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特開2023-120533ターゲット供給システム、極端紫外光生成装置、及び電子デバイスの製造方法
(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】公開特許公報(A)
(11)【公開番号】P2023120533
(43)【公開日】2023-08-30
(54)【発明の名称】ターゲット供給システム、極端紫外光生成装置、及び電子デバイスの製造方法
(51)【国際特許分類】
G03F 7/20 20060101AFI20230823BHJP
H05G 2/00 20060101ALI20230823BHJP
【ＦＩ】
G03F7/20 521
G03F7/20 503
H05G2/00 K
【審査請求】未請求
【請求項の数】20
【出願形態】ＯＬ
(21)【出願番号】P 2022023467
(22)【出願日】2022-02-18
(71)【出願人】
【識別番号】300073919
【氏名又は名称】ギガフォトン株式会社
(74)【代理人】
【識別番号】100105212
【弁理士】
【氏名又は名称】保坂 延寿
(72)【発明者】
【氏名】岩本 文男
(72)【発明者】
【氏名】植田 篤
(72)【発明者】
【氏名】薮 隆之
【テーマコード（参考）】
2H197
4C092
【Ｆターム（参考）】
2H197AA10
2H197GA01
2H197GA05
2H197GA24
2H197HA03
4C092AA06
4C092AA15
4C092AB10
4C092AB12
4C092AB19
4C092AC09
4C092BD18
(57)【要約】 （修正有）
【課題】溶融タンクの内部の液体ターゲット物質の表面温度が低下しても、溶融タンクの内部のガス圧の低下が抑制される。
【解決手段】ターゲット供給システム２６１は、固体ターゲット物質２７ａを収容可能なロードロック室Ｃ２と、ロードロック室Ｃ２に接続された固体ターゲット供給管４２と、外部から供給されたガス圧を調節する圧力調節器６２と、圧力調節器６２に接続されたガス圧供給管と、固体ターゲット供給管及びガス圧供給管の両方に接続され、ロードロック室Ｃ２から固体ターゲット供給管を介して供給される固体ターゲット物質２７ａを溶融させて液体ターゲット物質２７ａを生成する溶融タンクＣ３と、圧力調節器６２からガス圧供給管を介して溶融タンクに供給されるガス圧によって液体ターゲット物質２７を吐出するノズル７２と、溶融タンクに固体ターゲット物質を供給する際に溶融タンクに連通してガス圧を供給するバッファタンク６４と、を備える。
【選択図】図６
【解決手段】ターゲット供給システム２６１は、固体ターゲット物質２７ａを収容可能なロードロック室Ｃ２と、ロードロック室Ｃ２に接続された固体ターゲット供給管４２と、外部から供給されたガス圧を調節する圧力調節器６２と、圧力調節器６２に接続されたガス圧供給管と、固体ターゲット供給管及びガス圧供給管の両方に接続され、ロードロック室Ｃ２から固体ターゲット供給管を介して供給される固体ターゲット物質２７ａを溶融させて液体ターゲット物質２７ａを生成する溶融タンクＣ３と、圧力調節器６２からガス圧供給管を介して溶融タンクに供給されるガス圧によって液体ターゲット物質２７を吐出するノズル７２と、溶融タンクに固体ターゲット物質を供給する際に溶融タンクに連通してガス圧を供給するバッファタンク６４と、を備える。
【選択図】図６
【特許請求の範囲】
【請求項1】
固体ターゲット物質を収容可能なロードロック室と、
前記ロードロック室に接続された固体ターゲット供給管と、
外部から供給されたガス圧を調節する圧力調節器と、
前記圧力調節器に接続されたガス圧供給管と、
前記固体ターゲット供給管及び前記ガス圧供給管の両方に接続され、前記ロードロック室から前記固体ターゲット供給管を介して供給される前記固体ターゲット物質を溶融させて液体ターゲット物質を生成する溶融タンクと、
前記圧力調節器から前記ガス圧供給管を介して前記溶融タンクに供給されるガス圧によって前記液体ターゲット物質を吐出するノズルと、
前記溶融タンクに前記固体ターゲット物質を供給する際に前記溶融タンクに連通してガス圧を供給するバッファタンクと、
を備える、ターゲット供給システム。
前記ロードロック室に接続された固体ターゲット供給管と、
外部から供給されたガス圧を調節する圧力調節器と、
前記圧力調節器に接続されたガス圧供給管と、
前記固体ターゲット供給管及び前記ガス圧供給管の両方に接続され、前記ロードロック室から前記固体ターゲット供給管を介して供給される前記固体ターゲット物質を溶融させて液体ターゲット物質を生成する溶融タンクと、
前記圧力調節器から前記ガス圧供給管を介して前記溶融タンクに供給されるガス圧によって前記液体ターゲット物質を吐出するノズルと、
前記溶融タンクに前記固体ターゲット物質を供給する際に前記溶融タンクに連通してガス圧を供給するバッファタンクと、
を備える、ターゲット供給システム。
【請求項2】
請求項１に記載のターゲット供給システムであって、
前記バッファタンクは、前記ノズルが前記液体ターゲット物質を吐出するときの前記溶融タンクの内部のガスよりも、温度の低いガスを収容する、
ターゲット供給システム。
前記バッファタンクは、前記ノズルが前記液体ターゲット物質を吐出するときの前記溶融タンクの内部のガスよりも、温度の低いガスを収容する、
ターゲット供給システム。
【請求項3】
請求項１に記載のターゲット供給システムであって、
前記圧力調節器は、大気圧よりも高いガス圧を前記溶融タンクに供給し、
前記バッファタンクは、大気圧よりも高圧のガスを収容する、
ターゲット供給システム。
前記圧力調節器は、大気圧よりも高いガス圧を前記溶融タンクに供給し、
前記バッファタンクは、大気圧よりも高圧のガスを収容する、
ターゲット供給システム。
【請求項4】
請求項１に記載のターゲット供給システムであって、
前記圧力調節器は、前記外部から前記圧力調節器に供給されたガス圧よりも低いガス圧を前記溶融タンクに供給し、
前記バッファタンクは、前記外部から前記圧力調節器に供給されたガス圧よりも低圧のガスを収容する、
ターゲット供給システム。
前記圧力調節器は、前記外部から前記圧力調節器に供給されたガス圧よりも低いガス圧を前記溶融タンクに供給し、
前記バッファタンクは、前記外部から前記圧力調節器に供給されたガス圧よりも低圧のガスを収容する、
ターゲット供給システム。
【請求項5】
請求項１に記載のターゲット供給システムであって、
前記バッファタンクは、前記溶融タンクよりも容積が大きい、
ターゲット供給システム。
前記バッファタンクは、前記溶融タンクよりも容積が大きい、
ターゲット供給システム。
【請求項6】
請求項１に記載のターゲット供給システムであって、
前記バッファタンクの容積は、１．４リットル以上１４リットル以下の範囲内である、
ターゲット供給システム。
前記バッファタンクの容積は、１．４リットル以上１４リットル以下の範囲内である、
ターゲット供給システム。
【請求項7】
請求項１に記載のターゲット供給システムであって、
前記バッファタンクは、前記ガス圧供給管を介して前記溶融タンクに連通する、
ターゲット供給システム。
前記バッファタンクは、前記ガス圧供給管を介して前記溶融タンクに連通する、
ターゲット供給システム。
【請求項8】
請求項１に記載のターゲット供給システムであって、
前記バッファタンクは、前記固体ターゲット供給管を介して前記溶融タンクに連通する、
ターゲット供給システム。
前記バッファタンクは、前記固体ターゲット供給管を介して前記溶融タンクに連通する、
ターゲット供給システム。
【請求項9】
請求項８に記載のターゲット供給システムであって、
前記固体ターゲット供給管に固体ターゲット供給バルブが配置され、
前記バッファタンクから前記溶融タンクへ向かうガス圧の供給経路は、前記固体ターゲット供給管のうちの前記固体ターゲット供給バルブから前記溶融タンクへ向かう前記固体ターゲット物質の供給経路において前記固体ターゲット供給管に合流する、
ターゲット供給システム。
前記固体ターゲット供給管に固体ターゲット供給バルブが配置され、
前記バッファタンクから前記溶融タンクへ向かうガス圧の供給経路は、前記固体ターゲット供給管のうちの前記固体ターゲット供給バルブから前記溶融タンクへ向かう前記固体ターゲット物質の供給経路において前記固体ターゲット供給管に合流する、
ターゲット供給システム。
【請求項10】
請求項１に記載のターゲット供給システムであって、
前記ガス圧供給管は、分岐部と、前記分岐部から前記溶融タンクへ向けてガス圧を供給する第１の配管と、前記分岐部から前記ロードロック室へ向けてガス圧を供給する第２の配管と、前記圧力調節器と前記分岐部との間の共通配管と、を含み、
前記第１及び第２の配管にそれぞれ第１及び第２のガス圧供給バルブが配置され、
前記バッファタンクから前記溶融タンクへ向かうガス圧の供給経路は、前記第１の配管のうちの前記第１のガス圧供給バルブから前記溶融タンクへ向かうガス圧の供給経路において前記第１の配管に合流する、
ターゲット供給システム。
前記ガス圧供給管は、分岐部と、前記分岐部から前記溶融タンクへ向けてガス圧を供給する第１の配管と、前記分岐部から前記ロードロック室へ向けてガス圧を供給する第２の配管と、前記圧力調節器と前記分岐部との間の共通配管と、を含み、
前記第１及び第２の配管にそれぞれ第１及び第２のガス圧供給バルブが配置され、
前記バッファタンクから前記溶融タンクへ向かうガス圧の供給経路は、前記第１の配管のうちの前記第１のガス圧供給バルブから前記溶融タンクへ向かうガス圧の供給経路において前記第１の配管に合流する、
ターゲット供給システム。
【請求項11】
請求項１に記載のターゲット供給システムであって、
前記バッファタンクから前記溶融タンクへ向かうガス圧の供給経路は、前記ガス圧供給管に合流し、
前記ガス圧供給管のうちの前記バッファタンクからのガス圧の供給経路との合流位置から前記溶融タンクへ向かうガス圧の供給経路に第３のガス圧供給バルブが配置された、
ターゲット供給システム。
前記バッファタンクから前記溶融タンクへ向かうガス圧の供給経路は、前記ガス圧供給管に合流し、
前記ガス圧供給管のうちの前記バッファタンクからのガス圧の供給経路との合流位置から前記溶融タンクへ向かうガス圧の供給経路に第３のガス圧供給バルブが配置された、
ターゲット供給システム。
【請求項12】
請求項１に記載のターゲット供給システムであって、
前記ガス圧供給管は、分岐部と、前記分岐部から前記溶融タンクへ向けてガス圧を供給する第１の配管と、前記分岐部から前記ロードロック室へ向けてガス圧を供給する第２の配管と、前記圧力調節器と前記分岐部との間の共通配管と、を含み、
前記第１及び第２の配管にそれぞれ第１及び第２のガス圧供給バルブが配置され、
前記バッファタンクから前記溶融タンクへ向かうガス圧の供給経路は、前記第１の配管のうちの前記第１のガス圧供給バルブから前記溶融タンクへ向かうガス圧の供給経路において前記第１の配管に合流し、
前記第１の配管のうちの前記バッファタンクからのガス圧の供給経路との合流位置から前記溶融タンクへ向かうガス圧の供給経路に第３のガス圧供給バルブが配置された、
ターゲット供給システム。
前記ガス圧供給管は、分岐部と、前記分岐部から前記溶融タンクへ向けてガス圧を供給する第１の配管と、前記分岐部から前記ロードロック室へ向けてガス圧を供給する第２の配管と、前記圧力調節器と前記分岐部との間の共通配管と、を含み、
前記第１及び第２の配管にそれぞれ第１及び第２のガス圧供給バルブが配置され、
前記バッファタンクから前記溶融タンクへ向かうガス圧の供給経路は、前記第１の配管のうちの前記第１のガス圧供給バルブから前記溶融タンクへ向かうガス圧の供給経路において前記第１の配管に合流し、
前記第１の配管のうちの前記バッファタンクからのガス圧の供給経路との合流位置から前記溶融タンクへ向かうガス圧の供給経路に第３のガス圧供給バルブが配置された、
ターゲット供給システム。
【請求項13】
請求項１２に記載のターゲット供給システムであって、
前記固体ターゲット物質を計量して前記ロードロック室に供給する計量器をさらに備え、
前記第１の配管のうちの前記第３のガス圧供給バルブから前記溶融タンクへ向かうガス圧の供給経路に第１の継手が配置され、
前記第２の配管のうちの前記第２のガス圧供給バルブから前記ロードロック室へ向かうガス圧の供給経路に第２の継手が配置され、
前記計量器から前記ロードロック室へ向かう前記固体ターゲット物質の供給経路に第３の継手が配置された、
ターゲット供給システム。
前記固体ターゲット物質を計量して前記ロードロック室に供給する計量器をさらに備え、
前記第１の配管のうちの前記第３のガス圧供給バルブから前記溶融タンクへ向かうガス圧の供給経路に第１の継手が配置され、
前記第２の配管のうちの前記第２のガス圧供給バルブから前記ロードロック室へ向かうガス圧の供給経路に第２の継手が配置され、
前記計量器から前記ロードロック室へ向かう前記固体ターゲット物質の供給経路に第３の継手が配置された、
ターゲット供給システム。
【請求項14】
請求項１に記載のターゲット供給システムであって、
前記ガス圧供給管は、分岐部と、前記分岐部から前記溶融タンクへ向けてガス圧を供給する第１の配管と、前記分岐部から前記ロードロック室へ向けてガス圧を供給する第２の配管と、前記圧力調節器と前記分岐部との間の共通配管と、を含み、
前記第１及び第２の配管にそれぞれ第１及び第２のガス圧供給バルブが配置され、
前記バッファタンクから前記溶融タンクへ向かうガス圧の供給経路は、
前記第１の配管のうちの前記分岐部と前記第１のガス圧供給バルブとの間、
前記第２の配管のうちの前記分岐部と前記第２のガス圧供給バルブとの間、及び
前記共通配管
のうちのいずれかにおいて前記ガス圧供給管に合流する、
ターゲット供給システム。
前記ガス圧供給管は、分岐部と、前記分岐部から前記溶融タンクへ向けてガス圧を供給する第１の配管と、前記分岐部から前記ロードロック室へ向けてガス圧を供給する第２の配管と、前記圧力調節器と前記分岐部との間の共通配管と、を含み、
前記第１及び第２の配管にそれぞれ第１及び第２のガス圧供給バルブが配置され、
前記バッファタンクから前記溶融タンクへ向かうガス圧の供給経路は、
前記第１の配管のうちの前記分岐部と前記第１のガス圧供給バルブとの間、
前記第２の配管のうちの前記分岐部と前記第２のガス圧供給バルブとの間、及び
前記共通配管
のうちのいずれかにおいて前記ガス圧供給管に合流する、
ターゲット供給システム。
【請求項15】
請求項１４に記載のターゲット供給システムであって、
前記固体ターゲット物質を計量して前記ロードロック室に供給する計量器をさらに備え、
前記第１の配管のうちの前記第１のガス圧供給バルブから前記溶融タンクへ向かうガス圧の供給経路に第１の継手が配置され、
前記第２の配管のうちの前記第２のガス圧供給バルブから前記ロードロック室へ向かうガス圧の供給経路に第２の継手が配置され、
前記計量器から前記ロードロック室へ向かう前記固体ターゲット物質の供給経路に第３の継手が配置された、
ターゲット供給システム。
前記固体ターゲット物質を計量して前記ロードロック室に供給する計量器をさらに備え、
前記第１の配管のうちの前記第１のガス圧供給バルブから前記溶融タンクへ向かうガス圧の供給経路に第１の継手が配置され、
前記第２の配管のうちの前記第２のガス圧供給バルブから前記ロードロック室へ向かうガス圧の供給経路に第２の継手が配置され、
前記計量器から前記ロードロック室へ向かう前記固体ターゲット物質の供給経路に第３の継手が配置された、
ターゲット供給システム。
【請求項16】
請求項１に記載のターゲット供給システムであって、
前記溶融タンクの内部の前記液体ターゲット物質の液面を検出するセンサと、
前記固体ターゲット物質を計量して前記ロードロック室に供給する計量器と、
前記センサの出力に基づいて、前記固体ターゲット物質を前記ロードロック室に供給するように前記計量器を制御するプロセッサと、
をさらに備える、ターゲット供給システム。
前記溶融タンクの内部の前記液体ターゲット物質の液面を検出するセンサと、
前記固体ターゲット物質を計量して前記ロードロック室に供給する計量器と、
前記センサの出力に基づいて、前記固体ターゲット物質を前記ロードロック室に供給するように前記計量器を制御するプロセッサと、
をさらに備える、ターゲット供給システム。
【請求項17】
請求項１６に記載のターゲット供給システムであって、
前記プロセッサは、前記センサの出力に基づいて、前記溶融タンクの内部の前記液体ターゲット物質の０．３３％以上、３．３％以下の質量の前記固体ターゲット物質を前記ロードロック室に供給するように前記計量器を制御する、
ターゲット供給システム。
前記プロセッサは、前記センサの出力に基づいて、前記溶融タンクの内部の前記液体ターゲット物質の０．３３％以上、３．３％以下の質量の前記固体ターゲット物質を前記ロードロック室に供給するように前記計量器を制御する、
ターゲット供給システム。
【請求項18】
請求項１に記載のターゲット供給システムと、
前記ターゲット供給システムから出力されて所定領域に到達したターゲットにパルスレーザ光を照射するレーザ装置と、
前記所定領域に生成されたプラズマから放出される極端紫外光を集光するＥＵＶ集光ミラーと、
を備える極端紫外光生成装置。
前記ターゲット供給システムから出力されて所定領域に到達したターゲットにパルスレーザ光を照射するレーザ装置と、
前記所定領域に生成されたプラズマから放出される極端紫外光を集光するＥＵＶ集光ミラーと、
を備える極端紫外光生成装置。
【請求項19】
電子デバイスの製造方法であって、
固体ターゲット物質を収容可能なロードロック室と、
前記ロードロック室に接続された固体ターゲット供給管と、
外部から供給されたガス圧を調節する圧力調節器と、
前記圧力調節器に接続されたガス圧供給管と、
前記固体ターゲット供給管及び前記ガス圧供給管の両方に接続され、前記ロードロック室から前記固体ターゲット供給管を介して供給される前記固体ターゲット物質を溶融させて液体ターゲット物質を生成する溶融タンクと、
前記圧力調節器から前記ガス圧供給管を介して前記溶融タンクに供給されるガス圧によって前記液体ターゲット物質を吐出するノズルと、
前記溶融タンクに前記固体ターゲット物質を供給する際に前記溶融タンクに連通してガス圧を供給するバッファタンクと、
を備えるターゲット供給システムと、
前記ターゲット供給システムから出力されて所定領域に到達したターゲットにパルスレーザ光を照射するレーザ装置と、
前記所定領域に生成されたプラズマから放出される極端紫外光を集光するＥＵＶ集光ミラーと、
を備える極端紫外光生成装置によって極端紫外光を生成し、
極端紫外光を露光装置に出力し、
電子デバイスを製造するために、前記露光装置内で感光基板上に極端紫外光を露光する
ことを含む、電子デバイスの製造方法。
固体ターゲット物質を収容可能なロードロック室と、
前記ロードロック室に接続された固体ターゲット供給管と、
外部から供給されたガス圧を調節する圧力調節器と、
前記圧力調節器に接続されたガス圧供給管と、
前記固体ターゲット供給管及び前記ガス圧供給管の両方に接続され、前記ロードロック室から前記固体ターゲット供給管を介して供給される前記固体ターゲット物質を溶融させて液体ターゲット物質を生成する溶融タンクと、
前記圧力調節器から前記ガス圧供給管を介して前記溶融タンクに供給されるガス圧によって前記液体ターゲット物質を吐出するノズルと、
前記溶融タンクに前記固体ターゲット物質を供給する際に前記溶融タンクに連通してガス圧を供給するバッファタンクと、
を備えるターゲット供給システムと、
前記ターゲット供給システムから出力されて所定領域に到達したターゲットにパルスレーザ光を照射するレーザ装置と、
前記所定領域に生成されたプラズマから放出される極端紫外光を集光するＥＵＶ集光ミラーと、
を備える極端紫外光生成装置によって極端紫外光を生成し、
極端紫外光を露光装置に出力し、
電子デバイスを製造するために、前記露光装置内で感光基板上に極端紫外光を露光する
ことを含む、電子デバイスの製造方法。
【請求項20】
電子デバイスの製造方法であって、
固体ターゲット物質を収容可能なロードロック室と、
前記ロードロック室に接続された固体ターゲット供給管と、
外部から供給されたガス圧を調節する圧力調節器と、
前記圧力調節器に接続されたガス圧供給管と、
前記固体ターゲット供給管及び前記ガス圧供給管の両方に接続され、前記ロードロック室から前記固体ターゲット供給管を介して供給される前記固体ターゲット物質を溶融させて液体ターゲット物質を生成する溶融タンクと、
前記圧力調節器から前記ガス圧供給管を介して前記溶融タンクに供給されるガス圧によって前記液体ターゲット物質を吐出するノズルと、
前記溶融タンクに前記固体ターゲット物質を供給する際に前記溶融タンクに連通してガス圧を供給するバッファタンクと、
を備えるターゲット供給システムと、
前記ターゲット供給システムから出力されて所定領域に到達したターゲットにパルスレーザ光を照射するレーザ装置と、
前記所定領域に生成されたプラズマから放出される極端紫外光を集光するＥＵＶ集光ミラーと、
を備える極端紫外光生成装置によって生成した極端紫外光をマスクに照射してマスクの欠陥を検査し、
前記検査の結果を用いてマスクを選定し、
前記選定したマスクに形成されたパターンを感光基板上に露光転写する
ことを含む、電子デバイスの製造方法。
固体ターゲット物質を収容可能なロードロック室と、
前記ロードロック室に接続された固体ターゲット供給管と、
外部から供給されたガス圧を調節する圧力調節器と、
前記圧力調節器に接続されたガス圧供給管と、
前記固体ターゲット供給管及び前記ガス圧供給管の両方に接続され、前記ロードロック室から前記固体ターゲット供給管を介して供給される前記固体ターゲット物質を溶融させて液体ターゲット物質を生成する溶融タンクと、
前記圧力調節器から前記ガス圧供給管を介して前記溶融タンクに供給されるガス圧によって前記液体ターゲット物質を吐出するノズルと、
前記溶融タンクに前記固体ターゲット物質を供給する際に前記溶融タンクに連通してガス圧を供給するバッファタンクと、
を備えるターゲット供給システムと、
前記ターゲット供給システムから出力されて所定領域に到達したターゲットにパルスレーザ光を照射するレーザ装置と、
前記所定領域に生成されたプラズマから放出される極端紫外光を集光するＥＵＶ集光ミラーと、
を備える極端紫外光生成装置によって生成した極端紫外光をマスクに照射してマスクの欠陥を検査し、
前記検査の結果を用いてマスクを選定し、
前記選定したマスクに形成されたパターンを感光基板上に露光転写する
ことを含む、電子デバイスの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本開示は、ターゲット供給システム、極端紫外光生成装置、及び電子デバイスの製造方法に関する。
【背景技術】
【0002】
近年、半導体プロセスの微細化に伴って、半導体プロセスの光リソグラフィにおける転写パターンの微細化が急速に進展している。次世代においては、１０ｎｍ以下の微細加工が要求されるようになる。このため、波長約１３ｎｍの極端紫外（ＥＵＶ）光を生成するＥＵＶ光生成装置と縮小投影反射光学系(reduced projection reflection optics)とを組み合わせた露光装置の開発が期待されている。
【0003】
ＥＵＶ光生成装置としては、ターゲット物質にパルスレーザ光を照射することによって生成されるプラズマが用いられるＬＰＰ（Laser Produced Plasma）式の装置の開発が進んでいる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0004】
【特許文献1】米国特許出願公開第２０２１／０３６４９２７号明細書
【特許文献2】特開２０１０－１２３４０５号公報
【特許文献3】米国特許出願公開第２０１６／０３７７９８６号明細書
【概要】
【0005】
本開示の１つの観点に係るターゲット供給システムは、固体ターゲット物質を収容可能なロードロック室と、ロードロック室に接続された固体ターゲット供給管と、外部から供給されたガス圧を調節する圧力調節器と、圧力調節器に接続されたガス圧供給管と、固体ターゲット供給管及びガス圧供給管の両方に接続され、ロードロック室から固体ターゲット供給管を介して供給される固体ターゲット物質を溶融させて液体ターゲット物質を生成する溶融タンクと、圧力調節器からガス圧供給管を介して溶融タンクに供給されるガス圧によって液体ターゲット物質を吐出するノズルと、溶融タンクに固体ターゲット物質を供給する際に溶融タンクに連通してガス圧を供給するバッファタンクと、を備える。
【0006】
本開示の１つの観点に係る電子デバイスの製造方法は、固体ターゲット物質を収容可能なロードロック室と、ロードロック室に接続された固体ターゲット供給管と、外部から供給されたガス圧を調節する圧力調節器と、圧力調節器に接続されたガス圧供給管と、固体ターゲット供給管及びガス圧供給管の両方に接続され、ロードロック室から固体ターゲット供給管を介して供給される固体ターゲット物質を溶融させて液体ターゲット物質を生成する溶融タンクと、圧力調節器からガス圧供給管を介して溶融タンクに供給されるガス圧によって液体ターゲット物質を吐出するノズルと、溶融タンクに固体ターゲット物質を供給する際に溶融タンクに連通してガス圧を供給するバッファタンクと、を備えるターゲット供給システムと、ターゲット供給システムから出力されて所定領域に到達したターゲットにパルスレーザ光を照射するレーザ装置と、所定領域に生成されたプラズマから放出される極端紫外光を集光するＥＵＶ集光ミラーと、を備える極端紫外光生成装置によって極端紫外光を生成し、極端紫外光を露光装置に出力し、電子デバイスを製造するために、露光装置内で感光基板上に極端紫外光を露光することを含む。
【0007】
本開示の１つの観点に係る電子デバイスの製造方法は、固体ターゲット物質を収容可能なロードロック室と、ロードロック室に接続された固体ターゲット供給管と、外部から供給されたガス圧を調節する圧力調節器と、圧力調節器に接続されたガス圧供給管と、固体ターゲット供給管及びガス圧供給管の両方に接続され、ロードロック室から固体ターゲット供給管を介して供給される固体ターゲット物質を溶融させて液体ターゲット物質を生成する溶融タンクと、圧力調節器からガス圧供給管を介して溶融タンクに供給されるガス圧によって液体ターゲット物質を吐出するノズルと、溶融タンクに固体ターゲット物質を供給する際に溶融タンクに連通してガス圧を供給するバッファタンクと、を備えるターゲット供給システムと、ターゲット供給システムから出力されて所定領域に到達したターゲットにパルスレーザ光を照射するレーザ装置と、所定領域に生成されたプラズマから放出される極端紫外光を集光するＥＵＶ集光ミラーと、を備える極端紫外光生成装置によって生成した極端紫外光をマスクに照射してマスクの欠陥を検査し、検査の結果を用いてマスクを選定し、選定したマスクに形成されたパターンを感光基板上に露光転写することを含む。
【図面の簡単な説明】
【0008】
本開示のいくつかの実施形態を、単なる例として、添付の図面を参照して以下に説明する。
【実施形態】
【0009】
＜内容＞
１．ＥＵＶ光生成システム１１の全体説明
１．１ 構成
１．２ 動作
２．比較例
２．１ 構成
２．１．１ リザーバタンクＣ１
２．１．２ ロードロック室Ｃ２
２．１．３ 溶融タンクＣ３
２．１．４ 各種配管
２．２ 動作
２．３ 比較例の課題
３．ガス圧供給管Ｌ０にバッファタンク６４が接続されたターゲット供給システム２６１
３．１ 構成
３．２ 動作
３．３ 溶融タンクＣ３の内部のガスの温度降下ΔＴ
３．４ 温度降下ΔＴによるガス圧降下ΔＰ
３．５ 作用
４．溶融タンクＣ３を取り外し可能なターゲット供給システム２６２
４．１ 構成
４．２ 動作
４．３ 作用
５．バッファタンク６４の配置のバリエーション
５．１ 構成
５．２ 動作
５．３ 作用
６．溶融タンクＣ３の液面を検出するターゲット供給システム２６４
６．１ 構成
６．２ 動作
６．３ 作用
７．その他
７．１ 圧力調節器６２
７．２ ＥＵＶ光利用装置６
７．３ 補足
１．ＥＵＶ光生成システム１１の全体説明
１．１ 構成
１．２ 動作
２．比較例
２．１ 構成
２．１．１ リザーバタンクＣ１
２．１．２ ロードロック室Ｃ２
２．１．３ 溶融タンクＣ３
２．１．４ 各種配管
２．２ 動作
２．３ 比較例の課題
３．ガス圧供給管Ｌ０にバッファタンク６４が接続されたターゲット供給システム２６１
３．１ 構成
３．２ 動作
３．３ 溶融タンクＣ３の内部のガスの温度降下ΔＴ
３．４ 温度降下ΔＴによるガス圧降下ΔＰ
３．５ 作用
４．溶融タンクＣ３を取り外し可能なターゲット供給システム２６２
４．１ 構成
４．２ 動作
４．３ 作用
５．バッファタンク６４の配置のバリエーション
５．１ 構成
５．２ 動作
５．３ 作用
６．溶融タンクＣ３の液面を検出するターゲット供給システム２６４
６．１ 構成
６．２ 動作
６．３ 作用
７．その他
７．１ 圧力調節器６２
７．２ ＥＵＶ光利用装置６
７．３ 補足
【0010】
以下、本開示の実施形態について、図面を参照しながら詳しく説明する。以下に説明される実施形態は、本開示のいくつかの例を示すものであって、本開示の内容を限定するものではない。また、各実施形態で説明される構成及び動作の全てが本開示の構成及び動作として必須であるとは限らない。なお、同一の構成要素には同一の参照符号を付して、重複する説明を省略する。
【0011】
１．ＥＵＶ光生成システム１１の全体説明
１．１ 構成
図１に、ＬＰＰ式のＥＵＶ光生成システム１１の構成を概略的に示す。ＥＵＶ光生成装置１は、レーザ装置３とともに用いられる。本開示においては、ＥＵＶ光生成装置１及びレーザ装置３を含むシステムを、ＥＵＶ光生成システム１１と称する。ＥＵＶ光生成装置１は、チャンバ２及びターゲット供給システム２６を含む。チャンバ２は、密閉可能な容器である。ターゲット供給システム２６は、ターゲット物質を含むターゲット２７をチャンバ２内部に供給する。ターゲット物質の材料は、スズ、テルビウム、ガドリニウム、リチウム、キセノン、又は、それらの内のいずれか２つ以上の組合せを含んでもよい。
１．１ 構成
図１に、ＬＰＰ式のＥＵＶ光生成システム１１の構成を概略的に示す。ＥＵＶ光生成装置１は、レーザ装置３とともに用いられる。本開示においては、ＥＵＶ光生成装置１及びレーザ装置３を含むシステムを、ＥＵＶ光生成システム１１と称する。ＥＵＶ光生成装置１は、チャンバ２及びターゲット供給システム２６を含む。チャンバ２は、密閉可能な容器である。ターゲット供給システム２６は、ターゲット物質を含むターゲット２７をチャンバ２内部に供給する。ターゲット物質の材料は、スズ、テルビウム、ガドリニウム、リチウム、キセノン、又は、それらの内のいずれか２つ以上の組合せを含んでもよい。
【0012】
チャンバ２の壁には、貫通孔が備えられている。その貫通孔は、ウインドウ２１によって塞がれ、ウインドウ２１をレーザ装置３から出力されるパルスレーザ光３２が透過する。チャンバ２の内部には、回転楕円面形状の反射面を備えたＥＵＶ集光ミラー２３が配置される。ＥＵＶ集光ミラー２３は、第１及び第２の焦点を備える。ＥＵＶ集光ミラー２３の表面には、モリブデンとシリコンとが交互に積層された多層反射膜が形成される。ＥＵＶ集光ミラー２３は、その第１の焦点がプラズマ生成領域２５に位置し、その第２の焦点が中間集光点２９２に位置するように配置される。ＥＵＶ集光ミラー２３の中央部には貫通孔２４が備えられ、貫通孔２４をパルスレーザ光３３が通過する。
【0013】
ＥＵＶ光生成装置１は、ＥＵＶ光生成プロセッサ５、ターゲットセンサ４等を含む。ＥＵＶ光生成プロセッサ５は、制御プログラムが記憶されたメモリ５０１と、制御プログラムを実行するＣＰＵ（central processing unit）５０２と、を含む処理装置である。ＥＵＶ光生成プロセッサ５は本開示に含まれる各種処理を実行するために特別に構成又はプログラムされている。ターゲットセンサ４は、ターゲット２７の存在、軌跡、位置、速度の内の少なくとも１つを検出する。ターゲットセンサ４は、撮像機能を備えてもよい。
【0014】
また、ＥＵＶ光生成装置１は、チャンバ２の内部とＥＵＶ光利用装置６の内部とを連通させる接続部２９を含む。ＥＵＶ光利用装置６の例については、図１９及び図２０を参照しながら後述する。接続部２９内部には、アパーチャが形成された壁２９１が備えられる。壁２９１は、そのアパーチャがＥＵＶ集光ミラー２３の第２の焦点に位置するように配置される。
【0015】
さらに、ＥＵＶ光生成装置１は、レーザ光伝送装置３４、レーザ光集光ミラー２２、ターゲット２７を回収するためのターゲット回収部２８等を含む。レーザ光伝送装置３４は、パルスレーザ光３２の伝送状態を規定するための光学素子と、この光学素子の位置、姿勢等を調整するためのアクチュエータとを備える。
【0016】
１．２ 動作
図１を参照して、ＥＵＶ光生成システム１１の動作を説明する。レーザ装置３から出力されたパルスレーザ光３１は、レーザ光伝送装置３４を経て、パルスレーザ光３２としてウインドウ２１を透過してチャンバ２内に入射する。パルスレーザ光３２は、レーザ光路に沿ってチャンバ２内を進み、レーザ光集光ミラー２２で反射されて、パルスレーザ光３３としてターゲット２７に照射される。
図１を参照して、ＥＵＶ光生成システム１１の動作を説明する。レーザ装置３から出力されたパルスレーザ光３１は、レーザ光伝送装置３４を経て、パルスレーザ光３２としてウインドウ２１を透過してチャンバ２内に入射する。パルスレーザ光３２は、レーザ光路に沿ってチャンバ２内を進み、レーザ光集光ミラー２２で反射されて、パルスレーザ光３３としてターゲット２７に照射される。
【0017】
ターゲット供給システム２６は、ターゲット２７をチャンバ２内部のプラズマ生成領域２５に向けて出力する。ターゲット２７には、パルスレーザ光３３が照射される。パルスレーザ光３３が照射されたターゲット２７はプラズマ化し、そのプラズマから放射光２５１が放射される。放射光２５１に含まれるＥＵＶ光は、ＥＵＶ集光ミラー２３によって他の波長域の光に比べて高い反射率で反射される。ＥＵＶ集光ミラー２３によって反射されたＥＵＶ光を含む反射光２５２は、中間集光点２９２で集光され、ＥＵＶ光利用装置６に出力される。なお、１つのターゲット２７に、パルスレーザ光３３に含まれる複数のパルスが照射されてもよい。
【0018】
ＥＵＶ光生成プロセッサ５は、ＥＵＶ光生成システム１１全体を制御する。ＥＵＶ光生成プロセッサ５は、ターゲットセンサ４の検出結果を処理する。ターゲットセンサ４の検出結果に基づいて、ＥＵＶ光生成プロセッサ５は、ターゲット２７が出力されるタイミング、ターゲット２７の出力方向等を制御する。さらに、ＥＵＶ光生成プロセッサ５は、レーザ装置３の発振タイミング、パルスレーザ光３２の進行方向、パルスレーザ光３３の集光位置等を制御する。上述の様々な制御は単なる例示に過ぎず、必要に応じて他の制御が追加されてもよい。
【0019】
２．比較例
２．１ 構成
図２は、比較例に係るターゲット供給システム２６の構成を概略的に示す。本開示の比較例とは、出願人のみによって知られていると出願人が認識している形態であって、出願人が自認している公知例ではない。図２に示されるように、比較例に係るターゲット供給システム２６は、リザーバタンクＣ１と、ロードロック室Ｃ２と、溶融タンクＣ３と、ターゲット供給プロセッサ６０と、固体ターゲット供給管４１及び４２と、計量器６１と、圧力調節器６２と、排気ポンプ６３と、を含む。
２．１ 構成
図２は、比較例に係るターゲット供給システム２６の構成を概略的に示す。本開示の比較例とは、出願人のみによって知られていると出願人が認識している形態であって、出願人が自認している公知例ではない。図２に示されるように、比較例に係るターゲット供給システム２６は、リザーバタンクＣ１と、ロードロック室Ｃ２と、溶融タンクＣ３と、ターゲット供給プロセッサ６０と、固体ターゲット供給管４１及び４２と、計量器６１と、圧力調節器６２と、排気ポンプ６３と、を含む。
【0020】
ターゲット供給プロセッサ６０は、制御プログラムが記憶されたメモリ６０１と、制御プログラムを実行するＣＰＵ６０２と、を含む処理装置である。ターゲット供給プロセッサ６０は本開示におけるプロセッサに相当する。ターゲット供給プロセッサ６０は本開示に含まれる各種処理を実行するために特別に構成又はプログラムされている。
【0021】
２．１．１ リザーバタンクＣ１
リザーバタンクＣ１は、スズなどの固体ターゲット物質２７ａを収容する容器である。固体ターゲット物質２７ａは、例えば、互いにほぼ同じ大きさの球形の粒であってもよい。あるいは、球形以外の形状の粒であってもよい。リザーバタンクＣ１の内部の温度はターゲット物質の融点より低い温度である。リザーバタンクＣ１の内部のガス圧は、大気圧と同程度である。
リザーバタンクＣ１は、スズなどの固体ターゲット物質２７ａを収容する容器である。固体ターゲット物質２７ａは、例えば、互いにほぼ同じ大きさの球形の粒であってもよい。あるいは、球形以外の形状の粒であってもよい。リザーバタンクＣ１の内部の温度はターゲット物質の融点より低い温度である。リザーバタンクＣ１の内部のガス圧は、大気圧と同程度である。
【0022】
計量器６１はリザーバタンクＣ１の下端に配置されている。リザーバタンクＣ１は、計量器６１を介して固体ターゲット供給管４１に接続され、固体ターゲット供給管４１はロードロック室Ｃ２に接続されている。固体ターゲット供給管４１には固体ターゲット供給バルブＶＴ１が配置されている。
【0023】
計量器６１は、通常時は固体ターゲット物質２７ａの固体ターゲット供給管４１への供給を止めている。
計量器６１は、リザーバタンクＣ１から供給される固体ターゲット物質２７ａを計量しながらロードロック室Ｃ２へ向けて通過させることができる。固体ターゲット物質２７ａの計量は、固体ターゲット物質２７ａの粒の数を数えることを含む。計量された固体ターゲット物質２７ａは重力によって移動し、固体ターゲット供給管４１及び固体ターゲット供給バルブＶＴ１を通過してロードロック室Ｃ２に移動する。計量器６１は、予め決められた量の固体ターゲット物質２７ａを通過させたら、固体ターゲット物質２７ａの通過を止める。
計量器６１は、リザーバタンクＣ１から供給される固体ターゲット物質２７ａを計量しながらロードロック室Ｃ２へ向けて通過させることができる。固体ターゲット物質２７ａの計量は、固体ターゲット物質２７ａの粒の数を数えることを含む。計量された固体ターゲット物質２７ａは重力によって移動し、固体ターゲット供給管４１及び固体ターゲット供給バルブＶＴ１を通過してロードロック室Ｃ２に移動する。計量器６１は、予め決められた量の固体ターゲット物質２７ａを通過させたら、固体ターゲット物質２７ａの通過を止める。
【0024】
２．１．２ ロードロック室Ｃ２
ロードロック室Ｃ２は、リザーバタンクＣ１から供給される固体ターゲット物質２７ａを収容可能に構成された容器である。ロードロック室Ｃ２の内部の温度はターゲット物質の融点より低い温度である。ロードロック室Ｃ２は、第２の配管Ｌ２を介して共通配管Ｌ３に接続され、共通配管Ｌ３を介して圧力調節器６２に接続されている。圧力調節器６２については後述する。
ロードロック室Ｃ２は、リザーバタンクＣ１から供給される固体ターゲット物質２７ａを収容可能に構成された容器である。ロードロック室Ｃ２の内部の温度はターゲット物質の融点より低い温度である。ロードロック室Ｃ２は、第２の配管Ｌ２を介して共通配管Ｌ３に接続され、共通配管Ｌ３を介して圧力調節器６２に接続されている。圧力調節器６２については後述する。
【0025】
ロードロック室Ｃ２は、固体ターゲット供給管４２に接続され、固体ターゲット供給管４２は溶融タンクＣ３に接続されている。固体ターゲット供給管４２には固体ターゲット供給バルブＶＴ２が配置されている。固体ターゲット供給バルブＶＴ２は通常時には閉められており、溶融タンクＣ３の内部のガスがロードロック室Ｃ２に向けて流れることを抑制する。固体ターゲット供給バルブＶＴ２は、ロードロック室Ｃ２から溶融タンクＣ３へ固体ターゲット物質２７ａを供給するために一時的に開けられる。
【0026】
２．１．３ 溶融タンクＣ３
溶融タンクＣ３は、ロードロック室Ｃ２から固体ターゲット供給管４２を介して供給されるターゲット物質を収容する容器である。溶融タンクＣ３は、固体ターゲット供給管４２に接続され、固体ターゲット供給管４２の一部を介して第１の配管Ｌ１に接続されている。溶融タンクＣ３は、さらに、第１の配管Ｌ１を介して共通配管Ｌ３に接続され、共通配管Ｌ３を介して圧力調節器６２に接続されている。圧力調節器６２はターゲット供給システム２６の外部のガスボンベＧ１に接続されている。ガスボンベＧ１は、アルゴンガス、ヘリウムガスなどの高圧の希ガスを加圧ガスとして収容している。圧力調節器６２は、ガスボンベＧ１から供給されたガス圧を調節して溶融タンクＣ３に供給する。ターゲット供給プロセッサ６０が圧力調節器６２を制御することにより、溶融タンクＣ３の内部のガス圧が所定のガス圧に調節される。所定のガス圧は、ガスボンベＧ１から供給されたガス圧より低く、大気圧より高いガス圧である。
溶融タンクＣ３は、ロードロック室Ｃ２から固体ターゲット供給管４２を介して供給されるターゲット物質を収容する容器である。溶融タンクＣ３は、固体ターゲット供給管４２に接続され、固体ターゲット供給管４２の一部を介して第１の配管Ｌ１に接続されている。溶融タンクＣ３は、さらに、第１の配管Ｌ１を介して共通配管Ｌ３に接続され、共通配管Ｌ３を介して圧力調節器６２に接続されている。圧力調節器６２はターゲット供給システム２６の外部のガスボンベＧ１に接続されている。ガスボンベＧ１は、アルゴンガス、ヘリウムガスなどの高圧の希ガスを加圧ガスとして収容している。圧力調節器６２は、ガスボンベＧ１から供給されたガス圧を調節して溶融タンクＣ３に供給する。ターゲット供給プロセッサ６０が圧力調節器６２を制御することにより、溶融タンクＣ３の内部のガス圧が所定のガス圧に調節される。所定のガス圧は、ガスボンベＧ１から供給されたガス圧より低く、大気圧より高いガス圧である。
【0027】
溶融タンクＣ３には、ヒーター７１及びノズル７２が配置されている。
ヒーター７１は、図示しない電源に接続されており、溶融タンクＣ３の内部をターゲット物質の融点より高い所定温度にまで加熱する。溶融タンクＣ３に配置された図示しない温度センサの出力に基づいて電源が制御されることにより、溶融タンクＣ３の内部の温度が制御される。これにより、溶融タンクＣ３において固体ターゲット物質２７ａが溶融されて液体ターゲット物質が生成される。
ヒーター７１は、図示しない電源に接続されており、溶融タンクＣ３の内部をターゲット物質の融点より高い所定温度にまで加熱する。溶融タンクＣ３に配置された図示しない温度センサの出力に基づいて電源が制御されることにより、溶融タンクＣ３の内部の温度が制御される。これにより、溶融タンクＣ３において固体ターゲット物質２７ａが溶融されて液体ターゲット物質が生成される。
【0028】
ノズル７２は、溶融タンクＣ３の重力方向における下端部に配置されている。ノズル７２の先端は、チャンバ２（図１参照）の内部に開口している。溶融タンクＣ３の内部の液体ターゲット物質は、圧力調節器６２から供給されるガス圧とチャンバ２の内部のガス圧との差によって、ノズル７２の先端の開口から吐出される。図示しないピエゾ素子によってノズル７２に振動を与えると、ノズル７２から吐出されたジェット状の液体ターゲット物質が液滴状に分離され、ターゲット２７となる。
【0029】
２．１．４ 各種配管
第１の配管Ｌ１、第２の配管Ｌ２、及び共通配管Ｌ３が、ガス圧供給管Ｌ０を構成する。第１の配管Ｌ１は分岐部ＳＰと固体ターゲット供給管４２への接続部ＣＰとの間の配管であり、第２の配管Ｌ２は分岐部ＳＰとロードロック室Ｃ２との間の配管であり、共通配管Ｌ３は圧力調節器６２と分岐部ＳＰとの間の配管である。接続部ＣＰは、固体ターゲット供給管４２のうちの固体ターゲット供給バルブＶＴ２と溶融タンクＣ３との間に位置する。
第１の配管Ｌ１には、第１のガス圧供給バルブＶ１が配置されている。第１の配管Ｌ１は、分岐部ＳＰから溶融タンクＣ３へ向けてガス圧を供給する。第２の配管Ｌ２には、第２のガス圧供給バルブＶ２が配置されている。第２の配管Ｌ２は、分岐部ＳＰからロードロック室Ｃ２へ向けてガス圧を供給する。
第１の配管Ｌ１、第２の配管Ｌ２、及び共通配管Ｌ３が、ガス圧供給管Ｌ０を構成する。第１の配管Ｌ１は分岐部ＳＰと固体ターゲット供給管４２への接続部ＣＰとの間の配管であり、第２の配管Ｌ２は分岐部ＳＰとロードロック室Ｃ２との間の配管であり、共通配管Ｌ３は圧力調節器６２と分岐部ＳＰとの間の配管である。接続部ＣＰは、固体ターゲット供給管４２のうちの固体ターゲット供給バルブＶＴ２と溶融タンクＣ３との間に位置する。
第１の配管Ｌ１には、第１のガス圧供給バルブＶ１が配置されている。第１の配管Ｌ１は、分岐部ＳＰから溶融タンクＣ３へ向けてガス圧を供給する。第２の配管Ｌ２には、第２のガス圧供給バルブＶ２が配置されている。第２の配管Ｌ２は、分岐部ＳＰからロードロック室Ｃ２へ向けてガス圧を供給する。
【0030】
ここでは第１の配管Ｌ１が固体ターゲット供給管４２の一部を介して溶融タンクＣ３に接続される場合について説明したが、第１の配管Ｌ１は、固体ターゲット供給管４２を介さずに、溶融タンクＣ３に直接接続されてもよい。
【0031】
第２の配管Ｌ２のうちのロードロック室Ｃ２と第２のガス圧供給バルブＶ２との間の位置に、パージガス供給のための配管Ｌ５と排気のための配管Ｌ８とが接続されている。
配管Ｌ５はターゲット供給システム２６の外部のガスボンベＧ２に接続されている。ガスボンベＧ２は、アルゴンガス、ヘリウムガスなどの希ガスをパージガスとして収容している。ガスボンベＧ２のガス圧は、ガスボンベＧ１のガス圧より低くてもよく、圧力調節器６２によって調整されたガス圧よりさらに低くてもよい。ガスボンベＧ２のガス圧は、大気圧よりもわずかに高いガス圧でよい。あるいは、図示しない圧力調節器が配管Ｌ５に配置され、ガスボンベＧ２から供給されるパージガスのガス圧が、圧力調節器６２によって調整されたガス圧より低く大気圧より高い圧力に調整されてもよい。配管Ｌ５にはバルブＶ５が配置されている。
配管Ｌ８は、配管Ｌ６と配管Ｌ７とに分岐している。配管Ｌ６には、バルブＶ６と排気ポンプ６３とが配置されている。配管Ｌ７には、バルブＶ７が配置されている。排気ポンプ６３は、ロードロック室Ｃ２の内部のガスを強制的に排気してロードロック室Ｃ２の内部のガス圧を大気圧より低くできるように構成されている。
配管Ｌ５はターゲット供給システム２６の外部のガスボンベＧ２に接続されている。ガスボンベＧ２は、アルゴンガス、ヘリウムガスなどの希ガスをパージガスとして収容している。ガスボンベＧ２のガス圧は、ガスボンベＧ１のガス圧より低くてもよく、圧力調節器６２によって調整されたガス圧よりさらに低くてもよい。ガスボンベＧ２のガス圧は、大気圧よりもわずかに高いガス圧でよい。あるいは、図示しない圧力調節器が配管Ｌ５に配置され、ガスボンベＧ２から供給されるパージガスのガス圧が、圧力調節器６２によって調整されたガス圧より低く大気圧より高い圧力に調整されてもよい。配管Ｌ５にはバルブＶ５が配置されている。
配管Ｌ８は、配管Ｌ６と配管Ｌ７とに分岐している。配管Ｌ６には、バルブＶ６と排気ポンプ６３とが配置されている。配管Ｌ７には、バルブＶ７が配置されている。排気ポンプ６３は、ロードロック室Ｃ２の内部のガスを強制的に排気してロードロック室Ｃ２の内部のガス圧を大気圧より低くできるように構成されている。
【0032】
２．２ 動作
図３は、比較例に係るターゲット供給システム２６の動作手順を示す。以下のようにして、リザーバタンクＣ１の内部の固体ターゲット物質２７ａがロードロック室Ｃ２を介して溶融タンクＣ３に供給される。
図３は、比較例に係るターゲット供給システム２６の動作手順を示す。以下のようにして、リザーバタンクＣ１の内部の固体ターゲット物質２７ａがロードロック室Ｃ２を介して溶融タンクＣ３に供給される。
【0033】
Ｓ１１において、固体ターゲット供給バルブＶＴ１及びＶＴ２、第１及び第２のガス圧供給バルブＶ１及びＶ２、及びバルブＶ５～Ｖ７がすべて閉められた状態から動作がスタートする。ヒーター７１が、溶融タンクＣ３の内部をターゲット物質の融点より高い所定温度にまで加熱する。
Ｓ１２において、ターゲット供給プロセッサ６０は、第１のガス圧供給バルブＶ１を開ける。これにより、圧力調節器６２によって調整されたガス圧が溶融タンクＣ３に供給され、溶融タンクＣ３の内部が高圧に調整される。また、ターゲット供給システム２６がターゲット２７の供給を開始し、液体ターゲット物質の消費が開始される。
Ｓ１４において、ターゲット供給プロセッサ６０は、一定時間が経過して液体ターゲット物質の消費が進むまで待機し、一定時間が経過したら次に進む。
Ｓ１２において、ターゲット供給プロセッサ６０は、第１のガス圧供給バルブＶ１を開ける。これにより、圧力調節器６２によって調整されたガス圧が溶融タンクＣ３に供給され、溶融タンクＣ３の内部が高圧に調整される。また、ターゲット供給システム２６がターゲット２７の供給を開始し、液体ターゲット物質の消費が開始される。
Ｓ１４において、ターゲット供給プロセッサ６０は、一定時間が経過して液体ターゲット物質の消費が進むまで待機し、一定時間が経過したら次に進む。
【0034】
Ｓ２１において、ターゲット供給プロセッサ６０は、固体ターゲット供給バルブＶＴ１を開ける。
Ｓ２２において、ターゲット供給プロセッサ６０は、予め決められた量の固体ターゲット物質２７ａを計量するように計量器６１を制御する。計量器６１は、固体ターゲット物質２７ａを１粒ずつカウントしながら通過させ、予め決められた量の固体ターゲット物質２７ａが通過したら、固体ターゲット物質２７ａの通過を止める。これにより、固体ターゲット物質２７ａがロードロック室Ｃ２に供給される。
Ｓ２３において、ターゲット供給プロセッサ６０は、固体ターゲット供給バルブＶＴ１を閉める。このように、固体ターゲット供給バルブＶＴ１は、計量器６１が固体ターゲット物質２７ａを通過させる前に開けられ、予め決められた量の固体ターゲット物質２７ａが固体ターゲット供給バルブＶＴ１を通過したら閉められる。
Ｓ２２において、ターゲット供給プロセッサ６０は、予め決められた量の固体ターゲット物質２７ａを計量するように計量器６１を制御する。計量器６１は、固体ターゲット物質２７ａを１粒ずつカウントしながら通過させ、予め決められた量の固体ターゲット物質２７ａが通過したら、固体ターゲット物質２７ａの通過を止める。これにより、固体ターゲット物質２７ａがロードロック室Ｃ２に供給される。
Ｓ２３において、ターゲット供給プロセッサ６０は、固体ターゲット供給バルブＶＴ１を閉める。このように、固体ターゲット供給バルブＶＴ１は、計量器６１が固体ターゲット物質２７ａを通過させる前に開けられ、予め決められた量の固体ターゲット物質２７ａが固体ターゲット供給バルブＶＴ１を通過したら閉められる。
【0035】
Ｓ３１において、ターゲット供給プロセッサ６０は、排気ポンプ６３を起動し、その後、バルブＶ６を開ける。
Ｓ３２において、ターゲット供給プロセッサ６０は、バルブＶ６を閉め、その後、排気ポンプ６３を停止させる。ロードロック室Ｃ２の内部のガスは、これにより外部に排気される。
Ｓ３３において、ターゲット供給プロセッサ６０は、バルブＶ５を開け、その後、バルブＶ５を閉める。これにより、パージガスがガスボンベＧ２からロードロック室Ｃ２の内部に供給される。
Ｓ３１～Ｓ３３の処理は１回だけ行われてもよいし、複数回繰り返すことによりロードロック室Ｃ２の内部のパージガスの純度を高めてもよい。
Ｓ３２において、ターゲット供給プロセッサ６０は、バルブＶ６を閉め、その後、排気ポンプ６３を停止させる。ロードロック室Ｃ２の内部のガスは、これにより外部に排気される。
Ｓ３３において、ターゲット供給プロセッサ６０は、バルブＶ５を開け、その後、バルブＶ５を閉める。これにより、パージガスがガスボンベＧ２からロードロック室Ｃ２の内部に供給される。
Ｓ３１～Ｓ３３の処理は１回だけ行われてもよいし、複数回繰り返すことによりロードロック室Ｃ２の内部のパージガスの純度を高めてもよい。
【0036】
Ｓ４１において、ターゲット供給プロセッサ６０は、第１のガス圧供給バルブＶ１を閉める。これにより、Ｓ４２において第２のガス圧供給バルブＶ２を開けたときに溶融タンクＣ３の内部のガス圧が急激に変動することが抑制される。
第１のガス圧供給バルブＶ１を閉めると、溶融タンクＣ３の内部のガス圧はわずかずつ減少する。これは、液体ターゲット物質がノズル７２から吐出され、溶融タンクＣ３の内部の液体ターゲット物質の体積が減少するのに伴って、溶融タンクＣ３の内部のガスの体積が増加するからである。但し、第１のガス圧供給バルブＶ１を閉めた後、Ｓ４３において第１のガス圧供給バルブＶ１を開けるまでの時間が短ければ、溶融タンクＣ３の内部のガス圧が大きく変動することは抑制される。
第１のガス圧供給バルブＶ１を閉めると、溶融タンクＣ３の内部のガス圧はわずかずつ減少する。これは、液体ターゲット物質がノズル７２から吐出され、溶融タンクＣ３の内部の液体ターゲット物質の体積が減少するのに伴って、溶融タンクＣ３の内部のガスの体積が増加するからである。但し、第１のガス圧供給バルブＶ１を閉めた後、Ｓ４３において第１のガス圧供給バルブＶ１を開けるまでの時間が短ければ、溶融タンクＣ３の内部のガス圧が大きく変動することは抑制される。
【0037】
Ｓ４２において、ターゲット供給プロセッサ６０は、第２のガス圧供給バルブＶ２を開ける。これにより、圧力調節器６２によって調整されたガス圧がロードロック室Ｃ２に供給され、ロードロック室Ｃ２の内部が高圧に調整される。ロードロック室Ｃ２の内部を高圧に調整することで、Ｓ４３において第１のガス圧供給バルブＶ１を開けたときに溶融タンクＣ３の内部のガス圧が急激に変動することが抑制される。
【0038】
Ｓ４３において、ターゲット供給プロセッサ６０は、第１のガス圧供給バルブＶ１を開ける。第１及び第２のガス圧供給バルブＶ１及びＶ２が開いた状態とすることにより、ロードロック室Ｃ２の内部のガス圧と、溶融タンクＣ３の内部のガス圧とがほぼ同程度となる。
【0039】
Ｓ５１において、ターゲット供給プロセッサ６０は、固体ターゲット供給バルブＶＴ２を開ける。このとき、ロードロック室Ｃ２の内部の固体ターゲット物質２７ａがすべて溶融タンクＣ３の内部に供給される。Ｓ４３により、ロードロック室Ｃ２の内部のガス圧と、溶融タンクＣ３の内部のガス圧とがほぼ同程度となっているため、固体ターゲット供給バルブＶＴ２を開けたときの溶融タンクＣ３の内部のガス圧変動は小さくて済む。溶融タンクＣ３に供給された固体ターゲット物質２７ａは溶融し、すでに溶融タンクＣ３に収容され溶融していた液体ターゲット物質と混ざり合う。ヒーター７１によって、溶融タンクＣ３の内部の温度の低下が抑制される。
Ｓ５３において、ターゲット供給プロセッサ６０は、固体ターゲット供給バルブＶＴ２を閉める。
Ｓ５３において、ターゲット供給プロセッサ６０は、固体ターゲット供給バルブＶＴ２を閉める。
【0040】
Ｓ６１において、ターゲット供給プロセッサ６０は、第２のガス圧供給バルブＶ２を閉める。これにより、Ｓ６２においてバルブＶ７を開けたときに溶融タンクＣ３の内部のガス圧が急激に変動することが抑制される。
Ｓ６２において、ターゲット供給プロセッサ６０は、バルブＶ７を開ける。これにより、ロードロック室Ｃ２の内部のガスがターゲット供給システム２６の外部に放出され、ロードロック室Ｃ２の内部のガス圧は大気圧と同程度となる。
Ｓ６３において、ターゲット供給プロセッサ６０は、バルブＶ７を閉める。
Ｓ６４において、ターゲット供給プロセッサ６０は、Ｓ１４の処理に戻る。
Ｓ６２において、ターゲット供給プロセッサ６０は、バルブＶ７を開ける。これにより、ロードロック室Ｃ２の内部のガスがターゲット供給システム２６の外部に放出され、ロードロック室Ｃ２の内部のガス圧は大気圧と同程度となる。
Ｓ６３において、ターゲット供給プロセッサ６０は、バルブＶ７を閉める。
Ｓ６４において、ターゲット供給プロセッサ６０は、Ｓ１４の処理に戻る。
【0041】
比較例によれば、ほぼ大気圧であるリザーバタンクＣ１の内部に収容されている固体ターゲット物質２７ａを、高圧の溶融タンクＣ３の内部に供給できる。溶融タンクＣ３の内部の液体ターゲット物質が消費されても、溶融タンクＣ３を交換せずに固体ターゲット物質２７ａを補給できるので、ＥＵＶ光生成装置１の停止時間を低減することができる。
【0042】
２．３ 比較例の課題
図４は、固体ターゲット物質２７ａをロードロック室Ｃ２から溶融タンクＣ３に供給したときの溶融タンクＣ３の内部のガス圧Ｐの変化を示すグラフである。
Ｓ４３により、ロードロック室Ｃ２の内部のガス圧と、溶融タンクＣ３の内部のガス圧とをほぼ同程度としているので、Ｓ５１において固体ターゲット供給バルブＶＴ２を開けたときの溶融タンクＣ３の内部のガス圧変動は小さい。しかしながら、溶融タンクＣ３に供給された固体ターゲット物質２７ａが溶融することで、溶融タンクＣ３の内部の液体ターゲット物質の表面温度が低下し得る。この温度変化により、溶融タンクＣ３の内部のガス圧Ｐが変動し得る。ガス圧Ｐは圧力調節器６２の制御によって所望の圧力に戻されるが、ガス圧Ｐが安定するまで時間を要することがある。
図４は、固体ターゲット物質２７ａをロードロック室Ｃ２から溶融タンクＣ３に供給したときの溶融タンクＣ３の内部のガス圧Ｐの変化を示すグラフである。
Ｓ４３により、ロードロック室Ｃ２の内部のガス圧と、溶融タンクＣ３の内部のガス圧とをほぼ同程度としているので、Ｓ５１において固体ターゲット供給バルブＶＴ２を開けたときの溶融タンクＣ３の内部のガス圧変動は小さい。しかしながら、溶融タンクＣ３に供給された固体ターゲット物質２７ａが溶融することで、溶融タンクＣ３の内部の液体ターゲット物質の表面温度が低下し得る。この温度変化により、溶融タンクＣ３の内部のガス圧Ｐが変動し得る。ガス圧Ｐは圧力調節器６２の制御によって所望の圧力に戻されるが、ガス圧Ｐが安定するまで時間を要することがある。
【0043】
図５は、溶融タンクＣ３において図４に示されるガス圧Ｐの変化が生じたときのターゲット２７の速度Ｖの変化を示すグラフである。液体ターゲット物質は、溶融タンクＣ３の内部とチャンバ２の内部との圧力差によってノズル７２から出力されるので、溶融タンクＣ３の内部のガス圧Ｐの変動に応じて、ターゲット２７の速度Ｖも変動する。ターゲット２７の速度Ｖが変動すると、パルスレーザ光３３（図１参照）がターゲット２７に照射されるときのターゲット２７の位置が変動するため、プラズマの発生量及び発生位置が変動し得る。これにより、ＥＵＶ光のパルスエネルギーや強度分布などの特性が変動し、ＥＵＶ光の品質の安定性が損なわれる場合がある。
【0044】
以下に説明する幾つかの実施形態においては、溶融タンクＣ３の内部の液体ターゲット物質の表面温度が低下しても、溶融タンクＣ３の内部のガス圧Ｐの低下が抑制されるように構成されている。
【0045】
３．ガス圧供給管Ｌ０にバッファタンク６４が接続されたターゲット供給システム２６１
３．１ 構成
図６は、第１の実施形態に係るターゲット供給システム２６１の構成を概略的に示す。ターゲット供給システム２６１は、比較例の構成に加えて、バッファタンク６４を含む。バッファタンク６４の内部のガスの組成は、ガスボンベＧ１に収容されたガスの組成と同じでよい。
３．１ 構成
図６は、第１の実施形態に係るターゲット供給システム２６１の構成を概略的に示す。ターゲット供給システム２６１は、比較例の構成に加えて、バッファタンク６４を含む。バッファタンク６４の内部のガスの組成は、ガスボンベＧ１に収容されたガスの組成と同じでよい。
【0046】
バッファタンク６４は、ガス圧供給管Ｌ０を介して溶融タンクＣ３に連通する。バッファタンク６４から溶融タンクＣ３へ向かうガス圧の供給経路は、第１の配管Ｌ１のうちの第１のガス圧供給バルブＶ１から溶融タンクＣ３へ向かうガス圧の供給経路において第１の配管Ｌ１に合流する。バッファタンク６４を第１の配管Ｌ１につなぐ配管に、バルブＶ４が配置されている。
【0047】
バッファタンク６４は、固体ターゲット供給管４２を介して溶融タンクＣ３に連通する。バッファタンク６４から溶融タンクＣ３へ向かうガス圧の供給経路は、固体ターゲット供給管４２のうちの固体ターゲット供給バルブＶＴ２から溶融タンクＣ３へ向かう固体ターゲット物質２７ａの供給経路において固体ターゲット供給管４２に合流する。従って、固体ターゲット供給バルブＶＴ２が閉まっているとき、すなわちロードロック室Ｃ２から溶融タンクＣ３に固体ターゲット物質２７ａが供給されていないときでも、溶融タンクＣ３の内部のガス圧変動が抑制される。
【0048】
バッファタンク６４は、溶融タンクＣ３の内部でターゲット物質が加熱されてノズル７２が液体ターゲット物質を吐出するときの溶融タンクＣ３の内部のガスよりも、温度の低いガスを収容する。バッファタンク６４の内部のガス温度は常温でよい。
バッファタンク６４は、大気圧よりも高圧であって、ガスボンベＧ１から圧力調節器６２に供給されるガス圧よりも低圧のガスを収容する。バッファタンク６４の内部のガス圧は、圧力調節器６２によって調整されたガス圧と同等である。
バッファタンク６４は、大気圧よりも高圧であって、ガスボンベＧ１から圧力調節器６２に供給されるガス圧よりも低圧のガスを収容する。バッファタンク６４の内部のガス圧は、圧力調節器６２によって調整されたガス圧と同等である。
【0049】
３．２ 動作
図７は、第１の実施形態に係るターゲット供給システム２６１の動作手順を示す。
Ｓ１１ａにおいて、固体ターゲット供給バルブＶＴ１及びＶＴ２、第１及び第２のガス圧供給バルブＶ１及びＶ２、及びバルブＶ５～Ｖ７がすべて閉められている他、バルブＶ４も閉められている状態から動作がスタートする。
図７は、第１の実施形態に係るターゲット供給システム２６１の動作手順を示す。
Ｓ１１ａにおいて、固体ターゲット供給バルブＶＴ１及びＶＴ２、第１及び第２のガス圧供給バルブＶ１及びＶ２、及びバルブＶ５～Ｖ７がすべて閉められている他、バルブＶ４も閉められている状態から動作がスタートする。
【0050】
Ｓ１２において第１のガス圧供給バルブＶ１が開けられた後、Ｓ１３ａにおいて、ターゲット供給プロセッサ６０は、溶融タンクＣ３の内部が目標ガス圧になったらバルブＶ４を開ける。これにより、バッファタンク６４が溶融タンクＣ３に連通する。従って、バッファタンク６４は、Ｓ５１において溶融タンクＣ３に固体ターゲット物質２７ａが供給される際にも、溶融タンクＣ３に連通している。これによれば、固体ターゲット物質２７ａを溶融タンクＣ３に供給したことにより溶融タンクＣ３の内部のガスの温度が低下したとしても、バッファタンク６４から溶融タンクＣ３へ迅速にガスが供給されるので溶融タンクＣ３の内部のガス圧の変化が抑制される。なお、バルブＶ４は常に開けておいてもよく、バルブＶ４が省略されてもよい。Ｓ１４～Ｓ６４における動作は比較例と同様である。
【0051】
３．３ 溶融タンクＣ３の内部のガスの温度降下ΔＴ
溶融タンクＣ３の内部に固体ターゲット物質２７ａを供給したことによる溶融タンクＣ３の内部のガスの温度降下ΔＴは、以下のように計算できる。ここでは１次近似として、定常状態の場合の計算例を示す。すなわち、溶融タンクＣ３の内部に固体ターゲット物質２７ａを供給した後、固体ターゲット物質２７ａがすべて溶融し、溶融タンクＣ３の内部に存在する液体ターゲット物質とガスとがすべて同じ温度になった場合の温度降下をΔＴとする。但し、ガスの比熱は考慮しないものとする。
溶融タンクＣ３の内部に固体ターゲット物質２７ａを供給したことによる溶融タンクＣ３の内部のガスの温度降下ΔＴは、以下のように計算できる。ここでは１次近似として、定常状態の場合の計算例を示す。すなわち、溶融タンクＣ３の内部に固体ターゲット物質２７ａを供給した後、固体ターゲット物質２７ａがすべて溶融し、溶融タンクＣ３の内部に存在する液体ターゲット物質とガスとがすべて同じ温度になった場合の温度降下をΔＴとする。但し、ガスの比熱は考慮しないものとする。
【0052】
図８は、溶融タンクＣ３の内部に固体ターゲット物質２７ａを供給した後の熱の移動に伴う温度変化を説明するグラフである。
溶融タンクＣ３の内部に固体ターゲット物質２７ａを供給する前に溶融タンクＣ３の内部に存在した液体ターゲット物質は、図８に太い実線で示されるように、固体ターゲット物質２７ａに熱を奪われて温度Ｔｔから温度Ｔｔ－ΔＴに達する。
一方、溶融タンクＣ３の内部に供給された固体ターゲット物質２７ａは、図８に破線で示されるように、液体ターゲット物質から熱を受け取り、温度Ｔｒから加熱されて融点Ｔｍに達し、溶融された後、温度Ｔｔ－ΔＴに達する。
溶融タンクＣ３の内部に固体ターゲット物質２７ａを供給する前に溶融タンクＣ３の内部に存在した液体ターゲット物質は、図８に太い実線で示されるように、固体ターゲット物質２７ａに熱を奪われて温度Ｔｔから温度Ｔｔ－ΔＴに達する。
一方、溶融タンクＣ３の内部に供給された固体ターゲット物質２７ａは、図８に破線で示されるように、液体ターゲット物質から熱を受け取り、温度Ｔｒから加熱されて融点Ｔｍに達し、溶融された後、温度Ｔｔ－ΔＴに達する。
【0053】
溶融タンクＣ３の内部に固体ターゲット物質２７ａを供給する前に溶融タンクＣ３の内部に存在した液体ターゲット物質が、固体ターゲット物質２７ａに奪われる熱量Ｑｏｕｔは以下の通りである。
Ｑｏｕｔ＝ΔＴ・Ｍｓｎ・Ｃｍ ・・・（ａ１）
ここで、Ｍｓｎは、溶融タンクＣ３の内部に固体ターゲット物質２７ａを供給する前に溶融タンクＣ３の内部に存在した液体ターゲット物質の質量である。
Ｃｍは、液体ターゲット物質の比熱であり、比熱Ｃｍとしては、例えば、液体スズの比熱０．２４３Ｊ／ｇが用いられる。
Ｑｏｕｔ＝ΔＴ・Ｍｓｎ・Ｃｍ ・・・（ａ１）
ここで、Ｍｓｎは、溶融タンクＣ３の内部に固体ターゲット物質２７ａを供給する前に溶融タンクＣ３の内部に存在した液体ターゲット物質の質量である。
Ｃｍは、液体ターゲット物質の比熱であり、比熱Ｃｍとしては、例えば、液体スズの比熱０．２４３Ｊ／ｇが用いられる。
【0054】
溶融タンクＣ３の内部に供給された固体ターゲット物質２７ａが受け取る熱量Ｑｉｎは、以下の熱量Ｑｉｎ１～Ｑｉｎ３の合計である。
【0055】
Ｑｉｎ１：溶融タンクＣ３の内部に供給された固体ターゲット物質２７ａが融点Ｔｍに達するまでに受け取る熱量
Ｑｉｎ１＝（Ｔｍ－Ｔｒ）・ΔＭｓｎ・Ｃｓ ・・・（ａ２）
ターゲット物質の融点Ｔｍとしては、例えば、スズの融点５０５．１３Ｋが用いられる。
溶融タンクＣ３の内部に供給される前の固体ターゲット物質２７ａの温度Ｔｒとしては、例えば、室温２９３．２Ｋが用いられる。
ΔＭｓｎは、溶融タンクＣ３の内部に供給された固体ターゲット物質２７ａの質量である。
Ｃｓは、溶融タンクＣ３の内部に供給された固体ターゲット物質２７ａの比熱であり、比熱Ｃｓとしては、例えば、固体スズの比熱０．２２６Ｊ／ｇが用いられる。
Ｑｉｎ１＝（Ｔｍ－Ｔｒ）・ΔＭｓｎ・Ｃｓ ・・・（ａ２）
ターゲット物質の融点Ｔｍとしては、例えば、スズの融点５０５．１３Ｋが用いられる。
溶融タンクＣ３の内部に供給される前の固体ターゲット物質２７ａの温度Ｔｒとしては、例えば、室温２９３．２Ｋが用いられる。
ΔＭｓｎは、溶融タンクＣ３の内部に供給された固体ターゲット物質２７ａの質量である。
Ｃｓは、溶融タンクＣ３の内部に供給された固体ターゲット物質２７ａの比熱であり、比熱Ｃｓとしては、例えば、固体スズの比熱０．２２６Ｊ／ｇが用いられる。
【0056】
Ｑｉｎ２：溶融タンクＣ３の内部に供給された固体ターゲット物質２７ａが融点Ｔｍに達してから溶融するまでに受け取る熱量
Ｑｉｎ２＝Ｈｍ・ΔＭｓｎ ・・・（ａ３）
ここで、Ｈｍはターゲット物質の融解熱であり、融解熱Ｈｍとしては、例えば、固体スズの融解熱５９．６Ｊ／ｇが用いられる。
Ｑｉｎ２＝Ｈｍ・ΔＭｓｎ ・・・（ａ３）
ここで、Ｈｍはターゲット物質の融解熱であり、融解熱Ｈｍとしては、例えば、固体スズの融解熱５９．６Ｊ／ｇが用いられる。
【0057】
Ｑｉｎ３：溶融タンクＣ３の内部に供給された固体ターゲット物質２７ａが溶融してから定常状態に達するまでに受け取る熱量
Ｑｉｎ３＝（Ｔｔ－ΔＴ－Ｔｍ）・ΔＭｓｎ・Ｃｍ ・・・（ａ４）
溶融タンクＣ３の内部に固体ターゲット物質２７ａを供給する前の液体ターゲット物質の温度Ｔｔは、例えば、５３３．９Ｋと仮定される。温度Ｔｔから温度降下ΔＴを減算することで、溶融タンクＣ３の内部に固体ターゲット物質２７ａを供給した後、定常状態に達したときの液体ターゲット物質の温度が得られ、さらに融点Ｔｍを減算することで、固体ターゲット物質２７ａが溶融してから定常状態に達するまでの温度変化が得られる。
Ｑｉｎ３＝（Ｔｔ－ΔＴ－Ｔｍ）・ΔＭｓｎ・Ｃｍ ・・・（ａ４）
溶融タンクＣ３の内部に固体ターゲット物質２７ａを供給する前の液体ターゲット物質の温度Ｔｔは、例えば、５３３．９Ｋと仮定される。温度Ｔｔから温度降下ΔＴを減算することで、溶融タンクＣ３の内部に固体ターゲット物質２７ａを供給した後、定常状態に達したときの液体ターゲット物質の温度が得られ、さらに融点Ｔｍを減算することで、固体ターゲット物質２７ａが溶融してから定常状態に達するまでの温度変化が得られる。
【0058】
熱量保存の法則から、ＱｏｕｔとＱｉｎは等しいので、式（ａ１）～（ａ４）により以下の式（ａ５）が成立する。
ΔＴ・Ｍｓｎ・Ｃｍ＝（Ｔｍ－Ｔｒ）・ΔＭｓｎ・Ｃｓ＋Ｈｍ・ΔＭｓｎ＋（Ｔｔ－ΔＴ－Ｔｍ）・ΔＭｓｎ・Ｃｍ ・・・（ａ５）
ΔＴ・Ｍｓｎ・Ｃｍ＝（Ｔｍ－Ｔｒ）・ΔＭｓｎ・Ｃｓ＋Ｈｍ・ΔＭｓｎ＋（Ｔｔ－ΔＴ－Ｔｍ）・ΔＭｓｎ・Ｃｍ ・・・（ａ５）
【0059】
式（ａ５）を整理すると、温度降下ΔＴは以下の式（ａ６）で求められる。
ΔＴ＝ΔＭｓｎ・｛（Ｔｍ－Ｔｒ）・Ｃｓ＋Ｈｍ＋（Ｔｔ－Ｔｍ）・Ｃｍ｝／｛（Ｍｓｎ＋ΔＭｓｎ）・Ｃｍ｝ ・・・（ａ６）
ＭｓｎがΔＭｓｎより十分大きいとすると、温度降下ΔＴは以下の式（ａ７）のように近似できる。
ΔＴ≒｛（Ｔｍ－Ｔｒ）・Ｃｓ／Ｃｍ＋Ｈｍ／Ｃｍ＋（Ｔｔ－Ｔｍ）｝・ΔＭｓｎ／Ｍｓｎ ・・・（ａ７）
ΔＴ＝ΔＭｓｎ・｛（Ｔｍ－Ｔｒ）・Ｃｓ＋Ｈｍ＋（Ｔｔ－Ｔｍ）・Ｃｍ｝／｛（Ｍｓｎ＋ΔＭｓｎ）・Ｃｍ｝ ・・・（ａ６）
ＭｓｎがΔＭｓｎより十分大きいとすると、温度降下ΔＴは以下の式（ａ７）のように近似できる。
ΔＴ≒｛（Ｔｍ－Ｔｒ）・Ｃｓ／Ｃｍ＋Ｈｍ／Ｃｍ＋（Ｔｔ－Ｔｍ）｝・ΔＭｓｎ／Ｍｓｎ ・・・（ａ７）
【0060】
式（ａ７）に含まれる｛（Ｔｍ－Ｔｒ）・Ｃｓ／Ｃｍ＋Ｈｍ／Ｃｍ＋（Ｔｔ－Ｔｍ）｝は定数である。そこで、温度降下ΔＴは、溶融タンクＣ３の内部に固体ターゲット物質２７ａを供給する前に溶融タンクＣ３の内部に存在した液体ターゲット物質の質量Ｍｓｎに対する溶融タンクＣ３の内部に供給された固体ターゲット物質２７ａの質量ΔＭｓｎの割合ΔＭｓｎ／Ｍｓｎに略比例することになる。
【0061】
図９は、割合ΔＭｓｎ／Ｍｓｎに応じた温度降下ΔＴを示すグラフである。式（ａ６）に含まれるパラメータを具体的数値に置き換え、割合ΔＭｓｎ／Ｍｓｎを０％から３．３％の範囲で変更して温度降下ΔＴをプロットすると、図９に示されるグラフが得られる。このグラフの近似式は以下の通りである。
ΔＴ＝４．７６１８×（ΔＭｓｎ／Ｍｓｎ）×１００
ΔＴ＝４．７６１８×（ΔＭｓｎ／Ｍｓｎ）×１００
【0062】
３．４ 温度降下ΔＴによるガス圧降下ΔＰ
溶融タンクＣ３の内部の温度降下ΔＴによる溶融タンクＣ３及びバッファタンク６４の内部のガス圧降下ΔＰは、以下のように計算できる。ここでは１次近似として、定常状態の場合の計算例を示す。すなわち、溶融タンクＣ３及びバッファタンク６４の内部が同じガス圧Ｐになった場合のガス圧降下をΔＰとする。但し、溶融タンクＣ３の内部の温度が低下しても、バッファタンク６４の内部のガスの温度は変化しないものとし、固体ターゲット物質２７ａの温度Ｔｒと同じとする。
溶融タンクＣ３の内部の温度降下ΔＴによる溶融タンクＣ３及びバッファタンク６４の内部のガス圧降下ΔＰは、以下のように計算できる。ここでは１次近似として、定常状態の場合の計算例を示す。すなわち、溶融タンクＣ３及びバッファタンク６４の内部が同じガス圧Ｐになった場合のガス圧降下をΔＰとする。但し、溶融タンクＣ３の内部の温度が低下しても、バッファタンク６４の内部のガスの温度は変化しないものとし、固体ターゲット物質２７ａの温度Ｔｒと同じとする。
【0063】
図１０に、溶融タンクＣ３の内部のガスが温度降下する前及び後の各々における溶融タンクＣ３及びバッファタンク６４の各々の内部のガス圧、体積、モル数、及び温度の一覧を示す。
【0064】
溶融タンクＣ３の内部のガスが温度降下する前の溶融タンクＣ３の内部のガスの状態方程式は、以下の通りである。
Ｐｔ・Ｖｂｈ＝ｎ１・Ｒ・Ｔｔ ・・・（ｂ１）
ここで、Ｐｔは、圧力調節器６２の目標ガス圧である。
Ｖｂｈは、溶融タンクＣ３の内部のガスの体積である。溶融タンクＣ３の内部のガスの体積Ｖｂｈは、溶融タンクＣ３全体の容積から溶融タンクＣ３の内部の液体ターゲット物質の体積を減算したものに相当する。
ｎ１は、溶融タンクＣ３の内部のガスが温度降下する前の溶融タンクＣ３の内部のガスのモル数である。
Ｒは、気体定数である。
Ｐｔ・Ｖｂｈ＝ｎ１・Ｒ・Ｔｔ ・・・（ｂ１）
ここで、Ｐｔは、圧力調節器６２の目標ガス圧である。
Ｖｂｈは、溶融タンクＣ３の内部のガスの体積である。溶融タンクＣ３の内部のガスの体積Ｖｂｈは、溶融タンクＣ３全体の容積から溶融タンクＣ３の内部の液体ターゲット物質の体積を減算したものに相当する。
ｎ１は、溶融タンクＣ３の内部のガスが温度降下する前の溶融タンクＣ３の内部のガスのモル数である。
Ｒは、気体定数である。
【0065】
溶融タンクＣ３の内部のガスが温度降下する前のバッファタンク６４の内部のガスの状態方程式は、以下の通りである。
Ｐｔ・Ｖｂｒ＝ｎ２・Ｒ・Ｔｒ ・・・（ｂ２）
ここで、Ｖｂｒは、バッファタンク６４の容積である。
ｎ２は、溶融タンクＣ３の内部のガスが温度降下する前のバッファタンク６４の内部のガスのモル数である。
Ｐｔ・Ｖｂｒ＝ｎ２・Ｒ・Ｔｒ ・・・（ｂ２）
ここで、Ｖｂｒは、バッファタンク６４の容積である。
ｎ２は、溶融タンクＣ３の内部のガスが温度降下する前のバッファタンク６４の内部のガスのモル数である。
【0066】
式（ｂ１）及び（ｂ２）から、溶融タンクＣ３の内部のガスのモル数ｎ１とバッファタンク６４の内部のガスのモル数ｎ２との合計モル数ｎは以下の式（ｂ３）で与えられる。
ｎ＝Ｐｔ・Ｖｂｈ／（Ｒ・Ｔｔ）＋Ｐｔ・Ｖｂｒ／（Ｒ・Ｔｒ） ・・・（ｂ３）
ｎ＝Ｐｔ・Ｖｂｈ／（Ｒ・Ｔｔ）＋Ｐｔ・Ｖｂｒ／（Ｒ・Ｔｒ） ・・・（ｂ３）
【0067】
溶融タンクＣ３の内部のガスが温度降下した後の溶融タンクＣ３の内部のガスの状態方程式は、以下の通りである。
Ｐ・Ｖｂｈ＝ｎ１０・Ｒ・（Ｔｔ－ΔＴ） ・・・（ｂ４）
ここで、ｎ１０は、溶融タンクＣ３の内部のガスが温度降下した後の溶融タンクＣ３の内部のガスのモル数である。
Ｐ・Ｖｂｈ＝ｎ１０・Ｒ・（Ｔｔ－ΔＴ） ・・・（ｂ４）
ここで、ｎ１０は、溶融タンクＣ３の内部のガスが温度降下した後の溶融タンクＣ３の内部のガスのモル数である。
【0068】
溶融タンクＣ３の内部のガスが温度降下した後のバッファタンク６４の内部のガスの状態方程式は、以下の通りである。
Ｐ・Ｖｂｒ＝ｎ２０・Ｒ・Ｔｒ ・・・（ｂ５）
ｎ２０は、溶融タンクＣ３の内部のガスが温度降下した後のバッファタンク６４の内部のガスのモル数である。
Ｐ・Ｖｂｒ＝ｎ２０・Ｒ・Ｔｒ ・・・（ｂ５）
ｎ２０は、溶融タンクＣ３の内部のガスが温度降下した後のバッファタンク６４の内部のガスのモル数である。
【0069】
式（ｂ４）及び（ｂ５）から、溶融タンクＣ３の内部のガスのモル数ｎ１０とバッファタンク６４の内部のガスのモル数ｎ２０との合計モル数ｎは以下の式（ｂ６）で与えられる。
ｎ＝Ｐ・Ｖｂｈ／｛Ｒ・（Ｔｔ－ΔＴ）｝＋Ｐ・Ｖｂｒ／（Ｒ・Ｔｒ） ・・・（ｂ６）
合計モル数ｎは、溶融タンクＣ３の内部のガスが温度降下する前及び後で同一とする。
ｎ＝Ｐ・Ｖｂｈ／｛Ｒ・（Ｔｔ－ΔＴ）｝＋Ｐ・Ｖｂｒ／（Ｒ・Ｔｒ） ・・・（ｂ６）
合計モル数ｎは、溶融タンクＣ３の内部のガスが温度降下する前及び後で同一とする。
【0070】
式（ｂ３）及び（ｂ６）から、温度降下した後の溶融タンクＣ３及びバッファタンク６４の内部のガス圧Ｐは、以下の式（ｂ７）の通りとなる。
Ｐ＝｛Ｐｔ・Ｖｂｈ／（Ｒ・Ｔｔ）＋Ｐｔ・Ｖｂｒ／（Ｒ・Ｔｒ）｝／［Ｖｂｈ／｛Ｒ・（Ｔｔ－ΔＴ）｝＋Ｖｂｒ／（Ｒ・Ｔｒ）］ ・・・（ｂ７）
Ｐ＝｛Ｐｔ・Ｖｂｈ／（Ｒ・Ｔｔ）＋Ｐｔ・Ｖｂｒ／（Ｒ・Ｔｒ）｝／［Ｖｂｈ／｛Ｒ・（Ｔｔ－ΔＴ）｝＋Ｖｂｒ／（Ｒ・Ｔｒ）］ ・・・（ｂ７）
【0071】
温度降下ΔＴによるガス圧降下ΔＰは、圧力調節器６２の目標ガス圧Ｐｔから式（ｂ７）のガス圧Ｐを減算して以下の式（ｂ８）のように求められる。
ΔＰ＝Ｐｔ－｛Ｐｔ・Ｖｂｈ／（Ｒ・Ｔｔ）＋Ｐｔ・Ｖｂｒ／（Ｒ・Ｔｒ）｝／［Ｖｂｈ／｛Ｒ・（Ｔｔ－ΔＴ）｝＋Ｖｂｒ／（Ｒ・Ｔｒ）］ ・・・（ｂ８）
ΔＰ＝Ｐｔ－｛Ｐｔ・Ｖｂｈ／（Ｒ・Ｔｔ）＋Ｐｔ・Ｖｂｒ／（Ｒ・Ｔｒ）｝／［Ｖｂｈ／｛Ｒ・（Ｔｔ－ΔＴ）｝＋Ｖｂｒ／（Ｒ・Ｔｒ）］ ・・・（ｂ８）
【0072】
そこで、ガス圧降下ΔＰの許容値を設定し、ガス圧降下ΔＰを許容値以下とするバッファタンク６４の容積Ｖｂｒを計算することができる。式（ｂ８）から、ガス圧降下ΔＰを許容値以下とするバッファタンク６４の容積Ｖｂｒは、溶融タンクＣ３の内部の温度降下ΔＴに依存する。図９から、温度降下ΔＴは割合ΔＭｓｎ／Ｍｓｎに依存するので、ガス圧降下ΔＰを許容値以下とするバッファタンク６４の容積Ｖｂｒは割合ΔＭｓｎ／Ｍｓｎに依存する。
【0073】
図１１は、割合ΔＭｓｎ／Ｍｓｎに応じたバッファタンク６４の容積Ｖｂｒを示すグラフである。ガス圧降下ΔＰを許容値以下とするバッファタンク６４の容積Ｖｂｒは、以下の式で与えられる。
Ｖｂｒ＝４．２０８４×（ΔＭｓｎ／Ｍｓｎ）×１００
Ｖｂｒ＝４．２０８４×（ΔＭｓｎ／Ｍｓｎ）×１００
【0074】
ここで、割合ΔＭｓｎ／Ｍｓｎの好ましい範囲を０．３３％以上、３．３％以下とすると、バッファタンク６４の容積Ｖｂｒは、１．４リットル以上、１４リットル以下が好ましい。また、バッファタンク６４の容積Ｖｂｒは、溶融タンクＣ３の容積よりも大きいことが好ましい。割合ΔＭｓｎ／Ｍｓｎの好ましい範囲を０．３３％以上、３．３％以下とした理由は以下の通りである。割合ΔＭｓｎ／Ｍｓｎが０．３３％未満であると、頻繁に固体ターゲット物質２７ａを供給する必要があるため、固体ターゲット供給バルブＶＴ２の寿命が短くなり得る。割合ΔＭｓｎ／Ｍｓｎが３．３％より高いと、溶融タンクＣ３の内部の液体ターゲット物質の温度降下ΔＴが大きくなるので、ターゲット２７を構成する液滴の生成が不安定となり得る。
【0075】
３．５ 作用
（１）第１の実施形態によれば、ターゲット供給システム２６１は、ロードロック室Ｃ２と、固体ターゲット供給管４２と、圧力調節器６２と、ガス圧供給管Ｌ０と、溶融タンクＣ３と、ノズル７２と、バッファタンク６４と、を含む。ロードロック室Ｃ２は、固体ターゲット物質２７ａを収容可能に構成されている。固体ターゲット供給管４２は、ロードロック室Ｃ２に接続されている。圧力調節器６２は、外部から供給されたガス圧を調節する。ガス圧供給管Ｌ０は、圧力調節器６２に接続されている。溶融タンクＣ３は、固体ターゲット供給管４２及びガス圧供給管Ｌ０の両方に接続され、ロードロック室Ｃ２から固体ターゲット供給管４２を介して供給される固体ターゲット物質２７ａを溶融させて液体ターゲット物質を生成する。ノズル７２は、圧力調節器６２からガス圧供給管Ｌ０を介して溶融タンクＣ３に供給されるガス圧によって液体ターゲット物質を吐出する。バッファタンク６４は、溶融タンクＣ３に固体ターゲット物質２７ａを供給する際に溶融タンクＣ３に連通してガス圧を供給する。
これによれば、溶融タンクＣ３に固体ターゲット物質２７ａが供給されたときに溶融タンクＣ３の内部のガスの温度が低下しても、溶融タンクＣ３に連通するバッファタンク６４の内部のガスが溶融タンクＣ３に迅速に供給される。これにより、溶融タンクＣ３の内部のガス圧変動が抑制され得る。溶融タンクＣ３の内部のガス圧変動が抑制されることで、ターゲット２７の速度Ｖが安定化し得る。
（１）第１の実施形態によれば、ターゲット供給システム２６１は、ロードロック室Ｃ２と、固体ターゲット供給管４２と、圧力調節器６２と、ガス圧供給管Ｌ０と、溶融タンクＣ３と、ノズル７２と、バッファタンク６４と、を含む。ロードロック室Ｃ２は、固体ターゲット物質２７ａを収容可能に構成されている。固体ターゲット供給管４２は、ロードロック室Ｃ２に接続されている。圧力調節器６２は、外部から供給されたガス圧を調節する。ガス圧供給管Ｌ０は、圧力調節器６２に接続されている。溶融タンクＣ３は、固体ターゲット供給管４２及びガス圧供給管Ｌ０の両方に接続され、ロードロック室Ｃ２から固体ターゲット供給管４２を介して供給される固体ターゲット物質２７ａを溶融させて液体ターゲット物質を生成する。ノズル７２は、圧力調節器６２からガス圧供給管Ｌ０を介して溶融タンクＣ３に供給されるガス圧によって液体ターゲット物質を吐出する。バッファタンク６４は、溶融タンクＣ３に固体ターゲット物質２７ａを供給する際に溶融タンクＣ３に連通してガス圧を供給する。
これによれば、溶融タンクＣ３に固体ターゲット物質２７ａが供給されたときに溶融タンクＣ３の内部のガスの温度が低下しても、溶融タンクＣ３に連通するバッファタンク６４の内部のガスが溶融タンクＣ３に迅速に供給される。これにより、溶融タンクＣ３の内部のガス圧変動が抑制され得る。溶融タンクＣ３の内部のガス圧変動が抑制されることで、ターゲット２７の速度Ｖが安定化し得る。
【0076】
（２）第１の実施形態によれば、バッファタンク６４は、ノズル７２が液体ターゲット物質を吐出するときの溶融タンクＣ３の内部のガスよりも、温度の低いガスを収容する。
これによれば、バッファタンク６４は溶融タンクＣ３の温度まで加熱される必要がないので、エネルギーの消費が抑制され得る。
これによれば、バッファタンク６４は溶融タンクＣ３の温度まで加熱される必要がないので、エネルギーの消費が抑制され得る。
【0077】
（３）第１の実施形態によれば、圧力調節器６２は、大気圧よりも高いガス圧を溶融タンクＣ３に供給する。また、バッファタンク６４は、大気圧よりも高圧のガスを収容する。
これによれば、溶融タンクＣ３及びバッファタンク６４の両方が大気圧よりも高圧のガスを収容するので、これらが連通することで溶融タンクＣ３の内部のガス圧変動が抑制され得る。
これによれば、溶融タンクＣ３及びバッファタンク６４の両方が大気圧よりも高圧のガスを収容するので、これらが連通することで溶融タンクＣ３の内部のガス圧変動が抑制され得る。
【0078】
（４）第１の実施形態によれば、圧力調節器６２は、外部から圧力調節器６２に供給されたガス圧よりも低いガス圧を溶融タンクＣ３に供給する。また、バッファタンク６４は、外部から圧力調節器６２に供給されたガス圧よりも低圧のガスを収容する。
これによれば、溶融タンクＣ３及びバッファタンク６４の両方が外部から圧力調節器６２に供給されたガス圧よりも低圧のガスを収容するので、これらが連通することで溶融タンクＣ３の内部のガス圧変動が抑制され得る。
これによれば、溶融タンクＣ３及びバッファタンク６４の両方が外部から圧力調節器６２に供給されたガス圧よりも低圧のガスを収容するので、これらが連通することで溶融タンクＣ３の内部のガス圧変動が抑制され得る。
【0079】
（５）第１の実施形態によれば、バッファタンク６４は、溶融タンクＣ３よりも容積が大きい。
これによれば、溶融タンクＣ３のガス圧変動が十分に抑制され得る。
これによれば、溶融タンクＣ３のガス圧変動が十分に抑制され得る。
【0080】
（６）第１の実施形態によれば、バッファタンク６４の容積は、１．４リットル以上１４リットル以下の範囲内である。
これによれば、溶融タンクＣ３のガス圧変動が許容範囲内となり得る。
これによれば、溶融タンクＣ３のガス圧変動が許容範囲内となり得る。
【0081】
（７）第１の実施形態によれば、バッファタンク６４は、ガス圧供給管Ｌ０を介して溶融タンクＣ３に連通する。
これによれば、溶融タンクＣ３と圧力調節器６２との接続を切り離すことと、溶融タンクＣ３とバッファタンク６４との接続を切り離すことは、ガス圧供給管Ｌ０を途中で切り離すことで実現できる。従って、溶融タンクＣ３をメンテナンスするための工数を軽減し得る。
なお、本開示において、バッファタンク６４は、固体ターゲット供給管４２を介して溶融タンクＣ３に連通する場合に限定されない。例えば、ガス圧供給管Ｌ０が固体ターゲット供給管４２を介さずに、直接、溶融タンクＣ３に接続されることで、バッファタンク６４が溶融タンクＣ３に連通するようにしてもよい。
これによれば、溶融タンクＣ３と圧力調節器６２との接続を切り離すことと、溶融タンクＣ３とバッファタンク６４との接続を切り離すことは、ガス圧供給管Ｌ０を途中で切り離すことで実現できる。従って、溶融タンクＣ３をメンテナンスするための工数を軽減し得る。
なお、本開示において、バッファタンク６４は、固体ターゲット供給管４２を介して溶融タンクＣ３に連通する場合に限定されない。例えば、ガス圧供給管Ｌ０が固体ターゲット供給管４２を介さずに、直接、溶融タンクＣ３に接続されることで、バッファタンク６４が溶融タンクＣ３に連通するようにしてもよい。
【0082】
（８）第１の実施形態によれば、バッファタンク６４は、固体ターゲット供給管４２を介して溶融タンクＣ３に連通する。
これによれば、固体ターゲット供給管４２において断熱処理をすれば、溶融タンクＣ３とバッファタンク６４との接続における別途の断熱処理は不要となり得る。従って、断熱のための構成を簡略化し得る。
なお、本開示において、バッファタンク６４は、ガス圧供給管Ｌ０を介して溶融タンクＣ３に連通する場合に限定されない。例えば、バッファタンク６４がガス圧供給管Ｌ０を介さずに、直接、固体ターゲット供給管４２に接続されることで、バッファタンク６４が溶融タンクＣ３に連通するようにしてもよい。
また、本開示において、バッファタンク６４は、ガス圧供給管Ｌ０及び固体ターゲット供給管４２のいずれをも介さずに、直接、溶融タンクＣ３に連通するようにしてもよい。
これによれば、固体ターゲット供給管４２において断熱処理をすれば、溶融タンクＣ３とバッファタンク６４との接続における別途の断熱処理は不要となり得る。従って、断熱のための構成を簡略化し得る。
なお、本開示において、バッファタンク６４は、ガス圧供給管Ｌ０を介して溶融タンクＣ３に連通する場合に限定されない。例えば、バッファタンク６４がガス圧供給管Ｌ０を介さずに、直接、固体ターゲット供給管４２に接続されることで、バッファタンク６４が溶融タンクＣ３に連通するようにしてもよい。
また、本開示において、バッファタンク６４は、ガス圧供給管Ｌ０及び固体ターゲット供給管４２のいずれをも介さずに、直接、溶融タンクＣ３に連通するようにしてもよい。
【0083】
（９）第１の実施形態によれば、固体ターゲット供給管４２に固体ターゲット供給バルブＶＴ２が配置されている。また、バッファタンク６４から溶融タンクＣ３へ向かうガス圧の供給経路は、固体ターゲット供給管４２のうちの固体ターゲット供給バルブＶＴ２から溶融タンクＣ３へ向かう固体ターゲット物質２７ａの供給経路において固体ターゲット供給管４２に合流する。
これによれば、固体ターゲット物質２７ａを供給せず、固体ターゲット供給バルブＶＴ２を閉じている状態でも、バッファタンク６４と溶融タンクＣ３とを連通し、溶融タンクＣ３の内部のガス圧変動を抑制し得る。
これによれば、固体ターゲット物質２７ａを供給せず、固体ターゲット供給バルブＶＴ２を閉じている状態でも、バッファタンク６４と溶融タンクＣ３とを連通し、溶融タンクＣ３の内部のガス圧変動を抑制し得る。
【0084】
（１０）第１の実施形態によれば、ガス圧供給管Ｌ０は、分岐部ＳＰと、分岐部ＳＰから溶融タンクＣ３へ向けてガス圧を供給する第１の配管Ｌ１と、分岐部ＳＰからロードロック室Ｃ２へ向けてガス圧を供給する第２の配管Ｌ２と、圧力調節器６２と分岐部ＳＰとの間の共通配管Ｌ３と、を含む。また、第１及び第２の配管Ｌ１及びＬ２にそれぞれ第１及び第２のガス圧供給バルブＶ１及びＶ２が配置される。バッファタンク６４から溶融タンクＣ３へ向かうガス圧の供給経路は、第１の配管Ｌ１のうちの第１のガス圧供給バルブＶ１から溶融タンクＣ３へ向かうガス圧の供給経路において、第１の配管Ｌ１に合流する。
これによれば、ロードロック室Ｃ２の内部を高圧に調整するために第１のガス圧供給バルブＶ１を閉めている状態でも（図７のＳ４１～Ｓ４３参照）、バッファタンク６４と溶融タンクＣ３とを連通し、溶融タンクＣ３の内部のガス圧変動を抑制し得る。
その他の点については、第１の実施形態は比較例と同様である。
これによれば、ロードロック室Ｃ２の内部を高圧に調整するために第１のガス圧供給バルブＶ１を閉めている状態でも（図７のＳ４１～Ｓ４３参照）、バッファタンク６４と溶融タンクＣ３とを連通し、溶融タンクＣ３の内部のガス圧変動を抑制し得る。
その他の点については、第１の実施形態は比較例と同様である。
【0085】
４．溶融タンクＣ３を取り外し可能なターゲット供給システム２６２
４．１ 構成
図１２は、第２の実施形態に係るターゲット供給システム２６２の構成を概略的に示す。ターゲット供給システム２６２は、第１の実施形態に係るターゲット供給システム２６１の構成に加えて、第３のガス圧供給バルブＶ３を含む。
４．１ 構成
図１２は、第２の実施形態に係るターゲット供給システム２６２の構成を概略的に示す。ターゲット供給システム２６２は、第１の実施形態に係るターゲット供給システム２６１の構成に加えて、第３のガス圧供給バルブＶ３を含む。
【0086】
第１の実施形態と同様に、ガス圧供給管Ｌ０は、第１の配管Ｌ１、第２の配管Ｌ２、及び共通配管Ｌ３を含む。第１の配管Ｌ１には、第１のガス圧供給バルブＶ１が配置され、第２の配管Ｌ２には、第２のガス圧供給バルブＶ２が配置されている。また、バッファタンク６４から溶融タンクＣ３へ向かうガス圧の供給経路は、第１の配管Ｌ１のうちの第１のガス圧供給バルブＶ１から溶融タンクＣ３へ向かうガス圧の供給経路において第１の配管Ｌ１に合流している。
第２の実施形態において、第３のガス圧供給バルブＶ３は、第１の配管Ｌ１のうちのバッファタンク６４からのガス圧の供給経路との合流位置から溶融タンクＣ３へ向かうガス圧の供給経路に配置されている。
第２の実施形態において、第３のガス圧供給バルブＶ３は、第１の配管Ｌ１のうちのバッファタンク６４からのガス圧の供給経路との合流位置から溶融タンクＣ３へ向かうガス圧の供給経路に配置されている。
【0087】
ターゲット供給システム２６２は、さらに、第１～第３の継手Ｊ１～Ｊ３を含む。
第１の継手Ｊ１は、第１の配管Ｌ１のうちの第３のガス圧供給バルブＶ３から溶融タンクＣ３へ向かうガス圧の供給経路に配置されている。第１の継手Ｊ１は、第１の配管Ｌ１の途中での切り離し及び結合を可能にしている。
第２の継手Ｊ２は、第２の配管Ｌ２のうちの第２のガス圧供給バルブＶ２からロードロック室Ｃ２へ向かうガス圧の供給経路に配置されている。第２の継手Ｊ２は、第２の配管Ｌ２の途中での切り離し及び結合を可能にしている。
第３の継手Ｊ３は、固体ターゲット供給管４１のうちの計量器６１から固体ターゲット供給バルブＶＴ１へ向かう固体ターゲット物質２７ａの供給経路に配置されている。第３の継手Ｊ３は、固体ターゲット供給管４１の途中での切り離し及び結合を可能にしている。
第１の継手Ｊ１は、第１の配管Ｌ１のうちの第３のガス圧供給バルブＶ３から溶融タンクＣ３へ向かうガス圧の供給経路に配置されている。第１の継手Ｊ１は、第１の配管Ｌ１の途中での切り離し及び結合を可能にしている。
第２の継手Ｊ２は、第２の配管Ｌ２のうちの第２のガス圧供給バルブＶ２からロードロック室Ｃ２へ向かうガス圧の供給経路に配置されている。第２の継手Ｊ２は、第２の配管Ｌ２の途中での切り離し及び結合を可能にしている。
第３の継手Ｊ３は、固体ターゲット供給管４１のうちの計量器６１から固体ターゲット供給バルブＶＴ１へ向かう固体ターゲット物質２７ａの供給経路に配置されている。第３の継手Ｊ３は、固体ターゲット供給管４１の途中での切り離し及び結合を可能にしている。
【0088】
４．２ 動作
第１～第３の継手Ｊ１～Ｊ３によりそれぞれの配管を切り離すことで、溶融タンクＣ３及びロードロック室Ｃ２をまとめて取り外すことができる。このとき、第３のガス圧供給バルブＶ３を閉めておくことで、バッファタンク６４の内部のガス圧を維持することができる。具体的な手順は以下の通りである。
第１～第３の継手Ｊ１～Ｊ３によりそれぞれの配管を切り離すことで、溶融タンクＣ３及びロードロック室Ｃ２をまとめて取り外すことができる。このとき、第３のガス圧供給バルブＶ３を閉めておくことで、バッファタンク６４の内部のガス圧を維持することができる。具体的な手順は以下の通りである。
【0089】
（ａ）ヒーター７１の電源を止める。
（ｂ）固体ターゲット供給バルブＶＴ１、第２及び第３のガス圧供給バルブＶ２及びＶ３、バルブＶ５及びＶ６が閉められている状態で、固体ターゲット供給バルブＶＴ２を開け、バルブＶ７を開ける。これによりロードロック室Ｃ２及び溶融タンクＣ３の内部が大気圧となる。
（ｃ）第１～第３の継手Ｊ１～Ｊ３を緩める。
（ｄ）溶融タンクＣ３及びロードロック室Ｃ２をまとめて取り外す。
（ｂ）固体ターゲット供給バルブＶＴ１、第２及び第３のガス圧供給バルブＶ２及びＶ３、バルブＶ５及びＶ６が閉められている状態で、固体ターゲット供給バルブＶＴ２を開け、バルブＶ７を開ける。これによりロードロック室Ｃ２及び溶融タンクＣ３の内部が大気圧となる。
（ｃ）第１～第３の継手Ｊ１～Ｊ３を緩める。
（ｄ）溶融タンクＣ３及びロードロック室Ｃ２をまとめて取り外す。
【0090】
４．３ 作用
（１１）第２の実施形態によれば、バッファタンク６４から溶融タンクＣ３へ向かうガス圧の供給経路は、ガス圧供給管Ｌ０に合流する。また、ガス圧供給管Ｌ０のうちのバッファタンク６４からのガス圧の供給経路との合流位置から溶融タンクＣ３へ向かうガス圧の供給経路に、第３のガス圧供給バルブＶ３が配置されている。
これによれば、第３のガス圧供給バルブＶ３を閉めておくことで、バッファタンク６４の内部のガス圧を維持したまま溶融タンクＣ３を取り外しできる。従って、新しい溶融タンクＣ３を取り付けた後、バッファタンク６４の内部へのガスの再充填が不要となり得る。
（１１）第２の実施形態によれば、バッファタンク６４から溶融タンクＣ３へ向かうガス圧の供給経路は、ガス圧供給管Ｌ０に合流する。また、ガス圧供給管Ｌ０のうちのバッファタンク６４からのガス圧の供給経路との合流位置から溶融タンクＣ３へ向かうガス圧の供給経路に、第３のガス圧供給バルブＶ３が配置されている。
これによれば、第３のガス圧供給バルブＶ３を閉めておくことで、バッファタンク６４の内部のガス圧を維持したまま溶融タンクＣ３を取り外しできる。従って、新しい溶融タンクＣ３を取り付けた後、バッファタンク６４の内部へのガスの再充填が不要となり得る。
【0091】
（１２）第２の実施形態によれば、ガス圧供給管Ｌ０は、分岐部ＳＰと、分岐部ＳＰから溶融タンクＣ３へ向けてガス圧を供給する第１の配管Ｌ１と、分岐部ＳＰからロードロック室Ｃ２へ向けてガス圧を供給する第２の配管Ｌ２と、圧力調節器６２と分岐部ＳＰとの間の共通配管Ｌ３と、を含む。また、第１及び第２の配管Ｌ１及びＬ２にそれぞれ第１及び第２のガス圧供給バルブＶ１及びＶ２が配置される。バッファタンク６４から溶融タンクＣ３へ向かうガス圧の供給経路は、第１の配管Ｌ１のうちの第１のガス圧供給バルブＶ１から溶融タンクＣ３へ向かうガス圧の供給経路において第１の配管Ｌ１に合流する。第１の配管Ｌ１のうちのバッファタンク６４からのガス圧の供給経路との合流位置から溶融タンクＣ３へ向かうガス圧の供給経路に、第３のガス圧供給バルブＶ３が配置されている。
これによれば、ロードロック室Ｃ２の内部を高圧に調整するために第１のガス圧供給バルブＶ１を閉めている状態でも（図７のＳ４１～Ｓ４３参照）、バッファタンク６４と溶融タンクＣ３とを連通し、溶融タンクＣ３の内部のガス圧変動を抑制し得る。
さらに、第３のガス圧供給バルブＶ３を閉めておくことで、バッファタンク６４の内部のガス圧を維持したまま溶融タンクＣ３を取り外しできる。
これによれば、ロードロック室Ｃ２の内部を高圧に調整するために第１のガス圧供給バルブＶ１を閉めている状態でも（図７のＳ４１～Ｓ４３参照）、バッファタンク６４と溶融タンクＣ３とを連通し、溶融タンクＣ３の内部のガス圧変動を抑制し得る。
さらに、第３のガス圧供給バルブＶ３を閉めておくことで、バッファタンク６４の内部のガス圧を維持したまま溶融タンクＣ３を取り外しできる。
【0092】
（１３）第２の実施形態によれば、ターゲット供給システム２６２は、固体ターゲット物質２７ａを計量してロードロック室Ｃ２に供給する計量器６１を備える。また、第１の配管Ｌ１のうちの第３のガス圧供給バルブＶ３から溶融タンクＣ３へ向かうガス圧の供給経路に第１の継手Ｊ１が配置される。第２の配管Ｌ２のうちの第２のガス圧供給バルブＶ２からロードロック室Ｃ２へ向かうガス圧の供給経路に第２の継手Ｊ２が配置される。計量器６１からロードロック室Ｃ２へ向かう固体ターゲット物質２７ａの供給経路に第３の継手Ｊ３が配置される。
これによれば、溶融タンクＣ３とロードロック室Ｃ２とを一体として、ターゲット供給システム２６２から取り外しできる。
その他の点については、第２の実施形態は第１の実施形態と同様である。
これによれば、溶融タンクＣ３とロードロック室Ｃ２とを一体として、ターゲット供給システム２６２から取り外しできる。
その他の点については、第２の実施形態は第１の実施形態と同様である。
【0093】
５．バッファタンク６４の配置のバリエーション
５．１ 構成
図１３は、第３の実施形態に係るターゲット供給システム２６３の構成を概略的に示す。ターゲット供給システム２６３は、バッファタンク６４の配置の点で第１の実施形態に係るターゲット供給システム２６１と異なる。
５．１ 構成
図１３は、第３の実施形態に係るターゲット供給システム２６３の構成を概略的に示す。ターゲット供給システム２６３は、バッファタンク６４の配置の点で第１の実施形態に係るターゲット供給システム２６１と異なる。
【0094】
第１の実施形態と同様に、ガス圧供給管Ｌ０は、第１の配管Ｌ１、第２の配管Ｌ２、及び共通配管Ｌ３を含む。第１の配管Ｌ１には、第１のガス圧供給バルブＶ１が配置され、第２の配管Ｌ２には、第２のガス圧供給バルブＶ２が配置されている。
【0095】
第３の実施形態において、バッファタンク６４から溶融タンクＣ３へ向かうガス圧の供給経路は、次の（ａ）～（ｃ）のいずれかにおいてガス圧供給管Ｌ０に合流する。
（ａ）第１の配管Ｌ１のうちの分岐部ＳＰと第１のガス圧供給バルブＶ１との間
（ｂ）第２の配管Ｌ２のうちの分岐部ＳＰと第２のガス圧供給バルブＶ２との間
（ｃ）共通配管Ｌ３
（ａ）第１の配管Ｌ１のうちの分岐部ＳＰと第１のガス圧供給バルブＶ１との間
（ｂ）第２の配管Ｌ２のうちの分岐部ＳＰと第２のガス圧供給バルブＶ２との間
（ｃ）共通配管Ｌ３
【0096】
ターゲット供給システム２６３は、さらに、第１～第３の継手Ｊ１～Ｊ３を含む。第１～第３の継手Ｊ１～Ｊ３については、第２の実施形態において説明したものと同様である。
【0097】
５．２ 動作
第１～第３の継手Ｊ１～Ｊ３によりそれぞれの配管を切り離すことで、溶融タンクＣ３及びロードロック室Ｃ２をまとめて取り外すことができる。このとき、第１及び第２のガス圧供給バルブＶ１及びＶ２を閉めておくことで、バッファタンク６４の内部のガス圧を維持することができる。
第１～第３の継手Ｊ１～Ｊ３によりそれぞれの配管を切り離すことで、溶融タンクＣ３及びロードロック室Ｃ２をまとめて取り外すことができる。このとき、第１及び第２のガス圧供給バルブＶ１及びＶ２を閉めておくことで、バッファタンク６４の内部のガス圧を維持することができる。
【0098】
５．３ 作用
（１４）第３の実施形態によれば、ガス圧供給管Ｌ０は、分岐部ＳＰと、分岐部ＳＰから溶融タンクＣ３へ向けてガス圧を供給する第１の配管Ｌ１と、分岐部ＳＰからロードロック室Ｃ２へ向けてガス圧を供給する第２の配管Ｌ２と、圧力調節器６２と分岐部ＳＰとの間の共通配管Ｌ３と、を含む。また、第１及び第２の配管Ｌ１及びＬ２にそれぞれ第１及び第２のガス圧供給バルブＶ１及びＶ２が配置されている。バッファタンク６４から溶融タンクＣ３へ向かうガス圧の供給経路は、以下のうちのいずれかにおいてガス圧供給管Ｌ０に合流する。
（ａ）第１の配管Ｌ１のうちの分岐部ＳＰと第１のガス圧供給バルブＶ１との間
（ｂ）第２の配管Ｌ２のうちの分岐部ＳＰと第２のガス圧供給バルブＶ２との間
（ｃ）共通配管Ｌ３
これによれば、溶融タンクＣ３から離れて余裕のあるスペースに、バッファタンク６４を配置できる。
さらに、第１及び第２のガス圧供給バルブＶ１及びＶ２を閉めておくことで、バッファタンク６４の内部のガス圧を維持したまま溶融タンクＣ３を取り外しできる。
（１４）第３の実施形態によれば、ガス圧供給管Ｌ０は、分岐部ＳＰと、分岐部ＳＰから溶融タンクＣ３へ向けてガス圧を供給する第１の配管Ｌ１と、分岐部ＳＰからロードロック室Ｃ２へ向けてガス圧を供給する第２の配管Ｌ２と、圧力調節器６２と分岐部ＳＰとの間の共通配管Ｌ３と、を含む。また、第１及び第２の配管Ｌ１及びＬ２にそれぞれ第１及び第２のガス圧供給バルブＶ１及びＶ２が配置されている。バッファタンク６４から溶融タンクＣ３へ向かうガス圧の供給経路は、以下のうちのいずれかにおいてガス圧供給管Ｌ０に合流する。
（ａ）第１の配管Ｌ１のうちの分岐部ＳＰと第１のガス圧供給バルブＶ１との間
（ｂ）第２の配管Ｌ２のうちの分岐部ＳＰと第２のガス圧供給バルブＶ２との間
（ｃ）共通配管Ｌ３
これによれば、溶融タンクＣ３から離れて余裕のあるスペースに、バッファタンク６４を配置できる。
さらに、第１及び第２のガス圧供給バルブＶ１及びＶ２を閉めておくことで、バッファタンク６４の内部のガス圧を維持したまま溶融タンクＣ３を取り外しできる。
【0099】
（１５）第３の実施形態によれば、ターゲット供給システム２６３は、固体ターゲット物質２７ａを計量してロードロック室Ｃ２に供給する計量器６１を備える。また、第１の配管Ｌ１のうちの第１のガス圧供給バルブＶ１から溶融タンクＣ３へ向かうガス圧の供給経路に第１の継手Ｊ１が配置される。第２の配管Ｌ２のうちの第２のガス圧供給バルブＶ２からロードロック室Ｃ２へ向かうガス圧の供給経路に第２の継手Ｊ２が配置される。計量器６１からロードロック室Ｃ２へ向かう固体ターゲット物質２７ａの供給経路に第３の継手Ｊ３が配置される。
これによれば、溶融タンクＣ３とロードロック室Ｃ２とを一体として、ターゲット供給システム２６３から取り外しできる。
その他の点については、第３の実施形態は第１の実施形態と同様である。
これによれば、溶融タンクＣ３とロードロック室Ｃ２とを一体として、ターゲット供給システム２６３から取り外しできる。
その他の点については、第３の実施形態は第１の実施形態と同様である。
【0100】
６．溶融タンクＣ３の液面を検出するターゲット供給システム２６４
６．１ 構成
図１４は、第４の実施形態に係るターゲット供給システム２６４の構成を概略的に示す。ターゲット供給システム２６４は、センサ７３を含む。センサ７３は、溶融タンクＣ３の内部の液体ターゲット物質の液面位置を検出する。溶融タンクＣ３の内部の液体ターゲット物質の液面位置が閾値未満になったことをセンサ７３が検出した場合に、固体ターゲット物質２７ａの供給が行われる。
６．１ 構成
図１４は、第４の実施形態に係るターゲット供給システム２６４の構成を概略的に示す。ターゲット供給システム２６４は、センサ７３を含む。センサ７３は、溶融タンクＣ３の内部の液体ターゲット物質の液面位置を検出する。溶融タンクＣ３の内部の液体ターゲット物質の液面位置が閾値未満になったことをセンサ７３が検出した場合に、固体ターゲット物質２７ａの供給が行われる。
【0101】
ターゲット供給システム２６４は、ロードロック室Ｃ２に供給された固体ターゲット物質２７ａが固体ターゲット供給バルブＶＴ２に到達することを抑制する調整機構６６をさらに含む。
【0102】
図１５及び図１６の各々は、調整機構６６及び固体ターゲット供給バルブＶＴ２の構成を示し、それらの動作を図１５及び図１６の組み合わせで示す。
調整機構６６は、受け板６６ａと、アクチュエータ６６ｂと、を含む。受け板６６ａは、ロードロック室Ｃ２の下端付近に位置する。アクチュエータ６６ｂは、受け板６６ａを移動させることにより、図１５に示される第１の状態と、図１６に示される第２の状態とに、調整機構６６を切り替えられるように構成されている。
調整機構６６は、受け板６６ａと、アクチュエータ６６ｂと、を含む。受け板６６ａは、ロードロック室Ｃ２の下端付近に位置する。アクチュエータ６６ｂは、受け板６６ａを移動させることにより、図１５に示される第１の状態と、図１６に示される第２の状態とに、調整機構６６を切り替えられるように構成されている。
【0103】
第１の状態において、受け板６６ａは、ロードロック室Ｃ２から固体ターゲット供給管４２への接続部分を塞ぐように配置される。これにより、固体ターゲット物質２７ａが固体ターゲット供給バルブＶＴ２に向けて移動することが抑制される。
第２の状態において、受け板６６ａは、ロードロック室Ｃ２から固体ターゲット供給管４２への接続部分から離れた位置に配置される。これにより、固体ターゲット物質２７ａが固体ターゲット供給バルブＶＴ２に向けて移動することが許容される。
調整機構６６は、通常は第１の状態とされ、固体ターゲット物質２７ａを固体ターゲット供給バルブＶＴ２に向けて移動させるときに、一時的に第２の状態とされる。
第２の状態において、受け板６６ａは、ロードロック室Ｃ２から固体ターゲット供給管４２への接続部分から離れた位置に配置される。これにより、固体ターゲット物質２７ａが固体ターゲット供給バルブＶＴ２に向けて移動することが許容される。
調整機構６６は、通常は第１の状態とされ、固体ターゲット物質２７ａを固体ターゲット供給バルブＶＴ２に向けて移動させるときに、一時的に第２の状態とされる。
【0104】
固体ターゲット供給バルブＶＴ２は、例えば、ボール部Ｖ２ａとボディ部Ｖ２ｂとを含むボールバルブで構成される。ボール部Ｖ２ａがボディ部Ｖ２ｂの内部で矢印Ｒの向きに回転することにより、図１５に示される閉状態と、図１６に示される開状態とに切り替えられる。
【0105】
６．２ 動作
図１７は、第４の実施形態に係るターゲット供給システム２６４の動作手順を示す。
Ｓ１１ｂにおいて、固体ターゲット供給バルブＶＴ１及びＶＴ２、第１及び第２のガス圧供給バルブＶ１及びＶ２、及びバルブＶ４～Ｖ７がすべて閉められている他、調整機構６６が第１の状態にセットされている状態から動作がスタートする。
図１７は、第４の実施形態に係るターゲット供給システム２６４の動作手順を示す。
Ｓ１１ｂにおいて、固体ターゲット供給バルブＶＴ１及びＶＴ２、第１及び第２のガス圧供給バルブＶ１及びＶ２、及びバルブＶ４～Ｖ７がすべて閉められている他、調整機構６６が第１の状態にセットされている状態から動作がスタートする。
【0106】
Ｓ１２において第１のガス圧供給バルブＶ１が開けられ、Ｓ１３ａにおいてバルブＶ４が開けられた後、Ｓ１４ｂにおいて、溶融タンクＣ３の内部の液面が所定位置より低くなったことをセンサ７３が検出したら、ターゲット供給プロセッサ６０はＳ２１に進んで固体ターゲット物質２７ａの供給を開始させる。
【0107】
Ｓ２１～Ｓ４３において、固体ターゲット物質２７ａを計量してロードロック室Ｃ２に供給し、ロードロック室Ｃ２の内部を高圧に調整する点は第１の実施形態と同様である。但し、ターゲット供給プロセッサ６０は、センサ７３の出力に基づいて、溶融タンクＣ３の内部の液体ターゲット物質の０．３３％以上、３．３％以下の質量の固体ターゲット物質２７ａをロードロック室Ｃ２に供給するように計量器６１を制御する。
【0108】
Ｓ５１において固体ターゲット供給バルブＶＴ２が開状態とされたとき、調整機構６６は第１の状態（図１５参照）にセットされているので、固体ターゲット物質２７ａはロードロック室Ｃ２の内部に留まったままとなる。
【0109】
Ｓ５２ｂにおいて、ターゲット供給プロセッサ６０は、調整機構６６を第２の状態（図１６参照）とする。これにより、固体ターゲット物質２７ａはロードロック室Ｃ２から固体ターゲット供給管４２及び固体ターゲット供給バルブＶＴ２を介して溶融タンクＣ３に供給される。固体ターゲット供給バルブＶＴ２が開状態とされた後で調整機構６６が第２の状態とされるので、固体ターゲット供給バルブＶＴ２の損傷が抑制される。
【0110】
Ｓ５３において、固体ターゲット供給バルブＶＴ２が閉状態とされた後、Ｓ５４ｂにおいて、ターゲット供給プロセッサ６０は調整機構６６を第１の状態とする。従って、Ｓ６４ｂにおいてＳ１４ｂに戻った後、再び固体ターゲット物質２７ａをロードロック室Ｃ２に供給するときも、固体ターゲット物質２７ａはロードロック室Ｃ２の内部にとどまる。なお、Ｓ６１～Ｓ６３は比較例と同様である。
【0111】
６．３ 作用
（１６）第４の実施形態によれば、ターゲット供給システム２６４は、溶融タンクＣ３の内部の液体ターゲット物質の液面を検出するセンサ７３と、固体ターゲット物質２７ａを計量してロードロック室Ｃ２に供給する計量器６１と、を備える。また、ターゲット供給システム２６４は、センサ７３の出力に基づいて、固体ターゲット物質２７ａをロードロック室Ｃ２に供給するように計量器６１を制御するターゲット供給プロセッサ６０を備える。
これによれば、固体ターゲット物質２７ａの供給タイミング又は供給量を適切に制御し得る。
（１６）第４の実施形態によれば、ターゲット供給システム２６４は、溶融タンクＣ３の内部の液体ターゲット物質の液面を検出するセンサ７３と、固体ターゲット物質２７ａを計量してロードロック室Ｃ２に供給する計量器６１と、を備える。また、ターゲット供給システム２６４は、センサ７３の出力に基づいて、固体ターゲット物質２７ａをロードロック室Ｃ２に供給するように計量器６１を制御するターゲット供給プロセッサ６０を備える。
これによれば、固体ターゲット物質２７ａの供給タイミング又は供給量を適切に制御し得る。
【0112】
（１７）第４の実施形態によれば、ターゲット供給プロセッサ６０は、センサ７３の出力に基づいて、溶融タンクＣ３の内部の液体ターゲット物質の０．３３％以上、３．３％以下の質量の固体ターゲット物質２７ａをロードロック室Ｃ２に供給するように計量器６１を制御する。
これによれば、０．３３％以上とすることで、固体ターゲット供給バルブＶＴ２の使用頻度を低減して固体ターゲット供給バルブＶＴ２の劣化を抑制し得る。３．３％以下とすることで、溶融タンクＣ３の内部の液体ターゲット物質の温度降下ΔＴを抑制し、ターゲット２７を構成する液滴の生成を安定化し得る。
その他の点については、第４の実施形態は第１の実施形態と同様である。
これによれば、０．３３％以上とすることで、固体ターゲット供給バルブＶＴ２の使用頻度を低減して固体ターゲット供給バルブＶＴ２の劣化を抑制し得る。３．３％以下とすることで、溶融タンクＣ３の内部の液体ターゲット物質の温度降下ΔＴを抑制し、ターゲット２７を構成する液滴の生成を安定化し得る。
その他の点については、第４の実施形態は第１の実施形態と同様である。
【0113】
【0114】
圧力制御プロセッサ６２０は、制御プログラムが記憶されたメモリ６２１と、制御プログラムを実行するＣＰＵ６２２と、を含む処理装置である。圧力制御プロセッサ６２０は本開示に含まれる各種処理を実行するために特別に構成又はプログラムされている。
【0115】
ガスボンベＧ１と図示しない排気装置との間の配管にバルブＶａ及びＶｂが配置され、バルブＶａ及びＶｂの間に共通配管Ｌ３が接続されている。共通配管Ｌ３に圧力計Ｐが配置されている。
【0116】
バルブＶａ及びＶｂの両方を開けるとガスボンベＧ１から排気装置へガスが漏れていくが、バルブＶａの開度とバルブＶｂの開度との関係に応じて共通配管Ｌ３に供給されるガス圧が変化する。圧力計Ｐによって検出されたガス圧に基づいて圧力制御プロセッサ６２０がバルブＶａ及びＶｂを制御することにより、共通配管Ｌ３に供給されるガス圧を調整することができる。
【0117】
７．２ ＥＵＶ光利用装置６
図１９は、ＥＵＶ光生成システム１１に接続された露光装置６ａの構成を概略的に示す。
図１９において、ＥＵＶ光利用装置６（図１参照）としての露光装置６ａは、マスク照射部６０８とワークピース照射部６０９とを含む。マスク照射部６０８は、ＥＵＶ光生成システム１１から入射したＥＵＶ光によって、反射光学系を介してマスクテーブルＭＴのマスクパターンを照明する。ワークピース照射部６０９は、マスクテーブルＭＴによって反射されたＥＵＶ光を、反射光学系を介してワークピーステーブルＷＴ上に配置された図示しないワークピース上に結像させる。ワークピースはフォトレジストが塗布された半導体ウエハ等の感光基板である。露光装置６ａは、マスクテーブルＭＴとワークピーステーブルＷＴとを同期して平行移動させることにより、マスクパターンを反映したＥＵＶ光をワークピースに露光する。以上のような露光工程によって半導体ウエハにデバイスパターンを転写することで電子デバイスを製造できる。
図１９は、ＥＵＶ光生成システム１１に接続された露光装置６ａの構成を概略的に示す。
図１９において、ＥＵＶ光利用装置６（図１参照）としての露光装置６ａは、マスク照射部６０８とワークピース照射部６０９とを含む。マスク照射部６０８は、ＥＵＶ光生成システム１１から入射したＥＵＶ光によって、反射光学系を介してマスクテーブルＭＴのマスクパターンを照明する。ワークピース照射部６０９は、マスクテーブルＭＴによって反射されたＥＵＶ光を、反射光学系を介してワークピーステーブルＷＴ上に配置された図示しないワークピース上に結像させる。ワークピースはフォトレジストが塗布された半導体ウエハ等の感光基板である。露光装置６ａは、マスクテーブルＭＴとワークピーステーブルＷＴとを同期して平行移動させることにより、マスクパターンを反映したＥＵＶ光をワークピースに露光する。以上のような露光工程によって半導体ウエハにデバイスパターンを転写することで電子デバイスを製造できる。
【0118】
図２０は、ＥＵＶ光生成システム１１に接続された検査装置６ｂの構成を概略的に示す。
図２０において、ＥＵＶ光利用装置６（図１参照）としての検査装置６ｂは、照明光学系６０３と検出光学系６０６とを含む。照明光学系６０３は、ＥＵＶ光生成システム１１から入射したＥＵＶ光を反射して、マスクステージ６０４に配置されたマスク６０５を照射する。ここでいうマスク６０５はパターンが形成される前のマスクブランクスを含む。検出光学系６０６は、照明されたマスク６０５からのＥＵＶ光を反射して検出器６０７の受光面に結像させる。ＥＵＶ光を受光した検出器６０７はマスク６０５の画像を取得する。検出器６０７は例えばＴＤＩ（time delay integration）カメラである。以上のような工程によって取得したマスク６０５の画像により、マスク６０５の欠陥を検査し、検査の結果を用いて、電子デバイスの製造に適するマスクを選定する。そして、選定したマスクに形成されたパターンを、露光装置６ａを用いて感光基板上に露光転写することで電子デバイスを製造できる。
図２０において、ＥＵＶ光利用装置６（図１参照）としての検査装置６ｂは、照明光学系６０３と検出光学系６０６とを含む。照明光学系６０３は、ＥＵＶ光生成システム１１から入射したＥＵＶ光を反射して、マスクステージ６０４に配置されたマスク６０５を照射する。ここでいうマスク６０５はパターンが形成される前のマスクブランクスを含む。検出光学系６０６は、照明されたマスク６０５からのＥＵＶ光を反射して検出器６０７の受光面に結像させる。ＥＵＶ光を受光した検出器６０７はマスク６０５の画像を取得する。検出器６０７は例えばＴＤＩ（time delay integration）カメラである。以上のような工程によって取得したマスク６０５の画像により、マスク６０５の欠陥を検査し、検査の結果を用いて、電子デバイスの製造に適するマスクを選定する。そして、選定したマスクに形成されたパターンを、露光装置６ａを用いて感光基板上に露光転写することで電子デバイスを製造できる。
【0119】
７．３ 補足
上述の説明は、制限ではなく単なる例示を意図している。従って、特許請求の範囲を逸脱することなく本開示の実施形態に変更を加えることができることは、当業者には明らかである。また、本開示の実施形態を組み合わせて使用することも当業者には明らかである。
上述の説明は、制限ではなく単なる例示を意図している。従って、特許請求の範囲を逸脱することなく本開示の実施形態に変更を加えることができることは、当業者には明らかである。また、本開示の実施形態を組み合わせて使用することも当業者には明らかである。
【0120】
本明細書及び特許請求の範囲全体で使用される用語は、明記が無い限り「限定的でない」用語と解釈されるべきである。たとえば、「含む」又は「含まれる」という用語は、「含まれるものとして記載されたものに限定されない」と解釈されるべきである。「有する」という用語は、「有するものとして記載されたものに限定されない」と解釈されるべきである。また、不定冠詞「１つの」は、「少なくとも１つ」又は「１又はそれ以上」を意味すると解釈されるべきである。また、「Ａ、Ｂ及びＣの少なくとも１つ」という用語は、「Ａ」「Ｂ」「Ｃ」「Ａ＋Ｂ」「Ａ＋Ｃ」「Ｂ＋Ｃ」又は「Ａ＋Ｂ＋Ｃ」と解釈されるべきである。さらに、それらと「Ａ」「Ｂ」「Ｃ」以外のものとの組み合わせも含むと解釈されるべきである。
【図1】
【図2】
【図3】
【図4】
【図5】
【図6】
【図7】
【図8】
【図9】
【図10】
【図11】
【図12】
【図13】
【図14】
【図15】
【図16】
【図17】
【図18】
【図19】
【図20】