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(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】公開特許公報(A)
(11)【公開番号】P2023156645
(43)【公開日】2023-10-25
(54)【発明の名称】液滴吐出装置、液滴吐出方法および記憶媒体
(51)【国際特許分類】
B05C 5/00 20060101AFI20231018BHJP
B05C 13/02 20060101ALI20231018BHJP
B05D 1/26 20060101ALI20231018BHJP
B05D 3/00 20060101ALI20231018BHJP
【ＦＩ】
B05C5/00 101
B05C13/02
B05D1/26 Z
B05D3/00 C
【審査請求】未請求
【請求項の数】15
【出願形態】ＯＬ
(21)【出願番号】P 2022066138
(22)【出願日】2022-04-13
(71)【出願人】
【識別番号】000219967
【氏名又は名称】東京エレクトロン株式会社
(74)【代理人】
【識別番号】110002147
【氏名又は名称】弁理士法人酒井国際特許事務所
(72)【発明者】
【氏名】三根 陽介
(72)【発明者】
【氏名】石田 寛
【テーマコード（参考）】
4D075
4F041
4F042
【Ｆターム（参考）】
4D075AC06
4D075AC78
4D075DA06
4D075DB13
4D075DC24
4D075EA05
4F041AA02
4F041AA05
4F041AB01
4F041BA01
4F041BA10
4F041BA13
4F042AA02
4F042AA06
4F042AB00
4F042DF10
4F042DF29
4F042DH09
(57)【要約】
【課題】生産性を向上させる。
【解決手段】本開示による液滴吐出装置は、浮上ステージと、搬送部と、吐出ヘッドと、制御部とを備える。浮上ステージは、基板の搬送方向に沿って延在し、噴出する気体の圧力によって基板を浮上させる。搬送部は、浮上ステージによって浮上した基板を保持して浮上ステージに沿って移動させる。吐出ヘッドは、浮上ステージの上方に位置し、機能液の液滴を吐出する。制御部は、搬送部および吐出ヘッドを制御する。浮上ステージは、基板の搬入および搬出が行われる搬入出ステージを有する。制御部は、搬入出ステージにおいて基板を搬送部に渡す搬入処理と、その後、基板を保持した搬送部を移動させて吐出ヘッドの下方を通過させつつ基板に対し吐出ヘッドから機能液の液滴を吐出する描画処理と、その後、搬送部を搬入出ステージに戻して搬送部による基板の保持を解除する搬出処理とを実行する。
【選択図】図２４
【解決手段】本開示による液滴吐出装置は、浮上ステージと、搬送部と、吐出ヘッドと、制御部とを備える。浮上ステージは、基板の搬送方向に沿って延在し、噴出する気体の圧力によって基板を浮上させる。搬送部は、浮上ステージによって浮上した基板を保持して浮上ステージに沿って移動させる。吐出ヘッドは、浮上ステージの上方に位置し、機能液の液滴を吐出する。制御部は、搬送部および吐出ヘッドを制御する。浮上ステージは、基板の搬入および搬出が行われる搬入出ステージを有する。制御部は、搬入出ステージにおいて基板を搬送部に渡す搬入処理と、その後、基板を保持した搬送部を移動させて吐出ヘッドの下方を通過させつつ基板に対し吐出ヘッドから機能液の液滴を吐出する描画処理と、その後、搬送部を搬入出ステージに戻して搬送部による基板の保持を解除する搬出処理とを実行する。
【選択図】図２４
【特許請求の範囲】
【請求項1】
基板の搬送方向に沿って延在し、噴出する気体の圧力によって前記基板を浮上させる浮上ステージと、
前記浮上ステージによって浮上した前記基板を保持して前記浮上ステージに沿って移動させる搬送部と、
前記浮上ステージの上方に位置し、機能液の液滴を吐出する吐出ヘッドと、
前記搬送部および前記吐出ヘッドを制御する制御部と
を備え、
前記浮上ステージは、前記基板の搬入および搬出が行われる搬入出ステージを有し、
前記制御部は、
前記搬入出ステージにおいて前記基板を前記搬送部に渡す搬入処理と、
その後、前記基板を保持した前記搬送部を移動させて前記吐出ヘッドの下方を通過させつつ前記基板に対し前記吐出ヘッドから前記機能液の液滴を吐出する描画処理と、
その後、前記搬送部を前記搬入出ステージに戻して前記搬送部による前記基板の保持を解除する搬出処理と
を実行する、液滴吐出装置。
前記浮上ステージによって浮上した前記基板を保持して前記浮上ステージに沿って移動させる搬送部と、
前記浮上ステージの上方に位置し、機能液の液滴を吐出する吐出ヘッドと、
前記搬送部および前記吐出ヘッドを制御する制御部と
を備え、
前記浮上ステージは、前記基板の搬入および搬出が行われる搬入出ステージを有し、
前記制御部は、
前記搬入出ステージにおいて前記基板を前記搬送部に渡す搬入処理と、
その後、前記基板を保持した前記搬送部を移動させて前記吐出ヘッドの下方を通過させつつ前記基板に対し前記吐出ヘッドから前記機能液の液滴を吐出する描画処理と、
その後、前記搬送部を前記搬入出ステージに戻して前記搬送部による前記基板の保持を解除する搬出処理と
を実行する、液滴吐出装置。
【請求項2】
第１基板および第２基板の搬送方向に沿って延在し、噴出する気体の圧力によって前記第１基板および前記第２基板を浮上させる浮上ステージと、
前記浮上ステージによって浮上した前記第１基板を保持して前記浮上ステージに沿って移動させる第１搬送部と、
前記浮上ステージによって浮上した前記第２基板を保持して前記浮上ステージに沿って移動させる第２搬送部と、
前記浮上ステージの上方に位置し、機能液の液滴を吐出する吐出ヘッドと
を備え、
前記浮上ステージは、
前記搬送方向における一端に位置し、前記第１基板の搬入および搬出が行われる第１搬入出ステージと、
前記搬送方向における他端に位置し、前記第２基板の搬入および搬出が行われる第２搬入出ステージと
を備える、液滴吐出装置。
前記浮上ステージによって浮上した前記第１基板を保持して前記浮上ステージに沿って移動させる第１搬送部と、
前記浮上ステージによって浮上した前記第２基板を保持して前記浮上ステージに沿って移動させる第２搬送部と、
前記浮上ステージの上方に位置し、機能液の液滴を吐出する吐出ヘッドと
を備え、
前記浮上ステージは、
前記搬送方向における一端に位置し、前記第１基板の搬入および搬出が行われる第１搬入出ステージと、
前記搬送方向における他端に位置し、前記第２基板の搬入および搬出が行われる第２搬入出ステージと
を備える、液滴吐出装置。
【請求項3】
前記搬送方向に沿って延在するガイドレールを備え、
前記第１搬送部および前記第２搬送部は、同一の前記ガイドレールに沿って移動する、請求項２に記載の液滴吐出装置。
前記第１搬送部および前記第２搬送部は、同一の前記ガイドレールに沿って移動する、請求項２に記載の液滴吐出装置。
【請求項4】
前記第１搬入出ステージおよび前記第１搬送部、ならびに、前記第２搬入出ステージおよび前記第２搬送部の少なくとも一方は、前記液滴吐出装置に対して着脱自在である、請求項２に記載の液滴吐出装置。
【請求項5】
前記第１搬入出ステージと前記吐出ヘッドとの間に配置され、前記機能液が吐出された前記第１基板を撮像する第１撮像部と、
前記第２搬入出ステージと前記吐出ヘッドとの間に配置され、前記機能液が吐出された前記第２基板を撮像する第２撮像部と
を備える、請求項２に記載の液滴吐出装置。
前記第２搬入出ステージと前記吐出ヘッドとの間に配置され、前記機能液が吐出された前記第２基板を撮像する第２撮像部と
を備える、請求項２に記載の液滴吐出装置。
【請求項6】
前記第１搬入出ステージと前記吐出ヘッドとの間に配置され、前記第１基板の上面に付着したパーティクルを検出する第１パーティクルセンサと、
前記第２搬入出ステージと前記吐出ヘッドとの間に配置され、前記第２基板の上面に付着したパーティクルを検出する第２パーティクルセンサと
を備える、請求項２に記載の液滴吐出装置。
前記第２搬入出ステージと前記吐出ヘッドとの間に配置され、前記第２基板の上面に付着したパーティクルを検出する第２パーティクルセンサと
を備える、請求項２に記載の液滴吐出装置。
【請求項7】
前記吐出ヘッドのノズルから前記機能液を吸引する吸引処理および前記吐出ヘッドのノズル面を払拭するワイピング処理を行うメンテナンス部と、
前記第１基板および前記第２基板に対する前記機能液の吐出が行われていない期間に前記吐出ヘッドから前記機能液を吐出する定期フラッシング処理において前記吐出ヘッドから吐出された前記機能液を受ける定期フラッシング部と、
前記定期フラッシング処理とは異なるタイミングで実行される検査処理において前記吐出ヘッドから吐出された前記機能液をフィルムで受ける検査部と
を備え、
前記メンテナンス部および前記定期フラッシング部は、前記浮上ステージの上方かつ前記第１搬入出ステージと前記吐出ヘッドとの間の第１待機位置にて待機し、
前記検査部は、前記浮上ステージの上方かつ前記第２搬入出ステージと前記吐出ヘッドとの間の第２待機位置にて待機する、請求項２に記載の液滴吐出装置。
前記第１基板および前記第２基板に対する前記機能液の吐出が行われていない期間に前記吐出ヘッドから前記機能液を吐出する定期フラッシング処理において前記吐出ヘッドから吐出された前記機能液を受ける定期フラッシング部と、
前記定期フラッシング処理とは異なるタイミングで実行される検査処理において前記吐出ヘッドから吐出された前記機能液をフィルムで受ける検査部と
を備え、
前記メンテナンス部および前記定期フラッシング部は、前記浮上ステージの上方かつ前記第１搬入出ステージと前記吐出ヘッドとの間の第１待機位置にて待機し、
前記検査部は、前記浮上ステージの上方かつ前記第２搬入出ステージと前記吐出ヘッドとの間の第２待機位置にて待機する、請求項２に記載の液滴吐出装置。
【請求項8】
前記搬送方向における前記第１搬送部の両端部に配置され、前記第１搬送部と一体的に移動可能であり、前記吐出ヘッドから吐出された前記機能液を受ける第１描画前フラッシング部と、
前記搬送方向における前記第２搬送部の両端部に配置され、前記第２搬送部と一体的に移動可能であり、前記吐出ヘッドから吐出された前記機能液を受ける第２描画前フラッシング部と、
を備える、請求項２に記載の液滴吐出装置。
前記搬送方向における前記第２搬送部の両端部に配置され、前記第２搬送部と一体的に移動可能であり、前記吐出ヘッドから吐出された前記機能液を受ける第２描画前フラッシング部と、
を備える、請求項２に記載の液滴吐出装置。
【請求項9】
前記第１搬入出ステージに対する前記第１基板の搬入出を行う第１移載装置と、
前記第２搬入出ステージに対する前記第２基板の搬入出を行う第２移載装置と
を備え、
前記第１搬入出ステージおよび前記第２搬入出ステージの各々から見て前記搬送方向に隣接する位置を第１移載位置とし、前記第１搬入出ステージおよび前記第２搬入出ステージの各々から見て前記搬送方向と直交する方向に隣接する２つの位置のうち一方を第２移載位置とし他方を第３移載位置とした場合に、前記第１移載装置は、前記第１搬入出ステージに対する前記第１移載位置、前記第２移載位置および前記第３移載位置のうちいずれかの移載位置に配置され、前記第２移載装置は、前記第２搬入出ステージに対する前記第１移載位置、前記第２移載位置および前記第３移載位置のうち、前記第１移載装置が配置される移載位置とは異なる移載位置に配置される、請求項２に記載の液滴吐出装置。
前記第２搬入出ステージに対する前記第２基板の搬入出を行う第２移載装置と
を備え、
前記第１搬入出ステージおよび前記第２搬入出ステージの各々から見て前記搬送方向に隣接する位置を第１移載位置とし、前記第１搬入出ステージおよび前記第２搬入出ステージの各々から見て前記搬送方向と直交する方向に隣接する２つの位置のうち一方を第２移載位置とし他方を第３移載位置とした場合に、前記第１移載装置は、前記第１搬入出ステージに対する前記第１移載位置、前記第２移載位置および前記第３移載位置のうちいずれかの移載位置に配置され、前記第２移載装置は、前記第２搬入出ステージに対する前記第１移載位置、前記第２移載位置および前記第３移載位置のうち、前記第１移載装置が配置される移載位置とは異なる移載位置に配置される、請求項２に記載の液滴吐出装置。
【請求項10】
前記第１搬送部、前記第２搬送部および前記吐出ヘッドを制御する制御部を備え、
前記制御部は、
前記第１搬入出ステージにおいて前記第１基板を前記第１搬送部に渡す第１搬入処理と、
前記第２搬入出ステージにおいて前記第２基板を前記第２搬送部に渡す第２搬入処理と、
前記第１搬入処理後、前記第１基板を保持した前記第１搬送部を移動させて前記吐出ヘッドの下方を通過させつつ前記第１基板に対し前記吐出ヘッドから前記機能液の液滴を吐出する第１描画処理と、
前記第１描画処理後、前記第１搬送部を前記第１搬入出ステージに戻して前記第１搬送部による前記第１基板の保持を解除する第１搬出処理と、
前記第１搬出処理後、または、前記第１搬出処理と並行して、前記第２基板を保持した前記第２搬送部を移動させて前記吐出ヘッドの下方を通過させつつ前記第２基板に対し前記吐出ヘッドから前記機能液の液滴を吐出する第２描画処理と、
前記第２描画処理後、前記第２搬送部を前記第２搬入出ステージに戻して前記第２搬送部による前記第２基板の保持を解除する第２搬出処理と
を行う、請求項２～９のいずれか一つに記載の液滴吐出装置。
前記制御部は、
前記第１搬入出ステージにおいて前記第１基板を前記第１搬送部に渡す第１搬入処理と、
前記第２搬入出ステージにおいて前記第２基板を前記第２搬送部に渡す第２搬入処理と、
前記第１搬入処理後、前記第１基板を保持した前記第１搬送部を移動させて前記吐出ヘッドの下方を通過させつつ前記第１基板に対し前記吐出ヘッドから前記機能液の液滴を吐出する第１描画処理と、
前記第１描画処理後、前記第１搬送部を前記第１搬入出ステージに戻して前記第１搬送部による前記第１基板の保持を解除する第１搬出処理と、
前記第１搬出処理後、または、前記第１搬出処理と並行して、前記第２基板を保持した前記第２搬送部を移動させて前記吐出ヘッドの下方を通過させつつ前記第２基板に対し前記吐出ヘッドから前記機能液の液滴を吐出する第２描画処理と、
前記第２描画処理後、前記第２搬送部を前記第２搬入出ステージに戻して前記第２搬送部による前記第２基板の保持を解除する第２搬出処理と
を行う、請求項２～９のいずれか一つに記載の液滴吐出装置。
【請求項11】
前記第１描画処理は、前記第１搬入出ステージと前記吐出ヘッドとの間の第１位置と、前記吐出ヘッドと前記第２搬入出ステージとの間の第２位置との間で前記第１搬送部を往復させつつ前記第１基板に対して前記吐出ヘッドから前記機能液の液滴を吐出し、
前記第２描画処理は、前記第２位置と前記第１位置との間で前記第２搬送部を往復させつつ前記第２基板に対して前記吐出ヘッドから前記機能液の液滴を吐出する、請求項１０に記載の液滴吐出装置。
前記第２描画処理は、前記第２位置と前記第１位置との間で前記第２搬送部を往復させつつ前記第２基板に対して前記吐出ヘッドから前記機能液の液滴を吐出する、請求項１０に記載の液滴吐出装置。
【請求項12】
前記第２搬入出ステージに設けられ、前記第２基板に設けられたアライメントマークを撮像するアライメントカメラを備え、
前記第２搬送部は、保持した前記第２基板の水平面内における姿勢を調整する調整部を備え、
前記制御部は、前記第１描画処理と並行して、前記アライメントカメラによって撮像された前記アライメントマークの画像に基づいて前記調整部を制御して、前記第２基板の水平面内における姿勢を調整するアライメント処理を行う、請求項１０に記載の液滴吐出装置。
前記第２搬送部は、保持した前記第２基板の水平面内における姿勢を調整する調整部を備え、
前記制御部は、前記第１描画処理と並行して、前記アライメントカメラによって撮像された前記アライメントマークの画像に基づいて前記調整部を制御して、前記第２基板の水平面内における姿勢を調整するアライメント処理を行う、請求項１０に記載の液滴吐出装置。
【請求項13】
前記制御部は、前記第１描画処理における前記第１搬送部の移動と同期して前記第２搬送部の移動を開始する、請求項１０に記載の液滴吐出装置。
【請求項14】
第１基板および第２基板の搬送方向に沿って延在し、噴出する気体の圧力によって前記第１基板および前記第２基板を浮上させる浮上ステージの前記搬送方向における一端に位置し、前記第１基板の搬入および搬出が行われる第１搬入出ステージにおいて、前記浮上ステージによって浮上した前記第１基板を保持して前記浮上ステージに沿って移動させる第１搬送部に前記第１基板を渡す第１搬入工程と、
前記浮上ステージの前記搬送方向における他端に位置し、前記第２基板の搬入および搬出が行われる第２搬入出ステージにおいて、前記浮上ステージによって浮上した前記第２基板を保持して前記浮上ステージに沿って移動させる第２搬送部に前記第２基板を渡す第２搬入工程と、
前記第１搬入工程後、前記第１基板を保持した前記第１搬送部を移動させて、前記浮上ステージの上方に位置し機能液の液滴を吐出する吐出ヘッドの下方を通過させつつ前記第１基板に対し前記吐出ヘッドから前記機能液の液滴を吐出する第１描画工程と、
前記第１描画工程後、前記第１搬送部を前記第１搬入出ステージに戻して前記第１搬送部による前記第１基板の保持を解除する第１搬出工程と、
前記第１搬出工程後、または、前記第１搬出工程と並行して、前記第２基板を保持した前記第２搬送部を移動させて前記吐出ヘッドの下方を通過させつつ前記第２基板に対し前記吐出ヘッドから前記機能液の液滴を吐出する第２描画工程と、
前記第２描画工程後、前記第２搬送部を前記第２搬入出ステージに戻して前記第２搬送部による前記第２基板の保持を解除する第２搬出工程と
を含む、液滴吐出方法。
前記浮上ステージの前記搬送方向における他端に位置し、前記第２基板の搬入および搬出が行われる第２搬入出ステージにおいて、前記浮上ステージによって浮上した前記第２基板を保持して前記浮上ステージに沿って移動させる第２搬送部に前記第２基板を渡す第２搬入工程と、
前記第１搬入工程後、前記第１基板を保持した前記第１搬送部を移動させて、前記浮上ステージの上方に位置し機能液の液滴を吐出する吐出ヘッドの下方を通過させつつ前記第１基板に対し前記吐出ヘッドから前記機能液の液滴を吐出する第１描画工程と、
前記第１描画工程後、前記第１搬送部を前記第１搬入出ステージに戻して前記第１搬送部による前記第１基板の保持を解除する第１搬出工程と、
前記第１搬出工程後、または、前記第１搬出工程と並行して、前記第２基板を保持した前記第２搬送部を移動させて前記吐出ヘッドの下方を通過させつつ前記第２基板に対し前記吐出ヘッドから前記機能液の液滴を吐出する第２描画工程と、
前記第２描画工程後、前記第２搬送部を前記第２搬入出ステージに戻して前記第２搬送部による前記第２基板の保持を解除する第２搬出工程と
を含む、液滴吐出方法。
【請求項15】
第１基板および第２基板の搬送方向に沿って延在し、噴出する気体の圧力によって前記第１基板および前記第２基板を浮上させる浮上ステージの前記搬送方向における一端に位置し、前記第１基板の搬入および搬出が行われる第１搬入出ステージにおいて、前記浮上ステージによって浮上した前記第１基板を保持して前記浮上ステージに沿って移動させる第１搬送部に前記第１基板を渡す第１搬入手順と、
前記浮上ステージの前記搬送方向における他端に位置し、前記第２基板の搬入および搬出が行われる第２搬入出ステージにおいて、前記浮上ステージによって浮上した前記第２基板を保持して前記浮上ステージに沿って移動させる第２搬送部に前記第２基板を渡す第２搬入手順と、
前記第１搬入手順後、前記第１基板を保持した前記第１搬送部を移動させて、前記浮上ステージの上方に位置し機能液の液滴を吐出する吐出ヘッドの下方を通過させつつ前記第１基板に対し前記吐出ヘッドから前記機能液の液滴を吐出する第１描画手順と、
前記第１描画手順後、前記第１搬送部を前記第１搬入出ステージに戻して前記第１搬送部による前記第１基板の保持を解除する第１搬出手順と、
前記第１搬出手順後、または、前記第１搬出手順と並行して、前記第２基板を保持した前記第２搬送部を移動させて前記吐出ヘッドの下方を通過させつつ前記第２基板に対し前記吐出ヘッドから前記機能液の液滴を吐出する第２描画手順と、
前記第２描画手順後、前記第２搬送部を前記第２搬入出ステージに戻して前記第２搬送部による前記第２基板の保持を解除する第２搬出手順と
をコンピュータに実現させるプログラムが非一時的に記録された、コンピュータ読み取り可能な記憶媒体。
前記浮上ステージの前記搬送方向における他端に位置し、前記第２基板の搬入および搬出が行われる第２搬入出ステージにおいて、前記浮上ステージによって浮上した前記第２基板を保持して前記浮上ステージに沿って移動させる第２搬送部に前記第２基板を渡す第２搬入手順と、
前記第１搬入手順後、前記第１基板を保持した前記第１搬送部を移動させて、前記浮上ステージの上方に位置し機能液の液滴を吐出する吐出ヘッドの下方を通過させつつ前記第１基板に対し前記吐出ヘッドから前記機能液の液滴を吐出する第１描画手順と、
前記第１描画手順後、前記第１搬送部を前記第１搬入出ステージに戻して前記第１搬送部による前記第１基板の保持を解除する第１搬出手順と、
前記第１搬出手順後、または、前記第１搬出手順と並行して、前記第２基板を保持した前記第２搬送部を移動させて前記吐出ヘッドの下方を通過させつつ前記第２基板に対し前記吐出ヘッドから前記機能液の液滴を吐出する第２描画手順と、
前記第２描画手順後、前記第２搬送部を前記第２搬入出ステージに戻して前記第２搬送部による前記第２基板の保持を解除する第２搬出手順と
をコンピュータに実現させるプログラムが非一時的に記録された、コンピュータ読み取り可能な記憶媒体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本開示は、液滴吐出装置、液滴吐出方法および記憶媒体に関する。
【背景技術】
【0002】
従来、浮上ステージによって浮上させた基板を水平方向に搬送しつつ、基板の上方から機能液の液滴をインクジェット方式で吐出することにより、基板に対して描画を行う液滴吐出装置が知られている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0003】
【特許文献1】特開２０１８－１２６７１８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0004】
本開示は、生産性を向上させることができる技術を提供する。
【課題を解決するための手段】
【0005】
本開示の一態様による液滴吐出装置は、浮上ステージと、搬送部と、吐出ヘッドと、制御部とを備える。浮上ステージは、基板の搬送方向に沿って延在し、噴出する気体の圧力によって基板を浮上させる。搬送部は、浮上ステージによって浮上した基板を保持して浮上ステージに沿って移動させる。吐出ヘッドは、浮上ステージの上方に位置し、機能液の液滴を吐出する。制御部は、搬送部および吐出ヘッドを制御する。浮上ステージは、基板の搬入および搬出が行われる搬入出ステージを有する。制御部は、搬入出ステージにおいて基板を搬送部に渡す搬入処理と、その後、基板を保持した搬送部を移動させて吐出ヘッドの下方を通過させつつ基板に対し吐出ヘッドから機能液の液滴を吐出する描画処理と、その後、搬送部を搬入出ステージに戻して搬送部による基板の保持を解除する搬出処理とを実行する。
【発明の効果】
【0006】
本開示によれば、生産性を向上させることができる。
【図面の簡単な説明】
【0007】
【発明を実施するための形態】
【0008】
以下に、本開示による液滴吐出装置、液滴吐出方法および記憶媒体を実施するための形態（以下、「実施形態」と記載する）について図面を参照しつつ詳細に説明する。なお、この実施形態により本開示が限定されるものではない。また、各実施形態は、処理内容を矛盾させない範囲で適宜組み合わせることが可能である。また、以下の各実施形態において同一の部位には同一の符号を付し、重複する説明は省略される。
【0009】
また、以下に示す実施形態では、「一定」、「直交」、「垂直」あるいは「平行」といった表現が用いられる場合があるが、これらの表現は、厳密に「一定」、「直交」、「垂直」あるいは「平行」であることを要しない。すなわち、上記した各表現は、たとえば製造精度、設置精度などのずれを許容するものとする。
【0010】
また、以下参照する各図面では、説明を分かりやすくするために、互いに直交するＸ軸方向、Ｙ軸方向およびＺ軸方向を規定し、Ｚ軸正方向を鉛直上向き方向とする直交座標系を示す場合がある。また、鉛直軸を回転中心とする回転方向をθ方向と呼ぶ場合がある。
【0011】
（液滴吐出装置の構成）
まず、図１～図３を参照して、実施形態に係る液滴吐出装置の構成について説明する。図１は、実施形態に係る液滴吐出装置の模式的な斜視図である。図２は、実施形態に係る液滴吐出装置の模式的な平面図である。図３は、実施形態に係る液滴吐出装置の模式的な側面図である。なお、図１～図３では、液滴吐出装置が備える構成の一部を省略して示している場合がある。
まず、図１～図３を参照して、実施形態に係る液滴吐出装置の構成について説明する。図１は、実施形態に係る液滴吐出装置の模式的な斜視図である。図２は、実施形態に係る液滴吐出装置の模式的な平面図である。図３は、実施形態に係る液滴吐出装置の模式的な側面図である。なお、図１～図３では、液滴吐出装置が備える構成の一部を省略して示している場合がある。
【0012】
図１～図３に示すように、実施形態に係る液滴吐出装置１００は、基板Ｓを水平方向（ここでは、Ｙ軸方向）に搬送しつつ、基板Ｓの上方から機能液の液滴をインクジェット方式で吐出することにより基板Ｓの上面に所定パターンの描画を行う。
【0013】
実施形態に係る液滴吐出装置１００は、ベース１と、浮上ステージ２と、第１搬送部３＿１と、第２搬送部３＿２と、描画部４と、第１描画前フラッシング部５＿１と、第２描画前フラッシング部５＿２とを備える。また、液滴吐出装置１００は、第１パーティクルセンサ６＿１と、第２パーティクルセンサ６＿２と、第１撮像部７＿１と、第２撮像部７＿２と、メンテナンス部８と、定期フラッシング部９と、検査部１０とを備える。また、液滴吐出装置１００は、制御装置１０００を備える。
【0014】
液滴吐出装置１００は、基板Ｓを保持して搬送する搬送部を２つ備えている（第１搬送部３＿１および第２搬送部３＿２）。かかる液滴吐出装置１００は、これら２つの搬送部を用いて２枚の基板Ｓ（第１基板Ｓ１および第２基板Ｓ２）に対する一連の処理を並行して行うことができる。たとえば、液滴吐出装置１００は、第１搬送部３＿１を用いて第１基板Ｓ１に対する描画処理を行っている最中に、第２搬送部３＿２を用いて第２基板Ｓ２のアライメント処理を行うことができる。このようなことから、実施形態に係る液滴吐出装置１００によれば、生産性を高めることができる。
【0015】
第１基板Ｓ１および第２基板Ｓ２は、たとえば、フラットパネルディスプレイに用いられるガラス基板である。以下では、第１基板Ｓ１および第２基板Ｓ２を特に区別しない場合、これらを単に基板Ｓと呼称する。
【0016】
（ベース）
ベース１は、第１ベース１１と、第２ベース１２と、一対の第１ガイドレール１３，１３と、一対の第２ガイドレール１４，１４とを備える。
ベース１は、第１ベース１１と、第２ベース１２と、一対の第１ガイドレール１３，１３と、一対の第２ガイドレール１４，１４とを備える。
【0017】
第１ベース１１および第２ベース１２は、基板Ｓの搬送方向（ここでは、Ｙ軸方向）に沿って延在する。第１ベース１１および第２ベース１２の上面は水平面である。第１ベース１１は、第２ベース１２の上面に配置されている。第１ベース１１は、第２ベース１２と比較して、搬送方向と直交する方向（Ｘ軸方向）に幅狭である。
【0018】
一対の第１ガイドレール１３，１３は、第１ベース１１の上面に設けられる。一対の第１ガイドレール１３，１３は、搬送方向（Ｙ軸方向）に沿って延在している。一対の第１ガイドレール１３，１３は、搬送方向と直交する方向（Ｘ軸方向）に間隔をあけて配置される。
【0019】
一対の第２ガイドレール１４，１４は、第２ベース１２の上面に設けられる。具体的には、一対の第２ガイドレール１４，１４は、第２ベース１２の上面のうち、第１ベース１１の両側方、すなわち、搬送方向と直交する方向（Ｘ軸方向）における第１ベース１１の側方に設けられる。一対の第２ガイドレール１４，１４は、搬送方向（Ｙ軸方向）に沿って延在している。一対の第２ガイドレール１４，１４は、搬送方向と直交する方向（Ｘ軸方向）に間隔をあけて配置される。一対の第２ガイドレール１４，１４は、一対の第１ガイドレール１３，１３よりも短い。
【0020】
第１ベース１１および第２ベース１２は、搬送方向（Ｙ軸方向）に並ぶ複数のベース部材に分割されており、部分的に取り外したり、長さの異なる別のベース部材に交換したりすることが可能である。同様に、一対の第１ガイドレール１３，１３も、搬送方向（Ｙ軸方向）に並ぶ複数のレール部材に分割されており、部分的に取り外したり、長さの異なる別のレール部材に交換したりすることが可能である。
【0021】
（浮上ステージ）
浮上ステージ２は、一対の第１ガイドレール１３，１３の間に配置される。浮上ステージ２は、基板Ｓの下方から基板Ｓに向けて気体を噴出し、噴出する気体の圧力によって基板Ｓを浮上させる。かかる浮上ステージ２は、第１搬入出ステージ２１と、第２搬入出ステージ２２と、第１処理ステージ２３と、第２処理ステージ２４と、第１搬送ステージ２５と、第２搬送ステージ２６と、第３処理ステージ２７とを備える。これらは、Ｙ軸正方向に沿って第１搬入出ステージ２１、第１処理ステージ２３、第１搬送ステージ２５、第３処理ステージ２７、第２搬送ステージ２６、第２処理ステージ２４および第２搬入出ステージ２２の順に配置される。
浮上ステージ２は、一対の第１ガイドレール１３，１３の間に配置される。浮上ステージ２は、基板Ｓの下方から基板Ｓに向けて気体を噴出し、噴出する気体の圧力によって基板Ｓを浮上させる。かかる浮上ステージ２は、第１搬入出ステージ２１と、第２搬入出ステージ２２と、第１処理ステージ２３と、第２処理ステージ２４と、第１搬送ステージ２５と、第２搬送ステージ２６と、第３処理ステージ２７とを備える。これらは、Ｙ軸正方向に沿って第１搬入出ステージ２１、第１処理ステージ２３、第１搬送ステージ２５、第３処理ステージ２７、第２搬送ステージ２６、第２処理ステージ２４および第２搬入出ステージ２２の順に配置される。
【0022】
第１搬入出ステージ２１は、浮上ステージ２の搬送方向（Ｙ軸方向）における一端に配置される。第１搬入出ステージ２１では、第１基板Ｓ１の搬入および搬出が行われる。第２搬入出ステージ２２は、浮上ステージ２の搬送方向（Ｙ軸方向）における他端に配置される。第２搬入出ステージ２２では、第２基板Ｓ２の搬入および搬出が行われる。
【0023】
第１搬入出ステージ２１、第２搬入出ステージ２２、第１搬送ステージ２５および第２搬送ステージ２６は、上方に向けて圧縮された気体（たとえば、空気）を噴出する複数の噴出口を有する。
【0024】
第１処理ステージ２３、第２処理ステージ２４、第３処理ステージ２７は、上方に向けて圧縮された気体を噴出する複数の噴出口に加え、気体を吸引する複数の吸引口を備えている。第１処理ステージ２３、第２処理ステージ２４および第３処理ステージ２７は、圧縮された気体を基板Ｓの下面に向けて噴出するとともに、基板Ｓおよびステージ間の空気を吸引することにより、基板Ｓの浮上高を高精度に調整することができる。
【0025】
第１搬入出ステージ２１、第２搬入出ステージ２２、第１処理ステージ２３、第２処理ステージ２４、第１搬送ステージ２５および第２搬送ステージ２６は、基板Ｓの搬送方向（Ｙ軸方向）に沿って延在する複数のステージ部材を有している。これら複数のステージ部材は、基板Ｓの搬送方向と直交する方向（Ｘ軸方向）に互いに間隔をあけて並べられている。
【0026】
（第１搬送部および第２搬送部）
第１搬送部３＿１は、浮上ステージ２によって浮上した第１基板Ｓ１を保持し、保持した第１基板Ｓ１を浮上ステージ２に沿って移動させる。第２搬送部３＿２は、浮上ステージ２によって浮上した第２基板Ｓ２を保持し、保持した第２基板Ｓ２を浮上ステージ２に沿って移動させる。第１搬送部３＿１は、第１搬入出ステージ２１および第２搬送ステージ２６間を往復移動可能である。また、第２搬送部３＿２は、第２搬入出ステージ２２および第１搬送ステージ２５間を往復移動可能である。
第１搬送部３＿１は、浮上ステージ２によって浮上した第１基板Ｓ１を保持し、保持した第１基板Ｓ１を浮上ステージ２に沿って移動させる。第２搬送部３＿２は、浮上ステージ２によって浮上した第２基板Ｓ２を保持し、保持した第２基板Ｓ２を浮上ステージ２に沿って移動させる。第１搬送部３＿１は、第１搬入出ステージ２１および第２搬送ステージ２６間を往復移動可能である。また、第２搬送部３＿２は、第２搬入出ステージ２２および第１搬送ステージ２５間を往復移動可能である。
【0027】
ここで、第１搬送部３＿１および第２搬送部３＿２の構成について説明する。第１搬送部３＿１および第２搬送部３＿２の構成は同様であるため、ここでは第１搬送部３＿１の構成について説明することとし、第２搬送部３＿２の構成の説明については省略する。
【0028】
【0029】
移動部３１は、第１ガイドレール１３上に設けられ、第１ガイドレール１３に沿って移動する。２つの移動部３１は、それぞれモータ等の駆動部を有しており、各々独立して移動することが可能である。なお、駆動部は、２つの移動部３１のうち一方にのみ設けられてもよい。
【0030】
４つの保持部３２は、２つの移動部３１上にそれぞれ設けられ、第１基板Ｓ１の下方から第１基板Ｓ１を保持する。具体的には、４つの保持部３２のうち２つは、２つの移動部３１のうち一方に設けられ、４つの保持部３２のうち残りの２つは、２つの移動部３１のうち他方に設けられる。４つの保持部３２は、第１基板Ｓ１の四隅を第１基板Ｓ１の下方から吸着保持する。第１基板Ｓ１は、４つの保持部３２によって四隅を吸着保持され、且つ、浮上ステージ２によって浮上した状態で、２つの移動部３１によって搬送される。
【0031】
ここで、保持部３２の構成について図５および図６を参照して説明する。図５は、実施形態に係る第１搬送部３＿１が有する保持部の模式的な平面図である。図６は、実施形態に係る第１搬送部３＿１が有する保持部の模式的な側面図である。
【0032】
【0033】
第１吸着部３２５は、第１基板Ｓ１を吸着保持する。具体的には、第１吸着部３２５は、複数の吸着パッド３２６を備える。複数の吸着パッド３２６は、水平方向（ここでは、Ｙ軸方向）に並んで設けられる。なお、ここでは、第１吸着部３２５が３つの吸着パッド３２６を備える場合の例を示しているが、吸着パッド３２６の数は、３つに限定されない。第１吸着部３２５は、複数の吸着パッド３２６によって、第１基板Ｓ１の下面を吸着する。これにより、第１基板Ｓ１は、第１吸着部３２５に保持される。
【0034】
ベース部３２０、第１調整部３２１、第２調整部３２２、回動部３２３およびアーム部３２４は、移動部３１に対する第１吸着部３２５の相対位置を調整する調整部の一例である。
【0035】
ベース部３２０は、移動部３１上に固定される。第１調整部３２１は、ベース部３２０上に設けられ、ベース部３２０上を搬送方向と直交する方向（Ｘ軸方向）に沿って移動可能である。第２調整部３２２は、第１調整部３２１上に設けられ、第１調整部３２１上を搬送方向（Ｙ軸方向）に沿って移動可能である。回動部３２３は、第２調整部３２２上に設けられ、鉛直軸（Ｚ軸）周りに回転可能である。アーム部３２４は、水平方向に延在する部材であり、基端部において回動部３２３に支持され、先端部において第１吸着部３２５を支持する。
【0036】
このように、保持部３２は、第１調整部３２１を搬送方向と直交する方向（Ｘ軸方向）に沿って移動させることにより、第１吸着部３２５を搬送方向と直交する方向（Ｘ軸方向）に移動させることができる。すなわち、第１調整部３２１は、移動部３１に対する第１吸着部３２５の位置を搬送方向と直交する方向（Ｘ軸方向）に沿って調整することができる。
【0037】
また、保持部３２は、第２調整部３２２を搬送方向（Ｙ軸方向）に沿って移動させることにより、第１吸着部３２５を搬送方向（Ｙ軸方向）に移動させることができる。すなわち、第２調整部３２２は、移動部３１に対する第１吸着部３２５の位置を搬送方向（Ｙ軸方向）に沿って調整することができる。
【0038】
また、調整部は、回動部３２３が鉛直軸（Ｚ軸）まわりに回動することにより、回動部３２３にアーム部３２４を介して支持された第１吸着部３２５を鉛直軸（Ｚ軸）まわりに回動させることができる。すなわち、回動部３２３は、移動部３１に対する第１吸着部３２５の位置を鉛直軸（Ｚ軸方向）を中心とする周方向に沿って調整することができる。
【0039】
第１調整部３２１および第２調整部３２２は、それぞれモータ等の駆動部を有しており、各々独立して移動することが可能である。一方、回動部３２３は、たとえば軸受であって、駆動部を有しておらず、第１調整部３２１および第２調整部３２２の動きに追従するように第１吸着部３２５を回動させる。なお、これに限らず、回動部３２３に駆動部が設けられてもよい。
【0040】
第１搬送部３＿１および第２搬送部３＿２は、同一の第１ガイドレール１３，１３に沿って移動する。このように、第１搬送部３＿１と第２搬送部３＿２とで第１ガイドレール１３，１３を共用することで、コストの増大やフットプリントの増大を抑えることができる。
【0041】
（描画部）
描画部４は、浮上ステージ２の上方に配置される。具体的には、描画部４は、第３処理ステージ２７の上方に配置される。描画部４は、基板Ｓの上方から基板Ｓに向けて機能液を吐出することにより、基板Ｓの上面に描画を行う。
描画部４は、浮上ステージ２の上方に配置される。具体的には、描画部４は、第３処理ステージ２７の上方に配置される。描画部４は、基板Ｓの上方から基板Ｓに向けて機能液を吐出することにより、基板Ｓの上面に描画を行う。
【0042】
【0043】
図７に示すように、描画部４は、第１キャリッジ群４１と、第２キャリッジ群４２と、第３キャリッジ群４３とを備える。第１キャリッジ群４１、第２キャリッジ群４２および第３キャリッジ群４３は、搬送方向（Ｙ軸方向）に沿って並べられる。
【0044】
第１キャリッジ群４１、第２キャリッジ群４２および第３キャリッジ群４３は、それぞれ複数（ここでは、６つ）のキャリッジ４０を含む。第１キャリッジ群４１、第２キャリッジ群４２および第３キャリッジ群４３の各々において、複数のキャリッジ４０は、搬送方向と直交する方向（Ｘ軸方向）に並べられている。
【0045】
第１キャリッジ群４１に属する複数のキャリッジ４０は、描画部４が備える第１梁部４５によって水平に支持される（図１参照）。第２キャリッジ群４２に属する複数のキャリッジ４０は、描画部４が備える第２梁部４６によって水平に支持される。第３キャリッジ群４３に属する複数のキャリッジ４０は、描画部４が備える第３梁部４７によって水平に支持される。
【0046】
第１梁部４５、第２梁部４６および第３梁部４７は、一対の支柱４８，４８によって支持される。一対の支柱４８，４８は、搬送方向と直交する方向（Ｘ軸方向）における第１梁部４５、第２梁部４６および第３梁部４７の両端部に設けられる。一対の支柱４８，４８は、第１梁部４５、第２梁部４６および第３梁部４７を昇降可能である。すなわち、一対の支柱４８，４８は、第１梁部４５、第２梁部４６および第３梁部４７を昇降させる昇降機構の一例である。具体的には、一対の支柱４８，４８は、基板Ｓに対する機能液の吐出が行われる処理位置と、処理位置より上方の退避位置との間で第１梁部４５、第２梁部４６および第３梁部４７を昇降させる。
【0047】
図８に示すように、キャリッジ４０は、たとえば平板状の部材である。キャリッジ４０には、複数の吐出ヘッド４００が設けられている。一例として、図８に示す例において、キャリッジ４０には、合計１２個の吐出ヘッド４００がＸ軸方向およびＹ軸方向に沿ってマトリクス状に設けられている。なお、ここでは、キャリッジ４０に１２個の吐出ヘッド４００が設けられる場合の例を示したが、吐出ヘッド４００の個数は、１２個より多くてもよいし少なくてもよい。
【0048】
吐出ヘッド４００は、第３処理ステージ２７の上方に位置し、機能液の液滴を吐出する。吐出ヘッド４００は、たとえばピエゾ方式のノズルヘッドである。吐出ヘッド４００の下面（基板Ｓとの対向面）には、複数のノズル４１０が形成される。複数のノズル４１０は、例えばＸ軸方向およびＹ軸方向に沿ってマトリクス状に設けられている。
【0049】
吐出ヘッド４００は、図示しないポンプ部を有する。ポンプ部は、機能液を貯めるキャビティ、キャビティの体積を変化させる圧電素子や振動板等を含んで構成され、圧電素子に電圧を印加して振動板を振動させることにより、キャビティの体積を変化させて各ノズル４１０から機能液の液滴を吐出させる。その他、吐出ヘッド４００には、供給チューブを介して機能液タンクに接続される機能液導入部や、フレキシブルフラットケーブルを介して制御装置１０００（図３参照）に接続されるヘッド基板等が設けられている。
【0050】
複数のキャリッジ４０は、搬送方向（Ｙ軸正方向）に沿って搬送される基板Ｓに対して複数の吐出ヘッド４００から機能液を吐出する。機能液は、たとえばインクである。
【0051】
実施形態において、第１キャリッジ群４１に属する複数の吐出ヘッド４００は、赤（Ｒ）のインクを吐出する。また、第２キャリッジ群４２に属する複数の吐出ヘッド４００は、緑（Ｇ）のインクを吐出し、第３キャリッジ群４３に属する複数の吐出ヘッド４００は、青（Ｂ）のインクを吐出する。
【0052】
（第１描画前フラッシング部および第２描画前フラッシング部）
一対の第１描画前フラッシング部５＿１，５＿１は、搬送方向（Ｙ軸方向）における第１搬送部３＿１の両端部に配置される。言い換えれば、一対の第１描画前フラッシング部５＿１，５＿１は、搬送方向（Ｙ軸方向）において第１搬送部３＿１を挟むように配置される。
一対の第１描画前フラッシング部５＿１，５＿１は、搬送方向（Ｙ軸方向）における第１搬送部３＿１の両端部に配置される。言い換えれば、一対の第１描画前フラッシング部５＿１，５＿１は、搬送方向（Ｙ軸方向）において第１搬送部３＿１を挟むように配置される。
【0053】
一対の第２描画前フラッシング部５＿２，５＿２は、搬送方向（Ｙ軸方向）における第２搬送部３＿２の両端部に配置される。言い換えれば、一対の第２描画前フラッシング部５＿２，５＿２は、搬送方向（Ｙ軸方向）において第２搬送部３＿２を挟むように配置される。
【0054】
図４に示すように、各第１描画前フラッシング部５＿１は、吐出ヘッド４００から吐出された機能液を受ける液受部５１と、液受部５１を搬送方向（Ｙ軸方向）に移動させる一対の移動部５２，５２とを備える。液受部５１は、搬送方向と直交する方向（Ｘ軸方向）に延在する長尺板状の部材である。液受部５１は、たとえば多孔質樹脂等の多孔質体で形成される。
【0055】
一対の移動部５２，５２は、一対の第１ガイドレール１３，１３上にそれぞれ設けられており、液受部５１を下方から水平に支持する。一対の移動部５２，５２は、それぞれモータ等の駆動部を有しており、一対の第１ガイドレール１３，１３に沿って移動可能である。すなわち、一対の移動部５２，５２は、液受部５１を第１搬送部３＿１と一体的に移動させることができる。なお、駆動部は、２つの移動部５２のうち一方にのみ設けられてもよい。また、一対の移動部５２は、一対の移動部３１が有する駆動部によって従動的に移動する構成であってもよい。この場合、一対の移動部５２は、いずれも駆動部を有していなくてもよい。
【0056】
ここでは、第１描画前フラッシング部５＿１の構成について説明したが、第２描画前フラッシング部５＿２の構成も図４に示す第１描画前フラッシング部５＿１の構成と同様である。
【0057】
（第１パーティクルセンサおよび第２パーティクルセンサ）
第１パーティクルセンサ６＿１は、第１基板Ｓ１の上面に付着したパーティクルを検出する。具体的には、第１パーティクルセンサ６＿１は、第１ユニット６１と第２ユニット６２とを備える。第１ユニット６１は、搬送方向と直交する方向（Ｘ軸方向）における第１処理ステージ２３の一端に設けられる。第２ユニット６２は、搬送方向と直交する方向（Ｘ軸方向）における第１処理ステージ２３の他端に設けられる。すなわち、第１ユニット６１および第２ユニット６２は、搬送方向と直交する方向（Ｘ軸方向）において第１処理ステージ２３を挟むように対向配置される。このように、第１パーティクルセンサ６＿１は、搬送方向（Ｙ軸方向）において、第１搬入出ステージ２１と吐出ヘッド４００との間に配置される。すなわち、第１パーティクルセンサ６＿１は、第１搬入出ステージ２１よりもＹ軸正方向かつ吐出ヘッド４００よりもＹ軸負方向の位置に配置される。
第１パーティクルセンサ６＿１は、第１基板Ｓ１の上面に付着したパーティクルを検出する。具体的には、第１パーティクルセンサ６＿１は、第１ユニット６１と第２ユニット６２とを備える。第１ユニット６１は、搬送方向と直交する方向（Ｘ軸方向）における第１処理ステージ２３の一端に設けられる。第２ユニット６２は、搬送方向と直交する方向（Ｘ軸方向）における第１処理ステージ２３の他端に設けられる。すなわち、第１ユニット６１および第２ユニット６２は、搬送方向と直交する方向（Ｘ軸方向）において第１処理ステージ２３を挟むように対向配置される。このように、第１パーティクルセンサ６＿１は、搬送方向（Ｙ軸方向）において、第１搬入出ステージ２１と吐出ヘッド４００との間に配置される。すなわち、第１パーティクルセンサ６＿１は、第１搬入出ステージ２１よりもＹ軸正方向かつ吐出ヘッド４００よりもＹ軸負方向の位置に配置される。
【0058】
第１ユニット６１は投光部を有し、第２ユニット６２は受光部を有する。第１ユニット６１の投光部は、第２ユニット６２の受光部に向けて水平にレーザ光を照射する。第２ユニット６２の受光部は、第１ユニット６１の投光部から照射されたレーザ光を受光する。第１パーティクルセンサ６＿１は、受光したレーザ光の光量を後述する制御装置１０００へ出力する。制御装置１０００は、第１パーティクルセンサ６＿１から取得した検出結果に基づいて第１基板Ｓ１の上面に付着したパーティクルを検出する。
【0059】
第２パーティクルセンサ６＿２は、第２基板Ｓ２の上面に付着したパーティクルを検出する。具体的には、第２パーティクルセンサ６＿２は、第１ユニット６１と、第２ユニット６２とを備える。第１ユニット６１は、搬送方向と直交する方向（Ｘ軸方向）における第２処理ステージ２４の一端に設けられる。第２ユニット６２は、搬送方向と直交する方向（Ｘ軸方向）における第２処理ステージ２４の他端に設けられる。すなわち、第１ユニット６１および第２ユニット６２は、搬送方向と直交する方向（Ｘ軸方向）において第２処理ステージ２４を挟むように対向配置される。このように、第２パーティクルセンサ６＿２は、搬送方向（Ｙ軸方向）において、第２搬入出ステージ２２と吐出ヘッド４００との間に配置される。すなわち、第２パーティクルセンサ６＿２は、第２搬入出ステージ２２よりもＹ軸負方向かつ吐出ヘッド４００よりもＹ軸正方向の位置に配置される。
【0060】
第２パーティクルセンサ６＿２は、受光したレーザ光の光量を後述する制御装置１０００へ出力する。制御装置１０００は、第２パーティクルセンサ６＿２から取得した検出結果に基づいて第２基板Ｓ２の上面に付着したパーティクルを検出する。
【0061】
なお、第１ユニット６１は、投光部に加えて受光部を備えていてもよい。また、第２ユニット６２も、受光部に加えて投光部を備えていてもよい。
【0062】
（第１撮像部および第２撮像部）
第１撮像部７＿１は、たとえば第１搬送ステージ２５の上方に配置される。なお、第１撮像部７＿１は、第１処理ステージ２３の上方に配置されてもよい。第１撮像部７＿１は、少なくとも、第１搬入出ステージ２１と吐出ヘッド４００との間に配置されていればよい。第１撮像部７＿１は、機能液が吐出された後（描画後）の第１基板Ｓ１の上面を撮像する。具体的には、第１撮像部７＿１は、第３処理ステージ２７から第１搬入出ステージ２１に向かって移動中の第１基板Ｓ１の上面を撮像する。第１撮像部７＿１によって撮像された画像は、制御装置１０００に出力される。制御装置１０００は、第１撮像部７＿１によって撮像された画像に基づいて、第１基板Ｓ１の描画状態の良否を判定する。
第１撮像部７＿１は、たとえば第１搬送ステージ２５の上方に配置される。なお、第１撮像部７＿１は、第１処理ステージ２３の上方に配置されてもよい。第１撮像部７＿１は、少なくとも、第１搬入出ステージ２１と吐出ヘッド４００との間に配置されていればよい。第１撮像部７＿１は、機能液が吐出された後（描画後）の第１基板Ｓ１の上面を撮像する。具体的には、第１撮像部７＿１は、第３処理ステージ２７から第１搬入出ステージ２１に向かって移動中の第１基板Ｓ１の上面を撮像する。第１撮像部７＿１によって撮像された画像は、制御装置１０００に出力される。制御装置１０００は、第１撮像部７＿１によって撮像された画像に基づいて、第１基板Ｓ１の描画状態の良否を判定する。
【0063】
第２撮像部７＿２は、たとえば第２搬送ステージ２６の上方に配置される。なお、第２撮像部７＿２は、第２処理ステージ２４の上方に配置されてもよい。第２撮像部７＿２は、少なくとも、第２搬入出ステージ２２と吐出ヘッド４００との間に配置されていればよい。第２撮像部７＿２は、機能液が吐出された後（描画後）の第２基板Ｓ２の上面を撮像する。具体的には、第２撮像部７＿２は、第３処理ステージ２７から第２搬入出ステージ２２に向かって移動中の第２基板Ｓ２の上面を撮像する。第２撮像部７＿２によって撮像された画像は、制御装置１０００に出力される。制御装置１０００は、第２撮像部７＿２によって撮像された画像に基づいて、第２基板Ｓ２の描画状態の良否を判定する。
【0064】
（メンテナンス部、定期フラッシング部および検査部）
メンテナンス部８、定期フラッシング部９および検査部１０は、浮上ステージ２の上方に配置される。メンテナンス部８、定期フラッシング部９および検査部１０の各々は、搬送方向と直交する方向（Ｘ軸方向）における両端部を図示しない一対の支柱によって水平に支持されている。この支柱は、一対の第２ガイドレール１４，１４上に設けられており、図示しない駆動部によって一対の第２ガイドレール１４，１４に沿って移動可能である。すなわち、メンテナンス部８、定期フラッシング部９および検査部１０は、搬送方向に沿って往復移動可能である。
メンテナンス部８、定期フラッシング部９および検査部１０は、浮上ステージ２の上方に配置される。メンテナンス部８、定期フラッシング部９および検査部１０の各々は、搬送方向と直交する方向（Ｘ軸方向）における両端部を図示しない一対の支柱によって水平に支持されている。この支柱は、一対の第２ガイドレール１４，１４上に設けられており、図示しない駆動部によって一対の第２ガイドレール１４，１４に沿って移動可能である。すなわち、メンテナンス部８、定期フラッシング部９および検査部１０は、搬送方向に沿って往復移動可能である。
【0065】
図１に示すように、メンテナンス部８および定期フラッシング部９は、浮上ステージ２の上方かつ第１搬入出ステージ２１と第３処理ステージ２７との間の第１待機位置にて待機する。一方、検査部１０は、浮上ステージ２の上方かつ第２搬入出ステージ２２と第３処理ステージ２７との間の第２待機位置にて待機する。たとえば、第２待機位置は、第２搬送ステージ２６の上方であってもよい。すなわち、検査部１０は、第２搬送ステージ２６の上方にて待機していてもよい。かかる位置を第２待機位置とすることで、後述する検査処理に要する時間を短縮することができる。
【0066】
なお、上記の「第１搬入出ステージ２１（第２搬入出ステージ２２）と第３処理ステージ２７との間」は、「第１搬入出ステージ２１（第２搬入出ステージ２２）と吐出ヘッド４００との間」と言い換えてもよい。
【0067】
メンテナンス部８は、搬送方向（Ｙ軸方向）に沿って延在する第２ガイドレール１４，１４上を移動する。メンテナンス部８は、メンテナンス作業を行わない場合には、第１搬入出ステージ２１と第３処理ステージ２７との間の第１待機位置に配置されている。一方、メンテナンス部８は、メンテナンス作業を行う場合には、第１待機位置から第３処理ステージ２７と描画部４との間のメンテナンス位置に移動する。
【0068】
メンテナンス部８は、メンテナンス位置において、吸引処理およびワイピング処理を行う。吸引処理は、吐出ヘッド４００内に残存する機能液をノズル４１０から吸引することにより、吐出ヘッド４００から機能液を強制的に排出する処理である。ワインピング処理は、吸引処理後、吐出ヘッド４００のノズル面（下面）を払拭する処理である。
【0069】
メンテナンス部８は、予め設定されたタイミングで、吸引処理およびワイピング処理を行う。たとえば、メンテナンス部８は、１日に数回、吸引処理およびワイピング処理を行う。
【0070】
かかるメンテナンス部８の構成例について図９を参照して説明する。図９は、実施形態に係るメンテナンス部８の模式的な平面図である。図９に示すように、メンテナンス部８は、複数の吸引部８１と、複数のワイピング部８２とを備える。
【0071】
複数の吸引部８１は、たとえば搬送方向と直交する方向（Ｘ軸方向）におけるキャリッジ４０の数に応じて設けられる。すなわち、複数の吸引部８１は、複数のキャリッジ４０に対応して設けられる。複数の吸引部８１は、搬送方向（Ｙ軸方向）におけるキャリッジ４０の数に応じて搬送方向に３列設けられてもよい。各吸引部８１は、搬送方向および上下方向にそれぞれ移動可能である。各吸引部８１は、複数の吐出ヘッド４００から機能液を吸引する。
【0072】
各吸引部８１は、複数のキャップ８１１を備える。各キャップ８１１は、吐出ヘッド４００の数に対応して設けられ、上下方向において吐出ヘッド４００に対向可能となるように設けられる。
【0073】
各キャップ８１１は、吸引部８１が上下方向に移動することによって、対応する吐出ヘッド４００に密着可能である。各キャップ８１１は、吸引処理時に、対応する吐出ヘッド４００に密着し、対応する吐出ヘッド４００から吸引される機能液を受ける。吸引処理では、吐出ヘッド４００に密着したキャップ８１１内が吸引機構によって負圧にされることによって、吐出ヘッド４００内に残った機能液が吸引される。
【0074】
各吸引部８１は、メンテナンス部８の支持台８０に対し、搬送方向（Ｙ軸方向）に沿ってそれぞれ移動する。具体的には、各吸引部８１は、退避位置と吸引位置との間を搬送方向に沿ってそれぞれ移動する。退避位置は、各ワイピング部８２によってワイピング処理が行われるキャリッジ４０に対応する各吸引部８１が退避する位置である。退避位置は、各吸引部８１の基準位置でもある。吸引位置は、吸引処理およびワイピング処理を行う場合に、各キャップ８１１が、対応する吐出ヘッド４００の下方となる位置である。
【0075】
ワイピング部８２は、吸引処理によって機能液が吸引された各吐出ヘッド４００に対しワイピング処理を行う。すなわち、ワイピング部８２は、複数の吸引部８１によって機能液が吸引された複数の吐出ヘッド４００を払拭する。
【0076】
ワイピング部８２は、搬送方向と直交する方向（Ｘ軸方向）における支持台８０の両端にそれぞれ設けられる。すなわち、ワイピング部８２は、２つ設けられ、一方のワイピング部８２は、搬送方向と直交する方向（Ｘ軸方向）における支持台８０の一端に設けられ、他方のワイピング部８２は、搬送方向と直交する方向（Ｘ軸方向）における支持台８０の他端に設けられる。
【0077】
各ワイピング部８２は、搬送方向と直交する方向（Ｘ軸方向）に沿って移動可能である。各ワイピング部８２は、ロール部によってワイピングシート８２１を回転させながら移動することによって吐出ヘッド４００の先端に付着した機能液を払拭する。
【0078】
定期フラッシング部９は、第１基板Ｓ１および第２基板Ｓ２に対する機能液の吐出が行われていない期間において吐出ヘッド４００から機能液を吐出する定期フラッシング処理に用いられる。定期フラッシング処理は、予め設定されたタイミングで実行される。たとえば、定期フラッシング処理は、１日数回行われる。定期フラッシング部９は、定期フラッシング処理において吐出ヘッド４００から吐出された機能液を受ける。
【0079】
検査部１０は、上述した定期フラッシング処理とは異なるタイミングで実行される検査処理において吐出ヘッド４００から吐出された機能液をフィルムで受けて撮像部で撮像する。
【0080】
かかる検査部１０の構成について図１０および図１１を参照して説明する。図１０は、実施形態に係る定期フラッシング部９の模式的な平面図である。図１１は、実施形態に係る定期フラッシング部９の模式的な側面図である。
【0081】
図１０および図１１に示すように、定期フラッシング部９は、ベース部９０と、ベース部９０上に配置された液受部９１とを備える。ベース部９０は、上述した一対の支柱によって水平に支持されており、一対の第２ガイドレール１４，１４に沿って移動可能である。液受部９１は、たとえば多孔質状の樹脂等で構成されており、複数の吐出ヘッド４００から吐出される機能液を受ける。液受部９１には、図示しない排液管が接続されており、液受部９１によって受け止められた機能液は、排液管を介して排出される。
【0082】
図１２は、実施形態に係る検査部１０の模式的な平面図である。図１３は、実施形態に係る検査部１０の模式的な側面図である。検査部１０は、ベース部１０１と、複数（ここでは、３つ）のフィルム１０２と、複数の第３撮像部１０３（図２および図３参照）とを備える。
【0083】
ベース部１０１は、上述した一対の支柱によって水平に支持されており、一対の第２ガイドレール１４，１４に沿って移動可能である。複数（ここでは、３つ）のフィルム１０２は、ベース部１０１上に搬送方向（Ｙ軸方向）に沿って並べて配置される。複数のフィルム１０２は、第１キャリッジ群４１、第２キャリッジ群４２および第３キャリッジ群４３にそれぞれ対応している。
【0084】
複数のフィルム１０２は、それぞれ材質が異なっていてもよい。たとえば、複数のフィルム１０２は、受ける機能液の種類に適した材質（たとえば、親水性の有無や表面粗さ等）のものが選定されてもよい。
【0085】
【0086】
制御装置１０００は、検査部１０を制御して、ベース部１０１を描画部４の下方に配置させる。つづいて、制御装置１０００は、描画部４を制御して、複数のフィルム１０２に対して機能液を吐出させる。つづいて、制御装置１０００は、検査部１０のベース部１０１を第３撮像部１０３の下方に位置させる。そして、制御装置１０００は、第３撮像部１０３を制御して、フィルム１０２を上方から撮像する。第３撮像部１０３による撮像結果は、制御装置１０００に出力され、制御装置１０００によって、機能液が正常に吐出されているか否かが判定される。
【0087】
検査部１０による検査処理は、たとえば、描画部４によって基板Ｓに対する描画処理が終了する毎に行われる。なお、これに限らず、検査処理は、たとえば、第１基板Ｓ１に対する描画処理が終了し、引き続き行われる第２基板Ｓ２に対する描画処理が終了した後に行われてもよい。また、検査処理は、たとえば、複数の（３枚以上の）基板Ｓに対する描画処理が終了した後に行われてもよい。
【0088】
（その他の構成）
液滴吐出装置１００は、複数の第１プリアライメント機構１５＿１と、複数の第２プリアライメント機構１５＿２とを備える。
液滴吐出装置１００は、複数の第１プリアライメント機構１５＿１と、複数の第２プリアライメント機構１５＿２とを備える。
【0089】
複数の第１プリアライメント機構１５＿１は、第１搬入出ステージ２１に配置される。具体的には、複数の第１プリアライメント機構１５＿１は、第１基板Ｓ１が第１搬入出ステージ２１に位置している場合に、かかる第１基板Ｓ１の四隅に配置される。図２に示す例においては、第１基板Ｓ１の１辺に対して第１プリアライメント機構１５＿１が２つ配置されている。これら２つの第１プリアライメント機構１５＿１は、第１基板Ｓ１の１辺における角部の周辺に配置される。
【0090】
各第１プリアライメント機構１５＿１は、水平方向（Ｘ軸方向またはＹ軸方向）に沿って移動可能である。具体的には、搬送方向（Ｙ軸方向）において第１基板Ｓ１と隣接する４つの第１プリアライメント機構１５＿１は、搬送方向に沿って水平移動可能である。また、搬送方向と直交する方向（Ｘ軸方向）において第１基板Ｓ１と隣接する４つの第１プリアライメント機構１５＿１は、搬送方向と直交する方向に沿って水平移動可能である。また、各第１プリアライメント機構１５＿１は、昇降可能である。
【0091】
複数の第２プリアライメント機構１５＿２は、第２搬入出ステージ２２に配置される。具体的には、複数の第２プリアライメント機構１５＿２は、第２基板Ｓ２が第２搬入出ステージ２２に位置している場合に、かかる第２基板Ｓ２の四隅に配置される。図２に示す例においては、第２基板Ｓ２の１辺に対して第２プリアライメント機構１５＿２が２つ配置されている。これら２つの第２プリアライメント機構１５＿２は、第２基板Ｓ２の１辺における角部の周辺に配置される。
【0092】
各第２プリアライメント機構１５＿２は、水平方向（Ｘ軸方向またはＹ軸方向）に沿って移動可能である。具体的には、搬送方向（Ｙ軸方向）において第２基板Ｓ２と隣接する４つの第２プリアライメント機構１５＿２は、搬送方向に沿って水平移動可能である。また、搬送方向と直交する方向（Ｘ軸方向）において第２基板Ｓ２と隣接する４つの第１プリアライメント機構１５＿１は、搬送方向と直交する方向に沿って水平移動可能である。また、各第２プリアライメント機構１５＿２は、昇降可能である。
【0093】
複数の第１プリアライメント機構１５＿１は、プリアライメント処理に用いられる。プリアライメント処理は、後述する第１移載装置１７＿１から第１搬送部３＿１に移載された後、第１基板Ｓ１が第１搬送部３＿１によって保持される前に、第１基板Ｓ１の位置を整える処理である。具体的には、プリアライメント処理では、複数の第１プリアライメント機構１５＿１が、第１基板Ｓ１に近付くように水平方向（Ｘ軸方向またはＹ方向）に移動することで、第１搬送部３＿１に対する第１基板Ｓ１の位置をある程度整えることができる。複数の第２プリアライメント機構１５＿２は、第２基板Ｓ２に対するプリアライメント処理に用いられる。
【0094】
液滴吐出装置１００は、複数の第１アライメントカメラ１６＿１と、複数の第２アライメントカメラ１６＿２とを備える。
【0095】
複数（ここでは、２つ）の第１アライメントカメラ１６＿１は、第１搬入出ステージ２１の下方に配置される。具体的には、各第１アライメントカメラ１６＿１は、平面視において、第１搬入出ステージ２１が備える２つのステージ部材の間に配置され、これら２つのステージ部材の間から第１基板Ｓ１を撮像する。
【0096】
複数（ここでは、２つ）の第２アライメントカメラ１６＿２は、第２搬入出ステージ２２の下方に配置される。具体的には、各第２アライメントカメラ１６＿２は、平面視において、第２搬入出ステージ２２が備える２つのステージ部材の間に配置され、これら２つのステージ部材の間から第２基板Ｓ２を撮像する。
【0097】
複数の第１アライメントカメラ１６＿１は、本アライメント処理に用いられる。本アライメント処理は、プリアライメント処理後、第１搬送部３＿１によって保持された第１基板Ｓ１の位置を精度良く調整する処理である。具体的には、アライメント処理では、複数の第１アライメントカメラ１６＿１が第１基板Ｓ１に設けられたアライメントマークを撮像する。そして、制御装置１０００が、複数の第１アライメントカメラ１６＿１によって撮像された画像に基づいて、各保持部３２の第１調整部３２１および第２調整部３２２を駆動させることにより、移動部３１に対する第１基板Ｓ１の位置を調整する。複数の第２アライメントカメラ１６＿２は、第２基板Ｓ２に対する本アライメント処理に用いられる。
【0098】
液滴吐出装置１００は、第１移載装置１７＿１と、第２移載装置１７＿２とを備える。第１移載装置１７＿１および第２移載装置１７＿２は、たとえば水平多関節ロボットである。第１移載装置１７＿１は、第１搬入出ステージ２１に対する第１基板Ｓ１の搬入出を行う。第２移載装置１７＿２は、第２搬入出ステージ２２に対する第２基板Ｓ２の搬入出を行う。
【0099】
図２に示す例において、第１移載装置１７＿１は、搬送方向（Ｙ軸方向）において第１搬入出ステージ２１に隣接する位置（第１搬入出ステージ２１の第１移載位置）に配置される。同様に、第２移載装置１７＿２は、搬送方向（Ｙ軸方向）において第２搬入出ステージ２２に隣接する位置（第２搬入出ステージ２２の第１移載位置）に配置される。なお、第１移載装置１７＿１および第２移載装置１７＿２の設置場所は、図２に示す例に限定されない。この点については後述する。
【0100】
また、液滴吐出装置１００は、制御装置１０００を備える。制御装置１０００は、たとえばコンピュータであり、制御部１００１と記憶部１００２とを備える。記憶部１００２には、液滴吐出装置１００において実行される各種の処理を制御するプログラム（液滴吐出プログラムの一例）が格納される。制御部１００１は、記憶部１００２に記憶されたプログラムを読み出して実行することによって液滴吐出装置１００の動作を制御する。
【0101】
なお、かかるプログラムは、コンピュータによって読み取り可能な記憶媒体に記録されていたものであって、記憶媒体から制御装置１０００の記憶部１００２にインストールされたものであってもよい。コンピュータによって読み取り可能な記憶媒体は、上記プログラムおよびかかるプログラムによって使用されるデータなどを非一時的に記録する媒体である。このような記憶媒体としては、たとえばハードディスク（ＨＤ）、フレキシブルディスク（ＦＤ）、コンパクトディスク（ＣＤ）、マグネットオプティカルディスク（ＭＯ）、メモリカードなどがある。
【0102】
（液滴吐出装置の具体的な動作）
次に、上述した液滴吐出装置１００の具体的な動作について図１４および図１５～図２１を参照して具体的に説明する。図１４は、実施形態に係る液滴吐出装置１００が実行する処理の手順を示すフローチャートである。また、図１５～図２１は、実施形態に係る液滴吐出装置１００の動作例を示す模式図である。なお、図１４に示す各処理手順は、制御装置１０００による制御に従って実行される。
次に、上述した液滴吐出装置１００の具体的な動作について図１４および図１５～図２１を参照して具体的に説明する。図１４は、実施形態に係る液滴吐出装置１００が実行する処理の手順を示すフローチャートである。また、図１５～図２１は、実施形態に係る液滴吐出装置１００の動作例を示す模式図である。なお、図１４に示す各処理手順は、制御装置１０００による制御に従って実行される。
【0103】
図１４に示すように、液滴吐出装置１００では、まず、第１搬入処理が行われる（ステップＳ１０１）。第１搬入処理は、第１搬入出ステージ２１において第１基板Ｓ１を第１移載装置１７＿１から第１搬送部３＿１に渡す処理である。第１搬入処理の開始時において、第１搬送部３＿１は、第１搬入出ステージ２１に配置されている。
【0104】
第１搬入処理では、まず、第１移載装置１７＿１から第１搬送部３＿１に第１基板Ｓ１が受け渡される。具体的には、第１搬入出ステージ２１には図示しない昇降ピンが設けられており、第１移載装置１７＿１は、かかる昇降ピンに第１基板Ｓ１を載置する。その後、昇降ピンが降下することにより、昇降ピンから第１搬送部３＿１の保持部３２に第２基板Ｓ２が渡される。
【0105】
つづいて、第１プリアライメント処理が行われる（ステップＳ１０２）。第１プリアライメント処理において、制御装置１０００は、複数の第１プリアライメント機構１５＿１を駆動させることにより第１基板Ｓ１の位置を調整する。
【0106】
つづいて、第１保持処理が行われる（ステップＳ１０３）。第１保持処理において、制御装置１０００は、第１搬送部３＿１を制御して、各保持部３２の第１吸着部３２５に第１基板Ｓ１を吸着保持させる。
【0107】
つづいて、第１本アライメント処理が行われる（ステップＳ１０４）。第１本アライメント処理は、第１アライメントカメラ１６＿１によって撮像されたアライメントマークの画像に基づいて第１搬送部３＿１の調整部を制御して、第１基板Ｓ１の水平面内における姿勢を調整する処理である。第１本アライメント処理において、制御装置１０００は、複数の第１アライメントカメラ１６＿１を用いて第１基板Ｓ１に設けられたアライメントマークを撮像する。その後、制御装置１０００は、第１搬送部３＿１が備える複数の保持部３２の第１調整部３２１および第２調整部３２２を制御して、第１基板Ｓ１の位置を調整する。
【0108】
つづいて、第１パーティクル検出処理が行われる（ステップＳ１０５）。第１パーティクル検出処理において、制御装置１０００は、第１搬送部３＿１の移動部３１を制御して、第１基板Ｓ１を第１搬入出ステージ２１から第１搬送ステージ２５に向けて、すなわちＹ軸正方向に移動させる。つづいて、制御装置１０００は、第１処理ステージ２３を通過する第１基板Ｓ１に対して第１パーティクルセンサ６＿１からレーザ光を照射させる。そして、制御装置１０００は、受光部によって受光されたレーザ光の光量に基づいて第１基板Ｓ１の上面に付着したパーティクルを検出する（図１６参照）。
【0109】
つづいて、第１描画処理が行われる（ステップＳ１０６）。第１描画処理は、第１基板Ｓ１を保持した第１搬送部３＿１を移動させて吐出ヘッド４００の下方を通過させつつ第１基板Ｓ１に対し吐出ヘッド４００から機能液の液滴を吐出する処理である。実施形態において制御装置１０００は、第１搬送ステージ２５と第２搬送ステージ２６との間で第１搬送部３＿１を２回往復させつつ、往路および復路の各々において描画部４から機能液の液滴を吐出させる（図１７～図２０）。第１搬送ステージ２５は、第１搬入出ステージ２１と吐出ヘッド４００のとの間の第１位置の一例である。第２搬送ステージ２６は、吐出ヘッド４００と第２搬入出ステージ２２との間の第２位置の一例である。
【0110】
液滴吐出装置１００では、第１基板Ｓ１に対する第１描画処理と並行して、第２基板Ｓ２に対する第２搬入処理、第２プリアライメント処理、第２保持処理、第２本アライメント処理および第２パーティクル検出処理が行われる（ステップＳ１０７～Ｓ１１１）。第２搬入処理（ステップＳ１０７）および第２プリアライメント処理（ステップＳ１０８）は、上述した第１搬入処理および第１プリアライメント処理と同様の処理である。第２保持処理（ステップＳ１０９）、第２本アライメント処理（ステップＳ１１０）および第２パーティクル検出処理（ステップＳ１１１）は、上述した第１保持処理、第１本アライメント処理および第１パーティクル検出処理と同様の処理である。
【0111】
たとえば、第２基板Ｓ２に対する第２搬入処理、第２プリアライメント処理、第２保持処理および第２本アライメント処理は、第１基板Ｓ１に対する１回目の往復移動および２回目の往路の移動中に行われる（図１７～図１９参照）。そして、その後の第２基板Ｓ２に対する第２パーティクル検出処理は、第１基板Ｓ１に対する２回目の復路の移動中に行われる。すなわち、制御装置１０００は、第１描画処理における第１搬送部３＿１の第１搬送ステージ２５への移動と同期して、第２パーティクル検出処理（および第２描画処理）における第２搬送部３＿２の第２搬送ステージ２６への移動を開始させる（図２０参照）。
【0112】
このように、制御装置１０００は、第１描画処理と並行して、第２プリアライメント処理および第２本アライメント処理を行う。
【0113】
なお、これに限らず、制御装置１０００は、第１描画処理後、第２描画処理前に、検査部１０による検査処理を行ってもよい。この場合、制御装置１０００は、第１搬出処理後に第２搬出処理を行ってもよい。
【0114】
つづいて、第１描画判定処理が行われる（ステップＳ１１２）。第１描画判定処理において、制御装置１０００は、第１搬送部３＿１を制御して第１基板Ｓ１を第１搬送ステージ２５から第１搬入出ステージ２１へ移動させつつ、第１撮像部７＿１を制御して移動中の第１基板Ｓ１の上面を撮像する。制御装置１０００は、第１撮像部７＿１によって撮像された画像に基づいて、第１基板Ｓ１の描画状態の良否を判定する。
【0115】
つづいて、第１搬出処理が行われる（ステップＳ１１３）。第１搬出処理は、第１搬送部３＿１を第１搬入出ステージ２１に戻して保持部３２による第１基板Ｓ１の保持を解除し、第１搬出処理において、制御装置１０００は、第１搬送部３＿１による第１基板Ｓ１の吸着保持を解除する。その後、制御装置１０００は、第１移載装置１７＿１を制御して、第１搬送部３＿１から図示しない昇降ピン経由で第１基板Ｓ１を受け取る。
【0116】
液滴吐出装置１００では、第１基板Ｓ１に対する第１描画判定処理および第１搬出処理と並行して、第２基板Ｓ２に対する第２描画処理が行われる（ステップＳ１１４）。第２基板Ｓ２に対する第２描画処理は、第２基板Ｓ２を保持した第２搬送部３＿２を移動させて吐出ヘッド４００の下方を通過させつつ第２基板Ｓ２に対し吐出ヘッド４００から機能液の液滴を吐出する処理である。第２描画処理は、上述した第１基板Ｓ１に対する第１描画処理と同様である（図２１参照）。すなわち、制御装置１０００は、第２搬送ステージ２６（第２位置の一例）と第１搬送ステージ２５（第１位置の一例）との間で第２搬送部３＿２を２回往復させつつ、往路および復路の各々において描画部４から機能液の液滴を吐出させる。
【0117】
その後、第２基板Ｓ２に対する第２描画判定処理（ステップＳ１１５）および第２搬出処理（ステップＳ１１６）が行われて、第１基板Ｓ１および第２基板Ｓ２に対する一連の処理が終了する。なお、第２基板Ｓ２に対する第２描画判定処理および第２搬出処理は、第１基板Ｓ１に対する第１描画判定処理および第１搬出処理と同様である。
【0118】
このように、実施形態に係る液滴吐出装置１００は、２つの搬送部（第１搬送部３＿１および第２搬送部３＿２）を備えることで、第１基板Ｓ１に対する処理と並行して第２基板Ｓ２に対する処理を行うことができる。具体的には、液滴吐出装置１００は、第１基板Ｓ１に対する描画処理（第１描画処理）と並行して、第２基板Ｓ２に対する搬入処理（第２搬入処理）およびアライメント処理（第２プリアライメントおよび第２本アライメント処理）を行うことができる。これにより、実施形態にかかる液滴吐出装置１００は、複数の基板Ｓを連続的に処理する場合のトータルの処理時間を短縮することができる。したがって、実施形態に係る液滴吐出装置１００によれば、生産性を向上させることができる。
【0119】
（第１変形例）
第１移載装置１７＿１および第２移載装置１７＿２の配置は、図２に示す例に限定されない。図２２は、第１変形例における第１移載装置１７＿１および第２移載装置１７＿２の配置の一例を示す図である。図２３は、第１変形例における第１移載装置１７＿１および第２移載装置１７＿２の配置の他の一例を示す図である。
第１移載装置１７＿１および第２移載装置１７＿２の配置は、図２に示す例に限定されない。図２２は、第１変形例における第１移載装置１７＿１および第２移載装置１７＿２の配置の一例を示す図である。図２３は、第１変形例における第１移載装置１７＿１および第２移載装置１７＿２の配置の他の一例を示す図である。
【0120】
図２２および図２３に示すように、第１搬入出ステージ２１および第２搬入出ステージ２２の各々から見て搬送方向（Ｙ軸方向）に隣接する位置を第１移載位置Ｐ１とする。また、第１搬入出ステージ２１および第２搬入出ステージ２２の各々から見て搬送方向と直交する方向（Ｘ軸方向）に隣接する２つの位置のうち一方を第２移載位置Ｐ２とし他方を第３移載位置Ｐ３とする。ここでは、第１搬入出ステージ２１および第２搬入出ステージ２２に対してＸ軸負方向側に位置する移載位置を第２移載位置Ｐ２とし、第１搬入出ステージ２１および第２搬入出ステージ２２に対してＸ軸正方向側に位置する移載位置を第３移載位置Ｐ３としている。
【0121】
図２２に示すように、液滴吐出装置１００は、第１移載装置１７＿１が第１搬入出ステージ２１に対する第１移載位置Ｐ１に配置されている場合に、第２移載装置１７＿２が第２搬入出ステージ２２に対する第３移載位置Ｐ３に配置されてもよい。
【0122】
また、図２３に示すように、液滴吐出装置１００は、第１移載装置１７＿１が第１搬入出ステージ２１に対する第２移載位置Ｐ２に配置されている場合に、第２移載装置１７＿２が第２搬入出ステージ２２に対する第３移載位置Ｐ３に配置されてもよい。
【0123】
このように、第１移載装置１７＿１は、第１搬入出ステージ２１に対する第１移載位置Ｐ１、第２移載位置Ｐ２および第３移載位置Ｐ３のうちいずれかの移載位置に配置される場合に、第２移載装置１７は、第２搬入出ステージ２２に対する第１移載位置Ｐ１、第２移載位置Ｐ２および第３移載位置Ｐ３のうち、第１移載装置１７が配置される移載位置とは異なる移載位置に配置されてもよい。
【0124】
なお、これに限らず、たとえば、第１移載装置１７＿１が第１搬入出ステージ２１に対する第２移載位置Ｐ２に配置される場合に、第２移載装置１７＿２も第２搬入出ステージ２２に対する第２移載位置Ｐ２に配置されてもよい。同様に、第１移載装置１７＿１が第１搬入出ステージ２１に対する第３移載位置Ｐ３に配置される場合に、第２移載装置１７＿２も第２搬入出ステージ２２に対する第３移載位置Ｐ３に配置されてもよい。
【0125】
（第２変形例）
図２４は、第２変形例に係る液滴吐出装置１００の模式的な斜視図である。図２４に示すように、第２変形例に係る液滴吐出装置１００は、図１に示す液滴吐出装置１００から第１基板Ｓ１の処理に用いられる構成を取り外したものである。具体的には、第２変形例に係る液滴吐出装置１００は、図１に示す液滴吐出装置１００から第１搬入出ステージ２１、第１処理ステージ２３、第１搬送部３＿１および第１描画前フラッシング部５＿１が取り外されている。同様に、第２変形例に係る液滴吐出装置１００は、図１に示す液滴吐出装置１００から第１撮像部７＿１、第１プリアライメント機構１５＿１、第１アライメントカメラ１６＿１および第１移載装置１７＿１が取り外されている。
図２４は、第２変形例に係る液滴吐出装置１００の模式的な斜視図である。図２４に示すように、第２変形例に係る液滴吐出装置１００は、図１に示す液滴吐出装置１００から第１基板Ｓ１の処理に用いられる構成を取り外したものである。具体的には、第２変形例に係る液滴吐出装置１００は、図１に示す液滴吐出装置１００から第１搬入出ステージ２１、第１処理ステージ２３、第１搬送部３＿１および第１描画前フラッシング部５＿１が取り外されている。同様に、第２変形例に係る液滴吐出装置１００は、図１に示す液滴吐出装置１００から第１撮像部７＿１、第１プリアライメント機構１５＿１、第１アライメントカメラ１６＿１および第１移載装置１７＿１が取り外されている。
【0126】
また、上述したように、第１ベース１１は、複数のベース部材に分割されており、第１搬入出ステージ２１の下方に位置するベース部材も液滴吐出装置１００から取り外されている。同様に、一対の第１ガイドレール１３，１３は複数のレール部材に分割されており、第１搬入出ステージ２１の側方に位置するレール部材も液滴吐出装置１００から取り外されている。
【0127】
ここでは、第１搬入出ステージ２１および第１搬送部３＿１が液滴吐出装置１００に対して着脱自在である場合の例を示した。これに限らず、第２搬入出ステージ２２および第２搬送部３＿２が液滴吐出装置１００に対して着脱自在であってもよい。このように、第１搬入出ステージ２１および第１搬送部３、ならびに、第２搬入出ステージ２２および第２搬送部３の少なくとも一方は、液滴吐出装置１００に対して着脱自在であってもよい。言い換えれば、液滴吐出装置１００は、基板Ｓ（ここでは、第２基板Ｓ２）の搬入および搬出が行われる搬入出ステーション（ここでは、第２搬入出ステージ２２）を１つ備える構成であってもよい。
【0128】
上述してきたように、実施形態に係る液滴吐出装置（一例として、液滴吐出装置１００）は、浮上ステージ（一例として、浮上ステージ２）と、搬送部（一例として、第１搬送部３＿１または第２搬送部３＿２）と、吐出ヘッド（一例として、吐出ヘッド４００）と、制御部（一例として、制御部１００１）とを備える。浮上ステージは、基板（一例として、第１基板Ｓ１または第２基板Ｓ２）の搬送方向に沿って延在し、噴出する気体の圧力によって基板を浮上させる。搬送部は、浮上ステージによって浮上した基板を保持して浮上ステージに沿って移動させる。吐出ヘッドは、浮上ステージの上方に位置し、機能液の液滴を吐出する。制御部は、搬送部および吐出ヘッドを制御する。浮上ステージは、基板の搬入および搬出が行われる搬入出ステージ（一例として、第１搬入出ステージ２１または第２搬入出ステージ２２）を有する。制御部は、搬入出ステージにおいて基板を搬送部に渡す搬入処理と、その後、基板を保持した搬送部を移動させて吐出ヘッドの下方を通過させつつ基板に対し吐出ヘッドから機能液の液滴を吐出する描画処理と、その後、搬送部を搬入出ステージに戻して搬送部による基板の保持を解除する搬出処理とを実行する。
【0129】
また、実施形態に係る液滴吐出装置（一例として、液滴吐出装置１００）は、浮上ステージ（一例として、浮上ステージ２）と、第１搬送部（一例として、第１搬送部３＿１）と、第２搬送部（一例として、第２搬送部３＿２）と、吐出ヘッド（一例として、吐出ヘッド４００）とを備える。浮上ステージは、第１基板（一例として、第１基板Ｓ１）および第２基板（一例として、第２基板Ｓ２）の搬送方向に沿って延在し、噴出する気体の圧力によって第１基板および第２基板を浮上させる。第１搬送部は、浮上ステージによって浮上した第１基板を保持して浮上ステージに沿って移動させる。第２搬送部は、浮上ステージによって浮上した第２基板を保持して浮上ステージに沿って移動させる。吐出ヘッドは、浮上ステージの上方に位置し、機能液の液滴を吐出する。浮上ステージは、搬送方向における一端に位置し、第１基板の搬入および搬出が行われる第１搬入出ステージと、搬送方向における他端に位置し、第２基板の搬入および搬出が行われる第２搬入出ステージとを備える。
【0130】
したがって、実施形態に係る液滴吐出装置によれば、生産性を向上させることができる。
【0131】
今回開示された実施形態は全ての点で例示であって制限的なものではないと考えられるべきである。実に、上記した実施形態は多様な形態で具現され得る。また、上記の実施形態は、添付の請求の範囲およびその趣旨を逸脱することなく、様々な形態で省略、置換、変更されてもよい。
【符号の説明】
【0132】
１ ベース
２ 浮上ステージ
３＿１ 第１搬送部
３＿２ 第２搬送部
４ 描画部
５＿１ 第１描画前フラッシング部
５＿２ 第２描画前フラッシング部
６＿１ 第１パーティクルセンサ
６＿２ 第２パーティクルセンサ
７＿１ 第１撮像部
７＿２ 第２撮像部
８ メンテナンス部
９ 定期フラッシング部
１０ 検査部
１３ 第１ガイドレール
１４ 第２ガイドレール
１５＿１ 第１プリアライメント機構
１５＿２ 第２プリアライメント機構
１６＿１ 第１アライメントカメラ
１６＿２ 第２アライメントカメラ
１７＿１ 第１移載装置
１７＿１ 第２移載装置
２１ 第１搬入出ステージ
２２ 第２搬入出ステージ
２３ 第１処理ステージ
２４ 第２処理ステージ
２５ 第１搬送ステージ
２６ 第２搬送ステージ
２７ 第３処理ステージ
３１ 移動部
３２ 保持部
４０ キャリッジ
４１ 第１キャリッジ群
４２ 第２キャリッジ群
４３ 第３キャリッジ群
１００ 液滴吐出装置
４００ 吐出ヘッド
１０００ 制御装置
１００１ 制御部
１００２ 記憶部
Ｓ１ 第１基板
Ｓ２ 第２基板
２ 浮上ステージ
３＿１ 第１搬送部
３＿２ 第２搬送部
４ 描画部
５＿１ 第１描画前フラッシング部
５＿２ 第２描画前フラッシング部
６＿１ 第１パーティクルセンサ
６＿２ 第２パーティクルセンサ
７＿１ 第１撮像部
７＿２ 第２撮像部
８ メンテナンス部
９ 定期フラッシング部
１０ 検査部
１３ 第１ガイドレール
１４ 第２ガイドレール
１５＿１ 第１プリアライメント機構
１５＿２ 第２プリアライメント機構
１６＿１ 第１アライメントカメラ
１６＿２ 第２アライメントカメラ
１７＿１ 第１移載装置
１７＿１ 第２移載装置
２１ 第１搬入出ステージ
２２ 第２搬入出ステージ
２３ 第１処理ステージ
２４ 第２処理ステージ
２５ 第１搬送ステージ
２６ 第２搬送ステージ
２７ 第３処理ステージ
３１ 移動部
３２ 保持部
４０ キャリッジ
４１ 第１キャリッジ群
４２ 第２キャリッジ群
４３ 第３キャリッジ群
１００ 液滴吐出装置
４００ 吐出ヘッド
１０００ 制御装置
１００１ 制御部
１００２ 記憶部
Ｓ１ 第１基板
Ｓ２ 第２基板
【図1】
【図2】
【図3】
【図4】
【図5】
【図6】
【図7】
【図8】
【図9】
【図10】
【図11】
【図12】
【図13】
【図14】
【図15】
【図16】
【図17】
【図18】
【図19】
【図20】
【図21】
【図22】
【図23】
【図24】