特開2023-106455露光用ペリクル膜、ペリクル、露光原版、露光装置及び露光用ペリクル膜の製造方法

発明の名称　露光用ペリクル膜、ペリクル、露光原版、露光装置及び露光用ペリクル膜の製造方法

出願人　三井化学株式会社　（識別番号 5887）

　　　　特許公開件数ランキング 86 位（324件）（共同出願を含む）

　　　　特許取得件数ランキング 111 位（232件）（共同出願を含む）

出願人　独立行政法人産業技術総合研究所　（識別番号 301021533）

　　　　特許公開件数ランキング 187 位（258件）（共同出願を含む）

　　　　特許取得件数ランキング 139 位（266件）（共同出願を含む）

公報番号　特開-2023-106455

公報発行日　2023年8月1

公報URL　https://ipforce.jp/patent-jp-P_A1-2023-106455

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