特開2023-164282ガス供給システム、基板処理装置及び半導体装置の製造方法

発明の名称　ガス供給システム、基板処理装置及び半導体装置の製造方法

出願人　株式会社ＫＯＫＵＳＡＩ　ＥＬＥＣＴＲＩＣ　（識別番号 318009126）

　　　　特許公開件数ランキング 413 位（67件）（共同出願を含む）

　　　　特許取得件数ランキング 429 位（55件）（共同出願を含む）

公報番号　特開-2023-164282

公報発行日　2023年11月10

公報URL　https://ipforce.jp/patent-jp-P_A1-2023-164282

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