ホーム > 特許ランキング > 富士フイルム株式会社
(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】公開特許公報(A)
(11)【公開番号】P2023181683
(43)【公開日】2023-12-25
(54)【発明の名称】積層体、光学フィルム、偏光板および画像表示装置
(51)【国際特許分類】
G02B 5/30 20060101AFI20231218BHJP
H10K 50/10 20230101ALI20231218BHJP
H05B 33/02 20060101ALI20231218BHJP
H10K 59/10 20230101ALI20231218BHJP
G09F 9/00 20060101ALI20231218BHJP
G02F 1/1335 20060101ALI20231218BHJP
G02F 1/13363 20060101ALI20231218BHJP
G02F 1/1337 20060101ALI20231218BHJP
C08F 20/10 20060101ALI20231218BHJP
【ＦＩ】
G02B5/30
H05B33/14 A
H05B33/02
H01L27/32
G09F9/00 313
G02F1/1335 510
G02F1/13363
G02F1/1337
C08F20/10
【審査請求】未請求
【請求項の数】18
【出願形態】ＯＬ
(21)【出願番号】P 2022094944
(22)【出願日】2022-06-13
(71)【出願人】
【識別番号】306037311
【氏名又は名称】富士フイルム株式会社
(74)【代理人】
【識別番号】100152984
【弁理士】
【氏名又は名称】伊東 秀明
(74)【代理人】
【識別番号】100148080
【弁理士】
【氏名又は名称】三橋 史生
(72)【発明者】
【氏名】横田 知瞭
(72)【発明者】
【氏名】松本 彩子
(72)【発明者】
【氏名】桑原 浩樹
(72)【発明者】
【氏名】飯泉 隆史
(72)【発明者】
【氏名】渡邉 壮一郎
(72)【発明者】
【氏名】田村 顕夫
【テーマコード（参考）】
2H149
2H290
2H291
3K107
4J100
5G435
【Ｆターム（参考）】
2H149AA13
2H149AA18
2H149AB01
2H149AB11
2H149DA02
2H149DA04
2H149DA12
2H149EA05
2H149EA22
2H149FA02Z
2H149FA34Y
2H149FA58Y
2H149FD34
2H290BA30
2H290BF04
2H290BF06
2H290BF13
2H290BF18
2H290BF23
2H290DA01
2H290DA03
2H291FA22X
2H291FA30X
2H291FA94X
2H291FA95X
2H291FB02
2H291FB05
2H291FC05
2H291FC07
2H291FD12
2H291LA40
2H291PA05
2H291PA44
2H291PA53
2H291PA64
2H291PA84
2H291PA86
2H291PA87
3K107AA01
3K107BB01
3K107CC32
3K107CC45
3K107EE26
3K107FF00
3K107FF02
4J100AL08P
4J100AL09P
4J100BA03P
4J100BA14P
4J100BA15P
4J100BA32P
4J100BA38P
4J100BA56P
4J100BA64P
4J100BC43P
4J100CA01
4J100CA03
4J100JA32
4J100JA43
5G435AA17
5G435DD11
5G435FF05
(57)【要約】
【課題】本発明は、基材の剥離性および液晶配向性のいずれにも優れた積層体、光学フィルム、偏光板および画像表示装置を提供することを課題とする。
【解決手段】第１基材と、第１基材に隣接して設けられる第１位相差層と、を有する積層体であって、
第１基材が、転写用の仮支持体であり、
第１位相差層が、光配向性基を有さないポリマーを含有する、水平配向した液晶化合物を固定してなる層であり、
第１位相差層の第１基材側の表面から第１基材と反対側の表面に向かって、イオンビームを照射しながら飛行時間型二次イオン質量分析法で第１位相差層中におけるポリマーの二次イオン強度を測定した際に、空気側表層領域におけるポリマー由来の二次イオン強度の平均値ＩＡ１よりも、基材側表層領域におけるポリマー由来の二次イオン強度の平均値ＩＢ１が大きい、積層体。
【選択図】なし
【解決手段】第１基材と、第１基材に隣接して設けられる第１位相差層と、を有する積層体であって、
第１基材が、転写用の仮支持体であり、
第１位相差層が、光配向性基を有さないポリマーを含有する、水平配向した液晶化合物を固定してなる層であり、
第１位相差層の第１基材側の表面から第１基材と反対側の表面に向かって、イオンビームを照射しながら飛行時間型二次イオン質量分析法で第１位相差層中におけるポリマーの二次イオン強度を測定した際に、空気側表層領域におけるポリマー由来の二次イオン強度の平均値ＩＡ１よりも、基材側表層領域におけるポリマー由来の二次イオン強度の平均値ＩＢ１が大きい、積層体。
【選択図】なし
【特許請求の範囲】
【請求項1】
第１基材と、前記第１基材に隣接して設けられる第１位相差層と、を有する積層体であって、
前記第１基材が、転写用の仮支持体であり、
前記第１位相差層が、光配向性基を有さないポリマーを含有する、水平配向した液晶化合物を固定してなる層であり、
前記第１位相差層の前記第１基材側の表面から前記第１基材と反対側の表面に向かって、イオンビームを照射しながら飛行時間型二次イオン質量分析法で前記第１位相差層中における前記ポリマーの二次イオン強度を測定した際に、
前記第１位相差層における前記第１基材側の表面から前記第１位相差層の全厚みの１０％に相当する深さ位置までの領域を基材側表層領域とし、
前記第１位相差層における前記第１基材と反対側の表面から前記第１位相差層の全厚みの１０％に相当する深さ位置までの領域を空気側表層領域とした場合、
前記空気側表層領域における前記ポリマー由来の二次イオン強度の平均値ＩＡ１よりも、前記基材側表層領域における前記ポリマー由来の二次イオン強度の平均値ＩＢ１が大きい、積層体。
前記第１基材が、転写用の仮支持体であり、
前記第１位相差層が、光配向性基を有さないポリマーを含有する、水平配向した液晶化合物を固定してなる層であり、
前記第１位相差層の前記第１基材側の表面から前記第１基材と反対側の表面に向かって、イオンビームを照射しながら飛行時間型二次イオン質量分析法で前記第１位相差層中における前記ポリマーの二次イオン強度を測定した際に、
前記第１位相差層における前記第１基材側の表面から前記第１位相差層の全厚みの１０％に相当する深さ位置までの領域を基材側表層領域とし、
前記第１位相差層における前記第１基材と反対側の表面から前記第１位相差層の全厚みの１０％に相当する深さ位置までの領域を空気側表層領域とした場合、
前記空気側表層領域における前記ポリマー由来の二次イオン強度の平均値ＩＡ１よりも、前記基材側表層領域における前記ポリマー由来の二次イオン強度の平均値ＩＢ１が大きい、積層体。
【請求項2】
前記第１基材と前記第１位相差層との間の剥離力Ｐ１が、０．１２Ｎ／２５ｍｍ以下である、請求項１に記載の積層体。
【請求項3】
前記ポリマーが、下記式（１）で表される繰り返し単位を有する、請求項１に記載の積層体。
前記式（１）中、
Ｒ１は、水素原子またはメチル基を表す。
Ｌ１は、単結合、または、－Ｏ－、－ＣＯ－、－ＮＲＬ－、置換基を有していてもよい２価の脂肪族基、置換基を有していてもよい２価の芳香族基、および、これらの組み合わせからなる群から選択される２価の連結基を表す。ＲＬは、水素原子または炭素数１～２０のアルキル基を表す。
Ｒ２は、炭素数１～２０のアルキル基を表す。ただし、炭素数２～２０のアルキル基である場合、アルキル基を構成する－ＣＨ２－の１個以上が－ＣＯＯ－または－ＣＯ－に置換されていてもよい。
【化1】
前記式（１）中、
Ｒ１は、水素原子またはメチル基を表す。
Ｌ１は、単結合、または、－Ｏ－、－ＣＯ－、－ＮＲＬ－、置換基を有していてもよい２価の脂肪族基、置換基を有していてもよい２価の芳香族基、および、これらの組み合わせからなる群から選択される２価の連結基を表す。ＲＬは、水素原子または炭素数１～２０のアルキル基を表す。
Ｒ２は、炭素数１～２０のアルキル基を表す。ただし、炭素数２～２０のアルキル基である場合、アルキル基を構成する－ＣＨ２－の１個以上が－ＣＯＯ－または－ＣＯ－に置換されていてもよい。
【請求項4】
前記ポリマーが、下記式（２）で表される繰り返し単位を有する、請求項１に記載の積層体。
前記式（２）中、
Ｒ３は、水素原子またはメチル基を表す。
Ｌ３は、単結合または２価の連結基を表す。
Ｘ１は、－ＯＨ、－ＣＯＯＨ、－ＰＯ３Ｈ、｛－ＯＰ（＝Ｏ）（ＯＨ）２｝、－ＣＯ２Ｍ１、－ＳＯ３Ｍ１、－ＮＴ１Ｔ２、オキサゾリン基、－ＮＧ１Ｇ２Ｇ３Ｅ１、または、ベタイン構造を有する基を表す。
Ｍ１は、アルカリ金属、アルカリ土類金属、Ｍｇ、Ａｌ、または、Ｑ１Ｑ２Ｑ３Ｑ４Ｎ＋を表す。Ｑ１、Ｑ２、Ｑ３およびＱ４は、それぞれ独立に、水素原子または炭素数１～２０のアルキル基を表す。
Ｔ１およびＴ２は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数１～２０のアルキル基、または、炭素数１～２０のアルコキシ基を表す。ただし、Ｔ１およびＴ２は、互いに結合して窒素原子を含む環構造を形成してもよい。
Ｇ１、Ｇ２およびＧ３は、それぞれ独立に、水素原子または炭素数１～２０のアルキル基を表す。
Ｅ１は、アニオンを表す。
【化2】
前記式（２）中、
Ｒ３は、水素原子またはメチル基を表す。
Ｌ３は、単結合または２価の連結基を表す。
Ｘ１は、－ＯＨ、－ＣＯＯＨ、－ＰＯ３Ｈ、｛－ＯＰ（＝Ｏ）（ＯＨ）２｝、－ＣＯ２Ｍ１、－ＳＯ３Ｍ１、－ＮＴ１Ｔ２、オキサゾリン基、－ＮＧ１Ｇ２Ｇ３Ｅ１、または、ベタイン構造を有する基を表す。
Ｍ１は、アルカリ金属、アルカリ土類金属、Ｍｇ、Ａｌ、または、Ｑ１Ｑ２Ｑ３Ｑ４Ｎ＋を表す。Ｑ１、Ｑ２、Ｑ３およびＱ４は、それぞれ独立に、水素原子または炭素数１～２０のアルキル基を表す。
Ｔ１およびＴ２は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数１～２０のアルキル基、または、炭素数１～２０のアルコキシ基を表す。ただし、Ｔ１およびＴ２は、互いに結合して窒素原子を含む環構造を形成してもよい。
Ｇ１、Ｇ２およびＧ３は、それぞれ独立に、水素原子または炭素数１～２０のアルキル基を表す。
Ｅ１は、アニオンを表す。
【請求項5】
前記式（２）中のＸ１が、－ＣＯＯＨ、－ＰＯ３Ｈ、｛－ＯＰ（＝Ｏ）（ＯＨ）２｝、－ＣＯ２Ｍ１、－ＳＯ３Ｍ１、－ＮＴ１Ｔ２、オキサゾリン基、－ＮＧ１Ｇ２Ｇ３Ｅ１、または、ベタイン構造を有する基を表す、請求項４に記載の積層体。
【請求項6】
前記式（２）中のＸ１が、－ＮＧ１Ｇ２Ｇ３Ｅ１を表す、請求項４に記載の積層体。
【請求項7】
前記式（２）中のＸ１が、ベタイン構造を有する基を表し、
前記ベタイン構造を有する基が、下記式（ＢＴ１）、（ＢＴ２）、（ＢＴ３）および（ＢＴ４）のいずれかで表される基を表す、請求項４に記載の積層体。
前記式（ＢＴ１）～（ＢＴ４）中、
Ｇ４～Ｇ１２は、それぞれ独立に、水素原子または炭素数１～２０のアルキル基を表す。
Ｌ５～Ｌ８は、それぞれ独立に、２価の連結基を表す。
＊は、結合位置を表す。
前記ベタイン構造を有する基が、下記式（ＢＴ１）、（ＢＴ２）、（ＢＴ３）および（ＢＴ４）のいずれかで表される基を表す、請求項４に記載の積層体。
【化3】
前記式（ＢＴ１）～（ＢＴ４）中、
Ｇ４～Ｇ１２は、それぞれ独立に、水素原子または炭素数１～２０のアルキル基を表す。
Ｌ５～Ｌ８は、それぞれ独立に、２価の連結基を表す。
＊は、結合位置を表す。
【請求項8】
前記ポリマーが、脂環構造を側鎖に含む繰り返し単位を有する、請求項１に記載の積層体。
【請求項9】
前記ポリマーが、フッ素原子を側鎖に含む繰り返し単位を有する、請求項１に記載の積層体。
【請求項10】
前記フッ素原子を側鎖に含む繰り返し単位が、下記式（ａ）で表される繰り返し単位である、請求項９に記載の積層体。
前記式（ａ）中、
Ｒａ１は、水素原子または炭素数１～２０のアルキル基を表す。
Ｒａ２は、少なくとも１個の水素原子がフッ素原子で置換された炭素数１～２０のアルキル基を表す。
【化4】
前記式（ａ）中、
Ｒａ１は、水素原子または炭素数１～２０のアルキル基を表す。
Ｒａ２は、少なくとも１個の水素原子がフッ素原子で置換された炭素数１～２０のアルキル基を表す。
【請求項11】
前記第１位相差層が、光配向化合物を含有する光学異方性層Ａであり、
更に、前記光学異方性層Ａにおける前記第１基材と反対側に光学異方性層Ｂを有し、
前記光学異方性層Ａの前記第１基材側の表面から前記光学異方性層Ｂ側の表面に向かって、イオンビームを照射しながら飛行時間型二次イオン質量分析法で前記光学異方性層Ａ中における前記光配向化合物の二次イオン強度を測定した際に、
前記光学異方性層Ａにおける前記第１基材側の表面から前記光学異方性層Ａの全厚みの１０％に相当する深さ位置までの領域を基材側表層領域とし、
前記光学異方性層Ａにおける前記光学異方性層Ｂ側の表面から前記光学異方性層Ａの全厚みの１０％に相当する深さ位置までの領域を光学異方性層Ｂ側表層領域とした場合、
前記基材側表層領域における前記光配向化合物由来の二次イオン強度の平均値ＩＢ２よりも、前記光学異方性層Ｂ側表層領域における前記光配向化合物由来の二次イオン強度の平均値ＩＡ２が大きい、請求項１に記載の積層体。
更に、前記光学異方性層Ａにおける前記第１基材と反対側に光学異方性層Ｂを有し、
前記光学異方性層Ａの前記第１基材側の表面から前記光学異方性層Ｂ側の表面に向かって、イオンビームを照射しながら飛行時間型二次イオン質量分析法で前記光学異方性層Ａ中における前記光配向化合物の二次イオン強度を測定した際に、
前記光学異方性層Ａにおける前記第１基材側の表面から前記光学異方性層Ａの全厚みの１０％に相当する深さ位置までの領域を基材側表層領域とし、
前記光学異方性層Ａにおける前記光学異方性層Ｂ側の表面から前記光学異方性層Ａの全厚みの１０％に相当する深さ位置までの領域を光学異方性層Ｂ側表層領域とした場合、
前記基材側表層領域における前記光配向化合物由来の二次イオン強度の平均値ＩＢ２よりも、前記光学異方性層Ｂ側表層領域における前記光配向化合物由来の二次イオン強度の平均値ＩＡ２が大きい、請求項１に記載の積層体。
【請求項12】
前記第１基材と、前記第１位相差層と、第２位相差層と、第２基材とをこの順に有し、
前記第１基材と前記第１位相差層との間の剥離力Ｐ１と、前記第２基材と前記第２位相差層との間の剥離力Ｐ２とが、下記式（Ａ）の関係を満たす、請求項１に記載の積層体。
式（Ａ） Ｐ１＜Ｐ２
前記第１基材と前記第１位相差層との間の剥離力Ｐ１と、前記第２基材と前記第２位相差層との間の剥離力Ｐ２とが、下記式（Ａ）の関係を満たす、請求項１に記載の積層体。
式（Ａ） Ｐ１＜Ｐ２
【請求項13】
請求項１～１１のいずれか１項に記載の積層体から前記第１基材を剥離してなる、光学フィルム。
【請求項14】
請求項１２に記載の積層体から前記第１基材および前記第２基材を剥離してなる、光学フィルム。
【請求項15】
請求項１３に記載の光学フィルムを有する、偏光板。
【請求項16】
請求項１４に記載の光学フィルムを有する、偏光板。
【請求項17】
請求項１５に記載の偏光板を有する、画像表示装置。
【請求項18】
請求項１６に記載の偏光板を有する、画像表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、積層体、光学フィルム、偏光板および画像表示装置に関する。
【背景技術】
【0002】
光学補償シートおよび位相差フィルムなどの光学フィルムは、画像着色解消および視野角拡大などの観点から、様々な画像表示装置で用いられている。
光学フィルムとしては延伸複屈折フィルムが使用されていたが、近年、延伸複屈折フィルムに代えて、液晶化合物を用いて形成された液晶層（位相差層）を使用することが提案されている。
例えば、特許文献１には、透明基材上に光配向層と液晶層とをこの順に含む液晶フィルムが記載されている。
光学フィルムとしては延伸複屈折フィルムが使用されていたが、近年、延伸複屈折フィルムに代えて、液晶化合物を用いて形成された液晶層（位相差層）を使用することが提案されている。
例えば、特許文献１には、透明基材上に光配向層と液晶層とをこの順に含む液晶フィルムが記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0003】
【特許文献1】国際公開第２０２０／０５４７２０号
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0004】
本発明者らは、特許文献１などに記載された、基材および液晶層を有する公知の積層体について検討したところ、薄膜化や転写等の観点から基材を剥離しようとすると、剥離力が高く、剥離することが困難となる場合があることを明らかとした。
また、剥離性を調整する観点から液晶層の処方や形成方法を変更すると、液晶配向性が劣る場合があることも明らかとなった。
また、剥離性を調整する観点から液晶層の処方や形成方法を変更すると、液晶配向性が劣る場合があることも明らかとなった。
【0005】
そこで、本発明は、基材の剥離性および液晶配向性のいずれにも優れた積層体、光学フィルム、偏光板および画像表示装置を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【0006】
本発明者らは、上記課題を達成すべく鋭意検討した結果、第１基材と、第１基材に隣接して設けられる第１位相差層とを有する積層体において、第１基材が、転写用の仮支持体であり、第１位相差層が、光配向性基を有さないポリマーを含有する、水平配向した液晶化合物を固定してなる層であり、かつ、光配向性基を有さないポリマーが第１基材側表面に偏在していることにより、基材の剥離性および液晶配向性がいずれも良好となることを見出し、本発明を完成させた。
すなわち、本発明者らは、以下の構成により上記課題を解決できることを見出した。
すなわち、本発明者らは、以下の構成により上記課題を解決できることを見出した。
【0007】
［１］ 第１基材と、第１基材に隣接して設けられる第１位相差層と、を有する積層体であって、
第１基材が、転写用の仮支持体であり、
第１位相差層が、光配向性基を有さないポリマーを含有する、水平配向した液晶化合物を固定してなる層であり、
第１位相差層の第１基材側の表面から第１基材と反対側の表面に向かって、イオンビームを照射しながら飛行時間型二次イオン質量分析法で第１位相差層中におけるポリマーの二次イオン強度を測定した際に、
第１位相差層における第１基材側の表面から第１位相差層の全厚みの１０％に相当する深さ位置までの領域を基材側表層領域とし、
第１位相差層における第１基材と反対側の表面から第１位相差層の全厚みの１０％に相当する深さ位置までの領域を空気側表層領域とした場合、
空気側表層領域におけるポリマー由来の二次イオン強度の平均値ＩＡ１よりも、基材側表層領域におけるポリマー由来の二次イオン強度の平均値ＩＢ１が大きい、積層体。
［２］ 第１基材と第１位相差層との間の剥離力Ｐ１が、０．１２Ｎ／２５ｍｍ以下である、［１］に記載の積層体。
［３］ ポリマーが、後述する式（１）で表される繰り返し単位を有する、［１］または［２］に記載の積層体。
［４］ ポリマーが、後述する式（２）で表される繰り返し単位を有する、［１］または［２］に記載の積層体。
［５］ 後述する式（２）中のＸ１が、－ＣＯＯＨ、－ＰＯ３Ｈ、｛－ＯＰ（＝Ｏ）（ＯＨ）２｝、－ＣＯ２Ｍ１、－ＳＯ３Ｍ１、－ＮＴ１Ｔ２、オキサゾリン基、－ＮＧ１Ｇ２Ｇ３Ｅ１、または、ベタイン構造を有する基を表す、［４］に記載の積層体。
［６］ 後述する式（２）中のＸ１が、－ＮＧ１Ｇ２Ｇ３Ｅ１を表す、［４］に記載の積層体。
［７］ 後述する式（２）中のＸ１が、ベタイン構造を有する基を表し、
ベタイン構造を有する基が、後述する式（ＢＴ１）、（ＢＴ２）、（ＢＴ３）および（ＢＴ４）のいずれかで表される基を表す、［４］に記載の積層体。
［８］ ポリマーが、脂環構造を側鎖に含む繰り返し単位を有する、［１］～［７］のいずれかに記載の積層体。
［９］ ポリマーが、フッ素原子を側鎖に含む繰り返し単位を有する、［１］～［７］のいずれかに記載の積層体。
［１０］ フッ素原子を側鎖に含む繰り返し単位が、後述する式（ａ）で表される繰り返し単位である、［９］に記載の積層体。
［１１］ 第１位相差層が、光配向化合物を含有する光学異方性層Ａであり、
更に、光学異方性層Ａにおける第１基材と反対側に光学異方性層Ｂを有し、
光学異方性層Ａの第１基材側の表面から光学異方性層Ｂ側の表面に向かって、イオンビームを照射しながら飛行時間型二次イオン質量分析法で光学異方性層Ａ中における光配向化合物の二次イオン強度を測定した際に、
光学異方性層Ａにおける第１基材側の表面から光学異方性層Ａの全厚みの１０％に相当する深さ位置までの領域を基材側表層領域とし、
光学異方性層Ａにおける光学異方性層Ｂ側の表面から光学異方性層Ａの全厚みの１０％に相当する深さ位置までの領域を光学異方性層Ｂ側表層領域とした場合、
基材側表層領域における光配向化合物由来の二次イオン強度の平均値ＩＢ２よりも、光学異方性層Ｂ側表層領域における光配向化合物由来の二次イオン強度の平均値ＩＡ２が大きい、［１］に記載の積層体。
［１２］ 第１基材と、第１位相差層と、第２位相差層と、第２基材とをこの順に有し、
第１基材と第１位相差層との間の剥離力Ｐ１と、第２基材と第２位相差層との間の剥離力Ｐ２とが、下記式（Ａ）の関係を満たす、［１］～［１１］のいずれかに記載の積層体。
式（Ａ） Ｐ１＜Ｐ２
［１３］ ［１］～［１１］のいずれかに記載の積層体から第１基材を剥離してなる、光学フィルム。
［１４］ ［１２］に記載の積層体から第１基材および第２基材を剥離してなる、光学フィルム。
［１５］ ［１３］に記載の光学フィルムを有する、偏光板。
［１６］ ［１４］に記載の光学フィルムを有する、偏光板。
［１７］ ［１５］に記載の偏光板を有する、画像表示装置。
［１８］ ［１６］に記載の偏光板を有する、画像表示装置。
第１基材が、転写用の仮支持体であり、
第１位相差層が、光配向性基を有さないポリマーを含有する、水平配向した液晶化合物を固定してなる層であり、
第１位相差層の第１基材側の表面から第１基材と反対側の表面に向かって、イオンビームを照射しながら飛行時間型二次イオン質量分析法で第１位相差層中におけるポリマーの二次イオン強度を測定した際に、
第１位相差層における第１基材側の表面から第１位相差層の全厚みの１０％に相当する深さ位置までの領域を基材側表層領域とし、
第１位相差層における第１基材と反対側の表面から第１位相差層の全厚みの１０％に相当する深さ位置までの領域を空気側表層領域とした場合、
空気側表層領域におけるポリマー由来の二次イオン強度の平均値ＩＡ１よりも、基材側表層領域におけるポリマー由来の二次イオン強度の平均値ＩＢ１が大きい、積層体。
［２］ 第１基材と第１位相差層との間の剥離力Ｐ１が、０．１２Ｎ／２５ｍｍ以下である、［１］に記載の積層体。
［３］ ポリマーが、後述する式（１）で表される繰り返し単位を有する、［１］または［２］に記載の積層体。
［４］ ポリマーが、後述する式（２）で表される繰り返し単位を有する、［１］または［２］に記載の積層体。
［５］ 後述する式（２）中のＸ１が、－ＣＯＯＨ、－ＰＯ３Ｈ、｛－ＯＰ（＝Ｏ）（ＯＨ）２｝、－ＣＯ２Ｍ１、－ＳＯ３Ｍ１、－ＮＴ１Ｔ２、オキサゾリン基、－ＮＧ１Ｇ２Ｇ３Ｅ１、または、ベタイン構造を有する基を表す、［４］に記載の積層体。
［６］ 後述する式（２）中のＸ１が、－ＮＧ１Ｇ２Ｇ３Ｅ１を表す、［４］に記載の積層体。
［７］ 後述する式（２）中のＸ１が、ベタイン構造を有する基を表し、
ベタイン構造を有する基が、後述する式（ＢＴ１）、（ＢＴ２）、（ＢＴ３）および（ＢＴ４）のいずれかで表される基を表す、［４］に記載の積層体。
［８］ ポリマーが、脂環構造を側鎖に含む繰り返し単位を有する、［１］～［７］のいずれかに記載の積層体。
［９］ ポリマーが、フッ素原子を側鎖に含む繰り返し単位を有する、［１］～［７］のいずれかに記載の積層体。
［１０］ フッ素原子を側鎖に含む繰り返し単位が、後述する式（ａ）で表される繰り返し単位である、［９］に記載の積層体。
［１１］ 第１位相差層が、光配向化合物を含有する光学異方性層Ａであり、
更に、光学異方性層Ａにおける第１基材と反対側に光学異方性層Ｂを有し、
光学異方性層Ａの第１基材側の表面から光学異方性層Ｂ側の表面に向かって、イオンビームを照射しながら飛行時間型二次イオン質量分析法で光学異方性層Ａ中における光配向化合物の二次イオン強度を測定した際に、
光学異方性層Ａにおける第１基材側の表面から光学異方性層Ａの全厚みの１０％に相当する深さ位置までの領域を基材側表層領域とし、
光学異方性層Ａにおける光学異方性層Ｂ側の表面から光学異方性層Ａの全厚みの１０％に相当する深さ位置までの領域を光学異方性層Ｂ側表層領域とした場合、
基材側表層領域における光配向化合物由来の二次イオン強度の平均値ＩＢ２よりも、光学異方性層Ｂ側表層領域における光配向化合物由来の二次イオン強度の平均値ＩＡ２が大きい、［１］に記載の積層体。
［１２］ 第１基材と、第１位相差層と、第２位相差層と、第２基材とをこの順に有し、
第１基材と第１位相差層との間の剥離力Ｐ１と、第２基材と第２位相差層との間の剥離力Ｐ２とが、下記式（Ａ）の関係を満たす、［１］～［１１］のいずれかに記載の積層体。
式（Ａ） Ｐ１＜Ｐ２
［１３］ ［１］～［１１］のいずれかに記載の積層体から第１基材を剥離してなる、光学フィルム。
［１４］ ［１２］に記載の積層体から第１基材および第２基材を剥離してなる、光学フィルム。
［１５］ ［１３］に記載の光学フィルムを有する、偏光板。
［１６］ ［１４］に記載の光学フィルムを有する、偏光板。
［１７］ ［１５］に記載の偏光板を有する、画像表示装置。
［１８］ ［１６］に記載の偏光板を有する、画像表示装置。
【発明の効果】
【0008】
本発明によれば、基材の剥離性および液晶配向性のいずれにも優れた積層体、光学フィルム、偏光板および画像表示装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【0009】
【発明を実施するための形態】
【0010】
以下、本発明について詳細に説明する。
以下に記載する構成要件の説明は、本発明の代表的な実施態様に基づいてなされることがあるが、本発明はそのような実施態様に制限されない。
なお、本明細書において、「～」を用いて表される数値範囲は、「～」の前後に記載される数値を下限値および上限値として含む範囲を意味する。
また、本明細書において、各成分は、各成分に該当する物質を１種単独で用いても、２種以上を併用してもよい。ここで、各成分について２種以上の物質を併用する場合、その成分についての含有量とは、特段の断りが無い限り、併用した物質の合計の含有量を指す。
また、本明細書において、「（メタ）アクリル」は、「アクリル」または「メタクリル」を表す表記である。
以下に記載する構成要件の説明は、本発明の代表的な実施態様に基づいてなされることがあるが、本発明はそのような実施態様に制限されない。
なお、本明細書において、「～」を用いて表される数値範囲は、「～」の前後に記載される数値を下限値および上限値として含む範囲を意味する。
また、本明細書において、各成分は、各成分に該当する物質を１種単独で用いても、２種以上を併用してもよい。ここで、各成分について２種以上の物質を併用する場合、その成分についての含有量とは、特段の断りが無い限り、併用した物質の合計の含有量を指す。
また、本明細書において、「（メタ）アクリル」は、「アクリル」または「メタクリル」を表す表記である。
【0011】
本明細書において、Ｒｅ（λ）およびＲｔｈ（λ）は、それぞれ、波長λにおける面内のレタデーションおよび厚み方向のレタデーションを表す。なお、波長λは、特に記載がないときは、５５０ｎｍとする。
また、本明細書において、Ｒｅ（λ）およびＲｔｈ（λ）は、ＡｘｏＳｃａｎ（Ａｘｏｍｅｔｒｉｃｓ社製）において、波長λで測定した値である。
具体的には、ＡｘｏＳｃａｎにて、平均屈折率（（ｎｘ＋ｎｙ＋ｎｚ）／３）と膜厚（ｄ（μｍ））を入力することにより、
面内遅相軸方向（°）
Ｒｅ（λ）＝Ｒ０（λ）
Ｒｔｈ（λ）＝（（ｎｘ＋ｎｙ）／２－ｎｚ）×ｄ
が算出される。
なお、Ｒ０（λ）は、ＡｘｏＳｃａｎで算出される数値として表示されるものであるが、Ｒｅ（λ）を意味している。
また、本明細書において、Ｒｅ（λ）およびＲｔｈ（λ）は、ＡｘｏＳｃａｎ（Ａｘｏｍｅｔｒｉｃｓ社製）において、波長λで測定した値である。
具体的には、ＡｘｏＳｃａｎにて、平均屈折率（（ｎｘ＋ｎｙ＋ｎｚ）／３）と膜厚（ｄ（μｍ））を入力することにより、
面内遅相軸方向（°）
Ｒｅ（λ）＝Ｒ０（λ）
Ｒｔｈ（λ）＝（（ｎｘ＋ｎｙ）／２－ｎｚ）×ｄ
が算出される。
なお、Ｒ０（λ）は、ＡｘｏＳｃａｎで算出される数値として表示されるものであるが、Ｒｅ（λ）を意味している。
【0012】
本明細書において、屈折率ｎｘ、ｎｙ、および、ｎｚは、アッベ屈折計（ＮＡＲ－４Ｔ、アタゴ（株）製）を使用し、光源にナトリウムランプ（λ＝５８９ｎｍ）を用いて測定する。また、波長依存性を測定する場合は、多波長アッベ屈折計ＤＲ－Ｍ２（アタゴ（株）製）にて、干渉フィルターとの組み合わせで測定できる。
また、ポリマーハンドブック（ＪＯＨＮ ＷＩＬＥＹ＆ＳＯＮＳ，ＩＮＣ）、および、各種光学フィルムのカタログの値を使用できる。主な光学フィルムの平均屈折率の値を以下に例示する：セルロースアシレート（１．４８）、シクロオレフィンポリマー（１．５２）、ポリカーボネート（１．５９）、ポリメチルメタクリレート（１．４９）、および、ポリスチレン（１．５９）。
また、ポリマーハンドブック（ＪＯＨＮ ＷＩＬＥＹ＆ＳＯＮＳ，ＩＮＣ）、および、各種光学フィルムのカタログの値を使用できる。主な光学フィルムの平均屈折率の値を以下に例示する：セルロースアシレート（１．４８）、シクロオレフィンポリマー（１．５２）、ポリカーボネート（１．５９）、ポリメチルメタクリレート（１．４９）、および、ポリスチレン（１．５９）。
【0013】
本明細書中における「光」とは、活性光線または放射線を意味し、例えば、水銀灯の輝線スペクトル、エキシマレーザーに代表される遠紫外線、極紫外線（ＥＵＶ光：Extreme Ultraviolet）、Ｘ線、紫外線、および、電子線（ＥＢ：Electron Beam）などを意味する。なかでも、紫外線が好ましい。
【0014】
本明細書において表記される２価の基（例えば、－ＣＯＯ－）の結合方向は特に限定されず、例えば、「Ｌ１－Ｌ２－Ｌ３」の結合においてＬ２が－ＣＯ－Ｏ－である場合、Ｌ１側に結合している位置を＊１、Ｌ３側に結合している位置を＊２とすると、Ｌ２は＊１－ＣＯ－Ｏ－＊２であってもよく、＊１－Ｏ－ＣＯ－＊２であってもよい。
【0015】
［積層体］
本発明の積層体は、第１基材と、第１基材に隣接して設けられる第１位相差層と、を有する。
また、第１基材は、転写用の仮支持体であり、第１位相差層は、光配向性基を有さないポリマー（以下、「特定ポリマー」とも略す。）を含有する、水平配向した液晶化合物を固定してなる層である。
更に、第１位相差層の第１基材側の表面から第１基材と反対側の表面に向かって、イオンビームを照射しながら飛行時間型二次イオン質量分析法（Time-of-Flight Secondary Ion Mass Spectrometry：ＴＯＦ－ＳＩＭＳ）で第１位相差層中における特定ポリマーの二次イオン強度を測定した際に、第１位相差層における第１基材側の表面から第１位相差層の全厚みの１０％に相当する深さ位置までの領域を基材側表層領域とし、第１位相差層における第１基材と反対側の表面から第１位相差層の全厚みの１０％に相当する深さ位置までの領域を空気側表層領域とした場合、空気側表層領域における特定ポリマー由来の二次イオン強度の平均値ＩＡ１よりも、基材側表層領域における特定ポリマー由来の二次イオン強度の平均値ＩＢ１が大きい。
本発明の積層体は、第１基材と、第１基材に隣接して設けられる第１位相差層と、を有する。
また、第１基材は、転写用の仮支持体であり、第１位相差層は、光配向性基を有さないポリマー（以下、「特定ポリマー」とも略す。）を含有する、水平配向した液晶化合物を固定してなる層である。
更に、第１位相差層の第１基材側の表面から第１基材と反対側の表面に向かって、イオンビームを照射しながら飛行時間型二次イオン質量分析法（Time-of-Flight Secondary Ion Mass Spectrometry：ＴＯＦ－ＳＩＭＳ）で第１位相差層中における特定ポリマーの二次イオン強度を測定した際に、第１位相差層における第１基材側の表面から第１位相差層の全厚みの１０％に相当する深さ位置までの領域を基材側表層領域とし、第１位相差層における第１基材と反対側の表面から第１位相差層の全厚みの１０％に相当する深さ位置までの領域を空気側表層領域とした場合、空気側表層領域における特定ポリマー由来の二次イオン強度の平均値ＩＡ１よりも、基材側表層領域における特定ポリマー由来の二次イオン強度の平均値ＩＢ１が大きい。
【0016】
ここで、ＴＯＦ－ＳＩＭＳで用いるイオンビームの種類としては、アルゴンガスクラスターイオン銃（Ａｒ－ＧＣＩＢ銃）によるイオンビームが挙げられる。
また、ＴＯＦ－ＳＩＭＳは、第１位相差層の深さ方向のプロファイルが得られればよく、積層体中の第１基材の表面からイオンビームを照射しながら第１位相差層側に向かって、第１基材および第１位相差層の両方の深さ方向の分析を行ってもよい。
また、ＴＯＦ－ＳＩＭＳは、第１位相差層の深さ方向のプロファイルが得られればよく、積層体中の第１基材の表面からイオンビームを照射しながら第１位相差層側に向かって、第１基材および第１位相差層の両方の深さ方向の分析を行ってもよい。
【0017】
以下の説明において、第１位相差層の空気側表層領域における特定ポリマー由来の二次イオン強度の平均値ＩＡ１よりも、第１位相差層の基材側表層領域における特定ポリマー由来の二次イオン強度の平均値ＩＢ１が大きいことを、単に、「特定ポリマーが第１基材側表面に偏在している」とも略す。
また、第１位相差層が、特定ポリマーを２種以上含有している場合は、少なくとも１種の特定ポリマーが第１基材側表面に偏在していればよい。
また、第１位相差層が、特定ポリマーを２種以上含有している場合は、少なくとも１種の特定ポリマーが第１基材側表面に偏在していればよい。
【0018】
本発明においては、上述した通り、第１基材と、第１基材に隣接して設けられる第１位相差層とを有する積層体において、第１基材が転写用の仮支持体であり、第１位相差層が、特定ポリマーを少なくとも１種含有する、水平配向した液晶化合物を固定してなる層であり、特定ポリマーが第１基材側表面に偏在していることにより、基材の剥離性および液晶配向性がいずれも良好となる。
これらの効果が発現する理由は、詳細には明らかではないが、本発明者らは以下のように推測している。
すなわち、特定ポリマーが第１基材側表面に偏在していることにより、第１基材（転写用の支持体）との剥離力が小さくなり、また、特定ポリマーが光配向性基を有していないことにより、第１位相差層の形成時に液晶化合物の配向（水平配向）に影響を与えないため、基材の剥離性および液晶配向性がいずれも良好になったと考えられる。
これらの効果が発現する理由は、詳細には明らかではないが、本発明者らは以下のように推測している。
すなわち、特定ポリマーが第１基材側表面に偏在していることにより、第１基材（転写用の支持体）との剥離力が小さくなり、また、特定ポリマーが光配向性基を有していないことにより、第１位相差層の形成時に液晶化合物の配向（水平配向）に影響を与えないため、基材の剥離性および液晶配向性がいずれも良好になったと考えられる。
【0019】
図１～図３に、本発明の積層体の一例を示す。
図１に示す通り、積層体１０Ａは、第１基材１２と、第１位相差層１４とを有する。第１位相差層１４は特定ポリマーを含有し、特定ポリマーは第１基材１２側の表面に偏在している。
図２に示す通り、積層体１０Ｂは、第１基材１２と、第１位相差層１４としての光学異方性層Ａと、第１位相差層１４とは別の光学異方性層Ｂ１５とを有していてもよい。第１位相差層１４（光学異方性層Ａ）は、特定ポリマーだけでなく、後述する光配向化合物を含有してもよい。その場合、特定ポリマーは第１基材１２側の表面に偏在しており、光配向化合物は光学異方性層Ｂ１５側の表面に偏在していることが好ましい。
図３に示すように、積層体１０Ｃは、第１基材１２と、第１位相差層１４と、第２位相差層１６と、第２基材１８とをこの順に有する。
図３において、第１基材１２と第１位相差層１４とは直接接しており、第２位相差層１６と第２基材１８とも直接接している。
また、図３において、第１位相差層１４と第２位相差層１６とは直接接しているが、後述するように、積層体は、第１位相差層と第２位相差層との間に、接着剤層または粘着剤層を有していてもよい。
図１に示す通り、積層体１０Ａは、第１基材１２と、第１位相差層１４とを有する。第１位相差層１４は特定ポリマーを含有し、特定ポリマーは第１基材１２側の表面に偏在している。
図２に示す通り、積層体１０Ｂは、第１基材１２と、第１位相差層１４としての光学異方性層Ａと、第１位相差層１４とは別の光学異方性層Ｂ１５とを有していてもよい。第１位相差層１４（光学異方性層Ａ）は、特定ポリマーだけでなく、後述する光配向化合物を含有してもよい。その場合、特定ポリマーは第１基材１２側の表面に偏在しており、光配向化合物は光学異方性層Ｂ１５側の表面に偏在していることが好ましい。
図３に示すように、積層体１０Ｃは、第１基材１２と、第１位相差層１４と、第２位相差層１６と、第２基材１８とをこの順に有する。
図３において、第１基材１２と第１位相差層１４とは直接接しており、第２位相差層１６と第２基材１８とも直接接している。
また、図３において、第１位相差層１４と第２位相差層１６とは直接接しているが、後述するように、積層体は、第１位相差層と第２位相差層との間に、接着剤層または粘着剤層を有していてもよい。
【0020】
積層体１０Ａ～１０Ｃは、位相差層を被貼合物（例えば、偏光子）に貼合するために用いられる。例えば、積層体１０Ｃを用いた貼合の手順としては、まず、図４に示すように、第１基材１２が積層体１０Ｃから剥離される。その際、第２基材１８が剥離されないことが好ましい。次に、図５に示すように、被貼合物２０に、第１基材１２を剥離して得られた積層体中の第１位相差層１４側を貼合する。その後、図６に示すように、第２基材１８を剥離することにより、第１位相差層１４および第２位相差層１６が被貼合物２０に貼合される。
上記手順に示すように、第１基材１２はいわゆる軽剥離基材として、第２基材１８はいわゆる重剥離基材として機能する。
本発明においては、第１位相差層に含まれる特定ポリマーが第１基材側表面に偏在していることにより、上記図４～図６で示すような、基材の剥離を所定の順で、容易に（言い換えれば、剥離性良く）実施できる。
上記手順に示すように、第１基材１２はいわゆる軽剥離基材として、第２基材１８はいわゆる重剥離基材として機能する。
本発明においては、第１位相差層に含まれる特定ポリマーが第１基材側表面に偏在していることにより、上記図４～図６で示すような、基材の剥離を所定の順で、容易に（言い換えれば、剥離性良く）実施できる。
【0021】
本発明においては、基材の剥離性がより向上する理由から、第１基材と第１位相差層との間の剥離力Ｐ１が、０．１２Ｎ／２５ｍｍ以下であることが好ましく、０．０９Ｎ／２５ｍｍ以下であることがより好ましく、０．０５Ｎ／２５ｍｍ以下であることが更に好ましい。なお、剥離力Ｐ１の下限値は特に限定されないが、０．０１Ｎ／２５ｍｍ以上であることが好ましい。
【0022】
ここで、剥離力Ｐ１は、いわゆる引っ張り試験機を用いた１８０°剥離試験により算出できる。
上記剥離力Ｐ１の算出方法の一例としては、積層体中の第１基材と第１位相差層との部分からなる評価サンプルを別途用意して、剥離力Ｐ１を算出してもよい。より具体的には、積層体中の第１基材と第１位相差層との部分からなる評価サンプルを別途用意して、上記評価サンプルの第１位相差層側の表面をコロナ処理して、コロナ処理された第１位相差層の表面に紫外線硬化型接着剤組成物を塗布して、塗膜を形成する。次に、形成された塗膜と基板（例えば、偏光子）とが接するように、基板と評価サンプルとを貼合し、紫外線を照射して塗膜を硬化する。次に、得られた基板付き評価サンプルの基板側の表面に粘着剤層を配置し、得られた粘着層付き評価サンプルから所定の大きさ（幅２５ｍｍ×長さ１５０ｍｍ）を切り出し、切り出した評価サンプルの粘着剤層をガラス基板に貼合する。その後、ガラス基板に貼合された評価サンプルの第１基材側の表面に、剥離用テープ（幅２５ｍｍ×長さ１８０ｍｍ）を貼合する。その後、引っ張り試験機を用いて、剥離用テープの一端を把持して、温度２５℃、相対湿度６０％の雰囲気下にて、クロスヘッド速度５ｍ／分で、剥離角度１８０°である剥離試験を行うことにより、第１基材と第１位相差層との間の剥離力Ｐ１を算出する。なお、上記剥離力Ｐ１は、剥離用テープを引き起こして第１基材が第１位相差層上から剥がし終わるまでの間で、剥離力が定常状態になったときの剥離力に該当する。
なお、上記では、評価サンプルを別途作製する方法について述べたが、積層体の第１基材上に上記手順により剥離用テープを貼合して、上記１８０°試験を実施することにより、剥離力Ｐ１を算出してもよい。
上記剥離力Ｐ１の算出方法の一例としては、積層体中の第１基材と第１位相差層との部分からなる評価サンプルを別途用意して、剥離力Ｐ１を算出してもよい。より具体的には、積層体中の第１基材と第１位相差層との部分からなる評価サンプルを別途用意して、上記評価サンプルの第１位相差層側の表面をコロナ処理して、コロナ処理された第１位相差層の表面に紫外線硬化型接着剤組成物を塗布して、塗膜を形成する。次に、形成された塗膜と基板（例えば、偏光子）とが接するように、基板と評価サンプルとを貼合し、紫外線を照射して塗膜を硬化する。次に、得られた基板付き評価サンプルの基板側の表面に粘着剤層を配置し、得られた粘着層付き評価サンプルから所定の大きさ（幅２５ｍｍ×長さ１５０ｍｍ）を切り出し、切り出した評価サンプルの粘着剤層をガラス基板に貼合する。その後、ガラス基板に貼合された評価サンプルの第１基材側の表面に、剥離用テープ（幅２５ｍｍ×長さ１８０ｍｍ）を貼合する。その後、引っ張り試験機を用いて、剥離用テープの一端を把持して、温度２５℃、相対湿度６０％の雰囲気下にて、クロスヘッド速度５ｍ／分で、剥離角度１８０°である剥離試験を行うことにより、第１基材と第１位相差層との間の剥離力Ｐ１を算出する。なお、上記剥離力Ｐ１は、剥離用テープを引き起こして第１基材が第１位相差層上から剥がし終わるまでの間で、剥離力が定常状態になったときの剥離力に該当する。
なお、上記では、評価サンプルを別途作製する方法について述べたが、積層体の第１基材上に上記手順により剥離用テープを貼合して、上記１８０°試験を実施することにより、剥離力Ｐ１を算出してもよい。
【0023】
以下、積層体を構成する各部材について詳述する。
【0024】
〔第１基材〕
第１基材は、転写用の仮支持体（剥離性支持体）であるが、剥離する前段階においては第１位相差層を支持する部材である。
第１基材は、有機材料で構成されていることが好ましく、樹脂基材がより好ましい。
樹脂基材の材料としては、セルロース系ポリマー；ポリメチルメタクリレート、および、ラクトン環含有重合体であるアクリル酸エステル重合体などのアクリル系ポリマー；熱可塑性ノルボルネン系ポリマー；ポリカーボネート系ポリマー；ポリエチレンテレフタレート、および、ポリエチレンナフタレートなどのポリエステル系ポリマー；ポリスチレン、および、アクリロニトリルスチレン共重合体などのスチレン系ポリマー；ポリエチレン、ポリプロピレン、および、エチレン・プロピレン共重合体などのポリオレフィン系ポリマー；塩化ビニル系ポリマー；ナイロン、および、芳香族ポリアミドなどのアミド系ポリマー；イミド系ポリマー；スルホン系ポリマー；ポリエーテルスルホン系ポリマー；ポリエーテルエーテルケトン系ポリマー；ポリフェニレンスルフィド系ポリマー；塩化ビニリデン系ポリマー；ビニルアルコール系ポリマー；ビニルブチラール系ポリマー；アリレート系ポリマー；ポリオキシメチレン系ポリマー；エポキシ系ポリマー；またはこれらのポリマーを混合したポリマーが挙げられる。
なかでも、樹脂基材の材料としては、トリアセチルセルロース、ポリエチレンテレフタレート、または、脂環式構造を有するポリマーが好ましく、トリアセチルセルロースがより好ましい。
第１基材は、転写用の仮支持体（剥離性支持体）であるが、剥離する前段階においては第１位相差層を支持する部材である。
第１基材は、有機材料で構成されていることが好ましく、樹脂基材がより好ましい。
樹脂基材の材料としては、セルロース系ポリマー；ポリメチルメタクリレート、および、ラクトン環含有重合体であるアクリル酸エステル重合体などのアクリル系ポリマー；熱可塑性ノルボルネン系ポリマー；ポリカーボネート系ポリマー；ポリエチレンテレフタレート、および、ポリエチレンナフタレートなどのポリエステル系ポリマー；ポリスチレン、および、アクリロニトリルスチレン共重合体などのスチレン系ポリマー；ポリエチレン、ポリプロピレン、および、エチレン・プロピレン共重合体などのポリオレフィン系ポリマー；塩化ビニル系ポリマー；ナイロン、および、芳香族ポリアミドなどのアミド系ポリマー；イミド系ポリマー；スルホン系ポリマー；ポリエーテルスルホン系ポリマー；ポリエーテルエーテルケトン系ポリマー；ポリフェニレンスルフィド系ポリマー；塩化ビニリデン系ポリマー；ビニルアルコール系ポリマー；ビニルブチラール系ポリマー；アリレート系ポリマー；ポリオキシメチレン系ポリマー；エポキシ系ポリマー；またはこれらのポリマーを混合したポリマーが挙げられる。
なかでも、樹脂基材の材料としては、トリアセチルセルロース、ポリエチレンテレフタレート、または、脂環式構造を有するポリマーが好ましく、トリアセチルセルロースがより好ましい。
【0025】
第１基材には、種々の添加剤（例えば、光学的異方性調整剤、波長分散調整剤、微粒子、可塑剤、紫外線防止剤、劣化防止剤、剥離剤、など）が含まれていてもよい。
【0026】
第１基材は、単層構造であっても、複層構造であってもよい。
第１基材が複層構造である場合、支持体と、配向膜とを有する構造であってもよい。
支持体としては、上述した樹脂基材が挙げられる。
配向膜は、有機化合物（好ましくはポリマー）のラビング処理、無機化合物の斜方蒸着、マイクログルーブを有する層の形成、または、ラングミュア・ブロジェット法（ＬＢ膜）による有機化合物（例、ω－トリコサン酸、ジオクタデシルメチルアンモニウムクロライド、ステアリル酸メチル）の累積のような手段で形成できる。
配向膜としては、光配向膜も挙げられる。
配向膜の厚さは、配向機能を発揮することができれば特に制限されないが、０．０１～５．０μｍが好ましく、０．０５～３．０μｍがより好ましく、０．５～１．０μｍがさらに好ましい。
配向膜は剥離可能であってもよい。
第１基材が複層構造である場合、支持体と、配向膜とを有する構造であってもよい。
支持体としては、上述した樹脂基材が挙げられる。
配向膜は、有機化合物（好ましくはポリマー）のラビング処理、無機化合物の斜方蒸着、マイクログルーブを有する層の形成、または、ラングミュア・ブロジェット法（ＬＢ膜）による有機化合物（例、ω－トリコサン酸、ジオクタデシルメチルアンモニウムクロライド、ステアリル酸メチル）の累積のような手段で形成できる。
配向膜としては、光配向膜も挙げられる。
配向膜の厚さは、配向機能を発揮することができれば特に制限されないが、０．０１～５．０μｍが好ましく、０．０５～３．０μｍがより好ましく、０．５～１．０μｍがさらに好ましい。
配向膜は剥離可能であってもよい。
【0027】
第１基材の厚みは特に限定されず、５～２００μｍが好ましく、１０～１００μｍがより好ましく、２０～９０μｍがさらに好ましい。
【0028】
〔第１位相差層〕
第１位相差層は、上記第１基材に隣接して設けられる層であり、水平配向した液晶化合物を固定してなる層である。
ここで、「水平配向」とは、液晶化合物が棒状液晶化合物である場合、第１基材の表面と液晶分子のダイレクターとのなす角が平行になる配向（ホモジニアス配向）をいい、液晶化合物が円盤状液晶化合物である場合、第１基材の表面と円盤面とが平行になる配向をいう。なお、厳密に水平（平行）であることを要求するものではなく、本発明が属する技術分野において許容される誤差の範囲を含むものとする。例えば、厳密な角度±１０°の範囲内であることなどを意味し、厳密な角度との誤差は、５°以下であることが好ましく、３°以下であることがより好ましい。
また、「固定してなる」状態は、液晶化合物の配向（水平配向）が保持された状態である。具体的には、通常、０～５０℃、より過酷な条件下では－３０～７０℃の温度範囲において、層に流動性がなく、また、外場もしくは外力によって配向形態に変化を生じさせることなく、固定された配向形態を安定に保ち続けることができる状態であることが好ましい。なお、液晶化合物が重合性基を有する場合、後述する硬化処理によって、液晶化合物の配向状態を容易に固定化できる。
第１位相差層は、上記第１基材に隣接して設けられる層であり、水平配向した液晶化合物を固定してなる層である。
ここで、「水平配向」とは、液晶化合物が棒状液晶化合物である場合、第１基材の表面と液晶分子のダイレクターとのなす角が平行になる配向（ホモジニアス配向）をいい、液晶化合物が円盤状液晶化合物である場合、第１基材の表面と円盤面とが平行になる配向をいう。なお、厳密に水平（平行）であることを要求するものではなく、本発明が属する技術分野において許容される誤差の範囲を含むものとする。例えば、厳密な角度±１０°の範囲内であることなどを意味し、厳密な角度との誤差は、５°以下であることが好ましく、３°以下であることがより好ましい。
また、「固定してなる」状態は、液晶化合物の配向（水平配向）が保持された状態である。具体的には、通常、０～５０℃、より過酷な条件下では－３０～７０℃の温度範囲において、層に流動性がなく、また、外場もしくは外力によって配向形態に変化を生じさせることなく、固定された配向形態を安定に保ち続けることができる状態であることが好ましい。なお、液晶化合物が重合性基を有する場合、後述する硬化処理によって、液晶化合物の配向状態を容易に固定化できる。
【0029】
液晶化合物は、一般的に、その形状から、棒状タイプと円盤状タイプとに分類できる。さらに、それぞれ低分子タイプと高分子タイプとがある。高分子とは一般に重合度が１００以上のものを指す（高分子物理・相転移ダイナミクス，土井 正男 著，２頁，岩波書店，１９９２）。本発明では、いずれの液晶化合物を用いることもできるが、棒状液晶化合物または円盤状液晶化合物が好ましい。また、モノマーであるか、重合度が１００未満の比較的低分子量な液晶化合物が好ましい。
【0030】
液晶化合物は、重合性基を有することが好ましい。つまり、液晶化合物は、重合性液晶化合物であることが好ましい。液晶化合物が有する重合性基としては、例えば、アクリロイル基、メタクリロイル基、エポキシ基、および、ビニル基が挙げられる。
このような重合性液晶化合物を重合させることにより、液晶化合物の配向を固定することができる。なお、液晶化合物が重合によって固定された後においては、もはや液晶性を示す必要はない。
このような重合性液晶化合物を重合させることにより、液晶化合物の配向を固定することができる。なお、液晶化合物が重合によって固定された後においては、もはや液晶性を示す必要はない。
【0031】
棒状液晶化合物としては、例えば、特表平１１－５１３０１９号公報の請求項１または特開２００５－２８９９８０号公報の段落［００２６］～［００９８］に記載のものが好ましく、円盤状液晶化合物としては、例えば、特開２００７－１０８７３２号公報の段落［００２０］～［００６７］または特開２０１０－２４４０３８号公報の段落［００１３］～［０１０８］に記載のものが好ましい。
【0032】
上記液晶化合物として、逆波長分散性の液晶化合物を用いることができる。
ここで、本明細書において「逆波長分散性」の液晶化合物とは、この化合物を用いて作製された位相差フィルムの特定波長（可視光範囲）における面内のレタデーション（Ｒｅ）値を測定した際に、測定波長が大きくなるにつれてＲｅ値が同等または高くなるものをいう。
ここで、本明細書において「逆波長分散性」の液晶化合物とは、この化合物を用いて作製された位相差フィルムの特定波長（可視光範囲）における面内のレタデーション（Ｒｅ）値を測定した際に、測定波長が大きくなるにつれてＲｅ値が同等または高くなるものをいう。
【0033】
本発明においては、第１位相差層は、水平配向した円盤状液晶化合物を固定してなる層であることが好ましい。なかでも、第１位相差層は、水平配向した、重合性基を有する円盤状液晶化合物が重合によって固定されて形成された層であることがより好ましい。
【0034】
＜特定ポリマー＞
第１位相差層は、上述した通り、光配向性基を有さないポリマー（特定ポリマー）が第１基材側表面に偏在している層である。
ここで、「光配向性基」とは、異方性を有する光（例えば、平面偏光など）の照射により、再配列や異方的な化学反応が誘起される光配向機能を有する基をいう。
第１位相差層は、上述した通り、光配向性基を有さないポリマー（特定ポリマー）が第１基材側表面に偏在している層である。
ここで、「光配向性基」とは、異方性を有する光（例えば、平面偏光など）の照射により、再配列や異方的な化学反応が誘起される光配向機能を有する基をいう。
【0035】
本発明においては、基材の剥離性がより向上する理由から、特定ポリマーが、下記式（１）で表される繰り返し単位を有していることが好ましい。
【化1】
【0036】
上記式（１）中、Ｒ１は、水素原子またはメチル基を表す。
Ｌ１は、単結合、または、－Ｏ－、－ＣＯ－、－ＮＲＬ－、置換基を有していてもよい２価の脂肪族基、置換基を有していてもよい２価の芳香族基、および、これらの組み合わせからなる群から選択される２価の連結基を表す。ＲＬは、水素原子または炭素数１～２０のアルキル基を表す。
Ｒ２は、炭素数１～２０のアルキル基を表す。ただし、炭素数２～２０のアルキル基である場合、アルキル基を構成する－ＣＨ２－の１個以上が－ＣＯＯ－または－ＣＯ－に置換されていてもよい。
Ｌ１は、単結合、または、－Ｏ－、－ＣＯ－、－ＮＲＬ－、置換基を有していてもよい２価の脂肪族基、置換基を有していてもよい２価の芳香族基、および、これらの組み合わせからなる群から選択される２価の連結基を表す。ＲＬは、水素原子または炭素数１～２０のアルキル基を表す。
Ｒ２は、炭素数１～２０のアルキル基を表す。ただし、炭素数２～２０のアルキル基である場合、アルキル基を構成する－ＣＨ２－の１個以上が－ＣＯＯ－または－ＣＯ－に置換されていてもよい。
【0037】
Ｌ１の一態様が表す２価の脂肪族基としては、アルキレン基が挙げられる。２価の脂肪族基の炭素数は特に制限されないが、１～１０が好ましく、１～５がより好ましく、１～３がさらに好ましい。
Ｌ１の一態様が表す２価の芳香族基としては、炭素数６～１２のアリーレン基が挙げられる。中でもフェニレン基が好ましい。
Ｌ１の一態様が表す上記組み合わせとしては、－ＣＯＯ－、－ＣＯＮＲＬ－、－ＣＯＯ－置換基を有していてもよい２価の脂肪族基－、および、－ＣＯＮＲＬ－置換基を有していてもよい２価の脂肪族基－などが挙げられる。
ここで、２価の脂肪族基および２価の芳香族基が有していてもよい置換基（以下、「置換基Ｘ」と略す。）としては、例えば、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、アリールオキシ基、シアノ基、カルボキシ基、アルコキシカルボニル基、および、水酸基が挙げられる。
また、ＲＬの一態様が表すアルキル基の炭素数は、１～１０が好ましく、１～５がより好ましい。
Ｌ１の一態様が表す２価の芳香族基としては、炭素数６～１２のアリーレン基が挙げられる。中でもフェニレン基が好ましい。
Ｌ１の一態様が表す上記組み合わせとしては、－ＣＯＯ－、－ＣＯＮＲＬ－、－ＣＯＯ－置換基を有していてもよい２価の脂肪族基－、および、－ＣＯＮＲＬ－置換基を有していてもよい２価の脂肪族基－などが挙げられる。
ここで、２価の脂肪族基および２価の芳香族基が有していてもよい置換基（以下、「置換基Ｘ」と略す。）としては、例えば、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、アリールオキシ基、シアノ基、カルボキシ基、アルコキシカルボニル基、および、水酸基が挙げられる。
また、ＲＬの一態様が表すアルキル基の炭素数は、１～１０が好ましく、１～５がより好ましい。
【0038】
上記式（１）で表される繰り返し単位としては、下記式（１－１）で表される繰り返し単位が好ましい。なお、下記式（１－１）中のＲ１は、上記式（１）と同様、水素原子またはメチル基を表す。
【化2】
【0039】
特定ポリマーが、上記式（１）で表される繰り返し単位を有している場合、上記式（１）で表される繰り返し単位の含有量は特に制限されないが、特定ポリマー中の全繰り返し単位に対して、４０～１００質量％が好ましく、６０～１００質量％がより好ましい。
【0040】
本発明においては、基材の剥離性がより向上する理由から、特定ポリマーが、下記式（２）で表される繰り返し単位を有していることが好ましい。
【化3】
【0041】
上記式（２）中、Ｒ３は、水素原子またはメチル基を表す。
Ｌ３は、単結合または２価の連結基を表す。
Ｘ１は、－ＯＨ、－ＣＯＯＨ、－ＰＯ３Ｈ、｛－ＯＰ（＝Ｏ）（ＯＨ）２｝、－ＣＯ２Ｍ１、－ＳＯ３Ｍ１、－ＮＴ１Ｔ２、オキサゾリン基、－ＮＧ１Ｇ２Ｇ３Ｅ１、または、ベタイン構造を有する基を表す。
Ｍ１は、アルカリ金属、アルカリ土類金属、Ｍｇ、Ａｌ、または、Ｑ１Ｑ２Ｑ３Ｑ４Ｎ＋を表す。Ｑ１、Ｑ２、Ｑ３およびＱ４は、それぞれ独立に、水素原子または炭素数１～２０のアルキル基を表す。
Ｔ１およびＴ２は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数１～２０のアルキル基、または、炭素数１～２０のアルコキシ基を表す。ただし、Ｔ１およびＴ２は、互いに結合して窒素原子を含む環構造を形成してもよい。
Ｇ１、Ｇ２およびＧ３は、それぞれ独立に、水素原子または炭素数１～２０のアルキル基を表す。
Ｅ１は、アニオンを表す。
Ｌ３は、単結合または２価の連結基を表す。
Ｘ１は、－ＯＨ、－ＣＯＯＨ、－ＰＯ３Ｈ、｛－ＯＰ（＝Ｏ）（ＯＨ）２｝、－ＣＯ２Ｍ１、－ＳＯ３Ｍ１、－ＮＴ１Ｔ２、オキサゾリン基、－ＮＧ１Ｇ２Ｇ３Ｅ１、または、ベタイン構造を有する基を表す。
Ｍ１は、アルカリ金属、アルカリ土類金属、Ｍｇ、Ａｌ、または、Ｑ１Ｑ２Ｑ３Ｑ４Ｎ＋を表す。Ｑ１、Ｑ２、Ｑ３およびＱ４は、それぞれ独立に、水素原子または炭素数１～２０のアルキル基を表す。
Ｔ１およびＴ２は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数１～２０のアルキル基、または、炭素数１～２０のアルコキシ基を表す。ただし、Ｔ１およびＴ２は、互いに結合して窒素原子を含む環構造を形成してもよい。
Ｇ１、Ｇ２およびＧ３は、それぞれ独立に、水素原子または炭素数１～２０のアルキル基を表す。
Ｅ１は、アニオンを表す。
【0042】
上記式（２）中のＬ３の一態様が表す２価の連結基は特に限定されないが、例えば、－ＣＯ－、－Ｏ－、アルキレン基（好ましくは炭素数１～２０）、シクロアルキレン基（好ましくは炭素数３～２０）、アリーレン基（好ましくは炭素数６～２０）、－ＳＯ－、－ＳＯ２－、－ＮＨ－、－ＮＲ－、および、これらを２つ以上組み合わせてなる２価の連結基が挙げられる。上記Ｒはアルキル基（好ましくは炭素数１～１０）、シクロアルキル基（好ましくは炭素数３～２０）、または、アリール基（好ましくは炭素数６～２０）を表す。
Ｌ３が２価の連結基を表す場合、－Ｏ－、－ＣＯＯ－、－ＣＯＮＨ－、および、アルキレン基からなる群より選ばれる少なくとも１つからなる２価の連結基であることが好ましい。アルキレン基は、炭素数１～２０のアルキレン基であることが好ましく、炭素数１～１２のアルキレン基であることがより好ましく、炭素数１～６のアルキレン基であることが更に好ましい。
Ｌ３が２価の連結基を表す場合、－Ｏ－、－ＣＯＯ－、－ＣＯＮＨ－、および、アルキレン基からなる群より選ばれる少なくとも１つからなる２価の連結基であることが好ましい。アルキレン基は、炭素数１～２０のアルキレン基であることが好ましく、炭素数１～１２のアルキレン基であることがより好ましく、炭素数１～６のアルキレン基であることが更に好ましい。
【0043】
上記式（２）中のＸ１は、上述した通り、－ＯＨ、－ＣＯＯＨ、－ＰＯ３Ｈ、｛－ＯＰ（＝Ｏ）（ＯＨ）２｝、－ＣＯ２Ｍ１、－ＳＯ３Ｍ１、－ＮＴ１Ｔ２、オキサゾリン基、－ＮＧ１Ｇ２Ｇ３Ｅ１、または、ベタイン構造を有する基を表す。
これらのうち、基材の剥離性がより向上する理由から、－ＣＯＯＨ、－ＰＯ３Ｈ、｛－ＯＰ（＝Ｏ）（ＯＨ）２｝、－ＣＯ２Ｍ１、－ＳＯ３Ｍ１、－ＮＴ１Ｔ２、オキサゾリン基、－ＮＧ１Ｇ２Ｇ３Ｅ１、または、ベタイン構造を有する基を表すことが好ましい。
また、基材の剥離性が更に向上する理由から、－ＮＧ１Ｇ２Ｇ３Ｅ１を表すことがより好ましい。
これらのうち、基材の剥離性がより向上する理由から、－ＣＯＯＨ、－ＰＯ３Ｈ、｛－ＯＰ（＝Ｏ）（ＯＨ）２｝、－ＣＯ２Ｍ１、－ＳＯ３Ｍ１、－ＮＴ１Ｔ２、オキサゾリン基、－ＮＧ１Ｇ２Ｇ３Ｅ１、または、ベタイン構造を有する基を表すことが好ましい。
また、基材の剥離性が更に向上する理由から、－ＮＧ１Ｇ２Ｇ３Ｅ１を表すことがより好ましい。
【0044】
上記式（２）中のＸ１が－ＣＯ２Ｍ１を表す場合、塩の状態である－ＣＯ２
－・（Ｍ１）＋となっていることが好ましい。
ここで（Ｍ１）＋は、アルカリ金属イオン、アルカリ土類金属イオン、Ｍｇ２＋、Ａｌ３＋、または、Ｑ１Ｑ２Ｑ３Ｑ４Ｎ＋を表す。なお、（Ｍ１）＋がＭｇ２＋である場合、１つのＭｇ２＋と２つのＣＯ２ －とが塩を形成していることが好ましい。（Ｍ１）＋がＡｌ３＋である場合、１つのＡｌ３＋と３つのＣＯ２ －とが塩を形成していることが好ましい。
ここで（Ｍ１）＋は、アルカリ金属イオン、アルカリ土類金属イオン、Ｍｇ２＋、Ａｌ３＋、または、Ｑ１Ｑ２Ｑ３Ｑ４Ｎ＋を表す。なお、（Ｍ１）＋がＭｇ２＋である場合、１つのＭｇ２＋と２つのＣＯ２ －とが塩を形成していることが好ましい。（Ｍ１）＋がＡｌ３＋である場合、１つのＡｌ３＋と３つのＣＯ２ －とが塩を形成していることが好ましい。
【0045】
上記式（２）中のＸ１が－ＳＯ３Ｍ１を表す場合、塩の状態である－ＳＯ３
－・（Ｍ１）＋となっていることが好ましい。
ここで、（Ｍ１）＋は、アルカリ金属イオン、アルカリ土類金属イオン、Ｍｇ２＋、Ａｌ３＋、または、Ｑ１Ｑ２Ｑ３Ｑ４Ｎ＋を表す。なお、（Ｍ１）＋がＭｇ２＋である場合、１つのＭｇ２＋と２つのＳＯ３ －とが塩を形成していることが好ましい。（Ｍ１）＋がＡｌ３＋である場合、１つのＡｌ３＋と３つのＳＯ３ －とが塩を形成していることが好ましい。
ここで、（Ｍ１）＋は、アルカリ金属イオン、アルカリ土類金属イオン、Ｍｇ２＋、Ａｌ３＋、または、Ｑ１Ｑ２Ｑ３Ｑ４Ｎ＋を表す。なお、（Ｍ１）＋がＭｇ２＋である場合、１つのＭｇ２＋と２つのＳＯ３ －とが塩を形成していることが好ましい。（Ｍ１）＋がＡｌ３＋である場合、１つのＡｌ３＋と３つのＳＯ３ －とが塩を形成していることが好ましい。
【0046】
Ｍ１の一態様が表すアルカリ金属としては、リチウム（Ｌｉ）、ナトリウム（Ｎａ）、カリウム（Ｋ）、セシウム（Ｃｓ）が挙げられる。
Ｍ１の一態様が表すアルカリ土類金属しては、カルシウム（Ｃａ）、ストロンチウム（Ｓｒ）、バリウム（Ｂａ）が挙げられる。
Ｍ１の一態様が表すアルカリ土類金属しては、カルシウム（Ｃａ）、ストロンチウム（Ｓｒ）、バリウム（Ｂａ）が挙げられる。
【0047】
Ｍ１の一態様が表すＱ１Ｑ２Ｑ３Ｑ４Ｎ＋（第４級アンモニウム塩）におけるＱ１、Ｑ２、Ｑ３およびＱ４は、上述した通り、それぞれ独立に、水素原子または炭素数１～２０のアルキル基を表す。Ｑ１、Ｑ２、Ｑ３およびＱ４の一態様が表すアルキル基は直鎖状でも分岐状でもよく、炭素数１～１０のアルキル基であることが好ましく、炭素数１～７のアルキル基であることがより好ましく、炭素数１～４のアルキル基であることが更に好ましい。
Ｑ１、Ｑ２、Ｑ３およびＱ４が表すアルキル基は置換基を有していてもよい。なお、置換基としては、上述した置換基Ｘの例が挙げられる。
Ｑ１、Ｑ２、Ｑ３およびＱ４が表すアルキル基は置換基を有していてもよい。なお、置換基としては、上述した置換基Ｘの例が挙げられる。
【0048】
上記式（２）中のＸ１が－ＮＴ１Ｔ２を表す場合、Ｔ１およびＴ２は、上述した通り、それぞれ独立に、水素原子、炭素数１～２０のアルキル基、または、炭素数１～２０のアルコキシ基を表す。ただし、Ｔ１およびＴ２は、互いに結合して窒素原子を含む環構造を形成してもよい。
Ｔ１およびＴ２の一態様が表すアルキル基は直鎖状でも分岐状でもよく、炭素数１～１０のアルキル基であることが好ましく、炭素数１～７のアルキル基であることがより好ましく、炭素数１～４のアルキル基であることが更に好ましい。
Ｔ１およびＴ２の一態様が表すアルキル基は置換基を有していてもよい。なお、置換基としては、上述した置換基Ｘの例が挙げられる。
Ｔ１およびＴ２の一態様が表すアルコキシ基は直鎖状でも分岐状でもよく、炭素数１～１０のアルコキシ基であることが好ましく、炭素数１～７のアルコキシ基であることがより好ましく、炭素数１～４のアルコキシ基であることが更に好ましい。
Ｔ１およびＴ２の一態様が表すアルコキシ基は置換基を有していてもよい。なお、置換基としては、上述した置換基Ｘの例が挙げられる。
Ｔ１とＴ２とが結合する場合、－ＮＴ１Ｔ２は環状の基になる。このような基としては、例えばモルホリノ基などが挙げられる。
Ｔ１およびＴ２は、水素原子を表すことが最も好ましい。
Ｔ１およびＴ２の一態様が表すアルキル基は直鎖状でも分岐状でもよく、炭素数１～１０のアルキル基であることが好ましく、炭素数１～７のアルキル基であることがより好ましく、炭素数１～４のアルキル基であることが更に好ましい。
Ｔ１およびＴ２の一態様が表すアルキル基は置換基を有していてもよい。なお、置換基としては、上述した置換基Ｘの例が挙げられる。
Ｔ１およびＴ２の一態様が表すアルコキシ基は直鎖状でも分岐状でもよく、炭素数１～１０のアルコキシ基であることが好ましく、炭素数１～７のアルコキシ基であることがより好ましく、炭素数１～４のアルコキシ基であることが更に好ましい。
Ｔ１およびＴ２の一態様が表すアルコキシ基は置換基を有していてもよい。なお、置換基としては、上述した置換基Ｘの例が挙げられる。
Ｔ１とＴ２とが結合する場合、－ＮＴ１Ｔ２は環状の基になる。このような基としては、例えばモルホリノ基などが挙げられる。
Ｔ１およびＴ２は、水素原子を表すことが最も好ましい。
【0049】
上記式（２）中のＸ１が－ＮＧ１Ｇ２Ｇ３Ｅ１を表す場合、塩の状態である－Ｎ＋Ｇ１Ｇ２Ｇ３・Ｅ１となっていることが好ましい。
Ｅ１が表すアニオンは特に限定されず、例えば、フッ化物イオン（Ｆ－）、塩化物イオン（Ｃｌ－）、臭化物イオン（Ｂｒ－）、ヨウ化物イオン（Ｉ－）等のハロゲン化物イオン；水酸化物イオン（ＯＨ－）；シアン化物イオン（ＣＮ－）；硝酸イオン（ＮＯ３ －）；炭酸イオン（ＣＯ３ ２－）；硫酸イオン（ＳＯ４ ２－）；メタンスルホネートアニオン（ＣＨ３ＳＯ３ －）、ベンゼンスルホネートアニオン、ｐ－トルエンスルホネートアニオン、トリフルオロメタンスルホネートアニオン等のスルホネートアニオン；パークロレートアニオン；テトラフルオロボレートアニオン、テトラフェニルボレートアニオン等のボレートアニオン；ヘキサフルオロホスフェートアニオン；アセテートアニオンなどが挙げられる。なお、Ｅ１が２価のアニオンである場合、１つのＥ１と２つのＮＧ１Ｇ２Ｇ３とが塩を形成していることが好ましい。
Ｅ１が表すアニオンは特に限定されず、例えば、フッ化物イオン（Ｆ－）、塩化物イオン（Ｃｌ－）、臭化物イオン（Ｂｒ－）、ヨウ化物イオン（Ｉ－）等のハロゲン化物イオン；水酸化物イオン（ＯＨ－）；シアン化物イオン（ＣＮ－）；硝酸イオン（ＮＯ３ －）；炭酸イオン（ＣＯ３ ２－）；硫酸イオン（ＳＯ４ ２－）；メタンスルホネートアニオン（ＣＨ３ＳＯ３ －）、ベンゼンスルホネートアニオン、ｐ－トルエンスルホネートアニオン、トリフルオロメタンスルホネートアニオン等のスルホネートアニオン；パークロレートアニオン；テトラフルオロボレートアニオン、テトラフェニルボレートアニオン等のボレートアニオン；ヘキサフルオロホスフェートアニオン；アセテートアニオンなどが挙げられる。なお、Ｅ１が２価のアニオンである場合、１つのＥ１と２つのＮＧ１Ｇ２Ｇ３とが塩を形成していることが好ましい。
【0050】
Ｇ１、Ｇ２およびＧ３はそれぞれ独立に水素原子または炭素数１～２０のアルキル基を表す。Ｇ１、Ｇ２およびＧ３が表すアルキル基は直鎖状でも分岐状でもよく、炭素数１～１０のアルキル基であることが好ましく、炭素数１～７のアルキル基であることがより好ましく、炭素数１～４のアルキル基であることが更に好ましい。
Ｇ１、Ｇ２およびＧ３が表すアルキル基は置換基を有していてもよい。なお、置換基としては、上述した置換基Ｘの例が挙げられる。
Ｇ１、Ｇ２およびＧ３が表すアルキル基は置換基を有していてもよい。なお、置換基としては、上述した置換基Ｘの例が挙げられる。
【0051】
本発明においては、基材の剥離性がより向上する理由から、上記式（２）中のＸ１が、ベタイン構造を有する基を表し、ベタイン構造を有する基が、下記式（ＢＴ１）、（ＢＴ２）、（ＢＴ３）および（ＢＴ４）のいずれかで表される基を表すことが好ましい。
【化4】
【0052】
上記式（ＢＴ１）～（ＢＴ４）中、Ｇ４～Ｇ１２は、それぞれ独立に、水素原子または炭素数１～２０のアルキル基を表す。
Ｌ５～Ｌ８は、それぞれ独立に、２価の連結基を表す。
＊は、結合位置を表す。
Ｌ５～Ｌ８は、それぞれ独立に、２価の連結基を表す。
＊は、結合位置を表す。
【0053】
上記式（ＢＴ１）～（ＢＴ４）中のＧ４～Ｇ１２の一態様が表す炭素数１～２０のアルキル基としては、前述のＧ１、Ｇ２およびＧ３の一態様が表す炭素数１～２０のアルキル基について記載したものと同様である。
【0054】
上記式（ＢＴ１）～（ＢＴ４）中のＬ５～Ｌ８が表す２価の連結基としては、アルキレン基を表すことが好ましい。アルキレン基は、炭素数１～１２のアルキレン基であることが好ましく、炭素数１～６のアルキレン基であることがより好ましく、炭素数１～４のアルキレン基であることが更に好ましい。
アルキレン基は、置換基を有していてもよい。なお、置換基としては、上述した置換基Ｘの例が挙げられる。
アルキレン基は、置換基を有していてもよい。なお、置換基としては、上述した置換基Ｘの例が挙げられる。
【0055】
上記式（２）で表される繰り返し単位は、例えば、下記に示す化合物を重合することで形成できる。具体例としては、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、マレイン酸、クロトン酸、β－カルボキシエチルアクリレート、アクリル酸２－ヒドロキシエチル、メタクリル酸２－ヒドロキシエチル、アクリル酸３－ヒドロキシプロピル、アクリル酸２－ヒドロキシプロピル、メタクリル酸３－ヒドロキシプロピル、メタクリル酸２－ヒドロキシプロピル、アクリル酸４－ヒドロキシブチル、アクリル酸２－ヒドロキシブチル、メタクリル酸４－ヒドロキシブチル、メタクリル酸２－ヒドロキシブチル、アクリル酸ポリプロピレングリコール、メタクリル酸ポリプロピレングリコール、イソプロペニルオキサゾリン、スチレンボロン酸、２－（Ｎ，Ｎ－ジメチルアミノ）エチル（メタ）アクリレート、２－（Ｎ－ｔｅｒｔ－ブチルアミノ）エチル（メタ）アクリレート等のアミノアルキル（メタ）アクリレート類；（メタ）アクリルアミド、Ｎ－メチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ－エチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ－ｎ－プロピル（メタ）アクリルアミド、Ｎ－イソプロピル（メタ）アクリルアミド、Ｎ－ｎ－ブチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ－メチロール（メタ）アクリルアミド、Ｎ－（２－ヒドロキシエチル）アクリルアミド、Ｎ－メトキシメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ－ブトキシメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ－（２－ジメチルアミノエチル）（メタ）アクリルアミド、Ｎ－（３－ジメチルアミノプロピル）（メタ）アクリルアミド、ジアセトン（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ－（メタ）アクリロイルモルホリン等のアクリルアミド類；Ｎ－（２－（メタ）アクリロイルオキシエチル）－Ｎ，Ｎ，Ｎ－トリメチルアンモニウム＝クロリド、Ｎ－（２－（メタ）アクリロイルオキシエチル）－Ｎ，Ｎ，Ｎ－トリメチルアンモニウム＝ブロミド、Ｎ－（２－（メタ）アクリロイルオキシエチル）－Ｎ，Ｎ，Ｎ－トリメチルアンモニウム＝ヨージド、Ｎ－（２－（メタ）アクリロイルオキシエチル）－Ｎ，Ｎ，Ｎ－トリメチルアンモニウム＝メタンスルホネート、Ｎ－（２－（メタ）アクリロイルオキシエチル）－Ｎ，Ｎ－ジエチル－Ｎ－メチルアンモニウム＝メタンスルホネート、Ｎ－（２－（メタ）アクリロイルオキシエチル）－Ｎ－ブチル－Ｎ，Ｎ－ジメチルアンモニウム＝ヨージド、Ｎ－（２－（メタ）アクリロイルオキシプロピル）－Ｎ，Ｎ－ジエチル－Ｎ－メチルアンモニウム＝クロリド等の（メタ）アクリロイル基含有４級アンモニウム塩類；２－（（２－（メタ）アクリロイルオキシエチル）ジメチルアンモニオ）アセテート（Ｎ－（２－（メタ）アクリロイルオキシエチル）－Ｎ，Ｎ－ジメチルグリシンともいう）、３－（（２－（メタ）アクリロイルオキシエチル）ジメチルアンモニオ）プロパノエート、４－（（２－（メタ）アクリロイルオキシエチル）ジメチルアンモニオ）ブタノエート、５－（（２－（メタ）アクリロイルオキシエチル）ジメチルアンモニオ）ペンタノエート等のカルボキシベタイン類；（（２－（メタ）アクリロイルオキシエチル）ジメチルアンモニオ）メタンスルホネート、２－（（２－（メタ）アクリロイルオキシエチル）ジメチルアンモニオ）エタンスルホネート、３－（（２－（メタ）アクリロイルオキシエチル）ジメチルアンモニオ）プロパン－１－スルホネート、４－（（２－（メタ）アクリロイルオキシエチル）ジメチルアンモニオ）ブタン－１－スルホネート等のスルホベタイン類；２－（メタ）アクリロイルオキシエチル＝ジビドロゲン＝ホスフェート、４－（メタ）アクリロイルオキシブチル＝ジビドロゲン＝ホスフェート等の（メタ）アクリロイル基含有リン酸エステル類；（２－（メタ）アクリロイルオキシエチル）ホスホリルコリン、（４－（メタ）アクリロイルオキシブチル）ホスホリルコリン等のホスホリルコリン類などが挙げられるが、これらに限定されない。
【0056】
特定ポリマーが、上記式（２）で表される繰り返し単位を有している場合、上記式（２）で表される繰り返し単位の含有量は特に制限されないが、特定ポリマー中の全繰り返し単位に対して、４０～１００質量％が好ましく、６０～１００質量％がより好ましい。
【0057】
本発明においては、基材の剥離性がより向上する理由から、特定ポリマーが、脂環構造を側鎖に含む繰り返し単位を有していることが好ましく、下記式（３）で表される繰り返し単位を有していることがより好ましい。
【化5】
【0058】
上記式（３）中、Ｒ４は、水素原子またはメチル基を表す。
Ｌ４は、２価の連結基を表す。
Ｙ１は、置換基を有していてもよいシクロアルカン環を表す。
Ｌ４は、２価の連結基を表す。
Ｙ１は、置換基を有していてもよいシクロアルカン環を表す。
【0059】
Ｌ４が表す２価の連結基としては、－ＣＯ－、－Ｏ－、－Ｓ－、－Ｃ（＝Ｓ）－、－ＣＲ１１Ｒ１２－、－ＣＲ１３＝ＣＲ１４－、－ＮＲ１５－、もしくは、これらの２つ以上の組み合わせからなる２価の連結基が挙げられる。Ｒ１１～Ｒ１５は、それぞれ独立に、水素原子、フッ素原子、または、炭素数１～１２のアルキル基を表す。
Ｌ４が表す２価の連結基の中でも、－ＣＯ－、－Ｏ－、－ＣＯ－Ｏ－、－Ｃ（＝Ｓ）Ｏ－、－ＣＲ１１Ｒ１２－、－ＣＲ１１Ｒ１２－ＣＲ１１Ｒ１２－、－Ｏ－ＣＲ１１Ｒ１２－、－ＣＲ１１Ｒ１２－Ｏ－ＣＲ１１Ｒ１２－、－ＣＯ－Ｏ－ＣＲ１１Ｒ１２－、－Ｏ－ＣＯ－ＣＲ１１Ｒ１２－、－ＣＲ１１Ｒ１２－Ｏ－ＣＯ－ＣＲ１１Ｒ１２－、－ＣＲ１１Ｒ１２－ＣＯ－Ｏ－ＣＲ１１Ｒ１２－、－ＮＲ１５－ＣＲ１１Ｒ１２－、および、－ＣＯ－ＮＲ１５－などが好ましい。
Ｌ４が表す２価の連結基の中でも、－ＣＯ－、－Ｏ－、－ＣＯ－Ｏ－、－Ｃ（＝Ｓ）Ｏ－、－ＣＲ１１Ｒ１２－、－ＣＲ１１Ｒ１２－ＣＲ１１Ｒ１２－、－Ｏ－ＣＲ１１Ｒ１２－、－ＣＲ１１Ｒ１２－Ｏ－ＣＲ１１Ｒ１２－、－ＣＯ－Ｏ－ＣＲ１１Ｒ１２－、－Ｏ－ＣＯ－ＣＲ１１Ｒ１２－、－ＣＲ１１Ｒ１２－Ｏ－ＣＯ－ＣＲ１１Ｒ１２－、－ＣＲ１１Ｒ１２－ＣＯ－Ｏ－ＣＲ１１Ｒ１２－、－ＮＲ１５－ＣＲ１１Ｒ１２－、および、－ＣＯ－ＮＲ１５－などが好ましい。
【0060】
Ｙ１が表すシクロアルカン環としては、例えば、シクロヘキサン環、シクロペプタン環、シクロオクタン環、シクロドデカン環、シクロドコサン環などが挙げられる。これらのうち、シクロヘキサン環が好ましい。
シクロアルカン環が有していてもよい置換基としては、上述した置換基Ｘの例が挙げられる。
シクロアルカン環が有していてもよい置換基としては、上述した置換基Ｘの例が挙げられる。
【0061】
特定ポリマーが、脂環構造を側鎖に含む繰り返し単位を有している場合、その含有量は特に制限されないが、特定ポリマー中の全繰り返し単位に対して、５～４０質量％が好ましく、１０～２０質量％がより好ましい。
【0062】
本発明においては、基材の剥離性がより向上する理由から、特定ポリマーが、フッ素原子を側鎖に含む繰り返し単位を有していることが好ましく、下記式（ａ）で表される繰り返し単位を有していることがより好ましい。
【化6】
【0063】
上記式（ａ）中、Ｒａ１は、水素原子または炭素数１～２０のアルキル基を表す。
Ｒａ２は、少なくとも１個の水素原子がフッ素原子で置換された炭素数１～２０のアルキル基を表す。なお、以下では、少なくとも１個の水素原子がフッ素原子で置換されたアルキル基を単に「フルオロアルキル基」とも略す。
Ｒａ２は、少なくとも１個の水素原子がフッ素原子で置換された炭素数１～２０のアルキル基を表す。なお、以下では、少なくとも１個の水素原子がフッ素原子で置換されたアルキル基を単に「フルオロアルキル基」とも略す。
【0064】
上記式（ａ）中のＲａ１の一態様が表すアルキル基の炭素数は、１～１０が好ましく、１～５がより好ましい。
【0065】
上記式（ａ）中のＲａ２が表すフルオロアルキル基としては、炭素数１～１８のフルオロアルキル基であることがより好ましく、炭素数２～１５のフルオロアルキル基であることが更に好ましい。
また、フッ素原子数は、１～２５であることが好ましく、３～２１であることがより好ましく、５～２１であることが最も好ましい。
また、フッ素原子数は、１～２５であることが好ましく、３～２１であることがより好ましく、５～２１であることが最も好ましい。
【0066】
上記式（ａ）で表される繰返し単位を形成する単量体としては、具体的には、例えば、２，２，２－トリフルオロエチル（メタ）アクリレート、２，２，３，３，３－ペンタフルオロプロピル（メタ）アクリレート、２－（パーフルオロブチル）エチル（メタ）アクリレート、２－（パーフルオロヘキシル）エチル（メタ）アクリレート、２－（パーフルオロオクチル）エチル（メタ）アクリレート、２－（パーフルオロデシル）エチル（メタ）アクリレート、２－（パーフルオロ－３－メチルブチル）エチル（メタ）アクリレート、２－（パーフルオロ－５－メチルヘキシル）エチル（メタ）アクリレート、２－（パーフルオロ－７－メチルオクチル）エチル（メタ）アクリレート、１Ｈ，１Ｈ，３Ｈ－テトラフルオロプロピル（メタ）アクリレート、１Ｈ，１Ｈ，５Ｈ－オクタフルオロペンチル（メタ）アクリレート、１Ｈ，１Ｈ，７Ｈ－ドデカフルオロヘプチル（メタ）アクリレート、１Ｈ，１Ｈ，９Ｈ－ヘキサデカフルオロノニル（メタ）アクリレート、１Ｈ－１－（トリフオロメチル）トリフルオロエチル（メタ）アクリレート、１Ｈ，１Ｈ，３Ｈ－ヘキサフルオロブチル（メタ）アクリレート、３－パーフルオロブチル－２－ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、３－パーフルオロヘキシル－２－ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、３－パーフルオロオクチル－２－ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、３－（パーフルオロ－３－メチルブチル）－２－ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、３－（パーフルオロ－５－メチルヘキシル）－２－ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、３－（パーフルオロ－７－メチルオクチル）－２－ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート等が挙げられる。
【0067】
特定ポリマーが、フッ素原子を側鎖に含む繰り返し単位を有している場合、その含有量は特に制限されないが、特定ポリマー中の全繰り返し単位に対して、５～２０質量％が好ましく、５～１０質量％がより好ましい。
【0068】
本発明においては、基材の剥離性がより向上する理由から、特定ポリマーの重量平均分子量（Ｍｗ）は、２０００～１０００００であることが好ましく、３０００～５００００であることがより好ましく、４０００～２００００であることがさらに好ましい。
ここで、重量平均分子量は、以下に示す条件でゲル浸透クロマトグラフ（ＧＰＣ）法により測定された値である。
・溶媒（溶離液）：ＴＨＦ（テトラヒドロフラン）
・装置名：ＴＯＳＯＨ ＨＬＣ－８３２０ＧＰＣ
・カラム：ＴＯＳＯＨ ＴＳＫｇｅｌ Ｓｕｐｅｒ ＨＺＭ－Ｈ（４．６ｍｍ×１５ｃｍ）を３本接続して使用
・カラム温度：４０℃
・試料濃度：０．１質量％
・流速：１．０ｍｌ／ｍｉｎ
・校正曲線：ＴＯＳＯＨ製ＴＳＫ標準ポリスチレン Ｍｗ＝２８０００００～１０５０（Ｍｗ／Ｍｎ＝１．０３～１．０６）までの７サンプルによる校正曲線を使用
ここで、重量平均分子量は、以下に示す条件でゲル浸透クロマトグラフ（ＧＰＣ）法により測定された値である。
・溶媒（溶離液）：ＴＨＦ（テトラヒドロフラン）
・装置名：ＴＯＳＯＨ ＨＬＣ－８３２０ＧＰＣ
・カラム：ＴＯＳＯＨ ＴＳＫｇｅｌ Ｓｕｐｅｒ ＨＺＭ－Ｈ（４．６ｍｍ×１５ｃｍ）を３本接続して使用
・カラム温度：４０℃
・試料濃度：０．１質量％
・流速：１．０ｍｌ／ｍｉｎ
・校正曲線：ＴＯＳＯＨ製ＴＳＫ標準ポリスチレン Ｍｗ＝２８０００００～１０５０（Ｍｗ／Ｍｎ＝１．０３～１．０６）までの７サンプルによる校正曲線を使用
【0069】
第１位相差層中における特定ポリマーの含有量は特に制限されないが、第１位相差層の全質量に対して、０．１～１０質量％が好ましく、０．２～５質量％がより好ましい。
【0070】
＜光配向化合物＞
本発明の積層体は、後述する通り、第１位相差層（光学異方性層Ａ）における第１基材と反対側に、第１位相差層とは別の光学異方性層Ｂを有しいてもよいが、この場合、第１位相差層である光学異方性層Ａは、光配向化合物を含有していることが好ましい。
本発明の積層体は、後述する通り、第１位相差層（光学異方性層Ａ）における第１基材と反対側に、第１位相差層とは別の光学異方性層Ｂを有しいてもよいが、この場合、第１位相差層である光学異方性層Ａは、光配向化合物を含有していることが好ましい。
【0071】
ここで、光配向化合物は、上述した光配向性基を有する化合物であれば特に限定されず、例えば、特開２００６－２８５１９７号公報、特開２００７－７６８３９号公報、特開２００７－１３８１３８号公報、特開２００７－９４０７１号公報、特開２００７－１２１７２１号公報、特開２００７－１４０４６５号公報、特開２００７－１５６４３９号公報、特開２００７－１３３１８４号公報、特開２００９－１０９８３１号公報、特許第３８８３８４８号、特許第４１５１７４６号に記載のアゾ化合物、特開２００２－２２９０３９号公報に記載の芳香族エステル化合物、特開２００２－２６５５４１号公報、特開２００２－３１７０１３号公報に記載の光配向性単位を有するマレイミド及び／又はアルケニル置換ナジイミド化合物、特許第４２０５１９５号、特許第４２０５１９８号に記載の光架橋性シラン誘導体、特表２００３－５２０８７８号公報、特表２００４－５２９２２０号公報、または、特許第４１６２８５０号に記載の光架橋性ポリイミド、ポリアミドもしくはエステルが好ましい例として挙げられる。より好ましくは、アゾ化合物、光架橋性ポリイミド、ポリアミド、または、エステルである。
【0072】
これらのうち、光配向化合物として、光の作用により二量化および異性化の少なくとも一方が生じる光配向性基を有する感光性化合物を用いることが好ましい。
また、光配向性基としては、例えば、桂皮酸（シンナモイル）構造（骨格）を有する基、クマリン構造（骨格）を有する基、カルコン構造（骨格）を有する基、ベンゾフェノン構造（骨格）を有する基、および、アントラセン構造（骨格）を有する基などが挙げられる。なかでも、シンナモイル構造を有する基、クマリン構造を有する基が好ましく、シンナモイル構造を有する基がより好ましい。
また、光配向性基としては、例えば、桂皮酸（シンナモイル）構造（骨格）を有する基、クマリン構造（骨格）を有する基、カルコン構造（骨格）を有する基、ベンゾフェノン構造（骨格）を有する基、および、アントラセン構造（骨格）を有する基などが挙げられる。なかでも、シンナモイル構造を有する基、クマリン構造を有する基が好ましく、シンナモイル構造を有する基がより好ましい。
【0073】
第１位相差層が棒状液晶化合物の場合、第１位相差層の波長５５０ｎｍにおける面内レタデーションは特に制限されないが、４０～２８０ｎｍが好ましく、６０～１５０ｎｍがより好ましい。
また、第１位相差層の波長５５０ｎｍにおける厚み方向のレタデーションは特に制限されないが、２０～１４０ｎｍが好ましく、３０～７５ｎｍがより好ましい。
第１位相差層が円盤液晶化合物の場合、第１位相差層の波長５５０ｎｍにおける面内レタデーションは特に制限されないが、０～１０ｎｍが好ましい。
また、第１位相差層の波長５５０ｎｍにおける厚み方向のレタデーションは特に制限されないが、１０～１２０ｎｍが好ましく、１５～６０ｎｍがより好ましい。
また、第１位相差層の波長５５０ｎｍにおける厚み方向のレタデーションは特に制限されないが、２０～１４０ｎｍが好ましく、３０～７５ｎｍがより好ましい。
第１位相差層が円盤液晶化合物の場合、第１位相差層の波長５５０ｎｍにおける面内レタデーションは特に制限されないが、０～１０ｎｍが好ましい。
また、第１位相差層の波長５５０ｎｍにおける厚み方向のレタデーションは特に制限されないが、１０～１２０ｎｍが好ましく、１５～６０ｎｍがより好ましい。
【0074】
第１位相差層の平均厚みは特に制限されず、１０μｍ以下が好ましく、０．１～５．０μｍがより好ましく、０．３～２．０μｍがさらに好ましい。
上記平均厚みは、第１位相差層の任意の５点以上の厚みを測定して、それらを算術平均して求める。
上記平均厚みは、第１位相差層の任意の５点以上の厚みを測定して、それらを算術平均して求める。
【0075】
〔光学異方性層Ｂ〕
本発明の積層体は、図２に示す通り、上記第１位相差層とは別に、光学異方性層を有していてもよい。具体的には、上述した光配向化合物を含有する第１位相差層を光学異方性層Ａとする場合、光学異方性層Ａ（第１位相差層）における上記第１基材と反対側に光学異方性層Ｂを有していてもよい。
このような光学異方性層Ｂを有する態様においては、光学異方性層Ｂの形成時に配向膜が不要となる理由から、光学異方性層Ａの第１基材側の表面から光学異方性層Ｂ側の表面に向かって、イオンビームを照射しながら飛行時間型二次イオン質量分析法で光学異方性層Ａ中における光配向化合物の二次イオン強度を測定した際に、光学異方性層Ａにおける第１基材側の表面から光学異方性層Ａの全厚みの１０％に相当する深さ位置までの領域を基材側表層領域とし、光学異方性層Ａにおける光学異方性層Ｂ側の表面から光学異方性層Ａの全厚みの１０％に相当する深さ位置までの領域を光学異方性層Ｂ側表層領域とした場合、基材側表層領域における光配向化合物由来の二次イオン強度の平均値ＩＢ２よりも、光学異方性層Ｂ側表層領域における光配向化合物由来の二次イオン強度の平均値ＩＡ２が大きいことが好ましい。
なお、以下の説明において、光学異方性層Ａの基材側表層領域における光配向化合物由来の二次イオン強度の平均値ＩＢ２よりも、光学異方性層Ａの光学異方性層Ｂ側表層領域における光配向化合物由来の二次イオン強度の平均値ＩＡ２が大きいことを、単に、「光配向化合物が光学異方性層Ｂ側表面に偏在している」とも略す。
本発明の積層体は、図２に示す通り、上記第１位相差層とは別に、光学異方性層を有していてもよい。具体的には、上述した光配向化合物を含有する第１位相差層を光学異方性層Ａとする場合、光学異方性層Ａ（第１位相差層）における上記第１基材と反対側に光学異方性層Ｂを有していてもよい。
このような光学異方性層Ｂを有する態様においては、光学異方性層Ｂの形成時に配向膜が不要となる理由から、光学異方性層Ａの第１基材側の表面から光学異方性層Ｂ側の表面に向かって、イオンビームを照射しながら飛行時間型二次イオン質量分析法で光学異方性層Ａ中における光配向化合物の二次イオン強度を測定した際に、光学異方性層Ａにおける第１基材側の表面から光学異方性層Ａの全厚みの１０％に相当する深さ位置までの領域を基材側表層領域とし、光学異方性層Ａにおける光学異方性層Ｂ側の表面から光学異方性層Ａの全厚みの１０％に相当する深さ位置までの領域を光学異方性層Ｂ側表層領域とした場合、基材側表層領域における光配向化合物由来の二次イオン強度の平均値ＩＢ２よりも、光学異方性層Ｂ側表層領域における光配向化合物由来の二次イオン強度の平均値ＩＡ２が大きいことが好ましい。
なお、以下の説明において、光学異方性層Ａの基材側表層領域における光配向化合物由来の二次イオン強度の平均値ＩＢ２よりも、光学異方性層Ａの光学異方性層Ｂ側表層領域における光配向化合物由来の二次イオン強度の平均値ＩＡ２が大きいことを、単に、「光配向化合物が光学異方性層Ｂ側表面に偏在している」とも略す。
【0076】
上記光学異方性層Ｂとしては、配向した液晶化合物が固定されてなる層であることが好ましい。液晶化合物が重合性基を有する場合、後述する硬化処理によって、液晶化合物の配向状態を容易に固定化できる。
液晶化合物は、上述した第１位相差層で説明した通りである。
液晶化合物が配向した状態（配向状態）は特に制限されず、公知の配向状態が挙げられる。配向状態としては、例えば、ホモジニアス配向、ホメオトロピック配向、ハイブリッド配向、コレステリック配向、捩れ配向、および、傾斜配向が挙げられる。なお、上記捩れ配向は、光学異方性層Ｂの厚み方向を回転軸として、光学異方性層Ｂの一方の主表面から他方の主表面まで液晶化合物が捩れている配向状態を表す。捩れ配向において、液晶化合物の捩れ角度（液晶化合物の配向方向の捩れ角度）は、通常、０°超３６０°以下の場合が多い。
液晶化合物は、上述した第１位相差層で説明した通りである。
液晶化合物が配向した状態（配向状態）は特に制限されず、公知の配向状態が挙げられる。配向状態としては、例えば、ホモジニアス配向、ホメオトロピック配向、ハイブリッド配向、コレステリック配向、捩れ配向、および、傾斜配向が挙げられる。なお、上記捩れ配向は、光学異方性層Ｂの厚み方向を回転軸として、光学異方性層Ｂの一方の主表面から他方の主表面まで液晶化合物が捩れている配向状態を表す。捩れ配向において、液晶化合物の捩れ角度（液晶化合物の配向方向の捩れ角度）は、通常、０°超３６０°以下の場合が多い。
【0077】
〔第２基材／第２位相差層〕
本発明の積層体は、図３に示す通り、上記第１基材と、上記第１位相差層と、第２位相差層と、第２基材とをこの順に有していてもよい。
第２基材および第２位相差層を有する態様においては、第１基材と第１位相差層との間の剥離力Ｐ１と、第２基材と第２位相差層との間の剥離力Ｐ２とが、下記式（Ａ）の関係を満たしていることが好ましい。
式（Ａ） Ｐ１＜Ｐ２
ここで、剥離力Ｐ２に関しても、上述した剥離力Ｐ１と同様の手順によって算出できる。より具体的には、積層体中の第２基材と第２位相差層との部分からなる評価サンプルを別途用意して、上述した方法により、剥離力Ｐ２を算出できる。
また、上記では、評価サンプルを別途作製する方法について述べたが、積層体中から第１基材を剥離した後の積層体中の第２基材上に上記手順により剥離用テープを貼合して、上記１８０°試験を実施することにより、剥離力Ｐ２を算出してもよい。
本発明の積層体は、図３に示す通り、上記第１基材と、上記第１位相差層と、第２位相差層と、第２基材とをこの順に有していてもよい。
第２基材および第２位相差層を有する態様においては、第１基材と第１位相差層との間の剥離力Ｐ１と、第２基材と第２位相差層との間の剥離力Ｐ２とが、下記式（Ａ）の関係を満たしていることが好ましい。
式（Ａ） Ｐ１＜Ｐ２
ここで、剥離力Ｐ２に関しても、上述した剥離力Ｐ１と同様の手順によって算出できる。より具体的には、積層体中の第２基材と第２位相差層との部分からなる評価サンプルを別途用意して、上述した方法により、剥離力Ｐ２を算出できる。
また、上記では、評価サンプルを別途作製する方法について述べたが、積層体中から第１基材を剥離した後の積層体中の第２基材上に上記手順により剥離用テープを貼合して、上記１８０°試験を実施することにより、剥離力Ｐ２を算出してもよい。
【0078】
＜第２基材＞
第２基材は、上述した第１基材と同様、転写用の仮支持体（剥離性支持体）であることが好ましい。
第２基材は、上述した第１基材と同様、転写用の仮支持体（剥離性支持体）であることが好ましい。
【0079】
＜第２位相差層＞
第２位相差層としては、配向した液晶化合物が固定されてなる層であることが好ましい。液晶化合物が重合性基を有する場合、後述する硬化処理によって、液晶化合物の配向状態を容易に固定化できる。
液晶化合物は、上述した第１位相差層で説明した通りである。
液晶化合物が配向した状態（配向状態）は特に制限されず、上述した光学異方性層Ｂで例示した配向状態が挙げられる。
第２位相差層としては、配向した液晶化合物が固定されてなる層であることが好ましい。液晶化合物が重合性基を有する場合、後述する硬化処理によって、液晶化合物の配向状態を容易に固定化できる。
液晶化合物は、上述した第１位相差層で説明した通りである。
液晶化合物が配向した状態（配向状態）は特に制限されず、上述した光学異方性層Ｂで例示した配向状態が挙げられる。
【0080】
第２位相差層は、垂直配向した棒状液晶化合物を固定してなる層であることが好ましい。なかでも、第２位相差層は、垂直配向した、重合性基を有する棒状液晶化合物が重合によって固定されて形成された層であることがより好ましい。
なお、棒状液晶化合物が垂直配向している状態とは、棒状液晶化合物の長軸と第２位相差層の厚み方向とが平行であることをいう。なお、厳密に平行であることを要求するものではなく、棒状液晶化合物の長軸と第２位相差層の厚み方向とのなす角度が０～２０°の範囲であることが好ましく、０～１０°の範囲内が好ましい。
なお、棒状液晶化合物が垂直配向している状態とは、棒状液晶化合物の長軸と第２位相差層の厚み方向とが平行であることをいう。なお、厳密に平行であることを要求するものではなく、棒状液晶化合物の長軸と第２位相差層の厚み方向とのなす角度が０～２０°の範囲であることが好ましく、０～１０°の範囲内が好ましい。
【0081】
第２位相差層の波長５５０ｎｍにおける厚み方向のレタデーションは特に制限されないが、－１２０～－１０ｎｍが好ましく、－１００～－３０ｎｍがより好ましい。
【0082】
第２位相差層の平均厚みは特に制限されず、１０μｍ以下が好ましく、０．１～５．０μｍがより好ましく、０．３～２．０μｍがさらに好ましい。
上記平均厚みは、第２位相差層の任意の５点以上の厚みを測定して、それらを算術平均して求める。
上記平均厚みは、第２位相差層の任意の５点以上の厚みを測定して、それらを算術平均して求める。
【0083】
〔光学異方性層Ｃ〕
本発明の積層体は、上記第２位相差層とは別に、光学異方性層を有していてもよい。具体的には、上述した第２位相差層を光学異方性層Ｄとする場合、光学異方性層Ｄ（第２位相差層）における上記第２基材と反対側に光学異方性層Ｃを有していてもよい。
このような光学異方性層Ｃを有する態様においては、光学異方性層Ｃの形成時に配向膜が不要となる理由から、光学異方性層Ｄが上述した光配向化合物を含有していることが好ましく、光学異方性層Ｄの第２基材側の表面から光学異方性層Ｃ側の表面に向かって、イオンビームを照射しながら飛行時間型二次イオン質量分析法で光学異方性層Ｄ中における光配向化合物の二次イオン強度を測定した際に、光学異方性層Ｄにおける第２基材側の表面から光学異方性層Ｄの全厚みの１０％に相当する深さ位置までの領域を基材側表層領域とし、光学異方性層Ｄにおける光学異方性層Ｃ側の表面から光学異方性層Ｄの全厚みの１０％に相当する深さ位置までの領域を光学異方性層Ｃ側表層領域とした場合、基材側表層領域における光配向化合物由来の二次イオン強度の平均値ＩＢ２よりも、光学異方性層Ｃ側表層領域における光配向化合物由来の二次イオン強度の平均値ＩＡ２が大きいことがより好ましい。
本発明の積層体は、上記第２位相差層とは別に、光学異方性層を有していてもよい。具体的には、上述した第２位相差層を光学異方性層Ｄとする場合、光学異方性層Ｄ（第２位相差層）における上記第２基材と反対側に光学異方性層Ｃを有していてもよい。
このような光学異方性層Ｃを有する態様においては、光学異方性層Ｃの形成時に配向膜が不要となる理由から、光学異方性層Ｄが上述した光配向化合物を含有していることが好ましく、光学異方性層Ｄの第２基材側の表面から光学異方性層Ｃ側の表面に向かって、イオンビームを照射しながら飛行時間型二次イオン質量分析法で光学異方性層Ｄ中における光配向化合物の二次イオン強度を測定した際に、光学異方性層Ｄにおける第２基材側の表面から光学異方性層Ｄの全厚みの１０％に相当する深さ位置までの領域を基材側表層領域とし、光学異方性層Ｄにおける光学異方性層Ｃ側の表面から光学異方性層Ｄの全厚みの１０％に相当する深さ位置までの領域を光学異方性層Ｃ側表層領域とした場合、基材側表層領域における光配向化合物由来の二次イオン強度の平均値ＩＢ２よりも、光学異方性層Ｃ側表層領域における光配向化合物由来の二次イオン強度の平均値ＩＡ２が大きいことがより好ましい。
【0084】
〔接着剤層／粘着剤層〕
本発明の積層体は、上述した第２基材および第２位相差層を有する場合、第１位相差層と第２位相差層との間に接着剤層または粘着剤層を有していてもよい。
接着剤層としては、公知の接着剤層が挙げられる。接着剤層は、例えば、紫外線硬化型接着剤を塗布して塗膜を形成して、紫外線を照射して硬化することにより形成される。
粘着剤層としては、公知の粘着剤層が挙げられる。
本発明の積層体は、上述した第２基材および第２位相差層を有する場合、第１位相差層と第２位相差層との間に接着剤層または粘着剤層を有していてもよい。
接着剤層としては、公知の接着剤層が挙げられる。接着剤層は、例えば、紫外線硬化型接着剤を塗布して塗膜を形成して、紫外線を照射して硬化することにより形成される。
粘着剤層としては、公知の粘着剤層が挙げられる。
【0085】
〔製造方法〕
上述した積層体の製造方法は、上述した特性の積層体を製造できれば特に制限されない。なかでも、積層体の生産性が優れる点で、以下の工程１～３を有する積層体の製造方法が好ましい。なお、以下では、上述した第２基材および第２位相差層を有する積層体の製造方法について説明しているが、上述した第２基材および第２位相差層を有していない積層体については、下記工程１のみで作製することができる。
工程１：重合性基を有する液晶化合物を含む第１位相差層形成用組成物を第１基材上に塗布して第１組成物層を形成し、第１組成物層中の液晶化合物を水平配向させた後、第１組成物層に硬化処理を施し、第１基材と第１位相差層とを含む積層体（以下、「第１フィルム」と略す。）を得る工程
工程２：重合性基を有する液晶化合物およびポリマーを含む第２位相差層形成用組成物を第２基材上に塗布して第２組成物層を形成し、第２組成物層中の液晶化合物を配向させた後、第２組成物層に硬化処理を施し、第２基材と第２位相差層とを含む第２フィルムを得る工程
工程３：第１フィルム中の第１位相差層と第２フィルム中の第２位相差層とが対向するように、第１フィルムおよび第２フィルムを貼合して、積層体を得る工程
以下、工程１～工程３の手順について詳述する。
上述した積層体の製造方法は、上述した特性の積層体を製造できれば特に制限されない。なかでも、積層体の生産性が優れる点で、以下の工程１～３を有する積層体の製造方法が好ましい。なお、以下では、上述した第２基材および第２位相差層を有する積層体の製造方法について説明しているが、上述した第２基材および第２位相差層を有していない積層体については、下記工程１のみで作製することができる。
工程１：重合性基を有する液晶化合物を含む第１位相差層形成用組成物を第１基材上に塗布して第１組成物層を形成し、第１組成物層中の液晶化合物を水平配向させた後、第１組成物層に硬化処理を施し、第１基材と第１位相差層とを含む積層体（以下、「第１フィルム」と略す。）を得る工程
工程２：重合性基を有する液晶化合物およびポリマーを含む第２位相差層形成用組成物を第２基材上に塗布して第２組成物層を形成し、第２組成物層中の液晶化合物を配向させた後、第２組成物層に硬化処理を施し、第２基材と第２位相差層とを含む第２フィルムを得る工程
工程３：第１フィルム中の第１位相差層と第２フィルム中の第２位相差層とが対向するように、第１フィルムおよび第２フィルムを貼合して、積層体を得る工程
以下、工程１～工程３の手順について詳述する。
【0086】
＜工程１＞
工程１は、第１位相差層形成用組成物を第１基材上に塗布して第１組成物層を形成し、第１組成物層中の液晶化合物を水平配向させた後、第１組成物層に硬化処理を施し、第１基材と第１位相差層とを含む第１フィルムを得る工程である。
工程１は、第１位相差層形成用組成物を第１基材上に塗布して第１組成物層を形成し、第１組成物層中の液晶化合物を水平配向させた後、第１組成物層に硬化処理を施し、第１基材と第１位相差層とを含む第１フィルムを得る工程である。
【0087】
第１位相差層形成用組成物は、重合性基を有する液晶化合物を含む。液晶化合物の態様は、上述した通りである。
第１位相差層形成用組成物中における重合性基を有する液晶化合物の含有量は、第１位相差層形成用組成物の全固形分に対して、６０～９９質量％が好ましく、７０～９８質量％がより好ましい。
なお、固形分とは、溶媒を除去した、第１位相差層を形成し得る成分を意味し、その性状が液体状であっても固形分とする。
第１位相差層形成用組成物中における重合性基を有する液晶化合物の含有量は、第１位相差層形成用組成物の全固形分に対して、６０～９９質量％が好ましく、７０～９８質量％がより好ましい。
なお、固形分とは、溶媒を除去した、第１位相差層を形成し得る成分を意味し、その性状が液体状であっても固形分とする。
【0088】
第１位相差層形成用組成物は、特定ポリマーを含む。特定ポリマーの態様は、上述した第１位相差層中で説明した通りである。
第１位相差層形成用組成物中における特定ポリマーの含有量は、第１位相差層形成用組成物の全固形分に対して、０．１～１０質量％が好ましく、０．２～５質量％がより好ましい。
第１位相差層形成用組成物中における特定ポリマーの含有量は、第１位相差層形成用組成物の全固形分に対して、０．１～１０質量％が好ましく、０．２～５質量％がより好ましい。
【0089】
第１位相差層形成用組成物は、重合開始剤を含んでいてもよい。使用される重合開始剤は、重合反応の形式に応じて選択され、例えば、熱重合開始剤、および、光重合開始剤が挙げられる。
第１位相差層形成用組成物中における重合開始剤の含有量は、第１位相差層形成用組成物の全固形分に対して、０．０１～２０質量％が好ましく、０．５～１０質量％がより好ましい。
第１位相差層形成用組成物中における重合開始剤の含有量は、第１位相差層形成用組成物の全固形分に対して、０．０１～２０質量％が好ましく、０．５～１０質量％がより好ましい。
【0090】
第１位相差層形成用組成物に含まれていてもよい他の成分としては、上記以外にも、多官能モノマー、水平配向剤、界面活性剤、密着改良剤、可塑剤、および、溶媒が挙げられる。
【0091】
第１位相差層形成用組成物の塗布方法としては、カーテンコーティング法、ディップコーティング法、スピンコーティング法、印刷コーティング法、スプレーコーティング法、スロットコーティング法、ロールコーティング法、スライドコーティング法、ブレードコーティング法、グラビアコーティング法、および、ワイヤーバー法が挙げられる。
【0092】
第１位相差層形成用組成物を塗布した後、必要に応じて、乾燥処理を実施してもよい。
【0093】
形成された第１組成物中の液晶化合物を水平配向させる処理（配向処理）は特に制限されず、第１組成物層を加熱する方法が好ましい。
第１組成物層を加熱する場合の条件は特に制限されないが、加熱温度としては５０～２５０℃が好ましく、５０～１５０℃がより好ましく、加熱時間としては１０秒間～１０分間が好ましい。
また、第１組成物層を加熱した後、後述する硬化処理（光照射処理）の前に、必要に応じて、第１組成物層を冷却してもよい。
第１組成物層を加熱する場合の条件は特に制限されないが、加熱温度としては５０～２５０℃が好ましく、５０～１５０℃がより好ましく、加熱時間としては１０秒間～１０分間が好ましい。
また、第１組成物層を加熱した後、後述する硬化処理（光照射処理）の前に、必要に応じて、第１組成物層を冷却してもよい。
【0094】
第１組成物層に対して実施される硬化処理の方法は特に制限されず、例えば、光照射処理および加熱処理が挙げられる。なかでも、製造適性の点から、光照射処理が好ましく、紫外線照射処理がより好ましい。
光照射処理の照射条件は特に制限されないが、５０～１０００ｍＪ／ｃｍ２の照射量が好ましい。
光照射処理の際の雰囲気は特に制限されないが、窒素雰囲気が好ましい。
光照射処理の照射条件は特に制限されないが、５０～１０００ｍＪ／ｃｍ２の照射量が好ましい。
光照射処理の際の雰囲気は特に制限されないが、窒素雰囲気が好ましい。
【0095】
＜工程２＞
工程２は、第２位相差層形成用組成物を第２基材上に塗布して第２組成物層を形成し、第２組成物層中の液晶化合物を配向させた後、第２組成物層に硬化処理を施し、第２基材と第２位相差層とを含む第２フィルムを得る工程である。
工程２は、第２位相差層形成用組成物を第２基材上に塗布して第２組成物層を形成し、第２組成物層中の液晶化合物を配向させた後、第２組成物層に硬化処理を施し、第２基材と第２位相差層とを含む第２フィルムを得る工程である。
【0096】
第２位相差層形成用組成物は、重合性基を有する液晶化合物を含む。液晶化合物の態様は、上述した通りである。
第２位相差層形成用組成物中における重合性基を有する液晶化合物の含有量は、第２位相差層形成用組成物の全固形分に対して、６０～９９質量％が好ましく、７０～９８質量％がより好ましい。
なお、固形分とは、溶媒を除去した、第２位相差層を形成し得る成分を意味し、その性状が液体状であっても固形分とする。
第２位相差層形成用組成物中における重合性基を有する液晶化合物の含有量は、第２位相差層形成用組成物の全固形分に対して、６０～９９質量％が好ましく、７０～９８質量％がより好ましい。
なお、固形分とは、溶媒を除去した、第２位相差層を形成し得る成分を意味し、その性状が液体状であっても固形分とする。
【0097】
第２位相差層形成用組成物は、重合性基を有する液晶化合物以外の他の化合物を含んでいてもよい。
他の成分は、第１位相差層形成用組成物に含まれていてもよい他の成分が挙げられる。
他の成分は、第１位相差層形成用組成物に含まれていてもよい他の成分が挙げられる。
【0098】
第２位相差層形成用組成物に含まれる溶媒としては、第２基材およびポリマーとの相溶性を考慮して選択されることが好ましい。
例えば、第２基材がセルロースアシレートフィルムである場合、例えば、メチルエチルケトンはセルロースアシレートとの相溶性に優れるため、メチルエチルケトンの含有量を増やすことにより偏在度を高めることができる。
例えば、第２基材がセルロースアシレートフィルムである場合、例えば、メチルエチルケトンはセルロースアシレートとの相溶性に優れるため、メチルエチルケトンの含有量を増やすことにより偏在度を高めることができる。
【0099】
第２位相差層形成用組成物を用いた第２位相差層の形成方法の手順は、工程１における第１位相差層形成用組成物を用いた第１位相差層の形成方法の手順と同じであるため、説明を省略する。
【0100】
＜工程３＞
工程３は、第１フィルム中の第１位相差層と第２フィルム中の第２位相差層とが対向するように、第１フィルムおよび第２フィルムを貼合して、積層体を得る工程である。
第１フィルムと第２フィルムとを貼合する際には、上述した接着剤層または粘着剤層を介して貼合することが好ましい。
接着剤層を用いる場合には、例えば、第１フィルムの第１位相差層側の表面に接着剤を塗布して、接着剤が塗布された表面と第２フィルムの第２位相差層とを接触させて第１フィルムと第２フィルムとを貼合し、硬化処理を施すことにより、所望の積層体が得られる。接着剤が紫外線硬化型接着剤である場合、上記硬化処理としては紫外線照射処理が挙げられる。
また、密着層として粘着剤層を用いる場合には、例えば、第１フィルムの第１位相差層側の表面に粘着剤を塗布して、粘着剤が塗布された表面と第２フィルムの第２位相差層とを接触させて第１フィルムと第２フィルムとを貼合して、所望の積層体が得られる。
工程３は、第１フィルム中の第１位相差層と第２フィルム中の第２位相差層とが対向するように、第１フィルムおよび第２フィルムを貼合して、積層体を得る工程である。
第１フィルムと第２フィルムとを貼合する際には、上述した接着剤層または粘着剤層を介して貼合することが好ましい。
接着剤層を用いる場合には、例えば、第１フィルムの第１位相差層側の表面に接着剤を塗布して、接着剤が塗布された表面と第２フィルムの第２位相差層とを接触させて第１フィルムと第２フィルムとを貼合し、硬化処理を施すことにより、所望の積層体が得られる。接着剤が紫外線硬化型接着剤である場合、上記硬化処理としては紫外線照射処理が挙げられる。
また、密着層として粘着剤層を用いる場合には、例えば、第１フィルムの第１位相差層側の表面に粘着剤を塗布して、粘着剤が塗布された表面と第２フィルムの第２位相差層とを接触させて第１フィルムと第２フィルムとを貼合して、所望の積層体が得られる。
【0101】
［光学フィルム］
本発明の光学フィルムは、上述した本発明の積層体から第１基材（本発明の積層体が第２基材を有する場合には第１基材および第２基材）を剥離してなる光学フィルムであり、第１位相差層（本発明の積層体が第２位相差層を有する場合には第１位相差層および第２位相差層）を有する。
本発明の光学フィルムは、いわゆるλ／４板として機能してもよい。
λ／４板は、ある特定の波長の直線偏光を円偏光に（または、円偏光を直線偏光に）変換する機能を有する板であり、特定の波長λｎｍにおける面内レタデーションＲｅ（λ）がＲｅ（λ）＝λ／４を満たす板（光学異方性層）のことをいう。
この式は、可視光域のいずれかの波長（例えば、５５０ｎｍ）において達成されていればよいが、波長５５０ｎｍにおける面内レタデーションＲｅ（５５０）が、１１０ｎｍ≦Ｒｅ（５５０）≦１８０ｎｍの関係を満たすことが好ましい。
本発明の光学フィルムは、上述した本発明の積層体から第１基材（本発明の積層体が第２基材を有する場合には第１基材および第２基材）を剥離してなる光学フィルムであり、第１位相差層（本発明の積層体が第２位相差層を有する場合には第１位相差層および第２位相差層）を有する。
本発明の光学フィルムは、いわゆるλ／４板として機能してもよい。
λ／４板は、ある特定の波長の直線偏光を円偏光に（または、円偏光を直線偏光に）変換する機能を有する板であり、特定の波長λｎｍにおける面内レタデーションＲｅ（λ）がＲｅ（λ）＝λ／４を満たす板（光学異方性層）のことをいう。
この式は、可視光域のいずれかの波長（例えば、５５０ｎｍ）において達成されていればよいが、波長５５０ｎｍにおける面内レタデーションＲｅ（５５０）が、１１０ｎｍ≦Ｒｅ（５５０）≦１８０ｎｍの関係を満たすことが好ましい。
【0102】
［偏光板］
本発明の光学フィルムは、偏光子と組み合わせて偏光板として用いてもよく、円偏光板として用いることが好ましい。なお、円偏光板とは、無偏光の光を円偏光に変換する光学素子である。
上記構成を有する本発明の偏光板は、液晶表示装置（ＬＣＤ）、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）、および、陰極管表示装置（ＣＲＴ）のような表示装置の反射防止用途に好適に用いられる。
本発明の光学フィルムは、偏光子と組み合わせて偏光板として用いてもよく、円偏光板として用いることが好ましい。なお、円偏光板とは、無偏光の光を円偏光に変換する光学素子である。
上記構成を有する本発明の偏光板は、液晶表示装置（ＬＣＤ）、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）、および、陰極管表示装置（ＣＲＴ）のような表示装置の反射防止用途に好適に用いられる。
【0103】
偏光子は、自然光を特定の直線偏光に変換する機能を有する部材であればよく、例えば、吸収型偏光子が挙げられる。
偏光子の種類は特に制限はなく、通常用いられている偏光子を利用でき、例えば、ヨウ素系偏光子、二色性物質を利用した染料系偏光子、および、ポリエン系偏光子が挙げられる。ヨウ素系偏光子および染料系偏光子は、一般に、ポリビニルアルコールにヨウ素または二色性染料を吸着させ、延伸することで作製される。
なお、偏光子の片面または両面には、保護膜が配置されていてもよい。
偏光子の種類は特に制限はなく、通常用いられている偏光子を利用でき、例えば、ヨウ素系偏光子、二色性物質を利用した染料系偏光子、および、ポリエン系偏光子が挙げられる。ヨウ素系偏光子および染料系偏光子は、一般に、ポリビニルアルコールにヨウ素または二色性染料を吸着させ、延伸することで作製される。
なお、偏光子の片面または両面には、保護膜が配置されていてもよい。
【0104】
偏光子の吸収軸と光学フィルムとの配置関係は特に制限されず、光学フィルムに含まれる液晶層の種類に応じて最適な配置が選択される。
例えば、光学フィルム中の第１位相差層がネガティブＡプレートである場合、偏光子の吸収軸とネガティブＡプレートの面内遅相軸とのなす角度は、４５～１３５°の範囲内が好ましい。
例えば、光学フィルム中の第１位相差層がネガティブＡプレートである場合、偏光子の吸収軸とネガティブＡプレートの面内遅相軸とのなす角度は、４５～１３５°の範囲内が好ましい。
【0105】
上記偏光板は、本発明の光学フィルムおよび偏光子以外の他の部材を有していてもよい。
偏光板は、本発明の光学フィルムと偏光子との間に、接着剤層または粘着剤層を有していてもよい。
また、偏光板は、本発明の光学フィルムと偏光子との間に、ポリマーフィルムを有していてもよいが、薄型化の点から、ポリマーフィルムを有さないことが好ましい。ポリマーフィルムとしては、例えば、セルロースアシレートフィルムが挙げられる。
偏光板は、本発明の光学フィルムと偏光子との間に、接着剤層または粘着剤層を有していてもよい。
また、偏光板は、本発明の光学フィルムと偏光子との間に、ポリマーフィルムを有していてもよいが、薄型化の点から、ポリマーフィルムを有さないことが好ましい。ポリマーフィルムとしては、例えば、セルロースアシレートフィルムが挙げられる。
【0106】
上記偏光板の製造方法は特に制限されず、公知の方法が挙げられる。
例えば、偏光子と、光学フィルムとを接着剤層または粘着剤層を介して貼合する方法が挙げられる。
例えば、偏光子と、光学フィルムとを接着剤層または粘着剤層を介して貼合する方法が挙げられる。
【0107】
［画像表示装置］
本発明の光学フィルムおよび偏光板は、画像表示装置に好適に適用できる。
本発明の画像表示装置は、表示素子と、上述した光学フィルムまたは偏光板とを有する。
本発明の光学フィルムを画像表示装置に適用する際には、円偏光板として適用することが好ましい。この場合、円偏光板は視認側に配置され、円偏光板中、偏光子が視認側に配置される。
表示素子は特に制限されず、有機エレクトロルミネッセンス表示素子、および、液晶表示素子が挙げられる。
本発明の光学フィルムおよび偏光板は、画像表示装置に好適に適用できる。
本発明の画像表示装置は、表示素子と、上述した光学フィルムまたは偏光板とを有する。
本発明の光学フィルムを画像表示装置に適用する際には、円偏光板として適用することが好ましい。この場合、円偏光板は視認側に配置され、円偏光板中、偏光子が視認側に配置される。
表示素子は特に制限されず、有機エレクトロルミネッセンス表示素子、および、液晶表示素子が挙げられる。
【実施例0108】
以下に実施例に基づいて本発明を更に詳細に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り適宜変更することができる。したがって、本発明の範囲は以下に示す実施例により限定的に解釈されるべきものではない。
【0109】
［実施例１］
〔第１基材（セルロースアシレートフィルム）の作製〕
下記組成物をミキシングタンクに投入し、撹拌して、さらに９０℃で１０分間加熱した。その後、得られた組成物を、平均孔径３４μｍのろ紙および平均孔径１０μｍの焼結金属フィルターでろ過して、ドープを調製した。ドープの固形分濃度は２３．５質量％であり、ドープの溶媒は塩化メチレン／メタノール／ブタノール＝８１／１８／１（質量比）である。
〔第１基材（セルロースアシレートフィルム）の作製〕
下記組成物をミキシングタンクに投入し、撹拌して、さらに９０℃で１０分間加熱した。その後、得られた組成物を、平均孔径３４μｍのろ紙および平均孔径１０μｍの焼結金属フィルターでろ過して、ドープを調製した。ドープの固形分濃度は２３．５質量％であり、ドープの溶媒は塩化メチレン／メタノール／ブタノール＝８１／１８／１（質量比）である。
【0110】
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セルロースアシレートドープ
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・セルロースアシレート
（アセチル置換度２．８６、粘度平均重合度３１０） １００質量部
・糖エステル化合物１（下記式（Ｓ４）に示す） ６．０質量部
・糖エステル化合物２（下記式（Ｓ５）に示す） ２．０質量部
・シリカ粒子分散液
（ＡＥＲＯＳＩＬ Ｒ９７２、日本アエロジル（株）製） ０．１質量部
・溶媒（塩化メチレン／メタノール／ブタノール）
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セルロースアシレートドープ
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・セルロースアシレート
（アセチル置換度２．８６、粘度平均重合度３１０） １００質量部
・糖エステル化合物１（下記式（Ｓ４）に示す） ６．０質量部
・糖エステル化合物２（下記式（Ｓ５）に示す） ２．０質量部
・シリカ粒子分散液
（ＡＥＲＯＳＩＬ Ｒ９７２、日本アエロジル（株）製） ０．１質量部
・溶媒（塩化メチレン／メタノール／ブタノール）
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【0111】
【化7】
【0112】
【化8】
【0113】
上記で作製したドープを、ドラム製膜機を用いて流延した。０℃に冷却された金属支持体上に接するようにドープをダイから流延し、その後、得られたウェブ（フィルム）を剥ぎ取った。なお、ドラムはＳＵＳ（ステンレス鋼）製であった。
【0114】
流延されて得られたウェブ（フィルム）を、ドラムから剥離後、フィルム搬送時に３０～４０℃で、クリップでウェブの両端をクリップして搬送するテンター装置を用いてテンター装置内で２０分間乾燥した。引き続き、ウェブをロール搬送しながらゾーン加熱により後乾燥した。得られたウェブにナーリングを施した後、巻き取った。
得られたセルロースアシレートフィルムの膜厚は４０μｍであった。
得られたセルロースアシレートフィルムの膜厚は４０μｍであった。
【0115】
〔第１位相差層の形成〕
上記の第１基材上にギーサー塗布機を用いて、下記の組成の円盤状液晶化合物を含む光学異方性層形成用組成物（１－１）を塗布して、組成物層を形成した。組成物層の形成されたフィルムを温風にて１１６℃で１分間加熱し、ＵＶ温度７８℃にて酸素濃度が１００体積ｐｐｍ以下の雰囲気になるように窒素パージしながら３６５ｎｍのＵＶ－ＬＥＤを用いて、照射量１５０ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射した。その後、得られた塗膜に、温風にて１１５℃で２５秒間アニーリングすることで、第１位相差層に該当する光学異方性層（１－１）を形成し、積層体を作製した。
なお、形成した光学異方性層（１－１）の膜厚は２μｍであった。波長５５０ｎｍにおける面内レタデーションＲｅは０ｎｍであり、波長５５０ｎｍにおける厚み方向のレタデーションＲｔｈは６０ｎｍであった。円盤状液晶化合物の円盤面のフィルム面に対する平均傾斜角は０°であり、フィルム面に対して、水平に配向していることを確認した。
上記の第１基材上にギーサー塗布機を用いて、下記の組成の円盤状液晶化合物を含む光学異方性層形成用組成物（１－１）を塗布して、組成物層を形成した。組成物層の形成されたフィルムを温風にて１１６℃で１分間加熱し、ＵＶ温度７８℃にて酸素濃度が１００体積ｐｐｍ以下の雰囲気になるように窒素パージしながら３６５ｎｍのＵＶ－ＬＥＤを用いて、照射量１５０ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射した。その後、得られた塗膜に、温風にて１１５℃で２５秒間アニーリングすることで、第１位相差層に該当する光学異方性層（１－１）を形成し、積層体を作製した。
なお、形成した光学異方性層（１－１）の膜厚は２μｍであった。波長５５０ｎｍにおける面内レタデーションＲｅは０ｎｍであり、波長５５０ｎｍにおける厚み方向のレタデーションＲｔｈは６０ｎｍであった。円盤状液晶化合物の円盤面のフィルム面に対する平均傾斜角は０°であり、フィルム面に対して、水平に配向していることを確認した。
【0116】
―――――――――――――――――――――――――――――――――
光学異方性層形成用組成物（１－１）
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・下記の円盤状液晶化合物１ ４質量部
・下記の円盤状液晶化合物２ １質量部
・下記の円盤状液晶化合物３ ９５．０質量部
・下記の重合性モノマー１ １２．０質量部
・下記の重合開始剤Ｓ－１（オキシム型） ３．０質量部
・下記の光酸発生剤Ｄ－１ ３．０質量部
・下記の空気側偏在ポリマーＢ－１ ０．６質量部
・下記の基材側偏在ポリマーＰ－１（特定ポリマー） ０．６質量部
・ジイソプロピルエチルアミン ０．２質量部
・メチルイソブチルケトン ３６０質量部
・プロピオン酸エチル ９０質量部
・メチルエチルケトン ２５質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――
光学異方性層形成用組成物（１－１）
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・下記の円盤状液晶化合物１ ４質量部
・下記の円盤状液晶化合物２ １質量部
・下記の円盤状液晶化合物３ ９５．０質量部
・下記の重合性モノマー１ １２．０質量部
・下記の重合開始剤Ｓ－１（オキシム型） ３．０質量部
・下記の光酸発生剤Ｄ－１ ３．０質量部
・下記の空気側偏在ポリマーＢ－１ ０．６質量部
・下記の基材側偏在ポリマーＰ－１（特定ポリマー） ０．６質量部
・ジイソプロピルエチルアミン ０．２質量部
・メチルイソブチルケトン ３６０質量部
・プロピオン酸エチル ９０質量部
・メチルエチルケトン ２５質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――
【0117】
円盤状液晶化合物１
【化9】
【0118】
円盤状液晶化合物２
【化10】
【0119】
円盤状液晶化合物２
【化11】
【0120】
重合性モノマー１
【化12】
【0121】
重合開始剤Ｓ－１
【化13】
【0122】
光酸発生剤Ｄ－１
【化14】
【0123】
空気側偏在ポリマーＢ－１（各繰り返し単位中の数値は全繰り返し単位に対する含有量（質量％）を表す。また、重量平均分子量は１２５００であった。）
【化15】
【0124】
基材側偏在ポリマーＰ－１（重量平均分子量：７８００）
【化16】
【0125】
［比較例１］
基材側偏在ポリマーＰ－１を用いない以外は、実施例１と同じ方法で積層体を作製した。
基材側偏在ポリマーＰ－１を用いない以外は、実施例１と同じ方法で積層体を作製した。
【0126】
［比較例２］
特定ポリマーとして、基材側偏在ポリマーＰ－１の代わりに、以下に示す基材側偏在ポリマーＰ－９を用いた以外は、実施例１と同じ方法で積層体を作製した。
特定ポリマーとして、基材側偏在ポリマーＰ－１の代わりに、以下に示す基材側偏在ポリマーＰ－９を用いた以外は、実施例１と同じ方法で積層体を作製した。
【0127】
基材側偏在ポリマーＰ－９（重量平均分子量：９０００）
【化17】
【0128】
［実施例２］
特定ポリマーとして、基材側偏在ポリマーＰ－１の代わりに、以下に示す基材側偏在ポリマーＰ－２を用いた以外は、実施例１と同じ方法で積層体を作製した。
特定ポリマーとして、基材側偏在ポリマーＰ－１の代わりに、以下に示す基材側偏在ポリマーＰ－２を用いた以外は、実施例１と同じ方法で積層体を作製した。
【0129】
基材側偏在ポリマーＰ－２（重量平均分子量：６３００）
【化18】
【0130】
［実施例３］
特定ポリマーとして、基材側偏在ポリマーＰ－１の代わりに、以下に示す基材側偏在ポリマーＰ－３を用いた以外は、実施例１と同じ方法で積層体を作製した。
特定ポリマーとして、基材側偏在ポリマーＰ－１の代わりに、以下に示す基材側偏在ポリマーＰ－３を用いた以外は、実施例１と同じ方法で積層体を作製した。
【0131】
基材側偏在ポリマーＰ－３（重量平均分子量：７２００）
【化19】
【0132】
［実施例４］
特定ポリマーとして、基材側偏在ポリマーＰ－１の代わりに、以下に示す基材側偏在ポリマーＰ－４を用いた以外は、実施例１と同じ方法で積層体を作製した。
特定ポリマーとして、基材側偏在ポリマーＰ－１の代わりに、以下に示す基材側偏在ポリマーＰ－４を用いた以外は、実施例１と同じ方法で積層体を作製した。
【0133】
基材側偏在ポリマーＰ－４（重量平均分子量：６８００）
【化20】
【0134】
［実施例５］
特定ポリマーとして、基材側偏在ポリマーＰ－１の代わりに、以下に示す基材側偏在ポリマーＰ－５を用いた以外は、実施例１と同じ方法で積層体を作製した。
特定ポリマーとして、基材側偏在ポリマーＰ－１の代わりに、以下に示す基材側偏在ポリマーＰ－５を用いた以外は、実施例１と同じ方法で積層体を作製した。
【0135】
基材側偏在ポリマーＰ－５（重量平均分子量：８４００）
【化21】
【0136】
［実施例６］
特定ポリマーとして、基材側偏在ポリマーＰ－１の代わりに、以下に示す基材側偏在ポリマーＰ－６を用いた以外は、実施例１と同じ方法で積層体を作製した。
特定ポリマーとして、基材側偏在ポリマーＰ－１の代わりに、以下に示す基材側偏在ポリマーＰ－６を用いた以外は、実施例１と同じ方法で積層体を作製した。
【0137】
基材側偏在ポリマーＰ－６（重量平均分子量：７７００）
【化22】
【0138】
［実施例７］
特定ポリマーとして、基材側偏在ポリマーＰ－１の代わりに、以下に示す基材側偏在ポリマーＰ－７を用いた以外は、実施例１と同じ方法で積層体を作製した。
特定ポリマーとして、基材側偏在ポリマーＰ－１の代わりに、以下に示す基材側偏在ポリマーＰ－７を用いた以外は、実施例１と同じ方法で積層体を作製した。
【0139】
基材側偏在ポリマーＰ－７（重量平均分子量：６７００）
【化23】
【0140】
［実施例８］
特定ポリマーとして、基材側偏在ポリマーＰ－１の代わりに、以下に示す基材側偏在ポリマーＰ－８を用いた以外は、実施例１と同じ方法で積層体を作製した。
特定ポリマーとして、基材側偏在ポリマーＰ－１の代わりに、以下に示す基材側偏在ポリマーＰ－８を用いた以外は、実施例１と同じ方法で積層体を作製した。
【0141】
基材側偏在ポリマーＰ－８（重量平均分子量：６５００）
【化24】
【0142】
［実施例９］
空気側偏在ポリマーＢ－１の代わりに、以下に示す空気側偏在ポリマーＢ－２を用いた以外は、実施例７と同じ方法で積層体を作製した。
空気側偏在ポリマーＢ－１の代わりに、以下に示す空気側偏在ポリマーＢ－２を用いた以外は、実施例７と同じ方法で積層体を作製した。
【0143】
空気側偏在ポリマーＢ－２（各繰り返し単位中に記載のアルファベットは、全繰り返し単位に対する、各繰り返し単位の含有量（質量％）を表し、左側の繰り返し単位から５３質量％、４７質量％であった。また、重量平均分子量は１８３０００であった。）
【化25】
【0144】
［実施例１０］
実施例９と同様の方法で形成した第１位相差層を光学異方性層Ａとし、得られた光学異方性層Ａに、室温で、ワイヤーグリッド偏光子を通したＵＶ光（超高圧水銀ランプ；ＵＬ７５０；ＨＯＹＡ製）を７．９ｍＪ／ｃｍ２（波長：３１３ｎｍ）照射することで、表面に配向制御能を有する組成物層を形成した。
上記光学異方性層Ａ上にギーサー塗布機を用いて、下記の組成の棒状液晶化合物を含む光学異方性層形成用組成物（１－２）を塗布し、９５℃の温風で１２０秒間加熱した。続いて、得られた組成物層に対して９５℃にてＵＶ照射（１００ｍＪ／ｃｍ２）を行い、液晶化合物の配向を固定化して、光学異方性層Ｂに該当する光学異方性層（１－２）を形成し、積層体を作製した。
光学異方性層（１－２）の厚みは１．５μｍであり、波長５５０ｎｍにおけるΔｎｄは１５３ｎｍであった。円盤状液晶化合物の円盤面のフィルム面に対する平均傾斜角は９０°であり、フィルム面に対して、垂直に配向していることを確認した。
フィルムの幅方向を０°（長手方向は反時計回りを９０°、時計回りを－９０°）とすると、光学異方性層（１－２）側から見たとき、光学異方性層（１－２）の面内遅相軸方向は－１４°であった。
実施例９と同様の方法で形成した第１位相差層を光学異方性層Ａとし、得られた光学異方性層Ａに、室温で、ワイヤーグリッド偏光子を通したＵＶ光（超高圧水銀ランプ；ＵＬ７５０；ＨＯＹＡ製）を７．９ｍＪ／ｃｍ２（波長：３１３ｎｍ）照射することで、表面に配向制御能を有する組成物層を形成した。
上記光学異方性層Ａ上にギーサー塗布機を用いて、下記の組成の棒状液晶化合物を含む光学異方性層形成用組成物（１－２）を塗布し、９５℃の温風で１２０秒間加熱した。続いて、得られた組成物層に対して９５℃にてＵＶ照射（１００ｍＪ／ｃｍ２）を行い、液晶化合物の配向を固定化して、光学異方性層Ｂに該当する光学異方性層（１－２）を形成し、積層体を作製した。
光学異方性層（１－２）の厚みは１．５μｍであり、波長５５０ｎｍにおけるΔｎｄは１５３ｎｍであった。円盤状液晶化合物の円盤面のフィルム面に対する平均傾斜角は９０°であり、フィルム面に対して、垂直に配向していることを確認した。
フィルムの幅方向を０°（長手方向は反時計回りを９０°、時計回りを－９０°）とすると、光学異方性層（１－２）側から見たとき、光学異方性層（１－２）の面内遅相軸方向は－１４°であった。
【0145】
―――――――――――――――――――――――――――――――――
光学異方性層形成用組成物（１－２）
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・上記の円盤状液晶化合物１ ８０質量部
・上記の円盤状液晶化合物２ ２０質量部
・下記の配向膜界面配向剤１ １．８質量部
・上記の重合性モノマー１ １０．０質量部
・上記の重合開始剤Ｓ－１（オキシム型） ５．０質量部
・下記の含フッ素化合物Ａ ０．１質量部
・下記の含フッ素化合物Ｂ ０．２１質量部
・下記の含フッ素化合物Ｃ ０．０６質量部
・下記の消泡剤１ ２．１質量部
・メチルエチルケトン ２９９質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――
光学異方性層形成用組成物（１－２）
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・上記の円盤状液晶化合物１ ８０質量部
・上記の円盤状液晶化合物２ ２０質量部
・下記の配向膜界面配向剤１ １．８質量部
・上記の重合性モノマー１ １０．０質量部
・上記の重合開始剤Ｓ－１（オキシム型） ５．０質量部
・下記の含フッ素化合物Ａ ０．１質量部
・下記の含フッ素化合物Ｂ ０．２１質量部
・下記の含フッ素化合物Ｃ ０．０６質量部
・下記の消泡剤１ ２．１質量部
・メチルエチルケトン ２９９質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――
【0146】
配向膜界面配向剤１
【化26】
【0147】
含フッ素化合物Ａ（下記式中、ａおよびｂは、全繰り返し単位に対する各繰り返し単位の含有量（質量％）を表し、ａは９０質量％、ｂは１０質量％を表す。また、重量平均分子量は１５０００であった。）
【化27】
【0148】
含フッ素化合物Ｄ（各繰り返し単位中の数値は全繰り返し単位に対する含有量（質量％）を表す。また、重量平均分子量は１２５００であった。）
【化28】
【0149】
含フッ素化合物Ｅ（左側の繰り返し単位の含有量は３６質量％で、右側の繰り返し単位の含有量は６４質量％であった。また、重量平均分子量は１２５００であった。）
【化29】
【0150】
消泡剤１
【化30】
【0151】
［実施例１１］
〔第２位相差層の形成〕
第２基材として実施例１に記載のセルロースアシレートフィルムを用い、セルロースアシレートフィルム上に、ギーサー塗布機を用いて、下記の組成の棒状液晶化合物を含む光学異方性層形成用組成物（１－４）を塗布して、組成物層を形成した。組成物層の形成されたフィルムを温風にて６０℃で１分間加熱し、酸素濃度が１００体積ｐｐｍ以下の雰囲気になるように窒素パージしながら３６５ｎｍのＵＶ－ＬＥＤを用いて、照射量１００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射した。その後、得られた塗膜に、温風にて１２０℃で１分間アニーリングすることで第２位相差層（光学異方性層Ｄ）に該当する光学異方性層（１－４）を形成した。
上記長尺状フィルムを巻き取らずに連続搬送しながら、光学異方性層（１－４）に、ワイヤーグリッド偏光子を通したＵＶ光（超高圧水銀ランプ；ＵＬ７５０；ＨＯＹＡ製）を７．９ｍＪ／ｃｍ２（波長：３１３ｎｍ）照射することで、表面に配向制御能を有する組成物層を形成した。
なお、形成した光学異方性層（１－４）の膜厚は０．７μｍであった。波長５５０ｎｍにおける面内レタデーションＲｅは０ｎｍであり、波長５５０ｎｍにおける厚み方向のレタデーションＲｔｈは－８５ｎｍであった。棒状液晶化合物の長軸方向のフィルム面に対する平均傾斜角は９０°であり、フィルム面に対して、垂直に配向していることを確認した。
〔第２位相差層の形成〕
第２基材として実施例１に記載のセルロースアシレートフィルムを用い、セルロースアシレートフィルム上に、ギーサー塗布機を用いて、下記の組成の棒状液晶化合物を含む光学異方性層形成用組成物（１－４）を塗布して、組成物層を形成した。組成物層の形成されたフィルムを温風にて６０℃で１分間加熱し、酸素濃度が１００体積ｐｐｍ以下の雰囲気になるように窒素パージしながら３６５ｎｍのＵＶ－ＬＥＤを用いて、照射量１００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射した。その後、得られた塗膜に、温風にて１２０℃で１分間アニーリングすることで第２位相差層（光学異方性層Ｄ）に該当する光学異方性層（１－４）を形成した。
上記長尺状フィルムを巻き取らずに連続搬送しながら、光学異方性層（１－４）に、ワイヤーグリッド偏光子を通したＵＶ光（超高圧水銀ランプ；ＵＬ７５０；ＨＯＹＡ製）を７．９ｍＪ／ｃｍ２（波長：３１３ｎｍ）照射することで、表面に配向制御能を有する組成物層を形成した。
なお、形成した光学異方性層（１－４）の膜厚は０．７μｍであった。波長５５０ｎｍにおける面内レタデーションＲｅは０ｎｍであり、波長５５０ｎｍにおける厚み方向のレタデーションＲｔｈは－８５ｎｍであった。棒状液晶化合物の長軸方向のフィルム面に対する平均傾斜角は９０°であり、フィルム面に対して、垂直に配向していることを確認した。
【0152】
―――――――――――――――――――――――――――――――――
光学異方性層形成用組成物（１－４）
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・下記の棒状液晶化合物（Ａ） １００質量部
・重合性モノマー（Ａ－４００、新中村化学工業社製） ４．２質量部
・上記の重合開始剤Ｓ－１（オキシム型） ５．１質量部
・上記の光酸発生剤Ｄ－１ ３．０質量部
・下記の重合体Ｍ－１ ５．１質量部
・下記の配向膜界面配向剤２ １．９質量部
・下記の光配向性ポリマーＡ－２ ０．８質量部
・ジイソプロピルエチルアミン ０．２質量部
・メチルエチルケトン ９３．８質量部
・メチルイソブチルケトン ３７２．０質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――
光学異方性層形成用組成物（１－４）
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・下記の棒状液晶化合物（Ａ） １００質量部
・重合性モノマー（Ａ－４００、新中村化学工業社製） ４．２質量部
・上記の重合開始剤Ｓ－１（オキシム型） ５．１質量部
・上記の光酸発生剤Ｄ－１ ３．０質量部
・下記の重合体Ｍ－１ ５．１質量部
・下記の配向膜界面配向剤２ １．９質量部
・下記の光配向性ポリマーＡ－２ ０．８質量部
・ジイソプロピルエチルアミン ０．２質量部
・メチルエチルケトン ９３．８質量部
・メチルイソブチルケトン ３７２．０質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――
【0153】
棒状液晶化合物（Ａ）（下記液晶化合物（ＲＡ）（ＲＢ）（ＲＣ）の８４：１４：２（質量比）の混合物）
【0154】
【化31】
【0155】
重合体Ｍ－１
【化32】
【0156】
配向膜界面配向剤２
【化33】
【0157】
光配向性ポリマーＡ－２（下記式中：ａ～ｃは、ａ：ｂ：ｃ＝１７：６４：１９であり、ポリマー中の全繰り返し単位に対する、各繰り返し単位の含有量を示す。
【0158】
上記長尺状フィルムを巻き取らずに連続搬送しながら、光学異方性層（１－４）上にギーサー塗布機を用いて、下記の組成の棒状液晶化合物を含む光学異方性層形成用組成物（１－３）を塗布し、８０℃の温風で６０秒間加熱した。続いて、得られた組成物層に対して８０℃にてＵＶ照射（５００ｍＪ／ｃｍ２）を行い、液晶化合物の配向を固定化して、光学異方性層Ｃに該当する光学異方性層（１－３）を形成した。
光学異方性層（１－３）の厚みは１．２５μｍであり、波長５５０ｎｍにおけるΔｎｄは１７０ｎｍ、液晶化合物の捩れ角度は８５°であった。フィルムの幅方向を０°（長手方向を９０°）とすると、光学異方性層（１－３）側から見たとき、面内遅相軸方向（液晶化合物の配向軸角度）は、空気側が１０°、光学異方性層（１－４）に接する側が９５°であった。
なお、光学異方性層の面内遅相軸方向は、基板の幅方向を基準の０°として、光学異方性層の表面側から基板を観察し、時計回り（右回り）の時を負、反時計回り（左回り）の時を正として表してある。
光学異方性層（１－３）の厚みは１．２５μｍであり、波長５５０ｎｍにおけるΔｎｄは１７０ｎｍ、液晶化合物の捩れ角度は８５°であった。フィルムの幅方向を０°（長手方向を９０°）とすると、光学異方性層（１－３）側から見たとき、面内遅相軸方向（液晶化合物の配向軸角度）は、空気側が１０°、光学異方性層（１－４）に接する側が９５°であった。
なお、光学異方性層の面内遅相軸方向は、基板の幅方向を基準の０°として、光学異方性層の表面側から基板を観察し、時計回り（右回り）の時を負、反時計回り（左回り）の時を正として表してある。
【0159】
―――――――――――――――――――――――――――――――――
光学異方性層形成用組成物（１－３）
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・上記の棒状液晶化合物（Ａ） １００質量部
・エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリアクリレート
（Ｖ＃３６０、大阪有機化学（株）製） ４質量部
・光重合開始剤（Ｉｒｇａｃｕｒｅ８１９、ＢＡＳＦ社製） ３質量部
・下記の左捩れキラル剤（Ｌ１） ０．６０質量部
・上記の含フッ素化合物Ｄ ０．０８質量部
・メチルエチルケトン １５６質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――
光学異方性層形成用組成物（１－３）
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・上記の棒状液晶化合物（Ａ） １００質量部
・エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリアクリレート
（Ｖ＃３６０、大阪有機化学（株）製） ４質量部
・光重合開始剤（Ｉｒｇａｃｕｒｅ８１９、ＢＡＳＦ社製） ３質量部
・下記の左捩れキラル剤（Ｌ１） ０．６０質量部
・上記の含フッ素化合物Ｄ ０．０８質量部
・メチルエチルケトン １５６質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――
【0160】
左捩れキラル剤（Ｌ１）
【化34】
【0161】
上記手順によって、長尺状のセルロースアシレートフィルム上に、光学異方性層（１－４）と光学異方性層（１－３）とが直接積層されたロール状の積層フィルム（１Ｂ）を作製した。
【0162】
含フッ素化合物Ｃ（各繰り返し単位中の数値は全繰り返し単位に対する含有量（質量％）を表す。また、重量平均分子量は１２８００であった。）
【化35】
【0163】
〔光学積層体（１）の作製〕
実施例１０で作製した積層体の光学異方性層Ｂ（光学異方性層（１－２））側の表面と、光学異方性層Ｃ（光学異方性層（１－３））側の表面に、それぞれコロナ処理をした後、フィルムの長手方向が平行となるように下記組成の紫外線硬化型接着剤組成物（１）を用いて、連続機にて貼り合せた。
紫外線硬化型接着剤層の屈折率は１．５９、隣接する光学異方性層（１－２）および光学異方性層（１－３）の軸方向で平均した屈折率は、それぞれ１．５９、１．６３であり、接着剤層との屈折率差は０．０５以下であった。
――――――――――――――――――――――――――――――――
紫外線硬化型接着剤組成物（１）
――――――――――――――――――――――――――――――――
アロニックス ＵＶＸ－６２８２（東亜合成化学） ２０質量部
ルミプラス ＬＰＫ―２０００（三菱ガス化学） ８０質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――
実施例１０で作製した積層体の光学異方性層Ｂ（光学異方性層（１－２））側の表面と、光学異方性層Ｃ（光学異方性層（１－３））側の表面に、それぞれコロナ処理をした後、フィルムの長手方向が平行となるように下記組成の紫外線硬化型接着剤組成物（１）を用いて、連続機にて貼り合せた。
紫外線硬化型接着剤層の屈折率は１．５９、隣接する光学異方性層（１－２）および光学異方性層（１－３）の軸方向で平均した屈折率は、それぞれ１．５９、１．６３であり、接着剤層との屈折率差は０．０５以下であった。
――――――――――――――――――――――――――――――――
紫外線硬化型接着剤組成物（１）
――――――――――――――――――――――――――――――――
アロニックス ＵＶＸ－６２８２（東亜合成化学） ２０質量部
ルミプラス ＬＰＫ―２０００（三菱ガス化学） ８０質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――
【0164】
［偏在］
実施例１～１１で作製した積層体について、上述した方法で特定ポリマー（基材側偏在ポリマー）の二次イオン強度を測定しところ、いずれの実施例においても、基材側偏在ポリマーが第１基材側表面に偏在していることが確認できた。
また、実施例１０で作製した積層体について、上述した方法で光配向化合物（空気側偏在ポリマーＢ－２）の二次イオン強度を測定しところ、空気側偏在ポリマーＢ－２が光学異方性層Ｂ側表面に偏在していることが確認できた。
実施例１～１１で作製した積層体について、上述した方法で特定ポリマー（基材側偏在ポリマー）の二次イオン強度を測定しところ、いずれの実施例においても、基材側偏在ポリマーが第１基材側表面に偏在していることが確認できた。
また、実施例１０で作製した積層体について、上述した方法で光配向化合物（空気側偏在ポリマーＢ－２）の二次イオン強度を測定しところ、空気側偏在ポリマーＢ－２が光学異方性層Ｂ側表面に偏在していることが確認できた。
【0165】
［測定］
〔剥離力Ｐ１およびＰ２の測定〕
実施例１～１１および比較例１～２で作製した積層体について、第１基材上に形成した第１位相差層の表面側を、コロナ処理装置を用いて、出力０．３ｋＷおよび処理速度７．６ｍ／分の条件で１回処理した。
次いで、第１位相差層の表面側に、下記紫外線硬化型接着剤組成物１を塗工し、偏光子と貼合した。得られた積層体を高圧水銀ランプを用いて、照射量６００ｍＪ／ｃｍ２（波長３６５ｎｍ）の紫外線を照射して、接着剤層を硬化させた。
次いで、偏光子の第１位相差層と貼合した面とは逆の面に粘着剤層を貼合した。この粘着剤層を形成した積層体から、幅２５ｍｍ×長さ１５０ｍｍの試験片を裁断し、試験片の粘着剤層の面をガラス板に貼合した。試験片の第１基材側の表面であって、試験片における幅２５ｍｍの一辺に剥離用テープ（幅２５ｍｍ×長さ約１８０ｍｍ）を貼り付けた。引張り試験機を用いて、剥離用テープの一端をつかみ、温度２５℃、相対湿度６０％の雰囲気下、クロスヘッド速度５ｍ／分で、剥離角度が１８０°である剥離試験を行い、剥離力Ｐ１の測定を行った。剥離力Ｐ１は、第１基材を引き起こした後、第１基材を第１位相差層から剥がし終わるまでの間で、力が定常状態になったときの剥離力とした。
また、実施例１１で作製した積層体については、第２基材、光学異方性層（１－４）および光学異方性層（１－３）を有する積層体を用いた以外は、上記と同様の手順に従って、第２基材の１８０°剥離試験を行い、剥離力Ｐ２の測定を行った。
これらの結果を下記表１に示す。なお、比較例１については、基材を剥離することができなかった。
―――――――――――――――――――――――――――――――――
紫外線硬化型接着剤組成物１
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・セロキサイド２０２１Ｐ（（株）ダイセル製） ６７．０質量部
・２－エチルヘキシルグリシジルエーテル ９．６質量部
・リカレジンＤＭＥ－１００（新日本理化（株）製） １９．１質量部
・ＣＰＩ－１００Ｐ（サンアプロ（株）製） ４．３質量部
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〔剥離力Ｐ１およびＰ２の測定〕
実施例１～１１および比較例１～２で作製した積層体について、第１基材上に形成した第１位相差層の表面側を、コロナ処理装置を用いて、出力０．３ｋＷおよび処理速度７．６ｍ／分の条件で１回処理した。
次いで、第１位相差層の表面側に、下記紫外線硬化型接着剤組成物１を塗工し、偏光子と貼合した。得られた積層体を高圧水銀ランプを用いて、照射量６００ｍＪ／ｃｍ２（波長３６５ｎｍ）の紫外線を照射して、接着剤層を硬化させた。
次いで、偏光子の第１位相差層と貼合した面とは逆の面に粘着剤層を貼合した。この粘着剤層を形成した積層体から、幅２５ｍｍ×長さ１５０ｍｍの試験片を裁断し、試験片の粘着剤層の面をガラス板に貼合した。試験片の第１基材側の表面であって、試験片における幅２５ｍｍの一辺に剥離用テープ（幅２５ｍｍ×長さ約１８０ｍｍ）を貼り付けた。引張り試験機を用いて、剥離用テープの一端をつかみ、温度２５℃、相対湿度６０％の雰囲気下、クロスヘッド速度５ｍ／分で、剥離角度が１８０°である剥離試験を行い、剥離力Ｐ１の測定を行った。剥離力Ｐ１は、第１基材を引き起こした後、第１基材を第１位相差層から剥がし終わるまでの間で、力が定常状態になったときの剥離力とした。
また、実施例１１で作製した積層体については、第２基材、光学異方性層（１－４）および光学異方性層（１－３）を有する積層体を用いた以外は、上記と同様の手順に従って、第２基材の１８０°剥離試験を行い、剥離力Ｐ２の測定を行った。
これらの結果を下記表１に示す。なお、比較例１については、基材を剥離することができなかった。
―――――――――――――――――――――――――――――――――
紫外線硬化型接着剤組成物１
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・セロキサイド２０２１Ｐ（（株）ダイセル製） ６７．０質量部
・２－エチルヘキシルグリシジルエーテル ９．６質量部
・リカレジンＤＭＥ－１００（新日本理化（株）製） １９．１質量部
・ＣＰＩ－１００Ｐ（サンアプロ（株）製） ４．３質量部
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【0166】
［評価］
〔剥離性〕
実施例で得た第１位相差層と、実施例１１で得た第２位相差層を実施例１１に記載の方法で積層体を作製し、この粘着剤層を形成した積層体から、幅２５ｍｍ×長さ１５０ｍｍの試験片を裁断し、試験片の粘着剤層の面をガラス板に貼合した。
試験片の第１基材側の表面であって、試験片における幅２５ｍｍの一辺に剥離用テープ（幅２５ｍｍ×長さ約１８０ｍｍ）を貼り付けた。引張り試験機を用いて、剥離用テープの一端をつかみ、温度２５℃、相対湿度６０％の雰囲気下、クロスヘッド速度５ｍ／分で、剥離角度が１８０°である剥離試験を５回行い、剥離性の評価を行った。結果を下記表１に示す。
なお、第１基材を剥離する際に、第１基材と第１基材が隣接する層との間、または、第２基材と第２基材が隣接する層との間にて剥離が生じ、第１基材と第１基材が隣接する層との間で剥離できた回数が多いほうが、剥離性が優れる。
また、この剥離性の評価は、上述した剥離力Ｐ１と相関があるため、実施例１～１１で作製した積層体そのものにおける基材の剥離性については、剥離力Ｐ１が０．１２Ｎ／２５ｍｍ以下となることから、剥離性に優れていると評価することもできる。
Ａ：５回とも第１基材が剥がれる。
Ｂ：５回中４回、第１基材が剥がれる。
Ｃ：５回中３回、第１基材が剥がれる。
Ｄ：５回中２回、第１基材が剥がれる。
Ｅ：５回中１回、第１基材が剥がれる。
Ｆ：一度も第１基材が剥がれない。
〔剥離性〕
実施例で得た第１位相差層と、実施例１１で得た第２位相差層を実施例１１に記載の方法で積層体を作製し、この粘着剤層を形成した積層体から、幅２５ｍｍ×長さ１５０ｍｍの試験片を裁断し、試験片の粘着剤層の面をガラス板に貼合した。
試験片の第１基材側の表面であって、試験片における幅２５ｍｍの一辺に剥離用テープ（幅２５ｍｍ×長さ約１８０ｍｍ）を貼り付けた。引張り試験機を用いて、剥離用テープの一端をつかみ、温度２５℃、相対湿度６０％の雰囲気下、クロスヘッド速度５ｍ／分で、剥離角度が１８０°である剥離試験を５回行い、剥離性の評価を行った。結果を下記表１に示す。
なお、第１基材を剥離する際に、第１基材と第１基材が隣接する層との間、または、第２基材と第２基材が隣接する層との間にて剥離が生じ、第１基材と第１基材が隣接する層との間で剥離できた回数が多いほうが、剥離性が優れる。
また、この剥離性の評価は、上述した剥離力Ｐ１と相関があるため、実施例１～１１で作製した積層体そのものにおける基材の剥離性については、剥離力Ｐ１が０．１２Ｎ／２５ｍｍ以下となることから、剥離性に優れていると評価することもできる。
Ａ：５回とも第１基材が剥がれる。
Ｂ：５回中４回、第１基材が剥がれる。
Ｃ：５回中３回、第１基材が剥がれる。
Ｄ：５回中２回、第１基材が剥がれる。
Ｅ：５回中１回、第１基材が剥がれる。
Ｆ：一度も第１基材が剥がれない。
【0167】
〔液晶配向性〕
実施例１～１１および比較例１～２で作製した積層体から一辺の長さが４０ｍｍの正方形状のフィルムを切り出した。得られた試料をクロスニコル下の偏光顕微鏡（１０倍の対物レンズ使用）で観察し、下記の基準で液晶配向性を評価した。結果を下記表１に示す。
Ａ：観察視野内で光漏れがなかった。
Ｂ：観察視野内で光漏れがあった。
実施例１～１１および比較例１～２で作製した積層体から一辺の長さが４０ｍｍの正方形状のフィルムを切り出した。得られた試料をクロスニコル下の偏光顕微鏡（１０倍の対物レンズ使用）で観察し、下記の基準で液晶配向性を評価した。結果を下記表１に示す。
Ａ：観察視野内で光漏れがなかった。
Ｂ：観察視野内で光漏れがあった。
【0168】
【表1】
【0169】
表１に示す結果から、特定ポリマーを用いない場合には、基材の剥離性に劣ることが分かった（比較例１）。
また、基材側偏在ポリマーとして、光配向性基を有するポリマーを用いた場合には、液晶配向性が劣ることが分かった（比較例２）。
また、基材側偏在ポリマーとして、光配向性基を有するポリマーを用いた場合には、液晶配向性が劣ることが分かった（比較例２）。
【0170】
これに対し、基材側偏在ポリマーとして特定ポリマーを用いた場合には、基材の剥離性および液晶配向性がいずれも良好となることが分かった（実施例１～１１）。
特に、実施例１と実施例２との対比から、特定ポリマーが上記式（１）で表される繰り返し単位を有していると、基材の剥離性がより向上することが分かった。
また、実施例１と実施例３との対比から、特定ポリマーが上記式（２）で表される繰り返し単位を有していると、基材の剥離性がより向上することが分かった。
また、実施例３と実施例４との対比から、上記式（２）中のＸが、－ＣＯＯＨ、－ＰＯ３Ｈ、｛－ＯＰ（＝Ｏ）（ＯＨ）２｝、－ＣＯ２Ｍ１、－ＳＯ３Ｍ１、－ＮＴ１Ｔ２、オキサゾリン基、－ＮＧ１Ｇ２Ｇ３Ｅ１、または、ベタイン構造を有する基を表すと、基材の剥離性が更に向上することが分かった。
また、実施例３と実施例５との対比から、上記式（２）中のＸが－ＮＧ１Ｇ２Ｇ３Ｅ１であると、基材の剥離性が更に向上することが分かった。
また、実施例３と実施例６との対比から、上記式（２）中のＸが、所定のベタイン構造を有する基であると、基材の剥離性が更に向上することが分かった。
また、実施例２と実施例７との対比から、特定ポリマーが、脂環構造を側鎖に含む繰り返し単位を有していると、基材の剥離性が特に向上することが分かった。
特に、実施例１と実施例２との対比から、特定ポリマーが上記式（１）で表される繰り返し単位を有していると、基材の剥離性がより向上することが分かった。
また、実施例１と実施例３との対比から、特定ポリマーが上記式（２）で表される繰り返し単位を有していると、基材の剥離性がより向上することが分かった。
また、実施例３と実施例４との対比から、上記式（２）中のＸが、－ＣＯＯＨ、－ＰＯ３Ｈ、｛－ＯＰ（＝Ｏ）（ＯＨ）２｝、－ＣＯ２Ｍ１、－ＳＯ３Ｍ１、－ＮＴ１Ｔ２、オキサゾリン基、－ＮＧ１Ｇ２Ｇ３Ｅ１、または、ベタイン構造を有する基を表すと、基材の剥離性が更に向上することが分かった。
また、実施例３と実施例５との対比から、上記式（２）中のＸが－ＮＧ１Ｇ２Ｇ３Ｅ１であると、基材の剥離性が更に向上することが分かった。
また、実施例３と実施例６との対比から、上記式（２）中のＸが、所定のベタイン構造を有する基であると、基材の剥離性が更に向上することが分かった。
また、実施例２と実施例７との対比から、特定ポリマーが、脂環構造を側鎖に含む繰り返し単位を有していると、基材の剥離性が特に向上することが分かった。
【符号の説明】
【0171】
１０Ａ、１０Ｂ、１０Ｃ 積層体
１２ 第１基材
１４ 第１位相差層（光学異方性層Ａ）
１５ 光学異方性層Ｂ
１６ 第２位相差層
１８ 第２基材
２０ 被貼合物
１２ 第１基材
１４ 第１位相差層（光学異方性層Ａ）
１５ 光学異方性層Ｂ
１６ 第２位相差層
１８ 第２基材
２０ 被貼合物
【図1】
【図2】
【図3】
【図4】
【図5】
【図6】
