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(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】公開特許公報(A)
(11)【公開番号】P2023159570
(43)【公開日】2023-11-01
(54)【発明の名称】光学積層体の屈曲耐久性の評価方法および光学積層体
(51)【国際特許分類】
G02B 1/14 20150101AFI20231025BHJP
G01N 3/34 20060101ALI20231025BHJP
B32B 7/023 20190101ALI20231025BHJP
B32B 7/12 20060101ALI20231025BHJP
【ＦＩ】
G02B1/14
G01N3/34 C
B32B7/023
B32B7/12
【審査請求】未請求
【請求項の数】7
【出願形態】ＯＬ
(21)【出願番号】P 2022069331
(22)【出願日】2022-04-20
(71)【出願人】
【識別番号】000002093
【氏名又は名称】住友化学株式会社
(71)【出願人】
【識別番号】503454506
【氏名又は名称】東友ファインケム株式会社
【氏名又は名称原語表記】ＤＯＮＧＷＯＯ ＦＩＮＥ－ＣＨＥＭ ＣＯ．， ＬＴＤ．
【住所又は居所原語表記】１３２， ＹＡＫＣＨＯＮ－ＲＯ， ＩＫＳＡＮ－ＳＩ， ＪＥＯＬＬＡＢＵＫ－ＤＯ ５４６３１， ＲＥＰＵＢＬＩＣ ＯＦ ＫＯＲＥＡ
(74)【代理人】
【識別番号】110001195
【氏名又は名称】弁理士法人深見特許事務所
(72)【発明者】
【氏名】柳 智熙
(72)【発明者】
【氏名】張 柱烈
(72)【発明者】
【氏名】林 ▲眠▼浩
【テーマコード（参考）】
2G061
2K009
4F100
【Ｆターム（参考）】
2G061AA07
2G061AB05
2G061BA15
2G061CA16
2G061CB01
2G061DA01
2G061EA03
2G061EB05
2G061EC02
2K009AA15
2K009BB22
2K009CC09
2K009CC24
4F100AK25
4F100AK49
4F100AR00A
4F100AR00B
4F100AR00C
4F100BA03
4F100BA07
4F100CA02
4F100EJ08
4F100EJ54
4F100GB48
4F100JB14
4F100JK04A
4F100JK04B
4F100JK04C
4F100JK07
4F100JK12
4F100JL11
4F100JL11B
4F100JN00C
4F100YY00A
4F100YY00B
4F100YY00C
(57)【要約】
【課題】スライド式画面拡張ディスプレイに用いる光学積層体の屈曲耐久性を評価する方法を提供すること。
【解決手段】光学積層体を第１屈曲状態とする屈曲工程、光学積層体を第２屈曲状態とする第１移動工程、光学積層体を第２屈曲状態から第１屈曲状態とする第２移動工程、第１移動工程および第２移動工程を繰り返し行った後、第１屈曲状態とした時の光学積層体に生じる水平方向の応力Ｆｈ（ｇｆ）と鉛直方向の応力Ｆｖ（ｇｆ）とを測定する測定工程、式：Ａ＝（Ｆｈ２＋Ｆｖ２）１／２／ａに従って得られるＡ値に基づいて光学積層体の屈曲耐久性を評価する評価工程を含む方法。
【選択図】図１
【解決手段】光学積層体を第１屈曲状態とする屈曲工程、光学積層体を第２屈曲状態とする第１移動工程、光学積層体を第２屈曲状態から第１屈曲状態とする第２移動工程、第１移動工程および第２移動工程を繰り返し行った後、第１屈曲状態とした時の光学積層体に生じる水平方向の応力Ｆｈ（ｇｆ）と鉛直方向の応力Ｆｖ（ｇｆ）とを測定する測定工程、式：Ａ＝（Ｆｈ２＋Ｆｖ２）１／２／ａに従って得られるＡ値に基づいて光学積層体の屈曲耐久性を評価する評価工程を含む方法。
【選択図】図１
【特許請求の範囲】
【請求項1】
光学積層体の屈曲耐久性の評価方法であって、
光学積層体を主面が水平となるように第１治具上に設置する設置工程、
前記光学積層体の第１端部側を前記第１治具に固定する固定工程、
前記光学積層体の前記第１端部に対向する第２端部を持ち上げて前記光学積層体を屈曲半径ａ（ｍｍ）で屈曲させ、前記光学積層体の第２端部側を第２治具に固定し、第１屈曲状態とする屈曲工程、
前記第１治具を水平に移動させて前記光学積層体を第２屈曲状態とする第１移動工程、
前記第１治具を前記第１移動工程とは逆方向に水平に移動させて前記光学積層体を前記第２屈曲状態から前記第１屈曲状態とする第２移動工程、
前記第１移動工程および前記第２移動工程を繰り返し行った後、前記第１屈曲状態とした時の前記光学積層体に生じる水平方向の応力と鉛直方向の応力とを測定する測定工程、
前記水平方向の応力をＦｈ（ｇｆ）、前記鉛直方向の応力をＦｖ（ｇｆ）としたとき、下記式（１）：
Ａ＝（Ｆｈ２＋Ｆｖ２）１／２／ａ （１）
に従って算出されるＡ値（ｇｆ／ｍｍ）に基づいて光学積層体の屈曲耐久性を評価する評価工程
を含む方法。
光学積層体を主面が水平となるように第１治具上に設置する設置工程、
前記光学積層体の第１端部側を前記第１治具に固定する固定工程、
前記光学積層体の前記第１端部に対向する第２端部を持ち上げて前記光学積層体を屈曲半径ａ（ｍｍ）で屈曲させ、前記光学積層体の第２端部側を第２治具に固定し、第１屈曲状態とする屈曲工程、
前記第１治具を水平に移動させて前記光学積層体を第２屈曲状態とする第１移動工程、
前記第１治具を前記第１移動工程とは逆方向に水平に移動させて前記光学積層体を前記第２屈曲状態から前記第１屈曲状態とする第２移動工程、
前記第１移動工程および前記第２移動工程を繰り返し行った後、前記第１屈曲状態とした時の前記光学積層体に生じる水平方向の応力と鉛直方向の応力とを測定する測定工程、
前記水平方向の応力をＦｈ（ｇｆ）、前記鉛直方向の応力をＦｖ（ｇｆ）としたとき、下記式（１）：
Ａ＝（Ｆｈ２＋Ｆｖ２）１／２／ａ （１）
に従って算出されるＡ値（ｇｆ／ｍｍ）に基づいて光学積層体の屈曲耐久性を評価する評価工程
を含む方法。
【請求項2】
前記屈曲半径ａは１．５ｍｍ以上５ｍｍ以下である、請求項１に記載の光学積層体の屈曲耐久性の評価方法。
【請求項3】
前記第１移動工程および前記第２移動工程を繰り返し行う回数は１００回以下である、請求項１に記載の光学積層体の屈曲耐久性の評価方法。
【請求項4】
前記光学積層体の厚みは５０μｍ以上３００μｍ以下である、請求項１～請求項３のいずれか一項に記載の光学積層体の屈曲耐久性の評価方法。
【請求項5】
前記第１治具を水平に移動させる速度は１ｍｍ／秒以上１０ｍｍ／秒以下である、請求項１～請求項３のいずれか一項に記載の光学積層体の屈曲耐久性の評価方法。
【請求項6】
前記光学積層体は前面板、粘着剤層および光学部材をこの順に備える、請求項１～請求項３のいずれか一項に記載の光学積層体の屈曲耐久性の評価方法。
【請求項7】
請求項１に記載の光学積層体の屈曲耐久性の評価方法において算出される前記Ａ値が７０ｇｆ／ｍｍ以下である、光学積層体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、光学積層体の屈曲耐久性の評価方法に関し、さらには光学積層体に関する。
【背景技術】
【0002】
有機エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）表示装置に代表される表示装置において、可撓性を有する材料を用いて屈曲等を可能にした表示装置が用いられる場合がある。屈曲可能な表示装置として、屈曲軸が固定されないスライド式画面拡張ディスプレイが知られている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0003】
【特許文献1】米国特許出願公開第２０１８－１４４１７号明細書
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0004】
本発明の目的は、スライド式画面拡張ディスプレイに用いる光学積層体の屈曲耐久性を評価する方法、およびスライド式画面拡張ディスプレイに好適な光学積層体を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【0005】
本発明は、以下の光学積層体の屈曲耐久性の評価方法および光学積層体を提供する。
［１］ 光学積層体の屈曲耐久性の評価方法であって、
光学積層体を主面が水平となるように第１治具上に設置する設置工程、
前記光学積層体の第１端部側を前記第１治具に固定する固定工程、
前記光学積層体の前記第１端部に対向する第２端部を持ち上げて前記光学積層体を屈曲半径ａ（ｍｍ）で屈曲させ、前記光学積層体の第２端部側を第２治具に固定し、第１屈曲状態とする屈曲工程、
前記第１治具を水平に移動させて前記光学積層体を第２屈曲状態とする第１移動工程、
前記第１治具を前記第１移動工程とは逆方向に水平に移動させて前記光学積層体を前記第２屈曲状態から前記第１屈曲状態とする第２移動工程、
前記第１移動工程および前記第２移動工程を繰り返し行った後、前記第１屈曲状態とした時の前記光学積層体に生じる水平方向の応力と鉛直方向の応力とを測定する測定工程、
前記水平方向の応力をＦｈ（ｇｆ）、前記鉛直方向の応力をＦｖ（ｇｆ）としたとき、下記式（１）：
Ａ＝（Ｆｈ２＋Ｆｖ２）１／２／ａ （１）
に従って算出されるＡ値（ｇｆ／ｍｍ）に基づいて光学積層体の屈曲耐久性を評価する評価工程
を含む方法。
［２］ 前記屈曲半径ａは１．５ｍｍ以上５ｍｍ以下である、［１］に記載の光学積層体の屈曲耐久性の評価方法。
［３］ 前記第１移動工程および前記第２移動工程を繰り返し行う回数は１００回以下である、［１］または［２］に記載の光学積層体の屈曲耐久性の評価方法。
［４］ 前記光学積層体の厚みは５０μｍ以上３００μｍ以下である、［１］～［３］のいずれかに記載の光学積層体の屈曲耐久性の評価方法。
［５］ 前記第１治具を水平に移動させる速度は１ｍｍ／秒以上１０ｍｍ／秒以下である、［１］～［４］のいずれかに記載の光学積層体の屈曲耐久性の評価方法。
［６］ 前記光学積層体は前面板、粘着剤層および光学部材をこの順に備える、［１］～［５］のいずれかに記載の光学積層体の屈曲耐久性の評価方法。
［７］ ［１］に記載の光学積層体の屈曲耐久性の評価方法において算出される前記Ａ値が７０ｇｆ／ｍｍ以下である、光学積層体。
［１］ 光学積層体の屈曲耐久性の評価方法であって、
光学積層体を主面が水平となるように第１治具上に設置する設置工程、
前記光学積層体の第１端部側を前記第１治具に固定する固定工程、
前記光学積層体の前記第１端部に対向する第２端部を持ち上げて前記光学積層体を屈曲半径ａ（ｍｍ）で屈曲させ、前記光学積層体の第２端部側を第２治具に固定し、第１屈曲状態とする屈曲工程、
前記第１治具を水平に移動させて前記光学積層体を第２屈曲状態とする第１移動工程、
前記第１治具を前記第１移動工程とは逆方向に水平に移動させて前記光学積層体を前記第２屈曲状態から前記第１屈曲状態とする第２移動工程、
前記第１移動工程および前記第２移動工程を繰り返し行った後、前記第１屈曲状態とした時の前記光学積層体に生じる水平方向の応力と鉛直方向の応力とを測定する測定工程、
前記水平方向の応力をＦｈ（ｇｆ）、前記鉛直方向の応力をＦｖ（ｇｆ）としたとき、下記式（１）：
Ａ＝（Ｆｈ２＋Ｆｖ２）１／２／ａ （１）
に従って算出されるＡ値（ｇｆ／ｍｍ）に基づいて光学積層体の屈曲耐久性を評価する評価工程
を含む方法。
［２］ 前記屈曲半径ａは１．５ｍｍ以上５ｍｍ以下である、［１］に記載の光学積層体の屈曲耐久性の評価方法。
［３］ 前記第１移動工程および前記第２移動工程を繰り返し行う回数は１００回以下である、［１］または［２］に記載の光学積層体の屈曲耐久性の評価方法。
［４］ 前記光学積層体の厚みは５０μｍ以上３００μｍ以下である、［１］～［３］のいずれかに記載の光学積層体の屈曲耐久性の評価方法。
［５］ 前記第１治具を水平に移動させる速度は１ｍｍ／秒以上１０ｍｍ／秒以下である、［１］～［４］のいずれかに記載の光学積層体の屈曲耐久性の評価方法。
［６］ 前記光学積層体は前面板、粘着剤層および光学部材をこの順に備える、［１］～［５］のいずれかに記載の光学積層体の屈曲耐久性の評価方法。
［７］ ［１］に記載の光学積層体の屈曲耐久性の評価方法において算出される前記Ａ値が７０ｇｆ／ｍｍ以下である、光学積層体。
【発明の効果】
【0006】
本発明によれば、スライド式画面拡張ディスプレイに用いる光学積層体の屈曲耐久性を評価する方法、およびスライド式画面拡張ディスプレイ好適な光学積層体を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【0007】
【図1】光学積層体の屈曲耐久性の評価方法を説明する概略図である。
【図2】光学積層体の屈曲耐久性の評価方法を説明する概略図である。
【図3】光学積層体の屈曲耐久性の評価方法を説明する概略図である。
【図4】光学積層体の屈曲耐久性の評価方法を説明する概略図である。
【図5】光学積層体の屈曲耐久性の評価方法を説明する概略図である。
【図6】水平方向の応力を説明する概略図である。
【図7】鉛直方向の応力を説明する概略図である。
【図8】Ａ値を説明する概略図である。
【図9】光学積層体の層構成を示す概略断面図である。
【発明を実施するための形態】
【0008】
以下、図面を参照しつつ本発明の実施形態を説明するが、本発明は以下の実施形態に限定されるものではない。以下の全ての図面においては、各構成要素を理解し易くするために縮尺を適宜調整して示しており、図面に示される各構成要素の縮尺と実際の構成要素の縮尺とは必ずしも一致しない。
【0009】
＜光学積層体の屈曲耐久性の評価方法＞
本発明の一態様に係る光学積層体の屈曲耐久性の評価方法（以下、評価方法ともいう）は、光学積層体を主面が水平となるように第１治具上に設置する設置工程、光学積層体の第１端部を第１治具に固定する固定工程、光学積層体の第１端部に対向する第２端部を持ち上げて光学積層体を屈曲半径ａ（ｍｍ）で屈曲させ、光学積層体の第２端部側を第２治具に固定し、第１屈曲状態とする屈曲工程、第１治具を水平に移動させて光学積層体を第２屈曲状態とする第１移動工程、第１治具を第１移動工程とは逆方向に水平に移動させて光学積層体を第２屈曲状態から第１屈曲状態とする第２移動工程、第１移動工程および第２移動工程を繰り返し行った後、第１屈曲状態とした時の光学積層体に生じる水平方向の応力と鉛直方向の応力とを測定する測定工程を含み、水平方向の応力をＦｈ（ｇｆ）、鉛直方向の応力をＦｖ（ｇｆ）としたとき、下記式（１）：
Ａ＝（Ｆｈ２＋Ｆｖ２）１／２／ａ （１）
に従って算出されるＡ値（ｇｆ／ｍｍ）に基づいて光学積層体の屈曲耐久性を評価する評価工程を含む方法である。評価方法について図面を参照しながら説明する。
本発明の一態様に係る光学積層体の屈曲耐久性の評価方法（以下、評価方法ともいう）は、光学積層体を主面が水平となるように第１治具上に設置する設置工程、光学積層体の第１端部を第１治具に固定する固定工程、光学積層体の第１端部に対向する第２端部を持ち上げて光学積層体を屈曲半径ａ（ｍｍ）で屈曲させ、光学積層体の第２端部側を第２治具に固定し、第１屈曲状態とする屈曲工程、第１治具を水平に移動させて光学積層体を第２屈曲状態とする第１移動工程、第１治具を第１移動工程とは逆方向に水平に移動させて光学積層体を第２屈曲状態から第１屈曲状態とする第２移動工程、第１移動工程および第２移動工程を繰り返し行った後、第１屈曲状態とした時の光学積層体に生じる水平方向の応力と鉛直方向の応力とを測定する測定工程を含み、水平方向の応力をＦｈ（ｇｆ）、鉛直方向の応力をＦｖ（ｇｆ）としたとき、下記式（１）：
Ａ＝（Ｆｈ２＋Ｆｖ２）１／２／ａ （１）
に従って算出されるＡ値（ｇｆ／ｍｍ）に基づいて光学積層体の屈曲耐久性を評価する評価工程を含む方法である。評価方法について図面を参照しながら説明する。
【0010】
（設置工程）
評価方法に用いる装置を図１に示す。装置１０は、第１治具１１および第２治具１２を備える。設置工程において、光学積層体１は主面が水平となるように第１治具１１上に設置する。本明細書において、主面は、光学積層体１の厚み方向（積層方向）から見たときの面をいう。第１治具１１および第２治具１２は光学積層体１を設置するための水平な平面を有し得る。第１治具１１および第２治具１２の平面は厚み方向から見た形状が例えば方形状であってよい。第１治具１１および第２治具１２の平面は厚み方向から見た形状が方形状である場合、方形状の１辺の寸法は例えば２５ｍｍ以上２００ｍｍ以下であってよい。光学積層体１については後述される。
評価方法に用いる装置を図１に示す。装置１０は、第１治具１１および第２治具１２を備える。設置工程において、光学積層体１は主面が水平となるように第１治具１１上に設置する。本明細書において、主面は、光学積層体１の厚み方向（積層方向）から見たときの面をいう。第１治具１１および第２治具１２は光学積層体１を設置するための水平な平面を有し得る。第１治具１１および第２治具１２の平面は厚み方向から見た形状が例えば方形状であってよい。第１治具１１および第２治具１２の平面は厚み方向から見た形状が方形状である場合、方形状の１辺の寸法は例えば２５ｍｍ以上２００ｍｍ以下であってよい。光学積層体１については後述される。
【0011】
第１治具１１は、水平（矢印Ａの方向）に移動することができる。第２治具１２は、鉛直（矢印Ｂの方向）に移動することができる。
【0012】
（固定工程）
光学積層体１は、例えば両面テープなどを用いて、光学積層体１の第１端部側を第１治具１１に固定する。光学積層体１が長辺と短辺とを有する方形状である場合、第１端部は一方の短辺側の端部であることができる。第１端部および第１治具１１の端部の位置が同一となるように固定することができる。図２に示すように、光学積層体１の第１端部１３を第１治具１１の端部の位置に合わせて両面テープ１４により貼合することができる。
光学積層体１は、例えば両面テープなどを用いて、光学積層体１の第１端部側を第１治具１１に固定する。光学積層体１が長辺と短辺とを有する方形状である場合、第１端部は一方の短辺側の端部であることができる。第１端部および第１治具１１の端部の位置が同一となるように固定することができる。図２に示すように、光学積層体１の第１端部１３を第１治具１１の端部の位置に合わせて両面テープ１４により貼合することができる。
【0013】
（屈曲工程）
光学積層体１の第２端部は第１端部に対向する側の端部である。光学積層体１が長辺と短辺とを有する方形状であり、第１端部が短辺側の端部である場合、第２端部は第１端部の短辺側とは別の短辺側の端部である。第２端部を持ち上げて光学積層体１を屈曲させる。屈曲させる向きは、光学積層体１の厚み方向において下向きの面が外側になるように屈曲させる。次いで屈曲させた光学積層体１の屈曲外側面上に第２治具を配置した後、光学積層体１の第２端部側を第２治具に固定する。第２端部の第２治具への固定は、例えば両面テープなどを用いることができる。図３に示すように、光学積層体１を屈曲させて第２端部１５を第２治具１２の端部の位置に合わせて両面テープ１６により貼合することができる。第２治具の端部は、光学積層体１の第１端部を固定する側において第１治具１１の端部と鉛直方向から見て同一の位置となるように配置することができる。第１屈曲状態は、図３に示すように、第１端部と第２端部とが鉛直方向から見て同一の位置となるように配置することが好ましい。
光学積層体１の第２端部は第１端部に対向する側の端部である。光学積層体１が長辺と短辺とを有する方形状であり、第１端部が短辺側の端部である場合、第２端部は第１端部の短辺側とは別の短辺側の端部である。第２端部を持ち上げて光学積層体１を屈曲させる。屈曲させる向きは、光学積層体１の厚み方向において下向きの面が外側になるように屈曲させる。次いで屈曲させた光学積層体１の屈曲外側面上に第２治具を配置した後、光学積層体１の第２端部側を第２治具に固定する。第２端部の第２治具への固定は、例えば両面テープなどを用いることができる。図３に示すように、光学積層体１を屈曲させて第２端部１５を第２治具１２の端部の位置に合わせて両面テープ１６により貼合することができる。第２治具の端部は、光学積層体１の第１端部を固定する側において第１治具１１の端部と鉛直方向から見て同一の位置となるように配置することができる。第１屈曲状態は、図３に示すように、第１端部と第２端部とが鉛直方向から見て同一の位置となるように配置することが好ましい。
【0014】
光学積層体１の屈曲半径ａの調節は、例えば第２治具１２の鉛直方向の高さを調節することにより行うことができる。光学積層体１の屈曲半径ａは、例えば１．５ｍｍ以上５ｍｍ以下であってよい。
【0015】
（第１移動工程）
第１治具１１は、水平に移動可能である。第１治具１１を水平に移動させることにより光学積層体１を第２屈曲状態とすることができる。第１治具１１を水平方向に移動させるとき、光学積層体１の屈曲半径ａを変化させないようにすることが好ましい。第１移動工程において光学積層体１の屈曲半径ａは変化させないようにするため第２治具１２の鉛直方向の高さが変わらないようにすることができる。図４に示すように、第１治具１１を水平に特定の距離（移動距離Ｘ）移動させて光学積層体１を第２屈曲状態とする。光学積層体１を第２屈曲状態とした後、第１治具１１は停止させる。
第１治具１１は、水平に移動可能である。第１治具１１を水平に移動させることにより光学積層体１を第２屈曲状態とすることができる。第１治具１１を水平方向に移動させるとき、光学積層体１の屈曲半径ａを変化させないようにすることが好ましい。第１移動工程において光学積層体１の屈曲半径ａは変化させないようにするため第２治具１２の鉛直方向の高さが変わらないようにすることができる。図４に示すように、第１治具１１を水平に特定の距離（移動距離Ｘ）移動させて光学積層体１を第２屈曲状態とする。光学積層体１を第２屈曲状態とした後、第１治具１１は停止させる。
【0016】
第１移動工程において、第１治具１１の移動距離Ｘは、例えば５ｍｍ以上１００ｍｍ以下であることができる。
【0017】
第１移動工程において、第１治具１１を水平に移動させる速度は、例えば１ｍｍ／秒以上６０ｍｍ／秒以下であってよい。
【0018】
（第２移動工程）
第１治具１１を第１移動工程とは逆方向に水平に移動距離Ｘ移動させて光学積層体１を第２屈曲状態から第１屈曲状態とする。第１治具１１を第１移動工程とは逆方向に水平に移動させるとき、光学積層体１の屈曲半径ａ（ｍｍ）は変化させないようにすることが好ましい。第２移動工程において、光学積層体１の屈曲半径ａ（ｍｍ）は変化させないようにするため、通常、第２治具の鉛直方向の高さが変わらないようにする。図５に示すように、第２移動工程により光学積層体１を第１屈曲状態とした後、第１治具１１を短時間停止させてもよい。
第１治具１１を第１移動工程とは逆方向に水平に移動距離Ｘ移動させて光学積層体１を第２屈曲状態から第１屈曲状態とする。第１治具１１を第１移動工程とは逆方向に水平に移動させるとき、光学積層体１の屈曲半径ａ（ｍｍ）は変化させないようにすることが好ましい。第２移動工程において、光学積層体１の屈曲半径ａ（ｍｍ）は変化させないようにするため、通常、第２治具の鉛直方向の高さが変わらないようにする。図５に示すように、第２移動工程により光学積層体１を第１屈曲状態とした後、第１治具１１を短時間停止させてもよい。
【0019】
第１移動工程において第１治具１１が停止して第２屈曲状態となった後、第１治具１１の移動方向が第１移動工程とは逆方向に動き始めるまでの時間（遅延時間）は例えば０秒以上１秒以下であってよい。第２移動工程を行った後、第１移動工程を行う場合、第２移動工程において第１治具１１が停止して第１屈曲状態となった後、第１治具１１の移動方向が第２移動工程とは逆方向に動き始めるまでの時間（遅延時間）は例えば０．０１秒以上１秒以下であってよい。
【0020】
第２移動工程において、第１治具１１の移動距離Ｘは、例えば５ｍｍ以上１００ｍｍ以下であってよく、好ましくは第１移動工程における第１治具１１の移動距離Ｘと同一である。
【0021】
第２移動工程において、第１治具１１を水平に移動させる速度は、例えば１ｍｍ／秒以上６０ｍｍ／秒以下であってよく、好ましくは第１移動工程における第１治具１１を水平に移動させる速度と同一である。
【0022】
（測定工程）
通常、第１移動工程および第２移動工程は交互に繰り返し行う。第１移動工程および第２移動工程を繰り返し行う回数は、第１移動工程および第２移動工程をそれぞれ１回としてカウントするとき（例えば第１移動工程を行った後、引き続き第２移動工程を行った場合は２回としてカウントされる）、例えば１０回以上２００回以下であってよく、好ましくは２０回以上１００回以下である。第１治具が往復するのにかかる時間（周期ともいう）は、例えば１秒以上６０秒以下であってよい。
通常、第１移動工程および第２移動工程は交互に繰り返し行う。第１移動工程および第２移動工程を繰り返し行う回数は、第１移動工程および第２移動工程をそれぞれ１回としてカウントするとき（例えば第１移動工程を行った後、引き続き第２移動工程を行った場合は２回としてカウントされる）、例えば１０回以上２００回以下であってよく、好ましくは２０回以上１００回以下である。第１治具が往復するのにかかる時間（周期ともいう）は、例えば１秒以上６０秒以下であってよい。
【0023】
第１移動工程または第２移動工程を所定の回数繰り返し行った後、光学積層体１が第１屈曲状態となった時の光学積層体に生じる水平方向の応力と鉛直方向の応力とを測定する。例えば第１移動工程および第２移動工程を交互に繰り返し１００回行う場合、測定工程において求める水平方向の応力および鉛直方向の応力はそれぞれ、最後の第１屈曲状態にあるとき（第１移動工程および第２移動工程を合計１００回行ったとき）の水平方向の応力および鉛直方向の応力である。
【0024】
水平方向の応力は、例えば第１治具１１に取り付けられた水平ロードセルに掛かる力を測定することにより求められる。鉛直方向の応力は、例えば第２治具１２に取り付けられた垂直ロードセルに掛かる力を測定することにより求められる。
上記応力は、例えば、ＳｕｒＴＡ（ＣＨＥＭＩＬＡＢ社製）を用いて測定することができる。
上記応力は、例えば、ＳｕｒＴＡ（ＣＨＥＭＩＬＡＢ社製）を用いて測定することができる。
【0025】
図６は、第１移動工程および第２移動工程を交互に繰り返し１００回行ったときの水平方向の応力を連続的に測定した結果を示す。図６の水平方向の応力－時間グラフにおいて、測定工程において求める水平方向の応力は、矢印Ｆｈで示される点における応力である。図６に示されるとおり水平方向の応力は第１屈曲状態にあるときは負（－）方向の応力、第２屈曲状態にあるときは正（＋）方向の応力として測定されることができる。水平方向の応力がゼロになるときは、光学積層体１が第１屈曲状態および第２屈曲状態の中間の状態（第１治具が第１屈曲状態および第２屈曲状態の中間の位置）にあるときである。
【0026】
図７は、第１移動工程および第２移動工程を交互に繰り返し１００回行ったときの鉛直方向の応力を連続的に測定した結果を示す。図７の鉛直方向の応力－時間グラフにおいて、測定工程において求める鉛直方向の応力は、矢印Ｆｖで示される点における応力である。図７に示されるとおり鉛直方向の応力は、鉛直方向上向きの応力は正（＋）方向の応力、鉛直方向下向きの応力は負（－）方向の応力として測定されることができる。鉛直方向の応力がゼロになるときは、光学積層体１が屈曲していない（第２治具に応力が働かない）状態にあるときである。
【0027】
（評価工程）
測定工程において求めた水平方向の応力をＦｈ（ｇｆ）、鉛直方向の応力をＦｖ（ｇｆ）としたとき、式（１）に従って算出されるＡ値（ｇｆ／ｍｍ）に基づいて光学積層体１の屈曲耐久性を評価する。
測定工程において求めた水平方向の応力をＦｈ（ｇｆ）、鉛直方向の応力をＦｖ（ｇｆ）としたとき、式（１）に従って算出されるＡ値（ｇｆ／ｍｍ）に基づいて光学積層体１の屈曲耐久性を評価する。
【0028】
評価工程ではまず、測定工程において求めた最後の第１屈曲状態にあるときの水平方向の応力と鉛直方向の応力とから式（１）に従ってＡ値を算出する。
【0029】
図８は、第１移動工程および第２移動工程を交互に繰り返し１００回行った場合の１～２回目、９～１０回目、２９～３０回目、４９～５０回目、９９～１００回目の間での水平方向の応力と鉛直方向の応力とをそれぞれプロットしたグラフである。第１移動工程および第２移動工程を交互に繰り返し１００回行った場合、最後の第１屈曲状態にあるとき（１００回目）の水平方向の応力と鉛直方向の応力とからＡ値を求める。図８において、Ａ値は図中矢印の長さとして示される。
【0030】
次いで算出したＡ値に基づいて屈曲耐久性の評価を行う。通常、光学積層体１はＡ値が小さくなるにつれて屈曲耐久性は向上し易くなる傾向にある。屈曲耐久性の評価は、例えばＡ値と基準値との大小関係の比較により行うことができる。基準値は、例えば７０ｇｆ／ｍｍであることができる。Ａ値が７０ｇｆ／ｍｍ以下である場合、光学積層体１はスライド式画面拡張ディスプレイに好適である。
【0031】
（光学積層体）
光学積層体１は、スライド式画面拡張ディスプレイに用いることができる。光学積層体１の主面は、例えば方形状であってよく、好ましくは長辺と短辺とを有する方形状であり、より好ましくは長方形である。光学積層体１の主面が長方形である場合、長辺の長さは、例えば５ｍｍ以上８００ｍｍ以下であってよく、短辺の長さは、例えば５ｍｍ以上５００ｍｍ以下であってよい。
光学積層体１は、スライド式画面拡張ディスプレイに用いることができる。光学積層体１の主面は、例えば方形状であってよく、好ましくは長辺と短辺とを有する方形状であり、より好ましくは長方形である。光学積層体１の主面が長方形である場合、長辺の長さは、例えば５ｍｍ以上８００ｍｍ以下であってよく、短辺の長さは、例えば５ｍｍ以上５００ｍｍ以下であってよい。
【0032】
光学積層体１の厚みは、例えば５０μｍ以上３００μｍ以下であることができる。
【0033】
光学積層体１は、光学積層体１は屈曲半径が３～５．５ｍｍで繰返し移動を行ったとき、上述のＡ値が例えば７０ｇｆ／ｍｍ以下であることができる。特に、屈曲半径が３～５ｍｍで繰返しの屈曲を行ったとき、Ａ値が７０ｇｆ／ｍｍ以下、好ましくは５５ｇｆ／ｍｍ以下である光学積層体１は、スライド式画面拡張ディスプレイに好適である。
【0034】
光学積層体１は、例えば画像表示装置用光学積層体であってよく、フレキシブルディスプレイ用（スライド式画面拡張ディスプレイを含む）光学積層体であることもできる。光学積層体１は、例えばタッチセンサパネル、有機ＥＬパネル等の光学部材であってよい。光学部材は、例えば直線偏光板、円偏光板、位相差層等を含んでいてもよい。光学積層体１は、例えば前面板、粘着剤層および上記光学部材をこの順に備えていてよい。
【0035】
（前面板）
前面板は、画像表示装置の視認側の最表面を構成することができる。前面板は、画像表示装置の前面を保護する機能を有することができる。前面板は、タッチセンサとしての機能、ブルーライトカット機能、視野角調整機能等を有するものであってもよい。
前面板は、画像表示装置の視認側の最表面を構成することができる。前面板は、画像表示装置の前面を保護する機能を有することができる。前面板は、タッチセンサとしての機能、ブルーライトカット機能、視野角調整機能等を有するものであってもよい。
【0036】
前面板は、光を透過可能な板状体であれば、材料および厚みは限定されず、また単層構造であっても多層構造であってもよく、ガラス製の板状体（例えば、ガラス板、ガラスフィルム等）、樹脂製の板状体（例えば、樹脂板、樹脂シート、樹脂フィルム等）、樹脂製の板状体とガラス製の板状体との積層体が例示される。前面板は、耐衝撃性を高めるために粘着剤層を介して樹脂フィルムが積層された構造を有していてもよい。前面板は、例えば光を透過可能な板状体と、粘着剤層と、耐衝撃性を高める樹脂フィルム（以下、耐衝撃性フィルムともいう）とがこの順に積層されたものであってよい。また、前面板は、ハードコート層や耐摩耗層を有してもよい。
【0037】
ガラス板としては、ディスプレイ用強化ガラスが好ましく用いられる。ガラス板の厚みは、例えば１０μｍ以上１０００μｍ以下であり、好ましくは２０μｍ以上５００μｍ以下である。ガラス板を用いることにより、優れた機械的強度および表面硬度を有する光学積層体を構成することができる。
【0038】
樹脂フィルムとしては、光を透過可能な樹脂フィルムであれば限定されない。例えば、トリアセチルセルロース、アセチルセルロースブチレート、エチレン－酢酸ビニル共重合体、プロピオニルセルロース、ブチリルセルロース、アセチルプロピオニルセルロース、ポリエステル、ポリスチレン、ポリアミド、ポリエーテルイミド、ポリ（メタ）アクリル、ポリイミド、ポリエーテルスルホン、ポリスルホン、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリメチルペンテン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリビニルアルコール、ポリビニルアセタール、ポリエーテルケトン、ポリエーテルエーテルケトン、ポリメチル（メタ）アクリレート、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリカーボネート、ポリアミドイミド等の高分子で形成された樹脂フィルムが挙げられる。これらの高分子は、単独でまたは２種以上混合して用いることができる。積層体１０をフレキシブルディスプレイに用いる場合には、優れた可撓性を有し、高い強度および高い透明性を有するように構成可能な、ポリイミド、ポリアミド、ポリアミドイミド等の高分子で形成された樹脂フィルムが好適に用いられる。なお、本明細書において「（メタ）アクリル」とは、アクリルまたはメタクリルのいずれでもよいことを意味する。（メタ）アクリレート等の「（メタ）」も同様の意味である。
【0039】
前面板が樹脂フィルムである場合、樹脂フィルムは、基材フィルムの少なくとも一方の面にハードコート層を設けて硬度をより向上させたフィルムであってもよい。ハードコート層は、基材フィルムの一方の面に形成されていてもよいし、両方の面に形成されていてもよい。後述する画像表示装置がタッチパネル方式の画像表示装置である場合には、前面板１１の表面がタッチ面となるため、ハードコート層を有する樹脂フィルムが好適に用いられる。ハードコート層を設けることにより、硬度および耐スクラッチ性を向上させた樹脂フィルムとすることができる。ハードコート層は、例えば、紫外線硬化型樹脂の硬化層である。紫外線硬化型樹脂としては、例えば、（メタ）アクリル系樹脂、シリコーン系樹脂、ポリエステル系樹脂、ウレタン系樹脂、アミド系樹脂、エポキシ系樹脂等が挙げられる。ハードコート層は、硬度を向上させるために、添加剤を含んでいてもよい。添加剤は限定されることはなく、無機系微粒子、有機系微粒子、またはこれらの混合物が挙げられる。樹脂フィルムの厚みは、例えば１０μｍ以上５００μｍ以下であり、好ましくは２０μｍ以上１００μｍ以下である。
【0040】
ハードコート層の視認側には、耐摩耗性を向上させたり、皮脂などによる汚染を防止したりするために、耐摩耗層が形成されていることも好ましい。前面板は、耐摩耗層を有することができ、耐摩耗層は、前面板の視認側表面を構成する層であることができる。耐摩耗層はフッ素化合物由来の構造を含むことができる。フッ素化合物としてはケイ素原子を有し、ケイ素原子にアルコキシ基やハロゲンのような加水分解性の基を有する化合物が好ましい。加水分解性基が脱水縮合反応することにより塗膜を形成することができ、また基材表面の活性水素と反応することにより耐摩耗層の密着性を向上させることができる。さらにフッ素化合物は、パーフルオロアルキル基やパーフルオロポリエーテル構造を有すると撥水性を付与することができるので好ましい。特に好ましいのはパーフルオロポリエーテル構造と炭素数４以上の長鎖のアルキル基とを有する含フッ素ポリオルガノシロキサン化合物である。フッ素化合物としては２種類以上の化合物を用いることも好ましい。さらに含むことが好ましいフッ素化合物としては、炭素数２以上のアルキレン基、およびパーフルオロアルキレン基を含む含フッ素オルガノシロキサン化合物である。
【0041】
耐摩耗層の厚さは、例えば１～２０ｎｍである。また、耐摩耗層は撥水性を有しており、水接触角が例えば１１０～１２５°程度である。滑落法で測定した接触角ヒステリシスおよび滑落角は、それぞれ３～２０°程度、２～５５°程度である。更に、耐摩耗層は、本発明の効果を阻害しない範囲で、シラノール縮合触媒、酸化防止剤、防錆剤、紫外線吸収剤、光安定剤、防カビ剤、抗菌剤、生物付着防止剤、消臭剤、顔料、難燃剤、帯電防止剤等、各種の添加剤を含有していてもよい。
【0042】
耐摩耗層とハードコート層との間にはプライマー層を設けてもよい。プライマー剤として、例えば紫外線硬化型、熱硬化型、湿気硬化型、あるいは２液硬化型のエポキシ系化合物等のプライマー剤がある。また、プライマー剤として、ポリアミック酸を用いてもよく、シランカップリング剤を用いることも好ましい。プライマー層の厚さは、例えば０．００１～２μｍである。
【0043】
耐摩耗層とハードコート層とを含む積層体を得る方法としては、ハードコート層の上に、必要に応じてプライマー剤を塗布、乾燥、硬化させてプライマー層を形成させた後、フッ素化合物を含む組成物（耐摩耗層コーティング用組成物）を塗布、乾燥することで形成できる。塗布する方法としては、例えばディップコート法、ロールコート法、バーコート法、スピンコート法、スプレーコート法、ダイコート法、グラビアコーター法などが挙げられる。また、プライマー剤、または、耐摩耗層コーティング用組成物を塗布する前に、塗布面をプラズマ処理、コロナ処理、または紫外線処理等の親水化処理を施すことも好ましい。この積層体は前面板に直接積層することもできるし、別の透明基材の上に積層したものを接着剤や粘着剤を用いて前面板に貼合することもできる。
【0044】
（粘着剤層）
粘着剤層は、各層を接合するための機能を有することができる。本明細書において「粘着剤」とは、硬化反応後の状態が高粘度液体またはゲル状固体であり、常温（例えば温度２３℃～２５℃、相対湿度５５～６０％）で短時間、僅かな圧力を加えるだけで接着できるもの、例えば感圧式接着剤とも呼ばれるものである。一方、本明細書において「接着剤」とは、粘着剤（感圧式接着剤）以外の接着剤をいい、硬化反応後の状態が固体状であり、硬化後の２５℃における弾性率の範囲が１００ＭＰａ以上のものをいう。粘着剤層１２は、１層からなるものであってもよく、または２層以上からなるものであってもよいが、好ましくは１層からなるものである。
粘着剤層は、各層を接合するための機能を有することができる。本明細書において「粘着剤」とは、硬化反応後の状態が高粘度液体またはゲル状固体であり、常温（例えば温度２３℃～２５℃、相対湿度５５～６０％）で短時間、僅かな圧力を加えるだけで接着できるもの、例えば感圧式接着剤とも呼ばれるものである。一方、本明細書において「接着剤」とは、粘着剤（感圧式接着剤）以外の接着剤をいい、硬化反応後の状態が固体状であり、硬化後の２５℃における弾性率の範囲が１００ＭＰａ以上のものをいう。粘着剤層１２は、１層からなるものであってもよく、または２層以上からなるものであってもよいが、好ましくは１層からなるものである。
【0045】
粘着剤層は、（メタ）アクリル系、ゴム系、ウレタン系、エステル系、シリコーン系、ポリビニルエーテル系のような樹脂を主成分とする粘着剤組成物で構成することができる。中でも、透明性、耐候性、耐熱性等に優れる（メタ）アクリル系樹脂をベースポリマーとする粘着剤組成物が好適である。粘着剤組成物は、活性エネルギー線硬化型であってもよいし、熱硬化型であってもよい。（メタ）アクリル系樹脂の重量平均分子量は、例えば１００万以上であってもよいし、１２０万以上であってもよいし、２００万以下であってもよい。
【0046】
粘着剤組成物に用いられる（メタ）アクリル系樹脂（ベースポリマー）としては、例えば、（メタ）アクリル酸ブチル、（メタ）アクリル酸エチル、（メタ）アクリル酸イソオクチル、（メタ）アクリル酸２－エチルヘキシルのような（メタ）アクリル酸エステルの１種または２種以上をモノマーとする重合体または共重合体が好適に用いられる。ベースポリマーには、極性モノマーを共重合させることが好ましい。極性モノマーとしては、例えば、（メタ）アクリル酸、（メタ）アクリル酸２－ヒドロキシプロピル、（メタ）アクリル酸ヒドロキシエチル、（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレートのような、カルボキシル基、水酸基、アミド基、アミノ基、エポキシ基等を有するモノマーを挙げることができる。
【0047】
粘着剤組成物は、上記ベースポリマーのみを含むものであってもよいが、通常は架橋剤をさらに含有する。架橋剤としては、２価以上の金属イオンであって、カルボキシル基との間でカルボン酸金属塩を形成するもの；ポリアミン化合物であって、カルボキシル基との間でアミド結合を形成するもの；ポリエポキシ化合物やポリオールであって、カルボキシル基との間でエステル結合を形成するもの；ポリイソシアネート化合物であって、カルボキシル基との間でアミド結合を形成するものが例示される。中でも、ポリイソシアネート化合物が好ましい。
【0048】
活性エネルギー線硬化型粘着剤組成物とは、紫外線や電子線のような活性エネルギー線の照射を受けて硬化する性質を有しており、活性エネルギー線照射前においても粘着性を有してフィルム等の被着体に密着させることができ、活性エネルギー線の照射によって硬化して密着力の調整ができる性質を有する粘着剤組成物である。活性エネルギー線硬化型粘着剤組成物は、紫外線硬化型であることが好ましい。活性エネルギー線硬化型粘着剤組成物は、ベースポリマー、架橋剤に加えて、活性エネルギー線重合性化合物をさらに含有する。さらに必要に応じて、光重合開始剤や光増感剤等を含有させることもある。
【0049】
粘着剤組成物は、光散乱性を付与するための微粒子、ビーズ（樹脂ビーズ、ガラスビーズ等）、ガラス繊維、ベースポリマー以外の樹脂、粘着性付与剤、充填剤（金属粉やその他の無機粉末等）、酸化防止剤、紫外線吸収剤、染料、顔料、着色剤、消泡剤、腐食防止剤、光重合開始剤等の添加剤を含むことができる。
【0050】
粘着剤層は、上記粘着剤組成物の有機溶剤希釈液を基材上に塗布し、乾燥させることにより形成することができる。活性エネルギー線硬化型粘着剤組成物を用いた場合は、形成された粘着剤層に、活性エネルギー線を照射することにより所望の硬化度を有する硬化物とすることができる。
【0051】
（円偏光板）
円偏光板は、重合性液晶化合物の硬化物からなる位相差層を含む。円偏光板は、直線偏光板と位相差板とを備えることができる。円偏光板は入射する光（外光）を円偏光に変換することができる。直線偏光板の吸収軸と位相差板の遅相軸とが所定の角度となるように直線偏光板と位相差板とが配置された円偏光板は、画像表示装置中の表示素子で反射した外光を吸収することができるため、反射防止フィルムとしての機能を付与することができる。
円偏光板は、重合性液晶化合物の硬化物からなる位相差層を含む。円偏光板は、直線偏光板と位相差板とを備えることができる。円偏光板は入射する光（外光）を円偏光に変換することができる。直線偏光板の吸収軸と位相差板の遅相軸とが所定の角度となるように直線偏光板と位相差板とが配置された円偏光板は、画像表示装置中の表示素子で反射した外光を吸収することができるため、反射防止フィルムとしての機能を付与することができる。
【0052】
（直線偏光板）
直線偏光板は、偏光子層として、ポリビニルアルコール（以下、「ＰＶＡ」と略すこともある。）系樹脂フィルムを含むものであってもよく、二色性色素および重合性化合物を含む組成物を配向させ、重合性液晶化合物を重合させた硬化膜であってもよい。二色性色素および重合性化合物を含む組成物を塗布し硬化させてなる偏光子層は、延伸工程を含むＰＶＡ系樹脂フィルムの偏光子層に比べて、屈曲方向に制限がないため好ましい。
直線偏光板は、偏光子層として、ポリビニルアルコール（以下、「ＰＶＡ」と略すこともある。）系樹脂フィルムを含むものであってもよく、二色性色素および重合性化合物を含む組成物を配向させ、重合性液晶化合物を重合させた硬化膜であってもよい。二色性色素および重合性化合物を含む組成物を塗布し硬化させてなる偏光子層は、延伸工程を含むＰＶＡ系樹脂フィルムの偏光子層に比べて、屈曲方向に制限がないため好ましい。
【0053】
直線偏光板は、偏光子層のみを含むものであってもよいし、偏光子層に加えて熱可塑性樹脂フィルム、保護層、基材、オーバーコート層および配向膜のいずれか１以上をさらに含んでいてもよい。熱可塑性樹脂フィルムとしては、例えば環状ポリオレフィン系樹脂フィルム、トリアセチルセルロース、ジアセチルセルロースのような樹脂からなる酢酸セルロース系樹脂フィルム、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリブチレンテレフタレートのような樹脂からなるポリエステル系樹脂フィルム、ポリカーボネート系樹脂フィルム、（メタ）アクリル系樹脂フィルム、ポリプロピレン系樹脂フィルム等が挙げられる。熱可塑性樹脂フィルムの厚みは、薄型化の観点から、通常３００μｍ以下であり、２００μｍ以下であることが好ましく、５０μｍ以下であることがより好ましく、また、通常５μｍ以上であり、２０μｍ以上であることが好ましい。また、熱可塑性樹脂フィルムは位相差を有していてもよいし、位相差を有していなくてもよい。
【0054】
直線偏光板の厚みは、例えば１μｍ以上５００μｍ以下であってよく、好ましくは５μｍ以上２５０μｍ以下、より好ましくは５μｍ以上１００μｍ以下、さらに好ましくは５μｍ以上５０μｍ以下である。
【0055】
偏光子層としては、例えば、ポリビニルアルコール（以下、「ＰＶＡ」と略すこともある。）系フィルム、部分ホルマール化ＰＶＡ系フィルム、エチレン・酢酸ビニル共重合体系部分ケン化フィルム等の親水性高分子フィルムに、ヨウ素や二色性染料等の二色性物質による染色処理、および延伸処理が施されたもの等が挙げられる。光学特性に優れることから、ＰＶＡ系樹脂フィルムをヨウ素で染色し一軸延伸して得られた偏光子層を用いることが好ましい。
【0056】
ポリビニルアルコール系樹脂は、ポリ酢酸ビニル系樹脂をケン化することにより製造できる。ポリ酢酸ビニル系樹脂は、酢酸ビニルの単独重合体であるポリ酢酸ビニルのほか、酢酸ビニルと酢酸ビニルに共重合可能な他の単量体との共重合体であることもできる。酢酸ビニルに共重合可能な他の単量体としては、例えば不飽和カルボン酸類、オレフィン類、ビニルエーテル類、不飽和スルホン酸類、アンモニウム基を有するアクリルアミド類等が挙げられる。
【0057】
ポリビニルアルコール系樹脂のケン化度は、通常８５～１００モル％程度であり、好ましくは９８モル％以上である。ポリビニルアルコール系樹脂は変性されていてもよく、例えば、アルデヒド類で変性されたポリビニルホルマールやポリビニルアセタール等も使用可能である。ポリビニルアルコール系樹脂の平均重合度は、通常１，０００～１０，０００程度であり、好ましくは１，５００～５，０００程度である。ポリビニルアルコール系樹脂の平均重合度は、ＪＩＳ Ｋ ６７２６（１９９４）に準拠して求めることができる。平均重合度が１０００未満では好ましい偏光性能を得ることが困難であり、１００００超ではフィルム加工性に劣ることがある。
【0058】
その他のＰＶＡ系樹脂フィルムを含む偏光子層の製造方法としては、まず基材フィルムを用意し、基材フィルム上にポリビニルアルコール系樹脂等の樹脂の溶液を塗布し、溶媒を除去する乾燥等を行って基材フィルム上に樹脂層を形成する工程を含むものを挙げることができる。なお、基材フィルムの樹脂層が形成される面には、予めプライマー層を形成することができる。基材フィルムとしては、上述の熱可塑性樹脂フィルム、例えばポリエチレンテレフタレートフィルム等を使用できる。プライマー層の材料としては、偏光子層に用いられる親水性樹脂を架橋した樹脂等を挙げることができる。
【0059】
次いで、必要に応じて樹脂層の水分等の溶媒量を調整し、その後、基材フィルムおよび樹脂層を一軸延伸し、続いて、樹脂層をヨウ素等の二色性色素で染色して二色性色素を樹脂層に吸着配向させる。続いて、必要に応じて二色性色素が吸着配向した樹脂層をホウ酸水溶液で処理し、ホウ酸水溶液を洗い落とす洗浄工程を行う。これにより、二色性色素が吸着配向された樹脂層、すなわち、偏光子層が製造される。各工程には公知の方法を採用できる。
【0060】
基材フィルムおよび樹脂層の一軸延伸は、染色の前に行ってもよいし、染色中に行ってもよいし、染色後のホウ酸処理中に行ってもよく、これら複数の段階においてそれぞれ一軸延伸を行ってもよい。基材フィルムおよび樹脂層は、ＭＤ方向（フィルム搬送方向）に一軸延伸してもよく、この場合、周速の異なるロール間で一軸に延伸してもよいし、熱ロールを用いて一軸に延伸してもよい。また、基材フィルムおよび樹脂層は、ＴＤ方向（フィルム搬送方向に垂直な方向）に一軸延伸してもよく、この場合、いわゆるテンター法を使用することができる。また、基材フィルムおよび樹脂層の延伸は、大気中で延伸を行う乾式延伸であってもよいし、溶剤にて樹脂層を膨潤させた状態で延伸を行う湿式延伸であってもよい。偏光子層の性能を発現するためには延伸倍率は４倍以上であり、５倍以上であることが好ましく、特に５．５倍以上が好ましい。延伸倍率の上限は特にないが、破断等を抑制する観点から８倍以下が好ましい。
【0061】
ＰＶＡ系樹脂フィルムを含む偏光子層の厚さは、例えば２μｍ以上４０μｍ以下である。偏光子層の厚さは５μｍ以上であってもよく、２０μｍ以下、１５μｍ以下、さらには１０μｍ以下であってもよい。
【0062】
二色性色素および重合性化合物を含む組成物を配向させ、重合性液晶化合物を重合させた硬化膜である偏光子層の製造方法としては、基材フィルムの上に配向膜を介して重合性液晶化合物および二色性色素を含む偏光子層形成用組成物を塗布して偏光子層を形成する方法、或いは、基材フィルム上に形成した保護層上に、配向膜を介して重合性液晶化合物および二色性色素を含む偏光子層形成用組成物を塗布し、重合性液晶化合物を液晶状態を保持したまま重合して硬化させて偏光子層を形成する方法を挙げることができる。このようにして得られた偏光子層は、基材フィルムの保護層上に積層された状態にあり、基材フィルム付き直線偏光板として用いてもよい。基材フィルムとしては、上述の熱可塑性樹脂フィルム、例えばポリエチレンテレフタレートフィルム等を使用することができる。
【0063】
二色性色素および重合性化合物を含む組成物を塗布し硬化させてなる偏光子層の厚さは、通常１０μｍ以下であり、好ましくは０．５μｍ以上８μｍ以下であり、より好ましくは１μｍ以上５μｍ以下であり、４μｍ以下であってもよい。
【0064】
上記方法で作製した偏光子層は、基材フィルムを剥離して、または基材フィルムとともに直線偏光板として用いてもよい。上記方法によれば、基材フィルムを剥離することができるため、偏光子層の更なる薄膜化が可能となる。
【0065】
（位相差板）
位相差板は、重合性液晶化合物の硬化物からなる位相差層を含む。位相差板は、１層または２層以上の位相差層を含むことができる。位相差板が２層の位相差層を含む場合、偏光子層側から順に第１位相差層と第２位相差層ということがある。位相差層は、１層であってもよく２層以上であってもよい。位相差層は、その表面を保護するオーバーコート層、および位相差層を支持する基材フィルム等を有していてもよい。位相差層としては、例えばλ／４の位相差を与える位相差層（λ／４層）、λ／２の位相差を与える位相差層（λ／２層）およびポジティブＣ層等が挙げられる。位相差板は、好ましくはλ／４層を含み、さらに好ましくはλ／４層とλ／２層またはポジティブＣ層の少なくともいずれかとを含む。位相差板がλ／２層を含む場合、直線偏光板側から順にλ／２層およびλ／４層を積層する。位相差板がポジティブＣ層を含む場合、直線偏光板側から順にλ／４層およびポジティブＣ層を積層してもよく、直線偏光板側から順にポジティブＣ層およびλ／４層を積層してもよい。位相差板の厚みは、例えば０．１μｍ以上１０μｍ以下であり、好ましくは０．５μｍ以上８μｍ以下である。
位相差板は、重合性液晶化合物の硬化物からなる位相差層を含む。位相差板は、１層または２層以上の位相差層を含むことができる。位相差板が２層の位相差層を含む場合、偏光子層側から順に第１位相差層と第２位相差層ということがある。位相差層は、１層であってもよく２層以上であってもよい。位相差層は、その表面を保護するオーバーコート層、および位相差層を支持する基材フィルム等を有していてもよい。位相差層としては、例えばλ／４の位相差を与える位相差層（λ／４層）、λ／２の位相差を与える位相差層（λ／２層）およびポジティブＣ層等が挙げられる。位相差板は、好ましくはλ／４層を含み、さらに好ましくはλ／４層とλ／２層またはポジティブＣ層の少なくともいずれかとを含む。位相差板がλ／２層を含む場合、直線偏光板側から順にλ／２層およびλ／４層を積層する。位相差板がポジティブＣ層を含む場合、直線偏光板側から順にλ／４層およびポジティブＣ層を積層してもよく、直線偏光板側から順にポジティブＣ層およびλ／４層を積層してもよい。位相差板の厚みは、例えば０．１μｍ以上１０μｍ以下であり、好ましくは０．５μｍ以上８μｍ以下である。
【0066】
位相差板は、上述した熱可塑性樹脂フィルムの材料として例示した樹脂フィルムから形成した位相差層を含んでもよい。位相差層は、さらに配向膜および基材フィルムを含んでいてもよく、λ／４層と、λ／２層およびポジティブＣ層とは、接着剤層により接合されていてもよい。
【0067】
重合性液晶化合物の硬化物からなる位相差層は、重合性液晶化合物を含む組成物を、基材フィルムに塗布し硬化させることにより形成することができる。基材フィルムと塗布層との間に配向膜を形成してもよい。基材フィルムの材料および厚みは、上記熱可塑性樹脂フィルムの材料および厚みと同じであってよい。位相差層は、重合性液晶化合物を硬化してなる層から形成する場合、配向膜および基材フィルムを有する形態または有さない形態で積層体に組み込まれてもよい。
【0068】
直線偏光板の吸収軸と位相差層の遅相軸とが所定の角度となるように、直線偏光板と位相差板とが配置された偏光板は、反射防止機能を有することができる。位相差板がλ／４層を含む場合、直線偏光板の吸収軸とλ／４層の遅相軸とのなす角度は、４５°±１０°であることができる。位相差層は正波長分散性を有していてもよく、逆波長分散性を有していてもよい。λ／４層は、好ましくは逆波長分散性を有する。直線偏光板と位相差板とは粘着剤層または接着剤層により接合されていてよい。
【0069】
（タッチセンサパネル）
タッチセンサパネルとしては、タッチされた位置を検出可能なセンサであれば、検出方式は限定されることはなく、抵抗膜方式、静電容量結合方式、光センサ方式、超音波方式、電磁誘導結合方式、表面弾性波方式等のタッチセンサパネルが例示される。低コストであることから、抵抗膜方式、静電容量結合方式のタッチセンサパネルが好適に用いられる。タッチセンサパネルは、積層体の視認側とは反対側に配置されることができる。
タッチセンサパネルとしては、タッチされた位置を検出可能なセンサであれば、検出方式は限定されることはなく、抵抗膜方式、静電容量結合方式、光センサ方式、超音波方式、電磁誘導結合方式、表面弾性波方式等のタッチセンサパネルが例示される。低コストであることから、抵抗膜方式、静電容量結合方式のタッチセンサパネルが好適に用いられる。タッチセンサパネルは、積層体の視認側とは反対側に配置されることができる。
【0070】
抵抗膜方式のタッチセンサパネルの一例は、互いに対向配置された一対の基板と、それら一対の基板の間に挟持された絶縁性スペーサーと、各基板の内側の前面に抵抗膜として設けられた透明導電膜と、タッチ位置検知回路とにより構成されている。抵抗膜方式のタッチセンサパネルを設けた画像表示装置においては、前面板の表面がタッチされると、対向する抵抗膜が短絡して、抵抗膜に電流が流れる。タッチ位置検知回路が、このときの電圧の変化を検知し、タッチされた位置が検出される。
【0071】
静電容量結合方式のタッチセンサパネルの一例は、基板と、基板の全面に設けられた位置検出用透明電極と、タッチ位置検知回路とにより構成されている。静電容量結合方式のタッチセンサパネルを設けた画像表示装置においては、前面板の表面がタッチされると、タッチされた点で人体の静電容量を介して透明電極が接地される。タッチ位置検知回路が、透明電極の接地を検知し、タッチされた位置が検出される。
【0072】
（有機ＥＬパネル）
有機ＥＬパネルは、公知の有機エレクトロルミネッセンス（有機ＥＬ）パネルであってよい。有機ＥＬパネルは例えば円偏光板、直線偏光板および位相差板からなる群から選択される少なくとも１種を備えていてもよい。
有機ＥＬパネルは、公知の有機エレクトロルミネッセンス（有機ＥＬ）パネルであってよい。有機ＥＬパネルは例えば円偏光板、直線偏光板および位相差板からなる群から選択される少なくとも１種を備えていてもよい。
【0073】
【0074】
（光学積層体の製造方法）
光学積層体１が前面板、粘着剤層および上述の光学部材（偏光板等）をこの順に備える場合、光学積層体１は、例えば前面板と上記光学部材とを粘着剤層を用いて貼合することにより製造することができる。粘着剤層は粘着シートとして準備することができる。粘着シートは、例えば離型処理が施された剥離フィルム（以下、セパレータともいう）上に粘着剤からなる層をシート状に形成しておき、その粘着剤層上にさらに別の剥離フィルムを貼合する方式等により作製することができる。一方の剥離フィルムを剥離した粘着シートを一方の層に貼合し、次いで他方の剥離フィルムを剥離し、他方の層を貼合する方法により各層を貼合することができる。
光学積層体１が前面板、粘着剤層および上述の光学部材（偏光板等）をこの順に備える場合、光学積層体１は、例えば前面板と上記光学部材とを粘着剤層を用いて貼合することにより製造することができる。粘着剤層は粘着シートとして準備することができる。粘着シートは、例えば離型処理が施された剥離フィルム（以下、セパレータともいう）上に粘着剤からなる層をシート状に形成しておき、その粘着剤層上にさらに別の剥離フィルムを貼合する方式等により作製することができる。一方の剥離フィルムを剥離した粘着シートを一方の層に貼合し、次いで他方の剥離フィルムを剥離し、他方の層を貼合する方法により各層を貼合することができる。
【0075】
（画像表示装置）
画像表示装置は、上述の光学積層体を含むことができる。画像表示装置は特に限定されず、例えば有機ＥＬ表示装置、無機ＥＬ表示装置、液晶表示装置、電界発光表示装置等の画像表示装置が挙げられる。画像表示装置は、屈曲または折り曲げ等が可能な可撓性を有するフレキシブルディスプレイ（スライド式画面拡張ディスプレイを含む）であってよい。
画像表示装置は、上述の光学積層体を含むことができる。画像表示装置は特に限定されず、例えば有機ＥＬ表示装置、無機ＥＬ表示装置、液晶表示装置、電界発光表示装置等の画像表示装置が挙げられる。画像表示装置は、屈曲または折り曲げ等が可能な可撓性を有するフレキシブルディスプレイ（スライド式画面拡張ディスプレイを含む）であってよい。
【0076】
画像表示装置は、スマートフォン、タブレット等のモバイル機器、テレビ、デジタルフォトフレーム、電子看板、測定器や計器類、事務用機器、医療機器、電算機器等として用いることができる。
【実施例0077】
以下、実施例により本発明をさらに詳細に説明する。例中の「％」および「部」は、特記のない限り、質量％および質量部である。
【0078】
［粘着剤層の温度２５℃における貯蔵弾性率の測定］
粘弾性測定装置［Ａｎｔｏｎ Ｐａａｒ社製「ＭＣＲ－３０１」（商品名）］を用いた。粘着剤層を幅２０ｍｍ×長さ２０ｍｍに裁断し、厚さが１５０μｍとなるように複数枚積層した。積層された粘着剤層をガラス板に接合した。粘着剤層と測定チップとが接着した状態において、－２０℃から１００℃の温度領域で、周波数１．０Ｈｚ、変形量１％、昇温速度５℃／分の条件下で測定を行い、２５℃における貯蔵弾性率値を測定した。
粘弾性測定装置［Ａｎｔｏｎ Ｐａａｒ社製「ＭＣＲ－３０１」（商品名）］を用いた。粘着剤層を幅２０ｍｍ×長さ２０ｍｍに裁断し、厚さが１５０μｍとなるように複数枚積層した。積層された粘着剤層をガラス板に接合した。粘着剤層と測定チップとが接着した状態において、－２０℃から１００℃の温度領域で、周波数１．０Ｈｚ、変形量１％、昇温速度５℃／分の条件下で測定を行い、２５℃における貯蔵弾性率値を測定した。
【0079】
［粘着剤組成物の調製］
表１に示す各成分の割合にて粘着剤層１を形成する粘着剤組成物１を調製した。この粘着剤組成物１を離型処理されたポリエチレンテレフタレートフィルム（厚み３８μｍ）の離型処理面に、アプリケータを利用して乾燥後の厚みが２５μｍになるように塗布した。塗布層を１００℃で１分間乾燥して、粘着剤層１を備えるフィルムを得た。その後、粘着剤層１上に、離型処理された別のポリエチレンテレフタレートフィルム（厚み３８μｍ）を貼合した。その後、温度２３℃、相対湿度５０％ＲＨの条件で７日間養生させた。同様の操作を行い、表１に示す各成分の割合にて調製した粘着剤組成物２および３をそれぞれ用いて粘着剤層２および３を備えるフィルムを作製した。粘着剤層１～３について２５℃における貯蔵弾性率を測定した。結果を表１に示す。
表１に示す各成分の割合にて粘着剤層１を形成する粘着剤組成物１を調製した。この粘着剤組成物１を離型処理されたポリエチレンテレフタレートフィルム（厚み３８μｍ）の離型処理面に、アプリケータを利用して乾燥後の厚みが２５μｍになるように塗布した。塗布層を１００℃で１分間乾燥して、粘着剤層１を備えるフィルムを得た。その後、粘着剤層１上に、離型処理された別のポリエチレンテレフタレートフィルム（厚み３８μｍ）を貼合した。その後、温度２３℃、相対湿度５０％ＲＨの条件で７日間養生させた。同様の操作を行い、表１に示す各成分の割合にて調製した粘着剤組成物２および３をそれぞれ用いて粘着剤層２および３を備えるフィルムを作製した。粘着剤層１～３について２５℃における貯蔵弾性率を測定した。結果を表１に示す。
【0080】
【表1】
【0081】
ＢＡ：アクリル酸ブチル
ＭＭＡ：アクリル酸メチル
ＥＨＡ：アクリル酸２－エチルヘキシル
ＡＡ：アクリル酸
架橋剤：コロネートＬ（東ソー株式会社製）
シランカップリング剤：ＫＢＭ－４０３（信越化学工業株式会社製）
ＭＭＡ：アクリル酸メチル
ＥＨＡ：アクリル酸２－エチルヘキシル
ＡＡ：アクリル酸
架橋剤：コロネートＬ（東ソー株式会社製）
シランカップリング剤：ＫＢＭ－４０３（信越化学工業株式会社製）
【0082】
＜実施例１＞
［前面板の準備］
ポリアミドイミドフィルム（ＰＡＩ）（厚み５０μｍ）の一方の面に、下記ＨＣ層形成用組成物を硬化後の厚みが６μｍになるように塗工した。得られた塗膜を温度８０℃で５分間乾燥し、ＵＶ照射装置（ＳＰＯＴ ＣＵＲＥ ＳＰ－７、ウシオ電機株式会社製）を用いて、露光量５００ｍＪ／ｃｍ２（３６５ｎｍ基準）のＵＶ光を照射してＨＣ層を形成した。以上のようにして、ハードコート（ＨＣ）層（厚み６μｍ）／ポリアミドイミドフィルム（厚み５０μｍ）の層構成を有する前面板（ＨＣ－ＰＡＩ）を得た。
［ハードコート層形成用組成物］
ＨＣ層形成用組成物は、多官能アクリレート（Ｍｉｒａｍｅｒ Ｍ３４０、Ｍｉｗｏｎ Ｓｐｅｃｉａｌｔｙ Ｃｈｅｍｉｃａｌ製）３０質量部と、ナノシリカゾルのプロピレングリコールモノメチルエーテル分散体（１２ｎｍ、固形分４０％）５０質量部と、エチルアセテート１７質量部と、光重合開始剤（Ｉｒｇａｃｕｒｅ－１８４、Ｃｉｂａ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ製）２．７質量部と、フッ素系添加剤（ＫＹ１２０３、信越化学工業株式会社製）０．３質量部とを含む。
［前面板の準備］
ポリアミドイミドフィルム（ＰＡＩ）（厚み５０μｍ）の一方の面に、下記ＨＣ層形成用組成物を硬化後の厚みが６μｍになるように塗工した。得られた塗膜を温度８０℃で５分間乾燥し、ＵＶ照射装置（ＳＰＯＴ ＣＵＲＥ ＳＰ－７、ウシオ電機株式会社製）を用いて、露光量５００ｍＪ／ｃｍ２（３６５ｎｍ基準）のＵＶ光を照射してＨＣ層を形成した。以上のようにして、ハードコート（ＨＣ）層（厚み６μｍ）／ポリアミドイミドフィルム（厚み５０μｍ）の層構成を有する前面板（ＨＣ－ＰＡＩ）を得た。
［ハードコート層形成用組成物］
ＨＣ層形成用組成物は、多官能アクリレート（Ｍｉｒａｍｅｒ Ｍ３４０、Ｍｉｗｏｎ Ｓｐｅｃｉａｌｔｙ Ｃｈｅｍｉｃａｌ製）３０質量部と、ナノシリカゾルのプロピレングリコールモノメチルエーテル分散体（１２ｎｍ、固形分４０％）５０質量部と、エチルアセテート１７質量部と、光重合開始剤（Ｉｒｇａｃｕｒｅ－１８４、Ｃｉｂａ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ製）２．７質量部と、フッ素系添加剤（ＫＹ１２０３、信越化学工業株式会社製）０．３質量部とを含む。
【0083】
［光学積層体の作製］
基材フィルムとしてのポリアミドイミドフィルム（厚み５０μｍ）を、前面板のポリアミドイミドフィルム側に粘着剤層１（厚み２５μｍ）により貼合し、フィルム積層体１を得た。次いで、フィルム積層体１の基材フィルム側に、有色ポリイミド系樹脂フィルム（厚み３５μｍ）を粘着剤層１（厚み２５μｍ）により貼合し、実施例１の光学積層体１を得た。
基材フィルムとしてのポリアミドイミドフィルム（厚み５０μｍ）を、前面板のポリアミドイミドフィルム側に粘着剤層１（厚み２５μｍ）により貼合し、フィルム積層体１を得た。次いで、フィルム積層体１の基材フィルム側に、有色ポリイミド系樹脂フィルム（厚み３５μｍ）を粘着剤層１（厚み２５μｍ）により貼合し、実施例１の光学積層体１を得た。
【0084】
［屈曲耐久性の評価］
得られた光学積層体１を短辺４０ｍｍ、長辺１６５ｍｍにカットした。カットした光学積層体１について以下の手順により屈曲耐久性の評価を行った。
（１）試験装置の垂直ロードセルおよび水平ロードセルのゼロ点設定を行った。
（２）試験装置の第１治具（主面における寸法：１００ｍｍ×１００ｍｍ）および第２治具（主面における寸法：１００ｍｍ×１００ｍｍ）の末端を一致させた。
（３）第１治具上に光学積層体を前面板側を下にして水平に設置した（設置工程）。
（４）光学積層体の第１端部を両面テープを用いて第１治具に固定した（固定工程）。
（５）光学積層体の第２端部を持ち上げて、光学積層体を前面板を外側にして屈曲し、第２端部を第２治具に固定し、第１端部と第２端部とが図３記載の第１屈曲状態になるよう設定した。なお、屈曲半径は５ｍｍに設定した（屈曲工程）。
（６）第１治具を水平に移動距離１８．８ｍｍで移動させ、光学積層体を図４記載の第２屈曲状態とした（第１移動工程）。更に、第１移動工程とは逆方向に水平に第１治具を移動させ、光学積層体を第１屈曲状態にした（第２移動工程）。
上記第１移動工程及び第２移動工程を、以下の条件で繰り返し行った。
移動速度：５ｍｍ／秒
移動距離：１８．８ｍｍ（第１移動工程、第２移動工程とも共通）
遅延時間：０．２秒
繰り返し回数：１００回（往復回数５０回）
（７）１００回目の第１屈曲状態で垂直ロードセルおよび水平ロードセルに掛かる水平方向の応力Ｆｈ（ｇｆ）と鉛直方向の応力Ｆｖ（ｇｆ）とを測定した（測定工程）。応力Ｆｈ（ｇｆ）及び応力Ｆｖ（ｇｆ）は、ＳｕｒＴＡ（ＣＨＥＭＩＬＡＢ社製）により測定した値である。
（８）式（１）に従いＡ値を求めた（評価工程）。
式（１）： Ａ＝（Ｆｈ２＋Ｆｖ２）１／２／ａ （１）
（式中、Ｆｈ（ｇｆ）は、水平方向の応力であり、Ｆｖ（ｇｆ）は鉛直方向の応力である。）
（９）各光学積層体について、別途、下記手順で屈曲試験を行い、屈曲耐久性を確認した。
屈曲試験：
光学積層体を、ダンベルカッターを用いて１０ｍｍ幅の大きさにカットした。カットした光学積層体を、前面板を内側にして曲げられるように面状態無負荷Ｕ字伸縮試験機（ユアサシステム機器（株）製「ＤＭＬＨＢ－ＦＳ」（商品名））の治具にセットして、対向する前面板間の距離が表２に記載の屈曲半径の２倍の長さ（例えば、実施例１の場合１０．０ｍｍ）となるように、１８０°屈曲させては伸ばす操作を繰り返し行った。屈曲速度は３０ｒｐｍとした。光学積層体が破断したときの屈曲回数（耐屈曲回数）で屈曲耐久性を確認した。なお、屈曲回数が２０万回の時点で光学積層体が破断しなかった場合、その時点で試験を終了した。
得られた光学積層体１を短辺４０ｍｍ、長辺１６５ｍｍにカットした。カットした光学積層体１について以下の手順により屈曲耐久性の評価を行った。
（１）試験装置の垂直ロードセルおよび水平ロードセルのゼロ点設定を行った。
（２）試験装置の第１治具（主面における寸法：１００ｍｍ×１００ｍｍ）および第２治具（主面における寸法：１００ｍｍ×１００ｍｍ）の末端を一致させた。
（３）第１治具上に光学積層体を前面板側を下にして水平に設置した（設置工程）。
（４）光学積層体の第１端部を両面テープを用いて第１治具に固定した（固定工程）。
（５）光学積層体の第２端部を持ち上げて、光学積層体を前面板を外側にして屈曲し、第２端部を第２治具に固定し、第１端部と第２端部とが図３記載の第１屈曲状態になるよう設定した。なお、屈曲半径は５ｍｍに設定した（屈曲工程）。
（６）第１治具を水平に移動距離１８．８ｍｍで移動させ、光学積層体を図４記載の第２屈曲状態とした（第１移動工程）。更に、第１移動工程とは逆方向に水平に第１治具を移動させ、光学積層体を第１屈曲状態にした（第２移動工程）。
上記第１移動工程及び第２移動工程を、以下の条件で繰り返し行った。
移動速度：５ｍｍ／秒
移動距離：１８．８ｍｍ（第１移動工程、第２移動工程とも共通）
遅延時間：０．２秒
繰り返し回数：１００回（往復回数５０回）
（７）１００回目の第１屈曲状態で垂直ロードセルおよび水平ロードセルに掛かる水平方向の応力Ｆｈ（ｇｆ）と鉛直方向の応力Ｆｖ（ｇｆ）とを測定した（測定工程）。応力Ｆｈ（ｇｆ）及び応力Ｆｖ（ｇｆ）は、ＳｕｒＴＡ（ＣＨＥＭＩＬＡＢ社製）により測定した値である。
（８）式（１）に従いＡ値を求めた（評価工程）。
式（１）： Ａ＝（Ｆｈ２＋Ｆｖ２）１／２／ａ （１）
（式中、Ｆｈ（ｇｆ）は、水平方向の応力であり、Ｆｖ（ｇｆ）は鉛直方向の応力である。）
（９）各光学積層体について、別途、下記手順で屈曲試験を行い、屈曲耐久性を確認した。
屈曲試験：
光学積層体を、ダンベルカッターを用いて１０ｍｍ幅の大きさにカットした。カットした光学積層体を、前面板を内側にして曲げられるように面状態無負荷Ｕ字伸縮試験機（ユアサシステム機器（株）製「ＤＭＬＨＢ－ＦＳ」（商品名））の治具にセットして、対向する前面板間の距離が表２に記載の屈曲半径の２倍の長さ（例えば、実施例１の場合１０．０ｍｍ）となるように、１８０°屈曲させては伸ばす操作を繰り返し行った。屈曲速度は３０ｒｐｍとした。光学積層体が破断したときの屈曲回数（耐屈曲回数）で屈曲耐久性を確認した。なお、屈曲回数が２０万回の時点で光学積層体が破断しなかった場合、その時点で試験を終了した。
【0085】
＜実施例２～５、参考例１～４＞
実施例１において用いた粘着剤層１に代えて表２に示す粘着剤層を用いたこと、および表２に示す屈曲半径としたこと以外は実施例１と同等にして光学積層体を作製し、屈曲耐久性の評価を行った。結果を表２に示す。
実施例１において用いた粘着剤層１に代えて表２に示す粘着剤層を用いたこと、および表２に示す屈曲半径としたこと以外は実施例１と同等にして光学積層体を作製し、屈曲耐久性の評価を行った。結果を表２に示す。
【0086】
【表2】
【符号の説明】
【0087】
１ 光学積層体、２ ハードコート層、３ 樹脂フィルム、４ 前面板、５ 粘着剤層、６ 光学部材、１０ 装置、１１ 第１治具、１２ 第２治具、１３ 第１端部、１４，１６ 両面テープ、１５ 第２端部、ａ 屈曲半径、Ｘ 移動距離。
【図1】
【図2】
【図3】
【図4】
【図5】
【図6】
【図7】
【図8】
【図9】