特開2023-113562含フッ素組成物の保存方法、含フッ素組成物入り容器、及び含フッ素組成物入り容器の製造方法
(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】公開特許公報(A)
(11)【公開番号】P2023113562
(43)【公開日】2023-08-16
(54)【発明の名称】含フッ素組成物の保存方法、含フッ素組成物入り容器、及び含フッ素組成物入り容器の製造方法
(51)【国際特許分類】
C08G 65/336 20060101AFI20230808BHJP
【ＦＩ】
C08G65/336
【審査請求】未請求
【請求項の数】12
【出願形態】ＯＬ
(21)【出願番号】P 2022190796
(22)【出願日】2022-11-29
(31)【優先権主張番号】P 2022015928
(32)【優先日】2022-02-03
(33)【優先権主張国・地域又は機関】JP
(71)【出願人】
【識別番号】000000044
【氏名又は名称】ＡＧＣ株式会社
(74)【代理人】
【識別番号】110001519
【氏名又は名称】弁理士法人太陽国際特許事務所
(72)【発明者】
【氏名】榊原 愛理
(72)【発明者】
【氏名】岩瀬 卓也
【テーマコード（参考）】
4J005
【Ｆターム（参考）】
4J005AA00
4J005AB00
4J005BA00
4J005BB01
4J005BD05
4J005BD08
(57)【要約】
【課題】保存後の含フッ素組成物を用いても、基材に対して、撥水性に優れた表面処理層を形成し得る含フッ素組成物の保存方法を提供すること。
【解決手段】含フッ素組成物の保存方法は、反応性シリル基を有する含フッ素化合物を含む含フッ素組成物が収容された容器内の気相部における二酸化炭素の濃度を、２５℃で４～３８０体積ｐｐｍとするものである。
【選択図】なし
【解決手段】含フッ素組成物の保存方法は、反応性シリル基を有する含フッ素化合物を含む含フッ素組成物が収容された容器内の気相部における二酸化炭素の濃度を、２５℃で４～３８０体積ｐｐｍとするものである。
【選択図】なし
【特許請求の範囲】
【請求項1】
反応性シリル基を有する含フッ素化合物を含む含フッ素組成物が収容された容器内の気相部における二酸化炭素の濃度を、２５℃で４～３８０体積ｐｐｍとする含フッ素組成物の保存方法。
【請求項2】
前記気相部における二酸化炭素の濃度が、２５℃で５～３５０体積ｐｐｍである請求項１に記載の含フッ素組成物の保存方法。
【請求項3】
前記容器内部の体積に占める前記気相部の割合が、１０～６０体積％である請求項１又は請求項２に記載の含フッ素組成物の保存方法。
【請求項4】
反応性シリル基を有する含フッ素化合物を含む含フッ素組成物が収容された密閉容器内の気相部における二酸化炭素の濃度を、２５℃で４～３８０体積ｐｐｍに維持する含フッ素組成物の保存方法。
【請求項5】
前記気相部における二酸化炭素の濃度が、２５℃で５～３５０体積ｐｐｍである請求項４に記載の含フッ素組成物の保存方法。
【請求項6】
前記密閉容器内部の体積に占める前記気相部の割合が、１０～６０体積％である請求項４又は請求項５に記載の含フッ素組成物の保存方法。
【請求項7】
反応性シリル基を有する含フッ素化合物を含む含フッ素組成物が収容された状態で密閉されており、気相部における二酸化炭素の濃度が２５℃で４～３８０体積ｐｐｍである含フッ素組成物入り容器。
【請求項8】
前記気相部における二酸化炭素の濃度が、２５℃で５～３５０体積ｐｐｍである請求項７に記載の含フッ素組成物入り容器。
【請求項9】
容器内部の体積に占める前記気相部の割合が、１０～６０体積％である請求項７又は請求項８に記載の含フッ素組成物入り容器。
【請求項10】
反応性シリル基を有する含フッ素化合物を含む含フッ素組成物が収容された容器を密閉することを含み、
前記容器内の気相部における二酸化炭素の濃度を２５℃で４～３８０体積ｐｐｍとする、含フッ素組成物入り容器の製造方法。
前記容器内の気相部における二酸化炭素の濃度を２５℃で４～３８０体積ｐｐｍとする、含フッ素組成物入り容器の製造方法。
【請求項11】
前記気相部における二酸化炭素の濃度が、２５℃で５～３５０体積ｐｐｍである請求項１０に記載の含フッ素組成物入り容器の製造方法。
【請求項12】
前記容器内部の体積に占める前記気相部の割合が、１０～６０体積％である請求項１０又は請求項１１に記載の含フッ素組成物入り容器の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本開示は、含フッ素組成物の保存方法、含フッ素組成物入り容器、及び含フッ素組成物入り容器の製造方法に関する。
【背景技術】
【0002】
含フッ素化合物は、基材の表面に、撥水撥油性、耐摩擦性、低指紋付着性、指紋汚れ除去性、潤滑性等を付与できるとして、近年、注目されている。
【0003】
例えば、特許文献１には、末端に反応性シリル基を有する含フッ素化合物が記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0004】
【特許文献1】国際公開第２０１７／０３８８３０号
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0005】
含フッ素化合物を含む含フッ素組成物を容器内に収容した状態で保存し、保存後の含フッ素組成物を用いて基材の表面処理を行った際に、含フッ素組成物の保存状態によっては、基材に対して十分な撥水性が付与されないことが分かった。
【0006】
本開示はこのような事情に鑑みてなされたものであり、本発明の一実施形態が解決しようとする課題は、保存後の含フッ素組成物を用いても、基材に対して、撥水性に優れた表面処理層を形成し得る含フッ素組成物の保存方法を提供することにある。
本発明の別の実施形態が解決しようとする課題は、撥水性に優れた表面処理層を形成し得る含フッ素組成物が収容されている含フッ素組成物入り容器を提供することにある。
本発明の別の実施形態が解決しようとする課題は、撥水性に優れた表面処理層を形成し得る含フッ素組成物が収容されている含フッ素組成物入り容器の製造方法を提供することにある。
本発明の別の実施形態が解決しようとする課題は、撥水性に優れた表面処理層を形成し得る含フッ素組成物が収容されている含フッ素組成物入り容器を提供することにある。
本発明の別の実施形態が解決しようとする課題は、撥水性に優れた表面処理層を形成し得る含フッ素組成物が収容されている含フッ素組成物入り容器の製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【0007】
前記課題を達成するための具体的手段は以下の通りである。
＜１＞ 反応性シリル基を有する含フッ素化合物を含む含フッ素組成物が収容された容器内の気相部における二酸化炭素の濃度を、２５℃で４～３８０体積ｐｐｍとする含フッ素組成物の保存方法。
＜２＞ 前記気相部における二酸化炭素の濃度が、２５℃で５～３５０体積ｐｐｍである＜１＞に記載の含フッ素組成物の保存方法。
＜３＞
前記容器内部の体積に占める前記気相部の割合が、１０～６０体積％である請求項１又は請求項２に記載の含フッ素組成物の保存方法。
＜４＞ 反応性シリル基を有する含フッ素化合物を含む含フッ素組成物が収容された密閉容器内の気相部における二酸化炭素の濃度を、２５℃で４～３８０体積ｐｐｍに維持する含フッ素組成物の保存方法。
＜５＞ 前記気相部における二酸化炭素の濃度が、２５℃で５～３５０体積ｐｐｍである請求項４に記載の含フッ素組成物の保存方法。
＜６＞ 前記密閉容器内部の体積に占める前記気相部の割合が、１０～６０体積％である＜４＞又は＜５＞に記載の含フッ素組成物の保存方法。
＜７＞ 反応性シリル基を有する含フッ素化合物を含む含フッ素組成物が収容された状態で密閉されており、気相部における二酸化炭素の濃度が２５℃で４～３８０体積ｐｐｍである含フッ素組成物入り容器。
＜８＞ 前記気相部における二酸化炭素の濃度が、２５℃で５～３５０体積ｐｐｍである＜７＞に記載の含フッ素組成物入り容器。
＜９＞ 容器内部の体積に占める前記気相部の割合が、１０～６０体積％である＜７＞又は＜８＞に記載の含フッ素組成物入り容器。
＜１０＞ 反応性シリル基を有する含フッ素化合物を含む含フッ素組成物が収容された容器を密閉することを含み、前記容器内の気相部における二酸化炭素の濃度を２５℃で４～３８０体積ｐｐｍとする、含フッ素組成物入り容器の製造方法。
＜１１＞ 前記気相部における二酸化炭素の濃度が、２５℃で５～３５０体積ｐｐｍである＜１０＞に記載の含フッ素組成物入り容器の製造方法。
＜１２＞ 前記容器内部の体積に占める前記気相部の割合が、１０～６０体積％である＜１０＞又は＜１１＞に記載の含フッ素組成物入り容器の製造方法。
＜１＞ 反応性シリル基を有する含フッ素化合物を含む含フッ素組成物が収容された容器内の気相部における二酸化炭素の濃度を、２５℃で４～３８０体積ｐｐｍとする含フッ素組成物の保存方法。
＜２＞ 前記気相部における二酸化炭素の濃度が、２５℃で５～３５０体積ｐｐｍである＜１＞に記載の含フッ素組成物の保存方法。
＜３＞
前記容器内部の体積に占める前記気相部の割合が、１０～６０体積％である請求項１又は請求項２に記載の含フッ素組成物の保存方法。
＜４＞ 反応性シリル基を有する含フッ素化合物を含む含フッ素組成物が収容された密閉容器内の気相部における二酸化炭素の濃度を、２５℃で４～３８０体積ｐｐｍに維持する含フッ素組成物の保存方法。
＜５＞ 前記気相部における二酸化炭素の濃度が、２５℃で５～３５０体積ｐｐｍである請求項４に記載の含フッ素組成物の保存方法。
＜６＞ 前記密閉容器内部の体積に占める前記気相部の割合が、１０～６０体積％である＜４＞又は＜５＞に記載の含フッ素組成物の保存方法。
＜７＞ 反応性シリル基を有する含フッ素化合物を含む含フッ素組成物が収容された状態で密閉されており、気相部における二酸化炭素の濃度が２５℃で４～３８０体積ｐｐｍである含フッ素組成物入り容器。
＜８＞ 前記気相部における二酸化炭素の濃度が、２５℃で５～３５０体積ｐｐｍである＜７＞に記載の含フッ素組成物入り容器。
＜９＞ 容器内部の体積に占める前記気相部の割合が、１０～６０体積％である＜７＞又は＜８＞に記載の含フッ素組成物入り容器。
＜１０＞ 反応性シリル基を有する含フッ素化合物を含む含フッ素組成物が収容された容器を密閉することを含み、前記容器内の気相部における二酸化炭素の濃度を２５℃で４～３８０体積ｐｐｍとする、含フッ素組成物入り容器の製造方法。
＜１１＞ 前記気相部における二酸化炭素の濃度が、２５℃で５～３５０体積ｐｐｍである＜１０＞に記載の含フッ素組成物入り容器の製造方法。
＜１２＞ 前記容器内部の体積に占める前記気相部の割合が、１０～６０体積％である＜１０＞又は＜１１＞に記載の含フッ素組成物入り容器の製造方法。
【発明の効果】
【0008】
本発明の一実施形態によれば、保存後の含フッ素組成物を用いても、基材に対して、撥水性に優れた表面処理層を形成し得る含フッ素組成物の保存方法が提供される。
本発明の別の実施形態によれば、撥水性に優れた表面処理層を形成し得る含フッ素組成物が収容されている含フッ素組成物入り容器が提供される。
本発明の別の実施形態によれば、撥水性に優れた表面処理層を形成し得る含フッ素組成物が収容されている含フッ素組成物入り容器の製造方法が提供される。
本発明の別の実施形態によれば、撥水性に優れた表面処理層を形成し得る含フッ素組成物が収容されている含フッ素組成物入り容器が提供される。
本発明の別の実施形態によれば、撥水性に優れた表面処理層を形成し得る含フッ素組成物が収容されている含フッ素組成物入り容器の製造方法が提供される。
【発明を実施するための形態】
【0009】
本開示において「～」を用いて示された数値範囲には、「～」の前後に記載される数値がそれぞれ最小値及び最大値として含まれる。
本開示中に段階的に記載されている数値範囲において、一つの数値範囲で記載された上限値又は下限値は、他の段階的な記載の数値範囲の上限値又は下限値に置き換えてもよい。また、本開示中に記載されている数値範囲において、その数値範囲の上限値又は下限値は、実施例に示されている値に置き換えてもよい。
本開示における以下の用語の意味は、以下の通りである。
本開示において、式（１）で表される化合物を化合物（１）と記す。他の式で表される化合物、基等もこれに準ずる。
ペルフルオロアルキル基とは、アルキル基の水素原子が全てフッ素原子で置換された基を意味する。また、フルオロアルキル基とは、パーシャルフルオロアルキル基とペルフルオロアルキル基とを合わせた総称である。パーシャルフルオロアルキル基とは、水素原子の１個以上がフッ素原子で置換され、かつ、水素原子を１個以上有するアルキル基である。すなわち、フルオロアルキル基は、１個以上のフッ素原子を有するアルキル基である。
「表面処理層」とは、基材の表面に、表面処理によって形成される層を意味する。
本開示中に段階的に記載されている数値範囲において、一つの数値範囲で記載された上限値又は下限値は、他の段階的な記載の数値範囲の上限値又は下限値に置き換えてもよい。また、本開示中に記載されている数値範囲において、その数値範囲の上限値又は下限値は、実施例に示されている値に置き換えてもよい。
本開示における以下の用語の意味は、以下の通りである。
本開示において、式（１）で表される化合物を化合物（１）と記す。他の式で表される化合物、基等もこれに準ずる。
ペルフルオロアルキル基とは、アルキル基の水素原子が全てフッ素原子で置換された基を意味する。また、フルオロアルキル基とは、パーシャルフルオロアルキル基とペルフルオロアルキル基とを合わせた総称である。パーシャルフルオロアルキル基とは、水素原子の１個以上がフッ素原子で置換され、かつ、水素原子を１個以上有するアルキル基である。すなわち、フルオロアルキル基は、１個以上のフッ素原子を有するアルキル基である。
「表面処理層」とは、基材の表面に、表面処理によって形成される層を意味する。
【0010】
＜含フッ素組成物の保存方法＞
本開示の含フッ素組成物の保存方法は、反応性シリル基を有する含フッ素化合物を含む含フッ素組成物が収容された容器内の気相部における二酸化炭素の濃度を、２５℃で４～３８０体積ｐｐｍとするものである。
本開示において、気相部とは、含フッ素組成物を収容する容器内部の空間うち、含フッ素組成物が占める部分を除いた部分をいう。
本開示の含フッ素組成物の保存方法は、反応性シリル基を有する含フッ素化合物を含む含フッ素組成物が収容された容器内の気相部における二酸化炭素の濃度を、２５℃で４～３８０体積ｐｐｍとするものである。
本開示において、気相部とは、含フッ素組成物を収容する容器内部の空間うち、含フッ素組成物が占める部分を除いた部分をいう。
【0011】
二酸化炭素は大気中に含まれる成分であり、含フッ素組成物を収容する容器の気相部にも、一定量含まれ得る化合物である。二酸化炭素は酸性物質であることから、気相部に含まれる二酸化炭素が含フッ素化合物に含まれる反応性シリル基の加水分解を促進する。
反応性シリル基の加水分解が促進されることで、含フッ素組成物を容器内に収容した状態で保存すると含フッ素化合物の縮合反応が生ずる。含フッ素化合物の縮合反応は、含フッ素化合物の劣化の原因となる。含フッ素化合物が劣化することで、基材に対して表面処理層が形成されにくくなる。一方、表面処理層を形成する際に反応性シリル基の加水分解が促進されることで、基材表面に強固な表面処理層が形成されやすくなる。
本発明者等は鋭意検討の結果、含フッ素組成物が収容された容器内の気相部における二酸化炭素の濃度を、２５℃で４～３８０体積ｐｐｍとすることで、保存後の含フッ素組成物を用いて、基材に対して表面処理を行った場合に、基材に対して、撥水性に優れた表面処理層を形成することができることを見出し、本開示に係る発明を完成させた。また、本開示によれば、保存後のフッ素組成物は、耐摩擦性に優れた表面処理層を形成し得ることも見出された。
反応性シリル基の加水分解が促進されることで、含フッ素組成物を容器内に収容した状態で保存すると含フッ素化合物の縮合反応が生ずる。含フッ素化合物の縮合反応は、含フッ素化合物の劣化の原因となる。含フッ素化合物が劣化することで、基材に対して表面処理層が形成されにくくなる。一方、表面処理層を形成する際に反応性シリル基の加水分解が促進されることで、基材表面に強固な表面処理層が形成されやすくなる。
本発明者等は鋭意検討の結果、含フッ素組成物が収容された容器内の気相部における二酸化炭素の濃度を、２５℃で４～３８０体積ｐｐｍとすることで、保存後の含フッ素組成物を用いて、基材に対して表面処理を行った場合に、基材に対して、撥水性に優れた表面処理層を形成することができることを見出し、本開示に係る発明を完成させた。また、本開示によれば、保存後のフッ素組成物は、耐摩擦性に優れた表面処理層を形成し得ることも見出された。
【0012】
以下、本開示の含フッ素組成物の保存方法について説明する。
【0013】
本開示の含フッ素組成物の保存方法では、反応性シリル基を有する含フッ素化合物を含む含フッ素組成物が、容器に収容される。
【0014】
（容器）
含フッ素組成物を収容するための容器は、特に限定されない。容器としては、例えば、固定した保存容器である貯蔵タンク、輸送に使用される充填ボンベ、２次充填ボンベ（サービス缶）等の耐圧容器が挙げられる。また、容器は、一時的に保存するための簡易な容器であってもよい。
含フッ素組成物を収容するための容器は、特に限定されない。容器としては、例えば、固定した保存容器である貯蔵タンク、輸送に使用される充填ボンベ、２次充填ボンベ（サービス缶）等の耐圧容器が挙げられる。また、容器は、一時的に保存するための簡易な容器であってもよい。
【0015】
容器の材質は特に限定されず、例えば、ガラス、炭素鋼、マンガン鋼、クロムモリブデン鋼、ステンレス鋼、及びアルミニウム合金が挙げられる。
【0016】
容器を密閉するための蓋の形状は特に限定されず、平面視において、円形であってもよく、多角形であってもよい。中でも、含フッ素組成物の保存安定性を向上させる観点から、容器の蓋の形状は、多角形であることが好ましく、六角形～十二角形であることがより好ましい。
【0017】
含フッ素組成物を容器に収容する方法は特に限定されず、通常公知の方法を用いることができる。容器内部の体積に占める気相部の割合は、貯蔵安定性の観点から、６０体積％以下であることが好ましく、５０体積％以下であることがより好ましい。また、容器内部の体積に占める気相部の割合は、輸送しやすさの観点から、１０体積％以上であることが好ましく、２０体積％以上であることがより好ましい。
以上の観点から、容器内部の体積に占める気相部の割合は、１０～６０体積％であることが好ましく、２０～５０体積％であることがより好ましい。
以上の観点から、容器内部の体積に占める気相部の割合は、１０～６０体積％であることが好ましく、２０～５０体積％であることがより好ましい。
【0018】
本開示の含フッ素組成物の保存方法では、含フッ素組成物が容器内に収容された後、容器を密閉することが好ましい。
【0019】
容器を密閉する方法は特に限定されず、例えば、容器の蓋を閉めることにより行われる。容器を密閉するに際し、内蓋を用いてもよい。
【0020】
含フッ素組成物が収容された容器内の気相部における二酸化炭素の濃度は、２５℃で４～３８０体積ｐｐｍであり、５～３５０体積ｐｐｍが好ましく、８～３２０体積ｐｐｍがより好ましい。
容器内の気相部における二酸化炭素の濃度の調整方法は特に限定されるものではない。例えば、容器内を乾燥窒素、乾燥アルゴン等の不活性気体で置換した後、容器内に含フッ素組成物を充填してもよい。また、容器内に含フッ素組成物を充填した後、容器内を不活性気体で置換してもよい。
容器内の気相部における二酸化炭素の濃度は、ガスクロマトグラフのＴＣＤ(熱伝導度
検出器)を使用して測定できる。
容器内の気相部における二酸化炭素の濃度の調整方法は特に限定されるものではない。例えば、容器内を乾燥窒素、乾燥アルゴン等の不活性気体で置換した後、容器内に含フッ素組成物を充填してもよい。また、容器内に含フッ素組成物を充填した後、容器内を不活性気体で置換してもよい。
容器内の気相部における二酸化炭素の濃度は、ガスクロマトグラフのＴＣＤ(熱伝導度
検出器)を使用して測定できる。
【0021】
（含フッ素組成物）
本開示の含フッ素組成物の保存方法において、含フッ素組成物は、反応性シリル基を有する含フッ素化合物を含む。以下、反応性シリル基を有する含フッ素化合物の詳細について説明する。
本開示の含フッ素組成物の保存方法において、含フッ素組成物は、反応性シリル基を有する含フッ素化合物を含む。以下、反応性シリル基を有する含フッ素化合物の詳細について説明する。
【0022】
反応性シリル基とは、Ｓｉ原子に反応性基が結合した基を意味する。
【0023】
含フッ素化合物が有する反応性シリル基の数は、１以上であり、表面処理層の耐摩擦性をより向上させる観点から、１～１８が好ましく、２～１２がより好ましく、２～８がさらに好ましい。
【0024】
反応性シリル基としては、下記式１で表される基が好ましい。
－Ｓｉ（Ｒ）ｎＬ３－ｎ …（１）
－Ｓｉ（Ｒ）ｎＬ３－ｎ …（１）
【0025】
式１中、Ｒは１価の炭化水素基であり、Ｌは加水分解性基又は水酸基であり、ｎは０～２の整数である。
【0026】
基（１）が１分子中に複数ある場合、複数の基（１）は、同じであってもよく、互いに異なっていてもよい。原料の入手容易性、及び、含フッ素化合物の製造容易性の観点からは、複数の基（１）は、同じであることが好ましい。
【0027】
Ｒは、１価の炭化水素基であり、１価の飽和炭化水素基が好ましい。Ｒの炭素数は、１～６が好ましく、１～３がより好ましく、１～２がさらに好ましい。
【0028】
Ｌは、加水分解性基又は水酸基である。
加水分解性基は、加水分解反応により水酸基となる基である。すなわち、Ｓｉ－Ｌで表される加水分解性を有するシリル基は、加水分解反応によりＳｉ－ＯＨで表されるシラノール基となる。シラノール基は、さらにシラノール基間で反応してＳｉ－Ｏ－Ｓｉ結合を形成する。また、シラノール基は、基材の表面に存在する酸化物に由来するシラノール基と脱水縮合反応して、Ｓｉ－Ｏ－Ｓｉ結合を形成できる。
加水分解性基は、加水分解反応により水酸基となる基である。すなわち、Ｓｉ－Ｌで表される加水分解性を有するシリル基は、加水分解反応によりＳｉ－ＯＨで表されるシラノール基となる。シラノール基は、さらにシラノール基間で反応してＳｉ－Ｏ－Ｓｉ結合を形成する。また、シラノール基は、基材の表面に存在する酸化物に由来するシラノール基と脱水縮合反応して、Ｓｉ－Ｏ－Ｓｉ結合を形成できる。
【0029】
加水分解性基としては、例えば、アルコキシ基、アリールオキシ基、ハロゲン原子、アシル基、アシルオキシ基、及びイソシアナート基（－ＮＣＯ）が挙げられる。アルコキシ基は、炭素数１～４のアルコキシ基であることが好ましい。アリールオキシ基は、炭素数３～１０のアリールオキシ基であることが好ましい。ただし、アリールオキシ基のアリール基は、ヘテロアリール基を含む。ハロゲン原子は、塩素原子であることが好ましい。アシル基は、炭素数１～６のアシル基であることが好ましい。アシルオキシ基は、炭素数１～６のアシルオキシ基であることが好ましい。
【0030】
中でも、Ｌは、含フッ素化合物の製造容易性の観点から、炭素数１～４のアルコキシ基又はハロゲン原子であることが好ましい。Ｌは、塗布時のアウトガスが少なく、含フッ素化合物の保存安定性がより優れる点から、炭素数１～４のアルコキシ基であることが好ましい。含フッ素化合物の長期の保存安定性が必要な場合には、Ｌは、エトキシ基であることがより好ましい。塗布後の反応時間を短時間とする場合には、Ｌは、メトキシ基であることがより好ましい。
【0031】
ｎは、０～２の整数であり、０又は１が好ましく、０がより好ましい。Ｌが複数存在することによって、表面処理層の基材への密着性がより強固になる。
ｎが１以下である場合、１分子中に存在する複数のＬは、同じであってもよく、互いに異なっていてもよい。原料の入手容易性、及び、含フッ素化合物の製造容易性の観点から、複数のＬは同じであることが好ましい。ｎが２である場合、１分子中に存在する複数のＲは同じであってもよく、互いに異なっていてもよい。原料の入手容易性、及び、含フッ素化合物の製造容易性の観点から、複数のＲは同じであることが好ましい。
ｎが１以下である場合、１分子中に存在する複数のＬは、同じであってもよく、互いに異なっていてもよい。原料の入手容易性、及び、含フッ素化合物の製造容易性の観点から、複数のＬは同じであることが好ましい。ｎが２である場合、１分子中に存在する複数のＲは同じであってもよく、互いに異なっていてもよい。原料の入手容易性、及び、含フッ素化合物の製造容易性の観点から、複数のＲは同じであることが好ましい。
【0032】
含フッ素化合物は、表面処理層の撥水性を向上させる観点から、ポリ（オキシフルオロアルキレン）鎖を有することが好ましい。
【0033】
ポリ（オキシフルオロアルキレン）鎖は、下記式２で表される。
（ＯＸ）ｍ …（２）
（ＯＸ）ｍ …（２）
【0034】
式２中、Ｘは、１個以上のフッ素原子を有するフルオロアルキレン基である。
【0035】
フルオロアルキレン基の炭素数は、表面処理層の耐候性及び耐食性を向上させる観点から、１～６が好ましく、２～４がより好ましい。
フルオロアルキレン基は、直鎖状、分岐鎖状及び環状のいずれであってもよい。
フルオロアルキレン基におけるフッ素原子の数は、表面処理層の耐食性を向上させる点から、炭素原子の数の１倍～２倍が好ましく、１．７倍～２倍がより好ましい。
中でも、フルオロアルキレン基は、フルオロアルキレン基中の全ての水素原子がフッ素原子に置換された基（すなわち、ペルフルオロアルキレン基）であることが好ましい。
フルオロアルキレン基は、直鎖状、分岐鎖状及び環状のいずれであってもよい。
フルオロアルキレン基におけるフッ素原子の数は、表面処理層の耐食性を向上させる点から、炭素原子の数の１倍～２倍が好ましく、１．７倍～２倍がより好ましい。
中でも、フルオロアルキレン基は、フルオロアルキレン基中の全ての水素原子がフッ素原子に置換された基（すなわち、ペルフルオロアルキレン基）であることが好ましい。
【0036】
（ＯＸ）の具体例としては、－ＯＣＨＦ－、－ＯＣＦ２ＣＨＦ－、－ＯＣＨＦＣＦ２－、－ＯＣＦ２ＣＨ２－、－ＯＣＨ２ＣＦ２－、－ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＨＦ－、－ＯＣＨＦＣＦ２ＣＦ２－、－ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＨ２－、－ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２－、－ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ２－、－ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２－、－ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ２－、－ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２－、－ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ２－、－ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２－、－ＯＣＦ２－、－ＯＣＦ２ＣＦ２－、－ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２－、－ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２－、－ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２－、－ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＣＦ２－、－ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２－、－ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２－、－Ｏ－ｃｙｃｌｏＣ４Ｆ６－、－Ｏ－ｃｙｃｌｏＣ５Ｆ８－、及び－Ｏ－ｃｙｃｌｏＣ６Ｆ１０－が挙げられる。
ここで、－ｃｙｃｌｏＣ４Ｆ６－は、ペルフルオロシクロブタンジイル基を意味する。ペルフルオロシクロブタンジイル基としては、ペルフルオロシクロブタン－１，２－ジイル基、及びペルフルオロシクロブタン－１，３－ジイル基が挙げられる。－ｃｙｃｌｏＣ５Ｆ８－は、ペルフルオロシクロペンタンジイル基を意味する。ペルフルオロシクロペンタンジイル基としては、ペルフルオロシクロペンタン－１，２－ジイル基、及びペルフルオロシクロペンタン－１，３－ジイル基が挙げられる。－ｃｙｃｌｏＣ６Ｆ１０－は、ペルフルオロシクロヘキサンジイル基を意味する。ペルフルオロシクロヘキサンジイル基としては、ペルフルオロシクロヘキサン－１，２－ジイル基、ペルフルオロシクロヘキサン－１，３－ジイル基、及びペルフルオロシクロヘキサン－１，４－ジイル基が挙げられる。
ここで、－ｃｙｃｌｏＣ４Ｆ６－は、ペルフルオロシクロブタンジイル基を意味する。ペルフルオロシクロブタンジイル基としては、ペルフルオロシクロブタン－１，２－ジイル基、及びペルフルオロシクロブタン－１，３－ジイル基が挙げられる。－ｃｙｃｌｏＣ５Ｆ８－は、ペルフルオロシクロペンタンジイル基を意味する。ペルフルオロシクロペンタンジイル基としては、ペルフルオロシクロペンタン－１，２－ジイル基、及びペルフルオロシクロペンタン－１，３－ジイル基が挙げられる。－ｃｙｃｌｏＣ６Ｆ１０－は、ペルフルオロシクロヘキサンジイル基を意味する。ペルフルオロシクロヘキサンジイル基としては、ペルフルオロシクロヘキサン－１，２－ジイル基、ペルフルオロシクロヘキサン－１，３－ジイル基、及びペルフルオロシクロヘキサン－１，４－ジイル基が挙げられる。
【0037】
（ＯＸ）の繰り返し数ｍは、２以上の整数であり、２～２００の整数がより好ましく、５～１５０の整数がさらに好ましく、５～１００の整数が特に好ましく、１０～５０の整数が最も好ましい。
【0038】
（ＯＸ）ｍは、２種以上の（ＯＸ）を含んでいてもよい。
２種以上の（ＯＸ）の結合順序は限定されず、ランダム、交互、及びブロックのいずれに配置されていてもよい。
２種以上の（ＯＸ）を含むとは、含フッ素化合物中において、炭素数の異なる２種以上の（ＯＸ）が存在すること、水素原子数が異なる２種以上の（ＯＸ）が存在すること、水素原子の位置が異なる２種以上の（ＯＸ）が存在すること、及び、炭素数が同一であっても側鎖の有無や側鎖の種類（例えば、側鎖の数、側鎖の炭素数等）が異なる２種以上の（ＯＸ）が存在することをいう。
２種以上の（ＯＸ）の配置については、例えば、｛（ＯＣＦ２）ｍ２１（ＯＣＦ２ＣＦ２）ｍ２２｝で表される構造は、ｍ２１個の（ＯＣＦ２）とｍ２２個の（ＯＣＦ２ＣＦ２）とがランダムに配置されていることを表す。また、（ＯＣＦ２ＣＦ２－ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）ｍ２５で表される構造は、ｍ２５個の（ＯＣＦ２ＣＦ２）とｍ２５個の（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）とが交互に配置されていることを表す。
２種以上の（ＯＸ）の結合順序は限定されず、ランダム、交互、及びブロックのいずれに配置されていてもよい。
２種以上の（ＯＸ）を含むとは、含フッ素化合物中において、炭素数の異なる２種以上の（ＯＸ）が存在すること、水素原子数が異なる２種以上の（ＯＸ）が存在すること、水素原子の位置が異なる２種以上の（ＯＸ）が存在すること、及び、炭素数が同一であっても側鎖の有無や側鎖の種類（例えば、側鎖の数、側鎖の炭素数等）が異なる２種以上の（ＯＸ）が存在することをいう。
２種以上の（ＯＸ）の配置については、例えば、｛（ＯＣＦ２）ｍ２１（ＯＣＦ２ＣＦ２）ｍ２２｝で表される構造は、ｍ２１個の（ＯＣＦ２）とｍ２２個の（ＯＣＦ２ＣＦ２）とがランダムに配置されていることを表す。また、（ＯＣＦ２ＣＦ２－ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）ｍ２５で表される構造は、ｍ２５個の（ＯＣＦ２ＣＦ２）とｍ２５個の（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）とが交互に配置されていることを表す。
【0039】
中でも、（ＯＸ）ｍは、［（ＯＣＨｍａＦ（２－ｍａ））ｍ１１（ＯＣ２ＨｍｂＦ（４－ｍｂ））ｍ１２（ＯＣ３ＨｍｃＦ（６－ｍｃ））ｍ１３（ＯＣ４ＨｍｄＦ（８－ｍｄ））ｍ１４（ＯＣ５ＨｍｅＦ（１０－ｍｅ））ｍ１５（ＯＣ６ＨｍｆＦ（１２－ｍｆ））ｍ１６（Ｏ－ｃｙｃｌｏＣ４ＨｍｇＦ（６－ｍｇ））ｍ１７（Ｏ－ｃｙｃｌｏＣ５ＨｍｈＦ（８－ｍｈ））ｍ１８（Ｏ－ｃｙｃｌｏＣ６ＨｍｉＦ（１０－ｍｉ））ｍ１９］が好ましい。ここで、－ｃｙｃｌｏＣ４ＨｍｇＦ（６－ｍｇ）は、フルオロシクロブタン－ジイル基を意味する。フルオロシクロブタン－ジイル基としては、フルオロシクロブタン－１，２－ジイル基、及びフルオロシクロブタン－１，３－ジイル基が挙げられる。－ｃｙｃｌｏＣ５ＨｍｈＦ（８－ｍｈ）は、フルオロシクロペンタンジイル基を意味する。フルオロシクロペンタンジイル基としては、フルオロシクロペンタン－１，２－ジイル基、及びフルオロシクロペンタン－１，３－ジイル基が挙げられる。－ｃｙｃｌｏＣ６ＨｍｉＦ（１０－ｍｉ）は、フルオロシクロヘキサンジイル基を意味する。フルオロシクロヘキサンジイル基としては、フルオロシクロヘキサン－１，２－ジイル基、フルオロシクロヘキサン－１，３－ジイル基、及びフルオロシクロヘキサン－１，４－ジイル基が挙げられる。
ｍａは０又は１であり、ｍｂは０～３の整数であり、ｍｃは０～５の整数であり、ｍｄは０～７の整数であり、ｍｅは０～９の整数であり、ｍｆは０～１１の整数であり、ｍｇは０～５の整数であり、ｍｈは０～７の整数であり、ｍｉは０～９の整数である。
ｍ１１、ｍ１２、ｍ１３、ｍ１４、ｍ１５、ｍ１６、ｍ１７、ｍ１８及びｍ１９は、それぞれ独立に、０以上の整数であり、１００以下が好ましい。
ｍ１１＋ｍ１２＋ｍ１３＋ｍ１４＋ｍ１５＋ｍ１６＋ｍ１７＋ｍ１８＋ｍ１９は２以上の整数であり、２～２００の整数がより好ましく、５～１５０の整数がより好ましく、５～１００の整数がさらに好ましく、１０～５０の整数が特に好ましい。
ｍａは０又は１であり、ｍｂは０～３の整数であり、ｍｃは０～５の整数であり、ｍｄは０～７の整数であり、ｍｅは０～９の整数であり、ｍｆは０～１１の整数であり、ｍｇは０～５の整数であり、ｍｈは０～７の整数であり、ｍｉは０～９の整数である。
ｍ１１、ｍ１２、ｍ１３、ｍ１４、ｍ１５、ｍ１６、ｍ１７、ｍ１８及びｍ１９は、それぞれ独立に、０以上の整数であり、１００以下が好ましい。
ｍ１１＋ｍ１２＋ｍ１３＋ｍ１４＋ｍ１５＋ｍ１６＋ｍ１７＋ｍ１８＋ｍ１９は２以上の整数であり、２～２００の整数がより好ましく、５～１５０の整数がより好ましく、５～１００の整数がさらに好ましく、１０～５０の整数が特に好ましい。
【0040】
中でも、ｍ１２は２以上の整数が好ましく、２～２００の整数が特に好ましい。
また、Ｃ３ＨｍｃＦ（６－ｍｃ）、Ｃ４ＨｍｄＦ（８－ｍｄ）、Ｃ５ＨｍｅＦ（１０－ｍｅ）及びＣ６ＨｍｆＦ（１２－ｍｆ）は、直鎖状であってもよく、分岐鎖状であってもよいが、表面処理層の耐摩擦性を向上させる観点から、直鎖状が好ましい。
また、Ｃ３ＨｍｃＦ（６－ｍｃ）、Ｃ４ＨｍｄＦ（８－ｍｄ）、Ｃ５ＨｍｅＦ（１０－ｍｅ）及びＣ６ＨｍｆＦ（１２－ｍｆ）は、直鎖状であってもよく、分岐鎖状であってもよいが、表面処理層の耐摩擦性を向上させる観点から、直鎖状が好ましい。
【0041】
なお、上記式は単位の種類とその数を表すものであり、単位の配列を表すものではない。すなわち、ｍ１１～ｍ１９は単位の数を表すものであり、例えば、（ＯＣＨｍａＦ（２－ｍａ））ｍ１１は、（ＯＣＨｍａＦ（２－ｍａ））単位がｍ１１個連続したブロックを表すものではない。同様に、（ＯＣＨｍａＦ（２－ｍａ））～（Ｏ－ｃｙｃｌｏＣ６ＨｍｉＦ（１０－ｍｉ））の記載順は、その記載順にそれらが配列していることを表すものではない。
上記式において、ｍ１１～ｍ１９の２以上が０でない場合（すなわち、（ＯＸ）ｍが２種以上の単位から構成されている場合）、異なる単位の配列は、ランダム配列、交互配列、ブロック配列及びそれら配列の組合せのいずれであってもよい。
さらに、上記各単位も、また、その単位が２以上含まれている場合、それらの単位は異なっていてもよい。例えば、ｍ１１が２以上の場合、複数の（ＯＣＨｍａＦ（２－ｍａ））は同一であっても異なっていてもよい。
上記式において、ｍ１１～ｍ１９の２以上が０でない場合（すなわち、（ＯＸ）ｍが２種以上の単位から構成されている場合）、異なる単位の配列は、ランダム配列、交互配列、ブロック配列及びそれら配列の組合せのいずれであってもよい。
さらに、上記各単位も、また、その単位が２以上含まれている場合、それらの単位は異なっていてもよい。例えば、ｍ１１が２以上の場合、複数の（ＯＣＨｍａＦ（２－ｍａ））は同一であっても異なっていてもよい。
【0042】
（ＯＸ）ｍは、下記の構造を有することが好ましい。
｛（ＯＣＦ２）ｍ２１（ＯＣＦ２ＣＦ２）ｍ２２｝、
（ＯＣＦ２ＣＦ２）ｍ２３、
（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）ｍ２４、
（ＯＣＦ２ＣＦ２－ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）ｍ２５、
（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）ｍ２６（ＯＣＦ２）ｍ２７、
（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）ｍ２６（ＯＣＦ２ＣＦ２）ｍ２７、
（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）ｍ２６（ＯＣＦ２）ｍ２７、
（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）ｍ２６（ＯＣＦ２ＣＦ２）ｍ２７、
（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２－ＯＣＦ２）ｍ２８、
（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２－ＯＣＦ２ＣＦ２）ｍ２８、
（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２－ＯＣＦ２）ｍ２８、
（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２－ＯＣＦ２ＣＦ２）ｍ２８、
（ＯＣＦ２－ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）ｍ２８、
（ＯＣＦ２－ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）ｍ２８、
（ＯＣＦ２ＣＦ２－ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）ｍ２８、
（ＯＣＦ２ＣＦ２－ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）ｍ２８。
ただし、ｍ２１は１以上の整数であり、ｍ２２は１以上の整数であり、ｍ２１＋ｍ２２は２～５００の整数であり、ｍ２３及びｍ２４はそれぞれ独立に、２～５００の整数であり、ｍ２５は、１～２５０の整数であり、ｍ２６及びｍ２７はそれぞれ独立に、１以上の整数であり、ｍ２６＋ｍ２７は、２～５００の整数であり、ｍ２８は、１～２５０の整数
である。
｛（ＯＣＦ２）ｍ２１（ＯＣＦ２ＣＦ２）ｍ２２｝、
（ＯＣＦ２ＣＦ２）ｍ２３、
（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）ｍ２４、
（ＯＣＦ２ＣＦ２－ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）ｍ２５、
（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）ｍ２６（ＯＣＦ２）ｍ２７、
（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）ｍ２６（ＯＣＦ２ＣＦ２）ｍ２７、
（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）ｍ２６（ＯＣＦ２）ｍ２７、
（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）ｍ２６（ＯＣＦ２ＣＦ２）ｍ２７、
（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２－ＯＣＦ２）ｍ２８、
（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２－ＯＣＦ２ＣＦ２）ｍ２８、
（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２－ＯＣＦ２）ｍ２８、
（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２－ＯＣＦ２ＣＦ２）ｍ２８、
（ＯＣＦ２－ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）ｍ２８、
（ＯＣＦ２－ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）ｍ２８、
（ＯＣＦ２ＣＦ２－ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）ｍ２８、
（ＯＣＦ２ＣＦ２－ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）ｍ２８。
ただし、ｍ２１は１以上の整数であり、ｍ２２は１以上の整数であり、ｍ２１＋ｍ２２は２～５００の整数であり、ｍ２３及びｍ２４はそれぞれ独立に、２～５００の整数であり、ｍ２５は、１～２５０の整数であり、ｍ２６及びｍ２７はそれぞれ独立に、１以上の整数であり、ｍ２６＋ｍ２７は、２～５００の整数であり、ｍ２８は、１～２５０の整数
である。
【0043】
（ＯＸ）ｍは、含フッ素化合物の製造容易性の観点から、下記構造を有することがより好ましい。
｛（ＯＣＦ２）ｍ２１（ＯＣＦ２ＣＦ２）ｍ２２｝、
（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）ｍ２４、
（ＯＣＦ２ＣＦ２）２｛（ＯＣＦ２）ｍ２１（ＯＣＦ２ＣＦ２）ｍ２２－２｝、
（ＯＣＦ２ＣＦ２－ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）ｍ２５－１ＯＣＦ２ＣＦ２、
（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２－ＯＣＦ２）ｍ２８、
（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２－ＯＣＦ２）ｍ２８、
（ＯＣＦ２ＣＦ２－ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）ｍ２８－１ＯＣＦ２ＣＦ２、
（ＯＣＦ２ＣＦ２－ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）ｍ２８－１ＯＣＦ２ＣＦ２。
ただし、ｍ２２－２、ｍ２５－１及びｍ２８－１については、１以上の整数となるように、ｍ２２、ｍ２５及びｍ２８の数が選択される。
｛（ＯＣＦ２）ｍ２１（ＯＣＦ２ＣＦ２）ｍ２２｝、
（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）ｍ２４、
（ＯＣＦ２ＣＦ２）２｛（ＯＣＦ２）ｍ２１（ＯＣＦ２ＣＦ２）ｍ２２－２｝、
（ＯＣＦ２ＣＦ２－ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）ｍ２５－１ＯＣＦ２ＣＦ２、
（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２－ＯＣＦ２）ｍ２８、
（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２－ＯＣＦ２）ｍ２８、
（ＯＣＦ２ＣＦ２－ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）ｍ２８－１ＯＣＦ２ＣＦ２、
（ＯＣＦ２ＣＦ２－ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）ｍ２８－１ＯＣＦ２ＣＦ２。
ただし、ｍ２２－２、ｍ２５－１及びｍ２８－１については、１以上の整数となるように、ｍ２２、ｍ２５及びｍ２８の数が選択される。
【0044】
中でも、表面処理層の耐摩擦性がより優れる点から、（ＯＸ）ｍは、｛（ＯＣＦ２）ｍ２１（ＯＣＦ２ＣＦ２）ｍ２２｝であることが好ましい。
｛（ＯＣＦ２）ｍ２１（ＯＣＦ２ＣＦ２）ｍ２２｝において、ｍ２２／ｍ２１は、表面処理層の耐摩擦性がより優れる点から、０．１～１０が好ましく、０．２～５．０がより好ましく、０．２～２．０がさらに好ましく、０．２～１．５が特に好ましく、０．２～０．８５が最も好ましい。
｛（ＯＣＦ２）ｍ２１（ＯＣＦ２ＣＦ２）ｍ２２｝において、ｍ２２／ｍ２１は、表面処理層の耐摩擦性がより優れる点から、０．１～１０が好ましく、０．２～５．０がより好ましく、０．２～２．０がさらに好ましく、０．２～１．５が特に好ましく、０．２～０．８５が最も好ましい。
【0045】
ポリ（オキシフルオロアルキレン）鎖の数平均分子量（Ｍｎ）は、１，０００～２０，０００が好ましく、１，５００～１５，０００がより好ましく、２，０００～１０，０００が特に好ましい。
Ｍｎが１，０００以上であれば、含フッ素化合物の分子鎖の流動性及びフッ素含有量が高くなるので、表面処理層の耐摩擦性がより優れる。
Ｍｎが１，０００以上であれば、含フッ素化合物の分子鎖の流動性及びフッ素含有量が高くなるので、表面処理層の耐摩擦性がより優れる。
【0046】
含フッ素化合物は、表面処理層の耐摩擦性により優れる点で、下記式３で表される化合物が好ましい。
［Ａ－（ＯＸ）ｍ－］ｊＹ１［－Ｓｉ（Ｒ）ｎＬ３－ｎ］ｇ …（３）
［Ａ－（ＯＸ）ｍ－］ｊＹ１［－Ｓｉ（Ｒ）ｎＬ３－ｎ］ｇ …（３）
【0047】
式３中、Ａは、ペルフルオロアルキル基又は－Ｙ２［－Ｓｉ（Ｒ）ｎＬ３－ｎ］ｋであり、Ｙ１は（ｊ＋ｇ）価の連結基であり、Ｙ２は（ｋ＋１）価の連結基であり、ｊは１以上の整数であり、ｇは１以上の整数であり、ｋは１以上の整数であり、Ｒ、Ｌ、ｎ、Ｘ、及びｍの定義は、上述の通りである。
【0048】
ペルフルオロアルキル基中の炭素数は、表面処理層の耐摩擦性がより優れる点から、１～２０が好ましく、１～１０がより好ましく、１～６がさらに好ましく、１～３が特に好ましい。
ペルフルオロアルキル基は、直鎖状、分岐鎖状及び環状のいずれであってもよい。
ただし、Ａが－Ｙ２［－Ｓｉ（Ｒ）ｎＬ３－ｎ］ｋである場合、ｊは１～３が好ましい。
ペルフルオロアルキル基は、直鎖状、分岐鎖状及び環状のいずれであってもよい。
ただし、Ａが－Ｙ２［－Ｓｉ（Ｒ）ｎＬ３－ｎ］ｋである場合、ｊは１～３が好ましい。
【0049】
ペルフルオロアルキル基としては、例えば、ＣＦ３－、ＣＦ３ＣＦ２－、ＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２－、ＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２－、ＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２－、ＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２－、及びＣＦ３ＣＦ（ＣＦ３）－が挙げられる。
ペルフルオロアルキル基としては、表面処理層の撥水性がより優れる点から、ＣＦ３－、ＣＦ３ＣＦ２－、又はＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２－が好ましい。
ペルフルオロアルキル基としては、表面処理層の撥水性がより優れる点から、ＣＦ３－、ＣＦ３ＣＦ２－、又はＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２－が好ましい。
【0050】
Ｙ２は、（ｋ＋１）価の連結基である。
Ｙ２としては、本開示の効果を損なわない基であればよく、例えば、エーテル性酸素原子又は２価のオルガノポリシロキサン残基を有していてもよいアルキレン基、炭素原子、窒素原子、ケイ素原子、２～８価のオルガノポリシロキサン残基、及び、後述する式（３－１Ａ）、式（３－１Ｂ）、式（３－１Ａ－１）～（３－１Ａ－７）からＳｉ（Ｒ）ｎＬ３－ｎを除いた基が挙げられる。
また、Ｙ２は、後述する基（ｇ２－１）～基（ｇ２－１４）であってもよい。
Ｙ２としては、本開示の効果を損なわない基であればよく、例えば、エーテル性酸素原子又は２価のオルガノポリシロキサン残基を有していてもよいアルキレン基、炭素原子、窒素原子、ケイ素原子、２～８価のオルガノポリシロキサン残基、及び、後述する式（３－１Ａ）、式（３－１Ｂ）、式（３－１Ａ－１）～（３－１Ａ－７）からＳｉ（Ｒ）ｎＬ３－ｎを除いた基が挙げられる。
また、Ｙ２は、後述する基（ｇ２－１）～基（ｇ２－１４）であってもよい。
【0051】
Ｙ１は、（ｊ＋ｇ）価の連結基である。
Ｙ１は、本開示の効果を損なわない基であればよく、例えば、エーテル性酸素原子又は２価のオルガノポリシロキサン残基を有していてもよいアルキレン基、炭素原子、窒素原子、ケイ素原子、２～８価のオルガノポリシロキサン残基、及び、後述する式（３－１Ａ）、式（３－１Ｂ）、式（３－１Ａ－１）～（３－１Ａ－７）からＳｉ（Ｒ）ｎＬ３－ｎを除いた基が挙げられる。
また、Ｙ１は、後述する基（ｇ２－１）～（ｇ２－１４）であってもよい。
Ｙ１は、本開示の効果を損なわない基であればよく、例えば、エーテル性酸素原子又は２価のオルガノポリシロキサン残基を有していてもよいアルキレン基、炭素原子、窒素原子、ケイ素原子、２～８価のオルガノポリシロキサン残基、及び、後述する式（３－１Ａ）、式（３－１Ｂ）、式（３－１Ａ－１）～（３－１Ａ－７）からＳｉ（Ｒ）ｎＬ３－ｎを除いた基が挙げられる。
また、Ｙ１は、後述する基（ｇ２－１）～（ｇ２－１４）であってもよい。
【0052】
ｊは、１以上の整数である。表面処理層の撥水性がより優れる点から、ｊは１～６であることが好ましい。含フッ素化合物を製造しやすい点から、ｊは１であることが特に好ましい。
【0053】
ｇは、１以上の整数である。表面処理層の耐摩擦性がより優れる点からは、ｇは、１～１５であることが好ましく、１～６であることがより好ましく、２～４であることがさらに好ましく、２又は３であることが特に好ましい。一方で、表面処理層の指紋除去性がより優れる点からは、ｇは、１～３であることが好ましく、１又は２であることがより好ましく、１であることが特に好ましい。
【0054】
ｋは、１以上の整数である。表面処理層の耐摩擦性がより優れる点からは、ｋは、１～１５であることが好ましく、１～６であることがより好ましく、２～４であることがさらに好ましく、２又は３であることが特に好ましい。一方で、表面処理層の指紋除去性がより優れる点からは、ｋは、１～３であることが好ましく、１又は２であることがより好ましく、１であることが特に好ましい。
Ａが－Ｙ２［－Ｓｉ（Ｒ）ｎＬ３－ｎ］ｋの場合、表面処理層の耐摩擦性がより優れる点からは、ｋ＋ｇは、２～２５であることが好ましく、４～１８であることがより好ましく、６～１２であることが特に好ましい。一方で、表面処理層の指紋除去性がより優れる点からは、ｋ＋ｇは、２～６であることが好ましく、２～４であることがより好ましく、２であることが特に好ましい。
Ａが－Ｙ２［－Ｓｉ（Ｒ）ｎＬ３－ｎ］ｋの場合、表面処理層の耐摩擦性がより優れる点からは、ｋ＋ｇは、２～２５であることが好ましく、４～１８であることがより好ましく、６～１２であることが特に好ましい。一方で、表面処理層の指紋除去性がより優れる点からは、ｋ＋ｇは、２～６であることが好ましく、２～４であることがより好ましく、２であることが特に好ましい。
【0055】
化合物（３）が［－Ｓｉ（Ｒ）ｎＬ３－ｎ］を複数有する場合、複数の［－Ｓｉ（Ｒ）ｎＬ３－ｎ］は同一であってもよく、互いに異なっていてもよい。
【0056】
化合物（３）としては、表面処理層の耐摩擦性がより優れる点から、下式（３－１）で表される化合物及び下式（３－２）で表される化合物が好ましく、下式（３－２）で表される化合物が特に好ましい。
［Ｒｆ1－（ＯＸ）ｍ－］ｊ１Ｙ１０［－Ｓｉ（Ｒ）ｎＬ３－ｎ］ｇ１ …（３－１）
［Ｌ３－ｎ（Ｒ）ｎＳｉ－］ｋ２Ｙ１２－（ＯＸ）ｍ－Ｙ１１［－Ｓｉ（Ｒ）ｎＬ３－ｎ］ｇ２ …（３－２）
［Ｒｆ1－（ＯＸ）ｍ－］ｊ１Ｙ１０［－Ｓｉ（Ｒ）ｎＬ３－ｎ］ｇ１ …（３－１）
［Ｌ３－ｎ（Ｒ）ｎＳｉ－］ｋ２Ｙ１２－（ＯＸ）ｍ－Ｙ１１［－Ｓｉ（Ｒ）ｎＬ３－ｎ］ｇ２ …（３－２）
【0057】
式（３－１）中、Ｘ、Ｌ、Ｒ、ｍ、ｎの定義は、式（３）中の各基の定義と同義である。Ｙ１０は、（ｊ１＋ｇ１）価の連結基であり、その具体例は式（３）中のＹ１と同じである。Ｒｆ1は、ペルフルオロアルキル基であり、ペルフルオロアルキル基の好適態様及び具体例は上述の通りである。ｊ１及びｇ１はそれぞれ、式（３）中のｊ及びｇの定義と同義である。
【0058】
式（３－２）中、Ｘ、Ｌ、Ｒ、ｍ、ｎの定義は、式（３）中の各基の定義と同義である。Ｙ１１は、（ｇ２＋１）価の連結基であり、その具体例は式（３）中のＹ１と同じである。Ｙ１２は、（ｋ２＋１）価の連結基であり、その具体例は式（３）中のＹ１と同じである。ｋ２及びｇ２はそれぞれ、式（３）におけるｋ及びｇの定義と同義である。
化合物（３－１）が［Ｒｆ1－（ＯＸ）ｍ－］を複数有する場合、複数の［Ｒｆ1－（ＯＸ）ｍ－］は同一であっても異なっていてもよい。化合物（３－１）及び化合物（３－２）が［－Ｓｉ（Ｒ）ｎＬ３－ｎ］を複数有する場合、複数の［－Ｓｉ（Ｒ）ｎＬ３－ｎ］は同一であっても異なっていてもよい。
化合物（３－１）が［Ｒｆ1－（ＯＸ）ｍ－］を複数有する場合、複数の［Ｒｆ1－（ＯＸ）ｍ－］は同一であっても異なっていてもよい。化合物（３－１）及び化合物（３－２）が［－Ｓｉ（Ｒ）ｎＬ３－ｎ］を複数有する場合、複数の［－Ｓｉ（Ｒ）ｎＬ３－ｎ］は同一であっても異なっていてもよい。
【0059】
式（３－１）における－Ｙ１０［－Ｓｉ（Ｒ）ｎＬ３－ｎ］ｇ１で表される基、並びに、式（３－２）における－Ｙ１１［－Ｓｉ（Ｒ）ｎＬ３－ｎ］ｇ２で表される基及びＹ１２［－Ｓｉ（Ｒ）ｎＬ３－ｎ］ｋ２で表される基はそれぞれ、基（３－１Ａ）又は基（３－１Ｂ）が好ましい。
【0060】
－Ｑａ－Ｘ３１（－Ｑｂ－Ｓｉ（Ｒ）ｎＬ３－ｎ）ｈ（－Ｒ３１）ｉ …（３－１Ａ）
－Ｑｃ－［ＣＨ２Ｃ（Ｒ３２）（－Ｑｄ－Ｓｉ（Ｒ）ｎＬ３－ｎ）］ｙ－Ｒ３３ …（３－１Ｂ）
なお、式（３－１Ａ）及び式（３－１Ｂ）中、Ｒ、Ｌ、及び、ｎの定義は、上述した通りである。
－Ｑｃ－［ＣＨ２Ｃ（Ｒ３２）（－Ｑｄ－Ｓｉ（Ｒ）ｎＬ３－ｎ）］ｙ－Ｒ３３ …（３－１Ｂ）
なお、式（３－１Ａ）及び式（３－１Ｂ）中、Ｒ、Ｌ、及び、ｎの定義は、上述した通りである。
【0061】
Ｑａは、単結合又は２価の連結基である。
２価の連結基としては、例えば、２価の炭化水素基、２価の複素環基、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＳＯ２－、－Ｎ（Ｒｄ）－、－Ｃ（Ｏ）－、－Ｓｉ（Ｒａ）２－及び、これらを２種以上組み合わせた基が挙げられる。
上記２価の炭化水素基としては、２価の飽和炭化水素基、２価の芳香族炭化水素基、アルケニレン基、アルキニレン基であってもよい。２価の飽和炭化水素基は、直鎖状、分岐鎖状又は環状であってもよく、例えば、アルキレン基が挙げられる。その炭素数は、１～２０が好ましい。また、２価の芳香族炭化水素基としては、炭素数５～２０のものが好ましく、例えば、フェニレン基が挙げられる。それ以外にも、炭素数２～２０のアルケニレン基、炭素数２～２０のアルキニレン基であってもよい。
上記Ｒａは、アルキル基（好ましくは炭素数１～１０）、又は、フェニル基である。上記Ｒｄは、水素原子又はアルキル基（好ましくは炭素数１～１０）である。
なお、上記これらを２種以上組み合わせた基としては、例えば、－ＯＣ（Ｏ）－、－Ｃ（Ｏ）Ｏ－、－Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒｄ）－、－Ｎ（Ｒｄ）Ｃ（Ｏ）－、－Ｎ（Ｒｄ）Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒｄ）－、－Ｎ（Ｒｄ）Ｃ（Ｏ）Ｏ－、－ＯＣ（Ｏ）Ｎ（Ｒｄ）－、－ＳＯ２Ｎ（Ｒｄ）－、－Ｎ（Ｒｄ）ＳＯ２－、－Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒｄ）－を有するアルキレン基、－Ｎ（Ｒｄ）Ｃ（Ｏ）－を有するアルキレン基、エーテル性酸素原子を有するアルキレン基、－ＯＣ（Ｏ）－を有するアルキレン基、－Ｃ（Ｏ）Ｏ－を有するアルキレン基、－ＳＯ２Ｎ（Ｒｄ）－を有するアルキレン基、アルキレン基－Ｓｉ（Ｒａ）２－フェニレン基－Ｓｉ（Ｒａ）２が挙げられる。
２価の連結基としては、例えば、２価の炭化水素基、２価の複素環基、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＳＯ２－、－Ｎ（Ｒｄ）－、－Ｃ（Ｏ）－、－Ｓｉ（Ｒａ）２－及び、これらを２種以上組み合わせた基が挙げられる。
上記２価の炭化水素基としては、２価の飽和炭化水素基、２価の芳香族炭化水素基、アルケニレン基、アルキニレン基であってもよい。２価の飽和炭化水素基は、直鎖状、分岐鎖状又は環状であってもよく、例えば、アルキレン基が挙げられる。その炭素数は、１～２０が好ましい。また、２価の芳香族炭化水素基としては、炭素数５～２０のものが好ましく、例えば、フェニレン基が挙げられる。それ以外にも、炭素数２～２０のアルケニレン基、炭素数２～２０のアルキニレン基であってもよい。
上記Ｒａは、アルキル基（好ましくは炭素数１～１０）、又は、フェニル基である。上記Ｒｄは、水素原子又はアルキル基（好ましくは炭素数１～１０）である。
なお、上記これらを２種以上組み合わせた基としては、例えば、－ＯＣ（Ｏ）－、－Ｃ（Ｏ）Ｏ－、－Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒｄ）－、－Ｎ（Ｒｄ）Ｃ（Ｏ）－、－Ｎ（Ｒｄ）Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒｄ）－、－Ｎ（Ｒｄ）Ｃ（Ｏ）Ｏ－、－ＯＣ（Ｏ）Ｎ（Ｒｄ）－、－ＳＯ２Ｎ（Ｒｄ）－、－Ｎ（Ｒｄ）ＳＯ２－、－Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒｄ）－を有するアルキレン基、－Ｎ（Ｒｄ）Ｃ（Ｏ）－を有するアルキレン基、エーテル性酸素原子を有するアルキレン基、－ＯＣ（Ｏ）－を有するアルキレン基、－Ｃ（Ｏ）Ｏ－を有するアルキレン基、－ＳＯ２Ｎ（Ｒｄ）－を有するアルキレン基、アルキレン基－Ｓｉ（Ｒａ）２－フェニレン基－Ｓｉ（Ｒａ）２が挙げられる。
【0062】
Ｘ３１は、単結合、アルキレン基、炭素原子、窒素原子、ケイ素原子、２～８価のオルガノポリシロキサン残基、又は（ｈ＋ｉ＋１）価の環を有する基である。
なお、上記アルキレン基は、－Ｏ－、シルフェニレン骨格基、２価のオルガノポリシロキサン残基又はジアルキルシリレン基を有していてもよい。アルキレン基は、－Ｏ－、シルフェニレン骨格基、２価のオルガノポリシロキサン残基及びジアルキルシリレン基からなる群から選択される基を複数有していてもよい。
Ｘ３１で表されるアルキレン基の炭素数は、１～２０が好ましく、１～１０が特に好ましい。
２～８価のオルガノポリシロキサン残基としては、２価のオルガノポリシロキサン残基、及び、後述する（ｗ２＋１）価のオルガノポリシロキサン残基が挙げられる。
式（３－１Ａ）中、Ｘ３１が（ｈ＋ｉ＋１）価の環を有する基である場合、Ｑａ、（－Ｑｂ－Ｓｉ（Ｒ）ｎＬ３－ｎ）及びＲ３１は、該環を構成する原子に直接結合している。ただし、該環はオルガノポリシロキサン環以外の環である。
Ｘ３１における環は、単環、縮合多環、橋かけ環、スピロ環及び集合多環のいずれであってもよく、環を構成する原子は、炭素原子のみからなる炭素環でもよく、２価以上の原子価を有するヘテロ原子と炭素原子とからなるヘテロ環でもよい。また、環を構成する原子間の結合は、単結合であってもよく、多重結合であってもよい。さらに、環は芳香族性の環であってもよく、非芳香族性の環であってもよい。
単環としては、４員環～８員環が好ましく、５員環及び６員環がより好ましい。縮合多環としては、４員環～８員環の２以上が縮合した縮合多環が好ましく、５員環及び６員環から選ばれる環の２又は３個結合した縮合多環、及び、５員環及び６員環から選ばれる環の１又は２個と４員環１個が結合した縮合多環がより好ましい。橋かけ環としては、５員環又は６員環を最大の環とする橋かけ環が好ましく、スピロ環としては、４員環～６員環の２つからなるスピロ環が好ましい。集合多環としては、５員環及び６員環から選ばれる環の２又は３個が単結合、炭素原子の１～３個、又は原子価が２又は３のヘテロ原子１個を介して結合した集合多環が好ましい。なお、集合多環においては、各環にＱａ、（－Ｑｂ－Ｓｉ（Ｒ）ｎＬ３－ｎ）及びＲ３１（ｉ＝１以上の場合）のいずれかが結合していることが好ましい。
上記環を構成するヘテロ原子としては、窒素原子、酸素原子及びイオウ原子が好ましく、窒素原子及び酸素原子がより好ましい。環を構成するヘテロ原子の数は３個以下が好ましい。また、環を構成するヘテロ原子の数が２個以上の場合、それらのヘテロ原子は異なっていてもよい。
なお、上記アルキレン基は、－Ｏ－、シルフェニレン骨格基、２価のオルガノポリシロキサン残基又はジアルキルシリレン基を有していてもよい。アルキレン基は、－Ｏ－、シルフェニレン骨格基、２価のオルガノポリシロキサン残基及びジアルキルシリレン基からなる群から選択される基を複数有していてもよい。
Ｘ３１で表されるアルキレン基の炭素数は、１～２０が好ましく、１～１０が特に好ましい。
２～８価のオルガノポリシロキサン残基としては、２価のオルガノポリシロキサン残基、及び、後述する（ｗ２＋１）価のオルガノポリシロキサン残基が挙げられる。
式（３－１Ａ）中、Ｘ３１が（ｈ＋ｉ＋１）価の環を有する基である場合、Ｑａ、（－Ｑｂ－Ｓｉ（Ｒ）ｎＬ３－ｎ）及びＲ３１は、該環を構成する原子に直接結合している。ただし、該環はオルガノポリシロキサン環以外の環である。
Ｘ３１における環は、単環、縮合多環、橋かけ環、スピロ環及び集合多環のいずれであってもよく、環を構成する原子は、炭素原子のみからなる炭素環でもよく、２価以上の原子価を有するヘテロ原子と炭素原子とからなるヘテロ環でもよい。また、環を構成する原子間の結合は、単結合であってもよく、多重結合であってもよい。さらに、環は芳香族性の環であってもよく、非芳香族性の環であってもよい。
単環としては、４員環～８員環が好ましく、５員環及び６員環がより好ましい。縮合多環としては、４員環～８員環の２以上が縮合した縮合多環が好ましく、５員環及び６員環から選ばれる環の２又は３個結合した縮合多環、及び、５員環及び６員環から選ばれる環の１又は２個と４員環１個が結合した縮合多環がより好ましい。橋かけ環としては、５員環又は６員環を最大の環とする橋かけ環が好ましく、スピロ環としては、４員環～６員環の２つからなるスピロ環が好ましい。集合多環としては、５員環及び６員環から選ばれる環の２又は３個が単結合、炭素原子の１～３個、又は原子価が２又は３のヘテロ原子１個を介して結合した集合多環が好ましい。なお、集合多環においては、各環にＱａ、（－Ｑｂ－Ｓｉ（Ｒ）ｎＬ３－ｎ）及びＲ３１（ｉ＝１以上の場合）のいずれかが結合していることが好ましい。
上記環を構成するヘテロ原子としては、窒素原子、酸素原子及びイオウ原子が好ましく、窒素原子及び酸素原子がより好ましい。環を構成するヘテロ原子の数は３個以下が好ましい。また、環を構成するヘテロ原子の数が２個以上の場合、それらのヘテロ原子は異なっていてもよい。
【0063】
Ｘ３１における環としては、化合物が製造しやすく、表面処理層の耐摩擦性がさらに優れる点から、３～８員環の脂肪族環、ベンゼン環、３～８員環のヘテロ環、これらの環のうちの２又は３個が縮合した縮合多環、５員環又は６員環を最大の環とする橋かけ環、及び、これらの環のうちの２つ以上を有し、連結基が単結合、炭素数３以下のアルキレン基、酸素原子又は硫黄原子である集合多環からなる群から選ばれる１種が好ましい。
好ましい環は、ベンゼン環、５員又は６員の脂肪族環、窒素原子又は酸素原子を有する５員又は６員のヘテロ環、及び、５員又は６員の炭素環と４～６員のヘテロ環との縮合多環である。
具体的な環としては、以下に示す環と、１，３－シクロヘキサジエン環、１，４－シクロヘキサジエン環、アントラセン環、シクロプロパン環、デカヒドロナフタレン環、ノルボルネン環、ノルボルナジエン環、フラン環、ピロール環、チオフェン環、ピラジン環、モルホリン環、アジリジン環、イソキノリン環、オキサゾール環、イソオキサゾール環、チアゾール環、イミダゾール環、ピラゾール環、ピラン環、ピリダジン環、ピリミジン環、及びインデン環が挙げられる。なお、以下には、オキソ基（＝Ｏ）を有する環も示す。
好ましい環は、ベンゼン環、５員又は６員の脂肪族環、窒素原子又は酸素原子を有する５員又は６員のヘテロ環、及び、５員又は６員の炭素環と４～６員のヘテロ環との縮合多環である。
具体的な環としては、以下に示す環と、１，３－シクロヘキサジエン環、１，４－シクロヘキサジエン環、アントラセン環、シクロプロパン環、デカヒドロナフタレン環、ノルボルネン環、ノルボルナジエン環、フラン環、ピロール環、チオフェン環、ピラジン環、モルホリン環、アジリジン環、イソキノリン環、オキサゾール環、イソオキサゾール環、チアゾール環、イミダゾール環、ピラゾール環、ピラン環、ピリダジン環、ピリミジン環、及びインデン環が挙げられる。なお、以下には、オキソ基（＝Ｏ）を有する環も示す。
【0064】
【化1】
【0065】
Ｘ３１における環を構成する原子の環を構成しない結合手は、Ｑａ、（－Ｑｂ－Ｓｉ（Ｒ）ｎＬ３－ｎ）又はＲ３１に結合する結合手である。残余の結合手がある場合には、残余の結合手は、水素原子又は置換基に結合している。該置換基としては、ハロゲン原子、アルキル基（炭素原子－炭素原子間にエーテル性酸素原子を含んでいてもよい。）、シクロアルキル基、アルケニル基、アリル基、アルコキシ基、オキソ基（＝Ｏ）等が挙げられる。
また、環を構成する炭素原子の１個が、Ｑａ、（－Ｑｂ－Ｓｉ（Ｒ）ｎＬ３－ｎ）又はＲ３１に結合する結合手を２つ有する場合、その１個の炭素原子にＱａと（－Ｑｂ－Ｓｉ（Ｒ）ｎＬ３－ｎ）とが結合していてもよく、２つの（－Ｑｂ－Ｓｉ（Ｒ）ｎＬ３－ｎ）が結合していてもよい。Ｑａと、（－Ｑｂ－Ｓｉ（Ｒ）ｎＬ３－ｎ）又はＲ３１とは別の環構成原子に結合していることが好ましい。ｈ個の（－Ｑｂ－Ｓｉ（Ｒ）ｎＬ３－ｎ）はそれぞれ別個の環構成原子に結合してもよく、そのうちの２個は１個の環構成炭素原子に結合してもよく、さらに２個の（－Ｑｂ－Ｓｉ（Ｒ）ｎＬ３－ｎ）が結合した環構成炭素原子は２個以上存在してもよい。ｉ個のＲ３１はそれぞれ別個の環構成原子に結合してもよく、そのうちの２個は１個の環構成炭素原子に結合してもよく、さらに２個のＲ３１が結合した環構成炭素原子は２個以上存在してもよい。
また、環を構成する炭素原子の１個が、Ｑａ、（－Ｑｂ－Ｓｉ（Ｒ）ｎＬ３－ｎ）又はＲ３１に結合する結合手を２つ有する場合、その１個の炭素原子にＱａと（－Ｑｂ－Ｓｉ（Ｒ）ｎＬ３－ｎ）とが結合していてもよく、２つの（－Ｑｂ－Ｓｉ（Ｒ）ｎＬ３－ｎ）が結合していてもよい。Ｑａと、（－Ｑｂ－Ｓｉ（Ｒ）ｎＬ３－ｎ）又はＲ３１とは別の環構成原子に結合していることが好ましい。ｈ個の（－Ｑｂ－Ｓｉ（Ｒ）ｎＬ３－ｎ）はそれぞれ別個の環構成原子に結合してもよく、そのうちの２個は１個の環構成炭素原子に結合してもよく、さらに２個の（－Ｑｂ－Ｓｉ（Ｒ）ｎＬ３－ｎ）が結合した環構成炭素原子は２個以上存在してもよい。ｉ個のＲ３１はそれぞれ別個の環構成原子に結合してもよく、そのうちの２個は１個の環構成炭素原子に結合してもよく、さらに２個のＲ３１が結合した環構成炭素原子は２個以上存在してもよい。
【0066】
Ｑｂは、単結合又は２価の連結基である。
２価の連結基の定義は、上述したＱａで説明した定義と同義である。
２価の連結基の定義は、上述したＱａで説明した定義と同義である。
【0067】
Ｒ３１は、水素原子、水酸基又はアルキル基である。
アルキル基の炭素数は、１～５が好ましく、１～３がより好ましく、１が特に好ましい。
アルキル基の炭素数は、１～５が好ましく、１～３がより好ましく、１が特に好ましい。
【0068】
Ｘ３１が単結合又はアルキレン基の場合、ｈは１、ｉは０であり、
Ｘ３１が窒素原子の場合、ｈは１～２の整数であり、ｉは０～１の整数であり、ｈ＋ｉ＝２を満たし、
Ｘ３１が炭素原子又はケイ素原子の場合、ｈは１～３の整数であり、ｉは０～２の整数であり、ｈ＋ｉ＝３を満たし、
Ｘ３１が２～８価のオルガノポリシロキサン残基の場合、ｈは１～７の整数であり、ｉは０～６の整数であり、ｈ＋ｉ＝１～７を満たす。
Ｘ３１が（ｈ＋ｉ＋１）価の環を有する基の場合、ｈは１～７の整数であり、ｉは０～６の整数であり、ｈ＋ｉ＝１～７を満たす。
（－Ｑｂ－Ｓｉ（Ｒ）ｎＬ３－ｎ）が２個以上ある場合は、２個以上の（－Ｑｂ－Ｓｉ（Ｒ）ｎＬ３－ｎ）は、同一であっても異なっていてもよい。Ｒ３１が２個以上ある場合は、２個以上の（－Ｒ３１）は、同一であっても異なっていてもよい。
Ｘ３１が窒素原子の場合、ｈは１～２の整数であり、ｉは０～１の整数であり、ｈ＋ｉ＝２を満たし、
Ｘ３１が炭素原子又はケイ素原子の場合、ｈは１～３の整数であり、ｉは０～２の整数であり、ｈ＋ｉ＝３を満たし、
Ｘ３１が２～８価のオルガノポリシロキサン残基の場合、ｈは１～７の整数であり、ｉは０～６の整数であり、ｈ＋ｉ＝１～７を満たす。
Ｘ３１が（ｈ＋ｉ＋１）価の環を有する基の場合、ｈは１～７の整数であり、ｉは０～６の整数であり、ｈ＋ｉ＝１～７を満たす。
（－Ｑｂ－Ｓｉ（Ｒ）ｎＬ３－ｎ）が２個以上ある場合は、２個以上の（－Ｑｂ－Ｓｉ（Ｒ）ｎＬ３－ｎ）は、同一であっても異なっていてもよい。Ｒ３１が２個以上ある場合は、２個以上の（－Ｒ３１）は、同一であっても異なっていてもよい。
【0069】
Ｑｃは、単結合又は２価の連結基である。
２価の連結基の定義は、上述したＱａで説明した定義と同義である。
エーテル性酸素原子を有していてもよいアルキレン基の炭素数は、１～１０が好ましく、２～６が特に好ましい。
２価の連結基の定義は、上述したＱａで説明した定義と同義である。
エーテル性酸素原子を有していてもよいアルキレン基の炭素数は、１～１０が好ましく、２～６が特に好ましい。
【0070】
Ｒ３２は、水素原子又は炭素数１～１０のアルキル基であり、化合物を製造しやすい点から、水素原子であることが好ましい。
アルキル基としては、メチル基が好ましい。
アルキル基としては、メチル基が好ましい。
【0071】
Ｑｄは、単結合又はアルキレン基である。アルキレン基の炭素数は、１～１０が好ましく、１～６が特に好ましい。化合物を製造しやすい点から、Ｑｄは、単結合又はＣＨ２－であることが好ましい。
【0072】
Ｒ３３は、水素原子又はハロゲン原子であり、化合物を製造しやすい点から、水素原子であることが好ましい。
【0073】
ｙは、１～１０の整数であり、１～６の整数であることが好ましい。
２個以上の［ＣＨ２Ｃ（Ｒ３２）（－Ｑｄ－Ｓｉ（Ｒ）ｎＬ３－ｎ）］は、同一であっても異なっていてもよい。
２個以上の［ＣＨ２Ｃ（Ｒ３２）（－Ｑｄ－Ｓｉ（Ｒ）ｎＬ３－ｎ）］は、同一であっても異なっていてもよい。
【0074】
基（３－１Ａ）としては、基（３－１Ａ－１）～（３－１Ａ－７）が好ましい。
－（Ｘ３２）ｓ１－Ｑｂ１－Ｓｉ（Ｒ）ｎＬ３－ｎ …（３－１Ａ－１）
－（Ｘ３３）ｓ２－Ｑａ２－Ｎ［－Ｑｂ２－Ｓｉ（Ｒ）ｎＬ３－ｎ］２ …（３－１Ａ－２）
－Ｑａ３－Ｓｉ（Ｒｇ）［－Ｑｂ３－Ｓｉ（Ｒ）ｎＬ３－ｎ］２ …（３－１Ａ－３）
－［Ｑｅ］ｓ４－Ｑａ４－（Ｏ）ｔ４－Ｃ［－（Ｏ）ｕ４－Ｑｂ４－Ｓｉ（Ｒ）ｎＬ３－ｎ］３－ｗ１（－Ｒ３１）ｗ１ …（３－１Ａ－４）
－Ｑａ５－Ｓｉ［－Ｑｂ５－Ｓｉ（Ｒ）ｎＬ３－ｎ］３ …（３－１Ａ－５）
－［Ｑｅ］ｖ－Ｑａ６－Ｚａ［－Ｑｂ６－Ｓｉ（Ｒ）ｎＬ３－ｎ］ｗ２ …（３－１Ａ－６）
－［Ｑｅ］ｓ４－Ｑａ４－（Ｏ）ｔ４－Ｚｃ［－（Ｏ－Ｑｂ４）ｕ４－Ｓｉ（Ｒ）ｎＬ３－ｎ］ｗ３（－ＯＨ）ｗ４ …（３－１Ａ－７）
なお、式（３－１Ａ－１）～（３－１Ａ－７）中、Ｒ、Ｌ、及び、ｎの定義は、上述した通りである。
－（Ｘ３２）ｓ１－Ｑｂ１－Ｓｉ（Ｒ）ｎＬ３－ｎ …（３－１Ａ－１）
－（Ｘ３３）ｓ２－Ｑａ２－Ｎ［－Ｑｂ２－Ｓｉ（Ｒ）ｎＬ３－ｎ］２ …（３－１Ａ－２）
－Ｑａ３－Ｓｉ（Ｒｇ）［－Ｑｂ３－Ｓｉ（Ｒ）ｎＬ３－ｎ］２ …（３－１Ａ－３）
－［Ｑｅ］ｓ４－Ｑａ４－（Ｏ）ｔ４－Ｃ［－（Ｏ）ｕ４－Ｑｂ４－Ｓｉ（Ｒ）ｎＬ３－ｎ］３－ｗ１（－Ｒ３１）ｗ１ …（３－１Ａ－４）
－Ｑａ５－Ｓｉ［－Ｑｂ５－Ｓｉ（Ｒ）ｎＬ３－ｎ］３ …（３－１Ａ－５）
－［Ｑｅ］ｖ－Ｑａ６－Ｚａ［－Ｑｂ６－Ｓｉ（Ｒ）ｎＬ３－ｎ］ｗ２ …（３－１Ａ－６）
－［Ｑｅ］ｓ４－Ｑａ４－（Ｏ）ｔ４－Ｚｃ［－（Ｏ－Ｑｂ４）ｕ４－Ｓｉ（Ｒ）ｎＬ３－ｎ］ｗ３（－ＯＨ）ｗ４ …（３－１Ａ－７）
なお、式（３－１Ａ－１）～（３－１Ａ－７）中、Ｒ、Ｌ、及び、ｎの定義は、上述した通りである。
【0075】
基（３－１Ａ－１）において、Ｘ３２は、－Ｏ－、－Ｃ（Ｏ）Ｏ－、－ＳＯ２Ｎ（Ｒｄ）－、－Ｎ（Ｒｄ）ＳＯ２－、－Ｎ（Ｒｄ）Ｃ（Ｏ）－、又は、－Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒｄ）－である（ただし、式中のＮはＱｂ１に結合する）。
Ｒｄの定義は、上述した通りである。
ｓ１は、０又は１である。
Ｒｄの定義は、上述した通りである。
ｓ１は、０又は１である。
【0076】
Ｑｂ１は、アルキレン基である。なお、アルキレン基は、－Ｏ－、シルフェニレン骨格基、２価のオルガノポリシロキサン残基又はジアルキルシリレン基を有していてもよい。アルキレン基は、－Ｏ－、シルフェニレン骨格基、２価のオルガノポリシロキサン残基及びジアルキルシリレン基からなる群から選択される基を複数有していてもよい。
なお、アルキレン基が－Ｏ－、シルフェニレン骨格基、２価のオルガノポリシロキサン残基又はジアルキルシリレン基を有する場合、炭素原子－炭素原子間にこれらの基を有することが好ましい。
Ｑｂ１で表されるアルキレン基の炭素数は、１～１０が好ましく、２～６が特に好ましい。
なお、アルキレン基が－Ｏ－、シルフェニレン骨格基、２価のオルガノポリシロキサン残基又はジアルキルシリレン基を有する場合、炭素原子－炭素原子間にこれらの基を有することが好ましい。
Ｑｂ１で表されるアルキレン基の炭素数は、１～１０が好ましく、２～６が特に好ましい。
【0077】
Ｑｂ１としては、ｓ１が０の場合は、－ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２－、－ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２－、－ＣＨ２ＣＨ２－、－ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２－、－ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＣＨ３）２ＯＳｉ（ＣＨ３）２ＣＨ２ＣＨ２－が好ましい。（Ｘ３２）ｓ１が－Ｏ－の場合は、－ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２－、－ＣＨ２ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２－が好ましい。（Ｘ３２）ｓ１が－Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒｄ）－の場合は、炭素数２～６のアルキレン基が好ましい（ただし、式中のＮはＱｂ１に結合する）。Ｑｂ１がこれらの基であると化合物が製造しやすい。
【0078】
基（３－１Ａ－１）の具体例としては、以下の基が挙げられる。下記式中、＊は、（ＯＸ）ｍとの結合位置を表す。
【化2】
【0079】
基（３－１Ａ－２）において、Ｘ３３は、－Ｏ－、－ＮＨ－、－Ｃ（Ｏ）Ｏ－、－ＯＣ（Ｏ）－、－ＳＯ２Ｎ（Ｒｄ）－、－Ｎ（Ｒｄ）ＳＯ２－、－Ｎ（Ｒｄ）Ｃ（Ｏ）－、－ＯＣ（Ｏ）Ｎ（Ｒｄ）－、又は、－Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒｄ）－である。
Ｒｄの定義は、上述した通りである。
Ｒｄの定義は、上述した通りである。
【0080】
Ｑａ２は、単結合、アルキレン基、－Ｃ（Ｏ）－、又は、炭素数２以上のアルキレン基の炭素原子－炭素原子間にエーテル性酸素原子、－Ｃ（Ｏ）－、－Ｃ（Ｏ）Ｏ－、－ＯＣ（Ｏ）－、－Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒｄ）－、－Ｎ（Ｒｄ）Ｃ（Ｏ）－、－Ｎ（Ｒｄ）Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒｄ）－、－Ｎ（Ｒｄ）Ｃ（Ｏ）Ｏ－、－ＯＣ（Ｏ）Ｎ（Ｒｄ）－、－ＳＯ２Ｎ（Ｒｄ）－、－Ｎ（Ｒｄ）ＳＯ２－、－Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒｄ）－、もしくは－ＮＨ－を有する基である。
Ｑａ２で表されるアルキレン基の炭素数は、１～１０が好ましく、１～６が特に好ましい。
Ｑａ２で表される炭素数２以上のアルキレン基の炭素原子－炭素原子間にエーテル性酸素原子、－Ｃ（Ｏ）－、－Ｃ（Ｏ）Ｏ－、－ＯＣ（Ｏ）－、－Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒｄ）－、－Ｎ（Ｒｄ）Ｃ（Ｏ）－、－Ｎ（Ｒｄ）Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒｄ）－、－Ｎ（Ｒｄ）Ｃ（Ｏ）Ｏ－、－ＯＣ（Ｏ）Ｎ（Ｒｄ）－、－ＳＯ２Ｎ（Ｒｄ）－、－Ｎ（Ｒｄ）ＳＯ２－、－Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒｄ）－、又は－ＮＨ－を有する基の炭素数は、２～１０が好ましく、２～６が特に好ましい。
Ｑａ２で表されるアルキレン基の炭素数は、１～１０が好ましく、１～６が特に好ましい。
Ｑａ２で表される炭素数２以上のアルキレン基の炭素原子－炭素原子間にエーテル性酸素原子、－Ｃ（Ｏ）－、－Ｃ（Ｏ）Ｏ－、－ＯＣ（Ｏ）－、－Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒｄ）－、－Ｎ（Ｒｄ）Ｃ（Ｏ）－、－Ｎ（Ｒｄ）Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒｄ）－、－Ｎ（Ｒｄ）Ｃ（Ｏ）Ｏ－、－ＯＣ（Ｏ）Ｎ（Ｒｄ）－、－ＳＯ２Ｎ（Ｒｄ）－、－Ｎ（Ｒｄ）ＳＯ２－、－Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒｄ）－、又は－ＮＨ－を有する基の炭素数は、２～１０が好ましく、２～６が特に好ましい。
【0081】
Ｑａ２は、化合物を製造しやすい点から、－ＣＨ２－、－ＣＨ２ＣＨ２－、－ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２－、－ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２－、－ＣＨ２ＮＨＣＨ２ＣＨ２－、－ＣＨ２ＯＣ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２－、又は－Ｃ（Ｏ）－が好ましい。
【0082】
ｓ２は、０又は１（ただし、Ｑａ２が単結合の場合は０である。）である。化合物を製造しやすい点から、０が好ましい。
【0083】
Ｑｂ２は、アルキレン基、又は、炭素数２以上のアルキレン基の炭素原子－炭素原子間に、２価のオルガノポリシロキサン残基、エーテル性酸素原子もしくは－ＮＨ－を有する基である。
Ｑｂ２で表されるアルキレン基の炭素数は、１～１０が好ましく、２～６が特に好ましい。
Ｑｂ２で表される炭素数２以上のアルキレン基の炭素原子－炭素原子間に、２価のオルガノポリシロキサン残基、エーテル性酸素原子又は－ＮＨ－を有する基の炭素数は、２～１０が好ましく、２～６が特に好ましい。
Ｑｂ２で表されるアルキレン基の炭素数は、１～１０が好ましく、２～６が特に好ましい。
Ｑｂ２で表される炭素数２以上のアルキレン基の炭素原子－炭素原子間に、２価のオルガノポリシロキサン残基、エーテル性酸素原子又は－ＮＨ－を有する基の炭素数は、２～１０が好ましく、２～６が特に好ましい。
【0084】
Ｑｂ２としては、化合物を製造しやすい点から、－ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２－、－ＣＨ２ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２－が好ましい（ただし、右側がＳｉに結合する。）。
【0085】
２個の［－Ｑｂ２－Ｓｉ（Ｒ）ｎＬ３－ｎ］は、同一であっても異なっていてもよい。
【0086】
基（３－１Ａ－２）の具体例としては、以下の基が挙げられる。下記式中、＊は、（ＯＸ）ｍとの結合位置を表す。
【化3】
【0087】
基（３－１Ａ－３）において、Ｑａ３は、単結合、又は、エーテル性酸素原子を有していてもよいアルキレン基であり、化合物を製造しやすい点から、単結合が好ましい。
エーテル性酸素原子を有していてもよいアルキレン基の炭素数は、１～１０が好ましく、２～６が特に好ましい。
エーテル性酸素原子を有していてもよいアルキレン基の炭素数は、１～１０が好ましく、２～６が特に好ましい。
【0088】
Ｒｇは、水素原子、水酸基又はアルキル基である。Ｒｇで表されるアルキル基の炭素数は、１～４が好ましい。
【0089】
Ｑｂ３は、アルキレン基、又は、炭素数２以上のアルキレン基の炭素原子－炭素原子間にエーテル性酸素原子もしくは２価のオルガノポリシロキサン残基を有する基である。
Ｑｂ３で表されるアルキレン基の炭素数は、１～１０が好ましく、２～６が特に好ましい。
Ｑｂ３で表される炭素数２以上のアルキレン基の炭素原子－炭素原子間にエーテル性酸素原子又は２価のオルガノポリシロキサン残基を有する基の炭素数は、２～１０が好ましく、２～６が特に好ましい。
Ｑｂ３は、化合物を製造しやすい点から、－ＣＨ２ＣＨ２－、－ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２－、又は－ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２－が好ましい。
Ｑｂ３で表されるアルキレン基の炭素数は、１～１０が好ましく、２～６が特に好ましい。
Ｑｂ３で表される炭素数２以上のアルキレン基の炭素原子－炭素原子間にエーテル性酸素原子又は２価のオルガノポリシロキサン残基を有する基の炭素数は、２～１０が好ましく、２～６が特に好ましい。
Ｑｂ３は、化合物を製造しやすい点から、－ＣＨ２ＣＨ２－、－ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２－、又は－ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２－が好ましい。
【0090】
２個の［－Ｑｂ３－Ｓｉ（Ｒ）ｎＬ３－ｎ］は、同一であっても異なっていてもよい。
【0091】
基（３－１Ａ－３）の具体例としては、以下の基が挙げられる。下記式中、＊は、（ＯＸ）ｍとの結合位置を表す。
【化4】
【0092】
基（３－１Ａ－４）において、Ｑｅは、－Ｃ（Ｏ）Ｏ－、－ＯＣ（Ｏ）－、－ＳＯ２Ｎ（Ｒｄ）－、－Ｎ（Ｒｄ）ＳＯ２－、－Ｎ（Ｒｄ）Ｃ（Ｏ）－、－ＯＣ（Ｏ）Ｎ（Ｒｄ）－、又は、－Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒｄ）－である。
Ｒ３１の定義は、上述した通りである。
ｓ４は、０又は１である。
Ｑａ４は、単結合、又は、エーテル性酸素原子を有していてもよいアルキレン基である。
エーテル性酸素原子を有していてもよいアルキレン基の炭素数は、１～１０が好ましく、２～６が特に好ましい。
ｔ４は、０又は１（ただし、Ｑａ４が単結合の場合は０である。）である。
－Ｑａ４－（Ｏ）ｔ４－としては、化合物を製造しやすい点から、ｓ４が０の場合は、単結合、－ＣＨ２Ｏ－、－ＣＨ２ＯＣＨ２－、－ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２Ｏ－、－ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＯＣＨ２－、－ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＯＣＨ２－が好ましく（ただし、左側が（ＯＸ）ｍに結合する。）、ｓ４が１の場合は、単結合、－ＣＨ２－、－ＣＨ２ＣＨ２－が好ましい。
Ｒ３１の定義は、上述した通りである。
ｓ４は、０又は１である。
Ｑａ４は、単結合、又は、エーテル性酸素原子を有していてもよいアルキレン基である。
エーテル性酸素原子を有していてもよいアルキレン基の炭素数は、１～１０が好ましく、２～６が特に好ましい。
ｔ４は、０又は１（ただし、Ｑａ４が単結合の場合は０である。）である。
－Ｑａ４－（Ｏ）ｔ４－としては、化合物を製造しやすい点から、ｓ４が０の場合は、単結合、－ＣＨ２Ｏ－、－ＣＨ２ＯＣＨ２－、－ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２Ｏ－、－ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＯＣＨ２－、－ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＯＣＨ２－が好ましく（ただし、左側が（ＯＸ）ｍに結合する。）、ｓ４が１の場合は、単結合、－ＣＨ２－、－ＣＨ２ＣＨ２－が好ましい。
【0093】
Ｑｂ４は、アルキレン基であり、上記アルキレン基は－Ｏ－、－Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒｄ）－（Ｒｄの定義は、上述した通りである。）、シルフェニレン骨格基、２価のオルガノポリシロキサン残基又はジアルキルシリレン基を有していてもよい。
なお、アルキレン基が－Ｏ－又はシルフェニレン骨格基を有する場合、炭素原子－炭素原子間に－Ｏ－又はシルフェニレン骨格基を有することが好ましい。また、アルキレン基が－Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒｄ）－、ジアルキルシリレン基又は２価のオルガノポリシロキサン残基を有する場合、炭素原子－炭素原子間又は（Ｏ）ｕ４と結合する側の末端にこれらの基を有することが好ましい。
Ｑｂ４で表されるアルキレン基の炭素数は、１～１０が好ましく、２～６が特に好ましい。
なお、アルキレン基が－Ｏ－又はシルフェニレン骨格基を有する場合、炭素原子－炭素原子間に－Ｏ－又はシルフェニレン骨格基を有することが好ましい。また、アルキレン基が－Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒｄ）－、ジアルキルシリレン基又は２価のオルガノポリシロキサン残基を有する場合、炭素原子－炭素原子間又は（Ｏ）ｕ４と結合する側の末端にこれらの基を有することが好ましい。
Ｑｂ４で表されるアルキレン基の炭素数は、１～１０が好ましく、２～６が特に好ましい。
【0094】
ｕ４は、０又は１である。
－（Ｏ）ｕ４－Ｑｂ４－としては、化合物を製造しやすい点から、－ＣＨ２ＣＨ２－、－ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２－、－ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２－、－ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２－、－ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２－、－ＯＳｉ（ＣＨ３）２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２－、－ＯＳｉ（ＣＨ３）２ＯＳｉ（ＣＨ３）２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２－、－ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＣＨ３）２ＰｈＳｉ（ＣＨ３）２ＣＨ２ＣＨ２－が好ましい（ただし、右側がＳｉに結合する。）。
－（Ｏ）ｕ４－Ｑｂ４－としては、化合物を製造しやすい点から、－ＣＨ２ＣＨ２－、－ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２－、－ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２－、－ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２－、－ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２－、－ＯＳｉ（ＣＨ３）２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２－、－ＯＳｉ（ＣＨ３）２ＯＳｉ（ＣＨ３）２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２－、－ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＣＨ３）２ＰｈＳｉ（ＣＨ３）２ＣＨ２ＣＨ２－が好ましい（ただし、右側がＳｉに結合する。）。
【0095】
ｗ１は、０～２の整数であり、０又は１が好ましく、０が特に好ましい。
［－（Ｏ）ｕ４－Ｑｂ４－Ｓｉ（Ｒ）ｎＬ３－ｎ］が２個以上ある場合は、２個以上の［－（Ｏ）ｕ４－Ｑｂ４－Ｓｉ（Ｒ）ｎＬ３－ｎ］は、同一であっても異なっていてもよい。
Ｒ３１が２個以上ある場合は、２個以上の（－Ｒ３１）は、同一であっても異なっていてもよい。
［－（Ｏ）ｕ４－Ｑｂ４－Ｓｉ（Ｒ）ｎＬ３－ｎ］が２個以上ある場合は、２個以上の［－（Ｏ）ｕ４－Ｑｂ４－Ｓｉ（Ｒ）ｎＬ３－ｎ］は、同一であっても異なっていてもよい。
Ｒ３１が２個以上ある場合は、２個以上の（－Ｒ３１）は、同一であっても異なっていてもよい。
【0096】
基（３－１Ａ－４）の具体例としては、以下の基が挙げられる。下記式中、＊は、（ＯＸ）ｍとの結合位置を表す。
【化5】
【化6】
【0097】
基（３－１Ａ－５）において、Ｑａ５は、エーテル性酸素原子を有していてもよいアルキレン基である。
エーテル性酸素原子を有していてもよいアルキレン基の炭素数は、１～１０が好ましく、２～６が特に好ましい。
Ｑａ５としては、化合物を製造しやすい点から、－ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２－、－ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２－、－ＣＨ２ＣＨ２－、－ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２－が好ましい（ただし、右側がＳｉに結合する。）。
エーテル性酸素原子を有していてもよいアルキレン基の炭素数は、１～１０が好ましく、２～６が特に好ましい。
Ｑａ５としては、化合物を製造しやすい点から、－ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２－、－ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２－、－ＣＨ２ＣＨ２－、－ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２－が好ましい（ただし、右側がＳｉに結合する。）。
【0098】
Ｑｂ５は、アルキレン基、又は、炭素数２以上のアルキレン基の炭素原子－炭素原子間にエーテル性酸素原子もしくは２価のオルガノポリシロキサン残基を有する基である。
Ｑｂ５で表されるアルキレン基の炭素数は、１～１０が好ましく、２～６が特に好ましい。
Ｑｂ５で表される炭素数２以上のアルキレン基の炭素原子－炭素原子間にエーテル性酸素原子又は２価のオルガノポリシロキサン残基を有する基の炭素数は、２～１０が好ましく、２～６が特に好ましい。
Ｑｂ５としては、化合物を製造しやすい点から、－ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２－、－ＣＨ２ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２－が好ましい（ただし、右側がＳｉ（Ｒ）ｎＬ３－ｎに結合する。）。
Ｑｂ５で表されるアルキレン基の炭素数は、１～１０が好ましく、２～６が特に好ましい。
Ｑｂ５で表される炭素数２以上のアルキレン基の炭素原子－炭素原子間にエーテル性酸素原子又は２価のオルガノポリシロキサン残基を有する基の炭素数は、２～１０が好ましく、２～６が特に好ましい。
Ｑｂ５としては、化合物を製造しやすい点から、－ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２－、－ＣＨ２ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２－が好ましい（ただし、右側がＳｉ（Ｒ）ｎＬ３－ｎに結合する。）。
【0099】
３個の［－Ｑｂ５－Ｓｉ（Ｒ）ｎＬ３－ｎ］は、同一であっても異なっていてもよい。
【0100】
基（３－１Ａ－５）の具体例としては、以下の基が挙げられる。下記式中、＊は、（ＯＸ）ｍとの結合位置を表す。
【化7】
【0101】
基（３－１Ａ－６）中のＱｅの定義は、上述の基（３－１Ａ－４）において定義した通りである。
ｖは、０又は１である。
ｖは、０又は１である。
【0102】
Ｑａ６は、エーテル性酸素原子を有していてもよいアルキレン基である。
エーテル性酸素原子を有していてもよいアルキレン基の炭素数は、１～１０が好ましく、２～６が特に好ましい。
Ｑａ６としては、化合物を製造しやすい点から、－ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２－、－ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２－、－ＣＨ２ＣＨ２－、－ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２－が好ましい（ただし、右側がＺａに結合する。）。
エーテル性酸素原子を有していてもよいアルキレン基の炭素数は、１～１０が好ましく、２～６が特に好ましい。
Ｑａ６としては、化合物を製造しやすい点から、－ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２－、－ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２－、－ＣＨ２ＣＨ２－、－ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２－が好ましい（ただし、右側がＺａに結合する。）。
【0103】
Ｚａは、（ｗ２＋１）価のオルガノポリシロキサン残基である。
ｗ２は、２～７の整数である。
（ｗ２＋１）価のオルガノポリシロキサン残基としては、下記の基が挙げられる。ただし、下式におけるＲａは、上述の通りである。
ｗ２は、２～７の整数である。
（ｗ２＋１）価のオルガノポリシロキサン残基としては、下記の基が挙げられる。ただし、下式におけるＲａは、上述の通りである。
【化8】
【0104】
Ｑｂ６は、アルキレン基、又は、炭素数２以上のアルキレン基の炭素原子－炭素原子間にエーテル性酸素原子もしくは２価のオルガノポリシロキサン残基を有する基である。
Ｑｂ６で表されるアルキレン基の炭素数は、１～１０が好ましく、２～６が特に好ましい。
Ｑｂ６で表される炭素数２以上のアルキレン基の炭素原子－炭素原子間にエーテル性酸素原子又は２価のオルガノポリシロキサン残基を有する基の炭素数は、２～１０が好ましく、２～６が特に好ましい。
Ｑｂ６としては、化合物を製造しやすい点から、－ＣＨ２ＣＨ２－、－ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２－が好ましい。
ｗ２個の［－Ｑｂ６－Ｓｉ（Ｒ）ｎＬ３－ｎ］は、同一であっても異なっていてもよい。
基（３－１Ａ－６）の具体例としては、以下の基が挙げられる。下記式中、＊は、（ＯＸ）ｍとの結合位置を表す。
Ｑｂ６で表されるアルキレン基の炭素数は、１～１０が好ましく、２～６が特に好ましい。
Ｑｂ６で表される炭素数２以上のアルキレン基の炭素原子－炭素原子間にエーテル性酸素原子又は２価のオルガノポリシロキサン残基を有する基の炭素数は、２～１０が好ましく、２～６が特に好ましい。
Ｑｂ６としては、化合物を製造しやすい点から、－ＣＨ２ＣＨ２－、－ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２－が好ましい。
ｗ２個の［－Ｑｂ６－Ｓｉ（Ｒ）ｎＬ３－ｎ］は、同一であっても異なっていてもよい。
基（３－１Ａ－６）の具体例としては、以下の基が挙げられる。下記式中、＊は、（ＯＸ）ｍとの結合位置を表す。
【化9】
【0105】
基（３－１Ａ－７）において、Ｚｃは（ｗ３＋ｗ４＋１）価の炭化水素基である。
ｗ３は、４以上の整数である。
ｗ４は、０以上の整数である。
Ｑｅ、ｓ４、Ｑａ４、ｔ４、Ｑｂ４、及びｕ４の定義及び好ましい範囲は基（３－１Ａ－４）中の各符号の定義と同じである。
ｗ３は、４以上の整数である。
ｗ４は、０以上の整数である。
Ｑｅ、ｓ４、Ｑａ４、ｔ４、Ｑｂ４、及びｕ４の定義及び好ましい範囲は基（３－１Ａ－４）中の各符号の定義と同じである。
【0106】
Ｚｃは炭化水素鎖からなってもよく、炭化水素鎖の炭素原子－炭素原子間にエーテル性酸素原子を有してもよく、炭化水素鎖からなることが好ましい。
Ｚｃの価数は５～１０価が好ましく、５～８価がより好ましく、５～６価がさらに好ましい。
Ｚｃの炭素数は７～５０が好ましく、１０～４０がより好ましく、１５～３０がさらに好ましい。
ｗ３は、４～１０が好ましく、４～８がより好ましく、４～５がさらに好ましい。
ｗ４は、０～１０が好ましく、０～８がより好ましく、０がさらに好ましい。
［－（Ｏ－Ｑｂ４）ｕ４－Ｓｉ（Ｒ）ｎＬ３－ｎ］が２個以上ある場合は、２個以上の［－（Ｏ－Ｑｂ４）ｕ４－Ｓｉ（Ｒ）ｎＬ３－ｎ］は、同一であっても異なっていてもよい。
Ｚｃの価数は５～１０価が好ましく、５～８価がより好ましく、５～６価がさらに好ましい。
Ｚｃの炭素数は７～５０が好ましく、１０～４０がより好ましく、１５～３０がさらに好ましい。
ｗ３は、４～１０が好ましく、４～８がより好ましく、４～５がさらに好ましい。
ｗ４は、０～１０が好ましく、０～８がより好ましく、０がさらに好ましい。
［－（Ｏ－Ｑｂ４）ｕ４－Ｓｉ（Ｒ）ｎＬ３－ｎ］が２個以上ある場合は、２個以上の［－（Ｏ－Ｑｂ４）ｕ４－Ｓｉ（Ｒ）ｎＬ３－ｎ］は、同一であっても異なっていてもよい。
【0107】
基（３－１Ａ－７）の具体例としては、以下の基が挙げられる。下記式中、＊は、（ＯＸ）ｍとの結合位置を表す。
【化10】
【0108】
式（３－１）におけるＹ１０は、基（ｇ２－１）（ただし、ｊ１＝ｄ１＋ｄ３、ｇ１＝ｄ２＋ｄ４である。）、基（ｇ２－２）（ただし、ｊ１＝ｅ１、ｇ１＝ｅ２である。）、基（ｇ２－３）（ただし、ｊ１＝１、ｇ１＝２である。）、基（ｇ２－４）（ただし、ｊ１＝ｈ１、ｇ１＝ｈ２である。）、基（ｇ２－５）（ただし、ｊ１＝ｉ１、ｇ１＝ｉ２である。）、基（ｇ２－６）（ただし、ｊ１＝１、ｇ１＝１である。）、又は、基（ｇ２－７）（ただし、ｊ１＝１、ｇ１＝ｉ３である。）であってもよい。
また、式（３－２）におけるＹ１１及びＹ１２はそれぞれ独立に、基（ｇ２－１）（ただし、ｇ２＝ｄ２＋ｄ４、ｋ２＝ｄ２＋ｄ４である。）、基（ｇ２－２）（ただし、ｇ２＝ｅ２、ｋ２＝ｅ２である。）、基（ｇ２－３）（ただし、ｇ２＝２、ｋ２＝２である。）、基（ｇ２－４）（ただし、ｇ２＝ｈ２、ｋ２＝ｈ２である。）、基（ｇ２－５）（ただし、ｇ２＝ｉ２、ｋ２＝ｉ２である。）、基（ｇ２－６）（ただし、ｇ２＝１、ｋ２＝１
である。）、又は、基（ｇ２－７）（ただし、ｇ２＝ｉ３、ｋ２＝ｉ３である。）であってもよい。
また、式（３－２）におけるＹ１１及びＹ１２はそれぞれ独立に、基（ｇ２－１）（ただし、ｇ２＝ｄ２＋ｄ４、ｋ２＝ｄ２＋ｄ４である。）、基（ｇ２－２）（ただし、ｇ２＝ｅ２、ｋ２＝ｅ２である。）、基（ｇ２－３）（ただし、ｇ２＝２、ｋ２＝２である。）、基（ｇ２－４）（ただし、ｇ２＝ｈ２、ｋ２＝ｈ２である。）、基（ｇ２－５）（ただし、ｇ２＝ｉ２、ｋ２＝ｉ２である。）、基（ｇ２－６）（ただし、ｇ２＝１、ｋ２＝１
である。）、又は、基（ｇ２－７）（ただし、ｇ２＝ｉ３、ｋ２＝ｉ３である。）であってもよい。
【0109】
【化11】
【0110】
（－Ａ１－Ｑ１２－）ｅ１Ｃ（Ｒｅ２）４－ｅ１－ｅ２（－Ｑ２２－）ｅ２ …（ｇ２－２）
－Ａ１－Ｑ１３－Ｎ（－Ｑ２３－）２ …（ｇ２－３）
（－Ａ１－Ｑ１４－）ｈ１Ｚ１（－Ｑ２４－）ｈ２ …（ｇ２－４）
（－Ａ１－Ｑ１５－）ｉ１Ｓｉ（Ｒｅ３）４－ｉ１－ｉ２（－Ｑ２５－）ｉ２ …（ｇ２－５）
－Ａ１－Ｑ２６－ （ｇ２－６）
－Ａ１－Ｑ１２－ＣＨ（－Ｑ２２－）－Ｓｉ（Ｒｅ３）３－ｉ３（－Ｑ２５－）ｉ３ …（ｇ２－７）
－Ａ１－Ｑ１３－Ｎ（－Ｑ２３－）２ …（ｇ２－３）
（－Ａ１－Ｑ１４－）ｈ１Ｚ１（－Ｑ２４－）ｈ２ …（ｇ２－４）
（－Ａ１－Ｑ１５－）ｉ１Ｓｉ（Ｒｅ３）４－ｉ１－ｉ２（－Ｑ２５－）ｉ２ …（ｇ２－５）
－Ａ１－Ｑ２６－ （ｇ２－６）
－Ａ１－Ｑ１２－ＣＨ（－Ｑ２２－）－Ｓｉ（Ｒｅ３）３－ｉ３（－Ｑ２５－）ｉ３ …（ｇ２－７）
【0111】
ただし、式（ｇ２－１）～（ｇ２－７）においては、Ａ１側が（ＯＸ）ｍに接続し、Ｑ２２、Ｑ２３、Ｑ２４、Ｑ２５又はＱ２６側が［－Ｓｉ（Ｒ）ｎＬ３－ｎ］に接続する。
Ａ１は、単結合、－Ｃ（Ｏ）ＮＲ６－、－Ｃ（Ｏ）－、－ＯＣ（Ｏ）Ｏ－、－ＮＨＣ（Ｏ）Ｏ－、－ＮＨＣ（Ｏ）ＮＲ６－、－Ｏ－又はＳＯ２ＮＲ６－である。
Ｑ１１は、単結合、－Ｏ－、アルキレン基、又は炭素数２以上のアルキレン基の炭素原子－炭素原子間に－Ｃ（Ｏ）ＮＲ６－、－Ｃ（Ｏ）－、－ＮＲ６－又はＯ－を有する基である。
Ｑ１２は、単結合、アルキレン基、又は炭素数２以上のアルキレン基の炭素原子－炭素原子間に－Ｃ（Ｏ）ＮＲ６－、－Ｃ（Ｏ）－、－ＮＲ６－又はＯ－を有する基であり、Ｙ１０、Ｙ１１又はＹ１２がＱ１２を２以上有する場合、２以上のＱ１２は同一であっても異なっていてもよい。
Ｑ１３は、単結合（ただし、Ａ１は－Ｃ（Ｏ）－である。）、アルキレン基、炭素数２以上のアルキレン基の炭素原子－炭素原子間に－Ｃ（Ｏ）ＮＲ６－、－Ｃ（Ｏ）－、－ＮＲ６－又はＯ－を有する基、又はアルキレン基のＮ側の末端に－Ｃ（Ｏ）－を有する基である。
Ｑ１４は、Ｑ１４が結合するＺ１における原子が炭素原子の場合、Ｑ１２であり、Ｑ１４が結合するＺ１における原子が窒素原子の場合、Ｑ１３であり、Ｙ１０、Ｙ１１又はＹ１２がＱ１４を２以上有する場合、２以上のＱ１４は同一であっても異なっていてもよい。
Ｑ１５は、アルキレン基、又は炭素数２以上のアルキレン基の炭素原子－炭素原子間に－Ｃ（Ｏ）ＮＲ６－、－Ｃ（Ｏ）－、－ＮＲ６－又はＯ－を有する基であり、Ｙ１０、Ｙ１１又はＹ１２がＱ１５を２以上有する場合、２以上のＱ１５は同一であっても異なっていてもよい。
Ｑ２２は、アルキレン基、炭素数２以上のアルキレン基の炭素原子－炭素原子間に－Ｃ（Ｏ）ＮＲ６－、－Ｃ（Ｏ）－、－ＮＲ６－又はＯ－を有する基、アルキレン基のＳｉに接続しない側の末端に－Ｃ（Ｏ）ＮＲ６－、－Ｃ（Ｏ）－、－ＮＲ６－又はＯ－を有する基、又は炭素数２以上のアルキレン基の炭素原子－炭素原子間に－Ｃ（Ｏ）ＮＲ６－、－Ｃ（Ｏ）－、－ＮＲ６－又はＯ－を有しかつＳｉに接続しない側の末端に－Ｃ（Ｏ）ＮＲ６－、－Ｃ（Ｏ）－、－ＮＲ６－又はＯ－を有する基であり、Ｙ１０、Ｙ１１又はＹ１２がＱ２２を２以上有する場合、２以上のＱ２２は同一であっても異なっていてもよい。
Ｑ２３は、アルキレン基、又は炭素数２以上のアルキレン基の炭素原子－炭素原子間に－Ｃ（Ｏ）ＮＲ６－、－Ｃ（Ｏ）－、－ＮＲ６－又はＯ－を有する基であり、２個のＱ２３は同一であっても異なっていてもよい。
Ｑ２４は、Ｑ２４が結合するＺ１における原子が炭素原子の場合、Ｑ２２であり、Ｑ２４が結合するＺ１における原子が窒素原子の場合、Ｑ２３であり、Ｙ１０、Ｙ１１又はＹ１２がＱ２４を２以上有する場合、２以上のＱ２４は同一であっても異なっていてもよい。
Ｑ２５は、アルキレン基、又は炭素数２以上のアルキレン基の炭素原子－炭素原子間に－Ｃ（Ｏ）ＮＲ６－、－Ｃ（Ｏ）－、－ＮＲ６－又はＯ－を有する基であり、Ｙ１０、Ｙ１１又はＹ１２がＱ２５を２以上有する場合、２以上のＱ２５は同一であっても異なっていてもよい。
Ｑ２６は、アルキレン基、又は炭素数２以上のアルキレン基の炭素原子－炭素原子間に－Ｃ（Ｏ）ＮＲ６－、－Ｃ（Ｏ）－、－ＮＲ６－又はＯ－を有する基である。
Ｚ１は、Ｑ１４が直接結合する炭素原子又は窒素原子を有しかつＱ２４が直接結合する炭素原子又は窒素原子を有するｈ１＋ｈ２価の環構造を有する基である。
Ｒｅ１は、水素原子又はアルキル基であり、Ｙ１０、Ｙ１１又はＹ１２がＲｅ１を２以上有する場合、２以上のＲｅ１は同一であっても異なっていてもよい。
Ｒｅ２は、水素原子、水酸基、アルキル基又はアシルオキシ基である。
Ｒｅ３は、アルキル基である。Ｒ６は、水素原子、炭素数１～６のアルキル基又はフェニル基である。
Ａ１は、単結合、－Ｃ（Ｏ）ＮＲ６－、－Ｃ（Ｏ）－、－ＯＣ（Ｏ）Ｏ－、－ＮＨＣ（Ｏ）Ｏ－、－ＮＨＣ（Ｏ）ＮＲ６－、－Ｏ－又はＳＯ２ＮＲ６－である。
Ｑ１１は、単結合、－Ｏ－、アルキレン基、又は炭素数２以上のアルキレン基の炭素原子－炭素原子間に－Ｃ（Ｏ）ＮＲ６－、－Ｃ（Ｏ）－、－ＮＲ６－又はＯ－を有する基である。
Ｑ１２は、単結合、アルキレン基、又は炭素数２以上のアルキレン基の炭素原子－炭素原子間に－Ｃ（Ｏ）ＮＲ６－、－Ｃ（Ｏ）－、－ＮＲ６－又はＯ－を有する基であり、Ｙ１０、Ｙ１１又はＹ１２がＱ１２を２以上有する場合、２以上のＱ１２は同一であっても異なっていてもよい。
Ｑ１３は、単結合（ただし、Ａ１は－Ｃ（Ｏ）－である。）、アルキレン基、炭素数２以上のアルキレン基の炭素原子－炭素原子間に－Ｃ（Ｏ）ＮＲ６－、－Ｃ（Ｏ）－、－ＮＲ６－又はＯ－を有する基、又はアルキレン基のＮ側の末端に－Ｃ（Ｏ）－を有する基である。
Ｑ１４は、Ｑ１４が結合するＺ１における原子が炭素原子の場合、Ｑ１２であり、Ｑ１４が結合するＺ１における原子が窒素原子の場合、Ｑ１３であり、Ｙ１０、Ｙ１１又はＹ１２がＱ１４を２以上有する場合、２以上のＱ１４は同一であっても異なっていてもよい。
Ｑ１５は、アルキレン基、又は炭素数２以上のアルキレン基の炭素原子－炭素原子間に－Ｃ（Ｏ）ＮＲ６－、－Ｃ（Ｏ）－、－ＮＲ６－又はＯ－を有する基であり、Ｙ１０、Ｙ１１又はＹ１２がＱ１５を２以上有する場合、２以上のＱ１５は同一であっても異なっていてもよい。
Ｑ２２は、アルキレン基、炭素数２以上のアルキレン基の炭素原子－炭素原子間に－Ｃ（Ｏ）ＮＲ６－、－Ｃ（Ｏ）－、－ＮＲ６－又はＯ－を有する基、アルキレン基のＳｉに接続しない側の末端に－Ｃ（Ｏ）ＮＲ６－、－Ｃ（Ｏ）－、－ＮＲ６－又はＯ－を有する基、又は炭素数２以上のアルキレン基の炭素原子－炭素原子間に－Ｃ（Ｏ）ＮＲ６－、－Ｃ（Ｏ）－、－ＮＲ６－又はＯ－を有しかつＳｉに接続しない側の末端に－Ｃ（Ｏ）ＮＲ６－、－Ｃ（Ｏ）－、－ＮＲ６－又はＯ－を有する基であり、Ｙ１０、Ｙ１１又はＹ１２がＱ２２を２以上有する場合、２以上のＱ２２は同一であっても異なっていてもよい。
Ｑ２３は、アルキレン基、又は炭素数２以上のアルキレン基の炭素原子－炭素原子間に－Ｃ（Ｏ）ＮＲ６－、－Ｃ（Ｏ）－、－ＮＲ６－又はＯ－を有する基であり、２個のＱ２３は同一であっても異なっていてもよい。
Ｑ２４は、Ｑ２４が結合するＺ１における原子が炭素原子の場合、Ｑ２２であり、Ｑ２４が結合するＺ１における原子が窒素原子の場合、Ｑ２３であり、Ｙ１０、Ｙ１１又はＹ１２がＱ２４を２以上有する場合、２以上のＱ２４は同一であっても異なっていてもよい。
Ｑ２５は、アルキレン基、又は炭素数２以上のアルキレン基の炭素原子－炭素原子間に－Ｃ（Ｏ）ＮＲ６－、－Ｃ（Ｏ）－、－ＮＲ６－又はＯ－を有する基であり、Ｙ１０、Ｙ１１又はＹ１２がＱ２５を２以上有する場合、２以上のＱ２５は同一であっても異なっていてもよい。
Ｑ２６は、アルキレン基、又は炭素数２以上のアルキレン基の炭素原子－炭素原子間に－Ｃ（Ｏ）ＮＲ６－、－Ｃ（Ｏ）－、－ＮＲ６－又はＯ－を有する基である。
Ｚ１は、Ｑ１４が直接結合する炭素原子又は窒素原子を有しかつＱ２４が直接結合する炭素原子又は窒素原子を有するｈ１＋ｈ２価の環構造を有する基である。
Ｒｅ１は、水素原子又はアルキル基であり、Ｙ１０、Ｙ１１又はＹ１２がＲｅ１を２以上有する場合、２以上のＲｅ１は同一であっても異なっていてもよい。
Ｒｅ２は、水素原子、水酸基、アルキル基又はアシルオキシ基である。
Ｒｅ３は、アルキル基である。Ｒ６は、水素原子、炭素数１～６のアルキル基又はフェニル基である。
【0112】
ｄ１は、０～３の整数であり、１又は２であることが好ましい。ｄ２は、０～３の整数であり、１又は２であることが好ましい。ｄ１＋ｄ２は、１～３の整数である。
ｄ３は、０～３の整数であり、０又は１であることが好ましい。ｄ４は、０～３の整数であり、２又は３であることが好ましい。ｄ３＋ｄ４は、１～３の整数である。
ｄ１＋ｄ３は、Ｙ１０においては１～５の整数であり、１又は２であることが好ましく、Ｙ１１及びＹ１２においては１である。
ｄ２＋ｄ４は、Ｙ１０においては１～５の整数であり、４又は５であることが好ましく、Ｙ１１及びＹ１２においては３～５の整数であり、４又は５であることが好ましい。
ｅ１＋ｅ２は、３又は４である。ｅ１は、Ｙ１０においては１～３の整数であり、１又は２であることが好ましく、Ｙ１１及びＹ１２においては１である。ｅ２は、Ｙ１０においては１～３の整数であり、２又は３であることが好ましく、Ｙ１１及びＹ１２においては２又は３である。
ｈ１は、Ｙ１０においては１以上の整数であり、１又は２であることが好ましく、Ｙ１１及びＹ１２においては１である。ｈ２は、１以上の整数であり、２又は３であることが好ましい。
ｉ１＋ｉ２は、３又は４である。ｉ１は、Ｙ１０においては１～３の整数であり、１又は２であることが好ましく、Ｙ１１及びＹ１２においては１である。ｉ２は、Ｙ１０においては１～３の整数であり、２又は３であることが好ましく、Ｙ１１及びＹ１２においては２又は３である。
ｉ３は、２又は３である。
ｄ３は、０～３の整数であり、０又は１であることが好ましい。ｄ４は、０～３の整数であり、２又は３であることが好ましい。ｄ３＋ｄ４は、１～３の整数である。
ｄ１＋ｄ３は、Ｙ１０においては１～５の整数であり、１又は２であることが好ましく、Ｙ１１及びＹ１２においては１である。
ｄ２＋ｄ４は、Ｙ１０においては１～５の整数であり、４又は５であることが好ましく、Ｙ１１及びＹ１２においては３～５の整数であり、４又は５であることが好ましい。
ｅ１＋ｅ２は、３又は４である。ｅ１は、Ｙ１０においては１～３の整数であり、１又は２であることが好ましく、Ｙ１１及びＹ１２においては１である。ｅ２は、Ｙ１０においては１～３の整数であり、２又は３であることが好ましく、Ｙ１１及びＹ１２においては２又は３である。
ｈ１は、Ｙ１０においては１以上の整数であり、１又は２であることが好ましく、Ｙ１１及びＹ１２においては１である。ｈ２は、１以上の整数であり、２又は３であることが好ましい。
ｉ１＋ｉ２は、３又は４である。ｉ１は、Ｙ１０においては１～３の整数であり、１又は２であることが好ましく、Ｙ１１及びＹ１２においては１である。ｉ２は、Ｙ１０においては１～３の整数であり、２又は３であることが好ましく、Ｙ１１及びＹ１２においては２又は３である。
ｉ３は、２又は３である。
【0113】
Ｑ１１、Ｑ１２、Ｑ１３、Ｑ１４、Ｑ１５、Ｑ２２、Ｑ２３、Ｑ２４、Ｑ２５及びＱ２６のアルキレン基の炭素数は、化合物（３－１）及び化合物（３－２）を製造しやすい点
、及び表面処理層の耐摩擦性がさらに優れる点から、１～１０が好ましく、１～６がより好ましく、１～４が特に好ましい。ただし、炭素原子－炭素原子間に特定の結合を有する場合のアルキレン基の炭素数の下限値は２である。
、及び表面処理層の耐摩擦性がさらに優れる点から、１～１０が好ましく、１～６がより好ましく、１～４が特に好ましい。ただし、炭素原子－炭素原子間に特定の結合を有する場合のアルキレン基の炭素数の下限値は２である。
【0114】
Ｚ１における環構造としては、上述した環構造が挙げられ、好ましい形態も同様である。なお、Ｚ１における環構造にはＱ１４やＱ２４が直接結合するため、例えば、環構造にアルキレン基が連結して、そのアルキレン基にＱ１４やＱ２４が連結することはない。
【0115】
Ｒｅ１、Ｒｅ２又はＲｅ３のアルキル基の炭素数は、化合物（３－１）及び化合物（３－２）を製造しやすい点から、１～６が好ましく、１～３がより好ましく、１～２が特に好ましい。
Ｒｅ２のアシルオキシ基のアルキル基部分の炭素数は、化合物（３－１）及び化合物（３－２）を製造しやすい点から、１～６が好ましく、１～３がより好ましく、１～２が特に好ましい。
ｈ１は、化合物（３－１）及び化合物（３－２）を製造しやすい点、並びに、表面処理層の耐摩擦性がさらに優れる点から、１～６が好ましく、１～４がより好ましく、１又は２がさらに好ましく、１が特に好ましい。
ｈ２としては、化合物（３－１）及び化合物（３－２）を製造しやすい点、並びに、表面処理層の耐摩擦性がさらに優れる点から、２～６が好ましく、２～４がより好ましく、２又は３が特に好ましい。
Ｒｅ２のアシルオキシ基のアルキル基部分の炭素数は、化合物（３－１）及び化合物（３－２）を製造しやすい点から、１～６が好ましく、１～３がより好ましく、１～２が特に好ましい。
ｈ１は、化合物（３－１）及び化合物（３－２）を製造しやすい点、並びに、表面処理層の耐摩擦性がさらに優れる点から、１～６が好ましく、１～４がより好ましく、１又は２がさらに好ましく、１が特に好ましい。
ｈ２としては、化合物（３－１）及び化合物（３－２）を製造しやすい点、並びに、表面処理層の耐摩擦性がさらに優れる点から、２～６が好ましく、２～４がより好ましく、２又は３が特に好ましい。
【0116】
Ｙ１０の他の形態としては、基（ｇ２－８）（ただし、ｊ１＝ｄ１＋ｄ３、ｇ１＝ｄ２×ｋ３＋ｄ４×ｋ３である。）、基（ｇ２－９）（ただし、ｊ１＝ｅ１、ｇ１＝ｅ２×ｋ３である。）、基（ｇ２－１０）（ただし、ｊ１＝１、ｇ１＝２×ｋ３である。）、基（ｇ２－１１）（ただし、ｊ１＝ｈ１、ｇ１＝ｈ２×ｋ３である。）、基（ｇ２－１２）（ただし、ｊ１＝ｉ１、ｇ１＝ｉ２×ｋ３である。）、基（ｇ２－１３）（ただし、ｊ１＝１、ｇ１＝ｋ３である。）、又は基（ｇ２－１４）（ただし、ｊ１＝１、ｇ１＝ｉ３×ｋ３である。）が挙げられる。
Ｙ１１及びＹ１２の他の形態としては、基（ｇ２－８）（ただし、ｋ２＝ｄ２×ｋ３、ｇ２＝ｄ４×ｋ３である。）、基（ｇ２－９）（ただし、ｋ２＝ｅ２×ｋ３、ｇ２＝ｅ２×ｋ３である。）、基（ｇ２－１０）（ただし、ｋ２＝２×ｋ３、ｇ２＝２×ｋ３である。）、基（ｇ２－１１）（ただし、ｋ２＝ｈ２×ｋ３、ｇ２＝ｈ２×ｋ３である。）、基（ｇ２－１２）（ただし、ｋ２＝ｉ２×ｋ３、ｇ２＝ｉ２×ｋ３である。）、基（ｇ２－１３）（ただし、ｋ２＝ｋ３、ｇ２＝ｋ３である。）、又は基（ｇ２－１４）（ただし、ｋ２＝ｉ３×ｋ３、ｇ２＝ｉ３×ｋ３である。）が挙げられる。
Ｙ１１及びＹ１２の他の形態としては、基（ｇ２－８）（ただし、ｋ２＝ｄ２×ｋ３、ｇ２＝ｄ４×ｋ３である。）、基（ｇ２－９）（ただし、ｋ２＝ｅ２×ｋ３、ｇ２＝ｅ２×ｋ３である。）、基（ｇ２－１０）（ただし、ｋ２＝２×ｋ３、ｇ２＝２×ｋ３である。）、基（ｇ２－１１）（ただし、ｋ２＝ｈ２×ｋ３、ｇ２＝ｈ２×ｋ３である。）、基（ｇ２－１２）（ただし、ｋ２＝ｉ２×ｋ３、ｇ２＝ｉ２×ｋ３である。）、基（ｇ２－１３）（ただし、ｋ２＝ｋ３、ｇ２＝ｋ３である。）、又は基（ｇ２－１４）（ただし、ｋ２＝ｉ３×ｋ３、ｇ２＝ｉ３×ｋ３である。）が挙げられる。
【0117】
【化12】
【0118】
（－Ａ１－Ｑ１２－）ｅ１Ｃ（Ｒｅ２）４－ｅ１－ｅ２（－Ｑ２２－Ｇ１）ｅ２ …（ｇ２－９）
－Ａ１－Ｑ１３－Ｎ（－Ｑ２３－Ｇ１）２ …（ｇ２－１０）
（－Ａ１－Ｑ１４－）ｈ１Ｚ１（－Ｑ２４－Ｇ１）ｈ２ …（ｇ２－１１）
（－Ａ１－Ｑ１５－）ｉ１Ｓｉ（Ｒｅ３）４－ｉ１－ｉ２（－Ｑ２５－Ｇ１）ｉ２ …（ｇ２－１２）
－Ａ１－Ｑ２６－Ｇ１ …（ｇ２－１３）
－Ａ１－Ｑ１２－ＣＨ（－Ｑ２２－Ｇ１）－Ｓｉ（Ｒｅ３）３－ｉ３（－Ｑ２５－Ｇ１）ｉ３ …（ｇ２－１４）
－Ａ１－Ｑ１３－Ｎ（－Ｑ２３－Ｇ１）２ …（ｇ２－１０）
（－Ａ１－Ｑ１４－）ｈ１Ｚ１（－Ｑ２４－Ｇ１）ｈ２ …（ｇ２－１１）
（－Ａ１－Ｑ１５－）ｉ１Ｓｉ（Ｒｅ３）４－ｉ１－ｉ２（－Ｑ２５－Ｇ１）ｉ２ …（ｇ２－１２）
－Ａ１－Ｑ２６－Ｇ１ …（ｇ２－１３）
－Ａ１－Ｑ１２－ＣＨ（－Ｑ２２－Ｇ１）－Ｓｉ（Ｒｅ３）３－ｉ３（－Ｑ２５－Ｇ１）ｉ３ …（ｇ２－１４）
【0119】
ただし、式（ｇ２－８）～（ｇ２－１４）においては、Ａ１側が（ＯＸ）ｍに接続し、Ｇ１側が［－Ｓｉ（Ｒ）ｎＬ３－ｎ］に接続する。Ｇ１は、基（ｇ３）であり、Ｙ１０、Ｙ１１又はＹ１２が有する２以上のＧ１は同一であっても異なっていてもよい。Ｇ１以外の符号は、式（ｇ２－１）～（ｇ２－７）における符号と同じである。
－Ｓｉ（Ｒ８）３－ｋ３（－Ｑ３－）ｋ３ …（ｇ３）
ただし、式（ｇ３）においては、Ｓｉ側がＱ２２、Ｑ２３、Ｑ２４、Ｑ２５及びＱ２６に接続し、Ｑ３側が［－Ｓｉ（Ｒ）ｎＬ３－ｎ］に接続する。Ｒ８は、アルキル基である。Ｑ３は、アルキレン基、炭素数２以上のアルキレン基の炭素原子－炭素原子間に－Ｃ（Ｏ）ＮＲ６－、－Ｃ（Ｏ）－、－ＮＲ６－もしくは－Ｏ－を有する基、又は（ＯＳｉ（Ｒ９）２）ｐ－Ｏ－であり、２以上のＱ３は同一であっても異なっていてもよい。ｋ３は、２又は３である。Ｒ６は、水素原子、炭素数１～６のアルキル基又はフェニル基である。Ｒ９は、アルキル基、フェニル基又はアルコキシ基であり、２個のＲ９は同一であっても異なっていてもよい。ｐは、０～５の整数であり、ｐが２以上の場合、２以上の（ＯＳｉ（Ｒ９）２）は同一であっても異なっていてもよい。
－Ｓｉ（Ｒ８）３－ｋ３（－Ｑ３－）ｋ３ …（ｇ３）
ただし、式（ｇ３）においては、Ｓｉ側がＱ２２、Ｑ２３、Ｑ２４、Ｑ２５及びＱ２６に接続し、Ｑ３側が［－Ｓｉ（Ｒ）ｎＬ３－ｎ］に接続する。Ｒ８は、アルキル基である。Ｑ３は、アルキレン基、炭素数２以上のアルキレン基の炭素原子－炭素原子間に－Ｃ（Ｏ）ＮＲ６－、－Ｃ（Ｏ）－、－ＮＲ６－もしくは－Ｏ－を有する基、又は（ＯＳｉ（Ｒ９）２）ｐ－Ｏ－であり、２以上のＱ３は同一であっても異なっていてもよい。ｋ３は、２又は３である。Ｒ６は、水素原子、炭素数１～６のアルキル基又はフェニル基である。Ｒ９は、アルキル基、フェニル基又はアルコキシ基であり、２個のＲ９は同一であっても異なっていてもよい。ｐは、０～５の整数であり、ｐが２以上の場合、２以上の（ＯＳｉ（Ｒ９）２）は同一であっても異なっていてもよい。
【0120】
Ｑ３のアルキレン基の炭素数は、化合物（３－１）及び化合物（３－２）を製造しやすい点、並びに、表面処理層の耐摩擦性がさらに優れる点から、１～１０が好ましく、１～６がより好ましく、１～４が特に好ましい。ただし、炭素原子－炭素原子間に特定の結合を有する場合のアルキレン基の炭素数の下限値は２である。
Ｒ８のアルキル基の炭素数は、化合物（３－１）及び化合物（３－２）を製造しやすい点から、１～６が好ましく、１～３がより好ましく、１～２が特に好ましい。
Ｒ９のアルキル基の炭素数は、化合物（３－１）及び化合物（３－２）を製造しやすい点から、１～６が好ましく、１～３がより好ましく、１～２が特に好ましい。
Ｒ９のアルコキシ基の炭素数は、化合物（３－１）及び化合物（３－２）の保存安定性に優れる点から、１～６が好ましく、１～３がより好ましく、１～２が特に好ましい。
ｐは、０又は１が好ましい。
Ｒ８のアルキル基の炭素数は、化合物（３－１）及び化合物（３－２）を製造しやすい点から、１～６が好ましく、１～３がより好ましく、１～２が特に好ましい。
Ｒ９のアルキル基の炭素数は、化合物（３－１）及び化合物（３－２）を製造しやすい点から、１～６が好ましく、１～３がより好ましく、１～２が特に好ましい。
Ｒ９のアルコキシ基の炭素数は、化合物（３－１）及び化合物（３－２）の保存安定性に優れる点から、１～６が好ましく、１～３がより好ましく、１～２が特に好ましい。
ｐは、０又は１が好ましい。
【0121】
化合物（３－１）及び化合物（３－２）としては、例えば、下式の化合物が挙げられる。下式の化合物は、工業的に製造しやすく、取扱いやすく、表面処理層の耐摩擦性がさらに優れる点から好ましい。下式の化合物におけるＲｆ及びＱｆはそれぞれ、上述した式（３－１）における［Ｒｆ１－（ＯＸ）ｍ－］及び式（３－２）における－（ＯＸ）ｍ－と同様であり、好ましい形態も同様である。
【0122】
Ｙ１０が基（ｇ２－１）である化合物（３－１）としては、例えば、下式の化合物が挙げられる。
【化13】
【0123】
Ｙ１０が基（ｇ２－２）である化合物（３－１）としては、例えば、下式の化合物が挙げられる。
【化14】
【化15】
【0124】
Ｙ１０が基（ｇ２－３）である化合物（３－１）としては、例えば、下式の化合物が挙げられる。
【化16】
【0125】
Ｙ１０が基（ｇ２－４）である化合物（３－１）としては、例えば、下式の化合物が挙げられる。
【化17】
【0126】
Ｙ１０が基（ｇ２－５）である化合物（３－１）としては、例えば、下式の化合物が挙げられる。
【化18】
【0127】
Ｙ１０が基（ｇ２－６）である化合物（３－１）としては、例えば、下式の化合物が挙げられる。
【化19】
【0128】
Ｙ１０が基（ｇ２－７）である化合物（３－１）としては、例えば、下式の化合物が挙げられる。
【化20】
【0129】
Ｙ１０が基（ｇ２－８）である化合物（３－１）としては、例えば、下式の化合物が挙げられる。
【化21】
【0130】
Ｙ１０が基（ｇ２－９）である化合物（３－１）としては、例えば、下式の化合物が挙げられる。
【化22】
【0131】
Ｙ１０が基（ｇ２－１０）である化合物（３－１）としては、例えば、下式の化合物が
挙げられる。
挙げられる。
【化23】
【0132】
Ｙ１０が基（ｇ２－１１）である化合物（３－１）としては、例えば、下式の化合物が挙げられる。
【化24】
【化25】
【0133】
Ｙ１０が基（ｇ２－１２）である化合物（３－１）としては、例えば、下式の化合物が挙げられる。
【化26】
【0134】
Ｙ１０が基（ｇ２－１３）である化合物（３－１）としては、例えば、下式の化合物が挙げられる。
【化27】
【0135】
Ｙ１０が基（ｇ２－１４）である化合物（３－１）としては、例えば、下式の化合物が挙げられる。
【化28】
【0136】
Ｙ１１及びＹ１２が基（ｇ２－１）である化合物（３－２）としては、例えば、下式の化合物が挙げられる。
【化29】
【0137】
Ｙ１１及びＹ１２が基（ｇ２－２）である化合物（３－２）としては、例えば、下式の化合物が挙げられる
【化30】
【化31】
【0138】
Ｙ１１及びＹ１２が基（ｇ２－３）である化合物（３－２）としては、例えば、下式の化合物が挙げられる。
【化32】
【0139】
Ｙ１１及びＹ１２が基（ｇ２－４）である化合物（３－２）としては、例えば、下式の化合物が挙げられる。
【化33】
【0140】
Ｙ１１及びＹ１２が基（ｇ２－５）である化合物（３－２）としては、例えば、下式の化合物が挙げられる。
【化34】
【0141】
Ｙ１１及びＹ１２が基（ｇ２－６）である化合物（３－２）としては、例えば、下式の化合物が挙げられる。
【化35】
【0142】
Ｙ１１及びＹ１２が基（ｇ２－７）である化合物（３－２）としては、例えば、下式の化合物が挙げられる。
【化36】
【0143】
Ｙ１１及びＹ１２が基（ｇ２－９）である化合物（３－２）としては、例えば、下式の化合物が挙げられる。
【化37】
【0144】
含フッ素化合物の具体例としては、例えば、下記の文献に記載のものが挙げられる。
特開平１１－０２９５８５号公報に記載のパーフルオロポリエーテル変性アミノシラン。
特許第２８７４７１５号公報に記載のケイ素含有有機含フッ素ポリマー。
特開２０００－１４４０９７号公報に記載の有機ケイ素化合物。
特開２０００－３２７７７２号公報に記載のパーフルオロポリエーテル変性アミノシラン。
特表２００２－５０６８８７号公報に記載のフッ素化シロキサン。
特表２００８－５３４６９６号公報に記載の有機シリコーン化合物。
特許第４１３８９３６号公報に記載のフッ素化変性水素含有重合体。
米国特許出願公開第２０１０／０１２９６７２号明細書、国際公開第２０１４／１２６０６４号、特開２０１４－０７０１６３号公報に記載の化合物。
国際公開第２０１１／０６００４７号、国際公開第２０１１／０５９４３０号に記載のオルガノシリコン化合物。
国際公開第２０１２／０６４６４９号に記載の含フッ素オルガノシラン化合物。
特開２０１２－７２２７２号公報に記載のフルオロオキシアルキレン基含有ポリマー。
国際公開第２０１３／０４２７３２号、国際公開第２０１３／１２１９８４号、国際公開第２０１３／１２１９８５号、国際公開第２０１３／１２１９８６号、国際公開第２０１４／１６３００４号、特開２０１４－０８０４７３号公報、国際公開第２０１５／０８７９０２号、国際公開第２０１７／０３８８３０号、国際公開第２０１７／０３８８３２号、国際公開第２０１７／１８７７７５号に記載の含フッ素エーテル化合物。
特開２０１４－２１８６３９号公報、国際公開第２０１７／０２２４３７号、国際公開第２０１８／０７９７４３号、国際公開第２０１８／１４３４３３号に記載のパーフルオロ（ポリ）エーテル含有シラン化合物。
特開２０１５－１９９９０６号公報、特開２０１６－２０４６５６号公報、特開２０１６－２１０８５４号公報、特開２０１６－２２２８５９号公報に記載のフルオロポリエーテル基含有ポリマー変性シラン。
国際公開第２０１８／２１６６３０号、国際公開第２０１９／０３９２２６号、国際公開第２０１９／０３９３４１号、国際公開第２０１９／０３９１８６号、国際公開第２０１９／０４４４７９号、特開２０１９－４４１５８号公報、特願２０１７－２５１６１１に記載の含フッ素エーテル化合物。
特開平１１－０２９５８５号公報に記載のパーフルオロポリエーテル変性アミノシラン。
特許第２８７４７１５号公報に記載のケイ素含有有機含フッ素ポリマー。
特開２０００－１４４０９７号公報に記載の有機ケイ素化合物。
特開２０００－３２７７７２号公報に記載のパーフルオロポリエーテル変性アミノシラン。
特表２００２－５０６８８７号公報に記載のフッ素化シロキサン。
特表２００８－５３４６９６号公報に記載の有機シリコーン化合物。
特許第４１３８９３６号公報に記載のフッ素化変性水素含有重合体。
米国特許出願公開第２０１０／０１２９６７２号明細書、国際公開第２０１４／１２６０６４号、特開２０１４－０７０１６３号公報に記載の化合物。
国際公開第２０１１／０６００４７号、国際公開第２０１１／０５９４３０号に記載のオルガノシリコン化合物。
国際公開第２０１２／０６４６４９号に記載の含フッ素オルガノシラン化合物。
特開２０１２－７２２７２号公報に記載のフルオロオキシアルキレン基含有ポリマー。
国際公開第２０１３／０４２７３２号、国際公開第２０１３／１２１９８４号、国際公開第２０１３／１２１９８５号、国際公開第２０１３／１２１９８６号、国際公開第２０１４／１６３００４号、特開２０１４－０８０４７３号公報、国際公開第２０１５／０８７９０２号、国際公開第２０１７／０３８８３０号、国際公開第２０１７／０３８８３２号、国際公開第２０１７／１８７７７５号に記載の含フッ素エーテル化合物。
特開２０１４－２１８６３９号公報、国際公開第２０１７／０２２４３７号、国際公開第２０１８／０７９７４３号、国際公開第２０１８／１４３４３３号に記載のパーフルオロ（ポリ）エーテル含有シラン化合物。
特開２０１５－１９９９０６号公報、特開２０１６－２０４６５６号公報、特開２０１６－２１０８５４号公報、特開２０１６－２２２８５９号公報に記載のフルオロポリエーテル基含有ポリマー変性シラン。
国際公開第２０１８／２１６６３０号、国際公開第２０１９／０３９２２６号、国際公開第２０１９／０３９３４１号、国際公開第２０１９／０３９１８６号、国際公開第２０１９／０４４４７９号、特開２０１９－４４１５８号公報、特願２０１７－２５１６１１に記載の含フッ素エーテル化合物。
【0145】
含フッ素化合物の数平均分子量（Ｍｎ）は、１，０００～２０，０００であることが好ましく、２，０００～１８，０００であることがより好ましく、３０００～１，５０００であることが特に好ましい。
Ｍｎが１，０００以上であれば、含フッ素化合物の分子鎖の流動性及びフッ素含有量が高くなるので、含フッ素化合物の指紋除去性がより優れる。Ｍｎが２０，０００以下であれば、粘性を適切な範囲内に調節しやすく、また溶解性が向上するので、成膜時のハンドリング性が優れる。
Ｍｎが１，０００以上であれば、含フッ素化合物の分子鎖の流動性及びフッ素含有量が高くなるので、含フッ素化合物の指紋除去性がより優れる。Ｍｎが２０，０００以下であれば、粘性を適切な範囲内に調節しやすく、また溶解性が向上するので、成膜時のハンドリング性が優れる。
【0146】
含フッ素組成物は、反応性シリル基を有する含フッ素化合物以外の他の成分を含有していてもよい。他の成分としては、液状媒体が挙げられる。なお、本開示の含フッ素組成物の保存方法では、含フッ素組成物は、他の成分を含まず、含フッ素化合物のみを保存してもよい。
【0147】
液状媒体としては、水及び有機溶媒が挙げられる。有機溶媒としては、フッ素系有機溶媒及び非フッ素系有機溶媒が挙げられる。
含フッ素組成物に含まれる有機溶媒は、１種のみであってもよく、２種以上であってもよい。
含フッ素組成物に含まれる有機溶媒は、１種のみであってもよく、２種以上であってもよい。
【0148】
フッ素系有機溶媒の具体例としては、フッ素化アルカン、フッ素化芳香族化合物、フルオロアルキルエーテル、フッ素化アルキルアミン、及びフルオロアルコールが挙げられる。
【0149】
フッ素化アルカンは、炭素数４～８の化合物であることが好ましい。フッ素アルカンとしては、例えば、Ｃ６Ｆ１３Ｈ（製品名「ＡＣ－２０００」、ＡＧＣ社製）、Ｃ６Ｆ１３Ｃ２Ｈ５（製品名「ＡＣ－６０００」、ＡＧＣ社製）、及びＣ２Ｆ５ＣＨＦＣＨＦＣＦ３（製品名「バートレル」、デュポン社製）が挙げられる。
【0150】
フッ素化芳香族化合物としては、ヘキサフルオロベンゼン、トリフルオロメチルベンゼン、ペルフルオロトルエン、１，３－ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン、及び１，４－ビス（トリフルオロメチル）ベンゼンが挙げられる。
【0151】
フルオロアルキルエーテルは、炭素数４～１２の化合物であることが好ましい。フルオロアルキルエーテルとしては、例えば、ＣＦ３ＣＨ２ＯＣＦ２ＣＦ２Ｈ（製品名「ＡＥ－３０００」、ＡＧＣ社製）、Ｃ４Ｆ９ＯＣＨ３（製品名「ノベック－７１００」、３Ｍ社製）、Ｃ４Ｆ９ＯＣ２Ｈ５（製品名「ノベック－７２００」、３Ｍ社製）、及びＣ２Ｆ５ＣＦ（ＯＣＨ３）Ｃ３Ｆ７（製品名「ノベック－７３００」、３Ｍ社製）が挙げられる。
【0152】
フッ素化アルキルアミンとしては、ペルフルオロトリプロピルアミン、及びペルフルオロトリブチルアミンが挙げられる。
【0153】
フルオロアルコールとしては、２，２，３，３－テトラフルオロプロパノール、２，２，２－トリフルオロエタノール、及びヘキサフルオロイソプロパノールが挙げられる。
【0154】
非フッ素系有機溶媒としては、水素原子及び炭素原子のみからなる化合物、又は、水素原子、炭素原子及び酸素原子のみからなる化合物が好ましい。非フッ素系有機溶媒として、具体的には、炭化水素、ケトン、エーテル、エステル、及びアルコールが挙げられる。
【0155】
炭化水素の具体例としては、ヘキサン、へプタン、及びシクロヘキサンが挙げられる。
【0156】
ケトンの具体例としては、アセトン、メチルエチルケトン、及びメチルイソブチルケトンが挙げられる。
【0157】
エーテルの具体例としては、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、及びテトラエチレングリコールジメチルエーテルが挙げられる。
【0158】
エステルの具体例としては、酢酸エチル、及び酢酸ブチルが挙げられる。
【0159】
アルコールの具体例としては、イソプロピルアルコールが挙げられる。
【0160】
含フッ素組成物中の含フッ素化合物の含有量は、含フッ素組成物の全質量に対して、０．０１質量％～５０．００質量％が好ましく、１．００質量％～３０．００質量％が特に好ましい。
含フッ素組成物中の液状媒体の含有量は、含フッ素組成物の全質量に対して、５０．００質量％～９９．９９質量％が好ましく、７０．００質量％～９９．００質量％が特に好ましい。
含フッ素組成物中の液状媒体の含有量は、含フッ素組成物の全質量に対して、５０．００質量％～９９．９９質量％が好ましく、７０．００質量％～９９．００質量％が特に好ましい。
【0161】
含フッ素組成物は、液状媒体以外の他の成分を含んでいてもよい。
他の成分としては、含フッ素化合物の製造工程で生成した副生物、未反応の原料等の製造上の不可避の化合物が挙げられる。
他の成分としては、含フッ素化合物の製造工程で生成した副生物、未反応の原料等の製造上の不可避の化合物が挙げられる。
【0162】
含フッ素組成物が他の成分を含む場合、他の成分の含有量は、含フッ素組成物の全質量に対して、１０質量％以下が好ましく、５質量％以下がより好ましく、１質量％以下が特に好ましい。
【0163】
本開示の保存方法により保存された含フッ素組成物は、基材に対して撥水性に優れる表面処理層を形成するための表面処理剤として有用である。
【0164】
表面処理層を形成する方法は、ドライコーティング法であってもよく、ウェットコーティング法であってもよい。
【0165】
ドライコーティング法の具体例としては、真空蒸着法、ＣＶＤ法、及びスパッタリング法が挙げられる。中でも、含フッ素組成物の分解を抑える点、及び、装置の簡便さの点から、真空蒸着法が好適である。
【0166】
ウェットコーティング法の具体例としては、スピンコート法、ワイプコート法、スプレーコート法、スキージーコート法、ディップコート法、ダイコート法、インクジェット法、フローコート法、ロールコート法、キャスト法、ラングミュア・ブロジェット法、及びグラビアコート法が挙げられる。
【0167】
表面処理層が形成される基材としては、表面処理層が形成される面がガラス、金属又は樹脂である基材が好ましく、表面処理層が形成される面がガラス又は金属である基材が特に好ましい。表面処理層が形成される面が金属である基材としては、金属からなる基材であってもよく、樹脂、ガラス、セラミックス等の非金属からなる本体の表面に金属層を有する複合基材であってもよい。金属からなる基材は、金属本体の表面に、本体とは異なる金属からなる金属層を有する複合金属基材であってもよい。
【0168】
表面処理層は、基材の表面上に直接形成されてもよいし、基材の表面に形成された他の膜を介して基材上に形成されてもよい。上記他の膜の具体例としては、国際公開第２０１１／０１６４５８号の段落００８９～００９５に記載の化合物やＳｉＯ２等で基材を下地処理して、基材の表面に形成される下地膜が挙げられる。
【0169】
また、本開示の含フッ素組成物の保存方法は、反応性シリル基を有する含フッ素化合物を含む含フッ素組成物が収容された密閉容器内の気相部における二酸化炭素の濃度を、２５℃で４～３８０体積ｐｐｍに維持する方法であってもよい。
密閉容器内の気相部における二酸化炭素の濃度を、２５℃で４～３８０体積ｐｐｍに維持する方法は特に限定されず、例えば、密閉容器の蓋を開けずに、密閉容器を保存する環境における温度変化を２０℃以下に保持する方法が挙げられる。
気相部における二酸化炭素の濃度は、２５℃で５～３５０体積ｐｐｍであることが好ましい。また、密閉容器内部の体積に占める気相部の割合は、１０～６０体積％であることが好ましい。
含フッ素組成物及び密閉容器の好ましい態様は、上記のとおりである。
密閉容器内の気相部における二酸化炭素の濃度を、２５℃で４～３８０体積ｐｐｍに維持する方法は特に限定されず、例えば、密閉容器の蓋を開けずに、密閉容器を保存する環境における温度変化を２０℃以下に保持する方法が挙げられる。
気相部における二酸化炭素の濃度は、２５℃で５～３５０体積ｐｐｍであることが好ましい。また、密閉容器内部の体積に占める気相部の割合は、１０～６０体積％であることが好ましい。
含フッ素組成物及び密閉容器の好ましい態様は、上記のとおりである。
【0170】
＜含フッ素組成物入り容器＞
本開示の含フッ素組成物の含フッ素組成物入り容器は、反応性シリル基を有する含フッ素化合物を含む含フッ素組成物が収容された状態で密閉されており、気相部における二酸化炭素の濃度が２５℃で４～３８０体積ｐｐｍである。
気相部における二酸化炭素の濃度は、２５℃で５～３５０体積ｐｐｍであることが好ましい。また、容器内部の体積に占める気相部の割合は、１０～６０体積％であることが好ましい。
含フッ素組成物及び容器の好ましい態様は、上記のとおりである。
本開示の含フッ素組成物の含フッ素組成物入り容器は、反応性シリル基を有する含フッ素化合物を含む含フッ素組成物が収容された状態で密閉されており、気相部における二酸化炭素の濃度が２５℃で４～３８０体積ｐｐｍである。
気相部における二酸化炭素の濃度は、２５℃で５～３５０体積ｐｐｍであることが好ましい。また、容器内部の体積に占める気相部の割合は、１０～６０体積％であることが好ましい。
含フッ素組成物及び容器の好ましい態様は、上記のとおりである。
【0171】
＜含フッ素組成物入り容器の製造方法＞
本開示の含フッ素組成物入り容器の製造方法は、反応性シリル基を有する含フッ素化合物を含む含フッ素組成物が収容された容器を密閉することを含み、容器内の気相部における二酸化炭素の濃度を２５℃で４～３８０体積ｐｐｍとする方法である。
気相部における二酸化炭素の濃度は、２５℃で５～３５０体積ｐｐｍであることが好ましい。また、容器内部の体積に占める気相部の割合は、１０～６０体積％であることが好ましい。
含フッ素組成物及び容器の好ましい態様は、上記のとおりである。
本開示の含フッ素組成物入り容器の製造方法は、反応性シリル基を有する含フッ素化合物を含む含フッ素組成物が収容された容器を密閉することを含み、容器内の気相部における二酸化炭素の濃度を２５℃で４～３８０体積ｐｐｍとする方法である。
気相部における二酸化炭素の濃度は、２５℃で５～３５０体積ｐｐｍであることが好ましい。また、容器内部の体積に占める気相部の割合は、１０～６０体積％であることが好ましい。
含フッ素組成物及び容器の好ましい態様は、上記のとおりである。
【実施例0172】
以下に実施例を用いて本発明をさらに詳しく説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。なお、例１及び例７～９が比較例であり、例２～６及び例１０～２０が実施例である。
【0173】
［化合物１の合成］
特開２０１４－２１８６３９号公報の合成例１１～１５に記載の方法に従い、下記化合物１を得た。化合物１において、ｍは１８、ｎは２２である。化合物１の数平均分子量は４６００である。なお、ｍ個の（ＣＦ２Ｏ）鎖と、ｎ個の（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）鎖とはランダムに配列されている。
特開２０１４－２１８６３９号公報の合成例１１～１５に記載の方法に従い、下記化合物１を得た。化合物１において、ｍは１８、ｎは２２である。化合物１の数平均分子量は４６００である。なお、ｍ個の（ＣＦ２Ｏ）鎖と、ｎ個の（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）鎖とはランダムに配列されている。
【0174】
【化38】
【0175】
［化合物２の合成、及び組成物１の調製］
国際公開第２０２０／０７１３３０号に記載されている化合物Ａ－２の合成方法に従い、下記化合物２を得た。化合物２において、ｎは１３である。化合物２の数平均分子量は５０３５である。
国際公開第２０２０／０７１３３０号に記載されている化合物Ａ－２の合成方法に従い、下記化合物２を得た。化合物２において、ｎは１３である。化合物２の数平均分子量は５０３５である。
【化39】
【0176】
次に、得られた化合物１をＣ４Ｆ９ＯＣ２Ｈ５（製品名「ノベック－７２００」、３Ｍ社製）で希釈し、化合物１の濃度が２０質量％である組成物１を得た。
【0177】
［容器への収容］
次に、得られた各化合物又は組成物を容器に収容した。
例１～９については、化合物１の１００ｇを、ガラス製の１００ｍＬバイアル瓶（製品名「シリンジバイアル」、マルエム社製、実容量１２４ｍＬ）に収容した。容器内部の体積に占める気相部の割合は、４９．６体積％であった。
例１０～１１については、化合物１の１６５ｇを、ガラス製の１００ｍＬバイアル瓶（製品名「シリンジバイアル」、マルエム社製、実容量１２４ｍＬ）に収容した。容器内部の体積に占める気相部の割合は、１６．８体積％であった。
例１２～１３については、化合物１の８５ｇを、ガラス製の１００ｍＬバイアル瓶（製品名「シリンジバイアル」、マルエム社製、実容量１２４ｍＬ）に収容した。容器内部の体積に占める気相部の割合は、５７．２体積％であった。
例１４については、化合物１の１０ｇを、ガラス製の１０ｍＬバイアル瓶（製品名「シリンジバイアル」、マルエム社製、実容量１２．４ｍＬ）に収容した。容器内部の体積に占める気相部の割合は、４９．６体積％であった。
例１５については、組成物１の１００ｇを、ガラス製の１００ｍＬバイアル瓶（製品名「シリンジバイアル」、マルエム社製、実容量１２４ｍＬ）に収容した。容器内部の体積に占める気相部の割合は、４６．２体積％であった。
例１６については、組成物１の１０００ｇを、ガラス製の１０００ｍＬ細口瓶（製品名「細口瓶」、マルエム社製、実容量１１２０ｍＬ）に収容した。容器内部の体積に占める気相部の割合は、４０．５体積％であった。
例１７～１９については、化合物２の１００ｇを、ガラス製の１００ｍＬバイアル瓶（製品名「シリンジバイアル」、マルエム社製、実容量１２４ｍＬ）に収容した。容器内部の体積に占める気相部の割合は、５５．２体積％であった。
例２０については、化合物２の１０ｇを、ガラス製の１０ｍＬバイアル瓶（製品名「シリンジバイアル」、マルエム社製、実容量１２．４ｍＬ）に収容した。容器内部の体積に占める気相部の割合は、５５．２体積％であった。
次いで、例１～６及び例１０～２０については、気相部における二酸化炭素の濃度が表１に記載の濃度となるまで容器内に乾燥窒素を供給した。例８～９については、気相部における二酸化炭素の濃度が表１に記載の濃度となるまで容器内に二酸化炭素を供給した。例７については、容器内に乾燥窒素及び二酸化炭素の供給を行わなかった。その後、容器を密閉した。
上述のようにして気相部における二酸化炭素の濃度を調整した後、恒温槽内において２５℃で３０日間保存した。３０日間保存した後、気相部における二酸化炭素の濃度は、容器を密閉した際の、気相部における二酸化炭素の濃度と同じであり、保存中に二酸化炭素の濃度は維持されていた。
次に、得られた各化合物又は組成物を容器に収容した。
例１～９については、化合物１の１００ｇを、ガラス製の１００ｍＬバイアル瓶（製品名「シリンジバイアル」、マルエム社製、実容量１２４ｍＬ）に収容した。容器内部の体積に占める気相部の割合は、４９．６体積％であった。
例１０～１１については、化合物１の１６５ｇを、ガラス製の１００ｍＬバイアル瓶（製品名「シリンジバイアル」、マルエム社製、実容量１２４ｍＬ）に収容した。容器内部の体積に占める気相部の割合は、１６．８体積％であった。
例１２～１３については、化合物１の８５ｇを、ガラス製の１００ｍＬバイアル瓶（製品名「シリンジバイアル」、マルエム社製、実容量１２４ｍＬ）に収容した。容器内部の体積に占める気相部の割合は、５７．２体積％であった。
例１４については、化合物１の１０ｇを、ガラス製の１０ｍＬバイアル瓶（製品名「シリンジバイアル」、マルエム社製、実容量１２．４ｍＬ）に収容した。容器内部の体積に占める気相部の割合は、４９．６体積％であった。
例１５については、組成物１の１００ｇを、ガラス製の１００ｍＬバイアル瓶（製品名「シリンジバイアル」、マルエム社製、実容量１２４ｍＬ）に収容した。容器内部の体積に占める気相部の割合は、４６．２体積％であった。
例１６については、組成物１の１０００ｇを、ガラス製の１０００ｍＬ細口瓶（製品名「細口瓶」、マルエム社製、実容量１１２０ｍＬ）に収容した。容器内部の体積に占める気相部の割合は、４０．５体積％であった。
例１７～１９については、化合物２の１００ｇを、ガラス製の１００ｍＬバイアル瓶（製品名「シリンジバイアル」、マルエム社製、実容量１２４ｍＬ）に収容した。容器内部の体積に占める気相部の割合は、５５．２体積％であった。
例２０については、化合物２の１０ｇを、ガラス製の１０ｍＬバイアル瓶（製品名「シリンジバイアル」、マルエム社製、実容量１２．４ｍＬ）に収容した。容器内部の体積に占める気相部の割合は、５５．２体積％であった。
次いで、例１～６及び例１０～２０については、気相部における二酸化炭素の濃度が表１に記載の濃度となるまで容器内に乾燥窒素を供給した。例８～９については、気相部における二酸化炭素の濃度が表１に記載の濃度となるまで容器内に二酸化炭素を供給した。例７については、容器内に乾燥窒素及び二酸化炭素の供給を行わなかった。その後、容器を密閉した。
上述のようにして気相部における二酸化炭素の濃度を調整した後、恒温槽内において２５℃で３０日間保存した。３０日間保存した後、気相部における二酸化炭素の濃度は、容器を密閉した際の、気相部における二酸化炭素の濃度と同じであり、保存中に二酸化炭素の濃度は維持されていた。
【0178】
［縮合物生成の有無］
保存後の化合物１を、孔径１μｍのＰＴＦＥ製メンブランフィルターと吸引濾過器を使用して濾過し、縮合物を分取した。縮合物生成の有無を、目視により下記基準で評価した。得られた結果を表１に示す。また、得られた縮合物の生成量を表１に示す。
Ａ：縮合物の発生なし。
Ｂ：若干縮合物の生成が認められるが実用上問題なし。
Ｃ：縮合物の生成が認められ実用上問題あり。
保存後の化合物１を、孔径１μｍのＰＴＦＥ製メンブランフィルターと吸引濾過器を使用して濾過し、縮合物を分取した。縮合物生成の有無を、目視により下記基準で評価した。得られた結果を表１に示す。また、得られた縮合物の生成量を表１に示す。
Ａ：縮合物の発生なし。
Ｂ：若干縮合物の生成が認められるが実用上問題なし。
Ｃ：縮合物の生成が認められ実用上問題あり。
【0179】
［真空蒸着］
保存後の化合物１を用いて基材への真空蒸着を実施した。真空蒸着は、真空蒸着装置（製品名「ＶＴＲ－３５０Ｍ」、ＵＬＶＡＣ社製）を用いて行った。保存後の化合物１の０．５ｇを、真空蒸着装置内のモリブデン製ボートに充填し、真空蒸着装置内の圧力が１×１０－３Ｐａ以下になるよう排気した。ボートを昇温速度１０℃／分以下の速度で加熱し、水晶発振式膜厚計による蒸着速度が１ｎｍ／秒を超えた時点でシャッターを開けて基材の表面への成膜を開始させた。膜厚が約５０ｎｍとなった時点でシャッターを閉じて基材の表面への成膜を終了させた。保存後の化合物１が堆積された基材を、２００℃で３０分間加熱処理し、イソプロパノールを用いて洗浄することによって、基材の表面に表面処理層を有する物品を得た。
基材としては、化学強化ガラスを用いた。
保存後の化合物１を用いて基材への真空蒸着を実施した。真空蒸着は、真空蒸着装置（製品名「ＶＴＲ－３５０Ｍ」、ＵＬＶＡＣ社製）を用いて行った。保存後の化合物１の０．５ｇを、真空蒸着装置内のモリブデン製ボートに充填し、真空蒸着装置内の圧力が１×１０－３Ｐａ以下になるよう排気した。ボートを昇温速度１０℃／分以下の速度で加熱し、水晶発振式膜厚計による蒸着速度が１ｎｍ／秒を超えた時点でシャッターを開けて基材の表面への成膜を開始させた。膜厚が約５０ｎｍとなった時点でシャッターを閉じて基材の表面への成膜を終了させた。保存後の化合物１が堆積された基材を、２００℃で３０分間加熱処理し、イソプロパノールを用いて洗浄することによって、基材の表面に表面処理層を有する物品を得た。
基材としては、化学強化ガラスを用いた。
【0180】
［評価］
得られた物品に対して、下記評価を実施した。
＜接触角の測定方法＞
表面処理層の表面に置いた、約２μＬの蒸留水の接触角を、接触角測定装置（協和界面科学社製、ＤＭ－５００）を用いて測定した。表面処理層の表面における異なる５箇所で測定を行い、その平均値を算出した。接触角の算出には２θ法を用いた。
＜初期水接触角＞
表面処理層について、初期水接触角を前記測定方法で測定した。評価基準は下記のとおりである。
Ａ（優） ：１１５度以上。
Ｂ（良） ：１１０度以上１１５度未満。
Ｃ（可） ：１００度以上１１０度未満。
Ｄ（不可） ：１００度未満。
得られた物品に対して、下記評価を実施した。
＜接触角の測定方法＞
表面処理層の表面に置いた、約２μＬの蒸留水の接触角を、接触角測定装置（協和界面科学社製、ＤＭ－５００）を用いて測定した。表面処理層の表面における異なる５箇所で測定を行い、その平均値を算出した。接触角の算出には２θ法を用いた。
＜初期水接触角＞
表面処理層について、初期水接触角を前記測定方法で測定した。評価基準は下記のとおりである。
Ａ（優） ：１１５度以上。
Ｂ（良） ：１１０度以上１１５度未満。
Ｃ（可） ：１００度以上１１０度未満。
Ｄ（不可） ：１００度未満。
【0181】
＜耐摩擦性（消しゴム）＞
表面処理層について、ＪＩＳ Ｌ０８４９：２０１３（ＩＳＯ １０５－Ｘ１２：２００１）に準拠して往復式トラバース試験機（ケイエヌテー社製）を用い、Ｒｕｂｂｅｒ Ｅｒａｓｅｒ（Ｍｉｎｏａｎ社製）を荷重：４．９Ｎ、速度：６０ｒｐｍで１万回往復させた後、水接触角を測定した。摩擦後の撥水性（水接触角）の低下が小さいほど摩擦による性能の低下が小さく、耐摩擦性に優れる。評価基準は下記のとおりである。
Ａ（優） ：１万回往復後の水接触角の変化が２度以下。
Ｂ（良） ：１万回往復後の水接触角の変化が２度超５度以下。
Ｃ（可） ：１万回往復後の水接触角の変化が５度超１０度以下。
Ｄ（不可） ：１万回往復後の水接触角の変化が１０度超。
表面処理層について、ＪＩＳ Ｌ０８４９：２０１３（ＩＳＯ １０５－Ｘ１２：２００１）に準拠して往復式トラバース試験機（ケイエヌテー社製）を用い、Ｒｕｂｂｅｒ Ｅｒａｓｅｒ（Ｍｉｎｏａｎ社製）を荷重：４．９Ｎ、速度：６０ｒｐｍで１万回往復させた後、水接触角を測定した。摩擦後の撥水性（水接触角）の低下が小さいほど摩擦による性能の低下が小さく、耐摩擦性に優れる。評価基準は下記のとおりである。
Ａ（優） ：１万回往復後の水接触角の変化が２度以下。
Ｂ（良） ：１万回往復後の水接触角の変化が２度超５度以下。
Ｃ（可） ：１万回往復後の水接触角の変化が５度超１０度以下。
Ｄ（不可） ：１万回往復後の水接触角の変化が１０度超。
【0182】
＜耐摩擦性（スチールウール）＞
表面処理層について、ＪＩＳ Ｌ０８４９：２０１３（ＩＳＯ １０５－Ｘ１２：２００１）に準拠して往復式トラバース試験機（ケイエヌテー社製）を用い、スチールウールボンスター（♯００００）を圧力：９８．０７ｋＰａ、速度：３２０ｃｍ／分で１万回往復させた後、水接触角を測定した。摩擦後の撥水性（水接触角）の低下が小さいほど摩擦による性能の低下が小さく、耐摩擦性に優れる。評価基準は下記のとおりである。
Ａ（優） ：１万回往復後の水接触角の変化が２度以下。
Ｂ（良） ：１万回往復後の水接触角の変化が２度超５度以下。
Ｃ（可） ：１万回往復後の水接触角の変化が５度超１０度以下。
Ｄ（不可） ：１万回往復後の水接触角の変化が１０度超。
表面処理層について、ＪＩＳ Ｌ０８４９：２０１３（ＩＳＯ １０５－Ｘ１２：２００１）に準拠して往復式トラバース試験機（ケイエヌテー社製）を用い、スチールウールボンスター（♯００００）を圧力：９８．０７ｋＰａ、速度：３２０ｃｍ／分で１万回往復させた後、水接触角を測定した。摩擦後の撥水性（水接触角）の低下が小さいほど摩擦による性能の低下が小さく、耐摩擦性に優れる。評価基準は下記のとおりである。
Ａ（優） ：１万回往復後の水接触角の変化が２度以下。
Ｂ（良） ：１万回往復後の水接触角の変化が２度超５度以下。
Ｃ（可） ：１万回往復後の水接触角の変化が５度超１０度以下。
Ｄ（不可） ：１万回往復後の水接触角の変化が１０度超。
【0183】
【表1】
【0184】
表１に示すように、容器内の気相部における二酸化炭素の濃度を、２５℃で４～３８０体積ｐｐｍの範囲内とすることで、保存された含フッ素組成物を用いて表面処理を行った場合に、基材に対して、耐摩擦性に優れた表面処理層を形成できることが分かった。