(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】公開特許公報(A)
(11)【公開番号】P2023116395
(43)【公開日】2023-08-22
(54)【発明の名称】薬液供給装置、洗浄システム及び薬液供給方法
(51)【国際特許分類】
H01L 21/304 20060101AFI20230815BHJP
【ＦＩ】
H01L21/304 648G
H01L21/304 648K
H01L21/304 643
【審査請求】未請求
【請求項の数】12
【出願形態】ＯＬ
(21)【出願番号】P 2022196822
(22)【出願日】2022-12-09
(31)【優先権主張番号】P 2022018685
(32)【優先日】2022-02-09
(33)【優先権主張国・地域又は機関】JP
(71)【出願人】
【識別番号】000000239
【氏名又は名称】株式会社荏原製作所
(74)【代理人】
【識別番号】100106208
【弁理士】
【氏名又は名称】宮前 徹
(74)【代理人】
【識別番号】100146710
【弁理士】
【氏名又は名称】鐘ヶ江 幸男
(74)【代理人】
【識別番号】100186613
【弁理士】
【氏名又は名称】渡邊 誠
(72)【発明者】
【氏名】豊増 富士彦
(72)【発明者】
【氏名】斎藤 賢一郎
【テーマコード（参考）】
5F157
【Ｆターム（参考）】
5F157AA96
5F157BB23
5F157BB24
5F157CD32
5F157CE32
5F157CF14
5F157CF42
5F157CF44
5F157CF60
5F157CF99
5F157DB37
(57)【要約】 （修正有）
【課題】２つのノズルに洗浄薬液を供給でき、且つ、一方のノズルには設定した流量で洗浄薬液を供給する薬液供給装置、供給方法及び洗浄システムを提供する。
【解決手段】洗浄システム５００において、薬液供給装置１００は、第１洗浄薬液供給配管２６０ａと、第１薬液と水とを混合して第１洗浄薬液を生成する第１混合器１２３ａと、第１供給量制御装置１５２ａと、を備え、第１洗浄薬液供給配管は、第１混合器から第１分流点２７１ａまでの流路を構成する上流配管２６１ａと、第１分流点から基板洗浄装置４００の第１ノズルまでの流路を構成する第１配管２６２ａと、第１分流点から第２ノズルまでの流路を構成する第２配管２６３ａと、を有する。第１供給量制御装置は、第１洗浄薬液供給配管の第１配管内の第１洗浄薬液の流量に基づいて、第１洗浄薬液供給配管の第１配管を流れる第１洗浄薬液の流量を、設定されている流量になるようにフィードバック制御する。
【選択図】図１Ａ
【解決手段】洗浄システム５００において、薬液供給装置１００は、第１洗浄薬液供給配管２６０ａと、第１薬液と水とを混合して第１洗浄薬液を生成する第１混合器１２３ａと、第１供給量制御装置１５２ａと、を備え、第１洗浄薬液供給配管は、第１混合器から第１分流点２７１ａまでの流路を構成する上流配管２６１ａと、第１分流点から基板洗浄装置４００の第１ノズルまでの流路を構成する第１配管２６２ａと、第１分流点から第２ノズルまでの流路を構成する第２配管２６３ａと、を有する。第１供給量制御装置は、第１洗浄薬液供給配管の第１配管内の第１洗浄薬液の流量に基づいて、第１洗浄薬液供給配管の第１配管を流れる第１洗浄薬液の流量を、設定されている流量になるようにフィードバック制御する。
【選択図】図１Ａ
【特許請求の範囲】
【請求項1】
薬液供給装置であって、
第１洗浄薬液供給配管と、
第１薬液と水とを混合して第１洗浄薬液を生成する第１混合器と、
第１供給量制御装置と、を備え、
前記第１洗浄薬液供給配管は、
前記第１混合器から第１分流点までの流路を構成する上流配管と、
前記第１分流点から第１ノズルまでの流路を構成する第１配管と、
前記第１分流点から第２ノズルまでの流路を構成する第２配管と、
を有し、
前記第１供給量制御装置は、前記第１洗浄薬液供給配管の前記第１配管内の前記第１洗浄薬液の流量に基づいて、前記第１洗浄薬液供給配管の前記第１配管を流れる前記第１洗浄薬液の流量を、設定されている流量になるようにフィードバック制御するように構成されている、
薬液供給装置。
第１洗浄薬液供給配管と、
第１薬液と水とを混合して第１洗浄薬液を生成する第１混合器と、
第１供給量制御装置と、を備え、
前記第１洗浄薬液供給配管は、
前記第１混合器から第１分流点までの流路を構成する上流配管と、
前記第１分流点から第１ノズルまでの流路を構成する第１配管と、
前記第１分流点から第２ノズルまでの流路を構成する第２配管と、
を有し、
前記第１供給量制御装置は、前記第１洗浄薬液供給配管の前記第１配管内の前記第１洗浄薬液の流量に基づいて、前記第１洗浄薬液供給配管の前記第１配管を流れる前記第１洗浄薬液の流量を、設定されている流量になるようにフィードバック制御するように構成されている、
薬液供給装置。
【請求項2】
請求項１に記載の薬液供給装置であって、
前記第２配管内の前記第１洗浄薬液の流量に基づいて、前記第２配管を流れる前記第１洗浄薬液の流量を、設定されている流量になるようにフィードバック制御するように構成されている、第２供給量制御装置を、さらに備える、薬液供給装置。
前記第２配管内の前記第１洗浄薬液の流量に基づいて、前記第２配管を流れる前記第１洗浄薬液の流量を、設定されている流量になるようにフィードバック制御するように構成されている、第２供給量制御装置を、さらに備える、薬液供給装置。
【請求項3】
請求項１又は２に記載の薬液供給装置であって、
前記第１洗浄薬液供給配管は、フィードバック制御により流量を調整するための流量制御装置を介することなく、前記第１混合器と大気とを流体連通させるための第３配管を有する、
薬液供給装置。
前記第１洗浄薬液供給配管は、フィードバック制御により流量を調整するための流量制御装置を介することなく、前記第１混合器と大気とを流体連通させるための第３配管を有する、
薬液供給装置。
【請求項4】
請求項３に記載の薬液供給装置であって、
第２洗浄薬液供給配管と、
第２薬液と水とを混合して第２洗浄薬液を生成する第２混合器と、
第３供給量制御装置と、
を備え、
前記第２洗浄薬液供給配管は、
前記第１混合器から第２分流点までの流路を構成する上流配管と、
前記第２分流点から第３ノズルまでの流路を構成する第１配管と、
前記第２分流点から第４ノズルまでの流路を構成する第２配管と、
を有し、
前記第３供給量制御装置は、前記第２洗浄薬液供給配管の前記第１配管内の前記第２薬液の流量に基づいて、前記第２洗浄薬液供給配管の前記第２配管を流れる前記第２洗浄薬液の流量を、設定されている流量になるようにフィードバック制御するように構成されている、
薬液供給装置。
第２洗浄薬液供給配管と、
第２薬液と水とを混合して第２洗浄薬液を生成する第２混合器と、
第３供給量制御装置と、
を備え、
前記第２洗浄薬液供給配管は、
前記第１混合器から第２分流点までの流路を構成する上流配管と、
前記第２分流点から第３ノズルまでの流路を構成する第１配管と、
前記第２分流点から第４ノズルまでの流路を構成する第２配管と、
を有し、
前記第３供給量制御装置は、前記第２洗浄薬液供給配管の前記第１配管内の前記第２薬液の流量に基づいて、前記第２洗浄薬液供給配管の前記第２配管を流れる前記第２洗浄薬液の流量を、設定されている流量になるようにフィードバック制御するように構成されている、
薬液供給装置。
【請求項5】
請求項４に記載の薬液供給装置であって、
第１薬液供給源から前記第１混合器に供給される前記第１薬液の流量を設定されている流量になるようにフィードバック制御するための第１薬液制御装置と、
第２薬液供給源から前記第２混合器に供給される前記第２薬液の流量を設定されている流量になるようにフィードバック制御するための第２薬液制御装置と、
水供給源から前記第１混合器に供給される水の流量を設定されている流量になるように
フィードバック制御するための第１希釈水制御装置と、
前記水供給源から前記第２混合器に供給される水の流量を設定されている流量になるようにフィードバック制御するための第２希釈水制御装置と、
を備える、薬液供給装置。
第１薬液供給源から前記第１混合器に供給される前記第１薬液の流量を設定されている流量になるようにフィードバック制御するための第１薬液制御装置と、
第２薬液供給源から前記第２混合器に供給される前記第２薬液の流量を設定されている流量になるようにフィードバック制御するための第２薬液制御装置と、
水供給源から前記第１混合器に供給される水の流量を設定されている流量になるように
フィードバック制御するための第１希釈水制御装置と、
前記水供給源から前記第２混合器に供給される水の流量を設定されている流量になるようにフィードバック制御するための第２希釈水制御装置と、
を備える、薬液供給装置。
【請求項6】
請求項５に記載の薬液供給装置であって、
前記第１薬液制御装置及び前記第１希釈水制御装置は、流量制御装置に含まれ、
前記流量制御装置は、流量を計測するための差圧式流量計を有し、計測値に基づいて流量を制御するように構成され、
前記薬液供給装置は、
前記第１薬液供給源又は前記水供給源と、前記流量制御装置との間に設けられるイン側圧力計と、
前記流量制御装置と第１供給量制御装置との間に設けられるアウト側圧力計と、を有する、
薬液供給装置。
前記第１薬液制御装置及び前記第１希釈水制御装置は、流量制御装置に含まれ、
前記流量制御装置は、流量を計測するための差圧式流量計を有し、計測値に基づいて流量を制御するように構成され、
前記薬液供給装置は、
前記第１薬液供給源又は前記水供給源と、前記流量制御装置との間に設けられるイン側圧力計と、
前記流量制御装置と第１供給量制御装置との間に設けられるアウト側圧力計と、を有する、
薬液供給装置。
【請求項7】
洗浄システムであって、
請求項４に記載の薬液供給装置と、
基板を洗浄するための基板洗浄装置と、
を備え、
前記基板洗浄装置は、前記第１ノズル及び前記第２ノズルを有し、
前記第１ノズルは、前記基板の第１面に前記第１洗浄薬液を供給するように構成され、
前記第２ノズルは、前記基板の第２面に前記第１洗浄薬液を供給するように構成される、
洗浄システム。
請求項４に記載の薬液供給装置と、
基板を洗浄するための基板洗浄装置と、
を備え、
前記基板洗浄装置は、前記第１ノズル及び前記第２ノズルを有し、
前記第１ノズルは、前記基板の第１面に前記第１洗浄薬液を供給するように構成され、
前記第２ノズルは、前記基板の第２面に前記第１洗浄薬液を供給するように構成される、
洗浄システム。
【請求項8】
請求項７に記載の洗浄システムであって、
前記基板洗浄装置は、前記第３ノズル及び前記第４ノズルを有し、
第３ノズルは、前記基板の前記第１面に前記第２洗浄薬液を供給するように構成され、
第４ノズルは、前記基板の前記第２面に前記第２洗浄薬液を供給するように構成される、
洗浄システム。
前記基板洗浄装置は、前記第３ノズル及び前記第４ノズルを有し、
第３ノズルは、前記基板の前記第１面に前記第２洗浄薬液を供給するように構成され、
第４ノズルは、前記基板の前記第２面に前記第２洗浄薬液を供給するように構成される、
洗浄システム。
【請求項9】
請求項７に記載の洗浄システムであって、
前記基板洗浄装置は、前記基板に前記第１洗浄薬液を供給するように構成された待機部を有し、
前記第１洗浄薬液供給配管は、前記第３配管を介して、前記第１混合器と前記待機部とを接続するように構成されている、
洗浄システム。
前記基板洗浄装置は、前記基板に前記第１洗浄薬液を供給するように構成された待機部を有し、
前記第１洗浄薬液供給配管は、前記第３配管を介して、前記第１混合器と前記待機部とを接続するように構成されている、
洗浄システム。
【請求項10】
薬液供給方法であって、
第１薬液と水とを混合して第１洗浄薬液を生成する工程と、
前記第１洗浄薬液が、第１混合器から第１分流点までを構成する上流配管を流れる工程と、
前記第１洗浄薬液が、前記第１分流点から第１ノズルまでを構成する第１配管を流れる工程と、
前記第１洗浄薬液が、前記第１分流点から第２ノズルまでを構成する第２配管を流れる工程と、
第１供給量制御装置が、前記第１配管内の前記第１洗浄薬液の流量に基づいて、前記第１配管を流れる前記第１洗浄薬液の流量を、設定されている流量になるようにフィードバ
ック制御する工程と、
を有する、薬液供給方法。
第１薬液と水とを混合して第１洗浄薬液を生成する工程と、
前記第１洗浄薬液が、第１混合器から第１分流点までを構成する上流配管を流れる工程と、
前記第１洗浄薬液が、前記第１分流点から第１ノズルまでを構成する第１配管を流れる工程と、
前記第１洗浄薬液が、前記第１分流点から第２ノズルまでを構成する第２配管を流れる工程と、
第１供給量制御装置が、前記第１配管内の前記第１洗浄薬液の流量に基づいて、前記第１配管を流れる前記第１洗浄薬液の流量を、設定されている流量になるようにフィードバ
ック制御する工程と、
を有する、薬液供給方法。
【請求項11】
請求項１又は２に記載の薬液供給装置であって、
前記第１洗浄薬液供給配管上の、前記第１供給量制御装置の上流又は前記第１供給量制御装置の下流に設けられるバルブをさらに備える、
薬液供給装置。
前記第１洗浄薬液供給配管上の、前記第１供給量制御装置の上流又は前記第１供給量制御装置の下流に設けられるバルブをさらに備える、
薬液供給装置。
【請求項12】
請求項１１に記載の薬液供給装置であって、
前記バルブは、前記第１供給量制御装置の下流に設けられる、
薬液供給装置。
前記バルブは、前記第１供給量制御装置の下流に設けられる、
薬液供給装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、薬液供給装置、洗浄システム及び薬液供給方法に関する。
【背景技術】
【0002】
半導体製造工程において、基板表面を平坦化させるためにＣＭＰ（Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｍｅｃｈａｎｉｃａｌ Ｐｏｌｉｓｈｉｎｇ）装置が使用されている。ＣＭＰ装置は、基板の表面を研磨するための研磨装置と、基板を洗浄するための洗浄装置とを有し得る。例えば、特許文献１には、洗浄装置の一例が開示されている。
【0003】
特許文献１に開示される洗浄ユニット（洗浄装置）は、その図６に示されるように、インライン混合器１１５と、洗浄薬液配管９６と、３つの洗浄薬液供給配管２３１，２３２，２３３と、待機部２２１と、上面洗浄部２２２と、下面洗浄部２２３と、洗浄薬液供給バルブ２２４，２２６，２２８とを備えている。そして、洗浄薬液配管９６は、インライン混合器１１５と、３つの洗浄薬液供給配管２３１，２３２，２３３との間を接続している。洗浄薬液供給配管２３１は、洗浄薬液配管９６と待機部２２１とを流体連通させ、バルブ２２４が設けられている。洗浄薬液供給配管２３２は、洗浄薬液配管９６と上面洗浄部２２２とを流体連通させ、バルブ２２６が設けられている。洗浄薬液供給配管２３３は、洗浄薬液配管９６と下面洗浄部２２３とを流体連通させ、バルブ２２８が設けられている。これにより、特許文献１に開示される洗浄ユニットでは、インライン混合器１１５から供給される洗浄薬液が、分流して３つの洗浄薬液供給配管２３１，２３２，２３３内を流れ、待機部２２１、上面洗浄部２２２及び下面洗浄部２２３にそれぞれ供給される。そして、上面洗浄部２２２及び下面洗浄部２２３が、一枚の基板の上面と下面を同時に洗浄できる。
【0004】
また、特許文献２には、洗浄装置に洗浄薬液を供給するための薬液供給装置が開示されている。特許文献２に開示される薬液供給装置１００は、その図２に示されるように第１インライン混合器７２を有する。そして、第１インライン混合器７２で生成された第１洗浄薬液が、第１洗浄薬液配管９６を介して洗浄装置２００の薬液洗浄部２２０に供給され、薬液洗浄部２２０において、洗浄対象物（基板）が第１洗浄薬液で洗浄される。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0005】
【特許文献1】特開２０１６－１５４６９号公報
【特許文献2】特開２０１８－１８１８８３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0006】
近年の半導体技術の進歩に伴い、半導体基板の表面に形成される配線幅を細くすることが求められている。半導体基板の表面により細い配線を形成するためには、基板表面に付着したより小さな粒子が除去されることが必要となり、このような小さな粒子を除去するための洗浄プロセスの開発が求められている。洗浄装置が除去できる粒子の大きさは、洗浄薬液の種類、濃度、流量等に応じて、変化するものと考えられる。したがって、半導体基板の表面を洗浄するノズルに、設定した濃度と流量で洗浄薬液を供給できるような装置が、洗浄プロセスの開発に必要となり得る。また、洗浄プロセスでは、半導体基板の表面だけでなく裏面の洗浄も必要な場合もある。したがって、半導体基板の裏面を洗浄するノズルに、設定した流量で洗浄薬液を供給できるような装置も、洗浄プロセスの開発に必要となり得る。
【0007】
これに対し、特許文献１に開示されている洗浄ユニットでは、３つの洗浄薬液供給配管２３１，２３２，２３３のそれぞれに３つの洗浄薬液供給バルブ２２４，２２６，２２８が設けられていて、３つの洗浄薬液供給バルブ２２４，２２６，２２８の開閉制御されることで、基板に洗浄薬液が供給される。しかしながら、特許文献１には、３つの洗浄薬液供給バルブ２２４，２２６，２２８の制御がどのように行われるか開示されていない。したがって、洗浄薬液が基板の表面を洗浄するノズルに意図した流量で供給されない虞がある。
【0008】
また、特許文献２にも、第１インライン混合器７２から供給される第１洗浄薬液がどのように基板の表面や裏面に供給されるのかが開示されていない。このため、特許文献２の薬液供給装置が供給した第１洗浄薬液が、基板の表面を洗浄するノズルに意図した流量で供給されない虞がある。
【0009】
そこで、本開示は、２つのノズルに洗浄薬液を供給でき、且つ、一方のノズルには設定した流量で洗浄薬液を供給できる薬液供給装置、洗浄システム及び薬液供給方法を提供することを目的の１つとする。
【課題を解決するための手段】
【0010】
一実施形態に係る薬液供給装置は、薬液供給装置であって、第１洗浄薬液供給配管と、第１薬液と水とを混合して第１洗浄薬液を生成する第１混合器と、第１供給量制御装置と、を備え、前記第１洗浄薬液供給配管は、前記第１混合器から第１分流点までの流路を構成する上流配管と、前記第１分流点から第１ノズルまでの流路を構成する第１配管と、前記第１分流点から第２ノズルまでの流路を構成する第２配管と、を有し、前記第１供給量制御装置は、前記第１洗浄薬液供給配管の前記第１配管内の前記第１洗浄薬液の流量に基づいて、前記第１洗浄薬液供給配管の前記第１配管を流れる前記第１洗浄薬液の流量を、設定されている流量になるようにフィードバック制御するように構成されている。
【0011】
一実施形態に係る薬液供給方法は、薬液供給方法であって、第１薬液と水とを混合して第１洗浄薬液を生成する工程と、前記第１洗浄薬液が、第１混合器から第１分流点までを構成する上流配管を流れる工程と、前記第１洗浄薬液が、前記第１分流点から第１ノズルまでを構成する第１配管を流れる工程と、前記第１洗浄薬液が、前記第１分流点から第２ノズルまでを構成する第２配管を流れる工程と、第１供給量制御装置が、前記第１配管内の前記第１洗浄薬液の流量に基づいて、前記第１配管を流れる前記第１洗浄薬液の流量を、設定されている流量になるようにフィードバック制御する工程と、を有する。
【図面の簡単な説明】
【0012】
【図1A】本開示の実施形態に係る洗浄システムの流体回路図である。
【図3】流量制御装置の構成を示す流体回路図である。
【図4A】本開示の別の実施形態に係る洗浄システムの流体回路図である。
【図5】本開示のさらに別の実施形態に係る洗浄システムの流体回路図である。
【図6】本開示のさらに別の実施形態に係る洗浄システムの流体回路図である。
【図7】本開示のさらに別の実施形態に係る洗浄システムの流体回路図である。
【図8】本開示のさらに別の実施形態に係る洗浄システムの流体回路図である。
【発明を実施するための形態】
【0013】
以下、本発明の実施形態について図面を参照して説明する。以下で説明する図面におい
て、同一又は相当する構成要素には、同一の符号を付して重複した説明を省略する。
て、同一又は相当する構成要素には、同一の符号を付して重複した説明を省略する。
【0014】
図１Ａは、本開示の実施形態に係る洗浄システム５００の流体回路図である。図１Ｂは、図１Ａの基板洗浄装置４００を詳細に示す流体回路図である。図１Ａを参照すると、洗浄システム５００は、薬液供給装置１００と、基板洗浄装置４００と、制御装置３２０と、を備える。薬液供給装置１００は、基板洗浄装置４００に、水、第１洗浄薬液及び第２洗浄薬液を供給するための装置である。基板洗浄装置４００は、薬液供給装置１００から供給された水、第１洗浄薬液及び第２洗浄薬液を使用して、基板Ｗ１，Ｗ２を洗浄するための装置である。薬液供給装置１００及び基板洗浄装置４００の各構成について以下に説明する。
【0015】
図１Ａに示されるように、基板洗浄装置４００は、水洗浄部４１０、第１洗浄槽４２０、及び第２洗浄槽４４０を備える。水洗浄部４１０は、研磨装置で研磨された基板Ｗ１，Ｗ２を、水（ＤＩＷ）を用いて洗浄するように構成されている。水洗浄部４１０は、一例として、基板Ｗ１，Ｗ１を超音波洗浄するように構成されている。
【0016】
図１Ｂに示されるように、基板洗浄装置４００は、第１ノズル４２１ａ、第２ノズル４２２ａ及び待機部４２３ａを備える。第１ノズル４２１ａは、基板Ｗ１の第１面に、薬液供給装置１００から供給された第１洗浄薬液を供給するように構成されている。第２ノズル４２２ａは、基板Ｗ１の第２面に、薬液供給装置１００から供給された第１洗浄薬液を供給するように構成されている。これにより、基板洗浄装置４００は、第１洗浄薬液で基板Ｗ１の両面を同時に洗浄できる。なお、一例として、基板Ｗ１の第１面は、配線が形成されるパターン面であり、第２面は第１面の裏面である。また、基板Ｗ１の洗浄時には、仕様にあわせて第１面が鉛直方向や水平方向等の任意の方向に向くように、基板Ｗ１は載置されてもよい。
【0017】
また、待機部４２３ａは、第１ノズル４２１ａ及び第２ノズル４２２ａによって洗浄される前の待機中の基板Ｗ１に第１洗浄薬液を供給するように構成されている。これにより、待機中の基板Ｗ１の酸化が防止される。なお、待機部４２３ａは、基板Ｗ１またはウエハ洗浄用スポンジに第１洗浄薬液を供給するためのノズルを有していてもよい。また、第１洗浄槽４２０は、第１ノズル４２１ａ、第２ノズル４２２ａ及び待機部４２３ａを収納するように構成されている。
【0018】
また、基板洗浄装置４００は、第３ノズル４４１ａ、第４ノズル４４２ａ及び待機部４４３ａを備える。第３ノズル４４１ａは、基板Ｗ２の第１面に、薬液供給装置１００から供給された第２洗浄薬液を供給するように構成されている。第４ノズル４４２ａは、基板Ｗ２の第２面に、薬液供給装置１００から供給された第２洗浄薬液を供給するように構成されている。これにより、基板洗浄装置４００は、第２洗浄薬液で基板Ｗ２の両面を同時に洗浄できる。また、基板Ｗ２の洗浄時には、仕様にあわせて第１面が鉛直方向や水平方向等の任意の方向に向くように、基板Ｗ２は載置されてもよい。
【0019】
また、待機部４４３ａは、第３ノズル４４１ａ及び第４ノズル４４２ａによって洗浄される前の待機中の基板Ｗ２に第２洗浄薬液を供給するように構成されている。これにより、待機中の基板Ｗ２の酸化が防止される。また、第２洗浄槽４４０は、第３ノズル４４１ａ、第４ノズル４４２ａ及び待機部４４３ａを収納するように構成されている。
【0020】
次に、図２を参照する。図２に示されるように、薬液供給装置１００は、フレーム１０５と、２つの希釈水ＣＬＣボックス１１０ａ，１３０ａ（図２では、一方の希釈水ＣＬＣボックス１１０ａ，１３０ａが省略されている。）と、第１薬液ＣＬＣボックス１２０ａと、第２薬液ＣＬＣボック１４０ａと、複数のユーティリティボックス１７０ａ，１８０
ａとを備える。２つの希釈水ＣＬＣボックス１１０ａ，１３０ａ、第１薬液ＣＬＣボックス１２０ａ、第２薬液ＣＬＣボック１４０ａ、複数のユーティリティボックス１７０ａ，１８０ａは、フレーム１０５に収納されている。
ａとを備える。２つの希釈水ＣＬＣボックス１１０ａ，１３０ａ、第１薬液ＣＬＣボックス１２０ａ、第２薬液ＣＬＣボック１４０ａ、複数のユーティリティボックス１７０ａ，１８０ａは、フレーム１０５に収納されている。
【0021】
再度、図１Ａを参照すると、薬液供給装置１００は、水配管２０１、バルブ１９１、レギュレータ１９２及び圧力計１９３を備える。水配管２０１は、水供給源９０２と水洗浄部４１０と接続する。また、水供給源９０２は、一例として、ＤＩＷ等の水を供給する機能を有する。これにより、薬液供給装置１００は、水を水洗浄部４１０へ供給できる。また、バルブ１９１は、水配管２０１上の接続口２２１よりも上流側に設けられている。バルブ１９１は、制御装置３２０によって制御され、水配管２０１を流れる水の流量を制御する。レギュレータ１９２は、水洗浄部４１０へ供給される水の供給圧力を調節する機能を有する。圧力計１９３は、水配管２０１の内部を通過する水の圧力を計測する機能を有する。
【0022】
また、薬液供給装置１００は、第１混合器１２３ａ及び第１薬液配管２４０を備える。第１薬液配管２４０は、第１薬液供給源９０３と第１混合器１２３ａとを接続する。これにより、第１薬液供給源９０３と第１混合器１２３ａとは、流体連通している。また、第１薬液供給源９０３は、一例として、アルカリ性の第１薬液を供給する機能を有する。これにより、第１薬液が、第１薬液供給源９０３から第１混合器１２３ａに供給される。
【0023】
また、薬液供給装置１００は、希釈水配管２０２，２０３を備える。希釈水配管２０２は、水配管２０１上に設けられた接続口２２１から接続口２２５ａまで延びる。希釈水配管２０３は、希釈水配管２０２上に設けられた接続口２２２から、第１薬液配管２４０上に設けられた接続口２２８ａまで延びる。これにより、水供給源９０２と第１混合器１２３ａとは、流体連通している。その結果、第１混合器１２３ａには、水供給源９０２から水が供給される。
【0024】
第１混合器１２３ａには、上述したように、第１薬液と、第１薬液を希釈するための水（希釈水）が供給される。第１混合器１２３ａは、第１薬液と水とを混合して、第１薬液が希釈された第１洗浄薬液を生成する機能を有する。
【0025】
また、薬液供給装置１００は、流量制御装置（第１希釈水制御装置，ＣＬＣ：Ｃｌｏｓｅｄ Ｌｏｏｐ Ｃｏｎｔｒｏｌｌｅｒ）１１１ａ及びバルブ１１２ａを備える。バルブ１１２ａは、希釈水配管２０３上に設けられている。バルブ１１２ａは、制御装置３２０によって制御され、開閉される。また、流量制御装置１１１ａは、希釈水配管２０３上に設けられている。そして、流量制御装置１１１ａは、希釈水配管２０３内の水の流量に基づいて、希釈水配管２０３を流れる水の流量を、設定されている流量になるようにフィードバック制御するように構成されている。別言すると、流量制御装置１１１ａは、水供給源９０２から第１混合器１２３ａに供給される水の流量を設定されている流量になるようにフィードバック制御するように構成されている。
【0026】
より詳細には、流量制御装置１１１ａは、一例として図３に示される構成を有する。図３は、図１Ａに示した流量制御装置１１１ａの構成を示す流体回路図である。流量制御装置１１１ａは、流量計１１１２と、流量制御弁１１１１と、制御部１１１３と、を備えている。流量計１１１２は、一例として、差圧式流量計（オリフィス流量計）である。なお、本開示に係る別の実施形態では、流量計１１１２は、超音波流量計等の他の流量計であってもよい。流量制御弁１１１１は、一例として、モータバルブであり、弁本体１１１１ａの開度がモータを備える駆動源１１１１ｂの動力によって制御される。なお、本開示に係る別の実施形態では、流量制御弁１１１１は、開度が調整可能な弁であればよく、他の種類の可変流量弁（例えば、ソレノイド等で駆動される電磁弁）であってもよい。制御部
１１１３は、制御装置３２０（図１Ａ参照）から流体の流量設定値ｉＴを受け取るとともに、流量計１１１２から流体の流量検出値ｉｏを受け取り、流量検出値ｉｏが流量設定値ｉＴに一致するように流量制御弁１１１１をフィードバック制御するように構成されている。なお、後述する他の流量制御装置は、一例として、ここで説明した流量制御装置１１１ａと同じ構成を有している。
１１１３は、制御装置３２０（図１Ａ参照）から流体の流量設定値ｉＴを受け取るとともに、流量計１１１２から流体の流量検出値ｉｏを受け取り、流量検出値ｉｏが流量設定値ｉＴに一致するように流量制御弁１１１１をフィードバック制御するように構成されている。なお、後述する他の流量制御装置は、一例として、ここで説明した流量制御装置１１１ａと同じ構成を有している。
【0027】
また、薬液供給装置１００は、流量制御装置（第１薬液制御装置）１２１ａ及びバルブ１２２ａを備える（図１Ａ参照）。バルブ１２２ａは、第１薬液配管２４０上に設けられている。バルブ１２２ａは、制御装置３２０によって制御され、開閉される。また、流量制御装置１２１ａは、第１薬液配管２４０上に設けられている。そして、流量制御装置１２１ａは、第１薬液配管２４０内の第１薬液の流量に基づいて、第１薬液配管２４０を流れる第１薬液の流量を、設定されている流量になるようにフィードバック制御するように構成されている。別言すると、流量制御装置１２１ａは、第１薬液供給源９０３から第１混合器１２３ａに供給される第１薬液の流量を設定されている流量になるようにフィードバック制御するように構成されている。
【0028】
上述のように、薬液供給装置１００は、流量制御装置１１１ａ及び流量制御装置１２１ａを備えるため、第１薬液及び水が、それぞれ設定されている流量で第１混合器１２３ａに供給される。これにより、薬液供給装置１００は、第１混合器１２３ａ内で、第１薬液及び水が混合された所定の濃度の第１洗浄薬液を生成でき、設定された流量で第１洗浄薬液を供給できる。
【0029】
また、薬液供給装置１００は、手動バルブ１７１ａ及びバルブ１７２ａを備える。手動バルブ１７１ａ及びバルブ１７２ａは、第１薬液配管２４０上に設けられ、ユーティリティボックス１７０ａに収納されている。バルブ１７２ａは、後述するエア制御装置３００によって制御され、開閉される。
【0030】
また、薬液供給装置１００は、フラッシング水配管２０７ａ、バルブ１７４ａ及び逆止バルブ１７５ａを備える。フラッシング水配管２０７ａは、希釈水配管２０２に設けられた接続口２２４ａと、第１薬液配管２４０に設けられた接続口２３０ａとを接続する。そして、接続口２３０ａは、第１薬液配管２４０上の、流量制御装置１２１ａと、バルブ１７２ａとの間に位置している。また、バルブ１７４ａ及び逆止バルブ１７５ａは、フラッシング水配管２０７ａ上に設けられ、ユーティリティボックス１７０ａに収納されている。バルブ１７４ａは、制御装置３２０によって制御され、開閉されるように構成されている。逆止バルブ１７５ａは、接続口２３０ａから接続口２２４ａへの流れを遮断するように構成されている。バルブ１７４ａが開放されることにより、フラッシング水が、接続口２３０ａから第１薬液配管２４０に流れ込む。これにより、薬液供給装置１００は、第１薬液配管２４０内の第１薬液を水で置換して、第１薬液配管２４０の内部を洗浄できる。
【0031】
また、薬液供給装置１００は、第１洗浄薬液供給配管２６０ａを備える。第１洗浄薬液供給配管２６０ａは、上流配管２６１ａ、第１配管２６２ａ、第２配管２６３ａ及び第３配管２６４ａを有する。上流配管２６１ａは、第１混合器１２３ａから分流点（第１分流点）２７１ａまでの流路を構成する。第１配管２６２ａは、分流点２７１ａから第１ノズル４２１ａ（図１Ｂ参照）までの流路を構成する。第２配管２６３ａは、分流点２７１ａから第２ノズル４２２ａ（図１Ｂ参照）までの流路を構成する。第３配管２６４ａは、上流配管２６１ａ上の接続口２７２ａから待機部４２３ａ（図１Ｂ参照）までの流路を構成する。別言すると、第１洗浄薬液供給配管２６０ａは、第３配管２６４ａを介して、第１混合器１２３ａと待機部４２３ａとを接続するように構成されている。これにより、第１洗浄薬液は、第１混合器１２３ａから、第１ノズル４２１ａ、第２ノズル４２２ａ及び待機部４２３ａへ流れることができる。すなわち、薬液供給装置１００は、第１ノズル４２
１ａ、第２ノズル４２２ａ及び待機部４２３ａへ第１洗浄薬液を供給できる。なお、薬液供給装置１００は、一例として、第１ノズル４２１ａに１０００～２０００ｃｃ／ｍｉｎで第１洗浄薬液を供給し、第２ノズル４２２ａに１０００～２０００ｃｃ／ｍｉｎで第１洗浄薬液を供給し、待機部４２３ａに５００～１０００ｃｃ／ｍｉｎで第１洗浄薬液を供給する。
１ａ、第２ノズル４２２ａ及び待機部４２３ａへ第１洗浄薬液を供給できる。なお、薬液供給装置１００は、一例として、第１ノズル４２１ａに１０００～２０００ｃｃ／ｍｉｎで第１洗浄薬液を供給し、第２ノズル４２２ａに１０００～２０００ｃｃ／ｍｉｎで第１洗浄薬液を供給し、待機部４２３ａに５００～１０００ｃｃ／ｍｉｎで第１洗浄薬液を供給する。
【0032】
また、薬液供給装置１００は、流量制御装置（第１供給量制御装置）１５２ａを備える。流量制御装置１５２ａは、第１配管２６２ａ上に設けられている。そして、流量制御装置１５２ａは、第１配管２６２ａ内の第１洗浄薬液の流量に基づいて、第１配管２６２ａを流れる第１洗浄薬液の流量を、設定されている流量になるようにフィードバック制御するように構成されている。これにより、薬液供給装置１００は、第１ノズル４２１ａに設定した流量で第１洗浄薬液を供給できる。
【0033】
また、薬液供給装置１００は、バルブ１５１ａ，１５３ａ，１５５ａ及び流量計１５４ａ，１５６ａを備える。バルブ１５１ａは、上流配管２６１ａ上の、接続口２７２ａと分流点２７１ａとの間に設けられている。バルブ１５３ａは、第１配管２６２ａ上に設けられている。バルブ１５５ａは、第３配管２６４ａ上に設けられている。バルブ１５１ａ，１５３ａ，１５５ａは、制御装置３２０によって制御され、開閉されるように構成されている。また、流量計１５４ａは、第２配管２６３ａ上に設けられ、第２配管２６３ａを流れる第１洗浄薬液の流量を計測する。流量計１５６ａは、第３配管２６４ａ上に設けられ、第３配管２６４ａを流れる第１洗浄薬液の流量を計測する。
【0034】
また、薬液供給装置１００は、第１洗浄薬液供給ボックス１５０ａを備える。第１洗浄薬液供給ボックス１５０ａは、流量制御装置１５２ａ、バルブ１５１ａ，１５３ａ，１５５ａ及び流量計１５４ａ，１５６ａを収納している。
【0035】
また、薬液供給装置１００は、イン側圧力計１７３ａ及びアウト側圧力計１２４ａを備える。イン側圧力計１７３ａは、第１薬液供給源９０３と、流量制御装置１２１ａとの間に設けられている。これにより、イン側圧力計１７３ａは、流量制御装置１２１ａの上流の圧力を計測できる。また、アウト側圧力計１２４ａは、流量制御装置１１１ａと流量制御装置１５２ａとの間の位置で且つ、流量制御装置１２１ａと流量制御装置１５２ａとの間の位置に設けられる。これにより、アウト側圧力計１２４ａは、流量制御装置１１１ａの下流の圧力及び流量制御装置１２１ａの下流の圧力を計測できる。なお、希釈水配管２０３は、接続口２２８ａで第１薬液配管２４０に接続されている。このため、流量制御装置１２１ａの下流の圧力は、流量制御装置１１１ａの下流側の圧力と等しい。
【0036】
また、薬液供給装置１００では、第１薬液ＣＬＣボックス１２０ａは、流量制御装置１２１ａ、バルブ１２２ａ、第１混合器１２３ａ及びアウト側圧力計１２４ａを収納している。そして、希釈水ＣＬＣボックス１１０ａは、流量制御装置１１１ａ及びバルブ１１２ａを収納している。なお、本開示に係る別の実施形態では、１つのボックスが、流量制御装置１２１ａ、バルブ１２２ａ、第１混合器１２３ａ、アウト側圧力計１２４ａ、流量制御装置１１１ａ及びバルブ１１２ａを収納してもよい。
【0037】
また、薬液供給装置１００は、第２混合器１４３ａ及び第２薬液配管２４２を備える。第２薬液配管２４２は、第２薬液供給源９０４と第２混合器１４３ａとを接続する。これにより、第２薬液供給源９０４と第２混合器１４３ａとは、流体連通している。また、第２薬液供給源９０４は、一例として、酸性の第２薬液を供給する機能を有する。これにより、第２薬液が、第２薬液供給源９０４から第２混合器１４３ａに供給される。
【0038】
また、薬液供給装置１００は、希釈水配管２０５を備える。希釈水配管２０５は、希釈
水配管２０２上に設けられた接続口２２３から、第２薬液配管２４２上に設けられた接続口２２９ａまで延びる。これにより、水供給源９０２と第２混合器１４３ａとは、流体連通している。その結果、第２混合器１４３ａには、水供給源９０２から水が供給される。
水配管２０２上に設けられた接続口２２３から、第２薬液配管２４２上に設けられた接続口２２９ａまで延びる。これにより、水供給源９０２と第２混合器１４３ａとは、流体連通している。その結果、第２混合器１４３ａには、水供給源９０２から水が供給される。
【0039】
第２混合器１４３ａには、上述したように、第２薬液と、第２薬液を希釈するため水（希釈水）が供給される。第２混合器１４３ａは、第２薬液と水とを混合して、第２薬液が希釈された第２洗浄薬液を生成する機能を有する。
【0040】
また、薬液供給装置１００は、流量制御装置（第２希釈水制御装置）１３１ａ及びバルブ１３２ａを備える。バルブ１３２ａは、希釈水配管２０５上に設けられている。バルブ１３２ａは、制御装置３２０によって制御され、開閉される。また、流量制御装置１３１ａは、希釈水配管２０５上に設けられている。そして、流量制御装置１３１ａは、希釈水配管２０５内の水の流量に基づいて、希釈水配管２０５を流れる水の流量を、設定されている流量になるようにフィードバック制御するように構成されている。別言すると、流量制御装置１３１ａは、水供給源９０２から第２混合器１４３ａに供給される水の流量を設定されている流量になるようにフィードバック制御するように構成されている。
【0041】
また、薬液供給装置１００は、流量制御装置（第２薬液制御装置）１４１ａ及びバルブ１４２ａを備える。バルブ１４２ａは、第２薬液配管２４２上に設けられている。バルブ１４２ａは、制御装置３２０によって制御され、開閉される。また、流量制御装置１４１ａは、第２薬液配管２４２上に設けられている。そして、流量制御装置１４１ａは、第２薬液配管２４２内の第２薬液の流量に基づいて、第２薬液配管２４２を流れる第２薬液の流量を、設定されている流量になるようにフィードバック制御するように構成されている。別言すると、流量制御装置１４１ａは、第２薬液供給源９０４から第２混合器１４３ａに供給される第２薬液の流量を設定されている流量になるようにフィードバック制御するように構成されている。
【0042】
上述のように、薬液供給装置１００は、流量制御装置１３１ａ及び流量制御装置１４１ａを備えるため、第２薬液及び水が、それぞれ設定されている流量で第２混合器１４３ａに供給される。これにより、薬液供給装置１００は、第２混合器１４３ａ内で、第２薬液及び水が混合された所定の濃度の第２洗浄薬液を生成でき、設定された流量で第２洗浄薬液を供給できる。
【0043】
また、薬液供給装置１００は、手動バルブ１８１ａ及びバルブ１８２ａを備える。手動バルブ１８１ａ及びバルブ１８２ａは、第２薬液配管２４２上に設けられ、ユーティリティボックス１８０ａに収納されている。バルブ１８２ａは、後述するエア制御装置３００によって制御され、開閉される。
【0044】
また、薬液供給装置１００は、フラッシング水配管２０８ａ、バルブ１８４ａ及び逆止バルブ１８５ａを備える。フラッシング水配管２０８ａは、希釈水配管２０２に設けられた接続口２２５ａと、第２薬液配管２４２に設けられた接続口２３１ａとを接続する。そして、接続口２３１ａは、第２薬液配管２４２上の、流量制御装置１４１ａと、バルブ１８２ａとの間に位置している。また、バルブ１８４ａ及び逆止バルブ１８５ａは、フラッシング水配管２０８ａ上に設けられ、ユーティリティボックス１８０ａに収納されている。バルブ１８４ａは、制御装置３２０によって制御され、開閉されるように構成されている。逆止バルブ１８５ａは、接続口２３１ａから接続口２２５ａへの流れを遮断するように構成されている。バルブ１８４ａが開放されることにより、フラッシング水が、接続口２３１ａから第２薬液配管２４２に流れ込む。これにより、薬液供給装置１００は、第２薬液配管２４２内の第２薬液を水で置換して、第２薬液配管２４２の内部を洗浄できる。
【0045】
また、薬液供給装置１００は、第２洗浄薬液供給配管２８０ａを備える。第２洗浄薬液供給配管２８０ａは、上流配管２８１ａ、第１配管２８２ａ、第２配管２８３ａ及び第３配管２８４ａを有する。上流配管２８１ａは、第２混合器１４３ａから分流点（第２分流点）２９１ａまでの流路を構成する。第１配管２８２ａは、分流点２９１ａから第３ノズル４４１ａ（図１Ｂ参照）までの流路を構成する。第２配管２８３ａは、分流点２９１ａから第４ノズル４４２ａ（図１Ｂ参照）までの流路を構成する。第３配管２８４ａは、上流配管２８１ａ上の接続口２９２ａから待機部４４３ａまでの流路を構成する。別言すると、第２洗浄薬液供給配管２８０ａは、第３配管２８４ａを介して、第２混合器１４３ａと待機部４４３ａとを接続するように構成されている。これにより、第２洗浄薬液は、第２混合器１４３ａから、第３ノズル４４１ａ、第４ノズル４４２ａ及び待機部４４３ａへ流れることができる。すなわち、薬液供給装置１００は、第３ノズル４４１ａ、第４ノズル４４２ａ及び待機部４４３ａへ第２洗浄薬液を供給できる。
【0046】
また、薬液供給装置１００は、流量制御装置（第３供給量制御装置）１６２ａを備える。流量制御装置１６２ａは、第１配管２８２ａ上に設けられている。そして、流量制御装置１６２ａは、第１配管２８２ａ内の第２洗浄薬液の流量に基づいて、第１配管２８２ａを流れる第２洗浄薬液の流量を、設定されている流量になるようにフィードバック制御するように構成されている。これにより、薬液供給装置１００は、第３ノズル４４１ａに設定した流量で第２洗浄薬液を供給できる。
【0047】
また、薬液供給装置１００は、バルブ１６１ａ，１６３ａ，１６５ａ及び流量計１６４ａ，１６６ａを備える。バルブ１６１ａは、上流配管２８１ａ上の、接続口２９２ａと分流点２９１ａとの間に設けられている。バルブ１６３ａは、第１配管２８２ａ上に設けられている。バルブ１６５ａは、第３配管２８４ａ上に設けられている。バルブ１６１ａ，１６３ａ，１６５ａは、制御装置３２０によって制御され、開閉されるように構成されている。また、流量計１６４ａは、第２配管２８３ａ上に設けられ、第２配管２８３ａを流れる第２洗浄薬液の流量を計測する。流量計１６６ａは、第３配管２８４ａ上に設けられ、第３配管２８４ａを流れる第２洗浄薬液の流量を計測する。
【0048】
また、薬液供給装置１００は、第２洗浄薬液供給ボックス１６０ａを備える。第２洗浄薬液供給ボックス１６０ａは、流量制御装置１６２ａ、バルブ１６１ａ，１６３ａ，１６５ａ及び流量計１６４ａ，１６６ａを収納している。
【0049】
また、薬液供給装置１００は、イン側圧力計１８３ａ及びアウト側圧力計１４４ａを備える。イン側圧力計１８３ａは、第２薬液供給源９０４と、流量制御装置１４１ａとの間に設けられている。これにより、イン側圧力計１８３ａは、流量制御装置１４１ａの上流の圧力を計測できる。また、アウト側圧力計１４４ａは、流量制御装置１３１ａと流量制御装置１５２ａとの間の位置で且つ、流量制御装置１４１ａと流量制御装置１６２ａとの間の位置に設けられる。これにより、アウト側圧力計１４４ａは、流量制御装置１３１ａの下流の圧力及び流量制御装置１４１ａの下流の圧力を計測できる。なお、希釈水配管２０５は、接続口２２９ａで第２薬液配管２４２に接続されている。このため、流量制御装置１３１ａの下流の圧力は、流量制御装置１４１ａの下流側の圧力と等しい。
【0050】
また、薬液供給装置１００では、第２薬液ＣＬＣボックス１４０ａは、流量制御装置１４１ａ、バルブ１４２ａ、第２混合器１４３ａ及びアウト側圧力計１４４ａを収納している。そして、希釈水ＣＬＣボックス１３０ａは、流量制御装置１３１ａ及びバルブ１３２ａを収納している。なお、本開示に係る別の実施形態では、１つのボックスが、流量制御装置１４１ａ、バルブ１４２ａ、第２混合器１４３ａ、アウト側圧力計１４４ａ、流量制御装置１３１ａ及びバルブ１３２ａを収納してもよい。
【0051】
また、薬液供給装置１００は、イン側圧力計１９５を備える。イン側圧力計１９５は、水供給源９０２と流量制御装置１１１ａとの間の位置で且つ、水供給源９０２と流量制御装置１３１ａとの間の位置に設けられている。これにより、イン側圧力計１９５は、流量制御装置１１１ａの上流及び流量制御装置１３１ａの上流の圧力を計測できる。なお、流量制御装置１１１ａの上流側の口は、希釈水配管２０２，２０３，２０５を介して、流量制御装置１３１ａの上流側の口と流体連通している。このため、流量制御装置１１１ａの上流の圧力は、流量制御装置１３１ａの上流の圧力と一致している。
【0052】
また、薬液供給装置１００は、レギュレータ１９４を備える。レギュレータ１９４は、希釈水配管２０２上の接続口２２１よりも下流で、イン側圧力計１９５よりも上流に設けられている。レギュレータ１９２は、流量制御装置１１１ａ及び流量制御装置１３１ａへ供給される水の供給圧力を調節する機能を有する。
【0053】
また、薬液供給装置１００は、エア制御装置３００及びエア配管３０１ａ，３０２ａを備える。エア制御装置３００は、エア供給源９０１に接続されている。エア供給源９０１は、気体をエア制御装置３００に供給する機能を有する。エア配管３０１ａは、エア制御装置３００と、バルブ１７２ａとを接続している。エア配管３０２ａは、エア制御装置３００と、バルブ１８２ａとを接続している。エア制御装置３００は、エア配管３０１ａ，３０２ａを介して、バルブ１７２ａ，１８２ａへエアを送ることで、バルブ１７２ａ，１８２ａを制御する。
【0054】
薬液供給装置１００では、上述したように、イン側圧力計１９５が流量制御装置１１１ａの上流の圧力を計測でき、アウト側圧力計１２４ａが流量制御装置１１１ａの下流の圧力を計測できる。これにより、作業者は、流量制御装置１１１ａのイン側圧力とアウト側圧力との差圧を求められる。そして、流量制御装置１１１ａが、何らかの原因で流量を所望の値に制御することができないときに、作業者は、求めた差圧からその原因を把握でき得る。その理由を以下に説明する。
【0055】
一般に差圧式流量計を有する流量制御装置は、流量制御装置のイン側圧力とアウト側圧力との差圧が十分に大きいときに、流量を所望の値に制御できる。しかしながら、このような流量制御装置は、差圧が不足すると流量を所望の値に制御できない。また、流量制御装置は、故障している場合にも流量を所望の値に制御することができない。したがって、流量制御装置が流量を所望の値に制御できていないときに、イン側圧力とアウト側圧力との差圧が未知の場合には、作業者は、その原因が、流量制御装置の故障なのか、差圧の不足なのかを判断することができない。
【0056】
これに対し、薬液供給装置１００では、流量制御装置１１１ａのイン側圧力とアウト側圧力との差圧が求まる。これにより、作業者は、流量制御装置１１１ａが流量を所望の値に制御できていない場合に、その原因を把握することができる。
【0057】
さらに、作業者は、イン側圧力計１７３ａ，１８３ａ，１９５及びアウト側圧力計１２４ａ，１４４ａの計測値から、流量制御装置１２１ａ，１３１ａ，１４１ａのイン側圧力とアウト側圧力との差圧をそれぞれ求められる。これにより、作業者は、流量制御装置１２１ａ，１３１ａ，１４１ａが流量を所望の値に制御できていない場合にも、その原因を把握することができる。
【0058】
また、一般に差圧式流量計を有する流量制御装置では、その個体に応じて、制御可能な流量範囲や、使用するために必要なイン側圧力とアウト側圧力との差圧等の仕様が異なる。このため、作業者が流量を変更したいときに、流量制御装置を交換する場合がある。このとき、イン側圧力とアウト側圧力との差圧が未知であれば、作業者は、交換用の流量制
御装置を選択することが困難になる。
御装置を選択することが困難になる。
【0059】
これに対し、薬液供給装置１００では、流量制御装置１１１ａ，１２１ａ，１３１ａ，１４１ａのイン側圧力とアウト側圧力との差圧が既知であるため、作業者は、この差圧に基づいて、交換用の流量制御装置１１１ａ，１２１ａ，１３１ａ，１４１ａを選択することができる。
【0060】
次に、図４Ａ及び図４Ｂを参照する。図４Ａは、洗浄システム５００と別の実施形態に係る洗浄システム５０２の薬流体回路図である。図４Ｂは、図４Ａの基板洗浄装置４０２を詳細に示す流体回路図である。図４Ａを参照すると、洗浄システム５０２は、薬液供給装置１０２と、基板洗浄装置４０２と、制御装置３２０と、を備える。薬液供給装置１０２は、２つの第１混合器１２３ａ，１２３ｂと、２つの第２混合器１４３ａ，１４３ｂを有する点などで、薬液供給装置１００と相違している。また、薬液供給装置１０２は、２つの第１ノズル４２１ａ，４２１ｂを有する点などで、薬液供給装置１００と相違している。しかしながら、薬液供給装置１０２は、その一部に薬液供給装置１００と共通の構成を有する。また、基板洗浄装置４０２は、その一部に基板洗浄装置４００と共通の構成を有する。以下、洗浄システム５０２に関し、図１Ａ及び図１Ｂに示した実施形態と異なる部分を中心に説明し、共通の構成については、図に同一の符号を付して、その説明を省略する。
【0061】
まず、図４Ｂを参照すると、基板洗浄装置４０２は、第１ノズル４２１ｂ、第２ノズル４２２ｂ及び待機部４４３ｂを備える。第１ノズル４２１ｂは、基板Ｗ２の第１面に、薬液供給装置１０２から供給された第１洗浄薬液を供給するように構成されている。第２ノズル４２２ｂは、基板Ｗ２の第２面に、薬液供給装置１０２から供給された第１洗浄薬液を供給するように構成されている。また、待機部４４３ｂは、基板Ｗ２に第１洗浄薬液及び第２洗浄薬液を供給するように構成されている。第１ノズル４２１ｂ、第２ノズル４２２ｂ及び待機部４４３ｂは、第２洗浄槽４４０に収納されている。
【0062】
また、基板洗浄装置４０２は、第３ノズル４４１ｂ、第４ノズル４４２ｂ及び待機部４２３ｂを備える。第３ノズル４４１ｂは、基板Ｗ１の第１面に、薬液供給装置１０２から供給された第２洗浄薬液を供給するように構成されている。第４ノズル４４２ｂは、基板Ｗ１の第２面に、薬液供給装置１０２から供給された第２洗浄薬液を供給するように構成されている。また、待機部４２３ｂは、基板Ｗ１に第１洗浄薬液及び第２洗浄薬液を供給するように構成されている。第３ノズル４４１ｂ、第４ノズル４４２ｂ及び待機部４２３ｂは、第１洗浄槽４２０に収納されている。
【0063】
図４Ａを参照すると、薬液供給装置１０２は、第１混合器１２３ｂ及び第１薬液配管２４１を備える。第１薬液配管２４１は、第１薬液配管２４０の接続口２５１と第１混合器１２３ｂとを接続する。これにより、第１薬液供給源９０３と第１混合器１２３ｂとは、流体連通している。その結果、第１薬液が、第１薬液供給源９０３から第１混合器１２３ｂに供給される。
【0064】
また、薬液供給装置１０２は、希釈水配管２０４を備える。希釈水配管２０４は、希釈水配管２０３上に設けられた接続口２２６から、第１薬液配管２４１上に設けられた接続口２２８ｂまで延びる。これにより、水供給源９０２と第１混合器１２３ｂとは、流体連通している。その結果、第１混合器１２３ｂには、水供給源９０２から水が供給される。
【0065】
第１混合器１２３ｂには、上述したように、第１薬液と水が供給される。第１混合器１２３ｂは、第１薬液と水とを混合して第１洗浄薬液を生成する機能を有する。
【0066】
また、薬液供給装置１０２は、流量制御装置（第１希釈水制御装置）１１１ｂ、バルブ１１２ｂ、バルブ１１３ｂを備える。バルブ１１２ｂ及びバルブ１１３ｂは、希釈水配管２０４上に設けられている。バルブ１１２ｂ及びバルブ１１３ｂは、制御装置３２０によって制御され、開閉される。また、流量制御装置１１１ｂは、希釈水配管２０４上に設けられている。そして、流量制御装置１１１ｂは、希釈水配管２０４内の水の流量に基づいて、希釈水配管２０４を流れる水の流量を、設定されている流量になるようにフィードバック制御するように構成されている。別言すると、流量制御装置１１１ｂは、水供給源９０２から第１混合器１２３ｂに供給される水の流量を設定されている流量になるようにフィードバック制御するように構成されている。
【0067】
また、薬液供給装置１０２は、バルブ１１３ａを備える。バルブ１１３ａは、希釈水配管２０３上に設けられている。バルブ１１３ａは、制御装置３２０によって制御され、開閉される。
【0068】
また、薬液供給装置１０２は、流量制御装置（第１薬液制御装置）１２１ｂ及びバルブ１２２ｂを備える。バルブ１２２ｂは、第１薬液配管２４１上に設けられている。バルブ１２２ｂは、制御装置３２０によって制御され、開閉される。また、流量制御装置１２１ｂは、第１薬液配管２４１上に設けられている。そして、流量制御装置１２１ｂは、第１薬液配管２４１内の第１薬液の流量に基づいて、第１薬液配管２４１を流れる第１薬液の流量を、設定されている流量になるようにフィードバック制御するように構成されている。別言すると、流量制御装置１２１ｂは、第１薬液供給源９０３から第１混合器１２３ｂに供給される第１薬液の流量を設定されている流量になるようにフィードバック制御するように構成されている。
【0069】
上述のように、薬液供給装置１０２は、流量制御装置１１１ｂ及び流量制御装置１２１ｂを備えるため、第１薬液及び水が、それぞれ設定されている流量で第１混合器１２３ｂに供給される。これにより、薬液供給装置１０２は、第１混合器１２３ｂ内で、第１薬液及び水が混合された所定の濃度の第１洗浄薬液を生成でき、設定された流量で第１洗浄薬液を供給できる。
【0070】
また、薬液供給装置１０２は、手動バルブ１７１ｂ及びバルブ１７２ｂを備える。手動バルブ１７１ｂ及びバルブ１７２ｂは、第１薬液配管２４１上に設けられ、ユーティリティボックス１７０ｂに収納されている。バルブ１７２ｂは、エア制御装置３００によって制御され、開閉される。
【0071】
また、薬液供給装置１０２は、フラッシング水配管２０７ｂ、バルブ１７４ｂ及び逆止バルブ１７５ｂを備える。フラッシング水配管２０７ｂは、希釈水配管２０２に設けられた接続口２２４ｂと、第１薬液配管２４１に設けられた接続口２３０ｂとを接続する。そして、接続口２３０ｂは、第１薬液配管２４１上の、流量制御装置１２１ｂと、バルブ１７２ｂとの間に位置している。また、バルブ１７４ｂ及び逆止バルブ１７５ｂは、フラッシング水配管２０７ｂ上に設けられ、ユーティリティボックス１７０ｂに収納されている。バルブ１７４ｂは、制御装置３２０によって制御され、開閉されるように構成されている。逆止バルブ１７５ｂは、接続口２３０ｂから接続口２２４ｂへの流れを遮断するように構成されている。バルブ１７４ｂが開放されることにより、フラッシング水が、接続口２３０ｂから第１薬液配管２４１に流れ込む。これにより、薬液供給装置１００は、第１薬液配管２４１内の第１薬液を水で置換して、第１薬液配管２４１の内部を洗浄できる。
【0072】
また、薬液供給装置１０２は、第１洗浄薬液供給配管２６０ｂを備える。第１洗浄薬液供給配管２６０ｂは、上流配管２６１ｂ、第１配管２６２ｂ、第２配管２６３ｂ及び第３配管２６４ｂを有する。上流配管２６１ｂは、第１混合器１２３ｂから分流点（第１分流
点）２７１ｂまでの流路を構成する。第１配管２６２ｂは、分流点２７１ｂから第１ノズル４２１ｂ（図４Ｂ参照）までの流路を構成する。第２配管２６３ｂは、分流点２７１ｂから第２ノズル４２２ｂ（図４Ｂ参照）までの流路を構成する。第３配管２６４ｂは、上流配管２６１ｂ上の接続口２７２ｂから待機部４４３ｂ（図４Ｂ参照）までの流路を構成する。これにより、第１洗浄薬液は、第１混合器１２３ｂから、第１ノズル４２１ｂ、第２ノズル４２２ｂ及び待機部４４３ｂへ流れることができる。すなわち、薬液供給装置１０２は、第１ノズル４２１ｂ、第２ノズル４２２ｂ及び待機部４４３ｂへ第１洗浄薬液を供給できる。
点）２７１ｂまでの流路を構成する。第１配管２６２ｂは、分流点２７１ｂから第１ノズル４２１ｂ（図４Ｂ参照）までの流路を構成する。第２配管２６３ｂは、分流点２７１ｂから第２ノズル４２２ｂ（図４Ｂ参照）までの流路を構成する。第３配管２６４ｂは、上流配管２６１ｂ上の接続口２７２ｂから待機部４４３ｂ（図４Ｂ参照）までの流路を構成する。これにより、第１洗浄薬液は、第１混合器１２３ｂから、第１ノズル４２１ｂ、第２ノズル４２２ｂ及び待機部４４３ｂへ流れることができる。すなわち、薬液供給装置１０２は、第１ノズル４２１ｂ、第２ノズル４２２ｂ及び待機部４４３ｂへ第１洗浄薬液を供給できる。
【0073】
また、薬液供給装置１０２は、流量制御装置（第１供給量制御装置）１５２ｂを備える。流量制御装置１５２ｂは、第１配管２６２ｂ上に設けられている。そして、流量制御装置１５２ｂは、第１配管２６２ｂ内の第１洗浄薬液の流量に基づいて、第１配管２６２ｂを流れる第１洗浄薬液の流量を、設定されている流量になるようにフィードバック制御するように構成されている。これにより、薬液供給装置１０２は、第１ノズル４２１ｂに設定した流量で第１洗浄薬液を供給できる。
【0074】
また、薬液供給装置１０２は、バルブ１５１ｂ，１５３ｂ，１５５ｂ及び流量計１５４ｂ，１５６ｂを備える。バルブ１５１ｂは、上流配管２６１ｂ上の、接続口２７２ｂと分流点２７１ｂとの間に設けられている。バルブ１５３ｂは、第１配管２６２ｂ上に設けられている。バルブ１５５ｂは、第３配管２６４ｂ上に設けられている。バルブ１５１ｂ，１５３ｂ，１５５ｂは、制御装置３２０によって制御され、開閉されるように構成されている。また、流量計１５４ｂは、第２配管２６３ｂ上に設けられ、第２配管２６３ｂを流れる第１洗浄薬液の流量を計測する。流量計１５６ｂは、第３配管２６４ｂ上に設けられ、第３配管２６４ｂを流れる第１洗浄薬液の流量を計測する。
【0075】
また、薬液供給装置１０２は、第１洗浄薬液供給ボックス１５０ｂを備える。第１洗浄薬液供給ボックス１５０ｂは、流量制御装置１５２ｂ、バルブ１５１ｂ，１５３ｂ，１５５ｂ及び流量計１５４ｂ，１５６ｂを収納している。
【0076】
また、薬液供給装置１０２は、イン側圧力計１７３ｂ及びアウト側圧力計１２４ｂを備える。イン側圧力計１７３ｂは、第１薬液供給源９０３と、流量制御装置１２１ｂとの間に設けられている。これにより、イン側圧力計１７３ｂは、流量制御装置１２１ｂの上流の圧力を計測できる。また、アウト側圧力計１２４ｂは、流量制御装置１１１ｂと流量制御装置１５２ｂとの間の位置で且つ、流量制御装置１２１ｂと流量制御装置１５２ｂとの間の位置に設けられる。これにより、アウト側圧力計１２４ｂは、流量制御装置１１１ｂの下流の圧力及び流量制御装置１２１ｂの下流の圧力を計測できる。なお、希釈水配管２０４は、接続口２２８ｂで第１薬液配管２４１に接続されている。このため、流量制御装置１２１ｂの下流の圧力は、流量制御装置１１１ｂの下流側の圧力と等しい。
【0077】
また、薬液供給装置１０２では、第１薬液ＣＬＣボックス１２０ｂは、流量制御装置１２１ｂ、バルブ１２２ｂ、第１混合器１２３ｂ及びアウト側圧力計１２４ｂを収納している。そして、希釈水ＣＬＣボックス１１０ｂは、流量制御装置１１１ａ，１１１ｂ及びバルブ１１２ａ，１１２ｂを収納している。
【0078】
また、薬液供給装置１０２は、第２混合器１４３ｂ及び第２薬液配管２４３を備える。第２薬液配管２４３は、第２薬液配管２４２の接続口２５２と第２混合器１４３ｂとを接続する。これにより、第２薬液供給源９０４と第２混合器１４３ｂとは、流体連通している。その結果、第２薬液が、第２薬液供給源９０４から第２混合器１４３ｂに供給される。
【0079】
また、薬液供給装置１０２は、希釈水配管２０６を備える。希釈水配管２０６は、希釈水配管２０５上に設けられた接続口２２７から、第２薬液配管２４３上に設けられた接続口２２９ｂまで延びる。これにより、水供給源９０２と第２混合器１４３ｂとは、流体連通している。その結果、第２混合器１４３ｂには、水供給源９０２から水が供給される。
【0080】
第２混合器１４３ｂには、上述したように、第２薬液と水が供給される。第２混合器１４３ｂは、第２薬液と水とを混合して第２洗浄薬液を生成する機能を有する。
【0081】
また、薬液供給装置１０２は、流量制御装置（第２希釈水制御装置）１３１ｂ、バルブ１３２ｂ及びバルブ１３３ｂを備える。バルブ１３２ｂ及びバルブ１３３ｂは、希釈水配管２０６上に設けられている。バルブ１３２ｂ及びバルブ１３３ｂは、制御装置３２０によって制御され、開閉される。また、流量制御装置１３１ｂは、希釈水配管２０６上に設けられている。そして、流量制御装置１３１ｂは、希釈水配管２０６内の水の流量に基づいて、希釈水配管２０６を流れる水の流量を、設定されている流量になるようにフィードバック制御するように構成されている。別言すると、流量制御装置１３１ｂは、水供給源９０２から第２混合器１４３ｂに供給される水の流量を設定されている流量になるようにフィードバック制御するように構成されている。
【0082】
また、薬液供給装置１０２は、バルブ１３３ａを備える。バルブ１３３ａは、希釈水配管２０５上に設けられている。バルブ１３３ａは、制御装置３２０によって制御され、開閉される。
【0083】
また、薬液供給装置１０２は、流量制御装置（第２薬液制御装置）１４１ｂ及びバルブ１４２ｂを備える。バルブ１４２ｂは、第２薬液配管２４３上に設けられている。バルブ１４２ｂは、制御装置３２０によって制御され、開閉される。また、流量制御装置１４１ｂは、第２薬液配管２４３上に設けられている。そして、流量制御装置１４１ｂは、第２薬液配管２４３内の第２薬液の流量に基づいて、第２薬液配管２４３を流れる第２薬液の流量を、設定されている流量になるようにフィードバック制御するように構成されている。別言すると、流量制御装置１４１ｂは、第２薬液供給源９０４から第２混合器１４３ｂに供給される第２薬液の流量を設定されている流量になるようにフィードバック制御するように構成されている。
【0084】
上述のように、薬液供給装置１０２は、流量制御装置１３１ｂ及び流量制御装置１４１ｂを備えるため、第２薬液及び水が、それぞれ設定されている流量で第２混合器１４３ｂに供給される。これにより、薬液供給装置１０２は、第２混合器１４３ｂ内で、第２薬液及び水が混合された所定の濃度の第２洗浄薬液を生成でき、設定された流量で第２洗浄薬液を供給できる。
【0085】
また、薬液供給装置１０２は、手動バルブ１８１ｂ及びバルブ１８２ｂを備える。手動バルブ１８１ｂ及びバルブ１８２ｂは、第２薬液配管２４３上に設けられ、ユーティリティボックス１８０ｂに収納されている。バルブ１８２ｂは、エア制御装置３００によって制御され、開閉される。
【0086】
また、薬液供給装置１０２は、フラッシング水配管２０８ｂ、バルブ１８４ｂ及び逆止バルブ１８５ｂを備える。フラッシング水配管２０８ｂは、希釈水配管２０２に設けられた接続口２２５ｂと、第２薬液配管２４３に設けられた接続口２３１ｂとを接続する。そして、接続口２３１ｂは、第２薬液配管２４３上の、流量制御装置１４１ｂと、バルブ１８２ｂとの間に位置している。また、バルブ１８４ｂ及び逆止バルブ１８５ｂは、フラッシング水配管２０８ｂ上に設けられ、ユーティリティボックス１８０ｂに収納されている。バルブ１８４ｂは、制御装置３２０によって制御され、開閉されるように構成されてい
る。逆止バルブ１８５ｂは、接続口２３１ｂから接続口２２５ｂへの流れを遮断するように構成されている。バルブ１８４ｂが開放されることにより、フラッシング水が、接続口２３１ｂから第２薬液配管２４３に流れ込む。これにより、薬液供給装置１００は、第２薬液配管２４３内の第２薬液を水で置換して、第２薬液配管２４３の内部を洗浄できる。
る。逆止バルブ１８５ｂは、接続口２３１ｂから接続口２２５ｂへの流れを遮断するように構成されている。バルブ１８４ｂが開放されることにより、フラッシング水が、接続口２３１ｂから第２薬液配管２４３に流れ込む。これにより、薬液供給装置１００は、第２薬液配管２４３内の第２薬液を水で置換して、第２薬液配管２４３の内部を洗浄できる。
【0087】
また、薬液供給装置１０２は、第２洗浄薬液供給配管２８０ｂを備える。第２洗浄薬液供給配管２８０ｂは、上流配管２８１ｂ、第１配管２８２ｂ、第２配管２８３ｂ及び第３配管２８４ｂを有する。上流配管２８１ｂは、第２混合器１４３ｂから分流点（第２分流点）２９１ｂまでの流路を構成する。第１配管２８２ｂは、分流点２９１ｂから第３ノズル４４１ｂ（図４Ｂ参照）までの流路を構成する。第２配管２８３ｂは、分流点２９１ｂから第４ノズル４４２ｂ（図４Ｂ参照）までの流路を構成する。第３配管２８４ｂは、上流配管２８１ｂ上の接続口２９２ｂから待機部４２３ｂ（図４Ｂ参照）までの流路を構成する。別言すると、第２洗浄薬液供給配管２８０ｂは、第３配管２８４ｂを介して、第２混合器１４３ｂと待機部４２３ｂとを接続するように構成されている。これにより、第２洗浄薬液は、第２混合器１４３ｂから、第３ノズル４４１ｂ、第４ノズル４４２ｂ及び待機部４２３ｂへ流れることができる。すなわち、薬液供給装置１０２は、第３ノズル４４１ｂ、第４ノズル４４２ｂ及び待機部４２３ｂへ第２洗浄薬液を供給できる。
【0088】
また、薬液供給装置１０２は、流量制御装置（第３供給量制御装置）１６２ｂを備える。流量制御装置１６２ｂは、第１配管２８２ｂ上に設けられている。そして、流量制御装置１６２ｂは、第１配管２８２ｂ内の第２洗浄薬液の流量に基づいて、第１配管２８２ｂを流れる第２洗浄薬液の流量を、設定されている流量になるようにフィードバック制御するように構成されている。これにより、薬液供給装置１０２は、第３ノズル４４１ｂに設定した流量で第２洗浄薬液を供給できる。
【0089】
また、薬液供給装置１０２は、バルブ１６１ｂ，１６３ｂ，１６５ｂ及び流量計１６４ｂ，１６６ｂを備える。バルブ１６１ｂは、上流配管２８１ｂ上の、接続口２９２ｂと分流点２９１ｂとの間に設けられている。バルブ１６３ｂは、第１配管２８２ｂ上に設けられている。バルブ１６５ｂは、第３配管２８４ｂ上に設けられている。バルブ１６１ｂ，１６３ｂ，１６５ｂは、制御装置３２０によって制御され、開閉されるように構成されている。また、流量計１６４ｂは、第２配管２８３ｂ上に設けられ、第２配管２８３ｂを流れる第２洗浄薬液の流量を計測する。流量計１６６ｂは、第３配管２８４ｂ上に設けられ、第３配管２８４ｂを流れる第２洗浄薬液の流量を計測する。
【0090】
また、薬液供給装置１０２は、第２洗浄薬液供給ボックス１６０ｂを備える。第２洗浄薬液供給ボックス１６０ｂは、流量制御装置１６２ｂ、バルブ１６１ｂ，１６３ｂ，１６５ｂ及び流量計１６４ｂ，１６６ｂを収納している。
【0091】
また、薬液供給装置１０２は、イン側圧力計１８３ｂ及びアウト側圧力計１４４ｂを備える。イン側圧力計１８３ｂは、第２薬液供給源９０４と、流量制御装置１４１ｂとの間に設けられている。これにより、イン側圧力計１８３ｂは、流量制御装置１４１ｂの上流の圧力を計測できる。また、アウト側圧力計１４４ｂは、流量制御装置１３１ｂと流量制御装置１５２ｂとの間の位置で且つ、流量制御装置１４１ｂと流量制御装置１６２ｂとの間の位置に設けられる。これにより、アウト側圧力計１４４ｂは、流量制御装置１３１ｂの下流の圧力及び流量制御装置１４１ｂの下流の圧力を計測できる。なお、希釈水配管２０６は、接続口２２９ｂで第２薬液配管２４３に接続されている。このため、流量制御装置１３１ｂの下流の圧力は、流量制御装置１４１ｂの下流側の圧力と等しい。
【0092】
また、薬液供給装置１０２では、第２薬液ＣＬＣボックス１４０ｂは、流量制御装置１４１ｂ、バルブ１４２ｂ、第２混合器１４３ｂ及びアウト側圧力計１４４ｂを収納してい
る。そして、希釈水ＣＬＣボックス１３０ｂは、流量制御装置１３１ａ，１３１ｂ及びバルブ１３２ａ，１３２ｂを収納している。
る。そして、希釈水ＣＬＣボックス１３０ｂは、流量制御装置１３１ａ，１３１ｂ及びバルブ１３２ａ，１３２ｂを収納している。
【0093】
また、イン側圧力計１９５は、水供給源９０２と流量制御装置１１１ｂとの間の位置で且つ、水供給源９０２と流量制御装置１３１ｂとの間の位置に設けられている。これにより、イン側圧力計１９５は、流量制御装置１１１ｂの上流及び流量制御装置１３１ｂの上流の圧力を計測できる。なお、流量制御装置１１１ｂの上流側の口は、流量制御装置１３１ｂの上流側の口と流体連通している。このため、流量制御装置１１１ｂの上流の圧力は、流量制御装置１３１ｂの上流の圧力と一致している。
【0094】
また、薬液供給装置１０２は、エア配管３０１ｂ，３０２ｂを備える。エア配管３０１ｂは、エア制御装置３００と、バルブ１７２ｂとを接続している。エア配管３０２ｂは、エア制御装置３００と、バルブ１８２ｂとを接続している。エア制御装置３００は、エア配管３０１ｂ，３０２ｂを介して、バルブ１７２ｂ，１８２ｂへエアを送ることで、バルブ１７２ｂ，１８２ｂを制御する。
【0095】
図５は、洗浄システム５００，５０２と別の実施形態に係る洗浄システム５０４の流体回路図である。図５を参照して、洗浄システム５０４の構成を以下に説明する。図５に示されるように、洗浄システム５０４は、薬液供給装置１０４と、基板洗浄装置４０２とを備える。すなわち、洗浄システム５０４が備える基板洗浄装置４０２は、上述した洗浄システム５０２が備える基板洗浄装置４０２と同一である。したがって、基板洗浄装置４０２の説明は省略する。また、薬液供給装置１０４は、その一部に薬液供給装置１０２と共通の構成を有している。以下、薬液供給装置１０４に関し、薬液供給装置１０２と異なる部分を中心に説明し、共通の構成については、図に同一の符号を付して、その説明を省略する。
【0096】
図５を参照すると、薬液供給装置１０４は、流量制御装置（第２供給量制御装置）１５７ａ，１５７ｂを備える。流量制御装置１５７ａ，１５７ｂは、第２配管２６３ａ，２６３ｂ上に設けられている。そして、流量制御装置１５７ａ，１５７ｂは、第２配管２６３ａ，２６３ｂ内の第１洗浄薬液の流量に基づいて、第２配管２６３ａ，２６３ｂを流れる第１洗浄薬液の流量を、設定されている流量になるようにフィードバック制御するように構成されている。これにより、薬液供給装置１０４は、第２ノズル４２２ａ，４２２ｂ（図４Ｂ参照）に設定した流量で第１洗浄薬液を供給できる。
【0097】
また、薬液供給装置１０４は、流量制御装置１６７ａ，１６７ｂを備える。流量制御装置１６７ａ，１６７ｂは、第２配管２８３ａ，２８３ｂ上に設けられている。そして、流量制御装置１６７ａ，１６７ｂは、第２配管２８３ａ，２８３ｂ内の第２洗浄薬液の流量に基づいて、第２配管２８３ａ，２８３ｂを流れる第２洗浄薬液の流量を、設定されている流量になるようにフィードバック制御するように構成されている。これにより、薬液供給装置１０４は、第４ノズル４４２ａ，４４２ｂ（図４Ｂ参照）に設定した流量で第２洗浄薬液を供給できる。
【0098】
また、第１洗浄薬液供給配管２６０ｃ，２６０ｄの第３配管２６４ｃ，２６４ｄは、第２配管２６３ａ，２６３ｂ上の接続口２７３ａ，２７３ｂに接続されている。接続口２７３ａ，２７３ｂは、流量制御装置１５７ａ，１５７ｂと、分流点２７１ａ，２７１ｂとの間に位置している。また、第３配管２６４ｃ，２６４ｄは、待機部４２３ｂ，４４３ｂを介して大気と流体連通している（図４Ｂ参照）。すなわち、第１洗浄薬液供給配管２６０ｃ，２６０ｄは、フィードバック制御により流量を調整するための流量制御装置を介することなく、第１混合器１２３ａ，１２３ｂと大気とを流体連通させるための第３配管２６４ｃ，２６４ｄを有している。これにより、薬液供給装置１０４は、流量制御装置１１１
ａ，１１１ｂ，１２１ａ，１２１ｂ，１５２ａ，１５２ｂ，１５７ａ，１５７ｂが適切に流量を制御することができなくなる不具合を防止し得る。その理由を以下に説明する。
ａ，１１１ｂ，１２１ａ，１２１ｂ，１５２ａ，１５２ｂ，１５７ａ，１５７ｂが適切に流量を制御することができなくなる不具合を防止し得る。その理由を以下に説明する。
【0099】
薬液供給装置１０４では、流量制御装置１１１ａ，１１１ｂが、第１混合器１２３ａ，１２３ｂに供給される水の流量を設定されている流量になるようにフィードバック制御をしている。さらに、流量制御装置１２１ａ，１２１ｂが、第１混合器１２３ａ，１２３ｂに供給される第１薬液の流量を設定されている流量になるようにフィードバック制御をしている。このため、第１混合器１２３ａ，１２３ｂが、第１洗浄薬液供給配管１６０ｃ，１６０ｄに供給する第１洗浄薬液の流量は、流量制御装置１１１ａ，１１１ｂに設定されている流量と、流量制御装置１２１ａ，１２１ｂに設定されている流量との和となる。
【0100】
他方で、第１洗浄薬液供給配管１６０ｃ，１６０ｄが、第３配管２６４ｃ，２６４ｄを有していない場合を検討する。この場合、第１洗浄薬液は、第１配管２６２ａ，２６２ｂ又は第２配管２６３ａ，２６３ｂを通って、第１洗浄薬液供給配管１６０ｃ，１６０ｄの外部に排出される。すなわち、流量制御装置１５２ａ，１５２ｂに設定されている流量と、流量制御装置１５７ａ，１５７ｂに設定されている流量との和が、第１洗浄薬液供給配管１６０ｃ，１６０ｄの外部に排出される第１洗浄薬液の流量となる。
【0101】
ここで、流量制御装置１１１ａ，１１１ｂに設定されている流量と流量制御装置１２１ａ，１２１ｂに設定されている流量の和が、流量制御装置１５２ａ，１５２ｂに設定されている流量と流量制御装置１５７ａ，１５７ｂに設定されている流量との和と異なる場合、流量制御装置１１１ａ，１１１ｂ，１２１ａ，１２１ｂ，１５２ａ，１５２ｂ，１５７ａ，１５７ｂのいずれかが適切に設定された流量にフィードバック制御することができなくなる虞がある。なぜなら、第１洗浄薬液供給配管１６０ｃ，１６０ｄに供給される第１洗浄薬液の流量は、第１洗浄薬液供給配管１６０ｃ，１６０ｄの外部に排出される第１洗浄薬液の流量と等しくなければならないからである。
【0102】
これに対し、薬液供給装置１０４では、第１混合器１２３ａ，１２３ｂから第１洗浄薬液供給配管１６０ｃ，１６０ｄに供給される余剰な第１洗浄薬液は、第３配管２８４ｃ，２８４ｄを介して排出される。その結果、流量制御装置１１１ａ，１１１ｂ，１２１ａ，１２１ｂ，１５２ａ，１５２ｂ，１５７ａ，１５７ｂは、適切に設定された流量にフィードバック制御することができる。
【0103】
また、第２洗浄薬液供給配管２８０ｃ，２８０ｄの第３配管２８４ｃ，２８４ｄは、第２配管２８３ａ，２８３ｂ上の接続口２９３ａ，２９３ｂに接続されている。接続口２９３ａ，２９３ｂは、流量制御装置１６７ａ，１６７ｂと、分流点２７１ａ，２７１ｂとの間に位置している。また、第３配管２８４ｃ，２８４ｄは、待機部４２３ｂ，４４３ｂを介して大気と流体連通している（図４Ｂ参照）。すなわち、第２洗浄薬液供給配管２８０ｃ，２８０ｄは、フィードバック制御により流量を調整するための流量制御装置を介することなく、第２混合器１４３ａ，１４３ｂと大気とを流体連通させるための第３配管２８４ｃ，２８４ｄを有している。これにより、薬液供給装置１０４は、流量制御装置１６２ａ，１６２ｂ，１６７ａ，１６７ｂが適切に設定された流量をフィードバック制御することができなくなる不具合を防止し得る。
【0104】
図６は、洗浄システム５００，５０２，５０４と別の実施形態に係る洗浄システム５０６の流体回路図である。図６を参照して、洗浄システム５０６の構成を以下に説明する。図６に示されるように、洗浄システム５０６は、薬液供給装置１０６と、基板洗浄装置４００とを備える。すなわち、洗浄システム５０６が備える基板洗浄装置４００は、上述した洗浄システム５００が備える基板洗浄装置４００と同一である。したがって、基板洗浄装置４００の説明は省略する。また、薬液供給装置１０６は、その一部に薬液供給装置１
００と共通の構成を有している。以下、薬液供給装置１０６に関し、薬液供給装置１００と異なる部分を中心に説明し、共通の構成については、図に同一の符号を付して、その説明を省略する。
００と共通の構成を有している。以下、薬液供給装置１０６に関し、薬液供給装置１００と異なる部分を中心に説明し、共通の構成については、図に同一の符号を付して、その説明を省略する。
【0105】
図６を参照すると、薬液供給装置１０６は、図１の薬液供給装置１００が備えるバルブ１５１ａ，１６１ａの代わりに、バルブ１５９ａ，１６９ａを備える。バルブ１５９ａは、第１配管２６２ａ上の流量制御装置１５２ａとバルブ１５３ａとの間に設けられている。バルブ１６９ａは、第１配管２８２ａ上の流量制御装置１６２ａとバルブ１６３ａとの間に設けられている。バルブ１５９ａ，１６９ａは、制御装置３２０によって制御され、開閉されるように構成されている。より詳細には、バルブ１５９ａ，１６９ａは、一例としてｏｎ／ｏｆｆバルブである。なお、本開示では、ｏｎ／ｏｆｆバルブとは、弁開度が全開となる構成と弁開度が全閉となる構成との２段階の構成しか取ることができないバルブを意味する。
【0106】
薬液供給装置１０６は、上記の構成を有するため、バルブ１５９ａを閉じることにより、第１洗浄薬液供給配管２６０ａの第１配管２６２ａを通り第１ノズル４２１ａに供給される第１洗浄薬液を遮断できる。また、薬液供給装置１０６は、バルブ１６９ａが閉じることにより、第２洗浄薬液供給配管２８０ａの第１配管２８２ａを通り第３ノズル４４１ａに供給される第２洗浄薬液を遮断できる。なお、本開示に係る別の実施形態では、バルブ１５９ａ，１６９ａは、ｏｎ／ｏｆｆバルブではなく、弁開度を連続的に変化させることが可能な連続制御バルブであってもよい。
【0107】
また、薬液供給装置１０６は、バルブ１５９ａが開かれたときに第１洗浄薬液供給配管２６０ａの第１配管２６２ａを流れる第１洗浄薬液の流量が設定されている流量になるまでの時間を、バルブが流量制御装置１５２ａの上流に位置している場合（図１の薬液供給装置１００の構成）よりも短くでき得る。その理由を以下に説明する。
【0108】
図１に示される薬液供給装置１００のように、バルブ１５１ａが流量制御装置１５２ａの上流にある場合、バルブ１５１ａが開放されると、第１洗浄薬液が流量制御装置１５２ａに供給される。バルブ１５１ａの開放の前には、バルブ１５１ａよりも上流側は圧力が高く、下流側は圧力が低い。このため、バルブ１５１ａの開放の直後には、上流側の圧力が高い流体と下流側の圧力の低い流体とが混ざり合い、圧力が不安定な流体となって、混ざり合った流体が流量制御装置１５２ａに向かい流れる。このため、バルブ１５１ａと流量制御装置１５２ａが近い場合、流量制御装置１５２ａが備える流量計１１１２（図３参照）の近傍の圧力が不安定となる。そして、流量計１１１２は、この不安定な圧力から流量を計測するため、流量計１１１２が計測する流量の値も不安定となる。流量制御装置１５２ａは、この不安定な流量の値に基づいて第１配管２６２ａを流れる第１洗浄薬液の流量を設定されている流量にするため、流量制御装置１５２ａの流量の制御が乱れ得る。その結果、流量が設定されている流量に安定するまでの時間が長く掛かり得る。なお、バルブ１５１ａと流量制御装置１５２ａが充分に離れている場合、流量が安定するまでの時間が長く掛からない場合がある。なぜなら、バルブ１５１ａを通ることで乱された管内の流れが、流量制御装置１５２ａに到達するまでの間に安定化する距離を得ることができ、流量制御装置１５２ａに到達するまでの間に流体の圧力が安定するためである。
【0109】
これに対し、図６の薬液供給装置１０６では、バルブ１５９ａは、流量制御装置１５２ａの下流側に位置している。バルブ１５９ａが開放される場合、第１洗浄薬液は、第１配管２６２ａを伝って流れる。この流れに沿う形で、流量制御装置１５２ａの流量計１１１２の近傍の圧力が、徐々に変化する。このため、薬液供給装置１０６では、流量計１１１２（図３参照）の近傍の圧力が、図１の薬液供給装置１００の場合よりも、安定している。その結果、流量制御装置１５２ａの流量の制御が乱れず、流量が設定されている流量に
安定するまでの時間が、薬液供給装置１００のときよりも短縮され得る。
安定するまでの時間が、薬液供給装置１００のときよりも短縮され得る。
【0110】
また、薬液供給装置１０６は、バルブ１５３ａ，１６３ａを備える。バルブ１５３ａは、第１配管２６２ａ上の流量制御装置１５２ａよりも下流に設けられる。バルブ１６３ａは、第１配管２８２ａ上の流量制御装置１６２ａよりも下流に設けられる。薬液供給装置１０６では、バルブ１５３ａ，１６３ａは、一例として、サックバックバルブである。そして、バルブ１５３ａ，１６３ａは、バルブ１５９ａ，１６９ａが閉じられたときに、バルブ１５３ａ，１６３ａよりも下流の第１配管２６２ａ，２８２ａの液体を吸い戻すサックバック動作を行うように構成されている。これにより、バルブ１５９ａが閉じられたときに、第１配管２６２ａの内部に残留する第１洗浄薬液が、バルブ１５３ａのサックバック動作によって、第１ノズル４２１ａから外部に流出することが抑止される。また、バルブ１６９ａが閉じられたときに、第１配管２８２ａの内部に残留する第２洗浄薬液が、バルブ１６３ａのサックバック動作によって、第３ノズル４４１ａから外部に流出することが抑止される。
【0111】
また、薬液供給装置１０６は、バルブ１５８ａ，１６８ａを備える。バルブ１５８ａは、第２配管２６３ａ上の流量計１５４ａよりも下流に設けられる。また、バルブ１６８ａは、第２配管２８３ａ上の流量計１６４ａよりも下流に設けられる。バルブ１５８ａ，１６８ａは、制御装置３２０によって制御され、開閉される。より詳細には、バルブ１５８ａ，１６８ａは、一例としてｏｎ／ｏｆｆバルブである。薬液供給装置１０６は、上記の構成を有するため、バルブ１５８ａを閉じることにより、第２配管２６３ａを通り第２ノズル４２２ａに供給される第１洗浄薬液を遮断できる。また、薬液供給装置１０６は、バルブ１６８ａが閉じることにより、第２配管２８３ａを通り第４ノズル４４２ａに供給される第２洗浄薬液を遮断できる。なお、本開示に係る別の実施形態では、バルブ１５８ａ，１６８ａは、弁開度を連続的に変化させることが可能な連続制御バルブであってもよい。
【0112】
図７は、洗浄システム５００，５０２，５０４，５０６と別の実施形態に係る洗浄システム５０７の流体回路図である。図７を参照して、洗浄システム５０７の構成を以下に説明する。図７に示されるように、洗浄システム５０７は、薬液供給装置１０７と、基板洗浄装置４０２とを備える。すなわち、洗浄システム５０７が備える基板洗浄装置４０２は、上述した洗浄システム５０２が備える基板洗浄装置４０２と同一である。したがって、基板洗浄装置４０２の説明は省略する。また、薬液供給装置１０７は、その一部に薬液供給装置１０２と共通の構成を有している。以下、薬液供給装置１０７に関し、薬液供給装置１０２と異なる部分を中心に説明し、共通の構成については、図に同一の符号を付して、その説明を省略する。
【0113】
図７を参照すると、薬液供給装置１０７は、図４Ａの薬液供給装置１０２が備えるバルブ１５１ａ，１６１ａの代わりに、バルブ１５９ａ，１６９ａを備える。バルブ１５９ａは、第１配管２６２ａ上の、流量制御装置１５２ａとバルブ１５３ａとの間に設けられている。バルブ１６９ａは、第１配管２８２ａ上の、流量制御装置１６２ａとバルブ１６３ａとの間に設けられている。バルブ１５９ａ，１６９ａは、制御装置３２０によって制御され、開閉されるように構成されている。より詳細には、バルブ１５９ａ，１６９ａは、一例としてｏｎ／ｏｆｆバルブである。なお、本開示に係る別の実施形態では、バルブ１５９ａ，１６９ａは、ｏｎ／ｏｆｆバルブではなく、弁開度を連続的に変化させることが可能な連続制御弁であってもよい。
【0114】
また、薬液供給装置１０７は、図４Ａの薬液供給装置１０２が備えるバルブ１５１ｂ，１６１ｂの代わりに、バルブ１５９ｂ，１６９ｂを備える。バルブ１５９ｂは、第１配管２６２ｂ上の、流量制御装置１５２ｂとバルブ１５３ｂとの間に設けられている。バルブ
１６９ｂは、第１配管２８２ｂ上の、流量制御装置１６２ｂとバルブ１６３ｂとの間に設けられている。バルブ１５９ｂ，１６９ｂは、制御装置３２０によって制御され、開閉されるように構成されている。より詳細には、バルブ１５９ｂ，１６９ｂは、一例としてｏｎ／ｏｆｆバルブである。なお、本開示に係る別の実施形態では、バルブ１５９ｂ，１６９ｂは、ｏｎ／ｏｆｆバルブではなく、弁開度を連続的に変化させることが可能な連続制御弁であってもよい。
１６９ｂは、第１配管２８２ｂ上の、流量制御装置１６２ｂとバルブ１６３ｂとの間に設けられている。バルブ１５９ｂ，１６９ｂは、制御装置３２０によって制御され、開閉されるように構成されている。より詳細には、バルブ１５９ｂ，１６９ｂは、一例としてｏｎ／ｏｆｆバルブである。なお、本開示に係る別の実施形態では、バルブ１５９ｂ，１６９ｂは、ｏｎ／ｏｆｆバルブではなく、弁開度を連続的に変化させることが可能な連続制御弁であってもよい。
【0115】
また、薬液供給装置１０７は、バルブ１５３ａ，１５３ｂ，１６３ａ，１６３ｂを備える。バルブ１５３ａ，１５３ｂ，１６３ａ，１６３ｂは、第１配管２６２ａ，２６２ｂ，２８２ａ，２８２ｂ上の流量制御装置１５２ａ，１５２ｂ，１６２ａ，１６２ｂよりも下流に設けられる。薬液供給装置１０７では、バルブ１５３ａ，１５３ｂ，１６３ａ，１６３ｂは、一例として、サックバックバルブである。
【0116】
また、薬液供給装置１０７は、バルブ１５８ａ，１５８ｂ，１６８ａ，１６８ｂを備える。バルブ１５８ａ，１５８ｂ，１６８ａ，１６８ｂは、第２配管２６３ａ，２６３ｂ，２８３ａ，２８３ｂ上の流量計１５４ａ，１５４ｂ，１６４ａ，１６４ｂよりも下流に設けられる。バルブ１５８ａ，１５８ｂ，１６８ａ，１６８ｂは、制御装置３２０によって制御され、開閉される。より詳細には、バルブ１５８ａ，１５８ｂ，１６８ａ，１６８ｂは、一例としてｏｎ／ｏｆｆバルブである。なお、本開示に係る別の実施形態では、バルブ１５８ａ，１５８ｂ，１６８ａ，１６８ｂは、ｏｎ／ｏｆｆバルブではなく、弁開度を連続的に変化させることが可能な連続制御バルブであってもよい。
【0117】
図８は、洗浄システム５００，５０２，５０４，５０６，５０７と別の実施形態に係る洗浄システム５０８の流体回路図である。図８を参照して、洗浄システム５０８の構成を以下に説明する。図８に示されるように、洗浄システム５０８は、薬液供給装置１０８と、基板洗浄装置４０２とを備える。すなわち、洗浄システム５０８が備える基板洗浄装置４０２は、上述した洗浄システム５０４が備える基板洗浄装置４０２と同一である。したがって、基板洗浄装置４０２の説明は省略する。また、薬液供給装置１０８は、その一部に薬液供給装置１０４と共通の構成を有している。以下、薬液供給装置１０８に関し、薬液供給装置１０４と異なる部分を中心に説明し、共通の構成については、図に同一の符号を付して、その説明を省略する。
【0118】
図８を参照すると、薬液供給装置１０８は、図５の薬液供給装置１０４が備えるバルブ１５１ａ，１６１ａの代わりに、バルブ１５９ａ，１６９ａを備える。バルブ１５９ａは、第１配管２６２ａ上の、流量制御装置１５２ａとバルブ１５３ａとの間に設けられている。バルブ１６９ａは、第１配管２８２ａ上の、流量制御装置１６２ａとバルブ１６３ａとの間に設けられている。バルブ１５９ａ，１６９ａは、制御装置３２０によって制御され、開閉されるように構成されている。より詳細には、バルブ１５９ａ，１６９ａは、一例としてｏｎ／ｏｆｆバルブである。なお、本開示に係る別の実施形態では、バルブ１５９ａ，１６９ａは、ｏｎ／ｏｆｆバルブではなく、弁開度を連続的に変化させることが可能な連続制御弁であってもよい。
【0119】
また、薬液供給装置１０８は、図５の薬液供給装置１０４が備えるバルブ１５１ｂ，１６１ｂの代わりに、バルブ１５９ｂ，１６９ｂを備える。バルブ１５９ｂは、第１配管２６２ｂ上の、流量制御装置１５２ｂとバルブ１５３ｂとの間に設けられている。バルブ１６９ｂは、第１配管２８２ｂ上の、流量制御装置１６２ｂとバルブ１６３ｂとの間に設けられている。バルブ１５９ｂ，１６９ｂは、制御装置３２０によって制御され、開閉されるように構成されている。より詳細には、バルブ１５９ｂ，１６９ｂは、一例としてｏｎ／ｏｆｆバルブである。なお、本開示に係る別の実施形態では、バルブ１５９ｂ，１６９ｂは、ｏｎ／ｏｆｆバルブではなく、弁開度を連続的に変化させることが可能な連続制御
弁であってもよい。
弁であってもよい。
【0120】
また、薬液供給装置１０８は、バルブ１５３ａ，１５３ｂ，１６３ａ，１６３ｂを備える。バルブ１５３ａ，１５３ｂ，１６３ａ，１６３ｂは、第１配管２６２ａ，２６２ｂ，２８２ａ，２８２ｂ上の流量制御装置１５２ａ，１５２ｂ，１６２ａ，１６２ｂよりも下流に設けられる。薬液供給装置１０７では、バルブ１５３ａ，１５３ｂ，１６３ａ，１６３ｂは、一例として、サックバックバルブである。
【0121】
また、薬液供給装置１０８は、バルブ１５８ａ，１５８ｂ，１６８ａ，１６８ｂを備える。バルブ１５８ａ，１５８ｂ，１６８ａ，１６８ｂは、第２配管２６３ａ，２６３ｂ，２８３ａ，２８３ｂ上の流量制御装置１５７ａ，１５７ｂ，１６７ａ，１６７ｂよりも下流に設けられる。バルブ１５８ａ，１５８ｂ，１６８ａ，１６８ｂは、制御装置３２０によって制御され、開閉される。より詳細には、バルブ１５８ａ，１５８ｂ，１６８ａ，１６８ｂは、一例としてｏｎ／ｏｆｆバルブである。なお、本開示に係る別の実施形態では、バルブ１５８ａ，１５８ｂ，１６８ａ，１６８ｂは、ｏｎ／ｏｆｆバルブではなく、弁開度を連続的に変化させることが可能な連続制御バルブであってもよい。
【0122】
また、薬液供給装置１０８は、バルブ１５５ａ，１５５ｂ，１６５ａ，１６５ｂを備える。バルブ１５５ａ，１５５ｂ，１６５ａ，１６５ｂは、第３配管２６４ｃ，２６４ｄ，２８４ｃ，２８４ｄ上の流量計１５６ａ，１５６ｂ，１６６ａ，１６６ｂよりも上流に設けられる。バルブ１５５ａ，１５５ｂ，１６５ａ，１６５ｂは、制御装置３２０によって制御され、開閉される。より詳細には、バルブ１５５ａ，１５５ｂ，１６５ａ，１６５ｂは、一例としてｏｎ／ｏｆｆバルブである。なお、本開示に係る別の実施形態では、バルブ１５５ａ，１５５ｂ，１６５ａ，１６５ｂは、ｏｎ／ｏｆｆバルブではなく、弁開度を連続的に変化させることが可能な連続制御バルブであってもよい。
【0123】
［付記］
上記の実施の形態の一部または全部は、以下の付記のようにも記載され得るが、以下には限られない。
上記の実施の形態の一部または全部は、以下の付記のようにも記載され得るが、以下には限られない。
【0124】
（付記１）
付記１に係る薬液供給装置は、薬液供給装置であって、第１洗浄薬液供給配管と、第１薬液と水とを混合して第１洗浄薬液を生成する第１混合器と、第１供給量制御装置と、を備え、前記第１洗浄薬液供給配管は、前記第１混合器から第１分流点までの流路を構成する上流配管と、前記第１分流点から第１ノズルまでの流路を構成する第１配管と、前記第１分流点から第２ノズルまでの流路を構成する第２配管と、を有し、前記第１供給量制御装置は、前記第１洗浄薬液供給配管の前記第１配管内の前記第１洗浄薬液の流量に基づいて、前記第１洗浄薬液供給配管の前記第１配管を流れる前記第１洗浄薬液の流量を、設定されている流量になるようにフィードバック制御するように構成されている。
付記１に係る薬液供給装置は、薬液供給装置であって、第１洗浄薬液供給配管と、第１薬液と水とを混合して第１洗浄薬液を生成する第１混合器と、第１供給量制御装置と、を備え、前記第１洗浄薬液供給配管は、前記第１混合器から第１分流点までの流路を構成する上流配管と、前記第１分流点から第１ノズルまでの流路を構成する第１配管と、前記第１分流点から第２ノズルまでの流路を構成する第２配管と、を有し、前記第１供給量制御装置は、前記第１洗浄薬液供給配管の前記第１配管内の前記第１洗浄薬液の流量に基づいて、前記第１洗浄薬液供給配管の前記第１配管を流れる前記第１洗浄薬液の流量を、設定されている流量になるようにフィードバック制御するように構成されている。
【0125】
付記１に記載の薬液供給装置は、２つのノズルに第１洗浄薬液を供給できる。また、この薬液供給装置は、第１ノズルに設定した流量で第１洗浄薬液を供給できる。
【0126】
（付記２）
付記２に係る薬液供給装置は、付記１に記載の薬液供給装置であって、前記第２配管内の前記第１洗浄薬液の流量に基づいて、前記第２配管を流れる前記第１洗浄薬液の流量を、設定されている流量になるようにフィードバック制御するように構成されている、第２供給量制御装置を、さらに備える。
付記２に係る薬液供給装置は、付記１に記載の薬液供給装置であって、前記第２配管内の前記第１洗浄薬液の流量に基づいて、前記第２配管を流れる前記第１洗浄薬液の流量を、設定されている流量になるようにフィードバック制御するように構成されている、第２供給量制御装置を、さらに備える。
【0127】
付記２に記載の薬液供給装置は、第２ノズルに設定した流量で第１洗浄薬液を供給でき
る。
る。
【0128】
（付記３）
付記３に係る薬液供給装置は、付記１又は２に記載の薬液供給装置であって、前記第１洗浄薬液供給配管は、フィードバック制御により流量を調整するための流量制御装置を介することなく、前記第１混合器と大気とを流体連通させるための第３配管を有する。
付記３に係る薬液供給装置は、付記１又は２に記載の薬液供給装置であって、前記第１洗浄薬液供給配管は、フィードバック制御により流量を調整するための流量制御装置を介することなく、前記第１混合器と大気とを流体連通させるための第３配管を有する。
【0129】
付記３の薬液供給装置では、第１混合器から第１洗浄薬液供給配管に供給される第１洗浄薬液は、第３配管を介して排出される。その結果、この薬液供給装置は、第１供給量制御装置等の流量制御装置の不具合を防止できる。
【0130】
（付記４）
付記４に係る薬液供給装置は、付記１から３のいずれか１つに記載の薬液供給装置であって、第２洗浄薬液供給配管と、第２薬液と水とを混合して第２洗浄薬液を生成する第２混合器と、第３供給量制御装置と、を備え、前記第２洗浄薬液供給配管は、前記第１混合器から第２分流点までの流路を構成する上流配管と、前記第２分流点から第３ノズルまでの流路を構成する第１配管と、前記第２分流点から第４ノズルまでの流路を構成する第２配管と、を有し、前記第３供給量制御装置は、前記第２洗浄薬液供給配管の前記第１配管内の前記第２薬液の流量に基づいて、前記第２洗浄薬液供給配管の前記第２配管を流れる前記第２洗浄薬液の流量を、設定されている流量になるようにフィードバック制御するように構成されている。
付記４に係る薬液供給装置は、付記１から３のいずれか１つに記載の薬液供給装置であって、第２洗浄薬液供給配管と、第２薬液と水とを混合して第２洗浄薬液を生成する第２混合器と、第３供給量制御装置と、を備え、前記第２洗浄薬液供給配管は、前記第１混合器から第２分流点までの流路を構成する上流配管と、前記第２分流点から第３ノズルまでの流路を構成する第１配管と、前記第２分流点から第４ノズルまでの流路を構成する第２配管と、を有し、前記第３供給量制御装置は、前記第２洗浄薬液供給配管の前記第１配管内の前記第２薬液の流量に基づいて、前記第２洗浄薬液供給配管の前記第２配管を流れる前記第２洗浄薬液の流量を、設定されている流量になるようにフィードバック制御するように構成されている。
【0131】
付記４に記載の薬液供給装置は、第３ノズル及び第４ノズルに第２洗浄薬液を供給できる。また、この薬液供給装置は、第３ノズルに設定した流量で第２洗浄薬液を供給できる。
【0132】
（付記５）
付記５に係る薬液供給装置は、付記４に記載の薬液供給装置であって、第１薬液供給源から前記第１混合器に供給される前記第１薬液の流量を設定されている流量になるようにフィードバック制御するための第１薬液制御装置と、第２薬液供給源から前記第２混合器に供給される前記第２薬液の流量を設定されている流量になるようにフィードバック制御するための第２薬液制御装置と、水供給源から前記第１混合器に供給される水の流量を設定されている流量になるようにフィードバック制御するための第１希釈水制御装置と、前記水供給源から前記第２混合器に供給される水の流量を設定されている流量になるようにフィードバック制御するための第２希釈水制御装置と、を備える。
付記５に係る薬液供給装置は、付記４に記載の薬液供給装置であって、第１薬液供給源から前記第１混合器に供給される前記第１薬液の流量を設定されている流量になるようにフィードバック制御するための第１薬液制御装置と、第２薬液供給源から前記第２混合器に供給される前記第２薬液の流量を設定されている流量になるようにフィードバック制御するための第２薬液制御装置と、水供給源から前記第１混合器に供給される水の流量を設定されている流量になるようにフィードバック制御するための第１希釈水制御装置と、前記水供給源から前記第２混合器に供給される水の流量を設定されている流量になるようにフィードバック制御するための第２希釈水制御装置と、を備える。
【0133】
付記５に記載の薬液供給装置は、第１混合器内で、第１薬液及び水が混合された所定の濃度の第１洗浄薬液を生成できる。また、この薬液供給装置は、第２混合器内で、第２薬液及び水が混合された所定の濃度の第２洗浄薬液を生成できる。
【0134】
（付記６）
付記６に係る薬液供給装置は、付記５に記載の薬液供給装置であって、前記第１薬液制御装置及び前記第１希釈水制御装置は、流量制御装置に含まれ、前記流量制御装置は、流量を計測するための差圧式流量計を有し、計測値に基づいて流量を制御するように構成され、前記薬液供給装置は、前記第１薬液供給源又は前記水供給源と、前記流量制御装置との間に設けられるイン側圧力計と、前記流量制御装置と第１供給量制御装置との間に設けられるアウト側圧力計と、を有する。
付記６に係る薬液供給装置は、付記５に記載の薬液供給装置であって、前記第１薬液制御装置及び前記第１希釈水制御装置は、流量制御装置に含まれ、前記流量制御装置は、流量を計測するための差圧式流量計を有し、計測値に基づいて流量を制御するように構成され、前記薬液供給装置は、前記第１薬液供給源又は前記水供給源と、前記流量制御装置との間に設けられるイン側圧力計と、前記流量制御装置と第１供給量制御装置との間に設けられるアウト側圧力計と、を有する。
【0135】
付記６に記載の薬液供給装置によれば、イン側圧力計が流量制御装置のイン側圧力を計測し、アウト側圧力計が流量制御装置のアウト側圧力を計測している。これにより、作業
者は、流量制御装置のイン側圧力とアウト側圧力との差圧を求められる。そして、作業者は、流量制御装置が流量を所望の値に制御することができないときに、求めた差圧からその原因を把握でき得る。
者は、流量制御装置のイン側圧力とアウト側圧力との差圧を求められる。そして、作業者は、流量制御装置が流量を所望の値に制御することができないときに、求めた差圧からその原因を把握でき得る。
【0136】
また、作業者は、求めた差圧に基づいて、交換用の流量制御装置を選択することができる。
【0137】
（付記７）
付記７に係る洗浄システムは、洗浄システムであって、付記１から６のいずれか１つに記載の薬液供給装置と、基板を洗浄するための基板洗浄装置と、を備え、前記基板洗浄装置は、前記第１ノズル及び前記第２ノズルを有し、前記第１ノズルは、前記基板の第１面に前記第１洗浄薬液を供給するように構成され、前記第２ノズルは、前記基板の第２面に前記第１洗浄薬液を供給するように構成される。
付記７に係る洗浄システムは、洗浄システムであって、付記１から６のいずれか１つに記載の薬液供給装置と、基板を洗浄するための基板洗浄装置と、を備え、前記基板洗浄装置は、前記第１ノズル及び前記第２ノズルを有し、前記第１ノズルは、前記基板の第１面に前記第１洗浄薬液を供給するように構成され、前記第２ノズルは、前記基板の第２面に前記第１洗浄薬液を供給するように構成される。
【0138】
付記７に記載の洗浄システムは、基板の第１面及び第２面に第１洗浄薬液を供給できる。また、この洗浄システムは、基板の第１面に設定した流量で第１洗浄薬液を供給できる。
【0139】
（付記８）
付記８に係る洗浄システムは、付記４に従属する付記７に記載の洗浄システムであって、前記基板洗浄装置は、前記第３ノズル及び前記第４ノズルを有し、第３ノズルは、前記基板の前記第１面に前記第２洗浄薬液を供給するように構成され、第４ノズルは、前記基板の前記第２面に前記第２洗浄薬液を供給するように構成される。
付記８に係る洗浄システムは、付記４に従属する付記７に記載の洗浄システムであって、前記基板洗浄装置は、前記第３ノズル及び前記第４ノズルを有し、第３ノズルは、前記基板の前記第１面に前記第２洗浄薬液を供給するように構成され、第４ノズルは、前記基板の前記第２面に前記第２洗浄薬液を供給するように構成される。
【0140】
付記８に記載の洗浄システムは、基板の第１面及び第２面に第２洗浄薬液を供給できる。また、この洗浄システムは、基板の第１面に設定した流量で第２洗浄薬液を供給できる。
【0141】
（付記９）
付記９に係る洗浄システムは、付記３に従属する付記７又は８に記載の洗浄システムであって、前記基板洗浄装置は、前記基板に前記第１洗浄薬液を供給するように構成された待機部を有し、前記第１洗浄薬液供給配管は、前記第３配管を介して、前記第１混合器と前記待機部とを接続するように構成されている。
付記９に係る洗浄システムは、付記３に従属する付記７又は８に記載の洗浄システムであって、前記基板洗浄装置は、前記基板に前記第１洗浄薬液を供給するように構成された待機部を有し、前記第１洗浄薬液供給配管は、前記第３配管を介して、前記第１混合器と前記待機部とを接続するように構成されている。
【0142】
付記９に記載の洗浄システムは、待機部において基板に第１洗浄薬液を供給できる。
【0143】
（付記１０）
付記１０に係る薬液供給方法は、薬液供給方法であって、第１薬液と水とを混合して第１洗浄薬液を生成する工程と、前記第１洗浄薬液が、第１混合器から第１分流点までを構成する上流配管を流れる工程と、前記第１洗浄薬液が、前記第１分流点から第１ノズルまでを構成する第１配管を流れる工程と、前記第１洗浄薬液が、前記第１分流点から第２ノズルまでを構成する第２配管を流れる工程と、第１供給量制御装置が、前記第１配管内の前記第１洗浄薬液の流量に基づいて、前記第１配管を流れる前記第１洗浄薬液の流量を、設定されている流量になるようにフィードバック制御する工程と、を有する。
付記１０に係る薬液供給方法は、薬液供給方法であって、第１薬液と水とを混合して第１洗浄薬液を生成する工程と、前記第１洗浄薬液が、第１混合器から第１分流点までを構成する上流配管を流れる工程と、前記第１洗浄薬液が、前記第１分流点から第１ノズルまでを構成する第１配管を流れる工程と、前記第１洗浄薬液が、前記第１分流点から第２ノズルまでを構成する第２配管を流れる工程と、第１供給量制御装置が、前記第１配管内の前記第１洗浄薬液の流量に基づいて、前記第１配管を流れる前記第１洗浄薬液の流量を、設定されている流量になるようにフィードバック制御する工程と、を有する。
【0144】
付記１０に記載の薬液供給方法は、付記１に記載に薬液供給装置と同様の効果を奏することができる。すなわち、この薬液供給方法は、２つのノズルに第１洗浄薬液を供給できる。また、この薬液供給方法は、第１ノズルには設定した流量で第１洗浄薬液を供給できる。
【0145】
（付記１１）
付記１１に係る薬液供給装置は、付記１又は２に記載の薬液供給装置であって、前記第１洗浄薬液供給配管上の、前記第１供給量制御装置の上流又は前記第１供給量制御装置の下流に設けられるバルブをさらに備える。
付記１１に係る薬液供給装置は、付記１又は２に記載の薬液供給装置であって、前記第１洗浄薬液供給配管上の、前記第１供給量制御装置の上流又は前記第１供給量制御装置の下流に設けられるバルブをさらに備える。
【0146】
付記１１に記載の薬液供給装置は、バルブを閉じることにより、第１洗浄薬液供給配管を通り第１ノズルに供給される第１洗浄薬液を遮断できる。
【0147】
（付記１２）
付記１２に係る薬液供給装置は、付記１１に記載の薬液供給装置であって、前記バルブは、前記第１供給量制御装置の下流に設けられる。
付記１２に係る薬液供給装置は、付記１１に記載の薬液供給装置であって、前記バルブは、前記第１供給量制御装置の下流に設けられる。
【0148】
付記１１に記載の薬液供給装置は、薬液供給装置は、バルブが開かれたときに第１洗浄薬液供給配管の第１配管を流れる第１洗浄薬液の流量が設定されている流量になるまでの時間を、バルブが第１供給量制御装置の上流に位置している場合よりも短くでき得る。
【0149】
以上、本発明の実施形態とそれに係る各変形例について説明したが、上述した各例は、本発明の理解を容易にするためのものであり、本発明を限定するものではないことは言うまでもない。本発明は、その趣旨を逸脱しない範囲で、適宜変更、改良することができ、本発明にその等価物は含まれる。また、上述した課題の少なくとも一部を解決できる範囲、または効果の少なくとも一部を奏する範囲において、特許請求の範囲及び明細書に記載された各構成要素の任意の組み合わせ、又は省略が可能である。
【符号の説明】
【0150】
１００，１０２，１０４，１０６，１０７，１０８：薬液供給装置
１１１ａ，１１１ｂ：流量制御装置（第１希釈水制御装置）
１２１ａ，１２１ｂ：流量制御装置（第１薬液制御装置）
１２３ａ，１２３ｂ：第１混合器
１２４ａ，１２４ｂ：アウト側圧力計
１３１ａ，１３１ｂ：流量制御装置（第２希釈水制御装置）
１４１ａ，１４１ｂ：流量制御装置（第２薬液制御装置）
１４３ａ，１４３ｂ：第２混合器
１４４ａ，１４４ｂ：アウト側圧力計
１５１ａ，１５１ｂ：バルブ
１５２ａ，１５２ｂ：流量制御装置（第１供給量制御装置）
１５７ａ，１５７ｂ：流量制御装置（第２供給量制御装置）
１５９ａ，１５９ｂ：バルブ
１６１ａ，１６１ｂ：バルブ
１６２ａ，１６２ｂ：流量制御装置（第３供給量制御装置）
１６７ａ，１６７ｂ：流量制御装置
１６９ａ，１６９ｂ：バルブ
１７３ａ，１７３ｂ：イン側圧力計
１８３ａ，１８３ｂ：イン側圧力計
１９５：イン側圧力計
２６０ａ，２６０ｂ：第１洗浄薬液供給配管
２６１ａ，２６１ｂ：上流配管
２６２ａ，２６２ｂ：第１配管
２６３ａ，２６３ｂ：第２配管
２６４ａ，２６４ｂ：第３配管
２７１ａ，２７１ｂ：分流点（第１分流点）
２８０ａ，２８０ｂ：第２洗浄薬液供給配管
２８１ａ，２８１ｂ：上流配管
２８２ａ，２８２ｂ：第１配管
２８３ａ，２８３ｂ：第２配管
２８４ａ，２８４ｂ：第３配管
２９１ａ，２９１ｂ：分流点（第２分流点）
４００，４０２：基板洗浄装置
４２１ａ，４２１ｂ：第１ノズル
４２２ａ，４２２ｂ：第２ノズル
４２３ａ，４２３ｂ：待機部
４４１ａ，４４１ｂ：第３ノズル
４４２ａ，４４２ｂ：第４ノズル
４４３ａ，４４３ｂ：待機部
５００，５０２，５０４，５０６，５０７，５０８：洗浄システム
９０２：水供給源
９０３：第１薬液供給源
９０４：第２薬液供給源
１１１ａ，１１１ｂ：流量制御装置（第１希釈水制御装置）
１２１ａ，１２１ｂ：流量制御装置（第１薬液制御装置）
１２３ａ，１２３ｂ：第１混合器
１２４ａ，１２４ｂ：アウト側圧力計
１３１ａ，１３１ｂ：流量制御装置（第２希釈水制御装置）
１４１ａ，１４１ｂ：流量制御装置（第２薬液制御装置）
１４３ａ，１４３ｂ：第２混合器
１４４ａ，１４４ｂ：アウト側圧力計
１５１ａ，１５１ｂ：バルブ
１５２ａ，１５２ｂ：流量制御装置（第１供給量制御装置）
１５７ａ，１５７ｂ：流量制御装置（第２供給量制御装置）
１５９ａ，１５９ｂ：バルブ
１６１ａ，１６１ｂ：バルブ
１６２ａ，１６２ｂ：流量制御装置（第３供給量制御装置）
１６７ａ，１６７ｂ：流量制御装置
１６９ａ，１６９ｂ：バルブ
１７３ａ，１７３ｂ：イン側圧力計
１８３ａ，１８３ｂ：イン側圧力計
１９５：イン側圧力計
２６０ａ，２６０ｂ：第１洗浄薬液供給配管
２６１ａ，２６１ｂ：上流配管
２６２ａ，２６２ｂ：第１配管
２６３ａ，２６３ｂ：第２配管
２６４ａ，２６４ｂ：第３配管
２７１ａ，２７１ｂ：分流点（第１分流点）
２８０ａ，２８０ｂ：第２洗浄薬液供給配管
２８１ａ，２８１ｂ：上流配管
２８２ａ，２８２ｂ：第１配管
２８３ａ，２８３ｂ：第２配管
２８４ａ，２８４ｂ：第３配管
２９１ａ，２９１ｂ：分流点（第２分流点）
４００，４０２：基板洗浄装置
４２１ａ，４２１ｂ：第１ノズル
４２２ａ，４２２ｂ：第２ノズル
４２３ａ，４２３ｂ：待機部
４４１ａ，４４１ｂ：第３ノズル
４４２ａ，４４２ｂ：第４ノズル
４４３ａ，４４３ｂ：待機部
５００，５０２，５０４，５０６，５０７，５０８：洗浄システム
９０２：水供給源
９０３：第１薬液供給源
９０４：第２薬液供給源
【図1A】
【図1B】
【図2】
【図3】
【図4A】
【図4B】
【図5】
【図6】
【図7】
【図8】
