(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】公開特許公報(A)
(11)【公開番号】P2023183582
(43)【公開日】2023-12-28
(54)【発明の名称】乾燥機構
(51)【国際特許分類】
H01L 21/304 20060101AFI20231221BHJP
H01L 21/683 20060101ALI20231221BHJP
【ＦＩ】
H01L21/304 651L
H01L21/68 N
H01L21/304 651B
【審査請求】未請求
【請求項の数】1
【出願形態】ＯＬ
(21)【出願番号】P 2022097168
(22)【出願日】2022-06-16
(71)【出願人】
【識別番号】000134051
【氏名又は名称】株式会社ディスコ
(74)【代理人】
【識別番号】100075384
【弁理士】
【氏名又は名称】松本 昂
(74)【代理人】
【識別番号】100172281
【弁理士】
【氏名又は名称】岡本 知広
(74)【代理人】
【識別番号】100206553
【弁理士】
【氏名又は名称】笠原 崇廣
(74)【代理人】
【識別番号】100189773
【弁理士】
【氏名又は名称】岡本 英哲
(74)【代理人】
【識別番号】100184055
【弁理士】
【氏名又は名称】岡野 貴之
(74)【代理人】
【識別番号】100185959
【弁理士】
【氏名又は名称】今藤 敏和
(72)【発明者】
【氏名】福岡 武臣
【テーマコード（参考）】
5F131
5F157
【Ｆターム（参考）】
5F131AA02
5F131BA37
5F131BA52
5F131CA32
5F131EA06
5F131EA25
5F131EB02
5F157AA98
5F157AB02
5F157AB16
5F157AB33
5F157AB47
5F157AB51
5F157AB62
5F157AB90
5F157AC03
5F157AC23
5F157BB23
5F157BB45
5F157CB13
5F157CB15
5F157CB28
5F157DB32
5F157DB33
(57)【要約】
【課題】水分を含有する膜を迅速に乾燥させることが可能な乾燥機構を提供する。
【解決手段】水分を含有する膜が上面に設けられた板状物の下面側を保持した状態で保持テーブルを回転させながら、ドライヤによって除湿された気体をノズルから膜に向けて噴射することによって、膜を乾燥させることが可能な乾燥機構を提供する。すなわち、この乾燥機構においては、水分を含有する膜に向けてドライヤによって除湿された気体を噴射することによって、この膜を乾燥させる。これにより、水分を含有する膜を迅速に乾燥させることが可能となる。
【選択図】図２
【解決手段】水分を含有する膜が上面に設けられた板状物の下面側を保持した状態で保持テーブルを回転させながら、ドライヤによって除湿された気体をノズルから膜に向けて噴射することによって、膜を乾燥させることが可能な乾燥機構を提供する。すなわち、この乾燥機構においては、水分を含有する膜に向けてドライヤによって除湿された気体を噴射することによって、この膜を乾燥させる。これにより、水分を含有する膜を迅速に乾燥させることが可能となる。
【選択図】図２
【特許請求の範囲】
【請求項1】
水分を含有する膜が上面に設けられた板状物の下面側を保持した状態で回転可能な保持テーブルと、該保持テーブルによって保持された該板状物の該上面に設けられた該膜に向けて気体を噴射可能なノズルと、気体供給路を介して該ノズルに該気体を供給可能な気体供給源と、を備える乾燥機構であって、
該気体供給路には、ドライヤが設けられ、
該膜が該上面に設けられた該板状物の該下面側を保持した状態で該保持テーブルを回転させながら、該ドライヤによって除湿された該気体を該ノズルから該膜に向けて噴射することによって、該膜を乾燥させる、
乾燥機構。
該気体供給路には、ドライヤが設けられ、
該膜が該上面に設けられた該板状物の該下面側を保持した状態で該保持テーブルを回転させながら、該ドライヤによって除湿された該気体を該ノズルから該膜に向けて噴射することによって、該膜を乾燥させる、
乾燥機構。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、水分を含有する膜に向けて気体を噴射して乾燥させるための乾燥機構に関する。
【背景技術】
【0002】
ＩＣ（Ｉｎｔｅｇｒａｔｅｄ Ｃｉｒｃｕｉｔ）等のデバイスのチップは、携帯電話及びパーソナルコンピュータ等の各種電子機器において不可欠の構成要素である。このようなチップは、例えば、表面に多数のデバイスが形成されたウェーハ（例えば、シリコンウェーハ）等の被加工物を個々のデバイスを含む領域毎に分割することで製造される。
【0003】
被加工物の分割に利用される装置としては、例えば、レーザー加工装置が挙げられる。このレーザー加工装置は、例えば、波長３５５ｎｍのレーザービームを被加工物に照射してアブレーション（レーザーアブレーション）を生じさせることによって被加工物を加工（レーザー加工）する。
【0004】
ただし、被加工物においてレーザーアブレーションが生じると、被加工物を構成する材料（例えば、シリコン）の溶融物（デブリ）が飛散して、被加工物の被加工面に付着することがある。そして、デブリが被加工物の被加工面に付着すると、この被加工物を分割して得られるチップの品質が低下するおそれがある。
【0005】
この点に鑑み、被加工物をレーザー加工するのに先立って、被加工物の被加工面に保護膜を形成することが提案されている（例えば、特許文献１及び２参照）。具体的には、この保護膜は、被加工物の被加工面に液状の保護膜剤が滴下された状態で被加工物を回転させることで被加工面の全域を保護膜剤からなる膜によって覆った後、この膜を乾燥させることによって形成される。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0006】
【特許文献1】特開２００４－１８８４７５号公報
【特許文献2】特開２００４－３２２１６８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0007】
上述したように保護膜を形成する場合、保護膜剤からなる膜の乾燥に必要な時間が長くなることが多い。そして、この時間が長くなると、被加工物に対するレーザー加工のスループットが低くなる。この点に鑑み、本発明の目的は、水分を含有する膜（例えば、保護膜剤からなる膜）を迅速に乾燥させることが可能な乾燥機構を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【0008】
本発明によれば、水分を含有する膜が上面に設けられた板状物の下面側を保持した状態で回転可能な保持テーブルと、該保持テーブルによって保持された該板状物の該上面に設けられた該膜に向けて気体を噴射可能なノズルと、気体供給路を介して該ノズルに該気体を供給可能な気体供給源と、を備える乾燥機構であって、該気体供給路には、ドライヤが設けられ、該膜が該上面に設けられた該板状物の該下面側を保持した状態で該保持テーブルを回転させながら、該ドライヤによって除湿された該気体を該ノズルから該膜に向けて噴射することによって、該膜を乾燥させる、乾燥機構が提供される。
【発明の効果】
【0009】
本発明の乾燥機構においては、水分を含有する膜に向けてドライヤによって除湿された気体を噴射することによって、この膜を乾燥させる。これにより、水分を含有する膜を迅速に乾燥させることが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【0010】
【発明を実施するための形態】
【0011】
添付図面を参照して、本発明の実施形態について説明する。図１は、乾燥機構を含む洗浄機能付き塗布装置の一例を模式的に示す一部破断斜視図である。図１に示される塗布装置２は、保持テーブル４を有する。この保持テーブル４は、上面が露出した円盤状のポーラス板４ａを有し、このポーラス板４ａに置かれたフレームユニット１１を吸引保持する機能を有する。
【0012】
保持テーブル４によって保持されるフレームユニット１１は、被加工物１３を有する。この被加工物１３は、円状の表面１３ａ及び裏面１３ｂを有し、例えば、シリコン（Ｓｉ）等の半導体材料からなるウェーハである。また、被加工物１３は格子状に設定される複数の分割予定ライン１５によって複数の領域に区画されており、各領域にはＩＣ等のデバイス１７が形成されている。
【0013】
また、被加工物１３の裏面１３ｂは、その直径が被加工物１３の直径よりも長い円盤状のテープ１９の中央領域に貼着されている。このテープ１９は、例えば、可撓性を有するフィルム状の基材層と、基材層の一面（被加工物１３側の面）に設けられた粘着層（糊層）とを有する。
【0014】
具体的には、この基材層は、ポリオレフィン（ＰＯ）、ポリプロピレン（ＰＰ）、ポリエチレンテレフタラート（ＰＥＴ）、ポリ塩化ビニル（ＰＶＣ）又はポリスチレン（ＰＳ）等からなる。また、この粘着層は、紫外線硬化型のシリコーンゴム、アクリル系材料又はエポキシ系材料等からなる。
【0015】
また、テープ１９の外周領域には、被加工物１３よりも直径が長い円形の開口２１ａが形成されている環状のフレーム２１が貼着されている。このフレーム２１は、例えば、アルミニウム又はステンレス鋼等の金属材料からなる。
【0016】
また、保持テーブル４の周囲には、保持テーブル４を囲むチャンバ６が設けられている。このチャンバ６は、円筒状の外周壁６ａと、外周壁６ａの下端部から径方向内側に延在する環状の底壁６ｂと、底壁６ｂの内端部から立設される円筒状の内周壁６ｃとを有する。
【0017】
そして、底壁６ｂには排水口８が形成されており、この排水口８には下方に延在する排水管（不図示）が接続されている。また、底壁６ｂの下面には、複数（例えば、２つ）の支持脚１０が固定されている。複数の支持脚１０は、底壁６ｂの周方向に沿って概ね等しい角度の間隔で設けられ、チャンバ６を支持する。
【0018】
また、内周壁６ｃの内側に存在する円筒状の空間には、スピンドル１２が上下に通されている。このスピンドル１２は、保持テーブル４を支持するように、その上端部が保持テーブル４に連結されている。また、スピンドル１２の下端部には、モータ等の回転駆動源が接続されており、この回転駆動源はハウジング１４に収容されている
【0019】
そして、この回転駆動源を動作させると、保持テーブル４の上面の中心を通り、かつ、鉛直方向に沿った直線を回転軸としてスピンドル１２及び保持テーブル４が回転する。また、ハウジング１４は、昇降可能な態様で支持機構１６によって支持されている。
【0020】
この支持機構１６は、例えば、ハウジング１４に取り付けられた複数（例えば、３つ）のエアシリンダ１８を有し、各エアシリンダ１８の下部には支持脚２０が連結されている。そして、複数のエアシリンダ１８を同時に動作させると、ハウジング１４、スピンドル１２及び保持テーブル４が昇降する。
【0021】
また、底壁６ｂには、底壁６ｂの周方向に沿って概ね等しい角度の間隔で３つの支持軸２２ａ，２４ａ，２６ａが通されている。各支持軸２２ａ，２４ａ，２６ａは、鉛直方向に沿って延在するパイプ状の部材である。また、各支持軸２２ａ，２４ａ，２６ａの底壁６ｂよりも下に位置する部分には、支持軸２２ａ，２４ａ，２６ａを回転させるためのモータ等の回転駆動源（不図示）が接続されている。
【0022】
また、各支持軸２２ａ，２４ａ，２６ａの上端部には、アーム２２ｂ，２４ｂ，２６ｂの基端部が接続されている。各アーム２２ｂ，２４ｂ，２６ｂは、平面視における支持軸２２ａ，２４ａ，２６ａの上端部から保持テーブル４の中央までの距離に相当する長さで、鉛直方向と直交する方向に沿って延在するパイプ状の部材である。そして、各アーム２２ｂ，２４ｂ，２６ｂの先端部には、下方に向いたノズル２２ｃ，２４ｃ，２６ｃが設けられている。
【0023】
さらに、ノズル（保護膜剤供給ノズル）２２ｃは、アーム２２ｂ、支持軸２２ａ及び保護膜剤供給路（不図示）等を介して、液状の保護膜剤を供給する保護膜剤供給源（不図示）に連通する。この保護膜剤は、例えば、ポリビニルピロリドン（Ｐｏｌｙｖｉｎｙｌｐｙｒｒｏｌｉｄｏｎｅ）又はポリビニルアルコール（Ｐｏｌｙｖｉｎｙｌ Ａｌｃｏｈｏｌ）等の水溶性樹脂と、プロピレングリコールモノメチルエーテル（Ｐｒｏｐｙｌｅｎｅ Ｇｌｙｃｏｌ Ｍｏｎｏｍｅｔｈｙｌ Ｅｔｈｅｒ）等の有機溶剤とを含む溶液である。
【0024】
なお、水溶性樹脂は、保護膜剤からなる膜を乾燥させることによって形成される保護膜の主成分となる。また、有機溶剤は、保護膜剤の表面張力を低下させ、保護膜剤を被加工物に塗布した際の塗りムラを低減させる。さらに、保護膜剤には、フェルラ酸（Ｆｅｒｕｌｉｃ Ａｃｉｄ）等の光吸収剤が添加されていてもよい。
【0025】
また、ノズル（気体噴射ノズル）２４ｃは、アーム２４ｂ、支持軸２４ａ及び気体供給路等を介して、空気、酸素、窒素又はアルゴン等の気体を供給する気体供給源に連通する。図２は、ノズル２４ｃと連通する構成要素を模式的に示すブロック図である。
【0026】
ノズル２４ｃと連通可能な気体供給源２４ｄは、例えば、高圧気体を貯蔵するためのタンクと、タンクから供給される気体に混入した異物を取り除くためのフィルタと、タンクから供給される気体の圧力を調整するためのレギュレータとを含む。そして、気体供給源２４ｄは、気体供給路に供給される気体の流量を制御するバルブ２４ｅに接続されている。
【0027】
また、バルブ２４ｅと支持軸２４ａとの間に位置する気体供給路には、この気体供給路を通る気体を除湿するためのドライヤ２４ｆが設けられている。このドライヤ２４ｆは、ドライヤ２４ｆを通過した気体の露点温度を、例えば、－６０℃以下にする。
【0028】
なお、このドライヤ２４ｆの構成に制限はない。例えば、ドライヤ２４ｆは、中空糸膜を含む膜式ドライヤ（メンブレンドライヤ）である。あるいは、ドライヤ２４ｆは、熱交換器を含む冷凍式ドライヤ又はシリカゲル等の除湿剤を含む吸着式ドライヤであってもよい。
【0029】
また、図１に示されるノズル（洗浄液噴射ノズル）２６ｃは、アーム２６ｂ、支持軸２６ａ及び洗浄液供給路（不図示）等を介して、純水等の洗浄液を供給する洗浄液供給源に連通する。
【0030】
上述した塗布装置２においては、例えば、以下の順序で被加工物１３の表面１３ａに保護膜が形成される。具体的には、まず、平面視において、ノズル２２ｃ，２４ｃ，２６ｃが保持テーブル４の外側に位置付けられるように支持軸２２ａ，２４ａ，２６ａを回転させる。
【0031】
次いで、フレームユニット１１の搬入搬出が容易な保持テーブル４の位置である搬入搬出位置に保持テーブル４が位置付けられるように、複数のエアシリンダ１８を動作させて保持テーブル４を上昇させる。なお、図１においては、この時点の塗布装置２の外観が模式的に示されている。
【0032】
次いで、テープ１９が下になるようにフレームユニット１１を保持テーブル４に置く。次いで、保持テーブル４によってフレームユニット１１を吸引保持する。次いで、被加工物１３の表面１３ａがノズル２２ｃ，２４ｃ，２６ｃよりも低い位置に位置付けられるように複数のエアシリンダ１８を動作させて保持テーブル４を下降させる。
【0033】
次いで、ノズル（保護膜剤供給ノズル）２２ｃを被加工物１３の上方に位置付けるように支持軸２２ａを回転させる。次いで、保護膜剤供給源から、保護膜剤供給路、支持軸２２ａ及びアーム２２ｂを介してノズル２２ｃに供給される所定量の保護膜剤を被加工物１３の表面１３ａに滴下する。
【0034】
次いで、被加工物１３の表面１３ａの全域が保護膜剤からなる膜によって覆われるように、ハウジング１４に収容されているモータを動作させて保持テーブル４を回転させる。次いで、このモータの動作を停止させるとともに、平面視において、ノズル２２ｃが保持テーブル４の外側に位置付けられるように支持軸２２ａを回転させる。
【0035】
次いで、ノズル（気体噴射ノズル）２４ｃを被加工物１３の上方に位置付けるように支持軸２４ａを回転させる。次いで、ハウジング１４に収容されているモータを動作させて保持テーブル４を再び回転させるとともに、気体供給源２４ｄから、バルブ２４ｅ、ドライヤ２４ｆが設けられた気体供給路、支持軸２４ａ及びアーム２４ｂを介してノズル２４ｃに供給される気体を被加工物１３の表面１３ａに形成されている保護膜剤からなる膜に向けて噴射する。
【0036】
これにより、保護膜剤からなる膜が乾燥して保護膜が形成される。次いで、このモータの動作を停止させるとともに、平面視において、ノズル２４ｃが保持テーブル４の外側に位置付けられるように支持軸２４ａを回転させる。次いで、搬入搬出位置に保持テーブル４が位置付けられるように複数のエアシリンダ１８を動作させて保持テーブル４を上昇させる。
【0037】
次いで、保持テーブル４によるフレームユニット１１の吸引を停止する。次いで、表面１３ａに保護膜が形成された被加工物１３を含むフレームユニット１１を保持テーブル４から搬出する。以上によって、塗布装置２における保護膜の形成が完了する。
【0038】
表面１３ａに保護膜が形成された被加工物１３を含むフレームユニット１１は、レーザー加工装置に搬送される。そして、このレーザー加工装置においては、複数の分割予定ライン１５に沿って被加工物１３を分割するようにレーザー加工が施される。また、このようにレーザー加工が施されると、塗布装置２において、例えば、以下の順序で、保護膜を洗い流すように被加工物１３の表面１３ａが洗浄される。
【0039】
具体的には、まず、平面視において、ノズル２２ｃ，２４ｃ，２６ｃが保持テーブル４の外側に位置付けられるように支持軸２２ａ，２４ａ，２６ａを回転させる。次いで、搬入搬出位置に保持テーブル４が位置付けられるように複数のエアシリンダ１８を動作させて保持テーブル４を上昇させる。
【0040】
次いで、テープ１９が下になるようにフレームユニット１１を保持テーブル４に置く。次いで、保持テーブル４によってフレームユニット１１を吸引保持する。次いで、被加工物１３の表面１３ａがノズル２２ｃ，２４ｃ，２６ｃよりも低い位置に位置付けられるように複数のエアシリンダ１８を動作させて保持テーブル４を下降させる。
【0041】
次いで、ノズル（洗浄液供給ノズル）２６ｃを被加工物１３の上方に位置付けるように支持軸２６ａを回転させる。次いで、ハウジング１４に収容されているモータを動作させて保持テーブル４を回転させるとともに、洗浄液供給源から、洗浄液供給路、支持軸２６ａ及びアーム２６ｂを介してノズル２６ｃに供給される洗浄液を被加工物１３の表面１３ａに形成されている保護膜に向けて噴射する。
【0042】
これにより、保護膜が洗い流されるとともに洗浄液によって被加工物１３の表面１３ａが濡れる。次いで、このモータの動作を停止させるとともに、平面視において、ノズル２６ｃが保持テーブル４の外側に位置付けられるように支持軸２６ａを回転させる。
【0043】
次いで、ノズル（気体噴射ノズル）２４ｃを被加工物１３の上方に位置付けるように支持軸２４ａを回転させる。次いで、ハウジング１４に収容されているモータを動作させて保持テーブル４を再び回転させるとともに、気体供給源２４ｄから、バルブ２４ｅ、ドライヤ２４ｆが設けられた気体供給路、支持軸２４ａ及びアーム２４ｂを介してノズル２４ｃに供給される気体を被加工物１３の表面１３ａに向けて噴射する。
【0044】
これにより、被加工物１３の表面１３ａが乾燥する。次いで、このモータの動作を停止させるとともに、平面視において、ノズル２４ｃが保持テーブル４の外側に位置付けられるように支持軸２４ａを回転させる。次いで、搬入搬出位置に保持テーブル４が位置付けられるように複数のエアシリンダ１８を動作させて保持テーブル４を上昇させる。
【0045】
次いで、保持テーブル４によるフレームユニット１１の吸引を停止する。次いで、保護膜が洗浄されるとともに表面１３ａが乾燥した被加工物１３を含むフレームユニット１１を保持テーブル４から搬出する。以上によって、塗布装置２における被加工物１３の表面１３ａの洗浄が完了する。
【0046】
上述した塗布装置２においては、保護膜剤からなる膜に向けてドライヤによって除湿された気体を噴射することによって、この膜を乾燥させる。これにより、保護膜剤からなる膜を迅速に乾燥させることが可能となる。
【0047】
同様に、上述した塗布装置２においては、保護膜の洗浄に伴って表面１３ａが濡れた被加工物１３に向けてドライヤによって除湿された気体を噴射することによって、この表面１３ａを乾燥させる。これにより、被加工物１３の表面１３ａを迅速に乾燥させることが可能となる。
【0048】
なお、上述した内容は本発明の一態様であって、本発明は上述した内容に限定されない。例えば、本発明においては、乾燥の対象となる膜は保護膜剤からなる膜に限定されず、水分を含有する膜であればどのようなものであってもよい。また、本発明においては、この膜が塗布される対象となる物は被加工物に限定されず、加工が施されることが予定されていない板状物であってもよい。
【0049】
また、本発明は、上述した塗布装置２から、ノズル（保護膜剤供給ノズル）２２ｃ及びそれに連通する構成要素と、ノズル（洗浄液供給ノズル）２６ｃ及びそれに連通する構成要素と、を取り除いた乾燥機構であってもよい。また、上述した塗布装置２は、この乾燥機構と、ノズル（保護膜剤供給ノズル）２２ｃ及びそれに連通する構成要素と、ノズル（洗浄液供給ノズル）２６ｃ及びそれに連通する構成要素と、を備えると表現することもできる。
【0050】
また、本発明は、上述した塗布装置２を組み込んだレーザー加工装置であってもよい。図３は、このようなレーザー加工装置の一例を模式的に示す斜視図である。なお、図３に示されるＸ軸方向（前後方向）及びＹ軸方向（左右方向）は、水平面上において直交する方向であり、Ｚ軸方向（上下方向）は、Ｘ軸方向及びＹ軸方向に直交する方向（鉛直方向）である。
【0051】
図３に示されるレーザー加工装置２８は、各構成要素を支持する基台３０を有する。この基台３０の角部には断面が矩形状の窪みが形成されており、この窪みの内側にはカセット３２が載置されるカセットテーブル３４が設けられている。なお、カセット３２には、図１に示されるフレームユニット１１が複数収容されている。
【0052】
また、この窪みの内側には昇降ユニット（不図示）が設けられており、この昇降ユニットはカセットテーブル３４に連結している。そして、この昇降ユニットを動作させると、カセットテーブル３４及びカセット３２が昇降する。また、カセットテーブル３４の側方には、Ｙ軸方向に沿ってそれぞれが延在する一対の調整ガイドレール３６が設けられている。
【0053】
一対の調整ガイドレール３６の一方は、水平面に概ね平行な底壁と、底壁の、一対の調整ガイドレール３６の他方から遠い側の端から立設される側壁とを備える。同様に、一対の調整ガイドレール３６の他方は、水平面に概ね平行な底壁と、底壁の、一対の調整ガイドレール３６の一方から遠い側の端から立設される側壁とを備える。さらに、一対の調整ガイドレール３６のＸ軸方向における間隔は、調整可能である。
【0054】
また、一対の調整ガイドレール３６の上方には、搬送ユニット３８が設けられている。この搬送ユニット３８は、フレームユニット１１のフレーム２１を保持することが可能な複数の吸引パッドを備える。また、搬送ユニット３８のカセットテーブル３４側の端には、フレーム２１を把持することが可能な把持部が設けられている。
【0055】
この把持部は、カセット３２からフレームユニット１１を取り出す際等に利用される。具体的には、フレームユニット１１のフレーム２１を把持部によって把持した状態で搬送ユニット３８がＹ軸方向に沿って移動することによって、フレームユニット１１がカセット３２から搬出されて一対の調整ガイドレール３６上に置かれる。
【0056】
また、一対の調整ガイドレール３６は、フレームユニット１１の位置合わせに利用される。具体的には、一対の調整ガイドレール３６の底壁にフレームユニット１１が置かれた状態で一対の調整ガイドレール３６のそれぞれの側壁をフレームユニット１１に接触させるように両者のＸ軸方向における間隔を調整することによって、フレームユニット１１の位置合わせが行われる。
【0057】
また、搬送ユニット３８の吸引パッドは、一対の調整ガイドレール３６の側方に設けられた塗布装置２に、位置合わせが行われたフレームユニット１１を搬入する際等に利用される。具体的には、このフレームユニット１１のフレーム２１が吸引パッドを保持した状態で搬送ユニット３８がＹ軸方向及びＺ軸方向に沿って移動することによって、フレームユニット１１が塗布装置２に搬入される。
【0058】
また、カセットテーブル３４、一対の調整ガイドレール３６及び塗布装置２の後方には、水平移動機構４０が設けられている。この水平移動機構４０は、基台３０の上面に固定され、かつ、それぞれがＹ軸方向に沿って延在する一対のＹ軸ガイドレール４２を有する。
【0059】
一対のＹ軸ガイドレール４２の上面側には、一対のＹ軸ガイドレール４２に沿ってスライド可能な態様でＹ軸移動プレート４４が連結されている。また、一対のＹ軸ガイドレール４２間には、Ｙ軸方向に沿って延在するねじ軸４６が配置されている。このねじ軸４６の一端部には、ねじ軸４６を回転させるためのモータ４８が連結されている。
【0060】
また、ねじ軸４６の螺旋状の溝が形成された表面には、回転するねじ軸４６の表面を転がる多数のボールを収容するナットが設けられ、ボールねじが構成されている。すなわち、ねじ軸４６が回転すると多数のボールがナット内を循環してナットがＹ軸方向に沿って移動する。
【0061】
さらに、このナットは、Ｙ軸移動プレート４４の下面側に固定されている。そのため、モータ４８でねじ軸４６を回転させれば、ナットとともにＹ軸移動プレート４４がＹ軸方向に沿って移動する。また、Ｙ軸移動プレート４４の上面には、それぞれがＸ軸方向に沿って延在する一対のＸ軸ガイドレール５０が固定されている。
【0062】
一対のＸ軸ガイドレール５０の上面側には、一対のＸ軸ガイドレール５０に沿ってスライド可能な態様でＸ軸移動プレート５２が連結されている。また、一対のＸ軸ガイドレール５０の間には、Ｘ軸方向に沿って延在するねじ軸５４が配置されている。このねじ軸５４の一端部には、ねじ軸５４を回転させるためのモータ（不図示）が連結されている。
【0063】
また、ねじ軸５４の螺旋状の溝が形成された表面には、回転するねじ軸５４の表面を転がる多数のボールを収容するナット（不図示）が設けられ、ボールねじが構成されている。すなわち、ねじ軸５４が回転すると多数のボールがナット内を循環してナットがＸ軸方向に沿って移動する。
【0064】
さらに、このナットは、Ｘ軸移動プレート５２の下面側に固定されている。そのため、モータでねじ軸５４を回転させれば、ナットとともにＸ軸移動プレート５２がＸ軸方向に沿って移動する。
【0065】
Ｘ軸移動プレート５２の上面側には、円柱状のテーブル基台５６が配置されている。このテーブル基台５６の上部には、フレームユニット１１を吸引保持する保持テーブル５８が配置されている。この保持テーブル５８は、例えば、Ｘ軸方向及びＹ軸方向に対して平行な円状の上面（保持面）を有し、この保持面においてはポーラス板５８ａが露出している。
【0066】
また、保持テーブル５８の下部には、モータ等の回転駆動源（不図示）が連結されている。そして、この回転駆動源を動作させると、保持面の中心を通り、かつ、Ｚ軸方向に平行な直線を回転軸として、保持テーブル５８が回転する。また、上述した水平移動機構４０を動作させると、Ｘ軸方向及び／又はＹ軸方向に沿って保持テーブル５８が移動する。
【0067】
さらに、ポーラス板５８ａは、保持テーブル５８の内部に設けられた流路等を介してエジェクタ等の吸引源（不図示）と連通している。そして、この吸引源を動作させると、保持テーブル５８の保持面近傍の空間に吸引力が作用する。これにより、例えば、テープ１９が下になるように保持テーブル５８に置かれたフレームユニット１１を保持テーブル５８で保持することができる。
【0068】
また、水平移動機構４０の側方には、支持構造６０が設けられている。そして、この支持構造６０の側面（水平移動機構４０側の面）には、アーム６２の基端部が固定されている。また、アーム６２の先端部には、レーザービーム照射ユニットのヘッド６４が設けられている。
【0069】
このレーザービーム照射ユニットは、レーザー発振器（不図示）を有する。レーザー発振器は、例えば、Ｎｄ：ＹＡＧ、Ｎｄ：ＹＶＯ４等で形成されたロッド状のレーザー媒質を含み、被加工物１３に吸収される波長（例えば、３５５ｎｍ）のパルス状のレーザービームを出射する。そして、レーザー発振器から出射されたレーザービームは、所定の光学系を介して、ヘッド６４に入射する。
【0070】
また、ヘッド６４の内部には、ミラー（不図示）及び集光レンズ（不図示）等の光学系と、集光レンズの位置（高さ）を調整するためのボイスコイルモータ等の調整機構とが配置されている。そして、ヘッド６４にレーザービームが入射すると、このレーザービームは、ミラーにより下方へ反射された後、集光レンズによって集光される。また、このレーザービームの集光点の位置（高さ）は、調整機構によって調整される。
【0071】
このレーザービームは、例えば、保持テーブル５８によって保持されたフレームユニット１１に含まれる被加工物１３の表面１３ａ近傍にレーザービームの集光点が位置付けられた状態で被加工物１３に照射される。これにより、被加工物１３においてレーザーアブレーションが生じて被加工物１３の一部が除去される。
【0072】
さらに、レーザー加工装置２８においては、塗布装置２、水平移動機構４０及びヘッド６４を含むレーザービーム照射ユニット等を囲むカバー６６が設けられている。なお、図３においては、便宜上、カバー６６の辺のみが二点鎖線で示されている。また、カバー６６の側面には、タッチパネル６８が設けられている。
【0073】
このタッチパネル６８は、例えば、静電容量方式又は抵抗膜方式のタッチセンサ等の入力ユニットと、液晶ディスプレイ又は有機ＥＬ（Ｅｌｅｃｔｒｏ Ｌｕｍｉｎｅｓｃｅｎｃｅ）ディスプレイ等の表示ユニット（報知ユニット）とによって構成され、ユーザインターフェースとして機能する。
【0074】
その他、上述した実施形態にかかる構造及び方法等は、本発明の目的の範囲を逸脱しない限りにおいて適宜変更して実施できる。
【符号の説明】
【0075】
２ ：塗布装置
４ ：保持テーブル（４ａ：ポーラス板）
６ ：チャンバ（６ａ：外周壁、６ｂ：底壁、６ｃ：内周壁）
８ ：排水口
１０ ：支持脚
１１ ：フレームユニット
１２ ：スピンドル
１３ ：被加工物（１３ａ：表面、１３ｂ：裏面）
１４ ：ハウジング
１５ ：分割予定ライン
１６ ：支持機構
１７ ：デバイス
１８ ：エアシリンダ
１９ ：テープ
２０ ：支持脚
２１ ：フレーム（２１ａ：開口）
２２ａ：支持軸、２２ｂ：アーム、２２ｃ：ノズル（保護膜剤供給ノズル）
２４ａ：支持軸、２４ｂ：アーム、２４ｃ：ノズル（気体噴射ノズル）
２４ｄ：気体供給源、２４ｅ：バルブ、２４ｆ：ドライヤ
２６ａ：支持軸、２６ｂ：アーム、２６ｃ：ノズル（洗浄液噴射ノズル）
２８ ：レーザー加工装置
３０ ：基台
３２ ：カセット
３４ ：カセットテーブル
３６ ：調整ガイドレール
３８ ：搬送ユニット
４０ ：水平移動機構
４２ ：Ｙ軸ガイドレール
４４ ：Ｙ軸移動プレート
４６ ：ねじ軸
４８ ：モータ
５０ ：Ｘ軸ガイドレール
５２ ：Ｘ軸移動プレート
５４ ：ねじ軸
５６ ：テーブル基台
５８ ：保持テーブル（５８ａ：ポーラス板）
６０ ：支持構造
６２ ：アーム
６４ ：ヘッド
６６ ：カバー
６８ ：タッチパネル
４ ：保持テーブル（４ａ：ポーラス板）
６ ：チャンバ（６ａ：外周壁、６ｂ：底壁、６ｃ：内周壁）
８ ：排水口
１０ ：支持脚
１１ ：フレームユニット
１２ ：スピンドル
１３ ：被加工物（１３ａ：表面、１３ｂ：裏面）
１４ ：ハウジング
１５ ：分割予定ライン
１６ ：支持機構
１７ ：デバイス
１８ ：エアシリンダ
１９ ：テープ
２０ ：支持脚
２１ ：フレーム（２１ａ：開口）
２２ａ：支持軸、２２ｂ：アーム、２２ｃ：ノズル（保護膜剤供給ノズル）
２４ａ：支持軸、２４ｂ：アーム、２４ｃ：ノズル（気体噴射ノズル）
２４ｄ：気体供給源、２４ｅ：バルブ、２４ｆ：ドライヤ
２６ａ：支持軸、２６ｂ：アーム、２６ｃ：ノズル（洗浄液噴射ノズル）
２８ ：レーザー加工装置
３０ ：基台
３２ ：カセット
３４ ：カセットテーブル
３６ ：調整ガイドレール
３８ ：搬送ユニット
４０ ：水平移動機構
４２ ：Ｙ軸ガイドレール
４４ ：Ｙ軸移動プレート
４６ ：ねじ軸
４８ ：モータ
５０ ：Ｘ軸ガイドレール
５２ ：Ｘ軸移動プレート
５４ ：ねじ軸
５６ ：テーブル基台
５８ ：保持テーブル（５８ａ：ポーラス板）
６０ ：支持構造
６２ ：アーム
６４ ：ヘッド
６６ ：カバー
６８ ：タッチパネル
【図1】
【図2】
【図3】