(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】公開特許公報(A)
(11)【公開番号】P2023173712
(43)【公開日】2023-12-07
(54)【発明の名称】撹拌装置
(51)【国際特許分類】
B01F 27/90 20220101AFI20231130BHJP
B01F 27/053 20220101ALI20231130BHJP
B01F 27/211 20220101ALI20231130BHJP
C22B 23/00 20060101ALI20231130BHJP
C22B 3/02 20060101ALI20231130BHJP
B01F 23/53 20220101ALI20231130BHJP
B01F 27/112 20220101ALI20231130BHJP
【FI】
B01F27/90
B01F27/053
B01F27/211
C22B23/00 102
C22B3/02
B01F23/53
B01F27/112
【審査請求】未請求
【請求項の数】5
【出願形態】OL
(21)【出願番号】P 2022086155
(22)【出願日】2022-05-26
(71)【出願人】
【識別番号】000183303
【氏名又は名称】住友金属鉱山株式会社
(74)【代理人】
【識別番号】100067736
【弁理士】
【氏名又は名称】小池 晃
(74)【代理人】
【識別番号】100192212
【弁理士】
【氏名又は名称】河野 貴明
(74)【代理人】
【識別番号】100200001
【弁理士】
【氏名又は名称】北原 明彦
(72)【発明者】
【氏名】真鍋 勝耐
【テーマコード(参考)】
4G035
4G078
4K001
【Fターム(参考)】
4G035AB46
4G035AE17
4G078AA09
4G078AA18
4G078AB20
4G078BA05
4G078CA12
4G078DA01
4G078DC10
4K001AA19
4K001BA03
4K001BA06
4K001BA19
4K001DB03
4K001DB04
4K001DB16
4K001DB21
4K001DB24
(57)【要約】
【課題】耐食性、耐摩耗性及び耐衝撃性に優れ、耐用年数を向上させた撹拌装置を提供する。
【解決手段】槽内でスラリーを撹拌する撹拌装置10であって、少なくとも、槽内に垂直に設けられた回転軸11と、回転軸11に取り付けられたパドル型の撹拌翼12と、を備え、回転軸11及び撹拌翼12には全面に亘ってゴムライニング13が施され、さらに、撹拌翼12にはゴムライニング13の表面を覆うようにセラミック粒子充填エポキシ樹脂層14が部分的に形成されている。
【選択図】
図2
【特許請求の範囲】
【請求項1】
槽内でスラリーを撹拌する撹拌装置であって、
少なくとも、
前記槽内に垂直に設けられた回転軸と、
前記回転軸に取り付けられたパドル型の撹拌翼と、
を備え、
前記回転軸及び前記撹拌翼には全面に亘ってゴムライニングが施され、
さらに、前記撹拌翼には前記ゴムライニングの表面を覆うようにセラミック粒子充填エポキシ樹脂層が部分的に形成されていることを特徴とする撹拌装置。
【請求項2】
前記撹拌翼の前記回転軸との接続箇所の前記回転軸の軸心を中心とした周辺範囲には前記セラミック粒子充填エポキシ樹脂層が形成されておらず、
前記撹拌翼の翼径をL、前記撹拌翼の前記セラミック粒子充填エポキシ樹脂層が形成されていない箇所の径をLcとすると、
前記Lに対する前記Lcの比Lc/Lが0.05以上0.3以下であることを特徴とする請求項1に記載の撹拌装置。
【請求項3】
前記撹拌翼に形成された前記セラミック粒子充填エポキシ樹脂層の厚さが5mm以上15mm以下であることを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の撹拌装置。
【請求項4】
前記セラミック粒子充填エポキシ樹脂に配合されるセラミック粒子が、直径が0.5~2.5mmのアルミナ製セラミックビーズであることを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の撹拌装置。
【請求項5】
ニッケルの製錬プロセスにおいて、ニッケル・コバルト混合硫化物を浸出した後に残る浸出残渣を含むスラリーを撹拌することを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の撹拌装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、撹拌装置、より詳しくは、槽内でスラリーを撹拌する撹拌装置に関する。
【背景技術】
【0002】
ニッケル及びコバルトの湿式製錬プロセスとして、MCLE(Matte Chlorine Leach Electrowinning、マット塩素浸出電解採取)プロセスが知られている。このMCLEプロセスでは、ニッケル・コバルト混合硫化物(以下、「MS」ともいう)およびニッケルマット(主成分は二硫化三ニッケルとニッケルメタル)を原料として、湿式製錬により、電気ニッケルと電気コバルトを生産する。
【0003】
MCLEプロセスにおいて、例えば、特許文献1や特許文献2では、ニッケル及びコバルトを含有した硫化物を塩素ガスの酸化作用を利用して浸出した後の浸出残渣に関して、遠心分離機で液相と固体に分離し、当該固体が融解槽に投入され、硫黄の融点以上に昇温してろ過することにより、溶融硫黄が得られることが記載されている。
【0004】
上記遠心分離機に供給する前の浸出残渣は撹拌装置内で撹拌されるが、腐食性、磨耗性を有するこのような浸出残渣含有スラリーを撹拌する撹拌槽では、耐腐食性、耐磨耗性を有する撹拌翼を用いる必要がある。このため、従来、このような腐食性、磨耗性の厳しい環境で使用される撹拌翼は、金属製の翼板に耐食性を担保するために樹脂またはゴム等のライニングが施されている。
【0005】
しかしながら、特に磨耗性の高い条件下では、上記樹脂またはゴム等のライニングの磨耗は避けられない。このため、補修時期を逸すると、樹脂またはゴム等のライニングが施された金属製の撹拌翼では、前縁部の局部的な磨耗・減肉が進行し、ライニングの下地金属が腐食するなどのトラブルの発生に至るため、膨大な補修費用が掛かり、また予定外の設備休止が必要になることもある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0006】
【特許文献1】特開2017-115754号公報
【特許文献2】特開2017-186913号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0007】
本発明は、このような状況を解決するためになされたものであり、耐食性、耐摩耗性及び耐衝撃性に優れ、耐用年数を向上させた撹拌装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【0008】
上記目的を達成するために、本発明者らは鋭意検討を重ね、撹拌翼の全面に亘って施されたゴムライニングの上から、さらにセラミック粒子充填エポキシ樹脂層を部分的に形成することに想到した。
【0009】
すなわち、本発明の一態様は、槽内でスラリーを撹拌する撹拌装置であって、少なくとも、槽内に垂直に設けられた回転軸と、回転軸に取り付けられたパドル型の撹拌翼と、を備え、回転軸及び撹拌翼には全面に亘ってゴムライニングが施され、さらに、撹拌翼にはゴムライニングの表面を覆うようにセラミック粒子充填エポキシ樹脂層が部分的に形成されている。
【0010】
本発明の一態様によれば、ゴムライニングとセラミック粒子充填エポキシ樹脂によるハイブリッド仕様とすることにより、ゴムライニングによる耐食性及び耐摩耗性に加えて、スラリー中の固体との衝突による衝撃対策は、セラミック粒子充填エポキシ樹脂で行うことができるため、耐食性、耐摩耗性及び耐衝撃性に優れ、耐用年数を向上させた撹拌装置を実現することができる。
【0011】
このとき、本発明の一態様では、撹拌翼の回転軸との接続箇所の前記回転軸の軸心を中心とした周辺範囲にはセラミック粒子充填エポキシ樹脂層が形成されておらず、撹拌翼の翼径をL、撹拌翼のセラミック粒子充填エポキシ樹脂層が形成されていない箇所の径をLcとすると、前記Lに対する前記Lcの比Lc/Lが0.05以上0.3以下であるとしてもよい。
【0012】
撹拌翼と回転軸との接続箇所の周辺範囲は回転中心部となるため、回転外周部と比較して撹拌翼の線速度も遅く、中心軸付近にはセラミック粒子充填エポキシ樹脂層を形成しないことにより、撹拌翼の重量増加を防止することができる。
【0013】
また、本発明の一態様では、撹拌翼に形成されたセラミック粒子充填エポキシ樹脂層の厚さが5mm以上15mm以下であるとしてもよい。
【0014】
セラミック粒子充填エポキシ樹脂層の厚さを上記範囲とすることで、耐衝撃性の効果を十分に得ることができるとともに、過剰な厚さにすることによる重量増加や高コスト化を防止することができる。
【0015】
また、本発明の一態様では、セラミック粒子充填エポキシ樹脂に配合されるセラミック粒子が、直径が0.5~2.5mmのアルミナ製セラミックビーズであるとしてもよい。
【0016】
このようなアルミナ製セラミックビーズをエポキシ樹脂に配合することにより、耐衝撃性に優れた樹脂を塗布することができる。
【0017】
また、本発明の一態様では、ニッケルの製錬プロセスにおいて、ニッケル・コバルト混合硫化物を浸出した後に残る浸出残渣を含むスラリーを撹拌する撹拌装置としてもよい。
【0018】
このニッケルの製錬プロセスのように、塩酸酸性水溶液と浸出残渣のスラリーなど、腐食や摩耗が生じやすい水溶液を撹拌する撹拌装置に好ましく適用することができる。
【発明の効果】
【0019】
以上説明したように本発明によれば、耐食性、耐摩耗性及び耐衝撃性に優れ、耐用年数を向上させた撹拌装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【0020】
【
図1】
図1は、本発明の一態様が適用されるニッケルの製錬プロセスの一例を示す工程図である。
【
図2】
図2は、本発明の一実施形態に係る撹拌装置の構造を示す概略図である。
【発明を実施するための形態】
【0021】
以下、本発明の好適な実施の形態について、図面を参照しながら詳細に説明する。なお、以下に説明する本実施形態は、特許請求の範囲に記載された本発明の内容を不当に限定するものではなく、本実施形態で説明される構成の全てが本発明の解決手段として必須であるとは限らない。
【0022】
本発明に係る撹拌装置は、一例としてニッケルの製錬プロセスにおいて、浸出工程後の浸出残渣の受入槽において浸出残渣を含むスラリーを撹拌する撹拌装置として使用される。もちろん、本発明に係る撹拌装置はこのような例のみに限定されるわけでは無く、摩耗性のある固体を含んだ腐食性のある強酸性水溶液からなるスラリー全般の撹拌に適用することも可能である。
【0023】
まず、本発明が適用されるニッケルの製錬プロセスの概要について簡単に説明する。
図1は、本発明の一態様が適用されるニッケルの製錬プロセスの一例を示す工程図である。ニッケルの製錬プロセスは、ニッケルを含有する硫化物(例えばMS)をスラリーとし、そのスラリーに塩素ガスを吹き込んでニッケルを含有する硫化物中のニッケルを塩素ガスの酸化作用を利用して水溶液中に浸出して浸出液と浸出残渣とに分離し、その浸出液から不純物を分離して電気ニッケルを得るニッケルの製錬プロセスである。
【0024】
浸出工程S1では、ニッケルを含有する硫化物のスラリーに塩素ガスを吹き込むことで、その硫化物中に含まれるニッケル等の金属を塩素ガスの酸化作用を利用して水溶液中に浸出させる。例えば、この浸出工程S1では、ニッケルを含有する硫化物のスラリーを浸出槽に装入し、後工程の電解工程S3から回収された塩素ガス(Cl2ガス)をスラリーに吹き込む。ニッケルを含有する硫化物としては、特に限定されないが、例えば、ニッケルを含有するニッケル酸化鉱石を硫酸で浸出して得られた硫酸浸出液(硫酸酸性水溶液)に硫化水素ガス等の硫化剤を添加することで硫化して得られた硫化物が挙げられる。ニッケルを含有する硫酸酸性水溶液に硫化剤を添加して得られた硫化物は、硫化ニッケルと硫化コバルトとの混合硫化物(MS)である。
【0025】
浄液工程S2では、浸出工程S1を経て得られた浸出液から、不純物を分離除去する。具体的に、この浄液工程S2では、浸出液からニッケル以外の他の不純物を分離除去し、例えば電解採取によってニッケルを製錬するための塩化ニッケル溶液を得る。この浄液工程S2は、浸出液から鉄を分離除去する脱鉄工程、そのほか、脱コバルト工程、脱鉛工程、脱亜鉛工程等を有するようにすることができる。なお、浄液工程S2において分離除去する対象元素は、原料となる硫化物の不純物組成に応じて変わるため、それに応じて最適な工程の組合せとすれば良い。
【0026】
電解工程S3では、浄液工程S2を経て浄液された塩化ニッケル水溶液から、電解採取法により電気ニッケルを得る。すなわち、浄液された塩化ニッケル水溶液を電解液とした電解処理により、電気ニッケルを生成させる。具体的に、電解工程S3においては、カソード側で、電解液とした塩化ニッケル水溶液中のニッケルイオンがメタル(電気ニッケル)として析出される。一方で、アノード側では、塩化ニッケル水溶液中の塩化物イオンが塩素ガスとして発生する。このアノードで発生した塩素ガスは、回収塩素ガスとして浸出工程S1で使用することができる。
【0027】
一方で、浸出工程S1では、浸出残分、すなわち、硫黄を主成分とし、微量の溶け残りの金属を含有した硫化物及び酸化物を含む浸出残渣が産出される。浸出残渣には、一例として、硫黄が80~87重量%、鉄が2~5重量%、ニッケルが4~5重量%含まれている。そこで得られた浸出残渣を含むスラリーは、受入槽へと送られ、撹拌装置により撹拌される。本発明の一態様に係る撹拌装置はこのような受入槽で使用される。
【0028】
なお、浸出工程S1で溶け残った浸出残渣からは、硫黄回収工程S4により硫黄成分が回収される。具体的には、浸出残渣を含むスラリーは受入槽から遠心分離機へと送られ、液相と固体に分離され、固体成分が融解槽に投入される。融解槽に投入された固体成分は、硫黄の融点を超える110℃以上にまで昇温されることにより、浸出残渣に含まれる硫黄が液体(溶融物)となって、融解槽に滞留する。融解槽中の溶融物は、例えば竪型沈下式渦巻きポンプによって、ろ過装置に送液される。そして、浸出残渣の溶融物がろ過装置でろ過されることにより、溶融硫黄から固体の金属硫化物及び酸化物が分離されて、浸出残渣から製品硫黄が回収される。
【0029】
次に、本発明に係る撹拌装置の特徴点について説明する。
図2は、本発明の一実施形態に係る撹拌装置の構造を示す概略図である。本発明の一態様は、槽内でスラリーを撹拌する撹拌装置10であって、少なくとも、槽内に垂直に設けられた回転軸11と、回転軸11に取り付けられたパドル型の撹拌翼12と、を備え、回転軸11及び撹拌翼12には全面に亘ってゴムライニング13が施され、さらに、撹拌翼12にはゴムライニング13の表面を覆うようにセラミック粒子充填エポキシ樹脂層14が部分的に形成されている。
【0030】
撹拌装置10は、一例として、その回転軸11が軸受を介して受入槽の天蓋(図示せず)に対して回転可能に取り付けられている。この回転軸11は、その下方部分が受入槽の天蓋より下方に突出し、回転軸11の下方部分には撹拌翼12が設けられており、撹拌翼12が受入槽に送られた浸出工程後の浸出残渣を含む液体に浸漬されている。
【0031】
また、回転軸11の上方部分は、例えば減速機を介してモータなどの駆動装置に連結され、駆動装置を駆動すれば、減速機を介して、駆動装置の駆動力が回転軸11に伝達されるので、撹拌翼12が回転し、受入槽中のスラリーを撹拌することができる。
【0032】
なお、
図2では、撹拌翼12は、一段であるが、その上に1又は2以上の撹拌翼12をさらに設けた多段パドルタイプの撹拌装置10としてもよい。また、各段における翼板の枚数も2~4枚、あるいはそれ以上の枚数の翼板を状況に応じて適宜採用することができる。
【0033】
回転軸11及び撹拌翼12は、例えば、SS400(一般構造用圧延鋼材)などの素材で構成されており、表面に天然ゴム、ブチルゴム等のゴムライニング13が施されている。ニッケルの製錬プロセスにおける浸出工程後の浸出残渣を含むスラリーには、酸化性物質である溶存塩素や腐食性物質である塩酸も含まれるため、鋼製の回転軸や撹拌翼をそのまま使用すれば腐食が進んでしまう。したがって、回転軸11及び撹拌翼12にゴムライニング13を施すことにより、浸出残渣スラリーに含まれる強酸性水溶液に対する耐食性を向上させることができる。
【0034】
一方で、上記の通り、浸出残渣には、主成分である硫黄の他に、微量の溶け残りの金属を含有した硫化物及び酸化物が含まれているが、これらの硫化物及び酸化物は高い硬度を有する。硬度の単位は様々なものが使われているが、硫化ニッケルや酸化ニッケルは一般的に用いられている構造材であるSS400やSUS304よりも硬い程度の硬度を示す。回転軸11及び撹拌翼12の表面に施された天然ゴム、ブチルゴム等のゴムライニング13でも耐摩耗性は有するが、撹拌翼において回転軸から離れた回転外周部では撹拌翼の線速度が速く、当該部分は浸出残渣の衝突による損耗も並行して進行していると考えられる。このため、撹拌翼12の表面に施されたゴムライニング13は次第に摩耗してゴム厚が薄くなり、最終的にはゴムライニング13に穴あきが生じて撹拌翼12の腐食によるトラブルにつながる。
【0035】
そこで、本発明では、
図2に示すように、撹拌翼12のゴムライニング13の表面を覆うようにセラミック粒子充填エポキシ樹脂層14が部分的に形成されている。
【0036】
セラミック粒子充填エポキシ樹脂層14に含まれるセラミック粒子は、一定以上の硬度を持ったものであれば特に限定はされないが、例えば、アルミナ製セラミックビーズが用いられる。また、セラミック粒子の粒径もエポキシ樹脂内に均一に分散できる程度の大きさであればよいが、一例として直径が0.5~1.0mm、あるいは、2.0~2.5mmのものが用いられる。ハンドリング性の面からは、直径が0.5~1.0mmのものを用いることが好ましい。セラミック粒子をエポキシ樹脂内に分散させることにより、浸出残渣を含むスラリーの撹拌時においても、セラミック粒子が摩耗を食い止めることでセラミック粒子充填エポキシ樹脂が塗布されている表面を保護することができ、耐摩耗性及び耐衝撃性を向上させることができる。なお、アルミナであれば、硫化ニッケルや酸化ニッケルよりも十分に高い程度の硬度を有する。
【0037】
このような硬化後のセラミック粒子充填エポキシ樹脂は以下に示す特徴を有している。
・耐摩耗性:ショア硬さが約90HSである。これは、一般的な構造用鋼材であるSS400やSUS304と比較して2.5~4倍のショア硬さである。
・耐薬品性:硫酸、苛性ソーダ、塩化ニッケル等の腐食性水溶液に対する耐性を備える。
・150℃程度の高温環境でも使用可能である。
・金属・樹脂への接着性が良く、溶接が不要で、取り扱いが容易である。
【0038】
本発明の一態様では、撹拌翼12の回転軸11との接続箇所の回転軸の軸心を中心とした周辺範囲にはセラミック粒子充填エポキシ樹脂層14が形成されておらず、撹拌翼12の翼径をL、撹拌翼12のセラミック粒子充填エポキシ樹脂層14が形成されていない箇所の径をLcとすると、前記Lに対する前記Lcの比Lc/Lが0.05以上0.3以下であるとしてもよい。
【0039】
これは、回転軸11から離れた撹拌翼12の端部の方は浸出残渣との衝突による衝撃作用および磨耗作用が強く加わるが、逆に回転軸11に近い中央部分は浸出残渣との衝突は比較的弱いためである。Lc/Lが0.05未満であると浸出残渣との衝突が比較的弱い回転軸11の中央付近にまでセラミック粒子充填エポキシ樹脂を塗布することとなり、撹拌翼12の重量増加や、そのことによる回転動力の増加による高コスト化を招く。また、Lc/Lが0.3を超えると、撹拌翼12と浸出残渣との衝突が比較的強く生じ得る箇所にセラミック粒子充填エポキシ樹脂が塗布されない恐れがあり、撹拌翼12の当該箇所からの腐食を招いてしまう。
【0040】
また、本発明の一態様では、撹拌翼12に形成されたセラミック粒子充填エポキシ樹脂層14の厚さtが5mm以上15mm以下であるとしてもよい。さらに、厚さtが5mm以上10mm以下とすることが好ましい。厚さtが5mm未満の場合には、セラミック粒子充填エポキシ樹脂層14による耐衝撃性の効果を十分に得ることができず、摩耗により内部の撹拌翼12の腐食が生じる恐れがある。また、厚さtが15mmを超える場合には、過剰塗布による撹拌翼12の重量増加やセラミック粒子充填エポキシ樹脂そのもののコスト増加につながる。不必要な撹拌翼12の重量増加によって、回転動力の増加による電力コストの増加が引き起こされ、場合によってはモータを容量の大きいものに変更する必要も生じる。
【0041】
なお、セラミック粒子充填エポキシ樹脂層14は水溶液を浸透する可能性があるため、塩酸酸性水溶液が浸透して内部の素材が腐食してしまう恐れがある。このため、本発明では、セラミック粒子充填エポキシ樹脂を単独で撹拌翼12に直接塗布するのではなく、ゴムライニング13の上からその表面を覆うようにセラミック粒子充填エポキシ樹脂を塗布する。このようにすることで、セラミック粒子充填エポキシ樹脂を金属製の撹拌翼12に直接塗布するよりもセラミック粒子充填エポキシ樹脂の密着性を向上させることができる。さらに、ゴムライニング13は水溶液を浸透させないため、耐食性を向上させるとともに、その外側に塗布したセラミック粒子充填エポキシ樹脂により、耐摩耗性及び耐衝撃性を向上させたハイブリッド仕様とすることができる。なお、硬化後のエポキシ樹脂自体は、基本的には液体を浸透させないが、セラミック粒子が充填されると微小な間隙が生じやすく、水溶液を透過させる可能性がある。
【実施例0042】
以下、本発明について、実施例により、さらに詳細に説明するが、本発明は、以下の実施例に何ら限定されるものではない。
【0043】
上記したニッケルの製錬プロセスにおいて、浸出工程後の浸出残渣の受入槽の撹拌機に本発明を適用し、本発明の一実施形態に係る撹拌装置とした。セラミック粒子充填エポキシ樹脂として、セラミックエポキシ材型式:HL-K1、メーカー関西パテ化工、アルミナ製セラミックビーズの粒子径:0.5~1.0mm、を塗布した。セラミック粒子充填エポキシ樹脂は主剤と硬化剤を1:2で混合し塗布した。塗布したセラミック粒子充填エポキシ樹脂は、24時間以上置くことでエポキシ材の硬化・乾燥を行った。
【0044】
本実施例における運転環境は、pH2~5、温度30~50℃、回転数60~70rpmである。本発明を適用する前の従来例(比較例)では、撹拌装置は約0.5年(半年)で摩耗、腐食のために更新が必要となった。これに対して、本発明を適用した撹拌装置(実施例)では、8年経過した時点でも問題なく使用することが可能となった。なお、上記比較例の撹拌装置は、セラミック粒子充填エポキシ樹脂層14を備えていない以外は、本発明の一態様として上述したものと同一の撹拌装置である。
【0045】
したがって、本発明を適用することにより撹拌装置の耐用年数を大幅に向上させることができた。
【0046】
なお、上記のように本発明の一実施形態および実施例について詳細に説明したが、本発明の新規事項および効果から実体的に逸脱しない多くの変形が可能であることは、当業者には、容易に理解できるであろう。したがって、このような変形例は、全て本発明の範囲に含まれるものとする。
【0047】
例えば、明細書または図面において、少なくとも一度、より広義または同義な異なる用語と共に記載された用語は、明細書または図面のいかなる箇所においても、その異なる用語に置き換えることができる。また、撹拌装置の構成も本発明の一実施形態および実施例で説明したものに限定されず、種々の変形実施が可能である。
10 撹拌装置、11 回転軸、12 撹拌翼、13 ゴムライニング、14 セラミック粒子充填エポキシ樹脂層、L 撹拌翼の翼径、Lc 撹拌翼のセラミック粒子充填エポキシ樹脂層が形成されていない箇所の径、t 撹拌翼に形成されたセラミック粒子充填エポキシ樹脂層の厚さ