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特開2023-168332洗浄および表面処理のための原子状酸素およびオゾン装置
発明の名称 洗浄および表面処理のための原子状酸素およびオゾン装置
出願人 アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド （識別番号 390040660）
特許公開件数ランキング 43 位（558件）（共同出願を含む）
特許取得件数ランキング 34 位（556件）（共同出願を含む）
公報番号 特開-2023-168332
公報発行日 2023年11月24
公報URL https://ipforce.jp/patent-jp-P_A1-2023-168332
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