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株式会社フジミインコーポレーテッド

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  2024年 特許取得件数ランキング    第486位 40件 下降2023年:第485位 57件)

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公報番号発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)公報発行日備考
特許 7550771 研磨用組成物 2024年 9月13日
特許 7548824 疎水性リン酸チタン粉体の製造方法 2024年 9月10日
特許 7534282 研磨用組成物 2024年 8月14日
特許 7534283 研磨用組成物 2024年 8月14日
特許 7534508 研磨用組成物 2024年 8月14日
特許 7531320 ヒドロキシエチルセルロース溶液の製造方法、該製造方法により製造されたヒドロキシエチルセルロース溶液、および該ヒドロキシエチルセルロース溶液を含む半導体用濡れ剤ならびに研磨用組成物 2024年 8月 9日
特許 7523291 研磨用組成物、研磨方法、および半導体基板の製造方法 2024年 7月26日
特許 7514135 粉末材料及びこれを用いた焼結体 2024年 7月10日
特許 7509749 フィラー、成形体、及び放熱材料 2024年 7月 2日
特許 7508275 研磨用組成物、研磨方法および半導体基板の製造方法 2024年 7月 1日
特許 7507561 研磨用組成物 2024年 6月28日
特許 7502267 ケイ素-ケイ素結合を有する材料を含む研磨対象物の研磨方法 2024年 6月18日
特許 7495283 表面処理組成物、表面処理組成物の製造方法、表面処理方法、および半導体基板の製造方法 2024年 6月 4日
特許 7495317 表面処理組成物、表面処理組成物の製造方法、表面処理方法、および半導体基板の製造方法 2024年 6月 4日
特許 7493367 研磨用組成物、研磨用組成物の製造方法、研磨方法および半導体基板の製造方法 2024年 5月31日

40 件中 1-15 件を表示

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7550771 7548824 7534282 7534283 7534508 7531320 7523291 7514135 7509749 7508275 7507561 7502267 7495283 7495317 7493367

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