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(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】公開特許公報(A)
(11)【公開番号】P2022187362
(43)【公開日】2022-12-19
(54)【発明の名称】ウェハ洗浄水供給装置
(51)【国際特許分類】
H01L 21/304 20060101AFI20221212BHJP
B01F 21/00 20220101ALI20221212BHJP
B01F 23/40 20220101ALI20221212BHJP
B01F 25/40 20220101ALI20221212BHJP
【ＦＩ】
H01L21/304 648K
H01L21/304 647Z
H01L21/304 648G
B01F1/00 A
B01F3/08 Z
B01F5/06
【審査請求】未請求
【請求項の数】5
【出願形態】ＯＬ
(21)【出願番号】P 2021095356
(22)【出願日】2021-06-07
(71)【出願人】
【識別番号】000001063
【氏名又は名称】栗田工業株式会社
(74)【代理人】
【識別番号】100108833
【弁理士】
【氏名又は名称】早川 裕司
(74)【代理人】
【識別番号】100162156
【弁理士】
【氏名又は名称】村雨 圭介
(72)【発明者】
【氏名】杉田 航
【テーマコード（参考）】
4G035
5F157
【Ｆターム（参考）】
4G035AA01
4G035AB28
4G035AB36
4G035AC26
4G035AE13
5F157BD04
5F157BD05
5F157BD06
5F157BD25
5F157BD33
5F157BD35
5F157BE12
5F157BE32
5F157BE43
5F157BE44
5F157BF39
5F157CF04
5F157CF14
5F157CF42
5F157CF44
5F157CF60
5F157CF99
5F157DB02
5F157DB03
5F157DC86
5F157DC90
(57)【要約】
【課題】 各種ガス成分を溶解した洗浄水を安定供給可能なウェハ洗浄水供給装置を提供する。
【解決手段】 ウェハ洗浄水供給装置１は、貯留槽２と、この貯留槽２に超純水Ｗを補給する補給管３と、この貯留槽２に接続した循環式のウェハ洗浄水供給管４とを有する。ウェハ洗浄水供給管４の供給側４Ａ側には、薬液の供給源７Ａと送液ポンプ７Ｂとが付設された供給管７が接続されているとともに、この供給管７より下流側には、ガス溶解膜モジュール８が設けられていて、このガス溶解膜モジュール８の気相側には、機能性ガスのガス供給管９が接続している。そして、貯留槽２には、ガス溶解膜モジュール８で溶解する機能性ガスと同じ機能性ガス供給源１１Ａに接続したガス供給管１１が接続していて、貯留槽２内をガス溶解膜モジュール８で溶解する機能性ガスでパージ可能となっている。
【選択図】 図１
【解決手段】 ウェハ洗浄水供給装置１は、貯留槽２と、この貯留槽２に超純水Ｗを補給する補給管３と、この貯留槽２に接続した循環式のウェハ洗浄水供給管４とを有する。ウェハ洗浄水供給管４の供給側４Ａ側には、薬液の供給源７Ａと送液ポンプ７Ｂとが付設された供給管７が接続されているとともに、この供給管７より下流側には、ガス溶解膜モジュール８が設けられていて、このガス溶解膜モジュール８の気相側には、機能性ガスのガス供給管９が接続している。そして、貯留槽２には、ガス溶解膜モジュール８で溶解する機能性ガスと同じ機能性ガス供給源１１Ａに接続したガス供給管１１が接続していて、貯留槽２内をガス溶解膜モジュール８で溶解する機能性ガスでパージ可能となっている。
【選択図】 図１
【特許請求の範囲】
【請求項1】
超純水又は薬剤溶液に対して機能性ガスを溶解したウェハ洗浄水をユースポイントに供給するウェハ洗浄水供給装置であって、
超純水、薬剤溶液又はウェハ洗浄水の貯留槽と、
前記貯留槽からユースポインを経由して該貯留槽に返送する循環式のウェハ洗浄水供給管と、
前記ウェハ洗浄水供給管の貯留槽とユースポインとの間に配置された送液手段と、
前記貯留槽に超純水、薬剤溶液又は機能性ガス溶解水を補給する補給管と、を備え、
前記貯留槽に超純水又は薬剤溶液に溶解する機能性ガスと同じ機能性ガスの供給管が接続されていて、該貯留槽内の空間が前記機能性ガスでパージ可能となっている、ウェハ洗浄水供給装置。
超純水、薬剤溶液又はウェハ洗浄水の貯留槽と、
前記貯留槽からユースポインを経由して該貯留槽に返送する循環式のウェハ洗浄水供給管と、
前記ウェハ洗浄水供給管の貯留槽とユースポインとの間に配置された送液手段と、
前記貯留槽に超純水、薬剤溶液又は機能性ガス溶解水を補給する補給管と、を備え、
前記貯留槽に超純水又は薬剤溶液に溶解する機能性ガスと同じ機能性ガスの供給管が接続されていて、該貯留槽内の空間が前記機能性ガスでパージ可能となっている、ウェハ洗浄水供給装置。
【請求項2】
前記補給管に前記超純水又は薬剤溶液の供給源が接続されており、該補給管から貯留槽に超純水又は薬剤溶液が供給され、前記循環式のウェハ洗浄水供給管の前記ユースポイントより上流側に前記機能性ガスを溶解するガス溶解膜モジュールが設けられている、請求項１に記載のウェハ洗浄水供給装置。
【請求項3】
前記補給管に超純水に機能性ガスを溶解した機能性ガス溶解水の供給源が接続されており、該補給管から貯留槽に機能性ガス溶解水が供給される、請求項１に記載のウェハ洗浄水供給装置。
【請求項4】
前記循環式のウェハ洗浄水供給管の前記ユースポイントより上流側に薬液注入機構を備える、請求項１～３のいずれか１項に記載のウェハ洗浄水供給装置。
【請求項5】
前記循環式のウェハ洗浄水供給管の前記ユースポイントより下流側に排水機構が付設されており、該排水機構より下流側にユースポイントから貯留槽に返送するウェハ洗浄水中の溶存ガス濃度の測定手段が設けられていて、前記溶存ガス濃度の数値が所定の値を超えると、前記循環式のウェハ洗浄水供給管が排水機構側に切替可能となっている、請求項１～４のいずれか１項に記載のウェハ洗浄水供給装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、半導体用ウェハの洗浄・リンス工程において有効な、各種ガス成分を溶解した洗浄水を安定供給できるウェハ洗浄水供給装置に関する。
【背景技術】
【0002】
半導体用シリコンウェハなどの洗浄工程では、ｐＨや酸化還元電位の制御に有効な溶質を超純水にごく低濃度溶解した水（以下、機能性水と呼ぶ）が使われることがある。この機能性水は、超純水を基本材料として、洗浄やリンス工程などそれぞれの工程の目的に合致したｐＨや酸化還元電位などの液性を持たせるために、ＨＣｌ、Ｈ２ＳＯ４及びＮａＯＨなどの酸・アルカリ、Ｈ２Ｏ２などの酸化剤、ＣＯ２、Ｈ２及びＯ３などのガス成分を微量添加したものである。ｐＨ調整と酸化性付与には、一般的に薬液をポンプ注入や密閉容器に充填した薬剤を不活性ガスによる加圧で押し出す方式で、液体の薬剤を微量添加（薬注）する方法が実用化されている。
【0003】
この場合、超純水の流量が一定であれば、所望の溶質濃度となるように薬注することは容易であるが、実際にウェハ洗浄水が用いられる洗浄機は複数台で構成されるので、ウェハに注がれる洗浄水の供給・停止が複数のバルブの開閉で制御されており、流量が不規則に変動する。この変動に対して、ウェハ洗浄水の溶質濃度が所望の範囲に収まるように超純水流量に対して供給する溶質の比例制御、濃度モニタの信号を受けてのＰＩＤ制御など、様々な手法による溶解コントロールが行われている。しかし、特に複数の洗浄チャンバを有する枚葉式洗浄機における不規則な流量変動に十分追随できる薬注コントロールは実現できていない。この対策として、最大使用量を想定したウェハ洗浄水を製造して洗浄機に供給することが考えられるが、これでは大幅に過剰量のウェハ洗浄水を供給することになるので、高価なウェハ洗浄水が無駄になってしまう。そこで、ウェハ洗浄水の節水を目的として貯留槽を設け、洗浄機で使用しないウェハ洗浄水を貯留槽に戻し循環する方式のウェハ洗浄水供給装置が特許文献１で提案されている。
【0004】
この貯留槽を設けウェハ洗浄水を貯留槽に戻し循環する方式のウェハ洗浄水供給装置の一例を図４に示す。図４においてウェハ洗浄水供給装置２１は、貯留槽２２と、この貯留槽２２に超純水Ｗを補給する補給管２３と、この貯留槽２２に接続した循環式のウェハ洗浄水供給管２４とを有する。循環式のウェハ洗浄水供給管２４は、送液ポンプ２５を介してユースポイント２６に洗浄水Ｗ１を送液可能となっている。そして、送液ポンプ２５側のウェハ洗浄水供給管２４とユースポイント２６との間の送液部（供給側２４Ａ）には、アンモニアや塩酸などの薬液の供給源２７Ａと送液ポンプ２７Ｂとが付設された供給管２７が接続されているとともに、この供給管２７より下流側には、膜式脱気装置２８と、ガス溶解膜モジュール２９とが順次設けられていて、このガス溶解膜モジュール２９の気相側には、Ｈ２、ＣＯ２、Ｏ３などの機能性ガス供給源３０Ａに連通したガス供給管３０が接続している。一方、ウェハ洗浄水供給管２４のユースポイント２６より下流側（返送側２４Ｂ）には、分離膜３１が設けられている。そして、貯留槽２２には、不活性ガスとしてのＮ２ガス源３２Ａに接続したガス供給管３２が接続していて、貯留槽２２内をＮ２ガスでパージ可能となっている。
【0005】
上述したようなウェハ洗浄水供給装置２１において、貯留槽２２に超純水Ｗを所定量貯留したら、送液ポンプ２５を駆動してウェハ洗浄水供給管２４に供給し、ｐＨ調整剤の供給管２７からｐＨ調整剤を添加して所望のｐＨに調整し、余分な溶存ガス成分を膜式脱気装置２８で除去した後、ガス溶解膜モジュール２９により所望の機能性ガス成分を溶解して洗浄水Ｗ１を調整し、この洗浄水Ｗ１をユースポイント２６に供給することで洗浄を行う。一方、未使用の洗浄水Ｗ１は、分離膜３１により微粒子を除去した後、返送側２４Ｂから貯留槽２２に戻すことで、洗浄水Ｗ１を効率よく利用している。この際、貯留槽２２をＮ２ガスでパージすることにより、貯留している超純水Ｗ（超純水Ｗ＋洗浄水Ｗ１）に酸素が溶解して溶存酸素（ＤＯ）が増加しないようになっている。そして、貯留槽２２内の貯留水量が所定量を下回ったら、超純水Ｗを補給することで、ユースポイント２６に安定的に洗浄水Ｗ１を供給可能となっている。
【0006】
上述したような機能性水において、所望のガス成分を溶解させる場合、この所望とする溶解ガス以外のガスが溶け込んでいると、所望とする溶解ガスの飽和濃度が低減し、必要なガス成分の濃度が得られないばかりか、ｐＨや酸化還元電位にも影響を与えかねない。このような対策として、特許文献１では、ガス溶解膜モジュール２９の前段に膜式脱気装置２８を設置している。また、特許文献２及び特許文献３にも、溶存ガスのＤＯを除去するため、ガス溶解膜モジュールの前段に脱気膜モジュールを設置することが記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0007】
【特許文献1】特開２０１８－１８２０９９号公報
【特許文献2】特開２０１４－２２５５７０号公報
【特許文献3】特許第６０２０６２６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0008】
しかしながら、貯留槽２２に超純水Ｗを貯留して循環させる方式では、循環する過程で洗浄水Ｗ１に酸素が溶解するだけでなく、貯留槽２２の残存空間に存在する酸素も溶解し、機能性水の溶存酸素（ＤＯ）が上昇してしまう、という問題点がある。そこで、循環する機能性水のＤＯを抑制するために、貯留槽２２にＮ２ガスをパージしているが、この方式では洗浄水Ｗ１に溶解するガス成分がＮ２ガスと異なる場合、貯留槽で供給水にＮ２が溶解する。したがって、ガス溶解膜モジュールで十分にガス溶解が進まないことが懸念される。この対策として、特許文献２，３のようにガス溶解膜モジュールの前段に脱気膜モジュールを設置することが考えられるが、この場合、機能性水水中に含まれる所望とする溶解ガス成分も同時に除去されるため、所望とする溶解ガス成分の溶解ロスが多くなってしまう、という問題がある。また、ガス溶解膜モジュール２９の前段に膜式脱気装置２８を設置しなければならず、装置の構成要素が増加し、設置スペースも大きくなる、という問題がある。
【0009】
本発明は上記課題に鑑みてなされたものであり、各種ガス成分を溶解した洗浄水を安定供給可能なウェハ洗浄水供給装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【0010】
上記目的に鑑み本発明は、超純水又は薬剤溶液に対して機能性ガスを溶解したウェハ洗浄水をユースポイントに供給するウェハ洗浄水供給装置であって、超純水、薬剤溶液又はウェハ洗浄水の貯留槽と、前記貯留槽からユースポインを経由して該貯留槽に返送する循環式のウェハ洗浄水供給管と、前記ウェハ洗浄水供給管の貯留槽とユースポインとの間に配置された送液手段と、前記貯留槽に超純水、薬剤溶液又は機能性ガス溶解水を補給する補給管とを備え、前記貯留槽に超純水又は薬剤溶液に溶解する機能性ガスと同じ機能性ガスの供給管が接続されていて、該貯留槽内の空間が前記機能性ガスでパージ可能となっている、ウェハ洗浄水供給装置を提供する（発明１）。
【0011】
かかる発明（発明１）によれば、貯留槽に超純水に溶解する機能性ガスと同じガスをパージすることにより、貯留槽に貯留されている超純水やウェハ洗浄水に他のガス成分が溶解するのを抑制することができるので、溶解する機能性ガスの飽和濃度が低減することがなく、安定した機能性ガスガス濃度のウェハ洗浄水をユースポイントに供給することができる。
【0012】
上記発明（発明１）においては、前記補給管に前記超純水又は薬剤溶液の供給源が接続されており、該補給管から貯留槽に超純水又は薬剤溶液が供給され、前記循環式のウェハ洗浄水供給管の前記ユースポイントより上流側に前記機能性ガスを溶解するガス溶解膜モジュールが設けられていることが好ましい（発明２）。
【0013】
かかる発明（発明２）によれば、超純水又は薬剤溶液にガス溶解膜モジュールにより所望とするガス成分を溶解してウェハ洗浄水を調整するに際し、超純水又は薬剤溶液に所望とするガス成分以外の気体の溶解が抑制されているので、ガス溶解膜モジュールの前段で膜式脱気装置により溶存ガスを脱気する必要がなく、安定した機能性ガスの濃度のウェハ洗浄水を供給することができる。
【0014】
上記発明（発明１）においては、前記補給管に超純水に機能性ガスを溶解した機能性ガス溶解水の供給源が接続されており、該補給管から貯留槽に機能性ガス溶解水が供給されることが好ましい（発明３）。
【0015】
かかる発明（発明３）によれば、所望とするガス成分の機能性ガス溶解水において、所望とするガス成分以外の期待の溶解が抑制されているので、安定した機能性ガスの濃度のウェハ洗浄水を供給することができる。
【0016】
上記発明（発明１～３）においては、前記循環式のウェハ洗浄水供給管の前記ユースポイントより上流側に薬液注入機構を備えることが好ましい（発明４）。
【0017】
かかる発明（発明４）によれば、機能性ガスを溶解するとともにｐＨ調整剤や酸化還元電位調整剤を添加したガス溶解水のウェハ洗浄水を安定して供給することができる。
【0018】
上記発明（発明１～４）においては、前記循環式のウェハ洗浄水供給管の前記ユースポイントより下流側に排水機構が付設されており、該排水機構より下流側にユースポイントから貯留槽に返送するウェハ洗浄水中の溶存ガス濃度の測定手段が設けられていて、前記溶存ガス濃度の数値が所定の値を超えると、前記循環式のウェハ洗浄水供給管が排水機構側に切替可能となっていることが好ましい（発明５）。
【0019】
かかる発明（発明５）によれば、貯留槽に返送するウェハ洗浄水中の溶存ガス濃度を測定し、溶存ガス濃度の数値が所定の値を超えたら、所望とする機能性ガス以外の他のガス成分が溶解したとみなして、前記循環式のウェハ洗浄水供給管を排水機構側に切替えて、これを排出することにより、貯留槽を含む循環流路内を流通するウェハ洗浄水などにおける他のガス成分の濃度を抑制し、所望とする機能性ガスの溶存濃度が安定したウェハ洗浄水を継続してユースポイントに供給することができる。
【発明の効果】
【0020】
本発明のウェハ洗浄水供給装置によれば、貯留槽に超純水に溶解する機能性ガスと同じガスをパージすることにより、貯留槽に貯留されている超純水やウェハ洗浄水に他のガス成分が溶解するのを抑制することができるので、安定した機能性ガスの濃度のウェハ洗浄水をユースポイントに供給することができる。これにより、他のガス成分を排除するための脱気膜装置を設ける必要がなくなるので、装置の構成要素を少なくすることができ、設置スペースも小さくすることができる。さらに、機能性ガスの消費量を低減することができるので、環境負荷の低減も可能となる。
【図面の簡単な説明】
【0021】
【図1】本発明の第一の実施形態によるウェハ洗浄水供給装置を示す概略図である。
【図2】本発明の第二の実施形態によるウェハ洗浄水供給装置を示す概略図である。
【図3】本発明の第三の実施形態によるウェハ洗浄水供給装置を示す概略図である。
【図4】従来のウェハ洗浄水供給装置を示す概略図である。
【発明を実施するための形態】
【0022】
＜第一の実施形態＞
以下、本発明のウェハ洗浄水供給装置の第一の実施形態について添付図面を参照にして詳細に説明する。
以下、本発明のウェハ洗浄水供給装置の第一の実施形態について添付図面を参照にして詳細に説明する。
【0023】
〔ウェハ洗浄水供給装置〕
図１は、本発明の第一の実施形態によるウェハ洗浄水供給装置を示している。図１において、ウェハ洗浄水供給装置１は、貯留槽２と、この貯留槽２に超純水供給源３Ａから超純水Ｗを補給する補給管３と、この貯留槽２に接続した循環式のウェハ洗浄水供給管４とを有する。循環式のウェハ洗浄水供給管４は、送液手段としての送液ポンプ５を介してユースポイント６に洗浄水Ｗ１を送液可能となっている。そして、ウェハ洗浄水供給管４とユースポイント６との間の送液ポンプ５側（供給側４Ａ）には、アンモニアや塩酸などの薬液の供給源７Ａとこの薬液の送液ポンプ７Ｂとが付設された供給管７が接続されているとともに、この供給管７より下流側には、ガス溶解膜モジュール８が設けられていて、このガス溶解膜モジュール８の気相側には、Ｈ２、ＣＯ２、Ｏ３などの機能性ガス供給源９Ａに連通したガス供給管９が接続している。なお、本実施形態においては、機能性ガスとしてＮ２を用いないことが望ましい。一方、ウェハ洗浄水供給管４のユースポイント６より下流側（返送側４Ｂ）には、分離膜１０が設けられている。なお、本実施形態においては、機能性ガスとしてＮ２を用いないことが望ましい。
図１は、本発明の第一の実施形態によるウェハ洗浄水供給装置を示している。図１において、ウェハ洗浄水供給装置１は、貯留槽２と、この貯留槽２に超純水供給源３Ａから超純水Ｗを補給する補給管３と、この貯留槽２に接続した循環式のウェハ洗浄水供給管４とを有する。循環式のウェハ洗浄水供給管４は、送液手段としての送液ポンプ５を介してユースポイント６に洗浄水Ｗ１を送液可能となっている。そして、ウェハ洗浄水供給管４とユースポイント６との間の送液ポンプ５側（供給側４Ａ）には、アンモニアや塩酸などの薬液の供給源７Ａとこの薬液の送液ポンプ７Ｂとが付設された供給管７が接続されているとともに、この供給管７より下流側には、ガス溶解膜モジュール８が設けられていて、このガス溶解膜モジュール８の気相側には、Ｈ２、ＣＯ２、Ｏ３などの機能性ガス供給源９Ａに連通したガス供給管９が接続している。なお、本実施形態においては、機能性ガスとしてＮ２を用いないことが望ましい。一方、ウェハ洗浄水供給管４のユースポイント６より下流側（返送側４Ｂ）には、分離膜１０が設けられている。なお、本実施形態においては、機能性ガスとしてＮ２を用いないことが望ましい。
【0024】
このようなウェハ洗浄水供給装置１において、貯留槽２には、ガス溶解膜モジュール８で溶解する機能性ガスと同じ機能性ガスの供給源１１Ａに接続したガス供給管１１が接続していて、貯留槽２内を機能性ガスでパージ可能となっている。そして、ウェハ洗浄水供給管４の返送側４Ｂの分離膜１０より下流側には、排水機構としての排出管１２が接続されていて、この排出管１２の接続箇所より上流側には、溶存ガス濃度の測定手段としての溶存ガスモニタ１３が設けられていて、この溶存ガスモニタ１３は図示しないパーソナルコンピュータなどの制御手段に接続されている。この制御手段は、溶存ガスモニタ１３の検出値に基づいて、返送される洗浄水Ｗ１をウェハ洗浄水供給管４側と排出管１２側とに切り替え可能となっている。
【0025】
（超純水）
本実施形態において、原水となる超純水Ｗとしては、例えば、抵抗率：１８．１ＭΩ・ｃｍ以上、微粒子：粒径５０ｎｍ以上で１０００個／Ｌ以下、生菌：１個／Ｌ以下、ＴＯＣ（ＴｏｔＡｌ ＯｒｇＡｎｉｃ ＣＡｒｂｏｎ）：１μｇ／Ｌ以下、全シリコン：０．１μｇ／Ｌ以下、金属類：１ｎｇ／Ｌ以下、イオン類：１０ｎｇ／Ｌ以下、過酸化水素；３０μｇ／Ｌ以下、水温：２５±２℃のものが好適である。
本実施形態において、原水となる超純水Ｗとしては、例えば、抵抗率：１８．１ＭΩ・ｃｍ以上、微粒子：粒径５０ｎｍ以上で１０００個／Ｌ以下、生菌：１個／Ｌ以下、ＴＯＣ（ＴｏｔＡｌ ＯｒｇＡｎｉｃ ＣＡｒｂｏｎ）：１μｇ／Ｌ以下、全シリコン：０．１μｇ／Ｌ以下、金属類：１ｎｇ／Ｌ以下、イオン類：１０ｎｇ／Ｌ以下、過酸化水素；３０μｇ／Ｌ以下、水温：２５±２℃のものが好適である。
【0026】
（薬液）
超純水Ｗに溶解する薬剤としては、例えば、ｐＨ調整剤を用いることができる。このｐＨ調整剤としては特に制限はないが、ｐＨ７未満に調整する場合には、塩酸、硝酸、硫酸、酢酸などの酸性溶液を用いることができる。また、ｐＨ７以上に調整する場合には、アンモニア、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム又はＴＭＡＨ等のアルカリ性溶液を用いることができる。このｐＨ調整剤は、超純水Ｗに導電性を付与する導電性付与物質としても機能する。
超純水Ｗに溶解する薬剤としては、例えば、ｐＨ調整剤を用いることができる。このｐＨ調整剤としては特に制限はないが、ｐＨ７未満に調整する場合には、塩酸、硝酸、硫酸、酢酸などの酸性溶液を用いることができる。また、ｐＨ７以上に調整する場合には、アンモニア、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム又はＴＭＡＨ等のアルカリ性溶液を用いることができる。このｐＨ調整剤は、超純水Ｗに導電性を付与する導電性付与物質としても機能する。
【0027】
また、薬剤として酸化還元電位調整剤を添加することもできる。この酸化還元電位調整剤としては、酸化還元電位を高く（プラス側）調整する場合には、過酸化水素水などを用いることができる。また、酸化還元電位を低く（マイナス側）調整する場合にはシュウ酸、硫化水素、ヨウ化カリウムなどの溶液を用いることができる。
【0028】
これらｐＨ調整剤又は酸化還元電位調整剤は、いずれか一方を添加してもよいし、両方を添加してもよい。
【0029】
〔ウェハ洗浄水の供給方法〕
次に前述したような構成を有する本実施形態のウェハ洗浄水供給装置１を用いたウェハ洗浄水の供給方法について説明する。
次に前述したような構成を有する本実施形態のウェハ洗浄水供給装置１を用いたウェハ洗浄水の供給方法について説明する。
【0030】
（ウェハ洗浄水製造工程）
まず、補給管３から超純水Ｗを貯留槽２に供給する。この貯留槽２に超純水Ｗが所定量溜まったら、送液ポンプ５を駆動して超純水Ｗをウェハ洗浄水供給管４に送液する。このとき薬液供給源７Ａから供給された薬液が供給管７の合流地点で超純水Ｗに薬注され薬剤溶液を調整する。その後、ガス溶解膜モジュール８の気相側に機能性ガス供給源９ＡからＨ２、ＣＯ２、Ｏ３などの機能性ガスを供給して、薬剤溶液にこれを溶解することでウェハ洗浄水Ｗ１を製造する。
まず、補給管３から超純水Ｗを貯留槽２に供給する。この貯留槽２に超純水Ｗが所定量溜まったら、送液ポンプ５を駆動して超純水Ｗをウェハ洗浄水供給管４に送液する。このとき薬液供給源７Ａから供給された薬液が供給管７の合流地点で超純水Ｗに薬注され薬剤溶液を調整する。その後、ガス溶解膜モジュール８の気相側に機能性ガス供給源９ＡからＨ２、ＣＯ２、Ｏ３などの機能性ガスを供給して、薬剤溶液にこれを溶解することでウェハ洗浄水Ｗ１を製造する。
【0031】
（ウェハ洗浄水供給・返送工程）
このようにしてウェハ洗浄水Ｗ１を調製したら、ユースポイント６に供給して枚葉式の洗浄機などで必要量が消費され、未使用分は返送側４Ｂから分離膜１０により微粒子を除去された後、貯留槽２に返送される。
このようにしてウェハ洗浄水Ｗ１を調製したら、ユースポイント６に供給して枚葉式の洗浄機などで必要量が消費され、未使用分は返送側４Ｂから分離膜１０により微粒子を除去された後、貯留槽２に返送される。
【0032】
このとき本実施形態においては、返送するウェハ洗浄水Ｗ１の溶存ガス濃度を溶存ガスモニタ１３で測定する。この循環の過程でウェハ洗浄水Ｗ１に溶解した機能性ガスと異なるガスが溶解すると、ウェハ洗浄水Ｗ１の溶存ガス濃度が上昇するので、溶存ガスモニタ１３の計測値が所定の管理値以上になったら、ウェハ洗浄水供給管４を貯留槽２から排出管１２側に切り替えて、外部に排出することで、ウェハ洗浄水供給管４を循環するウェハ洗浄水Ｗ１の溶存ガス濃度を一定に保つことができるようになっている。この管理値は例えば、所望とする機能性ガスの溶解による溶存ガス濃度に対して溶存ガス濃度が５０％以上、特に３０％以上、さらには１０％以上増加したらウェハ洗浄水Ｗ１を排出するように制御すればよい。
【0033】
このようにしてウェハ洗浄水Ｗ１は貯留槽２に返送されるが、本実施形態においては、貯留槽２は超純水Ｗ１に溶解する機能性ガスと同じ機能性でパージされているので、貯留槽２において、他のガス成分が溶解することがなく、ウェハ洗浄水Ｗ１における機能性ガスの溶存ガス濃度を略一定に保つことができる。なお、貯留槽２の水位が所定の値を下回ったら超純水供給源３Ａから補給管３を介して超純水Ｗを貯留槽２に供給し、上述したようなウェハ洗浄水Ｗ１の製造・供給・返送を繰り返せばよい。
【0034】
このように本実施形態においては、超純水Ｗに溶解する機能性ガスと同じガスで貯留槽２をパージしているので、貯留槽２において機能性ガス以外のガス成分が超純水Ｗ（又は超純水Ｗ＋ウェハ洗浄水Ｗ１）に溶解することを防止することができる。このため、他のガス成分を排除するための脱気膜装置を設ける必要がなくなるので、ウェハ洗浄水供給装置１の構成要素を少なくすることができ、かつウェハ洗浄水供給装置１の設置スペースも小さくすることができる。さらに、機能性ガスの脱気に伴うロスがなくなるので、その消費量を低減することができ、環境負荷の低減に寄与することができる。
【0035】
＜第二の実施形態＞
次に本発明の第二の実施形態について説明する。
次に本発明の第二の実施形態について説明する。
【0036】
［ウェハ洗浄水供給装置］
図２は、本発明の第二の実施形態によるウェハ洗浄水供給装置を示している。第二の実施形態のウェハ洗浄水供給装置１は、前述した第一の実施形態において、貯留槽２には、補給管３を介して超純水供給源３Ａの代わりに超純水に薬液を溶解した薬剤溶液としての機能性水（ＦＷ）の供給源３Ｂが接続しており、薬液の供給源７Ａ、薬液の送液ポンプ７Ｂ及び供給管７を有しない以外、同じ構成を有するので、同一の構成には同一の符号を付し、その詳細な説明を省略する。
図２は、本発明の第二の実施形態によるウェハ洗浄水供給装置を示している。第二の実施形態のウェハ洗浄水供給装置１は、前述した第一の実施形態において、貯留槽２には、補給管３を介して超純水供給源３Ａの代わりに超純水に薬液を溶解した薬剤溶液としての機能性水（ＦＷ）の供給源３Ｂが接続しており、薬液の供給源７Ａ、薬液の送液ポンプ７Ｂ及び供給管７を有しない以外、同じ構成を有するので、同一の構成には同一の符号を付し、その詳細な説明を省略する。
【0037】
〔ウェハ洗浄水の供給方法〕
次に前述したような構成を有する本実施形態のウェハ洗浄水供給装置１を用いたウェハ洗浄水の供給方法について説明する。
次に前述したような構成を有する本実施形態のウェハ洗浄水供給装置１を用いたウェハ洗浄水の供給方法について説明する。
【0038】
（ウェハ洗浄水製造工程）
まず、補給管３から機能性水ＦＷを貯留槽２に供給する。この貯留槽２に機能性水ＦＷが所定量溜まったら、送液ポンプ５を駆動して機能性水ＦＷをウェハ洗浄水供給管４に送液する。この機能性水ＦＷにガス溶解膜モジュール８において該ガス溶解膜モジュール８の気相側に機能性ガス供給源９ＡからＨ２、ＣＯ２、Ｏ３などの機能性ガスを供給して、これを溶解することでウェハ洗浄水Ｗ１を製造する。
まず、補給管３から機能性水ＦＷを貯留槽２に供給する。この貯留槽２に機能性水ＦＷが所定量溜まったら、送液ポンプ５を駆動して機能性水ＦＷをウェハ洗浄水供給管４に送液する。この機能性水ＦＷにガス溶解膜モジュール８において該ガス溶解膜モジュール８の気相側に機能性ガス供給源９ＡからＨ２、ＣＯ２、Ｏ３などの機能性ガスを供給して、これを溶解することでウェハ洗浄水Ｗ１を製造する。
【0039】
（ウェハ洗浄水供給・返送工程）
この調製されたウェハ洗浄水Ｗ１は、前述した第一の実施形態と同様にウェハ洗浄水Ｗ１をユースポイント６に供給・返送する。その際、溶存ガスモニタ１３の計測値が所定の管理値以上になったら排出管１２からウェハ洗浄水Ｗ１を外部に排出すればよい。
この調製されたウェハ洗浄水Ｗ１は、前述した第一の実施形態と同様にウェハ洗浄水Ｗ１をユースポイント６に供給・返送する。その際、溶存ガスモニタ１３の計測値が所定の管理値以上になったら排出管１２からウェハ洗浄水Ｗ１を外部に排出すればよい。
【0040】
このようにしてウェハ洗浄水Ｗ１は貯留槽２に返送されるが、本実施形態においては、貯留槽２は、機能性水ＦＷに溶解する機能性ガスと同じ機能性でパージされているので、貯留槽２において機能性ガス以外のガス成分が機能性水ＦＷ（又は機能性水ＦＷ＋ウェハ洗浄水Ｗ１）に溶解することを防止することができる。これにより貯留槽２において、機能性ガスと異なる他のガス成分が溶解することがなく、ウェハ洗浄水Ｗ１の溶存ガス濃度を一定に保つことができる。なお、貯留槽２の水位が所定の値を下回ったら機能性水の供給源３Ｂから補給管３を介して機能性水ＦＷを貯留槽２に供給し、上述したようなウェハ洗浄水Ｗ１の製造・供給・返送を繰り返せばよい。
【0041】
＜第三の実施形態＞
以下、本発明の第三の実施形態について説明する。
以下、本発明の第三の実施形態について説明する。
【0042】
［ウェハ洗浄水供給装置］
図３は、本発明の第三の実施形態によるウェハ洗浄水供給装置を示している。第三の実施形態のウェハ洗浄水供給装置１は、前述した第二の実施形態において、貯留槽２には、補給管３を介して薬液を溶解した機能性水（ＦＷ）の供給源３Ｂの代わりに、超純水に機能性ガスを溶解した機能性ガス溶解水にさらに薬液を溶解したウェハ洗浄水Ｗ１の供給源３Ｃが接続しており、ウェハ洗浄水供給管４の供給側４Ａにガス溶解膜モジュール８、機能性ガス供給源９Ａ及びガス供給管９を有しない一方、微粒子除去フィルタ１４を有する以外、同じ構成を有するので、同一の構成には同一の符号を付し、その詳細な説明を省略する。
図３は、本発明の第三の実施形態によるウェハ洗浄水供給装置を示している。第三の実施形態のウェハ洗浄水供給装置１は、前述した第二の実施形態において、貯留槽２には、補給管３を介して薬液を溶解した機能性水（ＦＷ）の供給源３Ｂの代わりに、超純水に機能性ガスを溶解した機能性ガス溶解水にさらに薬液を溶解したウェハ洗浄水Ｗ１の供給源３Ｃが接続しており、ウェハ洗浄水供給管４の供給側４Ａにガス溶解膜モジュール８、機能性ガス供給源９Ａ及びガス供給管９を有しない一方、微粒子除去フィルタ１４を有する以外、同じ構成を有するので、同一の構成には同一の符号を付し、その詳細な説明を省略する。
【0043】
〔ウェハ洗浄水の供給方法〕
次に前述したような構成を有する本実施形態のウェハ洗浄水供給装置１を用いたウェハ洗浄水の供給方法について説明する。
次に前述したような構成を有する本実施形態のウェハ洗浄水供給装置１を用いたウェハ洗浄水の供給方法について説明する。
【0044】
（ウェハ洗浄水供給工程）
まず、補給管３からウェハ洗浄水Ｗ１を貯留槽２に供給する。この貯留槽２にウェハ洗浄水Ｗ１が所定量溜まったら、送液ポンプ５を駆動してウェハ洗浄水供給管４にウェハ洗浄水Ｗ１を送液する。このウェハ洗浄水Ｗ１は、微粒子除去フィルタ１４により微粒子を除去された後ユースポイント６に供給される。
まず、補給管３からウェハ洗浄水Ｗ１を貯留槽２に供給する。この貯留槽２にウェハ洗浄水Ｗ１が所定量溜まったら、送液ポンプ５を駆動してウェハ洗浄水供給管４にウェハ洗浄水Ｗ１を送液する。このウェハ洗浄水Ｗ１は、微粒子除去フィルタ１４により微粒子を除去された後ユースポイント６に供給される。
【0045】
（ウェハ洗浄水返送工程）
このウェハ洗浄水Ｗ１はユースポイント６の枚葉式の洗浄機などで必要量が消費され、未使用分は返送側４Ｂから分離膜１０により微粒子を除去された後、貯留槽２に返送される。その後は、前述した第一の実施形態と同様に溶存ガスモニタ１３の計測値が所定の管理値以上になったら排出管１２からウェハ洗浄水Ｗ１を外部に排出すればよい。
このウェハ洗浄水Ｗ１はユースポイント６の枚葉式の洗浄機などで必要量が消費され、未使用分は返送側４Ｂから分離膜１０により微粒子を除去された後、貯留槽２に返送される。その後は、前述した第一の実施形態と同様に溶存ガスモニタ１３の計測値が所定の管理値以上になったら排出管１２からウェハ洗浄水Ｗ１を外部に排出すればよい。
【0046】
このようにしてウェハ洗浄水Ｗ１は貯留槽２に返送されるが、本実施形態においては、貯留槽２は、ウェハ洗浄水Ｗ１に溶解する機能性ガスと同じ機能性でパージされているので、貯留槽２において、機能性ガス以外の他のガス成分がウェハ洗浄水Ｗ１に溶解することがなく、ウェハ洗浄水Ｗ１の溶存ガス濃度を一定に保つことができる。なお、貯留槽２の水位が所定の値を下回ったら機能性水の供給源３Ｂから補給管３を介して機能性水ＦＷを貯留槽２に供給し、上述したようなウェハ洗浄水Ｗ１の製造・供給・返送を繰り返せばよい。
【0047】
以上、本発明について添付図面を参照にして実施形態に基づき説明してきたが、本発明は上記の実施形態に限定されず、種々の変更実施が可能である。例えば、第一の実施形態においては、薬液の供給源７Ａから送液ポンプ７Ｂにより、供給側４Ａに薬液を供給しているが、送液ポンプ７Ｂを用いずに、密閉容器に薬液をＮ２ガスなどの不活性ガスとともに入れておき、不活性ガスの圧力によりこの薬液を押し出す加圧押出式ポンプも好適に用いることができる。また、薬液としてｐＨ調整剤や酸化還元電位調整剤を添加する場合には、ウェハ洗浄水Ｗ１のｐＨや酸化還元電位を計測するｐＨ計やＯＲＰ計などを有していてもよい。そして、この計測値に基づいて薬液の注入量を制御するようにしてもよい。さらに、場合によっては排出管１２を設けずに、溶存ガスモニタ１３による溶存ガス濃度の測定のみを行うようにしてもよく、必要に応じて膜式脱気装置などの脱気膜を返送側４Ｂの貯留槽２の前段に設けてもよい。また、溶存ガス濃度は、溶存酸素濃度など溶解させたい機能性ガス以外の個別のガスを計測することで概算しても良い。
【実施例0048】
以下の具体的実施例により本発明をさらに詳細に説明する。
【0049】
［実施例１］
図１に示すウェハ洗浄水供給装置１において、１５０Ｌの超純水Ｗを貯留槽２に供給したら送液ポンプ５を駆動して、この超純水Ｗをウェハ洗浄水供給管４の供給側４Ａに送液した。この超純水Ｗに対し、供給管７から導電率が１μＳ／ｃｍとなるようにアンモニア（導電性付与物質）を添加し、さらにガス供給管９からガス溶解膜モジュール８の気相室側に水素濃度１．４ｐｐｍとなるよう水素を添加してウェハ洗浄水Ｗ１を製造した。
図１に示すウェハ洗浄水供給装置１において、１５０Ｌの超純水Ｗを貯留槽２に供給したら送液ポンプ５を駆動して、この超純水Ｗをウェハ洗浄水供給管４の供給側４Ａに送液した。この超純水Ｗに対し、供給管７から導電率が１μＳ／ｃｍとなるようにアンモニア（導電性付与物質）を添加し、さらにガス供給管９からガス溶解膜モジュール８の気相室側に水素濃度１．４ｐｐｍとなるよう水素を添加してウェハ洗浄水Ｗ１を製造した。
【0050】
この洗浄水Ｗ１を枚葉式洗浄機を備えたユースポイント６に供給し、ユースポイント６で使用しなかった洗浄水Ｗ１をウェハ洗浄水供給管４の返送側４Ｂから分離膜１０により微粒子を除去した後、水素ガスをパージした貯留槽２に返送し、貯留槽２に超純水Ｗを適宜補充しながらこれを繰り返すことで循環させた。この際、返送するウェハ洗浄水Ｗ１の溶存ガス濃度を溶存ガスモニタ１３で測定し、溶存ガス濃度が水素の溶解量に対して３０％以上増加したら、ウェハ洗浄水Ｗ１を排出管１２から排出し、２０％未満となったら貯留槽２に返送する制御とした。１時間経過後の洗浄水Ｗ１の溶存ガス濃度を測定したところ、溶存水素ガス濃度を初期設定値に対し±１０％以下に制御することができた。
【0051】
［比較例１］
実施例１において、貯留槽２にＮ２ガスをパージし、超純水Ｗを適宜補充することを繰り返すことでユースポイントに供給しながら循環させた。この際、溶存ガス濃度の計測結果による洗浄水Ｗ１の排出は行なわず、循環を継続した。１時間経過後の洗浄水Ｗ１の溶存ガス濃度を測定したところ、溶存ガス濃度が水素の溶解量に対して１００％以上増加しており、水素以外のガス、例えば、酸素、窒素、二酸化炭素などが溶解し、水素濃度が低下していると推測でき、酸化還元電位が変動して実施例１におけるウェハ洗浄水Ｗ１として不適当であった。
実施例１において、貯留槽２にＮ２ガスをパージし、超純水Ｗを適宜補充することを繰り返すことでユースポイントに供給しながら循環させた。この際、溶存ガス濃度の計測結果による洗浄水Ｗ１の排出は行なわず、循環を継続した。１時間経過後の洗浄水Ｗ１の溶存ガス濃度を測定したところ、溶存ガス濃度が水素の溶解量に対して１００％以上増加しており、水素以外のガス、例えば、酸素、窒素、二酸化炭素などが溶解し、水素濃度が低下していると推測でき、酸化還元電位が変動して実施例１におけるウェハ洗浄水Ｗ１として不適当であった。
【0052】
［実施例２］
図１に示すウェハ洗浄水供給装置１において、１５０Ｌの超純水Ｗを貯留槽２に供給したら送液ポンプ５を駆動して、この超純水Ｗをウェハ洗浄水供給管４の供給側４Ａに送液した。この超純水Ｗに対し、供給管７から導電率が１００μＳ／ｃｍとなるようにアンモニア（導電性付与物質）を添加し、さらにガス供給管９からガス溶解膜モジュール８の気相室側にオゾン（Ｏ３）を３０ｐｐｍとなるよう添加してウェハ洗浄水Ｗ１を製造した。
図１に示すウェハ洗浄水供給装置１において、１５０Ｌの超純水Ｗを貯留槽２に供給したら送液ポンプ５を駆動して、この超純水Ｗをウェハ洗浄水供給管４の供給側４Ａに送液した。この超純水Ｗに対し、供給管７から導電率が１００μＳ／ｃｍとなるようにアンモニア（導電性付与物質）を添加し、さらにガス供給管９からガス溶解膜モジュール８の気相室側にオゾン（Ｏ３）を３０ｐｐｍとなるよう添加してウェハ洗浄水Ｗ１を製造した。
【0053】
この洗浄水Ｗ１を枚葉式洗浄機を備えたユースポイント６に供給し、ユースポイント６で使用しなかった洗浄水Ｗ１をウェハ洗浄水供給管４の返送側４Ｂから分離膜１０により微粒子を除去した後、オゾンガスをパージした貯留槽２に返送し、貯留槽２に超純水Ｗを適宜補充しながらこれを繰り返すことで循環させた。この際、返送するウェハ洗浄水Ｗ１の溶存ガス濃度を溶存ガスモニタ１３で測定し、溶存ガス濃度がオゾンの溶解量に対して３０％以上増加したら、ウェハ洗浄水Ｗ１を排出管１２から排出し、２０％未満となったら貯留槽２に返送する制御とした。１時間経過後の洗浄水Ｗ１の溶存ガス濃度を測定したところ、溶存オゾン濃度を初期設定値に対し±１０％以下に制御することができた。
【0054】
［比較例２］
実施例２において、貯留槽２にＮ２ガスをパージし、超純水Ｗを適宜補充することを繰り返すことでユースポイントに供給しながら循環させた。この際、溶存ガス濃度の計測結果による洗浄水Ｗ１の排出は行なわず、循環を継続した。１時間経過後の洗浄水Ｗ１の溶存ガス濃度を測定したところ、溶存ガス濃度がオゾンの溶解量に対して１００％以上増加しており、オゾン以外のガス、例えば、酸素、窒素、二酸化炭素などが溶解し、オゾン濃度が低下していると推測でき、実施例２におけるウェハ洗浄水Ｗ１として不適当であった。
実施例２において、貯留槽２にＮ２ガスをパージし、超純水Ｗを適宜補充することを繰り返すことでユースポイントに供給しながら循環させた。この際、溶存ガス濃度の計測結果による洗浄水Ｗ１の排出は行なわず、循環を継続した。１時間経過後の洗浄水Ｗ１の溶存ガス濃度を測定したところ、溶存ガス濃度がオゾンの溶解量に対して１００％以上増加しており、オゾン以外のガス、例えば、酸素、窒素、二酸化炭素などが溶解し、オゾン濃度が低下していると推測でき、実施例２におけるウェハ洗浄水Ｗ１として不適当であった。
【0055】
［実施例３］
図２に示すウェハ洗浄水供給装置１において、超純水に過酸化水素を１００ｐｐｍ添加した機能性水ＦＷを１５０Ｌ貯留槽２に供給したら送液ポンプ５を駆動して、この機能性水ＦＷをウェハ洗浄水供給管４の供給側４Ａに送液した。この機能性水ＦＷに対し、ガス供給管９からガス溶解膜モジュール８の気相室側に二酸化炭素（ＣＯ２）を５０ｐｐｍとなるよう添加してウェハ洗浄水Ｗ１を製造した。
図２に示すウェハ洗浄水供給装置１において、超純水に過酸化水素を１００ｐｐｍ添加した機能性水ＦＷを１５０Ｌ貯留槽２に供給したら送液ポンプ５を駆動して、この機能性水ＦＷをウェハ洗浄水供給管４の供給側４Ａに送液した。この機能性水ＦＷに対し、ガス供給管９からガス溶解膜モジュール８の気相室側に二酸化炭素（ＣＯ２）を５０ｐｐｍとなるよう添加してウェハ洗浄水Ｗ１を製造した。
【0056】
この洗浄水Ｗ１を枚葉式洗浄機を備えたユースポイント６に供給し、ユースポイント６で使用しなかった洗浄水Ｗ１をウェハ洗浄水供給管４の返送側４Ｂから分離膜１０により微粒子を除去した後、二酸化炭素をパージした貯留槽２に返送し、貯留槽２に機能性水ＦＷを適宜補充しながらこれを繰り返すことで循環させた。この際、返送するウェハ洗浄水Ｗ１の溶存ガス濃度を溶存ガスモニタ１３で測定し、溶存ガス濃度が二酸化炭素の溶解量に対して３０％以上増加したら、ウェハ洗浄水Ｗ１を排出管１２から排出し、２０％未満となったら貯留槽２に返送する制御とした。１時間経過後の洗浄水Ｗ１の溶存ガス濃度を測定したところ、溶存二酸化炭素濃度を初期設定値に対し±１０％以下に制御することができた。
【0057】
［比較例３］
実施例３において、貯留槽２にＮ２ガスをパージし、超純水Ｗを適宜補充することを繰り返すことでユースポイントに供給しながら循環させた。この際、計測結果による洗浄水Ｗ１の排出は行なわず、循環を継続した。１時間経過後の洗浄水Ｗ１の溶存ガス濃度を測定したところ、溶存ガス濃度は二酸化炭素の溶解量に対して１００％以上増加しており、二酸化炭素以外のガス、例えば、酸素、窒素などが溶解し、ｐＨや酸化還元電位が変動していると推測でき、実施例３におけるウェハ洗浄水Ｗ１として不適当であった。
実施例３において、貯留槽２にＮ２ガスをパージし、超純水Ｗを適宜補充することを繰り返すことでユースポイントに供給しながら循環させた。この際、計測結果による洗浄水Ｗ１の排出は行なわず、循環を継続した。１時間経過後の洗浄水Ｗ１の溶存ガス濃度を測定したところ、溶存ガス濃度は二酸化炭素の溶解量に対して１００％以上増加しており、二酸化炭素以外のガス、例えば、酸素、窒素などが溶解し、ｐＨや酸化還元電位が変動していると推測でき、実施例３におけるウェハ洗浄水Ｗ１として不適当であった。
【符号の説明】
【0058】
１ ウェハ洗浄水供給装置
２ 貯留槽
３ 補給管
３Ａ 超純水供給源
４ 循環式のウェハ洗浄水供給管
４Ａ 供給側
４Ｂ 返送側
５ 送液ポンプ（送液手段）
６ ユースポイント
７ 供給管
７Ａ 薬液の供給源
７Ｂ 送液ポンプ
８ ガス溶解膜モジュール
９ ガス供給管
９Ａ 機能性ガス供給源
１０ 分離膜
１１ ガス供給管
１１Ａ 機能性ガス供給源
１２ 排出管（排水機構）
１３ 溶存ガスモニタ（溶存ガス濃度の測定手段）
Ｗ 超純水
Ｗ１ 洗浄水
ＦＷ 機能水
２ 貯留槽
３ 補給管
３Ａ 超純水供給源
４ 循環式のウェハ洗浄水供給管
４Ａ 供給側
４Ｂ 返送側
５ 送液ポンプ（送液手段）
６ ユースポイント
７ 供給管
７Ａ 薬液の供給源
７Ｂ 送液ポンプ
８ ガス溶解膜モジュール
９ ガス供給管
９Ａ 機能性ガス供給源
１０ 分離膜
１１ ガス供給管
１１Ａ 機能性ガス供給源
１２ 排出管（排水機構）
１３ 溶存ガスモニタ（溶存ガス濃度の測定手段）
Ｗ 超純水
Ｗ１ 洗浄水
ＦＷ 機能水
【図1】
【図2】
【図3】
【図4】