特開 2023-101192 光導波路搭載基板、光通信装置、及び光導波路搭載基板の製造方法

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】公開特許公報(A)

(11)【公開番号】P2023101192

(43)【公開日】2023-07-20

(54)【発明の名称】光導波路搭載基板、光通信装置、及び光導波路搭載基板の製造方法

(51)【国際特許分類】

   G02B 6/12 20060101AFI20230712BHJP

   G02B 6/13 20060101ALI20230712BHJP

【ＦＩ】

G02B6/12 301

G02B6/13

【審査請求】未請求

【請求項の数】10

【出願形態】ＯＬ

(21)【出願番号】P 2022001649

(22)【出願日】2022-01-07

(71)【出願人】

【識別番号】000190688

【氏名又は名称】新光電気工業株式会社

(74)【代理人】

【識別番号】100107766

【弁理士】

【氏名又は名称】伊東 忠重

(74)【代理人】

【識別番号】100070150

【弁理士】

【氏名又は名称】伊東 忠彦

(72)【発明者】

【氏名】山本 和尚

【テーマコード（参考）】

2H147

【Ｆターム（参考）】

2H147AB04

2H147CA05

2H147CB01

2H147CB06

2H147EA10D

2H147EA16A

2H147EA16B

2H147EA17A

2H147EA17B

2H147EA19A

2H147EA19B

2H147EA20A

2H147EA20B

2H147FB04

2H147GA17

(57)【要約】      （修正有）

【課題】金属膜が剥離しにくい構造の光導波路を搭載する光導波路搭載基板を提供する。
【解決手段】光導波路搭載基板１は、配線基板１０上上に形成された光導波路３０を有し、光導波路は、第１クラッド層３１と、第１クラッド層の上面に対して傾斜する傾斜面３５Ａを備えた第１金属膜形成用突起部３５と、傾斜面に形成された第１金属膜を被覆するように記第１クラッド層の上面に形成されたコア層３２と、上面及び両側面を覆うように、第１クラッド層の上面に形成された第２クラッド層３３と、コア層及び第１金属膜形成用突起部と離隔するように、第１クラッド層の上面に平面視で前記コア層を挟んで形成された、第１クラッド層の上面から突起する一対の第１突起部３８と、を有する。
【選択図】図１

【特許請求の範囲】

【請求項1】

配線基板と、
前記配線基板上に形成された光導波路と、を有し、
前記光導波路は、
第１クラッド層と、
前記第１クラッド層の上面に形成された、前記第１クラッド層の上面に対して傾斜する傾斜面を備えた第１金属膜形成用突起部と、
前記第１金属膜形成用突起部の少なくとも前記傾斜面に形成された第１金属膜と、
前記第１金属膜の一部を被覆するように、前記第１クラッド層の上面に形成されたコア層と、
前記コア層の少なくとも上面及び両側面を覆うように、前記第１クラッド層の上面に形成された第２クラッド層と、
前記コア層及び前記第１金属膜形成用突起部と離隔するように、前記第１クラッド層の上面に平面視で前記コア層を挟んで形成された、前記第１クラッド層の上面から突起する一対の第１突起部と、を有し、
前記コア層と前記第１突起部は、感光性の樹脂により形成され、
前記第１金属膜形成用突起部は、平面視において、前記コア層と重複する第１中央部と、前記第１中央部から延伸して前記コア層の一方の側面からはみ出る第１拡幅部と、前記第１中央部から延伸して前記コア層の他方の側面からはみ出る第２拡幅部と、を備え、
前記コア層の端面に垂直な方向から前記第１金属膜を視たときに、前記コア層は前記第１中央部に形成された前記第１金属膜と重複し、一方の前記第１突起部は前記第１拡幅部に形成された前記第１金属膜と重複する部分を有し、他方の前記第１突起部は前記第２拡幅部に形成された前記第１金属膜と重複する部分を有する、光導波路搭載基板。

【請求項2】

前記第１クラッド層の上面を基準として、前記コア層の高さと前記第１突起部の高さは同一である、請求項１に記載の光導波路搭載基板。

【請求項3】

前記コア層と前記第１突起部は、同一の材料から形成されている、請求項１又は２に記載の光導波路搭載基板。

【請求項4】

一方の前記第１突起部は、平面視において、前記第１拡幅部の外縁の一部に沿って形成され、
他方の前記第１突起部は、平面視において、前記第２拡幅部の外縁の一部に沿って形成されている、請求項１乃至３の何れか一項に記載の光導波路搭載基板。

【請求項5】

前記第１拡幅部及び前記第２拡幅部は、平面視において矩形であり、
一方の前記第１突起部は、平面視において、前記第１拡幅部の矩形の２辺と対向する部分を有し、
他方の前記第１突起部は、平面視において、前記第２拡幅部の矩形の２辺と対向する部分を有する、請求項１乃至４の何れか一項に記載の光導波路搭載基板。

【請求項6】

一方の前記第１突起部は、平面視において、前記第１拡幅部の矩形の３辺と対向する部分を有し、
他方の前記第１突起部は、平面視において、前記第２拡幅部の矩形の３辺と対向する部分を有する、請求項５に記載の光導波路搭載基板。

【請求項7】

前記第１クラッド層の上面に形成された、前記第１クラッド層の上面に対して傾斜する傾斜面を備えた第２金属膜形成用突起部と、
前記第２金属膜形成用突起部の少なくとも前記傾斜面に形成された第２金属膜と、
前記コア層及び前記第２金属膜形成用突起部と離隔するように、前記第１クラッド層の上面に平面視で前記コア層を挟んで形成された、前記第１クラッド層の上面から突起する一対の第２突起部と、を有し、
前記第２突起部は、感光性の樹脂により形成され、
前記第２金属膜形成用突起部は、平面視において、前記コア層と重複する第２中央部と、前記第２中央部から延伸して前記コア層の一方の側面からはみ出る第３拡幅部と、前記第２中央部から延伸して前記コア層の他方の側面からはみ出る第４拡幅部と、を備え、
前記コア層の端面に垂直な方向から前記第２金属膜を視たときに、前記コア層は前記第２中央部に形成された前記第２金属膜と重複し、一方の前記第２突起部は前記第３拡幅部に形成された前記第２金属膜と重複する部分を有し、他方の前記第２突起部は前記第４拡幅部に形成された前記第２金属膜と重複する部分を有する、請求項１乃至６の何れか一項に記載の光導波路搭載基板。

【請求項8】

前記コア層と前記第１突起部と前記第２突起部は、同一の材料から形成され、
前記第２突起部は、前記第１突起部と同一の形状である、請求項７に記載の光導波路搭載基板。

【請求項9】

請求項１乃至８の何れか一項に記載の光導波路搭載基板と、
前記光導波路に光を出射する発光素子若しくは前記光導波路から出た光を入射する受光素子又はこれらの両方と、を有する、光通信装置。

【請求項10】

配線基板上に第１クラッド層を形成する工程と、
前記第１クラッド層の上面に、前記第１クラッド層の上面に対して傾斜する傾斜面を備えた第１金属膜形成用突起部を形成する工程と、
前記第１金属膜形成用突起部の少なくとも前記傾斜面に第１金属膜を形成する工程と、
前記第１金属膜の一部を被覆するように、前記第１クラッド層の上面に感光性の樹脂によりコア層を形成する工程と、
前記コア層及び前記第１金属膜形成用突起部と離隔するように、前記第１クラッド層の上面に平面視で前記コア層を挟んで、前記第１クラッド層の上面から突起する一対の第１突起部を感光性の樹脂により形成する工程と、を有し、
前記第１金属膜形成用突起部は、平面視において、前記コア層と重複する第１中央部と、前記第１中央部から延伸して前記コア層の一方の側面からはみ出る第１拡幅部と、前記第１中央部から延伸して前記コア層の他方の側面からはみ出る第２拡幅部と、を備え、
前記コア層の端面に垂直な方向から前記第１金属膜を視たときに、前記コア層は前記第１中央部に形成された前記第１金属膜と重複し、一方の前記第１突起部は前記第１拡幅部に形成された前記第１金属膜と重複する部分を有し、他方の前記第１突起部は前記第２拡幅部に形成された前記第１金属膜と重複する部分を有し、
前記コア層と前記第１突起部は、同一のマスクを用いて露光及び現像をすることにより形成される、光導波路搭載基板の製造方法。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、光導波路搭載基板、光通信装置、及び光導波路搭載基板の製造方法に関する。

【背景技術】

【0002】

第１クラッド層と第２クラッド層によりコア層を挟持した光導波路を搭載する光導波路搭載基板において、コア層の光伝搬方向に対して略４５度傾斜した傾斜面を形成し、傾斜面に金属膜を設ける技術が知られている。この光導波路において、コア層等は感光性の樹脂を露光及び現像することで形成される。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0003】

【特許文献1】特開２００９－６９６６８号公報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0004】

しかしながら、上記の光導波路搭載基板において、コア層の露光及び現像は金属膜を形成後に行われる。そのため、コア層を現像する際の現像液により金属膜が剥離する問題があった。

【0005】

本発明は、上記の点に鑑みてなされたものであり、金属膜が剥離しにくい構造の光導波路を搭載する光導波路搭載基板を提供することを課題とする。

【課題を解決するための手段】

【0006】

本光導波路搭載基板は、配線基板と、前記配線基板上に形成された光導波路と、を有し、前記光導波路は、第１クラッド層と、前記第１クラッド層の上面に形成された、前記第１クラッド層の上面に対して傾斜する傾斜面を備えた第１金属膜形成用突起部と、前記第１金属膜形成用突起部の少なくとも前記傾斜面に形成された第１金属膜と、前記第１金属膜の一部を被覆するように、前記第１クラッド層の上面に形成されたコア層と、前記コア層の少なくとも上面及び両側面を覆うように、前記第１クラッド層の上面に形成された第２クラッド層と、前記コア層及び前記第１金属膜形成用突起部と離隔するように、前記第１クラッド層の上面に平面視で前記コア層を挟んで形成された、前記第１クラッド層の上面から突起する一対の第１突起部と、を有し、前記コア層と前記第１突起部は、感光性の樹脂により形成され、前記第１金属膜形成用突起部は、平面視において、前記コア層と重複する第１中央部と、前記第１中央部から延伸して前記コア層の一方の側面からはみ出る第１拡幅部と、前記第１中央部から延伸して前記コア層の他方の側面からはみ出る第２拡幅部と、を備え、前記コア層の端面に垂直な方向から前記第１金属膜を視たときに、前記コア層は前記第１中央部に形成された前記第１金属膜と重複し、一方の前記第１突起部は前記第１拡幅部に形成された前記第１金属膜と重複する部分を有し、他方の前記第１突起部は前記第２拡幅部に形成された前記第１金属膜と重複する部分を有する。

【発明の効果】

【0007】

開示の技術によれば、金属膜が剥離しにくい構造の光導波路を搭載する光導波路搭載基板を提供できる。

【図面の簡単な説明】

【0008】

【図1】第１実施形態に係る光導波路搭載基板の構造を例示する図である。

【図2】第１及び第２金属膜形成用突起部とその近傍の部分拡大平面図である。

【図3】第１実施形態に係る光導波路搭載基板の製造工程を例示する図（その１）である。

【図4】第１実施形態に係る光導波路搭載基板の製造工程を例示する図（その２）である。

【図5】第１実施形態に係る光導波路搭載基板の製造工程を例示する図（その３）である。

【図6】第１実施形態に係る光導波路搭載基板の製造工程を例示する図（その４）である。

【図7】第１実施形態に係る光導波路搭載基板の製造工程を例示する図（その５）である。

【図8】第１実施形態の変形例に係る光導波路搭載基板の構造を例示する平面図である。

【図9】第２実施形態に係る光送受信装置を例示する断面図である。

【図10】第２実施形態の変形例に係る光送受信装置を例示する断面図である。

【発明を実施するための形態】

【0009】

以下、図面を参照して発明を実施するための形態について説明する。なお、各図面において、同一構成部分には同一符号を付し、重複した説明を省略する場合がある。

【0010】

〈第１実施形態〉
［光導波路搭載基板の構造］
まず、光導波路搭載基板の構造について説明する。図１は、第１実施形態に係る光導波路搭載基板の構造を例示する図であり、図１（ａ）は、平面図、図１（ｂ）は図１（ａ）のＡ－Ａ線に沿う断面図である。なお、図１（ａ）において、図１（ｂ）に示す第２クラッド層３３の図示は省略されている。また、図１では、参考のため、互いに直交するＸ方向、Ｙ方向、及びＺ方向を規定している。以降の図においても、必要に応じて、同様の方向を規定する場合がある。

【0011】

図１に示すように、第１実施形態に係る光導波路搭載基板１は、配線基板１０と、配線基板１０上に形成された光導波路３０とを有している。ここでは、一例として、配線基板１０の平面形状が矩形であり、矩形の長辺がＸ方向に平行であり、矩形の短辺がＹ方向に平行であるとする。Ｚ方向は、配線基板１０を構成する各層の積層方向である。

【0012】

［配線基板］
配線基板１０において、コア基板１０Ｃの両面に配線層及び絶縁層が積層されている。具体的には、配線基板１０において、コア基板１０Ｃの一方の面（上面）には、配線層１２と、絶縁層１３と、配線層１４と、ソルダレジスト層１５とが順次積層されている。また、コア基板１０Ｃの他方の面（下面）には、配線層２２と、絶縁層２３と、配線層２４と、ソルダレジスト層２５とが順次積層されている。

【0013】

コア基板１０Ｃとしては、例えば、ガラスクロスにエポキシ系樹脂等の絶縁性樹脂を含浸させた所謂ガラスエポキシ基板等を用いることができる。コア基板１０Ｃとして、ガラス繊維、炭素繊維、アラミド繊維等の織布や不織布にエポキシ系樹脂やポリイミド系樹脂等を含浸させた基板等を用いてもよい。コア基板１０Ｃの厚さは、例えば、６０μｍ～４００μｍ程度とすることができる。コア基板１０Ｃには、コア基板１０Ｃを厚さ方向に貫通する貫通孔１０ｘが設けられている。貫通孔１０ｘの平面形状は例えば円形である。

【0014】

配線層１２は、コア基板１０Ｃの一方の面に形成されている。また、配線層２２は、コア基板１０Ｃの他方の面に形成されている。配線層１２と配線層２２とは、貫通孔１０ｘ内に形成された貫通配線１１により電気的に接続されている。配線層１２及び２２は、各々所定の平面形状にパターニングされている。配線層１２及び２２、並びに貫通配線１１の材料としては、例えば、銅（Ｃｕ）等を用いることができる。配線層１２及び２２の厚さは、例えば、１０μｍ～３０μｍ程度とすることができる。なお、配線層１２と配線層２２と貫通配線１１とは一体に形成されたものであってもよい。

【0015】

絶縁層１３は、コア基板１０Ｃの一方の面に配線層１２を覆うように形成されている。絶縁層１３の材料としては、例えば、エポキシ系樹脂やポリイミド系樹脂を主成分とする絶縁性樹脂等を用いることができる。絶縁層１３の厚さは、例えば３０μｍ～４０μｍ程度とすることができる。絶縁層１３は、シリカ（ＳｉＯ_２）等のフィラーを含有することができる。

【0016】

配線層１４は、絶縁層１３の一方の側に形成されている。配線層１４は、絶縁層１３を貫通し配線層１２の一方の面を露出するビアホール１３ｘ内に充填されたビア配線、及び絶縁層１３の一方の面に形成された配線パターンを含んで構成されている。配線層１４は、配線層１２と電気的に接続されている。ビアホール１３ｘは、ソルダレジスト層１５側に開口されている開口部の径が配線層１２の一方の面によって形成された開口部の底面の径よりも大きい逆円錐台状の凹部とすることができる。配線層１４の材料や配線層１４を構成する配線パターンの厚さは、例えば、配線層１２と同様とすることができる。

【0017】

ソルダレジスト層１５は、配線基板１０の一方の側の最外層であり、絶縁層１３の一方の面に、配線層１４を覆うように形成されている。ソルダレジスト層１５は、例えば、エポキシ系樹脂やアクリル系樹脂等の感光性樹脂等から形成することができる。ソルダレジスト層１５の厚さは、例えば１５μｍ～３５μｍ程度とすることができる。

【0018】

ソルダレジスト層１５は、開口部１５ｘを有し、開口部１５ｘの底部には配線層１４の一方の面の一部が露出している。開口部１５ｘの平面形状は、例えば、円形とすることができる。必要に応じ、開口部１５ｘ内に露出する配線層１４の一方の面に金属膜を形成したり、ＯＳＰ（Organic Solderability Preservative）処理等の酸化防止処理を施したりしてもよい。金属膜の例としては、Ａｕ層や、Ｎｉ／Ａｕ層（Ｎｉ層とＡｕ層をこの順番で積層した金属膜）、Ｎｉ／Ｐｄ／Ａｕ層（Ｎｉ層とＰｄ層とＡｕ層をこの順番で積層した金属膜）等を挙げることができる。

【0019】

開口部１５ｘ内に露出する配線層１４上に外部接続端子１９が形成されている。外部接続端子１９は、例えば、はんだバンプである。はんだバンプの材料としては、例えばＰｂを含む合金、ＳｎとＣｕの合金、ＳｎとＡｇの合金、ＳｎとＡｇとＣｕの合金等を用いることができる。外部接続端子１９は、発光素子や受光素子と電気的に接続される端子である。

【0020】

絶縁層２３は、コア基板１０Ｃの他方の面に配線層２２を覆うように形成されている。絶縁層２３の材料や厚さは、例えば、絶縁層１３と同様とすることができる。絶縁層２３は、シリカ（ＳｉＯ_２）等のフィラーを含有することができる。配線層２４は、絶縁層２３の他方の側に形成されている。配線層２４は、絶縁層２３を貫通し配線層２２の他方の面を露出するビアホール２３ｘ内に充填されたビア配線、及び絶縁層２３の他方の面に形成された配線パターンを含んで構成されている。配線層２４は、配線層２２と電気的に接続されている。ビアホール２３ｘは、ソルダレジスト層２５側に開口されている開口部の径が配線層２２の他方の面によって形成された開口部の底面の径よりも大きい円錐台状の凹部とすることができる。配線層２４の材料や厚さは、例えば、配線層１２と同様とすることができる。

【0021】

ソルダレジスト層２５は、配線基板１０の他方の側の最外層であり、絶縁層２３の他方の面に、配線層２４を覆うように形成されている。ソルダレジスト層２５の材料や厚さは、例えば、ソルダレジスト層１５と同様とすることができる。ソルダレジスト層２５は、開口部２５ｘを有し、開口部２５ｘ内には配線層２４の他方の面の一部が露出している。開口部２５ｘの平面形状は、例えば、円形とすることができる。開口部２５ｘ内に露出する配線層２４は、マザーボード等の実装基板（図示せず）と電気的に接続するためのパッドとして用いることができる。必要に応じ、開口部２５ｘ内に露出する配線層２４の他方の面に前述の金属膜を形成したり、ＯＳＰ処理等の酸化防止処理を施したりしてもよい。

【0022】

［光導波路］
図２は、第１及び第２金属膜形成用突起部とその近傍の部分拡大平面図である。図１に加えて図２を参照し、光導波路３０について説明する。

【0023】

光導波路３０は、配線基板１０のソルダレジスト層１５上に形成されている。光導波路３０は、第１クラッド層３１と、コア層３２と、第２クラッド層３３と、第１金属膜形成用突起部３５と、第２金属膜形成用突起部３６と、一対の第１突起部３８と、一対の第２突起部３９と、第１金属膜３５１と、第２金属膜３６１とを備えている。

【0024】

第１クラッド層３１は、例えば、感光性の材料により形成されている。具体的には、第１クラッド層３１は、例えば、ポリイミド系樹脂、アクリル系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、ポリノルボルネン系樹脂等のポリマーにより形成できる。第１クラッド層３１の厚さは、例えば、１０μｍ～３０μｍ程度とすることができる。第１クラッド層３１は、配線基板１０上に、配線基板１０と略平行に配置されている。

【0025】

コア層３２は、第１クラッド層３１の上面に選択的に形成されている。コア層３２は、第１金属膜３５１の一部、及び第２金属膜３６１の一部を被覆する、図１の例では、第１クラッド層３１の上面に、Ｘ方向を長手方向とする細長状の２本のコア層３２が並置されているが、これは一例であり、コア層３２は１本形成してもよいし、３本以上形成してもよい。並置されるコア層３２のピッチは、例えば、２００μｍ～３００μｍ程度とすることができる。コア層３２は、第１クラッド層３１と同様の材料により形成できる。コア層３２の厚さは、例えば、１５μｍ～３５μｍ程度とすることができる。コア層３２の短手方向の断面形状は、例えば、正方形とすることができる。

【0026】

第２クラッド層３３は、コア層３２の少なくとも上面及び両側面を覆うように、第１クラッド層３１の上面に形成されている。第２クラッド層３３は、第１クラッド層３１と同様の材料により形成できる。第２クラッド層３３の厚さは、例えば、１０μｍ～３０μｍ程度とすることができる。

【0027】

上記のように、第１クラッド層３１、コア層３２及び第２クラッド層３３は同一の材料から形成できるが、コア層３２の屈折率は、第１クラッド層３１及び第２クラッド層３３の屈折率よりも高い。コア層３２に、例えば、Ｇｅ等の屈折率制御用添加剤を含むことにより、コア層３２の屈折率を第１クラッド層３１及び第２クラッド層３３の屈折率よりも高くすることができる。第１クラッド層３１及び第２クラッド層３３の屈折率は例えば１．５、コア層３２の屈折率は例えば１．６とすることができる。

【0028】

第１金属膜形成用突起部３５は、第１クラッド層３１の上面に形成されている。第１金属膜形成用突起部３５は、第１クラッド層３１の上面に対して傾斜する傾斜面３５ａを備えている。第１クラッド層３１の上面と、傾斜面３５ａとのなす角度は、例えば、４５度である。第１金属膜形成用突起部３５は、傾斜面３５ａの他に、第１クラッド層３１の上面に対して平行な面や垂直な面を備えてもよい。

【0029】

また、図２（ａ）に示すように、第１金属膜形成用突起部３５は、平面視において、コア層３２と重複する第１中央部３５ｂと、第１中央部３５ｂから延伸してコア層３２の一方の側面３２ａからＹ＋方向にはみ出る第１拡幅部３５ｃと、第１中央部３５ｂから延伸してコア層３２の他方の側面３２ｂからＹ－方向にはみ出る第２拡幅部３５ｄとを備えている。傾斜面３５ａは、第１中央部３５ｂ、第１拡幅部３５ｃ、及び第２拡幅部３５ｄに跨っている。

【0030】

第２金属膜形成用突起部３６は、第１クラッド層３１の上面に形成されている。第２金属膜形成用突起部３６は、第１クラッド層３１の上面に対して傾斜する傾斜面３６ａを備えている。第１クラッド層３１の上面と、傾斜面３６ａとのなす角度は、例えば、４５度である。第２金属膜形成用突起部３６は、傾斜面３６ａの他に、第１クラッド層３１の上面に対して平行な面や垂直な面を備えてもよい。

【0031】

また、図２（ｂ）に示すように、第２金属膜形成用突起部３６は、平面視において、コア層３２と重複する第２中央部３６ｂと、第２中央部３６ｂから延伸してコア層３２の一方の側面３２ａからＹ＋方向にはみ出る第３拡幅部３６ｃと、第２中央部３６ｂから延伸してコア層３２の他方の側面３２ｂからＹ－方向にはみ出る第４拡幅部３６ｄとを備えている。傾斜面３６ａは、第２中央部３６ｂ、第３拡幅部３６ｃ、及び第４拡幅部３６ｄに跨っている。

【0032】

第１金属膜３５１は、第１金属膜形成用突起部３５の少なくとも傾斜面３５ａに形成されている。第１金属膜３５１は、傾斜面３５ａにおいて、コア層３２に被覆される第１中央部３５ｂに形成されると共に、コア層３２から露出して第１拡幅部３５ｃ及び第２拡幅部３５ｄにも延伸する。第２金属膜３６１は、第２金属膜形成用突起部３６の少なくとも傾斜面３６ａに形成されている。第２金属膜３６１は、傾斜面３６ａにおいて、コア層３２に被覆される第２中央部３６ｂに形成されると共に、コア層３２から露出して第３拡幅部３６ｃ及び第４拡幅部３６ｄにも延伸する。

【0033】

傾斜面３６ａに形成された第２金属膜３６１は、傾斜面３５ａに形成された第１金属膜３５１と概ね対向している。コア層３２と第１中央部３５ｂに形成された第１金属膜３５１との界面、及びコア層３２と第２中央部３６ｂに形成された第２金属膜３６１との界面は、入射光の伝搬方向を変換する反射面となる。第１金属膜３５１及び第２金属膜３６１は、例えば、厚さが０．２μｍ～０．５μｍの金（Ａｕ）膜である。

【0034】

一対の第１突起部３８は、コア層３２及び第１金属膜形成用突起部３５と離隔するように、第１クラッド層３１の上面に平面視でコア層３２を挟んで形成されている。一対の第１突起部３８は、感光性の樹脂により形成され、第１クラッド層３１の上面から突起する。一対の第１突起部３８は、コア層３２及び第１金属膜形成用突起部３５と離隔しているため、コア層３２を通る光が第１突起部３８に漏れることはない。

【0035】

一方の第１突起部３８とコア層３２及び第１拡幅部３５ｃとの間隔、及び他方の第１突起部３８とコア層３２及び第２拡幅部３５ｄとの間隔は、数μｍから２００μｍ程度であることが好ましい。一方の第１突起部３８とコア層３２及び第１拡幅部３５ｃとの間隔、及び他方の第１突起部３８とコア層３２及び第２拡幅部３５ｄとの間隔は、一定であってもよいし、一定でなくてもよい。第１クラッド層３１の上面を基準として、コア層３２の高さと一対の第１突起部３８の高さは同一である。なお、ここでいう同一は、一対の第１突起部３８の高さがコア層３２の高さ±１５％以下である場合を含む。コア層３２と一対の第１突起部３８は、同一の材料から形成されてもよい。

【0036】

一対の第１突起部３８において、一方の第１突起部３８は、平面視において、第１拡幅部３５ｃの外縁の一部に沿って形成され、他方の第１突起部３８は、平面視において、第２拡幅部３５ｄの外縁の一部に沿って形成されていることが好ましい。図１及び図２の例では、第１拡幅部３５ｃ及び第２拡幅部３５ｄは、平面視において矩形であり、一方の第１突起部３８は、平面視において、第１拡幅部３５ｃの矩形の３辺と対向する部分を有し、他方の第１突起部３８は、平面視において、第２拡幅部３５ｄの矩形の３辺と対向する部分を有する。

【0037】

具体的には、各々の第１突起部３８は、Ｘ方向に伸びる第１部分３８ｒと、第１部分３８ｒの一端側に連続してＹ方向に伸びる第２部分３８ｓと、第１部分３８ｒの他端側に連続してＹ方向に伸びる第３部分３８ｔとを有している。この場合、一方の第１突起部３８の第１部分３８ｒ、第２部分３８ｓ、第３部分３８ｔは、平面視において、第１拡幅部３５ｃの矩形の３辺の何れかと対向する。また、他方の第１突起部３８の第１部分３８ｒ、第２部分３８ｓ、第３部分３８ｔは、平面視において、第２拡幅部３５ｄの矩形の３辺の何れかと対向する。

【0038】

コア層３２の端面に垂直な方向（図２（ａ）の矢印Ｐ１の方向）から第１金属膜３５１を視たときに、コア層３２は第１中央部３５ｂに形成された第１金属膜３５１と重複する。また、コア層３２の端面に垂直な方向から第１金属膜３５１を視たときに、一方の第１突起部３８は第１拡幅部３５ｃに形成された第１金属膜３５１と重複する部分を有し、他方の第１突起部３８は第２拡幅部３５ｄに形成された第１金属膜３５１と重複する部分を有する。

【0039】

図１及び図２の例では、コア層３２の端面に垂直な方向から第１金属膜３５１を視たときに、一方の第１突起部３８の第２部分３８ｓは、第１拡幅部３５ｃの傾斜面３５ａに形成された第１金属膜３５１と重複する部分を有する。また、他方の第１突起部３８の第２部分３８ｓは、第２拡幅部３５ｄの傾斜面３５ａに形成された第１金属膜３５１と重複する部分を有する。言い換えれば、一方の第１突起部３８の第２部分３８ｓは、第１拡幅部３５ｃの傾斜面３５ａに形成された第１金属膜３５１と対向する部分を有し、他方の第１突起部３８の第２部分３８ｓは、第２拡幅部３５ｄの傾斜面３５ａに形成された第１金属膜３５１と対向する部分を有する。

【0040】

一対の第２突起部３９は、コア層３２及び第２金属膜形成用突起部３６と離隔するように、第１クラッド層３１の上面に平面視でコア層３２を挟んで形成されている。一対の第２突起部３９は、感光性の樹脂により形成され、第１クラッド層３１の上面から突起する。一対の第２突起部３９は、コア層３２及び第２金属膜形成用突起部３６と離隔しているため、コア層３２を通る光が第２突起部３９に漏れることはない。

【0041】

一方の第２突起部３９とコア層３２及び第３拡幅部３６ｃとの間隔、及び他方の第２突起部３９とコア層３２及び第４拡幅部３６ｄとの間隔は、数μｍから２００μｍ程度であることが好ましい。一方の第２突起部３９とコア層３２及び第３拡幅部３６ｃとの間隔、及び他方の第２突起部３９とコア層３２及び第４拡幅部３６ｄとの間隔は、一定であってもよいし、一定でなくてもよい。第１クラッド層３１の上面を基準として、コア層３２の高さと一対の第２突起部３９の高さは同一である。なお、ここでいう同一は、一対の第２突起部３９の高さがコア層３２の高さ±１５％以下である場合を含む。コア層３２と一対の第１突起部３８と一対の第２突起部３９は、同一の材料から形成されてもよい。一対の第２突起部３９は、一対の第１突起部３８と同一の形状であってもよい。

【0042】

一対の第２突起部３９において、一方の第２突起部３９は、平面視において、第３拡幅部３６ｃの外縁の一部に沿って形成され、他方の第２突起部３９は、平面視において、第４拡幅部３６ｄの外縁の一部に沿って形成されていることが好ましい。図１及び図２の例では、第３拡幅部３６ｃ及び第４拡幅部３６ｄは、平面視において矩形であり、一方の第２突起部３９は、平面視において、第３拡幅部３６ｃの矩形の３辺と対向する部分を有し、他方の第２突起部３９は、平面視において、第４拡幅部３６ｄの矩形の３辺と対向する部分を有する。

【0043】

具体的には、各々の第２突起部３９は、Ｘ方向に伸びる第１部分３９ｒと、第１部分３９ｒの一端側に連続してＹ方向に伸びる第２部分３９ｓと、第１部分３９ｒの他端側に連続してＹ方向に伸びる第３部分３９ｔとを有している。この場合、一方の第２突起部３９の第１部分３９ｒ、第２部分３９ｓ、第３部分３９ｔは、平面視において、第３拡幅部３６ｃの矩形の３辺の何れかと対向する。また、他方の第２突起部３９の第１部分３９ｒ、第２部分３９ｓ、第３部分３９ｔは、平面視において、第４拡幅部３６ｄの矩形の３辺の何れかと対向する。

【0044】

コア層３２の端面に垂直な方向（図２（ｂ）の矢印Ｐ２の方向）から第２金属膜３６１を視たときに、コア層３２は第２中央部３６ｂに形成された第２金属膜３６１と重複する。また、コア層３２の端面に垂直な方向から第２金属膜３６１を視たときに、一方の第２突起部３９は第３拡幅部３６ｃに形成された第２金属膜３６１と重複する部分を有し、他方の第２突起部３９は第４拡幅部３６ｄに形成された第２金属膜３６１と重複する部分を有する。

【0045】

図１及び図２の例では、コア層３２の端面に垂直な方向から第２金属膜３６１を視たときに、一方の第２突起部３９の第２部分３９ｓは、第３拡幅部３６ｃの傾斜面３６ａに形成された第２金属膜３６１と重複する部分を有する。また、他方の第２突起部３９の第２部分３９ｓは、第４拡幅部３６ｄの傾斜面３６ａに形成された第２金属膜３６１と重複する部分を有する。言い換えれば、一方の第２突起部３９の第２部分３９ｓは、第３拡幅部３６ｃの傾斜面３６ａに形成された第２金属膜３６１と対向する部分を有し、他方の第２突起部３９の第２部分３９ｓは、第４拡幅部３６ｄの傾斜面３６ａに形成された第２金属膜３６１と対向する部分を有する。

【0046】

［光導波路搭載基板の製造方法］
次に、光導波路搭載基板１の製造方法について説明する。図３～図７は、第１実施形態に係る光導波路搭載基板の製造工程を例示する図である。

【0047】

まず、図３（ａ）に示す工程では、配線基板１０を準備する。配線基板１０は、例えば、周知のビルドアップ工法等により製造できる。配線基板１０は、市販品の購入等により準備してもよい。

【0048】

次に、図３（ｂ）に示す工程では、配線基板１０のソルダレジスト層１５の上面に第１クラッド層３１を形成する。第１クラッド層３１の厚さは、例えば、１０μｍ程度である。次に、図３（ｃ）に示す工程では、配線基板１０のソルダレジスト層１５の上面に、第１クラッド層３１を被覆する紫外線硬化性樹脂３００を積層する。紫外線硬化性樹脂３００の厚さは、例えば、３５μｍ程度である。

【0049】

次に、図４（ａ）及び図４（ｂ）に示す工程では、第１金属膜形成用突起部３５及び第２金属膜形成用突起部３６となる部分のみが残存するように、紫外線硬化性樹脂３００をパターニングする。まず、図４（ａ）に示すように、例えば、第１金属膜形成用突起部３５及び第２金属膜形成用突起部３６となる部分に対応する位置に開口部４００ｘを有するマスク４００を用い、マスク４００を介して、紫外線硬化性樹脂３００に紫外線を照射し、露光によりパターニングする。これにより、開口部４００ｘ内に露出する部分の紫外線硬化性樹脂３００が硬化される。次に、図４（ｂ）に示す工程では、紫外線硬化性樹脂３００の不要な部分を現像で除去し、樹脂突起部３５０及び３６０を形成する。

【0050】

次に、図４（ｃ）に示す工程では、樹脂突起部３５０及び３６０を、傾斜面が互いに概ね対向するように、例えば４５度に切断する。切断は、例えば、ダイサーブレード４１０によるダイシングや、研磨板による研磨等により行うことができる。切断面である傾斜面３５ａ及び３６ａにキズや凹み等が発生した場合、切断面にレーザ光の照射や樹脂液の塗布等を行い、傾斜面３５ａ及び３６ａを平滑化することが好ましい。

【0051】

この工程により、第１クラッド層３１の上面に対して傾斜する傾斜面３５ａを備えた第１金属膜形成用突起部３５、及び第１クラッド層３１の上面に対して傾斜する傾斜面３６ａを備えた第２金属膜形成用突起部３６が形成される。図２（ａ）に示したように、第１金属膜形成用突起部３５は、平面視において、第１中央部３５ｂと、第１中央部３５ｂから延伸してコア層３２の一方の側面３２ａからはみ出る第１拡幅部３５ｃと、第１中央部３５ｂから延伸してコア層３２の他方の側面３２ｂからはみ出る第２拡幅部３５ｄとを備えた構造となる。また、図２（ｂ）に示したように、第２金属膜形成用突起部３６は、平面視において、第２中央部３６ｂと、第２中央部３６ｂから延伸してコア層３２の一方の側面３２ａからはみ出る第３拡幅部３６ｃと、第２中央部３６ｂから延伸してコア層３２の他方の側面３２ｂからはみ出る第４拡幅部３６ｄとを備えた構造となる。

【0052】

次に、図５（ａ）及び図５（ｂ）に示す工程では、第１金属膜形成用突起部３５の少なくとも傾斜面３５ａに第１金属膜３５１を形成すると共に、第２金属膜形成用突起部３６の少なくとも傾斜面３６ａに第２金属膜３６１を形成する。第１金属膜３５１及び第２金属膜３６１は、例えば、金をスパッタや蒸着により成膜することで形成できる。第１金属膜３５１及び第２金属膜３６１の一部は、第１金属膜形成用突起部３５及び第２金属膜形成用突起部３６の上面や第１クラッド層３１の上面に形成されてもよい。なお、ここでは、２組の第１金属膜形成用突起部３５及び第２金属膜形成用突起部３６を形成する例を示したが、これは一例であり、第１金属膜形成用突起部３５及び第２金属膜形成用突起部３６は１組形成してもよいし、３組以上形成してもよい。

【0053】

次に、図６（ａ）及び図６（ｂ）に示す工程では、第１金属膜３５１の一部及び第２金属膜３６１の一部を被覆するように、第１クラッド層３１の上面に感光性の樹脂によりコア層３２を形成する。また、コア層３２及び第１金属膜形成用突起部３５と離隔するように、第１クラッド層３１の上面に平面視でコア層３２を挟んで、第１クラッド層３１の上面から突起する一対の第１突起部３８を感光性の樹脂により形成する。また、コア層３２及び第２金属膜形成用突起部３６と離隔するように、第１クラッド層３１の上面に平面視でコア層３２を挟んで、第１クラッド層３１の上面から突起する一対の第２突起部３９を感光性の樹脂により形成する。

【0054】

コア層３２、第１突起部３８、及び第２突起部３９は、例えば、未硬化の感光性の樹脂フィルムを第１クラッド層３１上に配置し、同一のマスクを用いて露光及び現像をすることにより形成される。コア層３２の上面は、例えば、第１金属膜３５１及び第２金属膜３６１の上面と面一となる。第１金属膜３５１及び第２金属膜３６１の上面は、コア層３２から露出してもよい。なお、ここでは、第１クラッド層３１の上面に、Ｘ方向を長手方向とする細長状の２本のコア層３２を形成するが、コア層３２は、第１金属膜形成用突起部３５及び第２金属膜形成用突起部３６の組数に対応するように形成される。

【0055】

ここで、第１突起部３８及び第２突起部３９を形成しない場合について考える。コア層３２を現像する際には、現像液を使用する。現像液は、様々な方向に流れるが、主に図６（ｂ）の矢印方向から第１金属膜３５１及び第２金属膜３６１側に流れる現像液は、コア層３２から露出する第１金属膜３５１及び第２金属膜３６１に達する。この場合、コア層３２から露出する第１金属膜３５１及び第２金属膜３６１は、現像液による浸食により剥離するおそれがある。コア層３２から露出する第１金属膜３５１及び第２金属膜３６１が剥離すると、コア層３２に被覆された第１金属膜３５１及び第２金属膜３６１にも剥離が波及する場合があり、その場合には光学損失が生じる。

【0056】

これに対して、光導波路搭載基板１では、第１突起部３８及び第２突起部３９を形成しているため、上記のような不具合の発生を抑制することができる。すなわち、図６（ｂ）の矢印方向等に流れる現像液に対して、第１突起部３８及び第２突起部３９がダムとして機能するため、第１金属膜３５１及び第２金属膜３６１に達する現像液の量を大幅に減らすことができる。これにより、コア層３２から露出する第１金属膜３５１及び第２金属膜３６１は、現像液による浸食を受けにくくなるため、第１金属膜３５１及び第２金属膜３６１の剥離を抑制できる。その結果、コア層３２から露出する第１金属膜３５１及び第２金属膜３６１の剥離がコア層３２に被覆された第１金属膜３５１及び第２金属膜３６１に波及して光学損失が生じることを抑制できる。なお、現像液に対するダムとしての効果は、特に第１突起部３８の第２部分３８ｓ及び第２突起部３９の第２部分３９ｓによるところが大きい。

【0057】

次に、図７に示す工程では、コア層３２上に第２クラッド層３３を積層する。第２クラッド層３３は、例えば、未硬化の感光性の樹脂フィルムをコア層３２の少なくとも上面及び両側面を覆うように第１クラッド層３１の上面に配置し、露光及び現像することで、所定パターンに形成できる。以上の工程で、配線基板１０上に光導波路３０を搭載した光導波路搭載基板１が完成する。

【0058】

このように、光導波路搭載基板１では、コア層３２と同一工程で第１突起部３８及び第２突起部３９を形成しているため、現像液に起因する第１金属膜３５１又は第２金属膜３６１の剥離を抑制できる。その結果、第１金属膜３５１又は第２金属膜３６１の剥離に起因する光学損失の発生を抑制できる。

【0059】

なお、各突起部において、平面視で、第１部分、第２部分、及び第３部分は、必ずしもＸ方向又はＹ方向と平行でなくてもよい。また、平面視で、第１部分、第２部分、及び第３部分は、必ずしも直線状である必要なく、一部又は全部が屈曲又は湾曲していてもよい。

【0060】

なお、本実施形態では、第１金属膜形成用突起部３５及び第２金属膜形成用突起部３６を設けたが、第１金属膜形成用突起部３５及び第２金属膜形成用突起部３６のうち何れか一方のみを設けてもよい。

【0061】

〈第１実施形態の変形例〉
第１実施形態の変形例では、突起部の平面形状の他の例を示す。なお、第１実施形態の変形例において、既に説明した実施形態と同一構成部品についての説明は省略する場合がある。

【0062】

図８は、第１実施形態の変形例に係る光導波路搭載基板の構造を例示する平面図である。なお、図８において、第２クラッド層３３の図示は省略されている。図８（ａ）に示す光導波路搭載基板１Ａは、第１突起部３８及び第２突起部３９が第１突起部３８Ａ及び第２突起部３９Ａに置換された点が、光導波路搭載基板１（図１等参照）と相違する。

【0063】

第１突起部３８Ａは、第１部分３８ｒと及び第２部分３８ｓとを有しているが、第１突起部３８とは異なり、第３部分３８ｔを有していない。また、第２突起部３９Ａは、第１部分３９ｒと及び第２部分３９ｓとを有しているが、第２突起部３９とは異なり、第３部分３９ｔを有していない。

【0064】

図８（ａ）の例では、第１拡幅部３５ｃ及び第２拡幅部３５ｄは、平面視において矩形であり、一方の第１突起部３８Ａは、平面視において、第１拡幅部３５ｃの矩形の２辺と対向する部分を有し、他方の第１突起部３８Ａは、平面視において、第２拡幅部３５ｄの矩形の２辺と対向する部分を有する。第２突起部３９Ａについても、第１突起部３８Ａと同様の形状である。

【0065】

図８（ｂ）に示す光導波路搭載基板１Ｂは、第１突起部３８及び第２突起部３９が第１突起部３８Ｂ及び第２突起部３９Ｂに置換された点が、光導波路搭載基板１（図１等参照）と相違する。

【0066】

第１突起部３８Ｂは、第１突起部３８の第２部分３８ｓに相当する部分のみを有してる。また、第２突起部３９Ｂは、第２突起部３９の第２部分３９ｓに相当する部分のみを有してる。

【0067】

図８（ｂ）の例では、第１拡幅部３５ｃ及び第２拡幅部３５ｄは、平面視において矩形であり、一方の第１突起部３８Ｂは、平面視において、第１拡幅部３５ｃの矩形の１辺と対向する部分を有し、他方の第１突起部３８Ｂは、平面視において、第２拡幅部３５ｄの矩形の１辺と対向する部分を有する。第２突起部３９Ｂについても、第１突起部３８Ｂと同様の形状である。

【0068】

光導波路搭載基板１、１Ａ、及び１Ｂでは、コア層３２の端面に垂直な方向から第１金属膜３５１を視たときに、一方の第１突起部は第１拡幅部に形成された第１金属膜３５１と重複する第２部分に相当する部分を少なくとも有し、他方の第１突起部は第２拡幅部に形成された第１金属膜３５１と重複する第２部分に相当する部分を少なくとも有する。また、コア層３２の端面に垂直な方向から第２金属膜３６１を視たときに、一方の第２突起部は第３拡幅部に形成された第２金属膜３６１と重複する第２部分に相当する部分を少なくとも有し、他方の第２突起部は第４拡幅部に形成された第２金属膜３６１と重複する第２部分に相当する部分を少なくとも有する。

【0069】

この構造により、図６（ｂ）の矢印方向に流れる現像液に起因する第１金属膜３５１又は第２金属膜３６１の剥離を効果的に抑制できる。その結果、第１金属膜３５１又は第２金属膜３６１の剥離に起因する光学損失の発生を抑制できる。図６（ｂ）の矢印方向以外の方向に流れる現像液による浸食が問題になる場合には、第２部分に加え、さらに第１部分や第３部分を設けることが好ましい。これにより、様々な方向からの現像液に起因する第１金属膜３５１又は第２金属膜３６１の剥離を効果的に抑制できる。

【0070】

〈第２実施形態〉
第２実施形態では、第１実施形態に係る光導波路搭載基板と、光導波路搭載基板に搭載された光導波路に光を出射する発光素子若しくは光導波路から出た光を入射する受光素子又はこれらの両方とを有する光通信装置の例を示す。なお、第２実施形態において、既に説明した実施の形態と同一構成部品についての説明は省略する場合がある。

【0071】

図９は、第２実施形態に係る光送受信装置を例示する断面図である。図９を参照すると、光送受信装置５は、光導波路搭載基板１と、発光素子１１０と、受光素子１２０と、アンダーフィル樹脂１５０及び１６０とを有する。

【0072】

発光素子１１０は、本体１１１と、バンプ１１２と、発光部１１３とを有しており、光導波路３０に光を出射する。バンプ１１２及び発光部１１３は、本体１１１の配線基板１０側に設けられている。バンプ１１２は、例えばＡｕバンプであり、配線基板１０の外部接続端子１９と電気的に接続されている。発光部１１３は、第１金属膜３５１に光を照射可能な位置に配置されている。発光素子１１０としては、例えば、面発光レーザ（ＶＣＳＥＬ：Vertical Cavity Surface Emitting Laser）、発光ダイオード（ＬＥＤ：Light Emitting Diode）等を用いることができる。

【0073】

アンダーフィル樹脂１５０は、発光素子１１０とソルダレジスト層１５の一部及び光導波路３０の一部との間に設けられている。アンダーフィル樹脂１５０としては、例えば、発光素子１１０から出射された光を透過できる光透過性樹脂を用いることができる。

【0074】

受光素子１２０は、本体１２１と、バンプ１２２と、受光部１２３とを有しており、光導波路３０から出た光を入射する。バンプ１２２及び受光部１２３は、本体１２１の配線基板１０側に設けられている。バンプ１２２は、例えばＡｕバンプであり、配線基板１０の外部接続端子１９と電気的に接続されている。受光部１２３は、第２金属膜３６１で反射された光を受光可能な位置に配置されている。受光素子１２０としては、例えば、フォトダイオードやアバランシェフォトダイオード（ＡＰＤ：Avalanche Photodiode）等を用いることができる。

【0075】

アンダーフィル樹脂１６０は、受光素子１２０とソルダレジスト層１５の一部及び光導波路３０の一部との間に設けられている。アンダーフィル樹脂１６０としては、例えば、受光素子１２０が受光する光を透過できる光透過性樹脂を用いることができる。

【0076】

図９において、発光素子１１０の発光部１１３から出射された光Ｌは、アンダーフィル樹脂１５０及び第２クラッド層３３を透過してコア層３２内に入射し、第１金属膜３５１に達して第１金属膜３５１で全反射され、光伝搬方向を略９０度変換される。そして、コア層３２内を伝搬し、第２金属膜３６１に達して第２金属膜３６１で全反射され、光伝搬方向を略９０度変換される。そして、コア層３２から外に出て第２クラッド層３３及びアンダーフィル樹脂１６０透過し、受光素子１２０の受光部１２３に受光される。

【0077】

光送受信装置５は、光導波路３０を有するため、光学損失の少ない装置を実現できる。

【0078】

図１０は、第２実施形態の変形例に係る光送受信装置を例示する断面図である。図１０を参照すると、光送受信装置６は、光導波路３０が光導波路３０Ａに置換された点、及び受光素子１２０に代えて信号伝達用の光ファイバ１３０が追加された点が、光送受信装置５（図９参照）と相違する。

【0079】

光導波路３０Ａは、第２金属膜形成用突起部３６及び第２金属膜３６１を備えていない点が、光導波路３０と相違する。光ファイバ１３０は、光導波路３０Ａの第１金属膜３５１から遠い側の端面に光ファイバ１３０の入射面が僅かな間隔で対向するように、配線基板１０のソルダレジスト層１５上に配置されている。光ファイバ１３０の光軸は、光導波路３０Ａの光軸と一致している。

【0080】

発光素子１１０の発光部１１３から光導波路３０Ａに対して垂直に入射した光Ｌは、第１金属膜３５１により９０度の角度で反射し、光導波路３０Ａのコア層３２を通過し、光導波路３０Ａの端面より光ファイバ１３０に入射され、光信号の伝送が行われる。なお、発光素子１１０を受光素子に置き換え、光ファイバ１３０から光導波路３０Ａへ入射した光を第１金属膜３５１により９０度の角度で反射させ、受光素子で受光させる構成とすることも可能である。

【0081】

光送受信装置６は、光導波路３０Ａを有するため、光学損失の少ない装置を実現できる。

【0082】

以上、好ましい実施形態について詳説したが、上述した実施形態に制限されることはなく、特許請求の範囲に記載された範囲を逸脱することなく、上述した実施形態に種々の変形及び置換を加えることができる。

【符号の説明】

【0083】

１，１Ａ，１Ｂ 光導波路搭載基板
５，６ 光送受信装置
１０ 配線基板
１０Ｃ コア基板
１０ｘ 貫通孔
１１ 貫通配線
１２，１４，２２，２４ 配線層
１３，２３ 絶縁層
１３ｘ，２３ｘ ビアホール
１５，２５ ソルダレジスト層
１５ｘ，２５ｘ 開口部
１９ 外部接続端子
３０，３０Ａ 光導波路
３１ 第１クラッド層
３２ コア層
３３ 第２クラッド層
３５ 第１金属膜形成用突起部
３５ａ，３６ａ 傾斜面
３５ｂ 第１中央部
３５ｃ 第１拡幅部
３５ｄ 第２拡幅部
３６ 第２金属膜形成用突起部
３６ｂ 第２中央部
３６ｃ 第３拡幅部
３６ｄ 第４拡幅部
３８，３８Ａ，３８Ｂ 第１突起部
３８ｒ，３９ｒ 第１部分
３８ｓ，３９ｓ 第２部分
３８ｔ，３８ｔ 第３部分
３９，３９Ａ，３９Ｂ 第２突起部
１１０ 発光素子
１１１，１２１ 本体
１１２，１２２ バンプ
１１３ 発光部
１２０ 受光素子
１２３ 受光部
１３０ 光ファイバ
１５０，１６０ アンダーフィル樹脂
３５１ 第１金属膜
３６１ 第２金属膜

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】

【図6】

【図7】

【図8】

【図9】

【図10】