加熱により組成物層の棒状液晶化合物が所定の方向に配向した。
その後、酸素を含む空気（酸素濃度：約２０体積％）下、３０℃にて、３６５ｎｍのＬＥＤランプ（アクロエッジ（株）製）を使用して紫外線を組成物層に照射した（照射量：１５ｍＪ／ｃｍ2）。
続いて、得られた組成物層を８０℃で１０秒間加熱した。
その後、さらに酸素を含む空気（酸素濃度：約２０体積％）下、３０℃にて、３６５ｎｍのＬＥＤランプ（アクロエッジ（株）製）を使用して紫外線を組成物層に照射した（照射量：２０ｍＪ／ｃｍ2）。
その後、得られたフィルムを１３０℃（組成物層を構成する組成物の液晶相から等方相への相転移温度（１１７℃）よりも高い温度に該当）に加熱し、未硬化の組成物層表面に賦形処理を施したフィルムを押し付けた状態で、窒素パージを行って酸素濃度１００体積ｐｐｍとし、メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）で紫外線を組成物層に照射することで液晶化合物の配向状態を固定した（照射量：５００ｍＪ／ｃｍ2）。
その後、賦形処理を施したフィルムを組成物層から剥離することで、最表面に凸部を有する光学等方性部材を形成した。
上記ラビング処理したセルロースアシレートフィルムを基板として、ギーサー塗布機を用いて、下記の組成の棒状液晶化合物を含む組成物（１）を塗布して、組成物層を形成した。
次に、得られた組成物層を８０℃で６０秒間加熱した。この加熱により組成物層の棒状液晶化合物が所定の方向に配向した。
その後、酸素を含む空気（酸素濃度：約２０体積％）下、３０℃にて、３６５ｎｍのＬＥＤランプ（アクロエッジ（株）製）を使用して紫外線を組成物層に照射した（照射量：１５ｍＪ／ｃｍ2）。
続いて、得られた組成物層を８０℃で１０秒間加熱した。
その後、さらに酸素を含む空気（酸素濃度：約２０体積％）下、３０℃にて、３６５ｎｍのＬＥＤランプ（アクロエッジ（株）製）を使用して紫外線を組成物層に照射した（照射量：２０ｍＪ／ｃｍ2）。
その後、得られたフィルムを１３０℃（組成物層を構成する組成物の液晶相から等方相への相転移温度（１１７℃）よりも高い温度に該当）に加熱し、未硬化の組成物層表面に賦形処理を施したフィルムを押し付けた状態で、窒素パージを行って酸素濃度１００体積ｐｐｍとし、メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）で紫外線を組成物層に照射することで液晶化合物の配向状態を固定した（照射量：５００ｍＪ／ｃｍ2）。
その後、賦形処理を施したフィルムを組成物層から剥離することで、最表面に凸部を有する光学等方性部材を形成した。
【0120】
得られた光学部材（Ｆ－１）は、図１７で説明したように、厚み方向に沿って延びる螺旋軸に沿って捩れ配向した液晶化合物の配向状態を固定してなる第１領域と、ホモジニアス配向した液晶化合物の配向状態を固定してなる第２領域とを、厚み方向に沿って有する光学異方性層と、光学異方性層に接して配置される光学等方性部材とを有する光学素子であった。光学等方性部材の凸部は、図１および図２に示すように、円錐台状の形状であり、六方最密状に配置されていた。複数の凸部の周期ＰＡ（隣接する凸部間の間隔）は２．０μｍであり、凸部の高さＨＡ１は１．６μｍであり、凸部の上底の幅ＷＡ１（上底の直径）は１．０μｍであり、凸部の下底の幅ＷＡ２（下底の直径）は１．６μｍであった。光学等方性部材のベース部の厚み（図１７のベース部１８Ｄの厚み）は０．４μｍであった。光学異方性層の第１領域の厚みは１．４μｍであり、第２領域の厚みは１．３μｍであった。
なお、Ａｘｏｍｅｔｒｉｃｓ社のＡｘｏＳｃａｎ、および、同社の解析ソフトウェア（Ｍｕｌｔｉ－Ｌａｙｅｒ Ａｎａｌｙｓｉｓ）を用いて、光学素子（Ｆ－１）の光学特性を求めた。第２領域の波長５５０ｎｍにおけるΔｎ２と厚みｄ２との積（Δｎ２ｄ２）は１７３ｎｍ、液晶化合物の捩れ角は０°であり、長尺長手方向に対する液晶化合物の配向軸角度は、基板に接する側が－１０°、第１領域に接する側が－１０°であった。また、第１領域の波長５５０ｎｍにおけるΔｎ１と厚みｄ１との積（Δｎ１ｄ１）は１８４ｎｍ、液晶化合物の捩れ角度は７５°であり、長尺長手方向に対する液晶化合物の配向軸角度は、第２領域に接する側が－１０°、空気側が－８５°であった。
なお、Ａｘｏｍｅｔｒｉｃｓ社のＡｘｏＳｃａｎ、および、同社の解析ソフトウェア（Ｍｕｌｔｉ－Ｌａｙｅｒ Ａｎａｌｙｓｉｓ）を用いて、光学素子（Ｆ－１）の光学特性を求めた。第２領域の波長５５０ｎｍにおけるΔｎ２と厚みｄ２との積（Δｎ２ｄ２）は１７３ｎｍ、液晶化合物の捩れ角は０°であり、長尺長手方向に対する液晶化合物の配向軸角度は、基板に接する側が－１０°、第１領域に接する側が－１０°であった。また、第１領域の波長５５０ｎｍにおけるΔｎ１と厚みｄ１との積（Δｎ１ｄ１）は１８４ｎｍ、液晶化合物の捩れ角度は７５°であり、長尺長手方向に対する液晶化合物の配向軸角度は、第２領域に接する側が－１０°、空気側が－８５°であった。
【0121】
――――――――――――――――――――――――――――――――――
組成物（１）
――――――――――――――――――――――――――――――――――
下記の棒状液晶化合物（Ａ） ８０質量部
下記の棒状液晶化合物（Ｂ） １０質量部
下記の重合性化合物（Ｃ） １０質量部
エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリアクリレート
（Ｖ＃３６０、大阪有機化学（株）製） ４質量部
光重合開始剤（Ｉｒｇａｃｕｒｅ８１９、ＢＡＳＦ社製） ３質量部
下記の左捩れキラル剤（Ｌ１） ０．４３質量部
下記の右捩れキラル剤（Ｒ１） ０．３８質量部
下記のポリマー（Ａ） ０．０８質量部
下記のポリマー（Ｅ） ０．５０質量部
メチルイソブチルケトン １１６質量部
プロピオン酸エチル ４０質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――――
組成物（１）
――――――――――――――――――――――――――――――――――
下記の棒状液晶化合物（Ａ） ８０質量部
下記の棒状液晶化合物（Ｂ） １０質量部
下記の重合性化合物（Ｃ） １０質量部
エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリアクリレート
（Ｖ＃３６０、大阪有機化学（株）製） ４質量部
光重合開始剤（Ｉｒｇａｃｕｒｅ８１９、ＢＡＳＦ社製） ３質量部
下記の左捩れキラル剤（Ｌ１） ０．４３質量部
下記の右捩れキラル剤（Ｒ１） ０．３８質量部
下記のポリマー（Ａ） ０．０８質量部
下記のポリマー（Ｅ） ０．５０質量部
メチルイソブチルケトン １１６質量部
プロピオン酸エチル ４０質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――――
【0122】
棒状液晶化合物（Ａ）（以下、化合物の混合物）
【0123】
【化5】
【0124】
棒状液晶化合物（Ｂ）（以下、構造式参照）
【0125】
【化6】
【0126】
重合性化合物（Ｃ）（以下、構造式参照）
【0127】
【化7】
【0128】
左捩れキラル剤（Ｌ１）（以下、構造式参照）
【0129】
【化8】
【0130】
右捩れキラル剤（Ｒ１）（以下、構造式参照）
【0131】
【化9】
【0132】
ポリマー（Ａ）（以下、構造式参照。式中、各繰り返し単位に記載の数値は、全繰り返し単位に対する各繰り返しの含有量（質量％）を表す。）
【0133】
【化10】
【0134】
ポリマー（Ｅ）（以下、構造式参照。式中、各繰り返し単位に記載の数値は、全繰り返し単位に対する各繰り返しの含有量（質量％）を表す。）
【0135】
【化11】
【0136】
＜実施例２＞
実施例１で作製したセルロースアシレートフィルムを、温度６０℃の誘電式加熱ロールを通過させ、フィルム表面温度を４０℃に昇温した後に、フィルムのバンド面に下記に示す組成のアルカリ溶液を、バーコーターを用いて塗布量１４ｍｌ／ｍ2で塗布し、１１０℃に加熱した（株）ノリタケカンパニーリミテド製のスチーム式遠赤外ヒーターの下に、１０秒間搬送した。続いて、同じくバーコーターを用いて、純水を３ｍｌ／ｍ2塗布した。次いで、ファウンテンコーターによる水洗とエアナイフによる水切りを３回繰り返した後に、７０℃の乾燥ゾーンに１０秒間搬送して乾燥し、アルカリ鹸化処理したセルロースアシレートフィルムを作製した。
――――――――――――――――――――――――――――――――――
アルカリ溶液
――――――――――――――――――――――――――――――――――
水酸化カリウム ４．７質量部
水 １５．８質量部
イソプロパノール ６３．７質量部
界面活性剤：Ｃ14Ｈ29Ｏ（ＣＨ2ＣＨ2Ｏ）20Ｈ １．０質量部
プロピレングリコール １４．８質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――――
実施例１で作製したセルロースアシレートフィルムを、温度６０℃の誘電式加熱ロールを通過させ、フィルム表面温度を４０℃に昇温した後に、フィルムのバンド面に下記に示す組成のアルカリ溶液を、バーコーターを用いて塗布量１４ｍｌ／ｍ2で塗布し、１１０℃に加熱した（株）ノリタケカンパニーリミテド製のスチーム式遠赤外ヒーターの下に、１０秒間搬送した。続いて、同じくバーコーターを用いて、純水を３ｍｌ／ｍ2塗布した。次いで、ファウンテンコーターによる水洗とエアナイフによる水切りを３回繰り返した後に、７０℃の乾燥ゾーンに１０秒間搬送して乾燥し、アルカリ鹸化処理したセルロースアシレートフィルムを作製した。
――――――――――――――――――――――――――――――――――
アルカリ溶液
――――――――――――――――――――――――――――――――――
水酸化カリウム ４．７質量部
水 １５．８質量部
イソプロパノール ６３．７質量部
界面活性剤：Ｃ14Ｈ29Ｏ（ＣＨ2ＣＨ2Ｏ）20Ｈ １．０質量部
プロピレングリコール １４．８質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――――
【0137】
セルロースアシレートフィルムのアルカリ鹸化処理を行った面に、下記組成の配向膜塗布液を＃１４のワイヤーバーで連続的に塗布した。６０℃の温風で６０秒間、さらに１００℃の温風で１２０秒間乾燥した。
【0138】
――――――――――――――――――――――――――――――――――
配向膜塗布液
――――――――――――――――――――――――――――――――――
下記に示す変性ポリビニルアルコール ２８質量部
クエン酸エステル（ＡＳ３、三共化学（株）製） １．２質量部
光重合開始剤（Ｉｒｇａｃｕｒｅ２９５９、ＢＡＳＦ社製） ０．８４質量部
グルタルアルデヒド ２．８質量部
水 ６９９質量部
メタノール ２２６質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――――
配向膜塗布液
――――――――――――――――――――――――――――――――――
下記に示す変性ポリビニルアルコール ２８質量部
クエン酸エステル（ＡＳ３、三共化学（株）製） １．２質量部
光重合開始剤（Ｉｒｇａｃｕｒｅ２９５９、ＢＡＳＦ社製） ０．８４質量部
グルタルアルデヒド ２．８質量部
水 ６９９質量部
メタノール ２２６質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――――
【0139】
変性ポリビニルアルコール（以下、構造式参照）
【0140】
【化12】
【0141】
上記で作製した配向膜に連続的にラビング処理を施した。このとき、長尺状のフィルムの長手方向と搬送方向は平行であり、フィルムの長手方向（搬送方向）とラビングローラーの回転軸とのなす角度は４５°とした。フィルムの長手方向（搬送方向）を９０°とし、フィルム側から観察してフィルム幅手方向を基準（０°）に時計回り方向を正の値で表すと、ラビングローラーの回転軸は１３５°にある。言い換えれば、ラビングローラーの回転軸の位置は、フィルムの長手方向を基準に、反時計回りに４５°回転させた位置である。
【0142】
上記ラビング処理した配向膜付きセルロースアシレートフィルムを基板として、ギーサー塗布機を用いて、下記の組成の棒状液晶化合物を含む組成物（２）を塗布して、組成物層を形成した。
次に、得られた組成物層を１２０℃で８０秒間加熱した。この加熱により組成物層の棒状液晶化合物が所定の方向に配向した。
その後、酸素を含む空気（酸素濃度：約２０体積％）下、４０℃にて、３６５ｎｍＬＥＤランプ（アクロエッジ（株）製）を使用して紫外線を組成物層に５秒間照射した（照射量：５０ｍＪ／ｃｍ2）。
続いて、得られたフィルムを１９５℃（組成物層を構成する組成物の液晶相から等方相への相転移温度（１９０℃）よりも高い温度に該当）の条件下で未硬化の組成物層表面に賦形処理を施したフィルムを押し付けた状態で、窒素パージを行って、酸素濃度１００体積ｐｐｍとして、メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を使用して紫外線を組成物層に照射することで液晶化合物の配向状態を固定した（照射量：５００ｍＪ／ｃｍ2）。その後、賦形処理を施したフィルムを組成物層から剥離することで、最表面に凸部を有する光学等方性部材を形成した。
得られた光学部材（Ｆ－２）は、図１および２で説明したように、ホモジニアス配向した液晶化合物の配向状態を固定してなる層である光学異方性層と、光学異方性層に接して配置される光学等方性部材とを有する光学素子であった。光学等方性部材の凸部の形状および配置は、実施例１と同様であった。光学等方性部材のベース部の厚み（図１のベース部１８Ａの厚み）は０．４μｍであった。光学異方性層の厚みは３．０μｍであった。
なお、Ａｘｏｍｅｔｒｉｃｓ社のＡｘｏＳｃａｎ、および、同社の解析ソフトウェア（Ｍｕｌｔｉ－Ｌａｙｅｒ Ａｎａｌｙｓｉｓ）を用いて、光学素子（Ｆ－２）の光学特性を求めた。光学異方性層の波長５５０ｎｍにおける面内レタデーションは１４０ｎｍであり、フィルムの長手方向に対する面内遅相軸の角度は－４５°であった。
次に、得られた組成物層を１２０℃で８０秒間加熱した。この加熱により組成物層の棒状液晶化合物が所定の方向に配向した。
その後、酸素を含む空気（酸素濃度：約２０体積％）下、４０℃にて、３６５ｎｍＬＥＤランプ（アクロエッジ（株）製）を使用して紫外線を組成物層に５秒間照射した（照射量：５０ｍＪ／ｃｍ2）。
続いて、得られたフィルムを１９５℃（組成物層を構成する組成物の液晶相から等方相への相転移温度（１９０℃）よりも高い温度に該当）の条件下で未硬化の組成物層表面に賦形処理を施したフィルムを押し付けた状態で、窒素パージを行って、酸素濃度１００体積ｐｐｍとして、メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を使用して紫外線を組成物層に照射することで液晶化合物の配向状態を固定した（照射量：５００ｍＪ／ｃｍ2）。その後、賦形処理を施したフィルムを組成物層から剥離することで、最表面に凸部を有する光学等方性部材を形成した。
得られた光学部材（Ｆ－２）は、図１および２で説明したように、ホモジニアス配向した液晶化合物の配向状態を固定してなる層である光学異方性層と、光学異方性層に接して配置される光学等方性部材とを有する光学素子であった。光学等方性部材の凸部の形状および配置は、実施例１と同様であった。光学等方性部材のベース部の厚み（図１のベース部１８Ａの厚み）は０．４μｍであった。光学異方性層の厚みは３．０μｍであった。
なお、Ａｘｏｍｅｔｒｉｃｓ社のＡｘｏＳｃａｎ、および、同社の解析ソフトウェア（Ｍｕｌｔｉ－Ｌａｙｅｒ Ａｎａｌｙｓｉｓ）を用いて、光学素子（Ｆ－２）の光学特性を求めた。光学異方性層の波長５５０ｎｍにおける面内レタデーションは１４０ｎｍであり、フィルムの長手方向に対する面内遅相軸の角度は－４５°であった。
【0143】
―――――――――――――――――――――――――――――――――――――
組成物（２）
―――――――――――――――――――――――――――――――――――――
上記の棒状液晶化合物（Ａ） ２０質量部
下記の棒状液晶化合物（Ｄ） ４０質量部
下記の棒状液晶化合物（Ｅ） ４０質量部
エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリアクリレート
（Ｖ＃３６０、大阪有機化学（株）製） ４質量部
光重合開始剤（Ｉｒｇａｃｕｒｅ８１９、ＢＡＳＦ社製） ３質量部
上記のポリマー（Ａ） ０．０８質量部
メチルエチルケトン １５６質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――――――
組成物（２）
―――――――――――――――――――――――――――――――――――――
上記の棒状液晶化合物（Ａ） ２０質量部
下記の棒状液晶化合物（Ｄ） ４０質量部
下記の棒状液晶化合物（Ｅ） ４０質量部
エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリアクリレート
（Ｖ＃３６０、大阪有機化学（株）製） ４質量部
光重合開始剤（Ｉｒｇａｃｕｒｅ８１９、ＢＡＳＦ社製） ３質量部
上記のポリマー（Ａ） ０．０８質量部
メチルエチルケトン １５６質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――――――
【0144】
棒状液晶化合物（Ｄ）（下記、構造式参照）
【0145】
【化13】
【0146】
棒状液晶化合物（Ｅ）（下記、構造式参照）
【0147】
【化14】
【0148】
＜実施例３＞
図４および５に示すように、ストライプ状に配置された凸部が得られるように、賦形処理を施したフィルムを変更した以外は、実施例２と同様の手順に従って、光学素子（Ｆ－３）を得た。
得られた光学部材（Ｆ－３）は、図４および５で説明したように、ホモジニアス配向した液晶化合物の配向状態を固定してなる層である光学異方性層と、光学異方性層に接して配置される光学等方性部材とを有する光学素子であった。光学等方性部材の凸部は、図４および図５に示すように、断面形状が台形状の形状であり、ストライプ状に配置されていた。複数の凸部の周期ＰＢ（隣接する凸部間の間隔）は２．０μｍであり、凸部の高さＨＢ１は１．６μｍであり、凸部の上底の幅ＷＢ１は１．０μｍであり、凸部の下底の幅ＷＡ２は１．６μｍであった。光学等方性部材のベース部の厚みは０．４μｍであった。光学異方性層の厚みは３．０μｍであった。
なお、Ａｘｏｍｅｔｒｉｃｓ社のＡｘｏＳｃａｎ、および、同社の解析ソフトウェア（Ｍｕｌｔｉ－Ｌａｙｅｒ Ａｎａｌｙｓｉｓ）を用いて、光学素子（Ｆ－３）の光学特性を求めた。光学異方性層の波長５５０ｎｍにおける面内レタデーションは１４０ｎｍであり、フィルムの長手方向に対する面内遅相軸の角度は－４５°であった。
図４および５に示すように、ストライプ状に配置された凸部が得られるように、賦形処理を施したフィルムを変更した以外は、実施例２と同様の手順に従って、光学素子（Ｆ－３）を得た。
得られた光学部材（Ｆ－３）は、図４および５で説明したように、ホモジニアス配向した液晶化合物の配向状態を固定してなる層である光学異方性層と、光学異方性層に接して配置される光学等方性部材とを有する光学素子であった。光学等方性部材の凸部は、図４および図５に示すように、断面形状が台形状の形状であり、ストライプ状に配置されていた。複数の凸部の周期ＰＢ（隣接する凸部間の間隔）は２．０μｍであり、凸部の高さＨＢ１は１．６μｍであり、凸部の上底の幅ＷＢ１は１．０μｍであり、凸部の下底の幅ＷＡ２は１．６μｍであった。光学等方性部材のベース部の厚みは０．４μｍであった。光学異方性層の厚みは３．０μｍであった。
なお、Ａｘｏｍｅｔｒｉｃｓ社のＡｘｏＳｃａｎ、および、同社の解析ソフトウェア（Ｍｕｌｔｉ－Ｌａｙｅｒ Ａｎａｌｙｓｉｓ）を用いて、光学素子（Ｆ－３）の光学特性を求めた。光学異方性層の波長５５０ｎｍにおける面内レタデーションは１４０ｎｍであり、フィルムの長手方向に対する面内遅相軸の角度は－４５°であった。
【0149】
＜実施例４＞
凸部をランダム状に配置されたモスアイ構造が得られるように、賦形処理を施したフィルムを変更した以外は、実施例２と同様の手順に従って、光学素子（Ｆ－４）を得た。
得られた光学部材（Ｆ－４）は、ホモジニアス配向した液晶化合物の配向状態を固定してなる層である光学異方性層と、光学異方性層に接して配置される光学等方性部材とを有する光学素子であった。光学等方性部材は、光学異方性層側とは反対側に突出する凸部を有し、凸部はランダム状に配置されていた。光学等方性部材の凸部は、光学異方性層側から凸部の光学異方性層側とは反対側に向かって、漸増している円錐台状であった。凸部の高さＨＡ１は０．４μｍであり、凸部の上底の幅ＷＡ１（上底の直径）は０．１８μｍであり、凸部の下底の幅ＷＡ２（下底の直径）は０．０５μｍであった。光学等方性部材のベース部の厚みは１．６μｍであった。凸部の平均間隔は０．１８μｍであり、光学異方性層の厚みは３．０μｍであった。
なお、Ａｘｏｍｅｔｒｉｃｓ社のＡｘｏＳｃａｎ、および、同社の解析ソフトウェア（Ｍｕｌｔｉ－Ｌａｙｅｒ Ａｎａｌｙｓｉｓ）を用いて、光学素子（Ｆ－３）の光学特性を求めた。光学異方性層の波長５５０ｎｍにおける面内レタデーションは１４０ｎｍであり、フィルムの長手方向に対する面内遅相軸の角度は－４５°であった。
凸部をランダム状に配置されたモスアイ構造が得られるように、賦形処理を施したフィルムを変更した以外は、実施例２と同様の手順に従って、光学素子（Ｆ－４）を得た。
得られた光学部材（Ｆ－４）は、ホモジニアス配向した液晶化合物の配向状態を固定してなる層である光学異方性層と、光学異方性層に接して配置される光学等方性部材とを有する光学素子であった。光学等方性部材は、光学異方性層側とは反対側に突出する凸部を有し、凸部はランダム状に配置されていた。光学等方性部材の凸部は、光学異方性層側から凸部の光学異方性層側とは反対側に向かって、漸増している円錐台状であった。凸部の高さＨＡ１は０．４μｍであり、凸部の上底の幅ＷＡ１（上底の直径）は０．１８μｍであり、凸部の下底の幅ＷＡ２（下底の直径）は０．０５μｍであった。光学等方性部材のベース部の厚みは１．６μｍであった。凸部の平均間隔は０．１８μｍであり、光学異方性層の厚みは３．０μｍであった。
なお、Ａｘｏｍｅｔｒｉｃｓ社のＡｘｏＳｃａｎ、および、同社の解析ソフトウェア（Ｍｕｌｔｉ－Ｌａｙｅｒ Ａｎａｌｙｓｉｓ）を用いて、光学素子（Ｆ－３）の光学特性を求めた。光学異方性層の波長５５０ｎｍにおける面内レタデーションは１４０ｎｍであり、フィルムの長手方向に対する面内遅相軸の角度は－４５°であった。
【0150】
＜実施例５＞
実施例２で作製したラビング処理した配向膜付きセルロースアシレートフィルムを基板として、ギーサー塗布機を用いて、棒状液晶化合物を含む組成物（２）を塗布して、組成物層を形成した。
次に、得られた組成物層を１２０℃で８０秒間加熱した。この加熱により組成物層の棒状液晶化合物が所定の方向に配向した。
その後、窒素パージを行って、酸素濃度１００体積ｐｐｍとして、メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を使用して紫外線を組成物層に照射（照射量：５０ｍＪ／ｃｍ2）することで液晶化合物の配向状態を固定し、光学異方性層を得た。
その後、ジルコニアナノ粒子を含む凹凸構造形成用組成物（１）を光学異方性層上に塗布して、組成物層を形成した。次に、未硬化の組成物層表面に賦形処理を施したフィルムを押し付けた状態で、窒素パージを行って、酸素濃度１００体積ｐｐｍとして、メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を使用して紫外線を組成物層に照射することでジルコニアナノ粒子を含む組成物を硬化し、光学部材（Ｆ－５）を得た。
実施例２で作製したラビング処理した配向膜付きセルロースアシレートフィルムを基板として、ギーサー塗布機を用いて、棒状液晶化合物を含む組成物（２）を塗布して、組成物層を形成した。
次に、得られた組成物層を１２０℃で８０秒間加熱した。この加熱により組成物層の棒状液晶化合物が所定の方向に配向した。
その後、窒素パージを行って、酸素濃度１００体積ｐｐｍとして、メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を使用して紫外線を組成物層に照射（照射量：５０ｍＪ／ｃｍ2）することで液晶化合物の配向状態を固定し、光学異方性層を得た。
その後、ジルコニアナノ粒子を含む凹凸構造形成用組成物（１）を光学異方性層上に塗布して、組成物層を形成した。次に、未硬化の組成物層表面に賦形処理を施したフィルムを押し付けた状態で、窒素パージを行って、酸素濃度１００体積ｐｐｍとして、メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を使用して紫外線を組成物層に照射することでジルコニアナノ粒子を含む組成物を硬化し、光学部材（Ｆ－５）を得た。
【0151】
―――――――――――――――――――――――――――――――――――――
凹凸構造形成用組成物（１）
―――――――――――――――――――――――――――――――――――――
ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物（ＤＰＨＡ、日本化薬（株）製） ９０．０質量部
ジルコニアナノ粒子分散物 １０．０質量部
光重合開始剤（Ｉｒｇａｃｕｒｅ９０７、ＢＡＳＦ社製） １.３質量部
光増感剤（カヤキュアーＤＥＴＸ、日本化薬（株）製） ０．４質量部
ＲＳ－９０（レベリング剤、ＤＩＣ（株）製） ０．１質量部
メチルイソブチルケトン １２０質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――――――
凹凸構造形成用組成物（１）
―――――――――――――――――――――――――――――――――――――
ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物（ＤＰＨＡ、日本化薬（株）製） ９０．０質量部
ジルコニアナノ粒子分散物 １０．０質量部
光重合開始剤（Ｉｒｇａｃｕｒｅ９０７、ＢＡＳＦ社製） １.３質量部
光増感剤（カヤキュアーＤＥＴＸ、日本化薬（株）製） ０．４質量部
ＲＳ－９０（レベリング剤、ＤＩＣ（株）製） ０．１質量部
メチルイソブチルケトン １２０質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――――――
【0152】
得られた光学部材（Ｆ－５）は、ホモジニアス配向した液晶化合物の配向状態を固定してなる層である光学異方性層と、光学異方性層に接して配置される光学等方性部材とを有する光学素子であった。光学等方性部材の凸部の形状および配置は、実施例１と同様であった。光学等方性部材のベース部の厚み（図１のベース部１８Ａの厚み）は０．４μｍであった。光学異方性層の厚みは３．０μｍであった。
なお、Ａｘｏｍｅｔｒｉｃｓ社のＡｘｏＳｃａｎ、および、同社の解析ソフトウェア（Ｍｕｌｔｉ－Ｌａｙｅｒ Ａｎａｌｙｓｉｓ）を用いて、光学素子（Ｆ－５）の光学特性を求めた。光学異方性層の波長５５０ｎｍにおける面内レタデーションは１４０ｎｍであり、フィルムの長手方向に対する面内遅相軸の角度は－４５°であった。
なお、Ａｘｏｍｅｔｒｉｃｓ社のＡｘｏＳｃａｎ、および、同社の解析ソフトウェア（Ｍｕｌｔｉ－Ｌａｙｅｒ Ａｎａｌｙｓｉｓ）を用いて、光学素子（Ｆ－５）の光学特性を求めた。光学異方性層の波長５５０ｎｍにおける面内レタデーションは１４０ｎｍであり、フィルムの長手方向に対する面内遅相軸の角度は－４５°であった。
【0153】
＜比較例１＞
凹凸構造形成用組成物（１）を凹凸構造形成用組成物（２）に変更した以外は、実施例５と同様の手順に従って、光学部材（Ｆ－６）を作製した。
凹凸構造形成用組成物（１）を凹凸構造形成用組成物（２）に変更した以外は、実施例５と同様の手順に従って、光学部材（Ｆ－６）を作製した。
【0154】
―――――――――――――――――――――――――――――――――――――
凹凸構造形成用組成物（２）
―――――――――――――――――――――――――――――――――――――
芳香族ウレタンアクリレート
（ＥＢＥＣＲＹＬ ２２０、ダイセル・オルネクス（株）製） １００質量部
光重合開始剤（Ｉｒｇａｃｕｒｅ８１９、ＢＡＳＦ社製） ２質量部
上記のポリマー（Ａ） ０．０８質量部
メチルイソブチルケトン １２０質量部
凹凸構造形成用組成物（２）
―――――――――――――――――――――――――――――――――――――
芳香族ウレタンアクリレート
（ＥＢＥＣＲＹＬ ２２０、ダイセル・オルネクス（株）製） １００質量部
光重合開始剤（Ｉｒｇａｃｕｒｅ８１９、ＢＡＳＦ社製） ２質量部
上記のポリマー（Ａ） ０．０８質量部
メチルイソブチルケトン １２０質量部
【0155】
得られた光学部材（Ｆ－６）は、ホモジニアス配向した液晶化合物の配向状態を固定してなる層である光学異方性層と、光学異方性層に接して配置される光学等方性部材とを有する光学素子であった。光学等方性部材の凸部の形状および配置は、実施例１と同様であった。光学等方性部材のベース部の厚み（図１のベース部１８Ａの厚み）は０．４μｍであった。光学異方性層の厚みは３．０μｍであった。
なお、Ａｘｏｍｅｔｒｉｃｓ社のＡｘｏＳｃａｎ、および、同社の解析ソフトウェア（Ｍｕｌｔｉ－Ｌａｙｅｒ Ａｎａｌｙｓｉｓ）を用いて、光学素子（Ｆ－６）の光学特性を求めた。光学異方性層の波長５５０ｎｍにおける面内レタデーションは１４０ｎｍであり、フィルムの長手方向に対する面内遅相軸の角度は－４５°であった。
なお、Ａｘｏｍｅｔｒｉｃｓ社のＡｘｏＳｃａｎ、および、同社の解析ソフトウェア（Ｍｕｌｔｉ－Ｌａｙｅｒ Ａｎａｌｙｓｉｓ）を用いて、光学素子（Ｆ－６）の光学特性を求めた。光学異方性層の波長５５０ｎｍにおける面内レタデーションは１４０ｎｍであり、フィルムの長手方向に対する面内遅相軸の角度は－４５°であった。
【0156】
＜比較例２＞
実施例２と同様の手順に従って、上記ラビング処理した配向膜付きセルロースアシレートフィルムを基板として、ギーサー塗布機を用いて、上記組成物（２）を塗布して、組成物層を形成した。
次に、得られた組成物層を１２０℃で８０秒間加熱した。この加熱により組成物層の棒状液晶化合物が所定の方向に配向した。
その後、窒素パージを行って、酸素濃度１００体積ｐｐｍとして、メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を使用して紫外線を組成物層に照射することで液晶化合物の配向状態を固定し（照射量：５００ｍＪ／ｃｍ2）、λ／４板を含む光学フィルムを作製した。
なお、Ａｘｏｍｅｔｒｉｃｓ社のＡｘｏＳｃａｎ、および、同社の解析ソフトウェア（Ｍｕｌｔｉ－Ｌａｙｅｒ Ａｎａｌｙｓｉｓ）を用いて、λ／４板を含む光学フィルムの光学特性を求めた。光学異方性層の波長５５０ｎｍにおける面内レタデーションは１４０ｎｍであり、フィルムの長手方向に対する面内遅相軸の角度は－４５°であった。
実施例２と同様の手順に従って、上記ラビング処理した配向膜付きセルロースアシレートフィルムを基板として、ギーサー塗布機を用いて、上記組成物（２）を塗布して、組成物層を形成した。
次に、得られた組成物層を１２０℃で８０秒間加熱した。この加熱により組成物層の棒状液晶化合物が所定の方向に配向した。
その後、窒素パージを行って、酸素濃度１００体積ｐｐｍとして、メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を使用して紫外線を組成物層に照射することで液晶化合物の配向状態を固定し（照射量：５００ｍＪ／ｃｍ2）、λ／４板を含む光学フィルムを作製した。
なお、Ａｘｏｍｅｔｒｉｃｓ社のＡｘｏＳｃａｎ、および、同社の解析ソフトウェア（Ｍｕｌｔｉ－Ｌａｙｅｒ Ａｎａｌｙｓｉｓ）を用いて、λ／４板を含む光学フィルムの光学特性を求めた。光学異方性層の波長５５０ｎｍにおける面内レタデーションは１４０ｎｍであり、フィルムの長手方向に対する面内遅相軸の角度は－４５°であった。
【0157】
次に、実施例１で作製したセルロースアシレートフィルム（基板）上にギーサー塗布機を用いて、実施例５で用いた凹凸構造形成用組成物（１）を塗布して、組成物層を形成した。次に、未硬化の組成物層表面に賦形処理を施したフィルムを押し付けた状態で、窒素パージを行って、酸素濃度１００体積ｐｐｍとして、メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を使用して紫外線を組成物層に照射することで芳香族ウレタンアクリレートを硬化した（照射量：５００ｍＪ／ｃｍ2）。その後、賦形処理を施したフィルムを組成物層から剥離することで、最表面に凸部を有する凹凸構造フィルム（Ｓ）を２枚作製した。なお、凹凸の形状は実施例３と同じストライプ状であった。
【0158】
＜偏光子の作製＞
厚み８０μｍのポリビニルアルコール（ＰＶＡ）フィルムを、ヨウ素濃度０．０５質量％のヨウ素水溶液中に３０℃で６０秒間浸漬して染色した。次に、得られたフィルムをホウ酸濃度４質量％濃度のホウ酸水溶液中に６０秒間浸漬している間に元の長さの５倍に縦延伸した後、５０℃で４分間乾燥させて、厚み２０μｍの偏光子を得た。
厚み８０μｍのポリビニルアルコール（ＰＶＡ）フィルムを、ヨウ素濃度０．０５質量％のヨウ素水溶液中に３０℃で６０秒間浸漬して染色した。次に、得られたフィルムをホウ酸濃度４質量％濃度のホウ酸水溶液中に６０秒間浸漬している間に元の長さの５倍に縦延伸した後、５０℃で４分間乾燥させて、厚み２０μｍの偏光子を得た。
【0159】
＜偏光子保護フィルムの作製＞
市販のセルロースアシレート系フィルムのフジタックＴＧ４０ＵＬ（富士フイルム（株）製）を準備し、１．５モル／リットルで５５℃の水酸化ナトリウム水溶液中に浸漬した後、水で十分に水酸化ナトリウムを洗い流した。その後、０．００５モル／リットルで３５℃の希硫酸水溶液に得られたフィルムを１分間浸漬した後、水に浸漬し希硫酸水溶液を十分に洗い流した。最後に、得られたフィルムを１２０℃で十分に乾燥させて、表面を鹸化処理した偏光子保護フィルムを作製した。
市販のセルロースアシレート系フィルムのフジタックＴＧ４０ＵＬ（富士フイルム（株）製）を準備し、１．５モル／リットルで５５℃の水酸化ナトリウム水溶液中に浸漬した後、水で十分に水酸化ナトリウムを洗い流した。その後、０．００５モル／リットルで３５℃の希硫酸水溶液に得られたフィルムを１分間浸漬した後、水に浸漬し希硫酸水溶液を十分に洗い流した。最後に、得られたフィルムを１２０℃で十分に乾燥させて、表面を鹸化処理した偏光子保護フィルムを作製した。
【0160】
＜円偏光板の作製＞
前述の偏光子保護フィルムの作製と同様に、上記で作製した光学素子（Ｆ－１）～（Ｆ－６）を鹸化処理し、光学素子に含まれる基板面に、前述の偏光子および前述の偏光子保護フィルムをポリビニルアルコール系接着剤を用いて連続的に貼り合せ、長尺状の円偏光板（Ｐ－１）～（Ｐ－６）を作製した。つまり、円偏光板（Ｐ－１）～（Ｐ－６）は、偏光子保護フィルム、偏光子、基板、光学異方性層、および、光学等方性部材をこの順で有していた。
比較例２で作製した光学フィルムの基板面に、前述の偏光子および前述の偏光子保護フィルムをポリビニルアルコール系接着剤を用いて連続的に貼り合せた。さらに、得られた積層体のλ／４板側と、比較例２で作製した凹凸構造フィルム（Ｓ）の凹凸構造側を光学的透明な粘着剤（３Ｍ社製ＯＣＡテープ＃８１４６）を用いて貼り合わせた。さらに、得られた積層体の凹凸構造フィルム（Ｓ）の基板側と、もう１枚の凹凸構造フィルム（Ｓ）の凹凸構造側を光学的透明な粘着剤（３Ｍ社製ＯＣＡテープ＃８１４６）を用いて貼り合わせることで、円偏光板（Ｐ－７）を作製した。なお、２枚の凹凸構造フィルムは凸部が延在する方向が直交するように貼り合わせた。この円偏光板（Ｐ－７）では、光学異方性層と、凸部を有する光学等方性部材とが粘着剤を介して積層していた。この円偏光板（Ｐ－７）は、特許文献１の態様に該当する。
前述の偏光子保護フィルムの作製と同様に、上記で作製した光学素子（Ｆ－１）～（Ｆ－６）を鹸化処理し、光学素子に含まれる基板面に、前述の偏光子および前述の偏光子保護フィルムをポリビニルアルコール系接着剤を用いて連続的に貼り合せ、長尺状の円偏光板（Ｐ－１）～（Ｐ－６）を作製した。つまり、円偏光板（Ｐ－１）～（Ｐ－６）は、偏光子保護フィルム、偏光子、基板、光学異方性層、および、光学等方性部材をこの順で有していた。
比較例２で作製した光学フィルムの基板面に、前述の偏光子および前述の偏光子保護フィルムをポリビニルアルコール系接着剤を用いて連続的に貼り合せた。さらに、得られた積層体のλ／４板側と、比較例２で作製した凹凸構造フィルム（Ｓ）の凹凸構造側を光学的透明な粘着剤（３Ｍ社製ＯＣＡテープ＃８１４６）を用いて貼り合わせた。さらに、得られた積層体の凹凸構造フィルム（Ｓ）の基板側と、もう１枚の凹凸構造フィルム（Ｓ）の凹凸構造側を光学的透明な粘着剤（３Ｍ社製ＯＣＡテープ＃８１４６）を用いて貼り合わせることで、円偏光板（Ｐ－７）を作製した。なお、２枚の凹凸構造フィルムは凸部が延在する方向が直交するように貼り合わせた。この円偏光板（Ｐ－７）では、光学異方性層と、凸部を有する光学等方性部材とが粘着剤を介して積層していた。この円偏光板（Ｐ－７）は、特許文献１の態様に該当する。
【0161】
＜有機ＥＬ表示装置の作製および表示性能の評価＞
（表示装置への実装）
有機ＥＬパネル搭載のＳＡＭＳＵＮＧ社製ＧＡＬＡＸＹ Ｓ４を分解し、円偏光板を剥離して、そこに上記の実施例で作製した円偏光板（Ｐ－１）～（Ｐ－７）を、偏光子保護フィルムが外側に配置されるように、表示装置に粘着剤で貼り合せた。
（表示性能の評価）
（正面／黒表示）
作製した有機ＥＬ表示装置に黒表示をして、明るさの異なる環境下で正面方向より観察し、黒しまりの評価として反射光を下記の基準で評価した。結果を表１に示す。
１：１０００ｌｕｘの環境下でも反射光が視認されない。
２：１０００ｌｕｘの環境下では反射光が視認されるが、１００ｌｕｘの環境下では反射光が視認されない。
３：１００ｌｕｘの環境下では反射光が視認されるが、１０ｌｕｘの環境下では反射光が視認されない。
４：１０ｌｕｘの環境下でも反射光が視認される。
（表示装置への実装）
有機ＥＬパネル搭載のＳＡＭＳＵＮＧ社製ＧＡＬＡＸＹ Ｓ４を分解し、円偏光板を剥離して、そこに上記の実施例で作製した円偏光板（Ｐ－１）～（Ｐ－７）を、偏光子保護フィルムが外側に配置されるように、表示装置に粘着剤で貼り合せた。
（表示性能の評価）
（正面／黒表示）
作製した有機ＥＬ表示装置に黒表示をして、明るさの異なる環境下で正面方向より観察し、黒しまりの評価として反射光を下記の基準で評価した。結果を表１に示す。
１：１０００ｌｕｘの環境下でも反射光が視認されない。
２：１０００ｌｕｘの環境下では反射光が視認されるが、１００ｌｕｘの環境下では反射光が視認されない。
３：１００ｌｕｘの環境下では反射光が視認されるが、１０ｌｕｘの環境下では反射光が視認されない。
４：１０ｌｕｘの環境下でも反射光が視認される。
【0162】
（斜め／白表示）
作製した有機ＥＬ表示装置に白表示にして、極角４５°において全方位表から表示装置の色味を観察し、色味変化の方位角依存性を下記の基準で評価した。結果を表１に示す。
１：画像が全方位で白く視認される。
２：画像が特定の方位のみ青みがかって観察される。
３：画像が全方位で青みがかって観察される。
作製した有機ＥＬ表示装置に白表示にして、極角４５°において全方位表から表示装置の色味を観察し、色味変化の方位角依存性を下記の基準で評価した。結果を表１に示す。
１：画像が全方位で白く視認される。
２：画像が特定の方位のみ青みがかって観察される。
３：画像が全方位で青みがかって観察される。
【0163】
なお、実施例１～５にて作製された光学等方性部材に関しては、上述したセナルモン法にて切片サンプルのレタデーションを測定する方法において、光学的に等方性であることを確認した。
また、光学異方性層の平均屈折率および光学等方性部材の屈折率は、上述した方法にて測定した。
また、光学異方性層の平均屈折率および光学等方性部材の屈折率は、上述した方法にて測定した。
【0164】
表１中、「液晶種類」欄は、光学異方性層および光学等方性部材を作製するのに用いた液晶化合物の種類を表し、「順波長分散」は順波長分散性を示す液晶化合物を意味し、「逆波長分散」は逆波長分散性を示す液晶化合物を意味する。
表１中、「光学異方性層」欄は、光学異方性層中で固定された液晶化合物の配向状態を表し、「ホモジニアス配向／捩れ配向」は光学異方性層がホモジニアス配向した液晶化合物を固定してなる領域と捩れ配向した液晶化合物を固定してなる領域とを含むことを意味し、「ホモジニアス配向」は光学異方性層がホモジニアス配向した液晶化合物を固定してなる層であることを意味する。
表１中、「凸部」欄は、光学等方性部材が有する凸部の形状を表す。
表１中、「屈折率差」欄は、光学異方性層の平均屈折率と光学等方性部材の屈折率との差の絶対値を表す。
表１中、「接触」欄は、各実施例および比較例において光学異方性層と光学等方性部材とが接している場合は「Ａ」、接していない場合は「Ｂ」とする。
表１中、「光学異方性層」欄は、光学異方性層中で固定された液晶化合物の配向状態を表し、「ホモジニアス配向／捩れ配向」は光学異方性層がホモジニアス配向した液晶化合物を固定してなる領域と捩れ配向した液晶化合物を固定してなる領域とを含むことを意味し、「ホモジニアス配向」は光学異方性層がホモジニアス配向した液晶化合物を固定してなる層であることを意味する。
表１中、「凸部」欄は、光学等方性部材が有する凸部の形状を表す。
表１中、「屈折率差」欄は、光学異方性層の平均屈折率と光学等方性部材の屈折率との差の絶対値を表す。
表１中、「接触」欄は、各実施例および比較例において光学異方性層と光学等方性部材とが接している場合は「Ａ」、接していない場合は「Ｂ」とする。
【0165】
【表1】
【0166】
上記表１に示すように、本発明の光学素子は、所望の効果を示すことが確認された。
実施例１および２の表示装置は、斜め／白表示において、全方位で画像が白く視認され、表示性能が良好であった。実施例３の表示性能は、斜め／白表示において、凸部が延在する方向と直交する方向から観察した場合には画像が白く視認されたが、凸部が延在する方向に対して平行な方向から観察した場合には画像が青みがかって観察された。なお、実施例３の表示装置を全方位で画像白く視認されるためには、別途、ストライプ状の凸部を有する光学等方性部材を有する光学素子を別途用意し、この光学素子中の光学等方性部材の凸部が延在する方向と、実施例３の表示装置中に含まれる光学素子中の光学等方性部材の凸部が延在する方向と直交するような配置となるように、別途用意した光学素子を実施例３の表示装置にさらに積層させる方法がある。実施例４の表示装置は、凸部（構造部位）によって光学異方性層と粘着剤との界面の反射が抑制されるため正面／黒表示における反射光が視認されず、表示性能が良好であった。
実施例１および２の表示装置は、斜め／白表示において、全方位で画像が白く視認され、表示性能が良好であった。実施例３の表示性能は、斜め／白表示において、凸部が延在する方向と直交する方向から観察した場合には画像が白く視認されたが、凸部が延在する方向に対して平行な方向から観察した場合には画像が青みがかって観察された。なお、実施例３の表示装置を全方位で画像白く視認されるためには、別途、ストライプ状の凸部を有する光学等方性部材を有する光学素子を別途用意し、この光学素子中の光学等方性部材の凸部が延在する方向と、実施例３の表示装置中に含まれる光学素子中の光学等方性部材の凸部が延在する方向と直交するような配置となるように、別途用意した光学素子を実施例３の表示装置にさらに積層させる方法がある。実施例４の表示装置は、凸部（構造部位）によって光学異方性層と粘着剤との界面の反射が抑制されるため正面／黒表示における反射光が視認されず、表示性能が良好であった。
【符号の説明】
【0167】
１０Ａ，１０Ｂ，１０Ｃ，１０Ｄ 光学素子
１２，１２Ａ 光学異方性層
１４Ａ，１４Ｂ，１４Ｃ，１４Ｄ 光学等方性部材
１６Ａ，１６Ｂ，１６Ｃ，１６Ｄ 凸部
１８Ａ，１８Ｂ，１８Ｃ，１８Ｄ ベース部
２０，３０ 基板
２２，３２ 組成物層
２４ 金型
２６ 支持体
２８ 凸部
３２Ａ 下側領域
３２Ｂ 上側領域
３２Ｃ，３２Ｄ 領域
１２，１２Ａ 光学異方性層
１４Ａ，１４Ｂ，１４Ｃ，１４Ｄ 光学等方性部材
１６Ａ，１６Ｂ，１６Ｃ，１６Ｄ 凸部
１８Ａ，１８Ｂ，１８Ｃ，１８Ｄ ベース部
２０，３０ 基板
２２，３２ 組成物層
２４ 金型
２６ 支持体
２８ 凸部
３２Ａ 下側領域
３２Ｂ 上側領域
３２Ｃ，３２Ｄ 領域
【図1】
【図2】
【図3】
【図4】
【図5】
【図6】
【図7】
【図8】
【図9】
【図10】
【図11】
【図12】
【図13】
【図14】
【図15】
【図16】
【図17】
