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三星エスディアイ株式会社

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  2026年 出願公開件数ランキング    第112位 201件 下降2025年:第80位 369件)

  2026年 特許取得件数ランキング    第217位 96件 上昇2025年:第237位 131件)

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公報番号発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)公報発行日備考
特許 7919409 リチウム二次電池用正極およびこれを含むリチウム二次電池 2026年 9月11日
特許 7919407 感光性樹脂組成物、これを利用した感光性樹脂膜、および半導体素子 2026年 9月11日
特許 7919398 正極活物質とこれを含む正極およびリチウム二次電池 2026年 9月11日
特許 7918197 リチウム二次電池用分離膜、それを含むリチウム二次電池、及び該リチウム二次電池用分離膜の製造方法 2026年 9月 9日
特許 7915787 バインダー、これを含む分離膜、およびリチウム二次電池 2026年 9月 4日
特許 7915296 リチウム二次電池 2026年 9月 3日
特許 7911860 PTC機能性組成物、PTC機能性組成物層、非水電解質二次電池用被覆集電体、非水電解質二次電池用電極及び非水電解質二次電池 2026年 8月27日
特許 7910203 パターン形成方法 2026年 8月24日
特許 7909882 タングステンパターンウェハー研磨用CMPスラリー組成物及びこれを用いたタングステンパターンウェハーの研磨方法 2026年 8月24日
特許 7908377 金属含有レジストのエッジビーズ除去用組成物、およびこれを利用したエッジビーズ除去段階を含むパターン形成方法 2026年 8月19日
特許 7908239 リチウム二次電池 2026年 8月19日
特許 7906005 リチウム二次電池用正極およびこれを含むリチウム二次電池 2026年 8月17日
特許 7905989 リチウム二次電池 2026年 8月17日
特許 7905415 金属含有レジストのエッジビード除去用組成物または金属含有レジストの現像液組成物、およびこれを利用したパターン形成方法 2026年 8月14日
特許 7902878 二次電池及び二次電池の製造方法 2026年 8月10日

96 件中 1-15 件を表示

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7919409 7919407 7919398 7918197 7915787 7915296 7911860 7910203 7909882 7908377 7908239 7906005 7905989 7905415 7902878

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