特開 2023-102751 搬送アーム及び基板搬送装置

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】公開特許公報(A)

(11)【公開番号】P2023102751

(43)【公開日】2023-07-25

(54)【発明の名称】搬送アーム及び基板搬送装置

(51)【国際特許分類】

   H01L 21/677 20060101AFI20230718BHJP

【ＦＩ】

H01L21/68 B

【審査請求】未請求

【請求項の数】12

【出願形態】ＯＬ

(21)【出願番号】P 2022172728

(22)【出願日】2022-10-27

(31)【優先権主張番号】P 2022003019

(32)【優先日】2022-01-12

(33)【優先権主張国・地域又は機関】JP

(71)【出願人】

【識別番号】000219967

【氏名又は名称】東京エレクトロン株式会社

(74)【代理人】

【識別番号】100096389

【弁理士】

【氏名又は名称】金本 哲男

(74)【代理人】

【識別番号】100101557

【弁理士】

【氏名又は名称】萩原 康司

(74)【代理人】

【識別番号】100167634

【弁理士】

【氏名又は名称】扇田 尚紀

(74)【代理人】

【識別番号】100187849

【弁理士】

【氏名又は名称】齊藤 隆史

(74)【代理人】

【識別番号】100212059

【弁理士】

【氏名又は名称】三根 卓也

(72)【発明者】

【氏名】近藤 圭祐

(72)【発明者】

【氏名】岩崎 智徳

【テーマコード（参考）】

5F131

【Ｆターム（参考）】

5F131AA02

5F131BA19

5F131BB03

5F131BB23

5F131CA70

5F131DB02

5F131DB22

5F131DB25

5F131DB52

5F131DB72

5F131DB76

5F131DB82

5F131HA09

5F131HA12

5F131HA13

(57)【要約】

【課題】大気雰囲気下で基板を真空吸着して搬送する搬送アームにおいて、基板の離脱性を向上させる。
【解決手段】大気雰囲気下で基板を真空吸着して搬送する搬送アームであって、基板を保持するピックと、前記ピックの表面に設けられた複数の保持パッドと、を有し、前記保持パッドは、真空吸着用の貫通孔が形成され、前記ピックの表面に設けられるベース部と、前記ベース部の表面に環状に設けられ、基板の裏面に接触する環状部と、を有し、前記環状部の一部には、当該環状部の環状方向と交差する方向に凸部が形成されている。
【選択図】図３

【特許請求の範囲】

【請求項1】

大気雰囲気下で基板を真空吸着して搬送する搬送アームであって、
基板を保持するピックと、
前記ピックの表面に設けられた複数の保持パッドと、を有し、
前記保持パッドは、
真空吸着用の貫通孔が形成され、前記ピックの表面に設けられるベース部と、
前記ベース部の表面に環状に設けられ、基板の裏面に接触する環状部と、を有し、
前記環状部の一部には、当該環状部の環状方向と交差する方向に凸部が形成されている、搬送アーム。

【請求項2】

前記環状部は、円環形状を有する、請求項１に記載の搬送アーム。

【請求項3】

前記凸部は、前記環状部の外側又は内側のいずれか一方において少なくとも１つ形成されている、請求項１又は２に記載の搬送アーム。

【請求項4】

前記凸部は、前記環状部の外側に形成されている、請求項３に記載の搬送アーム。

【請求項5】

前記凸部の頂部は、屈曲した鋭角に形成されている、請求項１又は２に記載の搬送アーム。

【請求項6】

前記ベース部は、接着剤を介して前記ピックの表面に固定され、
前記ベース部の裏面において前記凸部に対応する位置には、前記ピックの表面との接着面が形成されている、請求項１又は２に記載の搬送アーム。

【請求項7】

前記ベース部の裏面において前記貫通孔の周囲には、前記ピックの表面との接着面が形成されている、請求項６に記載の搬送アーム。

【請求項8】

大気雰囲気下で基板を搬送する基板搬送装置であって、
基板を真空吸着して搬送する搬送アームを有し、
前記搬送アームは、
基板を保持するピックと、
前記ピックの表面に設けられた複数の保持パッドと、を有し、
前記保持パッドは、
真空吸着用の貫通孔が形成され、前記ピックの表面に設けられるベース部と、
前記ベース部の表面に環状に設けられ、基板の裏面に接触する環状部と、を有し、
前記環状部の一部には、当該環状部の環状方向と交差する方向に凸部が形成されている、基板搬送装置。

【請求項9】

前記保持パッドに接続され、当該保持パッドに対してガスを供給又は吸引するガス流路と、
前記ガス流路に設けられ、前記保持パッド又は前記保持パッドに保持された基板の少なくともいずれかに振動を付与する振動付与部と、を有する、請求項８に記載の基板搬送装置。

【請求項10】

前記ガス流路には、前記ガスの供給又は吸引を切り替えるバルブが設けられ、
前記ガス流路は、前記保持パッドと前記バルブを接続するガス主流路と、前記バルブに接続され前記ガス主流路にガスを供給するガス供給路と、前記バルブに接続され前記ガス主流路からガスを吸引するガス吸引路と、を有し、
前記振動付与部は、前記ガス供給路に設けられている、請求項９に記載の基板搬送装置。

【請求項11】

前記ガス流路に設けられ、前記振動付与部によって付与された振動を検知する振動検知部を有する、請求項９又は１０に記載の基板搬送装置。

【請求項12】

前記ガス流路には、前記ガスの供給又は吸引を切り替えるバルブが設けられ、
前記ガス流路は、前記保持パッドと前記バルブを接続するガス主流路と、前記バルブに接続され前記ガス主流路にガスを供給するガス供給路と、前記バルブに接続され前記ガス主流路からガスを吸引するガス吸引路と、を有し、
前記振動検知部は、前記ガス供給路に設けられている、請求項１１に記載の基板搬送装置。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本開示は、搬送アーム及び基板搬送装置に関する。

【背景技術】

【0002】

特許文献１には、基板を真空吸着して搬送する基板搬送装置が開示されている。基板搬送装置は、フランジ部を含み、基板を保持する複数のパッドと、複数のパッドを着脱可能に固定するハンドと、を備える。フランジ部は、円形に形成されている。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0003】

【特許文献1】特開２０１５－１０３６９６号公報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0004】

本開示にかかる技術は、大気雰囲気下で基板を真空吸着して搬送する搬送アームにおいて、基板の離脱性を向上させる。

【課題を解決するための手段】

【0005】

本開示の一態様は、大気雰囲気下で基板を真空吸着して搬送する搬送アームであって、基板を保持するピックと、前記ピックの表面に設けられた複数の保持パッドと、を有し、前記保持パッドは、真空吸着用の貫通孔が形成され、前記ピックの表面に設けられるベース部と、前記ベース部の表面に環状に設けられ、基板の裏面に接触する環状部と、を有し、前記環状部の一部には、当該環状部の環状方向と交差する方向に凸部が形成されている。

【発明の効果】

【0006】

本開示によれば、大気雰囲気下で基板を真空吸着して搬送する搬送アームにおいて、基板の離脱性を向上させることができる。

【図面の簡単な説明】

【0007】

【図1】本実施形態にかかるウェハ処理装置の構成の概略を示す平面図である。

【図2】搬送アームの構成の概略を示す斜視図である。

【図3】保持パッドの構成の概略を示す斜視図である。

【図4】保持パッドの構成の概略を示す斜視図である。

【図5】保持パッドと台座の構成の概略を示す斜視図である。

【図6】保持パッドの構成の概略を示す斜視図である。

【図7】ピックにおける保持パッドの配置を示す説明図である。

【図8A】保持パッドの構成の概略を示す平面図である。

【図8B】保持パッドの構成の概略を示す平面図である。

【図8C】保持パッドの構成の概略を示す平面図である。

【図8D】保持パッドの構成の概略を示す平面図である。

【図8E】保持パッドの構成の概略を示す平面図である。

【図8F】保持パッドの構成の概略を示す平面図である。

【図8G】保持パッドの構成の概略を示す平面図である。

【図8H】保持パッドの構成の概略を示す平面図である。

【図8I】保持パッドの構成の概略を示す平面図である。

【図9】保持パッドの構成の概略を示す斜視図である。

【図10】保持パッドの構成の概略を示す斜視図である。

【図11】保持パッドの構成の概略を示す斜視図である。

【図12A】保持パッドの構成の概略を示す平面図である。

【図12B】保持パッドの構成の概略を示す平面図である。

【図12C】保持パッドの構成の概略を示す平面図である。

【図12D】保持パッドの構成の概略を示す平面図である。

【図12E】保持パッドの構成の概略を示す平面図である。

【図12F】保持パッドの構成の概略を示す平面図である。

【図12G】保持パッドの構成の概略を示す平面図である。

【図12H】保持パッドの構成の概略を示す平面図である。

【図12I】保持パッドの構成の概略を示す平面図である。

【図13】ウェハ搬送装置の内部構成を示す説明図である。

【図14】従来の保持パッドの構成の概略を示す斜視図である。

【発明を実施するための形態】

【0008】

半導体デバイスの製造プロセスにおいては、半導体ウェハ（基板；以下、「ウェハ」という。）に対して、例えば真空雰囲気下でエッチング処理等のウェハ処理が行われる。このウェハ処理は、処理モジュールを複数備えたウェハ処理装置を用いて行われる。

【0009】

例えばウェハ処理装置は、真空雰囲気下（減圧雰囲気下）の減圧部と大気雰囲気下（常圧雰囲気下）の常圧部が、ロードロックモジュールを介して一体に接続された構成を有している。
減圧部は、共通のトランスファモジュールと、トランスファモジュールの周囲に連結された複数の処理モジュールとを備える。そして、真空雰囲気下のトランスファモジュールから処理モジュールにウェハが搬送され、当該処理モジュールにおいて真空雰囲気下で所望の処理が行われる。
常圧部は、複数のウェハを保管可能なフープを載置するロードポートと、ウェハ搬送装置を備えたローダーモジュールとを備える。そして、大気雰囲気下のローダーモジュールにおいて、フープとロードロックモジュールに対してウェハが搬送される。
ロードロックモジュールは、内部が真空雰囲気と大気雰囲気に切り替え可能に構成され、減圧部と常圧部の間でウェハの受け渡しを行う。

【0010】

ローダーモジュールにおいて、大気雰囲気下でウェハを搬送するウェハ搬送装置は、例えば特許文献１に開示されたように、ハンド（搬送アーム）に設けられた複数のパッドでウェハを真空吸着して搬送する。また、ウェハ搬送装置から他のモジュール等にウェハを受け渡す際には、複数のパッドからの真空引きを停止してウェハを離脱させる。

【0011】

しかしながら、パッドからの真空引きを停止しても、当該パッドからウェハが離脱し難い場合がある。これは、例えばウェハの粘着性に起因するが、従来のパッドはこのような離脱困難な場合は想定されていない。そして、パッドからウェハの離脱が困難な場合、ウェハの受け渡し時にウェハが搬送アームから飛び跳ねたり、或いはウェハを受け渡せずに搬送アームにウェハが残るなどのトラブルが生じ得る。したがって、従来のウェハ搬送装置には改善の余地がある。

【0012】

本開示にかかる技術は、大気雰囲気下で基板を真空吸着して搬送する搬送アームにおいて、基板の離脱性を向上させる。以下、本実施形態にかかる基板搬送装置としてのウェハ搬送装置を備えたウェハ処理装置について、図面を参照しながら説明する。なお、本明細書及び図面において、実質的に同一の機能構成を有する要素においては、同一の符号を付することにより重複説明を省略する。

【0013】

＜ウェハ処理装置＞
先ず、本実施形態にかかるウェハ処理装置について説明する。図１は、ウェハ処理装置１の構成の概略を示す平面図である。本実施形態においては、ウェハ処理装置１が、基板としてのウェハＷにＣＯＲ処理、ＰＨＴ処理、及びＣＳＴ処理を行うための各種処理モジュールを備える場合について説明する。なお、本開示のウェハ処理装置１が備える各種処理モジュールの構成はこれに限られず、任意に選択され得る。

【0014】

図１に示すようにウェハ処理装置１は、常圧部１０と減圧部１１がロードロックモジュール２０ａ、２０ｂを介して一体に接続された構成を有している。

【0015】

ロードロックモジュール２０ａは、常圧部１０の後述するローダーモジュール３０から搬送されたウェハＷを、減圧部１１の後述するトランスファモジュール６０に引き渡すため、ウェハＷを一時的に保持する。ロードロックモジュール２０ａは、内部に複数、例えば２つのストッカ（図示せず）を有しており、これにより内部に２枚のウェハＷを同時に保持する。

【0016】

ロードロックモジュール２０ａは、ゲートバルブ（図示せず）が設けられたゲート（図示せず）を介して、ローダーモジュール３０及びトランスファモジュール６０に接続されている。このゲートバルブにより、ロードロックモジュール２０ａと、ローダーモジュール３０及びトランスファモジュール６０の間との気密性の確保と互いの連通を両立する。

【0017】

ロードロックモジュール２０ａにはガスを供給する給気部（図示せず）とガスを排出する排気部（図示せず）が接続され、当該給気部と排気部によって内部が大気雰囲気（常圧雰囲気）と真空雰囲気（減圧雰囲気）に切り替え可能に構成されている。すなわちロードロックモジュール２０ａは、大気雰囲気の常圧部１０と、真空雰囲気の減圧部１１との間で、適切にウェハＷの受け渡しができるように構成されている。

【0018】

ロードロックモジュール２０ｂはトランスファモジュール６０から搬送されたウェハＷをローダーモジュール３０に引き渡すため、ウェハＷを一時的に保持する。ロードロックモジュール２０ｂは、ロードロックモジュール２０ａと同様の構成を有している。すなわち、ゲートバルブ（図示せず）、ゲート（図示せず）、給気部（図示せず）、及び排気部（図示せず）を有している。

【0019】

なお、ロードロックモジュール２０ａ、２０ｂの数や配置は、本実施形態に限定されるものではなく、任意に設定できる。

【0020】

常圧部１０は、後述するウェハ搬送装置４０を備えたローダーモジュール３０と、複数のウェハＷを保管可能なフープ３１を載置するロードポート３２と、ウェハＷを冷却するＣＳＴモジュール３３と、ウェハＷの水平方向の向きを調節するアライナモジュール３４とを有している。

【0021】

ローダーモジュール３０は内部が矩形の筐体からなり、筐体の内部は大気雰囲気に維持されている。ローダーモジュール３０の筐体の長辺を構成する一側面には、複数、例えば３つのロードポート３２が並設されている。ローダーモジュール３０の筐体の長辺を構成する他側面には、ロードロックモジュール２０ａ、２０ｂが並設されている。ローダーモジュール３０の筐体の短辺を構成する一側面には、ＣＳＴモジュール３３が設けられている。ローダーモジュール３０の筐体の短辺を構成する他側面には、アライナモジュール３４が設けられている。

【0022】

なお、ロードポート３２、ＣＳＴモジュール３３、及びアライナモジュール３４の数や配置は本実施形態に限定されるものではなく、任意に設定できる。また、常圧部１０に設けられるモジュールの種類も本実施形態に限定されるものではなく、任意に選択できる。

【0023】

フープ３１は複数、例えば１ロット２５枚のウェハＷを収容する。また、ロードポート３２に載置されたフープ３１の内部は、例えば、大気や窒素ガスなどで満たされて密閉されている。

【0024】

ローダーモジュール３０の内部には、ウェハＷを搬送する基板搬送装置としてのウェハ搬送装置４０が設けられている。ウェハ搬送装置４０は、多関節型のロボットである。ウェハ搬送装置４０は、ウェハＷを保持して移動する搬送アーム４１ａ、４１ｂと、３つのアーム４２～４４と、搬送アーム４１ａ、４１ｂを回転可能に支持する回転台４５と、回転台４５を搭載した回転載置台４６とを有している。３つのアーム４２～４４は関節部（図示せず）によって接続され、これら関節部によってアーム４２～４４はそれぞれ基端部を中心に旋回自在に構成されている。第１のアーム４２の先端部には搬送アーム４１ａ、４１ｂが取り付けられ、基端部は第２のアーム４３の先端部に設けられる。搬送アーム４１ａ、４１ｂはそれぞれ、第１のアーム４２に設けられた回転部（図示せず）によって、回転自在に構成されている。第２のアーム４３の基端部は、第３のアーム４４の先端部に設けられる。第３のアーム４４の基端部は回転台４５に設けられる。アーム４２～４４と回転台４５はそれぞれ、中空の内部構造を有している。アーム４２～４４の内部と回転第４５の内部はそれぞれ、大気雰囲気に維持されている。また、かかる構成を有するウェハ搬送装置４０は、ローダーモジュール３０の筐体の内部において長手方向に移動可能に構成されている。

【0025】

減圧部１１は、２枚のウェハＷを同時に搬送するトランスファモジュール６０と、ウェハＷにＣＯＲ処理を行うＣＯＲモジュール６１と、ウェハＷにＰＨＴ処理を行うＰＨＴモジュール６２とを有している。トランスファモジュール６０、ＣＯＲモジュール６１、及びＰＨＴモジュール６２の内部は、それぞれ真空雰囲気に維持される。また、ＣＯＲモジュール６１及びＰＨＴモジュール６２は、トランスファモジュール６０に対して複数、例えば３つずつ設けられている。

【0026】

トランスファモジュール６０は内部が矩形の筐体からなり、上述したようにゲートバルブ（図示せず）を介してロードロックモジュール２０ａ、２０ｂに接続されている。トランスファモジュール６０は、ロードロックモジュール２０ａに搬入されたウェハＷを一のＣＯＲモジュール６１、一のＰＨＴモジュール６２に順次搬送してＣＯＲ処理とＰＨＴ処理を施した後、ロードロックモジュール２０ｂを介して常圧部１０に搬出する。

【0027】

ＣＯＲモジュール６１の内部には、２枚のウェハＷを水平方向に並べて載置する２つのステージ６１ａ、６１ｂが設けられている。ＣＯＲモジュール６１は、ステージ６１ａ、６１ｂにウェハＷを並べて載置することにより、２枚のウェハＷに対して同時にＣＯＲ処理を行う。なお、ＣＯＲモジュール６１には、処理ガスやパージガスなどを供給する給気部（図示せず）とガスを排出する排気部（図示せず）が接続されている。

【0028】

ＰＨＴモジュール６２の内部には、２枚のウェハＷを水平方向に並べて載置する２つのステージ６２ａ、６２ｂが設けられている。ＰＨＴモジュール６２は、ステージ６２ａ、６２ｂにウェハＷを並べて載置することにより、２枚のウェハＷに対して同時にＰＨＴ処理を行う。なお、ＰＨＴモジュール６２には、ガスを供給する給気部（図示せず）とガスを排出する排気部（図示せず）が接続されている。

【0029】

また、ＣＯＲモジュール６１及びＰＨＴモジュール６２は、ゲートバルブ（図示せず）が設けられたゲート（図示せず）を介して、トランスファモジュール６０に接続されている。このゲートバルブにより、トランスファモジュール６０とＣＯＲモジュール６１及びＰＨＴモジュール６２の間の気密性の確保と互いの連通を両立する。

【0030】

なお、トランスファモジュール６０に設けられる処理モジュールの数や配置、及び種類は本実施形態に限定されるものではなく、任意に設定できる。

【0031】

トランスファモジュール６０の内部には、ウェハＷを搬送するウェハ搬送装置７０が設けられている。ウェハ搬送装置７０は、２枚のウェハＷを保持して移動する搬送アーム７１ａ、７１ｂと、搬送アーム７１ａ、７１ｂを回転可能に支持する回転台７２と、回転台７２を搭載した回転載置台７３とを有している。また、トランスファモジュール６０の内部には、トランスファモジュール６０の長手方向に延伸するガイドレール７４が設けられている。回転載置台７３はガイドレール７４上に設けられ、ウェハ搬送装置７０をガイドレール７４に沿って移動可能に構成されている。

【0032】

以上のウェハ処理装置１には、制御部８０が設けられている。制御部８０は、例えばＣＰＵやメモリ等を備えたコンピュータであり、プログラム格納部（図示せず）を有している。プログラム格納部には、ウェハ処理装置１におけるウェハＷの処理を制御するプログラムが格納されている。なお、上記プログラムは、コンピュータに読み取り可能な記憶媒体Ｈに記録されていたものであって、当該記憶媒体Ｈから制御部８０にインストールされたものであってもよい。また、上記記憶媒体Ｈは、一時的なものであっても非一時的なものであってもよい。

【0033】

以上のように構成されたウェハ処理装置１においては、先ず、大気雰囲気下でウェハ搬送装置４０によってウェハＷは、フープ３１からアライナモジュール３４に搬送され、水平方向の向きが調節される。次に、ウェハ搬送装置４０によってウェハＷは、ロードロックモジュール２０ａに搬送される。

【0034】

次に、真空雰囲気下でウェハ搬送装置７０によってウェハＷは、ＣＯＲモジュール６１に搬送され、ＣＯＲ処理が行われる。次に、ウェハ搬送装置７０によってウェハＷは、ＰＨＴモジュール６２に搬送され、ＰＨＴ処理が行われる。次に、ウェハ搬送装置７０によってウェハＷは、ロードロックモジュール２０ｂに搬送される。

【0035】

次に、大気囲気下でウェハ搬送装置４０によってウェハＷは、ＣＳＴモジュール３３に搬送され、ＣＳＴ処理が行われる。次に、ウェハ搬送装置４０によってウェハＷは、フープ３１に搬送される。こうして、ウェハ処理装置１における一連のウェハ処理が終了する。

【0036】

＜搬送アーム＞
次に、ウェハ搬送装置４０の搬送アーム４１ａ、４１ｂについて説明する。搬送アーム４１ａ、４１ｂは同じ構成を有し、以下では、搬送アーム４１と総称して説明する。搬送アーム４１は、ウェハＷを真空吸着して搬送する。

【0037】

図２に示すように、搬送アーム４１は、ウェハＷを保持するピック１００と、ピック１００の表面に設けられた複数、例えば３つの保持パッド１１０とを有している。ピック１００は、基端部１０１から２本の先端部１０２、１０２に分岐したフォーク形状を有している。３つの保持パッド１１０はそれぞれ、基端部１０１、先端部１０２、１０２の表面に設けられている。

【0038】

図３及び図４に示すように保持パッド１１０は、底面に設けられたベース部１１１と、ベース部１１１の表面に設けられた環状部１１２とを有している。ベース部１１１と環状部１１２は一体成型されている。

【0039】

環状部１１２は、円環部１１２ａと凸部１１２ｂとを有している。円環部１１２ａと凸部１１２ｂは一体成型されている。円環部１１２ａは、例えば平面視において真円の円環形状を有している。凸部１１２ｂは、例えば平面視において円環部１１２ａから、当該円環部１１２ａの環状方向と交差する方向に外側に突起している。凸部１１２ｂの頂部は、屈曲した鋭角に形成されている。

【0040】

ベース部１１１は、内側ベース部１１１ａと外側ベース部１１１ｂとを有している。内側ベース部１１１ａと外側ベース部１１１ｂは一体成型されている。内側ベース部１１１ａは、環状部１１２の内側において、円環部１１２ａと凸部１１２ｂに沿って設けられている。外側ベース部１１１ｂは、凸部１１２ｂより外側に突起して設けられている。

【0041】

内側ベース部１１１ａには、真空吸着用の貫通孔１１３が形成されている。貫通孔１１３には、後述のガス流路１３０が接続され、更に保持パッド１１０の内側にガスを供給する後述の給気部１３１と、保持パッド１１０の内側のガスを吸引して真空引きする後述の吸引部１３２とに連通している。

【0042】

図５に示すように保持パッド１１０は、接着剤を介して、ピック１００に固定される。ピック１００には、貫通孔１１３に対応する位置に、ガス流路１３０が設けられている。ガス流路１３０は、貫通孔１１３から延伸し、３つのアーム４２～４４の内部を挿通する。ガス流路１３０は、保持パッド１１０の内側にガスを供給する給気部１３１と、保持パッド１１０の内側のガスを吸引して真空引きする吸引部１３２とに連通している。また、ガス流路１３０には、給気部１３１からのガス供給と、吸引部１３２からのガス吸引（真空引き）を切り替えるバルブ１３３が設けられている。バルブ１３３には、例えばソレノイドバルブが用いられる。なお、給気部１３１、吸引部１３２及びバルブ１３３は、３つの保持パッド１１０に共通に設けられている。

【0043】

ピック１００の表面においてガス流路１３０の周囲には接着面１３４ａが形成されている。また、内側ベース部１１１ａの裏面は、貫通孔１１３の周囲において、接着面１３４ａに対応する接着面１１４ａを構成する。すなわち、内側ベース部１１１ａの裏面の接着範囲（接着面１１４ａ）は、接着面１３４ａの形状で決定される。これら接着面１１４ａと接着面１３４ａは対向配置され、隙間なく接着固定される。このように貫通孔１１３とガス流路１３０の周囲を接着面１１４ａと接着面１３４ａで固定することで、ガス漏れを抑制することができる。

【0044】

外側ベース部１１１ｂの裏面の凸部１１２ｂに対応する位置には接着面１１４ｂが形成され、ピック１００の表面において凸部１１２ｂに対応する位置には接着面１３４ｂが形成されている。これら接着面１１４ｂと接着面１３４ｂは対向配置され、接着固定される。そして、このように接着固定されることで、凸部１１２ｂの剛性を高くすることができる。なお、本実施形態では、外側ベース部１１１ｂの裏面と接着面１１４ｂは同一面を構成するが、例えば図６に示すように、接着面１１４ｂは外側ベース部１１１ｂの裏面から突出して形成されてもよい。

【0045】

以上のように構成された保持パッド１１０の効果について、従来の保持パッドと比較して説明する。図１４に示すように従来の保持パッド５００は、底面に設けられたベース部５０１と、ベース部５０１の表面に円環状に設けられた環状部５０２とを有している。環状部５０２は、例えば平面視において長円形状を有している。ベース部５０１には、真空吸着用の貫通孔５０３が形成されている。

【0046】

保持パッド５００でウェハＷを保持する際には、ウェハＷの裏面に環状部５０２が接触した状態で、ウェハＷの裏面、ベース部５０１、及び環状部５０２で形成された吸着空間５００ｓを真空引きする。一方、保持パッド５００からウェハＷを離脱させる際には、吸着空間５００ｓの真空引きを停止して、更に吸着空間５００ｓにガスを供給した後、搬送先への受け渡しなどでウェハＷを上昇（移動）させる。

【0047】

しかしながら、吸着空間５００ｓの真空引きを停止しても、保持パッド５００からウェハＷが離脱し難い場合がある。すなわち、ウェハＷが粘着性を有し、ウェハＷと環状部５０２が粘着するため、保持パッド５００からウェハＷが離脱し難くなる。

【0048】

これに対して、本実施形態の保持パッド１１０は離脱の起点となる凸部１１２ｂを有している。

【0049】

保持パッド１１０でウェハＷを保持する際には、ウェハＷの裏面に環状部１１２が接触した状態で、ウェハＷの裏面と保持パッド１１０の内側で形成された吸着空間１１０ｓを吸引部１３２によって真空引きする。

【0050】

一方、保持パッド１１０からウェハＷを離脱させる際には、吸着空間１１０ｓの真空引きを停止して、更に吸着空間１１０ｓに給気部１３１からガスを供給する。その後、ウェハ受渡し等でウェハＷを上昇（移動）させると、凸部１１２ｂに応力が集中し、当該凸部１１２ｂが離脱起点となる。この点、従来の保持パッド５００は、凸部１１２ｂのような特異点がないので、環状部５０２のどこかに応力が集中することはない。そして、凸部１１２ｂから円環部１１２ａに向けて順次離脱を伝搬させ、ウェハＷが離脱する。したがって、本実施形態の保持パッド１１０によれば、ウェハＷの離脱性を向上させることができる。しかも、凸部１１２ｂに対応する外側ベース部１１１ｂは、接着面１１４ｂ、１３４ｂを介してピック１００に固定されて剛性が高くなっている。このため、凸部１１２ｂに応力を更に集中させることができ、当該凸部１１２ｂを適切に離脱起点として機能させることができる。したがって、ウェハＷの離脱性を更に向上させることができる。

【0051】

なお、搬送アーム４１における３つの保持パッド１１０の向き、すなわち円環部１１２ａに対する凸部１１２ｂの向きは任意である。例えば、図７に示すように３つの保持パッド１１０はそれぞれ、円環部１１２ａに対する凸部１１２ｂの向きが、ピック１００の中心から放射状に外側に向くように配置されてもよい。保持パッド１１０の特性として、ウェハＷの離脱時にウェハＷの位置ズレを発生させるおそれが考えられるが、このように凸部１１２ｂが放射状に配置されていると、保持パッド１１０の単体での特性を相殺できる可能性がある。

【0052】

また、保持パッド１１０において、円環部１１２ａの平面形状や凸部１１２ｂの平面形状、貫通孔１１３の配置は任意である。

【0053】

例えば、図８Ａ～図８Ｃに示すように円環部１１２ａは平面視において真円形状を有していてもよい。図８Ａにおいて貫通孔１１３は円環部１１２ａの略中心に形成され、図８Ｂにおいて貫通孔１１３は円環部１１２ａの凸部１１２ｂ側に形成される。図８Ｃにおいて凸部１１２ｂは他の凸部１１２ｂより大きい。

【0054】

例えば、図８Ｄ～図８Ｆに示すように円環部１１２ａは、平面視において円環部１１２ａと凸部１１２ｂを結ぶ方向と直交方向に長軸を有する長円形状を有していてもよい。図８Ｄにおいて貫通孔１１３は円環部１１２ａの略中心に形成され、図８Ｅにおいて貫通孔１１３は凸部１１２ｂ側に形成されている。図８Ｆにおいて凸部１１２ｂは他の凸部１１２ｂより大きい。

【0055】

例えば、図８Ｇ～図８Ｉに示すように円環部１１２ａは、平面視において円環部１１２ａと凸部１１２ｂを結ぶ方向に長軸を有する長円形状を有していてもよい。図８Ｇにおいて貫通孔１１３は円環部１１２ａの略中心に形成されている。図８Ｈにおいて凸部１１２ｂは他の凸部１１２ｂより大きく、貫通孔１１３は円環部１１２ａの中心と凸部１１２ｂの間に形成されている。図８Ｉにおいて円環部１１２ａと凸部１１２ｂの接続箇所は角部を形成し、貫通孔１１３は凸部１１２ｂ側に形成されている。

【0056】

また例えば、図９に示すように保持パッド１１０において、外側ベース部１１１ｂを省略してもよい。かかる場合、接着面１１４ｂは、内側ベース部１１１ａの凸部１１２ｂ側の先端に形成される。

【0057】

以上の図８Ａ～図８Ｉ及び図９に示したいずれの保持パッド１１０を用いた場合でも、上述した効果を享受することができる。すなわち、ウェハＷを離脱させる際の応力集中部である凸部１１２ｂが離脱の起点として機能させることができ、また接着面１１４ｂによって凸部１１２ｂの剛性が高くなっているので、ウェハＷの離脱性を向上させることができる。しかも、凸部１１２ｂに対応する外側ベース部１１１ｂは、接着面１１４ｂ、１３４ｂを介してピック１００に固定されて剛性が高くなっている。このため、凸部１１２ｂに応力を更に集中させることができ、当該凸部１１２ｂを適切に離脱起点として機能させることができる。したがって、ウェハＷの離脱性を更に向上させることができる。

【0058】

以上の保持パッド１１０では、平面視において凸部１１２ｂは円環部１１２ａから外側に突起していたが、凸部は円環部から内側に突起していてもよい。

【0059】

図１０及び図１１に示すように保持パッド２００は、保持パッド１１０と同様に、底面に設けられたベース部２０１と、ベース部２０１の表面に設けられた環状部２０２とを有している。ベース部２０１と環状部２０２は一体成型されている。

【0060】

環状部２０２は、円環部２０２ａと凸部２０２ｂとを有している。円環部２０２ａと凸部２０２ｂは一体成型されている。円環部２０２ａは、例えば平面視において真円の円環形状を有している。凸部２０２ｂは、例えば平面視において円環部２０２ａから、当該円環部２０２ａの環状方向と交差する方向に内側に突起している。凸部２０２ｂの頂部は、屈曲した鋭角に形成されている。

【0061】

ベース部２０１には、真空吸着用の貫通孔２０３が形成されている。貫通孔２０３には、保持パッド２００の内側にガスを供給する給気部１３１と、保持パッド２００の内側のガスを吸引して真空引きする吸引部１３２とが接続されている。

【0062】

保持パッド２００は、接着剤を介して、ピック１００に固定される。

【0063】

ベース部２０１の裏面は、貫通孔２０３の周囲において、ピック１００の接着面に対応する接着面２０４を構成する。接着面２０４は、ピック１００の接着面に、隙間なく接着固定される。このように貫通孔２０３とガス流路１３０の周囲を接着面２０４で固定することで、ガス漏れを抑制することができる。また、接着面２０４は、凸部２０２ｂに対応する位置に形成されている。このため、凸部２０２ｂの剛性を高くすることができる。

【0064】

凸部２０２ｂは、上述した凸部１１２ｂと同様の作用効果を奏する。すなわち、保持パッド２００でウェハＷを保持する際には、ウェハＷの裏面に環状部２０２が接触した状態で、ウェハＷの裏面と保持パッド２００の内側で形成された吸着空間２００ｓを吸引部１３２によって真空引きする。

【0065】

一方、保持パッド２００からウェハＷを離脱させる際には、吸着空間２００ｓの真空引きを停止して、更に吸着空間２００ｓに給気部１３１からガスを供給する。その後、ウェハ受渡し等でウェハＷを上昇（移動）させると、凸部２０２ｂに応力が集中し、当該凸部２０２ｂが離脱起点となる。そして、凸部２０２ｂから円環部２０２ａに向けて順次ウェハＷが離脱する。したがって、本実施形態の保持パッド２００によれば、ウェハＷの離脱性を向上させることができる。また、凸部２０２ｂに対応する位置のベース部２０１は、接着面２０４を介してピック１００に固定されて剛性が高くなっているので、凸部２０２ｂを適切に離脱起点として機能させることができる。したがって、ウェハＷの離脱性を更に向上させることができる。

【0066】

なお、搬送アーム４１における３つの保持パッド２００の向き、すなわち円環部２０２ａに対する凸部２０２ｂの向きは任意である。例えば、３つの保持パッド２００はそれぞれ、円環部２０２ａに対する凸部２０２ｂの向きが、ピック１００の中心から放射状に外側に向くように配置されてもよい。

【0067】

また、保持パッド２００において、円環部２０２ａの平面形状や凸部２０２ｂの平面形状、貫通孔２０３の配置は任意である。

【0068】

例えば、図１２Ａ～図１２Ｃに示すように円環部２０２ａは平面視において真円形状を有していてもよい。図１２Ａにおいて貫通孔２０３は円環部２０２ａの略中心に形成されている。図１２Ｂにおいて凸部２０２ｂは他の凸部２０２ｂより大きく、図１２Ｃにおいて凸部２０２ｂは他の凸部２０２ｂより更に大きい。

【0069】

例えば、図１２Ｄ～図１２Ｆに示すように円環部２０２ａは、平面視において円環部２０２ａと凸部２０２ｂを結ぶ方向と直交方向に長軸を有する長円形状を有していてもよい。図１２Ｄにおいて貫通孔２０３は円環部２０２ａの略中心に形成されている。図１２Ｅにおいて凸部２０２ｂは他の凸部２０２ｂより大きく、貫通孔２０３は凸部２０２ｂと反対側に形成されている。図１２Ｆにおいて凸部２０２ｂは更に他の凸部２０２ｂより大きく、貫通孔２０３は凸部２０２ｂと反対側に形成されている。

【0070】

例えば、図１２Ｇ～図１２Ｉに示すように円環部２０２ａは、平面視において円環部２０２ａと凸部２０２ｂを結ぶ方向に長軸を有する長円形状を有していてもよい。図１２Ｇにおいて貫通孔２０３は円環部２０２ａの略中心に形成されている。図１２Ｈにおいて凸部２０２ｂは他の凸部２０２ｂより大きく、貫通孔２０３は凸部２０２ｂ側に形成されている。図１２Ｉにおいて凸部２０２ｂは更に他の凸部２０２ｂより大きく、貫通孔２０３は凸部２０２ｂと反対側に形成されている。

【0071】

以上の実施形態の保持パッド１１０、２００において、環状部１１２、２０２の円環部１１２ａ、２０２ａの形状は、真円形状や長円形状に限定されない。例えば、円環部１１２ａ、２０２ａは、楕円形状、卵形状等であってもよい。

【0072】

また、以上の実施形態の保持パッド１１０、２００において、環状部１１２、２０２は円環部１１２ａ、２０２ａを有していたが、環状部１１２、２０２の全体形状は円環形状に限定されない。例えば、環状部１１２、２０２は四角形状や五角形状等の多角形状を有していてもよい。かかる場合、環状部１１２、２０２は、多角形状部（図示せず）と凸部１１２ｂ、２０２ｂを有する。そして、多角形状部の頂部とは異なる凸部１１２ｂ、２０２ｂによって、上述した効果を享受することができ、すなわちウェハＷの離脱性を向上させることができる。

【0073】

また、以上の実施形態の保持パッド１１０、２００の材質は特に限定されない。例えば、ＰＩ（ポリイミド）樹脂を用いてもよいし、ＰＥＥＫ（ポリエーテルエーテルケトン）樹脂、ＰＰＳ（ポリフェニレンスルファイド）樹脂を用いてもよい。但し、本発明者らが鋭意検討したところ、ウェハＷの離脱性とウェハＷの吸着性（リーク性）を総合的に判断して、ＰＩ樹脂を用いるのが好ましいことが分かった。

【0074】

なお、保持パッド１１０、２００の環状部１１２、２０２において、凸部１１２ｂ、２０２ｂの材質と、円環部１１２ａ、２０２ａの材質は異なっていてもよい。例えば、凸部１１２ｂ、２０２ｂに剛性の高い材質を用いてもよいし、或いは離脱性の高い材質を用いてもよい。

【0075】

次に、他の実施形態にかかるウェハ搬送装置４０の構成について説明する。図１３は、当該ウェハ搬送装置４０の内部構成を示す説明図である。以下の説明において、ウェハ搬送装置４０の搬送アーム４１ａを下側搬送アーム４１ａといい、搬送アーム４１ｂを上側搬送アーム４１ｂという場合がある。

【0076】

上述したガス流路１３０は、下側搬送アーム４１ａに接続される下側ガス流路１３０ａと、上側搬送アーム４１ｂに接続される上側ガス流路１３０ｂとを有している。また、上述したバルブ１３３は、下側ガス流路１３０ａに設けられる下側バルブ１３３ａと、上側ガス流路１３０ｂに設けられる上側バルブ１３３ｂとを含んでいる。これらバルブ１３３ａ、１３３ｂには、例えばソレノイドバルブが用いられる。但し、バルブ１３３ａ、１３３ｂは、後述するようにガスの供給又はガスの吸引を切り替えるものであれば、ソレノイドバルブに限定されない。

【0077】

下側ガス流路１３０ａは、下側ガス主流路３００ａと、下側ガス供給路３０１ａと、下側ガス吸引路３０２ａとを有している。下側ガス主流路３００ａは、保持パッド１１０と下側バルブ１３３ａを接続する流路である。下側ガス供給路３０１ａは、下側バルブ１３３ａに接続され、下側ガス主流路３００ａにガスを供給する流路である。下側ガス吸引路３０２ａは、下側バルブ１３３ａに接続され、下側ガス主流路３００ａからガスを吸引する流路である。

【0078】

上側ガス流路１３０ｂも下側ガス流路１３０ａと同様の構成を有し、上側ガス主流路３００ｂと、上側ガス供給路３０１ｂと、上側ガス吸引路３０２ｂとを有している。上側ガス主流路３００ｂは、保持パッド１１０と上側バルブ１３３ｂを接続する流路である。上側ガス供給路３０１ｂは、上側バルブ１３３ｂに接続され、上側ガス主流路３００ｂにガスを供給する流路である。上側ガス吸引路３０２ｂは、上側バルブ１３３ｂに接続され、上側ガス主流路３００ｂからガスを吸引する流路である。

【0079】

下側ガス供給路３０１ａと上側ガス供給路３０１ｂは、バルブ１３３ａ、１３３ｂの反対側において合流し、ガス供給路３０１ｃを構成する。ガス供給路３０１ｃは回転台４５の内部の大気雰囲気に開放され、すなわちガス供給路３０１ａ～３０１ｃの内部は大気雰囲気に維持されている。なお、上述した給気部１３１は、回転台４５の内部（大気雰囲気）に相当する。

【0080】

下側ガス吸引路３０２ａと上側ガス吸引路３０２ｂは、バルブ１３３ａ、１３３ｂの反対側において合流し、ガス吸引路３０２ｃを構成する。ガス吸引路３０２ｃは、上述した吸引部１３２に接続されている。

【0081】

下側搬送アーム４１ａにおいて保持パッド１１０でウェハＷを保持する際には、下側バルブ１３３ａによって下側ガス主流路３００ａと下側ガス吸引路３０２ａを接続する。吸引部１３２は常時作動し、ガス吸引路３０２ｃと下側ガス吸引路３０２ａは常時真空引きされている。そして、ウェハＷの裏面に保持パッド１１０の環状部１１２が接触すると、ガス吸引路３０２ｃ、下側ガス吸引路３０２ａ及び下側ガス主流路３００ａを介して、保持パッド１１０の吸着空間１１０ｓのガスが吸引され、当該吸着空間１１０ｓが真空引きされる。こうして保持パッド１１０でウェハＷが保持される。

【0082】

一方、保持パッド１１０からウェハＷを離脱させる際には、下側バルブ１３３ａによって下側ガス主流路３００ａと下側ガス供給路３０１ａを接続する。下側ガス供給路３０１ａの内部とガス供給路３０１ｃの内部は大気雰囲気に維持されており、当該下側ガス供給路３０１ａの内部のガスが下側ガス主流路３００ａを介して吸着空間１１０ｓに供給される。そして、下側ガス主流路３００ａの内部と吸着空間１１０ｓが大気圧に維持される。こうして保持パッド１１０からウェハＷが離脱する。

【0083】

ガス供給路３０１ｃには、振動付与部としてのスピーカ３１０が設けられている。スピーカ３１０は、音波を発生させる。上述したように保持パッド１１０からウェハＷを離脱させる際には、ガス供給路３０１ｃ、下側ガス供給路３０１ａ及び下側ガス主流路３００ａを介して吸着空間１１０ｓにガスが供給され、これらの内部が大気圧のガスで充填される。この際、スピーカ３１０から音波を発生させると、音波がガスを介して保持パッド１１０に伝達される。そうすると、音波によって保持パッド１１０が振動し、この振動が離脱のきっかけとなるため、ウェハＷの離脱性を更に向上させることができる。

【0084】

なお、スピーカ３１０から発生させる音波の周波数や出力を最適化することにより、保持パッド１１０を適切に振動させることができる。例えば音波の周波数は、保持パッド１１０の固有振動数に合致しているのが好ましい。

【0085】

ここで、ウェハＷの離脱性を向上させる方策として、保持パッド１１０に接続されるガス流路１３０（下側ガス流路１３０ａと上側ガス流路１３０ｂ）の内部を加圧することが考えられる。しかしながら、かかる場合、ウェハＷの離脱直後に保持パッド１１０からガスが流出することにより、ガス流路１３０の内部のパーティクルが飛散するおそれがある。したがって、かかるパーティクルの飛散を抑制する観点からも、本実施形態のように音波によって保持パッド１１０を振動させることは有用である。

【0086】

また、スピーカ３１０から音波を発生させるタイミングは特に限定されない。例えば、常時スピーカ３１０から音波を発生させてもよい。かかる場合、保持パッド１１０でウェハＷを保持する際には、下側ガス主流路３００ａを介して吸着空間１１０ｓが真空引きされるので、スピーカ３１０からの音波は真空雰囲気を伝達せず、保持パッド１１０に伝達されない。したがって、保持パッド１１０からウェハＷを離脱させる際のみ、音波によって保持パッド１１０を振動させることができる。換言すれば、下側バルブ１３３ａの切り替えのみで、保持パッド１１０に音波を適切に伝達させることができる。あるいは、省エネルギーの観点からは、保持パッド１１０からウェハＷを離脱させる際のみ、スピーカ３１０から音波を発生させてもよい。

【0087】

また、ウェハＷを離脱させる際、本実施形態では保持パッド１１０を振動させたが、保持パッド１１０に保持されたウェハＷを振動させてもよい。かかる場合、例えば音波の周波数は、ウェハＷの固有振動数に合致しているのが好ましい。あるいは、音波の振動数や出力を調整して、保持パッド１１０とウェハＷの両方を振動させてもよい。

【0088】

また、本実施形態では、下側搬送アーム４１ａにおいて保持パッド１１０でウェハＷを保持する場合と保持パッド１１０からウェハＷを離脱させる場合について説明したが、上側搬送アーム４１ｂにおいてウェハＷを保持又は離脱させる場合も同様である。本実施形態では、下側搬送アーム４１ａと上側搬送アーム４１ｂに共通のガス供給路３０１ｃにスピーカ３１０を設けているので、両方の搬送アーム４１ａ、４１ｂの保持パッド１１０（又はウェハＷ）を振動させることができる。

【0089】

このようにスピーカ３１０は搬送アーム４１ａ、４１ｂに共通に設けられるのが、装置簡略化の観点から好ましいが、スピーカ３１０の配置はこれに限定されない。例えば下側搬送アーム４１ａと上側搬送アーム４１ｂのそれぞれに個別にスピーカ３１０が設けられてもよい。かかる場合、２個のスピーカ３１０はそれぞれ、例えば下側ガス供給路３０１ａと上側ガス供給路３０１ｂに設けられる。

【0090】

また、本実施形態では、振動付与部としてスピーカ３１０を用いたが、保持パッド１１０（又はウェハＷ）を振動させることができれば、これに限定されない。例えば、振動付与部としてスピーカ３１０以外の音響機器を用いて、音波を発生させてもよい。あるいは、例えば振動付与部として、超音波を発生させる超音波発生装置を用いてもよい。

【0091】

以上の実施形態のガス供給路３０１ｃには、スピーカ３１０に加えて、振動検知部としてのマイク３２０が設けられていてもよい。マイク３２０は、スピーカ３１０から発生した音波が保持パッド１１０に保持されたウェハＷに反射し、当該ウェハＷから戻ってくる反響音を検知する。

【0092】

上述したように、例えば下側搬送アーム４１ａにおいて保持パッド１１０からウェハＷを離脱させる際、下側ガス流路１３０ａの内部と吸着空間１１０ｓが大気圧のガスで充填され、スピーカ３１０から音波を発生させて保持パッド１１０を振動させる。この際、マイク３２０がウェハＷからの反響音を検知すれば、保持パッド１１０に対してウェハＷが有ると判定され、ウェハＷが離脱していないことが確認できる。一方、マイク３２０が反響音を検知しなければ、保持パッド１１０にはウェハが無いと判定され、ウェハＷが適切に離脱したことが確認できる。このように、マイク３２０で検知される反響音の有無によって、ウェハＷの有無を確認することができる。

【0093】

ここで、保持パッド１１０におけるウェハＷの有無を確認する方策として、下側ガス流路１３０ａの内部の圧力（特に、下側ガス主流路３００ａの内部の圧力）を用いることが考えられる。例えば内部圧力が大きい場合、保持パッド１１０に対してウェハＷが有ると判定される。一方、内部圧力が小さい場合、保持パッド１１０にはウェハＷが無いと判定される。しかしながら、保持パッド１１０からウェハＷを離脱させる場合にウェハＷが無いことを確認するためには、下側ガス流路１３０ａの内部圧力を予め定められた閾値まで下げる必要があるため、時間がかかる。この点、本実施形態によれば、反響音の有無を検知することでウェハＷの有無を確認するため、確認のために要する時間を短縮することができる。

【0094】

また、本実施形態では、下側搬送アーム４１ａにおいて保持パッド１１０でウェハＷを保持する場合と保持パッド１１０からウェハＷを離脱させる場合について説明したが、上側搬送アーム４１ｂにおいてウェハＷを保持又は離脱させる場合も同様である。

【0095】

また更に、下側搬送アーム４１ａにおけるウェハＷの有無と上側搬送アーム４１ｂにおけるウェハＷの有無を同時に確認することもできる。例えば、マイク３２０が２枚のウェハＷからの反響音を検知する場合には、当該反響音の強度は大きくなる。したがって、反響音の強度によって、２枚のウェハＷが有るのか、１枚のウェハＷが有るのか、あるいはウェハＷが無いのかを確認することができる。また、下側ガス流路１３０ａの長さと上側ガス流路１３０ｂの長さは異なる。このため、１枚のウェハＷが有る場合、下側搬送アーム４１ａのウェハＷからの反響音と、上側搬送アーム４１ｂのウェハＷからの反響音とでは、検知するタイミング異なる。すなわちマイク３２０は、下側搬送アーム４１ａのウェハＷからの反響音を早く検知する。したがって、１枚のウェハＷが有る場合に、反響音の検知タイミングによって、下側搬送アーム４１ａ又は上側搬送アーム４１ｂのいずれにウェハＷが有るかを確認することができる。また本実施形態では、下側搬送アーム４１ａと上側搬送アーム４１ｂに共通のガス供給路３０１ｃにマイク３２０を設けているので、下側搬送アーム４１ａにおけるウェハＷの有無と上側搬送アーム４１ｂにおけるウェハＷの有無を同時に確認することができる。

【0096】

このようにマイク３２０は搬送アーム４１ａ、４１ｂに共通に設けられるのが、装置簡略化の観点から好ましいが、マイク３２０の配置はこれに限定されない。例えば下側搬送アーム４１ａと上側搬送アーム４１ｂのそれぞれに個別にマイク３２０が設けられてもよい。かかる場合、２個のマイク３２０はそれぞれ、例えば下側ガス供給路３０１ａと上側ガス供給路３０１ｂに設けられる。

【0097】

また、スピーカ３１０とマイク３２０の組み合わせ配置も、本実施形態に限定されない。１個のスピーカ３１０と２個のマイクの組み合わせ、２個のスピーカ３１０と１個のマイクの組み合わせ、２個のスピーカ３１０と２個のマイクの組み合わせなど、種々の組み合わせが考えられる。

【0098】

また、本実施形態では、振動付与部としてマイク３２０を用いたが、反響音を検知することができれば、振動付与部はマイクに限定されない。

【0099】

なお、本実施形態の振動検知部としてのマイク３２０は、ウェハＷの有無検知と異なる用途にも用いることができる。例えば、特許第６１１４０６０号公報には、搬送アームでウェハを受け取る際、搬送アームの上昇量と、搬送アームとウェハの接触音に基づいてウェハの受渡位置を確認することが開示されている。例えば本実施形態のマイク３２０は、この搬送アーム４１とウェハＷの接触音を検知するために用いてもよい。

【0100】

今回開示された実施形態はすべての点で例示であって制限的なものではないと考えられるべきである。上記の実施形態は、添付の請求の範囲及びその主旨を逸脱することなく、様々な形態で省略、置換、変更されてもよい。

【0101】

なお、以下のような構成例も本開示の技術的範囲に属する。
（１）大気雰囲気下で基板を真空吸着して搬送する搬送アームであって、
基板を保持するピックと、
前記ピックの表面に設けられた複数の保持パッドと、を有し、
前記保持パッドは、
真空吸着用の貫通孔が形成され、前記ピックの表面に設けられるベース部と、
前記ベース部の表面に環状に設けられ、基板の裏面に接触する環状部と、を有し、
前記環状部の一部には、当該環状部の環状方向と交差する方向に凸部が形成されている、搬送アーム。
（２）前記環状部は、円環形状を有する、前記（１）に記載の搬送アーム。
（３）前記凸部は、前記環状部の外側又は内側のいずれか一方において少なくとも１つ形成されている、前記（１）又は（２）に記載の搬送アーム。
（４）前記凸部は、前記環状部の外側に形成されている、前記（３）に記載の搬送アーム。
（５）前記凸部の頂部は、屈曲した鋭角に形成されている、前記（１）～（４）のいずれかに記載の搬送アーム。
（６）前記ベース部は、接着剤を介して前記ピックの表面に固定され、
前記ベース部の裏面において前記凸部に対応する位置には、前記ピックの表面との接着面が形成されている、前記（１）～（５）のいずれかに記載の搬送アーム。
（７）前記ベース部の裏面において前記貫通孔の周囲には、前記ピックの表面との接着面が形成されている、前記（６）に記載の搬送アーム。
（８）大気雰囲気下で基板を搬送する基板搬送装置であって、
基板を真空吸着して搬送する搬送アームを有し、
前記搬送アームは、
基板を保持するピックと、
前記ピックの表面に設けられた複数の保持パッドと、を有し、
前記保持パッドは、
真空吸着用の貫通孔が形成され、前記ピックの表面に設けられるベース部と、
前記ベース部の表面に環状に設けられ、基板の裏面に接触する環状部と、を有し、
前記環状部の一部には、当該環状部の環状方向と交差する方向に凸部が形成されている、基板搬送装置。
（９）前記保持パッドに接続され、当該保持パッドに対してガスを供給又は吸引するガス流路と、
前記ガス流路に設けられ、前記保持パッド又は前記保持パッドに保持された基板の少なくともいずれかに振動を付与する振動付与部と、を有する、前記（８）に記載の基板搬送装置。
（１０）前記ガス流路には、前記ガスの供給又は吸引を切り替えるバルブが設けられ、
前記ガス流路は、前記保持パッドと前記バルブを接続するガス主流路と、前記バルブに接続され前記ガス主流路にガスを供給するガス供給路と、前記バルブに接続され前記ガス主流路からガスを吸引するガス吸引路と、を有し、
前記振動付与部は、前記ガス供給路に設けられている、前記（９）に記載の基板搬送装置。
（１１）前記ガス流路に設けられ、前記振動付与部によって付与された振動を検知する振動検知部を有する、前記（９）又は（１０）に記載の基板搬送装置。
（１２）前記ガス流路には、前記ガスの供給又は吸引を切り替えるバルブが設けられ、
前記ガス流路は、前記保持パッドと前記バルブを接続するガス主流路と、前記バルブに接続され前記ガス主流路にガスを供給するガス供給路と、前記バルブに接続され前記ガス主流路からガスを吸引するガス吸引路と、を有し、
前記振動検知部は、前記ガス供給路に設けられている、前記（１１）に記載の基板搬送装置。

【符号の説明】

【0102】

４０ ウェハ搬送装置
４１（４１ａ、４１ｂ） 搬送アーム
１００ ピック
１１０ 保持パッド
１１１ ベース部
１１２ 環状部
１１３ 貫通孔
１１２ｂ 凸部
Ｗ ウェハ

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】

【図6】

【図7】

【図8A】

【図8B】

【図8C】

【図8D】

【図8E】

【図8F】

【図8G】

【図8H】

【図8I】

【図9】

【図10】

【図11】

【図12A】

【図12B】

【図12C】

【図12D】

【図12E】

【図12F】

【図12G】

【図12H】

【図12I】

【図13】

【図14】