知財求人 - 知財ポータルサイト「IP Force」
(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】公開特許公報(A)
(11)【公開番号】P2023124563
(43)【公開日】2023-09-06
(54)【発明の名称】導電性高分子溶液及び導電性高分子膜
(51)【国際特許分類】
C08L 65/00 20060101AFI20230830BHJP
C08K 5/07 20060101ALI20230830BHJP
C08K 5/3475 20060101ALI20230830BHJP
C08K 5/3492 20060101ALI20230830BHJP
【ＦＩ】
C08L65/00
C08K5/07
C08K5/3475
C08K5/3492
【審査請求】未請求
【請求項の数】8
【出願形態】ＯＬ
(21)【出願番号】P 2022028389
(22)【出願日】2022-02-25
(71)【出願人】
【識別番号】000003300
【氏名又は名称】東ソー株式会社
(74)【代理人】
【識別番号】110000338
【氏名又は名称】弁理士法人 ＨＡＲＡＫＥＮＺＯ ＷＯＲＬＤ ＰＡＴＥＮＴ ＆ ＴＲＡＤＥＭＡＲＫ
(72)【発明者】
【氏名】川上 淳一
(72)【発明者】
【氏名】箭野 裕一
【テーマコード（参考）】
4J002
【Ｆターム（参考）】
4J002AB03
4J002CE001
4J002EE036
4J002EU176
4J002EU186
4J002FD056
4J002GQ00
4J002GQ02
4J002HA01
(57)【要約】
【課題】塗膜を１層塗りするだけで帯電防止能及び紫外線吸収能の両方を有する層を形成し、製造工程を簡素化できる導電性高分子溶液を実現する。
【解決手段】一般式（１）で表される構造単位及び一般式（２）で表される構造単位からなる群より選ばれる少なくとも一種の構造単位を含むポリチオフェン（Ａ）と、紫外線吸収剤（Ｂ）と、有機溶媒（Ｃ）と、を含む導電性高分子溶液を用いる。
【化１】
【選択図】なし
【解決手段】一般式（１）で表される構造単位及び一般式（２）で表される構造単位からなる群より選ばれる少なくとも一種の構造単位を含むポリチオフェン（Ａ）と、紫外線吸収剤（Ｂ）と、有機溶媒（Ｃ）と、を含む導電性高分子溶液を用いる。
【化１】
【特許請求の範囲】
【請求項1】
下記一般式（１）で表される構造単位及び下記一般式（２）で表される構造単位からなる群より選ばれる少なくとも一種の構造単位を含むポリチオフェン（Ａ）と、
紫外線吸収剤（Ｂ）と、
有機溶媒（Ｃ）と、を含む導電性高分子溶液。
［一般式（１）において、Ｍ＋は、アルカリ金属イオン、アミン化合物の共役酸、又は第４級アンモニウムイオンを表す。一般式（１）及び（２）において、Ｒ１は、水素原子、メチル基、エチル基、炭素数３～６の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基、又はフッ素原子を表し、ｍは独立して１～１０の整数を表し、ｎは独立して０又は１を表す。］
紫外線吸収剤（Ｂ）と、
有機溶媒（Ｃ）と、を含む導電性高分子溶液。
【化1】
【請求項2】
前記紫外線吸収剤（Ｂ）は、ベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、シアノアクリレート系化合物、及びトリアジン系化合物からなる群より選ばれる少なくとも一種を含む、請求項１に記載の導電性高分子溶液。
【請求項3】
前記有機溶媒（Ｃ）は、アルコール系溶媒、エーテル系溶媒、ケトン系溶媒、及び芳香族系溶媒からなる群より選ばれる少なくとも一種である、請求項１または２に記載の導電性高分子溶液。
【請求項4】
前記Ｍ＋が、総炭素数が８～３０のアミン化合物の共役酸、又は総炭素数が８～３０の第４級アンモニウムイオンである、請求項１～３のいずれか一項に記載の導電性高分子溶液。
【請求項5】
前記Ｍ＋が、オクチルアンモニウムイオン、ジオクチルアンモニウムイオン、２－エチルヘキシルアンモニウムイオン、デシルアンモニウムイオン、ドデシルアンモニウムイオン、トリデシルアンモニウムイオン、ペンタデシルアンモニウムイオン、ヘキサデシルアンモニウムイオン、オクタデシルアンモニウムイオン、オレイルアンモニウムイオン、ジ－ｎ－オクチルアンモニウムイオン、ビス（２－エチルヘキシル）アンモニウムイオン、ジメチルオクチルアンモニウムイオン、ジメチルデシルアンモニウムイオン、ジメチルドデシルアンモニウムイオン、ジメチルステアリルアンモニウムイオン、トリヘキシルアンモニウムイオン、トリオクチルアンモニウムイオン、トリス（２－エチルヘキシル）アンモニウムイオン、フェニルアンモニウムイオン、デシルトリメチルアンモニウムイオン、ドデシルトリメチルアンモニウムイオン、及びテトラヘキシルアンモニウムイオンからなる群より選ばれる少なくとも１つである、請求項１～３のいずれか一項に記載の導電性高分子溶液。
【請求項6】
前記ポリチオフェン（Ａ）の含有量が、０．０１～１０質量％である、請求項１～５のいずれか１項に記載の導電性高分子溶液。
【請求項7】
前記紫外線吸収剤（Ｂ）の含有量が、０．０１～１０質量％である、請求項１～６のいずれか１項に記載の導電性高分子溶液。
【請求項8】
下記一般式（１）で表される構造単位及び下記一般式（２）で表される構造単位からなる群より選ばれる少なくとも一種の構造単位を含むポリチオフェン（Ａ）と、
紫外線吸収剤（Ｂ）と、を含み、
単層膜である、導電性高分子膜。
［一般式（１）において、Ｍ＋は、アルカリ金属イオン、アミン化合物の共役酸、又は第４級アンモニウムイオンを表す。一般式（１）及び（２）において、Ｒ１は、水素原子、メチル基、エチル基、炭素数３～６の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基、又はフッ素原子を表し、ｍは独立して１～１０の整数を表し、ｎは独立して０又は１を表す。］
紫外線吸収剤（Ｂ）と、を含み、
単層膜である、導電性高分子膜。
【化2】
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、導電性高分子溶液及び導電性高分子膜に関する。
【背景技術】
【0002】
画像表示装置では、当該装置及びこれを構成する各部材の表面を保護すること、及び／又は外光あるいは光源からの紫外線を吸収することにより、当該装置を構成する各部材の紫外線劣化を防止することが求められる。
【0003】
特許文献１には、基材フィルムと、基材フィルム上に設けられた帯電防止層と、を含む、タッチパネルに用いられる帯電防止フィルムが記載されている。特許文献２には、基材フィルムと表面保護層とを有する表面保護フィルムが記載されている。特許文献３には、脂環式構造を含有する重合体を含む熱可塑性樹脂からなる基材フィルム層と、前記基材フィルム層上に設けられ導電性を有する金属酸化物粒子を含む帯電防止層と、を備える、帯電防止フィルムが記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0004】
【特許文献1】国際公開第２０１８／１８１０７０
【特許文献2】特開２０１６－１０７４９８
【特許文献3】国際公開第２０１６／２０８７１６
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0005】
しかしながら、上述のような従来技術は、紫外線吸収剤が水に溶解することができないため、水系の導電性高分子にて帯電防止能を得ようとした場合、水系塗膜（帯電防止層）及び有機系塗膜（紫外線吸収層）の２層塗りをする必要がある。その結果、１層塗りに比べて製造工程が増えるため、従来技術は、製造工程を簡素化するという観点からさらなる改善の余地があった。
【0006】
本発明の一態様は、１層塗りするだけで帯電防止能及び紫外線吸収能の両方を有する層を形成し、製造工程を簡素化できる導電性高分子溶液を実現することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【0007】
上記の課題を解決するために、本発明の一態様は、以下に示す導電性高分子溶液及び導電性高分子膜に関する。
＜１＞
下記一般式（１）で表される構造単位及び下記一般式（２）で表される構造単位からなる群より選ばれる少なくとも一種の構造単位を含むポリチオフェン（Ａ）と、
紫外線吸収剤（Ｂ）と、
有機溶媒（Ｃ）と、を含む導電性高分子溶液。
＜１＞
下記一般式（１）で表される構造単位及び下記一般式（２）で表される構造単位からなる群より選ばれる少なくとも一種の構造単位を含むポリチオフェン（Ａ）と、
紫外線吸収剤（Ｂ）と、
有機溶媒（Ｃ）と、を含む導電性高分子溶液。
【0008】
【化1】
【0009】
［一般式（１）において、Ｍ＋は、アルカリ金属イオン、アミン化合物の共役酸、又は第４級アンモニウムイオンを表す。一般式（１）及び（２）において、Ｒ１は、水素原子、メチル基、エチル基、炭素数３～６の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基、又はフッ素原子を表し、ｍは独立して１～１０の整数を表し、ｎは独立して０又は１を表す。］
＜２＞
前記紫外線吸収剤（Ｂ）は、ベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、シアノアクリレート系化合物、及びトリアジン系化合物からなる群より選ばれる少なくとも一種を含む、＜１＞に記載の導電性高分子溶液。
＜３＞
前記有機溶媒（Ｃ）は、アルコール系溶媒、エーテル系溶媒、ケトン系溶媒、及び芳香族系溶媒からなる群より選ばれる少なくとも一種である、＜１＞または＜２＞に記載の導電性高分子溶液。
＜４＞
前記Ｍ＋が、総炭素数が８～３０のアミン化合物の共役酸、又は総炭素数が８～３０の第４級アンモニウムイオンである、＜１＞～＜３＞のいずれか１つに記載の導電性高分子溶液。
＜５＞
前記Ｍ＋が、オクチルアンモニウムイオン、ジオクチルアンモニウムイオン、２－エチルヘキシルアンモニウムイオン、デシルアンモニウムイオン、ドデシルアンモニウムイオン、トリデシルアンモニウムイオン、ペンタデシルアンモニウムイオン、ヘキサデシルアンモニウムイオン、オクタデシルアンモニウムイオン、オレイルアンモニウムイオン、ジ－ｎ－オクチルアンモニウムイオン、ビス（２－エチルヘキシル）アンモニウムイオン、ジメチルオクチルアンモニウムイオン、ジメチルデシルアンモニウムイオン、ジメチルドデシルアンモニウムイオン、ジメチルステアリルアンモニウムイオン、トリヘキシルアンモニウムイオン、トリオクチルアンモニウムイオン、トリス（２－エチルヘキシル）アンモニウムイオン、フェニルアンモニウムイオン、デシルトリメチルアンモニウムイオン、ドデシルトリメチルアンモニウムイオン、及びテトラヘキシルアンモニウムイオンからなる群より選ばれる少なくとも１つである、＜１＞～＜３＞のいずれか１つに記載の導電性高分子溶液。
＜６＞
前記ポリチオフェン（Ａ）の含有量が、０．０１～１０質量％である、＜１＞～＜５＞のいずれか１つに記載の導電性高分子溶液。
＜７＞
前記紫外線吸収剤（Ｂ）の含有量が、０．０１～１０質量％である、＜１＞～＜６＞のいずれか１つに記載の導電性高分子溶液。
＜８＞
下記一般式（１）で表される構造単位及び下記一般式（２）で表される構造単位からなる群より選ばれる少なくとも一種の構造単位を含むポリチオフェン（Ａ）と、
紫外線吸収剤（Ｂ）と、を含み、
単層膜である、導電性高分子膜。
＜２＞
前記紫外線吸収剤（Ｂ）は、ベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、シアノアクリレート系化合物、及びトリアジン系化合物からなる群より選ばれる少なくとも一種を含む、＜１＞に記載の導電性高分子溶液。
＜３＞
前記有機溶媒（Ｃ）は、アルコール系溶媒、エーテル系溶媒、ケトン系溶媒、及び芳香族系溶媒からなる群より選ばれる少なくとも一種である、＜１＞または＜２＞に記載の導電性高分子溶液。
＜４＞
前記Ｍ＋が、総炭素数が８～３０のアミン化合物の共役酸、又は総炭素数が８～３０の第４級アンモニウムイオンである、＜１＞～＜３＞のいずれか１つに記載の導電性高分子溶液。
＜５＞
前記Ｍ＋が、オクチルアンモニウムイオン、ジオクチルアンモニウムイオン、２－エチルヘキシルアンモニウムイオン、デシルアンモニウムイオン、ドデシルアンモニウムイオン、トリデシルアンモニウムイオン、ペンタデシルアンモニウムイオン、ヘキサデシルアンモニウムイオン、オクタデシルアンモニウムイオン、オレイルアンモニウムイオン、ジ－ｎ－オクチルアンモニウムイオン、ビス（２－エチルヘキシル）アンモニウムイオン、ジメチルオクチルアンモニウムイオン、ジメチルデシルアンモニウムイオン、ジメチルドデシルアンモニウムイオン、ジメチルステアリルアンモニウムイオン、トリヘキシルアンモニウムイオン、トリオクチルアンモニウムイオン、トリス（２－エチルヘキシル）アンモニウムイオン、フェニルアンモニウムイオン、デシルトリメチルアンモニウムイオン、ドデシルトリメチルアンモニウムイオン、及びテトラヘキシルアンモニウムイオンからなる群より選ばれる少なくとも１つである、＜１＞～＜３＞のいずれか１つに記載の導電性高分子溶液。
＜６＞
前記ポリチオフェン（Ａ）の含有量が、０．０１～１０質量％である、＜１＞～＜５＞のいずれか１つに記載の導電性高分子溶液。
＜７＞
前記紫外線吸収剤（Ｂ）の含有量が、０．０１～１０質量％である、＜１＞～＜６＞のいずれか１つに記載の導電性高分子溶液。
＜８＞
下記一般式（１）で表される構造単位及び下記一般式（２）で表される構造単位からなる群より選ばれる少なくとも一種の構造単位を含むポリチオフェン（Ａ）と、
紫外線吸収剤（Ｂ）と、を含み、
単層膜である、導電性高分子膜。
【0010】
【化2】
【0011】
［一般式（１）において、Ｍ＋は、アルカリ金属イオン、アミン化合物の共役酸、又は第４級アンモニウムイオンを表す。一般式（１）及び（２）において、Ｒ１は、水素原子、メチル基、エチル基、炭素数３～６の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基、又はフッ素原子を表し、ｍは独立して１～１０の整数を表し、ｎは独立して０又は１を表す。］
【発明の効果】
【0012】
本発明の一態様によれば、上記塗膜を１層塗りするだけで帯電防止能及び紫外線吸収能の両方を有する層を形成でき、製造工程を簡素化できる導電性高分子溶液を提供することができる。
【発明を実施するための形態】
【0013】
以下、本発明の一実施形態を詳細に説明する。なお、本明細書において、「～」はその両端の数値を含む以上以下の数値範囲を意味する。
【0014】
〔１．導電性高分子溶液〕
本発明者が鋭意研究を行った結果、特定の式で表される構造単位を含むポリチオフェンと、紫外線吸収剤と、有機溶媒と、を含む導電性高分子溶液を用いることにより、当該導電性高分子溶液を１層塗りするだけで帯電防止能及び紫外線吸収能の両方を有する層を形成でき、製造工程を簡素化できることを見出し、本発明を完成させるに至った。本発明の一実施形態に係る導電性高分子溶液は、下記一般式（１）で表される構造単位及び下記一般式（２）で表される構造単位からなる群より選ばれる少なくとも一種の構造単位を含むポリチオフェン（Ａ）と、紫外線吸収剤（Ｂ）と、有機溶媒（Ｃ）と、を含む。
本発明者が鋭意研究を行った結果、特定の式で表される構造単位を含むポリチオフェンと、紫外線吸収剤と、有機溶媒と、を含む導電性高分子溶液を用いることにより、当該導電性高分子溶液を１層塗りするだけで帯電防止能及び紫外線吸収能の両方を有する層を形成でき、製造工程を簡素化できることを見出し、本発明を完成させるに至った。本発明の一実施形態に係る導電性高分子溶液は、下記一般式（１）で表される構造単位及び下記一般式（２）で表される構造単位からなる群より選ばれる少なくとも一種の構造単位を含むポリチオフェン（Ａ）と、紫外線吸収剤（Ｂ）と、有機溶媒（Ｃ）と、を含む。
【0015】
【化3】
【0016】
〔１－１．ポリチオフェン（Ａ）〕
一般式（１）において、Ｍ＋は、アルカリ金属イオン、アミン化合物の共役酸、又は第４級アンモニウムイオンを表す。一般式（１）及び（２）において、Ｒ１は、水素原子、メチル基、エチル基、炭素数３～６の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基、又はフッ素原子を表し、ｍは独立して１～１０の整数を表し、ｎは独立して０又は１を表す。
一般式（１）において、Ｍ＋は、アルカリ金属イオン、アミン化合物の共役酸、又は第４級アンモニウムイオンを表す。一般式（１）及び（２）において、Ｒ１は、水素原子、メチル基、エチル基、炭素数３～６の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基、又はフッ素原子を表し、ｍは独立して１～１０の整数を表し、ｎは独立して０又は１を表す。
【0017】
上記一般式（２）で表される構造単位は、上記一般式（１）で表される構造単位のドーピング状態を表し、そのドーピング状態は、上記一般式（１）で表される構造単位中のスルホ基又はスルホナート基がｐ型ドーパントとして作用することにより発現する。
【0018】
上記一般式（１）及び（２）中のＲ１で示される炭素数３～６の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基としては、特に限定されないが、例えば、ｎ－プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ｎ－ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、ｔｅｒｔ－ペンチル基、シクロペンチル基、ｎ－へキシル基、２－エチルブチル基、又はシクロヘキシル基等が挙げられる。
【0019】
Ｒ１については、成膜性に優れる点で、水素原子、メチル基、エチル基、又はフッ素原子であることが好ましく、水素原子、メチル基、又はフッ素原子であることがより好ましく、メチル基であることがより好ましい。
【0020】
上記一般式（１）中、Ｍ＋は、アルカリ金属イオン、アミン化合物の共役酸、又は第４級アンモニウムイオンを表す。
【0021】
上記アルカリ金属イオンとしては、特に限定されないが、例えば、Ｌｉイオン、Ｎａイオン、又はＫイオンを挙げることができる。
【0022】
上記アミン化合物の共役酸は、アミン化合物にプロトンが付加したカチオン化合物を表す。当該アミン化合物としては、特に限定されないが、例えば、アンモニア、一般式ＮＨ２（Ｒ２）、ＮＨ（Ｒ２）（Ｒ３）、およびＮ（Ｒ２）（Ｒ３）（Ｒ４）で表されるアミン化合物、ピリジン化合物、イミダゾール化合物等が挙げられる。
【0023】
前記Ｒ２～Ｒ４は、各々独立して、置換基を有していてもよい総炭素数１～４０のアルキル基（このうち、炭素数３～４０のアルキル基については、直鎖状、分岐鎖状、又は環状のいずれであってもよい）を表す。このうち、Ｒ２～Ｒ４は、各々独立して、水素原子、又は置換基を有していてもよい総炭素数１～２０のアルキル基（このうち、炭素数３～２０のアルキル基については、直鎖状、分岐鎖状、又は環状のいずれであってもよい）であることがより好ましく、各々独立して、水素原子、又は置換基を有していてもよい総炭素数１～６のアルキル基（このうち、炭素数３～６のアルキル基については、直鎖状、分岐鎖状、又は環状のいずれであってもよい）であることがさらに好ましい。
【0024】
また、Ｒ２～Ｒ４が置換基を有するアルキル基である場合の当該置換基としては、例えば、炭素数１～６のアルコキシ基、炭素数１～２０のアリール基、ヒドロキシ基、アミノ基、アルキルエーテル基、アリールエーテル基、チオール基、アルキルスルフィド基、又はカルボキシル基等が挙げることができ、より好ましくは、２－ヒドロキシエチル基、３－ヒドロキシプロピル基、２－ヒドロキシプロピル基、２，３－ジヒドロキシプロピル基等のヒドロキシ基を有するアルキル基が挙げられる。
【0025】
ここで、置換基を有していてもよい総炭素数１～４０のアルキル基、又は置換基を有していてもよい総炭素数１～２０のアルキル基としては、特に限定されないが、例えば、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、ｉ－プロピル基、ｎ－ブチル基、ｔ－ブチル基、ｎ－ヘキシル基、シクロヘキシル基、２－ヒドロキシエチル基、３－ヒドロキシプロピル基、２－ヒドロキシプロピル基、２，３－ジヒドロキシプロピル基、メトキシメチル基、エトキシメチル基、ヒドロキシエトキシエチル基、ヒドロキシエトキシエトキシエチル基、ベンジル基、フェネチル基、又はアミノエチル基等が挙げられる。
【0026】
上記の置換基を有していてもよい総炭素数１～６のアルキル基としては、特に限定されないが、例えば、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、ｉ－プロピル基、ｎ－ブチル基、ｔ－ブチル基、ｎ－ヘキシル基、シクロヘキシル基、２－ヒドロキシエチル基、３－ヒドロキシプロピル基、２－ヒドロキシプロピル基、２，３－ジヒドロキシプロピル基、メトキシメチル基、エトキシメチル基、ヒドロキシエトキシエチル基、又はヒドロキシエトキシエトキシエチル基等が挙げられる。
【0027】
このうち、置換基Ｒ２～Ｒ４としては、より好ましくは、各々独立して、水素原子、メチル基、エチル基、又はヒドロキシエチル基が挙げられる。
【0028】
前記ピリジン化合物としては、特に限定されないが、例えば、ピリジン、２－メチルピリジン、３－メチルピリジン、４－メチルピリジン、ピコリン、又はルチジン等が挙げられる。これらのうち、ピリジン、ピコリン、又はルチジン等が好ましい。
【0029】
前記イミダゾール化合物としては、特に限定されないが、例えば、イミダゾール、２－メチルイミダゾール、２－エチル－４－メチルイミダゾール、２－フェニルイミダゾール、２－フェニル－４－メチルイミダゾール、１－メチルイミダゾール、又は１，２－ジメチルイミダゾール等が挙げられる。これらのうち、イミダゾール、１－メチルイミダゾール、又は１，２－ジメチルイミダゾール等が好ましい。
【0030】
上記アミン化合物の共役酸の総炭素数としては、特に限定されないが、例えば、総炭素数が１～３０であってもよく、溶解性の観点から総炭素数が８～３０であることが好ましい。
【0031】
アミン化合物の共役酸としては、より具体的には、例えば、メチルアンモニウムイオン、ジメチルアンモニウムイオン、トリメチルアンモニウムイオン、エチルアンモニウムイオン、トリエチルアンモニウムイオン、ノルマル－プロピルアンモニウムイオン、イソプロピルアンモニウムイオン、ノルマルブチルアンモニウムイオン、ヘキシルアンモニウムイオン、２－ヒドロキシエチルアンモニウムイオン、Ｎ，Ｎ－ジメチル－Ｎ－（２－ヒドロキシエチル）アンモニウムイオン、Ｎ－メチル－Ｎ－（２－ヒドロキシエチル）アンモニウムイオン、ジ（２－ヒドロキシエチル）アンモニウムイオン、Ｎ－メチル－Ｎ，Ｎ－ジ（２－ヒドロキシエチル）アンモニウムイオン、Ｎ，Ｎ，Ｎ－トリ（２－ヒドロキシエチル）アンモニウムイオン、２，３－ジヒドロキシプロピルアンモニウムイオン、Ｎ－メチル－Ｎ－（２，３－ジヒドロキシプロピル）アンモニウムイオン、Ｎ，Ｎ－ジメチル－Ｎ－（２，３－ジヒドロキシプロピル）アンモニウムイオン、１，４－ブタンジアンモニウムイオン、トリイソブチルアンモニウムイオン、トリイソペンチルアンモニウムイオン、トリイソオクチルアンモニウムイオン、オクチルアンモニウムイオン、ジオクチルアンモニウムイオン、２－エチルヘキシルアンモニウムイオン、デシルアンモニウムイオン、ドデシルアンモニウムイオン、トリデシルアンモニウムイオン、ペンタデシルアンモニウムイオン、ヘキサデシルアンモニウムイオン、オクタデシルアンモニウムイオン、オレイルアンモニウムイオン、ジ－ｎ－オクチルアンモニウムイオン、ビス（２－エチルヘキシル）アンモニウムイオン、ジメチルオクチルアンモニウムイオン、ジメチルデシルアンモニウムイオン、ジメチルドデシルアンモニウムイオン、ジメチルステアリルアンモニウムイオン、トリヘキシルアンモニウムイオン、トリオクチルアンモニウムイオン、トリス（２－エチルヘキシル）アンモニウムイオン、又はフェニルアンモニウムイオン等が挙げられる。これらのうち、オクチルアンモニウムイオン、ジオクチルアンモニウムイオン、２－エチルヘキシルアンモニウムイオン、デシルアンモニウムイオン、ドデシルアンモニウムイオン、トリデシルアンモニウムイオン、ペンタデシルアンモニウムイオン、ヘキサデシルアンモニウムイオン、オクタデシルアンモニウムイオン、オレイルアンモニウムイオン、ジ－ｎ－オクチルアンモニウムイオン、ビス（２－エチルヘキシル）アンモニウムイオン、ジメチルオクチルアンモニウムイオン、ジメチルデシルアンモニウムイオン、ジメチルドデシルアンモニウムイオン、ジメチルステアリルアンモニウムイオン、トリヘキシルアンモニウムイオン、トリオクチルアンモニウムイオン、トリス（２－エチルヘキシル）アンモニウムイオン、及びフェニルアンモニウムイオンからなる群より選ばれる少なくとも１つであることが好ましい。
【0032】
上記ピリジン化合物の共役酸の総炭素数としては、総炭素数３～２０であることが好ましい。ピリジン化合物の共役酸としては、特に限定されないが、例えば、ピリジニウムイオン、２－メチルピリジニウムイオン、３－メチルピリジニウムイオン、４－メチルピリジニウムイオン、ピコリニウムイオン、又はルチジニウムイオン等が挙げられる。これらのうち、ピリジニウムイオン、ピコリニウムイオン、又はルチジニウムイオン等が好ましい。
【0033】
上記イミダゾール化合物の共役酸の総炭素数としては、総炭素数３～２０であることが好ましい。イミダゾール化合物の共役酸としては、特に限定されないが、例えば、イミダゾリウムイオン、２－メチルイミダゾリウムイオン、２－エチル－４－メチルイミダゾリウムイオン、２－フェニルイミダゾリウムイオン、２－フェニル－４－メチルイミダゾリウムイオン、１－メチルイミダゾリウムイオン、又は１，２－ジメチルイミダゾリウムイオン等が挙げられる。これらのうち、イミダゾリウムイオン、１－メチルイミダゾリウムイオン、又は１，２－ジメチルイミダゾリウムイオン等が好ましい。
【0034】
上記第４級アンモニウムイオンの総炭素数としては、特に限定されないが、例えば、総炭素数が４～３０であってもよく、総炭素数が８～３０であることがより好ましい。
【0035】
第４級アンモニウムイオンとしては、特に限定されないが、例えば、テトラメチルアンモニウムイオン、テトラエチルアンモニウムイオン、テトラノルマルプロピルアンモニウムイオン、テトラノルマルブチルアンモニウムイオン、テトラノルマルヘキシルアンモニウムイオン、デシルトリメチルアンモニウムイオン、ドデシルトリメチルアンモニウムイオン、又はテトラヘキシルアンモニウムイオン等が挙げられる。これらのうち、デシルトリメチルアンモニウムイオン、ドデシルトリメチルアンモニウムイオン、及びテトラヘキシルアンモニウムイオンからなる群より選ばれる少なくとも１つであることが好ましい。
【0036】
上記の第４級アンモニウムイオンは、第４級アンモニウム塩を本発明の一実施形態に係る導電性高分子溶液に含有させ、前記のポリチオフェン（Ａ）と作用させることにより、得てもよい。前記の第４級アンモニウム塩としては、特に限定されないが、例えば、塩化物、臭化物、水酸化物、硫酸水素塩等が挙げられる。具体的には、テトラメチルアンモニウムクロリド、テトラエチルアンモニウムクロリド、テトラノルマルプロピルアンモニウムクロリド、テトラノルマルブチルアンモニウムクロリド、テトラノルマルヘキシルアンモニウムクロリド、デシルトリメチルアンモニウムクロリド、ドデシルトリメチルアンモニウムクロリド、テトラヘキシルアンモニウムヒドロキシド、テトラヘキシルアンモニウム硫酸水素塩、又はテトラヘキシルアンモニウムブロミドが挙げられる。これらのうち、デシルトリメチルアンモニウムクロリド、ドデシルトリメチルアンモニウムクロリド、テトラヘキシルアンモニウムヒドロキシド、テトラヘキシルアンモニウム硫酸水素塩、及びテトラヘキシルアンモニウムブロミドからなる群より選ばれる少なくとも１つであることが好ましい。
【0037】
上記Ｍ＋は、塗膜塗工性に優れる点で、オクチルアンモニウムイオン、ジオクチルアンモニウムイオン、２－エチルヘキシルアンモニウムイオン、デシルアンモニウムイオン、ドデシルアンモニウムイオン、トリデシルアンモニウムイオン、ペンタデシルアンモニウムイオン、ヘキサデシルアンモニウムイオン、オクタデシルアンモニウムイオン、オレイルアンモニウムイオン、ジ－ｎ－オクチルアンモニウムイオン、ビス（２－エチルヘキシル）アンモニウムイオン、ジメチルオクチルアンモニウムイオン、ジメチルデシルアンモニウムイオン、ジメチルドデシルアンモニウムイオン、ジメチルステアリルアンモニウムイオン、トリヘキシルアンモニウムイオン、トリオクチルアンモニウムイオン、トリス（２－エチルヘキシル）アンモニウムイオン、フェニルアンモニウムイオン、ピリジニウムイオン、ピコリニウムイオン、ルチジニウムイオン、イミダゾリウムイオン、１－メチルイミダゾリウムイオン、１，２－ジメチルイミダゾリウムイオン、デシルトリメチルアンモニウムイオン、ドデシルトリメチルアンモニウムイオン、及びテトラヘキシルアンモニウムイオンからなる群より選ばれる少なくとも１つであることが好ましい。
【0038】
上記一般式（１）及び（２）中、ｍは独立して１～１０の整数を表し、ｎは独立して０又は１を表す。ｍについては、導電性高分子溶液の溶解性と塗布性の観点から、２～６の整数であることが好ましく、２、３、４、又は５であることがより好ましく、２、又は３であることがより好ましい。また、ｎについては、導電性高分子溶液の溶解性と塗布性の観点から、１であることが好ましい。
【0039】
上記の一般式（１）で表される構造単位及び一般式（２）で表される構造単位からなる群より選ばれる少なくとも一種の構造単位を少なくとも２つ以上含むポリチオフェンについては、高い導電率が得られる点で、ゲル浸透クロマトグラフィー測定におけるポリスチレンスルホン酸換算数平均分子量が、３，５００以上であることが好ましく、４，０００以上であることがより好ましく、５，０００以上であることが更に好ましい。なお、上記導電性高分子溶液の操作性の点で、上記ポリチオフェンのゲル浸透クロマトグラフィー測定におけるポリスチレンスルホン酸換算数平均分子量は、３０，０００以下であることが好ましく、２０，０００以下であることがより好ましく、１５，０００以下であることがより好ましい。そのため、前記ポリチオフェンのポリスチレンスルホン酸換算数平均分子量は、３，５００～３０，０００であることが好ましく、４，０００～２０，０００であることがより好ましく、５，０００～１５，０００であることが更に好ましい。
【0040】
上記のポリチオフェンのゲル浸透クロマトグラフィー法による分子量測定の方法及び条件については、ＩＳＯ １６０１４－３：２０１２（ＪＩＳ Ｋ ７２５２－３：２０１６）に従う。
【0041】
本発明の一実施形態に係る導電性高分子溶液については、導電性向上の観点から、ポリチオフェン（Ａ）の含有量が０．０１質量％以上であることが好ましく、０．０５質量％以上であることがより好ましく、０．１質量％以上であることが更に好ましい。また、成膜性向上の観点から、ポリチオフェン（Ａ）の含有量が１０質量％以下であることが好ましく、５質量％以下であることがより好ましく、３質量％以下であることが更に好ましい。そのため、ポリチオフェン（Ａ）の含有量は、０．０１～１０質量％であることが好ましく、０．０５～５質量％であることがより好ましく、０．１～３質量％であることが更に好ましい。
【0042】
〔１－１－１．ポリチオフェンの製法〕
なお、上記の一般式（１）で表される構造単位及び一般式（２）で表される構造単位からなる群より選ばれる少なくとも一種の構造単位を少なくとも２つ以上含むポリチオフェンについては、下記一般式（３）で表されるチオフェンモノマーを、水又はアルコール溶媒中、鉄塩及び／又は過硫酸等の酸化剤の存在下に重合させることによって製造することができる。なお、必要に応じて、溶媒洗浄、再沈殿、遠心沈降、限外ろ過、透析、イオン交換樹脂処理等の操作を組み合わせることもできる。
なお、上記の一般式（１）で表される構造単位及び一般式（２）で表される構造単位からなる群より選ばれる少なくとも一種の構造単位を少なくとも２つ以上含むポリチオフェンについては、下記一般式（３）で表されるチオフェンモノマーを、水又はアルコール溶媒中、鉄塩及び／又は過硫酸等の酸化剤の存在下に重合させることによって製造することができる。なお、必要に応じて、溶媒洗浄、再沈殿、遠心沈降、限外ろ過、透析、イオン交換樹脂処理等の操作を組み合わせることもできる。
【0043】
【化4】
【0044】
上記式（３）中、Ｒ１、ｍ、ｎは、上記一般式（１）及び（２）のＲ１、ｍ、ｎと同じ定義である。上記式中、Ｍ＋は、水素イオン又はアルカリ金属イオンを表す。
【0045】
上記一般式（３）で表されるチオフェンモノマーとしては、特に限定されないが、具体的には、３－［（２，３－ジヒドロチエノ［３，４－ｂ］－［１，４］ジオキシン－２－イル）メトキシ］－１－プロパンスルホン酸ナトリウム、３－［（２，３－ジヒドロチエノ［３，４－ｂ］－［１，４］ジオキシン－２－イル）メトキシ］－１－プロパンスルホン酸カリウム、３－［（２，３－ジヒドロチエノ［３，４－ｂ］－［１，４］ジオキシン－２－イル）メトキシ］－１－メチル－１－プロパンスルホン酸ナトリウム、３－［（２，３－ジヒドロチエノ［３，４－ｂ］－［１，４］ジオキシン－２－イル）メトキシ］－１－エチル－１－プロパンスルホン酸ナトリウム、３－［（２，３－ジヒドロチエノ［３，４－ｂ］－［１，４］ジオキシン－２－イル）メトキシ］－１－プロピル－１－プロパンスルホン酸ナトリウム、３－［（２，３－ジヒドロチエノ［３，４－ｂ］－［１，４］ジオキシン－２－イル）メトキシ］－１－ブチル－１－プロパンスルホン酸ナトリウム、３－［（２，３－ジヒドロチエノ［３，４－ｂ］－［１，４］ジオキシン－２－イル）メトキシ］－１－ペンチル－１－プロパンスルホン酸ナトリウム、３－［（２，３－ジヒドロチエノ［３，４－ｂ］－［１，４］ジオキシン－２－イル）メトキシ］－１－ヘキシル－１－プロパンスルホン酸ナトリウム、３－［（２，３－ジヒドロチエノ［３，４－ｂ］－［１，４］ジオキシン－２－イル）メトキシ］－１－イソプロピル－１－プロパンスルホン酸ナトリウム、３－［（２，３－ジヒドロチエノ［３，４－ｂ］－［１，４］ジオキシン－２－イル）メトキシ］－１－イソブチル－１－プロパンスルホン酸ナトリウム、３－［（２，３－ジヒドロチエノ［３，４－ｂ］－［１，４］ジオキシン－２－イル）メトキシ］－１－イソペンチル－１－プロパンスルホン酸ナトリウム、３－［（２，３－ジヒドロチエノ［３，４－ｂ］－［１，４］ジオキシン－２－イル）メトキシ］－１－フルオロ－１－プロパンスルホン酸ナトリウム、３－［（２，３－ジヒドロチエノ［３，４－ｂ］－［１，４］ジオキシン－２－イル）メトキシ］－１－メチル－１－プロパンスルホン酸カリウム、３－［（２，３－ジヒドロチエノ［３，４－ｂ］－［１，４］ジオキシン－２－イル）メトキシ］－１－メチル－１－プロパンスルホン酸、３－［（２，３－ジヒドロチエノ［３，４－ｂ］－［１，４］ジオキシン－２－イル）メトキシ］－１－メチル－１－プロパンスルホン酸アンモニウム、３－［（２，３－ジヒドロチエノ［３，４－ｂ］－［１，４］ジオキシン－２－イル）メトキシ］－１－メチル－１－プロパンスルホン酸トリエチルアンモニウム、４－［（２，３－ジヒドロチエノ［３，４－ｂ］－［１，４］ジオキシン－２－イル）メトキシ］－１－ブタンスルホン酸ナトリウム、４－［（２，３－ジヒドロチエノ［３，４－ｂ］－［１，４］ジオキシン－２－イル）メトキシ］－１－ブタンスルホン酸カリウム、４－［（２，３－ジヒドロチエノ［３，４－ｂ］－［１，４］ジオキシン－２－イル）メトキシ］－１－メチル－１－ブタンスルホン酸ナトリウム、４－［（２，３－ジヒドロチエノ［３，４－ｂ］－［１，４］ジオキシン－２－イル）メトキシ］－１－メチル－１－ブタンスルホン酸カリウム、４－［（２，３－ジヒドロチエノ［３，４－ｂ］－［１，４］ジオキシン－２－イル）メトキシ］－１－フルオロ－１－ブタンスルホン酸ナトリウム、４－［（２，３－ジヒドロチエノ［３，４－ｂ］－［１，４］ジオキシン－２－イル）メトキシ］－１－フルオロ－１－ブタンスルホン酸カリウム、６－（２，３－ジヒドロ－チエノ［３，４－ｂ］［１，４］ジオキシン－２－イル）ヘキサン－１－スルホン酸、６－（２，３－ジヒドロ－チエノ［３，４－ｂ］［１，４］ジオキシン－２－イル）ヘキサン－１－スルホン酸ナトリウム、６－（２，３－ジヒドロ－チエノ［３，４－ｂ］［１，４］ジオキシン－２－イル）ヘキサン－１－スルホン酸リチウム、６－（２，３－ジヒドロ－チエノ［３，４－ｂ］［１，４］ジオキシン－２－イル）ヘキサン－１－スルホン酸カリウム、８－（２，３－ジヒドロ－チエノ［３，４－ｂ］［１，４］ジオキシン－２－イル）オクタン－１－スルホン酸、８－（２，３－ジヒドロ－チエノ［３，４－ｂ］［１，４］ジオキシン－２－イル）オクタン－１－スルホン酸ナトリウム、及び８－（２，３－ジヒドロ－チエノ［３，４－ｂ］［１，４］ジオキシン－２－イル）オクタン－１－スルホン酸カリウム等が例示される。
【0046】
前記のＭ＋で表されるアルカリ金属イオンとしては、特に限定されないが、例えば、リチウムイオン、ナトリウムイオン、カリウムイオン、又はセシウムイオンを挙げることができる。
【0047】
上記式（３）で表されるチオフェンモノマーの重合反応に用いる溶媒は、水、アルコール、又はアルコール水溶液であることが好ましい。水としては、例えば、純水が挙げられ、蒸留水、イオン交換水でもよい。アルコール溶媒としては、例えば、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール等のアルコール類が挙げられる。これらのアルコール溶媒は、単独でも使用しても、水と併用してもよい。これらの溶媒のうち、好ましくは水又はメタノールであり、より好ましくは水である。また、溶媒を脱気や窒素等の不活性ガスで置換していてもよい。
【0048】
上記のチオフェンモノマーの重合反応に用いる溶媒量は、例えば、チオフェンモノマーが溶解する量であり、特に限定されないが、本発明の実施形態に係るチオフェンモノマーの仕込量に対して０．１～１００重量倍の範囲が好ましく、１～２０重量倍の範囲がより好ましい。
【0049】
上記のチオフェンモノマーの重合反応に用いる酸化剤は、酸化的脱水素化反応による酸化重合を進行させる。当該酸化剤は、特に限定されないが、例えば、過硫酸類、鉄塩（ＩＩ又はＩＩＩ）、過酸化水素、過マンガン酸塩、重クロム酸塩、硫酸セリウム（ＩＶ）、酸素等が挙げられ、これらを単独で又は二種以上を混合して使用してもよい。
【0050】
ここで、過硫酸類としては、具体的には、過硫酸、過硫酸アンモニウム、過硫酸ナトリウム、過硫酸カリウム等が例示される。
【0051】
鉄塩としては、具体的には、ＦｅＣｌ３、ＦｅＢｒ３、Ｆｅ２（ＳＯ４）３、Ｆｅ（ＮＯ３）３・９Ｈ２Ｏ，過塩素酸鉄、パラ－トルエンスルホン酸鉄（ＩＩＩ）等の３価の鉄塩、ＦｅＣｌ２、ＦｅＢｒ２、ＦｅＳＯ４・７Ｈ２Ｏ、酢酸鉄（ＩＩ）等の２価の鉄塩が挙げられる。これらは無水物を使用しても、水和物を使用してもよい。
【0052】
また、過マンガン酸塩としては、具体的には、過マンガン酸ナトリウム、過マンガン酸カリウム、過マンガン酸マグネシウム等が例示される。
【0053】
また、重クロム酸塩としては、具体的には、重クロム酸アンモニウム、重クロム酸カリウム等が例示される。
【0054】
これらの酸化剤のうち、ＦｅＣｌ３、Ｆｅ２（ＳＯ４）３、Ｆｅ２（ＳＯ４）３、又は過硫酸塩と鉄塩（ＩＩ又はＩＩＩ）との併用系が特に好ましい。
【0055】
上記のチオフェンモノマーの重合反応に用いる酸化剤の量としては、特に限定されないが、チオフェンモノマーの仕込モル数に対して０．５～５０倍モルが好ましい。より好ましくは、１～２０倍モルである。更に好ましくは、１～１０倍モルである。
【0056】
上記のチオフェンモノマーの重合反応に用いる酸化剤が、例えば、鉄塩（ＩＩＩ）単独系の場合、原料として用いられるチオフェンモノマーに仕込モル数に対して、鉄塩（ＩＩＩ）が等倍モル以上であり、且つ溶媒に対する鉄濃度が１０重量％以上になるように用いて重合させることが好ましい。より良好な導電性を発現させるためには、溶媒に対する鉄濃度が２０重量％以上であることが更に好ましい。尚、ここでいう鉄濃度とは、鉄塩／（鉄塩＋水）×１００（重量％）で表される値であり、鉄塩は無水物として計算する。
【0057】
又、上記のチオフェンモノマーの重合反応に用いる酸化剤が、過硫酸塩と鉄塩（ＩＩ又はＩＩＩ）との併用系である場合には、チオフェンモノマーの仕込モル数に対して、過硫酸塩が０．５～２０倍モルの範囲であり、且つ鉄塩（ＩＩ又はＩＩＩ）が０．０１～１０倍モルの範囲であることが好ましく、過硫酸塩が１．５～１０倍モルの範囲であり、且つ、鉄塩（ＩＩ又はＩＩＩ）が０．０５～５倍モルの範囲であることがより好ましい。
【0058】
上記のチオフェンモノマーの重合反応の圧力は、常圧、減圧、加圧のいずれであってもよい。
【0059】
上記のチオフェンモノマーの重合反応の反応雰囲気は、大気中であっても、窒素やアルゴン等の不活性ガス中であってもよい。より好ましくは不活性ガス中である。
【0060】
上記のチオフェンモノマーの重合反応の反応温度は、特に限定されないが、－１０～１００℃の範囲が好ましく、０～５０℃の範囲が更に好ましい。
【0061】
上記のチオフェンモノマーの重合反応の反応時間は、酸化重合が十分進行する時間であり、特に限定されないが、０．５～２００時間の範囲が好ましく、０．５～８０時間の範囲が更に好ましい。
【0062】
上記の重合反応の反応方法は、特に限定されないが、例えば、上記式（３）で表されるチオフェンモノマーをあらかじめ水に溶解させ、これに酸化剤を一度に又はゆっくりと滴下してもよく、逆に酸化剤の固体又は水溶液に上記式（３）で表されるチオフェンモノマーの水溶液を一度に又はゆっくりと滴下してもよい。また、２種以上の酸化剤を用いる場合には、各酸化剤を順次添加してもよい。
【0063】
尚、上記の重合反応は、酸化剤の添加に伴い液粘度が上昇する傾向があるため、液全体を均一に撹拌する必要がある。撹拌翼については、プロペラ翼、パドル翼、マックスブレンド（登録商標）翼（住友重機械プロセス機器社製）、フルゾーン（登録商標）翼（神鋼環境ソリューション社製）、ディスクタービンが使用でき、反応容器内をより均一に混合するためにはマックスブレンド翼やフルゾーン翼など大型翼が好ましい。その他として、乳化や分散に使用されるホモミキサー、ホモジナイザー等も組み合わせて使用してもよい。一般的な撹拌翼を使用する撹拌法を用いる場合は、反応液に反応容器の気相部のガスが多量に取り込まれて撹拌効率が低下することがない範囲で撹拌翼の回転速度をできるだけ速くすることが好ましい。
【0064】
上記のポリチオフェンの典型的な単離精製方法は、例えば、以下のとおりである。
【0065】
まず、重合反応後の水溶液を、そのまま限外ろ過、透析等の膜分離法を用いて脱塩精製し、その後、陽イオン及び陰イオン交換樹脂に通液することによりＭ＋が水素イオンである酸型のポリチオフェン水溶液を得ることができる。
【0066】
更に、必要に応じて、得られた水溶液を粗濃縮し、アセトン等の貧溶媒に添加して沈殿させることにより粉末としてポリチオフェンを得ることもできる。
【0067】
また、塩型ポリチオフェンを形成させる場合には、例えば、上記酸型のポリチオフェンの水溶液に、各種アミン化合物若しくはアンモニウム塩の原液、又はそれらの水溶液若しくはそれらをその他適当な溶媒で希釈した液を加える。特に限定されではないが、例えば、酸型のポリチオフェンの水溶液にアンモニアを添加することによって、Ｍ＋がＮＨ４
＋であるアンモニウム塩型ポリチオフェンの水溶液を形成させることができる。必要に応じて、得られた上記水溶液をアセトン等の貧溶媒に添加して粉末状の各種アンモニウム塩型ポリチオフェンを得ることもできる。
【0068】
〔１－２．紫外線吸収剤（Ｂ）〕
本願明細書において、紫外線吸収剤とは、約４００ｎｍ以下の波長において吸収を有する材料を指す。
本願明細書において、紫外線吸収剤とは、約４００ｎｍ以下の波長において吸収を有する材料を指す。
【0069】
本発明の一実施形態において、紫外線吸収剤（Ｂ）としては、ベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、シアノアクリレート系化合物、及びトリアジン系化合物からなる群より選ばれる少なくとも一種を用いることができる。
【0070】
ベンゾフェノン系化合物としては、２－ヒドロキシ－４－（オクチルオキシ）ベンゾフェノン、２－ヒドロキシ－４－メトキシベンゾフェノン－５－スルホン酸、２，２’，４，４’－テトラヒドロキシベンゾフェノン、２，４－ジヒドロキシベンゾフェノン、２－ヒドロキシ－４－メトキシベンゾフェノン、２，２’－ジヒドロキシ－４，４’－ジメトキシベンゾフェノン等が挙げられる。
【0071】
ベンゾトリアゾール系化合物としては、２－［２－ヒドロキシ－３，５－ビス（α，α－ジメチルベンジン）フェニル］－２Ｈ－ベンゾトリアゾール、２－（２Ｈ－ベンゾ［ｄ］［１，２，３］トリアゾール－２－イル）－６－（２－フェニルプロパン－２－イル）－４－（２，４，４－トリメチルペンタン－２－イル）フェノール、２－［２－ヒドロキシ－５－［２－（メタクリロイルオキシ）エチル］フェニル］－２Ｈ－ベンゾトリアゾール、２－（２Ｈ－ベンゾトリアゾール－２－イル）－４－メチル－６－（２－プロペニル）フェノール、２－（２－ヒドロキシ－５－メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２－（５－クロロ－２－ベンゾトリアゾリル）－６－ｔｅｒｔ－ブチル－ｐ－クレゾール、２，２’－メチレンビス［６－（ベンゾトリアゾール－２－イル）－４－ｔｅｒｔ－オクチルフェノール］、２－（５－ｔｅｒｔ－ブチル－２－ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２－（２－ヒドロキシ－５－ｔｅｒｔ－オクチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２－（３，５－ジ－ｔｅｒｔ－アミル－２－ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２－（３，５－ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－２－ヒドロキシフェニル）－５－クロロベンゾトリアゾール等が挙げられる。
【0072】
シアノアクリレート系化合物としては、２－シアノ－３，３－ジフェニルアクリル酸エチル、２－シアノ－３，３－ジフェニルアクリル酸２－エチルヘキシル、２，２－ビス｛［（２－シアノ－３，３－ジフェニルアクリロイル）オキシ］メチル｝プロパン－１，３－ジイル＝ビス（２－シアノ－３，３－ジフェニルアクリラート）等が挙げられる。
【0073】
トリアジン系化合物としては、２－エチルヘキサン酸＝２－［３－ヒドロキシ－４－（４，６－ジフェニル－１，３，５－トリアジン－２－イル）フェノキシ］エチル、２，２，２－（１，３，５－トリアジン－２，４，６－トリイル）トリス［５－（へキシルオキシ）－６－メチルフェノール］、２，４－ビス（２，４－ジメチルフェニル）－６－（２－ヒドロキシ－４－ｎ－オクチルオキシフェニル）－１，３，５－トリアジン、４，４’，４’’－（１，３，５－トリアジン－２，４，６－トリイルトリイミノ）トリス安息香酸トリス（２－エチルヘキシル）、２－（２，４－ジヒドロキシフェニル）－４，６－ジフェニル－１，３，５－トリアジン、２－（２－ヒドロキシ－４－メトキシフェニル）－４，６－ジフェニル－１，３，５－トリアジン、Ｎ，Ｎ’，Ｎ’’－トリ（ｍ－トリル）－１，３，５－トリアジン－２，４，６－トリアミン、２－（２，４－ジヒドロキシフェニル）－４，６－ビス（２，４－ジメチルフェニル）－１，３，５－トリアジン、２，２’－［６－（４－メトキシフェニル）－１，３，５－トリアジン－２，４－ジイル］ビス［５－［（２－エチルヘキシル）オキシ］フェノール］、２，４，６－トリス（４－ブトキシ－２－ヒドロキシフェニル）－１，３，５－トリアジン、２，４，６－トリス（２，４－ジヒドロキシフェニル）－１，３，５－トリアジン等が挙げられる。
【0074】
紫外線吸収剤（Ｂ）としては、紫外線吸収能の観点から、ベンゾフェノン系化合物、又はベンゾトリアゾール系化合物が好ましく、２－ヒドロキシ－４－（オクチルオキシ）ベンゾフェノン、２－ヒドロキシ－４－メトキシベンゾフェノン、２－（２－ヒドロキシ－５－メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２－（２－ヒドロキシ－５－ｔｅｒｔ－オクチルフェニル）ベンゾトリアゾール、又は２－（２Ｈ－ベンゾ［ｄ］［１，２，３］トリアゾール－２－イル）－６－（２－フェニルプロパン－２－イル）－４－（２，４，４－トリメチルペンタン－２－イル）フェノールがより好ましい。
【0075】
本発明の一実施形態に係る導電性高分子溶液については、紫外線吸収能の観点から、紫外線吸収剤（Ｂ）の含有量が０．０１質量％以上であることが好ましく、０．０５質量％以上であることがより好ましく、０．１質量％以上であることが更に好ましい。また、溶媒への溶解性の観点から、紫外線吸収剤（Ｂ）の含有量が１０質量％以下であることが好ましく、７．５質量％以下であることがより好ましく、５質量％以下であることが更に好ましい。そのため、紫外線吸収剤（Ｂ）の含有量は、０．０１～１０質量％であることが好ましく、０．０５～７．５質量％であることがより好ましく、０．１～５質量％であることが更に好ましい。
【0076】
〔１－３．有機溶媒（Ｃ）〕
本発明の一実施形態において、有機溶媒（Ｃ）としては、アルコール系溶媒、エーテル系溶媒、ケトン系溶媒、及び芳香族系溶媒からなる群より選ばれる少なくとも一種を用いることができる。
本発明の一実施形態において、有機溶媒（Ｃ）としては、アルコール系溶媒、エーテル系溶媒、ケトン系溶媒、及び芳香族系溶媒からなる群より選ばれる少なくとも一種を用いることができる。
【0077】
アルコール系溶媒としては、特に限定されないが、メタノール、エタノール、１－プロパノール、２－プロパノール、１－ブタノール、２－ブタノール、イソブタノール、ターシャリーブタノール、エチレングリコール等が挙げられる。
【0078】
エーテル系溶媒としては、特に限定されないが、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル（ＰＧＭＥ）、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、１，４－ジオキサン等が挙げられる。
【0079】
ケトン系溶媒としては、特に限定されないが、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）、メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）、アセトン、メチルプロピルケトン、ジアセトンアルコール等が挙げられる。
【0080】
芳香族系溶媒としては、特に限定されないが、ベンゼン、トルエン、キシレン等が挙げられる。
【0081】
有機溶媒（Ｃ）としては、塗膜塗工性に優れる点で、１－ブタノール、プロピレングリコールモノメチルエーテル（ＰＧＭＥ）、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、又はメチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）が好ましい。
【0082】
本発明の一実施形態に係る導電性高分子溶液については、成膜性向上の観点から、溶媒（Ｃ）の含有量が８０～９９．９質量％であることが好ましく、９０～９９．９質量％であることがより好ましい。
【0083】
〔１－５．導電性高分子溶液の製法〕
本実施形態に係る導電性高分子溶液の製法としては、特に限定するものではないが、例えば、本実施形態のポリチオフェン（Ａ）の溶液又は固体と、紫外線吸収剤（Ｂ）と、有機溶媒（Ｃ）と、を混合し、撹拌等によって均一化する方法が挙げられる。
本実施形態に係る導電性高分子溶液の製法としては、特に限定するものではないが、例えば、本実施形態のポリチオフェン（Ａ）の溶液又は固体と、紫外線吸収剤（Ｂ）と、有機溶媒（Ｃ）と、を混合し、撹拌等によって均一化する方法が挙げられる。
【0084】
混合する際の温度は、特に限定するものではないが、例えば、室温～加温下で行うことができる。好ましくは０℃以上１００℃以下が好ましい。混合する際の雰囲気は、特に限定するものではないが、大気中でも、不活性ガス中でもよい。
【0085】
さらに、本発明の一実施形態に係る導電性高分子溶液は、上記以外の成分（Ｄ）を含んでいてもよい。上記以外の成分（Ｄ）としては、特に限定されないが、例えば、バインダー、可視光吸収剤、及び界面活性剤等を挙げることができる。
【0086】
上記のバインダーとしては、特に限定するものではないが、例えば、セルロース系樹脂、ビニルピロリドン樹脂、アクリル樹脂、ウレタン樹脂、メチルメタクリレート樹脂、スチレンブタジエン樹脂、酢酸ビニル樹脂、ポリアミド樹脂、フェノール樹脂、エポキシ樹脂、メラミン樹脂、熱硬化性ポリイミド、ニトロセルロース若しくはその他のセルロース樹脂、又はポリビニルアルコール樹脂等が挙げられる。硬化方法としては、熱硬化やＵＶ硬化が挙げられる。
【0087】
前記のバインダー樹脂については、成膜性に優れる点で、セルロース系樹脂、ビニルピロリドン樹脂、ウレタン樹脂、アクリル樹脂、及びエポキシ樹脂からなる群より選択される少なくとも１種が好ましい。
【0088】
本発明の一実施形態に係る導電性高分子溶液が上記のバインダーを含有する場合、バインダーの含有量は導電性高分子溶液を１００質量％として、０．０１～２０質量％であることが好ましく、０．１～１０質量％であることがより好ましい。
【0089】
上記の可視光吸収剤としては、特に限定するものではないが、山田化学工業株式会社製のＦＤＢ－００１、ＦＤＢ－００２、ＦＤＢ－００４、ＦＤＢ－００９、ＦＤＢ－０２７、ＦＤＢ－０３６等を使用することができる。可視光吸収剤を添加することで吸収波長を広げることが可能となる。
【0090】
本発明の一実施形態に係る導電性高分子溶液が上記の可視光吸収剤を含有する場合、可視光吸収剤の含有量は導電性高分子溶液を１００質量％として、０．０１～１０質量％であることが好ましく、０．１～５質量％であることがより好ましい。
【0091】
上記の界面活性剤としては、特に限定されないが、例えば、アニオン界面活性剤（例えば、ラウリルアルコール硫酸エステルナトリウム及びドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム等）、カチオン界面活性剤（例えば、ドデシルトリメチルアンモニウムクロリド等）、非イオン性界面活性剤、両性界面活性剤、フッ素系界面活性剤、又はシリコーン系界面活性剤等が使用できるが、より好ましくは非イオン性界面活性剤及び両性界面活性剤からなる群より選ばれる少なくとも一種である。
【0092】
本発明の一実施形態に係る導電性高分子溶液が上記の界面活性剤等の成分を含有する場合、それらの含有量は、各々独立して、導電性高分子溶液を１００質量％として、０．１～６０質量％であることが好ましく、１～４０質量％であることがより好ましい。
【0093】
〔２．導電性高分子膜〕
本発明の一実施形態に係る導電性高分子膜は、特に限定されないが、例えば、本発明の一実施形態に係る導電性高分子溶液を、基材に塗布し、次いで乾燥することによって製造することができる。このように製造される導電性高分子膜は、下記一般式（１）で表される構造単位及び下記一般式（２）で表される構造単位からなる群より選ばれる少なくとも一種の構造単位を含むポリチオフェン（Ａ）と、紫外線吸収剤（Ｂ）と、を含み、単層膜である。
本発明の一実施形態に係る導電性高分子膜は、特に限定されないが、例えば、本発明の一実施形態に係る導電性高分子溶液を、基材に塗布し、次いで乾燥することによって製造することができる。このように製造される導電性高分子膜は、下記一般式（１）で表される構造単位及び下記一般式（２）で表される構造単位からなる群より選ばれる少なくとも一種の構造単位を含むポリチオフェン（Ａ）と、紫外線吸収剤（Ｂ）と、を含み、単層膜である。
【0094】
【化5】
【0095】
上記の基材としては、特に限定されないが、例えば、ガラス、プラスチック、ポリエステル、ポリアクリレート、ポリカーボネート、レジスト基板等が挙げられる。塗布方法としては、特に限定されないが、例えば、スクリーン印刷法、キャスティング法、ディッピング法、バーコート法、ロールコート法、グラビアコート法、フレキソ印刷法、スプレーコート法、インクジェット印刷法等が挙げられる。
【0096】
乾燥温度としては、均一な乾燥状態の導電性高分子膜が得られる温度及び基材の耐熱温度以下であれば特に限定されないが、室温（１５～２５℃）～３００℃の範囲が好ましく、より好ましくは室温～２５０℃の範囲であり、さらに好ましくは９０～２５０℃の範囲である。
【0097】
乾燥雰囲気は、大気中、不活性ガス中、真空中、又は減圧下のいずれであってもよい。導電性高分子膜の劣化抑制の観点からは、窒素、アルゴン等の不活性ガス中が好ましい。
【0098】
本発明の一実施形態に係る導電性高分子膜の膜厚としては、特に限定されないが、１×１０－２～１×１０２μｍの範囲が好ましい。
【0099】
本発明は上述した各実施形態に限定されず、請求項に示した範囲で種々の変更が可能である。異なる実施形態にそれぞれ開示された技術的手段を適宜組み合わせて得られる実施形態も、本発明の技術的範囲に含まれる。
【実施例0100】
以下に本発明の導電性高分子溶液、及び導電性高分子膜に関する実施例を示すが、本発明はこれらの実施例に限定して解釈されない。後述する各実施例、各比較例、及び参考例に係る導電性高分子溶液を用いて、以下の方法に従って導電性高分子膜を作製し、作製した導電性高分子膜の表面抵抗率、紫外線透過率、及びヘイズを測定した。
【0101】
〔導電性高分子膜の作製〕
導電性高分子膜を、卓上印刷試験機（松尾産業製Ｋ２０２コントロールコーター）を使用して以下の方法で作製した。塗装直後の膜厚（Ｗｅｔ膜厚）が１２μｍとなるワイヤーバーを用いて、導電性高分子溶液をＰＥＴフィルム基板（東洋紡製 コスモシャイン Ａ４１００）に対してスクリーン印刷した後、１２０℃に設定した恒温槽中で、大気下、２分間加熱し、導電性高分子膜を得た。
導電性高分子膜を、卓上印刷試験機（松尾産業製Ｋ２０２コントロールコーター）を使用して以下の方法で作製した。塗装直後の膜厚（Ｗｅｔ膜厚）が１２μｍとなるワイヤーバーを用いて、導電性高分子溶液をＰＥＴフィルム基板（東洋紡製 コスモシャイン Ａ４１００）に対してスクリーン印刷した後、１２０℃に設定した恒温槽中で、大気下、２分間加熱し、導電性高分子膜を得た。
【0102】
〔導電性高分子膜の表面抵抗率の測定方法〕
導電性高分子膜の表面抵抗率を以下の方法で測定した。表面抵抗測定器（三菱化学社製ロレスタＧＰ ＭＣＰ－Ｔ６００又は三菱化学社製ハイレスタＵＸ ＭＣＰ－ＨＴ８０００）を用いて、測定プローブをＡＳＰとして、導電性高分子膜の表面抵抗率を２５℃、５０％ＲＨ雰囲気で測定した。測定は、ｘ方向に６．２５ｍｍ、ｙ方向に６．２５ｍｍの間隔で、９箇所で行い、９箇所での表面抵抗率の平均値を算出した。表面抵抗率が低い程、帯電防止能が高いと言える。
導電性高分子膜の表面抵抗率を以下の方法で測定した。表面抵抗測定器（三菱化学社製ロレスタＧＰ ＭＣＰ－Ｔ６００又は三菱化学社製ハイレスタＵＸ ＭＣＰ－ＨＴ８０００）を用いて、測定プローブをＡＳＰとして、導電性高分子膜の表面抵抗率を２５℃、５０％ＲＨ雰囲気で測定した。測定は、ｘ方向に６．２５ｍｍ、ｙ方向に６．２５ｍｍの間隔で、９箇所で行い、９箇所での表面抵抗率の平均値を算出した。表面抵抗率が低い程、帯電防止能が高いと言える。
【0103】
〔導電性高分子膜の紫外線透過率の測定〕
導電性高分子膜の紫外線透過率を、紫外可視分光光度計（島津製ＵＶ－３１００）を使用して測定した。測定は、３２５ｎｍ及び３６５ｎｍの波長にて行った。紫外線透過率が低い程、紫外線吸収能が高いと言える。
導電性高分子膜の紫外線透過率を、紫外可視分光光度計（島津製ＵＶ－３１００）を使用して測定した。測定は、３２５ｎｍ及び３６５ｎｍの波長にて行った。紫外線透過率が低い程、紫外線吸収能が高いと言える。
【0104】
〔導電性高分子膜のヘイズ及び全光線透過率の測定方法〕
導電性高分子膜の曇り度（ヘイズ）及び全光線透過率を、曇り度計（日本電色工業製ＮＤＨ４０００）を使用して測定した。ヘイズの値が低い程、曇りが少ない、すなわち透明性が高いと言える。
導電性高分子膜の曇り度（ヘイズ）及び全光線透過率を、曇り度計（日本電色工業製ＮＤＨ４０００）を使用して測定した。ヘイズの値が低い程、曇りが少ない、すなわち透明性が高いと言える。
【0105】
合成例１ ポリチオフェン（ＰＴ）の合成
従来公知の製造方法に従って、３－［（２，３－ジヒドロチエノ［３，４－ｂ］－［１，４］ジオキシン－２－イル）メトキシ］－１－メチル－１－プロパンスルホン酸ポリマー（下記式（４）及び下記式（５）で表される繰り返し構造を含む重合体、数平均分子量約７０００）を製造した。
従来公知の製造方法に従って、３－［（２，３－ジヒドロチエノ［３，４－ｂ］－［１，４］ジオキシン－２－イル）メトキシ］－１－メチル－１－プロパンスルホン酸ポリマー（下記式（４）及び下記式（５）で表される繰り返し構造を含む重合体、数平均分子量約７０００）を製造した。
【0106】
【化6】
【0107】
前記の３－［（２，３－ジヒドロチエノ［３，４－ｂ］－［１，４］ジオキシン－２－イル）メトキシ］－１－メチル－１－プロパンスルホン酸ポリマーを１重量％含む水溶液５０．０ｇに、ジオクチルアミンを５重量％含むメタノール溶液７．４ｇを撹拌し、次いで得られた析出物を濾別し、乾燥させて、前記ポリマーのジオクチルアミン塩（以下「ＰＴ」とも称する）の固体０．６ｇを得た。すなわち、当該ＰＴは、一般式（１）においてＭ＋としてジオクチルアミンの共役酸（すなわちジオクチルアンモニウムイオン）を含む。
【0108】
実施例１ （導電性高分子溶液の調製と評価）
９５．３ｇの１－ブタノールに、ＰＴ ０．２ｇと、エチルセルロース（東京化成工業製、製品コードＧ０４７８）２．５ｇと、２－ヒドロキシ－４－（オクチルオキシ）ベンゾフェノン（富士フィルム和光純薬製、製品コード０８９－０６９１１）２ｇと、を加え、撹拌を行って、実施例１に係る導電性高分子溶液を調製した。当該導電性高分子溶液から、上記の［導電性高分子膜の作製方法］に従って実施例１に係る導電性高分子膜を作製した。当該導電性高分子膜は、３２５ｎｍ及び３６５ｎｍの波長において紫外線の透過率が低く、紫外線吸収能を有することが確認された。また、当該導電性高分子膜は、１０８Ω／□の表面抵抗率を示し、帯電防止能を有することが確認された。
９５．３ｇの１－ブタノールに、ＰＴ ０．２ｇと、エチルセルロース（東京化成工業製、製品コードＧ０４７８）２．５ｇと、２－ヒドロキシ－４－（オクチルオキシ）ベンゾフェノン（富士フィルム和光純薬製、製品コード０８９－０６９１１）２ｇと、を加え、撹拌を行って、実施例１に係る導電性高分子溶液を調製した。当該導電性高分子溶液から、上記の［導電性高分子膜の作製方法］に従って実施例１に係る導電性高分子膜を作製した。当該導電性高分子膜は、３２５ｎｍ及び３６５ｎｍの波長において紫外線の透過率が低く、紫外線吸収能を有することが確認された。また、当該導電性高分子膜は、１０８Ω／□の表面抵抗率を示し、帯電防止能を有することが確認された。
【0109】
実施例２ （導電性高分子溶液の調製と評価）
９５．３ｇのＰＧＭＥに、ＰＴ ０．２ｇと、エチルセルロース（東京化成工業製、製品コードＧ０４７８）２．５ｇと、２－ヒドロキシ－４－（オクチルオキシ）ベンゾフェノン（富士フィルム和光純薬製、製品コード０８９－０６９１１）２ｇと、を加え、撹拌を行って、実施例２に係る導電性高分子溶液を調製した。当該導電性高分子溶液から、上記の［導電性高分子膜の作製方法］に従って実施例２に係る導電性高分子膜を作製した。当該導電性高分子膜は、３２５ｎｍ及び３６５ｎｍの波長において紫外線の透過率が低く、紫外線吸収能を有することが確認された。また、当該導電性高分子膜は、１０８Ω／□の表面抵抗率を示し、帯電防止能を有することが確認された。
９５．３ｇのＰＧＭＥに、ＰＴ ０．２ｇと、エチルセルロース（東京化成工業製、製品コードＧ０４７８）２．５ｇと、２－ヒドロキシ－４－（オクチルオキシ）ベンゾフェノン（富士フィルム和光純薬製、製品コード０８９－０６９１１）２ｇと、を加え、撹拌を行って、実施例２に係る導電性高分子溶液を調製した。当該導電性高分子溶液から、上記の［導電性高分子膜の作製方法］に従って実施例２に係る導電性高分子膜を作製した。当該導電性高分子膜は、３２５ｎｍ及び３６５ｎｍの波長において紫外線の透過率が低く、紫外線吸収能を有することが確認された。また、当該導電性高分子膜は、１０８Ω／□の表面抵抗率を示し、帯電防止能を有することが確認された。
【0110】
実施例３ （導電性高分子溶液の調製と評価）
９５．３ｇのＭＩＢＫに、ＰＴ ０．２ｇと、エチルセルロース（東京化成工業製、製品コードＧ０４７８）２．５ｇと、２－ヒドロキシ－４－（オクチルオキシ）ベンゾフェノン（富士フィルム和光純薬製、製品コード０８９－０６９１１）２ｇと、を加え、撹拌を行って、実施例３に係る導電性高分子溶液を調製した。当該導電性高分子溶液から、上記の［導電性高分子膜の作製方法］に従って実施例３に係る導電性高分子膜を作製した。当該導電性高分子膜は、３２５ｎｍ及び３６５ｎｍの波長において紫外線の透過率が低く、紫外線吸収能を有することが確認された。また、当該導電性高分子膜は、１０８Ω／□の表面抵抗率を示し、帯電防止能を有することが確認された。
９５．３ｇのＭＩＢＫに、ＰＴ ０．２ｇと、エチルセルロース（東京化成工業製、製品コードＧ０４７８）２．５ｇと、２－ヒドロキシ－４－（オクチルオキシ）ベンゾフェノン（富士フィルム和光純薬製、製品コード０８９－０６９１１）２ｇと、を加え、撹拌を行って、実施例３に係る導電性高分子溶液を調製した。当該導電性高分子溶液から、上記の［導電性高分子膜の作製方法］に従って実施例３に係る導電性高分子膜を作製した。当該導電性高分子膜は、３２５ｎｍ及び３６５ｎｍの波長において紫外線の透過率が低く、紫外線吸収能を有することが確認された。また、当該導電性高分子膜は、１０８Ω／□の表面抵抗率を示し、帯電防止能を有することが確認された。
【0111】
比較例１ （導電性高分子溶液の調製と評価）
９５．３ｇの水に、ＰＴ ０．２ｇと、エチルセルロース（東京化成工業製、製品コードＧ０４７８）２．５ｇと、２－ヒドロキシ－４－（オクチルオキシ）ベンゾフェノン（富士フィルム和光純薬製、製品コード０８９－０６９１１）２ｇと、を加えた。次いで、攪拌を行ったが、前記水に加えた化合物は溶解しなかった。
９５．３ｇの水に、ＰＴ ０．２ｇと、エチルセルロース（東京化成工業製、製品コードＧ０４７８）２．５ｇと、２－ヒドロキシ－４－（オクチルオキシ）ベンゾフェノン（富士フィルム和光純薬製、製品コード０８９－０６９１１）２ｇと、を加えた。次いで、攪拌を行ったが、前記水に加えた化合物は溶解しなかった。
【0112】
実施例４ （導電性高分子溶液の調製と評価）
９４．６ｇの１－ブタノールに、ＰＴ ０．２ｇと、エチルセルロース（東京化成工業製、製品コードＧ０４７８）２．５ｇと、２－（２Ｈ－ベンゾ［ｄ］［１，２，３］トリアゾール－２－イル）－６－（２－フェニルプロパン－２－イル）－４－（２，４，４－トリメチルペンタン－２－イル）フェノール（ＢＡＳＦ製、製品名Ｔｉｎｕｖｉｎ９２８）２．７ｇと、を加え、撹拌を行って、実施例４に係る導電性高分子溶液を調製した。当該導電性高分子溶液から、上記の［導電性高分子膜の作製方法］に従って実施例４に係る導電性高分子膜を作製した。当該導電性高分子膜は、３２５ｎｍ及び３６５ｎｍの波長において紫外線の透過率が低く、紫外線吸収能を有することが確認された。また、当該導電性高分子膜は、１０８Ω／□の表面抵抗率を示し、帯電防止能を有することが確認された。
９４．６ｇの１－ブタノールに、ＰＴ ０．２ｇと、エチルセルロース（東京化成工業製、製品コードＧ０４７８）２．５ｇと、２－（２Ｈ－ベンゾ［ｄ］［１，２，３］トリアゾール－２－イル）－６－（２－フェニルプロパン－２－イル）－４－（２，４，４－トリメチルペンタン－２－イル）フェノール（ＢＡＳＦ製、製品名Ｔｉｎｕｖｉｎ９２８）２．７ｇと、を加え、撹拌を行って、実施例４に係る導電性高分子溶液を調製した。当該導電性高分子溶液から、上記の［導電性高分子膜の作製方法］に従って実施例４に係る導電性高分子膜を作製した。当該導電性高分子膜は、３２５ｎｍ及び３６５ｎｍの波長において紫外線の透過率が低く、紫外線吸収能を有することが確認された。また、当該導電性高分子膜は、１０８Ω／□の表面抵抗率を示し、帯電防止能を有することが確認された。
【0113】
実施例５ （導電性高分子溶液の調製と評価）
９４．６ｇのＰＧＭＥに、ＰＴ ０．２ｇと、エチルセルロース（東京化成工業製、製品コードＧ０４７８）２．５ｇと、２－（２Ｈ－ベンゾ［ｄ］［１，２，３］トリアゾール－２－イル）－６－（２－フェニルプロパン－２－イル）－４－（２，４，４－トリメチルペンタン－２－イル）フェノール（ＢＡＳＦ製、製品名Ｔｉｎｕｖｉｎ９２８）２．７ｇと、を加え、撹拌を行って、実施例５に係る導電性高分子溶液を調製した。当該導電性高分子溶液から、上記の［導電性高分子膜の作製方法］に従って実施例５に係る導電性高分子膜を作製した。当該導電性高分子膜は、３２５ｎｍ及び３６５ｎｍの波長において紫外線の透過率が低く、紫外線吸収能を有することが確認された。また、当該導電性高分子膜は、１０８Ω／□の表面抵抗率を示し、帯電防止能を有することが確認された。
９４．６ｇのＰＧＭＥに、ＰＴ ０．２ｇと、エチルセルロース（東京化成工業製、製品コードＧ０４７８）２．５ｇと、２－（２Ｈ－ベンゾ［ｄ］［１，２，３］トリアゾール－２－イル）－６－（２－フェニルプロパン－２－イル）－４－（２，４，４－トリメチルペンタン－２－イル）フェノール（ＢＡＳＦ製、製品名Ｔｉｎｕｖｉｎ９２８）２．７ｇと、を加え、撹拌を行って、実施例５に係る導電性高分子溶液を調製した。当該導電性高分子溶液から、上記の［導電性高分子膜の作製方法］に従って実施例５に係る導電性高分子膜を作製した。当該導電性高分子膜は、３２５ｎｍ及び３６５ｎｍの波長において紫外線の透過率が低く、紫外線吸収能を有することが確認された。また、当該導電性高分子膜は、１０８Ω／□の表面抵抗率を示し、帯電防止能を有することが確認された。
【0114】
実施例６ （導電性高分子溶液の調製と評価）
９４．６ｇのＭＩＢＫに、ＰＴ ０．２ｇと、エチルセルロース（東京化成工業製、製品コードＧ０４７８）２．５ｇと、２－（２Ｈ－ベンゾ［ｄ］［１，２，３］トリアゾール－２－イル）－６－（２－フェニルプロパン－２－イル）－４－（２，４，４－トリメチルペンタン－２－イル）フェノール（ＢＡＳＦ製、製品名Ｔｉｎｕｖｉｎ９２８）２．７ｇと、を加え、撹拌を行って、実施例６に係る導電性高分子溶液を調製した。当該導電性高分子溶液から、上記の［導電性高分子膜の作製方法］に従って実施例６に係る導電性高分子膜を作製した。当該導電性高分子膜は、３２５ｎｍ及び３６５ｎｍの波長において紫外線の透過率が低く、紫外線吸収能を有することが確認された。また、当該導電性高分子膜は、１０８Ω／□の表面抵抗率を示し、帯電防止能を有することが確認された。
９４．６ｇのＭＩＢＫに、ＰＴ ０．２ｇと、エチルセルロース（東京化成工業製、製品コードＧ０４７８）２．５ｇと、２－（２Ｈ－ベンゾ［ｄ］［１，２，３］トリアゾール－２－イル）－６－（２－フェニルプロパン－２－イル）－４－（２，４，４－トリメチルペンタン－２－イル）フェノール（ＢＡＳＦ製、製品名Ｔｉｎｕｖｉｎ９２８）２．７ｇと、を加え、撹拌を行って、実施例６に係る導電性高分子溶液を調製した。当該導電性高分子溶液から、上記の［導電性高分子膜の作製方法］に従って実施例６に係る導電性高分子膜を作製した。当該導電性高分子膜は、３２５ｎｍ及び３６５ｎｍの波長において紫外線の透過率が低く、紫外線吸収能を有することが確認された。また、当該導電性高分子膜は、１０８Ω／□の表面抵抗率を示し、帯電防止能を有することが確認された。
【0115】
比較例２ （導電性高分子溶液の調製と評価）
９４．６ｇの水に、ＰＴ ０．２ｇと、エチルセルロース（東京化成工業製、製品コードＧ０４７８）２．５ｇと、２－（２Ｈ－ベンゾ［ｄ］［１，２，３］トリアゾール－２－イル）－６－（２－フェニルプロパン－２－イル）－４－（２，４，４－トリメチルペンタン－２－イル）フェノール（ＢＡＳＦ製、製品名Ｔｉｎｕｖｉｎ９２８）２．７ｇと、を加えた。次いで、攪拌を行ったが、前記水に加えた化合物は溶解しなかった。
９４．６ｇの水に、ＰＴ ０．２ｇと、エチルセルロース（東京化成工業製、製品コードＧ０４７８）２．５ｇと、２－（２Ｈ－ベンゾ［ｄ］［１，２，３］トリアゾール－２－イル）－６－（２－フェニルプロパン－２－イル）－４－（２，４，４－トリメチルペンタン－２－イル）フェノール（ＢＡＳＦ製、製品名Ｔｉｎｕｖｉｎ９２８）２．７ｇと、を加えた。次いで、攪拌を行ったが、前記水に加えた化合物は溶解しなかった。
【0116】
参考例１ （導電性高分子溶液の調製と評価）
９７．３ｇのＰＧＭＥに、ＰＴ ０．２ｇと、エチルセルロース２．５ｇと、を加え、撹拌を行って、参考例１に係る導電性高分子溶液を調製した。当該導電性高分子溶液から、上記の［導電性高分子膜の作製方法］に従って参考例１に係る導電性高分子膜を作製した。当該導電性高分子膜は、３２５ｎｍ及び３６５ｎｍの波長において紫外線の透過率が高く、紫外線吸収能を有さないことが確認された。一方で、当該導電性高分子膜は、１０８Ω／□の表面抵抗率を示し、帯電防止能は有することが確認された。
９７．３ｇのＰＧＭＥに、ＰＴ ０．２ｇと、エチルセルロース２．５ｇと、を加え、撹拌を行って、参考例１に係る導電性高分子溶液を調製した。当該導電性高分子溶液から、上記の［導電性高分子膜の作製方法］に従って参考例１に係る導電性高分子膜を作製した。当該導電性高分子膜は、３２５ｎｍ及び３６５ｎｍの波長において紫外線の透過率が高く、紫外線吸収能を有さないことが確認された。一方で、当該導電性高分子膜は、１０８Ω／□の表面抵抗率を示し、帯電防止能は有することが確認された。
【0117】
各実施例、比較例、及び参考例の要約について、紫外線透過率、表面抵抗率、全光線透過率及びヘイズの測定結果を表１に示す。
【0118】
【表1】
【0119】
実施例と、比較例１及び２との比較から、溶媒として有機溶媒を用いることにより、溶媒に加えた化合物（ポリチオフェン及び紫外線吸収剤等）が溶解することが確認できた。
【0120】
また、実施例及び比較例と、参考例との比較から、導電性高分子溶液が紫外線吸収剤を含むことにより、３２５ｎｍ及び３６５ｎｍの波長における紫外線透過率が低く、紫外線吸収能を有することが確認できた。
【0121】
すなわち、本発明に係る導電性高分子溶液を用いることにより、１層塗りするだけで帯電防止能及び紫外線吸収能の両方を有する層が形成されることが確認できた。
【産業上の利用可能性】
【0122】
本発明は、例えば帯電防止材、ＬＣＤ、有機ＥＬ、又は透明電極等に利用することができる。