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(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】公開特許公報(A)
(11)【公開番号】P2023180201
(43)【公開日】2023-12-20
(54)【発明の名称】位相差層付偏光板
(51)【国際特許分類】
G02B 5/30 20060101AFI20231213BHJP
C08L 1/26 20060101ALI20231213BHJP
C08L 35/00 20060101ALI20231213BHJP
C08L 39/04 20060101ALI20231213BHJP
G02F 1/13363 20060101ALN20231213BHJP
G02F 1/1335 20060101ALN20231213BHJP
【ＦＩ】
G02B5/30
C08L1/26
C08L35/00
C08L39/04
G02F1/13363
G02F1/1335 510
【審査請求】未請求
【請求項の数】6
【出願形態】ＯＬ
(21)【出願番号】P 2022168678
(22)【出願日】2022-10-20
(31)【優先権主張番号】P 2022093281
(32)【優先日】2022-06-08
(33)【優先権主張国・地域又は機関】JP
(71)【出願人】
【識別番号】000003964
【氏名又は名称】日東電工株式会社
(71)【出願人】
【識別番号】000003300
【氏名又は名称】東ソー株式会社
(74)【代理人】
【識別番号】100122471
【弁理士】
【氏名又は名称】籾井 孝文
(72)【発明者】
【氏名】柳沼 寛教
(72)【発明者】
【氏名】中西 貞裕
(72)【発明者】
【氏名】東 慎太郎
(72)【発明者】
【氏名】長原 一平
(72)【発明者】
【氏名】北川 貴裕
(72)【発明者】
【氏名】藤井 靖芳
(72)【発明者】
【氏名】伊藤 正泰
(72)【発明者】
【氏名】小峯 拓也
【テーマコード（参考）】
2H149
2H291
4J002
【Ｆターム（参考）】
2H149AA02
2H149AA18
2H149AB02
2H149AB12
2H149AB13
2H149AB15
2H149BA02
2H149DA01
2H149DA02
2H149DA12
2H149DA18
2H149DB28
2H149EA02
2H149EA19
2H149FA02X
2H149FA02Y
2H149FA03W
2H149FA12X
2H149FA12Y
2H149FD05
2H149FD25
2H291FA22X
2H291FA22Z
2H291FA30X
2H291FA30Z
2H291FA94X
2H291FA94Z
2H291FA95X
2H291FA95Z
2H291FB03
2H291FB04
2H291FB05
2H291FC08
2H291FC33
2H291FC42
2H291FD12
2H291GA08
2H291GA23
2H291LA04
2H291PA04
2H291PA53
2H291PA84
4J002AB03W
4J002BH02Y
4J002BJ00X
4J002GP00
(57)【要約】
【課題】逆分散特性を有する位相差層を備える位相差層付偏光板であって、高温高湿環境下での外観不良の発生を抑制できる位相差層付偏光板を提供すること。
【解決手段】本発明の実施形態による位相差層付偏光板は、偏光子と；セルロース系樹脂およびエステル系樹脂を含有する位相差層と；をこの順に備えている。位相差層のＲｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）は、０～１であり、位相差層のＲｅ（５５０）は、１００ｎｍ～２００ｎｍであり、偏光子の吸収軸方向と位相差層の遅相軸方向とがなす角度は、４０°～５０°、または、１３０°～１４０°である。位相差層において、ナノ相分離構造が形成されている。
【選択図】図１
【解決手段】本発明の実施形態による位相差層付偏光板は、偏光子と；セルロース系樹脂およびエステル系樹脂を含有する位相差層と；をこの順に備えている。位相差層のＲｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）は、０～１であり、位相差層のＲｅ（５５０）は、１００ｎｍ～２００ｎｍであり、偏光子の吸収軸方向と位相差層の遅相軸方向とがなす角度は、４０°～５０°、または、１３０°～１４０°である。位相差層において、ナノ相分離構造が形成されている。
【選択図】図１
【特許請求の範囲】
【請求項1】
偏光子と、
セルロース系樹脂およびエステル系樹脂を含有する位相差層と、をこの順に備え、
前記位相差層のＲｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）は、０～１であり、
前記位相差層のＲｅ（５５０）は、１００ｎｍ～２００ｎｍであり、
前記偏光子の吸収軸方向と前記位相差層の遅相軸方向とがなす角度は、４０°～５０°、または、１３０°～１４０°であり、
前記位相差層において、ナノ相分離構造が形成されている、位相差層付偏光板。
セルロース系樹脂およびエステル系樹脂を含有する位相差層と、をこの順に備え、
前記位相差層のＲｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）は、０～１であり、
前記位相差層のＲｅ（５５０）は、１００ｎｍ～２００ｎｍであり、
前記偏光子の吸収軸方向と前記位相差層の遅相軸方向とがなす角度は、４０°～５０°、または、１３０°～１４０°であり、
前記位相差層において、ナノ相分離構造が形成されている、位相差層付偏光板。
【請求項2】
前記セルロース系樹脂は、下記式（１）に示す構成単位を有する、請求項１に記載の位相差層付偏光板：
（式（１）中、Ｒ１～Ｒ３のそれぞれは、水素原子または炭素数１～１２の置換基を示す）。
【化1】
【請求項3】
前記エステル系樹脂は、下記式（２）に示す構成単位と、下記式（３）に示す構成単位と、を有する、請求項１または２に記載の位相差層付偏光板：
（式（２）中、Ｒ４は、水素原子または炭素数１～１２のアルキル基を示し；Ｒ５ａは、炭素数１～１２のアルキル基、ニトロ基、ブロモ基、ヨード基、シアノ基、クロロ基、スルホン酸基、カルボン酸基、フルオロ基、または、チオール基から選択される１種を示し；Ｒ５ｂは、水素原子または炭素数１～１２のアルキル基を示し；Ｒ６は、水素原子、ニトロ基、ブロモ基、ヨード基、シアノ基、クロロ基、スルホン酸基、カルボン酸基、フルオロ基、フェニル基、チオール基、アミド基、アミノ基、ヒドロキシ基、炭素数１～１２のアルコキシ基、または、炭素数１～１２のアルキル基から選択される種を示す。）
（式（３）中、Ｒ７は、ヘテロ原子として窒素原子もしくは酸素原子を１つ以上含む５員環複素環残基または６員環複素環残基（前記５員環複素環残基および前記６員環複素環残基は他の環状構造と縮合環構造を形成してもよい）を示す）。
【化2】
【化3】
【請求項4】
前記エステル系樹脂は、下記式（４）に示す構成単位をさらに有する、請求項３に記載の位相差層付偏光板：
（式（４）中、Ｒ８およびＲ９のそれぞれは、水素原子、炭素数１～１２の直鎖状アルキル基、炭素数３～１２の分岐状アルキル基、または、炭素数３～６の環状アルキル基から選択される１種を示す）。
【化4】
【請求項5】
前記セルロース系樹脂の含有割合は、前記セルロース系樹脂および前記エステル系樹脂の総和を１００質量％としたときに、５０質量％を超過する、請求項１または２に記載の位相差層付偏光板。
【請求項6】
前記位相差層は、セルロース系樹脂およびエステル系樹脂を含有する樹脂フィルムを延伸した延伸フィルムであり、
前記延伸フィルムの延伸方向と直交する方向におけるＭＩＴ回数が３００回以上である、請求項１または２に記載の位相差層付偏光板。
前記延伸フィルムの延伸方向と直交する方向におけるＭＩＴ回数が３００回以上である、請求項１または２に記載の位相差層付偏光板。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、位相差層付偏光板に関する。
【背景技術】
【0002】
画像表示装置には、一般に、用途に適した光学特性を補償するために、偏光子と光学補償フィルムとを組み合わせた様々な光学積層体が使用されている。そのような光学積層体として、例えば、偏光子と、λ／４板である位相差層であって、変性ポリエステルカーボネート樹脂から形成される位相差層とを、この順に備える位相差層付偏光板が提案されている（例えば、特許文献１参照）。近年、画像表示装置の使用環境が多様化しており、高温高湿環境下での耐久性が要求される場合がある。このような高温高湿環境下での耐久性に関して、特許文献１に記載の位相差層付偏光板には改善の余地が残されており、特許文献１に記載の位相差層付偏光板では、特に高温高湿環境下で位相差層のクラック、剥がれなどの外観不良が生じるおそれがある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0003】
【特許文献1】特開２０２２－０１３７０５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0004】
本発明は上記従来の課題を解決するためになされたものであり、その主たる目的とするところは、逆分散特性を有する位相差層を備える位相差層付偏光板であって、高温高湿環境下での外観不良の発生を抑制できる位相差層付偏光板を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【0005】
［１］本発明の実施形態による位相差層付偏光板は、偏光子と；セルロース系樹脂およびエステル系樹脂を含有する位相差層と；をこの順に備えている。該位相差層のＲｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）は、０～１であり、該位相差層のＲｅ（５５０）は、１００ｎｍ～２００ｎｍである。該偏光子の吸収軸方向と該位相差層の遅相軸方向とがなす角度は、４０°～５０°、または、１３０°～１４０°である。上記位相差層において、ナノ相分離構造が形成されている。
［２］１つの実施形態は、上記セルロース系樹脂が下記式（１）に示す構成単位を有している、上記項目［１］に記載の位相差層付偏光板である。
（式（１）中、Ｒ１～Ｒ３のそれぞれは、水素原子または炭素数１～１２の置換基を示す）。
［３］１つの実施形態は、上記エステル系樹脂が下記式（２）に示す構成単位と、下記式（３）に示す構成単位と、を有している、上記項目［１］または［２］に記載の位相差層付偏光板である。
（式（２）中、Ｒ４は、水素原子または炭素数１～１２のアルキル基を示し；Ｒ５ａは、炭素数１～１２のアルキル基、ニトロ基、ブロモ基、ヨード基、シアノ基、クロロ基、スルホン酸基、カルボン酸基、フルオロ基、または、チオール基から選択される１種を示し；Ｒ５ｂは、水素原子または炭素数１～１２のアルキル基を示し；Ｒ６は、水素原子、ニトロ基、ブロモ基、ヨード基、シアノ基、クロロ基、スルホン酸基、カルボン酸基、フルオロ基、フェニル基、チオール基、アミド基、アミノ基、ヒドロキシ基、炭素数１～１２のアルコキシ基、または、炭素数１～１２のアルキル基から選択される種を示す。）
（式（３）中、Ｒ７は、ヘテロ原子として窒素原子もしくは酸素原子を１つ以上含む５員環複素環残基または６員環複素環残基（前記５員環複素環残基および前記６員環複素環残基は他の環状構造と縮合環構造を形成してもよい）を示す。）
［４］１つの実施形態は、上記エステル系樹脂が下記式（４）に示す構成単位をさらに有している、上記項目［３］に記載の位相差層付偏光板である。
（式（４）中、Ｒ８およびＲ９のそれぞれは、水素原子、炭素数１～１２の直鎖状アルキル基、炭素数３～１２の分岐状アルキル基、または、炭素数３～６の環状アルキル基から選択される１種を示す。）
［５］１つの実施形態は、上記セルロース系樹脂の含有割合が、上記セルロース系樹脂および上記エステル系樹脂の総和を１００質量％としたときに、５０質量％を超過する、上記項目［１］から［４］のいずれかに記載の位相差層付偏光板である。
［６］１つの実施形態は、上記位相差層が、セルロース系樹脂およびエステル系樹脂を含有する樹脂フィルムを延伸した延伸フィルムであり、該延伸フィルムの延伸方向と直交する方向におけるＭＩＴ回数が、３００回以上である、上記項目［１］から［５］のいずれかに記載の位相差層付偏光板である。
［２］１つの実施形態は、上記セルロース系樹脂が下記式（１）に示す構成単位を有している、上記項目［１］に記載の位相差層付偏光板である。
【化1】
［３］１つの実施形態は、上記エステル系樹脂が下記式（２）に示す構成単位と、下記式（３）に示す構成単位と、を有している、上記項目［１］または［２］に記載の位相差層付偏光板である。
【化2】
【化3】
［４］１つの実施形態は、上記エステル系樹脂が下記式（４）に示す構成単位をさらに有している、上記項目［３］に記載の位相差層付偏光板である。
【化4】
［５］１つの実施形態は、上記セルロース系樹脂の含有割合が、上記セルロース系樹脂および上記エステル系樹脂の総和を１００質量％としたときに、５０質量％を超過する、上記項目［１］から［４］のいずれかに記載の位相差層付偏光板である。
［６］１つの実施形態は、上記位相差層が、セルロース系樹脂およびエステル系樹脂を含有する樹脂フィルムを延伸した延伸フィルムであり、該延伸フィルムの延伸方向と直交する方向におけるＭＩＴ回数が、３００回以上である、上記項目［１］から［５］のいずれかに記載の位相差層付偏光板である。
【発明の効果】
【0006】
本発明の実施形態によれば、逆分散特性を有する位相差層を備える位相差層付偏光板であって、高温高湿環境下での外観不良の発生が抑制される位相差層付偏光板を実現できる。
【図面の簡単な説明】
【0007】
【図1】本発明の１つの実施形態による位相差層付偏光板の概略断面図である。
【発明を実施するための形態】
【0008】
以下、本発明の代表的な実施形態について説明するが、本発明はこれらの実施形態には限定されない。
【0009】
（用語および記号の定義）
本明細書における用語および記号の定義は下記の通りである。
（１）屈折率（ｎｘ、ｎｙ、ｎｚ）
「ｎｘ」は面内の屈折率が最大になる方向（すなわち、遅相軸方向）の屈折率であり、「ｎｙ」は面内で遅相軸と直交する方向（すなわち、進相軸方向）の屈折率であり、「ｎｚ」は厚み方向の屈折率である。
（２）面内位相差（Ｒｅ）
「Ｒｅ（λ）」は、２３℃における波長λｎｍの光で測定した面内位相差である。例えば、「Ｒｅ（５５０）」は、２３℃における波長５５０ｎｍの光で測定した面内位相差である。Ｒｅ（λ）は、層（フィルム）の厚みをｄ（ｎｍ）としたとき、式：Ｒｅ（λ）＝（ｎｘ－ｎｙ）×ｄによって求められる。
（３）角度
本明細書において角度に言及するときは、特に明記しない限り、当該角度は時計回りおよび反時計回りの両方の方向の角度を包含する。
（４）面内複屈折（Δｎ）
「Δｎ（λ）」は、２３℃における波長λｎｍの光で測定した面内複屈折である。例えば、「Δｎ（５５０）」は、２３℃における波長５５０ｎｍの光で測定した面内複屈折である。面内複屈折（Δｎ）は、式：Δｎ＝ｎｘ－ｎｙから求められる。
（５）厚み方向の位相差（Ｒｔｈ）
「Ｒｔｈ（λ）」は、２３℃における波長λｎｍの光で測定した厚み方向の位相差である。例えば、「Ｒｔｈ（５５０）」は、２３℃における波長５５０ｎｍの光で測定した厚み方向の位相差である。Ｒｔｈ（λ）は、層（フィルム）の厚みをｄ（ｎｍ）としたとき、式：Ｒｔｈ（λ）＝（ｎｘ－ｎｚ）×ｄによって求められる。
（６）Ｎｚ係数
Ｎｚ係数は、Ｎｚ＝Ｒｔｈ／Ｒｅによって求められる。
本明細書における用語および記号の定義は下記の通りである。
（１）屈折率（ｎｘ、ｎｙ、ｎｚ）
「ｎｘ」は面内の屈折率が最大になる方向（すなわち、遅相軸方向）の屈折率であり、「ｎｙ」は面内で遅相軸と直交する方向（すなわち、進相軸方向）の屈折率であり、「ｎｚ」は厚み方向の屈折率である。
（２）面内位相差（Ｒｅ）
「Ｒｅ（λ）」は、２３℃における波長λｎｍの光で測定した面内位相差である。例えば、「Ｒｅ（５５０）」は、２３℃における波長５５０ｎｍの光で測定した面内位相差である。Ｒｅ（λ）は、層（フィルム）の厚みをｄ（ｎｍ）としたとき、式：Ｒｅ（λ）＝（ｎｘ－ｎｙ）×ｄによって求められる。
（３）角度
本明細書において角度に言及するときは、特に明記しない限り、当該角度は時計回りおよび反時計回りの両方の方向の角度を包含する。
（４）面内複屈折（Δｎ）
「Δｎ（λ）」は、２３℃における波長λｎｍの光で測定した面内複屈折である。例えば、「Δｎ（５５０）」は、２３℃における波長５５０ｎｍの光で測定した面内複屈折である。面内複屈折（Δｎ）は、式：Δｎ＝ｎｘ－ｎｙから求められる。
（５）厚み方向の位相差（Ｒｔｈ）
「Ｒｔｈ（λ）」は、２３℃における波長λｎｍの光で測定した厚み方向の位相差である。例えば、「Ｒｔｈ（５５０）」は、２３℃における波長５５０ｎｍの光で測定した厚み方向の位相差である。Ｒｔｈ（λ）は、層（フィルム）の厚みをｄ（ｎｍ）としたとき、式：Ｒｔｈ（λ）＝（ｎｘ－ｎｚ）×ｄによって求められる。
（６）Ｎｚ係数
Ｎｚ係数は、Ｎｚ＝Ｒｔｈ／Ｒｅによって求められる。
【0010】
Ａ．位相差層付偏光板の全体構成
図１は、本発明の１つの実施形態による位相差層付偏光板の概略断面図である。図示例の位相差層付偏光板１００は、偏光子１１を含む偏光板１０と；セルロース系樹脂およびエステル系樹脂を含有する位相差層２０と；をこの順に備えている。位相差層２０のＲｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）は、０～１であり、また例えば０．６０～０．９９であり、また例えば０．７０～０．９５であり、また例えば０．７０～０．９０である。位相差層２０のＲｅ（５５０）は、１００ｎｍ～２００ｎｍであり、また例えば１２０ｎｍ～１６０ｎｍであり、また例えば１３０ｎｍ～１５０ｎｍである。位相差層２０は、代表的には、λ／４板として機能する。偏光子１１の吸収軸方向と位相差層２０の遅相軸方向とがなす角度は、４０°～５０°、好ましくは４２°～４８°、より好ましくは４４°～４６°、さらに好ましくは約４５°であり；あるいは、１３０°～１４０°、好ましく１３２°～１３８°、より好ましくは１３４°～１３６°、さらに好ましくは約１３５°である。位相差層２０において、ナノ相分離構造が形成されている。詳しくは後述するが、セルロース系樹脂は、相対的にガラス転移温度（Ｔｇ）が低く、エステル系樹脂は、相対的にＴｇが高い。
本発明の１つの実施形態によれば、Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）が上記範囲である逆分散特性（位相差値が測定光の波長に応じて大きくなる逆分散の波長依存性）を有する位相差層２０は、相対的にＴｇが低いセルロース系樹脂と、相対的にＴｇが高いエステル系樹脂とを含んでいる。そのため、位相差層２０に、セルロース系樹脂による残存応力低減効果と、エステル系樹脂による収縮量低減効果とをバランスよく付与することができる。このような位相差層２０においてナノ相分離構造が形成されているので、高温高湿環境下（例えば、１１０℃かつ８５％ＲＨ（相対湿度））において、位相差層２０が急激に収縮することを抑制でき、位相差層２０にクラックが生じること、および／または、位相差層２０が偏光子１１から剥がれることを抑制できる。これによって、高温高湿環境下での位相差層付偏光板１００の外観不良の発生を抑制できる。また、位相差層２０においてナノ相分離構造が形成されていると、逆分散位相差層としての機能を安定して確保できる。
図１は、本発明の１つの実施形態による位相差層付偏光板の概略断面図である。図示例の位相差層付偏光板１００は、偏光子１１を含む偏光板１０と；セルロース系樹脂およびエステル系樹脂を含有する位相差層２０と；をこの順に備えている。位相差層２０のＲｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）は、０～１であり、また例えば０．６０～０．９９であり、また例えば０．７０～０．９５であり、また例えば０．７０～０．９０である。位相差層２０のＲｅ（５５０）は、１００ｎｍ～２００ｎｍであり、また例えば１２０ｎｍ～１６０ｎｍであり、また例えば１３０ｎｍ～１５０ｎｍである。位相差層２０は、代表的には、λ／４板として機能する。偏光子１１の吸収軸方向と位相差層２０の遅相軸方向とがなす角度は、４０°～５０°、好ましくは４２°～４８°、より好ましくは４４°～４６°、さらに好ましくは約４５°であり；あるいは、１３０°～１４０°、好ましく１３２°～１３８°、より好ましくは１３４°～１３６°、さらに好ましくは約１３５°である。位相差層２０において、ナノ相分離構造が形成されている。詳しくは後述するが、セルロース系樹脂は、相対的にガラス転移温度（Ｔｇ）が低く、エステル系樹脂は、相対的にＴｇが高い。
本発明の１つの実施形態によれば、Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）が上記範囲である逆分散特性（位相差値が測定光の波長に応じて大きくなる逆分散の波長依存性）を有する位相差層２０は、相対的にＴｇが低いセルロース系樹脂と、相対的にＴｇが高いエステル系樹脂とを含んでいる。そのため、位相差層２０に、セルロース系樹脂による残存応力低減効果と、エステル系樹脂による収縮量低減効果とをバランスよく付与することができる。このような位相差層２０においてナノ相分離構造が形成されているので、高温高湿環境下（例えば、１１０℃かつ８５％ＲＨ（相対湿度））において、位相差層２０が急激に収縮することを抑制でき、位相差層２０にクラックが生じること、および／または、位相差層２０が偏光子１１から剥がれることを抑制できる。これによって、高温高湿環境下での位相差層付偏光板１００の外観不良の発生を抑制できる。また、位相差層２０においてナノ相分離構造が形成されていると、逆分散位相差層としての機能を安定して確保できる。
【0011】
本明細書において、「ナノ相分離構造」とは、電子密度の異なる２成分がナノオーダー（代表的には数十ｎｍレベル）のドメインサイズで相分離した構造を意味する。セルロース系樹脂およびエステル系樹脂は、海島構造であってもよく、共連続構造であってもよい。ナノ相分離構造の確認手段としては、例えば、透過電子顕微鏡（ＴＥＭ）、走査電子顕微鏡（ＳＥＭ）、原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）および、Ｘ線小角散乱（ＳＡＸＳ）が挙げられ、好ましくは、位相差層２０の断面のＴＥＭ観察が挙げられる。ＴＥＭ観察については実施例において詳述する。位相差層２０にナノ相分離構造が形成されている場合、位相差層２０の断面のＴＥＭ観察において、電子密度の異なる２種のドメインを確認でき、すべてのドメインのサイズ（最大長さ）が１００ｎｍ未満であることを確認できる。
【0012】
位相差層２０の面内複屈折Δｎ（５５０）は、例えば０．００２０以上、好ましくは０．００３０以上、より好ましくは０．００４０以上であり、例えば０．００７０以下、好ましくは０．００６０以下、より好ましくは０．００５５以下である。
位相差層２０のＮｚ係数は、例えば０．９以上３以下であり、好ましくは１．０以上１．５以下である。
位相差層２０のＮｚ係数は、例えば０．９以上３以下であり、好ましくは１．０以上１．５以下である。
【0013】
１つの実施形態において、セルロース系樹脂の含有割合は、セルロース系樹脂およびエステル系樹脂の総和を１００質量％としたときに、代表的には５０質量％を超過し、好ましくは６０質量％以上、より好ましくは７０質量％以上である。セルロース系樹脂の含有割合が上記下限以上であれば、セルロース系樹脂およびエステル系樹脂が安定してナノ相分離構造を形成できる。なお、セルロース系樹脂の含有割合の上限は、代表的には９０質量％以下である。
【0014】
１つの実施形態において、位相差層２０は、セルロース系樹脂およびエステル系樹脂を含有する樹脂フィルムを延伸した延伸フィルムである。詳しくは後述するが、延伸フィルム（位相差フィルム）は、代表的には、セルロース系樹脂およびエステル系樹脂を含有する樹脂フィルムを、所定方向に一軸延伸することにより調製される。このような位相差フィルムには、上記のように、ナノ相分離構造が形成されている。位相差フィルム単体、および、位相差フィルム（位相差層）を備える位相差層付偏光板は、延伸方向および延伸方向と直交する方向において、優れた屈曲性を有している。
特に、ナノ相分離構造を有する位相差フィルムは、ナノ相分離構造を有しない位相差フィルム（例えば、樹脂延伸フィルム、液晶ポリマーフィルム）と比較して、延伸方向と直交する方向の屈曲性が顕著に優れており、ナノ相分離構造を有する位相差フィルム（位相差層）を備える位相差層付偏光板も同様の傾向を示す。
特に、ナノ相分離構造を有する位相差フィルムは、ナノ相分離構造を有しない位相差フィルム（例えば、樹脂延伸フィルム、液晶ポリマーフィルム）と比較して、延伸方向と直交する方向の屈曲性が顕著に優れており、ナノ相分離構造を有する位相差フィルム（位相差層）を備える位相差層付偏光板も同様の傾向を示す。
【0015】
延伸方向における位相差フィルムのＭＩＴ回数は、例えば８００回以上、好ましくは１０００回以上、より好ましくは１５００回以上であり、例えば、２５００回以下である。なお、ＭＩＴ回数は、ＪＩＳ Ｐ ８１１５に準拠して測定できる（以下同様）。
延伸方向と直交する方向における位相差フィルムのＭＩＴ回数は、例えば４００回以上、好ましくは５００回以上、より好ましくは６００回以上、さらに好ましくは１０００回以上、とりわけ好ましくは１３００回以上であり、例えば、２０００回以下である。
延伸方向における位相差層付偏光板１００のＭＩＴ回数は、例えば３００回以上、好ましくは５００回以上、より好ましくは６００回以上であり、例えば、１０００回以下である。
延伸方向と直交する方向における位相差層付偏光板１００のＭＩＴ回数は、例えば３００回以上、好ましくは４００回以上、より好ましくは４５０回以上、さらに好ましくは５００回以上、とりわけ好ましくは５５０回以上であり、例えば、９００回以下である。
延伸方向と直交する方向における位相差フィルムのＭＩＴ回数は、例えば４００回以上、好ましくは５００回以上、より好ましくは６００回以上、さらに好ましくは１０００回以上、とりわけ好ましくは１３００回以上であり、例えば、２０００回以下である。
延伸方向における位相差層付偏光板１００のＭＩＴ回数は、例えば３００回以上、好ましくは５００回以上、より好ましくは６００回以上であり、例えば、１０００回以下である。
延伸方向と直交する方向における位相差層付偏光板１００のＭＩＴ回数は、例えば３００回以上、好ましくは４００回以上、より好ましくは４５０回以上、さらに好ましくは５００回以上、とりわけ好ましくは５５０回以上であり、例えば、９００回以下である。
【0016】
１つの実施形態において、位相差層２０は、接着層３０を介して偏光板１０に貼り付けられている。図示例では、位相差層２０は、接着層３０を介して偏光子１１に貼り付けられている。なお、接着層３０は、偏光子１１上に直接形成されてもよく、偏光板１０が偏光子１１の視認側と反対側の面に保護層を備える場合、保護層上に形成されてもよい。接着層３０は、粘着剤層であってもよく、接着剤層であってもよい。接着層３０は、好ましくは粘着剤層である。接着層３０が粘着剤層である場合、粘着剤層を構成する粘着剤として、例えば、（メタ）アクリル系の粘着剤が挙げられる。なお、「（メタ）アクリル系」とは、アクリル系および／またはメタクリル系をいう。粘着剤層の厚みは、例えば３．５μｍ以上３５μｍ以下である。
接着層３０が接着剤層である場合、接着剤層を構成する接着剤として、例えば、熱硬化型接着剤、紫外線硬化型接着剤が挙げられ、より好ましくは、（メタ）アクリル系の紫外線硬化型接着剤が挙げられる。なお、「（メタ）アクリル系」とは、アクリル系および／またはメタクリル系をいう。接着剤層の厚みは、例えば０．４μｍ以上３．０μｍ以下である。
接着層３０が接着剤層である場合、接着剤層を構成する接着剤として、例えば、熱硬化型接着剤、紫外線硬化型接着剤が挙げられ、より好ましくは、（メタ）アクリル系の紫外線硬化型接着剤が挙げられる。なお、「（メタ）アクリル系」とは、アクリル系および／またはメタクリル系をいう。接着剤層の厚みは、例えば０．４μｍ以上３．０μｍ以下である。
【0017】
１つの実施形態において、位相差層付偏光板１００は、位相差層２０の偏光子１１と反対側に設けられる粘着剤層４０をさらに備えている。これによって、位相差層付偏光板１００は、後述する画像表示セルに貼り付け可能である。粘着剤層４０を構成する粘着剤として、例えば、（メタ）アクリル系粘着剤が挙げられる。粘着剤層４０の厚みは、例えば３．５μｍ以上３５μｍ以下である。
さらに、粘着剤層４０の表面には、位相差層付偏光板１００が使用に供されるまで、はく離ライナー５０が仮着されていることが好ましい。はく離ライナーを仮着することにより、粘着剤層を保護するとともに、ロール形成が可能となる。
さらに、粘着剤層４０の表面には、位相差層付偏光板１００が使用に供されるまで、はく離ライナー５０が仮着されていることが好ましい。はく離ライナーを仮着することにより、粘着剤層を保護するとともに、ロール形成が可能となる。
【0018】
位相差層付偏光板は、枚葉状であってもよく長尺状であってもよい。本明細書において「長尺状」とは、幅に対して長さが十分に長い細長形状を意味し、例えば、幅に対して長さが１０倍以上、好ましくは２０倍以上の細長形状を含む。長尺状の位相差層付偏光板は、ロール状に巻回可能である。
【0019】
以下、位相差層付偏光板１００を構成する各部材について説明する。
【0020】
Ｂ．偏光板
Ｂ－１．偏光子
偏光子１１としては、任意の適切な偏光子が採用され得る。例えば、偏光子を形成する樹脂フィルムは、単層の樹脂フィルムであってもよく、二層以上の積層体であってもよい。
Ｂ－１．偏光子
偏光子１１としては、任意の適切な偏光子が採用され得る。例えば、偏光子を形成する樹脂フィルムは、単層の樹脂フィルムであってもよく、二層以上の積層体であってもよい。
【0021】
単層の樹脂フィルムから構成される偏光子の具体例としては、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）系フィルム、部分ホルマール化ＰＶＡ系フィルム、エチレン・酢酸ビニル共重合体系部分ケン化フィルム等の親水性高分子フィルムに、ヨウ素や二色性染料等の二色性物質による染色処理および延伸処理が施されたもの、ＰＶＡの脱水処理物やポリ塩化ビニルの脱塩酸処理物等ポリエン系配向フィルム等が挙げられる。好ましくは、光学特性に優れることから、ＰＶＡ系フィルムをヨウ素で染色し一軸延伸して得られた偏光子が用いられる。
【0022】
上記ヨウ素による染色は、例えば、ＰＶＡ系フィルムをヨウ素水溶液に浸漬することにより行われる。上記一軸延伸の延伸倍率は、好ましくは３倍以上７倍以下である。延伸は、染色処理後に行ってもよいし、染色しながら行ってもよい。また、延伸してから染色してもよい。必要に応じて、ＰＶＡ系フィルムに、膨潤処理、架橋処理、洗浄処理、乾燥処理等が施される。例えば、染色の前にＰＶＡ系フィルムを水に浸漬して水洗することで、ＰＶＡ系フィルム表面の汚れやブロッキング防止剤を洗浄することができるだけでなく、ＰＶＡ系フィルムを膨潤させて染色ムラなどを防止することができる。
【0023】
積層体を用いて得られる偏光子の具体例としては、樹脂基材と当該樹脂基材に積層されたＰＶＡ系樹脂層（ＰＶＡ系樹脂フィルム）との積層体、あるいは、樹脂基材と当該樹脂基材に塗布形成されたＰＶＡ系樹脂層との積層体を用いて得られる偏光子が挙げられる。樹脂基材と当該樹脂基材に塗布形成されたＰＶＡ系樹脂層との積層体を用いて得られる偏光子は、例えば、ＰＶＡ系樹脂溶液を樹脂基材に塗布し、乾燥させて樹脂基材上にＰＶＡ系樹脂層を形成して、樹脂基材とＰＶＡ系樹脂層との積層体を得ること；当該積層体を延伸および染色してＰＶＡ系樹脂層を偏光子とすること；により作製され得る。本発明の１つの実施形態においては、好ましくは、樹脂基材の片側に、ハロゲン化物とポリビニルアルコール系樹脂とを含むポリビニルアルコール系樹脂層を形成する。延伸は、代表的には積層体をホウ酸水溶液中に浸漬させて延伸することを含む。さらに、延伸は、必要に応じて、ホウ酸水溶液中での延伸の前に積層体を高温（例えば、９５℃以上）で空中延伸することをさらに含み得る。加えて、本発明の１つの実施形態においては、好ましくは、積層体は、長手方向に搬送しながら加熱することにより幅方向に２％以上収縮させる乾燥収縮処理に供される。代表的には、本実施形態の製造方法は、積層体に、空中補助延伸処理と染色処理と水中延伸処理と乾燥収縮処理とをこの順に施すことを含む。補助延伸を導入することにより、熱可塑性樹脂上にＰＶＡを塗布する場合でも、ＰＶＡの結晶性を高めることが可能となり、高い光学特性を達成することが可能となる。また、同時にＰＶＡの配向性を事前に高めることで、後の染色工程や延伸工程で水に浸漬された時に、ＰＶＡの配向性の低下や溶解などの問題を防止することができ、高い光学特性を達成することが可能になる。さらに、ＰＶＡ系樹脂層を液体に浸漬した場合において、ＰＶＡ系樹脂層がハロゲン化物を含まない場合に比べて、ポリビニルアルコール分子の配向の乱れ、および配向性の低下が抑制され得る。これにより、染色処理および水中延伸処理など、積層体を液体に浸漬して行う処理工程を経て得られる偏光子の光学特性を向上し得る。さらに、乾燥収縮処理により積層体を幅方向に収縮させることにより、光学特性を向上させることができる。得られた樹脂基材／偏光子の積層体はそのまま用いてもよく（すなわち、樹脂基材を偏光子の保護層としてもよく）、樹脂基材／偏光子の積層体から樹脂基材を剥離し、当該剥離面に目的に応じた任意の適切な保護層を積層して用いてもよい。このような偏光子の製造方法の詳細は、例えば特開２０１２－７３５８０号公報、特許第６４７０４５５号に記載されている。これらの公報は、その全体の記載が本明細書に参考として援用される。
【0024】
偏光子の厚みは、例えば１μｍ以上８０μｍ以下、好ましくは１μｍ以上１５μｍ以下、より好ましくは１μｍ以上１２μｍ以下、さらに好ましくは３μｍ以上１２μｍ以下、とりわけ好ましくは３μｍ以上８μｍ以下である。偏光子の厚みがこのような範囲であれば、加熱時のカールを良好に抑制することができ、および、良好な加熱時の外観耐久性が得られる。
【0025】
偏光子は、好ましくは、波長３８０ｎｍ～７８０ｎｍのいずれかの波長で吸収二色性を示す。偏光子の単体透過率は、例えば４１．５％以上４６．０％以下、好ましくは４３．０％以上４６．０％以下、より好ましくは４４．５％以上４６．０％以下である。偏光子の偏光度は、好ましくは９７．０％以上、より好ましくは９９．０％以上、さらに好ましくは９９．９％以上である。
【0026】
Ｂ－２．保護層
偏光板１０は、保護層をさらに備えてもよい。保護層は、偏光子の少なくとも一方の面に設けられている。図示例では、偏光板１０は、偏光子１１の視認側の面に設けられる保護層１２を備えている。
偏光板１０は、保護層をさらに備えてもよい。保護層は、偏光子の少なくとも一方の面に設けられている。図示例では、偏光板１０は、偏光子１１の視認側の面に設けられる保護層１２を備えている。
【0027】
保護層は、偏光子の保護層として使用できる任意の適切なフィルムで形成される。当該フィルムの主成分となる材料の具体例としては、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）等のセルロース系樹脂や、ポリエステル系、ポリビニルアルコール系、ポリカーボネート系、ポリアミド系、ポリイミド系、ポリエーテルスルホン系、ポリスルホン系、ポリスチレン系、ポリノルボルネン系、ポリオレフィン系、（メタ）アクリル系、アセテート系等の透明樹脂が挙げられる。また、（メタ）アクリル系、ウレタン系、（メタ）アクリルウレタン系、エポキシ系、シリコーン系等の熱硬化型樹脂または紫外線硬化型樹脂等も挙げられる。この他にも、例えば、シロキサン系ポリマー等のガラス質系ポリマーも挙げられる。また、特開２００１－３４３５２９号公報（ＷＯ０１／３７００７）に記載のポリマーフィルムも使用できる。
【0028】
偏光板１０が、後述する画像表示装置の最表面に位置する保護層を備える場合、当該保護層には、必要に応じて、ハードコート処理、反射防止処理、スティッキング防止処理、アンチグレア処理等の表面処理が施されていてもよい。
【0029】
保護層の厚みは、代表的には５ｍｍ以下、好ましくは１ｍｍ以下、より好ましくは１μｍ以上５００μｍ以下、さらに好ましくは５μｍ以上１５０μｍ以下である。なお、表面処理が施されている場合、保護層の厚みは、表面処理層の厚みを含めた厚みである。
【0030】
Ｃ．位相差層
位相差層２０は、代表的には、ｎｘ＞ｎｙ≧ｎｚの屈折率特性を示す。「ｎｙ＝ｎｚ」とは、ｎｙとｎｚとが完全に同一である場合だけでなく、ｎｙとｎｚとが実質的に同一である場合も包含する。屈折率特性がｎｘ＞ｎｙ＝ｎｚである位相差層２０は、「ポジティブＡプレート」等と称される場合がある。屈折率特性がｎｘ＞ｎｙ＞ｎｚである位相差層２０は、「ネガティブＢプレート」等と称される場合がある。
位相差層２０の厚みは、例えば１０μｍ以上、好ましくは２０μｍ以上であり、例えば８０μｍ以下、好ましくは６０μｍ以下である。位相差層２０の厚みは、位相差層付偏光板の用途に応じて任意かつ適切に調整でき、上記範囲に制限されない。位相差層２０の厚みは、例えば５０μｍ以下、好ましくは４０μｍ以下、より好ましくは３０μｍ以下、さらに好ましくは２０μｍ以下であってもよい。位相差層の厚みが上記上限以下であれば、位相差層付偏光板の屈曲性のさらなる向上を図ることができ、位相差層付偏光板のＭＩＴ回数の向上を図り得る。この場合、位相差層の厚みの下限は、代表的には５μｍ以上である。
位相差層２０は、代表的には、ｎｘ＞ｎｙ≧ｎｚの屈折率特性を示す。「ｎｙ＝ｎｚ」とは、ｎｙとｎｚとが完全に同一である場合だけでなく、ｎｙとｎｚとが実質的に同一である場合も包含する。屈折率特性がｎｘ＞ｎｙ＝ｎｚである位相差層２０は、「ポジティブＡプレート」等と称される場合がある。屈折率特性がｎｘ＞ｎｙ＞ｎｚである位相差層２０は、「ネガティブＢプレート」等と称される場合がある。
位相差層２０の厚みは、例えば１０μｍ以上、好ましくは２０μｍ以上であり、例えば８０μｍ以下、好ましくは６０μｍ以下である。位相差層２０の厚みは、位相差層付偏光板の用途に応じて任意かつ適切に調整でき、上記範囲に制限されない。位相差層２０の厚みは、例えば５０μｍ以下、好ましくは４０μｍ以下、より好ましくは３０μｍ以下、さらに好ましくは２０μｍ以下であってもよい。位相差層の厚みが上記上限以下であれば、位相差層付偏光板の屈曲性のさらなる向上を図ることができ、位相差層付偏光板のＭＩＴ回数の向上を図り得る。この場合、位相差層の厚みの下限は、代表的には５μｍ以上である。
【0031】
位相差層２０は、上記した通り、セルロース系樹脂およびエステル系樹脂を含んでいる。セルロース系樹脂は、正の複屈折を示す。エステル系樹脂は、負の複屈折を示す。ここで、「正の複屈折を示す」とは、ポリマーを延伸等により配向させた場合に、その延伸方向と直交する方向の屈折率が相対的に小さくなることをいう。換言すると、延伸方向の屈折率が大きくなることをいう。「負の複屈折を示す」とは、ポリマーを延伸等により配向させた場合に、その延伸方向の屈折率が相対的に小さくなることをいう。換言すると、延伸方向と直交する方向の屈折率が大きくなることをいう。
【0032】
Ｃ－１．セルロース系樹脂
セルロース系樹脂は、代表的には、β－グルコース単位が直鎖状に重合した高分子であって、下記式（１）に示す構成単位を有している。
（式（１）中、Ｒ１～Ｒ３のそれぞれは、水素原子または炭素数１～１２の置換基を示す）。
セルロース系樹脂は、代表的には、β－グルコース単位が直鎖状に重合した高分子であって、下記式（１）に示す構成単位を有している。
【化5】
【0033】
上記式（１）においてＲ１～Ｒ３で示される炭素数１～１２の置換基として、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、デカニル基、ドデカニル基、イソブチル基、ｔ－ブチル基などのアルキル基；シクロヘキシル基などのシクロアルキル基；フェニル基、ナフチル基などのアリール基；ベンジル基などのアラルキル基；アセチル基、プロピオニル基などのアシル基；シアノエチル基などのシアノアルキル基；アミノエチル基などのアミノアルキル基；２－ヒドロキシエチル基、３－ヒドロキシプロピル基などのヒドロキシアルキル基；が挙げられる。
上記式（１）においてＲ１～Ｒ３は、互いに同じであってもよく、互いに異なっていてもよい。
上記式（１）のＲ１～Ｒ３のそれぞれとして、好ましくは、水素原子、および、炭素数１～１２のアルキル基が挙げられ、より好ましくは、水素原子、および、炭素数１～４のアルキル基が挙げられ、さらに好ましくは、水素原子、および、エチル基が挙げられる。
上記式（１）においてＲ１～Ｒ３は、互いに同じであってもよく、互いに異なっていてもよい。
上記式（１）のＲ１～Ｒ３のそれぞれとして、好ましくは、水素原子、および、炭素数１～１２のアルキル基が挙げられ、より好ましくは、水素原子、および、炭素数１～４のアルキル基が挙げられ、さらに好ましくは、水素原子、および、エチル基が挙げられる。
【0034】
セルロース系樹脂の置換度（以下、ＤＳという。）は、代表的には１．５以上２．９５以下、好ましくは１．８以上２．８以下である。ＤＳとは、セルロース系樹脂において水酸基が置換されている割合であって、１００％置換している場合ＤＳは３である。ＤＳは、第十七改正日本薬局方に記載のように、ガスクロマトグラフィーのピーク面積から算出できる。
【0035】
セルロース系樹脂の標準ポリスチレン換算の数平均分子量（Ｍｎ）は、例えば、１×１０３以上１×１０６以下、好ましくは、５×１０３以上２×１０５以下である。セルロース系樹脂のＭｎは、ゲル・パ－ミエイション・クロマトグラフィ－（ＧＰＣ）により測定した溶出曲線より算出できる。セルロース系樹脂のＭｎが上記の範囲であれば、位相差層の機械特性および／または成形加工性の向上を図ることができる。
【0036】
セルロース系樹脂のガラス転移温度（Ｔｇ）は、例えば１４０℃以下、好ましくは１３５℃以下であり、例えば１２０℃以上、好ましくは１２５℃以上である。セルロース系樹脂のガラス転移温度（Ｔｇ）は、ＤＳＣ（Ｄｉｆｆｅｒｅｎｔｉａｌ Ｓｃａｎｎｉｎｇ Ｃａｌｏｒｉｍｅｔｒｙ）等の熱分析装置によって測定できる。
【0037】
セルロース系樹脂の具体例としては、メチルセルロース、エチルセルロース、プロピルセルロースなどのアルキルセルロース；ヒドロキシエチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロースなどのヒドロキシアルキルセルロース；ベンジルセルロースなどのアラルキルセルロース；シアノエチルセルロースなどのシアノアルキルセルロース；カルボキシメチルセルロース、カルボキシエチルセルロースなどのカルボキシアルキルセルロース；カルボキシメチルメチルセルロース、カルボキシメチルエチルセルロースなどのカルボキシアルキルアルキルセルロース；アミノエチルセルロースなどのアミノアルキルセルロースが挙げられる。セルロース系樹脂は、単独でまたは組み合わせて使用できる。
セルロース系樹脂のなかでは、好ましくは、アルキルセルロースが挙げられ、より好ましくはエチルセルロースが挙げられる。
セルロース系樹脂のなかでは、好ましくは、アルキルセルロースが挙げられ、より好ましくはエチルセルロースが挙げられる。
【0038】
Ｃ－２．エステル系樹脂
エステル系樹脂は、代表的には、下記式（２）に示す構成単位と、下記式（３）に示す構成単位とを有している。
（式（２）中、Ｒ４は、水素原子または炭素数１～１２のアルキル基を示し；Ｒ５ａは、炭素数１～１２のアルキル基、ニトロ基、ブロモ基、ヨード基、シアノ基、クロロ基、スルホン酸基、カルボン酸基、フルオロ基、または、チオール基から選択される１種を示し；Ｒ５ｂは、水素原子または炭素数１～１２のアルキル基を示し；Ｒ６は、水素原子、ニトロ基、ブロモ基、ヨード基、シアノ基、クロロ基、スルホン酸基、カルボン酸基、フルオロ基、フェニル基、チオール基、アミド基、アミノ基、ヒドロキシ基、炭素数１～１２のアルコキシ基、または、炭素数１～１２のアルキル基から選択される種を示す。）
（式（３）中、Ｒ７は、ヘテロ原子として窒素原子もしくは酸素原子を１つ以上含む５員環複素環残基または６員環複素環残基（前記５員環複素環残基および前記６員環複素環残基は他の環状構造と縮合環構造を形成してもよい）を示す。）
エステル系樹脂は、代表的には、下記式（２）に示す構成単位と、下記式（３）に示す構成単位とを有している。
【化6】
【化7】
【0039】
上記式（２）に示す構成単位は、ケイ皮酸エステル残基単位である。上記式（２）においてＲ４で示される炭素数１～１２のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、イソプロピル基、ｎ－プロピル基、ｎ－ブチル基、ｓ－ブチル基、ｔ－ブチル基、イソブチル基、エチルヘキシル基が挙げられる。上記式（２）のＲ４のなかでは、好ましくは、炭素数１～４のアルキル基が挙げられ、より好ましくは、エチル基、イソブチル基が挙げられる。
上記式（２）のＲ５ａのなかでは、好ましくは、炭素数１～１２のアルキル基、シアノ基が挙げられ、より好ましくは、炭素数１～４のアルキル基、シアノ基が挙げられ、さらに好ましくはシアノ基が挙げられる。
上記式（２）のＲ５ｂのなかでは、好ましくは、水素原子、炭素数１～４のアルキル基が挙げられる。
上記式（２）のＲ６は、ベンゼン環に１つのみ結合してもよく、ベンゼン環に２つ以上結合してもよい。上記式（２）のＲ６のなかでは、好ましくは、カルボン酸基、ヒドロキシ基が挙げられる。
上記式（２）のＲ５ａのなかでは、好ましくは、炭素数１～１２のアルキル基、シアノ基が挙げられ、より好ましくは、炭素数１～４のアルキル基、シアノ基が挙げられ、さらに好ましくはシアノ基が挙げられる。
上記式（２）のＲ５ｂのなかでは、好ましくは、水素原子、炭素数１～４のアルキル基が挙げられる。
上記式（２）のＲ６は、ベンゼン環に１つのみ結合してもよく、ベンゼン環に２つ以上結合してもよい。上記式（２）のＲ６のなかでは、好ましくは、カルボン酸基、ヒドロキシ基が挙げられる。
【0040】
上記式（２）に示す構成単位（ケイ皮酸エステル残基単位）の具体例としては、α－シアノ－４－ヒドロキシケイ皮酸メチル残基単位、α－シアノ－２－ヒドロキシケイ皮酸エチル残基単位、α－シアノ－３－ヒドロキシケイ皮酸エチル残基単位、α－シアノ－４－ヒドロキシケイ皮酸エチル残基単位、α－シアノ－４－ヒドロキシケイ皮酸ｎ－プロピル残基単位、α－シアノ－４－ヒドロキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、α－シアノ－４－ヒドロキシケイ皮酸ｎ－ブチル残基単位、α－シアノ－４－ヒドロキシケイ皮酸イソブチル残基単位、α－シアノ－４－ヒドロキシケイ皮酸ｓ－ブチル残基単位、α－シアノ－２，４－ジヒドロキシケイ皮酸メチル残基単位などのα－シアノ－ヒドロキシケイ皮酸エステル残基単位；α－シアノ－４－カルボキシケイ皮酸メチル残基単位、α－シアノ－４－カルボキシケイ皮酸エチル残基単位、α－シアノ－２，３－ジカルボキシケイ皮酸メチル残基単位、α－シアノ－２，３－ジカルボキシケイ皮酸エチル残基単位などのα－シアノ－カルボキシケイ皮酸エステル残基単位；α－シアノ－２－カルボキシ－３－ヒドロキシケイ皮酸メチル残基単位、α－シアノ－２－カルボキシ－３－ヒドロキシケイ皮酸エチル残基単位などのα－シアノ－カルボキシ－ヒドロキシケイ皮酸エステル残基単位；３－メチル－３－（ヒドロキシフェニル）－プロパ－２－エン酸メチル残基単位、３－エチル－３－（ヒドロキシフェニル）－プロパ－２－エン酸エチル残基単位などの３－アルキル－３－（ヒドロキシフェニル）－プロパ－２－エン酸エステル残基単位；３－メチル－３－（カルボキシフェニル）－プロパ－２－エン酸メチル残基単位、３－エチル－３－（カルボキシフェニル）－プロパ－２－エン酸エチル残基単位などの３－アルキル－３－（カルボキシフェニル）－プロパ－２－エン酸エステル残基単位；２－シアノ－３－メチル－３－（ヒドロキシフェニル）－プロパ－２－エン酸メチル残基単位、２－シアノ－３－エチル－３－（ヒドロキシフェニル）－プロパ－２－エン酸エチル残基単位などの２－シアノ－３－アルキル－３－（ヒドロキシフェニル）－プロパ－２－エン酸エステル残基単位；２－シアノ－３－メチル－３－（カルボキシフェニル）－プロパ－２－エン酸メチル残基単位、２－シアノ－３－エチル－３－（カルボキシフェニル）－プロパ－２－エン酸エチル残基単位などの２－シアノ－３－アルキル－３－（カルボキシフェニル）－プロパ－２－エン酸エステル残基単位が挙げられる。
【0041】
エステル系樹脂は、上記式（２）に示す構成単位を、１種のみ含んでいてもよく、２種以上含んでいてもよい。上記式（２）に示す構成単位のなかでは、好ましくは、α－シアノ－ヒドロキシケイ皮酸エステル残基単位、α－シアノ－カルボキシケイ皮酸エステル残基単位、３－アルキル－３－（ヒドロキシフェニル）－プロパ－２－エン酸エステル残基単位、３－アルキル－３－（カルボキシフェニル）－プロパ－２－エン酸エステル残基単位が挙げられる。
【0042】
エステル系樹脂における上記式（２）の構成単位の含有割合は、例えば２１モル％以上であり、例えば７０モル％以下、好ましくは６０モル％以下、より好ましくは４９モル％以下である。エステル系樹脂における各構成単位の含有割合は、例えば、１Ｈ－ＮＭＲにより測定できる。
【0043】
上記式（３）においてＲ７で示される環構造の具体例としては、１－ビニルピロール残基単位、２－ビニルピロール残基単位、１－ビニルインドール残基単位、９－ビニルカルバゾール残基単位、２－ビニルキノリン残基単位、４－ビニルキノリン残基単位、Ｎ－ビニルフタルイミド残基単位、Ｎ－ビニルスクシンイミド残基単位、２－ビニルフラン残基単位、２-ビニルベンゾフラン残基単位が挙げられ、好ましくは、９－ビニルカルバゾール残基単位、Ｎ－ビニルフタルイミド残基単位が挙げられる。
【0044】
エステル系樹脂は、上記式（３）に示す構成単位を、１種のみ含んでいてもよく、２種以上含んでいてもよい。
エステル系樹脂における上記式（３）の構成単位の含有割合は、例えば２１モル％以上、好ましくは３５モル％以上であり、例えば７０モル％以下、好ましくは６０モル％以下である。
エステル系樹脂における上記式（３）の構成単位の含有割合は、例えば２１モル％以上、好ましくは３５モル％以上であり、例えば７０モル％以下、好ましくは６０モル％以下である。
【0045】
エステル系樹脂は、好ましくは、上記（２）および（３）に示す構成単位に加えて、下記式（４）に示す構成単位をさらに有する。
（式（４）中、Ｒ８およびＲ９のそれぞれは、水素原子、炭素数１～１２の直鎖状アルキル基、炭素数３～１２の分岐状アルキル基、または、炭素数３～６の環状アルキル基から選択される１種を示す）。
上記式（４）において、Ｒ８およびＲ９で示される炭素数１～１２の直鎖状アルキル基として、例えば、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、ｎ－ブチル基、ｎ－ペンチル基、ｎ－ヘキシル基などが挙げられる。
上記式（４）において、Ｒ８およびＲ９で示される炭素数３～１２の分岐状アルキル基として、例えば、イソプロピル基、イソブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基などが挙げられる。
上記式（４）において、Ｒ８およびＲ９で示される炭素数３～６の環状アルキル基として、例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロヘキシル基などが挙げられる。
上記式（４）においてＲ８およびＲ９は、互いに同じであってもよく、互いに異なっていてもよい。
上記式（４）におけるＲ８のなかでは、好ましくは、水素原子、炭素数１～１２の直鎖状アルキル基が挙げられ、より好ましくは、水素原子、メチル基が挙げられる。
上記式（４）におけるＲ９のなかでは、好ましくは、炭素数３～１２の分岐状アルキル基が挙げられ、より好ましくは、炭素数３～８の分岐状アルキル基が挙げられる。
【化8】
上記式（４）において、Ｒ８およびＲ９で示される炭素数１～１２の直鎖状アルキル基として、例えば、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、ｎ－ブチル基、ｎ－ペンチル基、ｎ－ヘキシル基などが挙げられる。
上記式（４）において、Ｒ８およびＲ９で示される炭素数３～１２の分岐状アルキル基として、例えば、イソプロピル基、イソブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基などが挙げられる。
上記式（４）において、Ｒ８およびＲ９で示される炭素数３～６の環状アルキル基として、例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロヘキシル基などが挙げられる。
上記式（４）においてＲ８およびＲ９は、互いに同じであってもよく、互いに異なっていてもよい。
上記式（４）におけるＲ８のなかでは、好ましくは、水素原子、炭素数１～１２の直鎖状アルキル基が挙げられ、より好ましくは、水素原子、メチル基が挙げられる。
上記式（４）におけるＲ９のなかでは、好ましくは、炭素数３～１２の分岐状アルキル基が挙げられ、より好ましくは、炭素数３～８の分岐状アルキル基が挙げられる。
【0046】
上記式（４）に示す構成単位は、代表的にはアクリル樹脂残基単位である。上記式（４）に示す構成単位の具体例として、アクリル酸残基単位、メタクリル酸残基単位、２－エチルアクリル酸残基単位、２－プロピルアクリル酸残基単位、２－イソプロピルアクリル酸残基単位、２－ペンチルアクリル酸残基単位、２－ヘキシルアクリル酸残基単位、アクリル酸メチル残基単位、アクリル酸エチル残基単位、アクリル酸ｎ－プロピル残基単位、アクリル酸イソプロピル残基単位、アクリル酸ｎ－ブチル残基単位、アクリル酸イソブチル残基単位、アクリル酸ｓｅｃ－ブチル残基単位、アクリル酸ｎ－ペンチル残基単位、アクリル酸イソペンチル残基単位、アクリル酸ｓｅｃ－ペンチル残基単位、アクリル酸３－ペンチル残基単位、アクリル酸ネオペンチル残基単位、アクリル酸ｎ－へキシル残基単位、アクリル酸イソへキシル残基単位、アクリル酸ネオへキシル残基単位、メタクリル酸メチル残基単位、メタクリル酸エチル残基単位、メタクリル酸ｎ－プロピル残基単位、メタクリル酸イソプロピル残基単位、メタクリル酸ｎ－ブチル残基単位、メタクリル酸イソブチル残基単位、メタクリル酸ｓｅｃ－ブチル残基単位、メタクリル酸ｎ－ペンチル残基単位、メタクリル酸イソペンチル残基単位、メタクリル酸ｓｅｃ－ペンチル残基単位、メタクリル酸３－ペンチル残基単位、メタクリル酸ネオペンチル残基単位、メタクリル酸ｎ－へキシル残基単位、メタクリル酸イソへキシル残基単位、メタクリル酸ネオへキシル残基単位、２－エチルアクリル酸メチル残基単位、２－エチルアクリル酸エチル残基単位、２－エチルアクリル酸ｎ－プロピル残基単位、２－エチルアクリル酸イソプロピル残基単位、２－エチルアクリル酸ｎ－ブチル残基単位、２－エチルアクリル酸イソブチル残基単位、２－エチルアクリル酸ｓｅｃ－ブチル残基単位などが挙げられ、好ましくはアクリル酸イソブチル残基単位が挙げられる。
【0047】
エステル系樹脂は、上記式（４）に示す構成単位を、１種のみ含んでいてもよく、２種以上含んでいてもよい。
エステル系樹脂における上記式（４）の構成単位の含有割合は、例えば０モル％以上、好ましくは１モル％以上であり、例えば３０モル％以下である。
エステル系樹脂における上記式（４）の構成単位の含有割合は、例えば０モル％以上、好ましくは１モル％以上であり、例えば３０モル％以下である。
【0048】
エステル系樹脂は、上記式（２）から（４）以外の単量体残基単位を含有してもよい。そのような単量体残基単位としては、例えば、スチレン残基、α－メチルスチレン残基などのスチレン類残基；ビニルナフタレン残基；酢酸ビニル残基、プロピオン酸ビニル残基などのビニルエステル類残基；メチルビニルエーテル残基、エチルビニルエーテル残基、ブチルビニルエーテル残基などのビニルエーテル残基；Ｎ－メチルマレイミド残基、Ｎ－シクロヘキシルマレイミド残基、Ｎ－フェニルマレイミド残基などのＮ－置換マレイミド残基；アクリロニトリル残基；メタクリロニトリル残基；フマル酸エステル残基；フマル酸残基；エチレン残基、プロピレン残基などのオレフィン類残基が挙げられる。
【0049】
エステル系樹脂の標準ポリスチレン換算の数平均分子量（Ｍｎ）は、例えば、１×１０３以上５×１０６以下、好ましく、５×１０３以上３×１０５以下である。エステル系樹脂のＭｎは、ゲル・パ－ミエイション・クロマトグラフィ－（ＧＰＣ）により測定した溶出曲線より算出できる。エステル系樹脂のＭｎが上記の範囲であれば、位相差層の機械特性および／または成形加工性の向上を図ることができる。
【0050】
エステル系樹脂のガラス転移温度（Ｔｇ）は、例えば２２０℃以下、好ましくは２１０℃以下であり、例えば１８０℃以上、好ましくは１９０℃以上である。エステル系樹脂のガラス転移温度（Ｔｇ）は、ＤＳＣ（Ｄｉｆｆｅｒｅｎｔｉａｌ Ｓｃａｎｎｉｎｇ Ｃａｌｏｒｉｍｅｔｒｙ）等の熱分析装置によって測定できる。
【0051】
このようなエステル系樹脂の具体例としては、α－シアノ－２－ヒドロキシケイ皮酸エステル－スチレン－アクリル酸エステル共重合体、α－シアノ－２－ヒドロキシケイ皮酸エステル－２－ビニルナフタレン－アクリル酸エステル共重合体、α－シアノ－２－ヒドロキシケイ皮酸エステル－１－ビニルインドール－アクリル酸エステル共重合体、α－シアノ－２－ヒドロキシケイ皮酸エステル－９－ビニルカルバゾール－アクリル酸エステル共重合体、α－シアノ－３－ヒドロキシケイ皮酸エステル－スチレン－アクリル酸エステル共重合体、α－シアノ－３－ヒドロキシケイ皮酸エステル－２－ビニルナフタレン－アクリル酸エステル共重合体、α－シアノ－３－ヒドロキシケイ皮酸エステル－１－ビニルインドール－アクリル酸エステル共重合体、α－シアノ－３－ヒドロキシケイ皮酸エステル－９－ビニルカルバゾール－アクリル酸エステル共重合体、α－シアノ－４－ヒドロキシケイ皮酸エステル－スチレン－アクリル酸エステル共重合体、α－シアノ－４－ヒドロキシケイ皮酸エステル－２－ビニルナフタレン－アクリル酸エステル共重合体、α－シアノ－４－ヒドロキシケイ皮酸エステル－１－ビニルインドール－アクリル酸エステル共重合体、α－シアノ－４－ヒドロキシケイ皮酸エステル－９－ビニルカルバゾール－アクリル酸エステル共重合体、α－シアノ－２－ヒドロキシケイ皮酸エステル－スチレン－メタクリル酸エステル共重合体、α－シアノ－２－ヒドロキシケイ皮酸エステル－２－ビニルナフタレン－メタクリル酸エステル共重合体、α－シアノ－２－ヒドロキシケイ皮酸エステル－１－ビニルインドール－メタクリル酸エステル共重合体、α－シアノ－２－ヒドロキシケイ皮酸エステル－９－ビニルカルバゾール－メタクリル酸エステル共重合体、α－シアノ－３－ヒドロキシケイ皮酸エステル－スチレン－メタクリル酸エステル共重合体、α－シアノ－３－ヒドロキシケイ皮酸エステル－２－ビニルナフタレン－メタクリル酸エステル共重合体、α－シアノ－３－ヒドロキシケイ皮酸エステル－１－ビニルインドール－メタクリル酸エステル共重合体、α－シアノ－３－ヒドロキシケイ皮酸エステル－９－ビニルカルバゾール－メタクリル酸エステル共重合体、α－シアノ－４－ヒドロキシケイ皮酸エステル－スチレン－メタクリル酸エステル共重合体、α－シアノ－４－ヒドロキシケイ皮酸エステル－２－ビニルナフタレン－メタクリル酸エステル共重合体、α－シアノ－４－ヒドロキシケイ皮酸エステル－１－ビニルインドール－メタクリル酸エステル共重合体、α－シアノ－４－ヒドロキシケイ皮酸エステル－９－ビニルカルバゾール－メタクリル酸エステル共重合体が挙げられる。
【0052】
Ｃ－３．その他の添加剤
位相差層２０は、上記した樹脂成分に加えて、添加剤を任意の適切な割合で含有してもよい。添加剤として、例えば、ヒンダ－ドフェノ－ル系酸化防止剤、リン系酸化防止剤、硫黄系酸化防止剤、ラクトン系酸化防止剤、アミン系酸化防止剤、ヒドロキシルアミン系酸化防止剤、ビタミンＥ系酸化防止剤、その他酸化防止剤などの酸化防止剤；ヒンダ－ドアミン系光安定剤；ベンゾトリアゾ－ル、ベンゾフェノン、トリアジン、ベンゾエ－トなどの紫外線吸収剤；界面活性剤；高分子電解質；導電性錯体；顔料；染料；帯電防止剤；アンチブロッキング剤；滑剤が挙げられる。
位相差層２０は、上記した樹脂成分に加えて、添加剤を任意の適切な割合で含有してもよい。添加剤として、例えば、ヒンダ－ドフェノ－ル系酸化防止剤、リン系酸化防止剤、硫黄系酸化防止剤、ラクトン系酸化防止剤、アミン系酸化防止剤、ヒドロキシルアミン系酸化防止剤、ビタミンＥ系酸化防止剤、その他酸化防止剤などの酸化防止剤；ヒンダ－ドアミン系光安定剤；ベンゾトリアゾ－ル、ベンゾフェノン、トリアジン、ベンゾエ－トなどの紫外線吸収剤；界面活性剤；高分子電解質；導電性錯体；顔料；染料；帯電防止剤；アンチブロッキング剤；滑剤が挙げられる。
【0053】
Ｃ－４．位相差層の製造方法
次に、位相差層の製造方法の１つの実施形態について説明する。
１つの実施形態において、位相差層の製造方法は、上記セルロース系樹脂および上記エステル系樹脂を溶媒に溶解して、樹脂溶液を調製する工程と；該樹脂溶液を基材上に塗工する工程と；基材上の塗膜を加熱して樹脂フィルムを調製する工程と；樹脂フィルムを延伸する工程と；樹脂フィルムを延伸方向に熱収縮させる工程と；を含んでいる。
次に、位相差層の製造方法の１つの実施形態について説明する。
１つの実施形態において、位相差層の製造方法は、上記セルロース系樹脂および上記エステル系樹脂を溶媒に溶解して、樹脂溶液を調製する工程と；該樹脂溶液を基材上に塗工する工程と；基材上の塗膜を加熱して樹脂フィルムを調製する工程と；樹脂フィルムを延伸する工程と；樹脂フィルムを延伸方向に熱収縮させる工程と；を含んでいる。
【0054】
まず、上記セルロース系樹脂および上記エステル系樹脂を、Ａ項で説明したセルロース系樹脂の含有割合となるように、溶媒に溶解する。
溶媒としては、例えば、クロロホルム、ジクロロメタン、四塩化炭素、ジクロロエタン、テトラクロロエタン、トリクロロエチレン、テトラクロロエチレン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼンなどのハロゲン化炭化水素類；フェノール、クロロフェノールなどのフェノール類；ベンゼン、トルエン、キシレン、メトキシベンゼン、メシチレン、ジメトキシベンゼンなどの芳香族炭化水素類；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）、シクロヘキサノン、シクロペンタノン（ＣＰＮ）、２－ピロリドン、Ｎ－メチル－２－ピロリドンなどのケトン系溶媒；酢酸エチル、酢酸ブチルなどのエステル系溶媒；ブタノール、t－ブチルアルコール、グリセリン、エチレングリコール、トリエチレングリコール、エチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、２－メチル－２，４－ペンタンジオールなどのアルコール系溶媒；ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミドなどのアミド系溶媒；アセトニトリル、ブチロニトリルなどのニトリル系溶媒；１，３－ジオキソラン、シクロペンチルメチルエーテル（ＣＰＭＥ）、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ）、ジエチルエーテル、ジブチルエーテル、テトラヒドロフランなどのエーテル系溶媒；二硫化炭素、エチルセロソルブ、ブチルセルソルブ、および、これらの混合溶媒が挙げられる。
溶媒としては、例えば、クロロホルム、ジクロロメタン、四塩化炭素、ジクロロエタン、テトラクロロエタン、トリクロロエチレン、テトラクロロエチレン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼンなどのハロゲン化炭化水素類；フェノール、クロロフェノールなどのフェノール類；ベンゼン、トルエン、キシレン、メトキシベンゼン、メシチレン、ジメトキシベンゼンなどの芳香族炭化水素類；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）、シクロヘキサノン、シクロペンタノン（ＣＰＮ）、２－ピロリドン、Ｎ－メチル－２－ピロリドンなどのケトン系溶媒；酢酸エチル、酢酸ブチルなどのエステル系溶媒；ブタノール、t－ブチルアルコール、グリセリン、エチレングリコール、トリエチレングリコール、エチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、２－メチル－２，４－ペンタンジオールなどのアルコール系溶媒；ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミドなどのアミド系溶媒；アセトニトリル、ブチロニトリルなどのニトリル系溶媒；１，３－ジオキソラン、シクロペンチルメチルエーテル（ＣＰＭＥ）、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ）、ジエチルエーテル、ジブチルエーテル、テトラヒドロフランなどのエーテル系溶媒；二硫化炭素、エチルセロソルブ、ブチルセルソルブ、および、これらの混合溶媒が挙げられる。
【0055】
溶媒のなかでは、好ましくは混合溶媒が挙げられる。混合溶媒の組み合わせとしては、エステル系溶媒／芳香族炭化水素類、エーテル系溶媒／芳香族炭化水素類、エステル系溶媒／エーテル系溶媒、エステル系溶媒／アルコール系溶媒、エステル系溶媒／ケトン系溶媒、２種のエーテル系溶媒、２種のエステル系溶媒が挙げられる。
【0056】
セルロース系樹脂と溶媒とのハンセン溶解度パラメータ距離（以下、ＨＳＰ距離＊セルロース系と称する場合がある。）は、例えば１２．００以下、好ましくは１１．３０以下、より好ましくは１１．２０以下である。ＨＳＰ距離＊セルロース系が上記上限以下であれば、位相差層における延伸配向性の向上を図ることができる。ＨＳＰ距離＊セルロース系は、例えば、下記式（Ｉ）により算出できる。なお、ＨＳＰ距離＊セルロース系の下限は、代表的には、６．０以上である。
式（Ｉ）：
ＨＳＰ距離＊セルロース系＝［４（δｄ２－δｄ１）２＋（δｐ２－δｐ１）２＋（δｈ２－δｈ１）２］０．５
（式（Ｉ）中、δｄ１は溶媒の分子間の分散力エネルギーを示し；δｄ２はセルロース系樹脂の分子間の分散力エネルギーを示し；δｐ１は溶媒の分子間の双極子相互作用エネルギーを示し；δｐ２はセルロース系樹脂の分子間の双極子相互作用エネルギーを示し；δｈ１は溶媒の分子間の水素結合エネルギーを示し；δｈ２はセルロース系樹脂の分子間の水素結合エネルギーを示す。）
式（Ｉ）：
ＨＳＰ距離＊セルロース系＝［４（δｄ２－δｄ１）２＋（δｐ２－δｐ１）２＋（δｈ２－δｈ１）２］０．５
（式（Ｉ）中、δｄ１は溶媒の分子間の分散力エネルギーを示し；δｄ２はセルロース系樹脂の分子間の分散力エネルギーを示し；δｐ１は溶媒の分子間の双極子相互作用エネルギーを示し；δｐ２はセルロース系樹脂の分子間の双極子相互作用エネルギーを示し；δｈ１は溶媒の分子間の水素結合エネルギーを示し；δｈ２はセルロース系樹脂の分子間の水素結合エネルギーを示す。）
【0057】
エステル系樹脂と溶媒とのＨＳＰ距離（以下、ＨＳＰ距離＊エステル系と称する場合がある。）は、例えば６．５以下、好ましくは６．０以下であり、例えば２．０以上である。ＨＳＰ距離＊エステル系は、例えば、下記式（ＩＩ）により算出できる。
式（ＩＩ）：
ＨＳＰ距離＊エステル系＝［４（δｄ３－δｄ１）２＋（δｐ３－δｐ１）２＋（δｈ３－δｈ１）２］０．５
（式（ＩＩ）中、δｄ３はエステル系樹脂の分子間の分散力エネルギーを示し；δｐ３はエステル系樹脂の分子間の双極子相互作用エネルギーを示し；δｈ３はエステル系樹脂の分子間の水素結合エネルギーを示し；δｄ１、δｐ１およびδｈ１のそれぞれは、上記式（Ｉ）と同様の溶媒の分子間のエネルギーを示す。）
式（ＩＩ）：
ＨＳＰ距離＊エステル系＝［４（δｄ３－δｄ１）２＋（δｐ３－δｐ１）２＋（δｈ３－δｈ１）２］０．５
（式（ＩＩ）中、δｄ３はエステル系樹脂の分子間の分散力エネルギーを示し；δｐ３はエステル系樹脂の分子間の双極子相互作用エネルギーを示し；δｈ３はエステル系樹脂の分子間の水素結合エネルギーを示し；δｄ１、δｐ１およびδｈ１のそれぞれは、上記式（Ｉ）と同様の溶媒の分子間のエネルギーを示す。）
【0058】
（ＨＳＰ距離＊セルロース系－ＨＳＰ距離＊エステル系）２は、例えば６０以下、好ましくは５５以下、より好ましくは５０以下、さらに好ましくは４５以下、とりわけ好ましくは３０以下である。（ＨＳＰ距離＊セルロース系－ＨＳＰ距離＊エステル系）２が上記上限以下であれば、位相差層の逆分散性を安定して確保することができる。（ＨＳＰ距離＊セルロース系－ＨＳＰ距離＊エステル系）２の下限は、例えば１０以上である。
【0059】
混合溶媒として、より好ましくは、エステル系溶媒／芳香族炭化水素類が挙げられ、さらに好ましくは、酢酸エチル／トルエンが挙げられ、とりわけ好ましくは酢酸エチル６０質量％／トルエン４０質量％が挙げられる。溶媒がこのような混合溶媒であると、位相差層において、セルロース系樹脂およびエステル系樹脂がより安定してナノ相分離構造を形成できる。
【0060】
樹脂溶液における固形分濃度は、例えば１質量％以上、好ましくは５質量％以上であり、例えば３０質量％以下、好ましくは２０質量％以下である。
【0061】
樹脂溶液は、好ましくは、所定時間撹拌された後に、静置されて脱泡される。
撹拌時間としては、例えば５分以上、好ましくは１０分以上であり、例えば３時間以下、好ましくは１時間以下である。脱泡時間（静置時間）としては、例えば、３０分以上、好ましくは１時間以上であり、例えば５時間以下、好ましくは３時間以下である。
撹拌時間としては、例えば５分以上、好ましくは１０分以上であり、例えば３時間以下、好ましくは１時間以下である。脱泡時間（静置時間）としては、例えば、３０分以上、好ましくは１時間以上であり、例えば５時間以下、好ましくは３時間以下である。
【0062】
次いで、樹脂溶液を基材（代表的には樹脂フィルム）上に塗工する。塗工方法としては、任意の適切な手段が採用され得る。塗工方法として例えばアプリケータが挙げられる。これによって、基材上に、樹脂溶液の塗膜が形成される。
【0063】
次いで、基材上の塗膜を加熱して樹脂フィルムを調製する。加熱温度は、例えば３５℃以上１６５℃以下であり、加熱時間は１分以上３０分以下である。より詳しくは、このような加熱工程は、１６５℃以下で加熱する一次加熱工程（乾燥工程）と、１１０℃以上で加熱する二次加熱工程（アニール工程）とを含む。
【0064】
乾燥工程は、１段階で実施されてもよく、多段階で実施されてもよい。乾燥工程は、好ましくは多段階で実施される。乾燥工程が多段階で実施される場合、１段目の乾燥工程の加熱温度を、例えば３５℃以上６５℃以下、好ましくは４５℃以上６５℃以下に設定し、１段目の乾燥工程の加熱時間を、例えば１分以上３０分以下、好ましくは１分以上８分以下に設定する。その後、乾燥工程の段数が増える毎に、加熱温度を、例えば１０℃～１３０℃、好ましくは１０℃～４０℃上昇させる。２段目以降の各段の加熱時間は、代表的には、１段目の乾燥工程の加熱時間よりも短く、好ましくは２０秒以上２０分以下、より好ましくは３０秒以上５分以下である。乾燥工程の段数は、好ましくは２段以上４段以下であり、より好ましくは３段以下である。乾燥工程における最高温度は、例えば１６５℃以下、好ましくは１３０℃未満、より好ましくは１２０℃未満、さらに好ましくは１１５℃以下である。
【0065】
その後、必要に応じて、乾燥工程で加熱された塗膜を、例えば３０℃以下、好ましくは室温（２３℃）に冷却する。乾燥後の塗膜を一旦冷却すると、上記の乾燥工程により形成されたナノ相分離構造を固定化でき、次のアニール工程においてナノ相分離構造を変えることなく保持し得る。次いで、アニール工程において、塗膜を加熱する。アニール工程の加熱温度は、代表的には乾燥工程の最高温度よりも高い。アニール工程の加熱温度は、例えば１１０℃以上、好ましくは１２０℃以上、より好ましくは１３０℃以上であり、例えば１８０℃以下、好ましくは１６５℃以下、より好ましくは１５０℃以下、さらに好ましくは１４０℃以下である。アニール工程の加熱時間は、例えば１分以上、好ましくは５分以上、さらに好ましくは１５分以上であり、例えば６０分以下、好ましくは４５分以下である。
【0066】
これによって、基材上に樹脂フィルムが形成される。樹脂フィルムの厚みは、例えば７０μｍ以上２００μｍ以下である。次いで、樹脂フィルムを基材から剥離する。
【0067】
次いで、樹脂フィルムを延伸する。１つの実施形態において、樹脂フィルムを、長手方向に搬送しながら、搬送方向と直交する幅方向に延伸（固定端横延伸）する。樹脂フィルムは、１段階又は２段階以上で延伸されてもよく、特に２段階で延伸されることが好ましい。２段階延伸による位相差層の製造方法は、樹脂フィルムを幅方向に延伸する第１延伸工程と；第１延伸工程後の樹脂フィルムを、第１延伸工程と同じ方向に延伸する第２延伸工程と；を含む製造方法が挙げられる。
樹脂フィルムは、好ましくは、延伸前に予熱される。予熱温度は、樹脂フィルムに含まれる材料のＴｇに関連して変動し、最も低いＴｇをもつ材料のＴｇ：（Ｔｇ１）に着目して設定される。（Ｔｇ１）は、例えば、セルロース系樹脂のＴｇである。予熱温度は、例えば（Ｔｇ１）－２０℃以上、好ましくは（Ｔｇ１）－１０℃以上であり、例えば（Ｔｇ１）＋５０℃以下、好ましくは（Ｔｇ１）＋４０℃以下である。
延伸温度も予熱温度と同様であり、例えば、（Ｔｇ１）－２０℃以上、好ましくは（Ｔｇ１）－１０℃以上であり、例えば（Ｔｇ１）＋５０℃以下、好ましくは（Ｔｇ１）＋４０℃以下である。
延伸速度は、例えば、１ｍｍ／秒以上、好ましくは２ｍｍ／秒以上であり、例えば２００ｍｍ／秒以下、好ましくは１００ｍｍ／秒以下である。延伸倍率（樹脂フィルムが２段階で延伸される場合、第１延伸工程の延伸倍率と第２延伸工程の延伸倍率との積）は、例えば、２．０倍以上、好ましくは２．５倍以上であり、例えば８．０倍以下、好ましくは７．５倍以下である。
樹脂フィルムは、好ましくは、延伸前に予熱される。予熱温度は、樹脂フィルムに含まれる材料のＴｇに関連して変動し、最も低いＴｇをもつ材料のＴｇ：（Ｔｇ１）に着目して設定される。（Ｔｇ１）は、例えば、セルロース系樹脂のＴｇである。予熱温度は、例えば（Ｔｇ１）－２０℃以上、好ましくは（Ｔｇ１）－１０℃以上であり、例えば（Ｔｇ１）＋５０℃以下、好ましくは（Ｔｇ１）＋４０℃以下である。
延伸温度も予熱温度と同様であり、例えば、（Ｔｇ１）－２０℃以上、好ましくは（Ｔｇ１）－１０℃以上であり、例えば（Ｔｇ１）＋５０℃以下、好ましくは（Ｔｇ１）＋４０℃以下である。
延伸速度は、例えば、１ｍｍ／秒以上、好ましくは２ｍｍ／秒以上であり、例えば２００ｍｍ／秒以下、好ましくは１００ｍｍ／秒以下である。延伸倍率（樹脂フィルムが２段階で延伸される場合、第１延伸工程の延伸倍率と第２延伸工程の延伸倍率との積）は、例えば、２．０倍以上、好ましくは２．５倍以上であり、例えば８．０倍以下、好ましくは７．５倍以下である。
【0068】
次いで、延伸した樹脂フィルムを延伸方向に熱収縮させる。熱収縮温度も予熱、延伸温度と同様に（Ｔｇ１）に関して設定され、例えば（Ｔｇ１）－２０℃以上、好ましくは（Ｔｇ１）－１５℃以上であり、例えば（Ｔｇ１）＋４５℃以下、好ましくは（Ｔｇ１）＋３５℃以下である。熱収縮温度は、より好ましくは延伸温度以下である。収縮率は、代表的には１％以上５％以下である。
以上によって、位相差層２０が製造される。
以上によって、位相差層２０が製造される。
【0069】
Ｄ．画像表示装置
上記Ａ項～Ｃ項に記載の位相差層付偏光板は、画像表示装置に適用され得る。したがって、本発明の１つの実施形態は、そのような位相差層付偏光板を用いた画像表示装置も包含する。画像表示装置の代表例としては、液晶表示装置、有機ＥＬ表示装置が挙げられる。本発明の実施形態による画像表示装置は、画像表示セルと、上記Ａ項～Ｃ項に記載の位相差層付偏光板とを備える。代表的には、画像表示装置は、画像表示セルを含む画像表示パネルと、その視認側に配置される上記位相差層付偏光板とを備える。なお、画像表示装置を光学表示装置と称する場合があり、画像表示パネルを光学表示パネルと称する場合があり、画像表示セルを光学表示セルと称する場合がある。
上記Ａ項～Ｃ項に記載の位相差層付偏光板は、画像表示装置に適用され得る。したがって、本発明の１つの実施形態は、そのような位相差層付偏光板を用いた画像表示装置も包含する。画像表示装置の代表例としては、液晶表示装置、有機ＥＬ表示装置が挙げられる。本発明の実施形態による画像表示装置は、画像表示セルと、上記Ａ項～Ｃ項に記載の位相差層付偏光板とを備える。代表的には、画像表示装置は、画像表示セルを含む画像表示パネルと、その視認側に配置される上記位相差層付偏光板とを備える。なお、画像表示装置を光学表示装置と称する場合があり、画像表示パネルを光学表示パネルと称する場合があり、画像表示セルを光学表示セルと称する場合がある。
【実施例0070】
以下、実施例によって本発明を具体的に説明するが、本発明はこれら実施例によって限定されるものではない。各特性の測定方法は以下の通りである。
【0071】
（１）位相差値の測定
実施例および比較例に用いた位相差層の位相差値について、Ａｘｏｓｃａｎ（Ａｘｏｍｅｔｒｉｃｓ社製）を用いて自動計測した。測定波長は、４５０ｎｍまたは５５０ｎｍであり、測定温度は２３℃であった。
実施例および比較例に用いた位相差層の位相差値について、Ａｘｏｓｃａｎ（Ａｘｏｍｅｔｒｉｃｓ社製）を用いて自動計測した。測定波長は、４５０ｎｍまたは５５０ｎｍであり、測定温度は２３℃であった。
【0072】
（２）ナノ相分離構造の観察
実施例および比較例に用いた位相差フィルムの厚み方向の中央付近（具体的には、位相差フィルムの厚みを１００％としたときに、位相差フィルムの厚み方向の中央から±２０％の領域）をサンプリングし、重金属染色を含む超薄切片法により、位相差フィルムの断面をＴＥＭ（ＨＴ７８２０，日立社製）により観察した（断面ＴＥＭ観察）。
分析された写真から目視にて、下記の基準で評価した。
〇：すべてのドメインのサイズ（最大長さ）が１００ｎｍ未満。
△：１００ｎｍ未満のドメインと、１００ｎｍを超えるドメインとが混在。
×：すべてのドメインのサイズ（最大長さ）が１００ｎｍ以上。
実施例および比較例に用いた位相差フィルムの厚み方向の中央付近（具体的には、位相差フィルムの厚みを１００％としたときに、位相差フィルムの厚み方向の中央から±２０％の領域）をサンプリングし、重金属染色を含む超薄切片法により、位相差フィルムの断面をＴＥＭ（ＨＴ７８２０，日立社製）により観察した（断面ＴＥＭ観察）。
分析された写真から目視にて、下記の基準で評価した。
〇：すべてのドメインのサイズ（最大長さ）が１００ｎｍ未満。
△：１００ｎｍ未満のドメインと、１００ｎｍを超えるドメインとが混在。
×：すべてのドメインのサイズ（最大長さ）が１００ｎｍ以上。
【0073】
（３）ＨＡＳＴ（Ｈｉｇｈ Ａｃｃｅｌｅｒａｔｅｄ Ｓｔｒｅｓｓ Ｔｅｓｔ）試験
実施例および比較例で得られた位相差層付偏光板を、粘着剤層によってガラス板に貼り付けて、サンプルを準備した。次いで、サンプルを加圧式加湿オーブンに投入し、１１０℃／８５％ＲＨの条件下で３６時間保持した後、外観を目視にて下記基準で評価した。
〇：クラックおよび／または剥がれなし。
×：クラックおよび／または剥がれあり。
実施例および比較例で得られた位相差層付偏光板を、粘着剤層によってガラス板に貼り付けて、サンプルを準備した。次いで、サンプルを加圧式加湿オーブンに投入し、１１０℃／８５％ＲＨの条件下で３６時間保持した後、外観を目視にて下記基準で評価した。
〇：クラックおよび／または剥がれなし。
×：クラックおよび／または剥がれあり。
【0074】
（４）ＭＩＴ試験
実施例および比較例に用いた位相差フィルム、および、実施例および比較例で得られた位相差層付偏光板のそれぞれに対して、ＭＩＴ試験を実施した。ＭＩＴ試験は、ＪＩＳ Ｐ ８１１５に準拠して行った。具体的には、位相差フィルムおよび位相差層付偏光板のそれぞれを、延伸方向が幅方向（ＴＤ方向）、延伸方向と直交する方向が長手方向（ＭＤ方向）となるように、長さ１５ｃｍおよび幅１．５ｃｍに切り出して、測定試料とした。測定試料をＭＩＴ耐折疲労試験機ＢＥ－２０２型（テスター産業社製）に取り付け（荷重１．０ｋｇｆ、クランプのＲ：０．３８ｍｍ）、幅方向（ＴＤ方向）および長手方向（ＭＤ方向）のそれぞれについて、試験速度９０ｃｐｍおよび折り曲げ角度９０°で繰り返し折り曲げを行い、測定試料が破断した時の折り曲げ回数を試験値とした。試験値を下記基準で評価した。
〇：位相差層付偏光板において、ＴＤ方向の試験値が５００回以上、ＭＤ方向の試験値が３００回以上。
×：位相差層付偏光板において、ＴＤ方向の試験値が５００回未満、および／または、ＭＤ方向の試験値が３００回未満。
実施例および比較例に用いた位相差フィルム、および、実施例および比較例で得られた位相差層付偏光板のそれぞれに対して、ＭＩＴ試験を実施した。ＭＩＴ試験は、ＪＩＳ Ｐ ８１１５に準拠して行った。具体的には、位相差フィルムおよび位相差層付偏光板のそれぞれを、延伸方向が幅方向（ＴＤ方向）、延伸方向と直交する方向が長手方向（ＭＤ方向）となるように、長さ１５ｃｍおよび幅１．５ｃｍに切り出して、測定試料とした。測定試料をＭＩＴ耐折疲労試験機ＢＥ－２０２型（テスター産業社製）に取り付け（荷重１．０ｋｇｆ、クランプのＲ：０．３８ｍｍ）、幅方向（ＴＤ方向）および長手方向（ＭＤ方向）のそれぞれについて、試験速度９０ｃｐｍおよび折り曲げ角度９０°で繰り返し折り曲げを行い、測定試料が破断した時の折り曲げ回数を試験値とした。試験値を下記基準で評価した。
〇：位相差層付偏光板において、ＴＤ方向の試験値が５００回以上、ＭＤ方向の試験値が３００回以上。
×：位相差層付偏光板において、ＴＤ方向の試験値が５００回未満、および／または、ＭＤ方向の試験値が３００回未満。
【0075】
＜＜製造例１；負の複屈折性を示すエステル系樹脂Ａ（９－ビニルカルバゾール／α－シアノ－４－ヒドロキシケイ皮酸イソブチル／アクリル酸イソブチル）の合成＞＞
容量５０ｍＬのガラスアンプルに９－ビニルカルバゾール１２．２０ｇ、α－シアノ－４－ヒドロキシケイ皮酸イソブチル７．７４ｇ、アクリル酸イソブチル４．０５ｇ、重合開始剤である２，５－ジメチル－２，５－ジ（２－エチルヘキサノイルパーオキシ）ヘキサン０．４５３ｇおよびメチルエチルケトン３６．００ｇを入れ、窒素置換と抜圧を繰り返したのち減圧状態で熔封した。このアンプルを５４℃の恒温槽に入れ、２４時間保持することによりラジカル重合を行った。重合反応終了後、アンプルから重合物を取り出し、テトラヒドロフラン１００ｇを加え、このポリマー溶液を８００ｇのメタノール／水混合溶剤（質量比８０／２０）中に滴下して析出させ、ろ過した後、ろ過物を１１０ｇのメタノール／水混合溶剤（質量比９０／１０）で５回洗浄、ろ過した。得られた樹脂を８０℃で１０時間真空乾燥することにより、負の複屈折性を示すケイ皮酸エステル共重合体２２．３ｇを得た。得られた重合体の数平均分子量は５０，０００であり、残基単位の比率は、９－ビニルカルバゾール残基単位５０モル％、α－シアノ－４－ヒドロキシケイ皮酸イソブチル残基単位２５モル％、アクリル酸イソブチル残基単位２５モル％であった。
容量５０ｍＬのガラスアンプルに９－ビニルカルバゾール１２．２０ｇ、α－シアノ－４－ヒドロキシケイ皮酸イソブチル７．７４ｇ、アクリル酸イソブチル４．０５ｇ、重合開始剤である２，５－ジメチル－２，５－ジ（２－エチルヘキサノイルパーオキシ）ヘキサン０．４５３ｇおよびメチルエチルケトン３６．００ｇを入れ、窒素置換と抜圧を繰り返したのち減圧状態で熔封した。このアンプルを５４℃の恒温槽に入れ、２４時間保持することによりラジカル重合を行った。重合反応終了後、アンプルから重合物を取り出し、テトラヒドロフラン１００ｇを加え、このポリマー溶液を８００ｇのメタノール／水混合溶剤（質量比８０／２０）中に滴下して析出させ、ろ過した後、ろ過物を１１０ｇのメタノール／水混合溶剤（質量比９０／１０）で５回洗浄、ろ過した。得られた樹脂を８０℃で１０時間真空乾燥することにより、負の複屈折性を示すケイ皮酸エステル共重合体２２．３ｇを得た。得られた重合体の数平均分子量は５０，０００であり、残基単位の比率は、９－ビニルカルバゾール残基単位５０モル％、α－シアノ－４－ヒドロキシケイ皮酸イソブチル残基単位２５モル％、アクリル酸イソブチル残基単位２５モル％であった。
【0076】
＜＜製造例２；エステル系樹脂Ｂ（α－シアノ－４－ヒドロキシケイ皮酸エチル／９－ビニルカルバゾール共重合体）の合成＞＞
容量５０ｍＬのガラスアンプルに、α－シアノ－４－ヒドロキシケイ皮酸エチル５．０ｇと、９－ビニルカルバゾール４．４ｇと、重合開始剤である２，５－ジメチル－２，５－ジ（２－エチルヘキサノイルパーオキシ）ヘキサン０．１７ｇと、テトラヒドロフラン８．５ｇとを入れ、窒素置換と抜圧を繰り返したのち減圧状態で熔封した。このアンプルを６２℃の恒温槽に入れ、４８時間保持することによりラジカル重合を行った。重合反応終了後、アンプルから重合物を取り出し、テトラヒドロフラン２５ｇで溶解させた。このポリマー溶液を５００ｍＬのメタノール中に滴下して析出させた後、６０℃で１０時間真空乾燥することにより、負の複屈折性を示すケイ皮酸エステル共重合体(エステル系樹脂Ｂ)７．７ｇを得た（収率：８２％）。得られたケイ皮酸エステル共重合体の数平均分子量は２２，０００であり、構成単位の比率は９－ビニルカルバゾール残基単位５８モル％、α－シアノ－４－ヒドロキシケイ皮酸エチル残基単位４２モル％であった。
容量５０ｍＬのガラスアンプルに、α－シアノ－４－ヒドロキシケイ皮酸エチル５．０ｇと、９－ビニルカルバゾール４．４ｇと、重合開始剤である２，５－ジメチル－２，５－ジ（２－エチルヘキサノイルパーオキシ）ヘキサン０．１７ｇと、テトラヒドロフラン８．５ｇとを入れ、窒素置換と抜圧を繰り返したのち減圧状態で熔封した。このアンプルを６２℃の恒温槽に入れ、４８時間保持することによりラジカル重合を行った。重合反応終了後、アンプルから重合物を取り出し、テトラヒドロフラン２５ｇで溶解させた。このポリマー溶液を５００ｍＬのメタノール中に滴下して析出させた後、６０℃で１０時間真空乾燥することにより、負の複屈折性を示すケイ皮酸エステル共重合体(エステル系樹脂Ｂ)７．７ｇを得た（収率：８２％）。得られたケイ皮酸エステル共重合体の数平均分子量は２２，０００であり、構成単位の比率は９－ビニルカルバゾール残基単位５８モル％、α－シアノ－４－ヒドロキシケイ皮酸エチル残基単位４２モル％であった。
【0077】
＜＜製造例３；偏光板の作製＞＞
熱可塑性樹脂基材として、長尺状で、Ｔｇ約７５℃である、非晶質のイソフタル共重合ポリエチレンテレフタレートフィルム（厚み：１００μｍ）を用い、樹脂基材の片面に、コロナ処理を施した。
ポリビニルアルコール（重合度４２００、ケン化度９９．２モル％）およびアセトアセチル変性ＰＶＡ（日本合成化学工業社製、商品名「ゴーセファイマー」）を９：１で混合したＰＶＡ系樹脂１００質量部に、ヨウ化カリウム１３質量部を添加したものを水に溶かし、ＰＶＡ水溶液（塗布液）を調製した。
樹脂基材のコロナ処理面に、上記ＰＶＡ水溶液を塗布して６０℃で乾燥することにより、厚み１３μｍのＰＶＡ系樹脂層を形成し、積層体を作製した。
得られた積層体を、１３０℃のオーブン内で縦方向（長手方向）に２．４倍に一軸延伸した（空中補助延伸処理）。
次いで、積層体を、液温４０℃の不溶化浴（水１００質量部に対して、ホウ酸を４質量部配合して得られたホウ酸水溶液）に３０秒間浸漬させた（不溶化処理）。
次いで、液温３０℃の染色浴（水１００質量部に対して、ヨウ素とヨウ化カリウムを１：７の重量比で配合して得られたヨウ素水溶液）に、最終的に得られる偏光子の単体透過率（Ｔｓ）が所望の値となるように濃度を調整しながら６０秒間浸漬させた（染色処理）。
次いで、液温４０℃の架橋浴（水１００質量部に対して、ヨウ化カリウムを３質量部配合し、ホウ酸を５質量部配合して得られたホウ酸水溶液）に３０秒間浸漬させた（架橋処理）。
その後、積層体を、液温７０℃のホウ酸水溶液（ホウ酸濃度４重量％、ヨウ化カリウム濃度５重量％）に浸漬させながら、周速の異なるロール間で縦方向（長手方向）に総延伸倍率が５．５倍となるように一軸延伸を行った（水中延伸処理）。
その後、積層体を液温２０℃の洗浄浴（水１００質量部に対して、ヨウ化カリウムを４質量部配合して得られた水溶液）に浸漬させた（洗浄処理）。
その後、約９０℃に保たれたオーブン中で乾燥しながら、表面温度が約７５℃に保たれたＳＵＳ製の加熱ロールに接触させた（乾燥収縮処理）。
このようにして、樹脂基材上に厚み約５μｍの偏光子を形成し、樹脂基材／偏光子の構成を有する積層体を得た。
得られた積層体の偏光子表面（樹脂基材とは反対側の面）に、保護層としてＨＣ－ＴＡＣフィルム（厚み２０μｍ）を貼り合わせた。次いで、樹脂基材を剥離し、保護層／偏光子／の構成を有する偏光板を得た。
熱可塑性樹脂基材として、長尺状で、Ｔｇ約７５℃である、非晶質のイソフタル共重合ポリエチレンテレフタレートフィルム（厚み：１００μｍ）を用い、樹脂基材の片面に、コロナ処理を施した。
ポリビニルアルコール（重合度４２００、ケン化度９９．２モル％）およびアセトアセチル変性ＰＶＡ（日本合成化学工業社製、商品名「ゴーセファイマー」）を９：１で混合したＰＶＡ系樹脂１００質量部に、ヨウ化カリウム１３質量部を添加したものを水に溶かし、ＰＶＡ水溶液（塗布液）を調製した。
樹脂基材のコロナ処理面に、上記ＰＶＡ水溶液を塗布して６０℃で乾燥することにより、厚み１３μｍのＰＶＡ系樹脂層を形成し、積層体を作製した。
得られた積層体を、１３０℃のオーブン内で縦方向（長手方向）に２．４倍に一軸延伸した（空中補助延伸処理）。
次いで、積層体を、液温４０℃の不溶化浴（水１００質量部に対して、ホウ酸を４質量部配合して得られたホウ酸水溶液）に３０秒間浸漬させた（不溶化処理）。
次いで、液温３０℃の染色浴（水１００質量部に対して、ヨウ素とヨウ化カリウムを１：７の重量比で配合して得られたヨウ素水溶液）に、最終的に得られる偏光子の単体透過率（Ｔｓ）が所望の値となるように濃度を調整しながら６０秒間浸漬させた（染色処理）。
次いで、液温４０℃の架橋浴（水１００質量部に対して、ヨウ化カリウムを３質量部配合し、ホウ酸を５質量部配合して得られたホウ酸水溶液）に３０秒間浸漬させた（架橋処理）。
その後、積層体を、液温７０℃のホウ酸水溶液（ホウ酸濃度４重量％、ヨウ化カリウム濃度５重量％）に浸漬させながら、周速の異なるロール間で縦方向（長手方向）に総延伸倍率が５．５倍となるように一軸延伸を行った（水中延伸処理）。
その後、積層体を液温２０℃の洗浄浴（水１００質量部に対して、ヨウ化カリウムを４質量部配合して得られた水溶液）に浸漬させた（洗浄処理）。
その後、約９０℃に保たれたオーブン中で乾燥しながら、表面温度が約７５℃に保たれたＳＵＳ製の加熱ロールに接触させた（乾燥収縮処理）。
このようにして、樹脂基材上に厚み約５μｍの偏光子を形成し、樹脂基材／偏光子の構成を有する積層体を得た。
得られた積層体の偏光子表面（樹脂基材とは反対側の面）に、保護層としてＨＣ－ＴＡＣフィルム（厚み２０μｍ）を貼り合わせた。次いで、樹脂基材を剥離し、保護層／偏光子／の構成を有する偏光板を得た。
【0078】
［実施例１および２］
＜＜位相差フィルムの作製＞＞
エチルセルロース（ダウ・ケミカル社製、エトセル スタンダード（ＥＴＨＯＣＥＬ ｓｔａｎｄａｒｄ）１００、数平均分子量Ｍｎ＝５８，０００、重量平均分子量Ｍｗ＝１８０，０００、Ｍｗ／Ｍｎ＝３．２、全置換度ＤＳ＝２．５１）と、製造例１で得られたエステル系樹脂Ａとを、表１に示す質量割合となるように、酢酸エチル／トルエン＝６０／４０（質量比）の混合溶媒に溶解して、固形分濃度１６質量％の樹脂溶液を得た。
次いで、樹脂溶液を、ディスパーミキサーによって３０分間撹拌した後、２時間静置して脱泡した。脱泡後の樹脂溶液を、アプリケータにより、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム（東洋紡社製、コスモシャインＡ４６１０）上に、ウェット厚みが約８１０μｍとなるように塗工した。
次いで、塗膜を、オーブンにて、６５℃／６分間、８５℃／１分間、１１０℃／２分間の条件で３段乾燥した後、室温（２３℃）において６０分間静置した。その後、乾燥後の塗膜を、再度オーブンにて、１３０℃／６０分間アニールした。これにより、ＰＥＴフィルム上に、樹脂フィルムが形成された。
次いで、ＰＥＴフィルムから樹脂フィルムを剥離した。剥離後の樹脂フィルムを、１６５℃／１分間の条件で予熱した後、延伸温度１５５℃、延伸速度２ｍｍ／秒の条件で、２．４倍に固定端横延伸した。その後、延伸した樹脂フィルムを、収縮温度１５５℃で、幅方向に２％収縮させて、厚み４６μｍの位相差フィルムを得た。位相差フィルムの屈折率特性は、ｎｘ＞ｎｙ＞ｎｚを示していた。
位相差フィルムを上記した位相差値の測定およびナノ相分離構造の観察に供した。その結果を表１に示す。
＜＜位相差層付偏光板の作製＞＞
次いで、製造例３で得られた偏光板の偏光子に、位相差フィルムを、（メタ）アクリル系の粘着剤により貼り付けた。粘着剤層の厚みは、５μｍであった。貼り合わせは、偏光子の吸収軸方向と、位相差フィルムの遅相軸方向とがなす角度が、表１の値となるようにして行った。
その後、位相差フィルムに、（メタ）アクリル系粘着剤を塗布して、粘着剤層を形成した。粘着剤層の厚みは、１５μｍであった。
以上によって、位相差層付偏光板を得た。位相差層付偏光板を上記したＨＡＳＴ試験に供した。その結果を表１に示す。
＜＜位相差フィルムの作製＞＞
エチルセルロース（ダウ・ケミカル社製、エトセル スタンダード（ＥＴＨＯＣＥＬ ｓｔａｎｄａｒｄ）１００、数平均分子量Ｍｎ＝５８，０００、重量平均分子量Ｍｗ＝１８０，０００、Ｍｗ／Ｍｎ＝３．２、全置換度ＤＳ＝２．５１）と、製造例１で得られたエステル系樹脂Ａとを、表１に示す質量割合となるように、酢酸エチル／トルエン＝６０／４０（質量比）の混合溶媒に溶解して、固形分濃度１６質量％の樹脂溶液を得た。
次いで、樹脂溶液を、ディスパーミキサーによって３０分間撹拌した後、２時間静置して脱泡した。脱泡後の樹脂溶液を、アプリケータにより、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム（東洋紡社製、コスモシャインＡ４６１０）上に、ウェット厚みが約８１０μｍとなるように塗工した。
次いで、塗膜を、オーブンにて、６５℃／６分間、８５℃／１分間、１１０℃／２分間の条件で３段乾燥した後、室温（２３℃）において６０分間静置した。その後、乾燥後の塗膜を、再度オーブンにて、１３０℃／６０分間アニールした。これにより、ＰＥＴフィルム上に、樹脂フィルムが形成された。
次いで、ＰＥＴフィルムから樹脂フィルムを剥離した。剥離後の樹脂フィルムを、１６５℃／１分間の条件で予熱した後、延伸温度１５５℃、延伸速度２ｍｍ／秒の条件で、２．４倍に固定端横延伸した。その後、延伸した樹脂フィルムを、収縮温度１５５℃で、幅方向に２％収縮させて、厚み４６μｍの位相差フィルムを得た。位相差フィルムの屈折率特性は、ｎｘ＞ｎｙ＞ｎｚを示していた。
位相差フィルムを上記した位相差値の測定およびナノ相分離構造の観察に供した。その結果を表１に示す。
＜＜位相差層付偏光板の作製＞＞
次いで、製造例３で得られた偏光板の偏光子に、位相差フィルムを、（メタ）アクリル系の粘着剤により貼り付けた。粘着剤層の厚みは、５μｍであった。貼り合わせは、偏光子の吸収軸方向と、位相差フィルムの遅相軸方向とがなす角度が、表１の値となるようにして行った。
その後、位相差フィルムに、（メタ）アクリル系粘着剤を塗布して、粘着剤層を形成した。粘着剤層の厚みは、１５μｍであった。
以上によって、位相差層付偏光板を得た。位相差層付偏光板を上記したＨＡＳＴ試験に供した。その結果を表１に示す。
【0079】
［実施例３］
製造例１のエステル系樹脂Ａを、製造例２のエステル系樹脂Ｂに変更したこと以外は、実施例１と同様にして位相差層付偏光板を得た。また、位相差フィルムを上記した位相差値の測定およびナノ相分離構造の観察に供し、位相差層付偏光板を上記したＨＡＳＴ試験に供した。その結果を表１に示す。
製造例１のエステル系樹脂Ａを、製造例２のエステル系樹脂Ｂに変更したこと以外は、実施例１と同様にして位相差層付偏光板を得た。また、位相差フィルムを上記した位相差値の測定およびナノ相分離構造の観察に供し、位相差層付偏光板を上記したＨＡＳＴ試験に供した。その結果を表１に示す。
【0080】
［実施例４］
予熱温度を１６２℃に変更し、延伸温度を１６２℃に変更し、延伸倍率を３．０倍に変更したこと以外は、実施例１と同様にして位相差層付偏光板を得た。なお、位相差フィルムの厚みは、３６μｍであった。また、位相差フィルムを上記した位相差値の測定、ナノ相分離構造の観察およびＭＩＴ試験に供し、位相差層付偏光板を上記したＨＡＳＴ試験およびＭＩＴ試験に供した。その結果を表２に示す。
予熱温度を１６２℃に変更し、延伸温度を１６２℃に変更し、延伸倍率を３．０倍に変更したこと以外は、実施例１と同様にして位相差層付偏光板を得た。なお、位相差フィルムの厚みは、３６μｍであった。また、位相差フィルムを上記した位相差値の測定、ナノ相分離構造の観察およびＭＩＴ試験に供し、位相差層付偏光板を上記したＨＡＳＴ試験およびＭＩＴ試験に供した。その結果を表２に示す。
【0081】
［実施例５］
樹脂溶液のウェット膜厚を１０５０μｍに変更したこと以外は、実施例３と同様にして、樹脂フィルム（延伸前）を調製した。次いで、樹脂フィルムを、１６２℃／１分間の条件で予熱した後、延伸温度１６２℃、延伸速度２ｍｍ／秒の条件で、３．４倍に固定端横延伸し、その後、１６７℃／１分間の条件で予熱し、延伸温度１６７℃、延伸速度２ｍｍ／秒の条件で、２．１倍に固定端横延伸した。
その後、延伸した樹脂フィルムを、収縮温度１５５℃で、幅方向に２％収縮させて、厚み２０μｍの位相差フィルムを得た。得られた位相差フィルムを上記した位相差値の測定、ナノ相分離構造の観察およびＭＩＴ試験に供した。
その後、実施例３と同様にして、位相差層付偏光板を調製した。得られた位相差層付偏光板を上記したＨＡＳＴ試験およびＭＩＴ試験に供した。その結果を表２に示す。
樹脂溶液のウェット膜厚を１０５０μｍに変更したこと以外は、実施例３と同様にして、樹脂フィルム（延伸前）を調製した。次いで、樹脂フィルムを、１６２℃／１分間の条件で予熱した後、延伸温度１６２℃、延伸速度２ｍｍ／秒の条件で、３．４倍に固定端横延伸し、その後、１６７℃／１分間の条件で予熱し、延伸温度１６７℃、延伸速度２ｍｍ／秒の条件で、２．１倍に固定端横延伸した。
その後、延伸した樹脂フィルムを、収縮温度１５５℃で、幅方向に２％収縮させて、厚み２０μｍの位相差フィルムを得た。得られた位相差フィルムを上記した位相差値の測定、ナノ相分離構造の観察およびＭＩＴ試験に供した。
その後、実施例３と同様にして、位相差層付偏光板を調製した。得られた位相差層付偏光板を上記したＨＡＳＴ試験およびＭＩＴ試験に供した。その結果を表２に示す。
【0082】
［比較例１］
位相差フィルムを、下記のように作製した位相差フィルムに変更したこと以外は、実施例１と同様にして位相差層付偏光板を得た。また、位相差フィルムを上記した位相差値の測定、ナノ相分離構造の観察およびＭＩＴ試験に供し、位相差層付偏光板を上記したＨＡＳＴ試験およびＭＩＴ試験に供した。その結果を表１および表２に示す。
＜＜位相差フィルムの作製＞＞
撹拌翼および１００℃に制御された還流冷却器を具備した縦型反応器２器からなるバッチ重合装置に、ビス［９－（２－フェノキシカルボニルエチル）フルオレン－９－イル］メタン２９．６０質量部（０．０４６ｍｏｌ）と、イソソルビド（ＩＳＢ）２９．２１質量部（０．２００ｍｏｌ）と、スピログリコール（ＳＰＧ）４２．２８質量部（０．１３９ｍｏｌ）と、ジフェニルカーボネート（ＤＰＣ）６３．７７質量部（０．２９８ｍｏｌ）と、触媒として酢酸カルシウム１水和物１．１９×１０－２質量部（６．７８×１０－５ｍｏｌ）とを仕込んだ。反応器内を減圧窒素置換した後、熱媒で加温を行い、内温が１００℃になった時点で撹拌を開始した。昇温開始４０分後に内温を２２０℃に到達させ、この温度を保持するように制御すると同時に減圧を開始し、２２０℃に到達してから９０分で１３．３ｋＰａにした。重合反応とともに副生するフェノール蒸気を１００℃の還流冷却器に導き、フェノール蒸気中に若干量含まれるモノマー成分を反応器に戻し、凝縮しないフェノール蒸気は４５℃の凝縮器に導いて回収した。第１反応器に窒素を導入して一旦大気圧まで復圧させた後、第１反応器内のオリゴマー化された反応液を第２反応器に移した。次いで、第２反応器内の昇温および減圧を開始して、５０分で内温２４０℃、圧力０．２ｋＰａにした。その後、所定の攪拌動力となるまで重合を進行させた。所定動力に到達した時点で反応器に窒素を導入して復圧し、生成したポリエステルカーボネート系樹脂を水中に押し出し、ストランドをカッティングしてペレットを得た。
得られたポリエステルカーボネート系樹脂（ペレット）を８０℃で５時間真空乾燥をした後、単軸押出機（東芝機械社製、シリンダー設定温度：２５０℃）、Ｔダイ（幅２００ｍｍ、設定温度：２５０℃）、チルロール（設定温度：１２０～１３０℃）および巻取機を備えたフィルム製膜装置を用いて、厚み１３０μｍの長尺状の樹脂フィルムを作製した。得られた長尺状の樹脂フィルムを、１４０℃で１．４倍に自由端縦延伸し、厚み１１０μｍの位相差フィルムを得た。
位相差フィルムを、下記のように作製した位相差フィルムに変更したこと以外は、実施例１と同様にして位相差層付偏光板を得た。また、位相差フィルムを上記した位相差値の測定、ナノ相分離構造の観察およびＭＩＴ試験に供し、位相差層付偏光板を上記したＨＡＳＴ試験およびＭＩＴ試験に供した。その結果を表１および表２に示す。
＜＜位相差フィルムの作製＞＞
撹拌翼および１００℃に制御された還流冷却器を具備した縦型反応器２器からなるバッチ重合装置に、ビス［９－（２－フェノキシカルボニルエチル）フルオレン－９－イル］メタン２９．６０質量部（０．０４６ｍｏｌ）と、イソソルビド（ＩＳＢ）２９．２１質量部（０．２００ｍｏｌ）と、スピログリコール（ＳＰＧ）４２．２８質量部（０．１３９ｍｏｌ）と、ジフェニルカーボネート（ＤＰＣ）６３．７７質量部（０．２９８ｍｏｌ）と、触媒として酢酸カルシウム１水和物１．１９×１０－２質量部（６．７８×１０－５ｍｏｌ）とを仕込んだ。反応器内を減圧窒素置換した後、熱媒で加温を行い、内温が１００℃になった時点で撹拌を開始した。昇温開始４０分後に内温を２２０℃に到達させ、この温度を保持するように制御すると同時に減圧を開始し、２２０℃に到達してから９０分で１３．３ｋＰａにした。重合反応とともに副生するフェノール蒸気を１００℃の還流冷却器に導き、フェノール蒸気中に若干量含まれるモノマー成分を反応器に戻し、凝縮しないフェノール蒸気は４５℃の凝縮器に導いて回収した。第１反応器に窒素を導入して一旦大気圧まで復圧させた後、第１反応器内のオリゴマー化された反応液を第２反応器に移した。次いで、第２反応器内の昇温および減圧を開始して、５０分で内温２４０℃、圧力０．２ｋＰａにした。その後、所定の攪拌動力となるまで重合を進行させた。所定動力に到達した時点で反応器に窒素を導入して復圧し、生成したポリエステルカーボネート系樹脂を水中に押し出し、ストランドをカッティングしてペレットを得た。
得られたポリエステルカーボネート系樹脂（ペレット）を８０℃で５時間真空乾燥をした後、単軸押出機（東芝機械社製、シリンダー設定温度：２５０℃）、Ｔダイ（幅２００ｍｍ、設定温度：２５０℃）、チルロール（設定温度：１２０～１３０℃）および巻取機を備えたフィルム製膜装置を用いて、厚み１３０μｍの長尺状の樹脂フィルムを作製した。得られた長尺状の樹脂フィルムを、１４０℃で１．４倍に自由端縦延伸し、厚み１１０μｍの位相差フィルムを得た。
【0083】
［比較例２］
樹脂材料として、製造例１のエステル系樹脂Ａを用いずに、エチルセルロースのみを、用いて、位相差フィルムを作製したこと以外は、実施例１と同様にして位相差層付偏光板を得た。また、位相差フィルムを上記した位相差値の測定およびナノ相分離構造の観察に供し、位相差層付偏光板を上記したＨＡＳＴ試験に供した。その結果を表１に示す。
樹脂材料として、製造例１のエステル系樹脂Ａを用いずに、エチルセルロースのみを、用いて、位相差フィルムを作製したこと以外は、実施例１と同様にして位相差層付偏光板を得た。また、位相差フィルムを上記した位相差値の測定およびナノ相分離構造の観察に供し、位相差層付偏光板を上記したＨＡＳＴ試験に供した。その結果を表１に示す。
【0084】
［比較例３］
樹脂材料として、エチルセルロースを用いずに、製造例２のエステル系樹脂Ｂのみを、用いて、位相差フィルムを作製したこと以外は、実施例３と同様にして位相差層付偏光板を得た。また、位相差フィルムを上記した位相差値の測定およびナノ相分離構造の観察に供し、位相差層付偏光板を上記したＨＡＳＴ試験に供した。その結果を表１に示す。
樹脂材料として、エチルセルロースを用いずに、製造例２のエステル系樹脂Ｂのみを、用いて、位相差フィルムを作製したこと以外は、実施例３と同様にして位相差層付偏光板を得た。また、位相差フィルムを上記した位相差値の測定およびナノ相分離構造の観察に供し、位相差層付偏光板を上記したＨＡＳＴ試験に供した。その結果を表１に示す。
【0085】
［比較例４］
酢酸エチル／トルエンを６：４で配合した混合溶媒に、エチルセルロースと製造例１で得られたエステル系樹脂Ａとを、８０：２０の質量割合となるように溶解して、固形分濃度１６質量％の樹脂溶液を得た。
次いで、樹脂溶液を、ディスパーミキサーによって３０分間撹拌した後、２時間静置して脱泡した。脱泡後の樹脂溶液を、アプリケータにより、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム（東洋紡社製、コスモシャインＡ４６１０）上に、ウェット厚みが約８１０μｍとなるように塗工した。
次いで、塗膜を、オーブンにて、４０℃／４分間、８５℃／４分間、１３５℃／４分間、１５５℃／６分間の条件で４段乾燥して、ＰＥＴフィルム上に、厚み１１０μｍの樹脂フィルムを形成した。
次いで、ＰＥＴフィルムから樹脂フィルムを剥離した。剥離後の樹脂フィルムを、１６５℃／１分間の条件で予熱した後、延伸温度１５５℃、延伸速度２ｍｍ／秒の条件で、２．４倍に固定端横延伸した。その後、延伸した樹脂フィルムを、延伸温度と同温（収縮温度１５５℃）で、幅方向に２％収縮させて、厚み４６μｍの位相差フィルムを得た。この位相差フィルムを上記した位相差値の測定およびナノ相分離構造の観察に供した。その結果を表１に示す。比較例４では、上記ナノ相分離構造の観察において得られるＴＥＭ断面像では、相分離の各ドメインは１００ｎｍ以上の大きいものであり、十分な相分離状態が得られていないことがわかった。
＜＜位相差層付偏光板の作製＞＞
次いで、製造例３で得られた偏光板の偏光子に、位相差フィルムを、（メタ）アクリル系の粘着剤により貼り付けた。粘着剤層の厚みは、５μｍであった。貼り合わせは、偏光子の吸収軸方向と、位相差フィルムの遅相軸方向とがなす角度が、表１の値となるようにして行った。
その後、位相差フィルムに、（メタ）アクリル系粘着剤を塗布して、粘着剤層を形成した。粘着剤層の厚みは、１５μｍであった。
以上によって、位相差層付偏光板を得た。位相差層付偏光板を上記したＨＡＳＴ試験に供した。その結果を表１に示す。比較例４の位相差層付偏光板は、ＨＡＳＴ試験後にクラックが生じていた。
酢酸エチル／トルエンを６：４で配合した混合溶媒に、エチルセルロースと製造例１で得られたエステル系樹脂Ａとを、８０：２０の質量割合となるように溶解して、固形分濃度１６質量％の樹脂溶液を得た。
次いで、樹脂溶液を、ディスパーミキサーによって３０分間撹拌した後、２時間静置して脱泡した。脱泡後の樹脂溶液を、アプリケータにより、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム（東洋紡社製、コスモシャインＡ４６１０）上に、ウェット厚みが約８１０μｍとなるように塗工した。
次いで、塗膜を、オーブンにて、４０℃／４分間、８５℃／４分間、１３５℃／４分間、１５５℃／６分間の条件で４段乾燥して、ＰＥＴフィルム上に、厚み１１０μｍの樹脂フィルムを形成した。
次いで、ＰＥＴフィルムから樹脂フィルムを剥離した。剥離後の樹脂フィルムを、１６５℃／１分間の条件で予熱した後、延伸温度１５５℃、延伸速度２ｍｍ／秒の条件で、２．４倍に固定端横延伸した。その後、延伸した樹脂フィルムを、延伸温度と同温（収縮温度１５５℃）で、幅方向に２％収縮させて、厚み４６μｍの位相差フィルムを得た。この位相差フィルムを上記した位相差値の測定およびナノ相分離構造の観察に供した。その結果を表１に示す。比較例４では、上記ナノ相分離構造の観察において得られるＴＥＭ断面像では、相分離の各ドメインは１００ｎｍ以上の大きいものであり、十分な相分離状態が得られていないことがわかった。
＜＜位相差層付偏光板の作製＞＞
次いで、製造例３で得られた偏光板の偏光子に、位相差フィルムを、（メタ）アクリル系の粘着剤により貼り付けた。粘着剤層の厚みは、５μｍであった。貼り合わせは、偏光子の吸収軸方向と、位相差フィルムの遅相軸方向とがなす角度が、表１の値となるようにして行った。
その後、位相差フィルムに、（メタ）アクリル系粘着剤を塗布して、粘着剤層を形成した。粘着剤層の厚みは、１５μｍであった。
以上によって、位相差層付偏光板を得た。位相差層付偏光板を上記したＨＡＳＴ試験に供した。その結果を表１に示す。比較例４の位相差層付偏光板は、ＨＡＳＴ試験後にクラックが生じていた。
【0086】
［比較例５］
酢酸エチル／トルエンを６：４で配合した混合溶媒に、エチルセルロースと製造例１で得られたエステル系樹脂Ａとを、８０：２０の質量割合となるように溶解して、固形分濃度１６質量％の樹脂溶液を得た。
次いで、樹脂溶液を、ディスパーミキサーによって３０分間撹拌した後、２時間静置して脱泡した。脱泡後の樹脂溶液を、アプリケータにより、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム（東洋紡社製、コスモシャインＡ４６１０）上に、ウェット厚みが約８１０μｍとなるように塗工した。
次いで、塗膜を、オーブンにて、４０℃／１０分間、８５℃／４分間、１３５℃／４分間、１５５℃／１０分間の条件で４段乾燥して、ＰＥＴフィルム上に、厚み１１０μｍの樹脂フィルムを形成した。
次いで、ＰＥＴフィルムから樹脂フィルムを剥離した。剥離後の樹脂フィルムを、１６５℃／１分間の条件で予熱した後、延伸温度１５５℃、延伸速度２ｍｍ／秒の条件で、２．４倍に固定端横延伸した。その後、延伸した樹脂フィルムを、延伸温度と同温（収縮温度１５５℃）で、幅方向に２％収縮させて、厚み４６μｍの位相差フィルムを得た。この位相差フィルムを上記した位相差値の測定およびナノ相分離構造の観察に供した。その結果を表１に示す。比較例５では、λ／４板として十分な特性が確保できなかった。上記ナノ相分離構造の観察において得られるＴＥＭ断面像では、相分離の各ドメインは１００ｎｍ前後であり、１００ｎｍ未満のドメインと、１００ｎｍを超えるドメインとが混在していた。そのため、好適なナノ相分離構造が形成されていないことがわかった。
＜＜位相差層付偏光板の作製＞＞
次いで、製造例３で得られた偏光板の偏光子に、位相差フィルムを、（メタ）アクリル系の粘着剤により貼り付けた。粘着剤層の厚みは、５μｍであった。貼り合わせは、偏光子の吸収軸方向と、位相差フィルムの遅相軸方向とがなす角度が、表１の値となるようにして行った。
その後、位相差フィルムに、（メタ）アクリル系粘着剤を塗布して、粘着剤層を形成した。粘着剤層の厚みは、１５μｍであった。
以上によって、位相差層付偏光板を得た。比較例５の位相差層付偏光板は、円偏光板として十分な特性が得られていないため、通常はＨＡＳＴ試験を実施しないが、念のため上記したＨＡＳＴ試験に供した。その結果を表１に示す。比較例５の位相差層付偏光板は、ＨＡＳＴ試験後の外観に問題はなかった。
酢酸エチル／トルエンを６：４で配合した混合溶媒に、エチルセルロースと製造例１で得られたエステル系樹脂Ａとを、８０：２０の質量割合となるように溶解して、固形分濃度１６質量％の樹脂溶液を得た。
次いで、樹脂溶液を、ディスパーミキサーによって３０分間撹拌した後、２時間静置して脱泡した。脱泡後の樹脂溶液を、アプリケータにより、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム（東洋紡社製、コスモシャインＡ４６１０）上に、ウェット厚みが約８１０μｍとなるように塗工した。
次いで、塗膜を、オーブンにて、４０℃／１０分間、８５℃／４分間、１３５℃／４分間、１５５℃／１０分間の条件で４段乾燥して、ＰＥＴフィルム上に、厚み１１０μｍの樹脂フィルムを形成した。
次いで、ＰＥＴフィルムから樹脂フィルムを剥離した。剥離後の樹脂フィルムを、１６５℃／１分間の条件で予熱した後、延伸温度１５５℃、延伸速度２ｍｍ／秒の条件で、２．４倍に固定端横延伸した。その後、延伸した樹脂フィルムを、延伸温度と同温（収縮温度１５５℃）で、幅方向に２％収縮させて、厚み４６μｍの位相差フィルムを得た。この位相差フィルムを上記した位相差値の測定およびナノ相分離構造の観察に供した。その結果を表１に示す。比較例５では、λ／４板として十分な特性が確保できなかった。上記ナノ相分離構造の観察において得られるＴＥＭ断面像では、相分離の各ドメインは１００ｎｍ前後であり、１００ｎｍ未満のドメインと、１００ｎｍを超えるドメインとが混在していた。そのため、好適なナノ相分離構造が形成されていないことがわかった。
＜＜位相差層付偏光板の作製＞＞
次いで、製造例３で得られた偏光板の偏光子に、位相差フィルムを、（メタ）アクリル系の粘着剤により貼り付けた。粘着剤層の厚みは、５μｍであった。貼り合わせは、偏光子の吸収軸方向と、位相差フィルムの遅相軸方向とがなす角度が、表１の値となるようにして行った。
その後、位相差フィルムに、（メタ）アクリル系粘着剤を塗布して、粘着剤層を形成した。粘着剤層の厚みは、１５μｍであった。
以上によって、位相差層付偏光板を得た。比較例５の位相差層付偏光板は、円偏光板として十分な特性が得られていないため、通常はＨＡＳＴ試験を実施しないが、念のため上記したＨＡＳＴ試験に供した。その結果を表１に示す。比較例５の位相差層付偏光板は、ＨＡＳＴ試験後の外観に問題はなかった。
【0087】
［比較例６］
延伸後のフィルム膜厚が異なること以外は、比較例１と同様にして位相差層付偏光板を得た。なお、位相差フィルムの厚みは、３７μｍであった。また、位相差フィルムを上記した位相差値の測定、ナノ相分離構造の観察およびＭＩＴ試験に供し、位相差層付偏光板を上記したＨＡＳＴ試験およびＭＩＴ試験に供した。その結果を表２に示す。
延伸後のフィルム膜厚が異なること以外は、比較例１と同様にして位相差層付偏光板を得た。なお、位相差フィルムの厚みは、３７μｍであった。また、位相差フィルムを上記した位相差値の測定、ナノ相分離構造の観察およびＭＩＴ試験に供し、位相差層付偏光板を上記したＨＡＳＴ試験およびＭＩＴ試験に供した。その結果を表２に示す。
【0088】
［比較例７］
＜＜位相差フィルムの作製＞＞
ネマチック液晶相を示す重合性液晶（ＢＡＳＦ社製：商品名「Ｐａｌｉｏｃｏｌｏｒ ＬＣ２４２」、下記式で表される）１０ｇと、当該重合性液晶化合物に対する光重合開始剤（ＢＡＳＦ社製：商品名「イルガキュア９０７」）３ｇとを、トルエン４０ｇに溶解して、液晶組成物（塗工液）を調製した。
ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム（厚み３８μｍ）表面を、ラビング布を用いてラビングし、配向処理を施した。配向処理の方向は、偏光板に貼り合わせる際に偏光子の吸収軸の方向に対して視認側から見て１５°方向となるようにした。この配向処理表面に、上記液晶塗工液をバーコーターにより塗工し、９０℃で２分間加熱乾燥することによって液晶化合物を配向させた。このようにして形成された液晶層に、メタルハライドランプを用いて１ｍＪ/ｃｍ２の光を照射し、当該液晶層を硬化させることによって、ＰＥＴフィルム上に液晶配向固化層を形成した。液晶配向固化層は、ｎｘ＞ｎｙ＝ｎｚの屈折率特性を有していた。液晶配向固化層の厚みは１μｍ、面内位相差Ｒｅ（５５０）は１４０ｎｍであった。液晶配向固化層を位相差フィルムとし、その位相差フィルムを、位相差値の測定、ナノ相分離構造の観察およびＭＩＴ試験に供した。その結果を表２に示す。
＜＜位相差層付偏光板の作製＞＞
次いで、製造例３で得られた偏光板の偏光子に、位相差フィルムを、（メタ）アクリル系の粘着剤により貼り付けた。粘着剤層の厚みは、５μｍであった。貼り合わせは、偏光子の吸収軸方向と、位相差フィルムの遅相軸方向とがなす角度が４５°となるようにして行った。
その後、位相差フィルムに、（メタ）アクリル系粘着剤を塗布して、粘着剤層を形成した。粘着剤層の厚みは、１５μｍであった。
以上によって、位相差層付偏光板を得た。位相差層付偏光板を上記したＨＡＳＴ試験およびＭＩＴ試験に供した。その結果を表２に示す。
＜＜位相差フィルムの作製＞＞
ネマチック液晶相を示す重合性液晶（ＢＡＳＦ社製：商品名「Ｐａｌｉｏｃｏｌｏｒ ＬＣ２４２」、下記式で表される）１０ｇと、当該重合性液晶化合物に対する光重合開始剤（ＢＡＳＦ社製：商品名「イルガキュア９０７」）３ｇとを、トルエン４０ｇに溶解して、液晶組成物（塗工液）を調製した。
【化9】
＜＜位相差層付偏光板の作製＞＞
次いで、製造例３で得られた偏光板の偏光子に、位相差フィルムを、（メタ）アクリル系の粘着剤により貼り付けた。粘着剤層の厚みは、５μｍであった。貼り合わせは、偏光子の吸収軸方向と、位相差フィルムの遅相軸方向とがなす角度が４５°となるようにして行った。
その後、位相差フィルムに、（メタ）アクリル系粘着剤を塗布して、粘着剤層を形成した。粘着剤層の厚みは、１５μｍであった。
以上によって、位相差層付偏光板を得た。位相差層付偏光板を上記したＨＡＳＴ試験およびＭＩＴ試験に供した。その結果を表２に示す。
【0089】
【表1】
【0090】
【表2】
【0091】
［評価］
表１および表２から明らかなように、位相差層がセルロース系樹脂およびエステル系樹脂を含み、それらが好適なナノ相分離構造を構成していると、位相差層の逆分散特性を維持できながら、高温高湿環境下での外観不良の発生が抑制された位相差層付偏光板を実現できることがわかる。さらに、位相差層（位相差フィルム）にナノ相分離構造が形成されていると、位相差フィルムおよび位相差層付偏光板において、延伸方向（ＭＤ方向）、および、延伸方向と直交する方向（ＴＤ方向）における屈曲性を向上できることがわかる。
表１および表２から明らかなように、位相差層がセルロース系樹脂およびエステル系樹脂を含み、それらが好適なナノ相分離構造を構成していると、位相差層の逆分散特性を維持できながら、高温高湿環境下での外観不良の発生が抑制された位相差層付偏光板を実現できることがわかる。さらに、位相差層（位相差フィルム）にナノ相分離構造が形成されていると、位相差フィルムおよび位相差層付偏光板において、延伸方向（ＭＤ方向）、および、延伸方向と直交する方向（ＴＤ方向）における屈曲性を向上できることがわかる。
【産業上の利用可能性】
【0092】
本発明の実施形態による位相差層付偏光板は、画像表示装置（代表的には、液晶表示装置、有機ＥＬ表示装置）に好適に適用され得る。
【符号の説明】
【0093】
１０ 偏光板
１１ 偏光子
２０ 位相差層
３０ 接着層
４０ 粘着剤層
５０ はく離ライナー
１００ 位相差層付偏光板
１１ 偏光子
２０ 位相差層
３０ 接着層
４０ 粘着剤層
５０ はく離ライナー
１００ 位相差層付偏光板
【図1】