特開2023-167394基板処理装置および液受け容器の洗浄方法

発明の名称　基板処理装置および液受け容器の洗浄方法

出願人　東京エレクトロン株式会社　（識別番号 219967）

　　　　特許公開件数ランキング 29 位（234件）（共同出願を含む）

　　　　特許取得件数ランキング 25 位（239件）（共同出願を含む）

公報番号　特開-2023-167394

公報発行日　2023年11月24

公報URL　https://ipforce.jp/patent-jp-P_A1-2023-167394

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