特開2023-43170ハードマスク組成物、ハードマスク層およびパターン形成方法

発明の名称　ハードマスク組成物、ハードマスク層およびパターン形成方法

出願人　三星エスディアイ株式会社　（識別番号 590002817）

　　　　特許公開件数ランキング 79 位（335件）（共同出願を含む）

　　　　特許取得件数ランキング 238 位（123件）（共同出願を含む）

公報番号　特開-2023-43170

公報発行日　2023年3月28

公報URL　https://ipforce.jp/patent-jp-P_A1-2023-43170

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