特開 2023-129244 基板処理装置及び処理液容器交換方法

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】公開特許公報(A)

(11)【公開番号】P2023129244

(43)【公開日】2023-09-14

(54)【発明の名称】基板処理装置及び処理液容器交換方法

(51)【国際特許分類】

   H01L 21/027 20060101AFI20230907BHJP

   H01L 21/677 20060101ALI20230907BHJP

【ＦＩ】

H01L21/30 564C

H01L21/68 A

【審査請求】未請求

【請求項の数】11

【出願形態】ＯＬ

(21)【出願番号】P 2022193362

(22)【出願日】2022-12-02

(31)【優先権主張番号】P 2022032488

(32)【優先日】2022-03-03

(33)【優先権主張国・地域又は機関】JP

(71)【出願人】

【識別番号】000219967

【氏名又は名称】東京エレクトロン株式会社

(74)【代理人】

【識別番号】100088155

【弁理士】

【氏名又は名称】長谷川 芳樹

(74)【代理人】

【識別番号】100113435

【弁理士】

【氏名又は名称】黒木 義樹

(74)【代理人】

【識別番号】100122507

【弁理士】

【氏名又は名称】柏岡 潤二

(74)【代理人】

【識別番号】100171099

【弁理士】

【氏名又は名称】松尾 茂樹

(74)【代理人】

【識別番号】100212026

【弁理士】

【氏名又は名称】中村 真生

(72)【発明者】

【氏名】西山 雄太

(72)【発明者】

【氏名】山本 太郎

(72)【発明者】

【氏名】大薗 啓

(72)【発明者】

【氏名】土山 正志

(72)【発明者】

【氏名】▲高▼木 慎介

【テーマコード（参考）】

5F131

5F146

【Ｆターム（参考）】

5F131AA02

5F131AA03

5F131AA32

5F131BA12

5F131BA13

5F131BA14

5F131CA44

5F131CA49

5F131DA02

5F131DA32

5F131DA34

5F131DA42

5F131DB72

5F131DB76

5F131EB81

5F131EB82

5F131HA09

5F131HA12

5F131HA32

5F131JA14

5F131JA15

5F131JA16

5F131JA28

5F146JA02

5F146JA03

5F146JA27

(57)【要約】

【課題】処理液容器の交換を適切に行う。
【解決手段】基板処理装置は、処理液を収容する複数の処理液容器５１と、複数の処理液容器５１に対して個別に接続される複数の供給管としてのチューブ８４と、複数の供給管の移動を制御する制御部と、を有する。制御部は、供給管の上下方向の移動を制御することで、処理液容器５１について、処理液を供給可能な状態と、交換可能な状態と、を切替える。
【選択図】図５

【特許請求の範囲】

【請求項1】

処理液を収容する複数の処理液容器と、
複数の前記処理液容器に対して個別に接続される複数の供給管と、
複数の前記供給管の移動を制御する制御部と、
を有し、
前記制御部は、前記処理液容器に対する前記供給管の上下方向の移動を制御することで、前記処理液容器について、前記処理液を供給可能な状態と、交換可能な状態と、を切替える、基板処理装置。

【請求項2】

前記複数の処理液容器は、上下方向において互いに異なる高さ位置に設けられた上段と下段とに振り分けて配置され、
前記制御部は、
前記上段に配置された処理液容器については、前記供給管を上方へ移動させることで、前記供給可能な状態から前記交換可能な状態へ切替え、
前記下段に配置された処理液容器については、前記処理液容器を下方へ移動させることで、前記供給可能な状態から前記交換可能な状態へ切替える、請求項１に記載の基板処理装置。

【請求項3】

前記下段において、前記処理液容器は下段載置台上に載置され、
前記制御部は、前記処理液容器及び前記下段載置台を同時に下方へ移動させることで、前記供給可能な状態から前記交換可能な状態へ切替える、請求項２に記載の基板処理装置。

【請求項4】

前記複数の処理液容器を収容する収容部をさらに有し、
前記制御部は、前記収容部を構成する部材の上下方向の移動によって複数の前記供給管が上下方向へ移動することで、前記複数の処理液容器のそれぞれについて、前記供給可能な状態と、前記交換可能な状態とを切替える、請求項１に記載の基板処理装置。

【請求項5】

前記複数の処理液容器の少なくとも一部は、上下方向において互いに異なる位置であり、且つ、上下方向に交差する横方向において互いに異なる位置に配置され、
上方に配置された前記処理液容器の横に、下方に配置された前記処理液容器に接続される前記供給管の上下方向の移動経路が形成される、請求項４に記載の基板処理装置。

【請求項6】

前記複数の処理液容器の少なくとも一部は、前記収容部を構成する部材から個別に離脱可能とされている、請求項４に記載の基板処理装置。

【請求項7】

前記複数の処理液容器の少なくとも一部は、上下方向に交差する横方向に移動可能な載置台に載置され、
前記制御部の制御によって、前記載置台が前記横方向へ移動することによって、前記供給管の上下方向の移動経路が形成される、請求項１に記載の基板処理装置。

【請求項8】

前記制御部の制御によって前記載置台が前記横方向へ移動する際には、前記載置台が前記基板処理装置の内部から外方へ移動する、請求項７に記載の基板処理装置。

【請求項9】

前記複数の供給管の少なくとも一部は、上下方向に交差する横方向に移動可能な支持部によって支持されており、
前記制御部の制御によって、前記支持部が前記横方向へ移動することによって、前記処理液容器の上下方向の移動経路が形成される、請求項１に記載の基板処理装置。

【請求項10】

前記制御部の制御によって前記支持部が前記横方向へ移動する際には、前記支持部が前記基板処理装置の内部から外方へ移動する、請求項９に記載の基板処理装置。

【請求項11】

処理液を収容する複数の処理液容器と、
複数の前記処理液容器に対して個別に接続される複数の供給管と、
複数の前記供給管の移動を制御する制御部と、
を有する基板処理装置における処理液容器交換方法であって、
前記制御部によって、前記処理液容器に対する前記供給管の上下方向の移動を制御することで、前記処理液容器について、前記処理液を供給可能な状態と、交換可能な状態と、を切替える、処理液容器交換方法。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本開示は、基板処理装置及び処理液容器交換方法に関する。

【背景技術】

【0002】

特許文献１では、基板処理装置において処理液を収納する容器が上下に積層配置された構造が開示されている。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0003】

【特許文献1】特開２００４－２６６２８３号公報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0004】

本開示は、処理液容器の交換を適切に行うことが可能な技術を提供する。

【課題を解決するための手段】

【0005】

本開示の一態様による基板処理装置は、処理液を収容する複数の処理液容器と、複数の前記処理液容器に対して個別に接続される複数の供給管と、複数の前記供給管の移動を制御する制御部と、を有し、前記制御部は、前記処理液容器に対する前記供給管の上下方向の移動を制御することで、前記処理液容器について、前記処理液を供給可能な状態と、交換可能な状態とを切替える。

【発明の効果】

【0006】

本開示によれば、処理液容器の交換を適切に行うことが可能な技術が提供される。

【図面の簡単な説明】

【0007】

【図1】図１は、基板処理システムの概略構成の一例を示す模式図である。

【図2】図２は、塗布・現像装置の内部構成の一例を示す模式図である。

【図3】図３は、液処理ユニットの構成の一例を示す模式図である。

【図4】図４は、制御装置のハードウェア上の構成の一例を示すブロック図である。

【図5】図５（ａ）、図５（ｂ）は、処理部の概略構成の一例を示す模式図である。

【図6】図６（ａ）、図６（ｂ）は、液源設置機構の動作の一例を示す模式図である。

【図7】図７は、液源設置機構の変形例を示す模式図である。

【図8】図８（ａ）、図８（ｂ）は、液源設置機構のポッド部の動作の変形例を示す模式図である。

【図9】図９（ａ）、図９（ｂ）、図９（ｃ）、図９（ｄ）は、収容部の配置及び動作の変形例を示す模式図である。

【図10】図１０は、通知部の変形例を示す模式図である。

【図11】図１１（ａ）及び図１１（ｂ）は、収容部の変形例を示す模式図である。

【図12】図１２は、収容部及び液源設置機構の変形例を示す模式図である。

【図13】図１３（ａ）及び図１３（ｂ）は、液源設置機構の動作の変形例を示す模式図である。

【図14】図１４（ａ）及び図１４（ｂ）は、収容部の配置の変形例を示す模式図である。

【発明を実施するための形態】

【0008】

以下、種々の例示的実施形態について説明する。

【0009】

一つの例示的実施形態において、基板処理装置が提供される。基板処理装置は、処理液を収容する複数の処理液容器と、複数の前記処理液容器の内部へ個別に挿入され複数の供給管と、複数の前記供給管の移動を制御する制御部と、を有し、前記制御部は、前記処理液容器に対する前記供給管の上下方向の移動を制御することで、前記処理液容器について、前記処理液を供給可能な状態と、交換可能な状態と、を切替える。

【0010】

上記の基板処理装置によれば、制御部が処理液容器に対する供給管の上下方向の移動を制御することによって、処理液容器が処理液を供給可能な状態と、処理液容器の交換が可能な状態と、を切替えることができる。このように、処理液容器に対する供給管の上下方向の移動を制御部が制御することで、処理液容器の交換が可能な状態とすることができるため、処理液容器の交換を適切に行うことが可能となる。

【0011】

前記複数の処理液容器は、上下方向において互いに異なる高さ位置に設けられた上段と下段とに振り分けて配置され、前記制御部は、前記上段に配置された処理液容器については、前記供給管を上方へ移動させることで、前記供給可能な状態から前記交換可能な状態へ切替え、前記下段に配置された処理液容器については、前記処理液容器を下方へ移動させることで、前記供給可能な状態から前記交換可能な状態へ切替える態様であってもよい。

【0012】

複数の処理液容器が上段と下段とに振り分けて配置されている場合、処理液容器内から供給管を移動させるための空間を確保する必要がある。これに対して、上記のように上段については、供給管を上方へ移動させることで、供給可能な状態から交換可能な状態へ切替える一方、下段については、処理液容器を下方へ移動させることで、供給可能な状態から交換可能な状態へ切替える。このような構成とすることで、特に下段の処理液容器についても供給管の上下方向の移動が可能となるため、処理液容器の交換を適切に行うことが可能となる。

【0013】

前記下段において、前記処理液容器は下段載置台上に載置され、前記制御部は、前記処理液容器及び前記下段載置台を同時に下方へ移動させることで、前記供給可能な状態から前記交換可能な状態へ切替える態様であってもよい。

【0014】

このような構成とすることで、処理液を供給する状態においては処理液容器を下段載置台上に安定して載置しながら、処理液容器の交換も適切に行うことが可能となる。

【0015】

前記複数の処理液容器を収容する収容部をさらに有し、前記制御部は、前記収容部を構成する部材の上下方向の移動によって複数の前記供給管が上下方向へ移動することで、前記複数の処理液容器のそれぞれについて、前記供給可能な状態と、前記交換可能な状態とを切替える態様であってもよい。

【0016】

上記のように処理液容器を収容する収容部が設けられている場合、収容部を構成する部材を利用して供給管を上下方向へ移動させる構成としてもよい。この場合、収容部とは別に供給管を上下方向に移動させる機構を設ける場合と比較して、供給管を移動させるために必要な空間を小さくすることができる。

【0017】

前記複数の処理液容器の少なくとも一部は、上下方向において互いに異なる位置であり、且つ、上下方向に交差する横方向において互いに異なる位置に配置され、上方に配置された前記処理液容器の横に、下方に配置された前記処理液容器に接続される前記供給管の上下方向の移動経路が形成される態様であってもよい。

【0018】

この場合、上下方向において互いに異なる位置に配置された処理液容器であっても、横方向において互いに異なる位置に配置されることで、各処理液容器に対して接続される供給管の上下方向への移動経路が確保されるため、各処理液容器の交換を適切に行うことができる。

【0019】

前記複数の処理液容器の少なくとも一部は、前記収容部を構成する部材から個別に離脱可能とされている態様であってもよい。

【0020】

上記の構成とすることにより、処理液容器の一部のみについて供給管の上下方向への移動を行うことが可能となるため、例えば、交換が必要な処理液容器についてのみ交換可能な状態へ切替えることができる。

【0021】

前記複数の処理液容器の少なくとも一部は、上下方向に交差する横方向に移動可能な載置台に載置され、前記制御部の制御によって、前記載置台が前記横方向へ移動することによって、前記供給管の上下方向の移動経路が形成される態様であってもよい。

【0022】

このような構成とすることで、例えば、処理液容器を供給管に接続する場所では供給管の上下方向への移動が規制されているとしても、載置台自体を横方向へ移動することで、供給管の上下方向への移動が可能となるため、処理液容器の交換を適切に行うことができる。

【0023】

前記制御部の制御によって前記載置台が前記横方向へ移動する際には、前記載置台が前記基板処理装置の内部から外方へ移動する態様であってもよい。

【0024】

このような構成とすることで、例えば、処理液容器を収容する部材を基板処理装置に対して出し入れして処理液容器の交換を行う場合に比べて、処理液容器の交換のために使用する空間を小さくすることができる。

【0025】

前記複数の供給管の少なくとも一部は、上下方向に交差する横方向に移動可能な支持部によって支持されており、前記制御部の制御によって、前記支持部が前記横方向へ移動することによって、前記処理液容器の上下方向の移動経路が形成される態様であってもよい。

【0026】

このような構成とすることで、例えば、処理液容器を供給管に接続する場所では処理液容器の上下方向への移動が規制されているとしても、支持部自体を横方向へ移動することで、処理液容器の上下方向への移動が可能となるため、処理液容器の交換を適切に行うことができる。

【0027】

前記制御部の制御によって前記支持部が前記横方向へ移動する際には、前記支持部が前記基板処理装置の内部から外方へ移動する態様であってもよい。

【0028】

このような構成とすることで、例えば、処理液容器を収容する部材を基板処理装置に対して出し入れして処理液容器の交換を行う場合に比べて、処理液容器の交換のために使用する空間を小さくすることができる。

【0029】

別の例示的実施形態において、処理液交換方法が提供される。処理液交換方法は、処理液を収容する複数の処理液容器と、複数の前記処理液容器の内部へ個別に挿入される複数の供給管と、複数の前記供給管の移動を制御する制御部と、を有する基板処理装置における処理液容器交換方法であって、前記制御部によって、前記処理液容器に対する前記供給管の上下方向の移動を制御することで、前記処理液容器について、前記処理液を供給可能な状態と、交換可能な状態と、を切替える。

【0030】

上記の処理液交換方法によれば、制御部が処理液容器に対する供給管の上下方向の移動を制御することによって、処理液容器が処理液を供給可能な状態と、処理液容器の交換が可能な状態と、を切替えることができる。このように、供給管の上下方向の移動を制御部が制御することで、処理液容器の交換が可能な状態とすることができるため、処理液容器の交換を適切に行うことが可能となる。

【0031】

［例示的実施形態］
以下、図面を参照して種々の例示的実施形態について詳細に説明する。なお、各図面において同一または相当の部分に対しては同一の符号を附すこととする。一部の図面にはＸ軸、Ｙ軸、及びＺ軸により規定される直交座標系が示される。以下の実施形態では、Ｚ軸が上下方向に対応し、Ｘ軸及びＹ軸が水平方向に対応する。

【0032】

［基板処理システム］
まず、図１～図５を参照して一実施形態に係る基板処理システムを説明する。図１に示される基板処理システム１は、基板に対し、感光性被膜の形成、当該感光性被膜の露光、及び当該感光性被膜の現像を施すシステムである。処理対象のワークＷ（基板）は、例えば半導体用の基板である。基板としては、一例として、シリコンウェハである。ワークＷは円形に形成されてもよい。また、処理対象のワークＷは、ガラス基板、マスク基板、ＦＰＤ（Flat Panel Display）などであってもよい。ワークＷは、一部が切り欠かれた切欠部を有していてもよい。切欠部は、例えば、ノッチ（Ｕ字形、Ｖ字形等の溝）であってもよいし、直線状に延びる直線部（いわゆる、オリエンテーション・フラット）であってもよい。また、感光性被膜は、例えばレジスト膜である。

【0033】

基板処理システム１は、塗布・現像装置２と露光装置３とを備える。露光装置３は、ワークＷ（基板）上に形成されたレジスト膜（感光性被膜）の露光処理を行う。具体的には、液浸露光等の方法によりレジスト膜の露光対象部分にエネルギー線を照射する。塗布・現像装置２は、露光装置３による露光処理の前に、ワークＷ（基板）の表面にレジスト膜を形成する処理を行い、露光処理後にレジスト膜の現像処理を行う。

【0034】

［基板処理装置］
以下、基板処理装置の一例として、塗布・現像装置２の構成を説明する。図１及び図２に示されるように、塗布・現像装置２は、キャリアブロック４と、処理ブロック５と、インタフェースブロック６と、制御装置１００とを備える。

【0035】

キャリアブロック４は、塗布・現像装置２内へのワークＷの導入及び塗布・現像装置２内からのワークＷの導出を行う。例えばキャリアブロック４は、ワークＷ用の複数のキャリアＣを支持可能であり、受け渡しアームを含む搬送装置Ａ１を内蔵している。キャリアＣは、例えば円形の複数枚のワークＷを収容する。搬送装置Ａ１は、キャリアＣからワークＷを取り出して処理ブロック５に渡し、処理ブロック５からワークＷを受け取ってキャリアＣ内に戻す。

【0036】

処理ブロック５は、複数の処理モジュール１１，１２，１３，１４を有する。処理モジュール１１，１２，１３，１４は、液処理ユニットＵ１と、熱処理ユニットＵ２と、これらのユニットにワークＷを搬送する搬送アームを含む搬送装置Ａ３とを内蔵している。

【0037】

処理モジュール１１は、液処理ユニットＵ１及び熱処理ユニットＵ２によりワークＷの表面上に下層膜を形成する。処理モジュール１１の液処理ユニットＵ１は、下層膜形成用の処理液をワークＷ上に塗布する。処理モジュール１１の熱処理ユニットＵ２は、下層膜の形成に伴う各種熱処理を行う。

【0038】

処理モジュール１２は、液処理ユニットＵ１及び熱処理ユニットＵ２により下層膜上にレジスト膜を形成する。処理モジュール１２の液処理ユニットＵ１は、レジスト膜形成用の処理液を下層膜の上に塗布する。処理モジュール１２の熱処理ユニットＵ２は、レジスト膜の形成に伴う各種熱処理を行う。

【0039】

処理モジュール１３は、液処理ユニットＵ１及び熱処理ユニットＵ２により、レジスト膜上に上層膜を形成する。処理モジュール１３の液処理ユニットＵ１は、上層膜形成用の液体をレジスト膜の上に塗布する。処理モジュール１３の熱処理ユニットＵ２は、上層膜の形成に伴う各種熱処理を行う。

【0040】

処理モジュール１４は、液処理ユニットＵ１及び熱処理ユニットＵ２により、露光後のレジスト膜の現像処理を行う。液処理ユニットＵ１は、露光済みのワークＷの表面上に現像液を塗布する。また、液処理ユニットＵ１は、塗布された現像液をリンス液により洗い流す。熱処理ユニットＵ２は、現像処理に伴う各種熱処理を行う。熱処理の具体例としては、現像処理前の加熱処理（ＰＥＢ：Ｐｏｓｔ Ｅｘｐｏｓｕｒｅ Ｂａｋｅ）、現像処理後の加熱処理（ＰＢ：Ｐｏｓｔ Ｂａｋｅ）等が挙げられる。

【0041】

処理ブロック５内におけるキャリアブロック４側には棚ユニットＵ１０が設けられている。棚ユニットＵ１０は、上下方向に並ぶ複数のセルに区画されている。棚ユニットＵ１０の近傍には昇降アームを含む搬送装置Ａ７が設けられている。搬送装置Ａ７は、棚ユニットＵ１０のセル同士の間でワークＷを昇降させる。

【0042】

処理ブロック５内におけるインタフェースブロック６側には棚ユニットＵ１１が設けられている。棚ユニットＵ１１は、上下方向に並ぶ複数のセルに区画されている。

【0043】

インタフェースブロック６は、露光装置３との間でワークＷの受け渡しを行う。例えばインタフェースブロック６は、受け渡しアームを含む搬送装置Ａ８を内蔵しており、露光装置３に接続される。搬送装置Ａ８は、棚ユニットＵ１１に配置されたワークＷを露光装置３に渡す。搬送装置Ａ８は、露光装置３からワークＷを受け取って棚ユニットＵ１１に戻す。

【0044】

制御装置１００は、例えば以下の手順で塗布・現像処理を実行するように塗布・現像装置２を制御する。まず制御装置１００は、キャリアＣ内のワークＷを棚ユニットＵ１０に搬送するように搬送装置Ａ１を制御し、このワークＷを処理モジュール１１用のセルに配置するように搬送装置Ａ７を制御する。

【0045】

次に制御装置１００は、棚ユニットＵ１０のワークＷを処理モジュール１１内の液処理ユニットＵ１及び熱処理ユニットＵ２に搬送するように搬送装置Ａ３を制御する。また、制御装置１００は、このワークＷの表面上に下層膜を形成するように液処理ユニットＵ１及び熱処理ユニットＵ２を制御する。その後制御装置１００は、下層膜が形成されたワークＷを棚ユニットＵ１０に戻すように搬送装置Ａ３を制御し、このワークＷを処理モジュール１２用のセルに配置するように搬送装置Ａ７を制御する。

【0046】

次に制御装置１００は、棚ユニットＵ１０のワークＷを処理モジュール１２内の液処理ユニットＵ１及び熱処理ユニットＵ２に搬送するように搬送装置Ａ３を制御する。また、制御装置１００は、このワークＷの下層膜上にレジスト膜を形成するように液処理ユニットＵ１及び熱処理ユニットＵ２を制御する。その後制御装置１００は、ワークＷを棚ユニットＵ１０に戻すように搬送装置Ａ３を制御し、このワークＷを処理モジュール１３用のセルに配置するように搬送装置Ａ７を制御する。

【0047】

次に制御装置１００は、棚ユニットＵ１０のワークＷを処理モジュール１３内の各ユニットに搬送するように搬送装置Ａ３を制御する。また、制御装置１００は、このワークＷのレジスト膜上に上層膜を形成するように液処理ユニットＵ１及び熱処理ユニットＵ２を制御する。その後制御装置１００は、ワークＷを棚ユニットＵ１１に搬送するように搬送装置Ａ３を制御する。

【0048】

次に制御装置１００は、棚ユニットＵ１１のワークＷを露光装置３に送り出すように搬送装置Ａ８を制御する。その後制御装置１００は、露光処理が施されたワークＷを露光装置３から受け入れて、棚ユニットＵ１１における処理モジュール１４用のセルに配置するように搬送装置Ａ８を制御する。

【0049】

次に制御装置１００は、棚ユニットＵ１１のワークＷを処理モジュール１４内の各ユニットに搬送するように搬送装置Ａ３を制御し、このワークＷのレジスト膜に現像処理を施すように液処理ユニットＵ１及び熱処理ユニットＵ２を制御する。その後制御装置１００は、ワークＷを棚ユニットＵ１０に戻すように搬送装置Ａ３を制御し、このワークＷをキャリアＣ内に戻すように搬送装置Ａ７及び搬送装置Ａ１を制御する。以上で塗布・現像処理が完了する。

【0050】

なお、基板処理装置の具体的な構成は、以上に例示した塗布・現像装置２の構成に限られない。基板処理装置は、ワークＷに処理液を吐出して液処理を行う液処理ユニットと、これを制御可能な制御装置とを備えていればどのようなものであってもよい。

【0051】

（液処理ユニット）
続いて、図３を参照して、処理モジュール１２における液処理ユニットＵ１の一例について詳細に説明する。液処理ユニットＵ１は、回転保持部２０と、処理液供給部３０と、を備える。

【0052】

回転保持部２０は、制御装置１００の動作指示に基づき、ワークＷを保持して回転させる。回転保持部２０は、保持部２１と、駆動部２２とを備える。保持部２１は、表面Ｗａを上方に向けて水平に配置されたワークＷの中心部を支持し、当該ワークＷを吸着（例えば真空吸着）等により保持する。駆動部２２は、例えば電動モータ等を動力源とした回転アクチュエータであり、鉛直な回転軸周りに保持部２１を回転させる。これにより、鉛直な回転軸周りにワークＷが回転する。

【0053】

処理液供給部３０は、回転保持部２０に回転保持されたワークＷに処理液を供給する。処理液供給部３０は、図３に示されるように、吐出部４０と、液源部５０と、送液系６０と、を備える。

【0054】

吐出部４０は、ワークＷの表面Ｗａに向けて処理液を吐出する。吐出部４０は、ノズル４１と、送液管４２とを備える。ノズル４１は、ワークＷに処理液を吐出する。ノズル４１は、図３に示されるように、例えば、ワークＷの上方に配置され、処理液を下方に吐出する。送液管４２は、ノズル４１まで処理液を導く。ノズル４１からワークＷに向けて処理液が吐出されることで、ワークＷに処理液が塗布（供給）される。

【0055】

液源部５０は、処理液容器５１と、処理液容器５１に対して取り付けられるチューブ５２（供給管）と、チューブ５２に対して取り付けられるキャップ部５３と、処理液容器５１を収容する収容部５４とを含んで構成される。処理液は、液源部５０に設けられる処理液容器５１から供給され得る。処理液容器５１は処理液を貯留するボトルであり、チューブ５２を着脱可能とされている。処理液容器５１としては、例えば、ガロン瓶等が用いられ得る。

【0056】

チューブ５２は、処理液容器５１の上方から内部に挿入される供給管である。また、チューブ５２は、キャップ部５３と接続されていて、キャップ部５３を移動させることでチューブ５２の処理液容器５１内からの出し入れが可能とされている。キャップ部５３は、例えば、処理液容器５１となるボトルの上部の口に取り付けられ得る。

【0057】

収容部５４は、塗布・現像装置２において処理液容器５１となるボトルを配置する機能を有する。収容部５４は、塗布・現像装置２に内蔵可能であってもよい。収容部５４は、塗布・現像装置２のキャリアブロック４、処理ブロック５、又はインタフェースブロック６のいずれかに内蔵されてもよい。収容部５４は、一例として、図１に示すように、塗布・現像装置２のキャリアブロック４に内蔵可能であって、塗布・現像装置２の外方で出入りが可能なカートとして実現され得る。図１に示す例では、収容部５４において、複数の処理液容器５１が上下方向に２段重なるように配置される。収容部５４の具体的な構造については後述する。なお、塗布・現像装置２内における処理液容器５１の配置は、適宜変更され、処理液容器５１の配置に応じて収容部５４の構造・形状も変更され得る。

【0058】

送液系６０は、処理液を供給する流路及び流路中の送液のためのポンプ、バルブ等を含んで構成される。送液系６０の一例としては、流路中のバルブ、中間タンク等が含まれ得る。なお、送液系６０には、流路内の処理液から気体を分離し排出するための構成が含まれていてもよい。

【0059】

送液系６０の上流側は、液源部５０のチューブ５２に接続されている。チューブ５２が処理液容器５１の内部に挿入された状態で、送液系６０が動作することによって、チューブ５２を介して処理液容器５１内の処理液が吐出部４０へ向けて送液され、ノズル４１から吐出される。

【0060】

制御装置１００は、処理液供給部３０を用いて、処理液容器５１から後段の吐出部４０（ノズル４１）へ処理液を送出する機能を有する。なお、本開示では、処理液の流れを基準にして、「前段」及び「後段」、並びに、「上流」及び「下流」の用語を使用する。処理液供給部３０において、処理液が、前段（上流）から後段（下流）に向かって流れる。

【0061】

さらに、制御装置１００は、液源部５０を制御して、処理液容器５１に対するチューブ５２の取り付け及び取り外しを制御する機能を有していてもよい。具体的には、制御装置１００は、チューブ５２（供給管）の上下方向の移動を制御することで、処理液容器５１から処理液を供給可能な状態と、処理液容器５１の交換が可能な状態と、を切替える。この点については後述する。

【0062】

制御装置１００は、一つまたは複数の制御用コンピュータにより構成される。例えば、制御装置１００は、図４に示される回路１２０を有する。回路１２０は、一つまたは複数のプロセッサ１２１と、メモリ１２２と、ストレージ１２３と、入出力ポート１２４と、タイマ１２５と、を備える。

【0063】

ストレージ１２３は、例えばハードディスク等、コンピュータによって読み取り可能な記憶媒体を有する。記憶媒体は、液処理を用いた処理手順を含む上記塗布・現像処理を塗布・現像装置２に実行させるためのプログラムを記録している。記憶媒体は、不揮発性の半導体メモリ、磁気ディスクおよび光ディスク等の取り出し可能な媒体であってもよい。メモリ１２２は、ストレージ１２３の記憶媒体からロードしたプログラム及びプロセッサ１２１による演算結果を一時的に記録する。プロセッサ１２１は、メモリ１２２と協働して上記プログラムを実行することで、上述した各機能モジュールを構成する。入出力ポート１２４は、処理液供給部３０の各部との間で電気信号の入出力を行う。

【0064】

なお、制御装置１００のハードウェア構成は、必ずしもプログラムにより各機能モジュールを構成するものに限られない。例えば制御装置１００の各機能モジュールは、専用の論理回路またはこれを集積したＡＳＩＣ（Ａｐｐｌｉｃａｔｉｏｎ Ｓｐｅｃｉｆｉｃ Ｉｎｔｅｇｒａｔｅｄ Ｃｉｒｃｕｉｔ）により構成されていてもよい。

【0065】

［処理液容器の収容部］
上記の処理液容器５１を収容する収容部５４及びその周辺構造について、図５及び図６を参照しながら説明する。なお、本実施形態で説明する「処理液」とは、塗布・現像装置２における種々の処理に使用される処理液を含む。すなわち、上記で説明した、ワークＷの表面Ｗａに供給される処理液とは異なる液体も「処理液」に含まれ得る。

【0066】

収容部５４は、上述のように、塗布・現像装置２に対して出入り可能なカートとして構成される。図５（ａ）に示すように、収容部５４は、上段載置台７１と、下段載置台７２と、を含んで構成される。なお、上段載置台７１の上方に、収容部５４全体を支持する支持バー７３が設けられていてもよい。

【0067】

収容部５４には、例えば、上段載置台７１上に４つの処理液容器５１が設けられると共に、下段載置台７２上に４つの処理液容器５１が設けられる。収容部５４に収容される処理液容器５１のそれぞれは、上述のチューブ５２及びキャップ部５３としての機能を有する液源設置機構８０によって設置位置が固定されている。

【0068】

液源設置機構８０としては、収容部５４の上段に設置される上段用設置機構８０Ａと、収容部５４の下段に設置される下段用設置機構８０Ｂと、の２種類が用いられる。すなわち、収容部５４に設置される１つの処理液容器５１に対して１つの液源設置機構８０（上段用設置機構８０Ａまたは下段用設置機構８０Ｂ）が設けられている。図５に示す例では、８つの処理液容器５１に対して８つの液源設置機構８０（上段用設置機構８０Ａまたは下段用設置機構８０Ｂ）が設けられている。

【0069】

上段用設置機構８０Ａは、処理液容器５１を収容するポッド部８１Ａと、ヘッド部８２Ａと、伸縮部８３Ａとを含んで構成される。

【0070】

ポッド部８１Ａは、上段載置台７１上に固定される凹型状の容器であって、内部に処理液容器５１を収容可能とされている。ポッド部８１Ａの固定位置は、塗布・現像装置２の送液系６０に対して処理液容器５１を接続する際に適した位置とされる。

【0071】

ヘッド部８２Ａは、送液系６０に接続されるチューブ８４（供給管）を含んで構成される。ヘッド部８２Ａは、ポッド部８１Ａの上方に設けられる。チューブ８４は、図３のチューブ５２に対応する、処理液の供給管である。

【0072】

伸縮部８３Ａは、ポッド部８１Ａに対してヘッド部８２Ａが上下移動可能となるように、ヘッド部８２Ａを支持する機能を有する。伸縮部８３Ａは、例えば、シリンダまたはボールネジを組み付けたモータ等といったアクチュエータによって構成される。上段用設置機構８０Ａでは、伸縮部８３Ａの上端にヘッド部８２Ａが取り付けられている。一方、伸縮部８３Ａの下端は上段載置台７１に固定されていて、伸縮部８３Ａの上端が上下方向に移動可能とされている。伸縮部８３Ａは、例えば、ポッド部８１Ａよりも上段載置台７１の中央側（上段載置台７１の端部のうち処理液容器５１に近い端部から遠い側）に設けられる。ただし、伸縮部８３Ａを設ける位置は適宜変更され得る。

【0073】

上段用設置機構８０Ａは、図６（ａ）に示すように、伸縮部８３Ａが収縮した状態では、ヘッド部８２Ａが処理液容器５１の開口に概ね接触した状態となり、ヘッド部８２Ａに取り付けられたチューブ８４が処理液容器５１内に挿入される。この状態は、処理液容器５１からの処理液の供給が可能な状態とされる。すなわち、チューブ８４を経て、処理液が送液系６０に対して供給される。

【0074】

一方、図６（ｂ）に示すように、伸縮部８３Ａが伸長した状態では、ヘッド部８２Ａが処理液容器５１の開口から上方に離れた状態となり、さらに、ヘッド部８２Ａに取り付けられたチューブ８４が処理液容器５１外に移動する。この状態では、処理液容器５１をポッド部８１Ａから移動することが可能となる。この状態にすると処理液容器５１の交換を行うことができる。

【0075】

このように、上段用設置機構８０Ａは、ヘッド部８２Ａが上下動することによって、処理液容器５１内からチューブ８４を上方向に移動させることが可能となる。なお、上段用設置機構８０Ａには、その動作状態を周囲に通知する通知部が設けられてもよい。一例として、図６（ａ）等に示すように、ヘッド部８２Ａに対して通知部７５Ａが設けられていてもよい。例えば、通知部７５Ａは、ＬＥＤライト等によって構成されていて、ヘッド部８２Ａが処理液容器５１に対して当接している状態では消灯し、ヘッド部８２Ａが処理液容器５１から離れている状態では点灯する構成であってもよい。ヘッド部８２Ａが処理液容器５１に対して当接している状態とは、チューブ８４が処理液容器５１に対して挿入されている状態、すなわち、処理液の通液に係る準備が行われた状態に対応する。なお、通知部７５Ａは、光の点灯・消灯によって状態を通知することに代えて、点灯する光の色等を変更することで状態を通知してもよい。また、例えば、ヘッド部８２Ａが処理液容器５１から離れている状態では通知音が鳴るなど、音声を利用して状態を通知する構成としてもよい。

【0076】

下段用設置機構８０Ｂは、処理液容器５１を収容するポッド部８１Ｂと、ヘッド部８２Ｂと、伸縮部８３Ｂとを含んで構成される。これらの機能は上段用設置機構８０Ａと同様だが、各部の構成及び機能の一部が上段用設置機構８０Ａと相違する。

【0077】

ポッド部８１Ｂは、下段載置台７２上に配置される凹型状の容器である。ポッド部８１Ｂを設ける位置は、塗布・現像装置２の送液系６０に対して処理液容器５１を接続する際に適した位置とされる。なお、ポッド部８１Ｂは下段載置台７２上に固定されているが、ポッド部８１Ｂの下方の下段載置台７２ａは、ポッド部８１Ｂが載置されていない下段載置台７２に対して移動可能な状態とされている。つまり、ポッド部８１Ｂの下方の下段載置台７２ａは、それ以外の下段載置台７２とは区切られている。この点は後述する。

【0078】

ヘッド部８２Ｂは、送液系６０に接続されるチューブ８４を含んで構成される。ヘッド部８２Ｂは、ポッド部８１Ｂの上方に設けられる。なお、ヘッド部８２Ｂは、ヘッド部８２Ａとは異なる点として、収容部５４に対して上下方向への移動が規制されている。一例として、ヘッド部８２Ｂは、その上方が上段載置台７１に固定されることで、上下方向のみならず、横方向（左右方向）への移動が規制されていてもよい。なお、ヘッド部８２Ｂは、上段載置台７１とは異なる支持部材等に支持されることによって、上下方向への移動が規制されていてもよい。

【0079】

伸縮部８３Ｂは、ヘッド部８２Ｂに対してポッド部８１Ｂが上下移動可能となるように、ポッド部８１Ｂを支持する機能を有する。伸縮部８３Ｂは、例えば、シリンダまたはボールネジを組み付けたモータ等といったアクチュエータによって構成される。下段用設置機構８０Ｂでは、伸縮部８３Ｂの上端がヘッド部８２Ｂに固定されている。ヘッド部８２Ｂは上述のように上下方向の移動が規制されているため、伸縮部８３Ｂの上端も上下方向の移動が規制されている。そのため、伸縮部８３Ｂは下端が上下方向に移動することで伸縮動作が可能となっている。また、伸縮部８３Ｂの下端はポッド部８１Ｂに固定されている。つまり、伸縮部８３Ｂの上下方向の移動に伴って、ポッド部８１Ｂも上下方向に移動可能となっている。なお、ポッド部８１Ｂの上下方向の移動と干渉しないように、下段載置台７２ａは、周囲の下段載置台７２とは区切られている（図５（ｂ）参照）。一例として、下段載置台７２ａは、ポッド部８１Ｂの上下方向の移動と共に、上下方向に移動可能であってもよい。

【0080】

伸縮部８３Ｂについても、伸縮部８３Ａと同様に、例えば、ポッド部８１Ｂよりも下段載置台７２の中央側（下段載置台７２の端部のうち処理液容器５１に近い端部から遠い側）に設けられる。ただし、伸縮部８３Ｂを設ける位置は適宜変更され得る。

【0081】

下段用設置機構８０Ｂは、図６（ａ）に示すように、伸縮部８３Ｂが収縮した状態では、ヘッド部８２Ｂが処理液容器５１の開口に概ね接触した状態となり、ヘッド部８２Ｂに取り付けられたチューブ８４が処理液容器５１内に挿入される。この状態は、処理液容器５１からの処理液の供給が可能な状態とされる。すなわち、チューブ８４を経て、処理液が送液系６０に対して供給される。

【0082】

一方、図６（ｂ）に示すように、伸縮部８３Ｂが伸長してポッド部８１Ｂ及び処理液容器５１が下方へ移動した状態では、ヘッド部８２Ｂが処理液容器５１の開口から上方に離れた状態となる。このとき、ヘッド部８２Ｂに取り付けられたチューブ８４が処理液容器５１外に移動する。この状態では、処理液容器５１をポッド部８１Ｂから移動することが可能となる。この状態にすると処理液容器５１の交換を行うことができる。

【0083】

このように、下段用設置機構８０Ｂは、ポッド部８１Ｂが上下動することによって、処理液容器５１内からチューブ８４を上方向に移動させることが可能となる。なお、下段用設置機構８０Ｂにも、上段用設置機構８０Ａと同様に、その動作状態を周囲に通知する通知部７５Ｂが設けられてもよい。

【0084】

なお、上段用設置機構８０Ａ及び下段用設置機構８０Ｂにおけるチューブ８４の移動（取り付け及び取り外し）に係る動作は、例えば、制御装置１００によって制御される。例えば、制御装置１００は、塗布・現像装置２の操作者等の指示に基づいて、上段用設置機構８０Ａ及び下段用設置機構８０Ｂのうちの特定の機構を動作させることで、当該機構における処理液容器５１の設置または交換を制御することとしてもよい。

【0085】

図５に示す収容部５４において、上段用設置機構８０Ａ及び下段用設置機構８０Ｂが上記のように動作する場合、上段載置台７１を基準として、上段用設置機構８０Ａ及び下段用設置機構８０Ｂがそれぞれ上下方向に動作することになる。そのため、収容部５４から処理液容器５１を取り出そうとする場合に、周囲の空間を広く確保することを防ぎながら、処理液容器５１を交換することが可能となる。なお、下段載置台７２に載置された処理液容器５１を交換する場合には、収容部５４の下段載置台７２よりも下方に、ポッド部８１Ｂの上下方向への移動を許容するための空間を確保することが必要となる。

【0086】

なお、上記の収容部５４を用いた場合、上段用設置機構８０Ａ及び下段用設置機構８０Ｂの動作状態を確認しながら、ポッド部８１Ａ，８１Ｂからの処理液容器５１の出し入れを機械的に行うことができる。すなわち、上段用設置機構８０Ａまたは下段用設置機構８０Ｂによってチューブ８４が外れた状態になると、ポッド部８１Ａまたはポッド部８１Ｂ内にチューブ８４と分離された状態の処理液容器５１が配置された状態となる。この状態は処理液容器５１の交換が可能な状態となる。このとき、この処理液容器５１を除去し、代替の処理液容器５１として例えば処理液が充填された容器を配置し、上段用設置機構８０Ａまたは下段用設置機構８０Ｂの動作によってチューブ８４を処理液容器５１内に挿入する。これにより、処理液容器５１の交換が完了する。このポッド部８１Ａ，８１Ｂからの処理液容器５１の除去と、ポッド部８１Ａ，８１Ｂへの代替の処理液容器５１の配置と、は人力で行うこともできるが、機械的に行うことも可能である。したがって、収容部５４に収容された処理液容器の交換を機械的に行うことが可能となる。

【0087】

［収容部及び液源設置機構の変形例］
収容部５４に収容された処理液容器５１の交換をより小さな空間で行うための液源設置機構の変形例について、以下説明する。

【0088】

（下段用設置機構の変形例）
図７は、下段用設置機構８０Ｂに代えて下段用設置機構８０Ｃを適用した例を示している。

【0089】

下段用設置機構８０Ｃは、ポッド部８１Ｃ、ヘッド部８２Ｃ及び伸縮部８３Ｃを有する点は下段用設置機構８０Ｂと同様である。さらに、下段用設置機構８０Ｃは、ポッド部８１Ｃを横方向（特に、水平方向）に移動させることが可能な載置台であるスライド部８５Ｃを有する。また、ヘッド部８２Ｃ及び伸縮部８３Ｃについてもその形状及び動作が下段用設置機構８０Ｂと相違する。

【0090】

スライド部８５Ｃの上面には、ポッド部８１Ｃ及び伸縮部８３Ｃが固定されている。また、スライド部８５Ｃは、ポッド部８１Ｃ及び伸縮部８３Ｃを下段載置台７２の端部（処理液容器５１に近い端部）よりも外方へ移動させることが可能とされている。

【0091】

ヘッド部８２Ｃは、ヘッド部８２Ｂとは異なり、ヘッド部８２Ａと同様に上下方向へ移動可能とされている。すなわち、ヘッド部８２Ｃは、上段載置台７１等へは固定されていない点が、ヘッド部８２Ｂと相違する。

【0092】

また、伸縮部８３Ｃは、伸縮部８３Ａと同様に、その上端にヘッド部８２Ｃが取り付けられていて、伸縮部８３Ｃの上端が上下方向に移動可能とされている。この点は、下端が上下方向に移動可能な伸縮部８３Ｂとは相違する。

【0093】

上記の下段用設置機構８０Ｃを使用する場合、図７に示される左側の下段用設置機構８０Ｃのように、処理液容器５１の使用時（通液時）は、スライド部８５Ｃが収納された状態となり、ポッド部８１Ｃ及び処理液容器５１が下段載置台７２上に位置する。このとき、ヘッド部８２Ｃに取り付けられたチューブ８４を介して処理液が下流側へ供給される。

【0094】

一方、処理液容器５１を交換する場合には、図７に示される右側の下段用設置機構８０Ｃのように、スライド部８５Ｃを拡張することによって、ポッド部８１Ｃ及び伸縮部８３Ｃを下段載置台７２の端部（処理液容器５１に近い端部）よりも外方へ横方向に移動させる。この状態では、ヘッド部８２Ｃが上下方向に移動可能となる。したがって、ヘッド部８２Ｃを上方へ移動させることで、処理液容器５１に取り付けられたチューブ８４を上方へ離すことができる。その結果、処理液容器５１の交換が可能となる。

【0095】

上記の下段用設置機構８０Ｃを使用する場合も、収容部５４から処理液容器５１を取り出そうとする場合に、周囲の空間を広く確保することを防ぐことができる。収容部５４では、上段載置台７１が下段の処理液容器５１の上方にあるため、そのままの位置ではチューブ８４を上下方向に移動して処理液容器５１と離間させることが困難である。これに対して、スライド部８５Ｃを用いて処理液容器５１を横方向に移動させると、チューブ８４の移動経路が形成（確保）されるため、処理液容器５１の交換が可能となる。

【0096】

また、下段用設置機構８０Ｂは、下段載置台７２についてもポッド部８１Ｂと同様に上下方向の移動が可能な構成とする必要があったのに対して、下段用設置機構８０Ｃの場合にはそのような構成変更が不要となる。

【0097】

（ポッド部の動作の変形例）
図８は、処理液容器５１を交換する際のポッド部の動作の変更例を示している。図８（ａ）は、上段用設置機構８０Ａ及び下段用設置機構８０Ｂに代えて、上段用設置機構８０Ｄ及び下段用設置機構８０Ｅを収容部５４に適用した構成例を示す図であり、図６（ｂ）に対応する図である。図８（ａ）においても、上段用設置機構８０Ｄ及び下段用設置機構８０Ｅのそれぞれにおいて伸縮部８３Ｄ，８３Ｅを伸長させて、処理液容器５１からチューブ８４を離した構成を示している。

【0098】

上段用設置機構８０Ｄは、上段用設置機構８０Ａと比較して、ポッド部８１Ｄが軸８６Ｄを軸心として回動可能とされている点が相違する。軸８６Ｄは、ポッド部８１Ｄを回動させたときに処理液容器５１の出し入れがしやすい方向に設定されている。一例として、図８（ｂ）に示すように、ポッド部８１Ｄが伸縮部８３Ｄから離れる方向に回動するように、軸８６Ｄが設定されていてもよい。

【0099】

下段用設置機構８０Ｅは、下段用設置機構８０Ｂと比較して、ポッド部８１Ｅが軸８６Ｅを軸心として回動可能とされている点が相違する。軸８６Ｅの延在方向は、軸８６Ｄと同様に、ポッド部８１Ｅを回動させたときに処理液容器５１の出し入れがしやすい方向に設定されている。さらに、下段用設置機構８０Ｂにおいては、伸縮部８３Ｂはポッド部８１部Ｂと接続されていたのに対して、下段用設置機構８０Ｅにおいては、支持部材８７Ｅを用いて両者が接続される。支持部材８７Ｅは、伸縮部８３Ｅの下端から横方向（特に、水平方向）に延びるように設けられる。また、支持部材８７Ｅには、軸８６Ｅが取り付けられていて、軸８６Ｅを介してポッド部８１Ｅが支持されている。

【0100】

上記のポッド部８１Ｄ，８１Ｅのように、ポッド部が回動可能となるように設定されていると、図８（ｂ）に示すように、チューブ８４が外された状態の処理液容器５１の取り外しが容易となる。具体的には、図８（ｂ）に示すように、矢印Ａ方向への移動により処理液容器５１を取り外すことが可能となる。また、このように処理液容器５１が矢印Ａ方向へ引き抜くことで、取り外しが可能となると、ポッド部の側壁の高さを大きく（ポッド部の凹部を深く）しても、処理液容器５１の交換への影響を小さくすることができる。

【0101】

例えば、図６（ｂ）に示す例では、ポッド部８１Ａから処理液容器５１を移動させるためには、処理液容器５１がポッド部８１Ａを乗り越える必要がある。したがって、仮にチューブ８４が可撓性のない材料で構成されているとすると、ポッド部８１Ａ内面における側壁の高さよりも、処理液容器５１の口とチューブ８４との上下方向の長さを大きく確保することが求められ得る。これに対して、ポッド部８１Ｄ，８１Ｅのように回動可能であると、ポッド部から処理液容器５１を移動させる際に、処理液容器５１がポッド部を乗り越えるように処理液容器５１を移動させる必要がなくなる。したがって、伸縮部８３Ｄ，８３Ｅの伸長時の長さを小さくしても処理液容器５１の交換が可能となり得る。また、ポッド部の側壁の高さを長くしてもよくなるので、処理液容器５１をより安定した状態で支持することができる。

【0102】

なお、ポッド部を回動可能とするために、上段載置台７１等の形状を適宜変更してもよい。また、チューブ８４が処理液容器５１に挿入されている状態においてポッド部が回動しないように、チューブ８４が挿入されている状態ではポッド部の回動を規制する部材等が別途設けられていてもよい。

【0103】

（収容部の配置の変更例）
これまでの例では、収容部５４が塗布・現像装置２に対して出入り可能なカートである場合について説明した。これに対して、収容部５４は塗布・現像装置２に内蔵されていてもよい。また、このような場合も、上述の液源設置機構８０のような機構が設けられていてもよい。

【0104】

図９は、収容部５４Ａが塗布・現像装置２に内蔵されている場合の一例を示している。図９（ａ）、（ｂ）は、塗布・現像装置２内の収容部５４Ａに２つの処理液容器５１が収容されている状態を示しており、図９（ｂ）は図９（ａ）に対応する側面図である。

【0105】

図９（ａ）、（ｂ）に示すように、塗布・現像装置２の内部に直方体状の収容部５４Ａが設けられているとする。このとき、収容部５４Ａの上方が開閉可能となっていて、上方には、後述のように収容部５４Ａの内部における液源設置機構８０として、複数段設置機構８０Ｆに係る部材が移動可能とされているとする。

【0106】

収容部５４Ａの内部では、２つの処理液容器５１が、図９（ａ）に示すように水平方向（横方向）に沿って互いに異なる位置に設けられると共に、図９（ｂ）に示すように上下方向に沿って互いに異なる位置に設けられるとする。このように、２つの処理液容器５１も互いに異なる層に配置されている。ただし、処理液容器５１同士は、平面視で見たときに重なる位置には設けられておらず、各処理液容器５１が他の処理液容器５１と干渉することなく上下方向に移動可能であるとする。なお、図９（ａ）、（ｂ）（及び後述の図９（ｃ）、（ｄ））では、処理液容器５１を収容するポッド部が載置される載置台（上述の上段載置台７１及び下段載置台７２に対応する台）は省略されている。

【0107】

収容部５４Ａ内には、上述の上段用設置機構８０Ａ及び下段用設置機構８０Ｂに対応する液源設置機構８０としての複数段設置機構８０Ｆが設けられている。

【0108】

複数段設置機構８０Ｆは、処理液容器５１を収容するポッド部８１Ｆと、ヘッド部８２Ｆと、伸縮部８３Ｆと、接続部８８と、を含んで構成される。

【0109】

ポッド部８１Ｆは、これまで説明したポッド部と８１Ａ同様に載置台（図示せず）上に固定される凹型状の容器である。複数段設置機構８０Ｆでは、処理液容器５１の数に対応したポッド部８１Ｆが設けられる。具体的には、図９に示す例では、複数段設置機構８０Ｆは２つのポッド部８１Ｆを含んでいる。

【0110】

ヘッド部８２Ｆは、送液系６０に接続されるチューブ８４を含んで構成される。ヘッド部８２Ｆは、複数のポッド部８１Ｆそれぞれの上方に設けられる。

【0111】

伸縮部８３Ｆは、複数のポッド部８１Ｆそれぞれに対してヘッド部８２Ｆが上下移動可能となるように、ヘッド部８２Ｆを支持する機能を有する。伸縮部８３Ｆは、複数のヘッド部８２Ｆを同時に上下移動可能となるように、接続部８８によって複数のヘッド部８２Ｆに対して接続されている。複数段設置機構８０Ｆの場合、伸縮部８３Ｆの上端に、接続部８８を介して複数のヘッド部８２Ｆが取り付けられている。一方、伸縮部８３Ｆの下端は図示しない載置台または他の部材に固定されていて上下の移動が規制されている。この結果、伸縮部８３Ｆの上端が上下方向に移動可能とされている。

【0112】

複数段設置機構８０Ｆは、図９（ａ）、（ｂ）に示すように、伸縮部８３Ｆが収縮した状態では、ヘッド部８２Ｆが複数の処理液容器５１それぞれの開口に概ね接触した状態となり、ヘッド部８２Ｆに取り付けられたチューブ８４が処理液容器５１内に挿入される。

【0113】

一方、図９（ｃ）、（ｄ）に示すように、伸縮部８３Ｆが伸長した状態では、複数のヘッド部８２Ｆそれぞれについて処理液容器５１の開口から上方に離れた状態となり、さらに、ヘッド部８２Ｆに取り付けられたチューブ８４が処理液容器５１外に移動する。この状態では、複数の処理液容器５１を、それぞれのポッド部８１Ｆから移動することが可能となる。特に、下方に設けられた処理液容器５１に対するチューブ８４については、上下方向の移動経路は、上方に設けられた処理液容器５１の横となる。この状態にすると処理液容器５１の交換を行うことができる。なお、収容部５４Ａの上方が天板によって覆われている場合には、伸縮部８３Ｆが伸長した状態では、収容部５４Ａの天板は上方に移動し得る。

【0114】

このように、複数段設置機構８０Ｆでは、ヘッド部８２Ｆが上下動することによって、処理液容器５１内からチューブ８４を移動させることが可能となる。さらに、複数段設置機構８０Ｆは、複数の処理液容器５１それぞれに対してチューブ８４を同時に移動させることができる。これは、処理液容器５１同士が処理液容器５１の上下方向の移動を互いに干渉しないような配置とされているからである。このような配置とされている場合、図９に示すように、接続部８８を利用してこれらを接続することで、１つの伸縮部８３Ｆを利用して同時にチューブ８４を移動させることが可能となる。

【0115】

なお、複数段設置機構８０Ｆにおいて、収容部５４Ａの天板が接続部８８としての機能の一部を有していてもよい。また、天板に限らず、収容部５４Ａを構成する部材の一部が接続部８８としての機能を有していてもよい。

【0116】

また、接続部８８による複数のヘッド部８２Ｆ間の連結は解除可能であってもよく、一部のヘッド部８２Ｆの連結を解除し、一部のヘッド部８２Ｆ（チューブ８４）のみ上下方向に移動する状態としてもよい。一例として、接続部８８による連結または離脱に係る部分に電磁石を配置し、この電磁石への電気信号指令によって各ヘッド部（チューブ）単位で連結／離脱を切替えることによって、動作対象のチューブを選択する構成としてもよい。

【0117】

また、上述の上段用設置機構８０Ａまたは下段用設置機構８０Ｂにおいても、接続部８８と同様の機能を有する部材を利用して２つのヘッド部８２同士を接続して、１つの伸縮部８３を用いて移動させる構成としてもよい。

【0118】

（通知部の変更例）
図６では、上段用設置機構８０Ａ及び下段用設置機構８０Ｂのそれぞれに通知部７５Ａ，７５Ｂを設ける例について説明した。これ以外の通知部の構成について、図１０を参照しながら説明する。

【0119】

図１０では、２つの通知部７５Ｃ，７５Ｄを例示している。通知部７５Ｃは、１つの収容部５４に対して通知部７５Ｃが設けられている例である。このような通知部７５Ｃを設けることによって、例えば、収容部５４に設けられている上段用設置機構８０Ａ及び下段用設置機構８０Ｂの全てが処理液容器５１の接続が完了しているか否かを示す構成としてもよい。図１０に示すように、収容部５４が塗布・現像装置２（基板処理装置）に対して出入りする構造であると、出入り時の上段用設置機構８０Ａ及び下段用設置機構８０Ｂの伸縮部の状態が重要となる。すなわち、上段用設置機構８０Ａ及び下段用設置機構８０Ｂの一部の伸縮部が伸長した状態で収容部５４を塗布・現像装置２内に移動させようとすると、これらが衝突する可能性がある。そこで、全ての上段用設置機構８０Ａ及び下段用設置機構８０Ｂについて、伸縮部８３が収縮し、ヘッド部が処理液容器５１と接触した状態であることを通知する通知部７５Ｃを設けるとする。これにより、通知部７５Ｃの通知内容に基づいて収容部５４を出入りさせることが可能となる。このような構成とした場合、上段用設置機構８０Ａまたは下段用設置機構８０Ｂが塗布・現像装置２と衝突することが防がれる。

【0120】

なお、通知部７５Ｄは、通知部７５Ｃと同様の機能を有する通知部を塗布・現像装置２側に設けた例を示している。このような構成とした場合も通知部７５Ｃと同様の効果を奏することができる。さらに、通知部７５Ｄに対応する位置に、通知部７５Ａ，７５Ｂが通知する情報に対応する情報を通知する通知部を有していてもよい。すなわち、上段用設置機構８０Ａ及び下段用設置機構８０Ｂのそれぞれにおけるヘッド部と処理液容器５１との接触の有無（通液可能か否か）を示す情報を塗布・現像装置２の外面（側面等）で通知する構成であってもよい。

【0121】

なお、通知部７５Ａ～７５Ｄによる通知内容は、図１０に示すようなボトル搬送ユニットに無線通信等によって通知される構成であってもよい。ボトル搬送ユニットは、例えば、収容部５４における処理液容器５１の交換を機械的に実行し得るユニットである。このようなユニットに対して、収容部５４における処理液容器５１（または、上段用設置機構８０Ａ及び下段用設置機構８０Ｂ）の状態を通知する構成とすることで、ボトル搬送ユニットとの連携を適切に行うことが可能となる。

【0122】

（収容部及び液源設置機構の変形例）
図１１（ａ）及び図１１（ｂ）に示されるように、収容部５４に代えて、収容部５４Ｂが設けられてもよい。収容部５４Ｂは、インタフェースブロック６に内蔵可能であってもよい。図１２に示されるように、収容部５４Ｂでは、例えば、収容部５４と同様に、上段載置台７１及び下段載置台７２が設けられ、上段載置台７１上に４つの処理液容器５１が配置され、下段載置台７２上に４つの処理液容器５１が配置される。収容部５４Ｂは、収容部５４と同様に、塗布・現像装置２の内部と外方との間で出し入れ可能であってもよい。収容部５４では、収容部５４が移動する方向に沿って、上段載置台７１上及び下段載置台７２上のそれぞれにおいて４つの処理液容器５１が並んでいる。一方、収容部５４Ｂでは、収容部５４Ｂが移動する方向に交差する方向に沿って、上段載置台７１上及び下段載置台７２上のそれぞれにおいて４つの処理液容器５１が並んでいる。

【0123】

収容部５４Ｂは、例えば、側板５６ａ，５６ｂと、天板５７ａと、底板５７ｂと、上段載置台７１と、下段載置台７２と、支持部材７４とを備える。側板５６ａ及び側板５６ｂは、主面同士が横方向（図１２のＹ軸方向）において対向するように配置されている。天板５７ａは、側板５６ａ及び側板５６ｂの上部同士を接続し、底板５７ｂは、側板５６ａ及び側板５６ｂの下部同士を接続する。天板５７ａ及び底板５７ｂの間において、上段載置台７１、支持部材７４、及び下段載置台７２が、上方からこの順に設けられている。上段載置台７１、支持部材７４、及び下段載置台７２それぞれの一端は側板５６ａに固定されており、上段載置台７１、支持部材７４、及び下段載置台７２それぞれの他端は側板５６ｂに固定されている。

【0124】

収容部５４Ｂにおいても、８つの処理液容器５１それぞれについて、８つの液源設置機構が設けられる。これにより、８つの処理液容器５１が個別に交換可能である。収容部５４の上段には上段用設置機構８０Ａが設けられるが、収容部５４Ｂの上段では、上段用設置機構８０Ｇが設けられる。上段用設置機構８０Ｇは、下段載置台７２に代えて、上段載置台７１上で横方向に移動可能であること以外は、下段用設置機構８０Ｃと同様に構成されている。

【0125】

上段用設置機構８０Ｇは、図１３（ａ）にも示されるように、ポッド部８１Ｇと、ヘッド部８２Ｇと、伸縮部８３Ｇと、スライド部８５Ｇとを備える。ポッド部８１Ｇ、ヘッド部８２Ｇ、伸縮部８３Ｇ、及びスライド部８５Ｇは、ポッド部８１Ｃ、ヘッド部８２Ｃ、伸縮部８３Ｃ、及びスライド部８５Ｃにそれぞれ対応する。スライド部８５Ｇは、図１３（ｂ）に示されるように、ポッド部８１Ｇ及び伸縮部８３Ｇを上段載置台７１の横方向の端部よりも外方へ移動させることが可能である。

【0126】

収容部５４の下段には下段用設置機構８０Ｂが設けられるが、収容部５４Ｂの下段では、下段用設置機構８０Ｈが設けられる。下段用設置機構８０Ｈは、ポッド部８１Ｈ、ヘッド部８２Ｈ、及び伸縮部８３Ｈを有する点は下段用設置機構８０Ｂと同様である。さらに、下段用設置機構８０Ｈは、ポッド部８１Ｈ、ヘッド部８２Ｈ、及び伸縮部８３Ｈを横方向（特に、水平方向）に移動させることが可能な支持部であるスライド部８９Ｈを有する。

【0127】

スライド部８９Ｈは、収容部５４Ｂを構成する部材に接続（支持）されている。スライド部８９Ｈは、例えば、支持部材７４の下面に取り付けられている。なお、スライド部８９Ｈは、支持部材７４に代えて、上段載置台７１の下面に取り付けられてもよい。スライド部８９Ｈの下面には、ヘッド部８２Ｈ及び伸縮部８３Ｈが固定されている。

【0128】

ヘッド部８２Ｈでは、ヘッド部８２Ｂと同様に、収容部５４Ｂに対して上下方向への移動が規制されている。伸縮部８３Ｈは、伸縮部８３Ｂと同様に、ヘッド部８２Ｈに対してポッド部８１Ｈが上下移動可能となるように、ポッド部８１Ｈを支持する機能を有する。伸縮部８３Ｈは、その下端が上下方向に移動することで伸縮動作が可能となっている。また、伸縮部８３Ｈの下端はポッド部８１Ｂに固定されている。つまり、伸縮部８３Ｈの上下方向の移動に伴って、ポッド部８１Ｈ、及びポッド部８１Ｈに支持されている処理液容器５１も、上下方向に移動可能となっている。

【0129】

上記の下段用設置機構８０Ｈを使用する場合、処理液容器５１の使用時（通液時）では、塗布・現像装置２の内部に収容部５４Ｂが位置し、スライド部８９Ｈが収容された状態となり、ポッド部８１Ｈ及び処理液容器５１が下段載置台７２上に位置する。このとき、ヘッド部８２Ｈに取り付けられたチューブ８４を介して処理液が下流側へ供給される。スライド部８９Ｈが収容された状態において、ポッド部８１Ｈが下段載置台７２に載置されてもよい。

【0130】

一方、処理液容器５１を交換する場合には、図１３（ａ）に示されるように、収容部５４Ｂが塗布・現像装置２の外方に移動する。そして、図１３（ｂ）に示されるように、スライド部８９Ｈが拡張されることによって、ヘッド部８２Ｈ、伸縮部８３Ｈ、及びポッド部８１Ｈが、下段載置台７２の端部よりも外方へ横方向に移動する。この状態では、ポッド部８１Ｈ及び処理液容器５１が上下方向に移動可能となる。したがって、ポッド部８１Ｈを下方へ移動させることで、チューブ８４に対して処理液容器５１を下方へ離すことができる。その結果、処理液容器５１の交換が可能となる。スライド部８９Ｈが拡張される際に、ポッド部８１Ｈと下段載置台７２との間に隙間が設けられて状態で、スライド部８９Ｈが駆動されてもよい。あるいは、下段載置台７２が設けられなくてもよい。

【0131】

上記の下段用設置機構８０Ｈを使用する場合も、収容部５４Ｂから処理液容器５１を取り出そうとする場合に、周囲の空間を広く確保することを防ぐことができる。収容部５４Ｂでは、処理液容器５１の上方に、支持部材７４、又は上段載置台７１等の他の部材がある。また、処理液容器５１の下方に、下段載置台７２等の他の部材がある。そのため、そのままの位置では、チューブ８４に対して処理液容器５１を上下方向に移動して離すことが困難である。これに対して、スライド部８９Ｈを用いてポッド部８１Ｈ及び処理液容器５１を横方向に移動させると、処理液容器５１の移動経路が形成（確保）されるため、処理液容器５１の交換が可能となる。

【0132】

上記の収容部５４Ｂにおいて、上段用設置機構８０Ｇに代えて、上段用設置機構８０Ａが設けられてもよい。すなわち、上段の処理液容器５１を交換する際には、収容部５４Ｂの側方に処理液容器５１及びチューブ８４が移動せずに、使用時と同じ横方向の位置において、処理液容器５１に対してチューブ８４が移動してもよい。この場合、収容部５４Ｂには、天板５７ａが設けられていなくてもよい。

【0133】

図１２及び図１３に示される例では、塗布・現像装置２の内部と外方との間で収容部５４Ｂが移動可能であるが、収容部５４Ｂの本体部分が、塗布・現像装置２の内部に移動できない状態で配置されていてもよい。収容部５４Ｂに含まれる各液源設置機構の少なくとも一部が、処理液容器５１の交換時において、塗布・現像装置２の外方に移動することで、処理液容器５１が交換可能な状態となってもよい。収容部５４Ｂの本体部分は、例えば、側板５６ａ、側板５６ｂ、天板５７ａ、底板５７ｂ、上段載置台７１、下段載置台７２、及び支持部材７４から構成される。

【0134】

図１４（ａ）及び図１４（ｂ）に示されるように、塗布・現像装置２のうちの収容部５４Ｂが内蔵されている箇所において、開閉装置５９が設けられてもよい。開閉装置５９は、収容部５４Ｂが塗布・現像装置２の外部に露出しない閉状態と、収容部５４Ｂが塗布・現像装置２の外部に露出する開状態とを切り替える装置である。開閉装置５９は、例えば、巻き取り装置５９ａと、シャッター５９ｂとを含む。図１４（ａ）に示されるように、塗布・現像装置２に設けられた開口部分をシャッター５９ｂが塞ぐことで上記閉状態となり、巻き取り装置５９ａによりシャッター５９ｂが巻き取られることで上記開状態となる。

【0135】

処理液容器５１の使用時（通液時）では、開閉装置５９により、収容部５４Ｂが塗布・現像装置２の外部に露出しない閉状態に切り替えられる。この場合、図１４（ａ）に示されるように、スライド部８５Ｇが収容された状態であり、ポッド部８１Ｇ及び処理液容器５１が上段載置台７１上に位置する。また、スライド部８９Ｈが収容された状態であり、ポッド部８１Ｈ及び処理液容器５１が下段載置台７２上に位置する。そのため、処理液が供給可能な状態において、処理液容器５１は、塗布・現像装置２の内部に配置されている。

【0136】

一方、処理液容器５１を交換する場合には、図１４（ｂ）に示されるように、開閉装置５９により、収容部５４Ｂが塗布・現像装置２の外部に露出する開状態に切り替えられる。そして、上段の処理液容器５１を交換する場合には、スライド部８５Ｇが横方向へ移動することで、スライド部８５Ｇの一部、ポッド部８１Ｇ、及び処理液容器５１が、塗布・現像装置２の内部から横方向に移動する。これにより、上段用設置機構８０Ｇのチューブ８４の上下方向の移動経路が、塗布・現像装置２の外方において形成される。

【0137】

また、下段の処理液容器５１を交換する場合には、スライド部８９Ｈが横方向へ移動することで、スライド部８５Ｈの一部、ポッド部８１Ｈ、及び処理液容器５１が、塗布・現像装置２の内部から横方向に移動する。これにより、下段用設置機構８０Ｈに対応する処理液容器５１の上下方向に移動経路が、塗布・現像装置２の外方において形成される。

【0138】

［作用］
上記の基板処理装置及び処理液容器交換方法によれば、制御部としての制御装置１００が処理液容器５１に対するチューブ８４（供給管）の上下方向の移動を制御する。これによって、複数の処理液容器５１について、処理液を供給可能な状態と、交換可能な状態と、を切替えることができる。このように、処理液容器５１に対するチューブ８４の上下方向の移動を制御装置１００が制御することで、処理液容器５１を交換可能な状態とすることができるため、処理液容器５１の交換を適切に行うことが可能となる。

【0139】

また、上記の収容部５４のように、複数の処理液容器５１が上段と下段とに振り分けて配置されている場合、処理液容器５１内から供給管としてのチューブ８４を移動させるための空間を確保する必要がある。これに対して、上段については、チューブ８４を上方へ移動させることで、供給可能な状態から交換可能な状態へ切替える一方、下段については、処理液容器５１を下方へ移動させることで、処理液を供給可能な状態から交換可能な状態へ切替える。このような構成とすることで、特に下段の処理液容器５１についてもチューブ８４の上下方向の移動が可能となるため、処理液容器５１の交換を適切に行うことが可能となる。

【0140】

また、下段において、処理液容器５１は下段載置台７２上に載置されていてもよい。このとき、処理液容器５１及び下段載置台７２を同時に下方へ移動させることで、下段の処理液容器５１について供給可能な状態から交換可能な状態へ切替えてもよい。このような構成とすることで、処理液を供給する状態においては処理液容器５１を下段載置台７２上に安定して載置しながら、処理液容器５１の交換を適切に行うことが可能となる。

【0141】

複数の処理液容器５１を収容する収容部５４を有していてもよい。このとき、制御装置１００は、収容部５４を構成する部材の上下方向の移動によって複数のチューブ８４を上下方向へ移動させて、処理液を供給可能な状態と、交換可能な状態とを切替えてもよい。収容部５４が設けられている場合、収容部５４を構成する部材を利用してチューブ８４を上下方向へ移動させる構成とすることで、供給管を移動させるために必要な空間を小さくすることができる。

【0142】

複数の処理液容器５１の少なくとも一部は、上下方向において互いに異なる位置であり、且つ、上下方向に交差する横方向において互いに異なる位置に配置されていてもよい。このとき、上方に配置された処理液容器５１の横に、下方に配置された処理液容器５１に接続されるチューブ８４について、上下方向の移動経路が形成されていてもよい。上下方向において互いに異なる位置に配置された処理液容器５１について、横方向において互いに異なる位置に配置されることで、各処理液容器５１に対して接続されるチューブ８４の上下方向への移動経路が確保される。これにより、各処理液容器５１の交換を適切に行うことができる。

【0143】

複数の処理液容器５１の少なくとも一部は、収容部５４を構成する部材から個別に離脱可能とされていてもよい。この場合、処理液容器５１の一部のみについてチューブ８４の上下方向への移動を行うことが可能となる。したがって、例えば、交換が必要な処理液容器５１についてのみ交換可能な状態へ切替えることができる。

【0144】

複数の処理液容器５１の少なくとも一部は、上下方向に交差する横方向に移動可能な載置台としてのスライド部８５Ｃ，８５Ｇ上に載置されてもよい。この場合、制御装置１００の制御によって、スライド部８５Ｃ，８５Ｇが横方向へ移動することによって、チューブ８４の上下方向の移動経路が形成されてもよい。例えば、上述の下段載置台７２上の処理液容器５１のように、処理液容器５１をチューブ８４に接続する場所では上下方向への移動が規制されているとしても、スライド部８５Ｃ，８５Ｇを横方向へ移動することで、チューブ８４の上下方向への移動が可能となる。したがって、処理液容器の交換を適切に行うことができる。

【0145】

また、制御装置１００の制御によって載置台としてのスライド部８５Ｇが横方向へ移動する際には、スライド部８５Ｇが塗布・現像装置２の内部から外方へ移動してもよい。この場合、供給時及び交換時において交換対象の処理液容器５１が移動する範囲が、スライド部８５Ｇの可動範囲に略一致する。そのため、塗布・現像装置２に対して出し入れ可能な収容部５４，５４Ｂを用いる場合に比べて、処理液容器５１の交換のために使用する空間を小さくすることができる。

【0146】

複数のチューブ８４の少なくとも一部は、上下方向に交差する横方向に移動可能な支持部としてのスライド部８９Ｈによって支持されていてもよい。この場合、制御装置１００の制御によって、スライド部８９Ｈが横方向へ移動することによって、処理液容器５１の上下方向の移動経路が形成されてもよい。例えば、上述の下段載置台７２上の処理液容器５１のように、処理液容器５１をチューブ８４に接続する場所では上下方向への移動が規制されているとしても、スライド部８９Ｈを横方向へ移動することで、処理液容器５１の上下方向への移動が可能となる。したがって、処理液容器の交換を適切に行うことができる。

【0147】

また、制御装置１００の制御によって支持部としてスライド部８９Ｈが横方向へ移動する際には、スライド部８９Ｈが塗布・現像装置２の内部から外方へ移動してもよい。この場合、供給時及び交換時において交換対象の処理液容器５１が移動する範囲が、スライド部８９Ｈの可動範囲に略一致する。そのため、塗布・現像装置２に対して出し入れ可能な収容部５４，５４Ｂを用いる場合に比べて、処理液容器５１の交換のために使用する空間を小さくすることができる。

【0148】

以上、種々の例示的実施形態について説明してきたが、上述した例示的実施形態に限定されることなく、様々な省略、置換、及び変更がなされてもよい。また、異なる実施形態における要素を組み合わせて他の実施形態を形成することが可能である。すなわち、以上に説明した種々の例のいずれか１つの例において、他の例で説明した事項の少なくとも一部が組み合わされてもよい。

【0149】

例えば、上記で説明した変形例を組み合わせた構成としてもよい。また、液源設置機構８０にポッド部が含まれる場合について説明したが、例えば、上段用設置機構８０Ａのように、処理液容器５１の交換時にも容器を移動させない場合、ポッド部を有しない構成としてもよい。さらに、下段用設置機構８０Ｂのように、処理液容器５１の交換時に容器を移動させることが想定されている場合でも、下段載置台７２自体を昇降させる構成としてポッド部を省略してもよい。さらに、ポッド部に代えて、チューブ８４を挿入した状態での処理液容器５１の移動を規制するような部材を設ける構成としてもよい。

【0150】

また、液源部５０とノズル４１との間の流路の構成は適宜変更され得る。一例として、上記の実施形態では、液源部５０の１つの処理液容器５１から１つのノズル４１に対して処理液を供給し、ワークＷに対して供給する構成について説明した。しかしながら、実際には、１つの液源部５０に対して複数のノズル４１が接続していて、流路が途中で分岐する場合もある。

【0151】

また、本実施形態で説明した処理液容器５１がチューブ８４を介して接続される先には、ワークＷへの処理液を吐出するノズル４１とは異なるものが接続されていてもよい。上述のように、本実施形態における処理液の用途は多岐にわたる。したがって、その用途に応じて、処理液容器５１から下流側の流路等の構成は適宜変更される。

【0152】

以上の説明から、本開示の種々の実施形態は、説明の目的で本明細書で説明されており、本開示の範囲及び主旨から逸脱することなく種々の変更をなし得ることが、理解されるであろう。したがって、本明細書に開示した種々の実施形態は限定することを意図しておらず、真の範囲と主旨は、添付の特許請求の範囲によって示される。

【符号の説明】

【0153】

１…基板処理システム、２…塗布・現像装置、４０…吐出部、４１…ノズル、５０…液源部、５１…処理液容器、５２…チューブ、５３…キャップ部、５４，５４Ａ，５４Ｂ…収容部、６０…送液系、７１…上段載置台、７２，７２ａ…下段載置台、７５Ａ～７５Ｄ…通知部、８０…液源設置機構、８０Ａ，８０Ｄ，８０Ｇ…上段用設置機構、８０Ｂ，８０Ｃ，８０Ｅ，８０Ｈ…下段用設置機構、８０Ｆ…複数段設置機構、８１Ａ～８１Ｈ…ポッド部、８２Ａ～８２Ｃ，８２Ｆ，８２Ｇ，８２Ｈ…ヘッド部、８４…チューブ（供給管）、８５Ｃ，８５Ｇ…スライド部、８９Ｈ…スライド部、１００…制御装置。

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】

【図6】

【図7】

【図8】

【図9】

【図10】

【図11】

【図12】

【図13】

【図14】