ホーム > 特許ランキング > 信越化学工業株式会社
知財求人 - 知財ポータルサイト「IP Force」
(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】公開特許公報(A)
(11)【公開番号】P2023025194
(43)【公開日】2023-02-21
(54)【発明の名称】導電性ペースト組成物用フェノール化合物
(51)【国際特許分類】
C07C 43/23 20060101AFI20230214BHJP
C07C 49/84 20060101ALI20230214BHJP
C07C 255/54 20060101ALI20230214BHJP
C07C 69/50 20060101ALI20230214BHJP
C07F 7/08 20060101ALI20230214BHJP
C07F 7/18 20060101ALI20230214BHJP
【ＦＩ】
C07C43/23 C CSP
C07C49/84 E
C07C255/54
C07C69/50
C07F7/08 G
C07F7/18 X
【審査請求】有
【請求項の数】1
【出願形態】ＯＬ
(21)【出願番号】P 2022194204
(22)【出願日】2022-12-05
(62)【分割の表示】P 2022509081の分割
【原出願日】2021-10-14
(31)【優先権主張番号】P 2020193741
(32)【優先日】2020-11-20
(33)【優先権主張国・地域又は機関】JP
(71)【出願人】
【識別番号】000002060
【氏名又は名称】信越化学工業株式会社
(74)【代理人】
【識別番号】100102532
【弁理士】
【氏名又は名称】好宮 幹夫
(74)【代理人】
【識別番号】100194881
【弁理士】
【氏名又は名称】小林 俊弘
(74)【代理人】
【識別番号】100215142
【弁理士】
【氏名又は名称】大塚 徹
(72)【発明者】
【氏名】長谷川 幸士
(72)【発明者】
【氏名】野中 汐里
(72)【発明者】
【氏名】渡邊 修
(57)【要約】 （修正有）
【課題】繰り返し伸縮における導電性の低下が少なく、かつ印刷加工性に優れた導電性ペースト組成物用添加剤としてのフェノール化合物、該添加剤を含む導電性ペースト組成物、及び該導電性ペースト組成物を用いた導電配線を提供する。
【解決手段】例えば、下記式（９Ａ）のうちいずれかで示されるものであることを特徴とする導電性ペースト組成物用フェノール化合物。
【選択図】なし
【解決手段】例えば、下記式（９Ａ）のうちいずれかで示されるものであることを特徴とする導電性ペースト組成物用フェノール化合物。
【選択図】なし
【特許請求の範囲】
【請求項1】
下記式（２Ａ）～（１５Ａ）のうちいずれかで示されるものであることを特徴とする導電性ペースト組成物用フェノール化合物。
【化1】
【化2】
【化3】
【化4】
【化5】
【化6】
【化7】
【化8】
【化9】
【化10】
【化11】
【化12】
【化13】
【化14】
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、高導電性、かつ伸縮可能な導電配線を作製することができる導電性ペースト組成物と、該組成物に含まれるフェノール化合物に関する。
【背景技術】
【0002】
近年、スポーツまたはヘルスケア分野において、人体に装着して心拍数や呼吸数等のバイタルサイン取得を行うことを目的としたウェアラブルデバイスの開発研究が活発化してきている。このようなウェアラブルデバイスは、通常、体からの電気信号を検知するための生体電極、電気信号をセンサーに送るための配線、センサーとなる半導体チップと電池からなる。人体にデバイスを装着することを想定した場合、望まれる伸縮性能は、ヒトの運動状態で身に着ける衣服の伸びは膝、肘で最大となり、５０％程度と言われている。配線自体に伸縮性がなくても、馬蹄が並んだ形の蛇腹の配線にするとか、皺が寄ったりしている基板にするとかで伸ばしても導電性を確保することが出来る。
【0003】
蛇腹形ではなく、真っ直ぐな配線で伸縮時にも導通をとることが出来れば、よりコンパクトな配線面積となるし、デザイン的にも美しいし、低コストになる。更には、高導電であればある程配線を細くしても導通を確保することが出来、目に見えないぐらいの極細の配線は、配線の存在を感じさせないためにデザインのフレキシビリティーさを生み、クールな印象がある。このため、高導電かつ伸縮性の導電性ペーストや導電性インクの開発が盛んに行われている。
【0004】
伸縮性の導電性ペーストとしては、例えば、金属粉末を硫黄原子またはニトリル基を含有するエラストマーバインダーに含有させ、導電体に屈曲性と伸縮性を持たせたものが提案されている（特許文献１）。
また、特許文献２では、導電粒子、フッ素ゴム、フッ素界面活性剤水溶液の配合量を最適化し、２００％前後の伸縮時において、１００Ｓ／ｃｍを超える導電性を有する伸縮性導電体が提案されている。
また、特許文献２では、導電粒子、フッ素ゴム、フッ素界面活性剤水溶液の配合量を最適化し、２００％前後の伸縮時において、１００Ｓ／ｃｍを超える導電性を有する伸縮性導電体が提案されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0005】
【特許文献1】特許第６３１９０８５号
【特許文献2】国際公開第２０１５／１１９２１７号
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0006】
しかしながら上記のような伸縮性の導電性組成物を使用した導電体であっても、繰り返し伸縮において導電性が急激に低下したり、場合によっては断線することがあり、伸縮を繰り返した場合であっても、導電性の安定性に優れた導電体を得ることができる導電性ペースト組成物が求められている。
【0007】
本発明は上記事情に鑑みなされたもので、繰り返し伸縮における導電性の低下が少なく、かつ印刷加工性に優れた導電性ペースト組成物用添加剤としてのフェノール化合物、該添加剤を含む導電性ペースト組成物、及び該導電性ペースト組成物を用いた導電配線を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【0008】
上記課題を解決するために、本発明では、下記一般式（１Ａ）で示されるものであるフェノール化合物を提供する。
（式中、Ｒ１は水素原子、ハロゲン原子、シアノ基又は水酸基を示す。Ａｚは炭素数１～２０の直鎖状、分岐状もしくは環状の（ｋａ＋２）価の炭化水素基又はフッ素化炭化水素基を示し、前記（ｋａ＋２）価の炭化水素基を構成する－ＣＨ２－が－Ｏ－、－Ｃ（＝Ｏ）－又は－Ｓｉ（Ｒ２Ｒ３）－に置換されていてもよい。Ｒ２、Ｒ３は炭素数１～６の直鎖状、分岐状、もしくは環状のアルキル基、又はフェニル基である。Ｘｆはそれぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、炭素数１～１０のフッ素原子で置換されてよい直鎖状、分岐状もしくは環状の１価炭化水素基、炭素数１～１０のフッ素原子で置換されてよいアルコキシ基又は電子求引基を示す。Ｚは単結合又は酸素原子を示す。環ＺＺはそれぞれ独立に炭素数５～２０の芳香族性の単環又は多環を示す。前記環ＺＺの炭素原子は、窒素原子、酸素原子又は硫黄原子に置換されていてもよい。ｋａは０～２の整数を示す。ｋｂ及びｋｄは１又は２を示す。ｋｃ及びｋｅは０～２の整数を示す。）
【化1】
【0009】
このようなフェノール化合物であれば、繰り返し伸縮における導電性の低下が少なく、かつ印刷加工性に優れた導電性ペースト組成物用添加剤となる。
【0010】
また、本発明では、下記一般式（１Ｂ）で示されるものであるフェノール化合物が好ましい。
（式中、Ａｚ’ は炭素数１～１９の直鎖状、分岐状もしくは環状の（ｋａ＋２）価の炭化水素基又はフッ素化炭化水素基を示し、前記（ｋａ＋２）価の炭化水素基を構成する－ＣＨ２－が－Ｏ－、－Ｃ（＝Ｏ）－又は－Ｓｉ（Ｒ２Ｒ３）－に置換されていてもよい。ｋａは０又は１を示す。ｋｂ、ｋｃ、ｋｄ、ｋｅは１又は２を示す。Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３は前記と同じである。）
【化2】
【0011】
このようなフェノール化合物であれば、繰り返し伸縮における導電性の低下が少なく、かつ印刷加工性に優れた導電性ペースト組成物用添加剤としてより好適なものとなる。
【0012】
また、本発明では、（Ａ）導電性フィラー、（Ｂ）フェノール化合物、（Ｃ）エラストマー樹脂及び（Ｄ）溶剤を含む導電性ペースト組成物であって、前記（Ｂ）成分のフェノール化合物が下記に記載のフェノール化合物である導電性ペースト組成物を提供する。
（式中、Ｒ１は水素原子、ハロゲン原子、シアノ基又は水酸基を示す。Ａｚは炭素数１～２０の直鎖状、分岐状もしくは環状の（ｋａ＋２）価の炭化水素基又はフッ素化炭化水素基を示し、前記（ｋａ＋２）価の炭化水素基を構成する－ＣＨ２－が－Ｏ－、－Ｃ（＝Ｏ）－又は－Ｓｉ（Ｒ２Ｒ３）－に置換されていてもよい。Ｒ２、Ｒ３は炭素数１～６の直鎖状、分岐状、もしくは環状のアルキル基、又はフェニル基である。Ｘｆはそれぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、炭素数１～１０のフッ素原子で置換されてよい直鎖状、分岐状もしくは環状の１価炭化水素基、炭素数１～１０のフッ素原子で置換されてよいアルコキシ基又は電子求引基を示す。Ｚは単結合又は酸素原子を示す。環ＺＺはそれぞれ独立に炭素数５～２０の芳香族性の単環又は多環を示す。前記環ＺＺの炭素原子は、窒素原子、酸素原子又は硫黄原子に置換されていてもよい。ｋａは０～２の整数を示す。ｋｂ及びｋｄは１又は２を示す。ｋｃ及びｋｅは０～２の整数を示す。）
（式中、Ａｚ’ は炭素数１～１９の直鎖状、分岐状もしくは環状の（ｋａ＋２）価の炭化水素基又はフッ素化炭化水素基を示し、前記（ｋａ＋２）価の炭化水素基を構成する－ＣＨ２－が－Ｏ－、－Ｃ（＝Ｏ）－又は－Ｓｉ（Ｒ２Ｒ３）－に置換されていてもよい。ｋａは０又は１を示す。ｋｂ、ｋｃ、ｋｄ、ｋｅは１又は２を示す。Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３は前記と同じである。）
【化3】
【化4】
【0013】
このような導電性ペースト組成物であれば、繰り返し伸縮における導電性の低下が少なく、かつ印刷加工性に優れる。
【0014】
この場合、前記（Ｃ）成分のエラストマー樹脂がポリウレタンである導電性ペースト組成物が好ましい。
【0015】
このようなものであれば、繰り返し伸縮における導電性の低下が少なく、かつ印刷加工性により優れる。
【0016】
また、本発明では、前記（Ｃ）成分のエラストマー樹脂が下記一般式（１ａ）～（１ｃ）で示される構造を含むポリウレタンである導電性ペースト組成物が好ましい。
（式中、Ｒは水素原子、フッ素原子または炭素数１～１０の直鎖状、分岐状もしくは環状のフッ素化されていてもよい炭化水素基を示し、Ｒｆはフッ素原子、又は炭素数１～１０の直鎖状、分岐状もしくは環状のフッ素化炭化水素基を示す。ｎは１又は２の整数であり、破線は結合手を示す。）
【化5】
【0017】
このような導電性ペースト組成物であれば、繰り返し伸縮における導電性の低下が少なく、かつ印刷加工性にさらに優れる。
【0018】
さらに、前記（Ｃ）成分のエラストマー樹脂が下記一般式（２ａ）～（２ｃ）で示される構造を含むポリウレタンである導電性ペースト組成物が好ましい。
（式中、Ｒ４は水素原子または炭素数１～３の１価の炭化水素基であり、Ａａは単結合、又は炭素数１～２０の直鎖状、分岐状もしくは環状の２価の炭化水素基を示し、構成する－ＣＨ２－が－Ｏ－、－Ｃ（＝Ｏ）－、－Ｃ（＝Ｏ）Ｏ－または－Ｃ６Ｈ４－に置換されていてもよく、－ＮＲ８－Ｃ（＝Ｏ）－であってもよい。Ｒ８は水素原子、又は炭素数１～４の直鎖状、もしくは分岐状のアルキル基である。Ａｂは－Ｏ－、－ＮＲ８－、又は－Ｃ（＝Ｏ）Ｏ－を示し、Ａｃは－Ｏ－、－ＮＲ８－、－Ｃ（＝Ｏ）Ｏ－または－ＮＲ８－Ｃ（＝Ｏ）－を示す。ｎ１、ｎ２、ｎ４は０～１０の整数であり、ｎ３は０又は１の整数であり、破線は結合手を示す。）
【化6】
【0019】
このような導電性ペースト組成物であれば、繰り返し伸縮における導電性の低下が少なく、かつ印刷加工性に優れた導電性ペースト組成物としてさらに一層好適なものとなる。
【0020】
また、本発明では、前記（Ａ）成分の導電性フィラーが前記（Ａ）成分と前記（Ｃ）成分の合計１００質量部に対して７０質量部を越える割合で含有されていることが好ましい。
【0021】
このような導電性ペースト組成物であれば、伸縮時に於ける導電性の変化がより少ない導電配線を形成することができる。
【0022】
また、本発明では、前記（Ａ）成分の導電性フィラーが金、銀、塩化銀、白金、銅、錫、鉄、チタン、ニッケル、パラジウム、アルミニウム、タングステン、モリブデン、ルテニウム、クロム、インジウム、はんだ、及び炭素又はこれらの複合体から選ばれるものである導電性ペースト組成物が好ましい。
【0023】
このような導電性ペースト組成物であれば、電気導電性を高めた導電配線を形成することができる。
【0024】
また、本発明では、前記（Ａ）成分の導電性フィラーが平均粒径５ｎｍ～１０μｍの銀粉である導電性ペースト組成物が好ましい。
【0025】
このような導電性フィラーを導電性ペースト組成物に配合することが好適である。
【0026】
また、本発明では、上記（Ｃ）成分のエラストマーが上記（２ａ）～（２ｃ）で示される構造を含むポリウレタンである、導電性ペースト組成物の製造方法であって、前記（Ｃ）成分のエラストマー樹脂を下記一般式（３ａ）～（３ｃ）で示されるアルコールを鎖長延長剤として用い製造する導電性ペースト組成物の製造方法を提供する。
（式中、Ｒ４、Ａａ、ｎ１、ｎ２、ｎ４は前記と同じである。）
【化7】
【0027】
このようなポリウレタンの製造方法であれば、上記ポリウレタンを容易に合成できる。
【0028】
また、本発明では、基材上に形成され導電性ペースト組成物の焼成物からなる導電配線を提供する。
【0029】
このような導電配線であれば、伸縮時に於ける導電性の変化が少ないものとなる。
【0030】
また、本発明では、前記基材が伸縮性を有するものである導電配線が好ましい。
【0031】
このような基材が、本発明の導電配線に好適である。
【0032】
また、本発明では、前記基材が熱可塑性ポリウレタンである導電配線が好ましい。
【0033】
このような基材が、本発明の導電配線により好適である。
【0034】
また、本発明では、２０％伸長時の抵抗変化が５００％以下である導電配線が好ましい。
【0035】
このような導電配線であれば、伸縮時に於ける導電性の変化が少ない肌に貼り付ける部分に応じた導電配線とすることができる。
【0036】
また、本発明では、伸長率２０％で１０００回繰り返し伸縮した際の最大抵抗値が、伸縮前の抵抗値の５０００％以下である導電配線が好ましい。
【0037】
このような導電配線であれば、繰り返し伸縮における導電安定性に適したものとなる。
【0038】
また、本発明では、上記導電性ペースト組成物を用いて基材上に導電配線を形成する導電配線の製造方法であって、前記導電配線を形成する時の焼成温度が６０～１６０℃である導電配線の製造方法を提供する。
【0039】
このような導電配線の製造方法であれば、伸縮時に於ける導電性の変化が少ない導電配線を確実に得ることができる。
【0040】
また、本発明では、上記導電性ペースト組成物の印刷によって基材上に導電配線を形成することもできる。
【0041】
このように、印刷によって配線パターンを形成することによって生産性を向上させることができる。
【発明の効果】
【0042】
本発明の導電性ペースト組成物であれば、繰り返し伸縮における導電性の低下が少なく、電気信号を効率良くデバイスに伝えることができ（即ち、導電性に優れ）、印刷加工性に優れ、軽量であり、低コストで製造することができる導電配線を形成することができる。
また、繰り返し伸縮における導電安定性に優れることから、人間の体の動きによりひずみが生じるウェアラブルデバイスに適した導電配線を形成することができる。
さらに、本発明は上記導電性ペースト組成物に配合する添加剤として好適なフェノール化合物を提供する。
また、繰り返し伸縮における導電安定性に優れることから、人間の体の動きによりひずみが生じるウェアラブルデバイスに適した導電配線を形成することができる。
さらに、本発明は上記導電性ペースト組成物に配合する添加剤として好適なフェノール化合物を提供する。
【発明を実施するための形態】
【0043】
上述のように、繰り返し伸縮における導電性の低下が少なく、かつ印刷加工性に優れた導電性ペースト組成物用添加剤としてのフェノール化合物、該添加剤を含む導電性ペースト組成物、及び該導電性ペースト組成物を用いた導電配線の開発が求められていた。
【0044】
本発明者は上記目的を達成するため、鋭意検討を重ねた結果、下記一般式（１Ａ）で示されるフェノール化合物が極めて容易に得られること、更にこのフェノール化合物を添加剤として用いた導電性ペースト組成物が低抵抗かつ伸長時における導電性の低下が少なく、繰り返し伸縮における導電安定性に優れる導電配線を与えることを知見するに至った。
【0045】
即ち、本発明は、下記一般式（１Ａ）で示されるものであるフェノール化合物である。
（式中、Ｒ１は水素原子、ハロゲン原子、シアノ基又は水酸基を示す。Ａｚは炭素数１～２０の直鎖状、分岐状もしくは環状の（ｋａ＋２）価の炭化水素基又はフッ素化炭化水素基を示し、前記（ｋａ＋２）価の炭化水素基を構成する－ＣＨ２－が－Ｏ－、－Ｃ（＝Ｏ）－又は－Ｓｉ（Ｒ２Ｒ３）－に置換されていてもよい。Ｒ２、Ｒ３は炭素数１～６の直鎖状、分岐状、もしくは環状のアルキル基、又はフェニル基である。Ｘｆはそれぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、炭素数１～１０のフッ素原子で置換されてよい直鎖状、分岐状もしくは環状の１価炭化水素基、炭素数１～１０のフッ素原子で置換されてよいアルコキシ基又は電子求引基を示す。Ｚは単結合又は酸素原子を示す。環ＺＺはそれぞれ独立に炭素数５～２０の芳香族性の単環又は多環を示す。前記環ＺＺの炭素原子は、窒素原子、酸素原子又は硫黄原子に置換されていてもよい。ｋａは０～２の整数を示す。ｋｂ及びｋｄは１又は２を示す。ｋｃ及びｋｅは０～２の整数を示す。）
【化8】
【0046】
以下、本発明について詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、以下の説明中、化学式で表される構造によっては不斉炭素が存在し、エナンチオ異性体（ｅｎａｎｔｉｏｍｅｒ）やジアステレオ異性体（ｄｉａｓｔｅｒｅｏｍｅｒ）が存在し得るものがあるが、その場合は一つの式でそれらの異性体を代表して表す。それらの異性体は単独で用いてもよいし、混合物として用いてもよい。
【0047】
［フェノール化合物］
本発明のフェノール化合物は下記一般式（１Ａ）で示され、導電性ペースト組成物向けの添加材として配合されるものである。
（式中、Ｒ１は水素原子、ハロゲン原子、シアノ基又は水酸基を示す。Ａｚは炭素数１～２０の直鎖状、分岐状もしくは環状の（ｋａ＋２）価の炭化水素基又はフッ素化炭化水素基を示し、前記（ｋａ＋２）価の炭化水素基を構成する－ＣＨ２－が－Ｏ－、－Ｃ（＝Ｏ）－又は－Ｓｉ（Ｒ２Ｒ３）－に置換されていてもよい。Ｒ２、Ｒ３は炭素数１～６の直鎖状、分岐状、もしくは環状のアルキル基、又はフェニル基である。Ｘｆはそれぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、炭素数１～１０のフッ素原子で置換されてよい直鎖状、分岐状もしくは環状の１価炭化水素基、炭素数１～１０のフッ素原子で置換されてよいアルコキシ基又は電子求引基を示す。Ｚは単結合又は酸素原子を示す。環ＺＺはそれぞれ独立に炭素数５～２０の芳香族性の単環又は多環を示す。前記環ＺＺの炭素原子は、窒素原子、酸素原子又は硫黄原子に置換されていてもよい。ｋａは０～２の整数を示す。ｋｂ及びｋｄは１又は２を示す。ｋｃ及びｋｅは０～２の整数を示す。）
本発明のフェノール化合物は下記一般式（１Ａ）で示され、導電性ペースト組成物向けの添加材として配合されるものである。
【化9】
【0048】
Ａｚの炭素数１～２０の直鎖状、分岐状もしくは環状の（ｋａ＋２）価の炭化水素基としては、具体的には下記のものを例示できる。
（式中、破線は結合手を示す。）
【化10】
【0049】
【化11】
【0050】
【化12】
【0051】
Ａｚの炭素数１～２０の直鎖状、分岐状もしくは環状の（ｋａ＋２）価のフッ素化炭化水素基としては、具体的には上記の炭化水素基中の水素原子の一部又は全部が、フッ素原子に置換されたものを例示できる。
【0052】
Ｒ２、Ｒ３の炭素数１～６の直鎖状、分岐状、環状のアルキル基の具体例としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ｎ－ペンチル基、ｎ－ヘキシル基、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等を挙げることができる。
【0053】
Ｘｆの炭素数１～１０のフッ素原子で置換されてよい直鎖状、分岐状もしくは環状の１価炭化水素基の具体例としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、シクロプロピル基、シクロブチル基等のアルキル基、トリフルオロメチル基、２，２，２－トリフルオロエチル基等を挙げることができる。
【0054】
Ｘｆの炭素数１～１０のフッ素原子で置換されてよいアルコキシ基の具体例としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ｎ－ブトキシ基、ｓｅｃ－ブトキシ基、ｔｅｒｔ－ブトキシ基、シクロプロポキシ基、トリフルオロメトキシ基、２，２，２－トリフルオロエトキシ基等を挙げることができる。
【0055】
Ｘｆの電子求引基の具体例としては、カルボニル基、アルコキシカルボニル基、シアノ基、ニトロ基、スルホ基、ホルミル基、スルホン酸エステル基、アミド基、－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－Ｇ－（Ｇは硫黄原子又はＮＨである）等を挙げることができる。
【0056】
Ｚは単結合又は酸素原子を示す。環ＺＺの炭素数５～２０の芳香族性の単環又は多環として、具体的には下記のものを例示できる。下記のように環ＺＺはさらに置換基を有していてもよい。
【化13】
【0057】
本発明の導電性ペースト組成物に含まれる添加剤は上記一般式（１Ａ）で示されるフェノール化合物である。上記一般式（１Ａ）で示されるフェノール化合物としては、特に下記一般式（１Ｂ）で示されるフェノール化合物であることが好ましい。
（式中、Ａｚ’ は炭素数１～１９の直鎖状、分岐状もしくは環状の（ｋａ＋２）価の炭化水素基又はフッ素化炭化水素基を示し、前記（ｋａ＋２）価の炭化水素基を構成する－ＣＨ２－が－Ｏ－、－Ｃ（＝Ｏ）－又は－Ｓｉ（Ｒ２Ｒ３）－に置換されていてもよい。ｋａは０又は１を示す。ｋｂ、ｋｃ、ｋｄ、ｋｅは１又は２を示す。Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３は前記と同じである。）
【化14】
【0058】
上記一般式（１Ａ）および（１Ｂ）で示される化合物として、具体的には下記のものを例示できる。
【化15】
【0059】
【化16】
【0060】
【化17】
【0061】
【化18】
【0062】
【化19】
【0063】
【化20】
【0064】
【化21】
【0065】
【化22】
【0066】
【化23】
【0067】
【化24】
【0068】
【化25】
【0069】
【化26】
【0070】
【化27】
【0071】
上記一般式（１Ａ）、（１Ｂ）で表されるフェノール化合物の合成法は特に限定されず、構造に応じて最適な方法を選択して合成することができるが、例えば、一般式（１Ｂ）中のｋｂ、ｋｃが１である一般式（１Ｂａ）の場合は、下記反応式に示したステップｉ）～ｖ）により合成できる。
（式中、Ｒ１、Ａｚ’、ｋａ、ｋｃ及びｋｅは上記の通りである。Ｒｐは酸不安定基を示す。ＸＡはハロゲン原子を示す。）
【化28】
【0072】
ステップｉ）は、ハロゲン化フェノール化合物（１Ｂｂ）を保護化することにより中間体ハロゲン化アリール化合物（１Ｂｄ）へ導く工程である。
【0073】
ステップｉ）の反応は公知の条件で容易に進行するが、例えば、Ｒｐがｔ－ブチル基、ｔ－アミル基、メチルシクロペンチル基、エチルシクロペンチル基、メチルシクロヘキシル基、エチルシクロヘキシル基、メチルアダマンチル基、エチルアダマンチル基等の３級アルキル基の場合は、無溶媒又はトルエン、ヘキサン等の溶媒中、ハロゲン化フェノール化合物（１Ｂｂ）及びイソブテン、イソアミレン等のＲｐに対応するオレフィンを用いて酸触媒の存在下、反応温度－２０～５０℃にて反応を行うのがよい。用いる酸触媒としては、例えば、塩酸、硫酸、硝酸、過塩素酸等の無機酸類、メタンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸、ｐ－トルエンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸等の有機酸類を挙げることができる。
【0074】
ステップｉｉ）は、フルオロベンゼン化合物（１Ｂｃ）の求核置換反応により中間体ハロゲン化アリール化合物（１Ｂｄ）へ導く工程である。
【0075】
ステップｉｉ）の反応は公知の条件で容易に進行するが、例えば、Ｒｐがｔ－ブチル基、ｔ－アミル基、メチルシクロペンチル基、エチルシクロペンチル基、メチルシクロヘキシル基、エチルシクロヘキシル基、メチルアダマンチル基、エチルアダマンチル基等の３級アルキル基の場合は、テトラヒドロフラン、Ｎ－メチル－２－ピロリドン等の溶媒中、フルオロベンゼン化合物（１Ｂｃ）及びｔ－ブチルアルコール、ｔ－アミルアルコール等のＲｐに対応するアルコール又はｔ－ブトキシカリウムなどの対応するアルコキシドを用いて塩基の存在下、反応温度１０～８０℃にて反応を行うのがよい。用いる塩基としては、例えば、ボラン、アルキルボラン、水素化ナトリウム、水素化リチウム、水素化カリウム、水素化カルシウムなどの金属水素化物、トリチルリチウム、トリチルナトリウム、トリチルカリウム、メチルリチウム、フェニルリチウム、ｎ－ブチルリチウム、ｓｅｃ－ブチルリチウム、ｔｅｒｔ－ブチルリチウム、エチルマグネシウムブロマイド等のアルキル金属化合物、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、リチウムメトキシド、リチウムエトキシド、リチウムｔｅｒｔ－ブトキシド、カリウムｔｅｒｔ－ブトキシド等の金属アルコキシドを挙げることができる。
【0076】
ステップｉｉｉ）は、ハロゲン化アリール化合物（１Ｂｄ）を酸化することにより中間体フェノール化合物（１Ｂｅ）へ導く工程である。
【0077】
反応は公知の方法により容易に進行するが、例えば、以下の反応式の方法を例示できる。
（式中、Ｒｐ、ｋｅ及びＸＡは上記の通りである。ＭＡはＬｉ、ＭｇＣｌ、ＭｇＢｒ、ＭｇＩを示す。Ｒｒは、炭素数１～６の直鎖状、分岐状又は環状の１価炭化水素基を示す。）
【化28】
【0078】
まず、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル等の溶媒中、ハロゲン化アリール化合物（１Ｂｄ）とＬｉ又はＭｇとから有機金属試薬（１Ｂｇ）を調製する。続いて、ホウ酸エステル化合物（１Ｊ）との反応によりアリールボロン酸誘導体（１Ｂｈ）へ導き、最後に過酸化水素、過ギ酸、過酢酸、ｍ－クロロ過安息香酸等の酸化剤を用い、中間体フェノール化合物（１Ｂｅ）を得る。本工程は通常、精製工程を経ずにワンポットで反応を進行させることができる。
【0079】
ステップｉｖ）は、中間体フェノール化合物（１Ｂｅ）のエーテル化によりアリールエーテル化合物（１Ｂｆ）へ導く工程である。
【0080】
反応は公知の方法により容易に進行するが、例えば、以下の反応式の方法を例示できる。
（式中、Ｒｐ、ｋａ、ｋｅ及びＡｚ’は上記の通りである。Ｔ１は、それぞれ独立に水酸基、ハロゲン原子、アルカンスルホニルオキシ基、又はアレーンスルホニルオキシ基を示す。）
【化30】
【0081】
エーテル化の方法として、中間体フェノール化合物（１Ｂｅ）と脱離基含有化合物（１Ｂｉ）とを塩基処理することによりエーテル化させる方法を例示できる。
【0082】
Ｔ１のハロゲン原子としては、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子を例示できる。また、Ｔ１のアルカンスルホニルオキシ基及びアレーンスルホニルオキシ基としては、メタンスルホニルオキシ、トリフルオロメタンスルホニルオキシ、ベンゼンスルホニルオキシ、ｐ－トルエンスルホニルオキシ基を例示できる。
【0083】
用いられる塩基として、具体的にはナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、リチウムメトキシド、リチウムエトキシド、リチウムｔｅｒｔ－ブトキシド、カリウムｔｅｒｔ－ブトキシドなどの金属アルコキシド類、ピリジン、トリエチルアミン、Ｎ，Ｎ－ジメチルアニリン、４－ジメチルアミノピリジンなどの有機アミン類、水酸化ナトリウム、水酸化リチウム、水酸化カリウム、水酸化バリウム、水酸化テトラ－ｎ－ブチルアンモニウムなどの無機水酸化物類、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸リチウム、炭酸カリウムなどの無機炭酸塩類、ボラン、アルキルボラン、水素化ナトリウム、水素化リチウム、水素化カリウム、水素化カルシウムなどの金属水素化物類、トリチルリチウム、トリチルナトリウム、トリチルカリウム、メチルリチウム、フェニルリチウム、ｓｅｃ－ブチルリチウム、ｔｅｒｔ－ブチルリチウム、メチルマグネシウムクロリド、エチルマグネシウムクロリド、エチルマグネシウムブロマイドなどのアルキル金属化合物類、ナトリウムアミド、カリウムアミド、リチウムジイソプロピルアミド、カリウムジイソプロピルアミド、リチウムジシクロヘキシルアミド、カリウムジシクロヘキシルアミド、リチウム２，２，６，６－テトラメチルピペリジン、リチウムビストリメチルシリルアミド、ナトリウムビストリメチルシリルアミド、カリウムビストリメチルシリルアミド、リチウムイソプロピルシクロヘキシルアミド、ブロモマグネシウムジイソプロピルアミドなどの金属アミド類、を例示できる。使用する塩基の量は中間体フェノール化合物（１Ｂｅ）１モルに対して０．９～１０モル、特に１．０～５．０モルの使用が好ましい。
【0084】
溶媒として水、又はテトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、ジ－ｎ－ブチルエーテル、１，４－ジオキサン等のエーテル類、ｎ－ヘキサン、ｎ－ヘプタン、ベンゼン、トルエン、キシレン、クメン等の炭化水素類、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、ｔｅｒｔ－ブチルアルコール等のアルコール類、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）等の非プロトン性極性溶媒類、塩化メチレン、クロロホルム、四塩化炭素等の塩素系有機溶媒類を反応条件により選択して単独又は混合して用いることができる。上記の塩基自身を溶媒として使用してもよい。
【0085】
反応温度、時間は試薬・条件により種々異なるが、例えば、Ｔ１が臭素原子、塩基として炭酸カリウムを用いて反応を行う場合、反応温度は室温～１２０℃、望ましくは３０℃～９０℃が迅速な反応完結ために好ましい。反応時間はガスクロマトグラフィー（ＧＣ）やシリカゲル薄層クロマトグラフィー（ＴＬＣ）で反応を追跡して反応を完結させることが収率の点で望ましいが、通常１～６０時間程度である。反応混合物から通常の水系後処理（ａｑｕｅｏｕｓ ｗｏｒｋ－ｕｐ）によりアリールエーテル化合物（１Ｂｆ）を得ることができ、必要があれば蒸留、クロマトグラフィー等の常法に従って精製することができる。
【0086】
ステップｖ）は、アリールエーテル化合物（１Ｂｆ）の脱保護反応により本発明のフェノール化合物へ導く工程である。
【0087】
溶媒としては、例えば、トルエン、キシレン、ヘキサン、ヘプタンなどの炭化水素類；塩化メチレン、クロロホルム、ジクロロエタンなどの塩素系溶媒類；ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジブチルエーテルなどのエーテル類；アセトン、２－ブタノンなどのケトン類；酢酸エチル、酢酸ブチルなどのエステル類；アセトニトリルなどのニトリル類；メタノール、エタノールなどのアルコール類；Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシドなどの非プロトン性極性溶媒類；水から選択して単独あるいは２種以上を混合して用いることができる。また、無溶媒で反応を行うこともできる。
【0088】
脱保護反応は、酸の存在下で行うことができる。酸としては、例えば、塩酸、硫酸、硝酸、過塩素酸などの無機酸類、メタンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸、ｐ－トルエンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸などの有機酸類、三フッ化ホウ素、トリメチルシリルトリフラート、塩化アルミニウム、塩化マグネシウム、塩化鉄、塩化亜鉛、塩化チタンなどのルイス酸類を用いることができる。また、酸の使用量は、アリールエーテル化合物（１Ｂｆ）１モルに対し０．００１～５モル、特に０．０１～０．５モルとすることが好ましい。０．００１モル以上の使用であれば反応速度が遅くならず、反応時間の増加によるコスト面で不利にならず、５モル以下の使用であれば強酸性による副反応が起こらず、収率が低下する場合がない。また、酸性度を抑えるために塩基、例えば、アンモニア、トリエチルアミン、ピリジン、ルチジン、コリジン、Ｎ，Ｎ－ジメチルアニリンなどのアミン類を加えてもよい。
【0089】
上記脱保護反応は反応条件により適切な反応温度を選べるが、低温条件では反応が進行しない場合があるため、通常４０～１２０℃が好ましい。また、反応時間は収率向上のため薄層クロマトグラフィー、ガスクロマトグラフィーなどにより反応の進行を追跡して決定することが好ましいが、通常２時間～１日程度である。反応は、アリールエーテル化合物（１Ｂｆ）を溶媒で希釈した後、酸を加えて加熱撹拌することでできる。反応終了後、通常の水系後処理（ａｑｕｅｏｕｓ ｗｏｒｋ－ｕｐ）によってもフェノール化合物（１Ｂａ）を得ることができ、必要があれば蒸留、再結晶、クロマトグラフィー等の常法に従って精製することができる。
【0090】
［導電性ペースト組成物］
本発明の導電性ペースト組成物は、（Ａ）導電性フィラーと（Ｂ）フェノール化合物と（Ｃ）エラストマー樹脂と（Ｄ）溶剤とを含むものであって、前記（Ｂ）成分のフェノール化合物が下記一般式（１Ａ）又は（１Ｂ）で示されるフェノール化合物であることを特徴とする。
（式中、Ｒ１は水素原子、ハロゲン原子、シアノ基又は水酸基を示す。Ａｚは炭素数１～２０の直鎖状、分岐状もしくは環状の（ｋａ＋２）価の炭化水素基又はフッ素化炭化水素基を示し、前記（ｋａ＋２）価の炭化水素基を構成する－ＣＨ２－が－Ｏ－、－Ｃ（＝Ｏ）－又は－Ｓｉ（Ｒ２Ｒ３）－に置換されていてもよい。Ｒ２、Ｒ３は炭素数１～６の直鎖状、分岐状、もしくは環状のアルキル基、又はフェニル基である。Ｘｆはそれぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、炭素数１～１０のフッ素原子で置換されてよい直鎖状、分岐状もしくは環状の１価炭化水素基、炭素数１～１０のフッ素原子で置換されてよいアルコキシ基又は電子求引基を示す。Ｚは単結合又は酸素原子を示す。環ＺＺはそれぞれ独立に炭素数５～２０の芳香族性の単環又は多環を示す。前記環ＺＺの炭素原子は、窒素原子、酸素原子又は硫黄原子に置換されていてもよい。ｋａは０～２の整数を示す。ｋｂ及びｋｄは１又は２を示す。ｋｃ及びｋｅは０～２の整数を示す。）
（式中、Ａｚ’ は炭素数１～１９の直鎖状、分岐状もしくは環状の（ｋａ＋２）価の炭化水素基又はフッ素化炭化水素基を示し、前記（ｋａ＋２）価の炭化水素基を構成する－ＣＨ２－が－Ｏ－、－Ｃ（＝Ｏ）－又は－Ｓｉ（Ｒ２Ｒ３）－に置換されていてもよい。ｋａは０又は１を示す。ｋｂ、ｋｃ、ｋｄ、ｋｅは１又は２を示す。Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３は前記と同じである。）
本発明の導電性ペースト組成物は、（Ａ）導電性フィラーと（Ｂ）フェノール化合物と（Ｃ）エラストマー樹脂と（Ｄ）溶剤とを含むものであって、前記（Ｂ）成分のフェノール化合物が下記一般式（１Ａ）又は（１Ｂ）で示されるフェノール化合物であることを特徴とする。
【化31】
【化32】
【0091】
以下、導電性ペースト組成物の各成分について説明する。
【0092】
＜（Ａ）成分＞
本発明の導電性ペースト組成物に用いられる（Ａ）成分の導電性フィラーとして、金、銀、塩化銀、白金、銅、錫、鉄、チタン、ニッケル、パラジウム、アルミニウム、タングステン、モリブデン、ルテニウム、クロム、インジウム、はんだ、及び炭素又はこれらの複合体から選ばれるものであることが好ましい。例えば、金、銀、白金、銅、錫、鉄、チタン、ニッケル、パラジウム、アルミニウム、タングステン、モリブデン、ルテニウム、クロム、インジウム、はんだ、及びこれらの銀メッキ粉等の金属粒子もしくは合金粒子、またはカーボンブラック、カーボンナノチューブ、塩化銀、酸化亜鉛、酸化チタン、酸化インジウムスズなどの粉末などが挙げられる。
本発明の導電性ペースト組成物に用いられる（Ａ）成分の導電性フィラーとして、金、銀、塩化銀、白金、銅、錫、鉄、チタン、ニッケル、パラジウム、アルミニウム、タングステン、モリブデン、ルテニウム、クロム、インジウム、はんだ、及び炭素又はこれらの複合体から選ばれるものであることが好ましい。例えば、金、銀、白金、銅、錫、鉄、チタン、ニッケル、パラジウム、アルミニウム、タングステン、モリブデン、ルテニウム、クロム、インジウム、はんだ、及びこれらの銀メッキ粉等の金属粒子もしくは合金粒子、またはカーボンブラック、カーボンナノチューブ、塩化銀、酸化亜鉛、酸化チタン、酸化インジウムスズなどの粉末などが挙げられる。
【0093】
導電性の観点では金、銀、白金、価格の観点では銀、銅、錫、鉄、チタン、ニッケル、アルミニウム、タングステン、モリブデン、ルテニウム、クロム、ステンレスが好ましく、総合的には銀（銀粉）が最も好ましい。
【0094】
前記（Ａ）成分の導電性フィラーは、特に平均粒径５ｎｍ～１０μｍの銀粉であることが好ましい。
【0095】
平均粒径の測定方法は特に限定されないが、例えばレーザー回折式粒度分布装置を用いて測定することができる。
【0096】
導電性フィラーの粒子の形状としては、球状、粒状、角状、樹枝状、フレーク状、針状、不定形等が挙げられ、複数の種類のフィラーを組み合わせて用いることもできる。
【0097】
導電性フィラーの添加量は、（Ａ）導電性フィラーと（Ｃ）エラストマー樹脂の合計１００質量部に対して７０質量部を越える範囲とすることが好ましく、より好ましくは８０質量部以上９０質量部以下である。
【0098】
＜（Ｂ）成分＞
本発明の導電性ペースト組成物には、上記フェノール化合物を（Ｂ）成分として配合する。
本発明の導電性ペースト組成物には、上記フェノール化合物を（Ｂ）成分として配合する。
【0099】
フェノール化合物の添加量は、（Ａ）導電性フィラーと（Ｃ）エラストマー樹脂と（Ｂ）フェノール化合物との合計１００質量部に対して０．５質量部を越える範囲とすることが好ましく、より好ましくは１質量部以上１０質量部以下である。
【0100】
＜（Ｄ）成分＞
（Ｄ）成分の溶剤は本発明の導電性ペースト組成物の粘度を調整して印刷などにおける作業性を好適なものとする。後述のポリウレタンの重合に使用する有機溶剤と同じでも異なっていてもよい。
（Ｄ）成分の溶剤は本発明の導電性ペースト組成物の粘度を調整して印刷などにおける作業性を好適なものとする。後述のポリウレタンの重合に使用する有機溶剤と同じでも異なっていてもよい。
【0101】
本発明の導電性ペースト組成物に用いられる（Ｄ）成分の溶剤として具体的には、トルエン、キシレン、クメン、１，２，３－トリメチルベンゼン、１，２，４－トリメチルベンゼン、１，３，５－トリメチルベンゼン、スチレン、αメチルスチレン、ブチルベンゼン、ｓｅｃ－ブチルベンゼン、イソブチルベンゼン、シメン、ジエチルベンゼン、２－エチル－ｐ－キシレン、２－プロピルトルエン、３－プロピルトルエン、４－プロピルトルエン、１，２，３，５－テトラメチルトルエン、１，２，４，５－テトラメチルトルエン、テトラヒドロナフタレン、４－フェニル－１－ブテン、ｔｅｒｔ－アミルベンゼン、アミルベンゼン、２－ｔｅｒｔ－ブチルトルエン、３－ｔｅｒｔ－ブチルトルエン、４－ｔｅｒｔ－ブチルトルエン、５－イソプロピル－ｍ－キシレン、３－メチルエチルベンゼン、ｔｅｒｔ－ブチル－３－エチルベンゼン、４－ｔｅｒｔ－ブチル－ｏ－キシレン、５－ｔｅｒｔ－ブチル－ｍ－キシレン、ｔｅｒｔ－ブチル－ｐ－キシレン、１，２－ジイソプロピルベンゼン、１，３－ジイソプロピルベンゼン、１，４－ジイソプロピルベンゼン、ジプロピルベンゼン、ペンタメチルベンゼン、ヘキサメチルベンゼン、ヘキシルベンゼン、１，３，５－トリエチルベンゼン等の芳香族系炭化水素系溶剤、ｎ－ヘプタン、イソヘプタン、３－メチルヘキサン、２，３－ジメチルペンタン、３－エチルペンタン、１，６－ヘプタジエン、５－メチル－１－ヘキシン、ノルボルナン、ノルボルネン、ジシクロペンタジエン、１－メチル－１，４－シクロヘキサジエン、１－ヘプチン、２－ヘプチン、シクロヘプタン、シクロヘプテン、１，３－ジメチルシクロペンタン、エチルシクロペンタン、メチルシクロヘキサン、１－メチル－１－シクロヘキセン、３－メチル－１－シクロヘキセン、メチレンシクロヘキサン、４－メチル－１－シクロヘキセン、２－メチル－１－ヘキセン、２－メチル－２－ヘキセン、１－ヘプテン、２－ヘプテン、３－ヘプテン、ｎ－オクタン、２，２－ジメチルヘキサン、２，３－ジメチルヘキサン、２，４－ジメチルヘキサン、２，５－ジメチルヘキサン、３，３－ジメチルヘキサン、３，４－ジメチルヘキサン、３－エチル－２－メチルペンタン、３－エチル－３－メチルペンタン、２－メチルヘプタン、３－メチルヘプタン、４－メチルヘプタン、２，２，３－トリメチルペンタン、２，２，４－トリメチルペンタン、シクロオクタン、シクロオクテン、１，２－ジメチルシクロヘキサン、１，３－ジメチルシクロヘキサン、１，４－ジメチルシクロヘキサン、エチルシクロヘキサン、ビニルシクロヘキサン、イソプロピルシクロペンタン、２，２－ジメチル－３－ヘキセン、２，４－ジメチル－１－ヘキセン、２，５－ジメチル－１－ヘキセン、２，５－ジメチル－２－ヘキセン、３，３－ジメチル－１－ヘキセン、３，４－ジメチル－１－ヘキセン、４，４－ジメチル－１－ヘキセン、２－エチル－１－ヘキセン、２－メチル－１－ヘプテン、１－オクテン、２－オクテン、３－オクテン、４－オクテン、１，７－オクタジエン、１－オクチン、２－オクチン、３－オクチン、４－オクチン、ｎ－ノナン、２，３－ジメチルヘプタン、２，４－ジメチルヘプタン、２，５－ジメチルヘプタン、３，３－ジメチルヘプタン、３，４－ジメチルヘプタン、３，５－ジメチルヘプタン、４－エチルヘプタン、２－メチルオクタン、３－メチルオクタン、４－メチルオクタン、２，２，４，４－テトラメチルペンタン、２，２，４－トリメチルヘキサン、２，２，５－トリメチルヘキサン、２，２－ジメチル－３－ヘプテン、２，３－ジメチル－３－ヘプテン、２，４－ジメチル－１－ヘプテン、２，６－ジメチル－１－ヘプテン、２，６－ジメチル－３－ヘプテン、３，５－ジメチル－３－ヘプテン、２，４，４－トリメチル－１－ヘキセン、３，５，５－トリメチル－１－ヘキセン、１－エチル－２－メチルシクロヘキサン、１－エチル－３－メチルシクロヘキサン、１－エチル－４－メチルシクロヘキサン、プロピルシクロヘキサン、イソプロピルシクロヘキサン、１，１，３－トリメチルシクロヘキサン、１，１，４－トリメチルシクロヘキサン、１，２，３－トリメチルシクロヘキサン、１，２，４－トリメチルシクロヘキサン、１，３，５－トリメチルシクロヘキサン、アリルシクロヘキサン、ヒドリンダン、１，８－ノナジエン、１－ノニン、２－ノニン、３－ノニン、４－ノニン、１－ノネン、２－ノネン、３－ノネン、４―ノネン、ｎ－デカン、３，３－ジメチルオクタン、３，５－ジメチルオクタン、４，４－ジメチルオクタン、３－エチル－３－メチルヘプタン、２－メチルノナン、３－メチルノナン、４－メチルノナン、ｔｅｒｔ－ブチルシクロヘキサン、ブチルシクロヘキサン、イソブチルシクロヘキサン、４－イソプロピル－１－メチルシクロヘキサン、ペンチルシクロペンタン、１，１，３，５－テトラメチルシクロヘキサン、シクロドデカン、１－デセン、２－デセン、３－デセン、４－デセン、５－デセン、１，９－デカジエン、デカヒドロナフタレン、１－デシン、２－デシン、３－デシン、４－デシン、５－デシン、１，５，９－デカトリエン、２，６－ジメチル－２，４，６－オクタトリエン、リモネン、ミルセン、１，２，３，４，５－ペンタメチルシクロペンタジエン、α－フェランドレン、ピネン、テルピネン、テトラヒドロジシクロペンタジエン、５，６－ジヒドロジシクロペンタジエン、ジシクロペンタジエン、１，４－デカジイン、１，５－デカジイン、１，９－デカジイン、２，８－デカジイン、４，６－デカジイン、ｎ－ウンデカン、アミルシクロヘキサン、１－ウンデセン、１，１０－ウンデカジエン、１－ウンデシン、３－ウンデシン、５－ウンデシン、トリシクロ［６．２．１．０２，７］ウンデカ－４－エン、ｎ－ドデカン、２－メチルウンデカン、３－メチルウンデカン、４－メチルウンデカン、５－メチルウンデカン、２，２，４，６，６－ペンタメチルヘプタン、１，３－ジメチルアダマンタン、１－エチルアダマンタン、１，５，９－シクロドデカトリエン、１，２，４－トリビニルシクロヘキサン、イソパラフィン等の脂肪族炭化水素系溶剤、シクロヘキサノン、シクロペンタノン、２－オクタノン、２－ノナノン、２－ヘプタノン、３－ヘプタノン、４－ヘプタノン、２－ヘキサノン、３－ヘキサノン、ジイソブチルケトン、メチルシクロヘキサノン、メチルｎ－ペンチルケトン、メチルイソブチルケトン、イソホロン等のケトン系溶剤、３－メトキシブタノール、３－メチル－３－メトキシブタノール、１－メトキシ－２－プロパノール、１－エトキシ－２－プロパノール等のアルコール系溶剤、プロピレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノプロピルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジイソブチルエーテル、ジイソペンチルエーテル、ジ－ｎ－ペンチルエーテル、メチルシクロペンチルエーテル、メチルシクロヘキシルエーテル、ジ－ｎ－ブチルエーテル、ジ－ｓｅｃブチルエーテル、ジ－ｓｅｃ－ペンチルエーテル、ジ－ｔｅｒｔ－アミルエーテル、ジ－ｎ－ヘキシルエーテル、アニソール等のエーテル系溶剤、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノプロピルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノブチルエーテルアセテート、プロピレングリコールジアセテート、ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、乳酸エチル、ピルビン酸エチル、酢酸ブチル、３－メトキシプロピオン酸メチル、３－エトキシプロピオン酸エチル、酢酸ｔｅｒｔ－ブチル、プロピオン酸ｔｅｒｔ－ブチル、プロピレングリコールモノｔｅｒｔ－ブチルエーテルアセテート等のエステル系溶剤、γ－ブチロラクトン等のラクトン系溶剤、α－ターピネオール、α－ピネン、ジヒドロターピネオール、ジヒドロターピニルアセテート等のテルペン系溶剤などを挙げることができる。溶剤は単独で使用しても良いし、２種類以上を混合して使用しても良い。
【0102】
印刷時に溶剤が揮発しにくく、印刷に適した粘度を与えることから、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテートが特に好ましい。
【0103】
（Ｄ）溶剤の添加量は、（Ｃ）エラストマー１００質量部に対して１００～１，０００質量部の範囲とすることが好ましい。
【0104】
＜（Ｃ）成分＞
本発明の導電性ペースト組成物に用いられる（Ｃ）成分のエラストマー樹脂として特に限定されないが、ポリウレタン、ポリエステル、ポリアミド、ポリ塩化ビニル、ポリスチレン、ポリオレフィン、アクリルゴム、ブタジエンゴム、スチレンブタジエンゴム、イソプレンゴム、エチレンプロピレンゴム、クロロプレンゴム、シリコーンゴム、フッ素ゴム等が挙げられ、より好ましくはポリウレタンである。
本発明の導電性ペースト組成物に用いられる（Ｃ）成分のエラストマー樹脂として特に限定されないが、ポリウレタン、ポリエステル、ポリアミド、ポリ塩化ビニル、ポリスチレン、ポリオレフィン、アクリルゴム、ブタジエンゴム、スチレンブタジエンゴム、イソプレンゴム、エチレンプロピレンゴム、クロロプレンゴム、シリコーンゴム、フッ素ゴム等が挙げられ、より好ましくはポリウレタンである。
【0105】
エラストマー樹脂を配合することで本発明の導電性ペースト組成物から得られる焼成物の伸縮性能が十分発揮される。
【0106】
更に（Ｃ）成分のエラストマーとしては下記一般式（１ａ）～（１ｃ）で示される構造を含むポリウレタンであることがより好ましい。
（式中、Ｒは水素原子、フッ素原子または炭素数１～１０の直鎖状、分岐状もしくは環状のフッ素化されていてもよい炭化水素基を示し、Ｒｆはフッ素原子、又は炭素数１～１０の直鎖状、分岐状もしくは環状のフッ素化炭化水素基を示す。ｎは１又は２の整数であり、破線は結合手を示す。）
【化33】
【0107】
上記一般式（１ａ）～（１ｃ）で示される構造としては下記を例示できる。
【化34】
【0108】
【化35】
【0109】
上記一般式（１ａ）～（１ｃ）で示される構造を含むポリウレタンは、例えば、ワンショット法やプレポリマー法などの公知の方法により、ポリイソシアネートと上記一般式（１ａ）～（１ｃ）で示される構造を有するポリオール、ポリアミン又はポリカルボン酸等を反応させることで得られ、好ましくはプレポリマー法が用いられる。
【0110】
プレポリマー法では、（ａ）ジイソシアネートと高分子量のポリオールをイソシアネート基過剰で反応させ、イソシアネート基末端プレポリマーを含む反応混合物を得る工程、（ｂ）前記プレポリマーに低分子量のジオール、ジアミン又はジカルボン酸（鎖延長剤）を反応させることでプレポリマーを高分子量化させる工程によりポリウレタンを合成する。更に、反応基数３以上のポリイソシアネート、または反応基数３以上のポリオール、ポリアミン、ポリカルボン酸を加えることで架橋構造を有するポリウレタンを得ることもできる。
【0111】
また、上記（ｂ）の重合をイソシアネート基過剰で行った後、イソシアネート基と反応し得る反応性基（水酸基、アミノ基、カルボキシル基等）を有するキャップ剤を加えることで、ウレタン末端にキャップ剤由来の官能基を導入することもできる。
【0112】
上記（ａ）及び（ｂ）の反応において、高分子量ポリオール、鎖延長剤、キャップ剤の少なくとも一つの全量又は一部を上記一般式（１ａ）～（１ｃ）で示される構造に置換することでポリウレタンに導入することができる。
【0113】
また、上記一般式（１ａ）～（１ｃ）で示される構造がイソシアネートと反応し得る場合は上記一般式（１ａ）～（１ｃ）で示される構造を適切な保護基で保護した状態でポリウレタン化を行い、その後脱保護することで上記一般式（１ａ）～（１ｃ）で示される構造を含有するポリウレタンを合成することもできる。
【0114】
また、本発明の導電性ペースト組成物は、前記（Ｃ）成分のエラストマー樹脂が下記一般式（２ａ）～（２ｃ）で示される構造を含むポリウレタンであることがより一層好ましい。
（式中、Ｒ４は水素原子または炭素数１～３の１価の炭化水素基であり、Ａａは単結合、又は炭素数１～２０の直鎖状、分岐状もしくは環状の２価の炭化水素基を示し、構成する－ＣＨ２－が－Ｏ－、－Ｃ（＝Ｏ）－、－Ｃ（＝Ｏ）Ｏ－または－Ｃ６Ｈ４－に置換されていてもよく、－ＮＲ８－Ｃ（＝Ｏ）－であってもよい。Ｒ８は水素原子、又は炭素数１～４の直鎖状、もしくは分岐状のアルキル基である。Ａｂは－Ｏ－、－ＮＲ８－、又は－Ｃ（＝Ｏ）Ｏ－を示し、Ａｃは－Ｏ－、－ＮＲ８－、－Ｃ（＝Ｏ）Ｏ－または－ＮＲ８－Ｃ（＝Ｏ）－を示す。ｎ１、ｎ２、ｎ４は０～１０の整数であり、ｎ３は０又は１の整数であり、破線は結合手を示す。）
【化36】
【0115】
［ポリイソシアネート］
ポリウレタンの構成成分であるポリイソシアネートとしては、エチレンジイソシアネート、トリメチレンジイソシアネート、テトラメチレンジイソシアネート、ペンタメチレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート（ＨＤＩ）、オクタメチレンジイソシアネート、ノナメチレンジイソシアネート、２－メチルペンタン－１，５－ジイソシアネート、３－メチルペンタン－１，５－ジイソシアネート、２，２’－ジメチルペンタンジイソシアネート、２，２，４－トリメチルヘキサンジイソシアネート、デカメチレンジイソシアネート、ブテンジイソシアネート、１，３－ブタジエン－１，４－ジイソシアネート、２，４，４－トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、１，６，１１－ウンデカメチレントリイソシアネート、１，３，６－ヘキサメチレントリイソシアネート、１，８－ジイソシアネート－４－イソシアナトメチルオクタン、２，５，７－トリメチル－１，８－ジイソシアネート－５－イソシアナトメチルオクタン、ビス（イソシアナトエチル）カーボネート、ビス（イソシアナトエチル）エーテル、１，４－ブチレングリコールジプロピルエーテル－ω、ω’－ジイソシアネート、リジンイソシアナトメチルエステル、リジントリイソシアネート、２－イソシアナトエチル－２，６－ジイソシアネートヘキサノエート、２－イソシアナトプロピル－２，６－ジイソシアネートヘキサノエート、ビス（４－イソシアネート－ｎ－ブチリデン）ペンタエリスリトール、２，６－ジイソシアネートメチルカプロエート、イソホロンジイソシアネート（ＩＰＤＩ）、１，３－シクロヘキシルジイソシアネート、１，４－シクロヘキシルジイソシアネート、１，３－ビス（イソシアナトメチル）シクロヘキサン、１，４－ビス（イソシアナトメチル）シクロヘキサン、１，３－ビス（イソシアナトエチル）シクロヘキサン、１，４－ビス（イソシアナトエチル）シクロヘキサン、メチルシクロヘキサンジイソシアネート、２，２’－ジメチルジシクロヘキシルメタンジイソシアネート、４，４’－ジシクロヘキシルメタンジイソシアネート、ダイマー酸ジイソシアネート、２，５－ジイソシアナトメチルビシクロ〔２，２，１〕－ヘプタン、２，６－ジイソシアナトメチルビシクロ〔２，２，１〕－ヘプタン、２－イソシアナトメチル２－（３－イソシアナトプロピル）－５－イソシアナトメチルビシクロ－〔２，２，１〕－ヘプタン、２－イソシアナトメチル－２－（３－イソシアナトプロピル）－６－イソシアナトメチルビシクロ－〔２，２，１〕－ヘプタン、２－イソシアナトメチル３－（３－イソシアナトプロピル）－５－（２－イソシアナトエチル）－ビシクロ－〔２，２，１〕－ヘプタン、２－イソシアナトメチル３－（３－イソシアナトプロピル）－６－（２－イソシアナトエチル）－ビシクロ－〔２，２，１〕－ヘプタン、２－イソシアナトメチル２－（３－イソシアナトプロピル）－５－（２－イソシアナトエチル）－ビシクロ－〔２，２，１〕－ヘプタン、２－イソシアナトメチル２－（３－イソシアナトプロピル）－６－（２－イソシアナトエチル）－ビシクロ－〔２，２，１〕－ヘプタン等の脂肪族および脂環族ポリイソシアネート、２，４－トリレンジイソシアネート又は２，６－トリレンジイソシアネート及びそれらの異性体混合物（ＴＤＩ）、４，４’－ジフェニルメタンジイソシアネート又は２，４’－ジフェニルメタンジイソシアネートおよびそれらの異性体混合物（ＭＤＩ）、トルイジンジイソシアネート（ＴＯＤＩ）、パラフェニレンジイソシアネート、ナフタレンジイソシアネート（ＮＤＩ）、４，４’－ジベンジルジイソシアネート等の芳香族ポリイソシアネート、オルトキシリレンジイソシアネート、メタキシリレンジイソシアネート、パラキシリレンジイソシアネート、１，３－テトラメチルキシリレンジイソシアネート、１，４－テトラメチルキシリレンジイソシアネート等の芳香脂肪族ポリイソシアネート、更にこれらのウレタン変性体として多量体、ビウレット変性体、カルボジイミド変性体、ウレトンイミン変性体、ウレトジオン変性体、イソシアヌレート変性体、アロファネート変性体等が挙げられる。
ポリウレタンの構成成分であるポリイソシアネートとしては、エチレンジイソシアネート、トリメチレンジイソシアネート、テトラメチレンジイソシアネート、ペンタメチレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート（ＨＤＩ）、オクタメチレンジイソシアネート、ノナメチレンジイソシアネート、２－メチルペンタン－１，５－ジイソシアネート、３－メチルペンタン－１，５－ジイソシアネート、２，２’－ジメチルペンタンジイソシアネート、２，２，４－トリメチルヘキサンジイソシアネート、デカメチレンジイソシアネート、ブテンジイソシアネート、１，３－ブタジエン－１，４－ジイソシアネート、２，４，４－トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、１，６，１１－ウンデカメチレントリイソシアネート、１，３，６－ヘキサメチレントリイソシアネート、１，８－ジイソシアネート－４－イソシアナトメチルオクタン、２，５，７－トリメチル－１，８－ジイソシアネート－５－イソシアナトメチルオクタン、ビス（イソシアナトエチル）カーボネート、ビス（イソシアナトエチル）エーテル、１，４－ブチレングリコールジプロピルエーテル－ω、ω’－ジイソシアネート、リジンイソシアナトメチルエステル、リジントリイソシアネート、２－イソシアナトエチル－２，６－ジイソシアネートヘキサノエート、２－イソシアナトプロピル－２，６－ジイソシアネートヘキサノエート、ビス（４－イソシアネート－ｎ－ブチリデン）ペンタエリスリトール、２，６－ジイソシアネートメチルカプロエート、イソホロンジイソシアネート（ＩＰＤＩ）、１，３－シクロヘキシルジイソシアネート、１，４－シクロヘキシルジイソシアネート、１，３－ビス（イソシアナトメチル）シクロヘキサン、１，４－ビス（イソシアナトメチル）シクロヘキサン、１，３－ビス（イソシアナトエチル）シクロヘキサン、１，４－ビス（イソシアナトエチル）シクロヘキサン、メチルシクロヘキサンジイソシアネート、２，２’－ジメチルジシクロヘキシルメタンジイソシアネート、４，４’－ジシクロヘキシルメタンジイソシアネート、ダイマー酸ジイソシアネート、２，５－ジイソシアナトメチルビシクロ〔２，２，１〕－ヘプタン、２，６－ジイソシアナトメチルビシクロ〔２，２，１〕－ヘプタン、２－イソシアナトメチル２－（３－イソシアナトプロピル）－５－イソシアナトメチルビシクロ－〔２，２，１〕－ヘプタン、２－イソシアナトメチル－２－（３－イソシアナトプロピル）－６－イソシアナトメチルビシクロ－〔２，２，１〕－ヘプタン、２－イソシアナトメチル３－（３－イソシアナトプロピル）－５－（２－イソシアナトエチル）－ビシクロ－〔２，２，１〕－ヘプタン、２－イソシアナトメチル３－（３－イソシアナトプロピル）－６－（２－イソシアナトエチル）－ビシクロ－〔２，２，１〕－ヘプタン、２－イソシアナトメチル２－（３－イソシアナトプロピル）－５－（２－イソシアナトエチル）－ビシクロ－〔２，２，１〕－ヘプタン、２－イソシアナトメチル２－（３－イソシアナトプロピル）－６－（２－イソシアナトエチル）－ビシクロ－〔２，２，１〕－ヘプタン等の脂肪族および脂環族ポリイソシアネート、２，４－トリレンジイソシアネート又は２，６－トリレンジイソシアネート及びそれらの異性体混合物（ＴＤＩ）、４，４’－ジフェニルメタンジイソシアネート又は２，４’－ジフェニルメタンジイソシアネートおよびそれらの異性体混合物（ＭＤＩ）、トルイジンジイソシアネート（ＴＯＤＩ）、パラフェニレンジイソシアネート、ナフタレンジイソシアネート（ＮＤＩ）、４，４’－ジベンジルジイソシアネート等の芳香族ポリイソシアネート、オルトキシリレンジイソシアネート、メタキシリレンジイソシアネート、パラキシリレンジイソシアネート、１，３－テトラメチルキシリレンジイソシアネート、１，４－テトラメチルキシリレンジイソシアネート等の芳香脂肪族ポリイソシアネート、更にこれらのウレタン変性体として多量体、ビウレット変性体、カルボジイミド変性体、ウレトンイミン変性体、ウレトジオン変性体、イソシアヌレート変性体、アロファネート変性体等が挙げられる。
【0116】
上記ポリイソシアネートは単独で用いても良いし、２種類以上を併用しても良い。
【0117】
［高分子量ポリオール］
ポリウレタンの構成成分である高分子量ポリオールとして、イソシアネート基と反応し得るヒドロキシル基を２つ以上有し、数平均分子量５００～５，０００のポリオールを用いることができる。例えば、ポリエーテルポリオール、ポリエステルポリオール、ポリカーボネートポリオール、アクリルポリオール、末端水酸基化ポリオレフィン、シリコーンポリオール、ヒマシ油系ポリオール等が挙げられる。
ポリウレタンの構成成分である高分子量ポリオールとして、イソシアネート基と反応し得るヒドロキシル基を２つ以上有し、数平均分子量５００～５，０００のポリオールを用いることができる。例えば、ポリエーテルポリオール、ポリエステルポリオール、ポリカーボネートポリオール、アクリルポリオール、末端水酸基化ポリオレフィン、シリコーンポリオール、ヒマシ油系ポリオール等が挙げられる。
【0118】
ポリエーテルポリオールとしては、ポリオキシプロピレングリコール類、ポリオキシエチエングリコール類、ポリオキシテトラメチレングリコール類、及びそれらの共重合体等が例示される。
【0119】
ポリオキシプロピレングリコール類及びポリオキシエチレングリコール類は低分子量ポリオールやポリアミン、アミノアルコール類を開始剤としたアルキレンオキサイドの付加重合体であり、低分子量ポリオールとしてはエチレングリコール、１，２－プロパンジオール、１，３－プロパンジオール、１，２－ブタンジオール、１，３－ブタンジオール、１，４－ブタンジオール、１，５－ペンタンジオール、１，６－ヘキサンジオール、１，７－へプタンジオール、１，８－オクタンジオール、１，９－ノナンジオール、ネオペンチルグリコール、３－メチル－１，５－ペンタンジオール、３，３－ジメチロールヘプタン、２，２，２－トリメチルペンタンジオール、１，４－ジヒドロキシ－２－ブテン、２，６－ジメチル－１－オクテン－３，８－ジオール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ジプロピレングリコール、シクロヘキサン－１，３－ジオール、シクロヘキサン－１，４－ジオール、シクロヘキサン－１，３－ジメタノール、シクロヘキサン－１，４－ジメタノール、１，３－アダマンタンジメタノール、ダイマー酸ジオール、１，２－ベンゼンジオール、１，３－ベンゼンジオール、１，４－ベンゼンジオール、ヒドロキノンジ（２－ヒドロキシエチルエーテル）、ビスフェノールＡ、ビス（β－ヒドロキシエチル）ベンゼン、キシリレングリコール等の２価アルコール、グリセリン、トリメチロールプロパン、トリイソプロパノールアミン等の３価アルコール、ペンタエリスリトール、α－メチルグルコシド、ジグリセリン等の４価アルコールまたはソルビトール、ショ糖等の多価アルコールが挙げられる。低分子量アミノアルコールとしてはものエタノールアミン、ジメタノールアミン、トリエタノールアミンが挙げられ、低分子量ポリアミンとしてはエチレンジアミン、プロピレンジアミン、ブタンジアミン、ペンタメチレンジアミン、ヘキサメチレンジアミン、イソホロンジアミン、ピペラジン、トルエンジアミン、メタフェニレンジアミン、ジフェニルメタンジアミン、キシリレンジアミン、ジメチルチオトルエンジアミン、４，４－メチレンビス－о－クロロアニリン等が挙げられる。開始剤は単独で使用しても良いし、２種類以上を併用しても良い。
【0120】
更に、上記一般式（１ａ）～（１ｃ）で示される構造を含む低分子量ポリオールを用いることで、上記一般式（１ａ）～（１ｃ）で示される構造を含有するポリエーテルポリオールを得ることもできる。なお、上記一般式（１ａ）～（１ｃ）で示される構造を保護した状態で重合を行い、その後脱保護して合成することもできる。
【0121】
アルキレンオキサイドとしては、エチレンオキサイド、プロピレンオキサイド、ブチレンオキサイド等が挙げられ、単独または２種類以上を併用することができる。２種類以上を併用したポリアルキレンポリオールとしてはブロック型、ランダム型のいずれの構造体を用いても良い。
【0122】
ポリオキシテトラメチレングリコールはテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）のカチオン重合によって得られる開環重合物であり、結晶性のポリテトラメチレングリコールや、ＴＨＦに３－メチルテトラヒドロフラン等のアルキル置換テトラヒドロフランや、上述した２価アルコールを共重合させた非晶性ポリテトラメチレングリコール等が挙げられる。
【0123】
ポリエステルポリオールとしては、上述の低分子量ポリオールと多価カルボン酸、オリゴマー酸との重合縮合体、又は低分子量ポリオールを開始剤としたラクトンまたはラクチドの開環重合体が例示される。
【0124】
多価カルボン酸としてはシュウ酸、マロン酸、コハク酸、グルタル酸、アジピン酸、ピメリン酸、スベリン酸、グルタコン酸、アゼライン酸、セバシン酸、１，１－ジメチル－１，３－ジカルボキシプロパン、３－メチル－３－エチルグルタル酸、１，４－シクロヘキシルジカルボン酸、ヘキサヒドロフタル酸、マレイン酸、フマル酸、イタコン酸、ムコン酸、α－ハイドロムコン酸、β－ハイドロムコン酸、フタル酸、オルソフタル酸、テレフタル酸、イソフタル酸、トルエンジカルボン酸、ナフタレンジカルボン酸、ヘット酸、ダイマー酸、水添ダイマー酸が挙げられ、それらの誘導体、酸無水物、酸ハライドなどを用いることもできる。
【0125】
ラクトンとしてはβ－プロピオラクトン、β－ブチロラクトン、γ－ブチロラクトン、γ－バレロラクトン、δ－バレロラクトン、ε－カプロラクトン等が挙げられ、ラクチドとしてはＬ－ラクチド、Ｄ－ラクチドが挙げられる。
【0126】
ポリエステルポリオールの構成成分である低分子量ポリオール、多価カルボン酸、オリゴマー酸、ラクトン、又はラクチドはそれぞれ単独で用いても良いし、２種類以上を併用しても良い。
【0127】
更に、ポリエステルポリオールの低分子量ポリオールの一部を上述の低分子量ポリアミンや、アミノアルコールに代えて得られるポリエステル－アミドポリオールを使用することもできる。
【0128】
ポリカーボネートポリオールとしては、上述のポリオールとカーボネート化合物との重縮合体が例示される。
【0129】
カーボネート化合物としてはジメチルカーボネート、ジエチルカーボネート、エチレンカーボネート、プロピレンカーボネート、ジフェニルカーボネート、ジナフチルカーボネート、ジアントリルカーボネート、ジフェナントリルカーボネート、ジインダニルカーボネート、テトラヒドロナフチルカーボネート等が挙げられる。
【0130】
ポリカーボネートポリオールの構成成分である低分子量ポリオール又はカーボネート化合物はそれぞれ単独で用いても良いし、２種類以上を併用しても良い。
【0131】
アクリルポリオールとしては、ヒドロキシ基含有（メタ）アクリレートとビニルモノマーを共重合することで得られる共重合体が例示される。
【0132】
ヒドロキシル基含有（メタ）アクリレートとしては、２－ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、３－ヒドロキシ－２，２－ジメチルプロピルアクリレート、２，２－ジヒドロキシメチルブチル（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ポリヒドロキシアルキルマレエート、ポリヒドロキシアルキルフマレートなどが挙げられる。上述の（メタ）アクリレートは単独で用いても良いし、２種類以上を組み合わせて用いても良い。
【0133】
ビニルモノマーとしてはメチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、プロピル（メタ）アクリレート、イソプロピル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、ｓ－ブチル（メタ）アクリレート、ｔ－ブチル（メタ）アクリレート、ペンチル（メタ）アクリレート、イソペンチル（メタ）アクリレート、ヘキシル（メタ）アクリレート、２－エチルヘキシル（メタ）アクリレート、オクチル（メタ）アクリレート、ノニル（メタ）アクリレート、イソノニル（メタ）アクリレート、デシル（メタ）アクリレート、ドデシル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、フェニル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、アリル（メタ）アクリレート、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ブチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、オリゴエチレングリコールジ（メタ）アクリレート等の（メタ）アクリル酸エステル類、スチレン、ビニルトルエン、α－メチルスチレン等の芳香族ビニル、（メタ）アクリロニトリル等のシアン化ビニル、フマル酸、マレイン酸、イタコン酸などのカルボキシル基含有ビニルモノマー、または、そのアルキルエステル、３－（２－イソシアネート－２－プロピル）－α－メチルスチレンなどのイソシアネート基を含むモノマー、テトラフルオロエチレン、クロロトリフルオロエチレン、トリクロロフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレン、フッ化ビニリデン、フッ化ビニル、トリフルオロメチルトリフルオロエチレンなどのフッ素を含むビニルモノマー、γ－（メタ）アクリロキシプロピルトリメトキシシランなどのシリコーンモノマー等が挙げられる。上述のモノマーは単独で用いても良いし、２種類以上を組み合わせて用いても良い。
【0134】
末端水酸基化ポリオレフィンとしては、１種又は２種以上のオレフィン重合体の末端を水酸基化した化合物が挙げられる。オレフィンとしてはエチレン、プロピレン、ブタジエン、イソプレン、スチレン、アクリロニトリル、ビニルエーテル、酢酸ビニルが例示され、更に上記構造の一部がフッ素、塩素、臭素などのハロゲンで置換されていても良い。
【0135】
シリコーンポリオールとしては、γ－メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン等を重合したビニル基含有シリコーン化合物、および分子中に少なくとも１個の末端水酸基を有する、α，ω－ジヒドロキシポリジメチルシロキサン、α，ω－ジヒドロキシポリジフェニルシロキサン等のポリシロキサンが挙げられる。
【0136】
植物油系ポリオールとしては、ヒマシ油、ヤシ油などのヒドロキシル基含有植物油等、ヒマシ油脂肪酸とポリオールとの反応により得られるエステル変性ヒマシ油ポリオール、脱水ヒマシ油、部分脱水ヒマシ油、水添ヒマシ油等が挙げられる。
【0137】
高分子量ポリオールの数平均分子量は５００以上、５，０００以下の範囲が好ましく、１，０００以上、３，０００以下であることがより好ましく、１，０００以上２，０００以下が更に好ましい。
【0138】
高分子量ポリオールの数平均分子量が下限以上であることにより、ポリウレタン中のウレタン基濃度の過度な上昇とそれに伴う硬度上昇、伸縮性低下等の性能低下を抑制することができる。また、数平均分子量が上限以下であることにより、ウレタン基濃度の過度な低下を抑制し、ウレタン結合に由来する強度の低下を防ぎ、適度な強度と伸縮性を両立することができる。
【0139】
高分子量ポリオールは二官能性ポリオール又は三官能性ポリオールであることが好ましく、より好ましくは二官能性ポリオールである。
【0140】
［鎖延長剤］
鎖延長剤としてはエチレングリコール、１，２－プロパンジオール、１，３－プロパンジオール、１，２－ブタンジオール、１，３－ブタンジオール、１，４－ブタンジオール、１，５－ペンタンジオール、１，６－ヘキサンジオール、１，７－へプタンジオール、１，８－オクタンジオール、１，９－ノナンジオール、ネオペンチルグリコール、３－メチル－１，５－ペンタンジオール、３，３－ジメチロールヘプタン、２，２，２－トリメチルペンタンジオール、１，４－ジヒドロキシ－２－ブテン、２，６－ジメチル－１－オクテン－３，８－ジオール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ジプロピレングリコール、シクロヘキサン－１，３－ジオール、シクロヘキサン－１，４－ジオール、シクロヘキサン－１，３－ジメタノール、シクロヘキサン－１，４－ジメタノール、１，３－アダマンタンジメタノール、ダイマー酸ジオール、１，２－ベンゼンジオール、１，３－ベンゼンジオール、１，４－ベンゼンジオール、ヒドロキノンジ（２－ヒドロキシエチルエーテル）、ビスフェノールＡ、ビス（β－ヒドロキシエチル）ベンゼン、キシリレングリコール等の２価アルコール、エタノールアミン、ジメタノールアミン、トリエタノールアミン、エチレンジアミン、プロピレンジアミン、ブタンジアミン、ペンタメチレンジアミン、ヘキサメチレンジアミン、イソホロンジアミン、ピペラジン、トルエンジアミン、メタフェニレンジアミン、ジフェニルメタンジアミン、キシリレンジアミン、ジメチルチオトルエンジアミン、４，４－メチレンビス－о－クロロアニリン等のアミン類等が用いられる。
鎖延長剤としてはエチレングリコール、１，２－プロパンジオール、１，３－プロパンジオール、１，２－ブタンジオール、１，３－ブタンジオール、１，４－ブタンジオール、１，５－ペンタンジオール、１，６－ヘキサンジオール、１，７－へプタンジオール、１，８－オクタンジオール、１，９－ノナンジオール、ネオペンチルグリコール、３－メチル－１，５－ペンタンジオール、３，３－ジメチロールヘプタン、２，２，２－トリメチルペンタンジオール、１，４－ジヒドロキシ－２－ブテン、２，６－ジメチル－１－オクテン－３，８－ジオール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ジプロピレングリコール、シクロヘキサン－１，３－ジオール、シクロヘキサン－１，４－ジオール、シクロヘキサン－１，３－ジメタノール、シクロヘキサン－１，４－ジメタノール、１，３－アダマンタンジメタノール、ダイマー酸ジオール、１，２－ベンゼンジオール、１，３－ベンゼンジオール、１，４－ベンゼンジオール、ヒドロキノンジ（２－ヒドロキシエチルエーテル）、ビスフェノールＡ、ビス（β－ヒドロキシエチル）ベンゼン、キシリレングリコール等の２価アルコール、エタノールアミン、ジメタノールアミン、トリエタノールアミン、エチレンジアミン、プロピレンジアミン、ブタンジアミン、ペンタメチレンジアミン、ヘキサメチレンジアミン、イソホロンジアミン、ピペラジン、トルエンジアミン、メタフェニレンジアミン、ジフェニルメタンジアミン、キシリレンジアミン、ジメチルチオトルエンジアミン、４，４－メチレンビス－о－クロロアニリン等のアミン類等が用いられる。
【0141】
更に、鎖長延長剤として下記一般式（３ａ）～（３ｃ）に記載のポリオールを用い、ポリウレタンの側鎖に導入することができる。鎖長延長剤は一般式（３ａ）～（３ｃ）に記載のポリオールを単独で用いても良いし、前述の鎖延長剤と組み合わせて用いても良い。
（式中、Ｒ４、Ａａ、ｎ１、ｎ２、ｎ４は前記と同じである。）
【化37】
【0142】
上記Ａａの炭素数１～２０の直鎖状、分岐状又は環状の炭化水素基の具体的には下記の例が挙げられる。
【化38】
【0143】
更に上記Ａａの－ＣＨ２－のいずれかが－Ｏ－、－Ｃ（＝Ｏ）－、－Ｃ（＝Ｏ）Ｏ－、－Ｃ６Ｈ４－または－ＮＲ８－Ｃ（＝Ｏ）－に置換されたものを例示できる（Ｒ８は水素原子、又は炭素数１～４の直鎖状、もしくは分岐状のアルキル基である）。
【0144】
上記一般式（３ａ）～（３ｃ）で示される鎖長延長剤としては下記を例示できるがこれに限定されない。
（式中、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ８は前記と同じである。）
【化39】
【0145】
【化40】
【0146】
【化41】
【0147】
前記一般式（３ａ）～（３ｃ）で示される構造を有する鎖延長剤はウレタンの構成成分の総量に対して５～５０質量％用いることが好ましく、より好ましくは２０～４０質量％である。
【0148】
［架橋剤］
架橋剤としてはグリセリン、トリメチロールプロパン、トリイソプロパノールアミン等の３価アルコール、ペンタエリスリトール、α－メチルグルコシド、ジグリセリン等の多価アルコールが用いられる。
架橋剤としてはグリセリン、トリメチロールプロパン、トリイソプロパノールアミン等の３価アルコール、ペンタエリスリトール、α－メチルグルコシド、ジグリセリン等の多価アルコールが用いられる。
【0149】
架橋剤の添加量としては、ウレタンの構成成分の総量に対して０～５質量％の範囲内であることが好ましく、０～３質量％であることがより好ましい。
【0150】
架橋剤の添加量が上限以下であれば過度に強度が上昇せず、柔軟性、伸縮性が損なわれることがないため、本発明の導電性ペースト組成物への使用に適する。
【0151】
［有機溶剤］
ポリウレタンはバルク重合または、溶液重合によって合成される。溶液重合に用いられる有機溶剤としては、例えば、トルエン、キシレン、クメン、１，２，３－トリメチルベンゼン、１，２，４－トリメチルベンゼン、１，３，５－トリメチルベンゼン、スチレン、αメチルスチレン、ブチルベンゼン、ｓｅｃ－ブチルベンゼン、イソブチルベンゼン、シメン、ジエチルベンゼン、２－エチル－ｐ－キシレン、２－プロピルトルエン、３－プロピルトルエン、４－プロピルトルエン、１，２，３，５－テトラメチルトルエン、１，２，４，５－テトラメチルトルエン、テトラヒドロナフタレン、４－フェニル－１－ブテン、ｔｅｒｔ－アミルベンゼン、アミルベンゼン、２－ｔｅｒｔ－ブチルトルエン、３－ｔｅｒｔ－ブチルトルエン、４－ｔｅｒｔ－ブチルトルエン、５－イソプロピル－ｍ－キシレン、３－メチルエチルベンゼン、ｔｅｒｔ－ブチル－３－エチルベンゼン、４－ｔｅｒｔ－ブチル－ｏ－キシレン、５－ｔｅｒｔ－ブチル－ｍ－キシレン、ｔｅｒｔ－ブチル－ｐ－キシレン、１，２－ジイソプロピルベンゼン、１，３－ジイソプロピルベンゼン、１，４－ジイソプロピルベンゼン、ジプロピルベンゼン、ペンタメチルベンゼン、ヘキサメチルベンゼン、ヘキシルベンゼン、１，３，５－トリエチルベンゼン等の芳香族系炭化水素系溶剤、ｎ－ヘプタン、イソヘプタン、ｎ－ヘキサン、オクタン、３－メチルヘキサン、２，３－ジメチルペンタン、３－エチルペンタン、１，６－ヘプタジエン、５－メチル－１－ヘキシン、ノルボルナン、ノルボルネン、ジシクロペンタジエン、１－メチル－１，４－シクロヘキサジエン、１－ヘプチン、２－ヘプチン、シクロヘプタン、シクロヘプテン、１，３－ジメチルシクロペンタン、エチルシクロペンタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、１－メチル－１－シクロヘキセン、３－メチル－１－シクロヘキセン、メチレンシクロヘキサン、４－メチル－１－シクロヘキセン、２－メチル－１－ヘキセン、２－メチル－２－ヘキセン、１－ヘプテン、２－ヘプテン、３－ヘプテン、ｎ－オクタン、２，２－ジメチルヘキサン、２，３－ジメチルヘキサン、２，４－ジメチルヘキサン、２，５－ジメチルヘキサン、３，３－ジメチルヘキサン、３，４－ジメチルヘキサン、３－エチル－２－メチルペンタン、３－エチル－３－メチルペンタン、２－メチルヘプタン、３－メチルヘプタン、４－メチルヘプタン、２，２，３－トリメチルペンタン、２，２，４－トリメチルペンタン、シクロオクタン、シクロオクテン、１，２－ジメチルシクロヘキサン、１，３－ジメチルシクロヘキサン、１，４－ジメチルシクロヘキサン、エチルシクロヘキサン、ビニルシクロヘキサン、イソプロピルシクロペンタン、２，２－ジメチル－３－ヘキセン、２，４－ジメチル－１－ヘキセン、２，５－ジメチル－１－ヘキセン、２，５－ジメチル－２－ヘキセン、３，３－ジメチル－１－ヘキセン、３，４－ジメチル－１－ヘキセン、４，４－ジメチル－１－ヘキセン、２－エチル－１－ヘキセン、２－メチル－１－ヘプテン、１－オクテン、２－オクテン、３－オクテン、４－オクテン、１，７－オクタジエン、１－オクチン、２－オクチン、３－オクチン、４－オクチン、ｎ－ノナン、２，３－ジメチルヘプタン、２，４－ジメチルヘプタン、２，５－ジメチルヘプタン、３，３－ジメチルヘプタン、３，４－ジメチルヘプタン、３，５－ジメチルヘプタン、４－エチルヘプタン、２－メチルオクタン、３－メチルオクタン、４－メチルオクタン、２，２，４，４－テトラメチルペンタン、２，２，４－トリメチルヘキサン、２，２，５－トリメチルヘキサン、２，２－ジメチル－３－ヘプテン、２，３－ジメチル－３－ヘプテン、２，４－ジメチル－１－ヘプテン、２，６－ジメチル－１－ヘプテン、２，６－ジメチル－３－ヘプテン、３，５－ジメチル－３－ヘプテン、２，４，４－トリメチル－１－ヘキセン、３，５，５－トリメチル－１－ヘキセン、１－エチル－２－メチルシクロヘキサン、１－エチル－３－メチルシクロヘキサン、１－エチル－４－メチルシクロヘキサン、プロピルシクロヘキサン、イソプロピルシクロヘキサン、１，１，３－トリメチルシクロヘキサン、１，１，４－トリメチルシクロヘキサン、１，２，３－トリメチルシクロヘキサン、１，２，４－トリメチルシクロヘキサン、１，３，５－トリメチルシクロヘキサン、アリルシクロヘキサン、ヒドリンダン、１，８－ノナジエン、１－ノニン、２－ノニン、３－ノニン、４－ノニン、１－ノネン、２－ノネン、３－ノネン、４―ノネン、ｎ－デカン、３，３－ジメチルオクタン、３，５－ジメチルオクタン、４，４－ジメチルオクタン、３－エチル－３－メチルヘプタン、２－メチルノナン、３－メチルノナン、４－メチルノナン、ｔｅｒｔ－ブチルシクロヘキサン、ブチルシクロヘキサン、イソブチルシクロヘキサン、４－イソプロピル－１－メチルシクロヘキサン、ペンチルシクロペンタン、１，１，３，５－テトラメチルシクロヘキサン、シクロドデカン、１－デセン、２－デセン、３－デセン、４－デセン、５－デセン、１，９－デカジエン、デカヒドロナフタレン、１－デシン、２－デシン、３－デシン、４－デシン、５－デシン、１，５，９－デカトリエン、２，６－ジメチル－２，４，６－オクタトリエン、リモネン、ミルセン、１，２，３，４，５－ペンタメチルシクロペンタジエン、α－フェランドレン、ピネン、テルピネン、テトラヒドロジシクロペンタジエン、５，６－ジヒドロジシクロペンタジエン、ジシクロペンタジエン、１，４－デカジイン、１，５－デカジイン、１，９－デカジイン、２，８－デカジイン、４，６－デカジイン、ｎ－ウンデカン、アミルシクロヘキサン、１－ウンデセン、１，１０－ウンデカジエン、１－ウンデシン、３－ウンデシン、５－ウンデシン、トリシクロ［６．２．１．０２，７］ウンデカ－４－エン、ｎ－ドデカン、２－メチルウンデカン、３－メチルウンデカン、４－メチルウンデカン、５－メチルウンデカン、２，２，４，６，６－ペンタメチルヘプタン、１，３－ジメチルアダマンタン、１－エチルアダマンタン、１，５，９－シクロドデカトリエン、１，２，４－トリビニルシクロヘキサン、イソパラフィン等の脂肪族炭化水素系溶剤、シクロヘキサノン、シクロペンタノン、アセトン、メチルエチルケトン、２－オクタノン、２－ノナノン、２－ヘプタノン、３－ヘプタノン、４－ヘプタノン、２－ヘキサノン、３－ヘキサノン、ジイソブチルケトン、メチルイソブチルケトン、メチルシクロヘキサノン、メチルｎ－ペンチルケトン等のケトン系溶剤、エチレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジブチルエーテル、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル、ジエチレングリコールブチルメチルエーテル、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジ－ｎ－ブチルエーテル、ジ－ｓｅｃブチルエーテル、ジイソブチルエーテル、アミルエーテル、イソアミルエーテル、ジ－ｔｅｒｔ－アミルエーテル、メチルシクロペンチルエーテル、メチルシクロヘキシルエーテル、メチル－ｔeｒｔ－ブチルエーテル、ジ－ｎ－ヘキシルエーテル、アニソール、ジヒドロターピニルアセテート、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶剤、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノプロピルエーテルアセテート、エチレングリコールジアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノプロピルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノブチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノ－ｔｅｒｔ－ブチルエーテルアセテート、プロピレングリコールジアセテート、ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノプロピルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸イソブチル、酢酸―ｔｅｒｔ－ブチル、ピルビン酸エチル、３－メトキシプロピオン酸メチル、３－エトキシプロピオン酸エチル、プロピオン酸ｔｅｒｔ－ブチル、３－メトキシブチルアセテート、エチル－３－エトキシプロピオネート等のエステル系溶剤、γ－ブチロラクトン等のラクトン系溶剤、アセトニトリルなどのニトリル系溶剤、塩化メチル、塩化メチレン、クロロホルム、四塩化炭素、１，２－ジクロロエタン、１，１，２，２－テトラクロロエタン等のハロゲン系溶剤、Ｎ－メチルピロリドン、Ｎ，Ｎ’－ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ’－ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド、ヘキサメチルホスホニルアミドなどの極性非プロトン溶剤などを挙げることができる。
ポリウレタンはバルク重合または、溶液重合によって合成される。溶液重合に用いられる有機溶剤としては、例えば、トルエン、キシレン、クメン、１，２，３－トリメチルベンゼン、１，２，４－トリメチルベンゼン、１，３，５－トリメチルベンゼン、スチレン、αメチルスチレン、ブチルベンゼン、ｓｅｃ－ブチルベンゼン、イソブチルベンゼン、シメン、ジエチルベンゼン、２－エチル－ｐ－キシレン、２－プロピルトルエン、３－プロピルトルエン、４－プロピルトルエン、１，２，３，５－テトラメチルトルエン、１，２，４，５－テトラメチルトルエン、テトラヒドロナフタレン、４－フェニル－１－ブテン、ｔｅｒｔ－アミルベンゼン、アミルベンゼン、２－ｔｅｒｔ－ブチルトルエン、３－ｔｅｒｔ－ブチルトルエン、４－ｔｅｒｔ－ブチルトルエン、５－イソプロピル－ｍ－キシレン、３－メチルエチルベンゼン、ｔｅｒｔ－ブチル－３－エチルベンゼン、４－ｔｅｒｔ－ブチル－ｏ－キシレン、５－ｔｅｒｔ－ブチル－ｍ－キシレン、ｔｅｒｔ－ブチル－ｐ－キシレン、１，２－ジイソプロピルベンゼン、１，３－ジイソプロピルベンゼン、１，４－ジイソプロピルベンゼン、ジプロピルベンゼン、ペンタメチルベンゼン、ヘキサメチルベンゼン、ヘキシルベンゼン、１，３，５－トリエチルベンゼン等の芳香族系炭化水素系溶剤、ｎ－ヘプタン、イソヘプタン、ｎ－ヘキサン、オクタン、３－メチルヘキサン、２，３－ジメチルペンタン、３－エチルペンタン、１，６－ヘプタジエン、５－メチル－１－ヘキシン、ノルボルナン、ノルボルネン、ジシクロペンタジエン、１－メチル－１，４－シクロヘキサジエン、１－ヘプチン、２－ヘプチン、シクロヘプタン、シクロヘプテン、１，３－ジメチルシクロペンタン、エチルシクロペンタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、１－メチル－１－シクロヘキセン、３－メチル－１－シクロヘキセン、メチレンシクロヘキサン、４－メチル－１－シクロヘキセン、２－メチル－１－ヘキセン、２－メチル－２－ヘキセン、１－ヘプテン、２－ヘプテン、３－ヘプテン、ｎ－オクタン、２，２－ジメチルヘキサン、２，３－ジメチルヘキサン、２，４－ジメチルヘキサン、２，５－ジメチルヘキサン、３，３－ジメチルヘキサン、３，４－ジメチルヘキサン、３－エチル－２－メチルペンタン、３－エチル－３－メチルペンタン、２－メチルヘプタン、３－メチルヘプタン、４－メチルヘプタン、２，２，３－トリメチルペンタン、２，２，４－トリメチルペンタン、シクロオクタン、シクロオクテン、１，２－ジメチルシクロヘキサン、１，３－ジメチルシクロヘキサン、１，４－ジメチルシクロヘキサン、エチルシクロヘキサン、ビニルシクロヘキサン、イソプロピルシクロペンタン、２，２－ジメチル－３－ヘキセン、２，４－ジメチル－１－ヘキセン、２，５－ジメチル－１－ヘキセン、２，５－ジメチル－２－ヘキセン、３，３－ジメチル－１－ヘキセン、３，４－ジメチル－１－ヘキセン、４，４－ジメチル－１－ヘキセン、２－エチル－１－ヘキセン、２－メチル－１－ヘプテン、１－オクテン、２－オクテン、３－オクテン、４－オクテン、１，７－オクタジエン、１－オクチン、２－オクチン、３－オクチン、４－オクチン、ｎ－ノナン、２，３－ジメチルヘプタン、２，４－ジメチルヘプタン、２，５－ジメチルヘプタン、３，３－ジメチルヘプタン、３，４－ジメチルヘプタン、３，５－ジメチルヘプタン、４－エチルヘプタン、２－メチルオクタン、３－メチルオクタン、４－メチルオクタン、２，２，４，４－テトラメチルペンタン、２，２，４－トリメチルヘキサン、２，２，５－トリメチルヘキサン、２，２－ジメチル－３－ヘプテン、２，３－ジメチル－３－ヘプテン、２，４－ジメチル－１－ヘプテン、２，６－ジメチル－１－ヘプテン、２，６－ジメチル－３－ヘプテン、３，５－ジメチル－３－ヘプテン、２，４，４－トリメチル－１－ヘキセン、３，５，５－トリメチル－１－ヘキセン、１－エチル－２－メチルシクロヘキサン、１－エチル－３－メチルシクロヘキサン、１－エチル－４－メチルシクロヘキサン、プロピルシクロヘキサン、イソプロピルシクロヘキサン、１，１，３－トリメチルシクロヘキサン、１，１，４－トリメチルシクロヘキサン、１，２，３－トリメチルシクロヘキサン、１，２，４－トリメチルシクロヘキサン、１，３，５－トリメチルシクロヘキサン、アリルシクロヘキサン、ヒドリンダン、１，８－ノナジエン、１－ノニン、２－ノニン、３－ノニン、４－ノニン、１－ノネン、２－ノネン、３－ノネン、４―ノネン、ｎ－デカン、３，３－ジメチルオクタン、３，５－ジメチルオクタン、４，４－ジメチルオクタン、３－エチル－３－メチルヘプタン、２－メチルノナン、３－メチルノナン、４－メチルノナン、ｔｅｒｔ－ブチルシクロヘキサン、ブチルシクロヘキサン、イソブチルシクロヘキサン、４－イソプロピル－１－メチルシクロヘキサン、ペンチルシクロペンタン、１，１，３，５－テトラメチルシクロヘキサン、シクロドデカン、１－デセン、２－デセン、３－デセン、４－デセン、５－デセン、１，９－デカジエン、デカヒドロナフタレン、１－デシン、２－デシン、３－デシン、４－デシン、５－デシン、１，５，９－デカトリエン、２，６－ジメチル－２，４，６－オクタトリエン、リモネン、ミルセン、１，２，３，４，５－ペンタメチルシクロペンタジエン、α－フェランドレン、ピネン、テルピネン、テトラヒドロジシクロペンタジエン、５，６－ジヒドロジシクロペンタジエン、ジシクロペンタジエン、１，４－デカジイン、１，５－デカジイン、１，９－デカジイン、２，８－デカジイン、４，６－デカジイン、ｎ－ウンデカン、アミルシクロヘキサン、１－ウンデセン、１，１０－ウンデカジエン、１－ウンデシン、３－ウンデシン、５－ウンデシン、トリシクロ［６．２．１．０２，７］ウンデカ－４－エン、ｎ－ドデカン、２－メチルウンデカン、３－メチルウンデカン、４－メチルウンデカン、５－メチルウンデカン、２，２，４，６，６－ペンタメチルヘプタン、１，３－ジメチルアダマンタン、１－エチルアダマンタン、１，５，９－シクロドデカトリエン、１，２，４－トリビニルシクロヘキサン、イソパラフィン等の脂肪族炭化水素系溶剤、シクロヘキサノン、シクロペンタノン、アセトン、メチルエチルケトン、２－オクタノン、２－ノナノン、２－ヘプタノン、３－ヘプタノン、４－ヘプタノン、２－ヘキサノン、３－ヘキサノン、ジイソブチルケトン、メチルイソブチルケトン、メチルシクロヘキサノン、メチルｎ－ペンチルケトン等のケトン系溶剤、エチレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジブチルエーテル、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル、ジエチレングリコールブチルメチルエーテル、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジ－ｎ－ブチルエーテル、ジ－ｓｅｃブチルエーテル、ジイソブチルエーテル、アミルエーテル、イソアミルエーテル、ジ－ｔｅｒｔ－アミルエーテル、メチルシクロペンチルエーテル、メチルシクロヘキシルエーテル、メチル－ｔeｒｔ－ブチルエーテル、ジ－ｎ－ヘキシルエーテル、アニソール、ジヒドロターピニルアセテート、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶剤、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノプロピルエーテルアセテート、エチレングリコールジアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノプロピルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノブチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノ－ｔｅｒｔ－ブチルエーテルアセテート、プロピレングリコールジアセテート、ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノプロピルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸イソブチル、酢酸―ｔｅｒｔ－ブチル、ピルビン酸エチル、３－メトキシプロピオン酸メチル、３－エトキシプロピオン酸エチル、プロピオン酸ｔｅｒｔ－ブチル、３－メトキシブチルアセテート、エチル－３－エトキシプロピオネート等のエステル系溶剤、γ－ブチロラクトン等のラクトン系溶剤、アセトニトリルなどのニトリル系溶剤、塩化メチル、塩化メチレン、クロロホルム、四塩化炭素、１，２－ジクロロエタン、１，１，２，２－テトラクロロエタン等のハロゲン系溶剤、Ｎ－メチルピロリドン、Ｎ，Ｎ’－ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ’－ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド、ヘキサメチルホスホニルアミドなどの極性非プロトン溶剤などを挙げることができる。
【0152】
なお、有機溶剤の添加量は、ポリウレタン構成成分（ポリイソシアネート、高分子量ポリオール、鎖延長剤、架橋剤）の総量１００質量部に対して２０質量部以上、５００質量以下の範囲とすることが好ましく、より好ましくは２５質量部以上、１００質量部以下である。
【0153】
有機溶剤は重合反応後に減圧留去又は晶析等により除去しても良いし、除去せずにポリウレタン溶液のまま導電性ペースト組成物へ適用しても良い。
【0154】
［触媒］
ポリウレタン合成においてはウレタン結合生成反応を促進するために、必要に応じて触媒を添加することが好ましい。
ポリウレタン合成においてはウレタン結合生成反応を促進するために、必要に応じて触媒を添加することが好ましい。
【0155】
ウレタン化触媒としては公知の触媒から適宜選択して用いることができ、アミン系触媒、アンモニウム塩系触媒、カリウム塩系触媒、有機金属触媒等が挙げられる。
【0156】
アミン系触媒としては、例えば、トリエチルアミン、Ｎ，Ｎ－ジメチルシクロヘキシルアミン、トリエチレンジアミン、２－メチルトリエチレンジアミン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’－テトラメチルエチレンジアミン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’－テトラメチルプロピレンジアミン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ”，Ｎ”－ペンタメチルジエチレントリアミン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ”，Ｎ”－ペンタメチル－（３－アミノプロピル）エチレンジアミン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ”，Ｎ”－ペンタメチルジプロピレントリアミン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’－テトラメチルヘキサメチレンジアミン、ビス（２－ジメチルアミノエチル）エーテル、ジメチルエタノールアミン、ジメチルイソプロパノールアミン、ジメチルアミノエトキシエタノール、Ｎ，Ｎ－ジメチルヘキサノールアミン、Ｎ，Ｎ－ジメチル－Ｎ’－（２－ヒドロキシエチル）エチレンジアミン、Ｎ，Ｎ－ジメチル－Ｎ’－（２－ヒドロキシエチル）プロパンジアミン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’－トリメチルアミノエチルエタノールアミン、ビス（ジメチルアミノプロピル）アミン、ビス（ジメチルアミノプロピル）イソプロパノールアミン、Ｎ－メチル－Ｎ’－（２－ジメチルアミノエチル）ピペラジン、Ｎ－メチル－Ｎ’－（２－ヒドロキシエチル）ピペラジン、Ｎ－メチルモルホリン、Ｎ－エチルモルホリン、１－メチルイミダゾール、１，２－ジメチルイミダゾール、１－イソブチル－２－メチルイミダゾール、１－ジメチルアミノプロピルイミダゾール、１－（２－ヒドロキシエチル）イミダゾール、１－（２－ヒドロキシプロピル）イミダゾール、１－（２－ヒドロキシエチル）－２－メチルイミダゾール、１－（２－ヒドロキシプロピル）－２－メチルイミダゾール等が挙げられる。
【0157】
アンモニウム塩系触媒としては、例えば、テトラエチルヒドロキシルアンモニウム等の４級アンモニウム塩や、１，８－ジアザビシクロ（５，４，０）－ウンデセン－７又は１，５－ジアザヒシクロ（４，３，０）－ノネン－５と、オクチル酸、オレイン酸、ｐ－トルエンスルホン酸、ギ酸、フェノール酸、オルソフタル酸、酢酸、マレイン酸又はホウ酸からなるアンモニウム塩等が挙げられる。
【0158】
カリウム塩系触媒としては、例えば、炭酸カリウム、酢酸カリウム、オクチル酸カリウム等が挙げられる。
【0159】
有機金属触媒としては、例えば、酢酸錫、オクチル酸錫（２－エチルヘキサン酸スズ）、オレイン酸錫、ラウリル酸錫、ジブチル錫ジアセテート、ジメチル錫ジラウレート、ジブチル錫ジラウレート、ジブチル錫ジメルカプチド、ジブチル錫マレエート、ジブチル錫ジラウレート、ジブチル錫ジネオデカノエート、ジオクチル錫ジメルカプチド、ジオクチル錫ジラウリレート、ジブチル錫ジクロリドなどの有機錫化合物、オクタン酸鉛、ナフテン酸鉛などの有機鉛化合物、ナフテン酸ニッケルなどの有機ニッケル化合物、例えば、ナフテン酸コバルトなどの有機コバルト化合物、オクテン酸銅などの有機銅化合物、オクチル酸ビスマス、ネオデカン酸ビスマスなどの有機ビスマス化合物などが挙げられる。
【0160】
本発明の（Ｃ）成分のエラストマーとして用いられるポリウレタンは一般式（１ａ）～（１ｃ）で示される構造を含むことから塩基性の触媒の活性を阻害する可能性があるため、有機金属触媒を用いることが好ましく、より好ましくは有機ビスマス化合物が挙げられる。
【0161】
これらのウレタン化触媒は、単独、または２種以上を組み合わせて用いることができる。なお、ウレタン化触媒の使用量はポリウレタン構成成分の総量１００質量部に対して０質量部以上、５質量部以下の範囲であることが好ましく、０．１質量部以上、２質量部以下の範囲で用いられることがより好ましい。
【0162】
［キャップ剤］
本態様にかかるポリウレタンは、イソシアネート基過剰で重合を行った後に末端キャップ剤を添加することでポリウレタン末端にキャップ剤由来の官能基を導入することができる。
例えば、ポリウレタン末端のキャップ剤として下記のヒドロキシ（メタ）アクリレートを使用することでウレタンアクリレートを合成することができる。
（式中、Ｒ７は水素原子又はメチル基、Ｅｔはエチル基、Ｐｈはフェニル基を示す。Ｒ４は前記と同じである。）
本態様にかかるポリウレタンは、イソシアネート基過剰で重合を行った後に末端キャップ剤を添加することでポリウレタン末端にキャップ剤由来の官能基を導入することができる。
例えば、ポリウレタン末端のキャップ剤として下記のヒドロキシ（メタ）アクリレートを使用することでウレタンアクリレートを合成することができる。
【化42】
【0163】
ウレタンアクリレートは必要に応じて反応性モノマーと重合開始剤と共に熱又は紫外線、可視光、レーザー光、電子線、Ｘ線、γ線、プラズマ、マイクロウェーブなどの活性エネルギー線を照射することにより、重合・硬化させて硬化物とすることができる。
【0164】
前記反応性モノマーとしては、例えば、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、イソプロピル（メタ）アクリレート、ｎ－ブチル（メタ）アクリレート、ｔ－ブチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、イソアミル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、ドデシル（メタ）アクリレート、ステアリルアクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、イソボロニル（メタ）アクリレート、アダマンチル（メタ）アクリレート、フェノキシメチル（メタ）アクリレート、フェノキシエチル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、フェネチル（メタ）アクリレート等の（メタ）アクリル酸アラルキルエステルフェニル（メタ）アクリレート、２－ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２－ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、３－ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４－ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート等の単官能（メタ）アクリレート化合物、ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、オクタンジオールジ（メタ）アクリレート、ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、ドデカンジオールジ（メタ）アクリレート、エトキシ化ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、プロポキシ化ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、エトキシ化ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、エトキシ化トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、プロポキシ化トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリス（２－ヒドロキシエチル）イソシアヌレートトリ（メタ）アクリレート、グリセリントリ（メタ）アクリレートなどのトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンヘキサ（メタ）アクリレートなどの多官能（メタ）アクリレート化合物、又は、これらのエチレンオキシ変性品やプロピレンオキシ変性品、ラクトン変性品が使用できる。これらは単独で用いても良いし、二種類以上を併用しても良い。
【0165】
前記重合開始剤として、例えば、アセトフェノン、２，２－ジエトキシアセトフェノン、ｐ－ジメチルアミノアセトフェノン、ベンゾフェノン、２－クロロベンゾフェノン、４，４’－ビスジエチルアミノベンゾフェノン、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾイン－ｎ－プロピルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、ベンゾイン－ｎ－ブチルエーテル、ベンゾインジメチルケタール、チオキサントン、ｐ－イソプロピル－α－ヒドロキシイソブチルフェノン、２，２－ジメトキシ－２－フェニルアセトフェノン、１－ヒドロキシシクロへキシルフェニルケトン、２－メチル－１－［４－（メチルチオ）フェニル］－２－モルフォリノプロパン－１－オン、２－ヒドロキシ－２－メチル－１－フェニルプロパン－１－オン、２，４，６－トリメチルベンゾフェノン、４－メチルベンゾフェノン、（２，４，６－トリメチルベンゾイル）－ジフェニルフォスフィンオキサイド、ビス（２，４，６－トリメチルベンゾイル）－フェニルフォスフィンオキサイド、２，２－ジメトキシ－１，２－ジフェニルエタノンなどが挙げられるが、好ましくは１－ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、ビス（２，４，６－トリメチルベンゾイル）フェニルフォスフィンオキサイドが使用される。これらは単独で用いても良いし、二種類以上を併用しても良い。
【0166】
また、一般式（１ａ）～（１ｃ）で示される構造を含むキャップ剤を使用することでポリウレタン末端に一般式（１ａ）～（１ｃ）で示される構造を導入することもできる。例えば、上記一般式（１ａ）～（１ｃ）で示される構造とイソシアネートと反応する水酸基またはアミノ基を含有する下記の化合物が挙げられる。
（式中、Ｒａは前述の一般式（３ａ）～（３ｃ）で示される構造を示す。ｍ１、ｍ２は０～２０の整数である。Ｒ４は前記と同じである。）
【化43】
【0167】
ポリウレタン合成時の反応温度は反応基質の種類によって適宜変更されるが、通常は３０～２００℃が好ましく、４０～１２０℃がより好ましい。
【0168】
ポリウレタンの重量平均分子量は１０，０００～５００，０００が好ましく、１５，０００～２００，０００がより好ましい。更に好ましくは２０，０００～１５０，０００である。
【0169】
本態様にかかるポリウレタンは、さらに必要に応じて、添加剤として、酸化防止剤、消泡剤、紫外線吸収剤等を含んでいてもよい。
【0170】
［導電配線］
また、本発明では、上記導電性ペースト組成物を用いて基材上に形成された導電配線を提供する。また、本発明では、上記導電性ペースト組成物を用いて伸縮性基材上に形成された伸縮性導電配線を提供する。
以下、本発明の伸縮性導電配線について説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
また、本発明では、上記導電性ペースト組成物を用いて基材上に形成された導電配線を提供する。また、本発明では、上記導電性ペースト組成物を用いて伸縮性基材上に形成された伸縮性導電配線を提供する。
以下、本発明の伸縮性導電配線について説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【0171】
伸縮性導電配線を形成する基材としては、ポリウレタン、ポリエステル、シリコーン、ニトリルゴム、ブタジエンゴム、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリオレフィン、ＰＴＦＥ、ＰＦＡ等が挙げられる。基材は伸縮性を有することが好ましく、伸縮性を有するシートやフィルムがより好ましく、さらに好ましくは伸縮性のポリウレタン基材、特に好ましくは熱可塑性ポリウレタン基材である。シートの表面は平坦でも良いが、凹凸がついていても良い。凹凸がついていると、基材に対して垂直方向に蛇腹構造の伸縮配線を形成することが出来、伸縮時の導電性の変化を抑えることが可能である。また不織布や伸縮性の繊維からなる布を用いることも可能である。
【0172】
伸縮性を有する基材は、最大１０００％の伸縮性を有することが好ましい。人間の動きに対する肌の伸長度は、胸などの骨の上は１０％、腹部などは２０％、関節部では５０％と言われており、肌に貼り付ける部分に応じて導電配線に求められる伸縮性が異なる。
【0173】
伸縮性基材上に本発明の導電性ペースト組成物による導電配線を形成する。伸縮性基材上に導電配線を塗布する方法は、特に限定されないが、例えばディップコート、スプレーコート、スピンコート、ロールコート、フローコート、ドクターコート、スクリーン印刷、フレキソ印刷、グラビア印刷、インクジェット印刷等の方法が好適である。特に印刷によって配線パターンを形成することによって生産性を向上させることが出来、配線幅含めて自由なデザインが可能になる。
【0174】
導電配線の膜厚は１０ｎｍ～１０００μｍの範囲が好ましく用いられる。より好ましくは５～５０μｍである。
【0175】
伸縮基材上に導電性ペースト組成物を印刷によって塗布し、その後焼成する。焼成温度は６０～１６０℃が好ましく、より好ましくは１２０℃～１５０℃の範囲、時間は１秒から１０時間が好ましく、より好ましくは１０分～５時間である。焼成はホットプレートやオーブン中で行うことが出来るが、フラッシュアニーリングによって上記温度よりも高温で短時間に行うことも出来、赤外光の照射による焼成を行うことも可能である。
【0176】
伸縮性導電配線を基材上に形成し、伸縮性導電配線の両端間の電気抵抗を測定することによって導電性の評価が可能である。基材を伸長する前と伸長している間の電気抵抗の変化が小さい程、伸長した基材を収縮させて元に戻したときの導電性の劣化が小さい程優れた伸縮性導電配線と言える。また、繰り返し伸縮を行った場合に配線の破断が起こらずに、電気抵抗の変化が小さい方が好ましい。
【0177】
また、本発明の導電配線は、２０％伸長時の電気抵抗が伸長前の電気抵抗の５００％以下であることが好ましく、下限値については特に限定されず、低い方が好ましいが例えば１５０％以上とすることができる。伸長率２０％で１０００回繰り返し伸縮した際の最大電気抵抗が、伸縮前の電気抵抗の５０００％以下であることが好ましく、下限値については特に限定されず、低い方が好ましいが例えば３００％以上とすることができる。上記電気抵抗は、後述の測定方法で求めることができる。
【0178】
更に、導電配線を覆うためのカバー膜を設けることも出来る。カバー膜を設けることによって、耐水性や機械的強度を向上させることが出来る。基材と導電配線の両方が伸縮性を有しているため、カバー膜も伸縮性を有している必要がある。カバー膜の材質は基材と同じくポリウレタン、ウレタンアクリレート、ポリエステル、シリコーン、ニトリルゴム、ブタジエンゴム、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリオレフィン、ＰＴＦＥ、ＰＦＡなどから選択できる。カバー膜の膜厚は１０ｎｍ～１ｍｍの範囲が好ましく用いられる。
【0179】
本発明の導電性ペースト組成物は例えば上記（Ａ）成分の導電性フィラーが銀粉の場合、（Ｃ）成分のエラストマー樹脂中の上記一般式（１ａ）～（１ｃ）で示される官能基と銀粉末の酸化被膜により銀塩が形成され、その銀塩が熱等により還元されることで銀ナノ粒子を生成しているものと推測される。さらに、上記（Ｂ）成分のフェノール化合物も弱酸性を有しており、銀粉末の酸化被膜と銀塩を形成し、上記と同様に還元により銀ナノ粒子を生成しているものと推測される。その上、上記（Ｂ）成分のフェノール化合物が上記一般式（１Ａ）、（１Ｂ）のフェノール化合物の場合は、芳香環上にフッ素原子を有しており、このフッ素原子と銀塩とで求核置換反応が進行し、その過程でフッ化銀が副生する。これが熱等で還元され、銀ナノ粒子を生成しているものと推測される。
【0180】
本発明の導電性ペースト組成物を用いて形成された導電配線は、配線の焼成過程で上記のように３つのルートで銀ナノ粒子の生成が推測され、この生成した銀ナノ粒子が、銀粉体間の絶縁性ポリマー中に分散されることで高い導電性を示す。また、配線を伸長し銀粉体間の距離が広がった際も、銀粉体間に分散する銀ナノ粒子により導電経路が切断されにくくなるため、断線が起きにくく、導電性の変化が小さくなる。
【実施例0181】
以下、実施例と比較例を示して本発明を具体的に説明するが、本発明は下記実施例に制限されるものではない。なお、下記式中、Ｍｅはメチル基を示し、重量平均分子量（Ｍｗ）及び数平均分子量（Ｍｎ）はゲル浸透クロマトグラフィ（ＧＰＣ）によりポリスチレン換算値として測定したものである。ＧＰＣの測定条件は、以下の通りである。
カラム：ＴＳＫｇｅｌ Ｇ４０００ＨＸＬ、ＴＳＫｇｅｌ Ｇ３０００ＨＸＬ、ＴＳＫｇｅｌ Ｇ２０００ＨＸＬ２本
移動相：テトラヒドロフラン
カラムオーブン温度：４０℃
サンプル濃度：０．２０質量％
サンプル注入量：１００μＬ
流量：１ｍＬ／ｍｉｎ
カラム：ＴＳＫｇｅｌ Ｇ４０００ＨＸＬ、ＴＳＫｇｅｌ Ｇ３０００ＨＸＬ、ＴＳＫｇｅｌ Ｇ２０００ＨＸＬ２本
移動相：テトラヒドロフラン
カラムオーブン温度：４０℃
サンプル濃度：０．２０質量％
サンプル注入量：１００μＬ
流量：１ｍＬ／ｍｉｎ
【0182】
［実施例１］
本発明のフェノール化合物を以下に示す方法で合成した。
［実施例１－１］フェノール１の合成
本発明のフェノール化合物を以下に示す方法で合成した。
［実施例１－１］フェノール１の合成
【化44】
【0183】
［実施例１－１－１］ブロモベンゼン１の合成
窒素雰囲気下、ブロモフェノール１（７６．４ｇ）、イソアミレン（１１２．２ｇ）のトルエン（１０ｇ）溶液へ、メタンスルホン酸（４．８ｇ）を－２０～－１０℃にて加えた。そのままの温度にて３時間撹拌した後、トリエチルアミン（１０．１ｇ）、続いて２５質量％苛性ソーダ水（３２．０ｇ）を滴下して反応を停止した。通常の水系後処理（ａｑｕｅｏｕｓ ｗｏｒｋ－ｕｐ）を行った。減圧蒸留によりブロモベンゼン１（８４．６ｇ、収率８１％）を得た。
沸点：６７℃／１０Ｐａ。
窒素雰囲気下、ブロモフェノール１（７６．４ｇ）、イソアミレン（１１２．２ｇ）のトルエン（１０ｇ）溶液へ、メタンスルホン酸（４．８ｇ）を－２０～－１０℃にて加えた。そのままの温度にて３時間撹拌した後、トリエチルアミン（１０．１ｇ）、続いて２５質量％苛性ソーダ水（３２．０ｇ）を滴下して反応を停止した。通常の水系後処理（ａｑｕｅｏｕｓ ｗｏｒｋ－ｕｐ）を行った。減圧蒸留によりブロモベンゼン１（８４．６ｇ、収率８１％）を得た。
沸点：６７℃／１０Ｐａ。
【0184】
［実施例１－１－２］中間体フェノール１の合成
窒素雰囲気下、ブロモベンゼン１（５２．２ｇ）、マグネシウム（５．１ｇ）及びテトラヒドロフラン１４０ｍＬを用いて予め調製したＧｒｉｇｎａｒｄ試薬を、内温－５℃以下にて、ホウ酸トリメチル（２２．９ｇ）、テトラヒドロフラン（３１０ｍＬ）の溶液に滴下した。反応温度５℃にて３時間撹拌を続けた。その後内温３０℃以下にて、酢酸（１８．０ｇ）及び３５％過酸化水素（２５．３ｇ）を加えた。室温にて３時間撹拌を続け、通常の後処理方法を行い、トルエン／ｎ－ヘキサン混合溶剤より再結晶を行い、中間体フェノール１（２９．７ｇ、収率７５％）を得た。
ＩＲ（Ｄ－ＡＴＲ）：ν＝３２３３、３０７１、２９４１、２９２９、２８５３、１６２２、１６０１、１５１２、１４８０、１４６５、１４４７、１３７８、１３３４、１３１１、１２０５、１１９６、１１５８、１１１１、１０９７、９７５、９６６、８７０、８１６ｃｍ－１。
１Ｈ－ＮＭＲ（６００ＭＨｚ ｉｎ ＤＭＳＯ－ｄ６）：δ＝９．５２（１Ｈ、ｓ）、６．８８（１Ｈ、ｔ）、６．５５（１Ｈ、ｄｄ）、６．４６（１Ｈ、ｄｄ）、１．６２（２Ｈ、ｑ）、１．１４（６Ｈ、ｓ）、０．９３（３Ｈ、ｔ）ｐｐｍ。
１９Ｆ－ＮＭＲ（５６５ＭＨｚ ｉｎ ＤＭＳＯ－ｄ６）：δ＝－１２６．６（１Ｆ、ｓ）ｐｐｍ。
窒素雰囲気下、ブロモベンゼン１（５２．２ｇ）、マグネシウム（５．１ｇ）及びテトラヒドロフラン１４０ｍＬを用いて予め調製したＧｒｉｇｎａｒｄ試薬を、内温－５℃以下にて、ホウ酸トリメチル（２２．９ｇ）、テトラヒドロフラン（３１０ｍＬ）の溶液に滴下した。反応温度５℃にて３時間撹拌を続けた。その後内温３０℃以下にて、酢酸（１８．０ｇ）及び３５％過酸化水素（２５．３ｇ）を加えた。室温にて３時間撹拌を続け、通常の後処理方法を行い、トルエン／ｎ－ヘキサン混合溶剤より再結晶を行い、中間体フェノール１（２９．７ｇ、収率７５％）を得た。
ＩＲ（Ｄ－ＡＴＲ）：ν＝３２３３、３０７１、２９４１、２９２９、２８５３、１６２２、１６０１、１５１２、１４８０、１４６５、１４４７、１３７８、１３３４、１３１１、１２０５、１１９６、１１５８、１１１１、１０９７、９７５、９６６、８７０、８１６ｃｍ－１。
１Ｈ－ＮＭＲ（６００ＭＨｚ ｉｎ ＤＭＳＯ－ｄ６）：δ＝９．５２（１Ｈ、ｓ）、６．８８（１Ｈ、ｔ）、６．５５（１Ｈ、ｄｄ）、６．４６（１Ｈ、ｄｄ）、１．６２（２Ｈ、ｑ）、１．１４（６Ｈ、ｓ）、０．９３（３Ｈ、ｔ）ｐｐｍ。
１９Ｆ－ＮＭＲ（５６５ＭＨｚ ｉｎ ＤＭＳＯ－ｄ６）：δ＝－１２６．６（１Ｆ、ｓ）ｐｐｍ。
【0185】
［実施例１－１－３］保護フェノール１の合成
窒素雰囲気下、中間体フェノール１（１３．９ｇ）、炭酸カリウム（１０．６ｇ）、ヨウ化ナトリウム（１００ｍｇ）、ジメチルホルムアルデヒド（５０ｇ）のスラリー溶液へ、エーテル化剤１（２０．９ｇ）を６０～８０℃にて加えた。そのままの温度にて６時間撹拌した後、水（１００ｇ）を滴下して反応を停止した。通常の水系後処理（ａｑｕｅｏｕｓ ｗｏｒｋ－ｕｐ）を行い、保護フェノール１（２４．５ｇ、収率９５％）を得た。
窒素雰囲気下、中間体フェノール１（１３．９ｇ）、炭酸カリウム（１０．６ｇ）、ヨウ化ナトリウム（１００ｍｇ）、ジメチルホルムアルデヒド（５０ｇ）のスラリー溶液へ、エーテル化剤１（２０．９ｇ）を６０～８０℃にて加えた。そのままの温度にて６時間撹拌した後、水（１００ｇ）を滴下して反応を停止した。通常の水系後処理（ａｑｕｅｏｕｓ ｗｏｒｋ－ｕｐ）を行い、保護フェノール１（２４．５ｇ、収率９５％）を得た。
【0186】
［実施例１－１－４］フェノール１の合成
上記で得られた保護フェノール１（７．３ｇ）、ｐ－トルエンスルホン酸１水和物（０．１ｇ）、トルエン（２０ｍＬ）の溶液を内温７０～９０℃にて４時間加熱撹拌を続けた。その後内温３０℃以下にて水１５ｇを加え反応を停止した。通常の後処理方法を行い、トルエン／ｎ－ヘキサン混合溶剤より再結晶を行い、フェノール１（５．０ｇ、収率８４％）を得た。
ＩＲ（Ｄ－ＡＴＲ）：ν＝３４０２、２９５３、２９４２、２９２０、２８７０、２８５４、１６０７、１５１６、１４７９、１４７１、１４６０、１３９８、１３１３、１２７５、１２５５、１２０５、１１５８、１１１１、１０２８、８４０、７８８ｃｍ－１。
１Ｈ－ＮＭＲ（６００ＭＨｚ ｉｎ ＤＭＳＯ－ｄ６）：δ＝９．１８（１Ｈ、ｓ）、６．８２（１Ｈ、ｔ）、６．７２（１Ｈ、ｄｄ）、６．５４（１Ｈ、ｄｄ）、３．８２（２Ｈ、ｔ）、１．６２（２Ｈ、ｍ）、１．１４－１．３８（１８Ｈ、ｍ）、０．８３（３Ｈ、ｔ）ｐｐｍ。
１９Ｆ－ＮＭＲ（５６５ＭＨｚ ｉｎ ＤＭＳＯ－ｄ６）：δ＝－１３３．７（１Ｆ、ｔ）ｐｐｍ。
上記で得られた保護フェノール１（７．３ｇ）、ｐ－トルエンスルホン酸１水和物（０．１ｇ）、トルエン（２０ｍＬ）の溶液を内温７０～９０℃にて４時間加熱撹拌を続けた。その後内温３０℃以下にて水１５ｇを加え反応を停止した。通常の後処理方法を行い、トルエン／ｎ－ヘキサン混合溶剤より再結晶を行い、フェノール１（５．０ｇ、収率８４％）を得た。
ＩＲ（Ｄ－ＡＴＲ）：ν＝３４０２、２９５３、２９４２、２９２０、２８７０、２８５４、１６０７、１５１６、１４７９、１４７１、１４６０、１３９８、１３１３、１２７５、１２５５、１２０５、１１５８、１１１１、１０２８、８４０、７８８ｃｍ－１。
１Ｈ－ＮＭＲ（６００ＭＨｚ ｉｎ ＤＭＳＯ－ｄ６）：δ＝９．１８（１Ｈ、ｓ）、６．８２（１Ｈ、ｔ）、６．７２（１Ｈ、ｄｄ）、６．５４（１Ｈ、ｄｄ）、３．８２（２Ｈ、ｔ）、１．６２（２Ｈ、ｍ）、１．１４－１．３８（１８Ｈ、ｍ）、０．８３（３Ｈ、ｔ）ｐｐｍ。
１９Ｆ－ＮＭＲ（５６５ＭＨｚ ｉｎ ＤＭＳＯ－ｄ６）：δ＝－１３３．７（１Ｆ、ｔ）ｐｐｍ。
【0187】
［実施例１－２］フェノール２の合成
【化45】
【0188】
［実施例１－２－１］ブロモベンゼン２の合成
窒素雰囲気下、ｔ－ブトキシカリウム（６３．９ｇ）をＴＨＦ（３６０ｇ）に溶解した溶液へ、フルオロベンゼン１（１００ｇ）を０～１０℃で滴下した。そのままの温度にて１０時間撹拌した後、水（１５０ｇ）を滴下して反応を停止した。通常の水系後処理（ａｑｕｅｏｕｓ ｗｏｒｋ－ｕｐ）を行った。減圧蒸留によりブロモベンゼン２（９８．６ｇ、収率７７％）を得た。
沸点：９７－１００℃／７００Ｐａ。
窒素雰囲気下、ｔ－ブトキシカリウム（６３．９ｇ）をＴＨＦ（３６０ｇ）に溶解した溶液へ、フルオロベンゼン１（１００ｇ）を０～１０℃で滴下した。そのままの温度にて１０時間撹拌した後、水（１５０ｇ）を滴下して反応を停止した。通常の水系後処理（ａｑｕｅｏｕｓ ｗｏｒｋ－ｕｐ）を行った。減圧蒸留によりブロモベンゼン２（９８．６ｇ、収率７７％）を得た。
沸点：９７－１００℃／７００Ｐａ。
【0189】
［実施例１－２－２］中間体フェノール２の合成
ブロモベンゼン１をブロモベンゼン２に変更した以外は、［実施例１－１－２］と同様な方法で中間体フェノール２を得た（収率７７％）。
ブロモベンゼン１をブロモベンゼン２に変更した以外は、［実施例１－１－２］と同様な方法で中間体フェノール２を得た（収率７７％）。
【0190】
［実施例１－２－３］保護フェノール２の合成
中間体フェノール１を中間体フェノール２に変更した以外は、［実施例１－１－３］と同様な方法で保護フェノール２を得た（収率９２％）。
中間体フェノール１を中間体フェノール２に変更した以外は、［実施例１－１－３］と同様な方法で保護フェノール２を得た（収率９２％）。
【0191】
［実施例１－２－４］フェノール２の合成
保護フェノール１を保護フェノール２に変更した以外は、［実施例１－１－４］と同様な方法でフェノール２を得た（収率８０％）。
保護フェノール１を保護フェノール２に変更した以外は、［実施例１－１－４］と同様な方法でフェノール２を得た（収率８０％）。
【0192】
［実施例１－３］フェノール３の合成
【化46】
【0193】
［実施例１－３－１］ブロモベンゼン３の合成
中間体フェノール１をブロモフェノール１に変更した以外は、［実施例１－１－３］と同様な方法でブロモベンゼン３を得た（収率９４％）。
中間体フェノール１をブロモフェノール１に変更した以外は、［実施例１－１－３］と同様な方法でブロモベンゼン３を得た（収率９４％）。
【0194】
［実施例１－３－２］フェノール３の合成
ブロモベンゼン１をブロモベンゼン３に変更した以外は、［実施例１－１－２］と同様な方法でフェノール３を得た（収率７４％）。
ＩＲ（Ｄ－ＡＴＲ）：ν＝３４０４、２９５７、２９１８、２８７２、２８５０、１５９９、１５２３、１４８２、１４７０、１４５５、１４００、１３７６、１３０５、１２８８、１２３９、１２１９、１１５３、１１１５、１０２６、９６４、８５１、８１１、８００ｃｍ－１。
１Ｈ－ＮＭＲ（６００ＭＨｚ ｉｎ ＤＭＳＯ－ｄ６）：δ＝９．３１（１Ｈ、ｓ）、６．９０（１Ｈ、ｔ）、６．５５（１Ｈ、ｄｄ）、６．４７（１Ｈ、ｄｄ）、３．８６（２Ｈ、ｔ）、１．６３（２Ｈ、ｍ）、１．１６－１．３９（１８Ｈ、ｍ）、０．８３（３Ｈ、ｔ）ｐｐｍ。
１９Ｆ－ＮＭＲ（５６５ＭＨｚ ｉｎ ＤＭＳＯ－ｄ６）：δ＝－１３２．４（１Ｆ、ｔ）ｐｐｍ。
ブロモベンゼン１をブロモベンゼン３に変更した以外は、［実施例１－１－２］と同様な方法でフェノール３を得た（収率７４％）。
ＩＲ（Ｄ－ＡＴＲ）：ν＝３４０４、２９５７、２９１８、２８７２、２８５０、１５９９、１５２３、１４８２、１４７０、１４５５、１４００、１３７６、１３０５、１２８８、１２３９、１２１９、１１５３、１１１５、１０２６、９６４、８５１、８１１、８００ｃｍ－１。
１Ｈ－ＮＭＲ（６００ＭＨｚ ｉｎ ＤＭＳＯ－ｄ６）：δ＝９．３１（１Ｈ、ｓ）、６．９０（１Ｈ、ｔ）、６．５５（１Ｈ、ｄｄ）、６．４７（１Ｈ、ｄｄ）、３．８６（２Ｈ、ｔ）、１．６３（２Ｈ、ｍ）、１．１６－１．３９（１８Ｈ、ｍ）、０．８３（３Ｈ、ｔ）ｐｐｍ。
１９Ｆ－ＮＭＲ（５６５ＭＨｚ ｉｎ ＤＭＳＯ－ｄ６）：δ＝－１３２．４（１Ｆ、ｔ）ｐｐｍ。
【0195】
［実施例１－４］フェノール４の合成
【化47】
【0196】
［実施例１－４－１］ブロモベンゼン４の合成
フルオロベンゼン１をフルオロベンゼン２に変更した以外は、［実施例１－２－１］と同様な方法でブロモベンゼン４を得た（収率９４％）。
沸点：８２－８４℃／３００Ｐａ。
フルオロベンゼン１をフルオロベンゼン２に変更した以外は、［実施例１－２－１］と同様な方法でブロモベンゼン４を得た（収率９４％）。
沸点：８２－８４℃／３００Ｐａ。
【0197】
［実施例１－４－２］中間体フェノール３の合成
ブロモベンゼン１をブロモベンゼン４に変更した以外は、［実施例１－１－２］と同様な方法で中間体フェノール３を得た（収率６２％）。
ブロモベンゼン１をブロモベンゼン４に変更した以外は、［実施例１－１－２］と同様な方法で中間体フェノール３を得た（収率６２％）。
【0198】
［実施例１－４－３］保護フェノール３の合成
中間体フェノール１を中間体フェノール３に変更した以外は、［実施例１－１－３］と同様な方法で保護フェノール３を得た（収率８８％）。
中間体フェノール１を中間体フェノール３に変更した以外は、［実施例１－１－３］と同様な方法で保護フェノール３を得た（収率８８％）。
【0199】
［実施例１－４－４］フェノール４の合成
保護フェノール１を保護フェノール３に変更した以外は、［実施例１－１－４］と同様な方法でフェノール４を得た（収率７２％）。
ＩＲ（Ｄ－ＡＴＲ）：ν＝３４２３、２９５４、２９４２、２９２０、２８５３、１６３９、１６１６、１５３１、１４７８、１４７２、１３７９、１４００、１３７９、１２４４、１２１４、１１５２、１０５４、１０３２、１０２０、８２８、８２２、８０９、７８９ｃｍ－１。
１Ｈ－ＮＭＲ（主要異性体のみ、６００ＭＨｚ ｉｎ ＤＭＳＯ－ｄ６）：δ＝１０．３２（１Ｈ、ｓ）、６．３８（１Ｈ、ｍ）、６．２７（１Ｈ、ｍ）、３．８２（２Ｈ、ｔ）、１．６３（２Ｈ、ｍ）、１．１６－１．４０（１８Ｈ、ｍ）、０．８２（３Ｈ、ｔ）ｐｐｍ。
１９Ｆ－ＮＭＲ（主要異性体のみ、５６５ＭＨｚ ｉｎ ＤＭＳＯ－ｄ６）：δ＝－１３７．４（１Ｆ、ｍ）、－１７１．７（１Ｆ、ｍ）ｐｐｍ。
保護フェノール１を保護フェノール３に変更した以外は、［実施例１－１－４］と同様な方法でフェノール４を得た（収率７２％）。
ＩＲ（Ｄ－ＡＴＲ）：ν＝３４２３、２９５４、２９４２、２９２０、２８５３、１６３９、１６１６、１５３１、１４７８、１４７２、１３７９、１４００、１３７９、１２４４、１２１４、１１５２、１０５４、１０３２、１０２０、８２８、８２２、８０９、７８９ｃｍ－１。
１Ｈ－ＮＭＲ（主要異性体のみ、６００ＭＨｚ ｉｎ ＤＭＳＯ－ｄ６）：δ＝１０．３２（１Ｈ、ｓ）、６．３８（１Ｈ、ｍ）、６．２７（１Ｈ、ｍ）、３．８２（２Ｈ、ｔ）、１．６３（２Ｈ、ｍ）、１．１６－１．４０（１８Ｈ、ｍ）、０．８２（３Ｈ、ｔ）ｐｐｍ。
１９Ｆ－ＮＭＲ（主要異性体のみ、５６５ＭＨｚ ｉｎ ＤＭＳＯ－ｄ６）：δ＝－１３７．４（１Ｆ、ｍ）、－１７１．７（１Ｆ、ｍ）ｐｐｍ。
【0200】
［実施例１－５］フェノール５の合成
【化48】
【0201】
［実施例１－５－１］ブロモベンゼン５の合成
フルオロベンゼン１をフルオロベンゼン３に変更した以外は、［実施例１－２－１］と同様な方法でブロモベンゼン５を得た（収率７７％）。
沸点：９９－１００℃／１ＫＰａ。
フルオロベンゼン１をフルオロベンゼン３に変更した以外は、［実施例１－２－１］と同様な方法でブロモベンゼン５を得た（収率７７％）。
沸点：９９－１００℃／１ＫＰａ。
【0202】
［実施例１－５－２］中間体フェノール４の合成
ブロモベンゼン１をブロモベンゼン５に変更した以外は、［実施例１－１－２］と同様な方法で中間体フェノール４を得た（収率６８％）。
ブロモベンゼン１をブロモベンゼン５に変更した以外は、［実施例１－１－２］と同様な方法で中間体フェノール４を得た（収率６８％）。
【0203】
［実施例１－５－３］保護フェノール４の合成
中間体フェノール１を中間体フェノール４に変更した以外は、［実施例１－１－３］と同様な方法で保護フェノール４を得た（収率９０％）。
中間体フェノール１を中間体フェノール４に変更した以外は、［実施例１－１－３］と同様な方法で保護フェノール４を得た（収率９０％）。
【0204】
［実施例１－５－４］フェノール５の合成
保護フェノール１を保護フェノール４に変更した以外は、［実施例１－１－４］と同様な方法でフェノール５を得た（収率８１％）。
ＩＲ（Ｄ－ＡＴＲ）：ν＝３５９１、３４４６、２９２６、２８５５、１６０５、１５０７、１４６８、１３９１、１２５４、１２０４、１１７２、１０２６、９８３、９１２、８３６、７９２ｃｍ－１。
１Ｈ－ＮＭＲ（６００ＭＨｚ ｉｎ ＤＭＳＯ－ｄ６）：δ＝１０．０６（１Ｈ、ｓ）、７．０８（１Ｈ、ｄ）、６．４９（１Ｈ、ｄ）、６．３４（１Ｈ、ｄｄ）、３．８６（２Ｈ、ｔ）、１．６４（２Ｈ、ｍ）、１．１５－１．３８（１８Ｈ、ｍ）、０．８３（３Ｈ、ｔ）ｐｐｍ。
１９Ｆ－ＮＭＲ（５６５ＭＨｚ ｉｎ ＤＭＳＯ－ｄ６）：δ＝－５７．５（３Ｆ、ｔ）ｐｐｍ。
保護フェノール１を保護フェノール４に変更した以外は、［実施例１－１－４］と同様な方法でフェノール５を得た（収率８１％）。
ＩＲ（Ｄ－ＡＴＲ）：ν＝３５９１、３４４６、２９２６、２８５５、１６０５、１５０７、１４６８、１３９１、１２５４、１２０４、１１７２、１０２６、９８３、９１２、８３６、７９２ｃｍ－１。
１Ｈ－ＮＭＲ（６００ＭＨｚ ｉｎ ＤＭＳＯ－ｄ６）：δ＝１０．０６（１Ｈ、ｓ）、７．０８（１Ｈ、ｄ）、６．４９（１Ｈ、ｄ）、６．３４（１Ｈ、ｄｄ）、３．８６（２Ｈ、ｔ）、１．６４（２Ｈ、ｍ）、１．１５－１．３８（１８Ｈ、ｍ）、０．８３（３Ｈ、ｔ）ｐｐｍ。
１９Ｆ－ＮＭＲ（５６５ＭＨｚ ｉｎ ＤＭＳＯ－ｄ６）：δ＝－５７．５（３Ｆ、ｔ）ｐｐｍ。
【0205】
［実施例１－６］フェノール６の合成
【化49】
【0206】
［実施例１－６－１］ブロモベンゼン６の合成
ブロモフェノール１をブロモフェノール２に変更した以外は、［実施例１－１－１］と同様な方法でブロモベンゼン６を得た（収率７７％）。
沸点：６６℃／６Ｐａ。
ブロモフェノール１をブロモフェノール２に変更した以外は、［実施例１－１－１］と同様な方法でブロモベンゼン６を得た（収率７７％）。
沸点：６６℃／６Ｐａ。
【0207】
［実施例１－６－２］中間体フェノール５の合成
ブロモベンゼン１をブロモベンゼン６に変更した以外は、［実施例１－１－２］と同様な方法で中間体フェノール５を得た（収率６２％）。
ブロモベンゼン１をブロモベンゼン６に変更した以外は、［実施例１－１－２］と同様な方法で中間体フェノール５を得た（収率６２％）。
【0208】
［実施例１－６－３］保護フェノール５の合成
中間体フェノール１を中間体フェノール５に変更した以外は、［実施例１－１－３］と同様な方法で保護フェノール５を得た（収率９１％）。
中間体フェノール１を中間体フェノール５に変更した以外は、［実施例１－１－３］と同様な方法で保護フェノール５を得た（収率９１％）。
【0209】
［実施例１－６－４］フェノール６の合成
保護フェノール１を保護フェノール５に変更した以外は、［実施例１－１－４］と同様な方法でフェノール６を得た（収率７６％）。
ＩＲ（Ｄ－ＡＴＲ）：ν＝３２９０、２９５６、２９１８、２８７３、２８４９、１６１５、１５２６、１５０２、１４７０、１４２０、１３９８、１２８４、１２６５、１２１６、１１８０、１０８９、１０６２、１０５３、１０４２、１０３０、１０１６、９７５、９４５、８０２ｃｍ－１。
１Ｈ－ＮＭＲ（６００ＭＨｚ ｉｎ ＤＭＳＯ－ｄ６）：δ＝９．７４（１Ｈ、ｓ）、６．７０（２Ｈ、ｄｔ）、３．９１（２Ｈ、ｔ）、１．６４（２Ｈ、ｍ）、１．３２－１．３９（２Ｈ、ｍ）、１．１６－１．３２（１６Ｈ、ｍ）、０．８２（３Ｈ、ｔ）ｐｐｍ。
１９Ｆ－ＮＭＲ（５６５ＭＨｚ ｉｎ ＤＭＳＯ－ｄ６）：δ＝－１５８．１～－１５７．９（１Ｆ、ｍ）、－１５９．３～－１５９．１（１Ｆ、ｍ）ｐｐｍ。
保護フェノール１を保護フェノール５に変更した以外は、［実施例１－１－４］と同様な方法でフェノール６を得た（収率７６％）。
ＩＲ（Ｄ－ＡＴＲ）：ν＝３２９０、２９５６、２９１８、２８７３、２８４９、１６１５、１５２６、１５０２、１４７０、１４２０、１３９８、１２８４、１２６５、１２１６、１１８０、１０８９、１０６２、１０５３、１０４２、１０３０、１０１６、９７５、９４５、８０２ｃｍ－１。
１Ｈ－ＮＭＲ（６００ＭＨｚ ｉｎ ＤＭＳＯ－ｄ６）：δ＝９．７４（１Ｈ、ｓ）、６．７０（２Ｈ、ｄｔ）、３．９１（２Ｈ、ｔ）、１．６４（２Ｈ、ｍ）、１．３２－１．３９（２Ｈ、ｍ）、１．１６－１．３２（１６Ｈ、ｍ）、０．８２（３Ｈ、ｔ）ｐｐｍ。
１９Ｆ－ＮＭＲ（５６５ＭＨｚ ｉｎ ＤＭＳＯ－ｄ６）：δ＝－１５８．１～－１５７．９（１Ｆ、ｍ）、－１５９．３～－１５９．１（１Ｆ、ｍ）ｐｐｍ。
【0210】
［実施例１－７］フェノール７の合成
【化50】
【0211】
［実施例１－７－１］フェノール７の合成
窒素雰囲気下、ジヒドロキシベンゼン１（５５．９ｇ）、炭酸カリウム（４１．５ｇ）、ヨウ化ナトリウム（１００ｍｇ）、ジメチルホルムアルデヒド（３００ｇ）のスラリー溶液へ、エーテル化剤２（１９．３ｇ）を６０～８０℃にて加えた。そのままの温度にて３時間撹拌した後、水（４００ｇ）を滴下して反応を停止した。通常の水系後処理（ａｑｕｅｏｕｓ ｗｏｒｋ－ｕｐ）を行った。酢酸エチル／ｎ－ヘキサン混合溶剤より再結晶を行い、フェノール７（１５．４ｇ、収率５２％）を得た。
窒素雰囲気下、ジヒドロキシベンゼン１（５５．９ｇ）、炭酸カリウム（４１．５ｇ）、ヨウ化ナトリウム（１００ｍｇ）、ジメチルホルムアルデヒド（３００ｇ）のスラリー溶液へ、エーテル化剤２（１９．３ｇ）を６０～８０℃にて加えた。そのままの温度にて３時間撹拌した後、水（４００ｇ）を滴下して反応を停止した。通常の水系後処理（ａｑｕｅｏｕｓ ｗｏｒｋ－ｕｐ）を行った。酢酸エチル／ｎ－ヘキサン混合溶剤より再結晶を行い、フェノール７（１５．４ｇ、収率５２％）を得た。
【0212】
［実施例１－８］フェノール８の合成
【化51】
【0213】
［実施例１－８－１］フェノール８の合成
ジヒドロキシベンゼン１をジヒドロキシベンゼン２に、エーテル化剤２をエーテル化剤１に変更した以外は、［実施例１－７－１］と同様な方法でフェノール８を得た（収率４３％）。
ジヒドロキシベンゼン１をジヒドロキシベンゼン２に、エーテル化剤２をエーテル化剤１に変更した以外は、［実施例１－７－１］と同様な方法でフェノール８を得た（収率４３％）。
【0214】
［実施例１－９］フェノール９の合成
【化52】
【0215】
［実施例１－９－１］フェノール９の合成
ジヒドロキシベンゼン１をジヒドロキシベンゼン３に、エーテル化剤２をエーテル化剤１に変更した以外は、［実施例１－７－１］と同様な方法でフェノール９を得た（収率４０％）。
ジヒドロキシベンゼン１をジヒドロキシベンゼン３に、エーテル化剤２をエーテル化剤１に変更した以外は、［実施例１－７－１］と同様な方法でフェノール９を得た（収率４０％）。
【0216】
［実施例１－１０］フェノール１０の合成
【化53】
【0217】
［実施例１－１０－１］保護フェノール６の合成
エーテル化剤１をエーテル化剤３に変更した以外は、［実施例１－１－３］と同様な方法で保護フェノール６を得た（収率８３％）。
エーテル化剤１をエーテル化剤３に変更した以外は、［実施例１－１－３］と同様な方法で保護フェノール６を得た（収率８３％）。
【0218】
［実施例１－１０－２］フェノール１０の合成
保護フェノール１を保護フェノール６に変更した以外は、［実施例１－１－４］と同様な方法でフェノール１０を得た（収率９２％）。
ＩＲ（Ｄ－ＡＴＲ）：ν＝３４８３、３１８９、２９１９、２８５２、１６０５、１５２１、１４７７、１４６８、１４４９、１３９５、１３１３、１２７５、１２６３、１２４３、１２０５、１１６３、１１１３、１０４６、１０３２、１００８、９５５、８６４、８４０、７９９、７８８ｃｍ－１。
１Ｈ－ＮＭＲ（６００ＭＨｚ ｉｎ ＤＭＳＯ－ｄ６）：δ＝９．１８（１Ｈ、ｓ）、６．８２（１Ｈ、ｔ）、６．７４（１Ｈ、ｄｄ）、６．５４（１Ｈ、ｄｄ）、４．２９（１Ｈ、ｓ）、３．８３（２Ｈ、ｔ）、３．３６（２Ｈ、ｔ）、１．６３（２Ｈ、ｍ）、１．１６－１．４４（１６Ｈ、ｍ）ｐｐｍ。
１９Ｆ－ＮＭＲ（５６５ＭＨｚ ｉｎ ＤＭＳＯ－ｄ６）：δ＝－１３３．７（１Ｆ、ｔ）ｐｐｍ。
保護フェノール１を保護フェノール６に変更した以外は、［実施例１－１－４］と同様な方法でフェノール１０を得た（収率９２％）。
ＩＲ（Ｄ－ＡＴＲ）：ν＝３４８３、３１８９、２９１９、２８５２、１６０５、１５２１、１４７７、１４６８、１４４９、１３９５、１３１３、１２７５、１２６３、１２４３、１２０５、１１６３、１１１３、１０４６、１０３２、１００８、９５５、８６４、８４０、７９９、７８８ｃｍ－１。
１Ｈ－ＮＭＲ（６００ＭＨｚ ｉｎ ＤＭＳＯ－ｄ６）：δ＝９．１８（１Ｈ、ｓ）、６．８２（１Ｈ、ｔ）、６．７４（１Ｈ、ｄｄ）、６．５４（１Ｈ、ｄｄ）、４．２９（１Ｈ、ｓ）、３．８３（２Ｈ、ｔ）、３．３６（２Ｈ、ｔ）、１．６３（２Ｈ、ｍ）、１．１６－１．４４（１６Ｈ、ｍ）ｐｐｍ。
１９Ｆ－ＮＭＲ（５６５ＭＨｚ ｉｎ ＤＭＳＯ－ｄ６）：δ＝－１３３．７（１Ｆ、ｔ）ｐｐｍ。
【0219】
［実施例１－１１］フェノール１１の合成
【化54】
【0220】
［実施例１－１１－１］保護フェノール７の合成
中間体フェノール１を中間体フェノール５に、エーテル化剤１をエーテル化剤３に変更した以外は、［実施例１－１－３］と同様な方法で保護フェノール７を得た（収率８２％）。
中間体フェノール１を中間体フェノール５に、エーテル化剤１をエーテル化剤３に変更した以外は、［実施例１－１－３］と同様な方法で保護フェノール７を得た（収率８２％）。
【0221】
［実施例１－１１－２］フェノール１１の合成
保護フェノール１を保護フェノール７に変更した以外は、［実施例１－１－４］と同様な方法でフェノール１１を得た（収率９２％）。
ＩＲ（Ｄ－ＡＴＲ）：ν＝３４９４、３２１５、２９３２、２９１８、２８４９、１６１３、１５２６、１５０３、１４８０、１４７０、１４３４、１４００、１２８７、１２６４、１２１２、１１８３、１０９１、１０７７、１０５４、１０２０、１００４、９６７、９４２、８０４ｃｍ－１。
１Ｈ－ＮＭＲ（６００ＭＨｚ ｉｎ ＤＭＳＯ－ｄ６）：δ＝９．７５（１Ｈ、ｓ）、６．７０（２Ｈ、ｄｔ）、４．２８（１Ｈ、ｔ）、３．９２（２Ｈ、ｔ）、３．３５（２Ｈ、ｍ）、１．６５（２Ｈ、ｍ）、１．３２－１．４２（４Ｈ、ｍ）、１．２０－１．３２（１２Ｈ、ｍ）ｐｐｍ。
１９Ｆ－ＮＭＲ（５６５ＭＨｚ ｉｎ ＤＭＳＯ－ｄ６）：δ＝－１５８．１～－１５７．９（１Ｆ、ｍ）、－１５９．３～－１５９．１（１Ｆ、ｍ）ｐｐｍ。
保護フェノール１を保護フェノール７に変更した以外は、［実施例１－１－４］と同様な方法でフェノール１１を得た（収率９２％）。
ＩＲ（Ｄ－ＡＴＲ）：ν＝３４９４、３２１５、２９３２、２９１８、２８４９、１６１３、１５２６、１５０３、１４８０、１４７０、１４３４、１４００、１２８７、１２６４、１２１２、１１８３、１０９１、１０７７、１０５４、１０２０、１００４、９６７、９４２、８０４ｃｍ－１。
１Ｈ－ＮＭＲ（６００ＭＨｚ ｉｎ ＤＭＳＯ－ｄ６）：δ＝９．７５（１Ｈ、ｓ）、６．７０（２Ｈ、ｄｔ）、４．２８（１Ｈ、ｔ）、３．９２（２Ｈ、ｔ）、３．３５（２Ｈ、ｍ）、１．６５（２Ｈ、ｍ）、１．３２－１．４２（４Ｈ、ｍ）、１．２０－１．３２（１２Ｈ、ｍ）ｐｐｍ。
１９Ｆ－ＮＭＲ（５６５ＭＨｚ ｉｎ ＤＭＳＯ－ｄ６）：δ＝－１５８．１～－１５７．９（１Ｆ、ｍ）、－１５９．３～－１５９．１（１Ｆ、ｍ）ｐｐｍ。
【0222】
［実施例１－１２］フェノール１２の合成
【化55】
【0223】
［実施例１－１２－１］ブロモベンゼン７の合成
ブロモフェノール１をブロモフェノール３に変更した以外は、［実施例１－１－１］と同様な方法でブロモベンゼン７を得た（収率７２％）。
沸点：５３℃／１５Ｐａ。
ブロモフェノール１をブロモフェノール３に変更した以外は、［実施例１－１－１］と同様な方法でブロモベンゼン７を得た（収率７２％）。
沸点：５３℃／１５Ｐａ。
【0224】
［実施例１－１２－２］中間体フェノール６の合成
ブロモベンゼン１をブロモベンゼン７に変更した以外は、［実施例１－１－２］と同様な方法で中間体フェノール６を得た（収率６４％）。
１Ｈ－ＮＭＲ（６００ＭＨｚ ｉｎ ＤＭＳＯ－ｄ６）：δ＝９．９９（１Ｈ、ｓ）、６．４４（２Ｈ、ｍ）、１．６２（２Ｈ、ｍ）、１．１５（６Ｈ、ｓ）、０．９４（３Ｈ、ｔ）ｐｐｍ。
１９Ｆ－ＮＭＲ（５６５ＭＨｚ ｉｎ ＤＭＳＯ－ｄ６）：δ＝－１２２．９（２Ｆ、ｄ）ｐｐｍ。
ブロモベンゼン１をブロモベンゼン７に変更した以外は、［実施例１－１－２］と同様な方法で中間体フェノール６を得た（収率６４％）。
１Ｈ－ＮＭＲ（６００ＭＨｚ ｉｎ ＤＭＳＯ－ｄ６）：δ＝９．９９（１Ｈ、ｓ）、６．４４（２Ｈ、ｍ）、１．６２（２Ｈ、ｍ）、１．１５（６Ｈ、ｓ）、０．９４（３Ｈ、ｔ）ｐｐｍ。
１９Ｆ－ＮＭＲ（５６５ＭＨｚ ｉｎ ＤＭＳＯ－ｄ６）：δ＝－１２２．９（２Ｆ、ｄ）ｐｐｍ。
【0225】
［実施例１－１２－３］保護フェノール８の合成
中間体フェノール１を中間体フェノール６に、エーテル化剤１をエーテル化剤３に変更した以外は、［実施例１－１－３］と同様な方法で保護フェノール８を得た（収率８９％）。
中間体フェノール１を中間体フェノール６に、エーテル化剤１をエーテル化剤３に変更した以外は、［実施例１－１－３］と同様な方法で保護フェノール８を得た（収率８９％）。
【0226】
［実施例１－１２－４］フェノール１２の合成
保護フェノール１を保護フェノール８に変更した以外は、［実施例１－１－４］と同様な方法でフェノール１２を得た（収率７３％）。
ＩＲ（Ｄ－ＡＴＲ）：ν＝３５３２、３１０１、２９２２、２８５３、２８０１、１６４９、１６１３、１５３０、１４６８、１４５７、１４２６、１３９７、１２６８、１２５４、１２３９、１２００、１１５６、１０４６、１０３６、１０１８、８５５、８１７、８０４ｃｍ－１。
１Ｈ－ＮＭＲ（６００ＭＨｚ ｉｎ ＤＭＳＯ－ｄ６）：δ＝９．３８（１Ｈ、ｓ）、６．６３（２Ｈ、ｍ）、４．３０（１Ｈ、ｓ）、３．８５（２Ｈ、ｔ）、３．３６（２Ｈ、ｔ）、１．６３（２Ｈ、ｍ）、１．３２－１．４２（４Ｈ、ｍ）、１．２０－１．３２（１２Ｈ、ｍ）ｐｐｍ。
１９Ｆ－ＮＭＲ（５６５ＭＨｚ ｉｎ ＤＭＳＯ－ｄ６）：δ＝－１３１．０（１Ｆ、ｄ）ｐｐｍ。
保護フェノール１を保護フェノール８に変更した以外は、［実施例１－１－４］と同様な方法でフェノール１２を得た（収率７３％）。
ＩＲ（Ｄ－ＡＴＲ）：ν＝３５３２、３１０１、２９２２、２８５３、２８０１、１６４９、１６１３、１５３０、１４６８、１４５７、１４２６、１３９７、１２６８、１２５４、１２３９、１２００、１１５６、１０４６、１０３６、１０１８、８５５、８１７、８０４ｃｍ－１。
１Ｈ－ＮＭＲ（６００ＭＨｚ ｉｎ ＤＭＳＯ－ｄ６）：δ＝９．３８（１Ｈ、ｓ）、６．６３（２Ｈ、ｍ）、４．３０（１Ｈ、ｓ）、３．８５（２Ｈ、ｔ）、３．３６（２Ｈ、ｔ）、１．６３（２Ｈ、ｍ）、１．３２－１．４２（４Ｈ、ｍ）、１．２０－１．３２（１２Ｈ、ｍ）ｐｐｍ。
１９Ｆ－ＮＭＲ（５６５ＭＨｚ ｉｎ ＤＭＳＯ－ｄ６）：δ＝－１３１．０（１Ｆ、ｄ）ｐｐｍ。
【0227】
［実施例１－１３］フェノール１３の合成
【化56】
【0228】
［実施例１－１３－１］フェノール１３の合成
ジヒドロキシベンゼン１をヒドロキノンに、エーテル化剤２をエーテル化剤４に変更した以外は、［実施例１－７－１］と同様な方法でフェノール１３を得た（収率５９％）。
ジヒドロキシベンゼン１をヒドロキノンに、エーテル化剤２をエーテル化剤４に変更した以外は、［実施例１－７－１］と同様な方法でフェノール１３を得た（収率５９％）。
【0229】
［実施例１－１４］フェノール１４の合成
【化57】
【0230】
［実施例１－１４－１］保護フェノール９の合成
エーテル化剤１をエーテル化剤４に変更した以外は、［実施例１－１－３］と同様な方法で保護フェノール９を得た（収率９４％）。
エーテル化剤１をエーテル化剤４に変更した以外は、［実施例１－１－３］と同様な方法で保護フェノール９を得た（収率９４％）。
【0231】
［実施例１－１４－２］フェノール１４の合成
保護フェノール１を保護フェノール９に変更した以外は、［実施例１－１－４］と同様な方法でフェノール１４を得た（収率９０％）。
ＩＲ（Ｄ－ＡＴＲ）：ν＝３３８０、２９４４、２８６９、１６４２、１６０６、１５１６、１４７７、１４４６、１３９４、１３６８、１３１７、１２６３、１２４２、１１９５、１１６２、１１０９、１０２３、９６９、９５６、８６７、８３８、７９６ｃｍ－１。
１Ｈ－ＮＭＲ（６００ＭＨｚ ｉｎ ＤＭＳＯ－ｄ６）：δ＝９．１９（２Ｈ、ｓ）、６．８２（２Ｈ、ｔ）、６．７５（２Ｈ、ｄｄ）、６．５５（２Ｈ、ｄｄ）、３．８５（４Ｈ、ｔ）、１．６６（４Ｈ、ｑｕｉｎ）、１．４２（４Ｈ、ｍ）ｐｐｍ。
１９Ｆ－ＮＭＲ（５６５ＭＨｚ ｉｎ ＤＭＳＯ－ｄ６）：δ＝－１３３．６（２Ｆ、ｔ）ｐｐｍ。
保護フェノール１を保護フェノール９に変更した以外は、［実施例１－１－４］と同様な方法でフェノール１４を得た（収率９０％）。
ＩＲ（Ｄ－ＡＴＲ）：ν＝３３８０、２９４４、２８６９、１６４２、１６０６、１５１６、１４７７、１４４６、１３９４、１３６８、１３１７、１２６３、１２４２、１１９５、１１６２、１１０９、１０２３、９６９、９５６、８６７、８３８、７９６ｃｍ－１。
１Ｈ－ＮＭＲ（６００ＭＨｚ ｉｎ ＤＭＳＯ－ｄ６）：δ＝９．１９（２Ｈ、ｓ）、６．８２（２Ｈ、ｔ）、６．７５（２Ｈ、ｄｄ）、６．５５（２Ｈ、ｄｄ）、３．８５（４Ｈ、ｔ）、１．６６（４Ｈ、ｑｕｉｎ）、１．４２（４Ｈ、ｍ）ｐｐｍ。
１９Ｆ－ＮＭＲ（５６５ＭＨｚ ｉｎ ＤＭＳＯ－ｄ６）：δ＝－１３３．６（２Ｆ、ｔ）ｐｐｍ。
【0232】
［実施例１－１５］フェノール１５の合成
【化58】
【0233】
［実施例１－１５－１］保護フェノール１０の合成
エーテル化剤１をエーテル化剤５に変更した以外は、［実施例１－１－３］と同様な方法で保護フェノール１０を得た（収率９２％）。
エーテル化剤１をエーテル化剤５に変更した以外は、［実施例１－１－３］と同様な方法で保護フェノール１０を得た（収率９２％）。
【0234】
［実施例１－１５－２］フェノール１５の合成
保護フェノール１を保護フェノール１０に変更した以外は、［実施例１－１－４］と同様な方法でフェノール１５を得た（収率８７％）。
ＩＲ（Ｄ－ＡＴＲ）：ν＝３３８５、２９４１、２９２３、２８５６、１６０８、１５１４、１４７９、１４６８、１４５５、１２８８、１２７６、１２５３、１２０３、１１５６、１１１０、１０４２、１０２２、９８８、９５６、８４２、８１８、８０２、７８７、７４８ｃｍ－１。
１Ｈ－ＮＭＲ（６００ＭＨｚ ｉｎ ＤＭＳＯ－ｄ６）：δ＝９．１８（２Ｈ、ｓ）、６．８２（２Ｈ、ｔ）、６．７４（２Ｈ、ｄｄ）、６．５５（２Ｈ、ｄｄ）、３．８３（４Ｈ、ｔ）、１．６６（４Ｈ、ｑｕｉｎ）、１．２０－１．４１（１２Ｈ、ｍ）ｐｐｍ。
１９Ｆ－ＮＭＲ（５６５ＭＨｚ ｉｎ ＤＭＳＯ－ｄ６）：δ＝－１３３．７（２Ｆ、ｔ）ｐｐｍ。
保護フェノール１を保護フェノール１０に変更した以外は、［実施例１－１－４］と同様な方法でフェノール１５を得た（収率８７％）。
ＩＲ（Ｄ－ＡＴＲ）：ν＝３３８５、２９４１、２９２３、２８５６、１６０８、１５１４、１４７９、１４６８、１４５５、１２８８、１２７６、１２５３、１２０３、１１５６、１１１０、１０４２、１０２２、９８８、９５６、８４２、８１８、８０２、７８７、７４８ｃｍ－１。
１Ｈ－ＮＭＲ（６００ＭＨｚ ｉｎ ＤＭＳＯ－ｄ６）：δ＝９．１８（２Ｈ、ｓ）、６．８２（２Ｈ、ｔ）、６．７４（２Ｈ、ｄｄ）、６．５５（２Ｈ、ｄｄ）、３．８３（４Ｈ、ｔ）、１．６６（４Ｈ、ｑｕｉｎ）、１．２０－１．４１（１２Ｈ、ｍ）ｐｐｍ。
１９Ｆ－ＮＭＲ（５６５ＭＨｚ ｉｎ ＤＭＳＯ－ｄ６）：δ＝－１３３．７（２Ｆ、ｔ）ｐｐｍ。
【0235】
［実施例１－１６］フェノール１６の合成
【化59】
【0236】
［実施例１－１６－１］保護フェノール１１の合成
中間体フェノール１を中間体フェノール２に、エーテル化剤１をエーテル化剤５に変更した以外は、［実施例１－１－３］と同様な方法で保護フェノール１１を得た（収率８９％）。
中間体フェノール１を中間体フェノール２に、エーテル化剤１をエーテル化剤５に変更した以外は、［実施例１－１－３］と同様な方法で保護フェノール１１を得た（収率８９％）。
【0237】
［実施例１－１６－２］フェノール１６の合成
保護フェノール１を保護フェノール１１に変更した以外は、［実施例１－１－４］と同様な方法でフェノール１６を得た（収率８５％）。
ＩＲ（Ｄ－ＡＴＲ）：ν＝３５６２、３５３７、３４１７、２９４１、２９２１、２８８４、２８６８、２８５４、１７０６、１６２３、１６１５、１５３１、１５１６、１４７７、１４６６、１４４５、１３９６、１３５０、１２９９、１２５６、１２２９、１１８４、１１６１、１１１２、１０４５、１０２１、９８３、９３１、８５４、８３８、７８６、７７２、７５７ｃｍ－１。
１Ｈ－ＮＭＲ（６００ＭＨｚ ｉｎ ＤＭＳＯ－ｄ６）：δ＝９．７６（２Ｈ、ｓ）、６．９７（２Ｈ、ｔ）、６．４６（２Ｈ、ｄｄ）、６．２７（２Ｈ、ｄｄ）、３．８２（４Ｈ、ｔ）、１．６４（４Ｈ、ｑｕｉｎ）、１．２１－１．４０（１２Ｈ、ｍ）ｐｐｍ。
１９Ｆ－ＮＭＲ（５６５ＭＨｚ ｉｎ ＤＭＳＯ－ｄ６）：δ＝－１４６．６～－１４６．５（２Ｆ、ｍ）ｐｐｍ。
保護フェノール１を保護フェノール１１に変更した以外は、［実施例１－１－４］と同様な方法でフェノール１６を得た（収率８５％）。
ＩＲ（Ｄ－ＡＴＲ）：ν＝３５６２、３５３７、３４１７、２９４１、２９２１、２８８４、２８６８、２８５４、１７０６、１６２３、１６１５、１５３１、１５１６、１４７７、１４６６、１４４５、１３９６、１３５０、１２９９、１２５６、１２２９、１１８４、１１６１、１１１２、１０４５、１０２１、９８３、９３１、８５４、８３８、７８６、７７２、７５７ｃｍ－１。
１Ｈ－ＮＭＲ（６００ＭＨｚ ｉｎ ＤＭＳＯ－ｄ６）：δ＝９．７６（２Ｈ、ｓ）、６．９７（２Ｈ、ｔ）、６．４６（２Ｈ、ｄｄ）、６．２７（２Ｈ、ｄｄ）、３．８２（４Ｈ、ｔ）、１．６４（４Ｈ、ｑｕｉｎ）、１．２１－１．４０（１２Ｈ、ｍ）ｐｐｍ。
１９Ｆ－ＮＭＲ（５６５ＭＨｚ ｉｎ ＤＭＳＯ－ｄ６）：δ＝－１４６．６～－１４６．５（２Ｆ、ｍ）ｐｐｍ。
【0238】
［実施例１－１７］フェノール１７の合成
【化60】
【0239】
［実施例１－１７－１］保護フェノール１２の合成
中間体フェノール１を中間体フェノール６に、エーテル化剤１をエーテル化剤５に変更した以外は、［実施例１－１－３］と同様な方法で保護フェノール１２を得た（収率８８％）。
中間体フェノール１を中間体フェノール６に、エーテル化剤１をエーテル化剤５に変更した以外は、［実施例１－１－３］と同様な方法で保護フェノール１２を得た（収率８８％）。
【0240】
［実施例１－１７－２］フェノール１７の合成
保護フェノール１を保護フェノール１２に変更した以外は、［実施例１－１－４］と同様な方法でフェノール１７を得た（収率８４％）。
ＩＲ（Ｄ－ＡＴＲ）：ν＝３４０１、２９４２、２９２３、２８５６、１６４８、１６１６、１５２８、１４７９、１４６９、１４５９、１３７８、１２４７、１２０２、１１４８、１０４５、１０２３、１０１７、８２３、８０２ｃｍ－１。
１Ｈ－ＮＭＲ（６００ＭＨｚ ｉｎ ＤＭＳＯ－ｄ６）：δ＝９．３８（２Ｈ、ｓ）、６．６４（４Ｈ、ｍ）、３．８５（４Ｈ、ｔ）、３．３６（２Ｈ、ｔ）、１．６４（４Ｈ、ｍ）、１．３２－１．４２（４Ｈ、ｍ）、１．１８－１．４０（１２Ｈ、ｍ）ｐｐｍ。
１９Ｆ－ＮＭＲ（５６５ＭＨｚ ｉｎ ＤＭＳＯ－ｄ６）：δ＝－１３１．０（４Ｆ、ｄ）ｐｐｍ。
保護フェノール１を保護フェノール１２に変更した以外は、［実施例１－１－４］と同様な方法でフェノール１７を得た（収率８４％）。
ＩＲ（Ｄ－ＡＴＲ）：ν＝３４０１、２９４２、２９２３、２８５６、１６４８、１６１６、１５２８、１４７９、１４６９、１４５９、１３７８、１２４７、１２０２、１１４８、１０４５、１０２３、１０１７、８２３、８０２ｃｍ－１。
１Ｈ－ＮＭＲ（６００ＭＨｚ ｉｎ ＤＭＳＯ－ｄ６）：δ＝９．３８（２Ｈ、ｓ）、６．６４（４Ｈ、ｍ）、３．８５（４Ｈ、ｔ）、３．３６（２Ｈ、ｔ）、１．６４（４Ｈ、ｍ）、１．３２－１．４２（４Ｈ、ｍ）、１．１８－１．４０（１２Ｈ、ｍ）ｐｐｍ。
１９Ｆ－ＮＭＲ（５６５ＭＨｚ ｉｎ ＤＭＳＯ－ｄ６）：δ＝－１３１．０（４Ｆ、ｄ）ｐｐｍ。
【0241】
［実施例１－１８］フェノール１８の合成
【化61】
【0242】
［実施例１－１８－１］保護フェノール１３の合成
窒素雰囲気下、ブロモベンゼン１（６７．９ｇ）、マグネシウム（６．６ｇ）及びテトラヒドロフラン２６０ｍＬを用いて予め調製したＧｒｉｇｎａｒｄ試薬を、内温４０～６０℃にて、エーテル化剤５（３０．０ｇ）、塩化第二銅（０．８０ｇ）、テトラヒドロフラン（１５０ｍＬ）のスラリー溶液に滴下した。そのままの反応温度にて２０時間撹拌を続けた。その後内温３０℃以下にて、飽和塩化アンモニウム水溶液（１８．０ｇ）を加え、反応を停止した。通常の後処理方法を行い、保護フェノール１３（７２．７ｇ、収率７２％）を得た。
窒素雰囲気下、ブロモベンゼン１（６７．９ｇ）、マグネシウム（６．６ｇ）及びテトラヒドロフラン２６０ｍＬを用いて予め調製したＧｒｉｇｎａｒｄ試薬を、内温４０～６０℃にて、エーテル化剤５（３０．０ｇ）、塩化第二銅（０．８０ｇ）、テトラヒドロフラン（１５０ｍＬ）のスラリー溶液に滴下した。そのままの反応温度にて２０時間撹拌を続けた。その後内温３０℃以下にて、飽和塩化アンモニウム水溶液（１８．０ｇ）を加え、反応を停止した。通常の後処理方法を行い、保護フェノール１３（７２．７ｇ、収率７２％）を得た。
【0243】
［実施例１－１８－２］フェノール１８の合成
保護フェノール１を保護フェノール１３に変更した以外は、［実施例１－１－４］と同様な方法でフェノール１８を得た（収率７７％）。
ＩＲ（Ｄ－ＡＴＲ）：ν＝３４０６、２９２３、２８５２、１６２８、１６０２、１５１６、１４７０、１４６０、１４４８、１３５５、１３２６、１２８４、１２４５、１２２７、１２００、１１４３、１１１７、１１０１、１０５２、９３７、８６４、８２５、７９０、７４４ｃｍ－１。
１Ｈ－ＮＭＲ（６００ＭＨｚ ｉｎ ＤＭＳＯ－ｄ６）：δ＝９．４６（２Ｈ、ｓ）、６．９１（２Ｈ、ｄｄ）、６．８１（２Ｈ、ｔ）、６．７５（２Ｈ、ｄｄ）、２．４３（４Ｈ、ｔ）、１．４８（４Ｈ、ｍ）、１．２１（１２Ｈ、ｍ）ｐｐｍ。
１９Ｆ－ＮＭＲ（５６５ＭＨｚ ｉｎ ＤＭＳＯ－ｄ６）：δ＝－１３６．８（２Ｆ、ｔ）ｐｐｍ。
保護フェノール１を保護フェノール１３に変更した以外は、［実施例１－１－４］と同様な方法でフェノール１８を得た（収率７７％）。
ＩＲ（Ｄ－ＡＴＲ）：ν＝３４０６、２９２３、２８５２、１６２８、１６０２、１５１６、１４７０、１４６０、１４４８、１３５５、１３２６、１２８４、１２４５、１２２７、１２００、１１４３、１１１７、１１０１、１０５２、９３７、８６４、８２５、７９０、７４４ｃｍ－１。
１Ｈ－ＮＭＲ（６００ＭＨｚ ｉｎ ＤＭＳＯ－ｄ６）：δ＝９．４６（２Ｈ、ｓ）、６．９１（２Ｈ、ｄｄ）、６．８１（２Ｈ、ｔ）、６．７５（２Ｈ、ｄｄ）、２．４３（４Ｈ、ｔ）、１．４８（４Ｈ、ｍ）、１．２１（１２Ｈ、ｍ）ｐｐｍ。
１９Ｆ－ＮＭＲ（５６５ＭＨｚ ｉｎ ＤＭＳＯ－ｄ６）：δ＝－１３６．８（２Ｆ、ｔ）ｐｐｍ。
【0244】
［実施例１－１９］フェノール１９の合成
【化62】
【0245】
［実施例１－１９－１］保護フェノール１４の合成
窒素雰囲気下、ブロモベンゼン１（１７．０ｇ）、マグネシウム（１．７ｇ）及びテトラヒドロフラン４０ｍＬを用いて予め調製したＧｒｉｇｎａｒｄ試薬に、内温３０℃以下にて、ケトン１（１０．２ｇ）、テトラヒドロフラン（５０ｍＬ）の溶液を滴下した。そのままの反応温度にて３時間撹拌を続けた。その後内温３０℃以下にて、飽和塩化アンモニウム水溶液（４０．０ｇ）を加え、反応を停止した。通常の後処理方法を行い、保護フェノール１４（２２．４ｇ、収率９４％）を得た。
窒素雰囲気下、ブロモベンゼン１（１７．０ｇ）、マグネシウム（１．７ｇ）及びテトラヒドロフラン４０ｍＬを用いて予め調製したＧｒｉｇｎａｒｄ試薬に、内温３０℃以下にて、ケトン１（１０．２ｇ）、テトラヒドロフラン（５０ｍＬ）の溶液を滴下した。そのままの反応温度にて３時間撹拌を続けた。その後内温３０℃以下にて、飽和塩化アンモニウム水溶液（４０．０ｇ）を加え、反応を停止した。通常の後処理方法を行い、保護フェノール１４（２２．４ｇ、収率９４％）を得た。
【0246】
［実施例１－１９－２］フェノール１９の合成
保護フェノール１を保護フェノール１４に変更した以外は、［実施例１－１－４］と同様な方法でフェノール１９を得た（収率９５％）。
ＩＲ（Ｄ－ＡＴＲ）：ν＝３４１５、２９５６、２９２４、２８５４、１６２０、１５９４、１５１４、１４９４、１４４３、１４２９、１３６１、１２８０、１２２０、１１７７、１１０２、１０７３、１０２９、９６２、８７４、８２０、７８０、７６３、７０１ｃｍ－１。
１Ｈ－ＮＭＲ（６００ＭＨｚ ｉｎ ＤＭＳＯ－ｄ６）：δ＝９．８４（１Ｈ、ｓ）、７．３８（１Ｈ、ｔ）、７．１８～７．３４（２Ｈ、ｍ）、７．１２（２Ｈ、ｄｄ）、６．７９～６．９８（２Ｈ、ｍ）、６．７３（１Ｈ、ｔ）、６．１１（１Ｈ、ｔ）、２．０４（１Ｈ、ｑ）、１．９５（１Ｈ、ｑ）、１．３１～１．４１（２Ｈ、ｍ）、１．１１～１．２８（６Ｈ、ｍ）、０．８０（３Ｈ、ｔ）ｐｐｍ。
１９Ｆ－ＮＭＲ（５６５ＭＨｚ ｉｎ ＤＭＳＯ－ｄ６）：δ＝－１３６．７～１３６．６（１Ｆ、ｍ）ｐｐｍ。
保護フェノール１を保護フェノール１４に変更した以外は、［実施例１－１－４］と同様な方法でフェノール１９を得た（収率９５％）。
ＩＲ（Ｄ－ＡＴＲ）：ν＝３４１５、２９５６、２９２４、２８５４、１６２０、１５９４、１５１４、１４９４、１４４３、１４２９、１３６１、１２８０、１２２０、１１７７、１１０２、１０７３、１０２９、９６２、８７４、８２０、７８０、７６３、７０１ｃｍ－１。
１Ｈ－ＮＭＲ（６００ＭＨｚ ｉｎ ＤＭＳＯ－ｄ６）：δ＝９．８４（１Ｈ、ｓ）、７．３８（１Ｈ、ｔ）、７．１８～７．３４（２Ｈ、ｍ）、７．１２（２Ｈ、ｄｄ）、６．７９～６．９８（２Ｈ、ｍ）、６．７３（１Ｈ、ｔ）、６．１１（１Ｈ、ｔ）、２．０４（１Ｈ、ｑ）、１．９５（１Ｈ、ｑ）、１．３１～１．４１（２Ｈ、ｍ）、１．１１～１．２８（６Ｈ、ｍ）、０．８０（３Ｈ、ｔ）ｐｐｍ。
１９Ｆ－ＮＭＲ（５６５ＭＨｚ ｉｎ ＤＭＳＯ－ｄ６）：δ＝－１３６．７～１３６．６（１Ｆ、ｍ）ｐｐｍ。
【0247】
［実施例１－２０］フェノール２０の合成
【化63】
【0248】
［実施例１－２０－１］保護フェノール１５の合成
窒素雰囲気下、中間体フェノール１（１０．０ｇ）、トリエチルアミン（６．５ｇ）、アセトニトリル（３０ｇ）の溶液に、内温２０～４０℃にて、酸クロ１（５．８ｇ）、アセトニトリル（１０ｇ）の溶液を滴下した。そのままの反応温度にて３時間撹拌を続けた。その後内温３０℃以下にて、水（４０ｇ）を加え、反応を停止した。通常の後処理方法を行い、保護フェノール１５（１４．２ｇ、収率９６％）を得た。
窒素雰囲気下、中間体フェノール１（１０．０ｇ）、トリエチルアミン（６．５ｇ）、アセトニトリル（３０ｇ）の溶液に、内温２０～４０℃にて、酸クロ１（５．８ｇ）、アセトニトリル（１０ｇ）の溶液を滴下した。そのままの反応温度にて３時間撹拌を続けた。その後内温３０℃以下にて、水（４０ｇ）を加え、反応を停止した。通常の後処理方法を行い、保護フェノール１５（１４．２ｇ、収率９６％）を得た。
【0249】
［実施例１－２０－２］フェノール２０の合成
保護フェノール１を保護フェノール１５に変更した以外は、［実施例１－１－４］と同様な方法でフェノール２０を得た（収率８７％）。
ＩＲ（Ｄ－ＡＴＲ）：ν＝３３９０、３０７５、２９３４、２８５７、１７４３、１６０９、１５１８、１４６７、１４４８、１４０８、１３８１、１３６３、１２９７、１２６５、１２１４、１１９０、１１４９、１１０５、９６４、９２３、８６３、８２２、７９５ｃｍ－１。
１Ｈ－ＮＭＲ（６００ＭＨｚ ｉｎ ＤＭＳＯ－ｄ６）：δ＝９．８１（１Ｈ、ｓ）、６．９６（２Ｈ、ｄｔ）、６．９１（２Ｈ、ｔ）、６．７２（２Ｈ、ｍ）、２．４７（４Ｈ、ｔ）、１．５８（４Ｈ、ｍ）、１．２７（８Ｈ、ｍ）ｐｐｍ。
１９Ｆ－ＮＭＲ（５６５ＭＨｚ ｉｎ ＤＭＳＯ－ｄ６）：δ＝－１３４．０（１Ｆ、ｔ）ｐｐｍ。
保護フェノール１を保護フェノール１５に変更した以外は、［実施例１－１－４］と同様な方法でフェノール２０を得た（収率８７％）。
ＩＲ（Ｄ－ＡＴＲ）：ν＝３３９０、３０７５、２９３４、２８５７、１７４３、１６０９、１５１８、１４６７、１４４８、１４０８、１３８１、１３６３、１２９７、１２６５、１２１４、１１９０、１１４９、１１０５、９６４、９２３、８６３、８２２、７９５ｃｍ－１。
１Ｈ－ＮＭＲ（６００ＭＨｚ ｉｎ ＤＭＳＯ－ｄ６）：δ＝９．８１（１Ｈ、ｓ）、６．９６（２Ｈ、ｄｔ）、６．９１（２Ｈ、ｔ）、６．７２（２Ｈ、ｍ）、２．４７（４Ｈ、ｔ）、１．５８（４Ｈ、ｍ）、１．２７（８Ｈ、ｍ）ｐｐｍ。
１９Ｆ－ＮＭＲ（５６５ＭＨｚ ｉｎ ＤＭＳＯ－ｄ６）：δ＝－１３４．０（１Ｆ、ｔ）ｐｐｍ。
【0250】
［実施例１－２１］フェノール２１の合成
（式中、Ｍｓはメシル基を示す。）
【化64】
【0251】
［実施例１－２１－１］保護フェノール１６の合成
エーテル化剤１をエーテル化剤６に変更した以外は、［実施例１－１－３］と同様な方法で保護フェノール１６を得た（収率８５％）。
エーテル化剤１をエーテル化剤６に変更した以外は、［実施例１－１－３］と同様な方法で保護フェノール１６を得た（収率８５％）。
【0252】
［実施例１－２１－２］フェノール２１の合成
保護フェノール１を保護フェノール１６に変更した以外は、［実施例１－１－４］と同様な方法でフェノール２１を得た（収率８１％）。
１Ｈ－ＮＭＲ（６００ＭＨｚ ｉｎ ＤＭＳＯ－ｄ６）：δ＝９．２２（２Ｈ、ｓ）、６．８３（２Ｈ、ｄｄ）、６．７８（２Ｈ、ｄｄ）、６．５７（２Ｈ、ｄｄｄ）、３．９５～３．９８（４Ｈ、ｍ）、３．６５～３．７０（４Ｈ、ｍ）、３．５０～３．５６（８Ｈ、ｍ）ｐｐｍ。
１９Ｆ－ＮＭＲ（５６５ＭＨｚ ｉｎ ＤＭＳＯ－ｄ６）：δ＝－１３６．８（２Ｆ、ｔ）ｐｐｍ。
保護フェノール１を保護フェノール１６に変更した以外は、［実施例１－１－４］と同様な方法でフェノール２１を得た（収率８１％）。
１Ｈ－ＮＭＲ（６００ＭＨｚ ｉｎ ＤＭＳＯ－ｄ６）：δ＝９．２２（２Ｈ、ｓ）、６．８３（２Ｈ、ｄｄ）、６．７８（２Ｈ、ｄｄ）、６．５７（２Ｈ、ｄｄｄ）、３．９５～３．９８（４Ｈ、ｍ）、３．６５～３．７０（４Ｈ、ｍ）、３．５０～３．５６（８Ｈ、ｍ）ｐｐｍ。
１９Ｆ－ＮＭＲ（５６５ＭＨｚ ｉｎ ＤＭＳＯ－ｄ６）：δ＝－１３６．８（２Ｆ、ｔ）ｐｐｍ。
【0253】
［実施例１－２２］フェノール２２の合成
（式中、Ｍｓはメシル基を示す。）
【化65】
【0254】
［実施例１－２２－１］保護フェノール１７の合成
エーテル化剤１をエーテル化剤７に変更した以外は、［実施例１－１－３］と同様な方法で保護フェノール１７を得た（収率６７％）。
エーテル化剤１をエーテル化剤７に変更した以外は、［実施例１－１－３］と同様な方法で保護フェノール１７を得た（収率６７％）。
【0255】
［実施例１－２２－２］フェノール２２の合成
保護フェノール１を保護フェノール１７に変更した以外は、［実施例１－１－４］と同様な方法でフェノール２２を得た（収率９０％）。
保護フェノール１を保護フェノール１７に変更した以外は、［実施例１－１－４］と同様な方法でフェノール２２を得た（収率９０％）。
【0256】
［実施例１－２３］フェノール２３の合成
【化66】
【0257】
［実施例１－２３－１］エーテル化剤８の合成
窒素雰囲気下、シラン１（３０．７ｇ）、マグネシウム（６．７ｇ）及びテトラヒドロフラン１２０ｍＬを用いて予め調製したＧｒｉｇｎａｒｄ試薬を、内温１０～３０℃にて、ジブロモ体１（７５．０ｇ）、ヨウ化第一銅（０．５２ｇ）、亜リン酸トリエチル（０．９６ｇ）、テトラヒドロフラン（１００ｍＬ）の溶液に滴下した。そのままの反応温度にて２０時間撹拌を続けた。その後内温３０℃以下にて、飽和塩化アンモニウム水溶液（２００ｇ）を加え、反応を停止した。通常の後処理方法を行い、エーテル化剤８（４３．３ｇ、収率６２％）を得た。
沸点：７２℃／２０Ｐａ。
窒素雰囲気下、シラン１（３０．７ｇ）、マグネシウム（６．７ｇ）及びテトラヒドロフラン１２０ｍＬを用いて予め調製したＧｒｉｇｎａｒｄ試薬を、内温１０～３０℃にて、ジブロモ体１（７５．０ｇ）、ヨウ化第一銅（０．５２ｇ）、亜リン酸トリエチル（０．９６ｇ）、テトラヒドロフラン（１００ｍＬ）の溶液に滴下した。そのままの反応温度にて２０時間撹拌を続けた。その後内温３０℃以下にて、飽和塩化アンモニウム水溶液（２００ｇ）を加え、反応を停止した。通常の後処理方法を行い、エーテル化剤８（４３．３ｇ、収率６２％）を得た。
沸点：７２℃／２０Ｐａ。
【0258】
［実施例１－２３－２］保護フェノール１８の合成
エーテル化剤１をエーテル化剤８に変更した以外は、［実施例１－１－３］と同様な方法で保護フェノール１８を得た（収率８５％）。
エーテル化剤１をエーテル化剤８に変更した以外は、［実施例１－１－３］と同様な方法で保護フェノール１８を得た（収率８５％）。
【0259】
［実施例１－２３－３］フェノール２３の合成
保護フェノール１を保護フェノール１８に変更した以外は、［実施例１－１－４］と同様な方法でフェノール２３を得た（収率９３％）。
１Ｈ－ＮＭＲ（５００ＭＨｚ ｉｎ ＤＭＳＯ－ｄ６）：δ＝９．１８（１Ｈ、ｓ）、６．８１（１Ｈ、ｔ）、６．７２（１Ｈ、ｄｄ）、６．５３（１Ｈ、ｄｄ）、３．８２（２Ｈ、ｔ）、１．６３（２Ｈ、ｍ）、１．１９－１．４０（１２Ｈ、ｍ）、０．４４（２Ｈ、ｍ）、－０．０６（９Ｈ、ｓ）ｐｐｍ。
１９Ｆ－ＮＭＲ（４７０ＭＨｚ ｉｎ ＤＭＳＯ－ｄ６）：δ＝－１３３．７（１Ｆ、ｔ）ｐｐｍ。
保護フェノール１を保護フェノール１８に変更した以外は、［実施例１－１－４］と同様な方法でフェノール２３を得た（収率９３％）。
１Ｈ－ＮＭＲ（５００ＭＨｚ ｉｎ ＤＭＳＯ－ｄ６）：δ＝９．１８（１Ｈ、ｓ）、６．８１（１Ｈ、ｔ）、６．７２（１Ｈ、ｄｄ）、６．５３（１Ｈ、ｄｄ）、３．８２（２Ｈ、ｔ）、１．６３（２Ｈ、ｍ）、１．１９－１．４０（１２Ｈ、ｍ）、０．４４（２Ｈ、ｍ）、－０．０６（９Ｈ、ｓ）ｐｐｍ。
１９Ｆ－ＮＭＲ（４７０ＭＨｚ ｉｎ ＤＭＳＯ－ｄ６）：δ＝－１３３．７（１Ｆ、ｔ）ｐｐｍ。
【0260】
［実施例１－２４］フェノール２４の合成
【化67】
【0261】
［実施例１－２４－１］エーテル化剤９の合成
ジブロモ体１をジブロモ体２に変更した以外は、［実施例１－２３－１］と同様な方法でエーテル化剤９を得た（収率６６％）。
ジブロモ体１をジブロモ体２に変更した以外は、［実施例１－２３－１］と同様な方法でエーテル化剤９を得た（収率６６％）。
【0262】
［実施例１－２４－２］保護フェノール１９の合成
エーテル化剤１をエーテル化剤９に変更した以外は、［実施例１－１－３］と同様な方法で保護フェノール１９を得た（収率８６％）。
エーテル化剤１をエーテル化剤９に変更した以外は、［実施例１－１－３］と同様な方法で保護フェノール１９を得た（収率８６％）。
【0263】
［実施例１－２４－３］フェノール２４の合成
保護フェノール１を保護フェノール１９に変更した以外は、［実施例１－１－４］と同様な方法でフェノール２４を得た（収率９１％）。
保護フェノール１を保護フェノール１９に変更した以外は、［実施例１－１－４］と同様な方法でフェノール２４を得た（収率９１％）。
【0264】
［実施例１－２５］フェノール２５の合成
【化68】
【0265】
［実施例１－２５－１］保護フェノール２０の合成
エーテル化剤１をエーテル化剤１０に変更した以外は、［実施例１－１－３］と同様な方法で保護フェノール２０を得た（収率８４％）。
エーテル化剤１をエーテル化剤１０に変更した以外は、［実施例１－１－３］と同様な方法で保護フェノール２０を得た（収率８４％）。
【0266】
［実施例１－２５－２］中間体フェノール７の合成
保護フェノール１を保護フェノール２０に変更した以外は、［実施例１－１－４］と同様な方法で中間体フェノール７を得た（収率８９％）。
保護フェノール１を保護フェノール２０に変更した以外は、［実施例１－１－４］と同様な方法で中間体フェノール７を得た（収率８９％）。
【0267】
［実施例１－２５－３］フェノール２５の合成
窒素雰囲気下、シラン２（２１．８ｇ）、トルエン（２０ｇ）の溶液を、内温３０～６０℃にて、中間体フェノール７（１６．５ｇ）、ＣＡＴ－ＰＬ－５０Ｎ（０．２ｍｇ）、トルエン（６０ｇ）の溶液に滴下した。そのままの反応温度にて３時間撹拌を続けた。反応液に活性炭（２ｇ）、シリカゲル（２ｇ）を加え、０．５時間撹拌後、ろ過し活性炭、シリカゲルをろ別した。ろ液を濃縮後、減圧蒸留によりフェノール２５（２１．４ｇ、収率５６％）を得た。
沸点：１０７℃／１５Ｐａ。
窒素雰囲気下、シラン２（２１．８ｇ）、トルエン（２０ｇ）の溶液を、内温３０～６０℃にて、中間体フェノール７（１６．５ｇ）、ＣＡＴ－ＰＬ－５０Ｎ（０．２ｍｇ）、トルエン（６０ｇ）の溶液に滴下した。そのままの反応温度にて３時間撹拌を続けた。反応液に活性炭（２ｇ）、シリカゲル（２ｇ）を加え、０．５時間撹拌後、ろ過し活性炭、シリカゲルをろ別した。ろ液を濃縮後、減圧蒸留によりフェノール２５（２１．４ｇ、収率５６％）を得た。
沸点：１０７℃／１５Ｐａ。
【0268】
［実施例１－２６］フェノール２６の合成
【化69】
【0269】
［実施例１－２６－１］フェノール２６の合成
シラン２をシラン３に変更した以外は、［実施例１－２５－３］と同様な方法でフェノール２６を得た（収率５２％）。
シラン２をシラン３に変更した以外は、［実施例１－２５－３］と同様な方法でフェノール２６を得た（収率５２％）。
【0270】
以下に、実施例１－１～１－２６で合成したフェノール１～２６を示す。
【化70】
【0271】
［合成例］
本発明の導電性ペースト組成物に用いるポリウレタンを以下に示す方法で合成した。
原料
＜高分子量ポリオール＞
・ニッポラン４０１０（東ソー社製）ポリエステルポリオール、数平均分子量２０００
・ニッポラン４００９（東ソー社製）ポリエステルポリオール、数平均分子量１０００
・クラレポリオールＰ－２０１０（クラレ社製）ポリエステルポリオール、数平均分子量２０００
・クラレポリオールＣ－２０９０（クラレ社製）ポリカーボネートポリオール、数平均分子量２０００
・プラクセル２１０（ダイセル社製）ポリカプロラクトンジオール、数平均分子量１０００
本発明の導電性ペースト組成物に用いるポリウレタンを以下に示す方法で合成した。
原料
＜高分子量ポリオール＞
・ニッポラン４０１０（東ソー社製）ポリエステルポリオール、数平均分子量２０００
・ニッポラン４００９（東ソー社製）ポリエステルポリオール、数平均分子量１０００
・クラレポリオールＰ－２０１０（クラレ社製）ポリエステルポリオール、数平均分子量２０００
・クラレポリオールＣ－２０９０（クラレ社製）ポリカーボネートポリオール、数平均分子量２０００
・プラクセル２１０（ダイセル社製）ポリカプロラクトンジオール、数平均分子量１０００
【0272】
＜鎖延長剤＞
【化71】
【0273】
＜ポリイソシアネート＞
・ＴＤＩ：２，４－トリレンジイソシアネート又は２，６－トリレンジイソシアネート及びそれらの異性体混合物
・ＩＰＤＩ：イソホロンジイソシアネート
・ＴＤＩ：２，４－トリレンジイソシアネート又は２，６－トリレンジイソシアネート及びそれらの異性体混合物
・ＩＰＤＩ：イソホロンジイソシアネート
【0274】
＜触媒＞
・ＸＫ－６４０（ＫＩＮＧ ＩＮＤＵＳＴＲＩＥＳ社製）
・ＸＫ－６４０（ＫＩＮＧ ＩＮＤＵＳＴＲＩＥＳ社製）
【0275】
［合成例１］ＰＵ１の合成
窒素気流下、プラネタリーミキサーの反応容器にＴＤＩ４７．７ｇとＸＫ－６４０（ＫＩＮＧ ＩＮＤＵＳＴＲＩＥＳ社製）０．０５ｇを計量し６０℃に加温した。８０質量％ニッポラン４００９のジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート（以下ＢＣＡと表す）溶液１１４．９ｇを加え、３０分攪拌し、プレポリマーを調製した。プレポリマー溶液をＢＣＡ５０．７ｇで希釈した後、９０℃に昇温し、５０質量％鎖延長剤（６）のＢＣＡ溶液を１２０．７ｇ滴下し、反応温度を９０℃に保ったまま９時間熟成し、ＰＵ１のＢＣＡ溶液を得た。
ＰＵ１：
Ｍｗ＝１１９，２２０、Ｍｗ／Ｍｎ＝４．２２
窒素気流下、プラネタリーミキサーの反応容器にＴＤＩ４７．７ｇとＸＫ－６４０（ＫＩＮＧ ＩＮＤＵＳＴＲＩＥＳ社製）０．０５ｇを計量し６０℃に加温した。８０質量％ニッポラン４００９のジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート（以下ＢＣＡと表す）溶液１１４．９ｇを加え、３０分攪拌し、プレポリマーを調製した。プレポリマー溶液をＢＣＡ５０．７ｇで希釈した後、９０℃に昇温し、５０質量％鎖延長剤（６）のＢＣＡ溶液を１２０．７ｇ滴下し、反応温度を９０℃に保ったまま９時間熟成し、ＰＵ１のＢＣＡ溶液を得た。
ＰＵ１：
Ｍｗ＝１１９，２２０、Ｍｗ／Ｍｎ＝４．２２
【0276】
ポリイソシアネート、高分子量ポリオール、鎖延長剤の種類、配合比と触媒の使用量を表１に記載の通りに変更した以外は上記［合成例１］と同様の手順によりＰＵ２～１４を合成（合成例２～１４）した。
【表1】
【0277】
［実施例２－１～４９、比較例１－１～１３］
導電性ペースト組成物の調製
導電性ペースト組成物を調製するためのポリマーとして表１に記載のＰＵ1～１４、及び以下の樹脂を用いた。
・フッ素ゴム（ダイキン製、Ｇ８０１）
・ポリエステル（ユニチカ製、ＵＥ－９２００）
・アクリルゴム（日本ゼオン製、Ｎｉｐｏｌ（登録商標） １０４２）
導電性ペースト組成物の調製
導電性ペースト組成物を調製するためのポリマーとして表１に記載のＰＵ1～１４、及び以下の樹脂を用いた。
・フッ素ゴム（ダイキン製、Ｇ８０１）
・ポリエステル（ユニチカ製、ＵＥ－９２００）
・アクリルゴム（日本ゼオン製、Ｎｉｐｏｌ（登録商標） １０４２）
【0278】
添加剤のフェノール化合物としては、上記実施例１に記載のフェノール１～２６、比較例用の添加剤として以下の比較添加剤１～４を用いた。
【化72】
【0279】
導電性フィラーは、下記の銀粉Ａ～Ｅ、銅粉Ａ～Ｂを用意した。
・銀粉Ａ：平均粒径（ＤＬ５０）は２．１μｍ
・銀粉Ｂ：平均粒径（ＤＬ５０）は５．３μｍ
・銀粉Ｃ：平均粒径（ＤＬ５０）は１．２μｍ
・銀粉Ｄ：平均粒径（ＤＬ５０）は０．６７μｍ
・銀粉Ｅ：平均粒径（ＤＬ５０）は１．７２μｍ
・銅粉Ａ：平均粒径（ＤＬ５０）は５．５μｍ
・銅粉Ｂ：平均粒径（ＤＬ５０）は１．３μｍ
平均粒径の測定はレーザー回析粒度分布装置を用いて粒度分布を測定し、その積算値５０％の粒径を平均粒径として求めた。
・銀粉Ａ：平均粒径（ＤＬ５０）は２．１μｍ
・銀粉Ｂ：平均粒径（ＤＬ５０）は５．３μｍ
・銀粉Ｃ：平均粒径（ＤＬ５０）は１．２μｍ
・銀粉Ｄ：平均粒径（ＤＬ５０）は０．６７μｍ
・銀粉Ｅ：平均粒径（ＤＬ５０）は１．７２μｍ
・銅粉Ａ：平均粒径（ＤＬ５０）は５．５μｍ
・銅粉Ｂ：平均粒径（ＤＬ５０）は１．３μｍ
平均粒径の測定はレーザー回析粒度分布装置を用いて粒度分布を測定し、その積算値５０％の粒径を平均粒径として求めた。
【0280】
表２、３に記載の組成でポリマー、導電性フィラー、溶剤（ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート）及び添加剤を攪拌混合し導電性ペースト組成物（ＣＩ－１～ＣＩ－６２）を調製した。
【0281】
【表2】
【0282】
【表3】
【0283】
［実施例３－１～５０、比較例２－１～１３］
伸縮性導電配線の評価
＜評価サンプルの作製＞
マイクロテック（株）社製スクリーン印刷機ＭＴ－３２０ＴＶＣを用い、ポリウレタンフィルム上に導電性ペースト組成物を塗布した後、熱風乾燥器で熱処理することで線幅３ｍｍ、長さ１００ｍｍ、膜厚１５μｍの導電配線を形成した。
伸縮性導電配線の評価
＜評価サンプルの作製＞
マイクロテック（株）社製スクリーン印刷機ＭＴ－３２０ＴＶＣを用い、ポリウレタンフィルム上に導電性ペースト組成物を塗布した後、熱風乾燥器で熱処理することで線幅３ｍｍ、長さ１００ｍｍ、膜厚１５μｍの導電配線を形成した。
【0284】
＜非伸長状態の初期電気抵抗の測定＞
ポリウレタンフィルム上に形成された伸縮性導電配線の両端の電気抵抗を４端子抵抗測定法で測定した。電気抵抗の測定は、ナショナルインスツルメンツ株式会社製ＰＸＩｅ－４１３６ＳＭＵ抵抗測定装置により行った。
・電気抵抗（Ω）Ｒ＝Ｖ／Ｉ（Ｖ：電圧、Ｉ：電流）
初期電気抵抗の測定結果を表４、５に示す。
ポリウレタンフィルム上に形成された伸縮性導電配線の両端の電気抵抗を４端子抵抗測定法で測定した。電気抵抗の測定は、ナショナルインスツルメンツ株式会社製ＰＸＩｅ－４１３６ＳＭＵ抵抗測定装置により行った。
・電気抵抗（Ω）Ｒ＝Ｖ／Ｉ（Ｖ：電圧、Ｉ：電流）
初期電気抵抗の測定結果を表４、５に示す。
【0285】
＜２０％伸長時の最大電気抵抗の測定＞
伸縮性導電配線が形成されたポリウレタンフィルムを撓みのない非伸長状態（０％）から２０％伸長した状態で固定し、４端子抵抗測定法にて電気抵抗を測定した。
伸縮性導電配線が形成されたポリウレタンフィルムは、株式会社島津製作所製精密万能試験機ＡＧ－Ｘｐｌｕｓ ＨＳを使用し、伸縮性導電配線（長方形）の長手方向に１００ｍｍ／ｍｉｎの速度で伸長させた。
・２０％伸長時の電気抵抗変化＝［２０％伸長時の電気抵抗（Ω）］÷［初期電気抵抗（Ω）］×１００
２０％伸長時の電気抵抗変化を表４、５に示す。
伸縮性導電配線が形成されたポリウレタンフィルムを撓みのない非伸長状態（０％）から２０％伸長した状態で固定し、４端子抵抗測定法にて電気抵抗を測定した。
伸縮性導電配線が形成されたポリウレタンフィルムは、株式会社島津製作所製精密万能試験機ＡＧ－Ｘｐｌｕｓ ＨＳを使用し、伸縮性導電配線（長方形）の長手方向に１００ｍｍ／ｍｉｎの速度で伸長させた。
・２０％伸長時の電気抵抗変化＝［２０％伸長時の電気抵抗（Ω）］÷［初期電気抵抗（Ω）］×１００
２０％伸長時の電気抵抗変化を表４、５に示す。
【0286】
＜３００％伸長時の最大電気抵抗の測定＞
伸縮導電配線が形成されたポリウレタンフィルムを０％の非伸長状態から３００％伸長した状態で固定し電気抵抗を測定した。
伸縮性導電配線が形成されたポリウレタンフィルムは、株式会社島津製作所製精密万能試験機ＡＧ－Ｘｐｌｕｓ ＨＳを使用し、伸縮性導電配線（長方形）の長手方向に１００ｍｍ／ｍｉｎの速度で伸長させた。
・３００％伸長時の電気抵抗変化＝［３００％伸長時の電気抵抗（Ω）］÷［初期電気抵抗（Ω）］×１００
３００％伸長時の電気抵抗変化を表４、５に示す。
伸縮導電配線が形成されたポリウレタンフィルムを０％の非伸長状態から３００％伸長した状態で固定し電気抵抗を測定した。
伸縮性導電配線が形成されたポリウレタンフィルムは、株式会社島津製作所製精密万能試験機ＡＧ－Ｘｐｌｕｓ ＨＳを使用し、伸縮性導電配線（長方形）の長手方向に１００ｍｍ／ｍｉｎの速度で伸長させた。
・３００％伸長時の電気抵抗変化＝［３００％伸長時の電気抵抗（Ω）］÷［初期電気抵抗（Ω）］×１００
３００％伸長時の電気抵抗変化を表４、５に示す。
【0287】
＜０～２０％繰り返し伸縮における最大抵抗値の測定＞
伸縮性導電配線が形成されたポリウレタンフィルムに対して撓みのない非伸長状態（０％）から２０％の伸縮を１０００往復繰り返し、導電配線の電気抵抗経時変化を測定した。
繰り返し伸縮試験は、株式会社島津製作所製精密万能試験機ＡＧ－Ｘｐｌｕｓ ＨＳを使用し、伸縮性導電配線（長方形）の長手方向にポリウレタンフィルムを引張速度１００ｍｍ／ｍｉｎで伸縮させることにより行った。
また、電気抵抗の測定は、引っ張り試験機（上記精密万能試験機ＡＧ－Ｘｐｌｕｓ ＨＳ）のサンプル固定冶具の内側に電極を設置し、ナショナルインスツルメンツ株式会社製ＰＸＩｅ－４１３６ＳＭＵ抵抗測定装置を用い、４端子抵抗測定法により行った。
・伸長率０～２０％で１０００回繰り返し伸縮した際の最大電気抵抗値変化＝［繰り返し伸縮試験における最大電気抵抗（Ω）］÷［初期電気抵抗（Ω）］×１００
伸長率２０％で１０００回繰り返し伸縮した際の最大電気抵抗変化を表４、５に示す。
伸縮性導電配線が形成されたポリウレタンフィルムに対して撓みのない非伸長状態（０％）から２０％の伸縮を１０００往復繰り返し、導電配線の電気抵抗経時変化を測定した。
繰り返し伸縮試験は、株式会社島津製作所製精密万能試験機ＡＧ－Ｘｐｌｕｓ ＨＳを使用し、伸縮性導電配線（長方形）の長手方向にポリウレタンフィルムを引張速度１００ｍｍ／ｍｉｎで伸縮させることにより行った。
また、電気抵抗の測定は、引っ張り試験機（上記精密万能試験機ＡＧ－Ｘｐｌｕｓ ＨＳ）のサンプル固定冶具の内側に電極を設置し、ナショナルインスツルメンツ株式会社製ＰＸＩｅ－４１３６ＳＭＵ抵抗測定装置を用い、４端子抵抗測定法により行った。
・伸長率０～２０％で１０００回繰り返し伸縮した際の最大電気抵抗値変化＝［繰り返し伸縮試験における最大電気抵抗（Ω）］÷［初期電気抵抗（Ω）］×１００
伸長率２０％で１０００回繰り返し伸縮した際の最大電気抵抗変化を表４、５に示す。
【0288】
【表4】
【0289】
【表5】
【0290】
表４、５に示されるように本発明のフェノール化合物を添加した導電性ペースト組成物を用いた場合、配線伸長による電気抵抗の上昇が小さく、繰り返し伸縮における導電安定性に優れた配線が得られることが分かる（実施例３－１～５０）。一方、フェノールを含まない比較例２－１～７、１２、１３、その他の添加剤を含む比較例２－８～１１では配線の伸長や繰り返し伸縮により電気抵抗が大きく上昇したり、断線した。また、比較例２－４～１１では３００％伸長時に断線した。
【0291】
なお、本発明は、上記実施形態に限定されるものではない。上記実施形態は例示であり、本発明の特許請求の範囲に記載された技術的思想と実質的に同一な構成を有し、同様な作用効果を奏するものは、いかなるものであっても本発明の技術的範囲に包含される。