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特開2023-171895ホルミルアルケニル＝アルコキシメチル＝エーテル化合物の製造方法及びこれを用いた共役ジエン化合物の製造方法
(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】公開特許公報(A)
(11)【公開番号】P2023171895
(43)【公開日】2023-12-05
(54)【発明の名称】ホルミルアルケニル＝アルコキシメチル＝エーテル化合物の製造方法及びこれを用いた共役ジエン化合物の製造方法
(51)【国際特許分類】
C07C 45/42 20060101AFI20231128BHJP
C07C 47/263 20060101ALI20231128BHJP
C07C 33/02 20060101ALI20231128BHJP
C07C 29/10 20060101ALI20231128BHJP
C07C 69/145 20060101ALI20231128BHJP
C07C 67/08 20060101ALI20231128BHJP
C07B 61/00 20060101ALN20231128BHJP
【ＦＩ】
C07C45/42
C07C47/263
C07C33/02
C07C29/10
C07C69/145
C07C67/08
C07B61/00 300
【審査請求】有
【請求項の数】20
【出願形態】ＯＬ
(21)【出願番号】P 2023171789
(22)【出願日】2023-10-03
(62)【分割の表示】P 2020059025の分割
【原出願日】2020-03-27
(71)【出願人】
【識別番号】000002060
【氏名又は名称】信越化学工業株式会社
(74)【代理人】
【識別番号】100118599
【弁理士】
【氏名又は名称】村上 博司
(74)【代理人】
【識別番号】100160738
【弁理士】
【氏名又は名称】加藤 由加里
(74)【代理人】
【識別番号】100114591
【弁理士】
【氏名又は名称】河村 英文
(72)【発明者】
【氏名】三宅 裕樹
(72)【発明者】
【氏名】金生 剛
(72)【発明者】
【氏名】山下 美与志
(57)【要約】
【課題】本発明は、ジアルコキシアルケニル＝アルコキシメチル＝エーテル化合物のアルコキシメチル基の脱保護を抑制し、アセタールのみを選択的に加水分解させて、ホルミルアルケニル＝アルコキシメチル＝エーテル化合物を高純度かつ高収率で製造することを目的とする。
【解決手段】本発明は、一般式（１）、Ｒ３ＣＨ２ＯＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）ａＣＨ＝ＣＨＣＨ（ＯＲ１）（ＯＲ２） （１）、（式中、Ｒ１及びＲ２は、それぞれ独立して炭素数１～１５の一価の炭化水素基、又はＲ１とＲ２が互いに結合したＲ１－Ｒ２として炭素数２～１０の二価の炭化水素基を表し、Ｒ３は水素原子、炭素数１～９のｎ－アルキル基、又はフェニル基を表し、ａは、１～１０の整数を表す。）で表されるジアルコキシアルケニル＝アルコキシメチル＝エーテル化合物を酸の存在下、生成したアルコール化合物を除去しながら、加水分解反応させて、一般式（２）、Ｒ３ＣＨ２ＯＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）ａＣＨ＝ＣＨＣＨＯ （２）（式中、Ｒ３及びａは、上記で定義した通りである。）で表される、ホルミルアルケニル＝アルコキシメチル＝エーテル化合物（２）を製造する方法を提供する。
【選択図】なし
【解決手段】本発明は、一般式（１）、Ｒ３ＣＨ２ＯＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）ａＣＨ＝ＣＨＣＨ（ＯＲ１）（ＯＲ２） （１）、（式中、Ｒ１及びＲ２は、それぞれ独立して炭素数１～１５の一価の炭化水素基、又はＲ１とＲ２が互いに結合したＲ１－Ｒ２として炭素数２～１０の二価の炭化水素基を表し、Ｒ３は水素原子、炭素数１～９のｎ－アルキル基、又はフェニル基を表し、ａは、１～１０の整数を表す。）で表されるジアルコキシアルケニル＝アルコキシメチル＝エーテル化合物を酸の存在下、生成したアルコール化合物を除去しながら、加水分解反応させて、一般式（２）、Ｒ３ＣＨ２ＯＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）ａＣＨ＝ＣＨＣＨＯ （２）（式中、Ｒ３及びａは、上記で定義した通りである。）で表される、ホルミルアルケニル＝アルコキシメチル＝エーテル化合物（２）を製造する方法を提供する。
【選択図】なし
【特許請求の範囲】
【請求項1】
下記一般式（１）
Ｒ３ＣＨ２ＯＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）ａＣＨ＝ＣＨＣＨ（ＯＲ１）（ＯＲ２） （１）
（式中、Ｒ１及びＲ２は、それぞれ独立して炭素数１～１５の一価の炭化水素基、又はＲ１とＲ２が互いに結合したＲ１－Ｒ２として炭素数２～１０の二価の炭化水素基を表し、Ｒ３は水素原子、炭素数１～９のｎ－アルキル基又はフェニル基を表し、ａは、１～１０の整数を表す。）
で表されるジアルコキシアルケニル＝アルコキシメチル＝エーテル化合物を酸の存在下、生成したアルコール化合物を除去しながら、加水分解反応させて、下記一般式（２）
Ｒ３ＣＨ２ＯＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）ａＣＨ＝ＣＨＣＨＯ （２）
（式中、Ｒ３及びａは、上記で定義した通りである。）
で表されるホルミルアルケニル＝アルコキシメチル＝エーテル化合物（２）を得るステップ
を少なくとも含む、ホルミルアルケニル＝アルコキシメチル＝エーテル化合物（２）の製造方法。
Ｒ３ＣＨ２ＯＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）ａＣＨ＝ＣＨＣＨ（ＯＲ１）（ＯＲ２） （１）
（式中、Ｒ１及びＲ２は、それぞれ独立して炭素数１～１５の一価の炭化水素基、又はＲ１とＲ２が互いに結合したＲ１－Ｒ２として炭素数２～１０の二価の炭化水素基を表し、Ｒ３は水素原子、炭素数１～９のｎ－アルキル基又はフェニル基を表し、ａは、１～１０の整数を表す。）
で表されるジアルコキシアルケニル＝アルコキシメチル＝エーテル化合物を酸の存在下、生成したアルコール化合物を除去しながら、加水分解反応させて、下記一般式（２）
Ｒ３ＣＨ２ＯＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）ａＣＨ＝ＣＨＣＨＯ （２）
（式中、Ｒ３及びａは、上記で定義した通りである。）
で表されるホルミルアルケニル＝アルコキシメチル＝エーテル化合物（２）を得るステップ
を少なくとも含む、ホルミルアルケニル＝アルコキシメチル＝エーテル化合物（２）の製造方法。
【請求項2】
前記酸が、ギ酸、塩酸又はこれらの混合物である、請求項１に記載のホルミルアルケニル＝アルコキシメチル＝エーテル化合物の製造方法。
【請求項3】
請求項１又は２に記載の、ホルミルアルケニル＝アルコキシメチル＝エーテル化合物（２）、ここで、ａ＝４である、の製造方法と、
前記ホルミルアルケニル＝アルコキシメチル＝エーテル化合物（２）と、下記一般式（３）
（式中、Ａｒは、それぞれ独立してアリール基を表す。）
で表されるトリアリールホスホニウム＝ペンチリド化合物とをウィッティヒ反応させて、下記一般式（４）
ＣＨ３（ＣＨ２）３ＣＨ＝ＣＨＣＨ＝ＣＨ（ＣＨ２）４ＯＣＨ２ＯＣＨ２Ｒ３ （４）
（式中、Ｒ３は、上記で定義した通りである。）
で表される（５Ｅ，７Ｚ）－５，７－ドデカジエニル＝アルコキシメチル＝エーテル化合物を得るステップと、
前記（５Ｅ，７Ｚ）－５，７－ドデカジエニル＝アルコキシメチル＝エーテル化合物（４）を脱アルコキシメチル化して、下記式（５）
ＣＨ３（ＣＨ２）３ＣＨ＝ＣＨＣＨ＝ＣＨ（ＣＨ２）４ＯＨ （５）
で表される（５Ｅ，７Ｚ）－５，７－ドデカジエン－１－オール（５）を得るステップと
を少なくとも含む、（５Ｅ，７Ｚ）－５，７－ドデカジエン－１－オール（５）の製造方法。
前記ホルミルアルケニル＝アルコキシメチル＝エーテル化合物（２）と、下記一般式（３）
【化1】
で表されるトリアリールホスホニウム＝ペンチリド化合物とをウィッティヒ反応させて、下記一般式（４）
ＣＨ３（ＣＨ２）３ＣＨ＝ＣＨＣＨ＝ＣＨ（ＣＨ２）４ＯＣＨ２ＯＣＨ２Ｒ３ （４）
（式中、Ｒ３は、上記で定義した通りである。）
で表される（５Ｅ，７Ｚ）－５，７－ドデカジエニル＝アルコキシメチル＝エーテル化合物を得るステップと、
前記（５Ｅ，７Ｚ）－５，７－ドデカジエニル＝アルコキシメチル＝エーテル化合物（４）を脱アルコキシメチル化して、下記式（５）
ＣＨ３（ＣＨ２）３ＣＨ＝ＣＨＣＨ＝ＣＨ（ＣＨ２）４ＯＨ （５）
で表される（５Ｅ，７Ｚ）－５，７－ドデカジエン－１－オール（５）を得るステップと
を少なくとも含む、（５Ｅ，７Ｚ）－５，７－ドデカジエン－１－オール（５）の製造方法。
【請求項4】
請求項３に記載の、（５Ｅ，７Ｚ）－５，７－ドデカジエン－１－オール（５）の製造方法と、
前記（５Ｅ，７Ｚ）－５，７－ドデカジエン－１－オール（５）をアセチル化反応させて、下記式（６）
ＣＨ３（ＣＨ２）３ＣＨ＝ＣＨＣＨ＝ＣＨ（ＣＨ２）４ＯＣＯＣＨ３ （６）
で表される（５Ｅ，７Ｚ）－５，７－ドデカジエニル＝アセテート（６）を得るステップと
を少なくとも含む、（５Ｅ，７Ｚ）－５，７－ドデカジエニル＝アセテート（６）の製造方法。
前記（５Ｅ，７Ｚ）－５，７－ドデカジエン－１－オール（５）をアセチル化反応させて、下記式（６）
ＣＨ３（ＣＨ２）３ＣＨ＝ＣＨＣＨ＝ＣＨ（ＣＨ２）４ＯＣＯＣＨ３ （６）
で表される（５Ｅ，７Ｚ）－５，７－ドデカジエニル＝アセテート（６）を得るステップと
を少なくとも含む、（５Ｅ，７Ｚ）－５，７－ドデカジエニル＝アセテート（６）の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、ホルミルアルケニル＝アルコキシメチル＝エーテル化合物の製造方法及びこれを用いた共役ジエン化合物の製造方法に関する。
【背景技術】
【0002】
ホルミルアルケニル＝アルコキシメチル＝エーテル化合物は、ウィッティヒ反応（Ｗｉｔｔｉｇ反応）により共役ジエン骨格を構築できるため、共役ジエン骨格を有する昆虫フェロモンの合成前駆体として、非常に有用である。共役ジエン骨格を有する昆虫フェロモンとしては、例えばキクキンウワバ（Ｔｈｙｓａｎｏｐｌｕｓｉａ ｉｎｔｅｒｍｉｘｔａ）の性フェロモンである、（５Ｅ，７Ｚ）－５，７－ドデカジエン－１－オール及び（５Ｅ，７Ｚ）－５，７－ドデカジエニル＝アセテートが知られている（下記の非特許文献１）。
ホルミルアルケニル＝アルコキシメチル＝エーテル化合物の合成法としては、塩酸を用いて、（Ｚ）－５，５－ジエトキシ－３－ペンテニル＝メトキシメチル＝エーテルを加水分解反応した後に、トルエンにより抽出する方法（下記の特許文献１）、及び水素化アルミニウムリチウムにより、５－（メトキシメトキシ）－２－ペンチン－１－オールをヒドロアルミニウム化し、次にパリック・デーリング（Ｐａｒｉｋｈ－Ｄｏｅｒｉｎｇ）酸化する方法（下記の非特許文献２）が報告されている。
ホルミルアルケニル＝アルコキシメチル＝エーテル化合物の合成法としては、塩酸を用いて、（Ｚ）－５，５－ジエトキシ－３－ペンテニル＝メトキシメチル＝エーテルを加水分解反応した後に、トルエンにより抽出する方法（下記の特許文献１）、及び水素化アルミニウムリチウムにより、５－（メトキシメトキシ）－２－ペンチン－１－オールをヒドロアルミニウム化し、次にパリック・デーリング（Ｐａｒｉｋｈ－Ｄｏｅｒｉｎｇ）酸化する方法（下記の非特許文献２）が報告されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0003】
【特許文献1】特開２００９－１３２６４７号公報
【非特許文献】
【0004】
【非特許文献1】Ｔ．Ａｎｄｏ，Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｅｃｏｌ．，１９９８，２４（６），１１０５－１１１６．
【非特許文献2】Ｘｉａｏｙｕ Ｗｕ ｅｔ ａｌ．，Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ，２０１１，２２，３６７５－３６７９．
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0005】
しかしながら、非特許文献２では、発火性のある水素化アルミニウムリチウムが用いられているため、工業的生産に適さない。また、上記パリック・デーリング酸化では、ジメチル＝スルホキシドが用いられているため、反応中に悪臭のあるジメチル＝スルフィドが副生する。このジメチル＝スルフィドは、濃度が高いと酸欠となり、最悪の場合には死亡することがある上に、酸化剤と反応して火災又は爆発等の事故を起こす恐れもある。さらに、特殊引火物であるジメチル＝スルフィドと空気との混合気体は、爆発しやすいため、特別な製造設備又は処理設備が必要となり、工業的生産に適さない。加えて、溶媒として環境負荷の極めて大きいジクロロメタンを用いているため、環境の観点からも好ましくない。
【0006】
一方、特許文献１では、当該加水分解反応は平衡反応であるために、原料の（Ｚ）－５，５－ジエトキシ－３－ペンテニル＝メトキシメチル＝エーテルが一定量残存してしまい、反応が完結しない上に、反応の進行を反応液のサンプリングにより、追跡する必要がある。また、特許文献１の製造方法では、同一分子内に存在するカルボニル基の保護基であるジエチルアセタール、及び水酸基の保護基であるメトキシメチル基（ＭＯＭ基）のうち、ジエチルアセタールのみを選択的に加水分解する必要がある。しかしながら、加水分解反応時に生成するエタノールと、加水分解反応に用いる塩酸が、メトキシメチル基の脱保護条件であるため、ジエチルアセタールの加水分解と共にメトキシメチル基の脱保護も進行してしまい、収率が安定しない。さらに、目的物の（Ｅ）－４－ホルミル－３－ブテニル＝メトキシメチル＝エーテルに、当該生成したエタノールが１，４－付加して、（Ｅ）－４－ホルミル－３－エトキシブチル＝メトキシメチル＝エーテル等を副生するため、純度が低くなってしまう。この様に、同一分子内に存在するジアルキルアセタール及びアルコキシメチル基のうち、ジアルキルアセタールのみを選択的に加水分解することは容易でない。そのため、ジアルコキシアルケニル＝アルコキシメチル＝エーテル化合物の加水分解においてジアルキルアセタールのみを選択的に加水分解し、高収率でホルミルアルケニル＝アルコキシメチル＝エーテル化合物を製造する方法が求められていた。
【0007】
本発明は、上記の問題点を解決し、ジアルコキシアルケニル＝アルコキシメチル＝エーテル化合物のアルコキシメチル基の脱保護を抑制し、アセタールのみを選択的に加水分解させて、ホルミルアルケニル＝アルコキシメチル＝エーテル化合物を高純度かつ高収率で製造することを目的とする。また、本発明は、環境及び生産性の観点からも好ましいホルミルアルケニル＝アルコキシメチル＝エーテル化合物の製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【0008】
本発明者らは、鋭意検討を重ねた結果、酸の存在下で加水分解反応を行い、該加水分解反応で生成したアルコール化合物を除去しながら、該加水分解反応を引き続き進行させることにより、抽出溶媒の使用、及び／又は反応途中における反応液のサンプリングをしなくても、安定して高収率で高純度のホルミルアルケニル＝アルコキシメチル＝エーテル化合物を製造できることを見出し、本発明を為すに至った。また、該製造されたホルミルアルケニル＝アルコキシメチル＝エーテル化合物を中間体として用いて、（５Ｅ，７Ｚ）－５，７－ドデカジエン－１－オール及び（５Ｅ，７Ｚ）－５，７－ドデカジエニル＝アセテートを簡便かつ高収率で製造できることをさらに見出し、本発明を為すに至った。
【0009】
本発明の一つの態様では、
下記一般式（１）
Ｒ３ＣＨ２ＯＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）ａＣＨ＝ＣＨＣＨ（ＯＲ１）（ＯＲ２） （１）
（式中、Ｒ１及びＲ２は、それぞれ独立して炭素数１～１５の一価の炭化水素基、又はＲ１とＲ２が互いに結合したＲ１－Ｒ２として炭素数２～１０の二価の炭化水素基を表し、Ｒ３は水素原子、炭素数１～９のｎ－アルキル基、又はフェニル基を表し、ａは、１～１０の整数を表す。）
で表されるジアルコキシアルケニル＝アルコキシメチル＝エーテル化合物を酸の存在下、生成したアルコール化合物を除去しながら、加水分解反応させて、下記一般式（２）
Ｒ３ＣＨ２ＯＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）ａＣＨ＝ＣＨＣＨＯ （２）
（式中、Ｒ３及びａは、上記で定義した通りである。）
で表される、ホルミルアルケニル＝アルコキシメチル＝エーテル化合物（２）を製造する方法が提供される。
下記一般式（１）
Ｒ３ＣＨ２ＯＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）ａＣＨ＝ＣＨＣＨ（ＯＲ１）（ＯＲ２） （１）
（式中、Ｒ１及びＲ２は、それぞれ独立して炭素数１～１５の一価の炭化水素基、又はＲ１とＲ２が互いに結合したＲ１－Ｒ２として炭素数２～１０の二価の炭化水素基を表し、Ｒ３は水素原子、炭素数１～９のｎ－アルキル基、又はフェニル基を表し、ａは、１～１０の整数を表す。）
で表されるジアルコキシアルケニル＝アルコキシメチル＝エーテル化合物を酸の存在下、生成したアルコール化合物を除去しながら、加水分解反応させて、下記一般式（２）
Ｒ３ＣＨ２ＯＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）ａＣＨ＝ＣＨＣＨＯ （２）
（式中、Ｒ３及びａは、上記で定義した通りである。）
で表される、ホルミルアルケニル＝アルコキシメチル＝エーテル化合物（２）を製造する方法が提供される。
【0010】
また、本発明の別の態様では、上記加水分解反応の後に、上記で得られたホルミルアルケニル＝アルコキシメチル＝エーテル化合物（２）（ここで、ａが４の場合である）と、下記一般式（３）
（式中、Ａｒは、それぞれ独立してアリール基を表す。）
で表されるトリアリールホスホニウム＝ペンチリド化合物とをウィッティヒ反応させて、下記一般式（４）
ＣＨ３（ＣＨ２）３ＣＨ＝ＣＨＣＨ＝ＣＨ（ＣＨ２）４ＯＣＨ２ＯＣＨ２Ｒ３ （４）
（式中、Ｒ３は、上記で定義した通りである。）
で表される（５Ｅ，７Ｚ）－５，７－ドデカジエニル＝アルコキシメチル＝エーテル化合物を得て、その後に、当該（５Ｅ，７Ｚ）－５，７－ドデカジエニル＝アルコキシメチル＝エーテル化合物（４）を脱アルコキシメチル化して、下記式（５）
ＣＨ３（ＣＨ２）３ＣＨ＝ＣＨＣＨ＝ＣＨ（ＣＨ２）４ＯＨ （５）
で表される（５Ｅ，７Ｚ）－５，７－ドデカジエン－１－オールを製造する方法が提供される。
【化1】
で表されるトリアリールホスホニウム＝ペンチリド化合物とをウィッティヒ反応させて、下記一般式（４）
ＣＨ３（ＣＨ２）３ＣＨ＝ＣＨＣＨ＝ＣＨ（ＣＨ２）４ＯＣＨ２ＯＣＨ２Ｒ３ （４）
（式中、Ｒ３は、上記で定義した通りである。）
で表される（５Ｅ，７Ｚ）－５，７－ドデカジエニル＝アルコキシメチル＝エーテル化合物を得て、その後に、当該（５Ｅ，７Ｚ）－５，７－ドデカジエニル＝アルコキシメチル＝エーテル化合物（４）を脱アルコキシメチル化して、下記式（５）
ＣＨ３（ＣＨ２）３ＣＨ＝ＣＨＣＨ＝ＣＨ（ＣＨ２）４ＯＨ （５）
で表される（５Ｅ，７Ｚ）－５，７－ドデカジエン－１－オールを製造する方法が提供される。
【0011】
また、本発明のさらに別の態様では、上記で得られた（５Ｅ，７Ｚ）－５，７－ドデカジエン－１－オール（５）をアセチル化反応させて、下記式（６）
ＣＨ３（ＣＨ２）３ＣＨ＝ＣＨＣＨ＝ＣＨ（ＣＨ２）４ＯＣＯＣＨ３ （６）
で表される（５Ｅ，７Ｚ）－５，７－ドデカジエニル＝アセテートを製造する方法が提供される。
ＣＨ３（ＣＨ２）３ＣＨ＝ＣＨＣＨ＝ＣＨ（ＣＨ２）４ＯＣＯＣＨ３ （６）
で表される（５Ｅ，７Ｚ）－５，７－ドデカジエニル＝アセテートを製造する方法が提供される。
【発明の効果】
【0012】
本発明によれば、加水分解反応において、除去したアルコール化合物の重量を計測することにより、反応の進行を確認できるため、反応液のサンプリングによる反応の追跡が不要であり、作業性及び安全性を向上させることができる。また、本発明によれば、反応系中に存在するアルコール化合物量が少ないため（Ｅ）－４－ホルミル－３－アルコキシブチル＝アルコキシメチル＝エーテル等の副生を抑制でき、ジアルコキシアルケニル＝アルコキシメチル＝エーテル化合物を残存させずに、反応を完結させることができる。そのため、高生産性かつ高収率で高純度の上記ホルミルアルケニル＝アルコキシメチル＝エーテル化合物（２）を安価に製造することができる。さらに、本発明によれば、当該製造されたホルミルアルケニル＝アルコキシメチル＝エーテル化合物（２）を用いて、キクキンウワバの性フェロモンである（５Ｅ，７Ｚ）－５，７－ドデカジエン－１－オール（５）及び（５Ｅ，７Ｚ）－５，７－ドデカジエニル＝アセテート（６）を簡便かつ高収率で製造することができる。
【発明を実施するための形態】
【0013】
下記一般式（２）で表されるホルミルアルケニル＝アルコキシメチル＝エーテル化合物（以下、「ホルミルアルケニル＝アルコキシメチル＝エーテル化合物（２）」ともいう。）は、下記一般式（１）で示されるジアルコキシアルケニル＝アルコキシメチル＝エーテル化合物（以下、「ジアルコキシアルケニル＝アルコキシメチル＝エーテル化合物（１）」ともいう。）を、酸の存在下、加水分解反応させることによって得られる。
Ｒ３ＣＨ２ＯＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）ａＣＨ＝ＣＨＣＨ（ＯＲ１）（ＯＲ２） （１）
Ｒ３ＣＨ２ＯＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）ａＣＨ＝ＣＨＣＨＯ （２）
Ｒ３ＣＨ２ＯＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）ａＣＨ＝ＣＨＣＨ（ＯＲ１）（ＯＲ２） （１）
Ｒ３ＣＨ２ＯＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）ａＣＨ＝ＣＨＣＨＯ （２）
【0014】
まず、上記ジアルコキシアルケニル＝アルコキシメチル＝エーテル化合物（１）について以下に説明する。
【0015】
上記一般式（１）において、Ｒ１及びＲ２は、それぞれ独立して炭素数１～１５、好ましくは１～４の一価の炭化水素基、又はＲ１とＲ２が互いに結合したＲ１－Ｒ２として炭素数２～１０、好ましくは２～５、より好ましくは２～４の二価の炭化水素基を表す。
Ｒ１及びＲ２の一価の炭化水素基としては、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、ｎ－ブチル基、ｎ－ペンチル基ｎ－ヘキシル基、ｎ－ヘプチル基、ｎ－オクチル基、ｎ－ノニル基、ｎ－デシル基、ｎ－ウンデシル基、ｎ－ドデシル基、ｎ－トリデシル基、ｎ－テトラデシル基及びｎ－ペンタデシル基等の直鎖状の飽和炭化水素基；イソプロピル基、２－メチルブチル基及びｔ－ブチル基等の分岐状の飽和炭化水素基；２－メチル－２－プロペニル基等の分岐状の不飽和炭化水素基；シクロプロピル基等の環状の飽和炭化水素基；フェニル基等のアリール基等が挙げられ、これらと異性体の関係にある炭化水素基であってもよい。また、これらの炭化水素基の水素原子の一部がメチル基、エチル基等で置換されていてもよい。
Ｒ１－Ｒ２の二価の炭化水素基としては、エチレン基、１，３－プロピレン基、１，４－ブチレン基、１、５－ペンチレン基、１、６－ヘキシレン基、１，７－ヘプチレン基、１，８－オクチレン基、１，９－ノニレン基、１，１０－デシレン基、１，１１－ウンデシレン基、１，１２－ドデシレン基、１，１３－トリデシレン基、１，１４－テトラデシレン基及び１，１５－ペンタデシレン等の直鎖状の飽和炭化水素基；１－ビニルエチレン基等の直鎖状の不飽和炭化水素基；１，２－プロピレン基、２，２－ジメチル－１，３－プロピレン基、１，２－ブチレン基、１，３－ブチレン基、２，３－ブチレン基及び２，３－ジメチル－２，３－ブチレン基等の分岐状の飽和炭化水素基；２－メチレン－１，３－プロピレン基等の分岐状の不飽和炭化水素基；１，２－シクロプロピレン基及び１，２－シクロブチレン基等の環状炭化水素基等が挙げられ、これらと異性体の関係にある炭化水素基であってもよい。また、これらの炭化水素基の水素原子中の一部がメチル基又はエチル基等で置換されていてもよい。
二価の炭化水素基は、脱保護における反応性又は精製の容易さ、入手の容易さを考慮すると、反応性が高く、脱保護により生成する副生物が水洗又は濃縮によって容易に除去可能な低級（好ましくは炭素数２～４）の炭化水素基が好ましい。
これらを考慮すると、二価の炭化水素基の好ましい例として、エチレン基、１，２－プロピレン基、１，３－プロピレン基、１，２－ブチレン基、１，３－ブチレン基及び２，３－ジメチル－２，３－ブチレン基等が挙げられる。
Ｒ１及びＲ２の一価の炭化水素基としては、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、ｎ－ブチル基、ｎ－ペンチル基ｎ－ヘキシル基、ｎ－ヘプチル基、ｎ－オクチル基、ｎ－ノニル基、ｎ－デシル基、ｎ－ウンデシル基、ｎ－ドデシル基、ｎ－トリデシル基、ｎ－テトラデシル基及びｎ－ペンタデシル基等の直鎖状の飽和炭化水素基；イソプロピル基、２－メチルブチル基及びｔ－ブチル基等の分岐状の飽和炭化水素基；２－メチル－２－プロペニル基等の分岐状の不飽和炭化水素基；シクロプロピル基等の環状の飽和炭化水素基；フェニル基等のアリール基等が挙げられ、これらと異性体の関係にある炭化水素基であってもよい。また、これらの炭化水素基の水素原子の一部がメチル基、エチル基等で置換されていてもよい。
Ｒ１－Ｒ２の二価の炭化水素基としては、エチレン基、１，３－プロピレン基、１，４－ブチレン基、１、５－ペンチレン基、１、６－ヘキシレン基、１，７－ヘプチレン基、１，８－オクチレン基、１，９－ノニレン基、１，１０－デシレン基、１，１１－ウンデシレン基、１，１２－ドデシレン基、１，１３－トリデシレン基、１，１４－テトラデシレン基及び１，１５－ペンタデシレン等の直鎖状の飽和炭化水素基；１－ビニルエチレン基等の直鎖状の不飽和炭化水素基；１，２－プロピレン基、２，２－ジメチル－１，３－プロピレン基、１，２－ブチレン基、１，３－ブチレン基、２，３－ブチレン基及び２，３－ジメチル－２，３－ブチレン基等の分岐状の飽和炭化水素基；２－メチレン－１，３－プロピレン基等の分岐状の不飽和炭化水素基；１，２－シクロプロピレン基及び１，２－シクロブチレン基等の環状炭化水素基等が挙げられ、これらと異性体の関係にある炭化水素基であってもよい。また、これらの炭化水素基の水素原子中の一部がメチル基又はエチル基等で置換されていてもよい。
二価の炭化水素基は、脱保護における反応性又は精製の容易さ、入手の容易さを考慮すると、反応性が高く、脱保護により生成する副生物が水洗又は濃縮によって容易に除去可能な低級（好ましくは炭素数２～４）の炭化水素基が好ましい。
これらを考慮すると、二価の炭化水素基の好ましい例として、エチレン基、１，２－プロピレン基、１，３－プロピレン基、１，２－ブチレン基、１，３－ブチレン基及び２，３－ジメチル－２，３－ブチレン基等が挙げられる。
【0016】
上記一般式（１）において、ａは１～１０、好ましくは１～４の整数を表す。
【0017】
上記一般式（１）において、Ｒ３は水素原子、炭素数１～９、好ましくは１～４のｎ－アルキル基又はフェニル基を表す。
【0018】
ジアルコキシアルケニル＝アルコキシメチル＝エーテル化合物（１）の具体例としては、ジメトキシブテニル＝メトキシメチル＝エーテル、ジエトキシブテニル＝メトキシメチル＝エーテル、ジプロポキシブテニル＝メトキシメチル＝エーテル、ジブトキシブテニル＝メトキシメチル＝エーテル、ジペンチロキシブテニル＝メトキシメチル＝エーテル、ジヘキシロキシブテニル＝メトキシメチル＝エーテル、ジヘプチロキシブテニル＝メトキシメチル＝エーテル、ジオクチロキシブテニル＝メトキシメチル＝エーテル、ジノニロキシブテニル＝メトキシメチル＝エーテル及びジデシロキシブテニル＝メトキシメチル＝エーテル等のジアルコキシブテニル＝アルコキシメチル＝エーテル化合物；ジメトキシペンテニル＝メトキシメチル＝エーテル、ジエトキシペンテニル＝メトキシメチル＝エーテル、ジプロポキシペンテニル＝メトキシメチル＝エーテル、ジブトキシペンテニル＝メトキシメチル＝エーテル、ジペンチロキシペンテニル＝メトキシメチル＝エーテル、ジヘキシロキシペンテニル＝メトキシメチル＝エーテル、ジヘプチロキシペンテニル＝メトキシメチル＝エーテル、ジオクチロキシペンテニル＝メトキシメチル＝エーテル、ジノニロキシペンテニル＝メトキシメチル＝エーテル及びジデシロキシペンテニル＝メトキシメチル＝エーテル等のジアルコキシペンテニル＝メトキシメチル＝エーテル化合物；ジメトキシペンテニル＝エトキシメチル＝エーテル、ジエトキシペンテニル＝エトキシメチル＝エーテル、ジプロポキシペンテニル＝エトキシメチル＝エーテル、ジブトキシペンテニル＝エトキシメチル＝エーテル、ジペンチロキシペンテニル＝エトキシメチル＝エーテル、ジヘキシロキシペンテニル＝エトキシメチル＝エーテル、ジヘプチロキシペンテニル＝エトキシメチル＝エーテル、ジオクチロキシペンテニル＝エトキシメチル＝エーテル、ジノニロキシペンテニル＝エトキシメチル＝エーテル及びジデシロキシペンテニル＝エトキシメチル＝エーテル等のジアルコキシペンテニル＝エトキシメチル＝エーテル化合物；ジメトキシペンテニル＝プロポキシメチル＝エーテル、ジエトキシペンテニル＝プロポキシメチル＝エーテル、ジプロポキシペンテニル＝プロポキシメチル＝エーテル、ジブトキシペンテニル＝プロポキシメチル＝エーテル、ジペンチロキシペンテニル＝プロポキシメチル＝エーテル、ジヘキシロキシペンテニル＝プロポキシメチル＝エーテル、ジヘプチロキシペンテニル＝プロポキシメチル＝エーテル、ジオクチロキシペンテニル＝プロポキシメチル＝エーテル、ジノニロキシペンテニル＝プロポキシメチル＝エーテル及びジデシロキシペンテニル＝プロポキシメチル＝エーテル等のジアルコキシペンテニル＝プロポキシメチル＝エーテル化合物；ジメトキシペンテニル＝ブトキシメチル＝エーテル、ジエトキシペンテニル＝ブトキシメチル＝エーテル、ジプロポキシペンテニル＝ブトキシメチル＝エーテル、ジブトキシペンテニル＝ブトキシメチル＝エーテル、ジペンチロキシペンテニル＝ブトキシメチル＝エーテル、ジヘキシロキシペンテニル＝ブトキシメチル＝エーテル、ジヘプチロキシペンテニル＝ブトキシメチル＝エーテル、ジオクチロキシペンテニル＝ブトキシメチル＝エーテル、ジノニロキシペンテニル＝ブトキシメチル＝エーテル及びジデシロキシペンテニル＝ブトキシメチル＝エーテル等のジアルコキシペンテニル＝ブトキシメチル＝エーテル化合物；ジメトキシペンテニル＝ペンチロキシメチル＝エーテル、ジエトキシペンテニル＝ペンチロキシメチル＝エーテル、ジプロポキシペンテニル＝ペンチロキシメチル＝エーテル、ジブトキシペンテニル＝ペンチロキシメチル＝エーテル、ジペンチロキシペンテニル＝ペンチロキシメチル＝エーテル、ジヘキシロキシペンテニル＝ペンチロキシメチル＝エーテル、ジヘプチロキシペンテニル＝ペンチロキシメチル＝エーテル、ジオクチロキシペンテニル＝ペンチロキシメチル＝エーテル、ジノニロキシペンテニル＝ペンチロキシメチル＝エーテル及びジデシロキシペンテニル＝ペンチロキシメチル＝エーテル等のジアルコキシペンテニル＝ペンチロキシメチル＝エーテル化合物；ジメトキシペンテニル＝ヘキシロキシメチル＝エーテル、ジエトキシペンテニル＝ヘキシロキシメチル＝エーテル、ジプロポキシペンテニル＝ヘキシロキシメチル＝エーテル、ジブトキシペンテニル＝ヘキシロキシメチル＝エーテル、ジペンチロキシペンテニル＝ヘキシロキシメチル＝エーテル、ジヘキシロキシペンテニル＝ヘキシロキシメチル＝エーテル、ジヘプチロキシペンテニル＝ヘキシロキシメチル＝エーテル、ジオクチロキシペンテニル＝ヘキシロキシメチル＝エーテル、ジノニロキシペンテニル＝ヘキシロキシメチル＝エーテル及びジデシロキシペンテニル＝ヘキシロキシメチル＝エーテル等のジアルコキシペンテニル＝ヘキシロキシメチル＝エーテル化合物；ジメトキシペンテニル＝ヘプチロキシメチル＝エーテル、ジエトキシペンテニル＝ヘプチロキシメチル＝エーテル、ジプロポキシペンテニル＝ヘプチロキシメチル＝エーテル、ジブトキシペンテニル＝ヘプチロキシメチル＝エーテル、ジペンチロキシペンテニル＝ヘプチロキシメチル＝エーテル、ジヘキシロキシペンテニル＝ヘプチロキシメチル＝エーテル、ジヘプチロキシペンテニル＝ヘプチロキシメチル＝エーテル、ジオクチロキシペンテニル＝ヘプチロキシメチル＝エーテル、ジノニロキシペンテニル＝ヘプチロキシメチル＝エーテル及びジデシロキシペンテニル＝ヘプチロキシメチル＝エーテル等のジアルコキシペンテニル＝ヘプチロキシメチル＝エーテル化合物；ジメトキシペンテニル＝オクチロキシメチル＝エーテル、ジエトキシペンテニル＝オクチロキシメチル＝エーテル、ジプロポキシペンテニル＝オクチロキシメチル＝エーテル、ジブトキシペンテニル＝オクチロキシメチル＝エーテル、ジペンチロキシペンテニル＝オクチロキシメチル＝エーテル、ジヘキシロキシペンテニル＝オクチロキシメチル＝エーテル、ジヘプチロキシペンテニル＝オクチロキシメチル＝エーテル、ジオクチロキシペンテニル＝オクチロキシメチル＝エーテル、ジノニロキシペンテニル＝オクチロキシメチル＝エーテル及びジデシロキシペンテニル＝オクチロキシメチル＝エーテル等のジアルコキシペンテニル＝オクチロキシメチル＝エーテル化合物；ジメトキシペンテニル＝ノニロキシメチル＝エーテル、ジエトキシペンテニル＝ノニロキシメチル＝エーテル、ジプロポキシペンテニル＝ノニロキシメチル＝エーテル、ジブトキシペンテニル＝ノニロキシメチル＝エーテル、ジペンチロキシペンテニル＝ノニロキシメチル＝エーテル、ジヘキシロキシペンテニル＝ノニロキシメチル＝エーテル、ジヘプチロキシペンテニル＝ノニロキシメチル＝エーテル、ジオクチロキシペンテニル＝ノニロキシメチル＝エーテル、ジノニロキシペンテニル＝ノニロキシメチル＝エーテル及びジデシロキシペンテニル＝ノニロキシメチル＝エーテル等のジアルコキシペンテニル＝ノニロキシメチル＝エーテル化合物；ジメトキシペンテニル＝デシロキシメチル＝エーテル、ジエトキシペンテニル＝デシロキシメチル＝エーテル、ジプロポキシペンテニル＝デシロキシメチル＝エーテル、ジブトキシペンテニル＝デシロキシメチル＝エーテル、ジペンチロキシペンテニル＝デシロキシメチル＝エーテル、ジヘキシロキシペンテニル＝デシロキシメチル＝エーテル、ジヘプチロキシペンテニル＝デシロキシメチル＝エーテル、ジオクチロキシペンテニル＝デシロキシメチル＝エーテル、ジノニロキシペンテニル＝デシロキシメチル＝エーテル及びジデシロキシペンテニル＝デシロキシメチル＝エーテル等のジアルコキシペンテニル＝デシロキシメチル＝エーテル化合物；ジメトキシペンテニル＝ベンジロキシメチル＝エーテル、ジエトキシペンテニル＝ベンジロキシメチル＝エーテル、ジプロポキシペンテニル＝ベンジロキシメチル＝エーテル、ジブトキシペンテニル＝ベンジロキシメチル＝エーテル、ジペンチロキシペンテニル＝ベンジロキシメチル＝エーテル、ジヘキシロキシペンテニル＝ベンジロキシメチル＝エーテル、ジヘプチロキシペンテニル＝ベンジロキシメチル＝エーテル、ジオクチロキシペンテニル＝ベンジロキシメチル＝エーテル、ジノニロキシペンテニル＝ベンジロキシメチル＝エーテル及びジデシロキシペンテニル＝ベンジロキシメチル＝エーテル等のジアルコキシペンテニル＝ベンジロキシメチル＝エーテル化合物；ジメトキシヘキセニル＝メトキシメチル＝エーテル、ジエトキシヘキセニル＝メトキシメチル＝エーテル、ジプロポキシヘキセニル＝メトキシメチル＝エーテル、ジブトキシヘキセニル＝メトキシメチル＝エーテル、ジペンチロキシヘキセニル＝メトキシメチル＝エーテル、ジヘキシロキシヘキセニル＝メトキシメチル＝エーテル、ジヘプチロキシヘキセニル＝メトキシメチル＝エーテル、ジオクチロキシヘキセニル＝メトキシメチル＝エーテル、ジノニロキシヘキセニル＝メトキシメチル＝エーテル及びジデシロキシヘキセニル＝メトキシメチル＝エーテル等のジアルコキシヘキセニル＝アルコキシメチル＝エーテル化合物；ジメトキシヘプテニル＝メトキシメチル＝エーテル、ジエトキシヘプテニル＝メトキシメチル＝エーテル、ジプロポキシヘプテニル＝メトキシメチル＝エーテル、ジブトキシヘプテニル＝メトキシメチル＝エーテル、ジペンチロキシヘプテニル＝メトキシメチル＝エーテル、ジヘキシロキシヘプテニル＝メトキシメチル＝エーテル、ジヘプチロキシヘプテニル＝メトキシメチル＝エーテル、ジオクチロキシヘプテニル＝メトキシメチル＝エーテル、ジノニロキシヘプテニル＝メトキシメチル＝エーテル及びジデシロキシヘプテニル＝メトキシメチル＝エーテル等のジアルコキシヘプテニル＝メトキシメチル＝エーテル化合物；ジメトキシヘプテニル＝エトキシメチル＝エーテル、ジエトキシヘプテニル＝エトキシメチル＝エーテル、ジプロポキシヘプテニル＝エトキシメチル＝エーテル、ジブトキシヘプテニル＝エトキシメチル＝エーテル、ジペンチロキシヘプテニル＝エトキシメチル＝エーテル、ジヘキシロキシヘプテニル＝エトキシメチル＝エーテル、ジヘプチロキシヘプテニル＝エトキシメチル＝エーテル、ジオクチロキシヘプテニル＝エトキシメチル＝エーテル、ジノニロキシヘプテニル＝エトキシメチル＝エーテル及びジデシロキシヘプテニル＝エトキシメチル＝エーテル等のジアルコキシヘプテニル＝エトキシメチル＝エーテル化合物；ジメトキシヘプテニル＝プロポキシメチル＝エーテル、ジエトキシヘプテニル＝プロポキシメチル＝エーテル、ジプロポキシヘプテニル＝プロポキシメチル＝エーテル、ジブトキシヘプテニル＝プロポキシメチル＝エーテル、ジペンチロキシヘプテニル＝プロポキシメチル＝エーテル、ジヘキシロキシヘプテニル＝プロポキシメチル＝エーテル、ジヘプチロキシヘプテニル＝プロポキシメチル＝エーテル、ジオクチロキシヘプテニル＝プロポキシメチル＝エーテル、ジノニロキシヘプテニル＝プロポキシメチル＝エーテル及びジデシロキシヘプテニル＝プロポキシメチル＝エーテル等のジアルコキシヘプテニル＝プロポキシメチル＝エーテル化合物；ジメトキシヘプテニル＝ブトキシメチル＝エーテル、ジエトキシヘプテニル＝ブトキシメチル＝エーテル、ジプロポキシヘプテニル＝ブトキシメチル＝エーテル、ジブトキシヘプテニル＝ブトキシメチル＝エーテル、ジペンチロキシヘプテニル＝ブトキシメチル＝エーテル、ジヘキシロキシヘプテニル＝ブトキシメチル＝エーテル、ジヘプチロキシヘプテニル＝ブトキシメチル＝エーテル、ジオクチロキシヘプテニル＝ブトキシメチル＝エーテル、ジノニロキシヘプテニル＝ブトキシメチル＝エーテル及びジデシロキシヘプテニル＝ブトキシメチル＝エーテル等のジアルコキシヘプテニル＝ブトキシメチル＝エーテル化合物；ジメトキシヘプテニル＝ペンチロキシメチル＝エーテル、ジエトキシヘプテニル＝ペンチロキシメチル＝エーテル、ジプロポキシヘプテニル＝ペンチロキシメチル＝エーテル、ジブトキシヘプテニル＝ペンチロキシメチル＝エーテル、ジペンチロキシヘプテニル＝ペンチロキシメチル＝エーテル、ジヘキシロキシヘプテニル＝ペンチロキシメチル＝エー
テル、ジヘプチロキシヘプテニル＝ペンチロキシメチル＝エーテル、ジオクチロキシヘプテニル＝ペンチロキシメチル＝エーテル、ジノニロキシヘプテニル＝ペンチロキシメチル＝エーテル及びジデシロキシヘプテニル＝ペンチロキシメチル＝エーテル等のジアルコキシヘプテニル＝ペンチロキシメチル＝エーテル化合物；ジメトキシヘプテニル＝ヘキシロキシメチル＝エーテル、ジエトキシヘプテニル＝ヘキシロキシメチル＝エーテル、ジプロポキシヘプテニル＝ヘキシロキシメチル＝エーテル、ジブトキシヘプテニル＝ヘキシロキシメチル＝エーテル、ジペンチロキシヘプテニル＝ヘキシロキシメチル＝エーテル、ジヘキシロキシヘプテニル＝ヘキシロキシメチル＝エーテル、ジヘプチロキシヘプテニル＝ヘキシロキシメチル＝エーテル、ジオクチロキシヘプテニル＝ヘキシロキシメチル＝エーテル、ジノニロキシヘプテニル＝ヘキシロキシメチル＝エーテル化合物及びジデシロキシヘプテニル＝ヘキシロキシメチル＝エーテル等のジアルコキシヘプテニル＝ヘキシロキシメチル＝エーテル化合物；ジメトキシヘプテニル＝ヘプチロキシメチル＝エーテル、ジエトキシヘプテニル＝ヘプチロキシメチル＝エーテル、ジプロポキシヘプテニル＝ヘプチロキシメチル＝エーテル、ジブトキシヘプテニル＝ヘプチロキシメチル＝エーテル、ジペンチロキシヘプテニル＝ヘプチロキシメチル＝エーテル、ジヘキシロキシヘプテニル＝ヘプチロキシメチル＝エーテル、ジヘプチロキシヘプテニル＝ヘプチロキシメチル＝エーテル、ジオクチロキシヘプテニル＝ヘプチロキシメチル＝エーテル、ジノニロキシヘプテニル＝ヘプチロキシメチル＝エーテル及びジデシロキシヘプテニル＝ヘプチロキシメチル＝エーテル等のジアルコキシヘプテニル＝ヘプチロキシメチル＝エーテル化合物；ジメトキシヘプテニル＝オクチロキシメチル＝エーテル、ジエトキシヘプテニル＝オクチロキシメチル＝エーテル、ジプロポキシヘプテニル＝オクチロキシメチル＝エーテル、ジブトキシヘプテニル＝オクチロキシメチル＝エーテル、ジペンチロキシヘプテニル＝オクチロキシメチル＝エーテル、ジヘキシロキシヘプテニル＝オクチロキシメチル＝エーテル、ジヘプチロキシヘプテニル＝オクチロキシメチル＝エーテル、ジオクチロキシヘプテニル＝オクチロキシメチル＝エーテル、ジノニロキシヘプテニル＝オクチロキシメチル＝エーテル及びジデシロキシヘプテニル＝オクチロキシメチル＝エーテル等のジアルコキシヘプテニル＝オクチロキシメチル＝エーテル化合物；ジメトキシヘプテニル＝ノニロキシメチル＝エーテル、ジエトキシヘプテニル＝ノニロキシメチル＝エーテル、ジプロポキシヘプテニル＝ノニロキシメチル＝エーテル、ジブトキシヘプテニル＝ノニロキシメチル＝エーテル、ジペンチロキシヘプテニル＝ノニロキシメチル＝エーテル、ジヘキシロキシヘプテニル＝ノニロキシメチル＝エーテル、ジヘプチロキシヘプテニル＝ノニロキシメチル＝エーテル、ジオクチロキシヘプテニル＝ノニロキシメチル＝エーテル、ジノニロキシヘプテニル＝ノニロキシメチル＝エーテル及びジデシロキシヘプテニル＝ノニロキシメチル＝エーテル等のジアルコキシヘプテニル＝ノニロキシメチル＝エーテル化合物；ジメトキシヘプテニル＝デシロキシメチル＝エーテル、ジエトキシヘプテニル＝デシロキシメチル＝エーテル、ジプロポキシヘプテニル＝デシロキシメチル＝エーテル、ジブトキシヘプテニル＝デシロキシメチル＝エーテル、ジペンチロキシヘプテニル＝デシロキシメチル＝エーテル、ジヘキシロキシヘプテニル＝デシロキシメチル＝エーテル、ジヘプチロキシヘプテニル＝デシロキシメチル＝エーテル、ジオクチロキシヘプテニル＝デシロキシメチル＝エーテル、ジノニロキシヘプテニル＝デシロキシメチル＝エーテル及びジデシロキシヘプテニル＝デシロキシメチル＝エーテル等のジアルコキシヘプテニル＝デシロキシメチル＝エーテル化合物；ジメトキシヘプテニル＝ベンジロキシメチル＝エーテル、ジエトキシヘプテニル＝ベンジロキシメチル＝エーテル、ジプロポキシヘプテニル＝ベンジロキシメチル＝エーテル、ジブトキシヘプテニル＝ベンジロキシメチル＝エーテル、ジペンチロキシヘプテニル＝ベンジロキシメチル＝エーテル、ジヘキシロキシヘプテニル＝ベンジロキシメチル＝エーテル、ジヘプチロキシヘプテニル＝ベンジロキシメチル＝エーテル、ジオクチロキシヘプテニル＝ベンジロキシメチル＝エーテル、ジノニロキシヘプテニル＝ベンジロキシメチル＝エーテル及びジデシロキシヘプテニル＝ベンジロキシメチル＝エーテル等のジアルコキシヘプテニル＝ベンジロキシメチル＝エーテル化合物；ジメトキシオクテニル＝メトキシメチル＝エーテル、ジエトキシオクテニル＝メトキシメチル＝エーテル、ジプロポキシオクテニル＝メトキシメチル＝エーテル、ジブトキシオクテニル＝メトキシメチル＝エーテル、ジペンチロキシオクテニル＝メトキシメチル＝エーテル、ジヘキシロキシオクテニル＝メトキシメチル＝エーテル、ジヘプチロキシオクテニル＝メトキシメチル＝エーテル、ジオクチロキシオクテニル＝メトキシメチル＝エーテル、ジノニロキシオクテニル＝メトキシメチル＝エーテル及びジデシロキシオクテニル＝メトキシメチル＝エーテル等のジアルコキシオクテニル＝アルコキシメチル＝エーテル化合物；ジメトキシノネニル＝メトキシメチル＝エーテル、ジエトキシノネニル＝メトキシメチル＝エーテル、ジプロポキシノネニル＝メトキシメチル＝エーテル、ジブトキシノネニル＝メトキシメチル＝エーテル、ジペンチロキシノネニル＝メトキシメチル＝エーテル、ジヘキシロキシノネニル＝メトキシメチル＝エーテル、ジヘプチロキシノネニル＝メトキシメチル＝エーテル、ジオクチロキシノネニル＝メトキシメチル＝エーテル、ジノニロキシノネニル＝メトキシメチル＝エーテル及びジデシロキシノネニル＝メトキシメチル＝エーテル等のジアルコキシノネニル＝アルコキシメチル＝エーテル化合物；ジメトキシデセニル＝メトキシメチル＝エーテル、ジエトキシデセニル＝メトキシメチル＝エーテル、ジプロポキシデセニル＝メトキシメチル＝エーテル、ジブトキシデセニル＝メトキシメチル＝エーテル、ジペンチロキシデセニル＝メトキシメチル＝エーテル、ジヘキシロキシデセニル＝メトキシメチル＝エーテル、ジヘプチロキシデセニル＝メトキシメチル＝エーテル、ジオクチロキシデセニル＝メトキシメチル＝エーテル、ジノニロキシデセニル＝メトキシメチル＝エーテル及びジデシロキシデセニル＝メトキシメチル＝エーテル等のジアルコキシデセニル＝アルコキシメチル＝エーテル化合物；ジメトキシウンデセニル＝メトキシメチル＝エーテル、ジエトキシウンデセニル＝メトキシメチル＝エーテル、ジプロポキシウンデセニル＝メトキシメチル＝エーテル、ジブトキシウンデセニル＝メトキシメチル＝エーテル、ジペンチロキシウンデセニル＝メトキシメチル＝エーテル、ジヘキシロキシウンデセニル＝メトキシメチル＝エーテル、ジヘプチロキシウンデセニル＝メトキシメチル＝エーテル、ジオクチロキシウンデセニル＝メトキシメチル＝エーテル、ジノニロキシウンデセニル＝メトキシメチル＝エーテル及びジデシロキシウンデセニル＝メトキシメチル＝エーテル等のジアルコキシウンデセニル＝アルコキシメチル＝エーテル化合物；ジメトキシドデセニル＝メトキシメチル＝エーテル、ジエトキシドデセニル＝メトキシメチル＝エーテル、ジプロポキシドデセニル＝メトキシメチル＝エーテル、ジブトキシドデセニル＝メトキシメチル＝エーテル、ジペンチロキシドデセニル＝メトキシメチル＝エーテル、ジヘキシロキシドデセニル＝メトキシメチル＝エーテル、ジヘプチロキシドデセニル＝メトキシメチル＝エーテル、ジオクチロキシドデセニル＝メトキシメチル＝エーテル、ジノニロキシドデセニル＝メトキシメチル＝エーテル及びジデシロキシドデセニル＝メトキシメチル＝エーテル等のジアルコキシドデセニル＝アルコキシメチル＝エーテル化合物；並びに、ジメトキシトリデセニル＝メトキシメチル＝エーテル、ジエトキシトリデセニル＝メトキシメチル＝エーテル、ジプロポキシトリデセニル＝メトキシメチル＝エーテル、ジブトキシトリデセニル＝メトキシメチル＝エーテル、ジペンチロキシトリデセニル＝メトキシメチル＝エーテル、ジヘキシロキシトリデセニル＝メトキシメチル＝エーテル、ジヘプチロキシトリデセニル＝メトキシメチル＝エーテル、ジオクチロキシトリデセニル＝メトキシメチル＝エーテル、ジノニロキシトリデセニル＝メトキシメチル＝エーテル及びジデシロキシトリデセニル＝メトキシメチル＝エーテル等のジアルコキシトリデセニル＝アルコキシメチル＝エーテル化合物が挙げられる。
テル、ジヘプチロキシヘプテニル＝ペンチロキシメチル＝エーテル、ジオクチロキシヘプテニル＝ペンチロキシメチル＝エーテル、ジノニロキシヘプテニル＝ペンチロキシメチル＝エーテル及びジデシロキシヘプテニル＝ペンチロキシメチル＝エーテル等のジアルコキシヘプテニル＝ペンチロキシメチル＝エーテル化合物；ジメトキシヘプテニル＝ヘキシロキシメチル＝エーテル、ジエトキシヘプテニル＝ヘキシロキシメチル＝エーテル、ジプロポキシヘプテニル＝ヘキシロキシメチル＝エーテル、ジブトキシヘプテニル＝ヘキシロキシメチル＝エーテル、ジペンチロキシヘプテニル＝ヘキシロキシメチル＝エーテル、ジヘキシロキシヘプテニル＝ヘキシロキシメチル＝エーテル、ジヘプチロキシヘプテニル＝ヘキシロキシメチル＝エーテル、ジオクチロキシヘプテニル＝ヘキシロキシメチル＝エーテル、ジノニロキシヘプテニル＝ヘキシロキシメチル＝エーテル化合物及びジデシロキシヘプテニル＝ヘキシロキシメチル＝エーテル等のジアルコキシヘプテニル＝ヘキシロキシメチル＝エーテル化合物；ジメトキシヘプテニル＝ヘプチロキシメチル＝エーテル、ジエトキシヘプテニル＝ヘプチロキシメチル＝エーテル、ジプロポキシヘプテニル＝ヘプチロキシメチル＝エーテル、ジブトキシヘプテニル＝ヘプチロキシメチル＝エーテル、ジペンチロキシヘプテニル＝ヘプチロキシメチル＝エーテル、ジヘキシロキシヘプテニル＝ヘプチロキシメチル＝エーテル、ジヘプチロキシヘプテニル＝ヘプチロキシメチル＝エーテル、ジオクチロキシヘプテニル＝ヘプチロキシメチル＝エーテル、ジノニロキシヘプテニル＝ヘプチロキシメチル＝エーテル及びジデシロキシヘプテニル＝ヘプチロキシメチル＝エーテル等のジアルコキシヘプテニル＝ヘプチロキシメチル＝エーテル化合物；ジメトキシヘプテニル＝オクチロキシメチル＝エーテル、ジエトキシヘプテニル＝オクチロキシメチル＝エーテル、ジプロポキシヘプテニル＝オクチロキシメチル＝エーテル、ジブトキシヘプテニル＝オクチロキシメチル＝エーテル、ジペンチロキシヘプテニル＝オクチロキシメチル＝エーテル、ジヘキシロキシヘプテニル＝オクチロキシメチル＝エーテル、ジヘプチロキシヘプテニル＝オクチロキシメチル＝エーテル、ジオクチロキシヘプテニル＝オクチロキシメチル＝エーテル、ジノニロキシヘプテニル＝オクチロキシメチル＝エーテル及びジデシロキシヘプテニル＝オクチロキシメチル＝エーテル等のジアルコキシヘプテニル＝オクチロキシメチル＝エーテル化合物；ジメトキシヘプテニル＝ノニロキシメチル＝エーテル、ジエトキシヘプテニル＝ノニロキシメチル＝エーテル、ジプロポキシヘプテニル＝ノニロキシメチル＝エーテル、ジブトキシヘプテニル＝ノニロキシメチル＝エーテル、ジペンチロキシヘプテニル＝ノニロキシメチル＝エーテル、ジヘキシロキシヘプテニル＝ノニロキシメチル＝エーテル、ジヘプチロキシヘプテニル＝ノニロキシメチル＝エーテル、ジオクチロキシヘプテニル＝ノニロキシメチル＝エーテル、ジノニロキシヘプテニル＝ノニロキシメチル＝エーテル及びジデシロキシヘプテニル＝ノニロキシメチル＝エーテル等のジアルコキシヘプテニル＝ノニロキシメチル＝エーテル化合物；ジメトキシヘプテニル＝デシロキシメチル＝エーテル、ジエトキシヘプテニル＝デシロキシメチル＝エーテル、ジプロポキシヘプテニル＝デシロキシメチル＝エーテル、ジブトキシヘプテニル＝デシロキシメチル＝エーテル、ジペンチロキシヘプテニル＝デシロキシメチル＝エーテル、ジヘキシロキシヘプテニル＝デシロキシメチル＝エーテル、ジヘプチロキシヘプテニル＝デシロキシメチル＝エーテル、ジオクチロキシヘプテニル＝デシロキシメチル＝エーテル、ジノニロキシヘプテニル＝デシロキシメチル＝エーテル及びジデシロキシヘプテニル＝デシロキシメチル＝エーテル等のジアルコキシヘプテニル＝デシロキシメチル＝エーテル化合物；ジメトキシヘプテニル＝ベンジロキシメチル＝エーテル、ジエトキシヘプテニル＝ベンジロキシメチル＝エーテル、ジプロポキシヘプテニル＝ベンジロキシメチル＝エーテル、ジブトキシヘプテニル＝ベンジロキシメチル＝エーテル、ジペンチロキシヘプテニル＝ベンジロキシメチル＝エーテル、ジヘキシロキシヘプテニル＝ベンジロキシメチル＝エーテル、ジヘプチロキシヘプテニル＝ベンジロキシメチル＝エーテル、ジオクチロキシヘプテニル＝ベンジロキシメチル＝エーテル、ジノニロキシヘプテニル＝ベンジロキシメチル＝エーテル及びジデシロキシヘプテニル＝ベンジロキシメチル＝エーテル等のジアルコキシヘプテニル＝ベンジロキシメチル＝エーテル化合物；ジメトキシオクテニル＝メトキシメチル＝エーテル、ジエトキシオクテニル＝メトキシメチル＝エーテル、ジプロポキシオクテニル＝メトキシメチル＝エーテル、ジブトキシオクテニル＝メトキシメチル＝エーテル、ジペンチロキシオクテニル＝メトキシメチル＝エーテル、ジヘキシロキシオクテニル＝メトキシメチル＝エーテル、ジヘプチロキシオクテニル＝メトキシメチル＝エーテル、ジオクチロキシオクテニル＝メトキシメチル＝エーテル、ジノニロキシオクテニル＝メトキシメチル＝エーテル及びジデシロキシオクテニル＝メトキシメチル＝エーテル等のジアルコキシオクテニル＝アルコキシメチル＝エーテル化合物；ジメトキシノネニル＝メトキシメチル＝エーテル、ジエトキシノネニル＝メトキシメチル＝エーテル、ジプロポキシノネニル＝メトキシメチル＝エーテル、ジブトキシノネニル＝メトキシメチル＝エーテル、ジペンチロキシノネニル＝メトキシメチル＝エーテル、ジヘキシロキシノネニル＝メトキシメチル＝エーテル、ジヘプチロキシノネニル＝メトキシメチル＝エーテル、ジオクチロキシノネニル＝メトキシメチル＝エーテル、ジノニロキシノネニル＝メトキシメチル＝エーテル及びジデシロキシノネニル＝メトキシメチル＝エーテル等のジアルコキシノネニル＝アルコキシメチル＝エーテル化合物；ジメトキシデセニル＝メトキシメチル＝エーテル、ジエトキシデセニル＝メトキシメチル＝エーテル、ジプロポキシデセニル＝メトキシメチル＝エーテル、ジブトキシデセニル＝メトキシメチル＝エーテル、ジペンチロキシデセニル＝メトキシメチル＝エーテル、ジヘキシロキシデセニル＝メトキシメチル＝エーテル、ジヘプチロキシデセニル＝メトキシメチル＝エーテル、ジオクチロキシデセニル＝メトキシメチル＝エーテル、ジノニロキシデセニル＝メトキシメチル＝エーテル及びジデシロキシデセニル＝メトキシメチル＝エーテル等のジアルコキシデセニル＝アルコキシメチル＝エーテル化合物；ジメトキシウンデセニル＝メトキシメチル＝エーテル、ジエトキシウンデセニル＝メトキシメチル＝エーテル、ジプロポキシウンデセニル＝メトキシメチル＝エーテル、ジブトキシウンデセニル＝メトキシメチル＝エーテル、ジペンチロキシウンデセニル＝メトキシメチル＝エーテル、ジヘキシロキシウンデセニル＝メトキシメチル＝エーテル、ジヘプチロキシウンデセニル＝メトキシメチル＝エーテル、ジオクチロキシウンデセニル＝メトキシメチル＝エーテル、ジノニロキシウンデセニル＝メトキシメチル＝エーテル及びジデシロキシウンデセニル＝メトキシメチル＝エーテル等のジアルコキシウンデセニル＝アルコキシメチル＝エーテル化合物；ジメトキシドデセニル＝メトキシメチル＝エーテル、ジエトキシドデセニル＝メトキシメチル＝エーテル、ジプロポキシドデセニル＝メトキシメチル＝エーテル、ジブトキシドデセニル＝メトキシメチル＝エーテル、ジペンチロキシドデセニル＝メトキシメチル＝エーテル、ジヘキシロキシドデセニル＝メトキシメチル＝エーテル、ジヘプチロキシドデセニル＝メトキシメチル＝エーテル、ジオクチロキシドデセニル＝メトキシメチル＝エーテル、ジノニロキシドデセニル＝メトキシメチル＝エーテル及びジデシロキシドデセニル＝メトキシメチル＝エーテル等のジアルコキシドデセニル＝アルコキシメチル＝エーテル化合物；並びに、ジメトキシトリデセニル＝メトキシメチル＝エーテル、ジエトキシトリデセニル＝メトキシメチル＝エーテル、ジプロポキシトリデセニル＝メトキシメチル＝エーテル、ジブトキシトリデセニル＝メトキシメチル＝エーテル、ジペンチロキシトリデセニル＝メトキシメチル＝エーテル、ジヘキシロキシトリデセニル＝メトキシメチル＝エーテル、ジヘプチロキシトリデセニル＝メトキシメチル＝エーテル、ジオクチロキシトリデセニル＝メトキシメチル＝エーテル、ジノニロキシトリデセニル＝メトキシメチル＝エーテル及びジデシロキシトリデセニル＝メトキシメチル＝エーテル等のジアルコキシトリデセニル＝アルコキシメチル＝エーテル化合物が挙げられる。
【0019】
ジアルコキシアルケニル＝アルコキシメチル＝エーテル化合物（１）は、例えば、アルコキシメチル＝アルキニル＝エーテル化合物のアルキン末端をアセタール化して、炭素－炭素三重結合を接触還元することによって合成することができる。
【0020】
次に、上記ホルミルアルケニル＝アルコキシメチル＝エーテル化合物（２）について以下に説明する。
【0021】
上記一般式（２）において、Ｒ３及びａは上記一般式（１）で定義した通りである。
【0022】
ホルミルアルケニル＝アルコキシメチル＝エーテル化合物（２）の具体例としては、ホルミルブテニル＝メトキシメチル＝エーテル、ホルミルブテニル＝エトキシメチル＝エーテル、ホルミルブテニル＝プロポキシメチル＝エーテル、ホルミルブテニル＝ブトキシメチル＝エーテル、ホルミルブテニル＝ペンチロキシメチル＝エーテル、ホルミルブテニル＝ヘキシロキシメチル＝エーテル、ホルミルブテニル＝へプチロキシメチル＝エーテル、ホルミルブテニル＝オクチロキシメチル＝エーテル、ホルミルブテニル＝ノニロキシメチル＝エーテル、ホルミルブテニル＝デシロキシメチル＝エーテル及びホルミルブテニル＝ベンジロキシメチル＝エーテル等のホルミルブテニル＝アルコキシメチル＝エーテル化合物；ホルミルペンテニル＝メトキシメチル＝エーテル、ホルミルペンテニル＝エトキシメチル＝エーテル、ホルミルペンテニル＝プロポキシメチル＝エーテル、ホルミルペンテニル＝ブトキシメチル＝エーテル、ホルミルペンテニル＝ペンチロキシメチル＝エーテル、ホルミルペンテニル＝ヘキシロキシメチル＝エーテル、ホルミルペンテニル＝へプチロキシメチル＝エーテル、ホルミルペンテニル＝オクチロキシメチル＝エーテル、ホルミルペンテニル＝ノニロキシメチル＝エーテル、ホルミルペンテニル＝デシロキシメチル＝エーテル及びホルミルペンテニル＝ベンジロキシメチル＝エーテル等のホルミルペンテニル＝アルコキシメチル＝エーテル化合物；ホルミルヘキセニル＝メトキシメチル＝エーテル、ホルミルヘキセニル＝エトキシメチル＝エーテル、ホルミルヘキセニル＝プロポキシメチル＝エーテル、ホルミルヘキセニル＝ブトキシメチル＝エーテル、ホルミルヘキセニル＝ペンチロキシメチル＝エーテル、ホルミルヘキセニル＝ヘキシロキシメチル＝エーテル、ホルミルヘキセニル＝へプチロキシメチル＝エーテル、ホルミルヘキセニル＝オクチロキシメチル＝エーテル、ホルミルヘキセニル＝ノニロキシメチル＝エーテル、ホルミルヘキセニル＝デシロキシメチル＝エーテル及びホルミルヘキセニル＝ベンジロキシメチル＝エーテル等のホルミルヘキセニル＝アルコキシメチル＝エーテル化合物；ホルミルヘプテニル＝メトキシメチル＝エーテル、ホルミルヘプテニル＝エトキシメチル＝エーテル、ホルミルヘプテニル＝プロポキシメチル＝エーテル、ホルミルヘプテニル＝ブトキシメチル＝エーテル、ホルミルヘプテニル＝ペンチロキシメチル＝エーテル、ホルミルヘプテニル＝ヘキシロキシメチル＝エーテル、ホルミルヘプテニル＝へプチロキシメチル＝エーテル、ホルミルヘプテニル＝オクチロキシメチル＝エーテル、ホルミルヘプテニル＝ノニロキシメチル＝エーテル、ホルミルヘプテニル＝デシロキシメチル＝エーテル及びホルミルヘプテニル＝ベンジロキシメチル＝エーテル等のホルミルヘプテニル＝アルコキシメチル＝エーテル化合物；ホルミルオクテニル＝メトキシメチル＝エーテル、ホルミルオクテニル＝エトキシメチル＝エーテル、ホルミルオクテニル＝プロポキシメチル＝エーテル、ホルミルオクテニル＝ブトキシメチル＝エーテル、ホルミルオクテニル＝ペンチロキシメチル＝エーテル、ホルミルオクテニル＝ヘキシロキシメチル＝エーテル、ホルミルオクテニル＝へプチロキシメチル＝エーテル、ホルミルオクテニル＝オクチロキシメチル＝エーテル、ホルミルオクテニル＝ノニロキシメチル＝エーテル、ホルミルオクテニル＝デシロキシメチル＝エーテル及びホルミルオクテニル＝ベンジロキシメチル＝エーテル等のホルミルオクテニル＝アルコキシメチル＝エーテル化合物；ホルミルノネニル＝メトキシメチル＝エーテル、ホルミルノネニル＝エトキシメチル＝エーテル、ホルミルノネニル＝プロポキシメチル＝エーテル、ホルミルノネニル＝ブトキシメチル＝エーテル、ホルミルノネニル＝ペンチロキシメチル＝エーテル、ホルミルノネニル＝ヘキシロキシメチル＝エーテル、ホルミルノネニル＝へプチロキシメチル＝エーテル、ホルミルノネニル＝オクチロキシメチル＝エーテル、ホルミルノネニル＝ノニロキシメチル＝エーテル、ホルミルノネニル＝デシロキシメチル＝エーテル及びホルミルノネニル＝ベンジロキシメチル＝エーテル等のホルミルノネニル＝アルコキシメチル＝エーテル化合物；ホルミルデセニル＝メトキシメチル＝エーテル、ホルミルデセニル＝エトキシメチル＝エーテル、ホルミルデセニル＝プロポキシメチル＝エーテル、ホルミルデセニル＝ブトキシメチル＝エーテル、ホルミルデセニル＝ペンチロキシメチル＝エーテル、ホルミルデセニル＝ヘキシロキシメチル＝エーテル、ホルミルデセニル＝へプチロキシメチル＝エーテル、ホルミルデセニル＝オクチロキシメチル＝エーテル、ホルミルデセニル＝ノニロキシメチル＝エーテル、ホルミルデセニル＝デシロキシメチル＝エーテル及びホルミルデセニル＝ベンジロキシメチル＝エーテル等のホルミルデセニル＝アルコキシメチル＝エーテル化合物；ホルミルウンデセニル＝メトキシメチル＝エーテル、ホルミルウンデセニル＝エトキシメチル＝エーテル、ホルミルウンデセニル＝プロポキシメチル＝エーテル、ホルミルウンデセニル＝ブトキシメチル＝エーテル、ホルミルウンデセニル＝ペンチロキシメチル＝エーテル、ホルミルウンデセニル＝ヘキシロキシメチル＝エーテル、ホルミルウンデセニル＝へプチロキシメチル＝エーテル、ホルミルウンデセニル＝オクチロキシメチル＝エーテル、ホルミルウンデセニル＝ノニロキシメチル＝エーテル、ホルミルウンデセニル＝デシロキシメチル＝エーテル及びホルミルウンデセニル＝ベンジロキシメチル＝エーテル等のホルミルウンデセニル＝アルコキシメチル＝エーテル化合物；ホルミルドデセニル＝メトキシメチル＝エーテル、ホルミルドデセニル＝エトキシメチル＝エーテル、ホルミルドデセニル＝プロポキシメチル＝エーテル、ホルミルドデセニル＝ブトキシメチル＝エーテル、ホルミルドデセニル＝ペンチロキシメチル＝エーテル、ホルミルドデセニル＝ヘキシロキシメチル＝エーテル、ホルミルドデセニル＝へプチロキシメチル＝エーテル、ホルミルドデセニル＝オクチロキシメチル＝エーテル、ホルミルドデセニル＝ノニロキシメチル＝エーテル、ホルミルドデセニル＝デシロキシメチル＝エーテル及びホルミルドデセニル＝ベンジロキシメチル＝エーテル等のホルミルドデセニル＝アルコキシメチル＝エーテル化合物；並びに、ホルミルトリデセニル＝メトキシメチル＝エーテル、ホルミルトリデセニル＝エトキシメチル＝エーテル、ホルミルトリデセニル＝プロポキシメチル＝エーテル、ホルミルトリデセニル＝ブトキシメチル＝エーテル、ホルミルトリデセニル＝ペンチロキシメチル＝エーテル、ホルミルトリデセニル＝ヘキシロキシメチル＝エーテル、ホルミルトリデセニル＝へプチロキシメチル＝エーテル、ホルミルトリデセニル＝オクチロキシメチル＝エーテル、ホルミルトリデセニル＝ノニロキシメチル＝エーテル、ホルミルトリデセニル＝デシロキシメチル＝エーテル及びホルミルトリデセニル＝ベンジロキシメチル＝エーテル等のホルミルトリデセニル＝アルコキシメチル＝エーテル化合物が挙げられる。
【0023】
次に、ジアルコキシアルケニル＝アルコキシメチル＝エーテル化合物（１）の加水分解反応について以下に説明する。
【0024】
上記加水分解反応は、例えば、酸又は水を用いて行うことができる。
該酸としては、塩酸及び臭化水素酸等の無機酸類；並びに、ｐ－トルエンスルホン酸（ｐ－ＴｓＯＨ）、ベンゼンスルホン酸、トリフルオロ酢酸、酢酸、ギ酸、シュウ酸、ヨードトリメチルシラン及び四塩化チタン等が挙げられるが、反応性の観点から、ｐ－トルエンスルホン酸、酢酸、ギ酸及び塩酸が好ましく、ギ酸及び塩酸がより好ましい。
該酸としては、塩酸及び臭化水素酸等の無機酸類；並びに、ｐ－トルエンスルホン酸（ｐ－ＴｓＯＨ）、ベンゼンスルホン酸、トリフルオロ酢酸、酢酸、ギ酸、シュウ酸、ヨードトリメチルシラン及び四塩化チタン等が挙げられるが、反応性の観点から、ｐ－トルエンスルホン酸、酢酸、ギ酸及び塩酸が好ましく、ギ酸及び塩酸がより好ましい。
【0025】
該酸の使用量は、生産性の観点から、上記ジアルコキシアルケニル＝アルコキシメチル＝エーテル化合物（１）１ｍｏｌに対して、好ましくは０．０００１～２．０ｍｏｌ、より好ましくは０．００３～１．０ｍｏｌである。
【0026】
該酸は、１種類又は必要に応じて、２種類以上を使用してもよい。また、該酸は、市販されているものであってもよく、また独自に合成したものであってもよい。
【0027】
上述の水の使用量は、反応性の観点から、ジアルコキシアルケニル＝アルコキシメチル＝エーテル化合物（１）１ｍｏｌに対して、好ましくは０～３０００ｇであり、より好ましくは０～３００ｇである。用いる酸が含水化合物の場合は、あえて水を加える必要はない。
【0028】
加水分解反応は、無溶媒でおこなってもよく、又は必要に応じて溶媒を用いてもよい。
無溶媒で加水分解を行うことにより、仕込み量が減ったり、又は生産性が低下したりすることを防ぐことが可能である。
溶媒を用いる場合、該溶媒としては、一般的な溶媒、例えば、ジブチル＝エーテル、４－メチルテトラヒドロピラン、シクロペンチルメチルエーテル及び１，４－ジオキサン等のエーテル類；ヘプタン、ベンゼン、トルエン、キシレン及びクメン等の炭化水素類；トリクロロエチレン等の塩素系溶媒類；ジメチル＝スルホキシド、γ－ブチロラクトン及びヘキサメチルホスホリック＝トリアミド等の非プロトン性極性溶媒類；アセトニトリル及びプロピオニトリル等のニトリル類；並びに、酢酸ｎ－プロピル及び酢酸ｎ－ブチル等のエステル類が挙げられる。
該溶媒は、１種類又は必要に応じて、２種類以上を使用してもよい。また、該溶媒は、市販されているものを用いることができる。
該溶媒は、加水分解反応で生成したアルコール化合物（以下、「アルコール化合物（７）」ともいう。）の沸点と沸点差があり、アルコール化合物（７）よりも沸点が高いものが好ましい。
加水分解反応に用いる溶媒の使用量は、上記ジアルコキシアルケニル＝アルコキシメチル＝エーテル化合物（１）１ｍｏｌに対して、好ましくは０～２０００ｇ、より好ましくは０～５００ｇである。
無溶媒で加水分解を行うことにより、仕込み量が減ったり、又は生産性が低下したりすることを防ぐことが可能である。
溶媒を用いる場合、該溶媒としては、一般的な溶媒、例えば、ジブチル＝エーテル、４－メチルテトラヒドロピラン、シクロペンチルメチルエーテル及び１，４－ジオキサン等のエーテル類；ヘプタン、ベンゼン、トルエン、キシレン及びクメン等の炭化水素類；トリクロロエチレン等の塩素系溶媒類；ジメチル＝スルホキシド、γ－ブチロラクトン及びヘキサメチルホスホリック＝トリアミド等の非プロトン性極性溶媒類；アセトニトリル及びプロピオニトリル等のニトリル類；並びに、酢酸ｎ－プロピル及び酢酸ｎ－ブチル等のエステル類が挙げられる。
該溶媒は、１種類又は必要に応じて、２種類以上を使用してもよい。また、該溶媒は、市販されているものを用いることができる。
該溶媒は、加水分解反応で生成したアルコール化合物（以下、「アルコール化合物（７）」ともいう。）の沸点と沸点差があり、アルコール化合物（７）よりも沸点が高いものが好ましい。
加水分解反応に用いる溶媒の使用量は、上記ジアルコキシアルケニル＝アルコキシメチル＝エーテル化合物（１）１ｍｏｌに対して、好ましくは０～２０００ｇ、より好ましくは０～５００ｇである。
【0029】
加水分解反応における反応温度は、反応性の観点から、好ましくは１０～１５０℃であり、より好ましくは３０～８０℃である。
加水分解反応における反応時間は、反応のスケールによって異なるが、生産性の観点から、好ましくは１～１００時間である。
加水分解反応における反応時間は、反応のスケールによって異なるが、生産性の観点から、好ましくは１～１００時間である。
【0030】
上記加水分解反応が進行中であることは例えば、該加水分解反応で生成したアルコール化合物（７）を留出させ、そして除去することによって得られた液体の重量を計測することにより、又はＧＣによって加水分解反応を追跡することにより確認することが可能であり、好ましくは安全性及び作業性の観点から該加水分解反応で生成したアルコール化合物を留出させ、そして除去することによって得られた液体の重量を計測することが好ましい。上記得られた液体の重量を計測することにより加水分解反応が進行中であることを確認する手段として、例えば該加水分解反応で生成したアルコール化合物を留出し、除去することによって得られた液体の重量が、仕込んだ原料、すなわちジアルコキシアルケニル＝アルコキシメチル＝エーテル化合物（１）の量から計算によって求められたアルコール化合物（７）の理論量に満たず、かつ該得られた液体の重量がまだ増加することにより確認する方法が挙げられる。
【0031】
上記ジアルコキシアルケニル＝アルコキシメチル＝エーテル化合物（１）の中でも、水への溶解性が高い炭素数４～７のホルミルアルケニル＝アルコキシメチル＝エーテル化合物（２：ａ＝１～４）を製造する場合、すなわちジアルコキシブテニル＝アルコキシメチル＝エーテル化合物、ジアルコキシペンテニル＝アルコキシメチル＝エーテル化合物、ジアルコキシヘキセニル＝アルコキシメチル＝エーテル化合物、ジアルコキシヘプテニル＝アルコキシメチル＝エーテル化合物を加水分解反応させて、アルデヒドである上記ホルミルアルケニル＝アルコキシメチル＝エーテル化合物（２：ａ＝１～４）を製造する場合において、本発明は、特に有利である。以下では、炭素数４～７のホルミルアルケニル＝アルコキシメチル＝エーテル化合物（２：ａ＝１～４）を製造する場合を例示として説明する。なお、炭素数８～１３のホルミルアルケニル＝アルコキシメチル＝エーテル化合物（２：ａ＝５～１０）を製造する場合を、本発明の範囲から排除するものでないことに留意されたい。
通常、これらのジアルコキシアルケニル＝アルコキシメチル＝エーテル化合物（１：ａ＝１～４）を加水分解反応させて、ホルミルアルケニル＝アルコキシメチル＝エーテル化合物（２：ａ＝１～４）を製造する場合、反応時の溶媒又は抽出溶媒として、抽出力に優れた非水溶性のジクロロメタン、クロロホルム、ジエチル＝エーテル、トルエン、又はキシレンを用いる必要がある。しかしながら、これらの溶媒を用いた場合、蒸留による該溶媒の分離が必要となり、仕込量が減ることによる生産性低下が生じる上に、該溶媒は廃棄物となるため、環境に悪い。一方で、これらの溶媒を用いない場合は、上記ホルミルアルケニル＝アルコキシメチル＝エーテル化合物（２：ａ＝１～４）が水層へ逃げてしまうため、該ホルミルアルケニル＝アルコキシメチル＝エーテル化合物（２：ａ＝１～４）の収率が極めて低くなってしまう。また、上記ホルミルアルケニル＝アルコキシメチル＝エーテル化合物（２：ａ＝１～４）の反応液にアルコールが混在する場合には、上記ホルミルアルケニル＝アルコキシメチル＝エーテル化合物（２：ａ＝１～４）の水層への溶解性が上がり、収率が大きく低下してしまったり、又は同じ条件下で繰り返し調製を行っても、収率が安定しなかったりする（下記の比較例１～６を参照）。
しかしながら、本発明では、加水分解反応を進行させながら、該加水分解で生成するアルコール化合物を除去することにより、炭素数４～７のホルミルアルケニル＝アルコキシメチル＝エーテル化合物（２：ａ＝１～４）が水層へ移行することによるロスを防ぎながら又はロスすることなしに、該ホルミルアルケニル＝アルコキシメチル＝エーテル化合物（２：ａ＝１～４）を水層から有機層へ分離することができるため、上記ホルミルアルケニル＝アルコキシメチル＝エーテル化合物（２：ａ＝１～４）の収率及び生産性を向上させることができる（下記の実施例１～４及び比較例１～６を参照）。また、加水分解反応中に、該加水分解によって生成するアルコール化合物を除去することにより、後処理することなしに又は後処理の工程を少なくして、そのまま目的物であるホルミルアルケニル＝アルコキシメチル＝エーテル化合物（２：ａ＝１～４）を蒸留精製することも可能である。
通常、これらのジアルコキシアルケニル＝アルコキシメチル＝エーテル化合物（１：ａ＝１～４）を加水分解反応させて、ホルミルアルケニル＝アルコキシメチル＝エーテル化合物（２：ａ＝１～４）を製造する場合、反応時の溶媒又は抽出溶媒として、抽出力に優れた非水溶性のジクロロメタン、クロロホルム、ジエチル＝エーテル、トルエン、又はキシレンを用いる必要がある。しかしながら、これらの溶媒を用いた場合、蒸留による該溶媒の分離が必要となり、仕込量が減ることによる生産性低下が生じる上に、該溶媒は廃棄物となるため、環境に悪い。一方で、これらの溶媒を用いない場合は、上記ホルミルアルケニル＝アルコキシメチル＝エーテル化合物（２：ａ＝１～４）が水層へ逃げてしまうため、該ホルミルアルケニル＝アルコキシメチル＝エーテル化合物（２：ａ＝１～４）の収率が極めて低くなってしまう。また、上記ホルミルアルケニル＝アルコキシメチル＝エーテル化合物（２：ａ＝１～４）の反応液にアルコールが混在する場合には、上記ホルミルアルケニル＝アルコキシメチル＝エーテル化合物（２：ａ＝１～４）の水層への溶解性が上がり、収率が大きく低下してしまったり、又は同じ条件下で繰り返し調製を行っても、収率が安定しなかったりする（下記の比較例１～６を参照）。
しかしながら、本発明では、加水分解反応を進行させながら、該加水分解で生成するアルコール化合物を除去することにより、炭素数４～７のホルミルアルケニル＝アルコキシメチル＝エーテル化合物（２：ａ＝１～４）が水層へ移行することによるロスを防ぎながら又はロスすることなしに、該ホルミルアルケニル＝アルコキシメチル＝エーテル化合物（２：ａ＝１～４）を水層から有機層へ分離することができるため、上記ホルミルアルケニル＝アルコキシメチル＝エーテル化合物（２：ａ＝１～４）の収率及び生産性を向上させることができる（下記の実施例１～４及び比較例１～６を参照）。また、加水分解反応中に、該加水分解によって生成するアルコール化合物を除去することにより、後処理することなしに又は後処理の工程を少なくして、そのまま目的物であるホルミルアルケニル＝アルコキシメチル＝エーテル化合物（２：ａ＝１～４）を蒸留精製することも可能である。
【0032】
上述の加水分解反応においては、ジアルコキシアルケニル＝アルコキシメチル＝エーテル化合物（１）、酸、及び必要に応じて水を仕込んだ後、加熱して加水分解反応により生成したアルコール化合物（７）を、加水分解反応の進行下で留出させる。該留出は、例えば、アルコール化合物（７）がエタノールの場合、加水分解反応の進行下、内温を４０～５０℃に昇温した後に、２３５ｍｍＨｇ（３１．３ｋＰａ）まで減圧して行う。加水分解反応は常圧下でアルコール化合物（７）を留出させて行うことも可能であるが、ホルミルアルケニル＝アルコキシメチル＝エーテル化合物（２）の熱安定性を考慮すると減圧下で行うことが好ましい。そして、該留出物の除去は、エタノールを留出させながら除去しつつ５０ｍｍＨｇ（６．６７ｋＰａ）まで徐々に減圧して行う。上記加水分解の終了は、エタノールの留出がなくなったところとする。エタノールの留出がなくなったことは例えば、該加水分解反応で生成したアルコール化合物を留出し、除去することによって得られた液体の重量が、仕込んだ原料、すなわちジアルコキシアルケニル＝アルコキシメチル＝エーテル化合物（１）の量から計算によって求められたアルコール化合物（７）の量と同等になり、そして該得られた液体の重量が変化しなくなくなったことにより確認する方法が挙げられる。
なお、「内温」とは、反応液の液温をいい、反応温度と同義である。
なお、「内温」とは、反応液の液温をいい、反応温度と同義である。
【0033】
アルコール化合物（７）の具体例としては、メタノール、エタノール、ｎ－プロパノール、ｎ－ブタノール、ｎ－ペンタノール、ｎ－ヘキサノール、ｎ－ヘプタノール、ｎ－オクタノール、ｎ－ノナノール、ｎ－デカノール、ｎ－ウンデカノール、ｎ－ドデカノール、ｎ－トリデカノール、ｎ－テトラデカノール及びｎ－ペンタデカノール等の直鎖アルコール類；イソプロパノール及び２－ブタノール等の分岐アルコール類；並びに、エチレングリコール、１，３－プロパンジオール、１，４－ブタンジオール、１，５－ペンタンジオール、１，６－ヘキサンジオール、１，７－ヘプタンジオール、１，８－オクタンジオール、１，９－ノナンジオール、１，１０－デカンジオール、１，１１－ウンデカンジオール、１，１２－ドデカンジオール、１，１３－トリデカンジオール、１，１４－テトラデカンジオール、１，１５－ペンタデカンジオール、１，２－プロパンジオール、２，２－ジメチル－１，３－プロパンジオール及び２，２－ジメチル－１，４－ブタンジオール等のジオール類が挙げられる。
【0034】
上記留出にて回収されたアルコール化合物（７）は高純度であるため、例えば、アルデヒドのアセタール化又は脱アルコキシメチル化反応等の本加水分解反応とは別の反応の原料として、再利用可能である。従って、本発明に従う方法は、環境に優しく、かつ経済的にも極めて有利である。
【0035】
以上のようにして、ジアルコキシアルケニル＝アルコキシメチル＝エーテル化合物（１）を、酸の存在下、加水分解により生成したアルコール化合物を除去しながら、該加水分解をさらに進行させることによって、上記ホルミルアルケニル＝アルコキシメチル＝エーテル化合物（２）を製造することができる。
【0036】
続いて、上記の製造方法により得られたホルミルアルケニル＝アルコキシメチル＝エーテル化合物（２：ａ＝４）を用いて、キクキンウワバの性フェロモンであり、かつ下記式（５）で表される（５Ｅ，７Ｚ）－５，７－ドデカジエン－１－オール（以下、「（５Ｅ，７Ｚ）－５，７－ドデカジエン－１－オール（５）」ともいう。）を製造する方法について以下に説明する。
【0037】
（５Ｅ，７Ｚ）－５，７－ドデカジエン－１－オール（５）は、ホルミルヘプテニル＝アルコキシメチル＝エーテル化合物（２：ａ＝４）と、下記一般式（３）で表されるトリアリールホスホニウム＝ペンチリド化合物（以下、「トリアリールホスホニウム＝ペンチリド化合物（３）」ともいう。）とのウィッティヒ反応により、下記一般式（４：ａ＝４）で表される（５Ｅ，７Ｚ）－５，７－ドデカジエニル＝アルコキシメチル＝エーテル化合物（以下、「（５Ｅ，７Ｚ）－５，７－ドデカジエニル＝アルコキシメチル＝エーテル（４：ａ＝４）」ともいう。）を得て、その後に、当該（５Ｅ，７Ｚ）－５，７－ドデカジエニル＝アルコキシメチル＝エーテル（４：ａ＝４）を脱アルコキシメチル化反応して製造することができる。
【0038】
【化2】
【0039】
まず、ウィッティヒ反応工程について説明する。
一般式（３）において、Ａｒは、それぞれ独立してアリール基を表す。
アリール基の炭素数は、好ましくは６～７である。
アリール基としては、例としてフェニル基（Ｐｈ基（＝Ｃ６Ｈ５））及びトリル基が挙げられるが、合成のしやすさの観点から、フェニル基が好ましく、三つのアリール基が全てフェニル基であることがより好ましい。
一般式（３）において、Ａｒは、それぞれ独立してアリール基を表す。
アリール基の炭素数は、好ましくは６～７である。
アリール基としては、例としてフェニル基（Ｐｈ基（＝Ｃ６Ｈ５））及びトリル基が挙げられるが、合成のしやすさの観点から、フェニル基が好ましく、三つのアリール基が全てフェニル基であることがより好ましい。
【0040】
トリアリールホスホニウム＝ペンチリド化合物（３）の具体例としては、トリフェニルホスホニウム＝ペンチリド及びトリトリルホスホニウム＝ペンチリド等が挙げられる。
トリアリールホスホニウム＝ペンチリド化合物（３）は、１種類又は必要に応じて、２種以上を用いてもよい。
トリアリールホスホニウム＝ペンチリド化合物（３）は、１種類又は必要に応じて、２種以上を用いてもよい。
【0041】
また、トリアリールホスホニウム＝ペンチリド化合物（３）は、例えば、下記一般式（８）で表される１－ハロペンタン化合物（以下、「１－ハロペンタン化合物（８）」ともいう。）と、下記一般式（９）で表されるリン化合物（以下、「リン化合物（９）」ともいう。）とを反応させることにより、下記一般式（１０）で表されるペンチニルトリアリールホスホニウム＝ハライド化合物（以下、「ペンチニルトリアリールホスホニウム＝ハライド化合物（１０）」ともいう。）を得るステップと、上述のペンチニルトリアリールホスホニウム＝ハライド化合物（１０）と、塩基との脱プロトン化反応により、トリアリールホスホニウム＝ペンチリド化合物（３）を得るステップにより、調製することができる。
【0042】
【化3】
【0043】
１－ハロペンタン化合物（８）におけるＸは、ハロゲン原子を表し、例として塩素原子、臭素原子及びヨウ素原子等が挙げられるが、汎用性の観点から、塩素原子及び臭素原子が好ましい。
【0044】
１－ハロペンタン化合物（８）の具体例としては、１－クロロペンタン、１－ブロモペンタン及び１－ヨードペンタン等が挙げられる。
【0045】
一般式（９）において、Ａｒは、上記一般式（３）で定義した通りである。
【0046】
リン化合物（９）の具体例としては、トリフェニルホスフィン及びトリトリルホスフィン等のトリアリールホスフィン化合物が挙げられ、反応性の観点から、トリフェニルホスフィンが好ましい。
【0047】
リン化合物（９）の使用量は、反応性の観点から、１－ハロペンタン化合物（８）１ｍｏｌに対して、好ましくは０．８～５．０ｍｏｌである。
【0048】
ペンチルトリアリールホスホニウム＝ハライド化合物（１０）の調製には、必要に応じて、ハロゲン化物を用いてもよい。
該ハロゲン化物としては、例えば、ヨウ化ナトリウム、ヨウ化カリウム、臭化ナトリウム及び臭化カリウム等が挙げられ、反応性の観点から、ヨウ化ナトリウム及びヨウ化カリウム等のヨウ化物が好ましい。
該ハロゲン化物は、１種類又は必要に応じて、２種類以上を使用してもよい。また、該ハロゲン化物は、市販のものを用いることができる。
該ハロゲン化物の使用量は、反応性の観点から、１－ハロペンタン化合物（８）１ｍｏｌに対して、好ましくは０～５．０ｍｏｌである。
該ハロゲン化物としては、例えば、ヨウ化ナトリウム、ヨウ化カリウム、臭化ナトリウム及び臭化カリウム等が挙げられ、反応性の観点から、ヨウ化ナトリウム及びヨウ化カリウム等のヨウ化物が好ましい。
該ハロゲン化物は、１種類又は必要に応じて、２種類以上を使用してもよい。また、該ハロゲン化物は、市販のものを用いることができる。
該ハロゲン化物の使用量は、反応性の観点から、１－ハロペンタン化合物（８）１ｍｏｌに対して、好ましくは０～５．０ｍｏｌである。
【0049】
ペンチルトリアリールホスホニウム＝ハライド化合物（１０）の調製には、必要に応じて、塩基を加えてもよい。
該塩基としては、炭酸カリウム及び炭酸ナトリウム等のアルカリ金属炭酸塩；炭酸カルシウム及び炭酸マグネシウム等のアルカリ土類金属炭酸塩等；トリエチルアミン、トリプロピルアミン、トリイソプロピルアミン、トリブチルアミン、Ｎ，Ｎ－ジエチルアニリン及びピリジン等のアミン等が挙げられ、取扱いの観点から、アルカリ金属炭酸塩が好ましい。
該塩基は、１種類又は必要に応じて、２種類以上を使用してもよい。また、該塩基は、市販のものを用いることができる。
該塩基の使用量は、反応性の観点から、１－ハロペンタン化合物（８）１ｍｏｌに対して、好ましくは０～２．０ｍｏｌである。
該塩基としては、炭酸カリウム及び炭酸ナトリウム等のアルカリ金属炭酸塩；炭酸カルシウム及び炭酸マグネシウム等のアルカリ土類金属炭酸塩等；トリエチルアミン、トリプロピルアミン、トリイソプロピルアミン、トリブチルアミン、Ｎ，Ｎ－ジエチルアニリン及びピリジン等のアミン等が挙げられ、取扱いの観点から、アルカリ金属炭酸塩が好ましい。
該塩基は、１種類又は必要に応じて、２種類以上を使用してもよい。また、該塩基は、市販のものを用いることができる。
該塩基の使用量は、反応性の観点から、１－ハロペンタン化合物（８）１ｍｏｌに対して、好ましくは０～２．０ｍｏｌである。
【0050】
ペンチルトリアリールホスホニウム＝ハライド化合物（１０）の調製における反応温度（至適温度）は、用いる溶媒により異なるが、好ましくは６０～１８０℃である。
ペンチルトリアリールホスホニウム＝ハライド化合物（１０）の調製における反応時間は、用いる溶媒又は反応スケールにより異なるが、好ましくは０．５～５５時間である。
ペンチルトリアリールホスホニウム＝ハライド化合物（１０）の調製における反応時間は、用いる溶媒又は反応スケールにより異なるが、好ましくは０．５～５５時間である。
【0051】
一般式（１０）におけるＹは、ハロゲン原子を表し、例として塩素原子、臭素原子及びヨウ素原子等が挙げられる。
ペンチルトリアリールホスホニウム＝ハライド化合物（１０）の調製において、ハロゲン化物を用いない場合は、該Ｙは一般式（８）におけるＸと同じハロゲン原子であり、一方、ハロゲン化物としてヨウ化物を用いる場合には、該Ｙは上記Ｘと同じハロゲン原子又はヨウ素原子である。
ペンチルトリアリールホスホニウム＝ハライド化合物（１０）の調製において、ハロゲン化物を用いない場合は、該Ｙは一般式（８）におけるＸと同じハロゲン原子であり、一方、ハロゲン化物としてヨウ化物を用いる場合には、該Ｙは上記Ｘと同じハロゲン原子又はヨウ素原子である。
【0052】
一般式（１０）において、Ａｒは、上記一般式（３）で定義した通りである。
【0053】
ペンチルトリアリールホスホニウム＝ハライド化合物（１０）の具体例としては、ペンチルトリフェニルホスホニウム＝クロリド、ペンチルトリフェニルホスホニウム＝ブロミド及びペンチルトリフェニルホスホニウム＝ヨージド等のペンチルトリフェニルホスホニウム＝ハライド化合物；ペンチルトリトリルホスホニウム＝クロリド、ペンチルトリトリルホスホニウム＝ブロミド及びペンチルトリトリルホスホニウム＝ヨージド等のペンチルトリトリルホスホニウム＝ハライド化合物が挙げられる。
【0054】
トリアリールホスホニウム＝ペンチリド化合物（３）は、ペンチルトリアリールホスホニウム＝ハライド（１０）の調製と同じ反応系中に塩基を加えて、脱プロトン化反応させて、直接トリアリールホスホニウム＝ペンチリド化合物（３）に導いてもよいし、ペンチルトリアリールホスホニウム＝ハライド（１０）を単離精製してから塩基と脱プロトン化反応させて、トリアリールホスホニウム＝ペンチリド化合物（３）に導いてもよい。
【0055】
ペンチルトリアリールホスホニウム＝ハライド（１０）の脱プロトン化反応に用いる塩基としては、例えば、ｎ－ブチルリチウム及びｔｅｒｔ－ブチルリチウム等のアルキルリチウム；メチルマグネシウム＝クロリド、メチルマグネシウム＝ブロミド、ナトリウム＝アセチリド及びカリウム＝アセチリド等の有機金属試薬類；カリウム＝ｔｅｒｔ－ブトキシド、ナトリウム＝ｔｅｒｔ－ブトキシド、カリウム＝メトキシド、ナトリウム＝メトキシド及びカリウム＝エトキシド、ナトリウム＝エトキシド等の金属アルコキシド；並びに、リチウム＝ジイソプロピルアミド及びナトリウム＝ビス（トリメチルシリル）アミド等の金属アミド等が挙げられ、反応性の観点から、金属アルコキシドが好ましく、カリウム＝ｔｅｒｔ－ブトキシド、ナトリウム＝メトキシド及びナトリウム＝エトキシドがより好ましい。
該塩基の使用量は、反応性の観点から、１－ハロペンタン化合物（８）１ｍｏｌに対して、好ましくは０．７～５．０ｍｏｌである。
該塩基の使用量は、反応性の観点から、１－ハロペンタン化合物（８）１ｍｏｌに対して、好ましくは０．７～５．０ｍｏｌである。
【0056】
ペンチルトリアリールホスホニウム＝ハライド（１０）の脱プロトン化反応における反応温度（至適温度）は、用いる溶媒又は塩基により異なるが、好ましくは－７８～４０℃である。
ペンチルトリアリールホスホニウム＝ハライド（１０）の脱プロトン化反応における反応時間は、用いる溶媒又は反応スケールにより異なるが、好ましくは０．５～５０時間である。
ペンチルトリアリールホスホニウム＝ハライド（１０）の脱プロトン化反応における反応時間は、用いる溶媒又は反応スケールにより異なるが、好ましくは０．５～５０時間である。
【0057】
ペンチルトリアリールホスホニウム＝ハライド化合物（１０）の調製及びペンチルトリアリールホスホニウム＝ハライド（１０）の脱プロトン化反応では、必要に応じて、溶媒を用いてもよい。
該溶媒としては、テトラヒドロフラン、ジエチル＝エーテル、ジブチル＝エーテル、４－メチルテトラヒドロピラン、シクロペンチルメチルエーテル及び１，４－ジオキサン等のエーテル系溶媒；ヘキサン、ヘプタン、ベンゼン、トルエン、キシレン及びクメン等の炭化水素系溶媒；並びに、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド、Ｎ－メチルピロリドン、ジメチル＝スルホキシド、γ－ブチロラクトン、アセトニトリル、ジクロロメタン及びクロロホルム等の極性溶媒等が挙げられ、反応性の観点から、テトラヒドロフラン及び４－メチルテトラヒドロピラン等のエーテル系溶媒、並びに、アセトニトリル、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド及びＮ，Ｎ－ジメチルアセトアミド等の極性溶媒が好ましい。
該溶媒は、１種類又は必要に応じて、２種類以上を使用してもよい。また、溶媒は、市販のものを用いることができる。
該溶媒の使用量は、反応性の観点から、１－ハロペンタン化合物（８）又はペンチルトリアリールホスホニウム＝ハライド化合物（１０）１ｍｏｌに対して、好ましくは１０～６０００ｇ、より好ましくは５０～４０００ｇである。
該溶媒としては、テトラヒドロフラン、ジエチル＝エーテル、ジブチル＝エーテル、４－メチルテトラヒドロピラン、シクロペンチルメチルエーテル及び１，４－ジオキサン等のエーテル系溶媒；ヘキサン、ヘプタン、ベンゼン、トルエン、キシレン及びクメン等の炭化水素系溶媒；並びに、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド、Ｎ－メチルピロリドン、ジメチル＝スルホキシド、γ－ブチロラクトン、アセトニトリル、ジクロロメタン及びクロロホルム等の極性溶媒等が挙げられ、反応性の観点から、テトラヒドロフラン及び４－メチルテトラヒドロピラン等のエーテル系溶媒、並びに、アセトニトリル、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド及びＮ，Ｎ－ジメチルアセトアミド等の極性溶媒が好ましい。
該溶媒は、１種類又は必要に応じて、２種類以上を使用してもよい。また、溶媒は、市販のものを用いることができる。
該溶媒の使用量は、反応性の観点から、１－ハロペンタン化合物（８）又はペンチルトリアリールホスホニウム＝ハライド化合物（１０）１ｍｏｌに対して、好ましくは１０～６０００ｇ、より好ましくは５０～４０００ｇである。
【0058】
トリアリールホスホニウム＝ペンチリド化合物（３）の使用量は、反応性の観点から、ホルミルアルケニル＝アルコキシメチル＝エーテル化合物（２）１ｍｏｌに対して、好ましくは１．０～４．０ｍｏｌ、より好ましくは１．０～２．０ｍｏｌである。
【0059】
上述のウィッティヒ反応には、必要に応じて、溶媒を用いてもよい。
該溶媒としては、テトラヒドロフラン、ジエチル＝エーテル、ジブチル＝エーテル、４－メチルテトラヒドロピラン、シクロペンチルメチルエーテル及び１，４－ジオキサン等のエーテル系溶媒；ヘキサン、ヘプタン、ベンゼン、トルエン、キシレン及びクメン等の炭化水素系溶媒；並びに、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド、Ｎ－メチルピロリドン、ジメチル＝スルホキシド、γ－ブチロラクトン、アセトニトリル、ジクロロメタン及びクロロホルム等の極性溶媒等が挙げられ、反応性の観点から、テトラヒドロフラン及び４－メチルテトラヒドロピラン等のエーテル系溶媒、並びに、アセトニトリル、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド及Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド等の極性溶媒が好ましい。
該溶媒は、１種類又は必要に応じて、２種類以上を使用してもよい。また、該溶媒は、市販のものを用いることができる。
該溶媒の使用量は、反応性の観点から、ホルミルアルケニル＝アルコキシメチル＝エーテル化合物（２）１ｍｏｌに対して、好ましくは１０～６０００ｇ、より好ましくは５０～４０００ｇである。
該溶媒としては、テトラヒドロフラン、ジエチル＝エーテル、ジブチル＝エーテル、４－メチルテトラヒドロピラン、シクロペンチルメチルエーテル及び１，４－ジオキサン等のエーテル系溶媒；ヘキサン、ヘプタン、ベンゼン、トルエン、キシレン及びクメン等の炭化水素系溶媒；並びに、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド、Ｎ－メチルピロリドン、ジメチル＝スルホキシド、γ－ブチロラクトン、アセトニトリル、ジクロロメタン及びクロロホルム等の極性溶媒等が挙げられ、反応性の観点から、テトラヒドロフラン及び４－メチルテトラヒドロピラン等のエーテル系溶媒、並びに、アセトニトリル、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド及Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド等の極性溶媒が好ましい。
該溶媒は、１種類又は必要に応じて、２種類以上を使用してもよい。また、該溶媒は、市販のものを用いることができる。
該溶媒の使用量は、反応性の観点から、ホルミルアルケニル＝アルコキシメチル＝エーテル化合物（２）１ｍｏｌに対して、好ましくは１０～６０００ｇ、より好ましくは５０～４０００ｇである。
【0060】
ウィッティヒ反応における反応温度は、用いる溶媒により最適温度は異なるが、好ましくは－７８～４０℃である。
ウィッティヒ反応における反応時間は、反応スケールにより異なるが、好ましくは０．５～５０時間である。
ウィッティヒ反応における反応時間は、反応スケールにより異なるが、好ましくは０．５～５０時間である。
【0061】
（５Ｅ，７Ｚ）－５，７－ドデカジエニル＝アルコキシメチル＝エーテル化合物（４）の具体例としては、（５Ｅ，７Ｚ）－５，７－ドデカジエニル＝メトキシメチル＝エーテル、（５Ｅ，７Ｚ）－５，７－ドデカジエニル＝エトキシメチル＝エーテル、（５Ｅ，７Ｚ）－５，７－ドデカジエニル＝プロポキシメチル＝エーテル、（５Ｅ，７Ｚ）－５，７－ドデカジエニル＝ブトキシメチル＝エーテル、（５Ｅ，７Ｚ）－５，７－ドデカジエニル＝ペンチロキシメチル＝エーテル、（５Ｅ，７Ｚ）－５，７－ドデカジエニル＝ヘキシロキシメチル＝エーテル、（５Ｅ，７Ｚ）－５，７－ドデカジエニル＝ヘプチロキシメチル＝エーテル、（５Ｅ，７Ｚ）－５，７－ドデカジエニル＝オクチロキシメチル＝エーテル、（５Ｅ，７Ｚ）－５，７－ドデカジエニル＝ノニロキシメチル＝エーテル、（５Ｅ，７Ｚ）－５，７－ドデカジエニル＝デシロキシメチル＝エーテル及び（５Ｅ，７Ｚ）－５，７－ドデカジエニル＝ベンジロキシメチル＝エーテル等が挙げられる。
【0062】
次に、脱アルコキシメチル化工程について説明する。
（５Ｅ，７Ｚ）－５，７－ドデカジエニル＝アルコキシメチル＝エーテル化合物（４：ａ＝４）の脱アルコキシメチル化反応は、例えば、酸及び下記一般式（１１）で表されるアルコール化合物（以下、「アルコール化合物（１１）」ともいう。）を用いて行うことができる。
Ｒ４ＯＨ （１１）
アルコキシメチル化反応に用いる酸としては、塩酸、臭化水素酸等の無機酸類；ｐ－トルエンスルホン酸（ｐ－ＴｓＯＨ）、ベンゼンスルホン酸、トリフルオロ酢酸、酢酸、ギ酸、シュウ酸、ヨードトリメチルシラン及び四塩化チタン等が挙げられるが、反応性の観点から、ｐ－トルエンスルホン酸及び塩酸が好ましい。
該酸は、１種類又は必要に応じて、２種類以上を使用してもよい。また、該酸は、市販のものを用いることができる。
該酸の使用量は、反応完結の観点から、（５Ｅ，７Ｚ）－５，７－ドデカジエニル＝アルコキシメチル＝エーテル化合物（４）１ｍｏｌに対して、好ましくは０．００１～１０．０ｍｏｌ、より好ましくは０．０１～３．０ｍｏｌである。
（５Ｅ，７Ｚ）－５，７－ドデカジエニル＝アルコキシメチル＝エーテル化合物（４：ａ＝４）の脱アルコキシメチル化反応は、例えば、酸及び下記一般式（１１）で表されるアルコール化合物（以下、「アルコール化合物（１１）」ともいう。）を用いて行うことができる。
Ｒ４ＯＨ （１１）
アルコキシメチル化反応に用いる酸としては、塩酸、臭化水素酸等の無機酸類；ｐ－トルエンスルホン酸（ｐ－ＴｓＯＨ）、ベンゼンスルホン酸、トリフルオロ酢酸、酢酸、ギ酸、シュウ酸、ヨードトリメチルシラン及び四塩化チタン等が挙げられるが、反応性の観点から、ｐ－トルエンスルホン酸及び塩酸が好ましい。
該酸は、１種類又は必要に応じて、２種類以上を使用してもよい。また、該酸は、市販のものを用いることができる。
該酸の使用量は、反応完結の観点から、（５Ｅ，７Ｚ）－５，７－ドデカジエニル＝アルコキシメチル＝エーテル化合物（４）１ｍｏｌに対して、好ましくは０．００１～１０．０ｍｏｌ、より好ましくは０．０１～３．０ｍｏｌである。
【0063】
一般式（１１）において、Ｒ４は、炭素数１～１５、価格又は汎用性の観点から好ましくは炭素数１～６の一価の炭化水素を表す。一価の炭化水素基は、上記一般式（１）のＲ１及びＲ２の一価の炭化水素基と同じである。
アルコール化合物（１１）としては、メタノール、エタノール、ｎ－プロパノール、ｎ－ブタノール、ｎ－ペンタノール、ｎ－ヘキサノール、ｎ－ヘプタノール、ｎ－オクタノール、ｎ－ノナノール、ｎ－デカノール、ｎ－ウンデカノール、ｎ－ドデカノール、ｎ－トリデカノール、ｎ－テトラデカノール及びｎ－ペンタデカノール等の直鎖アルコール類；並びに、イソプロパノール及び２－ブタノール等の分岐アルコール類等が挙げられるが、反応性の観点から、メタノール及びエタノールが好ましい。
アルコール化合物（１１）は、必要に応じて２種類以上を使用してもよい。
また、アルコール化合物（１１）は、市販のもの、又は上記加水分解反応で回収したアルコール化合物（７）を用いることができる。
アルコール化合物（１１）の使用量は、（５Ｅ，７Ｚ）－５，７－ドデカジエニル＝アルコキシメチル＝エーテル化合物（４）１ｍｏｌに対して、反応性の観点から、好ましくは１．０～１００ｍｏｌ、より好ましくは１．０～４０ｍｏｌである。
脱アルコキシメチル化反応には、必要に応じて、アルコール化合物（１１）以外の溶媒を用いてもよい。
該溶媒としては、一般的な溶媒、例えば、ジブチル＝エーテル、４－メチルテトラヒドロピラン、シクロペンチルメチルエーテル及び１，４－ジオキサン等のエーテル類；ヘプタン、ベンゼン、トルエン、キシレン及びクメン等の炭化水素類；トリクロロエチレン等の塩素系溶媒類；ジメチル＝スルホキシド、γ－ブチロラクトン及びヘキサメチルホスホリック＝トリアミド等の非プロトン性極性溶媒類；アセトニトリル及びプロピオニトリル等のニトリル類；並びに、酢酸ｎ－プロピル及び酢酸ｎ－ブチル等のエステル類が挙げられる。
該溶媒は、１種類又は必要に応じて、２種類以上を使用してもよい。また、該溶媒は、市販されているものを用いることができる。
脱アルコキシメチル化反応に用いる溶媒の使用量は、上記（５Ｅ，７Ｚ）－５，７－ドデカジエニル＝アルコキシメチル＝エーテル化合物（４）１ｍｏｌに対して、好ましくは０～２０００ｇ、より好ましくは０～５００ｇである。
該溶媒を用いることで仕込み量が減り、生産性が低下するため、上記の溶媒を用いずに無溶媒で反応を行ってもよい。
アルコール化合物（１１）としては、メタノール、エタノール、ｎ－プロパノール、ｎ－ブタノール、ｎ－ペンタノール、ｎ－ヘキサノール、ｎ－ヘプタノール、ｎ－オクタノール、ｎ－ノナノール、ｎ－デカノール、ｎ－ウンデカノール、ｎ－ドデカノール、ｎ－トリデカノール、ｎ－テトラデカノール及びｎ－ペンタデカノール等の直鎖アルコール類；並びに、イソプロパノール及び２－ブタノール等の分岐アルコール類等が挙げられるが、反応性の観点から、メタノール及びエタノールが好ましい。
アルコール化合物（１１）は、必要に応じて２種類以上を使用してもよい。
また、アルコール化合物（１１）は、市販のもの、又は上記加水分解反応で回収したアルコール化合物（７）を用いることができる。
アルコール化合物（１１）の使用量は、（５Ｅ，７Ｚ）－５，７－ドデカジエニル＝アルコキシメチル＝エーテル化合物（４）１ｍｏｌに対して、反応性の観点から、好ましくは１．０～１００ｍｏｌ、より好ましくは１．０～４０ｍｏｌである。
脱アルコキシメチル化反応には、必要に応じて、アルコール化合物（１１）以外の溶媒を用いてもよい。
該溶媒としては、一般的な溶媒、例えば、ジブチル＝エーテル、４－メチルテトラヒドロピラン、シクロペンチルメチルエーテル及び１，４－ジオキサン等のエーテル類；ヘプタン、ベンゼン、トルエン、キシレン及びクメン等の炭化水素類；トリクロロエチレン等の塩素系溶媒類；ジメチル＝スルホキシド、γ－ブチロラクトン及びヘキサメチルホスホリック＝トリアミド等の非プロトン性極性溶媒類；アセトニトリル及びプロピオニトリル等のニトリル類；並びに、酢酸ｎ－プロピル及び酢酸ｎ－ブチル等のエステル類が挙げられる。
該溶媒は、１種類又は必要に応じて、２種類以上を使用してもよい。また、該溶媒は、市販されているものを用いることができる。
脱アルコキシメチル化反応に用いる溶媒の使用量は、上記（５Ｅ，７Ｚ）－５，７－ドデカジエニル＝アルコキシメチル＝エーテル化合物（４）１ｍｏｌに対して、好ましくは０～２０００ｇ、より好ましくは０～５００ｇである。
該溶媒を用いることで仕込み量が減り、生産性が低下するため、上記の溶媒を用いずに無溶媒で反応を行ってもよい。
【0064】
下記式（６）で表される（５Ｅ，７Ｚ）－５，７－ドデカジエニル＝アセテート（以下、「（５Ｅ，７Ｚ）－５，７－ドデカジエニル＝アセテート（６）」ともいう。）は、上記製造方法によって得られた（５Ｅ，７Ｚ）－５，７－ドデカジエン－１－オール（５）のアセチル化反応により、製造することができる。
【0065】
【化4】
【0066】
（５Ｅ，７Ｚ）－５，７－ドデカジエン－１－オール（５）のアセチル化反応は、例えば、アセチル化剤を用いて行うことができる。
【0067】
アセチル化剤としては、無水酢酸等の酸無水物、アセチル＝クロリド、アセチル＝ブロミド及びアセチル＝ヨージド等のアセチル＝ハライド化合物；酢酸メチル及び酢酸エチル等の酢酸エステル化合物が挙げられ、汎用性の観点から無水酢酸、アセチル＝ハライド化合物が好ましい。
アセチル化剤の使用量は、（５Ｅ，７Ｚ）－５，７－ドデカジエン－１－オール（５）１ｍｏｌに対して、反応性及び経済性の観点から、好ましくは１．０～１０．０ｍｏｌ、より好ましくは１．０～５．０ｍｏｌである。
アセチル化剤の使用量は、（５Ｅ，７Ｚ）－５，７－ドデカジエン－１－オール（５）１ｍｏｌに対して、反応性及び経済性の観点から、好ましくは１．０～１０．０ｍｏｌ、より好ましくは１．０～５．０ｍｏｌである。
【0068】
アセチル化反応には、必要に応じて、酸又は塩基を用いてもよい。
該酸としては、塩酸、硫酸及び硝酸等の鉱酸；ベンゼンスルホン酸及びｐ－トルエンスルホン酸等の芳香族スルホン酸；並びに、三フッ化ホウ素エーテラート及びオルトチタン酸テトライソプロピル等のルイス酸が挙げられる。
該酸は、１種類又は必要に応じて、２種類以上を使用してもよい。
該酸の使用量は、（５Ｅ，７Ｚ）－５，７－ドデカジエン－１－オール（５）１ｍｏｌに対して、反応性及び経済性の観点から、好ましくは０．０１～１．００ｍｏｌ、より好ましくは０．０１～０．５０ｍｏｌである。
該酸としては、塩酸、硫酸及び硝酸等の鉱酸；ベンゼンスルホン酸及びｐ－トルエンスルホン酸等の芳香族スルホン酸；並びに、三フッ化ホウ素エーテラート及びオルトチタン酸テトライソプロピル等のルイス酸が挙げられる。
該酸は、１種類又は必要に応じて、２種類以上を使用してもよい。
該酸の使用量は、（５Ｅ，７Ｚ）－５，７－ドデカジエン－１－オール（５）１ｍｏｌに対して、反応性及び経済性の観点から、好ましくは０．０１～１．００ｍｏｌ、より好ましくは０．０１～０．５０ｍｏｌである。
【0069】
該塩基としては、トリメチルアミン、トリエチルアミン及びＮ，Ｎ－ジイソプロピルエチルアミン等のトリアルキルアミン；ピリジン、Ｎ，Ｎ－ジメチルアニリン、Ｎ，Ｎ－ジエチルアニリン及び４－ジメチルアミノピリジン等の芳香族アミン化合物；並びに、カリウム＝ｔ－ブトキシド、ナトリウム＝メトキシド及びナトリウム＝エトキシド等の金属アルコキシドが挙げられる。
該塩基は、１種類又は必要に応じて、２種類以上を使用してもよい。
該塩基の使用量は、（５Ｅ，７Ｚ）－５，７－ドデカジエン－１－オール（５）１ｍｏｌに対して、反応性及び経済性の観点から、好ましくは１．０～１０．０ｍｏｌ、より好ましくは１．０～３．０ｍｏｌである。
該塩基は、１種類又は必要に応じて、２種類以上を使用してもよい。
該塩基の使用量は、（５Ｅ，７Ｚ）－５，７－ドデカジエン－１－オール（５）１ｍｏｌに対して、反応性及び経済性の観点から、好ましくは１．０～１０．０ｍｏｌ、より好ましくは１．０～３．０ｍｏｌである。
【0070】
アセチル化反応には、必要に応じて、溶媒を用いてもよい。
該溶媒としては、一般的な溶媒、例えば、テトラヒドロフラン、ジエチル＝エーテル、ジブチル＝エーテル、４－メチルテトラヒドロピラン、シクロペンチルメチルエーテル、及び１，４－ジオキサン等のエーテル類；ヘプタン、ベンゼン、トルエン、キシレン及びクメン等の炭化水素類；ジクロロメタン、クロロホルム及びトリクロロエチレン等の塩素系溶媒類；ジメチル＝スルホキシド、γ－ブチロラクトン、Ｎ－メチルピロリドン及びヘキサメチルホスホリック＝トリアミド等の非プロトン性極性溶媒類；アセトニトリル及びプロピオニトリル等のニトリル類；並びに、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ｎ－プロピル及び酢酸ｎ－ブチル等のエステル類が挙げられ、トルエン及びキシレン等の炭化水素類が好ましい。
該溶媒は、１種類又は必要に応じて、２種類以上を使用してもよい。また、該溶媒は、市販されているものを用いることができる。
アセチル化反応に用いる溶媒の使用量は、上記（５Ｅ，７Ｚ）－５，７－ドデカジエン－１－オール（５）１ｍｏｌに対して、好ましくは０～２０００ｇ、より好ましくは０～５００ｇである。
該溶媒としては、一般的な溶媒、例えば、テトラヒドロフラン、ジエチル＝エーテル、ジブチル＝エーテル、４－メチルテトラヒドロピラン、シクロペンチルメチルエーテル、及び１，４－ジオキサン等のエーテル類；ヘプタン、ベンゼン、トルエン、キシレン及びクメン等の炭化水素類；ジクロロメタン、クロロホルム及びトリクロロエチレン等の塩素系溶媒類；ジメチル＝スルホキシド、γ－ブチロラクトン、Ｎ－メチルピロリドン及びヘキサメチルホスホリック＝トリアミド等の非プロトン性極性溶媒類；アセトニトリル及びプロピオニトリル等のニトリル類；並びに、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ｎ－プロピル及び酢酸ｎ－ブチル等のエステル類が挙げられ、トルエン及びキシレン等の炭化水素類が好ましい。
該溶媒は、１種類又は必要に応じて、２種類以上を使用してもよい。また、該溶媒は、市販されているものを用いることができる。
アセチル化反応に用いる溶媒の使用量は、上記（５Ｅ，７Ｚ）－５，７－ドデカジエン－１－オール（５）１ｍｏｌに対して、好ましくは０～２０００ｇ、より好ましくは０～５００ｇである。
【0071】
以上の様にして、ホルミルアルケニル＝アルコキシメチル＝エーテル化合物（２：ａ＝４）を用いてキクキンウワバの性フェロモンである（５Ｅ，７Ｚ）－５，７－ドデカジエン－１－オール（５）及び（５Ｅ，７Ｚ）－５，７－ドデカジエニル＝アセテート（６）を製造する方法が提供される。
【実施例0072】
以下、実施例を示して本発明を具体的に説明するが、本発明は下記の実施例に制限されるものではない。
なお、以下において「純度」は、特に明記しない限り、ガスクロマトグラフィー（ＧＣ）分析によって得られた面積百分率を示し、「生成比」はＧＣ分析によって得られた面積百分率の相対比を示す。また、「収率」は、ＧＣ分析によって得られた面積百分率を基に算出した収率を示す。
各実施例において、反応のモニタリングや収率の算出は、次のＧＣ条件に従って行った。
ＧＣ条件:ＧＣ：島津製作所 キャピラリガスクロマトグラフ ＧＣ－２０１４，カラム：ＤＢ－ＷＡＸ，０．２５ｍｍｘ０．２５ｍｍφｘ３０ｍ，キャリアーガス：Ｈｅ（１．５５ｍＬ／分）、検出器:ＦＩＤ，カラム温度：１５０℃ ５℃／分昇温 ２３０℃。
収率は、原料及び生成物の純度（％ＧＣ）を考慮して、以下の式に従い計算した。
収率（％）＝｛[(反応によって得られた生成物の重量×％ＧＣ)/生成物の分子量]
÷[ (反応における出発原料の重量×％ＧＣ)/出発原料の分子量]｝×１００
なお、以下において「純度」は、特に明記しない限り、ガスクロマトグラフィー（ＧＣ）分析によって得られた面積百分率を示し、「生成比」はＧＣ分析によって得られた面積百分率の相対比を示す。また、「収率」は、ＧＣ分析によって得られた面積百分率を基に算出した収率を示す。
各実施例において、反応のモニタリングや収率の算出は、次のＧＣ条件に従って行った。
ＧＣ条件:ＧＣ：島津製作所 キャピラリガスクロマトグラフ ＧＣ－２０１４，カラム：ＤＢ－ＷＡＸ，０．２５ｍｍｘ０．２５ｍｍφｘ３０ｍ，キャリアーガス：Ｈｅ（１．５５ｍＬ／分）、検出器:ＦＩＤ，カラム温度：１５０℃ ５℃／分昇温 ２３０℃。
収率は、原料及び生成物の純度（％ＧＣ）を考慮して、以下の式に従い計算した。
収率（％）＝｛[(反応によって得られた生成物の重量×％ＧＣ)/生成物の分子量]
÷[ (反応における出発原料の重量×％ＧＣ)/出発原料の分子量]｝×１００
【0073】
実施例１
ホルミルペンテニル＝メトキシメチル＝エーテル（２：Ｒ３＝Ｈ；ａ＝２）＜ＣＨ３ＯＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）２ＣＨ＝ＣＨＣＨＯ＞の製造
ホルミルペンテニル＝メトキシメチル＝エーテル（２：Ｒ３＝Ｈ；ａ＝２）＜ＣＨ３ＯＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）２ＣＨ＝ＣＨＣＨＯ＞の製造
【0074】
【化5】
【0075】
室温にて、反応器にジエトキシペンテニル＝メトキシメチル＝エーテル（１：Ｒ３＝Ｈ；ａ＝２）（７９５．０７ｇ、３．５４ｍｏｌ、純度９７．０５％）及び水（１０６．３２ｇ、５．９０ｍｏｌ）を加えて、３０～４０℃にて１時間撹拌した。撹拌後、加水分解を行う為に、ギ酸（８．１４ｇ、０．１６ｍｏｌ、純度８８％）を３０～４５℃にて滴下し、続いて２０質量％塩酸（０．６４ｇ、塩化水素として０．００３５ｍｏｌ）を３０～４５℃にて滴下し、４０～４５℃にて３０分間撹拌した。
続いて、上記加水分解の進行下、内温４０～５５℃にて２３５ｍｍＨｇ（３１．３ｋＰａ）まで減圧後、５０ｍｍＨｇ（６．６７ｋＰａ）まで徐々に減圧して、該加水分解で生成したエタノール（３２５．８５ｇ，７．０１ｍｏｌ，純度９９．１１％）を留出し、除去した。留出は、減圧を開始して４時間後でなくなった。留出物がなくなった所で、トルエン（５５７．０４ｇ）、水（２１８．２０ｇ）、食塩（６５．００ｇ）及び２０質量％塩酸（１２．８９ｇ、塩化水素として０．０７１ｍｏｌ）を加えて分液し、そして水層を除去して、有機層を得た。引き続き、得られた有機層を食塩水で洗浄し、分液し、そして水層を除去して、有機層を得た。さらに、得られた有機層を炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄し、分液し、そして水層を除去して、有機層を得た。得られた有機層を減圧蒸留することにより、ホルミルペンテニル＝メトキシメチル＝エーテル（２：Ｒ３＝Ｈ；ａ＝２）（４９６．７３ｇ、３．２９ｍｏｌ、純度９５．４１％、ｂ．ｐ．＝８７．２～８７．６℃／３．０ｍｍＨｇ（０．４０ｋＰａ））が収率９３．００％で得られた。
なお、上記加水分解が進行していることは、エタノールが留出していることによって確認した。具体的には、３．５４ｍｏｌ（原料であるジエトキシペンテニル＝メトキシメチル＝エーテル（１：Ｒ３＝Ｈ；ａ＝２）のモル数）×４６．０７（エタノールの分子量）×２（原料１分子中のアルコール部分の数）＝３２６．１８ｇが、上記加水分解で生成するエタノールの理論量であることから、該理論量未満の場合に、該加水分解が進行中であると判断し、一方、該理論量に実質的に同じ（上記の３２５．８５ｇ）になり、該留出エタノールの重量が変化しなくなったときに、該加水分解が終了したと判断した。
続いて、上記加水分解の進行下、内温４０～５５℃にて２３５ｍｍＨｇ（３１．３ｋＰａ）まで減圧後、５０ｍｍＨｇ（６．６７ｋＰａ）まで徐々に減圧して、該加水分解で生成したエタノール（３２５．８５ｇ，７．０１ｍｏｌ，純度９９．１１％）を留出し、除去した。留出は、減圧を開始して４時間後でなくなった。留出物がなくなった所で、トルエン（５５７．０４ｇ）、水（２１８．２０ｇ）、食塩（６５．００ｇ）及び２０質量％塩酸（１２．８９ｇ、塩化水素として０．０７１ｍｏｌ）を加えて分液し、そして水層を除去して、有機層を得た。引き続き、得られた有機層を食塩水で洗浄し、分液し、そして水層を除去して、有機層を得た。さらに、得られた有機層を炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄し、分液し、そして水層を除去して、有機層を得た。得られた有機層を減圧蒸留することにより、ホルミルペンテニル＝メトキシメチル＝エーテル（２：Ｒ３＝Ｈ；ａ＝２）（４９６．７３ｇ、３．２９ｍｏｌ、純度９５．４１％、ｂ．ｐ．＝８７．２～８７．６℃／３．０ｍｍＨｇ（０．４０ｋＰａ））が収率９３．００％で得られた。
なお、上記加水分解が進行していることは、エタノールが留出していることによって確認した。具体的には、３．５４ｍｏｌ（原料であるジエトキシペンテニル＝メトキシメチル＝エーテル（１：Ｒ３＝Ｈ；ａ＝２）のモル数）×４６．０７（エタノールの分子量）×２（原料１分子中のアルコール部分の数）＝３２６．１８ｇが、上記加水分解で生成するエタノールの理論量であることから、該理論量未満の場合に、該加水分解が進行中であると判断し、一方、該理論量に実質的に同じ（上記の３２５．８５ｇ）になり、該留出エタノールの重量が変化しなくなったときに、該加水分解が終了したと判断した。
【0076】
ホルミルペンテニル＝メトキシメチル＝エーテル（２：Ｒ３＝Ｈ；ａ＝２）
〔核磁気共鳴スペクトル〕１Ｈ－ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：δ＝２．６１（２Ｈ，ｄｄｔ，Ｊ＝１．６Ｈｚ，６．５Ｈｚ，６．５Ｈｚ），３．２３（３Ｈ，ｓ），３．６８（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．２Ｈｚ），４．６０（２Ｈ，ｓ），６．１６（１Ｈ，ｄｄｔ，Ｊ＝１５．６Ｈｚ，１０．７Ｈｚ，１．６Ｈｚ），６．８６（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ＝１５．６Ｈｚ，６．５Ｈｚ），９．４９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１１．０Ｈｚ）；１３Ｃ－ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：δ＝３２．９４，５５．２７，６５．４０，９６．４０，１３４．１９，１５４．８７，１９３．７５
〔マススペクトル〕ＥＩ－マススペクトル（７０ｅＶ）：ｍ／ｚ １１４（Ｍ＋－３０）、９９，８３，７５，５５，４５
〔赤外吸収スペクトル〕（ＮａＣｌ）：ν＝２９３４，２８８６，２８２４，１６９１，１１５１，１１１０，１０４３，９７４，９１８
〔核磁気共鳴スペクトル〕１Ｈ－ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：δ＝２．６１（２Ｈ，ｄｄｔ，Ｊ＝１．６Ｈｚ，６．５Ｈｚ，６．５Ｈｚ），３．２３（３Ｈ，ｓ），３．６８（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．２Ｈｚ），４．６０（２Ｈ，ｓ），６．１６（１Ｈ，ｄｄｔ，Ｊ＝１５．６Ｈｚ，１０．７Ｈｚ，１．６Ｈｚ），６．８６（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ＝１５．６Ｈｚ，６．５Ｈｚ），９．４９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１１．０Ｈｚ）；１３Ｃ－ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：δ＝３２．９４，５５．２７，６５．４０，９６．４０，１３４．１９，１５４．８７，１９３．７５
〔マススペクトル〕ＥＩ－マススペクトル（７０ｅＶ）：ｍ／ｚ １１４（Ｍ＋－３０）、９９，８３，７５，５５，４５
〔赤外吸収スペクトル〕（ＮａＣｌ）：ν＝２９３４，２８８６，２８２４，１６９１，１１５１，１１１０，１０４３，９７４，９１８
【0077】
実施例２
ホルミルペンテニル＝メトキシメチル＝エーテル（２：Ｒ３＝Ｈ；ａ＝２）＜ＣＨ３ＯＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）２ＣＨ＝ＣＨＣＨＯ＞の製造
ホルミルペンテニル＝メトキシメチル＝エーテル（２：Ｒ３＝Ｈ；ａ＝２）＜ＣＨ３ＯＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）２ＣＨ＝ＣＨＣＨＯ＞の製造
【0078】
【化6】
【0079】
室温にて、反応器にジエトキシペンテニル＝メトキシメチル＝エーテル（１：Ｒ３＝Ｈ；ａ＝２）（２８３．８４ｇ、１．２６ｍｏｌ、純度９７．０５％）及び水（３７．９６ｇ、２．１１ｍｏｌ）を加えて、３０～４０℃にて２２分間撹拌した。撹拌後、加水分解を行う為に、ギ酸（２．５６ｇ、０．０４９ｍｏｌ、純度８８％）を３０～４５℃にて滴下し、続いて２０質量％塩酸（０．２３ｇ、塩化水素として０．００１３ｍｏｌ）を３０～４５℃にて滴下し、４０～４５℃にて１００分間撹拌した。
続いて、上記加水分解の進行下、内温４０～５５℃にて２３５ｍｍＨｇ（３１．３ｋＰａ）まで減圧後、５０ｍｍＨｇ（６．６７ｋＰａ）まで徐々に減圧して、該加水分解で生成したエタノール（１２３．１２ｇ，２．６１ｍｏｌ，純度９７．５１％）を留出し、除去した。留出は、減圧を開始して４時間後でなくなった。留出物がなくなった所で、さらに３．０ｍｍＨｇ（０．４０ｋＰａ）まで減圧し減圧蒸留することにより、ホルミルペンテニル＝メトキシメチル＝エーテル（２：Ｒ３＝Ｈ；ａ＝２）（１８２．４４ｇ、１．２０ｍｏｌ、純度９４．５９％、ｂ．ｐ．＝８７．６～８８．６℃／３．０ｍｍＨｇ（０．４０ｋＰａ））が収率９４．８８％で得られた。
なお、上記加水分解が進行していることは、上記の実施例１と同じ方法で確認した。
続いて、上記加水分解の進行下、内温４０～５５℃にて２３５ｍｍＨｇ（３１．３ｋＰａ）まで減圧後、５０ｍｍＨｇ（６．６７ｋＰａ）まで徐々に減圧して、該加水分解で生成したエタノール（１２３．１２ｇ，２．６１ｍｏｌ，純度９７．５１％）を留出し、除去した。留出は、減圧を開始して４時間後でなくなった。留出物がなくなった所で、さらに３．０ｍｍＨｇ（０．４０ｋＰａ）まで減圧し減圧蒸留することにより、ホルミルペンテニル＝メトキシメチル＝エーテル（２：Ｒ３＝Ｈ；ａ＝２）（１８２．４４ｇ、１．２０ｍｏｌ、純度９４．５９％、ｂ．ｐ．＝８７．６～８８．６℃／３．０ｍｍＨｇ（０．４０ｋＰａ））が収率９４．８８％で得られた。
なお、上記加水分解が進行していることは、上記の実施例１と同じ方法で確認した。
【0080】
上記で得られたホルミルペンテニル＝メトキシメチル＝エーテルの各種スペクトルデータは、実施例１で得られた各種スペクトルデータと同じであった。
【0081】
比較例１
ホルミルペンテニル＝メトキシメチル＝エーテル（２：Ｒ３＝Ｈ；ａ＝２）＜ＣＨ３ＯＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）２ＣＨ＝ＣＨＣＨＯ＞の製造
ホルミルペンテニル＝メトキシメチル＝エーテル（２：Ｒ３＝Ｈ；ａ＝２）＜ＣＨ３ＯＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）２ＣＨ＝ＣＨＣＨＯ＞の製造
【0082】
【化7】
【0083】
室温にて、反応器にジエトキシペンテニル＝メトキシメチル＝エーテル（１：Ｒ３＝Ｈ；ａ＝２）（２８３．８４ｇ、１．２６ｍｏｌ、純度９７．０５％）及びトルエン（８０．００ｇ）を加えて、１０～１５℃にて６分間撹拌した。撹拌後、加水分解を行う為に、８質量％塩酸（１４５．１３ｇ、塩化水素として０．３２ｍｏｌ）を１５～２０℃にて滴下し、１５～２０℃にてＧＣを用いて反応を追跡し、反応率が９９．５％以上になったことを確認した上で反応を止めた。このとき、８質量％塩酸の滴下から反応停止までの熟成（反応）時間は１時間であった。反応混合物に、トルエン（２００．００ｇ）をさらに添加し、引き続き分液し、そして水層を除去して、有機層を得た。引き続き、得られた有機層を食塩水で洗浄して分液し、そして水層を除去して、有機層を得た。さらに、得られた有機層を炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄し、分液し、そして水層を除去して有機層を得た。得られた有機層を減圧蒸留することにより、ホルミルペンテニル＝メトキシメチル＝エーテル（２：Ｒ３＝Ｈ；ａ＝２）（１３１．７８ｇ、０．８４ｍｏｌ、純度９１．４７％、ｂ．ｐ．＝８７．２～８７．６℃／３．０ｍｍＨｇ（０．４０ｋＰａ））が収率６６．２５％で得られた。なお、上記で除去した各水層には、加水分解で生成したエタノールが含まれていた。
【0084】
上記で得られたホルミルペンテニル＝メトキシメチル＝エーテルの各種スペクトルデータは、実施例１で得られた各種スペクトルデータと同じであった。
【0085】
比較例２
ホルミルペンテニル＝メトキシメチル＝エーテル（２：Ｒ３＝Ｈ；ａ＝２）＜ＣＨ３ＯＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）２ＣＨ＝ＣＨＣＨＯ＞の製造
ホルミルペンテニル＝メトキシメチル＝エーテル（２：Ｒ３＝Ｈ；ａ＝２）＜ＣＨ３ＯＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）２ＣＨ＝ＣＨＣＨＯ＞の製造
【0086】
【化8】
【0087】
比較例１と同じ条件下で繰り返し実験を行ったところ、ホルミルペンテニル＝メトキシメチル＝エーテル（２：Ｒ３＝Ｈ；ａ＝２）（１７１．４９ｇ、１．０６ｍｏｌ、純度８９．１２％、ｂ．ｐ．＝８７．２～８７．６℃／３．０ｍｍＨｇ（０．４０ｋＰａ））が収率８４．００％で得られた。比較例１と比較例２は同じ条件下で行ったにも拘わらず、収率が６６．２５％（比較例１）及び８４．００％（比較例２）であり、収率が安定しなかった。
【0088】
上記で得られたホルミルペンテニル＝メトキシメチル＝エーテルの各種スペクトルデータは、実施例１で得られた各種スペクトルデータと同じであった。
【0089】
比較例３
ホルミルペンテニル＝メトキシメチル＝エーテル（２：Ｒ３＝Ｈ；ａ＝２）＜ＣＨ３ＯＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）２ＣＨ＝ＣＨＣＨＯ＞の製造
ホルミルペンテニル＝メトキシメチル＝エーテル（２：Ｒ３＝Ｈ；ａ＝２）＜ＣＨ３ＯＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）２ＣＨ＝ＣＨＣＨＯ＞の製造
【0090】
【化9】
【0091】
室温にて、反応器にジエトキシペンテニル＝メトキシメチル＝エーテル（１：Ｒ３＝Ｈ；ａ＝２）（２８３．８４ｇ、１．２６ｍｏｌ、純度９７．０５％）及び水（３７．９６ｇ、２．１１ｍｏｌ）を加えて、３０～４０℃にて１時間撹拌した。撹拌後、加水分解を行う為に、ギ酸（２．５６ｇ、０．０４９ｍｏｌ、純度８８％）を３０～４５℃にて滴下し、続いて２０質量％塩酸（０．２３ｇ、塩化水素として０．００１３ｍｏｌ）を３０～４５℃にて滴下し、４０～４５℃にて３０分間撹拌した。
続いて、上記加水分解の進行下、内温４０～５５℃にてＧＣを用いて反応を追跡し、反応率が９９．５％以上になったことを確認した上で反応を止めた。このとき、２０質量％塩酸の滴下から反応停止までの熟成（反応）時間は４．５時間であった。反応混合物に、トルエン（２００．００ｇ）をさらに添加し、引き続き分液し、そして水層を除去して、有機層を得た。引き続き、得られた有機層を食塩水で洗浄して分液し、そして水層を除去して、有機層を得た。さらに、得られた有機層を炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄し、分液し、そして水層を除去して有機層を得た。得られた有機層を減圧蒸留することにより、ホルミルペンテニル＝メトキシメチル＝エーテル（２：Ｒ３＝Ｈ；ａ＝２）（１４９．４０ｇ、０．９３ｍｏｌ、純度９０．１０％、ｂ．ｐ．＝８２．６～８５．４℃／３．０ｍｍＨｇ（０．４０ｋＰａ））が収率７３．９８％で得られた。比較例３は実施例１とエタノールを留出、除去する以外は同じ条件下で行ったにも拘わらず、収率が７３．９８％、純度９０．１０％と、収率９３．００％、純度９５．４１％の実施例１に比べて低い結果となった。
続いて、上記加水分解の進行下、内温４０～５５℃にてＧＣを用いて反応を追跡し、反応率が９９．５％以上になったことを確認した上で反応を止めた。このとき、２０質量％塩酸の滴下から反応停止までの熟成（反応）時間は４．５時間であった。反応混合物に、トルエン（２００．００ｇ）をさらに添加し、引き続き分液し、そして水層を除去して、有機層を得た。引き続き、得られた有機層を食塩水で洗浄して分液し、そして水層を除去して、有機層を得た。さらに、得られた有機層を炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄し、分液し、そして水層を除去して有機層を得た。得られた有機層を減圧蒸留することにより、ホルミルペンテニル＝メトキシメチル＝エーテル（２：Ｒ３＝Ｈ；ａ＝２）（１４９．４０ｇ、０．９３ｍｏｌ、純度９０．１０％、ｂ．ｐ．＝８２．６～８５．４℃／３．０ｍｍＨｇ（０．４０ｋＰａ））が収率７３．９８％で得られた。比較例３は実施例１とエタノールを留出、除去する以外は同じ条件下で行ったにも拘わらず、収率が７３．９８％、純度９０．１０％と、収率９３．００％、純度９５．４１％の実施例１に比べて低い結果となった。
【0092】
上記で得られたホルミルペンテニル＝メトキシメチル＝エーテルの各種スペクトルデータは、実施例１で得られた各種スペクトルデータと同じであった。
【0093】
実施例３
ホルミルペンテニル＝エトキシメチル＝エーテル（２：Ｒ３＝ＣＨ３；ａ＝２）＜ＣＨ３ＣＨ２ＯＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）２ＣＨ＝ＣＨＣＨＯ＞の製造
ホルミルペンテニル＝エトキシメチル＝エーテル（２：Ｒ３＝ＣＨ３；ａ＝２）＜ＣＨ３ＣＨ２ＯＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）２ＣＨ＝ＣＨＣＨＯ＞の製造
【0094】
【化10】
【0095】
室温にて、反応器にジエトキシペンテニル＝メトキシメチル＝エーテル（１：Ｒ３＝ＣＨ３；ａ＝２）（３０８．１０ｇ、１．２６ｍｏｌ、純度９５．１６％）及び水（３７．９６ｇ、２．１１ｍｏｌ）を加えて、３０～４０℃にて２２分間撹拌した。撹拌後、加水分解を行う為に、ギ酸（２．５６ｇ、０．０４９ｍｏｌ、純度８８％）を３０～４５℃にて滴下し、続いて２０質量％塩酸（０．２３ｇ、塩化水素として０．００１３ｍｏｌ）を３０～４５℃にて滴下し、４０～４５℃にて６０分間撹拌した。
続いて、上記加水分解の進行下、内温４０～５５℃にて２３５ｍｍＨｇ（３１．３ｋＰａ）まで減圧後、５０ｍｍＨｇ（６．６７ｋＰａ）まで徐々に減圧して、該加水分解で生成したエタノール（１１９．０２ｇ，２．５３ｍｏｌ，純度９７．７５％）を留出し、除去した。留出は、減圧を開始して４時間後でなくなった。留出物がなくなった所で、トルエン（２３４．５６ｇ）、水（７７．９０ｇ）、食塩（２３．２１ｇ）及び２０質量％塩酸（４．６０ｇ、塩化水素として０．０２５ｍｏｌ）を加えて分液し、水層を除去した。引き続き、得られた有機層を食塩水で洗浄し、分液し、そして水層を除去して、有機層を得た。さらに、得られた有機層を炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄し、分液し、そして水層を除去して、有機層を得た。得られた有機層を減圧蒸留することにより、ホルミルペンテニル＝エトキシメチル＝エーテル（２：Ｒ３＝ＣＨ３；ａ＝２）（１９７．５６ｇ、１．１３９ｍｏｌ、純度９１．２０％、ｂ．ｐ．＝８５．０～８６．１℃／３．０ｍｍＨｇ（０．４０ｋＰａ））が収率９０．２６％で得られた。
なお、上記加水分解が進行していることは、上記の実施例１と同じ方法で確認した。
続いて、上記加水分解の進行下、内温４０～５５℃にて２３５ｍｍＨｇ（３１．３ｋＰａ）まで減圧後、５０ｍｍＨｇ（６．６７ｋＰａ）まで徐々に減圧して、該加水分解で生成したエタノール（１１９．０２ｇ，２．５３ｍｏｌ，純度９７．７５％）を留出し、除去した。留出は、減圧を開始して４時間後でなくなった。留出物がなくなった所で、トルエン（２３４．５６ｇ）、水（７７．９０ｇ）、食塩（２３．２１ｇ）及び２０質量％塩酸（４．６０ｇ、塩化水素として０．０２５ｍｏｌ）を加えて分液し、水層を除去した。引き続き、得られた有機層を食塩水で洗浄し、分液し、そして水層を除去して、有機層を得た。さらに、得られた有機層を炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄し、分液し、そして水層を除去して、有機層を得た。得られた有機層を減圧蒸留することにより、ホルミルペンテニル＝エトキシメチル＝エーテル（２：Ｒ３＝ＣＨ３；ａ＝２）（１９７．５６ｇ、１．１３９ｍｏｌ、純度９１．２０％、ｂ．ｐ．＝８５．０～８６．１℃／３．０ｍｍＨｇ（０．４０ｋＰａ））が収率９０．２６％で得られた。
なお、上記加水分解が進行していることは、上記の実施例１と同じ方法で確認した。
【0096】
ホルミルペンテニル＝エトキシメチル＝エーテル（２：Ｒ３＝ＣＨ３；ａ＝２）
〔核磁気共鳴スペクトル〕１Ｈ－ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：δ＝１．１９（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．９Ｈｚ），２．６０（２Ｈ，ｄｄｔ，Ｊ＝１５．６Ｈｚ，６．５Ｈｚ，６．５Ｈｚ）３．５６（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝６．９Ｈｚ），３．６９（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．５Ｈｚ），４．６５（２Ｈ，ｓ），６．１６（１Ｈ，ｄｄｔ，Ｊ＝１５．６Ｈｚ，８．１Ｈｚ，１．５Ｈｚ），６．８５（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ＝１５．６Ｈｚ，６．５Ｈｚ），９．４９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ）；１３Ｃ－ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：δ＝１５．０５，３２．９６，６３．３４，６５．４０，９５．０７，１３４．１７，１５４．９６，１９３．７６
〔マススペクトル〕ＥＩ－マススペクトル（７０ｅＶ）：ｍ／ｚ １２８（Ｍ＋－３０），１１３，９８，８３，７０，５９，４１
〔赤外吸収スペクトル〕（ＮａＣｌ）：ν＝２９７６，２９３１，２８７８，１６９２，１１１４，１０９９，１０４２，９７５，８４７
〔核磁気共鳴スペクトル〕１Ｈ－ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：δ＝１．１９（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．９Ｈｚ），２．６０（２Ｈ，ｄｄｔ，Ｊ＝１５．６Ｈｚ，６．５Ｈｚ，６．５Ｈｚ）３．５６（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝６．９Ｈｚ），３．６９（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．５Ｈｚ），４．６５（２Ｈ，ｓ），６．１６（１Ｈ，ｄｄｔ，Ｊ＝１５．６Ｈｚ，８．１Ｈｚ，１．５Ｈｚ），６．８５（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ＝１５．６Ｈｚ，６．５Ｈｚ），９．４９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ）；１３Ｃ－ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：δ＝１５．０５，３２．９６，６３．３４，６５．４０，９５．０７，１３４．１７，１５４．９６，１９３．７６
〔マススペクトル〕ＥＩ－マススペクトル（７０ｅＶ）：ｍ／ｚ １２８（Ｍ＋－３０），１１３，９８，８３，７０，５９，４１
〔赤外吸収スペクトル〕（ＮａＣｌ）：ν＝２９７６，２９３１，２８７８，１６９２，１１１４，１０９９，１０４２，９７５，８４７
【0097】
比較例４
ホルミルペンテニル＝エトキシメチル＝エーテル（２：Ｒ３＝ＣＨ３；ａ＝２）＜ＣＨ３ＣＨ２ＯＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）２ＣＨ＝ＣＨＣＨＯ＞の製造
ホルミルペンテニル＝エトキシメチル＝エーテル（２：Ｒ３＝ＣＨ３；ａ＝２）＜ＣＨ３ＣＨ２ＯＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）２ＣＨ＝ＣＨＣＨＯ＞の製造
【0098】
【化11】
【0099】
室温にて、反応器にジエトキシペンテニル＝エトキシメチル＝エーテル（１：Ｒ３＝ＣＨ３；ａ＝２）（３０８．１０ｇ、１．２６ｍｏｌ、純度９５．１６％）及びトルエン（８０．００ｇ）を加えて、１０～１５℃にて３１分間撹拌した。撹拌後、加水分解を行う為に、８質量％塩酸（１４５．１３ｇ、塩化水素として０．３２ｍｏｌ）を１５～２０℃にて滴下し、１５～２０℃にてＧＣを用いて反応を追跡し、反応率が９９．５％以上になったことを確認した上で反応を止めた。このとき、８質量％塩酸の滴下から反応停止までの熟成（反応）時間は１時間であった。反応混合物に、トルエン（２００．００ｇ）をさらに添加し、引き続き分液し、そして水層を除去して、有機層を得た。引き続き、得られた有機層を食塩水で洗浄し、分液し、そして水層を除去して、有機層を得た。さらに、得られた有機層を炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄し、分液し、そして水層を除去して、有機層を得た。得られた有機層を減圧蒸留することにより、ホルミルペンテニル＝エトキシメチル＝エーテル（２：Ｒ３＝ＣＨ３；ａ＝２）（１４１．１８ｇ、０．７４ｍｏｌ、純度８２．６１％、ｂ．ｐ．＝８５．０～８６．１℃／３．０ｍｍＨｇ（０．４０ｋＰａ））が収率５８．４２％で得られた。なお、上記で除去した各水層には、加水分解で生成したエタノールが含まれていた。
【0100】
上記で得られたホルミルペンテニル＝エトキシメチル＝エーテル（２：Ｒ３＝ＣＨ３；ａ＝２）の各種スペクトルデータは、実施例３で得られた各種スペクトルデータと同じであった。
【0101】
比較例５
ホルミルペンテニル＝エトキシメチル＝エーテル（２：Ｒ３＝ＣＨ３；ａ＝２）＜ＣＨ３ＣＨ２ＯＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）２ＣＨ＝ＣＨＣＨＯ＞の製造
ホルミルペンテニル＝エトキシメチル＝エーテル（２：Ｒ３＝ＣＨ３；ａ＝２）＜ＣＨ３ＣＨ２ＯＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）２ＣＨ＝ＣＨＣＨＯ＞の製造
【0102】
【化12】
【0103】
比較例４と同じ条件下で繰り返し実験を行ったところ、ホルミルペンテニル＝エトキシメチル＝エーテル（２：Ｒ３＝ＣＨ３；ａ＝２）（１７１．４６ｇ、０．９０ｍｏｌ、純度８２．９１％、ｂ．ｐ．＝８５．０～８６．１℃／３．０ｍｍＨｇ（０．４０ｋＰａ））が収率７１．２１％で得られた。比較例４と比較例５は同じ条件下で行ったにも拘わらず、収率が５８．４２％（比較例４）及び７１．２１％（比較例５）であり、収率が安定しなかった。
【0104】
上記で得られたホルミルペンテニル＝エトキシメチル＝エーテル（２：Ｒ３＝ＣＨ３；ａ＝２）の各種スペクトルデータは、実施例３で得られた各種スペクトルデータと同じであった。
【0105】
実施例４
ホルミルヘプテニル＝メトキシメチル＝エーテル（２：Ｒ３＝Ｈ；ａ＝４）＜ＣＨ３ＯＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）４ＣＨ＝ＣＨＣＨＯ＞の製造
ホルミルヘプテニル＝メトキシメチル＝エーテル（２：Ｒ３＝Ｈ；ａ＝４）＜ＣＨ３ＯＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）４ＣＨ＝ＣＨＣＨＯ＞の製造
【0106】
【化13】
【0107】
室温にて、反応器にジエトキシヘプテニル＝メトキシメチル＝エーテル（１：Ｒ３＝Ｈ；ａ＝４）（５００．００ｇ、１．９５ｍｏｌ、純度９５．９７％）及び水（５８．６０ｇ、３．２５ｍｏｌ）を加えて、３０～４０℃にて１２分間撹拌した。撹拌後、加水分解を行う為に、ギ酸（３．９５ｇ、０．０７６ｍｏｌ、純度８８％）を３０～４５℃にて滴下し、続いて２０質量％塩酸（０．３５ｇ、塩化水素として０．００１９ｍｏｌ）を３０～４５℃にて滴下し、４０～４５℃にて１０４分間撹拌した。
続いて、上記加水分解の進行下、内温４０～５５℃にて２３５ｍｍＨｇ（３１．３ｋＰａ）まで減圧後、５０ｍｍＨｇ（６．６７ｋＰａ）まで徐々に減圧して、該加水分解で生成したエタノール（１９２．４３ｇ，４．１２ｍｏｌ，純度９８．７４％）を留出し、除去した。留出は、減圧を開始して４．５時間後でなくなった。留出物がなくなった所で、トルエン（３６２．０６ｇ）、水（１２０．２５ｇ）、食塩（３５．８３ｇ）及び２０質量％塩酸（７．１０ｇ、塩化水素として０．０３９ｍｏｌ）を加えて分液し、そして水層を除去して、有機層を得た。引き続き、得られた有機層を食塩水で洗浄し、分液し、そして水層を除去して、有機層を得た。さらに、得られた有機層を炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄し、分液し、そして水層を除去して、有機層を得た。得られた有機層を減圧蒸留することにより、ホルミルヘプテニル＝メトキシメチル＝エーテル（２：Ｒ３＝Ｈ；ａ＝４）（３４０．５９ｇ、１．８３ｍｏｌ、純度９２．７３％、ｂ．ｐ．＝１０８．２～１０９．８℃／３．０ｍｍＨｇ（０．４０ｋＰａ））が収率９４．１４％で得られた。
なお、上記加水分解が進行していることは、上記の実施例１と同じ方法で確認した。
続いて、上記加水分解の進行下、内温４０～５５℃にて２３５ｍｍＨｇ（３１．３ｋＰａ）まで減圧後、５０ｍｍＨｇ（６．６７ｋＰａ）まで徐々に減圧して、該加水分解で生成したエタノール（１９２．４３ｇ，４．１２ｍｏｌ，純度９８．７４％）を留出し、除去した。留出は、減圧を開始して４．５時間後でなくなった。留出物がなくなった所で、トルエン（３６２．０６ｇ）、水（１２０．２５ｇ）、食塩（３５．８３ｇ）及び２０質量％塩酸（７．１０ｇ、塩化水素として０．０３９ｍｏｌ）を加えて分液し、そして水層を除去して、有機層を得た。引き続き、得られた有機層を食塩水で洗浄し、分液し、そして水層を除去して、有機層を得た。さらに、得られた有機層を炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄し、分液し、そして水層を除去して、有機層を得た。得られた有機層を減圧蒸留することにより、ホルミルヘプテニル＝メトキシメチル＝エーテル（２：Ｒ３＝Ｈ；ａ＝４）（３４０．５９ｇ、１．８３ｍｏｌ、純度９２．７３％、ｂ．ｐ．＝１０８．２～１０９．８℃／３．０ｍｍＨｇ（０．４０ｋＰａ））が収率９４．１４％で得られた。
なお、上記加水分解が進行していることは、上記の実施例１と同じ方法で確認した。
【0108】
ホルミルヘプテニル＝メトキシメチル＝エーテル（２：Ｒ３＝Ｈ；ａ＝４）
〔核磁気共鳴スペクトル〕１Ｈ－ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：δ＝１．５５－１．６６（４Ｈ，ｍ），２．３５（２Ｈ，ｄｄｔ，Ｊ＝１．６Ｈｚ，７．１Ｈｚ，７．１Ｈｚ），３．３３（３Ｈ，ｓ），３．５２（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．１Ｈｚ），４．５９（２Ｈ，ｓ），６．１０（１Ｈ，ｄｄｔ，Ｊ＝１５．７Ｈｚ，８．０Ｈｚ，１．６Ｈｚ），６．８３（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ＝１５．７Ｈｚ，６．９Ｈｚ）、９．４８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ）；１３Ｃ－ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：δ＝２４．５２，２９．１０，３２．３３，５５．０７，６７．０９，９６．３３，１３３．０６，１５８．２６，１９３．９５
〔マススペクトル〕ＥＩ－マススペクトル（７０ｅＶ）：ｍ／ｚ １２７（Ｍ＋－４５），１１４，８１，６８，５５，４５
〔赤外吸収スペクトル〕（ＮａＣｌ）：ν＝２９３８，２８８２，２８２２，１６９２，１１４９，１１１１，１０４３，９７７，９１８
〔核磁気共鳴スペクトル〕１Ｈ－ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：δ＝１．５５－１．６６（４Ｈ，ｍ），２．３５（２Ｈ，ｄｄｔ，Ｊ＝１．６Ｈｚ，７．１Ｈｚ，７．１Ｈｚ），３．３３（３Ｈ，ｓ），３．５２（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．１Ｈｚ），４．５９（２Ｈ，ｓ），６．１０（１Ｈ，ｄｄｔ，Ｊ＝１５．７Ｈｚ，８．０Ｈｚ，１．６Ｈｚ），６．８３（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ＝１５．７Ｈｚ，６．９Ｈｚ）、９．４８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ）；１３Ｃ－ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：δ＝２４．５２，２９．１０，３２．３３，５５．０７，６７．０９，９６．３３，１３３．０６，１５８．２６，１９３．９５
〔マススペクトル〕ＥＩ－マススペクトル（７０ｅＶ）：ｍ／ｚ １２７（Ｍ＋－４５），１１４，８１，６８，５５，４５
〔赤外吸収スペクトル〕（ＮａＣｌ）：ν＝２９３８，２８８２，２８２２，１６９２，１１４９，１１１１，１０４３，９７７，９１８
【0109】
比較例６
ホルミルヘプテニル＝メトキシメチル＝エーテル（２：Ｒ３＝Ｈ；ａ＝４）＜ＣＨ３ＯＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）４ＣＨ＝ＣＨＣＨＯ＞の製造
ホルミルヘプテニル＝メトキシメチル＝エーテル（２：Ｒ３＝Ｈ；ａ＝４）＜ＣＨ３ＯＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）４ＣＨ＝ＣＨＣＨＯ＞の製造
【0110】
【化14】
【0111】
室温にて、反応器にジエトキシヘプテニル＝メトキシメチル＝エーテル（１：Ｒ３＝Ｈ；ａ＝４）（１００．００ｇ、０．３９ｍｏｌ、純度９５．９７％）及びトルエン（２４．７０ｇ）を加えて、１０～１５℃にて３分間撹拌した。撹拌後、加水分解を行う為に、８質量％塩酸（４４．８０ｇ、塩化水素として０．０９８ｍｏｌ）を１５～２０℃にて滴下し、１５～２０℃にてＧＣを用いて反応を追跡し、反応率が９９．５％以上になったことを確認した上で反応を止めた。このとき、８質量％塩酸の滴下から反応停止までの熟成（反応）時間は１時間であった。反応混合物に、トルエン（６１．７４ｇ）をさらに添加し、引き続き分液し、そして水層を除去して、有機層を得た。引き続き、得られた有機層を食塩水で洗浄し、分液し、そして水層を除去して、有機層を得た。さらに、得られた有機層を炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄し、分液し、そして水層を除去して、有機層を得た。得られた有機層を減圧蒸留することにより、ホルミルヘプテニル＝メトキシメチル＝エーテル（２：Ｒ３＝ＣＨ３；ａ＝４）（６１．０３ｇ、０．３２ｍｏｌ、純度９０．９７％、ｂ．ｐ．＝１０８．２～１０９．８℃／３．０ｍｍＨｇ（０．４０ｋＰａ））が収率８２．７５％で得られた。
【0112】
上記で得られたホルミルヘプテニル＝メトキシメチル＝エーテル（２：Ｒ３＝Ｈ；ａ＝４）の各種スペクトルデータは、実施例４で得られた各種スペクトルデータと同じであった。
【0113】
実施例５
（５Ｅ，７Ｚ）－５，７－ドデカジエニル＝アルコキシメチル＝エーテル化合物（４：Ｒ３＝Ｈ；ａ＝４）＜ＣＨ３（ＣＨ２）３ＣＨ＝ＣＨＣＨ＝ＣＨ（ＣＨ２）４ＯＣＨ２ＯＣＨ３＞の製造
（５Ｅ，７Ｚ）－５，７－ドデカジエニル＝アルコキシメチル＝エーテル化合物（４：Ｒ３＝Ｈ；ａ＝４）＜ＣＨ３（ＣＨ２）３ＣＨ＝ＣＨＣＨ＝ＣＨ（ＣＨ２）４ＯＣＨ２ＯＣＨ３＞の製造
【0114】
【化15】
【0115】
室温にて、反応器に、１－ブロモペンタン（８：Ｘ＝Ｂｒ）（１８２．７７ｇ、１．２１ｍｏｌ）、トリフェニルホスフィン（９：全てのＡｒ＝Ｐｈ）（３１５．５０ｇ、１．２０ｍｏｌ）及びＮ，Ｎ－ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）（２００．００ｇ）を加えて、１１０～１２０℃で９時間撹拌して、ペンチルトリフェニルホスホニウム＝ブロミド（１０：Ｙ＝Ｂｒ；全てのＡｒ＝Ｐｈ）を調製した。次に、該反応器に、テトラヒドロフラン（８７２．８４ｇ）を３０～４０℃にて滴下し、滴下終了後、反応液を－５～１０℃に冷却し、カリウム＝ｔ－ブトキシド（１３１．２９ｇ、１．１７ｍｏｌ）を加え、その後、１時間撹拌して、トリフェニルホスホニウム＝ペンチリド（３：Ａｒ＝Ｐｈ）を調製した。
【0116】
その後、上記実施例４で調製したホルミルヘプテニル＝メトキシメチル＝エーテル（２：Ｒ３＝Ｈ；ａ＝４）（１８５．７２ｇ、１．００ｍｏｌ、純度９２．７３％）を－７２～－６１℃で滴下し、滴下終了後、室温まで昇温し、２５～３０℃にて１時間撹拌した。その後、反応液に水（５９２．６７ｇ）を加えて分液し、そして水層を除去して、有機層を得た。得られた有機層を減圧蒸留することにより、（５Ｅ，７Ｚ）－５，７－ドデカジエニル＝アルコキシメチル＝エーテル化合物（４：Ｒ３＝Ｈ；ａ＝４）（２３０．２８ｇ、０．９７ｍｏｌ、純度９５．８２％；５Ｅ７Ｚ：５Ｅ７Ｅ：５Ｚ７Ｚ＝９１．８：６．６：１．６、ｂ．ｐ．＝１０４．０～１２３．５℃／３．０ｍｍＨｇ（０．４０ｋＰａ））が収率９７．４８％で得られた。
【0117】
（５Ｅ，７Ｚ）－５，７－ドデカジエニル＝アルコキシメチル＝エーテル化合物（４：Ｒ３＝Ｈ；ａ＝４）
〔核磁気共鳴スペクトル〕１Ｈ－ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：δ＝０．９０（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．３Ｈｚ），１．２８－１．３９（４Ｈ，ｍ），１．４２－１．５１（２Ｈ，ｑｕｉｎ－ｌｉｋｅ，Ｊ＝７．３Ｈｚ），１．５７－１．６４（２Ｈ，ｑｕｉｎ－ｌｉｋｅ，Ｊ＝７．３Ｈｚ），２．１０－２．１８（４Ｈ，ｍ），３．３５（３Ｈ，ｓ），３．５２（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．５Ｈｚ），４．６１（２Ｈ，ｓ），５．３０（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ＝１０．９Ｈｚ，７．６Ｈｚ），５．６４（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ＝１４．５Ｈｚ，７．６Ｈｚ），５．９３（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１１．１Ｈｚ，１１．１Ｈｚ），６．２９（１Ｈ，ｄｄｄｔ，Ｊ＝１４．９Ｈｚ，１１．１Ｈｚ，２．７Ｈｚ，１．２Ｈｚ）；１３Ｃ－ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：δ＝１３．９２，２２．２８，２５．９６，２７．３５，２９．２２，３１．８５，３２．５５，５５．０４，６７．５４，９６．３２，１２５．９５，１２８．４３，１３０．２７，１３３．９４
〔マススペクトル〕ＥＩ－マススペクトル（７０ｅＶ）：ｍ／ｚ ２２６（Ｍ＋），１９４，１８１，１６３，１５０，１３７，１２１，１０７，９５，７９，６７，４５
〔赤外吸収スペクトル〕（ＮａＣｌ）：ν＝２９２９，２８７２，１４５８，１４４０，１１５０，１１１２，１０４４，９８３，９４９，９２１，７３２
〔核磁気共鳴スペクトル〕１Ｈ－ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：δ＝０．９０（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．３Ｈｚ），１．２８－１．３９（４Ｈ，ｍ），１．４２－１．５１（２Ｈ，ｑｕｉｎ－ｌｉｋｅ，Ｊ＝７．３Ｈｚ），１．５７－１．６４（２Ｈ，ｑｕｉｎ－ｌｉｋｅ，Ｊ＝７．３Ｈｚ），２．１０－２．１８（４Ｈ，ｍ），３．３５（３Ｈ，ｓ），３．５２（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．５Ｈｚ），４．６１（２Ｈ，ｓ），５．３０（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ＝１０．９Ｈｚ，７．６Ｈｚ），５．６４（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ＝１４．５Ｈｚ，７．６Ｈｚ），５．９３（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１１．１Ｈｚ，１１．１Ｈｚ），６．２９（１Ｈ，ｄｄｄｔ，Ｊ＝１４．９Ｈｚ，１１．１Ｈｚ，２．７Ｈｚ，１．２Ｈｚ）；１３Ｃ－ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：δ＝１３．９２，２２．２８，２５．９６，２７．３５，２９．２２，３１．８５，３２．５５，５５．０４，６７．５４，９６．３２，１２５．９５，１２８．４３，１３０．２７，１３３．９４
〔マススペクトル〕ＥＩ－マススペクトル（７０ｅＶ）：ｍ／ｚ ２２６（Ｍ＋），１９４，１８１，１６３，１５０，１３７，１２１，１０７，９５，７９，６７，４５
〔赤外吸収スペクトル〕（ＮａＣｌ）：ν＝２９２９，２８７２，１４５８，１４４０，１１５０，１１１２，１０４４，９８３，９４９，９２１，７３２
【0118】
実施例６
（５Ｅ，７Ｚ）－５，７－ドデカジエン－１－オール（５）＜ＣＨ３（ＣＨ２）３ＣＨ＝ＣＨＣＨ＝ＣＨ（ＣＨ２）４ＯＨ＞の製造
（５Ｅ，７Ｚ）－５，７－ドデカジエン－１－オール（５）＜ＣＨ３（ＣＨ２）３ＣＨ＝ＣＨＣＨ＝ＣＨ（ＣＨ２）４ＯＨ＞の製造
【0119】
【化16】
【0120】
実施例５で製造された（５Ｅ，７Ｚ）－５，７－ドデカジエニル＝アルコキシメチル＝エーテル化合物（４：Ｒ３＝Ｈ；ａ＝４）（２１０．８４ｇ、０．８９ｍｏｌ、純度９５．８２％；５Ｅ７Ｚ：５Ｅ７Ｅ：５Ｚ７Ｚ＝９１．８：６．６：１．６）及びメタノール（４４６．２５ｇ、１３．９３ｍｏｌ）を、蒸留塔を備えた反応器に仕込み、４５～５０℃にて撹拌し、４５～５０℃にて、これに２０質量％塩酸（４４．６３ｇ、塩化水素として０．２４ｍｏｌ）を滴下した。
続いて、反応液を６０℃まで昇温して３時間撹拌し、該撹拌後、内温を６５～７０℃に昇温し、蒸留塔より、副成するジメトキシメタンとメタノールの混合物を留出し、除去した。反応途中の反応液をサンプリングし、反応率が１００％となったところで留出を止め、反応液を３５℃まで冷却し、水（２８６ｇ）を加えて分液し、そして水層を除去して、有機層を得た。得られた有機層を減圧蒸留することにより、（５Ｅ，７Ｚ）－５，７－ドデカジエン－１－オール（５）（１６２．５４ｇ、０．８１ｍｏｌ、純度９１．３５％；５Ｅ７Ｚ：５Ｅ７Ｅ：５Ｚ７Ｚ＝９１．１：７．１：１．８、ｂ．ｐ．＝１０６．２～１１５．６℃／３．０ｍｍＨｇ（０．４０ｋＰａ））が収率９１．２６％で得られた。
続いて、反応液を６０℃まで昇温して３時間撹拌し、該撹拌後、内温を６５～７０℃に昇温し、蒸留塔より、副成するジメトキシメタンとメタノールの混合物を留出し、除去した。反応途中の反応液をサンプリングし、反応率が１００％となったところで留出を止め、反応液を３５℃まで冷却し、水（２８６ｇ）を加えて分液し、そして水層を除去して、有機層を得た。得られた有機層を減圧蒸留することにより、（５Ｅ，７Ｚ）－５，７－ドデカジエン－１－オール（５）（１６２．５４ｇ、０．８１ｍｏｌ、純度９１．３５％；５Ｅ７Ｚ：５Ｅ７Ｅ：５Ｚ７Ｚ＝９１．１：７．１：１．８、ｂ．ｐ．＝１０６．２～１１５．６℃／３．０ｍｍＨｇ（０．４０ｋＰａ））が収率９１．２６％で得られた。
【0121】
（５Ｅ，７Ｚ）－５，７－ドデカジエン－１－オール（５）
〔核磁気共鳴スペクトル〕１Ｈ－ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：δ＝０．８９（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．３Ｈｚ），１．２４－１．４０（４Ｈ，ｍ），１．４６（２Ｈ，ｑｕｉｎ－ｌｉｋｅ，Ｊ＝７．３Ｈｚ），１．５８（２Ｈ，ｑｕｉｎ－ｌｉｋｅ，Ｊ＝７．３Ｈｚ），１．７２（１Ｈ，ｂｒ．ｓ），２．１４（４Ｈ，ｓｅｘｔ－ｌｉｋｅ，Ｊ＝６．５Ｈｚ），３．６４（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．５Ｈｚ），５．３０（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ＝１０．９Ｈｚ，７．６Ｈｚ），５．６４（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ＝１４．６Ｈｚ，７．３Ｈｚ），５．９３（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１１．１Ｈｚ，１１．１Ｈｚ），６．３１（１Ｈ，ｄｄｄｔ，Ｊ＝１５．１Ｈｚ，１１．０Ｈｚ，１．５Ｈｚ，１．５Ｈｚ）；１３Ｃ－ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：δ＝１３．９２，２２．２８，２５．４５，２７．３５，３１．８４，３２．２０，３２．５０，６２．７３，１２５．９７，１２８．３９，１３０．３３，１３３．９０
〔マススペクトル〕ＥＩ－マススペクトル（７０ｅＶ）：ｍ／ｚ １８２（Ｍ＋），１６４，１４９，１３５，１２１，１０７，９３，７９，６７，５５，４１
〔赤外吸収スペクトル〕（ＮａＣｌ）：ν＝３３３８，２９５６，２９３０，１４５７，１０５９，９８２，９４９，７３０
〔核磁気共鳴スペクトル〕１Ｈ－ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：δ＝０．８９（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．３Ｈｚ），１．２４－１．４０（４Ｈ，ｍ），１．４６（２Ｈ，ｑｕｉｎ－ｌｉｋｅ，Ｊ＝７．３Ｈｚ），１．５８（２Ｈ，ｑｕｉｎ－ｌｉｋｅ，Ｊ＝７．３Ｈｚ），１．７２（１Ｈ，ｂｒ．ｓ），２．１４（４Ｈ，ｓｅｘｔ－ｌｉｋｅ，Ｊ＝６．５Ｈｚ），３．６４（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．５Ｈｚ），５．３０（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ＝１０．９Ｈｚ，７．６Ｈｚ），５．６４（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ＝１４．６Ｈｚ，７．３Ｈｚ），５．９３（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１１．１Ｈｚ，１１．１Ｈｚ），６．３１（１Ｈ，ｄｄｄｔ，Ｊ＝１５．１Ｈｚ，１１．０Ｈｚ，１．５Ｈｚ，１．５Ｈｚ）；１３Ｃ－ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：δ＝１３．９２，２２．２８，２５．４５，２７．３５，３１．８４，３２．２０，３２．５０，６２．７３，１２５．９７，１２８．３９，１３０．３３，１３３．９０
〔マススペクトル〕ＥＩ－マススペクトル（７０ｅＶ）：ｍ／ｚ １８２（Ｍ＋），１６４，１４９，１３５，１２１，１０７，９３，７９，６７，５５，４１
〔赤外吸収スペクトル〕（ＮａＣｌ）：ν＝３３３８，２９５６，２９３０，１４５７，１０５９，９８２，９４９，７３０
【0122】
実施例７
（５Ｅ，７Ｚ）－５，７－ドデカジエニル＝アセテート（６）＜ＣＨ３（ＣＨ２）３ＣＨ＝ＣＨＣＨ＝ＣＨ（ＣＨ２）４ＯＣＯＣＨ３＞の製造
（５Ｅ，７Ｚ）－５，７－ドデカジエニル＝アセテート（６）＜ＣＨ３（ＣＨ２）３ＣＨ＝ＣＨＣＨ＝ＣＨ（ＣＨ２）４ＯＣＯＣＨ３＞の製造
【0123】
【化17】
【0124】
室温にて、反応器に、実施例６で製造された（５Ｅ，７Ｚ）－５，７－ドデカジエン－１－オール（５）（１５４．５０ｇ、０．７７ｍｏｌ、純度９１．３５％；５Ｅ７Ｚ：５Ｅ７Ｅ：５Ｚ７Ｚ＝９１．１：７．１：１．８）及びピリジン（９７．９８ｇ、１．２４ｍｏｌ）を加えて、１５～２５℃にて１３分間撹拌した。撹拌後、無水酢酸（９４．８５ｇ、０．９３ｍｏｌ）を２０～４０℃にて滴下し、３０～３５℃にて６時間撹拌した。次に、反応液に水（２０３．３６ｇ）を加えて分液し、そして水層を除去して、有機層を得た。得られた有機層を減圧蒸留することにより、（５Ｅ，７Ｚ）－５，７－ドデカジエニル＝アセテート（６）（１８１．５２ｇ、０．７６ｍｏｌ、純度９３．９３％；５Ｅ７Ｚ：５Ｅ７Ｅ：５Ｚ７Ｚ＝９１．５：６．８：１．７、ｂ．ｐ．＝１２０．０～１２３．０℃／４．０ｍｍＨｇ（０．４０ｋＰａ））が収率９８．１７％で得られた。
【0125】
（５Ｅ，７Ｚ）－５，７－ドデカジエニル＝アセテート（６）
〔核磁気共鳴スペクトル〕１Ｈ－ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：δ＝０．８９（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．３Ｈｚ），１．２７－１．４０（４Ｈ，ｍ），１．４５（２Ｈ，ｑｕｉｎ－ｌｉｋｅ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），１．６３（２Ｈ，ｑｕｉｎ－ｌｉｋｅ，Ｊ＝６．９Ｈｚ），２．０３（３Ｈ，ｓ），２．１４（４Ｈ，ｓｅｘｔ－ｌｉｋｅ，Ｊ＝６．９Ｈｚ），４．０５（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．５Ｈｚ），５．３１（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ＝１０．７Ｈｚ，７．６Ｈｚ），５．６２（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ＝１４．５Ｈｚ，６．９Ｈｚ），５．９３（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１１．１Ｈｚ，１１．１Ｈｚ），６．３０（１Ｈ，ｄｄｄ，Ｊ＝１５．３Ｈｚ，１１．１Ｈｚ，１．２Ｈｚ）；１３Ｃ－ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：δ＝１３．９１，２０．９４，２２．２７，２５．６５，２７．３５，２８．０７，３１．８３，３２．３３，６４．３４，１２６．１５，１２８．３４，１３０．４５，１３３．５３，１７１．１３
〔マススペクトル〕ＥＩ－マススペクトル（７０ｅＶ）：ｍ／ｚ ２２４（Ｍ＋），１８１，１６４，１４９，１３６，１２１，１０７，９３，７９，６７，５５
〔赤外吸収スペクトル〕（ＮａＣｌ）：ν＝２９５６，２９３０，２８５９，１７４２，１４５７，１３６５，１２３８，１０３９，９８４，９５０，７３３
〔核磁気共鳴スペクトル〕１Ｈ－ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：δ＝０．８９（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．３Ｈｚ），１．２７－１．４０（４Ｈ，ｍ），１．４５（２Ｈ，ｑｕｉｎ－ｌｉｋｅ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），１．６３（２Ｈ，ｑｕｉｎ－ｌｉｋｅ，Ｊ＝６．９Ｈｚ），２．０３（３Ｈ，ｓ），２．１４（４Ｈ，ｓｅｘｔ－ｌｉｋｅ，Ｊ＝６．９Ｈｚ），４．０５（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．５Ｈｚ），５．３１（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ＝１０．７Ｈｚ，７．６Ｈｚ），５．６２（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ＝１４．５Ｈｚ，６．９Ｈｚ），５．９３（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１１．１Ｈｚ，１１．１Ｈｚ），６．３０（１Ｈ，ｄｄｄ，Ｊ＝１５．３Ｈｚ，１１．１Ｈｚ，１．２Ｈｚ）；１３Ｃ－ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：δ＝１３．９１，２０．９４，２２．２７，２５．６５，２７．３５，２８．０７，３１．８３，３２．３３，６４．３４，１２６．１５，１２８．３４，１３０．４５，１３３．５３，１７１．１３
〔マススペクトル〕ＥＩ－マススペクトル（７０ｅＶ）：ｍ／ｚ ２２４（Ｍ＋），１８１，１６４，１４９，１３６，１２１，１０７，９３，７９，６７，５５
〔赤外吸収スペクトル〕（ＮａＣｌ）：ν＝２９５６，２９３０，２８５９，１７４２，１４５７，１３６５，１２３８，１０３９，９８４，９５０，７３３
【0126】
本発明の１つの実施態様を下記にまとめて記載する。
［項Ａ１］
下記一般式（１）
Ｒ３ＣＨ２ＯＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）ａＣＨ＝ＣＨＣＨ（ＯＲ１）（ＯＲ２） （１）
（式中、Ｒ１及びＲ２は、それぞれ独立して炭素数１～１５の一価の炭化水素基、又はＲ１とＲ２が互いに結合したＲ１－Ｒ２として炭素数２～１０の二価の炭化水素基を表し、Ｒ３は水素原子、炭素数１～９のｎ－アルキル基又はフェニル基を表し、ａは、１～１０の整数を表す。）
で表されるジアルコキシアルケニル＝アルコキシメチル＝エーテル化合物を酸の存在下、生成したアルコール化合物を除去しながら、加水分解反応させて、下記一般式（２）
Ｒ３ＣＨ２ＯＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）ａＣＨ＝ＣＨＣＨＯ （２）
（式中、Ｒ３及びａは、上記で定義した通りである。）
で表されるホルミルアルケニル＝アルコキシメチル＝エーテル化合物（２）を得るステップ
を少なくとも含む、ホルミルアルケニル＝アルコキシメチル＝エーテル化合物（２）の製造方法。
［項Ａ２］
前記酸が、ギ酸、塩酸又はこれらの混合物である、上記項Ａ１に記載のホルミルアルケニル＝アルコキシメチル＝エーテル化合物の製造方法。
［項Ａ３］
上記項Ａ１又は上記項Ａ２に記載の、ホルミルアルケニル＝アルコキシメチル＝エーテル化合物（２）、ここで、ａ＝４である、の製造方法と、
前記ホルミルアルケニル＝アルコキシメチル＝エーテル化合物（２）と、下記一般式（３）
（式中、Ａｒは、それぞれ独立してアリール基を表す。）
で表されるトリアリールホスホニウム＝ペンチリド化合物とをウィッティヒ反応させて、下記一般式（４）
ＣＨ３（ＣＨ２）３ＣＨ＝ＣＨＣＨ＝ＣＨ（ＣＨ２）４ＯＣＨ２ＯＣＨ２Ｒ３ （４）
（式中、Ｒ３は、上記で定義した通りである。）
で表される（５Ｅ，７Ｚ）－５，７－ドデカジエニル＝アルコキシメチル＝エーテル化合物を得るステップと、
前記（５Ｅ，７Ｚ）－５，７－ドデカジエニル＝アルコキシメチル＝エーテル化合物（４）を脱アルコキシメチル化して、下記式（５）
ＣＨ３（ＣＨ２）３ＣＨ＝ＣＨＣＨ＝ＣＨ（ＣＨ２）４ＯＨ （５）
で表される（５Ｅ，７Ｚ）－５，７－ドデカジエン－１－オール（５）を得るステップと
を少なくとも含む、（５Ｅ，７Ｚ）－５，７－ドデカジエン－１－オール（５）の製造方法。
［項Ａ４］
上記項Ａ３に記載の、（５Ｅ，７Ｚ）－５，７－ドデカジエン－１－オール（５）の製造方法と、
前記（５Ｅ，７Ｚ）－５，７－ドデカジエン－１－オール（５）をアセチル化反応させて、下記式（６）
ＣＨ３（ＣＨ２）３ＣＨ＝ＣＨＣＨ＝ＣＨ（ＣＨ２）４ＯＣＯＣＨ３ （６）
で表される（５Ｅ，７Ｚ）－５，７－ドデカジエニル＝アセテート（６）を得るステップと
を少なくとも含む、（５Ｅ，７Ｚ）－５，７－ドデカジエニル＝アセテート（６）の製造方法。
［項Ａ１］
下記一般式（１）
Ｒ３ＣＨ２ＯＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）ａＣＨ＝ＣＨＣＨ（ＯＲ１）（ＯＲ２） （１）
（式中、Ｒ１及びＲ２は、それぞれ独立して炭素数１～１５の一価の炭化水素基、又はＲ１とＲ２が互いに結合したＲ１－Ｒ２として炭素数２～１０の二価の炭化水素基を表し、Ｒ３は水素原子、炭素数１～９のｎ－アルキル基又はフェニル基を表し、ａは、１～１０の整数を表す。）
で表されるジアルコキシアルケニル＝アルコキシメチル＝エーテル化合物を酸の存在下、生成したアルコール化合物を除去しながら、加水分解反応させて、下記一般式（２）
Ｒ３ＣＨ２ＯＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）ａＣＨ＝ＣＨＣＨＯ （２）
（式中、Ｒ３及びａは、上記で定義した通りである。）
で表されるホルミルアルケニル＝アルコキシメチル＝エーテル化合物（２）を得るステップ
を少なくとも含む、ホルミルアルケニル＝アルコキシメチル＝エーテル化合物（２）の製造方法。
［項Ａ２］
前記酸が、ギ酸、塩酸又はこれらの混合物である、上記項Ａ１に記載のホルミルアルケニル＝アルコキシメチル＝エーテル化合物の製造方法。
［項Ａ３］
上記項Ａ１又は上記項Ａ２に記載の、ホルミルアルケニル＝アルコキシメチル＝エーテル化合物（２）、ここで、ａ＝４である、の製造方法と、
前記ホルミルアルケニル＝アルコキシメチル＝エーテル化合物（２）と、下記一般式（３）
【化18】
で表されるトリアリールホスホニウム＝ペンチリド化合物とをウィッティヒ反応させて、下記一般式（４）
ＣＨ３（ＣＨ２）３ＣＨ＝ＣＨＣＨ＝ＣＨ（ＣＨ２）４ＯＣＨ２ＯＣＨ２Ｒ３ （４）
（式中、Ｒ３は、上記で定義した通りである。）
で表される（５Ｅ，７Ｚ）－５，７－ドデカジエニル＝アルコキシメチル＝エーテル化合物を得るステップと、
前記（５Ｅ，７Ｚ）－５，７－ドデカジエニル＝アルコキシメチル＝エーテル化合物（４）を脱アルコキシメチル化して、下記式（５）
ＣＨ３（ＣＨ２）３ＣＨ＝ＣＨＣＨ＝ＣＨ（ＣＨ２）４ＯＨ （５）
で表される（５Ｅ，７Ｚ）－５，７－ドデカジエン－１－オール（５）を得るステップと
を少なくとも含む、（５Ｅ，７Ｚ）－５，７－ドデカジエン－１－オール（５）の製造方法。
［項Ａ４］
上記項Ａ３に記載の、（５Ｅ，７Ｚ）－５，７－ドデカジエン－１－オール（５）の製造方法と、
前記（５Ｅ，７Ｚ）－５，７－ドデカジエン－１－オール（５）をアセチル化反応させて、下記式（６）
ＣＨ３（ＣＨ２）３ＣＨ＝ＣＨＣＨ＝ＣＨ（ＣＨ２）４ＯＣＯＣＨ３ （６）
で表される（５Ｅ，７Ｚ）－５，７－ドデカジエニル＝アセテート（６）を得るステップと
を少なくとも含む、（５Ｅ，７Ｚ）－５，７－ドデカジエニル＝アセテート（６）の製造方法。
【0127】
本発明の別の１つの実施態様を下記にまとめて記載する。
［項Ｂ１］
下記一般式（１）
Ｒ３ＣＨ２ＯＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）ａＣＨ＝ＣＨＣＨ（ＯＲ１）（ＯＲ２） （１）
（式中、Ｒ１及びＲ２は、それぞれ独立して炭素数１～１５の一価の炭化水素基、又はＲ１とＲ２が互いに結合したＲ１－Ｒ２として炭素数２～１０の二価の炭化水素基を表し、Ｒ３は水素原子、炭素数１～９のｎ－アルキル基又はフェニル基を表し、ａは、１～１０の整数を表す。）
で表されるジアルコキシアルケニル＝アルコキシメチル＝エーテル化合物を酸の存在下、生成したアルコール化合物を除去しながら、加水分解反応させて、下記一般式（２）
Ｒ３ＣＨ２ＯＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）ａＣＨ＝ＣＨＣＨＯ （２）
（式中、Ｒ３及びａは、上記で定義した通りである。）
で表されるホルミルアルケニル＝アルコキシメチル＝エーテル化合物（２）を得るステップ
を少なくとも含み、
前記酸が、塩酸、臭化水素酸、ｐ－トルエンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、トリフルオロ酢酸、酢酸、ギ酸、シュウ酸、ヨードトリメチルシラン若しくは四塩化チタン、又はそれらの組み合わせである、
ホルミルアルケニル＝アルコキシメチル＝エーテル化合物（２）の製造方法。
［項Ｂ２］
前記酸が、塩酸、ｐ－トルエンスルホン酸、酢酸若しくはギ酸又はそれらの組み合わせである、上記項Ｂ１に記載の製造方法。
［項Ｂ３］
前記酸が、ギ酸若しくは塩酸又はそれらの組み合わせである、上記項Ｂ１に記載のホルミルアルケニル＝アルコキシメチル＝エーテル化合物の製造方法。
［項Ｂ４］
上記項Ｂ１～項Ｂ３のいずれか１項に記載の、ホルミルアルケニル＝アルコキシメチル＝エーテル化合物（２）、ここで、ａ＝４である、の製造方法と、
前記ホルミルアルケニル＝アルコキシメチル＝エーテル化合物（２）と、下記一般式（３）
（式中、Ａｒは、それぞれ独立してアリール基を表す。）
で表されるトリアリールホスホニウム＝ペンチリド化合物とをウィッティヒ反応させて、下記一般式（４）
ＣＨ３（ＣＨ２）３ＣＨ＝ＣＨＣＨ＝ＣＨ（ＣＨ２）４ＯＣＨ２ＯＣＨ２Ｒ３ （４）
（式中、Ｒ３は、上記で定義した通りである。）
で表される（５Ｅ，７Ｚ）－５，７－ドデカジエニル＝アルコキシメチル＝エーテル化合物を得るステップと、
前記（５Ｅ，７Ｚ）－５，７－ドデカジエニル＝アルコキシメチル＝エーテル化合物（４）を脱アルコキシメチル化して、下記式（５）
ＣＨ３（ＣＨ２）３ＣＨ＝ＣＨＣＨ＝ＣＨ（ＣＨ２）４ＯＨ （５）
で表される（５Ｅ，７Ｚ）－５，７－ドデカジエン－１－オール（５）を得るステップと
を少なくとも含む、（５Ｅ，７Ｚ）－５，７－ドデカジエン－１－オール（５）の製造方法。
［項Ｂ５］
上記項Ｂ４に記載の、（５Ｅ，７Ｚ）－５，７－ドデカジエン－１－オール（５）の製造方法と、
前記（５Ｅ，７Ｚ）－５，７－ドデカジエン－１－オール（５）をアセチル化反応させて、下記式（６）
ＣＨ３（ＣＨ２）３ＣＨ＝ＣＨＣＨ＝ＣＨ（ＣＨ２）４ＯＣＯＣＨ３ （６）
で表される（５Ｅ，７Ｚ）－５，７－ドデカジエニル＝アセテート（６）を得るステップと
を少なくとも含む、（５Ｅ，７Ｚ）－５，７－ドデカジエニル＝アセテート（６）の製造方法。
［項Ｂ１］
下記一般式（１）
Ｒ３ＣＨ２ＯＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）ａＣＨ＝ＣＨＣＨ（ＯＲ１）（ＯＲ２） （１）
（式中、Ｒ１及びＲ２は、それぞれ独立して炭素数１～１５の一価の炭化水素基、又はＲ１とＲ２が互いに結合したＲ１－Ｒ２として炭素数２～１０の二価の炭化水素基を表し、Ｒ３は水素原子、炭素数１～９のｎ－アルキル基又はフェニル基を表し、ａは、１～１０の整数を表す。）
で表されるジアルコキシアルケニル＝アルコキシメチル＝エーテル化合物を酸の存在下、生成したアルコール化合物を除去しながら、加水分解反応させて、下記一般式（２）
Ｒ３ＣＨ２ＯＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）ａＣＨ＝ＣＨＣＨＯ （２）
（式中、Ｒ３及びａは、上記で定義した通りである。）
で表されるホルミルアルケニル＝アルコキシメチル＝エーテル化合物（２）を得るステップ
を少なくとも含み、
前記酸が、塩酸、臭化水素酸、ｐ－トルエンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、トリフルオロ酢酸、酢酸、ギ酸、シュウ酸、ヨードトリメチルシラン若しくは四塩化チタン、又はそれらの組み合わせである、
ホルミルアルケニル＝アルコキシメチル＝エーテル化合物（２）の製造方法。
［項Ｂ２］
前記酸が、塩酸、ｐ－トルエンスルホン酸、酢酸若しくはギ酸又はそれらの組み合わせである、上記項Ｂ１に記載の製造方法。
［項Ｂ３］
前記酸が、ギ酸若しくは塩酸又はそれらの組み合わせである、上記項Ｂ１に記載のホルミルアルケニル＝アルコキシメチル＝エーテル化合物の製造方法。
［項Ｂ４］
上記項Ｂ１～項Ｂ３のいずれか１項に記載の、ホルミルアルケニル＝アルコキシメチル＝エーテル化合物（２）、ここで、ａ＝４である、の製造方法と、
前記ホルミルアルケニル＝アルコキシメチル＝エーテル化合物（２）と、下記一般式（３）
【化19】
で表されるトリアリールホスホニウム＝ペンチリド化合物とをウィッティヒ反応させて、下記一般式（４）
ＣＨ３（ＣＨ２）３ＣＨ＝ＣＨＣＨ＝ＣＨ（ＣＨ２）４ＯＣＨ２ＯＣＨ２Ｒ３ （４）
（式中、Ｒ３は、上記で定義した通りである。）
で表される（５Ｅ，７Ｚ）－５，７－ドデカジエニル＝アルコキシメチル＝エーテル化合物を得るステップと、
前記（５Ｅ，７Ｚ）－５，７－ドデカジエニル＝アルコキシメチル＝エーテル化合物（４）を脱アルコキシメチル化して、下記式（５）
ＣＨ３（ＣＨ２）３ＣＨ＝ＣＨＣＨ＝ＣＨ（ＣＨ２）４ＯＨ （５）
で表される（５Ｅ，７Ｚ）－５，７－ドデカジエン－１－オール（５）を得るステップと
を少なくとも含む、（５Ｅ，７Ｚ）－５，７－ドデカジエン－１－オール（５）の製造方法。
［項Ｂ５］
上記項Ｂ４に記載の、（５Ｅ，７Ｚ）－５，７－ドデカジエン－１－オール（５）の製造方法と、
前記（５Ｅ，７Ｚ）－５，７－ドデカジエン－１－オール（５）をアセチル化反応させて、下記式（６）
ＣＨ３（ＣＨ２）３ＣＨ＝ＣＨＣＨ＝ＣＨ（ＣＨ２）４ＯＣＯＣＨ３ （６）
で表される（５Ｅ，７Ｚ）－５，７－ドデカジエニル＝アセテート（６）を得るステップと
を少なくとも含む、（５Ｅ，７Ｚ）－５，７－ドデカジエニル＝アセテート（６）の製造方法。
【手続補正書】
【提出日】2023-11-01
【手続補正1】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項1】
下記一般式（１）
Ｒ３ＣＨ２ＯＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）ａＣＨ＝ＣＨＣＨ（ＯＲ１）（ＯＲ２） （１）
（式中、Ｒ１及びＲ２は、それぞれ独立して炭素数１～１５の一価の炭化水素基、又はＲ１とＲ２が互いに結合したＲ１－Ｒ２として炭素数２～１０の二価の炭化水素基を表し、Ｒ３は水素原子、炭素数１～９のｎ－アルキル基又はフェニル基を表し、ａは、１～１０の整数を表す。）
で表されるジアルコキシアルケニル＝アルコキシメチル＝エーテル化合物を酸の存在下、生成したアルコール化合物を除去しながら、加水分解反応させて、下記一般式（２）
Ｒ３ＣＨ２ＯＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）ａＣＨ＝ＣＨＣＨＯ （２）
（式中、Ｒ３及びａは、上記で定義した通りである。）
で表されるホルミルアルケニル＝アルコキシメチル＝エーテル化合物（２）を得るステップ
を少なくとも含み、
前記酸が、塩酸、臭化水素酸、ｐ－トルエンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、トリフルオロ酢酸、ギ酸、シュウ酸、若しくはヨードトリメチルシラン、又はそれらの組み合わせである、
ホルミルアルケニル＝アルコキシメチル＝エーテル化合物（２）の製造方法。
Ｒ３ＣＨ２ＯＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）ａＣＨ＝ＣＨＣＨ（ＯＲ１）（ＯＲ２） （１）
（式中、Ｒ１及びＲ２は、それぞれ独立して炭素数１～１５の一価の炭化水素基、又はＲ１とＲ２が互いに結合したＲ１－Ｒ２として炭素数２～１０の二価の炭化水素基を表し、Ｒ３は水素原子、炭素数１～９のｎ－アルキル基又はフェニル基を表し、ａは、１～１０の整数を表す。）
で表されるジアルコキシアルケニル＝アルコキシメチル＝エーテル化合物を酸の存在下、生成したアルコール化合物を除去しながら、加水分解反応させて、下記一般式（２）
Ｒ３ＣＨ２ＯＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）ａＣＨ＝ＣＨＣＨＯ （２）
（式中、Ｒ３及びａは、上記で定義した通りである。）
で表されるホルミルアルケニル＝アルコキシメチル＝エーテル化合物（２）を得るステップ
を少なくとも含み、
前記酸が、塩酸、臭化水素酸、ｐ－トルエンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、トリフルオロ酢酸、ギ酸、シュウ酸、若しくはヨードトリメチルシラン、又はそれらの組み合わせである、
ホルミルアルケニル＝アルコキシメチル＝エーテル化合物（２）の製造方法。
【請求項2】
前記酸が、塩酸、ｐ－トルエンスルホン酸、若しくはギ酸又はそれらの組み合わせである、請求項１に記載の製造方法。
【請求項3】
前記酸が、ギ酸若しくは塩酸又はそれらの組み合わせである、請求項１に記載のホルミルアルケニル＝アルコキシメチル＝エーテル化合物の製造方法。
【請求項4】
前記加水分解反応が、前記酸に加えて水の存在下で行われる、請求項１～３のいずれか１項に記載の製造方法。
【請求項5】
前記加水分解反応における水の使用量が、ジアルコキシアルケニル＝アルコキシメチル＝エーテル化合物（１）１ｍｏｌに対して、３００ｇ以下である、請求項４に記載の製造方法。
【請求項6】
前記加水分解反応における反応温度が１０～１５０℃である、請求項１～５のいずれか１項に記載の製造方法。
【請求項7】
前記生成したアルコール化合物の除去が常圧下又は減圧下で行われる、請求項１～６のいずれか１項に記載の製造方法。
【請求項8】
前記生成したアルコール化合物の除去が減圧下で行われる、請求項１～７のいずれか１項に記載の製造方法。
【請求項9】
請求項１～８のいずれか１項に記載の、ホルミルアルケニル＝アルコキシメチル＝エーテル化合物（２）、ここで、ａ＝４である、の製造方法と、
前記ホルミルアルケニル＝アルコキシメチル＝エーテル化合物（２）と、下記一般式（３）
（式中、Ａｒは、それぞれ独立してアリール基を表す。）
で表されるトリアリールホスホニウム＝ペンチリド化合物とをウィッティヒ反応させて、下記一般式（４）
ＣＨ３（ＣＨ２）３ＣＨ＝ＣＨＣＨ＝ＣＨ（ＣＨ２）４ＯＣＨ２ＯＣＨ２Ｒ３ （４）
（式中、Ｒ３は、上記で定義した通りである。）
で表される（５Ｅ，７Ｚ）－５，７－ドデカジエニル＝アルコキシメチル＝エーテル化合物を得るステップと、
前記（５Ｅ，７Ｚ）－５，７－ドデカジエニル＝アルコキシメチル＝エーテル化合物（４）を脱アルコキシメチル化して、下記式（５）
ＣＨ３（ＣＨ２）３ＣＨ＝ＣＨＣＨ＝ＣＨ（ＣＨ２）４ＯＨ （５）
で表される（５Ｅ，７Ｚ）－５，７－ドデカジエン－１－オール（５）を得るステップと
を少なくとも含む、（５Ｅ，７Ｚ）－５，７－ドデカジエン－１－オール（５）の製造方法。
前記ホルミルアルケニル＝アルコキシメチル＝エーテル化合物（２）と、下記一般式（３）
【化1】
で表されるトリアリールホスホニウム＝ペンチリド化合物とをウィッティヒ反応させて、下記一般式（４）
ＣＨ３（ＣＨ２）３ＣＨ＝ＣＨＣＨ＝ＣＨ（ＣＨ２）４ＯＣＨ２ＯＣＨ２Ｒ３ （４）
（式中、Ｒ３は、上記で定義した通りである。）
で表される（５Ｅ，７Ｚ）－５，７－ドデカジエニル＝アルコキシメチル＝エーテル化合物を得るステップと、
前記（５Ｅ，７Ｚ）－５，７－ドデカジエニル＝アルコキシメチル＝エーテル化合物（４）を脱アルコキシメチル化して、下記式（５）
ＣＨ３（ＣＨ２）３ＣＨ＝ＣＨＣＨ＝ＣＨ（ＣＨ２）４ＯＨ （５）
で表される（５Ｅ，７Ｚ）－５，７－ドデカジエン－１－オール（５）を得るステップと
を少なくとも含む、（５Ｅ，７Ｚ）－５，７－ドデカジエン－１－オール（５）の製造方法。
【請求項10】
請求項９に記載の、（５Ｅ，７Ｚ）－５，７－ドデカジエン－１－オール（５）の製造方法と、
前記（５Ｅ，７Ｚ）－５，７－ドデカジエン－１－オール（５）をアセチル化反応させて、下記式（６）
ＣＨ３（ＣＨ２）３ＣＨ＝ＣＨＣＨ＝ＣＨ（ＣＨ２）４ＯＣＯＣＨ３ （６）
で表される（５Ｅ，７Ｚ）－５，７－ドデカジエニル＝アセテート（６）を得るステップと
を少なくとも含む、（５Ｅ，７Ｚ）－５，７－ドデカジエニル＝アセテート（６）の製造方法。
前記（５Ｅ，７Ｚ）－５，７－ドデカジエン－１－オール（５）をアセチル化反応させて、下記式（６）
ＣＨ３（ＣＨ２）３ＣＨ＝ＣＨＣＨ＝ＣＨ（ＣＨ２）４ＯＣＯＣＨ３ （６）
で表される（５Ｅ，７Ｚ）－５，７－ドデカジエニル＝アセテート（６）を得るステップと
を少なくとも含む、（５Ｅ，７Ｚ）－５，７－ドデカジエニル＝アセテート（６）の製造方法。
【請求項11】
下記一般式（１）
Ｒ３ＣＨ２ＯＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）ａＣＨ＝ＣＨＣＨ（ＯＲ１）（ＯＲ２） （１）
（式中、Ｒ１及びＲ２は、それぞれ独立して炭素数１～１５の一価の炭化水素基、又はＲ１とＲ２が互いに結合したＲ１－Ｒ２として炭素数２～１０の二価の炭化水素基を表し、Ｒ３は水素原子、炭素数１～９のｎ－アルキル基又はフェニル基を表し、ａは、１～１０の整数を表す。）
で表されるジアルコキシアルケニル＝アルコキシメチル＝エーテル化合物を酸の存在下、生成したアルコール化合物を除去しながら、加水分解反応させて、下記一般式（２）
Ｒ３ＣＨ２ＯＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）ａＣＨ＝ＣＨＣＨＯ （２）
（式中、Ｒ３及びａは、上記で定義した通りである。）
で表されるホルミルアルケニル＝アルコキシメチル＝エーテル化合物（２）を得るステップ
を少なくとも含み、
前記酸が、塩酸、臭化水素酸、ｐ－トルエンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、トリフルオロ酢酸、酢酸、ギ酸、シュウ酸、若しくはヨードトリメチルシラン、又はそれらの組み合わせであり、該酸の使用量が、ジアルコキシアルケニル＝アルコキシメチル＝エーテル化合物（１）１ｍｏｌに対して、０．０００１～２．０ｍｏｌである、
ホルミルアルケニル＝アルコキシメチル＝エーテル化合物（２）の製造方法。
Ｒ３ＣＨ２ＯＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）ａＣＨ＝ＣＨＣＨ（ＯＲ１）（ＯＲ２） （１）
（式中、Ｒ１及びＲ２は、それぞれ独立して炭素数１～１５の一価の炭化水素基、又はＲ１とＲ２が互いに結合したＲ１－Ｒ２として炭素数２～１０の二価の炭化水素基を表し、Ｒ３は水素原子、炭素数１～９のｎ－アルキル基又はフェニル基を表し、ａは、１～１０の整数を表す。）
で表されるジアルコキシアルケニル＝アルコキシメチル＝エーテル化合物を酸の存在下、生成したアルコール化合物を除去しながら、加水分解反応させて、下記一般式（２）
Ｒ３ＣＨ２ＯＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）ａＣＨ＝ＣＨＣＨＯ （２）
（式中、Ｒ３及びａは、上記で定義した通りである。）
で表されるホルミルアルケニル＝アルコキシメチル＝エーテル化合物（２）を得るステップ
を少なくとも含み、
前記酸が、塩酸、臭化水素酸、ｐ－トルエンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、トリフルオロ酢酸、酢酸、ギ酸、シュウ酸、若しくはヨードトリメチルシラン、又はそれらの組み合わせであり、該酸の使用量が、ジアルコキシアルケニル＝アルコキシメチル＝エーテル化合物（１）１ｍｏｌに対して、０．０００１～２．０ｍｏｌである、
ホルミルアルケニル＝アルコキシメチル＝エーテル化合物（２）の製造方法。
【請求項12】
前記酸が、塩酸、ｐ－トルエンスルホン酸、酢酸若しくはギ酸又はそれらの組み合わせである、請求項１１に記載の製造方法。
【請求項13】
前記酸が、ギ酸若しくは塩酸又はそれらの組み合わせである、請求項１１に記載のホルミルアルケニル＝アルコキシメチル＝エーテル化合物の製造方法。
【請求項14】
前記加水分解反応が、前記酸に加えて水の存在下で行われる、請求項１１～１３のいずれか１項に記載の製造方法。
【請求項15】
前記加水分解反応における水の使用量が、ジアルコキシアルケニル＝アルコキシメチル＝エーテル化合物（１）１ｍｏｌに対して、３００ｇ以下である、請求項１４に記載の製造方法。
【請求項16】
前記加水分解反応における反応温度が１０～１５０℃である、請求項１１～１５のいずれか１項に記載の製造方法。
【請求項17】
前記生成したアルコール化合物の除去が常圧下又は減圧下で行われる、請求項１１～１６のいずれか１項に記載の製造方法。
【請求項18】
前記酸が酢酸である、請求項１１～１７のいずれか１項に記載の製造方法。
【請求項19】
請求項１１～１８のいずれか１項に記載の、ホルミルアルケニル＝アルコキシメチル＝エーテル化合物（２）、ここで、ａ＝４である、の製造方法と、
前記ホルミルアルケニル＝アルコキシメチル＝エーテル化合物（２）と、下記一般式（３）
（式中、Ａｒは、それぞれ独立してアリール基を表す。）
で表されるトリアリールホスホニウム＝ペンチリド化合物とをウィッティヒ反応させて、下記一般式（４）
ＣＨ３（ＣＨ２）３ＣＨ＝ＣＨＣＨ＝ＣＨ（ＣＨ２）４ＯＣＨ２ＯＣＨ２Ｒ３ （４）
（式中、Ｒ３は、上記で定義した通りである。）
で表される（５Ｅ，７Ｚ）－５，７－ドデカジエニル＝アルコキシメチル＝エーテル化合物を得るステップと、
前記（５Ｅ，７Ｚ）－５，７－ドデカジエニル＝アルコキシメチル＝エーテル化合物（４）を脱アルコキシメチル化して、下記式（５）
ＣＨ３（ＣＨ２）３ＣＨ＝ＣＨＣＨ＝ＣＨ（ＣＨ２）４ＯＨ （５）
で表される（５Ｅ，７Ｚ）－５，７－ドデカジエン－１－オール（５）を得るステップと
を少なくとも含む、（５Ｅ，７Ｚ）－５，７－ドデカジエン－１－オール（５）の製造方法。
前記ホルミルアルケニル＝アルコキシメチル＝エーテル化合物（２）と、下記一般式（３）
【化2】
で表されるトリアリールホスホニウム＝ペンチリド化合物とをウィッティヒ反応させて、下記一般式（４）
ＣＨ３（ＣＨ２）３ＣＨ＝ＣＨＣＨ＝ＣＨ（ＣＨ２）４ＯＣＨ２ＯＣＨ２Ｒ３ （４）
（式中、Ｒ３は、上記で定義した通りである。）
で表される（５Ｅ，７Ｚ）－５，７－ドデカジエニル＝アルコキシメチル＝エーテル化合物を得るステップと、
前記（５Ｅ，７Ｚ）－５，７－ドデカジエニル＝アルコキシメチル＝エーテル化合物（４）を脱アルコキシメチル化して、下記式（５）
ＣＨ３（ＣＨ２）３ＣＨ＝ＣＨＣＨ＝ＣＨ（ＣＨ２）４ＯＨ （５）
で表される（５Ｅ，７Ｚ）－５，７－ドデカジエン－１－オール（５）を得るステップと
を少なくとも含む、（５Ｅ，７Ｚ）－５，７－ドデカジエン－１－オール（５）の製造方法。
【請求項20】
請求項１９に記載の、（５Ｅ，７Ｚ）－５，７－ドデカジエン－１－オール（５）の製造方法と、
前記（５Ｅ，７Ｚ）－５，７－ドデカジエン－１－オール（５）をアセチル化反応させて、下記式（６）
ＣＨ３（ＣＨ２）３ＣＨ＝ＣＨＣＨ＝ＣＨ（ＣＨ２）４ＯＣＯＣＨ３ （６）
で表される（５Ｅ，７Ｚ）－５，７－ドデカジエニル＝アセテート（６）を得るステップと
を少なくとも含む、（５Ｅ，７Ｚ）－５，７－ドデカジエニル＝アセテート（６）の製造方法。
前記（５Ｅ，７Ｚ）－５，７－ドデカジエン－１－オール（５）をアセチル化反応させて、下記式（６）
ＣＨ３（ＣＨ２）３ＣＨ＝ＣＨＣＨ＝ＣＨ（ＣＨ２）４ＯＣＯＣＨ３ （６）
で表される（５Ｅ，７Ｚ）－５，７－ドデカジエニル＝アセテート（６）を得るステップと
を少なくとも含む、（５Ｅ，７Ｚ）－５，７－ドデカジエニル＝アセテート（６）の製造方法。