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株式会社フジミインコーポレーテッド
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（
2024年：第773位 33件）
■ 2025年 特許取得件数ランキング 第393位 15件
（
2024年：第509位 52件）
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株式会社フジミインコーポレーテッドの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 7645641 | コロイドシリカ粒子混合物をベースとした研磨組成物 | 2025年 3月14日 | |
| 特許 7645682 | 表面処理組成物、表面処理組成物の製造方法、表面処理方法、及び半導体基板の製造方法 | 2025年 3月14日 | |
| 特許 7645241 | 研磨用組成物 | 2025年 3月13日 | |
| 特許 7645325 | リンス用組成物およびリンス方法 | 2025年 3月13日 | |
| 特許 7640426 | 炭化ケイ素粉末、及び成形体の製造方法 | 2025年 3月 5日 | |
| 特許 7638667 | 研磨組成物、研磨方法および基板の製造方法 | 2025年 3月 4日 | |
| 特許 7638756 | 研磨用組成物、研磨方法、および半導体基板の製造方法 | 2025年 3月 4日 | |
| 特許 7636875 | 水性組成物、研磨スラリー、および研磨スラリー調製用キット | 2025年 2月27日 | |
| 特許 7633010 | 溶射材及びこれを利用する溶射被膜の形成方法 | 2025年 2月19日 | |
| 特許 7624837 | 研磨用組成物 | 2025年 1月31日 | |
| 特許 7620554 | リン酸チタン板状粒子の比表面積増加方法、リン酸チタン由来板状粒子からなる粉体 | 2025年 1月23日 | |
| 特許 7613854 | 研磨用組成物、半導体用濡れ剤、水溶性高分子、およびこれらの製造方法 | 2025年 1月15日 | |
| 特許 7611048 | 研磨用組成物、基板の製造方法および研磨方法 | 2025年 1月 9日 | |
| 特許 7609585 | 研磨用組成物 | 2025年 1月 7日 | |
| 特許 7609683 | 半導体基板の製造方法および当該製造方法より得られる半導体基板 | 2025年 1月 7日 |
15 件中 1-15 件を表示
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7645641 7645682 7645241 7645325 7640426 7638667 7638756 7636875 7633010 7624837 7620554 7613854 7611048 7609585 7609683
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