特開 2023-18978 基板処理装置

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】公開特許公報(A)

(11)【公開番号】P2023018978

(43)【公開日】2023-02-09

(54)【発明の名称】基板処理装置

(51)【国際特許分類】

   H01L 21/31 20060101AFI20230202BHJP

   H01L 21/22 20060101ALI20230202BHJP

   C23C 16/458 20060101ALI20230202BHJP

【ＦＩ】

H01L21/31 B

H01L21/22 511Q

C23C16/458

【審査請求】未請求

【請求項の数】10

【出願形態】ＯＬ

(21)【出願番号】P 2021123397

(22)【出願日】2021-07-28

(71)【出願人】

【識別番号】000219967

【氏名又は名称】東京エレクトロン株式会社

(74)【代理人】

【識別番号】100107766

【弁理士】

【氏名又は名称】伊東 忠重

(74)【代理人】

【識別番号】100070150

【弁理士】

【氏名又は名称】伊東 忠彦

(72)【発明者】

【氏名】島田 光一

【テーマコード（参考）】

4K030

5F045

【Ｆターム（参考）】

4K030CA04

4K030CA12

4K030EA06

4K030FA10

4K030GA02

4K030GA06

4K030KA46

5F045AA06

5F045AB03

5F045DP19

5F045DP28

5F045DQ05

5F045EC02

5F045EF03

5F045EF08

5F045EK06

5F045EM08

5F045EM10

5F045EN05

(57)【要約】

【課題】ボートへの基板の貼り付きを抑制できる技術を提供する。
【解決手段】本開示の一態様による基板処理装置は、基板を棚状に保持する第１のボートと、前記第１のボートと同軸に設けられ、基板を棚状に保持する第２のボートと、前記第１のボートと前記第２のボートとを同期させて回転させると共に、前記第２のボートを前記第１のボートに対して相対的に昇降させる駆動機構と、を備える。
【選択図】図１

【特許請求の範囲】

【請求項1】

基板を棚状に保持する第１のボートと、
前記第１のボートと同軸に設けられ、基板を棚状に保持する第２のボートと、
前記第１のボートと前記第２のボートとを同期させて回転させると共に、前記第２のボートを前記第１のボートに対して相対的に昇降させる駆動機構と、
を備える、基板処理装置。

【請求項2】

前記駆動機構は、
略円筒状の固定スリーブと、
前記固定スリーブ内に隙間をあけて挿通され、前記固定スリーブに対して相対的に回転する略円筒状の回転軸と、
を有する、
請求項１に記載の基板処理装置。

【請求項3】

前記固定スリーブには、該固定スリーブと前記回転軸との隙間に不活性ガスを導入するための導入口が設けられている、
請求項２に記載の基板処理装置。

【請求項4】

前記駆動機構は、前記回転軸内に隙間をあけて挿通され、前記回転軸に対して相対的に昇降する直動軸を有する、
請求項２又は３に記載の基板処理装置。

【請求項5】

前記回転軸には、前記固定スリーブと前記回転軸との隙間と、前記回転軸と前記直動軸との隙間とを連通させる貫通穴が形成されている、
請求項４に記載の基板処理装置。

【請求項6】

前記駆動機構は、前記回転軸と前記直動軸との隙間を気密に封止するベローズを有する、
請求項４又は５に記載の基板処理装置。

【請求項7】

前記駆動機構は、
前記第１のボートを支持する略円筒状の外側支持体と、
前記回転軸と前記外側支持体とを連結する外側連結機構と、
前記外側支持体内に隙間をあけて挿通され、前記第２のボートを支持する略円柱状の内側支持体と、
前記直動軸と前記内側支持体とを連結する内側連結機構と、
を有する、
請求項４乃至６のいずれか一項に記載の基板処理装置。

【請求項8】

前記外側支持体には、該外側支持体の側壁を貫通する貫通穴が形成されている、
請求項７に記載の基板処理装置。

【請求項9】

前記回転軸と前記外側支持体とは、熱膨張率が異なる材料により形成されており、
前記外側連結機構は、前記回転軸を構成する材料の熱膨張率と前記外側支持体を構成する材料の熱膨張率の間の熱膨張率を有する材料により形成されたハブを含む、
請求項７又は８に記載の基板処理装置。

【請求項10】

前記直動軸と前記内側支持体とは、熱膨張率が異なる材料により形成されており、
前記内側連結機構は、前記直動軸を構成する材料の熱膨張率と前記内側支持体を構成する材料の熱膨張率の間の熱膨張率を有する材料により形成されたハブを含む、
請求項７乃至９のいずれか一項に記載の基板処理装置。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本開示は、基板処理装置に関する。

【背景技術】

【0002】

処理室の内部に複数の基板を積載したボートを収容して複数の基板に成膜処理を行う装置が知られている（例えば、特許文献１、２参照）。特許文献１には、独立に上下方向に移動可能なインナーボートとアウターボートとを有する二重構造のボートが記載されている。特許文献２には、ウエハを保持する第１の保持ボートと誘導発熱体を保持する第２の保持ボートとを有する保持手段が記載されている。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0003】

【特許文献1】特開２０１８－６７５８２号公報

【特許文献2】特開２００９－１４１２０５号公報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0004】

本開示は、ボートへの基板の貼り付きを抑制できる技術を提供する。

【課題を解決するための手段】

【0005】

本開示の一態様による基板処理装置は、基板を棚状に保持する第１のボートと、前記第１のボートと同軸に設けられ、基板を棚状に保持する第２のボートと、前記第１のボートと前記第２のボートとを同期させて回転させると共に、前記第２のボートを前記第１のボートに対して相対的に昇降させる駆動機構と、を備える。

【発明の効果】

【0006】

本開示によれば、ボートへの基板の貼り付きを抑制できる。

【図面の簡単な説明】

【0007】

【図1】実施形態の基板処理装置の一例を示す断面図

【図2】基板保持具の一例を示す斜視図

【図3】基板保持具の一例を示す斜視図

【図4】第１のボートで基板を保持した状態の基板保持具を示す側面図

【図5】第２のボートで基板を保持した状態の基板保持具を示す側面図

【図6】基板保持具を駆動させる駆動機構の一例を示す断面図

【図7】外側支持体及内側支持体を説明する断面分解斜視図

【図8】外側支持体を説明する分解斜視図

【図9】外側連結機構及び内側連結機構を説明する断面図

【図10】外側連結機構及び内側連結機構を説明する断面分解斜視図

【図11】外側連結機構を説明する分解斜視図

【図12】外側連結機構を説明する平面図

【図13】内側支持体を説明する分解斜視図

【図14】内側連結機構を説明する分解斜視図

【図15】内側連結機構を説明する平面図

【発明を実施するための形態】

【0008】

以下、添付の図面を参照しながら、本開示の限定的でない例示の実施形態について説明する。添付の全図面中、同一又は対応する部材又は部品については、同一又は対応する参照符号を付し、重複する説明を省略する。

【0009】

〔基板の貼り付き〕
ボートに設けられる爪に基板を載置し、基板を載置した状態のボートを処理容器内に収容して基板に成膜処理を施すと、爪に基板が貼り付く場合がある。特に、基板にポリシリコン膜を厚く成膜すると、爪に基板が貼り付きやすい。

【0010】

爪に基板が貼り付くことを防止する対策の一例として、爪の表面に微細な凹凸を形成して爪と基板との接触面積を減らす技術がある。しかしながら、基板に成膜される膜の膜厚が厚くなると、上記の技術を適用しても爪に基板が貼り付く場合がある。

【0011】

本開示は、相対的に昇降する第１のボート及び第２のボートを備え、第１のボートと第２のボートとの間で基板の受け渡しが可能な基板保持具を用いることで、ボートへの基板の貼り付きを抑制できる技術を提供する。以下、詳細に説明する。

【0012】

〔基板処理装置〕
図１を参照し、実施形態の基板処理装置の一例について説明する。実施形態の基板処理装置は、複数の基板に対して一度に処理を行うバッチ式の装置である。

【0013】

基板処理装置１は、処理容器１０、ガス供給部３０、排気部４０、加熱部５０及び制御部８０を有する。

【0014】

処理容器１０は、内部を減圧可能である。処理容器１０は、基板Ｗを収容する。基板Ｗは、例えば半導体ウエハである。処理容器１０は、内管１１及び外管１２を含む。内管１１は、下端が開放された有天井の略円筒状を有する。外管１２は、下端が開放されて内管１１の外側を覆う有天井の略円筒状を有する。内管１１及び外管１２は、石英等の耐熱材料により形成されており、同軸状に配置されて２重管構造となっている。

【0015】

内管１１の天井は、例えば平坦になっている。内管１１の一側には、その長手方向（上下方向）に沿ってガスノズルを収容する収容部１３が形成されている。収容部１３は、内管１１の側壁の一部を外側へ向けて突出させて形成された凸部１４内の領域である。

【0016】

収容部１３に対向させて内管１１の反対側の側壁には、その長手方向（上下方向）に沿って矩形状の開口１５が形成されている。

【0017】

開口１５は、内管１１内のガスを排気できるように形成されたガス排気口である。開口１５の長さは、基板保持具１００の長さと同じであるか、又は、基板保持具１００の長さより長く上下方向へそれぞれ延びる長さである。

【0018】

処理容器１０の下端は、例えばステンレス鋼により形成される略円筒状のマニホールド１７によって支持されている。マニホールド１７の上端にはフランジ１８が形成されており、フランジ１８上に外管１２の下端を設置して支持するようになっている。フランジ１８と外管１２との下端との間にはＯリング等のシール部材１９を介在させて外管１２内を気密状態にしている。

【0019】

マニホールド１７の上部の内壁には、略円環状の支持部２０が設けられている。支持部２０は、内管１１の下端を設置して支持する。マニホールド１７の下端の開口には、Ｏリング等のシール部材２２を介して蓋２１が気密に取り付けられている。蓋２１は、略円板状を有し、処理容器１０の下端の開口、すなわち、マニホールド１７の開口を気密に塞ぐ。蓋２１は、例えばステンレス鋼により形成される。

【0020】

蓋２１の中央部には、駆動機構２００が貫通させて設けられている。駆動機構２００の下部は、ボートエレベータよりなる昇降機構２５のアーム２５ａに回転自在に支持されている。駆動機構２００は、第１のボート１１０と第２のボート１２０とを同期させて回転させると共に、第２のボート１２０を第１のボート１１０に対して相対的に昇降させる。また、蓋２１、駆動機構２００、第１のボート１１０及び第２のボート１２０は、昇降機構２５の昇降を受けて一体で上下動し、その結果、第１のボート１１０及び第２のボート１２０が処理容器１０内に対して挿脱される。なお、駆動機構２００の詳細については後述する。

【0021】

第１のボート１１０及び第２のボート１２０は、複数（例えば５０枚～１５０枚）の基板Ｗを棚状に保持する基板保持具１００を構成する。なお、基板保持具１００の詳細については後述する。

【0022】

蓋２１上には、保温台２８が設けられている。保温台２８は、基板保持具１００が蓋２１側との伝熱により冷却されることを防止して基板保持具１００を保温する。例えば、保温台２８は、蓋２１上に設けられる複数の支柱に、上下方向に間隔をあけて略水平に配置される複数の石英板が取り付けられた構成を有する。

【0023】

ガス供給部３０は、ガスノズル３１を含む。ガスノズル３１は、例えば石英により形成される。ガスノズル３１は、内管１１内にその長手方向に沿って設けられ、その基端がＬ字状に屈曲されてマニホールド１７を貫通するようにして支持されている。ガスノズル３１は、その長手方向に沿って複数のガス孔３１ｈを有し、複数のガス孔３１ｈから処理ガスを水平方向に吐出する。複数のガス孔３１ｈは、例えば基板保持具１００に支持される基板Ｗの間隔と同じ間隔で配置される。処理ガスの種類は限定されないが、成膜ガス、エッチングガス、パージガス等が挙げられる。

【0024】

なお、図１の例では、ガス供給部３０が１つのガスノズル３１を含む場合を説明したがガスノズルの数は限定されない。例えば、ガス供給部３０は複数のガスノズルを含んでいてもよい。この場合、複数のガスノズルは、同じ処理ガスを吐出するよう構成されていてもよく、異なる処理ガスを吐出するよう構成されていてもよい。

【0025】

排気部４０は、内管１１内から開口１５を介して排出され、内管１１と外管１２との間の空間Ｐ１を介してガス出口４１から排出されるガスを排気する。ガス出口４１は、マニホールド１７の上部の側壁であって、支持部２０の上方に形成されている。ガス出口４１には、排気通路４２が接続されている。排気通路４２には、圧力調整弁４３及び真空ポンプ４４が順次介設されて、処理容器１０内を排気できるようになっている。

【0026】

加熱部５０は、外管１２の周囲に設けられている。加熱部５０は、例えばベースプレート２９上に設けられている。加熱部５０は、外管１２を覆うように略円筒状を有する。加熱部５０は、例えば発熱体を含み、処理容器１０内の基板Ｗを加熱する。

【0027】

制御部８０は、基板処理装置１の各部の動作を制御するように構成される。制御部８０は、例えばコンピュータであってよい。基板処理装置１の各部の動作を行うコンピュータのプログラムは、記憶媒体９０に記憶されている。記憶媒体９０は、例えばフレキシブルディスク、コンパクトディスク、ハードディスク、フラッシュメモリ、ＤＶＤ等であってよい。

【0028】

〔基板保持具〕
図２～図５を参照し、実施形態の基板処理装置１が備える基板保持具１００の一例について説明する。図２は第１のボートに第２のボートが取り付けられる途中の状態の基板保持具を示す斜視図であり、図３は第１のボートに第２のボートが取り付けられている状態の基板保持具を示す斜視図である。

【0029】

基板保持具１００は、処理容器１０内に収容可能であり、複数の基板を上下方向に間隔をあけて略水平に保持する。基板保持具１００は、第１のボート１１０及び第２のボート１２０を有する。

【0030】

第１のボート１１０は、底板１１１、天板１１２及び支柱１１３（１１３ａ～１１３ｃ）を含む。底板１１１、天板１１２及び支柱１１３は、例えば石英、炭化珪素等の耐熱材料により形成される。

【0031】

底板１１１は、後述する外側支持体２２５に支持される。底板１１１は、保持する対象の基板の外径よりも大きい外径の略円環板状を有する。なお、底板１１１は略円板状を有していてもよい。

【0032】

天板１１２は、底板１１１の上方に、底板１１１と対向して設けられる。天板１１２は、底板１１１と同様、保持する対象の基板の外径よりも大きい外径の略円環板状を有する。なお、天板１１２は略円板状を有していてもよい。

【0033】

支柱１１３は、上下方向に延在する棒状を有し、底板１１１と天板１１２とを接続する。３本の支柱１１３ａ～１１３ｃは、同じ長さを有する。各支柱１１３ａ～１１３ｃは、その中心点が同心円の同一円弧上に位置するように設けられる。各支柱１１３ａ～１１３ｃには、上下方向に間隔をあけて複数の溝１１４が形成されている。溝１１４は、基板を載置する載置面１１５（図４及び図５）を形成する。載置面１１５に基板が載置されることで基板が支柱１１３に保持される。

【0034】

第２のボート１２０は、水平移動により第１のボート１１０に対して着脱可能に構成される。第２のボート１２０は、第１のボート１１０と同軸に設けられ、第１のボート１１０に対して相対的に昇降可能に構成される。第２のボート１２０は、底板１２１、天板１２２及び支柱１２３（１２３ａ～１２３ｃ）を含む。底板１２１、天板１２２及び支柱１２３は、例えば石英、炭化珪素等の耐熱材料により形成される。

【0035】

底板１２１は、後述する内側支持体２３５に支持され、底板１１１よりも上方に配置される。底板１２１は、保持する対象の基板の外径よりも大きい外径の略円環板状を有し、平面視で底板１１１と重なるように配置される。なお、底板１２１は略円板状を有していてもよい。底板１２１の外縁部には、支柱１１３ａ～１１３ｃを挿通させる切欠き１２１ａ～１２１ｃが形成されている。切欠き１２１ａ～１２１ｃは、第２のボート１２０を水平移動させて第１のボート１１０に取り付ける際に、底板１２１と支柱１１３ａ～１１３ｃとが接触しないよう形成される。

【0036】

天板１２２は、底板１２１の上方且つ天板１１２の下方に、底板１２１と対向して設けられる。天板１２２は、底板１２１と同様、保持する対象の基板の外径よりも大きい外径の略円環板状を有する。天板１２２の外縁部には、支柱１１３ａ～１１３ｃを挿通させる切欠き１２２ａ～１２２ｃが形成されている。切欠き１２２ａ～１２２ｃは、第２のボート１２０を水平移動させて第１のボート１１０に取り付ける際に、天板１２２と支柱１１３ａ～１１３ｃとが接触しないよう形成される。天板１２２の内縁部には、窪み面１２２ｓが形成されている。窪み面１２２ｓは、天板１２２の上面よりも低い上面を有し、天板１２２の開口１２２ｈを塞ぐ蓋（図示せず）を載置するための載置面として機能する。なお、天板１２２は略円板状を有していてもよい。

【0037】

支柱１２３は、上下方向に延在する棒状を有し、底板１２１と天板１２２とを接続する。３本の支柱１２３ａ～１２３ｃは、同じ長さを有する。各支柱１２３ａ～１２３ｃは、その中心点が各支柱１１３ａ～１１３ｃの中心点が通る円と同じ円の同一円弧上に位置するように設けられる。各支柱１２３ａ～１２３ｃは、それぞれ各支柱１１３ａ～１１３ｃよりも短い。各支柱１２３ａ～１２３ｃには、上下方向に間隔をあけて複数の溝部１２４が形成されている。溝部１２４は、基板を載置する載置面１２５（図４及び図５）を形成する。載置面１２５に基板が載置されることで基板が支柱１２３に保持される。

【0038】

〔基板の受け渡し〕
図４及び図５を参照し、基板保持具１００における基板の受け渡しの一例について説明する。図４は第１のボートで基板を保持した状態の基板保持具を示す側面図であり、図５は第２のボートで基板を保持した状態の基板保持具を示す側面図である。

【0039】

第１のボート１１０で基板Ｗを保持する場合、図４に示されるように、載置面１２５の位置が載置面１１５の位置よりも下方に移動するまで、第２のボート１２０を下降させる。これにより、基板Ｗは載置面１１５上に載置され、載置面１２５上から離間した状態となる。

【0040】

第２のボート１２０で基板Ｗを保持する場合、図５に示されるように、載置面１２５の位置が載置面１１５の位置よりも上方に位置するまで、第２のボート１２０を上昇させる。これにより、基板Ｗは載置面１２５上に載置され、載置面１１５上から離間した状態となる。

【0041】

例えば、第１のボート１１０で基板Ｗを保持した状態の基板保持具１００を処理容器１０内に収容して処理容器１０内において基板Ｗに成膜処理を施す際に、成膜処理の途中で第１のボート１１０に対して第２のボート１２０を上昇させる。これにより、第１のボート１１０に保持された基板Ｗが第２のボート１２０に渡される。また、第２のボート１２０で基板Ｗを保持した状態で、第１のボート１１０に対して第２のボート１２０を下降させる。これにより、第２のボート１２０に保持された基板Ｗが第１のボート１１０に渡される。このように、成膜処理の途中で、第１のボート１１０と第２のボート１２０との間で基板Ｗを受け渡すことにより、基板Ｗが載置面１１５及び載置面１２５に居続けることがない。その結果、載置面１１５上及び載置面１２５上に基板Ｗが貼り付くことを抑制できる。なお、成膜処理の途中で、第１のボート１１０と第２のボート１２０との間での基板Ｗの受け渡しを複数回繰り返してもよい。

【0042】

〔駆動機構〕
図６～図１５を参照し、駆動機構の一例について説明する。駆動機構２００は、第１のボート１１０と第２のボート１２０とを同期させて回転させると共に、第２のボート１２０を第１のボート１１０に対して相対的に昇降させる。駆動機構２００は、固定部２１０、回転部２２０及び回転直動部２３０を有する。

【0043】

固定部２１０は、底板２１１、天板２１２、連結部材２１３、固定スリーブ２１４及びパージガス導入口２１５を有する。

【0044】

底板２１１は、昇降機構２５のアーム２５ａ（図１）に支持されており、処理容器１０に対して相対的に昇降する。

【0045】

天板２１２は、底板２１１の上方に、底板２１１と対向して設けられている。天板２１２の中央部には、開口が形成されており、該開口に後述する回転軸２２１及び直動軸２３１が挿通される。天板２１２上には、蓋２１の下端がＯリング等のシール部材２１ｓを介して接続されている。

【0046】

連結部材２１３は、上下方向に延在する柱状体であり、底板２１１と天板２１２とを接続する。

【0047】

固定スリーブ２１４は、天板２１２の中央部より下方へ延びる中空の略円筒状を有する。固定スリーブ２１４の外周には、軸受２１６を介して後述する回転体２２２が回転可能に設けられている。軸受２１６の下部には、固定スリーブ２１４と回転体２２２との間に磁性流体シール２１７が設けられている。磁性流体シール２１７は、固定スリーブ２１４と回転体２２２との隙間を気密に封止する。

【0048】

パージガス導入口２１５は、固定スリーブ２１４の側壁を貫通して設けられ、固定スリーブ２１４内にパージガスを導入する。パージガス導入口２１５から固定スリーブ２１４内にパージガスが導入されることにより、ガスノズル３１から吐出される処理ガスが固定スリーブ２１４と回転軸２２１との隙間に回り込むことを抑制できる。パージガスは、例えばＡｒガス、Ｎ_２ガス等の不活性ガスである。

【0049】

回転部２２０は、回転軸２２１、回転体２２２、回転駆動源２２３、連結部材２２４、外側支持体２２５及び外側連結機構２２６を有する。

【0050】

回転軸２２１は、中空の略円筒状を有する。回転軸２２１は、固定スリーブ２１４内に、固定スリーブ２１４の内面から僅かな隙間をあけて挿通されている。回転軸２２１の上端には、外側連結機構２２６を介して外側支持体２２５が接続されている。回転軸２２１の下端には連結部材２２４が接続され、該連結部材２２４には回転体２２２が接続されている。回転軸２２１には、固定スリーブ２１４と回転軸２２１との隙間と、回転軸２２１と直動軸２３１との隙間とを連通させる貫通穴２２１ｈが形成されている。

【0051】

貫通穴２２１ｈは、パージガス導入口２１５から固定スリーブ２１４内に導入されるパージガスを回転軸２２１内に導く。これにより、ガスノズル３１から吐出される処理ガスが回転軸２２１と直動軸２３１との隙間に回り込むことを抑制できる。なお、貫通穴２２１ｈは、連結部材２２４を貫通するように形成され、回転軸２２１と直動軸２３１との隙間にパージガスを導くように構成されていてもよい。回転軸２２１は、例えば金属により形成されている。

【0052】

回転体２２２は、固定スリーブ２１４の外周に軸受２１６を介して回転可能に設けられている。回転体２２２の下端には連結部材２２４が接続されている。

【0053】

回転駆動源２２３は、例えばモータであり、回転体２２２を回転させる。

【0054】

連結部材２２４は、回転体２２２の下端と回転軸２２１の下端とを連結する。これにより、回転軸２２１、回転体２２２及び連結部材２２４が一体で回転する。連結部材２２４の下面には、ベローズ２２７及びスプライン２２８を介して昇降駆動板２３４が接続されている。これにより、回転軸２２１、連結部材２２４、直動軸２３１及び昇降駆動板２３４で囲まれる領域が気密に封止される。また、回転軸２２１、連結部材２２４、直動軸２３１及び昇降駆動板２３４が同期して回転する。なお、回転軸２２１、回転体２２２及び連結部材２２４は一体で形成されていてもよい。

【0055】

外側支持体２２５は、例えば石英により形成されており、軸部２２５ａ、下端部２２５ｂ、フランジ部２２５ｃ及び支持突起２２５ｄを含む。

【0056】

軸部２２５ａは、中空の略円筒状を有する。軸部２２５ａの下部には、軸部２２５ａの側壁を貫通する貫通穴２２５ｈが形成されている。貫通穴２２５ｈは、軸部２２５ａと軸部２３５ａとの隙間を上方に向けて流れるパージガスを軸部２２５ａ外に排出する。これにより、蓋２１が処理容器１０の下端の開口を気密に塞いでいる状態において、パージガス導入口２１５から導入されるパージガスが軸部２２５ａの上端から基板保持具１００に向けて吹き出されることが抑制される。その結果、ガスノズル３１から基板保持具１００に向けて吐出される処理ガスの流れがパージガスによって乱されることを抑制できる。

【0057】

下端部２２５ｂは、外側支持体２２５の下端に形成されており、外側連結機構２２６を介して回転軸２２１に接続されている。

【0058】

フランジ部２２５ｃは、外側支持体２２５の上端に形成されている。フランジ部２２５ｃ上には、フランジ部２２５ｃの周方向に沿って間隔をあけて複数（例えば４つ）の支持突起２２５ｄが設けられている。

【0059】

各支持突起２２５ｄは、載置面２２５ｄ１及び位置決め部２２５ｄ２を含む（図８）。第１のボート１１０は、各載置面２２５ｄ１上に底板１１１が載置され、底板１１１の内周面と位置決め部２２５ｄ２とが係合することで支持突起２２５ｄ上に位置決めされた状態で支持される。

【0060】

外側連結機構２２６は、回転軸２２１と外側支持体２２５とを連結する。外側連結機構２２６は、ハブ２２６ａ及びハブ２２６ｂを含む。

【0061】

ハブ２２６ａは、回転軸２２１を構成する材料と同じ材料、例えば金属により形成されている。ハブ２２６ａは、上下方向に貫通する貫通穴２２６ａ１が形成された中空の略円筒状を有する。貫通穴２２６ａ１の下端における内径は、回転軸２２１の上端の外径よりも僅かに大きく形成されている。これにより、回転軸２２１を貫通穴２２６ａ１に挿通させて、回転軸２２１にハブ２２６ａを嵌め込むことができる。ハブ２２６ａは、ネジ等により回転軸２２１に固定されている。ハブ２２６ａの上面の外縁部には、該上面から突出する略円環状のガイド突起２２６ａ２が形成されている。ガイド突起２２６ａ２の内径は、ハブ２２６ｂの下端の外径よりも僅かに大きく設定されている。これにより、ハブ２２６ｂの下端がハブ２２６ａに嵌め込まれる。

【0062】

ハブ２２６ｂは、ハブ２２６ａを構成する材料よりも熱膨張率が小さく且つ外側支持体２２５を構成する材料よりも熱膨張率が大きい材料、例えば窒化ケイ素（Ｓｉ_３Ｎ_４）等のセラミックス材料により形成されている。ハブ２２６ｂは、上下方向に貫通する貫通穴２２６ｂ１が形成された中空の略円筒状を有する。ハブ２２６ｂの上面の外縁部には、該上面から突出する略円環状のガイド突起２２６ｂ２が形成されている。ガイド突起２２６ｂ２は、３つの平面部２２６ｂ３を有する。ガイド突起２２６ｂ２の内径は、下端部２２５ｂの下端の外径よりも僅かに大きく設定されている。これにより、下端部２２５ｂの下端がハブ２２６ｂに嵌め込まれる。また、下端部２２５ｂの下端には、３つの平面部２２６ｂ３と対応する３つの平面部２２５ｂ３が形成されており、３つの平面部２２５ｂ３がそれぞれ３つの平面部２２６ｂ３と係合することで、外側支持体２２５がハブ２２６ｂに対して位置決めされる。

【0063】

回転直動部２３０は、直動軸２３１、昇降ステージ２３２、昇降駆動源２３３、昇降駆動板２３４、内側支持体２３５及び内側連結機構２３６を有する。

【0064】

直動軸２３１は、中実の略円柱状を有する。直動軸２３１は、回転軸２２１内に、該回転軸２２１の内面から僅かな隙間をあけて挿通されている。直動軸２３１の上端には、内側連結機構２３６を介して内側支持体２３５が接続されている。直動軸２３１の下端には、昇降駆動板２３４が接続されている。直動軸２３１は、例えば金属により形成されている。

【0065】

昇降ステージ２３２は、昇降駆動源２３３の動力により昇降する。昇降ステージ２３２上には、軸受２３２ａを介して昇降駆動板２３４が設置されている。

【0066】

昇降駆動源２３３は、例えばボールねじであり、昇降ステージ２３２を昇降させる。

【0067】

昇降駆動板２３４は、直動軸２３１の下端に接続されている。昇降駆動板２３４は、昇降ステージ２３２の昇降を受けて、昇降ステージ２３２と一体で昇降し、直動軸２３１を回転軸２２１に対して相対的に昇降させる。なお、昇降駆動板２３４は、直動軸２３１と一体で形成されていてもよい。

【0068】

内側支持体２３５は、例えば石英により形成されており、軸部２３５ａ、下端部２３５ｂ、フランジ部２３５ｃ及び支持突起２３５ｄを含む。

【0069】

軸部２３５ａは、中実の略円柱状を有する。軸部２３５ａは、軸部２２５ａ内に、該軸部２２５ａの内面から僅かな隙間をあけて挿通されている。

【0070】

下端部２３５ｂは、内側支持体２３５の下端に形成されており、内側連結機構２３６を介して直動軸２３１に接続されている。

【0071】

フランジ部２３５ｃは、軸部２３５ａの上端に軸部２３５ａと着脱自在に取り付けられている。フランジ部２３５ｃ上には、フランジ部２３５ｃの周方向に沿って間隔をあけて複数（例えば４つ）の支持突起２３５ｄが設けられている。

【0072】

各支持突起２３５ｄは、載置面２３５ｄ１及び位置決め部２３５ｄ２を含む（図１３）。第２のボート１２０は、各載置面２３５ｄ１上に底板１２１が載置され、底板１２１の内周面と位置決め部２３５ｄ２とが係合することで支持突起２３５ｄ上に位置決めされた状態で支持される。

【0073】

内側連結機構２３６は、直動軸２３１と内側支持体２３５とを連結する。内側連結機構２３６は、ハブ２３６ａ及びハブ２３６ｂを含む。

【0074】

ハブ２３６ａは、直動軸２３１を構成する材料と同じ材料、例えば金属により形成されている。ハブ２３６ａは、上下方向に貫通する貫通穴２３６ａ１が形成された中空の略円筒状を有する。貫通穴２３６ａ１の下端における内径は、直動軸２３１の上端の外径よりも僅かに大きく形成されている。これにより、直動軸２３１を貫通穴２３６ａ１に挿通させて、直動軸２３１にハブ２３６ａを嵌め込むことができる。ハブ２３６ａは、ネジ等により直動軸２３１に固定されている。貫通穴２３６ａ１の上端における内径は、ハブ２３６ｂの下端の外径よりも僅かに大きく形成されている。これにより、ハブ２３６ｂの下端を貫通穴２３６ａ１に挿通させて、ハブ２３６ｂをハブ２３６ａに嵌め込むことができる。

【0075】

ハブ２３６ｂは、ハブ２３６ａを構成する材料よりも熱膨張率が小さく且つ外側支持体２２５を構成する材料よりも熱膨張率が大きい材料、例えばＳｉ_３Ｎ_４等のセラミックス材料により形成されている。ハブ２３６ｂの上面の外縁部には、該上面から突出する略円環状のガイド突起２３６ｂ２が形成されている。ガイド突起２３６ｂ２は、３つの平面部２３６ｂ３を有する。ガイド突起２３６ｂ２の内径は、下端部２３５ｂの下端の外径よりも僅かに大きく設定されている。これにより、下端部２３５ｂの下端がハブ２３６ｂに嵌め込まれる。また、下端部２３５ｂの下端には、３つの平面部２３６ｂ３と対応する３つの平面部２３５ｂ３が形成されており、３つの平面部２３５ｂ３がそれぞれ３つの平面部２３６ｂ３と係合することで、内側支持体２３５がハブ２３６ｂに対して位置決めされる。

【0076】

今回開示された実施形態はすべての点で例示であって制限的なものではないと考えられるべきである。上記の実施形態は、添付の請求の範囲及びその趣旨を逸脱することなく、様々な形態で省略、置換、変更されてもよい。

【符号の説明】

【0077】

１０ 処理容器
１１０ 第１のボート
１２０ 第２のボート
２００ 駆動機構
２１０ 固定部
２２０ 回転部
２３０ 回転直動部
Ｗ 基板

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】

【図6】

【図7】

【図8】

【図9】

【図10】

【図11】

【図12】

【図13】

【図14】

【図15】

【手続補正書】

【提出日】2022-06-28

【手続補正1】

【補正対象書類名】明細書

【補正対象項目名】００３３

【補正方法】変更

【補正の内容】

【0033】

支柱１１３は、上下方向に延在する棒状を有し、底板１１１と天板１１２とを接続する。３本の支柱１１３ａ～１１３ｃは、同じ長さを有する。各支柱１１３ａ～１１３ｃは、その中心点が同一円周上に位置するように設けられる。各支柱１１３ａ～１１３ｃには、上下方向に間隔をあけて複数の溝１１４が形成されている。溝１１４は、基板を載置する載置面１１５（図４及び図５）を形成する。載置面１１５に基板が載置されることで基板が支柱１１３に保持される。

【手続補正2】

【補正対象書類名】明細書

【補正対象項目名】００３７

【補正方法】変更

【補正の内容】

【0037】

支柱１２３は、上下方向に延在する棒状を有し、底板１２１と天板１２２とを接続する。３本の支柱１２３ａ～１２３ｃは、同じ長さを有する。各支柱１２３ａ～１２３ｃは、その中心点が各支柱１１３ａ～１１３ｃの中心点と同一円周上に位置するように設けられる。各支柱１２３ａ～１２３ｃは、それぞれ各支柱１１３ａ～１１３ｃよりも短い。各支柱１２３ａ～１２３ｃには、上下方向に間隔をあけて複数の溝部１２４が形成されている。溝部１２４は、基板を載置する載置面１２５（図４及び図５）を形成する。載置面１２５に基板が載置されることで基板が支柱１２３に保持される。