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特開2023-41036マイクロリソグラフィフォトマスクの欠陥の粒子ビーム誘起処理のための方法
発明の名称 マイクロリソグラフィフォトマスクの欠陥の粒子ビーム誘起処理のための方法
出願人 カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー （識別番号 503263355）
特許公開件数ランキング 454 位（22件）（共同出願を含む）
特許取得件数ランキング 682 位（11件）（共同出願を含む）
公報番号 特開-2023-41036
公報発行日 2023年3月23
公報URL https://ipforce.jp/patent-jp-P_A1-2023-41036
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