特開 2023-14884 基板保持具及び基板処理装置

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】公開特許公報(A)

(11)【公開番号】P2023014884

(43)【公開日】2023-01-31

(54)【発明の名称】基板保持具及び基板処理装置

(51)【国際特許分類】

   H01L 21/205 20060101AFI20230124BHJP

   H01L 21/31 20060101ALI20230124BHJP

   H01L 21/683 20060101ALI20230124BHJP

   C23C 16/458 20060101ALI20230124BHJP

【ＦＩ】

H01L21/205

H01L21/31 B

H01L21/68 N

C23C16/458

【審査請求】未請求

【請求項の数】10

【出願形態】ＯＬ

(21)【出願番号】P 2021119079

(22)【出願日】2021-07-19

(71)【出願人】

【識別番号】000219967

【氏名又は名称】東京エレクトロン株式会社

(74)【代理人】

【識別番号】100107766

【弁理士】

【氏名又は名称】伊東 忠重

(74)【代理人】

【識別番号】100070150

【弁理士】

【氏名又は名称】伊東 忠彦

(72)【発明者】

【氏名】島田 光一

【テーマコード（参考）】

4K030

5F045

5F131

【Ｆターム（参考）】

4K030CA04

4K030EA04

4K030FA10

4K030GA06

4K030KA45

5F045AA03

5F045BB08

5F045DP19

5F045DP28

5F045DQ05

5F045EB03

5F045EB10

5F045EC02

5F045EF03

5F045EF11

5F045EF20

5F045EG02

5F045EK06

5F045EK24

5F045EM08

5F045EM09

5F045EM10

5F045EN05

5F131AA02

5F131BA01

5F131BA19

5F131CA09

5F131CA12

5F131DA05

5F131DA33

5F131DA42

5F131EA04

5F131EA17

5F131EA22

5F131EA24

5F131EB55

5F131EB57

5F131EB75

5F131EB81

5F131EC02

5F131EC05

5F131EC12

5F131JA33

(57)【要約】

【課題】ボートへの基板の貼り付きを抑制できる技術を提供する。
【解決手段】本開示の一態様による基板保持具は、基板を棚状に保持する第１のボートと、前記第１のボートと同軸に、前記第１のボートに対して相対的に昇降するよう設けられ、基板を棚状に保持する第２のボートと、を備え、前記第１のボートは、上下に対向して設けられる第１の底板及び第１の天板と、前記第１の底板と前記第１の天板とを接続する第１の支柱であり、基板を載置する第１の載置面を含む第１の支柱と、を有し、前記第２のボートは、上下に対向して設けられる第２の底板及び第２の天板と、前記第２の底板と前記第２の天板とを接続する第２の支柱であり、基板を載置する第２の載置面を含む第２の支柱と、を有し、前記第２の天板は、平面視で前記第１の天板と重なるように配置される。
【選択図】図１

【特許請求の範囲】

【請求項1】

基板を棚状に保持する第１のボートと、
前記第１のボートと同軸に、前記第１のボートに対して相対的に昇降するよう設けられ、基板を棚状に保持する第２のボートと、
を備え、
前記第１のボートは、上下に対向して設けられる第１の底板及び第１の天板と、前記第１の底板と前記第１の天板とを接続する第１の支柱であり、基板を載置する第１の載置面を含む第１の支柱と、を有し、
前記第２のボートは、上下に対向して設けられる第２の底板及び第２の天板と、前記第２の底板と前記第２の天板とを接続する第２の支柱であり、基板を載置する第２の載置面を含む第２の支柱と、を有し、
前記第２の天板は、平面視で前記第１の天板と重なるように配置される、
基板保持具。

【請求項2】

前記第２のボートは、前記第１の載置面に対して前記第２の載置面を昇降させることで前記第１のボートとの間で基板を受け渡す、
請求項１に記載の基板保持具。

【請求項3】

前記第１の天板は、略円環板状又は略円板状を有し、
前記第２の天板は、前記第１の天板と同じ外径の略円環板状又は略円板状を有する、
請求項１又は２に記載の基板保持具。

【請求項4】

前記第１の支柱の中心点及び前記第２の支柱の中心点は、同心円の同一円弧上に設けられる、
請求項１乃至３のいずれか一項に記載の基板保持具。

【請求項5】

前記第２の支柱は、前記第１の支柱よりも短い、
請求項１乃至４のいずれか一項に記載の基板保持具。

【請求項6】

前記第２の底板は、前記第１の底板よりも上方に配置され、
前記第２の天板は、前記第１の天板よりも下方に配置される、
請求項１乃至５のいずれか一項に記載の基板保持具。

【請求項7】

前記第２の底板及び前記第２の天板は、それぞれ前記第１の支柱を挿通させる切欠きを有する、
請求項１乃至６のいずれか一項に記載の基板保持具。

【請求項8】

前記第２のボートは、水平移動により前記第１のボートに対して着脱可能に構成される、
請求項１乃至７のいずれか一項に記載の基板保持具。

【請求項9】

前記第１のボート及び前記第２のボートは、同期して回転するよう構成される、
請求項１乃至８のいずれか一項に記載の基板保持具。

【請求項10】

基板を棚状に保持する第１のボートと、
前記第１のボートと同軸に、前記第１のボートに対して相対的に昇降するよう設けられ、基板を棚状に保持する第２のボートと、
前記第１のボート及び前記第２のボートを収容する処理容器と、
を備え、
前記第１のボートは、上下に対向して設けられる第１の底板及び第１の天板と、前記第１の底板と前記第１の天板とを接続する第１の支柱であり、基板を載置する第１の載置面を含む第１の支柱と、を有し、
前記第２のボートは、上下に対向して設けられる第２の底板及び第２の天板と、前記第２の底板と前記第２の天板とを接続する第２の支柱であり、基板を載置する第２の載置面を含む第２の支柱と、を有し、
前記第２の天板は、平面視で前記第１の天板と重なるように配置される、
基板処理装置。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本開示は、基板保持具及び基板処理装置に関する。

【背景技術】

【0002】

処理室の内部に複数の基板を積載したボートを収容して複数の基板に成膜処理を行う装置が知られている（例えば、特許文献１参照）。特許文献１には、独立に上下方向に移動可能なインナーボートとアウターボートとを有する二重構造のボートが記載されている。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0003】

【特許文献1】特開２０１８－６７５８２号公報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0004】

本開示は、ボートへの基板の貼り付きを抑制できる技術を提供する。

【課題を解決するための手段】

【0005】

本開示の一態様による基板保持具は、基板を棚状に保持する第１のボートと、前記第１のボートと同軸に、前記第１のボートに対して相対的に昇降するよう設けられ、基板を棚状に保持する第２のボートと、を備え、前記第１のボートは、上下に対向して設けられる第１の底板及び第１の天板と、前記第１の底板と前記第１の天板とを接続する第１の支柱であり、基板を載置する第１の載置面を含む第１の支柱と、を有し、前記第２のボートは、上下に対向して設けられる第２の底板及び第２の天板と、前記第２の底板と前記第２の天板とを接続する第２の支柱であり、基板を載置する第２の載置面を含む第２の支柱と、を有し、前記第２の天板は、平面視で前記第１の天板と重なるように配置される。

【発明の効果】

【0006】

本開示によれば、ボートへの基板の貼り付きを抑制できる。

【図面の簡単な説明】

【0007】

【図1】実施形態の基板処理装置の一例を示す断面図

【図2】基板保持具の一例を示す斜視図

【図3】基板保持具の一例を示す斜視図

【図4】基板保持具の一例を示す斜視図

【図5】基板保持具の一例を示す側面図

【図6】図３の基板保持具を上方から見た図

【図7】図４の基板保持具を上方から見た図

【図8】第１のボートと第２のボートの位置関係を示す断面図

【図9】第１のボートと第２のボートの位置関係を示す斜視図

【図10】第１のボートで基板を保持した状態の基板保持具を示す側面図

【図11】第２のボートで基板を保持した状態の基板保持具を示す側面図

【発明を実施するための形態】

【0008】

以下、添付の図面を参照しながら、本開示の限定的でない例示の実施形態について説明する。添付の全図面中、同一又は対応する部材又は部品については、同一又は対応する参照符号を付し、重複する説明を省略する。

【0009】

〔基板の貼り付き〕
ボートに設けられる爪に基板を載置し、基板を載置した状態のボートを処理容器内に収容して基板に成膜処理を施すと、爪に基板が貼り付く場合がある。特に、基板にポリシリコン膜を厚く成膜すると、爪に基板が貼り付きやすい。

【0010】

爪に基板が貼り付くことを防止する対策の一例として、爪の表面に微細な凹凸を形成して爪と基板との接触面積を減らす技術がある。しかしながら、基板に成膜される膜の膜厚が厚くなると、上記の技術を適用しても爪に基板が貼り付く場合がある。

【0011】

本開示は、相対的に昇降する第１のボート及び第２のボートを備え、第１のボートと第２のボートとの間で基板の受け渡しが可能な基板保持具を用いることで、ボートへの基板の貼り付きを抑制できる技術を提供する。以下、詳細に説明する。

【0012】

〔基板処理装置〕
図１を参照し、実施形態の基板処理装置の一例について説明する。実施形態の基板処理装置は、複数の基板に対して一度に処理を行うバッチ式の装置である。

【0013】

基板処理装置１は、処理容器１０、ガス供給部３０、排気部４０、加熱部５０及び制御部８０を有する。

【0014】

処理容器１０は、内部を減圧可能である。処理容器１０は、基板Ｗを収容する。基板Ｗは、例えば半導体ウエハである。処理容器１０は、内管１１及び外管１２を含む。内管１１は、下端が開放された有天井の略円筒状を有する。外管１２は、下端が開放されて内管１１の外側を覆う有天井の略円筒状を有する。内管１１及び外管１２は、石英等の耐熱材料により形成されており、同軸状に配置されて２重管構造となっている。

【0015】

内管１１の天井は、例えば平坦になっている。内管１１の一側には、その長手方向（上下方向）に沿ってガスノズルを収容する収容部１３が形成されている。収容部１３は、内管１１の側壁の一部を外側へ向けて突出させて形成された凸部１４内の領域である。

【0016】

収容部１３に対向させて内管１１の反対側の側壁には、その長手方向（上下方向）に沿って矩形状の開口１５が形成されている。

【0017】

開口１５は、内管１１内のガスを排気できるように形成されたガス排気口である。開口１５の長さは、基板保持具１００の長さと同じであるか、又は、基板保持具１００の長さより長く上下方向へそれぞれ延びる長さである。

【0018】

処理容器１０の下端は、例えばステンレス鋼により形成される略円筒状のマニホールド１７によって支持されている。マニホールド１７の上端にはフランジ１８が形成されており、フランジ１８上に外管１２の下端を設置して支持するようになっている。フランジ１８と外管１２との下端との間にはＯリング等のシール部材１９を介在させて外管１２内を気密状態にしている。

【0019】

マニホールド１７の上部の内壁には、略円環状の支持部２０が設けられている。支持部２０は、内管１１の下端を設置して支持する。マニホールド１７の下端の開口には、Ｏリング等のシール部材２２を介して蓋２１が気密に取り付けられている。蓋２１は、略円板状を有し、処理容器１０の下端の開口、すなわち、マニホールド１７の開口を気密に塞ぐ。蓋２１は、例えばステンレス鋼により形成される。

【0020】

蓋２１の中央部には、磁性流体シール等のシール部材２３を介して基板保持具１００を回転可能に支持する回転軸２４が貫通させて設けられている。回転軸２４の下部は、ボートエレベータよりなる昇降機構２５のアーム２５ａに回転自在に支持されている。

【0021】

回転軸２４の上端には、外側支持体２６及び内側支持体２７が設けられている。外側支持体２６は、中空の略円筒状を有する。外側支持体２６は、第１のボート１１０を支持する。内側支持体２７は、中実の略円柱状を有し、外側支持体２６内に挿通されている。内側支持体２７は、第２のボート１２０を支持する。

【0022】

外側支持体２６及び内側支持体２７は回転軸２４の回転を受けて同期して回転し、その結果、第１のボート１１０及び第２のボート１２０が同期して回転する。また、蓋２１、回転軸２４、外側支持体２６、内側支持体２７、第１のボート１１０及び第２のボート１２０は、昇降機構２５の昇降を受けて一体で上下動し、その結果、第１のボート１１０及び第２のボート１２０が処理容器１０内に対して挿脱される。

【0023】

内側支持体２７は、外側支持体２６に対して相対的に昇降するよう構成される。これにより、第２のボート１２０が第１のボート１１０に対して相対的に昇降する。

【0024】

第１のボート１１０及び第２のボート１２０は、複数（例えば５０枚～１５０枚）の基板Ｗを棚状に保持する基板保持具１００を構成する。なお、基板保持具１００の詳細については後述する。

【0025】

蓋２１上には、保温台２８が設けられている。保温台２８は、基板保持具１００が蓋２１側との伝熱により冷却されることを防止して基板保持具１００を保温する。例えば、保温台２８は、蓋２１上に設けられる複数の支柱に、上下方向に間隔をあけて略水平に配置される複数の石英板が取り付けられた構成を有する。

【0026】

ガス供給部３０は、ガスノズル３１を含む。ガスノズル３１は、例えば石英により形成される。ガスノズル３１は、内管１１内にその長手方向に沿って設けられ、その基端がＬ字状に屈曲されてマニホールド１７を貫通するようにして支持されている。ガスノズル３１は、その長手方向に沿って複数のガス孔３１ｈを有し、複数のガス孔３１ｈから処理ガスを水平方向に吐出する。複数のガス孔３１ｈは、例えば基板保持具１００に支持される基板Ｗの間隔と同じ間隔で配置される。処理ガスの種類は限定されないが、成膜ガス、エッチングガス、パージガス等が挙げられる。

【0027】

なお、図１の例では、ガス供給部３０が１つのガスノズル３１を含む場合を説明したがガスノズルの数は限定されない。例えば、ガス供給部３０は複数のガスノズルを含んでいてもよい。この場合、複数のガスノズルは、同じ処理ガスを吐出するよう構成されていてもよく、異なる処理ガスを吐出するよう構成されていてもよい。

【0028】

排気部４０は、内管１１内から開口１５を介して排出され、内管１１と外管１２との間の空間Ｐ１を介してガス出口４１から排出されるガスを排気する。ガス出口４１は、マニホールド１７の上部の側壁であって、支持部２０の上方に形成されている。ガス出口４１には、排気通路４２が接続されている。排気通路４２には、圧力調整弁４３及び真空ポンプ４４が順次介設されて、処理容器１０内を排気できるようになっている。

【0029】

加熱部５０は、外管１２の周囲に設けられている。加熱部５０は、例えばベースプレート２９上に設けられている。加熱部５０は、外管１２を覆うように略円筒状を有する。加熱部５０は、例えば発熱体を含み、処理容器１０内の基板Ｗを加熱する。

【0030】

制御部８０は、基板処理装置１の各部の動作を制御するように構成される。制御部８０は、例えばコンピュータであってよい。基板処理装置１の各部の動作を行うコンピュータのプログラムは、記憶媒体９０に記憶されている。記憶媒体９０は、例えばフレキシブルディスク、コンパクトディスク、ハードディスク、フラッシュメモリ、ＤＶＤ等であってよい。

【0031】

〔基板保持具〕
図２～図９を参照し、実施形態の基板処理装置１が備える基板保持具１００の一例について説明する。図２は第１のボートに第２のボートが取り付けられる途中の状態の基板保持具を示す斜視図であり、図３及び図４は第１のボートに第２のボートが取り付けられている状態の基板保持具を示す斜視図である。なお、図４では、第１のボートの天板の図示を省略している。図５は第１のボートに第２のボートが取り付けられている状態の基板保持具を示す側面図である。図６は図３の基板保持具を上方から見た図であり、図７は図４の基板保持具を上方から見た図である。図８は第１のボートと第２のボートの位置関係を示す断面図であり、図９は第１のボートと第２のボートの位置関係を示す斜視図である。

【0032】

基板保持具１００は、処理容器１０内に収容可能であり、複数の基板を上下方向に間隔をあけて略水平に保持する。基板保持具１００は、第１のボート１１０及び第２のボート１２０を有する。

【0033】

第１のボート１１０は、底板１１１、天板１１２及び支柱１１３（１１３ａ～１１３ｃ）を含む。底板１１１、天板１１２及び支柱１１３は、例えば石英、炭化珪素等の耐熱材料により形成される。

【0034】

底板１１１は、外側支持体２６に支持される。底板１１１は、保持する対象の基板の外径よりも大きい外径の略円環板状を有する。なお、底板１１１は略円板状を有していてもよい。

【0035】

天板１１２は、底板１１１の上方に、底板１１１と対向して設けられる。天板１１２は、底板１１１と同様、保持する対象の基板の外径よりも大きい外径の略円環板状を有する。なお、天板１１２は略円板状を有していてもよい。

【0036】

支柱１１３は、上下方向に延在する棒状を有し、底板１１１と天板１１２とを接続する。３本の支柱１１３ａ～１１３ｃは、同じ長さを有する。各支柱１１３ａ～１１３ｃは、その中心点が同心円の同一円弧上に位置するように設けられる。各支柱１１３ａ～１１３ｃには、上下方向に間隔をあけて複数の溝１１４が形成されている。溝１１４は、基板を載置する載置面１１５（図１０及び図１１）を形成する。載置面１１５に基板が載置されることで基板が支柱１１３に保持される。

【0037】

平面視において、支柱１１３ｂの中心点、支柱１１３ａの中心点及び支柱１１３ｃの中心点を通る円弧の中心角θ１（図７）は１８０°より大きいことが好ましい。これにより、基板の中心位置が第１のボート１１０の中心位置からずれた場合においても基板を安定して保持できる。また、平面視において、中心角θ１は第１のボート１１０に基板を搬入する際の妨げとならない角度（例えば２２０°）以下に設定される。

【0038】

第２のボート１２０は、水平移動により第１のボート１１０に対して着脱可能に構成される。第２のボート１２０は、第１のボート１１０と同軸に設けられ、第１のボート１１０に対して相対的に昇降可能に構成される。第２のボート１２０は、底板１２１、天板１２２及び支柱１２３（１２３ａ～１２３ｃ）を含む。底板１２１、天板１２２及び支柱１２３は、例えば石英、炭化珪素等の耐熱材料により形成される。

【0039】

底板１２１は、内側支持体２７に支持され、底板１１１よりも上方に配置される。底板１２１は、保持する対象の基板の外径よりも大きい外径の略円環板状を有し、平面視で底板１１１と重なるように配置される。なお、底板１２１は略円板状を有していてもよい。底板１２１の外縁部には、支柱１１３ａ～１１３ｃを挿通させる切欠き１２１ａ～１２１ｃが形成されている。切欠き１２１ａ～１２１ｃは、第２のボート１２０を水平移動させて第１のボート１１０に取り付ける際に、底板１２１と支柱１１３ａ～１１３ｃとが接触しないよう形成される。

【0040】

天板１２２は、底板１２１の上方且つ天板１１２の下方に、底板１２１と対向して設けられる。天板１２２は、底板１２１と同様、保持する対象の基板の外径よりも大きい外径の略円環板状を有する。天板１２２の外縁部には、支柱１１３ａ～１１３ｃを挿通させる切欠き１２２ａ～１２２ｃが形成されている。切欠き１２２ａ～１２２ｃは、第２のボート１２０を水平移動させて第１のボート１１０に取り付ける際に、天板１２２と支柱１１３ａ～１１３ｃとが接触しないよう形成される。天板１２２の内縁部には、窪み面１２２ｓが形成されている。窪み面１２２ｓは、天板１２２の上面よりも低い上面を有し、天板１２２の開口１２２ｈを塞ぐ蓋（図示せず）を載置するための載置面として機能する。なお、天板１２２は略円板状を有していてもよい。

【0041】

支柱１２３は、上下方向に延在する棒状を有し、底板１２１と天板１２２とを接続する。３本の支柱１２３ａ～１２３ｃは、同じ長さを有する。各支柱１２３ａ～１２３ｃは、その中心点が各支柱１１３ａ～１１３ｃの中心点が通る円と同じ円の同一円弧上に位置するように設けられる。各支柱１２３ａ～１２３ｃは、それぞれ各支柱１１３ａ～１１３ｃよりも短い。各支柱１２３ａ～１２３ｃには、上下方向に間隔をあけて複数の溝部１２４が形成されている。溝部１２４は、基板を載置する載置面１２５（図１０及び図１１）を形成する。載置面１２５に基板が載置されることで基板が支柱１２３に保持される。

【0042】

平面視において、支柱１２３ｂの中心、支柱１２３ａの中心及び支柱１２３ｃの中心を通る円弧の中心角θ２（図７）は１８０°より大きいことが好ましい。これにより、基板の中心位置が第２のボート１２０の中心位置からずれた場合においても基板を安定して保持できる。また、平面視において、中心角θ２は第２のボート１２０に基板を搬入する際の妨げとならない角度（例えば２２０°）以下に設定される。

【0043】

〔基板の受け渡し〕
図１０及び図１１を参照し、基板保持具１００における基板の受け渡しの一例について説明する。図１０は第１のボートで基板を保持した状態の基板保持具を示す側面図であり、図１１は第２のボートで基板を保持した状態の基板保持具を示す側面図である。

【0044】

第１のボート１１０で基板Ｗを保持する場合、図１０に示されるように、載置面１２５の位置が載置面１１５の位置よりも下方に移動するまで、第２のボート１２０を下降させる。これにより、基板Ｗは載置面１１５上に載置され、載置面１２５上から離間した状態となる。

【0045】

第２のボート１２０で基板Ｗを保持する場合、図１１に示されるように、載置面１２５の位置が載置面１１５の位置よりも上方に位置するまで、第２のボート１２０を上昇させる。これにより、基板Ｗは載置面１２５上に載置され、載置面１１５上から離間した状態となる。

【0046】

例えば、第１のボート１１０で基板Ｗを保持した状態の基板保持具１００を処理容器１０内に収容して処理容器１０内において基板Ｗに成膜処理を施す際に、成膜処理の途中で第１のボート１１０に対して第２のボート１２０を上昇させる。これにより、第１のボート１１０に保持された基板Ｗが第２のボート１２０に渡される。また、第２のボート１２０で基板Ｗを保持した状態で、第１のボート１１０に対して第２のボート１２０を下降させる。これにより、第２のボート１２０に保持された基板Ｗが第１のボート１１０に渡される。このように、成膜処理の途中で、第１のボート１１０と第２のボート１２０との間で基板Ｗを受け渡すことにより、基板Ｗが載置面１１５及び載置面１２５に居続けることがない。その結果、載置面１１５上及び載置面１２５上に基板Ｗが貼り付くことを抑制できる。なお、成膜処理の途中で、第１のボート１１０と第２のボート１２０との間での基板Ｗの受け渡しを複数回繰り返してもよい。

【0047】

なお、上記の実施形態において、底板１１１、天板１１２、支柱１１３及び載置面１１５はそれぞれ第１の底板、第１の天板、第１の支柱及び第１の載置面の一例である。また、底板１２１、天板１２２、支柱１２３及び載置面１２５はそれぞれ第２の底板、第２の天板、第２の支柱及び第２の載置面の一例である。

【0048】

今回開示された実施形態はすべての点で例示であって制限的なものではないと考えられるべきである。上記の実施形態は、添付の請求の範囲及びその趣旨を逸脱することなく、様々な形態で省略、置換、変更されてもよい。

【0049】

上記の実施形態では、第２のボート１２０が第１のボート１１０に対して相対的に昇降するよう構成される場合を説明したが、本開示はこれに限定されない。例えば、第１のボート１１０が第２のボート１２０に対して相対的に昇降するように構成されてもよい。また、例えば第１のボート１１０と第２のボート１２０の両方が昇降するように構成されていてもよい。

【符号の説明】

【0050】

１００ 基板保持具
１１０ 第１のボート
１１１ 底板
１１２ 天板
１１３ 支柱
１１５ 載置面
１２０ 第２のボート
１２１ 底板
１２２ 天板
１２３ 支柱
１２５ 載置面

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】

【図6】

【図7】

【図8】

【図9】

【図10】

【図11】

【手続補正書】

【提出日】2022-06-27

【手続補正1】

【補正対象書類名】特許請求の範囲

【補正対象項目名】全文

【補正方法】変更

【補正の内容】

【特許請求の範囲】

【請求項1】

基板を棚状に保持する第１のボートと、
前記第１のボートと同軸に、前記第１のボートに対して相対的に昇降するよう設けられ、基板を棚状に保持する第２のボートと、
を備え、
前記第１のボートは、上下に対向して設けられる第１の底板及び第１の天板と、前記第１の底板と前記第１の天板とを接続する第１の支柱であり、基板を載置する第１の載置面を含む第１の支柱と、を有し、
前記第２のボートは、上下に対向して設けられる第２の底板及び第２の天板と、前記第２の底板と前記第２の天板とを接続する第２の支柱であり、基板を載置する第２の載置面を含む第２の支柱と、を有し、
前記第２の天板は、平面視で前記第１の天板と重なるように配置される、
基板保持具。

【請求項2】

前記第２のボートは、前記第１の載置面に対して前記第２の載置面を昇降させることで前記第１のボートとの間で基板を受け渡す、
請求項１に記載の基板保持具。

【請求項3】

前記第１の天板は、略円環板状又は略円板状を有し、
前記第２の天板は、前記第１の天板と同じ外径の略円環板状又は略円板状を有する、
請求項１又は２に記載の基板保持具。

【請求項4】

前記第１の支柱の中心点及び前記第２の支柱の中心点は、同一円周上に設けられる、
請求項１乃至３のいずれか一項に記載の基板保持具。

【請求項5】

前記第２の支柱は、前記第１の支柱よりも短い、
請求項１乃至４のいずれか一項に記載の基板保持具。

【請求項6】

前記第２の底板は、前記第１の底板よりも上方に配置され、
前記第２の天板は、前記第１の天板よりも下方に配置される、
請求項１乃至５のいずれか一項に記載の基板保持具。

【請求項7】

前記第２の底板及び前記第２の天板は、それぞれ前記第１の支柱を挿通させる切欠きを有する、
請求項１乃至６のいずれか一項に記載の基板保持具。

【請求項8】

前記第２のボートは、水平移動により前記第１のボートに対して着脱可能に構成される、
請求項１乃至７のいずれか一項に記載の基板保持具。

【請求項9】

前記第１のボート及び前記第２のボートは、同期して回転するよう構成される、
請求項１乃至８のいずれか一項に記載の基板保持具。

【請求項10】

基板を棚状に保持する第１のボートと、
前記第１のボートと同軸に、前記第１のボートに対して相対的に昇降するよう設けられ、基板を棚状に保持する第２のボートと、
前記第１のボート及び前記第２のボートを収容する処理容器と、
を備え、
前記第１のボートは、上下に対向して設けられる第１の底板及び第１の天板と、前記第１の底板と前記第１の天板とを接続する第１の支柱であり、基板を載置する第１の載置面を含む第１の支柱と、を有し、
前記第２のボートは、上下に対向して設けられる第２の底板及び第２の天板と、前記第２の底板と前記第２の天板とを接続する第２の支柱であり、基板を載置する第２の載置面を含む第２の支柱と、を有し、
前記第２の天板は、平面視で前記第１の天板と重なるように配置される、
基板処理装置。

【手続補正2】

【補正対象書類名】明細書

【補正対象項目名】００３６

【補正方法】変更

【補正の内容】

【0036】

支柱１１３は、上下方向に延在する棒状を有し、底板１１１と天板１１２とを接続する。３本の支柱１１３ａ～１１３ｃは、同じ長さを有する。各支柱１１３ａ～１１３ｃは、その中心点が同一円周上に位置するように設けられる。各支柱１１３ａ～１１３ｃには、上下方向に間隔をあけて複数の溝１１４が形成されている。溝１１４は、基板を載置する載置面１１５（図１０及び図１１）を形成する。載置面１１５に基板が載置されることで基板が支柱１１３に保持される。

【手続補正3】

【補正対象書類名】明細書

【補正対象項目名】００４１

【補正方法】変更

【補正の内容】

【0041】

支柱１２３は、上下方向に延在する棒状を有し、底板１２１と天板１２２とを接続する。３本の支柱１２３ａ～１２３ｃは、同じ長さを有する。各支柱１２３ａ～１２３ｃは、その中心点が各支柱１１３ａ～１１３ｃの中心点と同一円周上に位置するように設けられる。各支柱１２３ａ～１２３ｃは、それぞれ各支柱１１３ａ～１１３ｃよりも短い。各支柱１２３ａ～１２３ｃには、上下方向に間隔をあけて複数の溝部１２４が形成されている。溝部１２４は、基板を載置する載置面１２５（図１０及び図１１）を形成する。載置面１２５に基板が載置されることで基板が支柱１２３に保持される。