特開2022-189840IP Force 特許公報全文掲載

技術分野

本明細書に開示される一般に、半導体製造装置の分野に関し、より詳細には、フォトマスクから接着剤残留物を除去するための装置および方法

要約特許出願時に添付された[要約書]

【課題】フォトマスクから接着剤残留物を除去するための装置および方法を提供する。
【解決手段】ペリクルをフォトマスクから除去するときに、接着剤残留物が露出することがある。新しいペリクルをフォトマスクに付着させることが可能となる前に、接着剤残留物を除去することができる。接着剤残留物を除去するために、レンズを通してレーザビームを投射し、接着剤残留物の表面に集束させることができる。接着剤残留物は、レーザビームによってフォトマスクからアブレーションされ得る。
【選択図】図1

この発明についての権利主張の範囲[特許請求の範囲]

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この特許公報に記載されている図面[図面の簡単な説明]から抜粋

【図1】 本開示の一実施形態によるアブレーション装置の概略断面図である。
【図2】 本開示の一実施形態による、フォトマスクから接着剤残留物を除去するための方法の動作である。

選択図 図1出願人が指定した本件の代表的な図

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