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(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】公開特許公報(A)
(11)【公開番号】P2023121714
(43)【公開日】2023-08-31
(54)【発明の名称】積層体、ウインドウフィルム及びタッチパネル
(51)【国際特許分類】
G02B 1/18 20150101AFI20230824BHJP
G02B 1/14 20150101ALI20230824BHJP
B32B 7/12 20060101ALI20230824BHJP
G06F 3/041 20060101ALI20230824BHJP
【ＦＩ】
G02B1/18
G02B1/14
B32B7/12
G06F3/041 460
【審査請求】未請求
【請求項の数】9
【出願形態】ＯＬ
(21)【出願番号】P 2022190129
(22)【出願日】2022-11-29
(31)【優先権主張番号】P 2022025029
(32)【優先日】2022-02-21
(33)【優先権主張国・地域又は機関】JP
(71)【出願人】
【識別番号】000002093
【氏名又は名称】住友化学株式会社
(74)【代理人】
【識別番号】110002837
【氏名又は名称】弁理士法人アスフィ国際特許事務所
(72)【発明者】
【氏名】伊藤 友宏
(72)【発明者】
【氏名】松浦 拓哉
(72)【発明者】
【氏名】大門（上原） みちる
【テーマコード（参考）】
2K009
4F100
【Ｆターム（参考）】
2K009AA15
2K009BB24
2K009CC24
2K009CC26
2K009CC42
2K009EE05
4F100AH06C
4F100AH07C
4F100AK01A
4F100AK03D
4F100AK03E
4F100AK25B
4F100AK25D
4F100AK41D
4F100AK41E
4F100AK42A
4F100AK51D
4F100AK52D
4F100AK54D
4F100AN00D
4F100BA05
4F100BA07
4F100CA22C
4F100CB05D
4F100CC00B
4F100EJ65C
4F100EJ67C
4F100GB41
4F100JB04
4F100JK12B
4F100YY00C
(57)【要約】
【課題】保護フィルム付きの防汚フィルム等の積層体であって、保護フィルムの粘着力が高い積層体を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明は、第一基材（ＳL）、フッ素元素を含む層（ｒ）、保護層（Ｐ）をこの順で含む積層体であって、前記保護層（Ｐ）は第二基材（ＳP）及び粘着層（ａｄ）を含み、前記粘着層（ａｄ）の厚みが１６μｍ未満であり、前記フッ素元素を含む層（ｒ）を第一基材（ＳL）側に残して保護層（Ｐ）を剥がした際の、フッ素元素を含む層（ｒ）表面の接触角が１００°以上である積層体である。
【選択図】なし
【解決手段】本発明は、第一基材（ＳL）、フッ素元素を含む層（ｒ）、保護層（Ｐ）をこの順で含む積層体であって、前記保護層（Ｐ）は第二基材（ＳP）及び粘着層（ａｄ）を含み、前記粘着層（ａｄ）の厚みが１６μｍ未満であり、前記フッ素元素を含む層（ｒ）を第一基材（ＳL）側に残して保護層（Ｐ）を剥がした際の、フッ素元素を含む層（ｒ）表面の接触角が１００°以上である積層体である。
【選択図】なし
【特許請求の範囲】
【請求項1】
第一基材（ＳL）、フッ素元素を含む層（ｒ）、保護層（Ｐ）をこの順で含む積層体であって、
前記保護層（Ｐ）は第二基材（ＳP）及び粘着層（ａｄ）を含み、
前記粘着層（ａｄ）の厚みが１６μｍ未満であり、
前記フッ素元素を含む層（ｒ）を第一基材（ＳL）側に残して保護層（Ｐ）を剥がした際の、フッ素元素を含む層（ｒ）表面の接触角が１００°以上である積層体。
前記保護層（Ｐ）は第二基材（ＳP）及び粘着層（ａｄ）を含み、
前記粘着層（ａｄ）の厚みが１６μｍ未満であり、
前記フッ素元素を含む層（ｒ）を第一基材（ＳL）側に残して保護層（Ｐ）を剥がした際の、フッ素元素を含む層（ｒ）表面の接触角が１００°以上である積層体。
【請求項2】
前記フッ素元素を含む層（ｒ）を第一基材（ＳL）側に残して保護層（Ｐ）を剥がした際の、保護層（Ｐ）の剥離面の接触角が１１０°以下である請求項１に記載の積層体。
【請求項3】
前記積層体は、前記第一基材（ＳL）及びフッ素元素を含む層（ｒ）の間に、更にプライマー層（ｃ）を有する請求項１または２に記載の積層体。
【請求項4】
前記第一基材（ＳL）は、異なる二つの層（ＳL1）及び層（ＳL2）を含み、
前記層（ＳL2）は層（ＳL1）よりも、前記フッ素元素を含む層（ｒ）側に位置し、
前記層（ＳL1）は樹脂であり、
前記層（ＳL2）はアクリル系ハードコート層である請求項１または２に記載の積層体。
前記層（ＳL2）は層（ＳL1）よりも、前記フッ素元素を含む層（ｒ）側に位置し、
前記層（ＳL1）は樹脂であり、
前記層（ＳL2）はアクリル系ハードコート層である請求項１または２に記載の積層体。
【請求項5】
前記第二基材（ＳP）はポリエステル樹脂及びポリオレフィン樹脂の少なくとも１種を含み、
前記粘着層（ａｄ）は（メタ）アクリル系樹脂、ゴム系樹脂、ウレタン系樹脂、ポリエステル系樹脂、シリコーン系樹脂、ポリビニルエーテル系樹脂及びポリオレフィン系樹脂よりなる群から選択される少なくとも１種を含む請求項１または２に記載の積層体。
前記粘着層（ａｄ）は（メタ）アクリル系樹脂、ゴム系樹脂、ウレタン系樹脂、ポリエステル系樹脂、シリコーン系樹脂、ポリビニルエーテル系樹脂及びポリオレフィン系樹脂よりなる群から選択される少なくとも１種を含む請求項１または２に記載の積層体。
【請求項6】
前記フッ素元素を含む層（ｒ）の厚みは５０ｎｍ以下である請求項１または２に記載の積層体。
【請求項7】
前記フッ素元素を含む層（ｒ）を第一基材（ＳL）側に残して保護層（Ｐ）を剥がした際の、保護層（Ｐ）の剥離面のＦ元素量が５０原子％未満である請求項１または２に記載の積層体。
【請求項8】
前記フッ素元素を含む層（ｒ）は、下記式（ａ１）で表される有機ケイ素化合物（Ａ）の硬化層である請求項１または２に記載の積層体。
上記式（ａ１）中、
Ｒｆa26、Ｒｆa27、Ｒｆa28、及びＲｆa29は、それぞれ独立して、１個以上の水素原子がフッ素原子に置換された炭素数１～２０のフッ化アルキル基又はフッ素原子であり、Ｒｆa26が複数存在する場合は複数のＲｆa26がそれぞれ異なっていてもよく、Ｒｆa27が複数存在する場合は複数のＲｆa27がそれぞれ異なっていてもよく、Ｒｆa28が複数存在する場合は複数のＲｆa28がそれぞれ異なっていてもよく、Ｒｆa29が複数存在する場合は複数のＲｆa29がそれぞれ異なっていてもよく、
Ｒ25及びＲ26は、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１～４のアルキル基、又は１個以上の水素原子がハロゲン原子に置換された炭素数１～４のハロゲン化アルキル基であり、一つの炭素原子に結合するＲ25及びＲ26の少なくとも一方は水素原子であり、Ｒ25が複数存在する場合は複数のＲ25がそれぞれ異なっていてもよく、Ｒ26が複数存在する場合は複数のＲ26がそれぞれ異なっていてもよく、
Ｒ27及びＲ28は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数１～４のアルキル基、又は単結合であり、Ｒ27が複数存在する場合は複数のＲ27がそれぞれ異なっていてもよく、Ｒ28が複数存在する場合は複数のＲ28がそれぞれ異なっていてもよく、
Ｒ29及びＲ30は、それぞれ独立して、炭素数１～２０のアルキル基であり、Ｒ29が複数存在する場合は複数のＲ29がそれぞれ異なっていてもよく、Ｒ30が複数存在する場合は複数のＲ30がそれぞれ異なっていてもよく、
Ｍ7は、－Ｏ－、－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－、－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－、－ＮＲ－、－ＮＲＣ（＝Ｏ）－、－Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ－、－ＣＨ＝ＣＨ－、又は－Ｃ6Ｈ4－（フェニレン基）であり、前記Ｒは水素原子、炭素数１～４のアルキル基又は炭素数１～４の含フッ素アルキル基であり、Ｍ7が複数存在する場合は複数のＭ7がそれぞれ異なっていてもよく、
Ｍ5は、水素原子、フッ素原子又は炭素数１～４のアルキル基であり、Ｍ5が複数存在する場合は複数のＭ5がそれぞれ異なっていてもよく、
Ｍ10は、水素原子、又はハロゲン原子であり、
Ｍ8及びＭ9は、それぞれ独立して、加水分解性基、ヒドロキシ基、又は－（ＣＨ2）e7－Ｓｉ（ＯＲ14）3であり、ｅ７は１～５であり、Ｒ14はメチル基又はエチル基であり、Ｍ8が複数存在する場合は複数のＭ8がそれぞれ異なっていてもよく、Ｍ9が複数存在する場合は複数のＭ9がそれぞれ異なっていてもよく、
ｆ２１、ｆ２２、ｆ２３、ｆ２４、及びｆ２５はそれぞれ独立して０～６００の整数であり、ｆ２１、ｆ２２、ｆ２３、ｆ２４、及びｆ２５の合計値は１３以上であり、
ｆ２６は、０～２０の整数であり、
ｆ２７は、それぞれ独立して、０～２の整数であり、
ｇ２１は１～３の整数、ｇ２２は０～２の整数、ｇ２１＋ｇ２２≦３であり、
ｇ３１は１～３の整数、ｇ３２は０～２の整数、ｇ３１＋ｇ３２≦３であり、
Ｍ10－、－Ｓｉ（Ｍ9）ｇ３１（Ｈ）ｇ３２（Ｒ30）３－ｇ３１－ｇ３２、ｆ２１個の－｛Ｃ（Ｒ25）（Ｒ26）｝－単位（Ｕa1）、ｆ２２個の－｛Ｃ（Ｒｆa26）（Ｒｆa27）｝－単位（Ｕa2）、ｆ２３個の－｛Ｓｉ（Ｒ27）（Ｒ28）｝－単位（Ｕa3）、ｆ２４個の－｛Ｓｉ（Ｒｆa28）（Ｒｆa29）｝－単位（Ｕa4）、ｆ２５個の－Ｍ7－単位（Ｕa5）、及びｆ２６個の－［Ｃ（Ｍ5）｛（ＣＨ２）ｆ２７－Ｓｉ（Ｍ8）ｇ２１（Ｈ）ｇ２２（Ｒ29）３－ｇ２１－ｇ２２｝］－単位（Ｕa6）は、Ｍ10－が式（ａ１）における一方の末端であり、－Ｓｉ（Ｍ9）ｇ３１（Ｈ）ｇ３２（Ｒ30）３－ｇ３１－ｇ３２が他方の末端であり、少なくとも一部でフルオロポリエーテル構造を形成する順で並び、－Ｏ－が－Ｏ－と連続しない限り、それぞれの単位が任意の順で並んで結合する。
【化1】
Ｒｆa26、Ｒｆa27、Ｒｆa28、及びＲｆa29は、それぞれ独立して、１個以上の水素原子がフッ素原子に置換された炭素数１～２０のフッ化アルキル基又はフッ素原子であり、Ｒｆa26が複数存在する場合は複数のＲｆa26がそれぞれ異なっていてもよく、Ｒｆa27が複数存在する場合は複数のＲｆa27がそれぞれ異なっていてもよく、Ｒｆa28が複数存在する場合は複数のＲｆa28がそれぞれ異なっていてもよく、Ｒｆa29が複数存在する場合は複数のＲｆa29がそれぞれ異なっていてもよく、
Ｒ25及びＲ26は、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１～４のアルキル基、又は１個以上の水素原子がハロゲン原子に置換された炭素数１～４のハロゲン化アルキル基であり、一つの炭素原子に結合するＲ25及びＲ26の少なくとも一方は水素原子であり、Ｒ25が複数存在する場合は複数のＲ25がそれぞれ異なっていてもよく、Ｒ26が複数存在する場合は複数のＲ26がそれぞれ異なっていてもよく、
Ｒ27及びＲ28は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数１～４のアルキル基、又は単結合であり、Ｒ27が複数存在する場合は複数のＲ27がそれぞれ異なっていてもよく、Ｒ28が複数存在する場合は複数のＲ28がそれぞれ異なっていてもよく、
Ｒ29及びＲ30は、それぞれ独立して、炭素数１～２０のアルキル基であり、Ｒ29が複数存在する場合は複数のＲ29がそれぞれ異なっていてもよく、Ｒ30が複数存在する場合は複数のＲ30がそれぞれ異なっていてもよく、
Ｍ7は、－Ｏ－、－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－、－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－、－ＮＲ－、－ＮＲＣ（＝Ｏ）－、－Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ－、－ＣＨ＝ＣＨ－、又は－Ｃ6Ｈ4－（フェニレン基）であり、前記Ｒは水素原子、炭素数１～４のアルキル基又は炭素数１～４の含フッ素アルキル基であり、Ｍ7が複数存在する場合は複数のＭ7がそれぞれ異なっていてもよく、
Ｍ5は、水素原子、フッ素原子又は炭素数１～４のアルキル基であり、Ｍ5が複数存在する場合は複数のＭ5がそれぞれ異なっていてもよく、
Ｍ10は、水素原子、又はハロゲン原子であり、
Ｍ8及びＭ9は、それぞれ独立して、加水分解性基、ヒドロキシ基、又は－（ＣＨ2）e7－Ｓｉ（ＯＲ14）3であり、ｅ７は１～５であり、Ｒ14はメチル基又はエチル基であり、Ｍ8が複数存在する場合は複数のＭ8がそれぞれ異なっていてもよく、Ｍ9が複数存在する場合は複数のＭ9がそれぞれ異なっていてもよく、
ｆ２１、ｆ２２、ｆ２３、ｆ２４、及びｆ２５はそれぞれ独立して０～６００の整数であり、ｆ２１、ｆ２２、ｆ２３、ｆ２４、及びｆ２５の合計値は１３以上であり、
ｆ２６は、０～２０の整数であり、
ｆ２７は、それぞれ独立して、０～２の整数であり、
ｇ２１は１～３の整数、ｇ２２は０～２の整数、ｇ２１＋ｇ２２≦３であり、
ｇ３１は１～３の整数、ｇ３２は０～２の整数、ｇ３１＋ｇ３２≦３であり、
Ｍ10－、－Ｓｉ（Ｍ9）ｇ３１（Ｈ）ｇ３２（Ｒ30）３－ｇ３１－ｇ３２、ｆ２１個の－｛Ｃ（Ｒ25）（Ｒ26）｝－単位（Ｕa1）、ｆ２２個の－｛Ｃ（Ｒｆa26）（Ｒｆa27）｝－単位（Ｕa2）、ｆ２３個の－｛Ｓｉ（Ｒ27）（Ｒ28）｝－単位（Ｕa3）、ｆ２４個の－｛Ｓｉ（Ｒｆa28）（Ｒｆa29）｝－単位（Ｕa4）、ｆ２５個の－Ｍ7－単位（Ｕa5）、及びｆ２６個の－［Ｃ（Ｍ5）｛（ＣＨ２）ｆ２７－Ｓｉ（Ｍ8）ｇ２１（Ｈ）ｇ２２（Ｒ29）３－ｇ２１－ｇ２２｝］－単位（Ｕa6）は、Ｍ10－が式（ａ１）における一方の末端であり、－Ｓｉ（Ｍ9）ｇ３１（Ｈ）ｇ３２（Ｒ30）３－ｇ３１－ｇ３２が他方の末端であり、少なくとも一部でフルオロポリエーテル構造を形成する順で並び、－Ｏ－が－Ｏ－と連続しない限り、それぞれの単位が任意の順で並んで結合する。
【請求項9】
請求項１または２に記載の積層体を含むウインドウフィルムまたはタッチパネル。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、積層体、並びに該積層体を含むウインドウフィルム及びタッチパネルに関する。
【背景技術】
【0002】
タッチパネルディスプレイ等の表示装置、光学素子、半導体素子、建築材料、自動車や建物の窓ガラス等の種々の分野において、基材の表面に防汚性や撥水性（以下、まとめて防汚性と呼ぶ）を付与することが求められている。そのため、様々な防汚性のコーティングを備えた部材が用いられている。
【0003】
防汚性の皮膜は、防汚性が要求される部材に直接塗布される場合もあるが、基材の上に防汚性の皮膜及び保護フィルムが形成された防汚フィルムを用意し、このような防汚フィルムをディスプレイ等の対象部材に貼って対象部材に防汚性を付与する場合もある。この時、保護フィルムは輸送時などに防汚性の皮膜を保護する役割を有しており、最終的には剥がされる。
【0004】
例えば、特許文献１では、第一フィルム基材の第一主面上に最表面層として防汚層が設けられた光学フィルムと、前記光学フィルムの前記防汚層に仮着された表面保護フィルムとを含み、前記表面保護フィルムは第二フィルム基材上に粘着剤層を備え、前記粘着剤層の厚みが１６μｍ以上であり、前記防汚層の水接触角が１００°以上であり、前記防汚層と前記粘着剤層とが接しており、前記光学フィルムの前記防汚層と、前記表面保護フィルムの前記粘着剤層との接着力が、０．０７Ｎ／５０ｍｍ未満である、保護フィルム付き光学フィルムが開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0005】
【特許文献1】特開２０２０－５２２２１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0006】
保護フィルム付きの防汚フィルムは、最終的には防汚層表面の保護フィルムを剥がして用いられるが、輸送中などに保護フィルムがずれたり剥がれたりしないことが求められる。
【0007】
そこで、本発明は保護フィルム付きの防汚フィルム等の積層体であって、保護フィルムの粘着力が高い積層体を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【0008】
［１］第一基材（ＳL）、フッ素元素を含む層（ｒ）、保護層（Ｐ）をこの順で含む積層体であって、
前記保護層（Ｐ）は第二基材（ＳP）及び粘着層（ａｄ）を含み、
前記粘着層（ａｄ）の厚みが１６μｍ未満であり、
前記フッ素元素を含む層（ｒ）を第一基材（ＳL）側に残して保護層（Ｐ）を剥がした際の、フッ素元素を含む層（ｒ）表面の接触角が１００°以上である積層体。
［２］前記フッ素元素を含む層（ｒ）を第一基材（ＳL）側に残して保護層（Ｐ）を剥がした際の、保護層（Ｐ）の剥離面の接触角が１１０°以下である［１］に記載の積層体。
［３］前記積層体は、前記第一基材（ＳL）及びフッ素元素を含む層（ｒ）の間に、更にプライマー層（ｃ）を有する［１］または［２］に記載の積層体。
［４］前記第一基材（ＳL）は、異なる二つの層（ＳL1）及び層（ＳL2）を含み、
前記層（ＳL2）は層（ＳL1）よりも、前記フッ素元素を含む層（ｒ）側に位置し、
前記層（ＳL1）は樹脂であり、
前記層（ＳL2）はアクリル系ハードコート層である［１］～［３］のいずれかに記載の積層体。
［５］前記第二基材（ＳP）はポリエステル樹脂及びポリオレフィン樹脂の少なくとも１種を含み、
前記粘着層（ａｄ）は（メタ）アクリル系樹脂、ゴム系樹脂、ウレタン系樹脂、ポリエステル系樹脂、シリコーン系樹脂、ポリビニルエーテル系樹脂及びポリオレフィン系樹脂よりなる群から選択される少なくとも１種を含む［１］～［４］のいずれかに記載の積層体。
［６］前記フッ素元素を含む層（ｒ）の厚みは５０ｎｍ以下である［１］～［５］のいずれかに記載の積層体。
［７］前記フッ素元素を含む層（ｒ）を第一基材（ＳL）側に残して保護層（Ｐ）を剥がした際の、保護層（Ｐ）の剥離面のＦ元素量が５０原子％未満である［１］～［６］のいずれかに記載の積層体。
［８］前記フッ素元素を含む層（ｒ）は、下記式（ａ１）で表される有機ケイ素化合物（Ａ）の硬化層である［１］～［７］のいずれかに記載の積層体。
［９］［１］～［８］のいずれかに記載の積層体を含むウインドウフィルムまたはタッチパネル。
前記保護層（Ｐ）は第二基材（ＳP）及び粘着層（ａｄ）を含み、
前記粘着層（ａｄ）の厚みが１６μｍ未満であり、
前記フッ素元素を含む層（ｒ）を第一基材（ＳL）側に残して保護層（Ｐ）を剥がした際の、フッ素元素を含む層（ｒ）表面の接触角が１００°以上である積層体。
［２］前記フッ素元素を含む層（ｒ）を第一基材（ＳL）側に残して保護層（Ｐ）を剥がした際の、保護層（Ｐ）の剥離面の接触角が１１０°以下である［１］に記載の積層体。
［３］前記積層体は、前記第一基材（ＳL）及びフッ素元素を含む層（ｒ）の間に、更にプライマー層（ｃ）を有する［１］または［２］に記載の積層体。
［４］前記第一基材（ＳL）は、異なる二つの層（ＳL1）及び層（ＳL2）を含み、
前記層（ＳL2）は層（ＳL1）よりも、前記フッ素元素を含む層（ｒ）側に位置し、
前記層（ＳL1）は樹脂であり、
前記層（ＳL2）はアクリル系ハードコート層である［１］～［３］のいずれかに記載の積層体。
［５］前記第二基材（ＳP）はポリエステル樹脂及びポリオレフィン樹脂の少なくとも１種を含み、
前記粘着層（ａｄ）は（メタ）アクリル系樹脂、ゴム系樹脂、ウレタン系樹脂、ポリエステル系樹脂、シリコーン系樹脂、ポリビニルエーテル系樹脂及びポリオレフィン系樹脂よりなる群から選択される少なくとも１種を含む［１］～［４］のいずれかに記載の積層体。
［６］前記フッ素元素を含む層（ｒ）の厚みは５０ｎｍ以下である［１］～［５］のいずれかに記載の積層体。
［７］前記フッ素元素を含む層（ｒ）を第一基材（ＳL）側に残して保護層（Ｐ）を剥がした際の、保護層（Ｐ）の剥離面のＦ元素量が５０原子％未満である［１］～［６］のいずれかに記載の積層体。
［８］前記フッ素元素を含む層（ｒ）は、下記式（ａ１）で表される有機ケイ素化合物（Ａ）の硬化層である［１］～［７］のいずれかに記載の積層体。
［９］［１］～［８］のいずれかに記載の積層体を含むウインドウフィルムまたはタッチパネル。
【発明の効果】
【0009】
本発明によれば、保護フィルムの粘着力が高い積層体を提供できる。
【発明を実施するための形態】
【0010】
本発明の積層体は、第一基材（ＳL）、フッ素元素を含む層（ｒ）、保護層（Ｐ）をこの順で含む積層体であって、前記保護層（Ｐ）は第二基材（ＳP）及び粘着層（ａｄ）を含み、前記粘着層（ａｄ）の厚みが１６μｍ未満であり、前記フッ素元素を含む層（ｒ）を第一基材（ＳL）側に残して保護層（Ｐ）を剥がした際の、フッ素元素を含む層（ｒ）表面の接触角が１００°以上である積層体である。粘着層（ａｄ）の厚みが１６μｍ未満であり、かつ、保護層（Ｐ）を剥がした際の、フッ素元素を含む層（ｒ）表面の接触角が１００°以上であるという要件を満たすため、保護層の粘着力（以下、剥離強度と呼ぶ場合がある）を向上できる。
【0011】
第一基材（ＳL）、フッ素元素を含む層（ｒ）及び保護層（Ｐ）がこの順で積層される限り、第一基材（ＳL）及びフッ素元素を含む層（ｒ）の間には他の層が積層されていてもよく、第一基材（ＳL）及びフッ素元素を含む層（ｒ）の間に、後述するプライマー層（ｃ）を有することが好ましい。またフッ素元素を含む層（ｒ）及び保護層（Ｐ）は、通常、直接積層されており、特に層（ｒ）と粘着層（ａｄ）が直接積層されている。
【0012】
以下、第一基材（ＳL）、フッ素元素を含む層（ｒ）、及び保護層（Ｐ）について順に説明する。なお、フッ素元素を含む層（ｒ）については、単に「層（ｒ）」と呼ぶ場合がある。
【0013】
１．第一基材（ＳL）
第一基材（ＳL）の材質は特に限定されず、有機系材料、無機系材料のいずれでもよく、また基材の形状は平面、曲面のいずれであってもよいし、これらが組み合わさった形状でもよい。有機系材料としては、アクリル樹脂、アクリロニトリル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂（例えば、ポリエチレンテレフタレート等）、スチレン樹脂、セルロース樹脂、ポリオレフィン樹脂、ビニル系樹脂（例えば、ポリエチレン、ポリ塩化ビニル、ビニルベンジルクロライド系樹脂、ポリビニルアルコール等）、ポリ塩化ビニリデン樹脂、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリエーテルイミド樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂、ポリスルホン樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、ビニルエーテル系樹脂、及びこれら共重合体などの熱可塑性樹脂；フェノール樹脂、ユリア樹脂、メラミン樹脂、エポキシ樹脂、オキセタン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、シリコーン樹脂、ウレタン樹脂等の熱硬化性樹脂等が挙げられる。無機系材料としては、鉄、シリコン、銅、亜鉛、アルミニウム、チタン、ジルコニウム、ニオブ、タンタル、ランタン等の金属、これらの金属酸化物、又はこれら金属を含む合金、セラミックス、ガラスなどが挙げられる。これらの中でも有機系材料が好ましい。
第一基材（ＳL）の材質は特に限定されず、有機系材料、無機系材料のいずれでもよく、また基材の形状は平面、曲面のいずれであってもよいし、これらが組み合わさった形状でもよい。有機系材料としては、アクリル樹脂、アクリロニトリル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂（例えば、ポリエチレンテレフタレート等）、スチレン樹脂、セルロース樹脂、ポリオレフィン樹脂、ビニル系樹脂（例えば、ポリエチレン、ポリ塩化ビニル、ビニルベンジルクロライド系樹脂、ポリビニルアルコール等）、ポリ塩化ビニリデン樹脂、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリエーテルイミド樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂、ポリスルホン樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、ビニルエーテル系樹脂、及びこれら共重合体などの熱可塑性樹脂；フェノール樹脂、ユリア樹脂、メラミン樹脂、エポキシ樹脂、オキセタン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、シリコーン樹脂、ウレタン樹脂等の熱硬化性樹脂等が挙げられる。無機系材料としては、鉄、シリコン、銅、亜鉛、アルミニウム、チタン、ジルコニウム、ニオブ、タンタル、ランタン等の金属、これらの金属酸化物、又はこれら金属を含む合金、セラミックス、ガラスなどが挙げられる。これらの中でも有機系材料が好ましい。
【0014】
第一基材（ＳL）の厚みは、例えば５μｍ以上であり、１０μｍ以上が好ましく、より好ましくは２０μｍ以上、更に好ましくは３０μｍ以上であり、５００μｍ以下であってよく、好ましくは２００μｍ以下、より好ましくは１５０μｍ以下、更に好ましくは１００μｍ以下、特に好ましくは６０μｍ以下である。
【0015】
第一基材（ＳL）は、単層であってもよく、２層以上の複層となっていてもよい。第一基材（ＳL）が複層である場合、第一基材（ＳL）は、母体となる層（ＳL1）上に、層（ＳL1）とは異なる層（ＳL2）が設けられた複層構造を有することが好ましい。層（ＳL2）は層（ＳL1）よりも、前記フッ素元素を含む層（ｒ）側に位置し、層（ＳL2）は、好ましくは第一基材（ＳL）において最も層（ｒ）に近い側に存在する層である。第一基材（ＳL）が、層（ＳL1）及び層（ＳL2）を含む場合、本発明の積層体は、層（ＳL1）、層（ＳL2）、フッ素元素を含む層（ｒ）、保護層（Ｐ）の順に積層される。本発明の積層体がプライマー層（ｃ）を有していない場合には、層（ＳL2）は層（ｒ）と直接積層されていることが好ましく、プライマー層（ｃ）を有している場合には、層（ＳL2）は層（ｃ）と直接積層されていることが好ましい。
【0016】
１－１．層（ＳL1）
層（ＳL1）の材質は、上述した有機系材料及び無機系材料のいずれであってもよいが、有機系材料であることが好ましく、より好ましくは樹脂であり、中でもアクリル樹脂、ポリエステル樹脂、ビニルベンジルクロライド系樹脂、エポキシ樹脂、シリコーン樹脂、及びウレタン樹脂から選択される少なくとも１種であることが更に好ましく、アクリル樹脂、ポリエステル樹脂が特に好ましく、ポリエチレンテレフタレートが最も好ましい。
層（ＳL1）の材質は、上述した有機系材料及び無機系材料のいずれであってもよいが、有機系材料であることが好ましく、より好ましくは樹脂であり、中でもアクリル樹脂、ポリエステル樹脂、ビニルベンジルクロライド系樹脂、エポキシ樹脂、シリコーン樹脂、及びウレタン樹脂から選択される少なくとも１種であることが更に好ましく、アクリル樹脂、ポリエステル樹脂が特に好ましく、ポリエチレンテレフタレートが最も好ましい。
【0017】
層（ＳL1）の厚みは、例えば５μｍ以上であり、１０μｍ以上が好ましく、より好ましくは２０μｍ以上、更に好ましくは３０μｍ以上であり、５００μｍ以下であってよく、好ましくは２００μｍ以下、より好ましくは１５０μｍ以下、更に好ましくは１００μｍ以下、特に好ましくは６０μｍ以下である。
【0018】
１－２．層（ＳL2）
層（ＳL2）としては、活性エネルギー線硬化型樹脂及び熱硬化型の樹脂よりなる群（Ｘ１）から選択される少なくとも１種から形成される層が挙げられる。前記活性エネルギー線とは、活性種を発生する化合物を分解して活性種を発生させることができるエネルギー線と定義される。活性エネルギー線としては、可視光、紫外線、赤外線、Ｘ線、α線、β線、γ線及び電子線などを挙げることができる。前記活性エネルギー線硬化型樹脂には、アクリル系樹脂、エポキシ系樹脂、オキセタン系樹脂、ウレタン系樹脂、ポリアミド系樹脂、ビニルベンジルクロライド系樹脂、ビニル系樹脂（ポリエチレン樹脂、塩化ビニル系樹脂など）、スチレン系樹脂、フェノール系樹脂、ビニルエーテル系樹脂もしくはシリコーン系樹脂又はこれらの混合樹脂等の紫外線硬化型樹脂や、電子線硬化型樹脂が含まれ、特に紫外線硬化型樹脂が好ましい。また、層（ＳL2）としては、チタン酸化物、ジルコニウム酸化物、アルミニウム酸化物、ニオブ酸化物、タンタル酸化物、ランタン酸化物、及びＳｉＯ2よりなる群（Ｘ２）から選択される少なくとも１種から形成される層を挙げることもできる。群（Ｘ１）としては、特にアクリル系樹脂、シリコーン系樹脂、スチレン系樹脂、塩化ビニル系樹脂、ポリアミド系樹脂、フェノール系樹脂、及びエポキシ系樹脂が好ましい。層（ＳL2）の厚みは、０．１ｎｍ以上１００μｍ以下であり、好ましくは１ｎｍ以上６０μｍ以下、より好ましくは１ｎｍ以上１０μｍ以下である。層（ＳL2）の厚みが厚すぎると、後の加工時の熱でカールしやすくなる場合がある。
層（ＳL2）としては、活性エネルギー線硬化型樹脂及び熱硬化型の樹脂よりなる群（Ｘ１）から選択される少なくとも１種から形成される層が挙げられる。前記活性エネルギー線とは、活性種を発生する化合物を分解して活性種を発生させることができるエネルギー線と定義される。活性エネルギー線としては、可視光、紫外線、赤外線、Ｘ線、α線、β線、γ線及び電子線などを挙げることができる。前記活性エネルギー線硬化型樹脂には、アクリル系樹脂、エポキシ系樹脂、オキセタン系樹脂、ウレタン系樹脂、ポリアミド系樹脂、ビニルベンジルクロライド系樹脂、ビニル系樹脂（ポリエチレン樹脂、塩化ビニル系樹脂など）、スチレン系樹脂、フェノール系樹脂、ビニルエーテル系樹脂もしくはシリコーン系樹脂又はこれらの混合樹脂等の紫外線硬化型樹脂や、電子線硬化型樹脂が含まれ、特に紫外線硬化型樹脂が好ましい。また、層（ＳL2）としては、チタン酸化物、ジルコニウム酸化物、アルミニウム酸化物、ニオブ酸化物、タンタル酸化物、ランタン酸化物、及びＳｉＯ2よりなる群（Ｘ２）から選択される少なくとも１種から形成される層を挙げることもできる。群（Ｘ１）としては、特にアクリル系樹脂、シリコーン系樹脂、スチレン系樹脂、塩化ビニル系樹脂、ポリアミド系樹脂、フェノール系樹脂、及びエポキシ系樹脂が好ましい。層（ＳL2）の厚みは、０．１ｎｍ以上１００μｍ以下であり、好ましくは１ｎｍ以上６０μｍ以下、より好ましくは１ｎｍ以上１０μｍ以下である。層（ＳL2）の厚みが厚すぎると、後の加工時の熱でカールしやすくなる場合がある。
【0019】
層（ＳL2）が、前記群（Ｘ１）から選択される少なくとも１種から形成される層を有する場合、層（ＳL2）は表面硬度を有するハードコート層（ｈｃ）として機能することができ、第一基材（ＳL）に耐擦傷性を付与することができる。ハードコート層（ｈｃ）の硬度は通常、鉛筆硬度でＢ以上であり、好ましくはＨＢ以上、更に好ましくはＨ以上、ことさら好ましくは２Ｈ以上である。層（ＳL2）がハードコート層（ｈｃ）を含む場合、すなわち層（ＳL2）がハードコート層の機能を有する場合、ハードコート層（ｈｃ）は単層構造であってもよく、多層構造であってもよい。ハードコート層（ｈｃ）は、例えば前記した紫外線硬化型樹脂を含むことが好ましく、特にアクリル系樹脂又はシリコーン系樹脂を含むことが好ましく、高硬度を発現するためには、アクリル系樹脂を含むことが好ましい。また、第一基材（ＳL）と層（ｒ）の密着性が良好となる傾向が見られることから、エポキシ系樹脂を含むことも好ましい。なお、群（Ｘ１）を構成する活性エネルギー線硬化型樹脂及び熱硬化型の樹脂を形成する具体的な方法については、後述の表示装置の欄で説明するが、例えば、活性エネルギー線或いは熱エネルギーを照射して架橋構造を形成する反応性材料を含む組成物を層（ＳL1）上に塗布し、硬化することによって、層（ＳL2）を形成できる。なお、後述する帯電防止剤（ＡＳ）が層（ＳL2）に含まれる場合、上記反応性材料を含む組成物に帯電防止剤（ＡＳ）を添加した組成物を使用すればよい。
【0020】
層（ＳL2）がハードコート層（ｈｃ）を含む場合、ハードコート層（ｈｃ）は添加剤を含んでいてもよい。添加剤は限定されることはなく、無機系微粒子、有機系微粒子、又はこれらの混合物が挙げられる。添加剤としては、紫外線吸収剤、シリカ、アルミナ等の金属酸化物、ポリオルガノシロキサン等の無機フィラーを挙げることができる。無機フィラーを含むことによって、第一基材（ＳL）と層（ｒ）との密着性を向上できる。ハードコート層（ｈｃ）の厚みは、例えば１μｍ以上が好ましく、より好ましくは１．２μｍ以上であり、更に好ましくは１．４μｍ以上であり、また１００μｍ以下が好ましく、より好ましくは５０μｍ以下であり、更に好ましくは２０μｍ以下であり、一層好ましくは１０μｍ以下である。前記ハードコート層（ｈｃ）の厚みが１μｍ以上の場合、十分な耐擦傷性を確保することができ、１００μｍ以下の場合、耐屈曲性を確保でき、その結果硬化収縮によるカール発生の抑制が可能となる。
【0021】
層（ＳL2）が、前記群（Ｘ２）から選択される少なくとも１種から形成される層を有する場合、層（ＳL2）は入射した光の反射を防止する反射防止層（ａｒ）として機能することができる。層（ＳL2）が反射防止層（ａｒ）を含む場合、反射防止層（ａｒ）は、３８０～７８０ｎｍの可視光領域において、反射率が５．０％以下程度に低減された反射特性を示す層であることが好ましい。反射防止層（ａｒ）は、シリカから形成される層を含むことが好ましい。
【0022】
反射防止層（ａｒ）の構造は特に限定されず、単層構造であってもよいし、多層構造であってもよい。多層構造の場合、低屈折率層と高屈折率層とを交互に積層した構造が好ましく、積層数は合計で２～２０であることが好ましい。高屈折率層を構成する材料としては、チタン酸化物、ジルコニウム酸化物、アルミニウム酸化物、ニオブ酸化物、タンタル酸化物又はランタン酸化物が挙げられ、低屈折率層を構成する材料としてはシリカが挙げられる。多層構造の反射防止層としては、ＳｉＯ2（シリカ）とＺｒＯ2、又は、ＳｉＯ2とＮｂ2Ｏ5が交互に積層され、層（ＳL1）と反対側の最外層がＳｉＯ2である構造が好ましい。反射防止層（ａｒ）は、例えば蒸着法によって形成することができる。反射防止層（ａｒ）の厚みは、例えば０．５ｎｍ以上、１０００ｎｍ以下である。
【0023】
層（ＳL2）は、ハードコート層（ｈｃ）を含んでいてもよく、反射防止層（ａｒ）を含んでいてもよく、ハードコート層（ｈｃ）及び反射防止層（ａｒ）の両方を含んでいてもよいが、少なくともハードコート層（ｈｃ）を含むことが好ましく、層（ＳL2）がハードコート層であることが好ましい。層（ＳL2）が、ハードコート層（ｈｃ）及び反射防止層（ａｒ）の両方を含む場合、反射防止層（ａｒ）が層（ｒ）側に積層されていることが好ましい。
【0024】
層（ＳL1）及び層（ＳL2）の組み合わせとしては、層（ＳL2）が層（ＳL1）よりも層（ｒ）側に位置し、層（ＳL1）は樹脂（特に、アクリル樹脂又はポリエステル樹脂を含み、特にポリエチレンテレフタレートを含む）であり、層（ＳL2）はアクリル系ハードコート層であることが好ましい。
【0025】
第一基材（ＳL）は導電性を有していることも好ましく、第一基材（ＳL）に帯電防止剤（ＡＳ）が含有されることにより導電性を発揮することが好ましい。第一基材（ＳL）が帯電防止剤（ＡＳ）を含み、第一基材（ＳL）が２層以上の複層である場合、帯電防止剤（ＡＳ）はいずれかの層に含まれていればよく、全ての層に含まれていてもよい。特に第一基材（ＳL）が、前記層（ＳL1）上に、前記層（ＳL1）が設けられた複層構造である場合、帯電防止剤（ＡＳ）は層（ＳL1）に含まれていてもよいし、層（ＳL2）に含まれていてもよく、特に層（ＳL2）に含まれていることが好ましい。帯電防止剤（ＡＳ）が層（ＳL2）に含まれている場合、層（ＳL2）がハードコート層であることが好ましく、このハードコート層がアクリル系樹脂、シリコーン系樹脂及びエポキシ系樹脂よりなる群から選択される少なくとも１種であることがより好ましい。
【0026】
帯電防止剤（ＡＳ）としては、例えば界面活性剤、導電性高分子、導電性粒子、第４級アンモニウム塩などのイオン性化合物（すなわち、塩）、アクセプター及び／又はドナーが導入された共役系高分子などが挙げられる。これらの帯電防止剤は、それぞれ１種又は２種以上を混合して使用される。
【0027】
２．フッ素元素を含む層（ｒ）
フッ素元素を含む層（ｒ）は、フッ素元素を含む有機ケイ素化合物（Ａ）の硬化層であることが好ましい。層（ｒ）が有機ケイ素化合物（Ａ）の硬化層であることにより、薄膜であっても良好な撥水性を付与することができる（以下、層（ｒ）を、「撥水層」と呼ぶ場合がある）。良好な撥水性を有すると、指紋、手垢、埃などの汚染物質が付着しにくく、また除去しやすい傾向にあり、防汚性を発揮でき、撥水層は防汚層としても機能し得る。前記有機ケイ素化合物（Ａ）は、フッ素元素を含み、かつ連結基を介して又は連結基を介さずに加水分解性基又はヒドロキシ基が結合しているケイ素原子を有する有機ケイ素化合物（Ａ）であることが好ましい。有機ケイ素化合物（Ａ）の硬化層は、通常、有機ケイ素化合物（Ａ）の混合組成物を塗布して硬化させることにより得られ、すなわち層（ｒ）は、有機ケイ素化合物（Ａ）の混合組成物の硬化層であるといえる。以下、有機ケイ素化合物（Ａ）の混合組成物を、撥水層形成用組成物という場合がある。
フッ素元素を含む層（ｒ）は、フッ素元素を含む有機ケイ素化合物（Ａ）の硬化層であることが好ましい。層（ｒ）が有機ケイ素化合物（Ａ）の硬化層であることにより、薄膜であっても良好な撥水性を付与することができる（以下、層（ｒ）を、「撥水層」と呼ぶ場合がある）。良好な撥水性を有すると、指紋、手垢、埃などの汚染物質が付着しにくく、また除去しやすい傾向にあり、防汚性を発揮でき、撥水層は防汚層としても機能し得る。前記有機ケイ素化合物（Ａ）は、フッ素元素を含み、かつ連結基を介して又は連結基を介さずに加水分解性基又はヒドロキシ基が結合しているケイ素原子を有する有機ケイ素化合物（Ａ）であることが好ましい。有機ケイ素化合物（Ａ）の硬化層は、通常、有機ケイ素化合物（Ａ）の混合組成物を塗布して硬化させることにより得られ、すなわち層（ｒ）は、有機ケイ素化合物（Ａ）の混合組成物の硬化層であるといえる。以下、有機ケイ素化合物（Ａ）の混合組成物を、撥水層形成用組成物という場合がある。
【0028】
層（ｒ）が、フッ素元素を含み、かつ連結基を介して又は連結基を介さずに加水分解性基又はヒドロキシ基が結合しているケイ素原子を有する有機ケイ素化合物（Ａ）の混合組成物の硬化層である場合、層（ｒ）は有機ケイ素化合物（Ａ）由来の構造を有している。有機ケイ素化合物（Ａ）はケイ素原子に結合した（連結基を介して結合していてもよい）加水分解性基又はヒドロキシ基を有しており、硬化の際には、有機ケイ素化合物（Ａ）が有する－ＳｉＯＨ基又は加水分解で生じた有機ケイ素化合物（Ａ）の－ＳｉＯＨ基（ＳｉとＯＨが連結基を介して結合していてもよい）が、有機ケイ素化合物（Ａ）由来の－ＳｉＯＨ基（ＳｉとＯＨが連結基を介して結合していてもよい）、他の化合物由来の－ＳｉＯＨ基、又は積層体において層（ｒ）が形成される面（好ましくはハードコート層又は層（ｃ））の活性水素（水酸基など）と脱水縮合する。そのため、層（ｒ）は、有機ケイ素化合物（Ａ）由来の縮合構造を有することが好ましい。
【0029】
層（ｒ）の厚みは、５０ｎｍ以下であることが好ましく、より好ましくは２０ｎｍ以下であり、更に好ましくは１５ｎｍ以下であり、一層好ましくは１０ｎｍ以下であり、また１ｎｍ以上が好ましく、より好ましくは４ｎｍ以上である。層（ｒ）の厚みは、特に４ｎｍ～１５ｎｍが好ましく、４ｎｍ～１０ｎｍが最も好ましい。層（ｒ）の厚みが厚すぎると外観が悪化し（白靄）、厚みが薄すぎると密着性が低下する傾向がある。
【0030】
層（ｒ）の厚みは、層（ｒ）形成用組成物中の固形分の濃度や、層（ｒ）形成用組成物の塗布条件により調整することができる。層（ｒ）の厚みは、エリプソメーターやＸ線反射測定、断面方向の走査型透過電子顕微鏡（ＳＴＥＭ）測定、Ｘ線光電子分光法（ＸＰＳ）、触針式薄膜段差計等により測定することができ、各層の材質や厚みに応じて測定方法を適宜選択することができる。
【0031】
断面方向のＳＴＥＭ測定では、積層体を第一基材（ＳL）の厚み方向に平行な面を含むように薄片化して超薄切片を切り出し、該超薄切片の断面を走査型透過電子顕微鏡（ＳＴＥＭ）で観察することにより、層（ｒ）の厚みを測定することができる。
積層体の薄片化の方法としては、厚み１００ｎｍ以下の超薄切片に加工できればよく、集束イオンビーム加工法、ウルトラミクロトーム法、クライオウルトラミクロトーム加工法等が挙げられる。例えば集束イオンビーム加工法を用いる場合、イオン源はＧａであることが好ましく、加速電圧は３０ｋＶ程度とすることが好ましい。
ＳＴＥＭ観察の際は、加速電圧は２０ｋＶ～３０ｋＶ、電流値は５０ｐＡ～１００ｐＡ、倍率は５０万～１００万倍とすることが好ましい。なお、ＳＴＥＭ観察において、層（ｒ）と外界との界面を分かりやすくするために、薄片化の前に、層（ｒ）の上面を、フェルトペン等にて黒塗りしてから測定してもよい。
積層体の薄片化の方法としては、厚み１００ｎｍ以下の超薄切片に加工できればよく、集束イオンビーム加工法、ウルトラミクロトーム法、クライオウルトラミクロトーム加工法等が挙げられる。例えば集束イオンビーム加工法を用いる場合、イオン源はＧａであることが好ましく、加速電圧は３０ｋＶ程度とすることが好ましい。
ＳＴＥＭ観察の際は、加速電圧は２０ｋＶ～３０ｋＶ、電流値は５０ｐＡ～１００ｐＡ、倍率は５０万～１００万倍とすることが好ましい。なお、ＳＴＥＭ観察において、層（ｒ）と外界との界面を分かりやすくするために、薄片化の前に、層（ｒ）の上面を、フェルトペン等にて黒塗りしてから測定してもよい。
【0032】
後述の実施例に記載のように、第一基材（ＳL）の材質としてガラスを使用した積層体サンプルから得られた検量線に基づいて、層（ｒ）の厚みを算出することもできる。具体的には、第一基材（ＳL）の材質としてガラスを使用し、層（ｃ）（後述する）の厚みが同じで、層（ｒ）の厚みが異なる積層体サンプルを複数（好ましくは３以上）用意し、エリプソメーターを用いて層（ｒ）の厚みを各々測定する。また該サンプルに対してＸＰＳ測定を行い、層（ｒ）に由来する特定の元素量と層（ｃ）に由来する特定の元素量の比を求め、層（ｒ）の厚みに対する上記比の検量線を作成する。そして、実際に得られた積層体についてＸＰＳ測定を行うことにより、層（ｒ）に由来する特定の元素量と層（ｃ）に由来する特定の元素量の比を求め、上記の検量線に従って、層（ｒ）の厚みを算出することができる。
【0033】
なお、第一基材（ＳL）の材質が有機系材料の場合、第一基材（ＳL）と層（ｒ）との屈折率差が小さいため、エリプソメーターによる膜厚の測定が難しい場合がある。その際は、断面方向のＳＴＥＭ測定や上述の検量線を用いた測定を行えばよい。
【0034】
２－１．有機ケイ素化合物（Ａ）
好ましい態様において、有機ケイ素化合物（Ａ）は、連結基を介して又は連結基を介さずに加水分解性基又はヒドロキシ基（以下、両者を合わせて、反応性基（ｈ３）と呼ぶ）が結合しているケイ素原子を有する化合物である。前記反応性基（ｈ３）は、加水分解・脱水縮合反応を通じて、有機ケイ素化合物（Ａ）同士；有機ケイ素化合物（Ａ）と他の単量体；又は有機ケイ素化合物（Ａ）と撥水層形成用組成物が塗布される面の活性水素（水酸基など）；と共に縮合反応を通じて結合する作用を有する。前記加水分解性基としては、アルコキシ基、ハロゲン原子、シアノ基、アセトキシ基、イソシアネート基等が挙げられる。前記反応性基（ｈ３）は、アルコキシ基又はハロゲン原子であることが好ましく、炭素数が１～４であるアルコキシ基又は塩素原子であることがより好ましく、メトキシ基又はエトキシ基が特に好ましい。
好ましい態様において、有機ケイ素化合物（Ａ）は、連結基を介して又は連結基を介さずに加水分解性基又はヒドロキシ基（以下、両者を合わせて、反応性基（ｈ３）と呼ぶ）が結合しているケイ素原子を有する化合物である。前記反応性基（ｈ３）は、加水分解・脱水縮合反応を通じて、有機ケイ素化合物（Ａ）同士；有機ケイ素化合物（Ａ）と他の単量体；又は有機ケイ素化合物（Ａ）と撥水層形成用組成物が塗布される面の活性水素（水酸基など）；と共に縮合反応を通じて結合する作用を有する。前記加水分解性基としては、アルコキシ基、ハロゲン原子、シアノ基、アセトキシ基、イソシアネート基等が挙げられる。前記反応性基（ｈ３）は、アルコキシ基又はハロゲン原子であることが好ましく、炭素数が１～４であるアルコキシ基又は塩素原子であることがより好ましく、メトキシ基又はエトキシ基が特に好ましい。
【0035】
有機ケイ素化合物（Ａ）は、前記ケイ素原子に加えて、フルオロポリエーテル構造を含むことが好ましい。前記フルオロポリエーテル構造は、フルオロオキシアルキレン基ともいうことができ、両端が酸素原子である構造を意味する。有機ケイ素化合物（Ａ）が、フルオロポリエーテル構造を含むことにより、撥水性又は撥油性などの撥液性がより良好となる。フルオロポリエーテル構造は、パーフルオロポリエーテル構造であることが好ましい。フルオロポリエーテル構造の最も長い直鎖部分に含まれる炭素数は、例えば５以上であることが好ましく、１０以上がより好ましく、更により好ましくは２０以上である。前記炭素数の上限は特に限定されず、例えば２００であり、好ましくは１５０である。前記有機ケイ素化合物（Ａ）１分子中のケイ素原子の数は１～１０であることが好ましく、より好ましくは１～６である。
【0036】
有機ケイ素化合物（Ａ）がフルオロポリエーテル構造とケイ素原子と反応性基（ｈ３）を含む態様において、フルオロポリエーテル構造の酸素原子を結合手側の末端に有する１価の基（以下、ＦＰＥ基と呼ぶ）と、ケイ素原子が、連結基を介して又は連結基を介さずに結合しており、かつ、ケイ素原子と反応性基（ｈ３）が連結基を介して又は連結基を介さずに結合していることが好ましい。前記ＦＰＥ基とケイ素原子が連結基を介して結合している場合、前記反応性基（ｈ３）が連結基を介して又は連結基を介さずに結合したケイ素原子は、有機ケイ素化合物（Ａ）の一分子中に１又は複数存在していてもよく、その数は例えば１以上、１０以下である。
【0037】
前記ＦＰＥ基は、直鎖状であってもよいし、側鎖を有していてもよく、側鎖を有していることが好ましい。側鎖を有している態様として特に、ＦＰＥ基中のフルオロポリエーテル構造が側鎖を有していることが好ましい。側鎖としてフルオロアルキル基を有することが好ましく、該フルオロアルキル基はより好ましくはパーフルオロアルキル基であり、更に好ましくはトリフルオロメチル基である。前記ＦＰＥ基とケイ素原子を連結する連結基の炭素数は、例えば１以上、２０以下であり、好ましくは２以上、１５以下である。前記したＦＰＥ基は、末端にフルオロアルキル基を有する含フッ素基とパーフルオロポリエーテル構造が直接結合した基であることが好ましい。含フッ素基は、フルオロアルキル基であってもよく、フルオロアルキル基に２価の芳香族炭化水素基等の連結基が結合した基であってもよいが、フルオロアルキル基であることが好ましい。該フルオロアルキル基は、パーフルオロアルキル基であることが好ましく、炭素数が１～２０のパーフルオロアルキル基であることがより好ましい。
【0038】
前記含フッ素基としては、例えば、ＣＦ3（ＣＦ2）p－（ｐは、例えば０～１９であり、好ましくは０～１０である）、ＣＦ3（ＣＦ2）m－（ＣＨ2）n－、ＣＦ3（ＣＦ2）m－Ｃ6Ｈ4－（ｍはいずれも１～１０であり、好ましくは３～７であり、ｎは１～５であり、好ましくは２～４である）が挙げられ、ＣＦ3（ＣＦ2）p－又はＣＦ3（ＣＦ2）m－（ＣＨ2）n－が好ましい。
【0039】
前記反応性基（ｈ３）は連結基を介してケイ素原子に結合していてもよいし、連結基を介さずに直接ケイ素原子に結合していてもよく、直接ケイ素原子に結合していることが好ましい。１つのケイ素原子に結合する反応性基（ｈ３）の数は、１つ以上であればよく、２又は３であってもよいが、２又は３であるのが好ましく、３であるのが特に好ましい。１つのケイ素原子に結合する反応性基（ｈ３）の数が２以下の場合、残りの結合手には、反応性基（ｈ３）以外の１価の基が結合していてもよく、例えば、アルキル基（特に炭素数が１～４のアルキル基）、Ｈ、ＮＣＯなどが結合できる。
【0040】
前記有機ケイ素化合物（Ａ）は、下記式（ａ１）で表される化合物であることが好ましい。
【0041】
【化1】
【0042】
上記式（ａ１）中、
Ｒｆa26、Ｒｆa27、Ｒｆa28、及びＲｆa29は、それぞれ独立して、１個以上の水素原子がフッ素原子に置換された炭素数１～２０のフッ化アルキル基又はフッ素原子であり、Ｒｆa26が複数存在する場合は複数のＲｆa26がそれぞれ異なっていてもよく、Ｒｆa27が複数存在する場合は複数のＲｆa27がそれぞれ異なっていてもよく、Ｒｆa28が複数存在する場合は複数のＲｆa28がそれぞれ異なっていてもよく、Ｒｆa29が複数存在する場合は複数のＲｆa29がそれぞれ異なっていてもよく、
Ｒ25及びＲ26は、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１～４のアルキル基、又は１個以上の水素原子がハロゲン原子に置換された炭素数１～４のハロゲン化アルキル基であり、一つの炭素原子に結合するＲ25及びＲ26の少なくとも一方は水素原子であり、Ｒ25が複数存在する場合は複数のＲ25がそれぞれ異なっていてもよく、Ｒ26が複数存在する場合は複数のＲ26がそれぞれ異なっていてもよく、
Ｒ27及びＲ28は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数１～４のアルキル基、又は単結合であり、Ｒ27が複数存在する場合は複数のＲ27がそれぞれ異なっていてもよく、Ｒ28が複数存在する場合は複数のＲ28がそれぞれ異なっていてもよく、
Ｒ29及びＲ30は、それぞれ独立して、炭素数１～２０のアルキル基であり、Ｒ29が複数存在する場合は複数のＲ29がそれぞれ異なっていてもよく、Ｒ30が複数存在する場合は複数のＲ30がそれぞれ異なっていてもよく、
Ｍ7は、－Ｏ－、－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－、－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－、－ＮＲ－、－ＮＲＣ（＝Ｏ）－、－Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ－、－ＣＨ＝ＣＨ－、又は－Ｃ6Ｈ4－（フェニレン基）であり、前記Ｒは水素原子、炭素数１～４のアルキル基又は炭素数１～４の含フッ素アルキル基であり、Ｍ7が複数存在する場合は複数のＭ7がそれぞれ異なっていてもよく、
Ｍ5は、水素原子、フッ素原子又は炭素数１～４のアルキル基であり、Ｍ5が複数存在する場合は複数のＭ5がそれぞれ異なっていてもよく、
Ｍ10は、水素原子、又はハロゲン原子であり、
Ｍ8及びＭ9は、それぞれ独立して、加水分解性基、ヒドロキシ基、又は－（ＣＨ2）e7－Ｓｉ（ＯＲ14）3であり、ｅ７は１～５であり、Ｒ14はメチル基又はエチル基であり、Ｍ8が複数存在する場合は複数のＭ8がそれぞれ異なっていてもよく、Ｍ9が複数存在する場合は複数のＭ9がそれぞれ異なっていてもよく、
ｆ２１、ｆ２２、ｆ２３、ｆ２４、及びｆ２５はそれぞれ独立して０～６００の整数であり、ｆ２１、ｆ２２、ｆ２３、ｆ２４、及びｆ２５の合計値は１３以上であり、
ｆ２６は、０～２０の整数であり、
ｆ２７は、それぞれ独立して、０～２の整数であり、
ｇ２１は１～３の整数、ｇ２２は０～２の整数、ｇ２１＋ｇ２２≦３であり、
ｇ３１は１～３の整数、ｇ３２は０～２の整数、ｇ３１＋ｇ３２≦３であり、
Ｍ10－、－Ｓｉ（Ｍ９）ｇ３１（Ｈ）ｇ３２（Ｒ３０）３－ｇ３１－ｇ３２、ｆ２１個の－｛Ｃ（Ｒ25）（Ｒ26）｝－単位（Ｕa1）、ｆ２２個の－｛Ｃ（Ｒｆa26）（Ｒｆa27）｝－単位（Ｕa2）、ｆ２３個の－｛Ｓｉ（Ｒ27）（Ｒ28）｝－単位（Ｕa3）、ｆ２４個の－｛Ｓｉ（Ｒｆa28）（Ｒｆa29）｝－単位（Ｕa4）、ｆ２５個の－Ｍ7－単位（Ｕa5）、及びｆ２６個の－［Ｃ（Ｍ５）｛（ＣＨ２）ｆ２７－Ｓｉ（Ｍ８）ｇ２１（Ｈ）ｇ２２（Ｒ２９）３－ｇ２１－ｇ２２｝］－単位（Ｕａ６）は、Ｍ10－が式（ａ１）における一方の末端であり、－Ｓｉ（Ｍ９）ｇ３１（Ｈ）ｇ３２（Ｒ３０）３－ｇ３１－ｇ３２が他方の末端であり、少なくとも一部でフルオロポリエーテル構造を形成する順で並び、－Ｏ－が－Ｏ－と連続しない限り、それぞれの単位が任意の順で並んで結合する。任意の順で並んで結合するとは、各繰り返し単位が連続して上記式（ａ１）に記載の通りの順に並ぶ意味に限定されないことを意味し、またｆ２１個の単位（Ｕa1）が連続して結合している必要はなく、途中に他の単位を介して結合していてもよく、合計でｆ２１個あればよいことを意味する。ｆ２２～ｆ２６で括られる単位（Ｕa2）～（Ｕa6）についても同様である。
Ｒｆa26、Ｒｆa27、Ｒｆa28、及びＲｆa29は、それぞれ独立して、１個以上の水素原子がフッ素原子に置換された炭素数１～２０のフッ化アルキル基又はフッ素原子であり、Ｒｆa26が複数存在する場合は複数のＲｆa26がそれぞれ異なっていてもよく、Ｒｆa27が複数存在する場合は複数のＲｆa27がそれぞれ異なっていてもよく、Ｒｆa28が複数存在する場合は複数のＲｆa28がそれぞれ異なっていてもよく、Ｒｆa29が複数存在する場合は複数のＲｆa29がそれぞれ異なっていてもよく、
Ｒ25及びＲ26は、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１～４のアルキル基、又は１個以上の水素原子がハロゲン原子に置換された炭素数１～４のハロゲン化アルキル基であり、一つの炭素原子に結合するＲ25及びＲ26の少なくとも一方は水素原子であり、Ｒ25が複数存在する場合は複数のＲ25がそれぞれ異なっていてもよく、Ｒ26が複数存在する場合は複数のＲ26がそれぞれ異なっていてもよく、
Ｒ27及びＲ28は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数１～４のアルキル基、又は単結合であり、Ｒ27が複数存在する場合は複数のＲ27がそれぞれ異なっていてもよく、Ｒ28が複数存在する場合は複数のＲ28がそれぞれ異なっていてもよく、
Ｒ29及びＲ30は、それぞれ独立して、炭素数１～２０のアルキル基であり、Ｒ29が複数存在する場合は複数のＲ29がそれぞれ異なっていてもよく、Ｒ30が複数存在する場合は複数のＲ30がそれぞれ異なっていてもよく、
Ｍ7は、－Ｏ－、－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－、－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－、－ＮＲ－、－ＮＲＣ（＝Ｏ）－、－Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ－、－ＣＨ＝ＣＨ－、又は－Ｃ6Ｈ4－（フェニレン基）であり、前記Ｒは水素原子、炭素数１～４のアルキル基又は炭素数１～４の含フッ素アルキル基であり、Ｍ7が複数存在する場合は複数のＭ7がそれぞれ異なっていてもよく、
Ｍ5は、水素原子、フッ素原子又は炭素数１～４のアルキル基であり、Ｍ5が複数存在する場合は複数のＭ5がそれぞれ異なっていてもよく、
Ｍ10は、水素原子、又はハロゲン原子であり、
Ｍ8及びＭ9は、それぞれ独立して、加水分解性基、ヒドロキシ基、又は－（ＣＨ2）e7－Ｓｉ（ＯＲ14）3であり、ｅ７は１～５であり、Ｒ14はメチル基又はエチル基であり、Ｍ8が複数存在する場合は複数のＭ8がそれぞれ異なっていてもよく、Ｍ9が複数存在する場合は複数のＭ9がそれぞれ異なっていてもよく、
ｆ２１、ｆ２２、ｆ２３、ｆ２４、及びｆ２５はそれぞれ独立して０～６００の整数であり、ｆ２１、ｆ２２、ｆ２３、ｆ２４、及びｆ２５の合計値は１３以上であり、
ｆ２６は、０～２０の整数であり、
ｆ２７は、それぞれ独立して、０～２の整数であり、
ｇ２１は１～３の整数、ｇ２２は０～２の整数、ｇ２１＋ｇ２２≦３であり、
ｇ３１は１～３の整数、ｇ３２は０～２の整数、ｇ３１＋ｇ３２≦３であり、
Ｍ10－、－Ｓｉ（Ｍ９）ｇ３１（Ｈ）ｇ３２（Ｒ３０）３－ｇ３１－ｇ３２、ｆ２１個の－｛Ｃ（Ｒ25）（Ｒ26）｝－単位（Ｕa1）、ｆ２２個の－｛Ｃ（Ｒｆa26）（Ｒｆa27）｝－単位（Ｕa2）、ｆ２３個の－｛Ｓｉ（Ｒ27）（Ｒ28）｝－単位（Ｕa3）、ｆ２４個の－｛Ｓｉ（Ｒｆa28）（Ｒｆa29）｝－単位（Ｕa4）、ｆ２５個の－Ｍ7－単位（Ｕa5）、及びｆ２６個の－［Ｃ（Ｍ５）｛（ＣＨ２）ｆ２７－Ｓｉ（Ｍ８）ｇ２１（Ｈ）ｇ２２（Ｒ２９）３－ｇ２１－ｇ２２｝］－単位（Ｕａ６）は、Ｍ10－が式（ａ１）における一方の末端であり、－Ｓｉ（Ｍ９）ｇ３１（Ｈ）ｇ３２（Ｒ３０）３－ｇ３１－ｇ３２が他方の末端であり、少なくとも一部でフルオロポリエーテル構造を形成する順で並び、－Ｏ－が－Ｏ－と連続しない限り、それぞれの単位が任意の順で並んで結合する。任意の順で並んで結合するとは、各繰り返し単位が連続して上記式（ａ１）に記載の通りの順に並ぶ意味に限定されないことを意味し、またｆ２１個の単位（Ｕa1）が連続して結合している必要はなく、途中に他の単位を介して結合していてもよく、合計でｆ２１個あればよいことを意味する。ｆ２２～ｆ２６で括られる単位（Ｕa2）～（Ｕa6）についても同様である。
【0043】
また、Ｒ27及びＲ28の少なくとも一方が単結合である場合には、ｆ２３で括られる単位の単結合部分と、Ｍ7における－Ｏ－とが、繰り返し結合して、分岐鎖状又は環状のシロキサン結合を形成することができる。
【0044】
Ｒｆa26、Ｒｆa27、Ｒｆa28、及びＲｆa29は、好ましくはそれぞれ独立して、フッ素原子、又は１個以上の水素原子がフッ素原子に置換された炭素数１～２のフッ化アルキル基であることが好ましく、フッ素原子、又は全ての水素原子がフッ素原子に置換された炭素数１～２のフッ化アルキル基であることがより好ましい。
Ｒ25及びＲ26は、好ましくはそれぞれ独立して、水素原子、又はフッ素原子であり、一つの炭素原子に結合するＲ25及びＲ26の少なくとも一方は水素原子であり、より好ましくはいずれも水素原子である。
Ｒ27及びＲ28は、好ましくはそれぞれ独立して、水素原子、又は炭素数１～２のアルキル基であり、より好ましくはすべて水素原子である。
Ｒ29及びＲ30は、炭素数１～５のアルキル基が好ましく、より好ましくは炭素数１～２のアルキル基である。
Ｍ7は、好ましくは、－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－、－Ｏ－、－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－であり、より好ましくはすべて－Ｏ－である。
Ｍ5は、好ましくは水素原子又は炭素数１～２のアルキル基であり、より好ましくはすべて水素原子である。
Ｍ10は、好ましくはフッ素原子である。
Ｍ8及びＭ9は、好ましくはそれぞれ独立して、アルコキシ基、ハロゲン原子であり、メトキシ基、エトキシ基、塩素原子がより好ましく、特にメトキシ基、又はエトキシ基が好ましい。
好ましくは、ｆ２１、ｆ２３、及びｆ２４は、それぞれｆ２２の１／２以下であり、より好ましくは１／４以下であり、更に好ましくはｆ２３又はｆ２４は０であり、特に好ましくはｆ２３及びｆ２４は０である。
ｆ２５は、好ましくはｆ２１、ｆ２２、ｆ２３、ｆ２４の合計値の１／５以上であり、ｆ２１、ｆ２２、ｆ２３、ｆ２４の合計値以下である。
ｆ２１は０～２０が好ましく、より好ましくは０～１５であり、更に好ましくは１～１５であり、特に２～１０が好ましい。ｆ２２は、５～６００が好ましく、８～６００がより好ましく、更に好ましくは２０～２００であり、一層好ましくは３０～２００であり、より一層好ましくは３５～１８０であり、最も好ましくは４０～１８０である。ｆ２３及びｆ２４は、０～５が好ましく、より好ましくは０～３であり、更に好ましくは０である。ｆ２５は４～６００が好ましく、より好ましくは４～２００であり、更に好ましくは１０～２００であり、一層好ましくは３０～６０である。ｆ２１、ｆ２２、ｆ２３、ｆ２４、ｆ２５の合計値は、２０～６００が好ましく、２０～２５０がより好ましく、５０～２３０が更に好ましい。ｆ２６は、好ましくは０～１８であり、より好ましくは０～１５であり、更に好ましくは０～１０であり、一層好ましくは０～５である。ｆ２７は、好ましくは０～１であり、より好ましくは０である。ｇ２１及びｇ３１は、それぞれ独立して２～３が好ましく、３がより好ましい。ｇ２２及びｇ３２は、それぞれ独立して０又は１が好ましく、０がより好ましい。ｇ２１＋ｇ２２及びｇ３１＋ｇ３２は３であることが好ましい。
Ｒ25及びＲ26は、好ましくはそれぞれ独立して、水素原子、又はフッ素原子であり、一つの炭素原子に結合するＲ25及びＲ26の少なくとも一方は水素原子であり、より好ましくはいずれも水素原子である。
Ｒ27及びＲ28は、好ましくはそれぞれ独立して、水素原子、又は炭素数１～２のアルキル基であり、より好ましくはすべて水素原子である。
Ｒ29及びＲ30は、炭素数１～５のアルキル基が好ましく、より好ましくは炭素数１～２のアルキル基である。
Ｍ7は、好ましくは、－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－、－Ｏ－、－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－であり、より好ましくはすべて－Ｏ－である。
Ｍ5は、好ましくは水素原子又は炭素数１～２のアルキル基であり、より好ましくはすべて水素原子である。
Ｍ10は、好ましくはフッ素原子である。
Ｍ8及びＭ9は、好ましくはそれぞれ独立して、アルコキシ基、ハロゲン原子であり、メトキシ基、エトキシ基、塩素原子がより好ましく、特にメトキシ基、又はエトキシ基が好ましい。
好ましくは、ｆ２１、ｆ２３、及びｆ２４は、それぞれｆ２２の１／２以下であり、より好ましくは１／４以下であり、更に好ましくはｆ２３又はｆ２４は０であり、特に好ましくはｆ２３及びｆ２４は０である。
ｆ２５は、好ましくはｆ２１、ｆ２２、ｆ２３、ｆ２４の合計値の１／５以上であり、ｆ２１、ｆ２２、ｆ２３、ｆ２４の合計値以下である。
ｆ２１は０～２０が好ましく、より好ましくは０～１５であり、更に好ましくは１～１５であり、特に２～１０が好ましい。ｆ２２は、５～６００が好ましく、８～６００がより好ましく、更に好ましくは２０～２００であり、一層好ましくは３０～２００であり、より一層好ましくは３５～１８０であり、最も好ましくは４０～１８０である。ｆ２３及びｆ２４は、０～５が好ましく、より好ましくは０～３であり、更に好ましくは０である。ｆ２５は４～６００が好ましく、より好ましくは４～２００であり、更に好ましくは１０～２００であり、一層好ましくは３０～６０である。ｆ２１、ｆ２２、ｆ２３、ｆ２４、ｆ２５の合計値は、２０～６００が好ましく、２０～２５０がより好ましく、５０～２３０が更に好ましい。ｆ２６は、好ましくは０～１８であり、より好ましくは０～１５であり、更に好ましくは０～１０であり、一層好ましくは０～５である。ｆ２７は、好ましくは０～１であり、より好ましくは０である。ｇ２１及びｇ３１は、それぞれ独立して２～３が好ましく、３がより好ましい。ｇ２２及びｇ３２は、それぞれ独立して０又は１が好ましく、０がより好ましい。ｇ２１＋ｇ２２及びｇ３１＋ｇ３２は３であることが好ましい。
【0045】
上記式（ａ１）において、Ｒ25及びＲ26がいずれも水素原子であり、Ｒｆa26及びＲｆa27がフッ素原子又は全ての水素原子がフッ素原子に置換された炭素数１～２のフッ化アルキル基であり、Ｍ7が全て－Ｏ－であり、Ｍ8及びＭ9が全てメトキシ基、エトキシ基又は塩素原子（特にメトキシ基又はエトキシ基）であり、Ｍ5が水素原子であり、Ｍ10がフッ素原子であり、ｆ２１が１～１０（好ましくは２～７）、ｆ２２が３０～２００（より好ましくは４０～１８０）、ｆ２３及びｆ２４が０、ｆ２５が３０～６０、ｆ２６が０～６であり、ｆ２７が０～１（特に好ましくは０）であり、ｇ２１及びｇ３１が１～３（いずれも好ましくは２以上であり、より好ましくは３）であり、ｇ２２及びｇ３２が０～２（いずれも好ましくは０又は１であり、より好ましくは０）であり、ｇ２１＋ｇ２２及びｇ３１＋ｇ３２が３である化合物（ａ１１）を有機ケイ素化合物（Ａ）として用いることが好ましい。
【0046】
有機ケイ素化合物（Ａ）は下記式（ａ２）で表されることが好ましい。
【0047】
【化2】
【0048】
上記式（ａ２）中、
Ｒｆa1は、両端が酸素原子である２価のフルオロポリエーテル構造であり、
Ｒ11、Ｒ12、及びＲ13は、それぞれ独立して炭素数１～２０のアルキル基であり、Ｒ11が複数存在する場合は複数のＲ11がそれぞれ異なっていてもよく、Ｒ12が複数存在する場合は複数のＲ12がそれぞれ異なっていてもよく、Ｒ13が複数存在する場合は複数のＲ13がそれぞれ異なっていてもよく、
Ｅ1、Ｅ2、Ｅ3、Ｅ4、及びＥ5は、それぞれ独立して水素原子又はフッ素原子であり、
Ｅ1が複数存在する場合は複数のＥ1がそれぞれ異なっていてもよく、Ｅ2が複数存在する場合は複数のＥ2がそれぞれ異なっていてもよく、Ｅ3が複数存在する場合は複数のＥ3がそれぞれ異なっていてもよく、Ｅ4が複数存在する場合は複数のＥ4がそれぞれ異なっていてもよく、Ｅ5が複数存在する場合は複数のＥ5がそれぞれ異なっていてもよく、
Ｇ1及びＧ2は、それぞれ独立して、シロキサン結合を有する２～１０価のオルガノシロキサン基であり、
Ｊ1、Ｊ2、及びＪ3は、それぞれ独立して、加水分解性基、ヒドロキシ基又は－（ＣＨ2）e7－Ｓｉ（ＯＲ14）3であり、ｅ７は１～５であり、Ｒ14はメチル基又はエチル基であり、Ｊ1が複数存在する場合は複数のＪ1がそれぞれ異なっていてもよく、Ｊ2が複数存在する場合は複数のＪ2がそれぞれ異なっていてもよく、Ｊ3が複数存在する場合は複数のＪ3がそれぞれ異なっていてもよく、
Ｌ1及びＬ2は、それぞれ独立して、酸素原子、窒素原子、ケイ素原子又はフッ素原子を含んでいてもよい炭素数１～１２の２価の連結基であって、－｛Ｃ（Ｒ25）（Ｒ26）｝－単位（Ｕa1）、－｛Ｃ（Ｒｆa26）（Ｒｆa27）｝－単位（Ｕa2）、－｛Ｓｉ（Ｒ27）（Ｒ28）｝－単位（Ｕa3）又は－Ｍ7－単位（Ｕa5）の一つ以上が任意の順で並んで結合した連結基であり（Ｒ25、Ｒ26、Ｒ27、Ｒ28、Ｒｆa26、Ｒｆa27、Ｍ7は上記式（ａ１）におけるものと同じ）、
ａ１０及びａ１４は、それぞれ独立して０又は１であり、
ａ１１及びａ１５は、それぞれ独立して０又は１であり、
ａ１２及びａ１６は、それぞれ独立して０～９であり、
ａ１３は、０～４であり、
ａ１１が０の時、又はａ１１が１であってＧ1が２価の時はｄ１１は１であり、ａ１１が１であってＧ1が３～１０価のときは、ｄ１１はＧ1の価数より一つ少ない数であり、
ａ１５が０の時、又はａ１５が１であってＧ2が２価の時はｄ１２が１であり、ａ１５が１であってＧ2が３～１０価のときは、ｄ１２はＧ2の価数より一つ少ない数であり、
ａ２１及びａ２３は、それぞれ独立して０～２であり、
ｅ１１は１～３、ｅ１２は０～２であり、ｅ１１＋ｅ１２≦３であり、
ｅ２１は１～３、ｅ２２は０～２であり、ｅ２１＋ｅ２２≦３であり、
ｅ３１は１～３、ｅ３２は０～２であり、ｅ３１＋ｅ３２≦３である。
Ｒｆa1は、両端が酸素原子である２価のフルオロポリエーテル構造であり、
Ｒ11、Ｒ12、及びＲ13は、それぞれ独立して炭素数１～２０のアルキル基であり、Ｒ11が複数存在する場合は複数のＲ11がそれぞれ異なっていてもよく、Ｒ12が複数存在する場合は複数のＲ12がそれぞれ異なっていてもよく、Ｒ13が複数存在する場合は複数のＲ13がそれぞれ異なっていてもよく、
Ｅ1、Ｅ2、Ｅ3、Ｅ4、及びＥ5は、それぞれ独立して水素原子又はフッ素原子であり、
Ｅ1が複数存在する場合は複数のＥ1がそれぞれ異なっていてもよく、Ｅ2が複数存在する場合は複数のＥ2がそれぞれ異なっていてもよく、Ｅ3が複数存在する場合は複数のＥ3がそれぞれ異なっていてもよく、Ｅ4が複数存在する場合は複数のＥ4がそれぞれ異なっていてもよく、Ｅ5が複数存在する場合は複数のＥ5がそれぞれ異なっていてもよく、
Ｇ1及びＧ2は、それぞれ独立して、シロキサン結合を有する２～１０価のオルガノシロキサン基であり、
Ｊ1、Ｊ2、及びＪ3は、それぞれ独立して、加水分解性基、ヒドロキシ基又は－（ＣＨ2）e7－Ｓｉ（ＯＲ14）3であり、ｅ７は１～５であり、Ｒ14はメチル基又はエチル基であり、Ｊ1が複数存在する場合は複数のＪ1がそれぞれ異なっていてもよく、Ｊ2が複数存在する場合は複数のＪ2がそれぞれ異なっていてもよく、Ｊ3が複数存在する場合は複数のＪ3がそれぞれ異なっていてもよく、
Ｌ1及びＬ2は、それぞれ独立して、酸素原子、窒素原子、ケイ素原子又はフッ素原子を含んでいてもよい炭素数１～１２の２価の連結基であって、－｛Ｃ（Ｒ25）（Ｒ26）｝－単位（Ｕa1）、－｛Ｃ（Ｒｆa26）（Ｒｆa27）｝－単位（Ｕa2）、－｛Ｓｉ（Ｒ27）（Ｒ28）｝－単位（Ｕa3）又は－Ｍ7－単位（Ｕa5）の一つ以上が任意の順で並んで結合した連結基であり（Ｒ25、Ｒ26、Ｒ27、Ｒ28、Ｒｆa26、Ｒｆa27、Ｍ7は上記式（ａ１）におけるものと同じ）、
ａ１０及びａ１４は、それぞれ独立して０又は１であり、
ａ１１及びａ１５は、それぞれ独立して０又は１であり、
ａ１２及びａ１６は、それぞれ独立して０～９であり、
ａ１３は、０～４であり、
ａ１１が０の時、又はａ１１が１であってＧ1が２価の時はｄ１１は１であり、ａ１１が１であってＧ1が３～１０価のときは、ｄ１１はＧ1の価数より一つ少ない数であり、
ａ１５が０の時、又はａ１５が１であってＧ2が２価の時はｄ１２が１であり、ａ１５が１であってＧ2が３～１０価のときは、ｄ１２はＧ2の価数より一つ少ない数であり、
ａ２１及びａ２３は、それぞれ独立して０～２であり、
ｅ１１は１～３、ｅ１２は０～２であり、ｅ１１＋ｅ１２≦３であり、
ｅ２１は１～３、ｅ２２は０～２であり、ｅ２１＋ｅ２２≦３であり、
ｅ３１は１～３、ｅ３２は０～２であり、ｅ３１＋ｅ３２≦３である。
【0049】
なお、ａ１０が０であるとは、ａ１０を付して括られた部分が単結合であることを意味し、ａ１１、ａ１２、ａ１３、ａ１４、ａ１５、ａ１６、ａ２１又はａ２３が０である場合も同様である。
【0050】
Ｒｆa1は、－Ｏ－（ＣＦ2ＣＦ2Ｏ）e4－、－Ｏ－（ＣＦ2ＣＦ2ＣＦ2Ｏ）e5－、－Ｏ－（ＣＦ2－ＣＦ（ＣＦ3）Ｏ）e6－が好ましい。ｅ４、及びｅ５は、いずれも１５～８０であり、ｅ６は３～６０である。また、Ｒｆa1は、ｐモルのパーフルオロプロピレングリコールとｑモルのパーフルオロメタンジオールがランダムに脱水縮合した構造の両末端の水酸基から水素原子が外れて残った基であることも好ましく、ｐ＋ｑが１５～８０であり、Ｒｆa1としてはこの態様が最も好ましい。
【0051】
Ｒ11、Ｒ12、及びＲ13は、それぞれ独立して、炭素数１～１０のアルキル基が好ましく、より好ましくは炭素数１～２のアルキル基である。
【0052】
Ｅ1、Ｅ2、Ｅ3及びＥ4はいずれも水素原子であることが好ましく、Ｅ5はフッ素原子であることが好ましい。
【0053】
Ｌ1及びＬ2は、それぞれ独立して、－｛Ｃ（Ｒ25）（Ｒ26）｝－単位（Ｕa1）、又は－｛Ｃ（Ｒｆa26）（Ｒｆa27）｝－単位（Ｕa2）の一つ以上が任意の順で並んで結合したフッ素原子を含んだ炭素数１～１２（好ましくは１～１０、より好ましくは１～５）の２価の連結基が好ましく、ｘが１～１２（好ましくは１～１０、より好ましくは１～５）である－（ＣＦ2）x－であることがより好ましい。
【0054】
Ｇ1及びＧ2は、それぞれ独立して、シロキサン結合を有する２～５価のオルガノシロキサン基が好ましい。
【0055】
Ｊ1、Ｊ2、及びＪ3は、それぞれ独立して、メトキシ基、エトキシ基又は－（ＣＨ2）e7－Ｓｉ（ＯＲ14）3が好ましく、より好ましくはメトキシ基又はエトキシ基である。
【0056】
ａ１０は１が好ましく、ａ１１は０が好ましく、ａ１２は０～７が好ましく、より好ましくは０～５であり、ａ１３は１～３が好ましく、ａ１４は１が好ましく、ａ１５は０が好ましく、ａ１６は０～６が好ましく、より好ましくは０～３であり、ａ２１及びａ２３はいずれも０又は１が好ましく（より好ましくはいずれも０）、ｄ１１は１が好ましく、ｄ１２は１が好ましく、ｅ１１、ｅ２１、及びｅ３１はいずれも２以上が好ましく、３であることも好ましい。ｅ１２、ｅ２２及びｅ３２はいずれも０又は１が好ましく、より好ましくは０である。ｅ１１＋ｅ１２、ｅ２１＋ｅ２２、及びｅ３１＋ｅ３２は、いずれも３であることが好ましい。これらの好ましい範囲は、単独で満たしていてもよいし、２つ以上組み合わせて満たしていてもよい。
【0057】
有機ケイ素化合物（Ａ）としては、上記式（ａ２）のＲｆa1が、ｐモルのパーフルオロプロピレングリコールとｑモルのパーフルオロメタンジオールがランダムに脱水縮合した構造の両末端の水酸基から水素原子が外れて残った基（ｐ＋ｑ＝１５～８０）であり、Ｌ1及びＬ2がいずれも炭素数１～５（好ましくは１～３）のパーフルオロアルキレン基であり、Ｅ1、Ｅ2、及びＥ3がいずれも水素原子であり、Ｅ4が水素原子であり、Ｅ5がフッ素原子であり、Ｊ1、Ｊ2、及びＪ3がいずれもメトキシ基又はエトキシ基（特にメトキシ基）であり、ａ１０が１であり、ａ１１が０であり、ａ１２が０～７（好ましくは０～５）であり、ａ１３が２であり、ａ１４が１であり、ａ１５が０であり、ａ１６が０～６（特に０）であり、ａ２１及びａ２３が、それぞれ独立して、０又は１であり（より好ましくはａ２１及びａ２３がいずれも０）、ｄ１１が１であり、ｄ１２が１であり、ｅ１１、ｅ２１及びｅ３１がいずれも２～３（特に３）であり、ｅ１２、ｅ２２及びｅ３２がいずれも０又は１（特に０）であり、ｅ１１＋ｅ１２、ｅ２１＋ｅ２２、及びｅ３１＋ｅ３２がいずれも３である化合物（ａ２１）を用いることが好ましい。
【0058】
有機ケイ素化合物（Ａ）としては、上記式（ａ２）のＲｆa1が－Ｏ－（ＣＦ2ＣＦ2ＣＦ2Ｏ）e5－であり、ｅ５が２５～４０であり、Ｌ1がフッ素原子及び酸素原子を含む炭素数３～６の２価の連結基であり、Ｌ2が炭素数２～１０のパーフルオロアルキレン基であり、Ｅ2、Ｅ3がいずれも水素原子であり、Ｅ5がフッ素原子であり、Ｊ2が－（ＣＨ2）e7－Ｓｉ（ＯＣＨ3）3であり、ｅ７が２～４であり、ａ１０が１であり、ａ１１が０であり、ａ１２が０であり、ａ１３が２であり、ａ１４が１であり、ａ１５が０であり、ａ１６が０であり、ｄ１１が１であり、ｄ１２が１であり、ｅ２１が３である化合物（ａ２２）を用いることも好ましい。
【0059】
有機ケイ素化合物（Ａ）として、より具体的には下記式（ａ３）の化合物が挙げられる。
【0060】
【化3】
【0061】
上記式（ａ３）中、Ｒ30は炭素数が１～６のパーフルオロアルキル基であり、Ｒ31はｐモルのパーフルオロプロピレングリコールとｑモルのパーフルオロメタンジオールがランダムに脱水縮合した構造の両末端の水酸基から水素原子が外れて残った基（ｐ＋ｑは１５～８０）であり、Ｒ32は炭素数が１～１０のパーフルオロアルキレン基であり、Ｒ33は炭素数が２～６の３価の飽和炭化水素基であり、Ｒ34は炭素数が１～３のアルキル基である。Ｒ30の炭素数は、１～４が好ましく、１～３がより好ましい。Ｒ32の炭素数は、好ましくは１～５である。ｈ１は１～１０であり、１～８が好ましく、１～６がより好ましい。ｈ２は１以上であり、２以上が好ましく、３であってもよい。
【0062】
特に、好ましい範囲も含めた式（ａ１）、（ａ２）、（ａ３）で表される有機ケイ素化合物（Ａ）は、保護層の剥離強度を高める上で有用である。
【0063】
有機ケイ素化合物（Ａ）としては、下記式（ａ４）で表される化合物も挙げることができる。
【0064】
【化4】
【0065】
上記式（ａ４）中、Ｒ40は炭素数が２～５のパーフルオロアルキル基であり、Ｒ41は炭素数が２～５のパーフルオロアルキレン基であり、Ｒ42は炭素数２～５のアルキレン基の水素原子の一部がフッ素に置換されたフルオロアルキレン基であり、Ｒ43、Ｒ44はそれぞれ独立に炭素数が２～５のアルキレン基であり、Ｒ45はメチル基又はエチル基である。ｋ１は１～５の整数である。ｋ２は１～３の整数であり、２以上であることが好ましく、３であってもよい。
【0066】
有機ケイ素化合物（Ａ）の数平均分子量は、２，０００以上が好ましく、より好ましくは４，０００以上であり、更に好ましくは５，０００以上、一層好ましくは６，０００以上、特に好ましくは７，０００以上であり、また４０，０００以下が好ましく、より好ましくは２０，０００以下であり、更に好ましくは１５，０００以下である。
【0067】
有機ケイ素化合物（Ａ）としては１種のみ用いてもよいし、２種以上用いてもよい。
【0068】
層（ｒ）中、有機ケイ素化合物（Ａ）由来の構造は、５０質量％以上含まれることが好ましく、より好ましくは６０質量％以上であり、また１００質量％であってもよく、好ましくは９５質量％以下、更に好ましくは９０質量％以下である。ここで、有機ケイ素化合物（Ａ）由来の構造とは、有機ケイ素化合物（Ａ）及び有機ケイ素化合物（Ａ）が脱水縮合した後の残基を指す。
【0069】
２－２．有機ケイ素化合物（Ｂ）
層（ｒ）は、上記した有機ケイ素化合物（Ａ）由来の構造とともに、下記式（ｂ１）で表される有機ケイ素化合物（Ｂ）由来の構造を有していてもよい。有機ケイ素化合物（Ａ）由来の構造とともに、有機ケイ素化合物（Ｂ）由来の構造を有する層（ｒ）は、前記撥水層形成用組成物に更に有機ケイ素化合物（Ｂ）が混合された混合組成物を塗布して硬化させることにより得ることができる。
層（ｒ）は、上記した有機ケイ素化合物（Ａ）由来の構造とともに、下記式（ｂ１）で表される有機ケイ素化合物（Ｂ）由来の構造を有していてもよい。有機ケイ素化合物（Ａ）由来の構造とともに、有機ケイ素化合物（Ｂ）由来の構造を有する層（ｒ）は、前記撥水層形成用組成物に更に有機ケイ素化合物（Ｂ）が混合された混合組成物を塗布して硬化させることにより得ることができる。
【0070】
有機ケイ素化合物（Ｂ）は、後述する通り、ケイ素原子に結合した加水分解性基又はヒドロキシ基を有しており、通常、有機ケイ素化合物（Ｂ）が有する－ＳｉＯＨ基又は加水分解で生じた有機ケイ素化合物（Ｂ）の－ＳｉＯＨ基が、有機ケイ素化合物（Ｂ）由来の－ＳｉＯＨ基、他の化合物由来の－ＳｉＯＨ基、又は積層体において層（ｒ）が形成される面（好ましくはハードコート層または層（ｃ））の活性水素（水酸基など）と脱水縮合するため、好ましい態様において、層（ｒ）は有機ケイ素化合物（Ａ）由来の脱水縮合構造と共に、有機ケイ素化合物（Ｂ）由来の脱水縮合構造を有する。層（ｒ）が有機ケイ素化合物（Ｂ）由来の脱水縮合構造を有することにより、水滴などの滑落性がより向上する。
【0071】
【化5】
【0072】
上記式（ｂ１）中、
Ｒｆb10は、１個以上の水素原子がフッ素原子に置換された炭素数１～２０のアルキル基又はフッ素原子であり、
Ｒb11、Ｒb12、Ｒb13、Ｒb14は、それぞれ独立して、水素原子又は炭素数が１～４のアルキル基であり、Ｒb11が複数存在する場合は複数のＲb11がそれぞれ異なっていてもよく、Ｒb12が複数存在する場合は複数のＲb12がそれぞれ異なっていてもよく、Ｒb13が複数存在する場合は複数のＲb13がそれぞれ異なっていてもよく、Ｒb14が複数存在する場合は複数のＲb14がそれぞれ異なっていてもよく、
Ｒｆb11、Ｒｆb12、Ｒｆb13、Ｒｆb14は、それぞれ独立して、１個以上の水素原子がフッ素原子に置換された炭素数１～２０のアルキル基又はフッ素原子であり、Ｒｆb11が複数存在する場合は複数のＲｆb11がそれぞれ異なっていてもよく、Ｒｆb12が複数存在する場合は複数のＲｆb12がそれぞれ異なっていてもよく、Ｒｆb13が複数存在する場合は複数のＲｆb13がそれぞれ異なっていてもよく、Ｒｆb14が複数存在する場合は複数のＲｆb14がそれぞれ異なっていてもよく、
Ｒb15は、炭素数が１～２０のアルキル基であり、Ｒb15が複数存在する場合は複数のＲb15がそれぞれ異なっていてもよく、
Ａ1は、－Ｏ－、－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－、－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－、－ＮＲ－、－ＮＲＣ（＝Ｏ）－、又は－Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ－であり、前記Ｒは水素原子、炭素数１～４のアルキル基又は炭素数１～４の含フッ素アルキル基であり、Ａ1が複数存在する場合は複数のＡ1がそれぞれ異なっていてもよく、
Ａ2は、加水分解性基又はヒドロキシ基であり、Ａ2が複数存在する場合は複数のＡ2がそれぞれ異なっていてもよく、
ｂ１１、ｂ１２、ｂ１３、ｂ１４、ｂ１５は、それぞれ独立して０～１００の整数であり、
ｃは、１～３の整数であり、
Ｒｆb10－、－Ｓｉ（Ａ2）c（Ｒb15）3-c、ｂ１１個の－｛Ｃ（Ｒb11）（Ｒb12）｝－単位（Ｕb1）、ｂ１２個の－｛Ｃ（Ｒｆb11）（Ｒｆb12）｝－単位（Ｕb2）、ｂ１３個の－｛Ｓｉ（Ｒb13）（Ｒb14）｝－単位（Ｕb3）、ｂ１４個の－｛Ｓｉ（Ｒｆb13）（Ｒｆb14）｝－単位（Ｕb4）、ｂ１５個の－Ａ1－単位（Ｕb5）は、Ｒｆb10－が式（ｂ１）で表される化合物の一方の末端となり、－Ｓｉ（Ａ2）c（Ｒb15）3-cが他方の末端となり、フルオロポリエーテル構造を形成せず、かつ－Ｏ－が－Ｏ－乃至－Ｆと連結しない限り、それぞれの単位（Ｕb1）～単位（Ｕb5）が任意の順で並んで結合する。
Ｒｆb10は、１個以上の水素原子がフッ素原子に置換された炭素数１～２０のアルキル基又はフッ素原子であり、
Ｒb11、Ｒb12、Ｒb13、Ｒb14は、それぞれ独立して、水素原子又は炭素数が１～４のアルキル基であり、Ｒb11が複数存在する場合は複数のＲb11がそれぞれ異なっていてもよく、Ｒb12が複数存在する場合は複数のＲb12がそれぞれ異なっていてもよく、Ｒb13が複数存在する場合は複数のＲb13がそれぞれ異なっていてもよく、Ｒb14が複数存在する場合は複数のＲb14がそれぞれ異なっていてもよく、
Ｒｆb11、Ｒｆb12、Ｒｆb13、Ｒｆb14は、それぞれ独立して、１個以上の水素原子がフッ素原子に置換された炭素数１～２０のアルキル基又はフッ素原子であり、Ｒｆb11が複数存在する場合は複数のＲｆb11がそれぞれ異なっていてもよく、Ｒｆb12が複数存在する場合は複数のＲｆb12がそれぞれ異なっていてもよく、Ｒｆb13が複数存在する場合は複数のＲｆb13がそれぞれ異なっていてもよく、Ｒｆb14が複数存在する場合は複数のＲｆb14がそれぞれ異なっていてもよく、
Ｒb15は、炭素数が１～２０のアルキル基であり、Ｒb15が複数存在する場合は複数のＲb15がそれぞれ異なっていてもよく、
Ａ1は、－Ｏ－、－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－、－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－、－ＮＲ－、－ＮＲＣ（＝Ｏ）－、又は－Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ－であり、前記Ｒは水素原子、炭素数１～４のアルキル基又は炭素数１～４の含フッ素アルキル基であり、Ａ1が複数存在する場合は複数のＡ1がそれぞれ異なっていてもよく、
Ａ2は、加水分解性基又はヒドロキシ基であり、Ａ2が複数存在する場合は複数のＡ2がそれぞれ異なっていてもよく、
ｂ１１、ｂ１２、ｂ１３、ｂ１４、ｂ１５は、それぞれ独立して０～１００の整数であり、
ｃは、１～３の整数であり、
Ｒｆb10－、－Ｓｉ（Ａ2）c（Ｒb15）3-c、ｂ１１個の－｛Ｃ（Ｒb11）（Ｒb12）｝－単位（Ｕb1）、ｂ１２個の－｛Ｃ（Ｒｆb11）（Ｒｆb12）｝－単位（Ｕb2）、ｂ１３個の－｛Ｓｉ（Ｒb13）（Ｒb14）｝－単位（Ｕb3）、ｂ１４個の－｛Ｓｉ（Ｒｆb13）（Ｒｆb14）｝－単位（Ｕb4）、ｂ１５個の－Ａ1－単位（Ｕb5）は、Ｒｆb10－が式（ｂ１）で表される化合物の一方の末端となり、－Ｓｉ（Ａ2）c（Ｒb15）3-cが他方の末端となり、フルオロポリエーテル構造を形成せず、かつ－Ｏ－が－Ｏ－乃至－Ｆと連結しない限り、それぞれの単位（Ｕb1）～単位（Ｕb5）が任意の順で並んで結合する。
【0073】
Ｒｆb10は、それぞれ独立して、フッ素原子又は炭素数１～１０（より好ましくは炭素数１～５）のパーフルオロアルキル基が好ましい。
【0074】
Ｒb11、Ｒb12、Ｒb13、及びＲb14は、水素原子が好ましい。
【0075】
Ｒb15は、炭素数１～５のアルキル基が好ましい。
【0076】
Ａ1は、－Ｏ－、－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－、又は－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－が好ましい。
【0077】
Ａ2で表される加水分解性基としては、アルコキシ基、ハロゲン原子、シアノ基、アセトキシ基、イソシアネート基等が挙げられる。
【0078】
Ａ2は、炭素数１～４のアルコキシ基、又はハロゲン原子が好ましく、より好ましくはメトキシ基、エトキシ基、塩素原子である。
【0079】
ｂ１１は１～３０が好ましく、１～２５がより好ましく、１～１０が更に好ましく、１～５が特に好ましく、最も好ましくは１～２である。
【0080】
ｂ１２は、０～１５が好ましく、より好ましくは０～１０である。
【0081】
ｂ１３は、０～５が好ましく、より好ましくは０～２である。
【0082】
ｂ１４は、０～４が好ましく、より好ましくは０～２である。
【0083】
ｂ１５は、０～４が好ましく、より好ましくは０～２である。
【0084】
ｃは、２～３が好ましく、より好ましくは３である。
【0085】
ｂ１１、ｂ１２、ｂ１３、ｂ１４、及びｂ１５の合計値は、２以上が好ましく、３以上がより好ましく、５以上が更に好ましく、また８０以下が好ましく、より好ましくは５０以下であり、更に好ましくは２０以下である。
【0086】
特に、Ｒｆb10がフッ素原子又は炭素数１～５のパーフルオロアルキル基であり、Ｒb11、Ｒb12がいずれも水素原子であり、Ａ2がメトキシ基又はエトキシ基であると共に、ｂ１１が１～５、ｂ１２が０～５であり、ｂ１３、ｂ１４、及びｂ１５が全て０であり、ｃが３であることが好ましい。
【0087】
なお、後記する実施例にて、有機ケイ素化合物（Ｂ）として用いるＦＡＳ１３Ｅを上記式（ｂ１）で表すと、Ｒb11、Ｒb12がいずれも水素原子、ｂ１１が２、ｂ１３、ｂ１４、及びｂ１５が全て０、ｃが３、Ａ2がエトキシ基であり、Ｒｆb10－｛Ｃ（Ｒｆb11）（Ｒｆb12）｝b12－が末端となり、Ｃ6Ｆ13－となるように定められる。
【0088】
上記式（ｂ１）で表される化合物としては、具体的に、ＣjＦ2j+1－Ｓｉ－（ＯＣＨ3）3、ＣjＦ2j+1－Ｓｉ－（ＯＣ2Ｈ5）3（ｊは１～１２の整数）が挙げられ、この中で特にＣ4Ｆ9－Ｓｉ－（ＯＣ2Ｈ5）3、Ｃ6Ｆ13－Ｓｉ－（ＯＣ2Ｈ5）3、Ｃ7Ｆ15－Ｓｉ－（ＯＣ2Ｈ5）3、Ｃ8Ｆ17－Ｓｉ－（ＯＣ2Ｈ5）3が好ましい。また、ＣＦ3ＣＨ2Ｏ（ＣＨ2）kＳｉＣｌ3、ＣＦ3ＣＨ2Ｏ（ＣＨ2）kＳｉ（ＯＣＨ3）3、ＣＦ3ＣＨ2Ｏ（ＣＨ2）kＳｉ（ＯＣ2Ｈ5）3、ＣＦ3（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＣＨ3）2（ＣＨ2）kＳｉＣｌ3、ＣＦ3（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＣＨ3）2（ＣＨ2）kＳｉ（ＯＣＨ3）3、ＣＦ3（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＣＨ3）2（ＣＨ2）kＳｉ（ＯＣ2Ｈ5）3、ＣＦ3（ＣＨ2）6Ｓｉ（ＣＨ3）2（ＣＨ2）kＳｉＣｌ3、ＣＦ3（ＣＨ2）6Ｓｉ（ＣＨ3）2（ＣＨ2）kＳｉ（ＯＣＨ3）3、ＣＦ3（ＣＨ2）6Ｓｉ（ＣＨ3）2（ＣＨ2）kＳｉ（ＯＣ2Ｈ5）3、ＣＦ3ＣＯＯ（ＣＨ2）kＳｉＣｌ3、ＣＦ3ＣＯＯ（ＣＨ2）kＳｉ（ＯＣＨ3）3、ＣＦ3ＣＯＯ（ＣＨ2）kＳｉ（ＯＣ2Ｈ5）3が挙げられる（ｋはいずれも５～２０であり、好ましくは８～１５である）。また、ＣＦ3（ＣＦ2）m－（ＣＨ2）nＳｉＣｌ3、ＣＦ3（ＣＦ2）m－（ＣＨ2）nＳｉ（ＯＣＨ3）3、ＣＦ3（ＣＦ2）m－（ＣＨ2）nＳｉ（ＯＣ2Ｈ5）3を挙げることもできる（ｍはいずれも０～１０であり、好ましくは０～７であり、ｎはいずれも１～５であり、好ましくは２～４である）。ＣＦ3（ＣＦ2）p－（ＣＨ2）q－Ｓｉ－（ＣＨ2ＣＨ＝ＣＨ2）3を挙げることもできる（ｐはいずれも２～１０であり、好ましくは２～８であり、ｑはいずれも１～５であり、好ましくは２～４である）。更に、ＣＦ3（ＣＦ2）p－（ＣＨ2）qＳｉＣＨ3Ｃｌ2、ＣＦ3（ＣＦ2）p－（ＣＨ2）qＳｉＣＨ3（ＯＣＨ3）2、ＣＦ3（ＣＦ2）p－（ＣＨ2）qＳｉＣＨ3（ＯＣ2Ｈ5）2が挙げられる（ｐはいずれも２～１０であり、好ましくは３～７であり、ｑはいずれも１～５であり、好ましくは２～４である）。
【0089】
上記式（ｂ１）で表される化合物の中で、下記式（ｂ２）で表される化合物が好ましい。
【0090】
【化6】
【0091】
上記式（ｂ２）中、Ｒ60は炭素数１～８のパーフルオロアルキル基であり、Ｒ61は炭素数１～５のアルキレン基であり、Ｒ62は炭素数１～３のアルキル基である。
【0092】
有機ケイ素化合物（Ｂ）としては１種のみ用いてもよいし、２種以上用いてもよい。
【0093】
層（ｒ）に有機ケイ素化合物（Ｂ）由来の構造が含まれる場合、有機ケイ素化合物（Ｂ）由来の構造は、層（ｒ）中、３質量％以上含まれることが好ましく、より好ましくは５質量％以上、更に好ましくは１０質量％以上であり、また５０質量％以下であることが好ましく、より好ましくは４０質量％以下である。ここで、有機ケイ素化合物（Ｂ）由来の構造とは、有機ケイ素化合物（Ｂ）及び有機ケイ素化合物（Ｂ）が脱水縮合した後の残基を指す。
【0094】
層（ｒ）における、有機ケイ素化合物（Ａ）由来の構造に対する有機ケイ素化合物（Ｂ）由来の構造の質量比は、０．０５以上が好ましく、より好ましくは０．０８以上、更に好ましくは０．１０以上であり、また２．０以下が好ましく、より好ましくは１．０以下であり、更に好ましくは０．６以下である。
【0095】
また、層（ｒ）は、本発明の効果を阻害しない範囲で、シラノール縮合触媒、酸化防止剤、防錆剤、紫外線吸収剤、光安定剤、防カビ剤、抗菌剤、抗ウイルス剤、生物付着防止剤、消臭剤、顔料、難燃剤、帯電防止剤等、各種の添加剤が含まれていてもよい。前記添加剤の量は、すなわち、有機ケイ素化合物（Ａ）及び（Ｂ）由来の固形分以外の固形分量は、層（ｒ）中、０．１質量％以下が好ましく、より好ましくは０．０１質量％以下である。
【0096】
３．保護層（Ｐ）
本発明の積層体では、第一基材（ＳL）、フッ素元素を含む層（ｒ）、保護層（Ｐ）の順で積層され、層（ｒ）及び保護層（Ｐ）の間に他の層を有していてもよいが、層（ｒ）と保護層（Ｐ）は直接積層されていることが好ましく、粘着層（ａｄ）が第二基材（ＳP）よりも層（ｒ）側に位置しており、粘着層（ａｄ）と層（ｒ）が直接積層されることがより好ましい。
本発明の積層体では、第一基材（ＳL）、フッ素元素を含む層（ｒ）、保護層（Ｐ）の順で積層され、層（ｒ）及び保護層（Ｐ）の間に他の層を有していてもよいが、層（ｒ）と保護層（Ｐ）は直接積層されていることが好ましく、粘着層（ａｄ）が第二基材（ＳP）よりも層（ｒ）側に位置しており、粘着層（ａｄ）と層（ｒ）が直接積層されることがより好ましい。
【0097】
３－１．第二基材（ＳP）
第二基材（ＳP）としては、熱可塑性樹脂フィルムであることが一般的であり、環状ポリオレフィン系樹脂フィルム；トリアセチルセルロース、ジアセチルセルロース等の樹脂からなる酢酸セルロース系樹脂フィルム；ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル樹脂；ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィン樹脂；（メタ）アクリル系樹脂；ポリカーボネート樹脂；ポリアレート樹脂；及びポリイミド系樹脂などが挙げられ、これらの少なくとも１種を含むことが好ましい。中でも、第二基材（ＳP）は、ポリエステル樹脂及びポリオレフィン樹脂の少なくとも１種を含むことが好ましく、特にポリエチレンテレフタレートなどのポリエステル樹脂を含むことが好ましい。第二基材（ＳP）としては、上記した樹脂に離型処理が施されたセパレートフィルムを挙げることができる。セパレートフィルムは、例えば、第二基材（ＳP）の粘着剤層が形成される面に、シリコーン処理等の離型処理が施されたものであることができる。
第二基材（ＳP）としては、熱可塑性樹脂フィルムであることが一般的であり、環状ポリオレフィン系樹脂フィルム；トリアセチルセルロース、ジアセチルセルロース等の樹脂からなる酢酸セルロース系樹脂フィルム；ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル樹脂；ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィン樹脂；（メタ）アクリル系樹脂；ポリカーボネート樹脂；ポリアレート樹脂；及びポリイミド系樹脂などが挙げられ、これらの少なくとも１種を含むことが好ましい。中でも、第二基材（ＳP）は、ポリエステル樹脂及びポリオレフィン樹脂の少なくとも１種を含むことが好ましく、特にポリエチレンテレフタレートなどのポリエステル樹脂を含むことが好ましい。第二基材（ＳP）としては、上記した樹脂に離型処理が施されたセパレートフィルムを挙げることができる。セパレートフィルムは、例えば、第二基材（ＳP）の粘着剤層が形成される面に、シリコーン処理等の離型処理が施されたものであることができる。
【0098】
第二基材（ＳP）の厚みは、１０μｍ以上が好ましく、１５μｍ以上がより好ましく、２０μｍ以上が更に好ましく、また１００μｍ以下が好ましく、８０μｍ以下がより好ましく、６０μｍ以下が更に好ましい。
【0099】
３－２．粘着層（ａｄ）
粘着層（ａｄ）の厚みは、１６μｍ未満である。粘着層（ａｄ）の厚みを薄くすることによって、保護層（Ｐ）の剥離強度を高めることができる。また、粘着層（ａｄ）の厚みが１６μｍ未満であると、層（ｒ）の厚みが薄くなった場合でも、保護層（Ｐ）剥離後の層（ｒ）表面の接触角が低下しにくいという効果を奏することもできる。粘着層（ａｄ）の厚みは１５μｍ以下が好ましく、より好ましくは１３μｍ以下である。また、粘着層（ａｄ）の厚みの下限は特に限定されないが、３μｍ以上が好ましく、５μｍ以上がより好ましい。
粘着層（ａｄ）の厚みは、１６μｍ未満である。粘着層（ａｄ）の厚みを薄くすることによって、保護層（Ｐ）の剥離強度を高めることができる。また、粘着層（ａｄ）の厚みが１６μｍ未満であると、層（ｒ）の厚みが薄くなった場合でも、保護層（Ｐ）剥離後の層（ｒ）表面の接触角が低下しにくいという効果を奏することもできる。粘着層（ａｄ）の厚みは１５μｍ以下が好ましく、より好ましくは１３μｍ以下である。また、粘着層（ａｄ）の厚みの下限は特に限定されないが、３μｍ以上が好ましく、５μｍ以上がより好ましい。
【0100】
第二基材（ＳP）に対する粘着層（ａｄ）の厚みの比率は、０．５５未満が好ましく、より好ましくは０．５以下であり、更に好ましくは０．４５以下であり、下限は特に限定されないが、例えば０．０１以上であってもよいし、０．１以上であってもよいし、０．１５以上であってもよい。
【0101】
粘着層（ａｄ）は、１層からなるものであってもよく、２層以上からなるものであってもよいが、好ましくは１層からなるものである。粘着層（ａｄ）としては、（メタ）アクリル系樹脂、ゴム系樹脂、ウレタン系樹脂、ポリエステル系樹脂、シリコーン系樹脂、ポリビニルエーテル系樹脂及びポリオレフィン系樹脂などが挙げられ、これらの少なくとも１種を含むことが好ましい。粘着層（ａｄ）は、前記した樹脂の少なくとも１種を含む粘着剤組成物から形成することができ、中でも、透明性、耐候性、耐熱性等に優れる（メタ）アクリル系樹脂をベースポリマーとする粘着剤組成物が好適である。粘着剤組成物は、活性エネルギー線硬化型又は熱硬化型であってもよい。
【0102】
粘着剤組成物に用いられる（メタ）アクリル系樹脂（ベースポリマー）としては、（メタ）アクリル酸ブチル、（メタ）アクリル酸エチル、（メタ）アクリル酸イソオクチル、（メタ）アクリル酸２－エチルヘキシル等の（メタ）アクリル酸エステルの１種又は２種以上をモノマーとする重合体又は共重合体が好適に用いられる。ベースポリマーには、極性モノマーを共重合させることが好ましい。極性モノマーとしては、（メタ）アクリル酸化合物、（メタ）アクリル酸２－ヒドロキシプロピル化合物、（メタ）アクリル酸ヒドロキシエチル化合物、（メタ）アクリルアミド化合物、Ｎ，Ｎ－ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート化合物、グリシジル（メタ）アクリレート化合物等の、カルボキシル基、水酸基、アミド基、アミノ基、エポキシ基等を有するモノマーを挙げることができる。
【0103】
粘着剤組成物は、上記ベースポリマーのみを含むものであってもよいが、通常は架橋剤をさらに含有する。架橋剤としては、２価以上の金属イオンであって、カルボキシル基との間でカルボン酸金属塩を形成する金属イオン、カルボキシル基との間でアミド結合を形成するポリアミン化合物、カルボキシル基との間でエステル結合を形成するポリエポキシ化合物又はポリオール、カルボキシル基との間でアミド結合を形成するポリイソシアネート化合物が例示される。中でも、ポリイソシアネート化合物が好ましい。
【0104】
活性エネルギー線硬化型粘着剤組成物は、紫外線や電子線のような活性エネルギー線の照射を受けて硬化する性質を有しており、活性エネルギー線照射前においても粘着性を有してフィルム等の被着体に密着させることができ、活性エネルギー線の照射によって硬化して密着力の調整ができる性質を有する。活性エネルギー線硬化型粘着剤組成物は、紫外線硬化型であることが好ましい。活性エネルギー線硬化型粘着剤組成物は、ベースポリマー、架橋剤に加えて、活性エネルギー線重合性化合物をさらに含有する。必要に応じて、光重合開始剤、光増感剤等を含有させてもよい。
【0105】
粘着剤組成物は、光散乱性を付与するための微粒子、ビーズ（樹脂ビーズ、ガラスビー等）、ガラス繊維、ベースポリマー以外の樹脂、粘着性付与剤、充填剤（金属粉やその他の無機粉末等）、酸化防止剤、紫外線吸収剤、染料、顔料、着色剤、消泡剤、腐食防止剤、光重合開始剤等の添加剤を含むことができる。
【0106】
粘着層（ａｄ）は、上記粘着剤組成物の有機溶剤希釈液を第二基材（ＳP）の表面上に塗布し、乾燥させることにより形成することができる。例えば、セパレートフィルムを第二基材（ＳP）として、この離型処理面に粘着剤組成物を直接塗布して粘着層（ａｄ）を形成して、このセパレートフィルム付粘着層（ａｄ）を前記層（ｒ）の表面に積層してもよい。また、層（ｒ）の表面に粘着剤組成物を直接塗布して粘着層（ａｄ）を形成し、粘着層（ａｄ）の外面にセパレートフィルムを第二基材（ＳP）として積層してもよい。粘着層（ａｄ）を層（ｒ）の表面に設ける際には、層（ｒ）の貼合面及び／又は粘着層（ａｄ）の貼合面に表面活性化処理、例えばプラズマ処理、コロナ処理等を施すことも好ましく、コロナ処理を施すことがより好ましい。また、第２セパレートフィルム上に粘着剤組成物を塗布して粘着層（ａｄ）を形成し、形成された粘着層（ａｄ）上にセパレートフィルム（第二基材（ＳP））を積層した粘着剤シートを準備し、この粘着剤シートから第２セパレートフィルムを剥離した後のセパレートフィルム付粘着層（ａｄ）を層（ｒ）に積層してもよい。第２セパレートフィルムは、セパレートフィルム（第二基材（ＳP））よりも粘着層（ａｄ）との密着力が弱く、剥離し易いものが用いられる。
【0107】
４．プライマー層（ｃ）
本発明の積層体は、前記第一基材（ＳL）及びフッ素元素を含む層（ｒ）の間にプライマー層（ｃ）を有していてもよい。プライマー層（ｃ）を有することで、第一基材（ＳL）及びフッ素元素を含む層（ｒ）の密着性を向上できる。以下、プライマー層（ｃ）を、単に「層（ｃ）」と呼ぶ場合がある。プライマー層（ｃ）と層（ｒ）は、直接積層されていることが好ましい。また、第一基材（ＳL）とプライマー層（ｃ）の間には、他の層を有していてもよいが、第一基材（ＳL）とプライマー層（ｃ）が直接積層されていることが好ましい。
本発明の積層体は、前記第一基材（ＳL）及びフッ素元素を含む層（ｒ）の間にプライマー層（ｃ）を有していてもよい。プライマー層（ｃ）を有することで、第一基材（ＳL）及びフッ素元素を含む層（ｒ）の密着性を向上できる。以下、プライマー層（ｃ）を、単に「層（ｃ）」と呼ぶ場合がある。プライマー層（ｃ）と層（ｒ）は、直接積層されていることが好ましい。また、第一基材（ＳL）とプライマー層（ｃ）の間には、他の層を有していてもよいが、第一基材（ＳL）とプライマー層（ｃ）が直接積層されていることが好ましい。
【0108】
４－１．有機ケイ素化合物（Ｃ）
層（ｃ）は、アミノ基又はアミン骨格を有する有機ケイ素化合物（Ｃ）の硬化層であることが好ましく、この場合、層（ｃ）は、通常、有機ケイ素化合物（Ｃ）の混合組成物（以下、層（ｃ）形成用組成物という場合がある。）を塗布して硬化させることにより得られる。有機ケイ素化合物（Ｃ）は、アミノ基又はアミン骨格と共に、加水分解性基又はヒドロキシ基が結合したケイ素原子を有する化合物であることが好ましく、有機ケイ素化合物（Ｃ）が有する－ＳｉＯＨ基又はケイ素原子に結合した加水分解性基の加水分解で生じた有機ケイ素化合物（Ｃ）の－ＳｉＯＨ基が、有機ケイ素化合物（Ｃ）由来の－ＳｉＯＨ基、又は積層体において層（ｃ）が形成される面の活性水素（水酸基など）と脱水縮合するため、層（ｃ）は有機ケイ素化合物（Ｃ）の脱水縮合物（すなわち、有機ケイ素化合物（Ｃ）由来の縮合構造）を有していてもよい。なお、層（ｃ）に含まれる有機ケイ素化合物（Ｃ）は、全て脱水縮合物となっていてもよい。
層（ｃ）は、アミノ基又はアミン骨格を有する有機ケイ素化合物（Ｃ）の硬化層であることが好ましく、この場合、層（ｃ）は、通常、有機ケイ素化合物（Ｃ）の混合組成物（以下、層（ｃ）形成用組成物という場合がある。）を塗布して硬化させることにより得られる。有機ケイ素化合物（Ｃ）は、アミノ基又はアミン骨格と共に、加水分解性基又はヒドロキシ基が結合したケイ素原子を有する化合物であることが好ましく、有機ケイ素化合物（Ｃ）が有する－ＳｉＯＨ基又はケイ素原子に結合した加水分解性基の加水分解で生じた有機ケイ素化合物（Ｃ）の－ＳｉＯＨ基が、有機ケイ素化合物（Ｃ）由来の－ＳｉＯＨ基、又は積層体において層（ｃ）が形成される面の活性水素（水酸基など）と脱水縮合するため、層（ｃ）は有機ケイ素化合物（Ｃ）の脱水縮合物（すなわち、有機ケイ素化合物（Ｃ）由来の縮合構造）を有していてもよい。なお、層（ｃ）に含まれる有機ケイ素化合物（Ｃ）は、全て脱水縮合物となっていてもよい。
【0109】
好ましい態様において有機ケイ素化合物（Ｃ）が有する、加水分解性基又はヒドロキシ基（以下、両者を合わせて、反応性基（ｈ１）と呼ぶ）が結合したケイ素原子の数は、有機ケイ素化合物（Ｃ）１分子中、１以上１０以下が好ましく、より好ましくは１以上５以下、更に好ましくは２以上５以下である。１つのケイ素原子に結合する反応性基（ｈ１）の数は、１以上であればよく、２又は３であってもよいが、２又は３であるのが好ましい。前記加水分解性基としては、アルコキシ基、ハロゲン原子、シアノ基、アセトキシ基、イソシアネート基等が挙げられ、アルコキシ基が好ましく、炭素数１～４のアルコキシ基がより好ましい。前記ケイ素原子には、アルコキシ基又はヒドロキシ基が結合していることが好ましく、炭素数１～４のアルコキシ基又はヒドロキシ基が結合していることが特に好ましい。有機ケイ素化合物（Ｃ）中の反応性基（ｈ１）が複数存在する場合には、複数の反応性基（ｈ１）は同一であってもよいし、互いに異なっていてもよいが、同一であることが好ましい。
【0110】
有機ケイ素化合物（Ｃ）は、アミノ基及びアミン骨格のいずれか一方を有していてもよいし、アミノ基及びアミン骨格の両方を有していても好ましい。有機ケイ素化合物（Ｃ）としては、アミン骨格を１つ以上有するものが好ましい。アミン骨格とは、－ＮＲ１００－で表され、Ｒ１００は水素原子又はアルキル基である。また前記有機ケイ素化合物（Ｃ）中に複数個のアミン骨格が含まれる場合、複数のアミン骨格は同一であってもよいし、異なっていてもよい。前記有機ケイ素化合物（Ｃ）の１分子中、アミノ基又はアミン骨格は、合計で１以上あればよく、合計で２以上あることが好ましく、アミン骨格が２以上５以下であることがより好ましく、アミン骨格が２以上３以下であることが更に好ましく、アミン骨格が２であることが一層好ましい。
【0111】
有機ケイ素化合物（Ｃ）は、フルオロポリエーテル構造を有さない化合物であることが好ましく、フッ素元素を有さない化合物であることがより好ましい。
【0112】
有機ケイ素化合物（Ｃ）としては、下記式（ｃ１）または（ｃ２）で表される化合物であることが好ましい。すなわち、プライマー層（ｃ）は、下記式（ｃ１）または（ｃ２）で表される有機ケイ素化合物（Ｃ）の硬化層であることが好ましい。
【0113】
４－１－１．下記式（ｃ１）で表される有機ケイ素化合物（Ｃ）（以下、有機ケイ素化合物（Ｃ１））
【0114】
【化7】
【0115】
上記式（ｃ１）中、
Ｒx11、Ｒx12、Ｒx13、Ｒx14は、それぞれ独立して、水素原子又は炭素数が１～４のアルキル基であり、Ｒx11が複数存在する場合は複数のＲx11がそれぞれ異なっていてもよく、Ｒx12が複数存在する場合は複数のＲx12がそれぞれ異なっていてもよく、Ｒx13が複数存在する場合は複数のＲx13がそれぞれ異なっていてもよく、Ｒx14が複数存在する場合は複数のＲx14がそれぞれ異なっていてもよく、
Ｒｆx11、Ｒｆx12、Ｒｆx13、Ｒｆx14は、それぞれ独立して、１個以上の水素原子がフッ素原子に置換された炭素数１～２０のアルキル基又はフッ素原子であり、Ｒｆx11が複数存在する場合は複数のＲｆx11がそれぞれ異なっていてもよく、Ｒｆx12が複数存在する場合は複数のＲｆx12がそれぞれ異なっていてもよく、Ｒｆx13が複数存在する場合は複数のＲｆx13がそれぞれ異なっていてもよく、Ｒｆx14が複数存在する場合は複数のＲｆx14がそれぞれ異なっていてもよく、
Ｒx15は、炭素数が１～２０のアルキル基であり、Ｒx15が複数存在する場合は複数のＲx15がそれぞれ異なっていてもよく、
Ｘ11は、加水分解性基又はヒドロキシ基であり、Ｘ11が複数存在する場合は複数のＸ11がそれぞれ異なっていてもよく、
Ｙ11は、－ＮＨ－、又は－Ｓ－であり、Ｙ11が複数存在する場合は複数のＹ11がそれぞれ異なっていてもよく、
Ｚ11は、ビニル基、α－メチルビニル基、スチリル基、メタクリロイル基、アクリロイル基、アミノ基、イソシアネート基、イソシアヌレート基、エポキシ基、ウレイド基、又はメルカプト基であり、
ｐ１は、１～２０の整数であり、ｐ２、ｐ３、ｐ４は、それぞれ独立して、０～１０の整数であり、ｐ５は、０～１０の整数であり、
ｐ６は、１～３の整数であり、
Ｚ11がアミノ基でない場合は－ＮＨ－であるＹ11を少なくとも１つ有し、Ｙ11が全て－Ｓ－である場合又はｐ５が０である場合はＺ11がアミノ基であり、
Ｚ11－、－Ｓｉ（Ｘ11）p6（Ｒx15）3-p6、ｐ１個の－｛Ｃ（Ｒx11）（Ｒx12）｝－単位（Ｕc11）、ｐ２個の－｛Ｃ（Ｒｆx11）（Ｒｆx12）｝－単位（Ｕc12）、ｐ３個の－｛Ｓｉ（Ｒx13）（Ｒx14）｝－単位（Ｕc13）、ｐ４個の－｛Ｓｉ（Ｒｆx13）（Ｒｆx14）｝－単位（Ｕc14）、ｐ５個の－Ｙ11－単位（Ｕc15）は、Ｚ11－が式（ｃ１）で表される化合物の一方の末端となり、－Ｓｉ（Ｘ11）p6（Ｒx15）3-p6が他方の末端となり、－Ｏ－が－Ｏ－と連結しない限り、それぞれの単位（Ｕc11）～単位（Ｕc15）が任意の順で並んで結合する。
Ｒx11、Ｒx12、Ｒx13、Ｒx14は、それぞれ独立して、水素原子又は炭素数が１～４のアルキル基であり、Ｒx11が複数存在する場合は複数のＲx11がそれぞれ異なっていてもよく、Ｒx12が複数存在する場合は複数のＲx12がそれぞれ異なっていてもよく、Ｒx13が複数存在する場合は複数のＲx13がそれぞれ異なっていてもよく、Ｒx14が複数存在する場合は複数のＲx14がそれぞれ異なっていてもよく、
Ｒｆx11、Ｒｆx12、Ｒｆx13、Ｒｆx14は、それぞれ独立して、１個以上の水素原子がフッ素原子に置換された炭素数１～２０のアルキル基又はフッ素原子であり、Ｒｆx11が複数存在する場合は複数のＲｆx11がそれぞれ異なっていてもよく、Ｒｆx12が複数存在する場合は複数のＲｆx12がそれぞれ異なっていてもよく、Ｒｆx13が複数存在する場合は複数のＲｆx13がそれぞれ異なっていてもよく、Ｒｆx14が複数存在する場合は複数のＲｆx14がそれぞれ異なっていてもよく、
Ｒx15は、炭素数が１～２０のアルキル基であり、Ｒx15が複数存在する場合は複数のＲx15がそれぞれ異なっていてもよく、
Ｘ11は、加水分解性基又はヒドロキシ基であり、Ｘ11が複数存在する場合は複数のＸ11がそれぞれ異なっていてもよく、
Ｙ11は、－ＮＨ－、又は－Ｓ－であり、Ｙ11が複数存在する場合は複数のＹ11がそれぞれ異なっていてもよく、
Ｚ11は、ビニル基、α－メチルビニル基、スチリル基、メタクリロイル基、アクリロイル基、アミノ基、イソシアネート基、イソシアヌレート基、エポキシ基、ウレイド基、又はメルカプト基であり、
ｐ１は、１～２０の整数であり、ｐ２、ｐ３、ｐ４は、それぞれ独立して、０～１０の整数であり、ｐ５は、０～１０の整数であり、
ｐ６は、１～３の整数であり、
Ｚ11がアミノ基でない場合は－ＮＨ－であるＹ11を少なくとも１つ有し、Ｙ11が全て－Ｓ－である場合又はｐ５が０である場合はＺ11がアミノ基であり、
Ｚ11－、－Ｓｉ（Ｘ11）p6（Ｒx15）3-p6、ｐ１個の－｛Ｃ（Ｒx11）（Ｒx12）｝－単位（Ｕc11）、ｐ２個の－｛Ｃ（Ｒｆx11）（Ｒｆx12）｝－単位（Ｕc12）、ｐ３個の－｛Ｓｉ（Ｒx13）（Ｒx14）｝－単位（Ｕc13）、ｐ４個の－｛Ｓｉ（Ｒｆx13）（Ｒｆx14）｝－単位（Ｕc14）、ｐ５個の－Ｙ11－単位（Ｕc15）は、Ｚ11－が式（ｃ１）で表される化合物の一方の末端となり、－Ｓｉ（Ｘ11）p6（Ｒx15）3-p6が他方の末端となり、－Ｏ－が－Ｏ－と連結しない限り、それぞれの単位（Ｕc11）～単位（Ｕc15）が任意の順で並んで結合する。
【0116】
Ｒx11、Ｒx12、Ｒx13、及びＲx14は、水素原子であることが好ましい。
【0117】
Ｒｆx11、Ｒｆx12、Ｒｆx13、及びＲｆx14は、それぞれ独立して、１個以上の水素原子がフッ素原子に置換された炭素数１～１０のアルキル基又はフッ素原子であることが好ましい。
【0118】
Ｒx15は、炭素数が１～５のアルキル基であることが好ましい。
【0119】
Ｘ11は、アルコキシ基、ハロゲン原子、シアノ基、イソシアネート基、又はヒドロキシ基であることが好ましく、アルコキシ基又はヒドロキシ基であることがより好ましく、炭素数１～４のアルコキシ基又はヒドロキシ基であることが更に好ましく、メトキシ基、エトキシ基、又はヒドロキシ基であることが特に好ましい。
【0120】
Ｙ11は、－ＮＨ－であることが好ましい。
【0121】
Ｚ11は、メタクリロイル基、アクリロイル基、メルカプト基又はアミノ基であることが好ましく、メルカプト基又はアミノ基がより好ましく、アミノ基が特に好ましい。
【0122】
ｐ１は１～１５が好ましく、より好ましくは２～１０である。ｐ２、ｐ３及びｐ４は、それぞれ独立して、０～５が好ましく、より好ましくは全て０～２である。ｐ５は、０～５が好ましく、より好ましくは０～３である。ｐ６は、２～３が好ましく、より好ましくは３である。
【0123】
有機ケイ素化合物（Ｃ）としては、上記式（ｃ１）において、Ｒx11及びＲx12がいずれも水素原子であり、Ｙ11が－ＮＨ－であり、Ｘ11がアルコキシ基又はヒドロキシ基（特にメトキシ基、エトキシ基、又はヒドロキシ基）であり、Ｚ11がアミノ基又はメルカプト基であり、ｐ１が１～１０であり、ｐ２、ｐ３及びｐ４がいずれも０であり、ｐ５が０～５（特に０～３）であり、ｐ６が３である化合物を用いることが好ましい。
【0124】
なお、ｐ１個の単位（Ｕc11）は、単位（Ｕc11）が連続して結合している必要はなく、途中に他の単位を介して結合していてもよく、合計でｐ１個であればよい。ｐ２～ｐ５で括られる単位（Ｕc12）～単位（Ｕc15）についても同様である。
【0125】
有機ケイ素化合物（Ｃ１）は、下記式（ｃ１－２）で表されることが好ましい。
【0126】
【化8】
【0127】
上記式（ｃ１－２）中、
Ｘ12は、加水分解性基又はヒドロキシ基であり、Ｘ12が複数存在する場合は複数のＸ12がそれぞれ異なっていてもよく、
Ｙ12は、－ＮＨ－であり、
Ｚ12は、アミノ基、又はメルカプト基であり、
Ｒx16は、炭素数が１～２０のアルキル基であり、Ｒx16が複数存在する場合は複数のＲx16がそれぞれ異なっていてもよく、
ｐは、１～３の整数であり、ｑは２～５の整数であり、ｒは０～５の整数であり、ｓは０又は１であり、
ｓが０である場合は、Ｚ12はアミノ基である。
Ｘ12は、加水分解性基又はヒドロキシ基であり、Ｘ12が複数存在する場合は複数のＸ12がそれぞれ異なっていてもよく、
Ｙ12は、－ＮＨ－であり、
Ｚ12は、アミノ基、又はメルカプト基であり、
Ｒx16は、炭素数が１～２０のアルキル基であり、Ｒx16が複数存在する場合は複数のＲx16がそれぞれ異なっていてもよく、
ｐは、１～３の整数であり、ｑは２～５の整数であり、ｒは０～５の整数であり、ｓは０又は１であり、
ｓが０である場合は、Ｚ12はアミノ基である。
【0128】
Ｘ12は、アルコキシ基、ハロゲン原子、シアノ基、イソシアネート基、又はヒドロキシ基であることが好ましく、アルコキシ基又はヒドロキシ基であることがより好ましく、炭素数が１～４のアルコキシ基又はヒドロキシ基であることが更に好ましく、メトキシ基、エトキシ基、又はヒドロキシ基であることが特に好ましい。
【0129】
Ｚ12は、アミノ基であることが好ましい。
【0130】
Ｒx16は、炭素数が１～１０のアルキル基であることが好ましく、炭素数が１～５のアルキル基であることがより好ましい。
【0131】
ｐは、２～３の整数であることが好ましく、３であることがより好ましい。
【0132】
ｓが１である場合にはｑが２～３の整数であり、ｒが２～４の整数であることが好ましく、ｓが０である場合には、ｑとｒの合計が１～５であることが好ましい。
【0133】
４－１－２．下記式（ｃ２）で表される有機ケイ素化合物（Ｃ）（以下、有機ケイ素化合物（Ｃ２））
【0134】
【化9】
【0135】
上記式（ｃ２）中、
Ｒx20及びＲx21は、それぞれ独立して、水素原子又は炭素数が１～４のアルキル基であり、Ｒx20が複数存在する場合は複数のＲx20がそれぞれ異なっていてもよく、Ｒx21が複数存在する場合は複数のＲx21がそれぞれ異なっていてもよく、
Ｒｆx20及びＲｆx21は、それぞれ独立して、１個以上の水素原子がフッ素原子に置換された炭素数１～２０のアルキル基又はフッ素原子であり、Ｒｆx20が複数存在する場合は複数のＲｆx20がそれぞれ異なっていてもよく、Ｒｆx21が複数存在する場合は複数のＲｆx21がそれぞれ異なっていてもよく、
Ｒx22及びＲx23はそれぞれ独立して、炭素数が１～２０のアルキル基であり、Ｒx22及びＲx23が複数存在する場合は複数のＲx22及びＲx23がそれぞれ異なっていてもよく、
Ｘ20及びＸ21はそれぞれ独立して、加水分解性基又はヒドロキシ基であり、Ｘ20及びＸ21が複数存在する場合は複数のＸ20及びＸ21がそれぞれ異なっていてもよく、
ｐ２０は、１～３０の整数であり、ｐ２１は、０～３０の整数であり、ｐ２０又はｐ２１を付して括弧でくくられた繰り返し単位の少なくとも１つは、アミン骨格－ＮＲ100－に置き換わっており、前記アミン骨格におけるＲ100は水素原子又はアルキル基であり、
ｐ２２及びｐ２３はそれぞれ独立して、１～３の整数であり、
ｐ２０個の－｛Ｃ（Ｒx20）（Ｒx21）｝－単位（Ｕc21）、ｐ２１個の－｛Ｃ（Ｒｆx20）（Ｒｆx21）｝－単位（Ｕc22）は、ｐ２０個の単位（Ｕc21）又はｐ２１個の単位（Ｕc22）が連続である必要はなく、それぞれの単位（Ｕc21）及び単位（Ｕc22）が任意の順で並んで結合し、式（ｃ２）で表される化合物の一方の末端が－Ｓｉ（Ｘ20）p22（Ｒx22）3-p22となり、他方の末端が－Ｓｉ（Ｘ21）p23（Ｒx23）3-p23となる。
Ｒx20及びＲx21は、それぞれ独立して、水素原子又は炭素数が１～４のアルキル基であり、Ｒx20が複数存在する場合は複数のＲx20がそれぞれ異なっていてもよく、Ｒx21が複数存在する場合は複数のＲx21がそれぞれ異なっていてもよく、
Ｒｆx20及びＲｆx21は、それぞれ独立して、１個以上の水素原子がフッ素原子に置換された炭素数１～２０のアルキル基又はフッ素原子であり、Ｒｆx20が複数存在する場合は複数のＲｆx20がそれぞれ異なっていてもよく、Ｒｆx21が複数存在する場合は複数のＲｆx21がそれぞれ異なっていてもよく、
Ｒx22及びＲx23はそれぞれ独立して、炭素数が１～２０のアルキル基であり、Ｒx22及びＲx23が複数存在する場合は複数のＲx22及びＲx23がそれぞれ異なっていてもよく、
Ｘ20及びＸ21はそれぞれ独立して、加水分解性基又はヒドロキシ基であり、Ｘ20及びＸ21が複数存在する場合は複数のＸ20及びＸ21がそれぞれ異なっていてもよく、
ｐ２０は、１～３０の整数であり、ｐ２１は、０～３０の整数であり、ｐ２０又はｐ２１を付して括弧でくくられた繰り返し単位の少なくとも１つは、アミン骨格－ＮＲ100－に置き換わっており、前記アミン骨格におけるＲ100は水素原子又はアルキル基であり、
ｐ２２及びｐ２３はそれぞれ独立して、１～３の整数であり、
ｐ２０個の－｛Ｃ（Ｒx20）（Ｒx21）｝－単位（Ｕc21）、ｐ２１個の－｛Ｃ（Ｒｆx20）（Ｒｆx21）｝－単位（Ｕc22）は、ｐ２０個の単位（Ｕc21）又はｐ２１個の単位（Ｕc22）が連続である必要はなく、それぞれの単位（Ｕc21）及び単位（Ｕc22）が任意の順で並んで結合し、式（ｃ２）で表される化合物の一方の末端が－Ｓｉ（Ｘ20）p22（Ｒx22）3-p22となり、他方の末端が－Ｓｉ（Ｘ21）p23（Ｒx23）3-p23となる。
【0136】
Ｒx20及びＲx21は、水素原子であることが好ましい。
【0137】
Ｒｆx20及びＲｆx21は、それぞれ独立して、１個以上の水素原子がフッ素原子に置換された炭素数１～１０のアルキル基又はフッ素原子であることが好ましい。
【0138】
Ｒx22及びＲx23は、炭素数が１～５のアルキル基であることが好ましい。
【0139】
Ｘ20及びＸ21は、アルコキシ基、ハロゲン原子、シアノ基、イソシアネート基、又はヒドロキシ基であることが好ましく、アルコキシ基又はヒドロキシ基であることがより好ましく、炭素数１～４のアルコキシ基又はヒドロキシ基であることが更に好ましく、メトキシ基、エトキシ基、又はヒドロキシ基であることが特に好ましい。
【0140】
アミン骨格－ＮＲ100－は、上記の通り分子内に少なくとも１つ存在すればよく、ｐ２０又はｐ２１を付して括弧でくくられた繰り返し単位のいずれかが前記アミン骨格に置き換わっていればよいが、ｐ２０を付して括弧でくくられた繰り返し単位の一部であることが好ましい。前記アミン骨格は、複数存在してもよく、その場合のアミン骨格の数は、１～１０であることが好ましく、１～５であることがより好ましく、２～５であることが更に好ましい。また、この場合、隣り合うアミン骨格の間に－｛Ｃ（Ｒx20）（Ｒx21）｝p200－を有することが好ましく、ｐ２００は、１～１０であることが好ましく、１～５であることがより好ましい。ｐ２００は、ｐ２０の総数に含まれる。
【0141】
アミン骨格－ＮＲ100－において、Ｒ100がアルキル基である場合、炭素数は５以下であることが好ましく、３以下であることがより好ましい。アミン骨格－ＮＲ100－は、－ＮＨ－（Ｒ100が水素原子）であることが好ましい。
【0142】
ｐ２０は、アミン骨格に置き変わった繰り返し単位の数を除いて、１～１５が好ましく、より好ましくは１～１０である。
【0143】
ｐ２１は、アミン骨格に置き変わった繰り返し単位の数を除いて、０～５が好ましく、より好ましくは０～２である。
【0144】
ｐ２２及びｐ２３は、２～３が好ましく、より好ましくは３である。
【0145】
有機ケイ素化合物（Ｃ２）としては、上記式（ｃ２）において、Ｒx20及びＲx21がいずれも水素原子であり、Ｘ20及びＸ21がアルコキシ基又はヒドロキシ基（特にメトキシ基、エトキシ基、又はヒドロキシ基）であり、ｐ２０を付して括弧でくくられた繰り返し単位が、少なくとも１つアミン骨格－ＮＲ100－に置き換わっており、Ｒ100が水素原子であり、ｐ２０が１～１０であり（ただし、アミン骨格に置き変わった繰り返し単位の数を除く）、ｐ２１が０であり、ｐ２２及びｐ２３が３である化合物を用いることが好ましい。
【0146】
なお、後記する実施例で化合物（Ｃ）として用いる、特開２０１２－１９７３３０号公報に記載のＮ－２－（アミノエチル）－３－アミノプロピルトリメトキシシランとクロロプロピルトリメトキシシランの反応物（商品名；Ｘ－１２－５２６３ＨＰ、信越化学工業（株）製）を上記式（ｃ２）で表すと、Ｒx20及びＲx21がいずれも水素原子、ｐ２０が８（ただし、アミン骨格に置き変わった繰り返し単位の数を除く）、ｐ２１が０、アミン骨格が２つ（いずれもＲ100が水素原子）、両末端が同一で、ｐ２２及びｐ２３が３でＸ20及びＸ21がメトキシ基である。
【0147】
有機ケイ素化合物（Ｃ２）は、下記式（ｃ２－２）で表される化合物であることが好ましい。
【0148】
【化10】
【0149】
上記式（ｃ２－２）中、
Ｘ22及びＸ23は、それぞれ独立して、加水分解性基又はヒドロキシ基であり、Ｘ22及びＸ23が複数存在する場合は複数のＸ22及びＸ23がそれぞれ異なっていてもよく、
Ｒx24及びＲx25は、それぞれ独立して、炭素数が１～２０のアルキル基であり、Ｒx24及びＲx25が複数存在する場合は複数のＲx24及びＲx25がそれぞれ異なっていてもよく、
－ＣwＨ2w－は、その一部のメチレン基の少なくとも１つがアミン骨格－ＮＲ100－に置き換わっており、Ｒ100は水素原子又はアルキル基であり、
ｗは１～３０の整数であり（ただし、アミン骨格に置き換わったメチレン基の数を除く）、
ｐ２４及びｐ２５は、それぞれ独立して、１～３の整数である。
Ｘ22及びＸ23は、それぞれ独立して、加水分解性基又はヒドロキシ基であり、Ｘ22及びＸ23が複数存在する場合は複数のＸ22及びＸ23がそれぞれ異なっていてもよく、
Ｒx24及びＲx25は、それぞれ独立して、炭素数が１～２０のアルキル基であり、Ｒx24及びＲx25が複数存在する場合は複数のＲx24及びＲx25がそれぞれ異なっていてもよく、
－ＣwＨ2w－は、その一部のメチレン基の少なくとも１つがアミン骨格－ＮＲ100－に置き換わっており、Ｒ100は水素原子又はアルキル基であり、
ｗは１～３０の整数であり（ただし、アミン骨格に置き換わったメチレン基の数を除く）、
ｐ２４及びｐ２５は、それぞれ独立して、１～３の整数である。
【0150】
Ｘ22及びＸ23は、アルコキシ基、ハロゲン原子、シアノ基、イソシアネート基、又はヒドロキシ基であることが好ましく、アルコキシ基又はヒドロキシ基であることがより好ましく、炭素数１～４のアルコキシ基又はヒドロキシ基であることが更に好ましく、メトキシ基、エトキシ基、又はヒドロキシ基であることが特に好ましい。
【0151】
アミン骨格－ＮＲ100－は、複数存在してもよく、その場合のアミン骨格の数は、１～１０であることが好ましく、１～５であることがより好ましく、２～５であることが更に好ましい。また、この場合、隣り合うアミン骨格の間にアルキレン基を有することが好ましい。前記アルキレン基の炭素数は、１～１０であることが好ましく、１～５であることがより好ましい。隣り合うアミン骨格の間のアルキレン基の炭素数は、ｗの総数に含まれる。
【0152】
アミン骨格－ＮＲ100－において、Ｒ100がアルキル基である場合、炭素数は５以下であることが好ましく、３以下であることがより好ましい。アミン骨格－ＮＲ100－は、－ＮＨ－（Ｒ100が水素原子）であることが好ましい。
【0153】
Ｒx24及びＲx25は、炭素数が１～１０のアルキル基であることが好ましく、炭素数が１～５のアルキル基であることがより好ましい。
【0154】
ｐ２４及びｐ２５は、２～３の整数であることが好ましく、３であることがより好ましい。
【0155】
ｗは、１以上であることが好ましく、２以上であることがより好ましく、また２０以下であることが好ましく、１０以下であることがより好ましい。
【0156】
また、層（ｃ）には、本発明の効果を阻害しない範囲で、シラノール縮合触媒、酸化防止剤、防錆剤、紫外線吸収剤、光安定剤、防カビ剤、抗菌剤、抗ウイルス剤、生物付着防止剤、消臭剤、顔料、難燃剤、帯電防止剤等、各種の添加剤が含まれていてもよい。前記添加剤の量は、すなわち、有機ケイ素化合物（Ｃ）由来の固形分以外の固形分量は、層（ｃ）中、０．１質量％以下が好ましく、より好ましくは０．０１質量％以下である。
【0157】
なお、前記した層（ｒ）形成用組成物が有機ケイ素化合物（Ｃ）を含んでいてもよく、この場合、層（ｒ）が有機ケイ素化合物（Ｃ）を含んでいてもよいし、層（ｒ）形成用組成物の硬化時に、プライマー層（ｃ）が第一基材（ＳL）及びフッ素元素を含む層（ｒ）の間に分離して形成されていてもよい。
【0158】
５．積層体の特性
５－１．保護層（Ｐ）剥離後の層（ｒ）側表面の接触角
保護層（Ｐ）を剥がした後の、層（ｒ）側表面の接触角は、１００°以上である。このようにすることで、保護層（Ｐ）の剥離強度を高めることができる。保護層（Ｐ）を剥がした後の、層（ｒ）側表面の接触角は、好ましくは１０５°以上であり、より好ましくは１１０°以上であり、上限は特に限定されないが、例えば１２０°以下である。該接触角は、後述の実施例で示す通り、１．５μＬの水滴で液滴法（解析方法：θ／２法）にて測定すればよい。
５－１．保護層（Ｐ）剥離後の層（ｒ）側表面の接触角
保護層（Ｐ）を剥がした後の、層（ｒ）側表面の接触角は、１００°以上である。このようにすることで、保護層（Ｐ）の剥離強度を高めることができる。保護層（Ｐ）を剥がした後の、層（ｒ）側表面の接触角は、好ましくは１０５°以上であり、より好ましくは１１０°以上であり、上限は特に限定されないが、例えば１２０°以下である。該接触角は、後述の実施例で示す通り、１．５μＬの水滴で液滴法（解析方法：θ／２法）にて測定すればよい。
【0159】
５－２．保護層（Ｐ）を剥がす際の剥離強度
保護層（Ｐ）を剥がす際の剥離強度は、１．７ｇｆ／２５ｍｍ以上であることが好ましく、より好ましくは２．５ｇｆ／２５ｍｍ以上であり、更に好ましくは４．０ｇｆ／２５ｍｍ以上であり、一層好ましくは４．５ｇｆ／２５ｍｍ以上であり、また９．０ｇｆ／２５ｍｍ以下であってもよいし、８．０ｇｆ／２５ｍｍ以下であってもよいし、７．５ｇｆ／２５ｍｍ以下であってもよいし、７．０ｇｆ／２５ｍｍ未満であってもよい。剥離強度は、後述する実施例で行った通り、移動速度（剥離速度）３００ｍｍ／分で１８０°剥離試験を行った際の剥離強度である。
保護層（Ｐ）を剥がす際の剥離強度は、１．７ｇｆ／２５ｍｍ以上であることが好ましく、より好ましくは２．５ｇｆ／２５ｍｍ以上であり、更に好ましくは４．０ｇｆ／２５ｍｍ以上であり、一層好ましくは４．５ｇｆ／２５ｍｍ以上であり、また９．０ｇｆ／２５ｍｍ以下であってもよいし、８．０ｇｆ／２５ｍｍ以下であってもよいし、７．５ｇｆ／２５ｍｍ以下であってもよいし、７．０ｇｆ／２５ｍｍ未満であってもよい。剥離強度は、後述する実施例で行った通り、移動速度（剥離速度）３００ｍｍ／分で１８０°剥離試験を行った際の剥離強度である。
【0160】
５－３．保護層（Ｐ）の剥離面のＦ元素量
本発明の積層体では、前記層（ｒ）を第一基材（ＳL）側に残して保護層（Ｐ）を剥がした際の、保護層（Ｐ）の剥離面のＦ元素量が５０原子％未満であることが好ましい。このようにすることで、保護層（Ｐ）を剥がす際の剥離強度をより向上できる。前記Ｆ元素量は、４５原子％以下であることがより好ましく、４０原子％以下であることが更に好ましく、３５原子％以下であることが一層好ましい。前記Ｆ元素量の下限は特に限定されないが、例えば５原子％以上であり、８原子％以上であってもよいし、１３原子％以上であってもよい。
本発明の積層体では、前記層（ｒ）を第一基材（ＳL）側に残して保護層（Ｐ）を剥がした際の、保護層（Ｐ）の剥離面のＦ元素量が５０原子％未満であることが好ましい。このようにすることで、保護層（Ｐ）を剥がす際の剥離強度をより向上できる。前記Ｆ元素量は、４５原子％以下であることがより好ましく、４０原子％以下であることが更に好ましく、３５原子％以下であることが一層好ましい。前記Ｆ元素量の下限は特に限定されないが、例えば５原子％以上であり、８原子％以上であってもよいし、１３原子％以上であってもよい。
【0161】
前記Ｆ元素量は、保護層（Ｐ）の剥離面を構成する元素とその量をＸ線光電子分光法（ＸＰＳ）により測定することによって求めることができる。ＸＰＳにより測定される前記表面（Ｗ）を構成する元素は、代表的にはＢ、Ｃ、Ｎ、Ｏ、Ｆ、Ｓｉ、Ｐ、Ｓ、Ｃｌであり、特にＣ、Ｎ、Ｏ、Ｆ、Ｓｉである。Ｂ、Ｃ、Ｎ、Ｏ、Ｆ、Ｓｉ、Ｐ、Ｓ、及びＣｌの含有量は、それぞれ、Ｂ１ｓスペクトル、Ｃ１ｓスペクトル、Ｎ１ｓスペクトル、Ｏ１ｓスペクトル、Ｆ１ｓスペクトル、Ｓｉ２ｐスペクトル、Ｐ２ｐスペクトル、Ｓ２ｐスペクトル、Ｃｌ２ｐスペクトルに基づいて算出される。
【0162】
５－４．保護層（Ｐ）の剥離面の接触角
前記フッ素元素を含む層（ｒ）を第一基材（ＳL）側に残して保護層（Ｐ）を剥がした際の、保護層（Ｐ）の剥離面の接触角は、１１０°以下であることが好ましい。このようにすることで、保護層（Ｐ）を剥がす際の剥離強度をより向上できる。当該接触角は、１０９°以下がより好ましく、更に好ましくは１０５°以下であり、下限は特に限定されないが、９０°以上であってもよいし、９３°以上であってもよいし、９５°以上であってもよい。該接触角は、後述の実施例で示す通り、１．５μＬの水滴で液滴法（解析方法：θ／２法）にて測定すればよい。
前記フッ素元素を含む層（ｒ）を第一基材（ＳL）側に残して保護層（Ｐ）を剥がした際の、保護層（Ｐ）の剥離面の接触角は、１１０°以下であることが好ましい。このようにすることで、保護層（Ｐ）を剥がす際の剥離強度をより向上できる。当該接触角は、１０９°以下がより好ましく、更に好ましくは１０５°以下であり、下限は特に限定されないが、９０°以上であってもよいし、９３°以上であってもよいし、９５°以上であってもよい。該接触角は、後述の実施例で示す通り、１．５μＬの水滴で液滴法（解析方法：θ／２法）にて測定すればよい。
【0163】
６．積層体の製造方法
本発明の積層体を製造する好ましい方法は、(i)撥水層形成用組成物を第一基材（ＳL）または第一基材（ＳL）を含む積層中間体１に塗布する撥水層塗布工程、（ii）前記撥水層形成用組成物の塗布層を硬化させて積層中間体２を得る撥水層硬化工程、及び（iii）積層中間体２の上に保護層（Ｐ）を積層する保護層積層工程を含む。
前記(i)撥水層塗布工程では、第一基材（ＳL）に撥水層形成用組成物を直接塗布してもよいし、第一基材（ＳL）にプライマー層（ｃ）などの他の層を形成して、他の層の上に撥水層形成用組成物を塗布してもよい。プライマー層（ｃ）を形成させる場合には、（ｐｒ１－i）第一基材（ＳL）に層（ｃ）形成用組成物を塗布する工程と、（ｐｒ２－i）前記層（ｃ）形成用組成物の塗布層を硬化させて積層中間体１を得る工程と、（i’）積層中間体１の前記層（ｃ）形成用組成物の塗布面に、撥水層形成用組成物を塗布する撥水層塗布工程と、（ii）前記撥水層形成用組成物の塗布層を硬化させて積層中間体２を得る撥水層硬化工程、及び（iii）積層中間体２の上に保護層（Ｐ）を積層する保護層積層工程を含む工程により、本発明の積層体を製造すればよい。上記製造方法において、前記層（ｃ）形成用組成物の塗布層から前記層（ｃ）が形成され、前記撥水層形成用組成物の塗布層から前記層（ｒ）が形成される。
また、上記製造方法において、前記（ii）撥水層硬化工程と（iii）保護層積層工程の間に、他の層を形成する工程を有していてもよいが、（ii）撥水層硬化工程の後、他の層を形成することなく、すなわち撥水層を最表面とする積層中間体２に直接、（iii）保護層積層工程が行われることが好ましい。
本発明の積層体を製造する好ましい方法は、(i)撥水層形成用組成物を第一基材（ＳL）または第一基材（ＳL）を含む積層中間体１に塗布する撥水層塗布工程、（ii）前記撥水層形成用組成物の塗布層を硬化させて積層中間体２を得る撥水層硬化工程、及び（iii）積層中間体２の上に保護層（Ｐ）を積層する保護層積層工程を含む。
前記(i)撥水層塗布工程では、第一基材（ＳL）に撥水層形成用組成物を直接塗布してもよいし、第一基材（ＳL）にプライマー層（ｃ）などの他の層を形成して、他の層の上に撥水層形成用組成物を塗布してもよい。プライマー層（ｃ）を形成させる場合には、（ｐｒ１－i）第一基材（ＳL）に層（ｃ）形成用組成物を塗布する工程と、（ｐｒ２－i）前記層（ｃ）形成用組成物の塗布層を硬化させて積層中間体１を得る工程と、（i’）積層中間体１の前記層（ｃ）形成用組成物の塗布面に、撥水層形成用組成物を塗布する撥水層塗布工程と、（ii）前記撥水層形成用組成物の塗布層を硬化させて積層中間体２を得る撥水層硬化工程、及び（iii）積層中間体２の上に保護層（Ｐ）を積層する保護層積層工程を含む工程により、本発明の積層体を製造すればよい。上記製造方法において、前記層（ｃ）形成用組成物の塗布層から前記層（ｃ）が形成され、前記撥水層形成用組成物の塗布層から前記層（ｒ）が形成される。
また、上記製造方法において、前記（ii）撥水層硬化工程と（iii）保護層積層工程の間に、他の層を形成する工程を有していてもよいが、（ii）撥水層硬化工程の後、他の層を形成することなく、すなわち撥水層を最表面とする積層中間体２に直接、（iii）保護層積層工程が行われることが好ましい。
【0164】
前記層（ｃ）形成用組成物は、有機ケイ素化合物（Ｃ）の混合組成物である。有機ケイ素化合物（Ｃ）の混合組成物は、有機ケイ素化合物（Ｃ）を混合することにより得られ、有機ケイ素化合物（Ｃ）以外の成分が混合されている場合は、有機ケイ素化合物（Ｃ）と他の成分を混合することにより得られる。層（ｃ）形成用組成物は、混合後、例えば保管中に反応が進んだものも含み、反応が進んだ例としては、前記層（ｃ）形成用組成物が、好ましい態様における上記有機ケイ素化合物（Ｃ）のケイ素原子に結合した加水分解性基が加水分解により－ＳｉＯＨ基となった化合物（以下、有機ケイ素化合物（Ｃ）の加水分解物という場合がある）を含むことが挙げられる。また、反応が進んだ例としては、層（ｃ）形成用組成物が、前記有機ケイ素化合物（Ｃ）の縮合物を含むことも挙げられ、該縮合物としては、有機ケイ素化合物（Ｃ）が有する－ＳｉＯＨ基又は加水分解で生じた有機ケイ素化合物（Ｃ）の－ＳｉＯＨ基が、有機ケイ素化合物（Ｃ）由来の－ＳｉＯＨ基、又は他の化合物由来の－ＳｉＯＨ基と脱水縮合して形成された脱水縮合物が挙げられる。
【0165】
前記層（ｃ）形成用組成物は、溶剤（Ｅ）が混合されていることが好ましい。溶剤（Ｅ）は特に限定されず、例えば水、アルコール系溶剤、ケトン系溶剤、エーテル系溶剤、炭化水素系溶剤、エステル系溶剤などを用いることができ、特にアルコール系溶剤が好ましい。
【0166】
アルコール系溶剤としては、メタノール、エタノール、１－プロパノール、２－プロパノール、１－ブタノールなどが挙げられる。
ケトン系溶剤としては、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトンなどが挙げられる。
エーテル系溶剤としては、ジエチルエーテル、ジプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、１，４－ジオキサンなどが挙げられる。
炭化水素系溶剤としては、ペンタン、ヘキサンなどの脂肪族炭化水素系溶剤、シクロヘキサンなどの脂環式炭化水素系溶剤、ベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素系溶剤などが挙げられる。
エステル系溶剤としては、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチルなどが挙げられる。
ケトン系溶剤としては、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトンなどが挙げられる。
エーテル系溶剤としては、ジエチルエーテル、ジプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、１，４－ジオキサンなどが挙げられる。
炭化水素系溶剤としては、ペンタン、ヘキサンなどの脂肪族炭化水素系溶剤、シクロヘキサンなどの脂環式炭化水素系溶剤、ベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素系溶剤などが挙げられる。
エステル系溶剤としては、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチルなどが挙げられる。
【0167】
前記層（ｃ）形成用組成物の全体を１００質量％としたときの、有機ケイ素化合物（Ｃ）の量は、０．０１質量％以上が好ましく、より好ましくは０．０５質量％以上であり、また５質量％以下が好ましく、より好ましくは３質量％以下、更に好ましくは１質量％以下である。上記の有機ケイ素化合物（Ｃ）の量は、組成物の調製時に調整できる。また有機ケイ素化合物（Ｃ）の量は、組成物の分析結果から算出してもよい。組成物の分析結果から特定する方法としては、例えば、組成物に含まれる各化合物の種類は、組成物をガスクロマトグラフィー質量分析法や液体クロマトグラフィー質量分析法等により分析し、得られた分析結果をライブラリ検索することで特定でき、また組成物に含まれる各化合物の量は、検量線法を用いて上記分析結果から算出することができる。なお、本明細書において、各成分の量、質量比又はモル比の範囲を記載している場合、該範囲は、組成物の調製時に調整できる。また、層（ｃ）形成用組成物中の固形分１００質量％中の有機ケイ素化合物（Ｃ）の量は８５質量％以上が好ましく、９５質量％以上が好ましい。
【0168】
前記層（ｃ）形成用組成物の全体を１００質量％としたときの、溶剤（Ｅ）の量は、８０質量％以上であることが好ましく、より好ましくは８５質量％以上、更に好ましくは９０質量％以上、より更に好ましくは９５質量％以上、一層好ましくは９８質量％以上であり、また９９．９９質量％以下であってもよい。
【0169】
また層（ｃ）形成用組成物は、本発明の効果を阻害しない範囲で、シラノール縮合触媒、酸化防止剤、防錆剤、紫外線吸収剤、光安定剤、防カビ剤、抗菌剤、抗ウイルス剤、生物付着防止剤、消臭剤、顔料、難燃剤、帯電防止剤等、各種の添加剤が混合されていてもよい。前記添加剤の量、すなわち有機ケイ素化合物（Ｃ）及び溶剤（Ｅ）以外に含まれる物の量は、層（ｃ）形成用組成物１００質量％中、５質量％以下が好ましく、より好ましくは１質量％以下である。
【0170】
前記層（ｃ）形成用組成物を塗布する方法としては、例えばディップコート法、ロールコート法、バーコート法、スピンコート法、スプレーコート法、ダイコート法、グラビアコート法などが挙げられる。
【0171】
前記層（ｃ）形成用組成物を塗布する前に、第一基材（ＳL）の塗布面に易接着処理を施しておくことが好ましい。易接着処理としては、コロナ処理、プラズマ処理、紫外線処理等の親水化処理が挙げられ、プラズマ処理がより好ましい。プラズマ処理等の易接着処理を行うことで、基材の表面にＯＨ基（特に基材がエポキシ樹脂の場合）やＣＯＯＨ基（特に基材がアクリル樹脂の場合）などの官能基を形成させることができ、基材表面にこのような官能基が形成されている場合に特に層（ｃ）と第一基材（ＳL）との密着性がより向上できる。
【0172】
層（ｃ）形成用組成物を塗布した後、常温、大気中で、例えば１０秒以上（通常２４時間以下）静置することで、前記層（ｃ）形成用組成物の塗布層が乾燥し、該塗布層から前記層（ｃ）を形成できる。本発明において常温とは、５～６０℃であり、好ましくは１５～４０℃の温度範囲である。常温で静置する際の湿度条件は５０～９０％ＲＨとしてもよい。また、層（ｃ）形成用組成物を塗布した後は、６０℃を超える温度（通常１２０℃以下であり、１００℃以下であってもよい）に加熱して１０秒～６０分（好ましくは３０秒～４０分）程度保持してもよい。
【0173】
前記撥水層形成用組成物は、有機ケイ素化合物（Ａ）の混合組成物であり、有機ケイ素化合物（Ａ）を混合することにより得られる。また、有機ケイ素化合物（Ａ）以外の成分が混合されている場合には、前記有機ケイ素化合物（Ａ）と他の成分とを混合することにより撥水層形成用組成物が得られる。前記撥水層形成用組成物は、混合後、例えば保管中に反応が進んだものも含む。反応が進んだ例としては、例えば、前記撥水層形成用組成物が、上記有機ケイ素化合物（Ａ）のケイ素原子に結合した（連結基を介して結合していてもよい）加水分解性基が加水分解により－ＳｉＯＨ基（ＳｉとＯＨが連結基を介して結合していてもよい）となった化合物（以下、有機ケイ素化合物（Ａ）の加水分解物という場合がある）を含むことが挙げられる。また、前記撥水層形成用組成物が有機ケイ素化合物（Ａ）の縮合物を含むことも挙げられ、該縮合物としては、例えば、有機ケイ素化合物（Ａ）が有する－ＳｉＯＨ基又は加水分解で生じた有機ケイ素化合物（Ａ）の－ＳｉＯＨ基（ＳｉとＯＨが連結基を介して結合していてもよい）が、有機ケイ素化合物（Ａ）由来の－ＳｉＯＨ基（ＳｉとＯＨが連結基を介して結合していてもよい）、又は他の化合物由来の－ＳｉＯＨ基と脱水縮合して形成された脱水縮合物が挙げられる。
【0174】
撥水層形成用組成物の全体を１００質量％とした際の、有機ケイ素化合物（Ａ）の量は、例えば０．０１質量％以上であり、好ましくは０．０５質量％以上であり、また０．５質量％以下であることが好ましく、より好ましくは０．３質量％以下である。
【0175】
前記撥水層形成用組成物は、上記した有機ケイ素化合物（Ａ）とともに、有機ケイ素化合物（Ｂ）が混合されていることが好ましい。これにより、層（ｒ）が有機ケイ素化合物（Ｂ）由来の構造を含むことが可能となる。前記撥水層形成用組成物は、上述した通り、有機ケイ素化合物（Ａ）及び必要に応じて用いられる有機ケイ素化合物（Ｂ）を混合した後に、反応が進んだものも含み、反応が進んだ例としては、前記撥水層形成用組成物が、上記有機ケイ素化合物（Ｂ）のケイ素原子に結合した加水分解性基が加水分解により－ＳｉＯＨ基となった化合物（以下、有機ケイ素化合物（Ｂ）の加水分解物という場合がある）を含むことが挙げられる。また、前記撥水層形成用組成物が有機ケイ素化合物（Ｂ）の縮合物を含むことも挙げられ、該縮合物としては、有機ケイ素化合物（Ｂ）が有する－ＳｉＯＨ基又は加水分解で生じた有機ケイ素化合物（Ｂ）の－ＳｉＯＨ基が、有機ケイ素化合物（Ｂ）由来の－ＳｉＯＨ基、又は他の化合物由来の－ＳｉＯＨ基と脱水縮合して形成された脱水縮合物が挙げられる。
【0176】
撥水層形成用組成物の全体を１００質量％とした際の、有機ケイ素化合物（Ｂ）の量は、例えば０．０１質量％以上であり、好ましくは０．０３質量％以上であり、また０．３質量％以下であることが好ましく、より好ましくは０．２質量％以下である。
【0177】
前記撥水層形成用組成物における、有機ケイ素化合物（Ａ）に対する有機ケイ素化合物（Ｂ）の質量比は、０．２以上が好ましく、より好ましくは０．４以上であり、また３．０以下が好ましく、より好ましくは１．５以下である。
【0178】
また、撥水層形成用組成物の全体を１００質量％とした際の、有機ケイ素化合物（Ａ）及び（Ｂ）の合計量は、０．０５質量％以上であることが好ましく、より好ましくは０．１０質量％以上であり、また０．７質量％以下が好ましく、０．５質量％以下がより好ましく、０．３質量％以下が更に好ましい。撥水層形成用組成物中の固形分の合計を１００質量％とした際の有機ケイ素化合物（Ａ）及び（Ｂ）の合計量は、８５質量％以上が好ましく、より好ましくは９０質量％以上であり、更に好ましくは９５質量％以上である。
【0179】
前記撥水層形成用組成物は、通常、溶剤（Ｄ）が混合されている。溶剤（Ｄ）としてはフッ素系溶剤を用いることが好ましく、例えばフッ素化エーテル系溶剤、フッ素化アミン系溶剤、フッ素化炭化水素系溶剤等を用いることができ、特に沸点が１００℃以上であることが好ましい。フッ素化エーテル系溶剤としては、フルオロアルキル（特に炭素数２～６のパーフルオロアルキル基）－アルキル（特にメチル基又はエチル基）エーテルなどのハイドロフルオロエーテルが好ましく、例えばエチルノナフルオロブチルエーテル又はエチルノナフルオロイソブチルエーテルが挙げられる。エチルノナフルオロブチルエーテル又はエチルノナフルオロイソブチルエーテルとしては、例えばＮｏｖｅｃ（登録商標）７２００（３Ｍ社製、分子量約２６４）が挙げられる。フッ素化アミン系溶剤としては、アンモニアの水素原子の少なくとも１つがフルオロアルキル基で置換されたアミンが好ましく、アンモニアの全ての水素原子がフルオロアルキル基（特にパーフルオロアルキル基）で置換された第三級アミンが好ましく、具体的にはトリス（ヘプタフルオロプロピル）アミンが挙げられ、フロリナート（登録商標）ＦＣ－３２８３（３Ｍ社製、分子量約５２１）がこれに該当する。フッ素化炭化水素系溶剤としては、１，１，１，３，３－ペンタフルオロブタン、パーフルオロヘキサンなどのフッ素化脂肪族炭化水素系溶剤、１，３－ビス（トリフルオロメチルベンゼン）などのフッ素化芳香族炭化水素系溶剤が挙げられる。１，１，１，３，３－ペンタフルオロブタンとしては、例えばソルブ５５（ソルベックス社製）等が挙げられる。
【0180】
フッ素系溶剤としては、上記の他、アサヒクリン（登録商標）ＡＫ２２５（ＡＧＣ社製）などのハイドロクロロフルオロカーボン、アサヒクリン（登録商標）ＡＣ２０００（ＡＧＣ社製）などのハイドロフルオロカーボンなどを用いることができる。
【0181】
溶剤（Ｄ）として、少なくともフッ素化アミン系溶剤を用いることが好ましい。
【0182】
撥水層形成用組成物の全体を１００質量％とした際の、溶剤（Ｄ）の量は、８０質量％以上であることが好ましく、より好ましくは９０質量％以上であり、更に好ましくは９５質量％以上、一層好ましくは９８質量％以上であり、また９９．９質量％以下であってもよい。
【0183】
また撥水層形成用組成物は、本発明の効果を阻害しない範囲で、シラノール縮合触媒、酸化防止剤、防錆剤、紫外線吸収剤、光安定剤、防カビ剤、抗菌剤、抗ウイルス剤、生物付着防止剤、消臭剤、顔料、難燃剤、帯電防止剤等、各種の添加剤が混合されていてもよい。前記添加剤の量、すなわち有機ケイ素化合物（Ａ）、（Ｂ）及び溶剤（Ｅ）以外に含まれる物の量は、撥水層形成用組成物１００質量％中、５質量％以下が好ましく、より好ましくは１質量％以下である。
【0184】
前記撥水層形成用組成物（１）を塗布する方法としては、例えばディップコート法、ロールコート法、バーコート法、スピンコート法、スプレーコート法、ダイコート法、グラビアコート法などが挙げられる。
【0185】
撥水層形成用組成物を塗布した後、常温、大気中で、例えば１０秒以上（通常２４時間以下）静置することで本発明の積層体を製造できる。常温で静置する際の湿度条件は５０～９０％ＲＨとしてもよい。また、撥水層形成用組成物を塗布した後は、６０℃を超える温度（通常１２０℃以下であり、１００℃以下であってもよい）に加熱して１０秒～６０分（好ましくは３０秒～４０分）程度保持してもよい。
【0186】
保護層積層工程において、保護層が第二基材（ＳP）及び粘着層（ａｄ）を含む場合、第二基材（ＳP）及び粘着層（ａｄ）を含むフィルムを用意し、これを積層中間体２に積層してもよいし、積層中間体２の上に粘着剤組成物を塗布して粘着層（ａｄ）を形成し、この粘着層（ａｄ）に第二基材（ＳP）を積層してもよい。
【0187】
７．表示装置
本発明の積層体は、例えば光学フィルムとして表示装置に好適に用いられ、特にフレキシブル表示装置に好適に用いられる。本発明の積層体は、好ましくは表示装置において前面板として用いることができ、該前面板はウインドウフィルムと称されることがある。
本発明の積層体は、例えば光学フィルムとして表示装置に好適に用いられ、特にフレキシブル表示装置に好適に用いられる。本発明の積層体は、好ましくは表示装置において前面板として用いることができ、該前面板はウインドウフィルムと称されることがある。
【0188】
前記表示装置は、ウインドウフィルム（すなわち、本発明の積層体）を含む表示装置用積層体と、有機ＥＬ表示パネルとからなることが好ましく、有機ＥＬ表示パネルに対して視認側に表示装置用積層体が配置されている。また、フレキシブル表示装置においては、フレキシブルな特性を有するウインドウフィルムを含むフレキシブル表示装置用積層体と、有機ＥＬ表示パネルとからなることが好ましく、有機ＥＬ表示パネルに対して視認側にフレキシブル表示装置用積層体が配置され、折り曲げ可能に構成されている。表示装置用積層体（好ましくはフレキシブル表示装置用積層体）は、さらに偏光板（好ましくは円偏光板）、タッチセンサ等を含有してタッチパネルディスプレイを構成してもよく、それらの積層順は任意であるが、視認側からウインドウフィルム、偏光板、タッチセンサの順、又は、ウインドウフィルム、タッチセンサ、偏光板の順に積層されていることが好ましい。タッチセンサよりも視認側に偏光板が存在すると、タッチセンサのパターンが視認されにくくなり表示画像の視認性が良くなるので好ましい。それぞれの部材は接着剤、粘着剤等を用いて積層することができる。また、表示装置（好ましくはフレキシブル表示装置）は、前記ウインドウフィルム、偏光板、タッチセンサのいずれかの層の少なくとも一方の面に形成された遮光パターンを具備することができる。
【0189】
（ウインドウフィルム）
ウインドウフィルムは、表示装置（好ましくはフレキシブル画像表示装置）の視認側に配置され、その他の構成要素を外部からの衝撃又は温湿度等の環境変化から保護する役割を担っている。このような保護層としてはガラスを使用してもよく、フレキシブル画像表示装置においては、ウインドウフィルムはガラスのようにリジッドで堅いものではなく、フレキシブルな特性を有する材料を使用してもよい。従って、本発明の積層体をフレキシブル表示装置におけるウインドウフィルムとして用いる場合には、第一基材（ＳL）はフレキシブルな透明基材からなる層を有することが好ましく、第一基材（ＳL）が、少なくとも一方の面にハードコート層が積層されている複層構造を有してもよい。
ウインドウフィルムは、表示装置（好ましくはフレキシブル画像表示装置）の視認側に配置され、その他の構成要素を外部からの衝撃又は温湿度等の環境変化から保護する役割を担っている。このような保護層としてはガラスを使用してもよく、フレキシブル画像表示装置においては、ウインドウフィルムはガラスのようにリジッドで堅いものではなく、フレキシブルな特性を有する材料を使用してもよい。従って、本発明の積層体をフレキシブル表示装置におけるウインドウフィルムとして用いる場合には、第一基材（ＳL）はフレキシブルな透明基材からなる層を有することが好ましく、第一基材（ＳL）が、少なくとも一方の面にハードコート層が積層されている複層構造を有してもよい。
【0190】
前記透明基材は、可視光線の透過率が例えば７０％以上、好ましくは８０％以上である。前記透明基材は、透明性のある高分子フィルムなら、どのようなものでも使用可能である。具体的には、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリメチルペンテン、ノルボルネン又はシクロオレフィンを含む単量体の単位を有するシクロオレフィン系誘導体等のポリオレフィン類、ジアセチルセルロース、トリアセチルセルロース、プロピオニルセルロース等の（変性）セルロース類、メチルメタクリレート（共）重合体等のアクリル類、スチレン（共）重合体等のポリスチレン類、アクリロニトリル・ブタジエン・スチレン共重合体類、アクリロニトリル・スチレン共重合体類、エチレン－酢酸ビニル共重合体類、ポリ塩化ビニル類、ポリ塩化ビニリデン類、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリカーボネート、ポリアリレート等のポリエステル類、ナイロン等のポリアミド類、ポリイミド類、ポリアミドイミド類、ポリエーテルイミド類、ポリエーテルスルホン類、ポリスルホン類、ポリビニルアルコール類、ポリビニルアセタール類、ポリウレタン類、エポキシ樹脂類などの高分子で形成されたフィルムであってもよく、未延伸１軸又は２軸延伸フィルムを使用することができる。これらの高分子はそれぞれ単独又は２種以上混合して使用することができる。好ましくは、前記記載の透明基材の中でも透明性及び耐熱性に優れたポリアミドフィルム、ポリアミドイミドフィルム又はポリイミドフィルム、ポリエステル系フィルム、オレフィン系フィルム、アクリルフィルム、セルロース系フィルムが好ましい。高分子フィルムの中には、シリカ等の無機粒子、有機微粒子、ゴム粒子等を分散させることも好ましい。さらに、顔料や染料のような着色剤、蛍光増白剤、分散剤、可塑剤、熱安定剤、光安定剤、赤外線吸収剤、紫外線吸収剤、帯電防止剤、酸化防止剤、滑剤、溶剤などの配合剤を含有させてもよい。前記透明基材の厚さは５μｍ以上２００μｍ以下、好ましくは２０μｍ以上１００μｍ以下である。特にフレキシブル画像表示装置に用いる場合、前記透明基材の厚さは５μｍ以上６０μｍ以下が好ましい。
【0191】
本発明の積層体がウインドウフィルムとして用いられる場合のハードコート層も、上記したハードコート層（ｈｃ）と同様である。上述の通り、ハードコート層（ｈｃ）は、活性エネルギー線硬化型樹脂及び熱硬化型の樹脂から形成されることが好ましく、このような樹脂は活性エネルギー線或いは熱エネルギーを照射して架橋構造を形成する反応性材料を含むハードコート組成物の硬化により形成することができる。前記ハードコート組成物は、ラジカル重合性化合物及びカチオン重合性化合物の少なくとも１種の重合物を含有する。
【0192】
前記ラジカル重合性化合物とは、ラジカル重合性基を有する化合物である。前記ラジカル重合性化合物が有するラジカル重合性基としては、ラジカル重合反応を生じ得る官能基であればよく、炭素－炭素不飽和二重結合を含む基などが挙げられる。具体的には、ビニル基、（メタ）アクリロイル基などが挙げられる。なお、前記ラジカル重合性化合物が２個以上のラジカル重合性基を有する場合、これらのラジカル重合性基はそれぞれ同一であってもよいし、異なっていてもよい。前記ラジカル重合性化合物が１分子中に有するラジカル重合性基の数は、ハードコート層の硬度を向上する点から、２つ以上であることが好ましい。前記ラジカル重合性化合物としては、反応性の高さの点から、中でも（メタ）アクリロイル基を有する化合物が好ましく、１分子中に２～６個の（メタ）アクリロイル基を有する多官能アクリレートモノマーと称される化合物やエポキシ（メタ）アクリレート、ウレタン（メタ）アクリレート、ポリエステル（メタ）アクリレートと称される分子内に数個の（メタ）アクリロイル基を有する分子量が数百から数千のオリゴマーを好ましく使用できる。エポキシ（メタ）アクリレート、ウレタン（メタ）アクリレート及びポリエステル（メタ）アクリレートから選択された１種以上を含むことが好ましい。
【0193】
前記カチオン重合性化合物とは、エポキシ基、オキセタニル基、ビニルエーテル基等のカチオン重合性基を有する化合物である。前記カチオン重合性化合物が１分子中に有するカチオン重合性基の数は、ハードコート層の硬度を向上する点から、２つ以上であることが好ましく、更に３つ以上であることが好ましい。また、前記カチオン重合性化合物としては、中でも、カチオン重合性基としてエポキシ基及びオキセタニル基の少なくとも１種を有する化合物が好ましい。エポキシ基、オキセタニル基等の環状エーテル基は、重合反応に伴う収縮が小さいという点から好ましい。また、環状エーテル基のうちエポキシ基を有する化合物は多様な構造の化合物が入手し易く、得られたハードコート層の耐久性に悪影響を与えず、ラジカル重合性化合物との相溶性もコントロールし易いという利点がある。また、環状エーテル基のうちオキセタニル基は、エポキシ基と比較して重合度が高くなりやすく、低毒性であり、得られたハードコート層のカチオン重合性化合物から得られるネットワーク形成速度を早め、ラジカル重合性化合物と混在する領域でも未反応のモノマーを膜中に残さずに独立したネットワークを形成する等の利点がある。
【0194】
エポキシ基を有するカチオン重合性化合物としては、例えば、脂環族環を有する多価アルコールのポリグリシジルエーテル又は、シクロヘキセン環、シクロペンテン環含有化合物を、過酸化水素、過酸等の適当な酸化剤でエポキシ化する事によって得られる脂環族エポキシ樹脂；脂肪族多価アルコール、又はそのアルキレンオキサイド付加物のポリグリシジルエーテル、脂肪族長鎖多塩基酸のポリグリシジルエステル、グリシジル（メタ）アクリレートのホモポリマー、コポリマーなどの脂肪族エポキシ樹脂；ビスフェノールＡ、ビスフェノールＦや水添ビスフェノールＡ等のビスフェノール類、又はそれらのアルキレンオキサイド付加体、カプロラクトン付加体等の誘導体と、エピクロルヒドリンとの反応によって製造されるグリシジルエーテル、及びノボラックエポキシ樹脂等でありビスフェノール類から誘導されるグリシジルエーテル型エポキシ樹脂等が挙げられる。
前記ハードコート組成物には重合開始剤をさらに含むことができる。重合開始剤としては、ラジカル重合開始剤、カチオン重合開始剤、ラジカル及びカチオン重合開始剤等であり、適宜選択して用いることができる。これらの重合開始剤は、活性エネルギー線照射及び加熱の少なくとも一種により分解されて、ラジカルもしくはカチオンを発生してラジカル重合とカチオン重合を進行させるものである。
前記ハードコート組成物には重合開始剤をさらに含むことができる。重合開始剤としては、ラジカル重合開始剤、カチオン重合開始剤、ラジカル及びカチオン重合開始剤等であり、適宜選択して用いることができる。これらの重合開始剤は、活性エネルギー線照射及び加熱の少なくとも一種により分解されて、ラジカルもしくはカチオンを発生してラジカル重合とカチオン重合を進行させるものである。
【0195】
ラジカル重合開始剤は、活性エネルギー線照射及び加熱の少なくともいずれかによりラジカル重合を開始させる物質を放出することが可能であれば良い。例えば、熱ラジカル重合開始剤としては、過酸化水素、過安息香酸等の有機過酸化物、アゾビスブチロニトリル等のアゾ化合物等が挙げられる。
活性エネルギー線ラジカル重合開始剤としては、分子の分解でラジカルが生成されるＴｙｐｅ１型ラジカル重合開始剤と、３級アミンと共存して水素引き抜き型反応でラジカルを生成するＴｙｐｅ２型ラジカル重合開始剤があり、それぞれ単独で又は併用して使用することもできる。
活性エネルギー線ラジカル重合開始剤としては、分子の分解でラジカルが生成されるＴｙｐｅ１型ラジカル重合開始剤と、３級アミンと共存して水素引き抜き型反応でラジカルを生成するＴｙｐｅ２型ラジカル重合開始剤があり、それぞれ単独で又は併用して使用することもできる。
【0196】
カチオン重合開始剤は、活性エネルギー線照射及び加熱の少なくともいずれかによりカチオン重合を開始させる物質を放出することが可能であれば良い。カチオン重合開始剤としては、芳香族ヨードニウム塩、芳香族スルホニウム塩、シクロペンタジエニル鉄（ＩＩ）錯体等が使用できる。これらは、構造の違いによって活性エネルギー線照射又は加熱のいずれか又はいずれでもカチオン重合を開始することができる。
【0197】
前記重合開始剤は、前記ハードコート組成物全体１００重量％に対して０．１～１０重量％を含むことができる。前記重合開始剤の含量が０．１重量％未満の場合、硬化を十分に進行させることができず、最終的に得られた塗膜の機械的物性や密着力を具現することが難しく、１０重量％を超える場合、硬化収縮による接着力不良や割れ現象及びカール現象が発生することがある。
【0198】
前記ハードコート組成物はさらに溶剤、添加剤からなる群から選択される一つ以上をさらに含むことができる。前記溶剤は、前記重合性化合物及び重合開始剤を溶解又は分散させることができるもので、本技術分野のハードコート組成物の溶剤として知られているものなら制限なく使用することができる。前記添加剤は、無機粒子、レベリング剤、安定剤、界面活性剤、帯電防止剤、潤滑剤、防汚剤などをさらに含むことができる。
【0199】
（円偏光板）
本発明の表示装置（好ましくはフレキシブル表示装置）は、上記の通り、偏光板、中でも円偏光板を備えることが好ましい。円偏光板は、直線偏光板にλ／４位相差板を積層することにより、右又は左円偏光成分のみを透過させる機能を有する機能層である。たとえば外光を右円偏光に変換して有機ＥＬパネルで反射されて左円偏光となった外光を遮断し、有機ＥＬの発光成分のみを透過させることで反射光の影響を抑制して画像を見やすくするために用いられる。円偏光機能を達成するためには、直線偏光板の吸収軸とλ／４位相差板の遅相軸は理論上４５度である必要があるが、実用的には４５±１０度である。直線偏光板とλ／４位相差板は必ずしも隣接して積層される必要はなく、吸収軸と遅相軸の関係が前述の範囲を満足していればよい。全波長において完全な円偏光を達成することが好ましいが実用上は必ずしもその必要はないので本発明における円偏光板は楕円偏光板をも包含する。直線偏光板の視認側にさらにλ／４位相差フィルムを積層して、出射光を円偏光とすることで偏光サングラスをかけた状態での視認性を向上させることも好ましい。
本発明の表示装置（好ましくはフレキシブル表示装置）は、上記の通り、偏光板、中でも円偏光板を備えることが好ましい。円偏光板は、直線偏光板にλ／４位相差板を積層することにより、右又は左円偏光成分のみを透過させる機能を有する機能層である。たとえば外光を右円偏光に変換して有機ＥＬパネルで反射されて左円偏光となった外光を遮断し、有機ＥＬの発光成分のみを透過させることで反射光の影響を抑制して画像を見やすくするために用いられる。円偏光機能を達成するためには、直線偏光板の吸収軸とλ／４位相差板の遅相軸は理論上４５度である必要があるが、実用的には４５±１０度である。直線偏光板とλ／４位相差板は必ずしも隣接して積層される必要はなく、吸収軸と遅相軸の関係が前述の範囲を満足していればよい。全波長において完全な円偏光を達成することが好ましいが実用上は必ずしもその必要はないので本発明における円偏光板は楕円偏光板をも包含する。直線偏光板の視認側にさらにλ／４位相差フィルムを積層して、出射光を円偏光とすることで偏光サングラスをかけた状態での視認性を向上させることも好ましい。
【0200】
直線偏光板は、透過軸方向に振動している光は通すが、それとは垂直な振動成分の偏光を遮断する機能を有する機能層である。前記直線偏光板は、直線偏光子単独又は直線偏光子及びその少なくとも一方の面に貼り付けられた保護フィルムを備えた構成であってもよい。前記直線偏光板の厚さは、２００μｍ以下であってもよく、好ましくは０．５μｍ以上、１００μｍ以下である。直線偏光板の厚さが前記の範囲にあると直線偏光板の柔軟性が低下し難い傾向にある。
【0201】
前記直線偏光子は、ポリビニルアルコール（以下、ＰＶＡと略すことがある）系フィルムを染色、延伸することで製造されるフィルム型偏光子であってもよい。延伸によって配向したＰＶＡ系フィルムに、ヨウ素等の二色性色素が吸着、又はＰＶＡに吸着した状態で延伸されることで二色性色素が配向し、偏光性能を発揮する。前記フィルム型偏光子の製造においては、他に膨潤、ホウ酸による架橋、水溶液による洗浄、乾燥等の工程を有していてもよい。延伸や染色工程はＰＶＡ系フィルム単独で行ってもよいし、ポリエチレンテレフタレートのような他のフィルム（延伸用樹脂基材）と積層された状態で行うこともできる。用いられるＰＶＡ系フィルムの厚さは好ましくは３～１００μｍであり、前記延伸倍率は好ましくは２～１０倍である。延伸用樹脂基材とＰＶＡ系樹脂層との積層体を作製する方法としては、延伸用樹脂基材の表面に、ＰＶＡ系樹脂を含む塗布液を塗布し、乾燥する方法が好ましい。
【0202】
特にＰＶＡ系樹脂層と延伸用樹脂基材を積層体の状態で延伸する工程と染色する工程を含む製法であれば、ＰＶＡ系樹脂層が薄くても、延伸用樹脂基材に支持されていることにより延伸による破断などの不具合なく延伸することが可能となる。
【0203】
前記偏光子の厚さは、２０μｍ以下であり、好ましくは１２μｍ以下であり、より好ましくは９μｍ以下であり、更に好ましくは１～８μｍであり、特に好ましくは３～６μｍである。前記範囲内であれば、屈曲を阻害することなく、好ましい態様となる。
【0204】
さらに前記偏光子の他の一例としては、液晶偏光組成物を塗布して形成する液晶塗布型偏光子が挙げられる。前記液晶偏光組成物は、液晶性化合物及び二色性色素化合物を含むことができる。前記液晶性化合物は、液晶状態を示す性質を有していればよく、特にスメクチック相等の高次の配向状態を有していると高い偏光性能を発揮することができるため好ましい。また、液晶性化合物は、重合性官能基を有することが好ましい。
前記二色性色素化合物は、前記液晶性化合物とともに配向して二色性を示す色素であって、重合性官能基を有していてもよく、また、二色性色素自身が液晶性を有していてもよい。
液晶偏光組成物に含まれる化合物のいずれかは重合性官能基を有する。前記液晶偏光組成物はさらに開始剤、溶剤、分散剤、レベリング剤、安定剤、界面活性剤、架橋剤、シランカップリング剤などを含むことができる。
前記液晶偏光層は、配向膜上に液晶偏光組成物を塗布して液晶偏光層を形成することにより製造される。液晶偏光層は、フィルム型偏光子に比べて厚さを薄く形成することができ、その厚さは好ましくは０．５μｍ以上１０μｍ以下、より好ましくは１μｍ以上５μｍ以下である。
前記二色性色素化合物は、前記液晶性化合物とともに配向して二色性を示す色素であって、重合性官能基を有していてもよく、また、二色性色素自身が液晶性を有していてもよい。
液晶偏光組成物に含まれる化合物のいずれかは重合性官能基を有する。前記液晶偏光組成物はさらに開始剤、溶剤、分散剤、レベリング剤、安定剤、界面活性剤、架橋剤、シランカップリング剤などを含むことができる。
前記液晶偏光層は、配向膜上に液晶偏光組成物を塗布して液晶偏光層を形成することにより製造される。液晶偏光層は、フィルム型偏光子に比べて厚さを薄く形成することができ、その厚さは好ましくは０．５μｍ以上１０μｍ以下、より好ましくは１μｍ以上５μｍ以下である。
【0205】
前記配向膜は、例えば基材上に配向膜形成組成物を塗布し、ラビング、偏光照射等により配向性を付与することにより製造される。前記配向膜形成組成物は、配向剤を含み、さらに溶剤、架橋剤、開始剤、分散剤、レベリング剤、シランカップリング剤等を含んでいてもよい。前記配向剤としては、例えば、ポリビニルアルコール類、ポリアクリレート類、ポリアミック酸類、ポリイミド類が挙げられる。偏光照射により配向性を付与する配向剤を用いる場合、シンナメート基を含む配向剤を使用することが好ましい。前記配向剤として使用される高分子の重量平均分子量は、例えば、１０，０００～１，０００，０００程度である。前記配向膜の厚さは、好ましくは５ｎｍ以上１０，０００ｎｍ以下であり、配向規制力が十分に発現される点で、より好ましくは１０ｎｍ以上５００ｎｍ以下である。
前記液晶偏光層は基材から剥離して転写して積層することもできるし、前記基材をそのまま積層することもできる。前記基材が、保護フィルムや位相差板、ウインドウフィルムの透明基材としての役割を担うことも好ましい。
前記液晶偏光層は基材から剥離して転写して積層することもできるし、前記基材をそのまま積層することもできる。前記基材が、保護フィルムや位相差板、ウインドウフィルムの透明基材としての役割を担うことも好ましい。
【0206】
前記保護フィルムとしては、透明な高分子フィルムであればよく前記ウインドウフィルムの透明基材に使用される材料や添加剤と同じものが使用できる。セルロース系フィルム、オレフィン系フィルム、アクリルフィルム、ポリエステル系フィルムが好ましい。また、エポキシ樹脂等のカチオン硬化組成物やアクリレート等のラジカル硬化組成物を塗布して硬化して得られるコーティング型の保護フィルムであってもよい。該保護フィルムは、必要により可塑剤、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、顔料や染料のような着色剤、蛍光増白剤、分散剤、熱安定剤、光安定剤、帯電防止剤、酸化防止剤、滑剤、溶剤等を含んでいてもよい。該保護フィルムの厚さは、好ましくは２００μｍ以下、より好ましくは１μｍ以上１００μｍ以下である。保護フィルムの厚さが前記の範囲にあると、該フィルムの柔軟性が低下し難い傾向にある。保護フィルムは、ウインドウフィルムの透明基材の役割を兼ねることもできる。
【0207】
前記λ／４位相差板は、入射光の進行方向に直行する方向（フィルムの面内方向）にλ／４の位相差を与えるフィルムである。前記λ／４位相差板は、セルロース系フィルム、オレフィン系フィルム、ポリカーボネート系フィルム等の高分子フィルムを延伸することで製造される延伸型位相差板であってもよい。前記λ／４位相差板は、必要により位相差調整剤、可塑剤、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、顔料や染料のような着色剤、蛍光増白剤、分散剤、熱安定剤、光安定剤、帯電防止剤、酸化防止剤、滑剤、溶剤等を含んでいてもよい。
前記延伸型位相差板の厚さは、好ましくは２００μｍ以下、より好ましくは１μｍ以上１００μｍ以下である。延伸型位相差板の厚さが前記の範囲にあると、該延伸型位相差板の柔軟性が低下し難い傾向にある。
前記延伸型位相差板の厚さは、好ましくは２００μｍ以下、より好ましくは１μｍ以上１００μｍ以下である。延伸型位相差板の厚さが前記の範囲にあると、該延伸型位相差板の柔軟性が低下し難い傾向にある。
【0208】
さらに前記λ／４位相差板の他の一例としては、液晶組成物を塗布して形成する液晶塗布型位相差板が挙げられる。
前記液晶組成物は、ネマチック、コレステリック、スメクチック等の液晶状態を示す液晶性化合物を含む。前記液晶性化合物は、重合性官能基を有する。
前記液晶組成物は、さらに開始剤、溶剤、分散剤、レベリング剤、安定剤、界面活性剤、架橋剤、シランカップリング剤などを含むことができる。
前記液晶塗布型位相差板は、前記液晶偏光層と同様に、液晶組成物を下地上に塗布、硬化して液晶位相差層を形成することで製造することができる。液晶塗布型位相差板は、延伸型位相差板に比べて厚さを薄く形成することができる。前記液晶偏光層の厚さは、好ましくは０．５μｍ以上１０μｍ以下、より好ましくは１μｍ以上５μｍ以下である。
前記液晶塗布型位相差板は基材から剥離して転写して積層することもできるし、前記基材をそのまま積層することもできる。前記基材が、保護フィルムや位相差板、ウインドウフィルムの透明基材としての役割を担うことも好ましい。
前記液晶組成物は、ネマチック、コレステリック、スメクチック等の液晶状態を示す液晶性化合物を含む。前記液晶性化合物は、重合性官能基を有する。
前記液晶組成物は、さらに開始剤、溶剤、分散剤、レベリング剤、安定剤、界面活性剤、架橋剤、シランカップリング剤などを含むことができる。
前記液晶塗布型位相差板は、前記液晶偏光層と同様に、液晶組成物を下地上に塗布、硬化して液晶位相差層を形成することで製造することができる。液晶塗布型位相差板は、延伸型位相差板に比べて厚さを薄く形成することができる。前記液晶偏光層の厚さは、好ましくは０．５μｍ以上１０μｍ以下、より好ましくは１μｍ以上５μｍ以下である。
前記液晶塗布型位相差板は基材から剥離して転写して積層することもできるし、前記基材をそのまま積層することもできる。前記基材が、保護フィルムや位相差板、ウインドウフィルムの透明基材としての役割を担うことも好ましい。
【0209】
一般的には、短波長ほど複屈折が大きく長波長になるほど小さな複屈折を示す材料が多い。この場合には全可視光領域でλ／４の位相差を達成することはできないので、視感度の高い５６０ｎｍ付近に対してλ／４となるように、面内位相差は、好ましくは１００ｎｍ以上１８０ｎｍ以下、より好ましくは１３０ｎｍ以上１５０ｎｍ以下となるように設計される。通常とは逆の複屈折率波長分散特性を有する材料を用いた逆分散λ／４位相差板は、視認性が良好となる点で好ましい。このような材料としては、例えば延伸型位相差板は特開２００７－２３２８７３号公報等に、液晶塗布型位相差板は特開２０１０－３０９７９号公報等に記載されているものを用いることができる。
また、他の方法としてはλ／２位相差板と組合せることで広帯域λ／４位相差板を得る技術も知られている（例えば、特開平１０－９０５２１号公報など）。λ／２位相差板もλ／４位相差板と同様の材料方法で製造される。延伸型位相差板と液晶塗布型位相差板の組合せは任意であるが、どちらも液晶塗布型位相差板を用いることにより厚さを薄くすることができる。
前記円偏光板には斜め方向の視認性を高めるために、正のＣプレートを積層する方法が知られている（例えば、特開２０１４－２２４８３７号公報など）。正のＣプレートは、液晶塗布型位相差板であっても延伸型位相差板であってもよい。該位相差板の厚さ方向の位相差は、好ましくは－２００ｎｍ以上－２０ｎｍ以下、より好ましくは－１４０ｎｍ以上－４０ｎｍ以下である。
また、他の方法としてはλ／２位相差板と組合せることで広帯域λ／４位相差板を得る技術も知られている（例えば、特開平１０－９０５２１号公報など）。λ／２位相差板もλ／４位相差板と同様の材料方法で製造される。延伸型位相差板と液晶塗布型位相差板の組合せは任意であるが、どちらも液晶塗布型位相差板を用いることにより厚さを薄くすることができる。
前記円偏光板には斜め方向の視認性を高めるために、正のＣプレートを積層する方法が知られている（例えば、特開２０１４－２２４８３７号公報など）。正のＣプレートは、液晶塗布型位相差板であっても延伸型位相差板であってもよい。該位相差板の厚さ方向の位相差は、好ましくは－２００ｎｍ以上－２０ｎｍ以下、より好ましくは－１４０ｎｍ以上－４０ｎｍ以下である。
【0210】
（タッチセンサ）
本発明の積層体を備える表示装置（好ましくはフレキシブル表示装置）は、上記の通り、タッチセンサを備えることが好ましい。タッチセンサは入力手段として用いられる。タッチセンサとしては、抵抗膜方式、表面弾性波方式、赤外線方式、電磁誘導方式、静電容量方式等様々な様式が挙げられ、好ましくは静電容量方式が挙げられる。
静電容量方式タッチセンサは活性領域及び前記活性領域の外郭部に位置する非活性領域に区分される。活性領域は表示パネルで画面が表示される領域（表示部）に対応する領域であって、使用者のタッチが感知される領域であり、非活性領域は表示装置で画面が表示されない領域（非表示部）に対応する領域である。タッチセンサは、好ましくはフレキシブルな特性を有する基板と、前記基板の活性領域に形成された感知パターンと、前記基板の非活性領域に形成され、前記感知パターンとパッド部を介して外部の駆動回路と接続するための各センシングラインを含むことができる。フレキシブルな特性を有する基板としては、前記ウインドウフィルムの透明基板と同様の材料が使用できる。タッチセンサの基板は、靱性が２，０００ＭＰａ％以上のものがタッチセンサのクラック抑制の面から好ましい。より好ましくは靱性が２，０００ＭＰａ％以上、３０，０００ＭＰａ％以下である。ここで、靭性は、高分子材料の引張実験を通じて得られる応力（ＭＰａ）－ひずみ（％）曲線（Stress-strain curve）で破壊点までの曲線の下部面積として定義される。
本発明の積層体を備える表示装置（好ましくはフレキシブル表示装置）は、上記の通り、タッチセンサを備えることが好ましい。タッチセンサは入力手段として用いられる。タッチセンサとしては、抵抗膜方式、表面弾性波方式、赤外線方式、電磁誘導方式、静電容量方式等様々な様式が挙げられ、好ましくは静電容量方式が挙げられる。
静電容量方式タッチセンサは活性領域及び前記活性領域の外郭部に位置する非活性領域に区分される。活性領域は表示パネルで画面が表示される領域（表示部）に対応する領域であって、使用者のタッチが感知される領域であり、非活性領域は表示装置で画面が表示されない領域（非表示部）に対応する領域である。タッチセンサは、好ましくはフレキシブルな特性を有する基板と、前記基板の活性領域に形成された感知パターンと、前記基板の非活性領域に形成され、前記感知パターンとパッド部を介して外部の駆動回路と接続するための各センシングラインを含むことができる。フレキシブルな特性を有する基板としては、前記ウインドウフィルムの透明基板と同様の材料が使用できる。タッチセンサの基板は、靱性が２，０００ＭＰａ％以上のものがタッチセンサのクラック抑制の面から好ましい。より好ましくは靱性が２，０００ＭＰａ％以上、３０，０００ＭＰａ％以下である。ここで、靭性は、高分子材料の引張実験を通じて得られる応力（ＭＰａ）－ひずみ（％）曲線（Stress-strain curve）で破壊点までの曲線の下部面積として定義される。
【0211】
前記感知パターンは、第１方向に形成された第１パターン及び第２方向に形成された第２パターンを備えることができる。第１パターンと第２パターンとは互いに異なる方向に配置される。第１パターン及び第２パターンは、同一層に形成され、タッチされる地点を感知するためには、それぞれのパターンが電気的に接続されなければならない。第１パターンは複数の単位パターンが継ぎ手を介して互いに接続された形態であるが、第２パターンは複数の単位パターンがアイランド形態に互いに分離された構造になっているので、第２パターンを電気的に接続するためには別途のブリッジ電極が必要である。第２パターンの接続のための電極には、周知の透明電極を適用することができる。該透明電極の素材としては、例えば、インジウムスズ酸化物（ＩＴＯ）、インジウム亜鉛酸化物（ＩＺＯ）、亜鉛酸化物（ＺｎＯ）、インジウム亜鉛スズ酸化物（ＩＺＴＯ）、インジウムガリウム亜鉛酸化物（ＩＧＺＯ）、カドミウムスズ酸化物（ＣＴＯ）、ＰＥＤＯＴ（ｐｏｌｙ（３，４－ｅｔｈｙｌｅｎｅｄｉｏｘｙｔｈｉｏｐｈｅｎｅ））、炭素ナノチューブ（ＣＮＴ）、グラフェン、金属ワイヤなどが挙げられ、好ましくはＩＴＯが挙げられる。これらは単独又は２種以上混合して使用できる。金属ワイヤに使用される金属は特に限定されず、例えば、銀、金、アルミニウム、銅、鉄、ニッケル、チタン、テレニウム、クロムなどが挙げられ、これらは単独又は２種以上混合して使用することができる。
ブリッジ電極は感知パターン上部に絶縁層を介して前記絶縁層上部に形成されることができ、基板上にブリッジ電極が形成されており、その上に絶縁層及び感知パターンを形成することができる。前記ブリッジ電極は感知パターンと同じ素材で形成することもでき、モリブデン、銀、アルミニウム、銅、パラジウム、金、白金、亜鉛、スズ、チタン又はこれらのうちの２種以上の合金で形成することもできる。
第１パターンと第２パターンは電気的に絶縁されなければならないので、感知パターンとブリッジ電極の間には絶縁層が形成される。該絶縁層は、第１パターンの継ぎ手とブリッジ電極との間にのみ形成することや、感知パターン全体を覆う層として形成することもできる。感知パターン全体を覆う層の場合、ブリッジ電極は絶縁層に形成されたコンタクトホールを介して第２パターンを接続することができる。
ブリッジ電極は感知パターン上部に絶縁層を介して前記絶縁層上部に形成されることができ、基板上にブリッジ電極が形成されており、その上に絶縁層及び感知パターンを形成することができる。前記ブリッジ電極は感知パターンと同じ素材で形成することもでき、モリブデン、銀、アルミニウム、銅、パラジウム、金、白金、亜鉛、スズ、チタン又はこれらのうちの２種以上の合金で形成することもできる。
第１パターンと第２パターンは電気的に絶縁されなければならないので、感知パターンとブリッジ電極の間には絶縁層が形成される。該絶縁層は、第１パターンの継ぎ手とブリッジ電極との間にのみ形成することや、感知パターン全体を覆う層として形成することもできる。感知パターン全体を覆う層の場合、ブリッジ電極は絶縁層に形成されたコンタクトホールを介して第２パターンを接続することができる。
【0212】
前記タッチセンサは、感知パターンが形成されたパターン領域と、感知パターンが形成されていない非パターン領域との間の透過率の差、具体的には、これらの領域における屈折率の差によって誘発される光透過率の差を適切に補償するための手段として基板と電極の間に光学調節層をさらに含むことができる。該光学調節層は、無機絶縁物質又は有機絶縁物質を含むことができる。光学調節層は光硬化性有機バインダー及び溶剤を含む光硬化組成物を基板上にコーティングして形成することができる。前記光硬化組成物は無機粒子をさらに含むことができる。前記無機粒子によって光学調節層の屈折率を高くすることができる。
前記光硬化性有機バインダーは、本発明の効果を損ねない範囲で、例えば、アクリレート系単量体、スチレン系単量体、カルボン酸系単量体などの各単量体の共重合体を含むことができる。前記光硬化性有機バインダーは、例えば、エポキシ基含有繰り返し単位、アクリレート繰り返し単位、カルボン酸繰り返し単位などの互いに異なる各繰り返し単位を含む共重合体であってもよい。
前記無機粒子としては、例えば、ジルコニア粒子、チタニア粒子、アルミナ粒子などが挙げられる。
前記光硬化組成物は、光重合開始剤、重合性モノマー、硬化補助剤などの各添加剤をさらに含むこともできる。
前記光硬化性有機バインダーは、本発明の効果を損ねない範囲で、例えば、アクリレート系単量体、スチレン系単量体、カルボン酸系単量体などの各単量体の共重合体を含むことができる。前記光硬化性有機バインダーは、例えば、エポキシ基含有繰り返し単位、アクリレート繰り返し単位、カルボン酸繰り返し単位などの互いに異なる各繰り返し単位を含む共重合体であってもよい。
前記無機粒子としては、例えば、ジルコニア粒子、チタニア粒子、アルミナ粒子などが挙げられる。
前記光硬化組成物は、光重合開始剤、重合性モノマー、硬化補助剤などの各添加剤をさらに含むこともできる。
【0213】
（接着層）
前記表示装置（好ましくはフレキシブル画像表示装置）用積層体を形成する各層（ウインドウフィルム、円偏光板、タッチセンサ）並びに各層を構成するフィルム部材（直線偏光板、λ／４位相差板等）は接着剤によって接合することができる。該接着剤としては、水系接着剤、有機溶剤系、無溶剤系接着剤、固体接着剤、溶剤揮散型接着剤、湿気硬化型接着剤、加熱硬化型接着剤、嫌気硬化型、活性エネルギー線硬化型接着剤、硬化剤混合型接着剤、熱溶融型接着剤、感圧型接着剤（粘着剤）、再湿型接着剤等、通常使用されている接着剤等が使用でき、好ましくは水系溶剤揮散型接着剤、活性エネルギー線硬化型接着剤、粘着剤を使用できる。接着剤層の厚さは、求められる接着力等に応じて適宜調節することができ、好ましくは０．０１～５００μｍ、より好ましくは０．１～３００μｍである。前記表示装置（好ましくはフレキシブル画像表示装置）用積層体には、複数の接着層が存在するが、それぞれの厚さや種類は、同じであっても異なっていてもよい。
前記表示装置（好ましくはフレキシブル画像表示装置）用積層体を形成する各層（ウインドウフィルム、円偏光板、タッチセンサ）並びに各層を構成するフィルム部材（直線偏光板、λ／４位相差板等）は接着剤によって接合することができる。該接着剤としては、水系接着剤、有機溶剤系、無溶剤系接着剤、固体接着剤、溶剤揮散型接着剤、湿気硬化型接着剤、加熱硬化型接着剤、嫌気硬化型、活性エネルギー線硬化型接着剤、硬化剤混合型接着剤、熱溶融型接着剤、感圧型接着剤（粘着剤）、再湿型接着剤等、通常使用されている接着剤等が使用でき、好ましくは水系溶剤揮散型接着剤、活性エネルギー線硬化型接着剤、粘着剤を使用できる。接着剤層の厚さは、求められる接着力等に応じて適宜調節することができ、好ましくは０．０１～５００μｍ、より好ましくは０．１～３００μｍである。前記表示装置（好ましくはフレキシブル画像表示装置）用積層体には、複数の接着層が存在するが、それぞれの厚さや種類は、同じであっても異なっていてもよい。
【0214】
前記水系溶剤揮散型接着剤としては、ポリビニルアルコール系ポリマー、でんぷん等の水溶性ポリマー、エチレン－酢酸ビニル系エマルジョン、スチレン－ブタジエン系エマルジョン等水分散状態のポリマーを主剤ポリマーとして使用することができる。前記主剤ポリマーと水とに加えて、架橋剤、シラン系化合物、イオン性化合物、架橋触媒、酸化防止剤、染料、顔料、無機フィラー、有機溶剤等を配合してもよい。前記水系溶剤揮散型接着剤によって接着する場合、前記水系溶剤揮散型接着剤を被接着層間に注入して被着層を貼合した後、乾燥させることで接着性を付与することができる。前記水系溶剤揮散型接着剤を用いる場合、その接着層の厚さは、好ましくは０．０１～１０μｍ、より好ましくは０．１～１μｍである。前記水系溶剤揮散型接着剤を複数層に用いる場合、それぞれの層の厚さや種類は同じであっても異なっていてもよい。
【0215】
前記活性エネルギー線硬化型接着剤は、活性エネルギー線を照射して接着剤層を形成する反応性材料を含む活性エネルギー線硬化組成物の硬化により形成することができる。前記活性エネルギー線硬化組成物は、ハードコート組成物に含まれるものと同様のラジカル重合性化合物及びカチオン重合性化合物の少なくとも１種の重合物を含有することができる。前記ラジカル重合性化合物は、ハードコート組成物におけるラジカル重合性化合物と同じ化合物を用いることができる。
前記カチオン重合性化合物は、ハードコート組成物におけるカチオン重合性化合物と同じ化合物を用いることができる。
活性エネルギー線硬化組成物に用いられるカチオン重合性化合物としては、エポキシ化合物が特に好ましい。接着剤組成物としての粘度を下げるために単官能の化合物を反応性希釈剤として含むことも好ましい。
前記カチオン重合性化合物は、ハードコート組成物におけるカチオン重合性化合物と同じ化合物を用いることができる。
活性エネルギー線硬化組成物に用いられるカチオン重合性化合物としては、エポキシ化合物が特に好ましい。接着剤組成物としての粘度を下げるために単官能の化合物を反応性希釈剤として含むことも好ましい。
【0216】
活性エネルギー線組成物は、粘度を低下させるために、単官能の化合物を含むことができる。該単官能の化合物としては、１分子中に１個の（メタ）アクリロイル基を有するアクリレート系単量体や、１分子中に１個のエポキシ基又はオキセタニル基を有する化合物、例えば、グリシジル（メタ）アクリレートなどが挙げられる。
活性エネルギー線組成物は、さらに重合開始剤を含むことができる。該重合開始剤としては、ラジカル重合開始剤、カチオン重合開始剤、ラジカル及びカチオン重合開始剤等が挙げられ、これらは適宜選択して用いられる。これらの重合開始剤は、活性エネルギー線照射及び加熱の少なくとも一種により分解されて、ラジカルもしくはカチオンを発生してラジカル重合とカチオン重合を進行させるものである。ハードコート組成物の記載の中で活性エネルギー線照射によりラジカル重合又はカチオン重合の内の少なくともいずれか開始することができる開始剤を使用することができる。
前記活性エネルギー線硬化組成物はさらに、イオン捕捉剤、酸化防止剤、連鎖移動剤、密着付与剤、熱可塑性樹脂、充填剤、流動粘度調整剤、可塑剤、消泡剤溶剤、添加剤、溶剤を含むことができる。前記活性エネルギー線硬化型接着剤によって２つの被接着層を接着する場合、前記活性エネルギー線硬化組成物を被接着層のいずれか一方又は両方に塗布後、貼合し、いずれかの被着層又は両方の被接着層に活性エネルギー線を照射して硬化させることにより、接着することができる。前記活性エネルギー線硬化型接着剤を用いる場合、その接着層の厚さは、好ましくは０．０１～２０μｍ、より好ましくは０．１～１０μｍである。前記活性エネルギー線硬化型接着剤を複数の接着層形成に用いる場合、それぞれの層の厚さや種類は同じであっても異なっていてもよい。
活性エネルギー線組成物は、さらに重合開始剤を含むことができる。該重合開始剤としては、ラジカル重合開始剤、カチオン重合開始剤、ラジカル及びカチオン重合開始剤等が挙げられ、これらは適宜選択して用いられる。これらの重合開始剤は、活性エネルギー線照射及び加熱の少なくとも一種により分解されて、ラジカルもしくはカチオンを発生してラジカル重合とカチオン重合を進行させるものである。ハードコート組成物の記載の中で活性エネルギー線照射によりラジカル重合又はカチオン重合の内の少なくともいずれか開始することができる開始剤を使用することができる。
前記活性エネルギー線硬化組成物はさらに、イオン捕捉剤、酸化防止剤、連鎖移動剤、密着付与剤、熱可塑性樹脂、充填剤、流動粘度調整剤、可塑剤、消泡剤溶剤、添加剤、溶剤を含むことができる。前記活性エネルギー線硬化型接着剤によって２つの被接着層を接着する場合、前記活性エネルギー線硬化組成物を被接着層のいずれか一方又は両方に塗布後、貼合し、いずれかの被着層又は両方の被接着層に活性エネルギー線を照射して硬化させることにより、接着することができる。前記活性エネルギー線硬化型接着剤を用いる場合、その接着層の厚さは、好ましくは０．０１～２０μｍ、より好ましくは０．１～１０μｍである。前記活性エネルギー線硬化型接着剤を複数の接着層形成に用いる場合、それぞれの層の厚さや種類は同じであっても異なっていてもよい。
【0217】
前記粘着剤としては、主剤ポリマーに応じて、アクリル系粘着剤、ウレタン系粘着剤、ゴム系粘着剤、シリコーン系粘着剤等に分類される何れを使用することもできる。粘着剤には主剤ポリマーに加えて、架橋剤、シラン系化合物、イオン性化合物、架橋触媒、酸化防止剤、粘着付与剤、可塑剤、染料、顔料、無機フィラー等を配合してもよい。前記粘着剤を構成する各成分を溶剤に溶解・分散させて粘着剤組成物を得て、該粘着剤組成物を基材上に塗布した後に乾燥させることで、粘着剤層接着層が形成される。粘着層は直接形成されてもよいし、別途基材に形成したものを転写することもできる。接着前の粘着面をカバーするためには離型フィルムを使用することも好ましい。前記活性エネルギー線硬化型接着剤を用いる場合、その接着層の厚さは、好ましくは０．１～５００μｍ、より好ましくは１～３００μｍである。前記粘着剤を複数層用いる場合には、それぞれの層の厚さや種類は同じであっても異なっていてもよい。
【0218】
（遮光パターン）
前記遮光パターンは、前記表示装置（好ましくはフレキシブル画像表示装置）のベゼル又はハウジングの少なくとも一部として適用することができる。遮光パターンによって前記表示装置（好ましくはフレキシブル画像表示装置）の辺縁部に配置される配線が隠されて視認されにくくすることで、画像の視認性が向上する。前記遮光パターンは単層又は複層の形態であってもよい。遮光パターンのカラーは特に制限されることはなく、黒色、白色、金属色などの多様なカラーであってもよい。遮光パターンはカラーを具現するための顔料と、アクリル系樹脂、エステル系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリウレタン、シリコーンなどの高分子で形成することができる。これらの単独又は２種類以上の混合物で使用することもできる。前記遮光パターンは、印刷、リソグラフィ、インクジェットなど各種の方法にて形成することができる。遮光パターンの厚さは、好ましくは１～１００μｍ、より好ましくは２～５０μｍである。また、遮光パターンの厚さ方向に傾斜等の形状を付与することも好ましい。
前記遮光パターンは、前記表示装置（好ましくはフレキシブル画像表示装置）のベゼル又はハウジングの少なくとも一部として適用することができる。遮光パターンによって前記表示装置（好ましくはフレキシブル画像表示装置）の辺縁部に配置される配線が隠されて視認されにくくすることで、画像の視認性が向上する。前記遮光パターンは単層又は複層の形態であってもよい。遮光パターンのカラーは特に制限されることはなく、黒色、白色、金属色などの多様なカラーであってもよい。遮光パターンはカラーを具現するための顔料と、アクリル系樹脂、エステル系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリウレタン、シリコーンなどの高分子で形成することができる。これらの単独又は２種類以上の混合物で使用することもできる。前記遮光パターンは、印刷、リソグラフィ、インクジェットなど各種の方法にて形成することができる。遮光パターンの厚さは、好ましくは１～１００μｍ、より好ましくは２～５０μｍである。また、遮光パターンの厚さ方向に傾斜等の形状を付与することも好ましい。
【実施例0219】
以下、実施例を挙げて本発明をより具体的に説明する。本発明は以下の実施例によって制限を受けるものではなく、前記、後記の趣旨に適合し得る範囲で適当に変更を加えて実施することも勿論可能であり、それらはいずれも本発明の技術的範囲に包含される。
【0220】
実施例１－１
有機ケイ素化合物（Ｃ）として下記式で示す、特開２０１２－１９７３３０号公報に記載のＮ－２－（アミノエチル）－３－アミノプロピルトリメトキシシランとクロロプロピルトリメトキシシランの反応物（商品名；Ｘ－１２－５２６３ＨＰ、信越化学工業株式会社製）を０．０５質量％、溶剤（Ｅ）としてイソプロピルアルコールを９９．９５質量％混合した溶液を、室温で撹拌し、層（ｃ）形成用組成物を得た。また、ポリエチレンテレフタレート基材（層（ＳL1））に、帯電防止成分（ＡＳ）として４級アンモニウム塩を含むアクリル系ハードコート層（層（ＳL2））が積層された第一基材（ＳL）（ハードコート層厚み：５μｍ、第一基材厚み：５０μｍ）を用意し、大気圧プラズマ装置（富士機械製造株式会社製）を用いて前記第一基材（ＳL）のハードコート層（層（ＳL2））面を活性化処理した。その後、該基材（ＳL）におけるハードコート層（層（ＳL2））上に、前記で得られた層（ｃ）形成用組成物を、株式会社ＭＩＫＡＳＡ製ＯＰＴＩＣＯＡＴ ＭＳ－Ａ１００（バーコーター）、＃２のバーを用い、０．５ｍｌ、１００ｍｍ／ｓｅｃの条件で塗布し、１００℃で３０秒乾燥させ、層（ｃ）が形成された積層中間体１を得た。
有機ケイ素化合物（Ｃ）として下記式で示す、特開２０１２－１９７３３０号公報に記載のＮ－２－（アミノエチル）－３－アミノプロピルトリメトキシシランとクロロプロピルトリメトキシシランの反応物（商品名；Ｘ－１２－５２６３ＨＰ、信越化学工業株式会社製）を０．０５質量％、溶剤（Ｅ）としてイソプロピルアルコールを９９．９５質量％混合した溶液を、室温で撹拌し、層（ｃ）形成用組成物を得た。また、ポリエチレンテレフタレート基材（層（ＳL1））に、帯電防止成分（ＡＳ）として４級アンモニウム塩を含むアクリル系ハードコート層（層（ＳL2））が積層された第一基材（ＳL）（ハードコート層厚み：５μｍ、第一基材厚み：５０μｍ）を用意し、大気圧プラズマ装置（富士機械製造株式会社製）を用いて前記第一基材（ＳL）のハードコート層（層（ＳL2））面を活性化処理した。その後、該基材（ＳL）におけるハードコート層（層（ＳL2））上に、前記で得られた層（ｃ）形成用組成物を、株式会社ＭＩＫＡＳＡ製ＯＰＴＩＣＯＡＴ ＭＳ－Ａ１００（バーコーター）、＃２のバーを用い、０．５ｍｌ、１００ｍｍ／ｓｅｃの条件で塗布し、１００℃で３０秒乾燥させ、層（ｃ）が形成された積層中間体１を得た。
【0221】
【化11】
【0222】
次に、有機ケイ素化合物（Ａ）として、上記式（ａ１）を満たす化合物（ａ１０）を、有機ケイ素化合物（Ｂ）としてＦＡＳ１３Ｅ（Ｃ6Ｆ13－Ｃ2Ｈ4－Ｓｉ（ＯＣ2Ｈ5）3、東京化成工業株式会社製）を、溶剤（Ｄ）としてＦＣ-３２８３（Ｃ9Ｆ21Ｎ、フロリナート、３Ｍ社製）を混合し、室温で所定の時間撹拌し、層（ｒ）形成用組成物を得た。層（ｒ）形成用組成物中の有機ケイ素化合物（Ａ）の割合は０．０８５質量％、有機ケイ素化合物（Ｂ）の割合は０．０５質量％であった。積層中間体１における層（ｃ）上に層（ｒ）形成用組成物を、株式会社ＭＩＫＡＳＡ製ＯＰＴＩＣＯＡＴ ＭＳ－Ａ１００（バーコーター）、＃５のバーを用い、０．５ｍｌ、１００ｍｍ／ｓｅｃの条件で塗布し、１００℃で３０秒乾燥させ、層（ｒ）が形成された積層体中間体２を得た。下記方法で測定した層（ｒ）の厚みは、約４．７ｎｍであった。なお、有機ケイ素化合物（Ａ）として使用した化合物（ａ１０）は、上述の化合物（ａ１１）及び（ａ２１）の要件を満たすとともに、好ましい態様も含めた式（ａ３）の要件を満たす化合物である。
【0223】
層（ｒ）の厚み測定
層（ｒ）の膜厚は下記の記載に従い、Ｘ線光電子分光法（ＸＰＳ）を用いて測定した。まず、大気圧プラズマ処理したガラス基板上に実施例１と同様の方法で層（ｃ）、層（ｒ）を作製した。その際、撥水層形成用組成物を塗布量４点変えて塗布し、層（ｃ）の厚みが同じで、層（ｒ）の膜厚が違う積層体を合計４種類作製した。
次にエリプソメーターを用いて各層（ｒ）の膜厚を測定した。また、同層に対してＸＰＳ法を用いてＦ元素の量、及びＦ元素に結合している以外のＣ元素の量を測定して、その比（Ｆ／Ｃ（Ｃ－Ｆ以外））を算出し、層（ｒ）の膜厚に対する検量線を作成した。この場合、Ｆ元素の量は層（ｒ）に由来し、Ｆ元素と結合したＣ元素以外のＣ元素の量は層（ｃ）に由来している。
次に実施例で作製した積層体について、ＸＰＳ測定を実施し、上記で作製した検量線に従って層（ｒ）の膜厚を算出した。
＜ＸＰＳ測定条件＞
装置名：Ｔｈｅｒｍｏｆｉｓｈｅｒ Ｓｃｉｅｎｔｉｆｉｃ製 Ｋ－ａｌｐｈａ
Ｘ線源：モノクロＡｌ Ｋα
出力：７２Ｗ（１２ｋＶ， ６ｍＡ）
スポットサイズ：４００μｍ
パスエネルギー：５０ｅＶ
Ｄｗｅｌｌ ｔｉｍｅ：５０ｍｓ
モード(元素)：ナロー（Ｆ，Ｃ）
中和銃：ｏｎ
層（ｒ）の膜厚は下記の記載に従い、Ｘ線光電子分光法（ＸＰＳ）を用いて測定した。まず、大気圧プラズマ処理したガラス基板上に実施例１と同様の方法で層（ｃ）、層（ｒ）を作製した。その際、撥水層形成用組成物を塗布量４点変えて塗布し、層（ｃ）の厚みが同じで、層（ｒ）の膜厚が違う積層体を合計４種類作製した。
次にエリプソメーターを用いて各層（ｒ）の膜厚を測定した。また、同層に対してＸＰＳ法を用いてＦ元素の量、及びＦ元素に結合している以外のＣ元素の量を測定して、その比（Ｆ／Ｃ（Ｃ－Ｆ以外））を算出し、層（ｒ）の膜厚に対する検量線を作成した。この場合、Ｆ元素の量は層（ｒ）に由来し、Ｆ元素と結合したＣ元素以外のＣ元素の量は層（ｃ）に由来している。
次に実施例で作製した積層体について、ＸＰＳ測定を実施し、上記で作製した検量線に従って層（ｒ）の膜厚を算出した。
＜ＸＰＳ測定条件＞
装置名：Ｔｈｅｒｍｏｆｉｓｈｅｒ Ｓｃｉｅｎｔｉｆｉｃ製 Ｋ－ａｌｐｈａ
Ｘ線源：モノクロＡｌ Ｋα
出力：７２Ｗ（１２ｋＶ， ６ｍＡ）
スポットサイズ：４００μｍ
パスエネルギー：５０ｅＶ
Ｄｗｅｌｌ ｔｉｍｅ：５０ｍｓ
モード(元素)：ナロー（Ｆ，Ｃ）
中和銃：ｏｎ
【0224】
乾燥後の前記積層中間体２の層（ｒ）側にプロテクトフィルムＮＳＡ－３３Ｔ(サンエー化研社製)の粘着層が接するように、ハンドシーラーで空気を追い出しながら張り合わせ、ラミネートを行った。その後、貼り合わせたままの状態で、常温常湿下で一昼夜保持して、保護層（Ｐ）が積層された積層体を得た。
【0225】
実施例１－２
層（ｒ）形成時の条件をバー♯２とした以外は、実施例１－１と同様にして積層体を作製した。実施例１－１と同様にして測定した層（ｒ）の厚みは、約２．８ｎｍであった。
層（ｒ）形成時の条件をバー♯２とした以外は、実施例１－１と同様にして積層体を作製した。実施例１－１と同様にして測定した層（ｒ）の厚みは、約２．８ｎｍであった。
【0226】
実施例２－１
プロテクトフィルムをＡＹ－６３８(藤森工業社製)とした以外は、実施例１と同様にして積層体を作製した。
プロテクトフィルムをＡＹ－６３８(藤森工業社製)とした以外は、実施例１と同様にして積層体を作製した。
【0227】
実施例２―２
層（ｒ）形成時の条件をバー♯２とした以外は、実施例２－１と同様にして積層体を作製した。
層（ｒ）形成時の条件をバー♯２とした以外は、実施例２－１と同様にして積層体を作製した。
【0228】
実施例３－１
プロテクトフィルムをトレテック７Ｈ５２(東レフィルム加工社製)とした以外は、実施例１－１と同様にして積層体を作製した。
プロテクトフィルムをトレテック７Ｈ５２(東レフィルム加工社製)とした以外は、実施例１－１と同様にして積層体を作製した。
【0229】
実施例３―２
層（ｒ）形成時の条件をバー♯２とした以外は、実施例３－１と同様にして積層体を作製した。
層（ｒ）形成時の条件をバー♯２とした以外は、実施例３－１と同様にして積層体を作製した。
【0230】
比較例１－１
プロテクトフィルムをＡＳ３－３０４(藤森工業社製)とした以外は、実施例１－１と同様にして積層体を作製した。
プロテクトフィルムをＡＳ３－３０４(藤森工業社製)とした以外は、実施例１－１と同様にして積層体を作製した。
【0231】
比較例１―２
層（ｒ）形成時の条件をバー♯２とした以外は、比較例１－１と同様にして積層体を作製した。
層（ｒ）形成時の条件をバー♯２とした以外は、比較例１－１と同様にして積層体を作製した。
【0232】
実施例及び比較例で得た積層体を以下の要領で評価した。
【0233】
（１）保護層（Ｐ）の剥離面におけるＦ元素量の測定方法
Ｘ線光電子分光法（ＸＰＳ）により、日本電子社製、ＪＦＳ－９０１０型を用い、励起Ｘ線：ＭｇＫα、Ｘ線出力は１１０Ｗとし、光電子脱出角度は４５°、パスエネルギー５０ｅＶにて、保護層（Ｐ）を剥がした際の保護層（Ｐ）の剥離面の炭素（Ｃ１ｓ）：２６０～３００ｅＶ、窒素（Ｎ１ｓ：３９０～４１０ｅＶ）、酸素（Ｏ１ｓ）：５２５～５４５ｅＶ、フッ素（Ｆ１ｓ）：６８０～６９８ｅＶ、ケイ素（２ｐ）：９２～１１２ｅＶの各種元素について測定した。測定された炭素、窒素、酸素、フッ素、ケイ素の合計量に対するＦ（フッ素）量の原子比を、保護層（Ｐ）の剥離面におけるＦ元素量とした。
Ｘ線光電子分光法（ＸＰＳ）により、日本電子社製、ＪＦＳ－９０１０型を用い、励起Ｘ線：ＭｇＫα、Ｘ線出力は１１０Ｗとし、光電子脱出角度は４５°、パスエネルギー５０ｅＶにて、保護層（Ｐ）を剥がした際の保護層（Ｐ）の剥離面の炭素（Ｃ１ｓ）：２６０～３００ｅＶ、窒素（Ｎ１ｓ：３９０～４１０ｅＶ）、酸素（Ｏ１ｓ）：５２５～５４５ｅＶ、フッ素（Ｆ１ｓ）：６８０～６９８ｅＶ、ケイ素（２ｐ）：９２～１１２ｅＶの各種元素について測定した。測定された炭素、窒素、酸素、フッ素、ケイ素の合計量に対するＦ（フッ素）量の原子比を、保護層（Ｐ）の剥離面におけるＦ元素量とした。
【0234】
（２）保護層（Ｐ）の剥離強度測定方法
新東科学株式会社製トライボギア（表面性測定機 ＴＹＰＥ：３８）の抵抗力測定を使用し、剥離力測定用治具を用い、測定条件は下記条件として、実施例及び比較例で得た積層体から保護層（Ｐ）を剥がす際の剥離強度を測定した。
荷重変換機 ：１．４４２ｍＶ／Ｖ
移動距離 ：７０ｍｍ
移動速度 ：３００ｍｍ／ｍｉｎ
剥離角度 ：１８０°
サンプリング個数 ：１４１００
新東科学株式会社製トライボギア（表面性測定機 ＴＹＰＥ：３８）の抵抗力測定を使用し、剥離力測定用治具を用い、測定条件は下記条件として、実施例及び比較例で得た積層体から保護層（Ｐ）を剥がす際の剥離強度を測定した。
荷重変換機 ：１．４４２ｍＶ／Ｖ
移動距離 ：７０ｍｍ
移動速度 ：３００ｍｍ／ｍｉｎ
剥離角度 ：１８０°
サンプリング個数 ：１４１００
【0235】
（３）接触角測定方法
得られた積層体の保護層（Ｐ）を剥がした層（ｒ）皮膜側表面及び層（ｒ）と接していた保護層（Ｐ）表面（保護層（Ｐ）の剥離面）に、それぞれ１．５μＬの水滴を滴下し、接触角測定装置（協和界面科学社製、ＤＭ７００）を用い、液滴法（解析方法：θ／２法）にて、水の接触角を測定した。
得られた積層体の保護層（Ｐ）を剥がした層（ｒ）皮膜側表面及び層（ｒ）と接していた保護層（Ｐ）表面（保護層（Ｐ）の剥離面）に、それぞれ１．５μＬの水滴を滴下し、接触角測定装置（協和界面科学社製、ＤＭ７００）を用い、液滴法（解析方法：θ／２法）にて、水の接触角を測定した。
【0236】
結果を表１に示す。
【0237】
【表1】
【0238】
表１によれば、粘着層（ａｄ）の厚みが１６μｍ未満であり、かつ、保護層（Ｐ）を剥がした際の、フッ素元素を含む層（ｒ）表面の接触角が１００°以上である実施例１－１、実施例１－２、実施例２－１、実施例２－２、実施例３－１及び実施例３－２では、粘着層（ａｄ）の厚みが１６μｍ以上である比較例１－１及び比較例１－２に比べて、良好な剥離強度を実現できている。
【0239】
また、実施例１－１と実施例１－２、実施例２－１と実施例２－２、実施例３－１と実施例３－２をそれぞれ対比することにより、層（ｒ）の厚みが厚い方が、剥離後の層（ｒ）の接触角が高い傾向がみられた。特に粘着層（ａｄ）の厚みが１０μｍを超える場合にこのような傾向が顕著になることが分かる。
【0240】
別の観点からみると、実施例１－１と実施例１－２、実施例２－１と実施例２－２、実施例３－１と実施例３－２をそれぞれ対比することにより、層（ｒ）の厚みが薄い方が、フッ素の保護層（Ｐ）への転写量が少なく、保護層（Ｐ）を剥がす際の剥離強度が強くなる傾向があり、特に粘着層（ａｄ）の厚みが１０μｍを超える場合にこのような傾向が顕著になることが分かる。また、比較例１－２と、実施例１－２、２－２、３－２とを対比することにより、特に層（ｒ）の厚みが薄い場合において、本発明では剥離後の層（ｒ）の接触角の低下が抑制される傾向がみられた。
【産業上の利用可能性】
【0241】
本発明の積層体は、タッチパネルディスプレイ等の表示装置、光学素子、半導体素子、建築材料、ナノインプリント技術、太陽電池、自動車や建物の窓ガラス、調理器具などの金属製品、食器などのセラミック製品、プラスチック製の自動車部品等に好適に用いることができ、産業上有用である。また、台所、風呂場、洗面台、鏡、トイレ周りの各部材の物品などにも好ましく用いられる。