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特開2023-19676洗浄籠

書誌要約請求の範囲詳細な説明課題実施例実施するための形態図面の説明

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(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】公開特許公報(A)

(11)【公開番号】P2023019676

(43)【公開日】2023-02-09

(54)【発明の名称】洗浄籠

(51)【国際特許分類】

C01B 33/02 20060101AFI20230202BHJP

【ＦＩ】

C01B33/02 Z

【審査請求】未請求

【請求項の数】4

【出願形態】ＯＬ

(21)【出願番号】P 2021124598

(22)【出願日】2021-07-29

(71)【出願人】

【識別番号】000003182

【氏名又は名称】株式会社トクヤマ

(74)【代理人】

【識別番号】110000338

【氏名又は名称】弁理士法人ＨＡＲＡＫＥＮＺＯＷＯＲＬＤＰＡＴＥＮＴ＆ＴＲＡＤＥＭＡＲＫ

(72)【発明者】

【氏名】浅野哲郎

(72)【発明者】

【氏名】吉村拓朗

(72)【発明者】

【氏名】横瀬卓矢

【テーマコード（参考）】

4G072

【Ｆターム（参考）】

4G072AA01

4G072BB01

4G072DD01

4G072GG04

4G072MM23

4G072NN14

4G072UU01

(57)【要約】

【課題】シリコン片が洗浄籠からこぼれ落ちる量を低減し、かつ液の持ち込み量を低減する。
【解決手段】多結晶シリコン塊を洗浄するために用いられる洗浄籠（１０Ｘ）である。洗浄籠（１０Ｘ）の下方に位置し、前記多結晶シリコン塊が収容される収容領域（ＲＢ）において、孔径が１ｍｍ以上１０ｍｍ以下である孔（Ｈ）が複数形成されており、収容領域（ＲＢ）よりも上方の上方領域（ＲＴ）において、溝幅が１ｍｍ以上１０ｍｍ以下であるスリット（Ｓ）が複数形成されている。
【選択図】図２

【特許請求の範囲】

【請求項1】

多結晶シリコン塊を洗浄するために用いられる洗浄籠であって、
前記洗浄籠の下方に位置し、前記多結晶シリコン塊が収容される収容領域において、孔径が１ｍｍ以上１０ｍｍ以下である孔が複数形成されており、
前記収容領域よりも上方の上方領域において、溝幅が１ｍｍ以上１０ｍｍ以下であるスリットが複数形成されている、洗浄籠。

【請求項2】

前記孔は、前記洗浄籠の底部および側壁部の下方において前記収容領域に含まれる領域に形成されている、請求項１に記載の洗浄籠。

【請求項3】

前記スリットは、前記洗浄籠の側壁部の上方において前記上方領域に含まれる領域に形成され、
前記スリットは、前記洗浄籠の底部と、前記スリットが形成される前記側壁部との接線に対して垂直方向に延伸している、請求項１または２に記載の洗浄籠。

【請求項4】

前記洗浄籠の底部と、側壁部との間に、傾斜部を備えており、
前記傾斜部は、前記底部および前記側壁部に接続され、前記底部の表面に対して上方外側に向かって傾斜しており、
前記傾斜部において前記収容領域に含まれる領域には前記孔が複数形成されている、請求項１から３のいずれか１項に記載の洗浄籠。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は多結晶シリコンを洗浄する際に使用する洗浄籠に関する。

【背景技術】

【0002】

高純度多結晶シリコンを製造する方法としてシーメンス法が知られている。シーメンス法は、金属シリコンと塩化水素ガスの反応により三塩化シランを製造し、その三塩化シランを水素還元又は熱分解することにより、シリコン芯線上にシリコンを析出させて円柱状の多結晶シリコンを生成する方法である。このように生成された多結晶シリコンロッドは、短尺に切断されるかまたは破砕され、小さい塊状のシリコン材料とされる。当該塊状のシリコン材料は、洗浄籠の中に収容された状態で、フッ酸と硝酸を混合した酸で満たされた洗浄槽にその洗浄籠ごと浸漬させてエッチング洗浄される。その後、純水で洗浄され、乾燥される。

【0003】

上述した用途に用いられる洗浄籠には、通常、洗浄籠内へ通液のために、側板および底板に複数の貫通孔が設けられている。例えば、特許文献１に記載のバスケット（洗浄籠）には、底板および側板において、複数の丸孔状の貫通孔が設けられている。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0004】

【特許文献1】特開２０１２－１０６９１４号公報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0005】

洗浄籠は、洗浄液槽間を移動させるとき、および乾燥工程へ持ち込むときの液の持ち込み量が少ないことが好ましい。一方、シリコン片が貫通孔からこぼれ落ちると、洗浄液の寿命が短くなるため、貫通孔からこぼれ落ちるシリコン片の量が少ないことが好ましい。そのため、洗浄中に貫通孔からこぼれ落ちる多結晶シリコン片の量を低減しつつ、液の持ち込み量を低減するために、貫通孔を改良する余地がある。

【0006】

本発明の一態様は、多結晶シリコン片が洗浄籠からこぼれ落ちる量を低減し、かつ液の持ち込み量を低減する洗浄籠を実現することを目的とする。

【課題を解決するための手段】

【0007】

上記の課題を解決するために、本発明の一態様に係る洗浄籠は、多結晶シリコン塊を洗浄するために用いられる洗浄籠であって、前記洗浄籠の下方に位置し、前記多結晶シリコン塊が収容される収容領域において、孔径が１ｍｍ以上１０ｍｍ以下である孔が複数形成されており、前記収容領域よりも上方の上方領域において、溝幅が１ｍｍ以上１０ｍｍ以下であるスリットが複数形成されている。

【発明の効果】

【0008】

本発明の一態様によれば、多結晶シリコン片が洗浄籠からこぼれ落ちる量を低減し、かつ液の持ち込み量を低減する洗浄籠を実現することができる。

【図面の簡単な説明】

【0009】

【図1】本発明の実施形態１に係る洗浄籠の概略斜視図である。

【図2】本発明の実施形態１に係る洗浄籠の展開図である。

【図3】本発明の実施形態２に係る洗浄籠の概略斜視図である。

【図4】本発明の実施形態２に係る洗浄籠の展開図である。

【図5】本発明の実施形態２に係る洗浄籠を上方から見たときの平面図である。

【図6】本発明の実施形態２に係る洗浄籠を第１側板１１側から見たときの側面図である。

【図7】本発明の実施形態２に係る洗浄籠を第２側板側から見たときの側面図である。

【図8】図５のＶＩＩ－ＶＩＩ線矢視断面図である。

【発明を実施するための形態】

【0010】

以下において、本発明に係る洗浄籠について説明するが、まずは、理解のために本発明の洗浄籠の使用場面について説明する。

【0011】

多結晶シリコンは、シーメンス法によって、シリコン芯線上に多結晶シリコンを析出させて得られ得る。このように得られた多結晶シリコンロッドは、通常、短尺に切断されるかまたは破砕された後、多結晶シリコン塊（以下、シリコン塊と称する）の状態で洗浄籠に収容され、洗浄プロセスに供される。

【0012】

洗浄プロセスは、例えば、洗浄液としてフッ硝酸を用いたエッチング工程と、洗浄液として水を用いた水洗工程と、乾燥工程と、冷却工程とを含む。洗浄プロセスは当該例に限定されず、他の洗浄液を用いた洗浄工程を含んでいてもよい。

【0013】

エッチング工程は、シリコン塊の表面に存在する汚染物質を除去する洗浄工程である。多結晶シリコンには、自然酸化によって汚染物質を含む酸化膜が、通常、数ｎｍの厚みで形成され得る。多結晶シリコンをフッ硝酸と接触させることにより下記に示す反応が起こる。主にフッ酸の作用として、多結晶シリコンの表面がエッチングされ該表面に存在する酸化膜が除去される。一方で、主に硝酸の作用として、多結晶シリコンの表面に新たな酸化膜が形成される。酸化膜の除去と、酸化膜の形成と、が同時に進行することにより、多結晶シリコンがエッチングされ、多結晶シリコンの表面に付着した汚染物質および多結晶シリコンに取り込まれた汚染物質が除去される。エッチング工程は、複数の洗浄槽から構成されていてもよい。

【0014】

水洗工程は、エッチング工程において用いたフッ硝酸洗浄液および汚染物質を除去する洗浄工程である。水洗工程において用いられる水は、水中に含まれる汚染物質が少ない、精製した水を用いることが好ましく、超純水を用いることがより好ましい。水洗工程は、複数の洗浄槽から構成されていてもよい。

【0015】

乾燥工程は、各種洗浄液によって洗浄されたシリコン塊に対し、高温空気などを通気させることにより乾燥させる工程である。

【0016】

冷却工程は、乾燥工程によって加熱されたシリコン塊を冷却する工程である。

【0017】

上述のような洗浄プロセスにおいて、エッチング工程および水洗工程は、各洗浄液を湛えた洗浄槽にシリコン塊を収容した洗浄籠を浸漬させることにより実施され得る。また、洗浄籠を浸漬している間、洗浄液との接触効率を向上させるために、洗浄籠を上下運動またはスイング運動させてもよい。

【0018】

本発明に係る洗浄籠は、上述のような洗浄プロセスにおいて用いられるものである。

【0019】

〔実施形態１〕
＜洗浄籠１０Ｘの構成＞
以下、本発明の一態様について、図１および図２に基づいて説明する。なお、以下の記載は発明の趣旨をより良く理解させるためのものであり、特に指定のない限り、本発明を限定するものではない。また、特に明示されない限り、各部材の形状、構造、および位置関係は、各図の例に限定されない。本明細書では、「Ａ～Ｂ」という記載は、特に明示されない限り、「Ａ以上かつＢ以下」を意味する。

【0020】

図１は洗浄籠１０Ｘの概略斜視図である。なお、図１は洗浄籠１０Ｘの外形を概略的に示したものであり、洗浄籠１０Ｘが有する孔ＨおよびスリットＳなどは省略している。図２は、洗浄籠１０Ｘの展開図である。図２の符号２００１に示される図は、底板１４（底部）と、第１側板１１Ｘ（側壁部）と、第２側板１２Ｘ（側壁部）とを含む展開図である。図２の符号２００２に示される図は、仕切板１５Ｘの平面図である。図２の展開図は模式的に示した展開図であり、孔ＨおよびスリットＳの大きさ、数、配置などは実際の構成と異なることを理解されたい。

【0021】

図１および図２に示すように、洗浄籠１０Ｘは、底板１４（底部）と、第１側板１１Ｘ（側壁部）と、第２側板１２Ｘ（側壁部）と、仕切板１５Ｘとを備える。

【0022】

洗浄籠１０Ｘは、複数のシリコン塊を収容可能な籠である。洗浄籠１０Ｘは、例えば、略直方体形状を有しており、水切れのよい樹脂、例えば、ポリプロピレン樹脂（ＰＰ）、ポリ塩化ビニル樹脂（ＰＶＣ）、またはポリフッ化ビニリデン樹脂（ＰＶＤＦ）などから構成され得る。洗浄籠１０Ｘの容量は、例えば１Ｌ～３００Ｌ、好ましくは１５０Ｌ～２９０Ｌである。洗浄籠１０Ｘを上方から平面視したときの長辺の長さは１０ｃｍ～１００ｃｍ、好ましくは４０ｃｍ～９０ｃｍである。洗浄籠１０Ｘを上方から平面視したときの短辺の長さは１０ｃｍ～１００ｃｍ、好ましくは４０ｃｍ～９０ｃｍである。洗浄籠１０Ｘの高さは１０ｃｍ～７０ｃｍ、好ましくは３０ｃｍ～６０ｃｍである。洗浄籠１０Ｘの形状は直方体形状に限定されない。

【0023】

底板１４は、洗浄籠１０Ｘの底部に位置する部材である。図１では、底板１４は長方形状の平板によって構成されているが、当該形状に限定されず、正方形形状の平板であってもよい。また、底板１４は、下に凸となるように湾曲していてもよい。

【0024】

第１側板１１Ｘ（側壁部）は、洗浄籠１０Ｘが略直方体の矩形を有する場合、底板１４の短辺に接続され、底板１４から上方に延伸する部材である。第２側板１２Ｘ（側壁部）は、底板１４の長辺に接続され、底板１４から上方に延伸する部材である。図１では、第１側板１１Ｘおよび第２側板１２Ｘは、底板１４の表面に対して垂直な方向に延伸しているが、当該態様に限定されない。例えば、第１側板１１Ｘおよび第２側板１２Ｘは、底板１４の表面に対して、シリコン塊を収容可能な程度に上方外側に向かって傾斜していてもよい。

【0025】

仕切板１５Ｘは、洗浄籠１０Ｘの内部に設けられ、洗浄籠１０Ｘ内におけるシリコン塊の偏りを低減するための部材である。洗浄籠１０Ｘは、必要に応じて複数の仕切板１５Ｘを備えていてもよい。図１および図２に示す例では仕切板１５Ｘの形状は矩形を有しているが、仕切板Ｘの形状は、洗浄籠１０Ｘの形状に合わせ、任意に設計され得る。仕切板１５Ｘには、仕切板Ｘによって仕切られた洗浄籠１０Ｘ内の２つの領域間の液通りのために、複数の貫通孔が設けられている。仕切板１５Ｘに設けられる貫通孔は、シリコン塊が通過せず、液通りを確保できる大きさであれば、形状および大きさは特に限定されない。例えば、後述するスリットＳが複数形成されていてもよい。

【0026】

図１に示すように、洗浄籠１０Ｘにおいて、下方に位置し、シリコン塊が収容される領域を収容領域ＲＢ、収容領域ＲＢよりも上方の領域を上方領域ＲＴと定義する。図２に示すように、第１側板１１Ｘは、収容領域ＲＢに含まれる領域である領域１１Ｂ、上方領域ＲＴに含まれる領域である領域１１Ｔを有している。同様に、第２側板１２Ｘは、収容領域ＲＢに含まれる領域である領域１２Ｂ、上方領域ＲＴに含まれる領域である領域１２Ｔを有している。底板１４は収容領域ＲＢに含まれる領域１４Ｂを有している。収容領域ＲＢと、上方領域ＲＴとの境界位置は、洗浄籠１０Ｘの容量などにより任意に設定され得る。例えば、収容領域ＲＢと、上方領域ＲＴとの境界位置は、洗浄籠１０Ｘの高さ方向において、下から４分の１～３分の２に規定され得る。

【0027】

洗浄籠１０Ｘには、収容領域ＲＢにおいて、孔径が１ｍｍ以上１０ｍｍ以下、好ましくは２ｍｍ以上６ｍｍ以下である、略円形の貫通孔である孔Ｈが複数形成されている。より詳細には、洗浄籠１０Ｘは、領域１１Ｂ、領域１２Ｂおよび領域１４Ｂにおいて孔径が１ｍｍ以上１０ｍｍ以下、好ましくは２ｍｍ以上６ｍｍ以下である孔Ｈを複数有している。洗浄籠１０Ｘが有する孔Ｈは全て同じ孔径であってもよいし、上記範囲内の孔径であればそれぞれ異なる孔径を有していてもよい。孔Ｈが全て同じ孔径である場合、加工が容易である。

【0028】

洗浄籠を用いてシリコン塊を洗浄する場合、洗浄籠内の通液状態を良くするために洗浄籠を上下または揺動させることが一般的である。この洗浄籠の上下動作または揺動動作に伴い、籠内のシリコン塊同士が接触または衝突し、小さな多結晶シリコン片が発生する場合がある。このようなシリコン片は、微細なものを含むため、洗浄籠から洗浄液中にこぼれ落ちやすい（落下しやすい）。シリコン片が洗浄液中に落下すると、特にエッチング工程などの薬液を用いる洗浄工程においては、シリコン片と洗浄液とが反応し、洗浄液の寿命が短くなってしまう。

【0029】

孔径を１ｍｍ以上１０ｍｍ以下とすることにより、シリコン片が洗浄籠から洗浄液中に落下する量を低減することができる。通液性と、落下量とを考慮した場合、孔径を２ｍｍ以上６ｍｍ以下とすることがより好ましい。

【0030】

洗浄籠１０Ｘにおいて、孔Ｈは、洗浄籠１０Ｘの底板１４および側壁部（第１側板１１Ｘおよび第２側板１２Ｘ）の下方において収容領域ＲＢに含まれる領域に形成されている。収容領域ＲＢに含まれる領域に、孔Ｈが形成されていることにより、シリコン片が洗浄液中にこぼれ落ちる量を効果的に低減することができる。

【0031】

また、洗浄籠１０Ｘの収容領域ＲＢにおける、洗浄籠１０Ｘの表面積に対する、複数の孔Ｈの開口面積の合計値の割合として示される開口率は、１０％以上２０％以下、好ましくは１２％以上１８％以下である。孔Ｈの孔径および数は、収容領域ＲＢにおける開口率が上記範囲内となるように、適宜決定され得る。

【0032】

孔Ｈを備える収容領域ＲＢの開口率が１０％以上２０％以下であることにより、シリコン片の落下量を低減しつつ、洗浄液の持ち込み量を抑制することができる。通液性と、落下量とを考慮した場合、開口率を１２％以上１８％以下とすることがより好ましい。また、収容領域ＲＢを構成する領域１１Ｂ、領域１２Ｂ、および領域１４Ｂの各領域において、開口率が１０％以上２０％以下、好ましくは１２％以上１８％以下であることがより好ましい。

【0033】

洗浄籠１０Ｘには、上方領域ＲＴにおいて、長孔状の貫通孔であるスリットＳが、複数形成されている。スリットＳの溝幅は、１ｍｍ以上１０ｍｍ以下、好ましくは２ｍｍ以上４ｍｍ以下である。より詳細には、洗浄籠１０Ｘは、第１側板１１Ｘの領域１１Ｔにおいて、底板１４と、第１側板１１Ｘとの接線に対して垂直方向に延伸するスリットＳを複数有している。同様に、洗浄籠１０Ｘは、第２側板１２Ｘの領域１２Ｔにおいて、底板１４と、第２側板１２Ｘとの接線に対して垂直方向に延伸するスリットＳを複数有している。換言すると、スリットＳは、洗浄籠１０Ｘの側壁部の上方において上方領域ＲＴに含まれる領域に形成される。スリットＳは、洗浄籠１０Ｘの底部と、スリットＳが形成される側壁部との接線に対して垂直方向に延伸している。スリットＳの長さは特に限定されないが、例えば、２０ｍｍ以上１５０ｍｍ以下、好ましくは５０ｍｍ以上１３０ｍｍ以下であってよい。洗浄籠１０Ｘが有するスリットの溝幅は、全て同じであってもよいし、上記範囲内であればそれぞれ異なっていてもよい。溝幅が同じである場合、加工が容易である。

【0034】

洗浄籠を用いてシリコン塊を洗浄する場合、洗浄籠を、第１の洗浄液槽から第２の洗浄液槽へ移動させるときの洗浄液の持ち込み量が少ないことが好ましい。孔Ｈと、スリットＳとを比較すると、開口率が同じ場合、孔Ｈは孔径が小さいほど表面張力の影響を受け、液通りが悪くなりやすい。上方領域ＲＴにスリットＳを設けることにより、洗浄籠１０Ｘを第１の洗浄液槽から第２の洗浄液槽へ移動させるときの洗浄液の持ち込み量を低減することができる。これにより洗浄液濃度の制御を容易にし、また洗浄液の劣化を低減することができる。また、洗浄液槽から、乾燥工程に持ち込む場合には、洗浄液の持ち込み量が低減されることにより、乾燥効率を向上させることができる。

【0035】

また、洗浄籠１０Ｘの上方領域ＲＴにおける、洗浄籠１０Ｘの表面積に対する、複数のスリットＳの開口面積の合計値の割合として示される開口率は、１０％以上４０％以下、好ましくは１２％以上２８％以下である。スリットＳの溝幅、長さおよび数は、上方領域ＲＴにおける開口率が上記範囲内となるように、適宜決定され得る。

【0036】

スリットＳを備える上方領域ＲＴにおける開口率が１０％以上４０％以下であることにより、シリコン片の落下量を低減しつつ、洗浄液の持ち込み量を抑制することができる。通液性と、落下量とを考慮した場合、開口率を１２％以上２８％以下とすることがより好ましい。また、上方領域ＲＴを構成する領域１１Ｔおよび領域１２Ｔの各領域において、開口率が１０％以上４０％以下、好ましくは１２％以上２８％以下であることがより好ましい。
さらに洗浄籠１０Ｘ全体の内面積（仕切板１５Ｘを除く）に対する、洗浄籠１０Ｘが有する孔ＨおよびスリットＳの開口面積の合計値の割合として規定される開口率は、１３％以上２０％以下、好ましくは１５％以上１８％以下である。これにより、シリコン片の落下量を低減しつつ、洗浄液の持ち込み量を抑制する本発明の効果を十分に発揮させることができる。

【0037】

洗浄籠１０Ｘは、洗浄籠１０Ｘの下方に位置し、シリコン塊が収容される収容領域ＲＢにおいて、孔径が１ｍｍ以上１０ｍｍ以下である孔Ｈが複数形成されている。また、洗浄籠１０Ｘは、収容領域ＲＢよりも上方の上方領域ＲＴにおいて、溝幅が１ｍｍ以上１０ｍｍ以下であるスリットが複数形成されている。

【0038】

上記構成により、シリコン片が洗浄籠からこぼれ落ちる量を低減し、かつ液の持ち込み量を低減する洗浄籠を実現することができる。

【0039】

〔実施形態２〕
本発明の他の実施形態について以下に説明する。なお、説明の便宜上、上記実施形態にて説明した部材と同じ機能を有する部材については、同じ符号を付記し、その説明を繰り返さない。

【0040】

図３は、実施形態２に係る洗浄籠１０の概略斜視図である。なお、図３は洗浄籠１０の外形を概略的に示したものであり、洗浄籠１０が有する孔ＨおよびスリットＳなどは省略している。図４は、洗浄籠１０Ｘの展開図である。図４の展開図は模式的に示した展開図であり、孔ＨおよびスリットＳの大きさ、数、配置などは実際の構成と異なることを理解されたい。図５は、洗浄籠１０を上方から見たときの平面図である。図６は、洗浄籠１０を第１側板１１側から見たときの側面図である。図７は、洗浄籠１０を第２側板１２側から見たときの側面図である。図８は、図５のＶＩＩ－ＶＩＩ線矢視断面図である。

【0041】

図３および図４に示すように、洗浄籠１０は、底板１４（底部）と、第１側板１１（側壁部）と、第２側板１２（側壁部）と、傾斜板１３（傾斜部）と、仕切板１５とを備える。洗浄籠１０は、実施形態１の洗浄籠１０Ｘと比較して、底板１４と、第１側板１１との間に傾斜板１３を備えている点が異なっている。また、図３に示すように、第２側板１２の上端に接続されるリブ１２１を有していてもよい。リブ１２１を有することにより、シリコン塊が洗浄籠１０の上部から落下する可能性を低減することができる。

【0042】

図３に示すように、洗浄籠１０は、実施形態１の洗浄籠１０Ｘと同様に、収容領域ＲＢおよび上方領域ＲＴを有している。

【0043】

傾斜板１３は、底板１４および第２側板１２に接続され、底板１４の表面に対して上方外側に向かって傾斜している部材である。洗浄籠１０において、傾斜板１３は、収容領域ＲＢに含まれる領域１３Ｂを有している。領域１３Ｂには、孔Ｈが複数形成されている。なお、収容領域ＲＢと、上方領域ＲＴとの境界位置に応じ、傾斜板１３は、上方領域ＲＴに含まれる領域１３Ｔを有していてもよい。その場合、領域１３Ｔは、複数のスリットＳを有していてもよい。洗浄籠１０は、底板１４と第２側板１２との間に傾斜板１３を有しているが、底板１４と、第１側板１１との間に傾斜板１３を有していてもよい。あるいは、（ｉ）底板１４と第２側板１２との間および（ｉｉ）底板１４と第１側板１１との間の両方に傾斜板１３を有していてもよい。

【0044】

洗浄籠１０において、第２側板１２は、上方領域ＲＴに含まれる領域１２Ｔのみを有しているが、収容領域ＲＢと、上方領域ＲＴとの境界位置に応じ、第２側板１２は、収容領域ＲＢに含まれる領域１２Ｂを有していてもよい。

【0045】

第１側板１１は、領域１１Ｂおよび領域１１Ｔを有している。第１側板１１は、図４に示されるように、第１側板１１の平面視において、底板１４、傾斜板１３および第２側板１２とそれぞれ接続される辺を含む６角形状であってもよい。あるいは、第１側板１１は、洗浄籠１０を支持台に置いたときの安定性を向上させるために、図６に示すような脚部１１２を備えていてもよい。

【0046】

仕切板１５は、平面視したときの形状が６角形状である点以外は、実施形態１の仕切板１５Ｘと同様の構成を有する。

【0047】

図６に示されるように、孔ＨおよびスリットＳは、規則正しく、ほぼ等間隔に設けられていてもよい。また、図５に示すように、洗浄籠１０の強度確保のため、孔Ｈを有さない領域が交差するように、孔Ｈを形成してもよい。

【0048】

洗浄籠１０は、洗浄籠１０の底板１４と、側壁部（第１側板１１および／または第２側板１２）との間に、傾斜板１３を備えている。傾斜板１３は、底板１４および前記側壁部に接続され、底板１４の表面に対して上方外側に向かって傾斜している。傾斜板１３において収容領域ＲＢに含まれる領域には、孔Ｈが複数形成されている。

【0049】

底板１４と、第２側板１２および／または第１側板１１との間に傾斜板１３を有していることにより、底部における液溜の発生を低減することができ、洗浄液の持ち込み量をさらに低減することができる。

【0050】

本発明は上述した各実施形態に限定されるものではなく、請求項に示した範囲で種々の変更が可能であり、異なる実施形態にそれぞれ開示された技術的手段を適宜組み合わせて得られる実施形態についても本発明の技術的範囲に含まれる。

【0051】

＜実証試験＞
以下では、液持ち込み量と、シリコンこぼれ量について、本発明の範囲内の実施例と、比較例とを比較した実証試験について記載する。

【0052】

実施例１および２は、上記実施形態２の洗浄籠１０を用いて実施した結果である。実施例１の洗浄籠１０における孔Ｈの孔径は４ｍｍであり、スリットＳの溝幅は２ｍｍ（長さ９０ｍｍ）とした。実施例２の洗浄籠１０における孔Ｈの孔径は６ｍｍであり、スリットＳの溝幅は３ｍｍ（長さ９０ｍｍ）とした。比較例１および比較例２については、外形は図３に示す洗浄籠１０と同様の形状を有する洗浄籠を用いた。比較例１の洗浄籠Ａは、第１側板１１、第２側板１２、傾斜板１３、底板１４および仕切板１５における全ての貫通孔が、溝幅２ｍｍ、長さ９０ｍｍのスリットである。比較例２の洗浄籠Ｂは、第１側板１１、第２側板１２、傾斜板１３、底板１４および仕切板１５における全ての貫通孔が、孔径４ｍｍの孔である。

【0053】

各比較例および実施例について、内面積が９９２６８５ｍｍ^２（容量約９０Ｌ）の同じ外形を有する洗浄籠に、それぞれ３０ｋｇのシリコン塊を収容し、同じ洗浄操作を実施した。上記シリコン塊は、還元反応炉内でシーメンス法により製造した多結晶シリコンロッドを、金属ハンマーで砕き、破砕塊としたものである。破砕塊の全量のうち、少なくとも９０質量％の破砕塊の長径が、１０ｍｍ～１２０ｍｍの範囲になるよう砕いたものを、上記シリコン塊として用いた。

【0054】

表１には、各比較例および実施例に用いた洗浄籠について、それぞれ内面積（ｍｍ^２）、上方領域ＲＴおよび収容領域ＲＢの内面積（ｍｍ^２）、上方領域ＲＴおよび収容領域ＲＢにおける開口率（％）、籠全体の開口率（％）を記載している。また、各比較例および実施例について、液持ち込み量（ｋｇ）、シリコンこぼれ量（ｇ）を測定した結果を示している。

【0055】

【表1】