特開2022-45161研磨用組成物、半導体用濡れ剤、水溶性高分子、およびこれらの製造方法

発明の名称　研磨用組成物、半導体用濡れ剤、水溶性高分子、およびこれらの製造方法

出願人　株式会社フジミインコーポレーテッド　（識別番号 236702）

　　　　特許公開件数ランキング 559 位（16件）（共同出願を含む）

　　　　特許取得件数ランキング 425 位（20件）（共同出願を含む）

公報番号　特開-2022-45161

公報発行日　2022年3月18

公報URL　https://ipforce.jp/patent-jp-P_A1-2022-45161

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