特開 2022-191110 連続式洗浄装置の構成方法、及び、連続式洗浄装置

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】公開特許公報(A)

(11)【公開番号】P2022191110

(43)【公開日】2022-12-27

(54)【発明の名称】連続式洗浄装置の構成方法、及び、連続式洗浄装置

(51)【国際特許分類】

   H01L 21/304 20060101AFI20221220BHJP

【ＦＩ】

H01L21/304 648J

H01L21/304 643A

H01L21/304 644B

【審査請求】未請求

【請求項の数】8

【出願形態】ＯＬ

(21)【出願番号】P 2021099789

(22)【出願日】2021-06-15

(71)【出願人】

【識別番号】000134051

【氏名又は名称】株式会社ディスコ

(74)【代理人】

【識別番号】100142804

【弁理士】

【氏名又は名称】大上 寛

(72)【発明者】

【氏名】山本 直子

【テーマコード（参考）】

5F157

【Ｆターム（参考）】

5F157AA99

5F157AB02

5F157AB13

5F157AB33

5F157AB48

5F157AB90

5F157BA07

5F157BA08

5F157CC31

5F157CF86

5F157DB02

(57)【要約】

【課題】 洗浄装置に求められる各種の仕様に柔軟に対応することが可能な新規な技術を提案する。
【解決手段】被洗浄物（ウェーハ１０）に対しそれぞれ種類の異なる洗浄が可能であり、隣り合う洗浄装置１～３間でウェーハ１０を搬送可能な搬送ユニット１３，２３，３３を備える複数の洗浄装置から任意で選択される複数の洗浄装置１～３を、任意の順で配列することによる連続式洗浄装置５０の構成方法とする。
【選択図】図２

【特許請求の範囲】

【請求項1】

被洗浄物に対しそれぞれ種類の異なる洗浄が可能であり、隣り合う洗浄装置間で被洗浄物を搬送可能な搬送ユニットを備える複数の洗浄装置から任意で選択される複数の洗浄装置を、任意の順で配列することによる連続式洗浄装置の構成方法。

【請求項2】

該搬送ユニットは、
上流隣にある洗浄装置から、当該搬送ユニットが設けられる洗浄装置への該被洗浄物の搬送が可能であり、かつ、
当該搬送ユニットが設けられる洗浄装置から、下流隣にある洗浄装置への該被洗浄物の搬送が可能である、ように構成される、
ことを特徴とする請求項１に記載の連続式洗浄装置の構成方法。

【請求項3】

該搬送ユニットは、
下流隣にある洗浄装置へ該被洗浄物を搬出する搬出ユニットと、
上流隣にある洗浄装置の該搬出ユニットから該被洗浄物が受け渡される搬入ユニットと、
を有して構成される、
ことを特徴とする請求項１に記載の連続式洗浄装置の構成方法。

【請求項4】

該被洗浄物はテープに貼着されるとともに該テープの外周が環状フレームに固定された状態で洗浄され、
該搬送ユニットは、該環状フレームを保持する、
ことを特徴とする請求項１乃至請求項３のいずれか一項に記載の連続式洗浄装置の構成方法。

【請求項5】

被洗浄物に対しそれぞれ種類の異なる洗浄が可能であり、隣り合う洗浄装置間で被洗浄物を搬送可能な搬送ユニットを備える複数の洗浄装置を配列してなる連続式洗浄装置であって、
各洗浄装置は、任意の順で配列可能に構成される、連続式洗浄装置。

【請求項6】

該搬送ユニットは、
上流隣にある洗浄装置から、当該搬送ユニットが設けられる洗浄装置への該被洗浄物の搬送が可能であり、かつ、
当該搬送ユニットが設けられる洗浄装置から、下流隣にある洗浄装置への該被洗浄物の搬送が可能である、ように構成される、
ことを特徴とする請求項５に記載の連続式洗浄装置。

【請求項7】

該搬送ユニットは、
下流隣にある洗浄装置へ該被洗浄物を搬出する搬出ユニットと、
上流隣にある洗浄装置の該搬出ユニットから該被洗浄物が受け渡される搬入ユニットと、
を有して構成される、
ことを特徴とする請求項６に記載の連続式洗浄装置。

【請求項8】

該被洗浄物はテープに貼着されるとともに該テープの外周が環状フレームに固定された状態で洗浄され、
該搬送ユニットは、該環状フレームを保持する、
ことを特徴とする請求項５乃至請求項７のいずれか一項に記載の連続式洗浄装置。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、複数の洗浄装置から連続式洗浄装置を構成する技術に関する。

【背景技術】

【0002】

従来、例えば半導体デバイスの製造工程では、被加工物であるウェーハに対し、裏面研削、ブレード切削、レーザ加工等の各種加工が行われ、加工後に加工で生じた加工屑を除去するために洗浄される。

【0003】

洗浄方法としては、高圧流体による高圧洗浄、水とエアーの混合流体を利用した２流体洗浄、超音波洗浄や各種有機溶剤による洗浄等々、様々な洗浄方法があり、被加工物の種類によっては複数の洗浄が施される（例えば、特許文献１乃至３参照）。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0004】

【特許文献1】特開２０１５－１０９３２４公報

【特許文献2】特開２０２１－０４４４６５号公報

【特許文献3】特開２０１６－０７３９３４号公報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0005】

上述のように、洗浄方法には様々な方法があり、また、要求される洗浄レベルも被洗浄物の種類や加工種類によって異なるものである。また、設置される工場の製造ラインの設計や、顧客の要求によっても仕様が異なるものであった。

【0006】

このため、従来は様々な要求に個別に対応するために専用の設計をする必要があり、設計のための工数はもちろんのこと、専用に設計された装置は汎用性も低く生産性が悪いという問題がある。また、装置の受注から納品までのリードタイムも長期化するものであり、短期での設置の要求にも応じ難いものとなる。

【0007】

そこで、本発明は以上の問題に鑑み、洗浄装置に求められる各種の仕様に柔軟に対応することが可能な新規な技術を提案するものである。

【課題を解決するための手段】

【0008】

本発明の解決しようとする課題は以上の如くであり、次にこの課題を解決するための手段を説明する。

【0009】

本発明の一態様によれば、被洗浄物に対しそれぞれ種類の異なる洗浄が可能であり、隣り合う洗浄装置間で被洗浄物を搬送可能な搬送ユニットを備える複数の洗浄装置から任意で選択される複数の洗浄装置を、任意の順で配列することによる連続式洗浄装置の構成方法とする。

【0010】

また、本発明の一態様によれば、搬送ユニットは、上流隣にある洗浄装置から、当該搬送ユニットが設けられる洗浄装置への該被洗浄物の搬送が可能であり、かつ、当該搬送ユニットが設けられる洗浄装置から、下流隣にある洗浄装置への該被洗浄物の搬送が可能である、ように構成される、こととする。

【0011】

また、本発明の一態様によれば、該搬送ユニットは、下流隣にある洗浄装置へ該被洗浄物を搬出する搬出ユニットと、上流隣にある洗浄装置の該搬出ユニットから該被洗浄物が受け渡される搬入ユニットと、を有して構成される、こととする。

【0012】

また、本発明の一態様によれば、該被洗浄物はテープに貼着されるとともに該テープの外周が環状フレームに固定された状態で洗浄され、該搬送ユニットは、該環状フレームを保持する、こととする。

【0013】

また、本発明の一態様によれば、被洗浄物に対しそれぞれ種類の異なる洗浄が可能であり、隣り合う洗浄装置間で被洗浄物を搬送可能な搬送ユニットを備える複数の洗浄装置を配列してなる連続式洗浄装置であって、各洗浄装置は、任意の順で配列可能に構成される、連続式洗浄装置とする。

【発明の効果】

【0014】

本発明の効果として、以下に示すような効果を奏する。

【0015】

即ち、本発明の一態様によれば、種類の異なる洗浄方法に対応する複数の洗浄装置を予め準備し、被洗浄物の種類に応じて洗浄方法と洗浄順番を選定し、選定した洗浄方法と順番に応じて準備しておいた洗浄装置を連結することで、連続式洗浄装置を構成するものとする。これにより、種類の異なる複数の洗浄工程を、任意の順番で組合せて一つの連続式洗浄装置を構成することができ、洗浄装置に求められる各種の仕様に柔軟に対応することが可能となる。また、各洗浄装置をユニット化して、部品の共通化を図ることにより、汎用性、生産性も高くすることができ、短納期での設置の要求にも対応できる。

【図面の簡単な説明】

【0016】

【図1】被洗浄物の一例であるダイシング加工後のウェーハについて示す図。

【図2】複数の洗浄装置を配列し連続式洗浄装置を構成する例について示す平面概要図。

【図3】複数種類の洗浄工程が行われる例について示す図。

【図4】ウェーハユニットを仮置する仮置テーブルを設けた洗浄装置の例について示す平面概要図。

【図5】ウェーハ単体でハンドリングされる例について示す図。

【図6】（Ａ）は、パッド洗浄について説明する図。（Ｂ）は、純水による洗浄について説明する図。

【図7】アルカリ洗浄について説明する図。

【図8】２流体洗浄について説明する図。

【発明を実施するための形態】

【0017】

以下、本発明の好適な実施形態について、添付図面を参照して詳細に説明する。

【0018】

図１は被洗浄物の一例であるダイシング加工後のウェーハ１０について示すものである。
ウェーハ１０はシリコンウェーハ等であって、格子状に設定された分割予定ライン１０ｓに沿ってダイシング加工が施され、チップ１０ｃに個片化されている。各チップ１０ｃの表面には、ＩＣやＬＳＩ等のデバイス１０ｄが形成される。

【0019】

ウェーハ１０は、環状の環状フレームＦの内側に配設され、テープＴを介して環状フレームＦに一体に支持され、ウェーハユニットＵを構成する。

【0020】

テープＴは、いわゆるダイシングテープであり、基材の片面に、粘着層が形成されたものが用いられる。基材としては、ポリ塩化ビニル、ポリプロピレン、ポリエチレン、ポリエチレンテレフタレート、ポリオレフィン等の合成樹脂シートが挙げられる。また、粘着層を形成する粘着材は、感圧糊の他、紫外線の照射を受けることにより硬化する紫外線硬化型の樹脂が用いられ、テープＴが感圧型や紫外線硬化型の粘着テープとして構成される。

【0021】

なお、ダイシング加工について、図１の例では切削加工がされて分割起点が形成されたウェーハを示すものであるが、この他、レーザ加工によるアブレーション加工や、ウェーハ内部に改質層を形成するＳＤ加工などであってもよい。また、ウェーハは研削加工が施されたものあってもよい。また、被洗浄物としては、シリコンウェーハの他、ガラス、樹脂、セラミクス、ＬＴ／ＬＮ基板等でもよい。また、ウェーハは環状フレームに固定されずに、ウェーハ単体でハンドリングされるものであってもよい。

【0022】

図２は、複数の洗浄装置を組み合わせて連続式洗浄装置５０を構成する例について示す平面概要図である。
図２に示すように、本発明は、被洗浄物であるウェーハ１０に対しそれぞれ種類の異なる洗浄が可能であり、隣り合う洗浄装置１～３間でウェーハ１０を搬送可能な搬送ユニット１３，２３，３３を備える複数の洗浄装置から任意で選択される複数の洗浄装置１～３を、任意の順で配列することによる連続式洗浄装置５０の構成方法を実施するものである。

【0023】

図２の例では、第１洗浄装置１と、第２洗浄装置２と、第３洗浄装置３の３つの洗浄装置を組み合わせて連続式洗浄装置５０が構成されるものであり、図３に示すように、ウェーハユニットＵが第１洗浄装置１、第２洗浄装置２、第３洗浄装置３の順に搬送されて、複数の洗浄工程を経るように構成される。なお、洗浄装置の台数については特に限定されるものではなく、少なくとも２台の洗浄装置を組み合わせることで本発明が実施される。

【0024】

図２に示すように、各洗浄装置１～３では、それぞれ異なる洗浄が実行されるものである。洗浄の種類としては、例えば、純水とドライエアーを混合した２流体による２流体洗浄、高圧洗浄、アルカリ洗浄、パッド洗浄、純水超音波洗浄、などである。

【0025】

図２は、各洗浄装置１～３を上からみた平面概要図であり、各洗浄装置１～３の筐体１１，２１，３１に形成された洗浄空間１１ａ，２１ａ，３１ａ内には、ウェーハユニットＵを保持するとともに、水平面内で回転させるための保持テーブル１２，２２，３２がそれぞれ設けられる。保持テーブル１２，２２，３２は、ウェーハユニットＵを下側から保持してウェーハ１０を上方に露出させ、ウェーハ１０の上面を洗浄可能とする。なお、この他にウェーハを保持する形態として、ウェーハユニットＵを吊り下げるように保持し、ウェーハ１０を下方に向けて露出させて逆さ洗浄が実施される形態なども採用し得る。

【0026】

各洗浄装置１～３には、保持テーブル１２，２２，３２に対しウェーハユニットＵを搬入、搬出するための搬送ユニット１３～３３がそれぞれ設けられる。搬送ユニット１３は、基端部が筐体１１に昇降可能、かつ、回動可能に支持される第一旋回アーム１３ａと、第一旋回アーム１３ａの先端に連結される第二旋回アーム１３ｂと、第二旋回アーム１３ｂの先端に吊設されるフレーム保持機構１３ｃと、を有して構成される。各構成部は図示せぬモータにより駆動され、角度変更や昇降動作がなされる。他の搬送ユニット２３，３３も搬送ユニット１３と同様に構成される。

【0027】

フレーム保持機構１３ｃは、略Ｈ字型のブラケット１３ｄの４箇所の先端に吸着パッド１３ｅを有して構成される。吸着パッド１３ｅは、ウェーハユニットＵの環状フレームＦを吸着保持する。

【0028】

各洗浄装置はユニット化され、任意の順番で配列した場合にも、ウェーハユニットを搬送できるように構成される。また、各洗浄装置を構成する各種部品は、共通のものを使用することにより、汎用性、生産性も高くすることができる。例えば、筐体、搬送ユニット、保持テーブル等は、各洗浄装置で共通の構成とすることができ、部品調達、製造、メンテナンスの観点を考慮した構成が実現される。また、隣り合う洗浄装置を物理的に連結や、位置出しをするために、筐体に連結用の係合部や、位置決め用のアンカーを設けることとしてもよい。

【0029】

以上の構成において、ウェーハユニットＵの搬送は、次のようにして行われる。
洗浄前のウェーハユニットＵは、洗浄装置１の搬送ユニット１３により、保持テーブル１２へと搬送される。洗浄装置１によって洗浄後、ウェーハユニットＵは、隣り合う洗浄装置２の搬送ユニット２３により、洗浄装置１の保持テーブル１２から洗浄装置２の保持テーブル２２へと搬送される。同様に、洗浄装置２によって洗浄後、ウェーハユニットＵは、隣り合う洗浄装置３の搬送ユニット３３により、洗浄装置２の保持テーブル２２から、洗浄装置３の保持テーブル３２へと搬送される。同様に、洗浄装置３によって洗浄後、ウェーハユニットＵは、洗浄装置３の搬送ユニット３３により、洗浄装置３の保持テーブル３２から搬出される。

【0030】

このように、図２に示す構成例では、例えば、搬送ユニット２３は、上流隣にある洗浄装置１から、搬送ユニット２３が設けられる洗浄装置２への被洗浄物の搬送が可能であり、かつ、搬送ユニット２３が設けられる洗浄装置２から、下流隣にある洗浄装置３への被洗浄物の搬送が可能である、ように構成されるものとしている。

【0031】

また、上記に代えて、ウェーハユニットＵの搬送は、次のようにして行うことも可能である。
洗浄前のウェーハユニットＵは、洗浄装置１の搬送ユニット１３により、保持テーブル１２へと搬送される。洗浄装置１によって洗浄後、ウェーハユニットＵは、洗浄装置１の搬送ユニット１３により、洗浄装置１の保持テーブル１２から洗浄装置２の保持テーブル２２へと搬送される。同様に、洗浄装置２によって洗浄後、ウェーハユニットＵは、洗浄装置２の搬送ユニット２３により、洗浄装置２の保持テーブル２２から、洗浄装置３の保持テーブル３２へと搬送される。同様に、洗浄装置３によって洗浄後、ウェーハユニットＵは、洗浄装置３の搬送ユニット３３により、洗浄装置３の保持テーブル３２から搬出される。なお、最初の洗浄が行われる保持テーブル１２へは、オペレータによる手作業によりウェーハユニットＵが搬入されることとしてもよい。

【0032】

図４は、ウェーハユニットＵを仮置する仮置テーブル１５，２５，３５を設けた洗浄装置１Ａ～３Ａを組み合わせ、連続式洗浄装置５０Ａを構成する例について示す図である。

【0033】

この例では、各洗浄装置１Ａ～３Ａについて、ウェーハユニットＵを仮置する仮置テーブル１５，２５，３５がそれぞれ設けられ、各洗浄装置間を移動する際に、ウェーハユニットＵを仮置して、洗浄装置間でウェーハユニットＵの受け渡しが行なわれる。

【0034】

洗浄装置１Ａには、搬入用の搬入ユニット１３Ａと搬出用の搬出ユニット１３Ｂが設けられる。搬入ユニット１３Ａは、第一旋回アーム１３Ａａと、第一旋回アーム１３Ａａの先端に連結される第二旋回アーム１３Ａｂと、第二旋回アーム１３Ａｂの先端に吊設されて環状フレームＦを吸着保持するフレーム保持機構１３Ａｃと、を有して構成される。他の搬入ユニット２３Ａ，３３Ａも搬入ユニット１３Ａと同様に構成される。

【0035】

搬出ユニット１３Ｂは、第一旋回アーム１３Ｂａと、第一旋回アーム１３Ｂａの先端に連結される第二旋回アーム１３Ｂｂと、第二旋回アーム１３Ｂｂの先端に吊設されて環状フレームＦを吸着保持するフレーム保持機構１３Ｂｃと、を有して構成される。他の搬出ユニット２３Ｂ，３３Ｂも搬出ユニット１３Ｂと同様に構成される。

【0036】

以上の構成において、ウェーハユニットＵの搬送は、次のようにして行われる。
仮置テーブル１５に搬入された洗浄前のウェーハユニットＵは、洗浄装置１Ａの搬入ユニット１３Ａにより、保持テーブル１２Ａへと搬送される。洗浄装置１Ａによって洗浄後、ウェーハユニットＵは、洗浄装置１Ａの搬出ユニット１３Ｂにより、隣り合う洗浄装置２Ａの仮置テーブル２５へと搬出される。同様に、洗浄装置２Ａの搬入ユニット２３Ａにより、保持テーブル２２Ａへと搬送される。洗浄装置２Ａによって洗浄後、ウェーハユニットＵは、洗浄装置２Ａの搬出ユニット３３Ｂにより、隣り合う洗浄装置３Ａの仮置テーブル３５へと搬出される。同様に、洗浄装置３Ａの搬入ユニット３３Ａにより、保持テーブル３２Ａへと搬送される。洗浄装置３Ａによって洗浄後、ウェーハユニットＵは、洗浄装置３Ａの搬出ユニット３３Ｂにより、洗浄装置３Ａの保持テーブル３２Ａから搬出される。

【0037】

なお、図２に示す構成において、仮置テーブルを設ける構成としてもよい。すなわち、最上流の洗浄装置１と最下流の洗浄装置３に仮置テーブルを設け、間の洗浄装置２には仮置きテーブルがないものとし、連続式洗浄装置５０に供給される被洗浄物（ウェーハユニットＵ）が最上流の洗浄装置１の仮置きテーブルを介して搬入され、連続式洗浄装置５０で洗浄された被洗浄物（ウェーハユニットＵ）が最下流の洗浄装置３の仮置きテーブルに搬出されるようにしてもよい。或いは、図４に示す構成においても、最上流の洗浄装置１と最下流の洗浄装置３に仮置テーブルを設け、間の洗浄装置２には仮置きテーブルがないものとしてもよい。この場合、洗浄装置１Ａの搬出ユニット１３Ｂと、洗浄装置２Ａの搬入ユニット２３Ａによる被洗浄物（ウェーハユニットＵ）の受け渡しを可能に構成する。

【0038】

図５は、ウェーハ１０単体でハンドリングされる場合に適用される組み合わせ洗浄装置５０Ｂついて示す図である。

【0039】

洗浄装置１Ｂは、ウェーハ１０の上面側を非接触で保持するベルヌーイパッド１３ｖを有する搬入ユニット１３Ｃと、ウェーハ１０の下面を保持する吸着アーム１３ｗを有する搬出ユニット１３Ｄと、を有して構成される。搬入ユニット１３Ｃ、及び、搬出ユニット１３Ｄは、それぞれ昇降可能、かつ、旋回可能に構成される。洗浄装置２Ｂ，３Ｂも同様に構成される。

【0040】

洗浄装置１Ｂの保持テーブル１２Ｂは、ウェーハ１０よりも小さい直径を有して構成される。保持テーブル１２Ｂの支持軸に吸着アーム１３ｗのＵ字状先端を下側から差し込むとともに上方に移動させることで、保持テーブル１２Ｂに保持されたウェーハ１０を搬出ユニット１３Ｄにより持ち上げて保持することができる。

【0041】

吸着アーム１３ｗに載置されたウェーハ１０は、隣り合う洗浄装置２Ｂの搬入ユニット２３Ｃによって吸着保持されて受け渡される。このように、図４の構成においては、隣り合う洗浄装置において、搬出ユニット１３Ｄと搬入ユニット２３Ｃによりウェーハ１０の受け渡しを行うものである。

【0042】

このように、図５に示す構成例では、例えば、洗浄装置２Ｂにおいては、搬送ユニットは、下流隣にある洗浄装置３Ｂへ被洗浄物を搬出する搬出ユニット２３Ｄと、上流隣にある洗浄装置１Ｂの搬出ユニット１３Ｄから被洗浄物が受け渡される搬入ユニット２３Ｃと、を有して構成される、こととしている。

【0043】

以上のように、複数の洗浄装置を順に組み合わせることで、図１に示すような一つの連続式洗浄装置５０を構成するものである。図１の例では、それぞれ異なる洗浄を行う４種類の洗浄装置が準備され、そのなかから必要な洗浄を遂行するための３種類の洗浄装置１～３を選定して、一つの連続式洗浄装置５０が構成されるものとしている。

【0044】

図３の例では、洗浄装置１～３が選定され、パッド洗浄、アルカリ洗浄、２流体洗浄が順に行われるものである。以下、各洗浄について説明する。

【0045】

図６（Ａ）（Ｂ）は、洗浄装置１によるパッド洗浄について説明する図である。このパッド洗浄は、図３に示す１つ目の洗浄装置１で行われるものである。
まず、洗浄装置１の構成について説明すると、筐体１１内には、上側が開放される洗浄受け容器６１が設けられ、洗浄受け容器６１内に保持テーブル１２が回転可能に設けられる。保持テーブル１２は、電動モータ６２の出力軸６４の上端に固定され、所定の回転数で回転する。

【0046】

保持テーブル１２の上面は、図示せぬ吸引源に接続されて負圧が生じる吸着面として構成され、ウェーハ１０がテープＴを介して吸着保持される。なお、ウェーハ１０はダイシング加工が施された様子を示している。

【0047】

保持テーブル１２の周縁部には、円周方向に等間隔でクランプ１２ａが設けられ、保持テーブル１２の回転による遠心力によりクランプ１２ａが傾いて、ウェーハユニットＵの環状フレームＦがクランプ１２ａにより固定される。

【0048】

洗浄受け容器６１内であって、保持テーブル１２の外側には、ウェーハ１０の上面に過酸化水素水、有機酸、防腐剤等に砥粒を含むスラリー７１ａを供給するためのスラリー供給ノズル７１が設けられる。

【0049】

洗浄受け容器６１内であって、保持テーブル１２の外側には、複数の旋回軸６５ａ，６５ｂが設けられ、洗浄受け容器６１の下部には、各旋回軸６５ａ，６５ｂを回転させるためのモータ６６ａ，６６ｂが設けられる。

【0050】

図６（Ａ）に示すように、旋回軸６５ａの上端には旋回アーム７２が水平方向に伸びるように固定され、旋回アーム７２の先端には、ウェーハ１０の上面に接触させる不織布や発泡ウレタンからなるパッド７２ａが設けられる。なお、旋回軸６５ａは、上下移動可能に構成され、ウェーハ１０の上面に対するパッド７２ａの接触圧を変更可能に構成することとしてもよい。

【0051】

図６（Ｂ）に示すように、旋回軸６５ｂの上端には旋回アーム７３が水平方向に伸びるように固定され、旋回アーム７３の先端には、ウェーハ１０の上面に純水７３ｂを供給するための純水供給ノズル７３ａが設けられる。

【0052】

以上の構成により、まず図６（Ａ）に示すように、保持テーブル１２にてウェーハユニットＵのテープＴを吸着保持するとともに、保持テーブル１２を回転させることで、環状フレームＦがクランプ１２ａで固定される。次いで、スラリー供給ノズル７１からスラリー７１ａを供給しつつ、パッド７２ａをウェーハ１０の上面に当てながら旋回アーム７２を旋回させることで、ウェーハ１０の上面がパッド７２ａで洗浄される。

【0053】

パッド７２ａによる洗浄を行った後、図６（Ｂ）に示すように、純水供給ノズル７３ａから純水７３ｂをウェーハ１０の上面に供給しつつ、旋回アーム７３を旋回させることで、ウェーハ１０の上面が純水７３ｂで洗浄される。

【0054】

パッド洗浄が行われた後は、図３に示すように、洗浄装置２に搬送されてアルカリ洗浄が行われる。
図７は、洗浄装置２によるアルカリ洗浄について説明する図である。このアルカリ洗浄は、図３に示す２つ目の洗浄装置２で行われるものである。

【0055】

洗浄装置２では、旋回軸６５ｃの上端に旋回アーム７４が水平方向に伸びるように固定され、旋回アーム７４の先端には、ウェーハ１０の上面に接触させるスポンジ７４ａが設けられる。旋回アーム７４内にはアルカリ水７４ｂの供給路が設けられ、スポンジ７４ａの内側からアルカリ水７４ｂが放出されるように構成される。その他の構成は、図６（Ａ）と略同等であるため、説明を省略する。

【0056】

以上の構成により、保持テーブル１２にてウェーハユニットＵのテープＴを吸着保持するとともに、保持テーブル１２を回転させることで、環状フレームＦがクランプ１２ａで固定される。次いで、スポンジ７４ａの中央からアルカリ水を供給しつつ、スポンジ７４ａをウェーハ１０の上面に当てながら旋回アーム７４を旋回させることで、ウェーハ１０の上面がアルカリ水７４ｂで洗浄される。

【0057】

アルカリ洗浄が行われた後は、図３に示すように、洗浄装置３に搬送されて２流体洗浄が行われる。
図８は、洗浄装置３による２流体洗浄について説明する図である。この２流体洗浄は、図３に示す３つ目の洗浄装置３で行われるものである。

【0058】

洗浄装置３では、旋回軸６５ｄの上端に旋回アーム７５が水平方向に伸びるように固定され、旋回アーム７５の先端には、ウェーハ１０の上面に２流体を供給する２流体供給ノズル７５ａが設けられる。旋回アーム７５内には２流体７５ｂの供給路が設けられ、２流体供給ノズル７５ａから２流体７５ｂが噴射されるように構成される。２流体７５ｂは、エアーの流れに洗浄水（例えば純水）を合流させることで、エアーと洗浄水を混合させたものである。その他の構成は、図６（Ａ）と略同等であるため、説明を省略する。

【0059】

以上に説明した構成において、例えば、次のようにして連続式洗浄装置を構成することができる。
図１に示すように、被洗浄物に対しそれぞれ種類の異なる洗浄を行う複数の洗浄装置を準備する準備ステップと、被加工物に施すべき２以上の洗浄の種類と、各洗浄の順番を選定する選定ステップと、選定ステップに基づいて被加工物が搬送されるように洗浄装置を配列して複数の洗浄装置からなる連続式洗浄装置を構成する組み付けステップと、を実施するものとする。

【0060】

このように、種類の異なる洗浄方法に対応する複数の洗浄装置を予め準備し、被洗浄物の種類に応じて洗浄方法と洗浄順番を選定し、選定した洗浄方法と順番に応じて準備しておいた洗浄装置を連結することで、連続式洗浄装置を構成するものとする。これにより、種類の異なる複数の洗浄工程を、任意の順番で組合せて一つの連続式洗浄装置を構成することができ、洗浄装置に求められる各種の仕様に柔軟に対応することが可能となる。また、各洗浄装置をユニット化して、部品の共通化を図ることにより、汎用性、生産性も高くすることができ、短納期での設置の要求にも対応できる。

【符号の説明】

【0061】

１ 第１洗浄装置
２ 第２洗浄装置
３ 第３洗浄装置
１０ ウェーハ
１０ｃ チップ
１１ 筐体
１ ２ 保持テーブル
１３ 搬送ユニット
１３ａ 第一旋回アーム
１３ｂ 第二旋回アーム
１３ｃ フレーム保持機構
１３ｄ ブラケット
１３ｅ 吸着パッド
１３ｖ 吸着パッド
１３ｗ 吸着アーム
１５ 仮置テーブル
２２ 保持テーブル
２３ 搬送ユニット
２５ 仮置テーブル
３２ 保持テーブル
３３ 搬送ユニット
３５ 仮置テーブル
５０ 洗浄装置
６１ 洗浄受け容器
６２ 電動モータ
６４ 出力軸
６５ａ 旋回軸
６５ｂ 旋回軸
６５ｃ 旋回軸
６５ｄ 旋回軸
６６ａ モータ
６６ｂ モータ
７１ スラリー供給ノズル
７１ａ スラリー
７２ 旋回アーム
７２ａ パッド
７３ 旋回アーム
７３ａ 純水供給ノズル
７３ｂ 純水
７４ 旋回アーム
７４ａ スポンジ
７４ｂ アルカリ水
７５ 旋回アーム
７５ａ 流体供給ノズル
７５ｂ ２流体
Ｔ テープ
Ｕ ウェーハユニット

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】

【図6】

【図7】

【図8】