(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】公開特許公報(A)
(11)【公開番号】P2023125555
(43)【公開日】2023-09-07
(54)【発明の名称】光学ラインセンサ及びその製造方法、並びに、補正処理方法
(51)【国際特許分類】
H04N 1/191 20060101AFI20230831BHJP
H04N 1/031 20060101ALI20230831BHJP
【FI】
H04N1/191
H04N1/031
【審査請求】未請求
【請求項の数】8
【出願形態】OL
(21)【出願番号】P 2022029725
(22)【出願日】2022-02-28
(71)【出願人】
【識別番号】000000941
【氏名又は名称】株式会社カネカ
(71)【出願人】
【識別番号】510192019
【氏名又は名称】株式会社ヴィーネックス
(74)【代理人】
【識別番号】100141852
【弁理士】
【氏名又は名称】吉本 力
(72)【発明者】
【氏名】高田 大智
(72)【発明者】
【氏名】香川 幸大
【テーマコード(参考)】
5C051
5C072
【Fターム(参考)】
5C051AA01
5C051BA04
5C051DA02
5C051DB01
5C051DB22
5C051DB28
5C051DE07
5C051DE12
5C072AA01
5C072BA04
5C072CA02
5C072DA02
5C072DA08
5C072DA25
5C072EA07
5C072FA06
5C072FA07
5C072FB06
5C072RA18
5C072UA11
(57)【要約】
【課題】各撮像素子のずれに基づく画像の誤差を好適に補正することができる光学ラインセンサ及びその製造方法、並びに、補正処理方法を提供する。
【解決手段】ライン画像31及び等間隔画像32を含む補正用読取画像30が、読取処理部110により読み取られた場合に、パラメータ記憶部120が補正用読取画像30に基づいて生成された第1補正用パラメータ及び第2補正用パラメータを記憶する。第1補正用パラメータは、読取処理部110により読み取られた補正用読取画像30を各撮像素子に対応する複数の分割画像に分割し、各分割画像について、搬送方向に沿ったライン画像31のずれ量、及び、ライン方向に対するライン画像31の傾きを算出することにより生成される。第2補正用パラメータは、読取処理部110により読み取られた補正用読取画像30に基づいて、ライン方向に沿った等間隔画像32のずれ量を算出することにより生成される。
【選択図】
図5
【特許請求の範囲】
【請求項1】
搬送方向に沿って搬送される対象物の画像をライン状に並べて配置された複数の撮像素子で読み取る光学ラインセンサであって、
前記複数の撮像素子からの入力信号に基づいて、前記対象物の画像を読み取る読取処理部と、
前記搬送方向に直交するライン方向に延びるライン画像、及び、前記ライン方向に等間隔で並べられた等間隔画像を含む補正用読取画像が、前記対象物の画像として前記読取処理部により読み取られた場合に、当該補正用読取画像に基づいて生成された補正用パラメータを記憶するパラメータ記憶部と、
前記補正用読取画像とは異なる被読取画像が前記対象物の画像として前記読取処理部により読み取られるときに、当該被読取画像を前記補正用パラメータに基づいて補正する補正処理部とを備え、
前記補正用パラメータには、
前記読取処理部により読み取られた前記補正用読取画像を各撮像素子に対応する複数の分割画像に分割し、各分割画像について、前記搬送方向に沿った前記ライン画像のずれ量、及び、前記ライン方向に対する前記ライン画像の傾きを算出することにより生成される第1補正用パラメータと、
前記読取処理部により読み取られた前記補正用読取画像に基づいて、前記ライン方向に沿った前記等間隔画像のずれ量を算出することにより生成される第2補正用パラメータとが含まれる、光学ラインセンサ。
【請求項2】
前記パラメータ記憶部及び前記補正処理部は、前記補正用パラメータが書き込まれ、当該補正用パラメータに基づいて前記読取処理部により読み取られる前記被読取画像を補正するPLDにより構成されている、請求項1に記載の光学ラインセンサ。
【請求項3】
前記PLDが、FPGAにより構成されている、請求項2に記載の光学ラインセンサ。
【請求項4】
前記第1補正用パラメータは、一次関数を用いて、前記搬送方向に沿った前記ライン画像のずれ量、及び、前記ライン方向に対する前記ライン画像の傾きを算出することにより生成される、請求項1~3のいずれか一項に記載の光学ラインセンサ。
【請求項5】
前記補正処理部は、前記補正用パラメータに基づいてサブピクセル処理によって補正する、請求項1~4のいずれか一項に記載の光学ラインセンサ。
【請求項6】
前記光学ラインセンサが密着型である、請求項1~5のいずれか一項に記載の光学ラインセンサ。
【請求項7】
請求項1~6のいずれか一項に記載の光学ラインセンサの製造方法であって、
前記補正用読取画像を前記対象物の画像として前記読取処理部により読み取らせる補正用読取工程と、
前記補正用読取画像に基づいて補正用パラメータを生成するパラメータ生成工程と、
前記パラメータ記憶部に前記補正用パラメータを書き込む書込工程とを含む、光学ラインセンサの製造方法。
【請求項8】
請求項1~6のいずれか一項に記載の光学ラインセンサにおける補正処理方法であって、
前記被読取画像を前記対象物の画像として前記読取処理部により読み取らせる被読取画像読取工程と、
前記補正処理部において前記被読取画像を前記補正用パラメータに基づいて補正する補正工程とを含む、補正処理方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、搬送方向に沿って搬送される対象物の画像をライン状に並べて配置された複数の撮像素子で読み取る光学ラインセンサ及びその製造方法、並びに、補正処理方法に関するものである。
【背景技術】
【0002】
下記特許文献1に例示されるような密着型光学ラインセンサ(CIS:Contact Image Sensor)には、一般的に、撮像素子としての受光ICチップが複数備えられている。各受光ICチップには、フォトダイオードなどの光電変換素子が一直線上に並べて複数配置されている。各受光ICチップは、マウンタと呼ばれる実装装置により、長尺の実装基板上に長さ方向に沿って配置される。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0003】
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0004】
近年の密着型光学ラインセンサの高解像度化に伴い、密着型光学ラインセンサの受光ICチップは、従来の解像度が300dpi程度のものから、600dpi以上のものが主流となりつつある。このような状況下では、上述の実装装置により実装基板上に複数の受光ICチップを長さ方向に並べて実装したときに、受光ICチップごとの配置時に±50μm程度のずれが発生することが一般的である。
【0005】
300dpi程度の解像度の場合、画素ピッチは84μm程度であるため、上記のような配置ずれは無視できる程度のずれと考えられなくもない。しかしながら、600dpi程度の解像度の場合は、画素ピッチが42μm程度となり、上記のような配置ずれが1画素以上のずれとなるため、無視することができないずれとなる。このような配置ずれは、製造された密着型光学ラインセンサごとに異なるため、高精度の密着型光学ラインセンサを安定的に製造することができないおそれがある。
【0006】
本発明は、上記実情に鑑みてなされたものであり、高解像度の撮像素子がライン状に複数並べて配置された構成において、各撮像素子のずれに基づく画像の誤差を好適に補正することができる光学ラインセンサ及びその製造方法、並びに、補正処理方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【0007】
(1)本発明に係る光学ラインセンサは、搬送方向に沿って搬送される対象物の画像をライン状に並べて配置された複数の撮像素子で読み取る光学ラインセンサであって、読取処理部と、パラメータ記憶部と、補正処理部とを備える。前記読取処理部は、前記複数の撮像素子からの入力信号に基づいて、前記対象物の画像を読み取る。前記パラメータ記憶部は、前記搬送方向に直交するライン方向に延びるライン画像、及び、前記ライン方向に等間隔で並べられた等間隔画像を含む補正用読取画像が、前記対象物の画像として前記読取処理部により読み取られた場合に、当該補正用読取画像に基づいて生成された補正用パラメータを記憶する。前記補正処理部は、前記補正用読取画像とは異なる被読取画像が前記対象物の画像として前記読取処理部により読み取られるときに、当該被読取画像を前記補正用パラメータに基づいて補正する。
【0008】
前記補正用パラメータには、第1補正用パラメータと、第2補正用パラメータとが含まれる。前記第1補正用パラメータは、前記読取処理部により読み取られた前記補正用読取画像を各撮像素子に対応する複数の分割画像に分割し、各分割画像について、前記搬送方向に沿った前記ライン画像のずれ量、及び、前記ライン方向に対する前記ライン画像の傾きを算出することにより生成される。前記第2補正用パラメータは、前記読取処理部により読み取られた前記補正用読取画像に基づいて、前記ライン方向に沿った前記等間隔画像のずれ量を算出することにより生成される。
【0009】
このような構成によれば、補正用読取画像に基づいて第1補正用パラメータ及び第2補正用パラメータを生成し、これらの補正用パラメータに基づいて各撮像素子のずれに基づく被読取画像の誤差を好適に補正することができる。
【0010】
(2)前記パラメータ記憶部及び前記補正処理部は、前記補正用パラメータが書き込まれ、当該補正用パラメータに基づいて前記読取処理部により読み取られる前記被読取画像を補正するPLDにより構成されていてもよい。
【0011】
このような構成によれば、光学ラインセンサごとに異なる補正用パラメータをPLDに書き込み、当該補正用パラメータに基づいて被読取画像の誤差を好適に補正することができる。
【0012】
(3)前記PLDは、FPGAにより構成されていてもよい。
【0013】
このような構成によれば、補正用パラメータをFPGAに予め書き込み、当該FPGAにおいて補正された被読取画像を出力することができる。
【0014】
(4)前記第1補正用パラメータは、一次関数を用いて、前記搬送方向に沿った前記ライン画像のずれ量、及び、前記ライン方向に対する前記ライン画像の傾きを算出することにより生成されてもよい。
【0015】
このような構成によれば、一次関数を用いた演算により、第1補正用パラメータを適切に算出することができるため、各撮像素子のずれに基づく被読取画像の誤差をより好適に補正することができる。
【0016】
(5)前記補正処理部は、前記補正用パラメータに基づいてサブピクセル処理によって補正してもよい。
【0017】
このような構成によれば、サブピクセル処理を用いて、各撮像素子のずれに基づく被読取画像の誤差をさらに好適に補正することができる。
【0018】
(6)本発明に係る光学ラインセンサの製造方法は、前記光学ラインセンサの製造方法であって、補正用読取工程と、パラメータ生成工程と、書込工程とを含む。前記補正用読取工程では、前記補正用読取画像を前記対象物の画像として前記読取処理部により読み取らせる。前記パラメータ生成工程では、前記補正用読取画像に基づいて補正用パラメータを生成する。前記書込工程では、前記パラメータ記憶部に前記補正用パラメータを書き込む。
【0019】
このような構成によれば、光学ラインセンサごとに異なる補正用パラメータがパラメータ記憶部に予め書き込まれた光学ラインセンサを製造することができる。このような光学ラインセンサで被読取画像を読み取れば、補正用パラメータに基づいて被読取画像の誤差を好適に補正することができる。
【0020】
(7)本発明に係る補正処理方法は、前記光学ラインセンサにおける補正処理方法であって、被読取画像読取工程と、補正工程とを含む。前記被読取画像読取工程では、前記被読取画像を前記対象物の画像として前記読取処理部により読み取らせる。前記補正工程では、前記補正処理部において前記被読取画像を前記補正用パラメータに基づいて補正する。
【0021】
このような構成によれば、パラメータ記憶部に予め書き込まれた補正用パラメータに基づいて、被読取画像の誤差を好適に補正することができる。
【発明の効果】
【0022】
本発明によれば、高解像度の撮像素子がライン状に複数並べて配置された構成において、各撮像素子のずれに基づく画像の誤差を好適に補正することができる。
【図面の簡単な説明】
【0023】
【
図1】本発明の一実施形態における密着型光学ラインセンサの構成の一例を示す概略断面図である。
【
図2】密着型光学ラインセンサの構成の変形例を示す概略断面図である。
【
図3B】受光部の構成の変形例を示す概略図である。
【
図5】密着型光学ラインセンサの電気的構成の一部を示すブロック図である。
【
図6】補正用パラメータを生成する際の態様について説明するための図である。
【
図7】補正用パラメータを生成する際の態様について説明するための図である。
【
図8】補正処理を行う際の態様について説明するためのブロック図である。
【
図9】補正処理の具体例について説明するための図である。
【発明を実施するための形態】
【0024】
1.密着型光学ラインセンサの全体構成
図1は、本発明の一実施形態における密着型光学ラインセンサ100の構成の一例を示す概略断面図であるが、本発明の実施形態は密着型に限らない。この密着型光学ラインセンサ(CIS:Contact Image Sensor)100は、搬送方向(y方向)に沿って搬送される対象物の画像を読み取るものであり、読み取られた画像を補正して出力する機能を有している。対象物としては紙葉類を例示することができるが、これに限らず、任意の対象物の画像を読み取ることが可能である。
【0025】
この密着型光学ラインセンサ100は、筐体16と、対象物を照明するためのライン照明光源10と、そのライン照明光源10から焦点面20に向けて出射され対象物で反射した光を導くためのレンズアレイ11と、CIS基板13に実装されレンズアレイ11を透過した光を受光する受光部12とを備えている。対象物は焦点面20に沿って一方向(y方向)に搬送される。これらの筐体16、ライン照明光源10、受光部12、レンズアレイ11は、x方向、すなわち
図1の紙面に垂直な方向に延びており、
図1はx方向に垂直な断面を示している。
【0026】
ライン照明光源10は、焦点面20にある対象物に向けて光を出射するユニットである。出射される光の種類は、例えば可視光及び紫外光であり、さらに赤外光が出射されることもある。ただし、可視光のみがライン照明光源10から対象物に向けて出射されるような構成であってもよい。
【0027】
ライン照明光源10には、x方向(長手方向)に沿って延びる透明な導光体1が設けられている。導光体1の外側の各側面は、カバー部材2により保持されている。導光体1におけるx方向の一端又は両端には光源部(図示せず)が設けられており、光源部から導光体1内に入射した光は、光拡散パターンPにより拡散されて、導光体1におけるカバー部材2で覆われていない側面から出射される。
【0028】
ライン照明光源10から出射された光は、保護ガラス14を透過して焦点面20に集光される。保護ガラス14は、必ずしも必要ではなく省略することもできるが、使用中のごみの飛散や傷つきからライン照明光源10やレンズアレイ11を保護するために設置することが望ましい。保護ガラス14の材質はライン照明光源10から出射される光を透過させるものであればよく、例えばアクリル樹脂やシクロオレフィン系樹脂などといった透明な樹脂、あるいは、白板ガラス又はホウケイ酸ガラスなどであってもよい。
【0029】
ライン照明光源10の底面に対向して、光源部を固定するための光源用基板5が設置されている。この光源用基板5はフェノール、ガラスエポキシなどで形成された薄い絶縁板であり、その裏面に銅箔からなる配線パターンが形成されている。光源部の端子を光源用基板5の各所に形成された孔に挿入し、光源用基板5の裏面において半田などで配線パターンと接合することにより、光源部を光源用基板5に搭載し固定することができるとともに、所定の駆動電源(図示せず)から基板裏面の配線パターンを通して光源部に電力を供給することができる。
【0030】
レンズアレイ11は、対象物で反射された光を受光部12に結像する光学素子であり、ロッドレンズアレイにより構成することができる。本実施形態では、レンズアレイ11の倍率は1(正立)に設定されている。焦点面20から受光部12までの任意の位置には、受光部12に紫外光が入らないように、紫外光を反射又は吸収することにより遮断する紫外光遮断フィルタ膜15が設けられていてもよい。
【0031】
受光部12は、CIS基板13に実装されており、対象物からの反射光を受光して光電変換により画像を読み取る複数の光電変換素子を含む。光電変換素子の材質及び構造は特に限定されるものではなく、アモルファスシリコン、結晶シリコン、CdS又はCdSeなどを用いたフォトダイオードやフォトトランジスタを配置したものであってもよい。本実施形態では、複数の光電変換素子がx方向に一直線上に並べて配置された受光IC(Integrated Circuit)チップが、長尺のCIS基板13上に長さ方向(x方向)に沿って配置されている。また、必要に応じてCIS基板13上に駆動回路又は増幅回路などの電気回路、A/Dコンバータ、あるいは信号を外部に取り出すためのコネクタなどを実装することもできる。
【0032】
上記実施形態では、ライン照明光源10から対象物に向けて光を照射し、対象物で反射した光を受光する反射型の密着型光学ラインセンサ100について説明した。ただし、本発明は、反射型の密着型光学ラインセンサ100に限らず、
図2に示すように、ライン照明光源10を焦点面20に対して受光部12側とは反対側に配置して、ライン照明光源10から対象物に向けて出射され対象物を透過した光を受光する、透過型の密着型光学ラインセンサにも適用可能である。この場合、ライン照明光源10の位置が焦点面20の下側になる点のみが
図1の配置とは異なり、ライン照明光源10自体の構成は、
図1の構成と同様である。
【0033】
2.受光部の構成
図3Aは、受光部12の構成の一例を示す概略図である。
図3Aでは、受光部12及びCIS基板13をz方向に沿って見たときの底面図を示している。
【0034】
受光部12は、撮像素子としての受光ICチップ121を複数備えている。複数の受光ICチップ121は、x方向に沿ってライン状に並べて配置されている。ここでの「ライン状」とは、
図3Aに示すようにx方向に沿った一直線上に複数の受光ICチップ121が配置された構成に限らず、
図3Bに示すようにx方向に平行な2つの直線上に複数の受光ICチップ121が千鳥状に配置された構成も含む概念である。
図3Bのように複数の受光ICチップ121を千鳥状に配置する場合には、各受光ICチップの端部が、隣接する受光ICチップの端部とy方向に重なるように配置されてもよい。
【0035】
各受光ICチップ121には、複数の光電変換素子(図示せず)がx方向に沿って一直線上に並べて配置されている。具体的には、各受光ICチップ121は、300個の光電変換素子を備えており、300画素で読み取りを行うことができる。本実施形態では、このような受光ICチップ121が、ライン状に10個並べて配置されている。ただし、受光ICチップ121の数や、各受光ICチップ121に備えられる光電変換素子の数は、上記のような数に限られるものではない。
【0036】
3.補正用読取画像の一例
本実施形態では、密着型光学ラインセンサ100を製造する際に、補正用読取画像を受光部12で読み取らせることにより、補正用パラメータを生成する処理が行われる。補正用読取画像とは異なる被読取画像(実際の読取対象物)を読み取る際には、予め生成された補正用パラメータに基づいて補正処理が行われる。
【0037】
図4は、補正用読取画像30の一例を示した図である。この例では、単色(白色)の無地平面に、黒色の補正用読取画像30が表されている。このような補正用読取画像30が表された用紙を対象物として焦点面20に沿って搬送し、当該補正用読取画像30を読み取ることにより、補正用パラメータを生成することができる。
【0038】
具体的に、補正用読取画像30は、x方向(ライン方向)に延びるライン画像31、及び、x方向に等間隔で並べられた等間隔画像32を含む。ライン画像31は、x方向に沿って均一な太さで一直線上に表されている。等間隔画像32は、y方向に沿って延びるライン状の画像であり、複数の等間隔画像32がx方向に一定の間隔を隔てて平行に表されている。
【0039】
複数の等間隔画像32間のピッチは、各受光ICチップ121の画素数に対応しており、例えば300画素に対応している。各等間隔画像32の一端は、ライン画像31に結合している。これにより、x方向に連続的に結合された複数のT字状の画像が補正用読取画像30として表されている。T字状の画像の数は、受光ICチップ121の数(例えば10個)に対応している。
【0040】
ただし、補正用読取画像30は、
図4に示すような画像に限られるものではない。例えば等間隔画像32は、ライン画像31に結合していなくてもよいし、y方向に対して傾斜する方向に沿って延びていてもよい。また、等間隔画像32は、ライン状の画像ではなく、点状の画像などであってもよい。このように、補正用読取画像30は、複数のT字状の画像が結合された画像に限られるものではない。また、補正用読取画像30は黒色に限られるものではなく、補正用読取画像30が表される平面も白色以外の単色又は複数色であってもよい。
【0041】
4.密着型光学ラインセンサの電気的構成
図5は、密着型光学ラインセンサ100の電気的構成の一部を示すブロック図である。密着型光学ラインセンサ100は、上述したCIS基板13の他、FPGA基板17などを備えている。
【0042】
CIS基板13は、読取処理部110を構成している。読取処理部110は、密着型光学ラインセンサ100に備えられた機能的構成であり、CIS基板13は、複数の受光ICチップ121からの入力信号に基づいて、対象物の画像を読み取る読取処理部110として機能する。
図5に示すように、補正用読取画像30が対象物の画像として読取処理部110により読み取られた場合には、その補正用読取画像30を表すデータがCIS基板13からFPGA基板17に出力される。
【0043】
FPGA基板17は、パラメータ記憶部120及び補正処理部130を構成している。パラメータ記憶部120及び補正処理部130は、それぞれ密着型光学ラインセンサ100に備えられた機能的構成であり、FPGA基板17は、補正用読取画像30に基づいて生成された補正用パラメータを記憶するパラメータ記憶部120として機能するとともに、被読取画像を補正用パラメータに基づいて補正する補正処理部130として機能する。
【0044】
FPGA基板17には、FPGA(Field-Programmable Gate Array)が実装されている。FPGAは、製造後に購入者又は設計者がプログラム可能な集積回路であり、広義にはPLD(Programmable Logic Device)の一種である。
図5に示すように、補正用読取画像30が対象物の画像として読取処理部110により読み取られた場合には、補正用読取画像30を表すデータが、CIS基板13からFPGA基板17を介して補正用端末200に出力される。
【0045】
補正用端末200は、例えばパーソナルコンピュータにより構成されており、密着型光学ラインセンサ100に対して有線又は無線で通信可能である。補正用端末200は、補正用読取画像30を表すデータが入力された場合に、そのデータに基づいて補正用パラメータを生成する処理を行う。補正用端末200により生成された補正用パラメータは、パラメータ記憶部120としてのFPGA基板17上のFPGAに書き込まれて記憶される。
【0046】
このように、密着型光学ラインセンサ100を製造する際には、補正用読取画像30を対象物の画像として読取処理部110により読み取らせる(補正用読取工程)。そして、補正用読取画像30を表すデータが入力された補正用端末200において所定の操作が行われることにより、補正用読取画像30に基づいて補正用パラメータが生成される(パラメータ生成工程)。
【0047】
補正用端末200において生成された補正用パラメータは、補正用端末200から密着型光学ラインセンサ100に入力され、パラメータ記憶部120を構成するFPGA基板17上のFPGAに書き込まれる(書込工程)。パラメータ記憶部120としてのFPGAに書き込まれて保存された補正用パラメータは、当該FPGAが補正処理部130として機能する際に読み出される。
【0048】
5.補正用パラメータの生成
図6及び
図7は、補正用パラメータを生成する際の態様について説明するための図である。補正用読取画像30が読取処理部110により読み取られた場合、各受光ICチップ121の配置時のずれに起因して、
図6に示すように、ライン画像31の一部がy方向にずれる場合がある。また、同様に各受光ICチップ121の配置時のずれに起因して、等間隔画像32間のピッチPがx方向にずれる場合がある。生成される補正用パラメータには、y方向のずれを補正するための第1補正用パラメータと、x方向のずれを補正するための第2補正用パラメータとが含まれる。
【0049】
第1補正用パラメータは、
図6に破線で示すように、読取処理部110により読み取られた補正用読取画像30を各受光ICチップ121に対応する複数(10個)の分割画像に分割し、各分割画像について、y方向に沿ったライン画像31のずれ量、及び、x方向に対するライン画像31の傾きを算出することにより生成される。
【0050】
このとき、一次関数であるy=ax+bの式を用いて第1補正用パラメータが生成される。「b」はy方向に沿ったライン画像31のずれ量を表しており、「a」はx方向に対するライン画像31の傾きを表している。上記のような一次関数に対して、各分割画像におけるライン画像31のxy座標を代入することにより、第1補正用パラメータを生成することができる。
【0051】
第2補正用パラメータは、読取処理部110により読み取られた補正用読取画像30と生成した第1補正用パラメータに基づいて、y方向のずれ量と傾きを補正した補正画像40を生成し、x方向に沿った等間隔画像42のずれ量を算出することにより生成される。すなわち、等間隔画像42間のピッチPがx方向において一定となるように、第2補正用パラメータが生成される。
【0052】
6.補正処理方法
図8は、補正処理を行う際の態様について説明するためのブロック図である。
図8において、密着型光学ラインセンサ100の電気的構成は、
図5の場合と同様である。
【0053】
密着型光学ラインセンサ100をユーザが使用する際、ユーザは、被読取画像50を対象物の画像として読取処理部110により読み取らせる(被読取画像読取工程)。このとき、被読取画像50を表すデータが、CIS基板13からFPGA基板17に出力される。
【0054】
上述の通り、FPGA基板17上のFPGAには、補正用パラメータが予め書き込まれている。補正処理部130としてのFPGAでは、この補正用パラメータに基づいて被読取画像が補正される(補正工程)。すなわち、第1補正用パラメータにより被読取画像のy方向のずれが補正されるとともに、第2補正用パラメータにより被読取画像のx方向のずれが補正される。
【0055】
補正された被読取画像(補正画像)は、ユーザ端末300に出力される。ユーザ端末300は、例えばパーソナルコンピュータにより構成されており、密着型光学ラインセンサ100に対して有線又は無線で通信可能である。補正画像が入力されたユーザ端末300では、当該補正画像が表示又は印刷されてもよい。
【0056】
図9は、補正処理の具体例について説明するための図である。
図9(a)には、読取処理部110により読み取られた被読取画像50の一部が示されており、
図9(b)には、
図9(a)の被読取画像50の一部がFPGAにより補正された補正画像が示されている。
図9(a)及び
図9(b)において、ハッチングが施されている画素は、補正用読取画像30(ライン画像31)の一部を示している。
【0057】
FPGAから補正画像が出力される際には、当該FPGAに予め書き込まれている補正用パラメータ(第1補正用パラメータ及び第2補正用パラメータ)に基づく順序で各画素のデータが順次読み出され、ユーザ端末300に出力される。これにより、ユーザ端末300では、
図9(b)に示すように、ずれが補正された補正後の被読取画像(補正画像)が得られる。
【0058】
補正方法には、いわゆるサブピクセル処理が用いられてもよい。サブピクセル処理には、移動前の画素位置と当該画素位置の周辺4画素の輝度値から移動後の輝度値を算出するバイリニア、又は、移動前の画素位置と当該画素位置の周辺16画素の輝度値から移動後の輝度値を算出するバイキュービックなどが含まれていてもよい。また、補正方法には、ずれ量に基づいて画素を整数ピクセル移動させるニアレストネイバーなどの非サブピクセル処理が用いられてもよい。
【0059】
7.作用効果
(1)本実施形態では、補正用読取画像30に基づいて第1補正用パラメータ及び第2補正用パラメータを生成し、これらの補正用パラメータに基づいて各受光ICチップ121のずれに基づく被読取画像50の誤差を好適に補正することができる。
【0060】
(2)本実施形態では、密着型光学ラインセンサ100ごとに異なる補正用パラメータをPLDに書き込み、当該補正用パラメータに基づいて被読取画像50の誤差を好適に補正することができる。特に、PLDがFPGAにより構成されているため、補正用パラメータをFPGAに予め書き込み、当該FPGAにおいて補正された被読取画像50を出力することができる。
【0061】
(3)本実施形態では、補正用読取画像に基づいて第1補正用パラメータを生成する際に、一次関数を用いた演算により、第1補正用パラメータを適切に算出することができるため、各受光ICチップ121のずれに基づく被読取画像50の誤差をより好適に補正することができる。また、サブピクセル処理によって補正すれば、各受光ICチップ121のずれに基づく被読取画像50の誤差をさらに好適に補正することができる。
【符号の説明】
【0062】
12 受光部
13 CIS基板
17 FPGA基板
30 補正用読取画像
31 ライン画像
32 等間隔画像
40 補正画像
42 等間隔画像
50 被読取画像
100 密着型光学ラインセンサ
110 読取処理部
120 パラメータ記憶部
121 受光ICチップ
130 補正処理部