特開 2023-51734 ステージ、検査装置およびステージの動作方法

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】公開特許公報(A)

(11)【公開番号】P2023051734

(43)【公開日】2023-04-11

(54)【発明の名称】ステージ、検査装置およびステージの動作方法

(51)【国際特許分類】

   H01L 21/68 20060101AFI20230404BHJP

【ＦＩ】

H01L21/68 K

【審査請求】未請求

【請求項の数】13

【出願形態】ＯＬ

(21)【出願番号】P 2022111352

(22)【出願日】2022-07-11

(31)【優先権主張番号】P 2021162243

(32)【優先日】2021-09-30

(33)【優先権主張国・地域又は機関】JP

(71)【出願人】

【識別番号】000219967

【氏名又は名称】東京エレクトロン株式会社

(74)【代理人】

【識別番号】100107766

【弁理士】

【氏名又は名称】伊東 忠重

(74)【代理人】

【識別番号】100070150

【弁理士】

【氏名又は名称】伊東 忠彦

(72)【発明者】

【氏名】小林 将人

(72)【発明者】

【氏名】小林 弘人

(72)【発明者】

【氏名】阿川 裕晃

【テーマコード（参考）】

5F131

【Ｆターム（参考）】

5F131AA02

5F131BA39

5F131CA08

5F131EA02

5F131EA22

5F131EA27

(57)【要約】

【課題】基台にかかる荷重の均等化を促すことができる技術を提供する。
【解決手段】ステージは、１つの基台と、前記基台を昇降可能に支持する４つの可動体と、前記４つの可動体の各々に対応して設けられ、当該４つの可動体を個別に昇降させる４つの駆動モータと、前記４つの可動体の各々の昇降を案内する４つのガイド部と、前記基台の昇降方向と直交する方向に沿って一連に連続し、かつ前記昇降方向に平行な壁面を有し、当該壁面に前記４つのガイド部の全てを固定する１つの支持フレームと、を有する。
【選択図】図３

【特許請求の範囲】

【請求項1】

ステージであって、
１つの基台と、
前記基台を昇降可能に支持する４つの可動体と、
前記４つの可動体の各々に対応して設けられ、当該４つの可動体を個別に昇降させる４つの駆動モータと、
前記４つの可動体の各々の昇降を案内する４つのガイド部と、
前記基台の昇降方向と直交する方向に沿って一連に連続し、かつ前記昇降方向に平行な壁面を有し、当該壁面に前記４つのガイド部の全てを固定する１つの支持フレームと、を有する、
ステージ。

【請求項2】

前記基台の昇降時に前記４つの駆動モータ毎の目標位置を設定し、前記目標位置に基づき前記４つの駆動モータの動作を制御する制御部と、
前記４つの駆動モータの各々に設けられ、当該駆動モータのトルクを検出する４つのトルクセンサと、を備え、
前記制御部は、前記４つのトルクセンサの各々からフィードバックされた前記トルクに基づき、前記４つの駆動モータ毎の前記目標位置を補正する、
請求項１記載のステージ。

【請求項3】

前記制御部は、前記４つのトルクセンサのトルクに基づき、前記基台のチルト状態を認識し、前記基台のチルト状態に応じて前記４つの駆動モータ毎の前記目標位置を補正する補正値を算出する、
請求項２記載のステージ。

【請求項4】

前記支持フレームは、前記昇降方向を直交する方向に、一対の側壁と、前記一対の側壁の間を連結する連結壁と、を有することで、平面視でＨ字状に形成され、
前記４つの可動体、前記４つの駆動モータおよび前記４つのガイド部は、前記一対の側壁の間に配置されている、
請求項１乃至３のいずれか１項に記載のステージ。

【請求項5】

前記支持フレームは、前記連結壁の一方の前記壁面に前記４つのガイド部のうち２つを固定しているとともに、前記連結壁の他方の前記壁面に前記４つのガイド部のうち残りの２つを固定している、
請求項４に記載のステージ。

【請求項6】

前記４つの可動体は、前記４つの駆動モータの各々に接続される横延在部と、前記横延在部の延在方向と直交して延在し前記４つのガイド部の各々に案内される縦延在部と、有する、
請求項１乃至３のいずれか１項に記載のステージ。

【請求項7】

前記支持フレームおよび前記４つのガイド部は、前記昇降方向に沿って前記４つの駆動モータの設置位置よりも長く延在している、
請求項６に記載のステージ。

【請求項8】

前記４つの駆動モータは、ダイレクトドライブモータである、
請求項１乃至３のいずれか１項に記載のステージ。

【請求項9】

前記４つの駆動モータ自体、または前記４つの可動体と前記４つの駆動モータとの間に、磁気により前記駆動モータの回転運動を減速させる磁気減速部を備える、
請求項１乃至３のいずれか１項に記載のステージ。

【請求項10】

前記磁気減速部は、ステータ、当該ステータと同軸の高速ロータおよび低速ロータを有し、前記駆動モータ自体を構成する磁気ギヤードモータである、
請求項９に記載のステージ。

【請求項11】

磁気減速部は、前記４つの可動体と前記４つの駆動モータとの間に、ステータ、当該ステータと同軸の高速ロータおよび低速ロータを有する磁気減速機構をそれぞれ備える、
請求項９に記載のステージ。

【請求項12】

基板を載置して搬送するステージを有し、搬送された前記基板にプローブを接触させて当該基板の電気的特性を検査する検査装置であって、
前記ステージは、
１つの基台と、
前記基台を昇降可能に支持する４つの可動体と、
前記４つの可動体の各々に対応して設けられ、当該４つの可動体を個別に昇降させる４つの駆動モータと、
前記４つの可動体の各々の昇降を案内する４つのガイド部と、
前記基台の昇降方向と直交する方向に沿って一連に連続し、かつ前記昇降方向に平行な壁面を有し、当該壁面に前記４つのガイド部の全てを固定する１つの支持フレームと、を有する、
検査装置。

【請求項13】

ステージの動作方法であって、
１つの基台を搬送する工程と、
４つの駆動モータを個別に駆動して、当該４つの駆動モータの各々に設けられた４つの可動体により前記基台を昇降させる工程と、を有し、
前記基台を昇降させる工程では、
前記基台の昇降方向と直交する方向に沿って一連に連続する１つの支持フレームにおいて、前記昇降方向に平行な壁面に固定された４つのガイド部の各々により、前記４つの可動体の各々の昇降を案内する、
ステージの動作方法。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本開示は、ステージ、検査装置およびステージの動作方法に関する。

【背景技術】

【0002】

特許文献１には、ウエハの検査を行う検査装置において、被検査体を所定位置に搬送するためのステージ（検査ステージ）が開示されている。このステージは、ウエハを載置する１つの基台（載置台）を３つの昇降駆動機構により支持して、当該３つの昇降駆動機構の昇降位置を監視しながら基台を昇降させる。

【0003】

検査装置は、ウエハの検査において、多数（数万）のコンタクトプローブをウエハに接触させる。このため、基台には、多数のコンタクトプローブから大きな荷重がかかることになる。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0004】

【特許文献1】特開２０００―２６０８５２号公報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0005】

本開示は、基台の姿勢を適切に調整して、基台にかかる荷重の均等化を促すことができる技術を提供する。

【課題を解決するための手段】

【0006】

本開示の一態様によれば、ステージであって、１つの基台と、前記基台を昇降可能に支持する４つの可動体と、前記４つの可動体の各々に対応して設けられ、当該４つの可動体を個別に昇降させる４つの駆動モータと、前記４つの可動体の各々の昇降を案内する４つのガイド部と、前記基台の昇降方向と直交する方向に沿って一連に連続し、かつ前記昇降方向に平行な壁面を有し、当該壁面に前記４つのガイド部の全てを固定する１つの支持フレームと、を有する、ステージが提供される。

【発明の効果】

【0007】

一態様によれば、基台の姿勢を適切に調整して、基台にかかる荷重の均等化を促すことができる。

【図面の簡単な説明】

【0008】

【図1】一実施形態に係るステージを有する検査装置を示す概略断面図である。

【図2】検査装置のステージを示す概略側面図である。

【図3】ステージのＺ軸移動機構を拡大して示す斜視図である。

【図4】Ｚ軸移動機構の支持フレームを示す斜視図である。

【図5】Ｚ軸移動機構を概略的に示す縦断面図である。

【図6】Ｚ軸移動機構の駆動モータ、モータドライバ部およびステージ制御部を示すブロック図である。

【図7】Ｚ軸移動機構の昇降部の配置例を示す概略説明図である。

【図8】ウエハの検査時におけるステージの動作を示すフローチャートである。

【図9】コンタクトプローブの荷重に対するステージによる基台の動作を示す説明図である。

【図10】図１０（ａ）は、ステージによる載置面補正を示す概略説明図であり、図１０（ｂ）は、ステージによる平行補正を示す概略説明図である。

【図11】変形例に係るＺ軸移動機構を示す概略説明図である。

【図12】図１２（ａ）は、変形例に係る駆動モータに適用した磁気ギヤードモータを示す概略説明図である。図１２（ｂ）は、変形例に係る駆動モータとＺ軸可動体の間に適用した磁気減速機構を示す概略説明図である。

【発明を実施するための形態】

【0009】

以下、図面を参照して本開示を実施するための形態について説明する。各図面において、同一構成部分には同一符号を付し、重複した説明を省略する場合がある。

【0010】

図１は、一実施形態に係るステージ３０を有する検査装置１を示す概略断面図である。図１に示すように、一実施形態に係る検査装置１は、ウエハ（基板）Ｗに形成された複数の半導体デバイス（被検査体、ＤＵＴ；Device Under Test）の各々の電気的特性を検査する装置である。なお、被検査体を有する基板は、ウエハＷに限られるものではなく、半導体デバイスが配置されたキャリア、ガラス基板、チップ単体などを含む。検査装置１は、ステージ３０を収容する収容室１２と、収容室１２に隣接して配置されるローダ１３と、収容室１２の上方に配置されるテスタ２０と、を備える。

【0011】

収容室１２は、内部が空洞の筐体形状を有する。収容室１２の内部には、ウエハＷを載置するステージ３０と、ステージ３０に対向するように配置されるプローブカード１５と、ステージ３０上のウエハＷを撮像する検査側カメラ２９と、が収容される。プローブカード１５は、ウエハＷの各半導体デバイスの電極に対応して設けられた電極パッドや半田バンプに対応して配置された多数の針状のプローブ（接触端子）１６を有する。検査側カメラ２９は、ステージ３０の傾斜やステージ３０に載置されたウエハＷの位置などを撮像する。

【0012】

ローダ１３は、搬送容器であるＦＯＵＰ（不図示）からウエハＷを取り出して収容室１２の内部のステージ３０へ載置する。また、ローダ１３は、検査が行われたウエハＷをステージ３０から取り出してＦＯＵＰへ収容する。

【0013】

プローブカード１５は、インタフェース１７を介してテスタ２０へ接続される。各プローブ１６は、ウエハＷの各半導体デバイスの電極に対応して設けられた電極パッドや半田バンプに接触する。これにより、各プローブ１６は、テスタ２０からインタフェース１７を介して半導体デバイスへ電力を供給し、またはインタフェース１７を介して半導体デバイスからの信号をテスタ２０へ伝達する。

【0014】

テスタ２０は、半導体デバイスが搭載されるマザーボードの回路構成の一部を再現するテストボード（不図示）を有する。テストボードは、制御を行うコントローラ９０に接続されており、半導体デバイスからの信号に基づいて半導体デバイスの良否を判断する。テスタ２０は、テストボードを取り替えることにより、複数種のマザーボードの回路構成を再現することができる。

【0015】

ステージ３０は、ローダ１３とプローブカード１５の対向位置との間でウエハＷを搬送する。また、ステージ３０は、検査において、プローブカード１５に向かってウエハＷを上昇させる一方で、検査後にウエハＷを下降させる。さらに、ステージ３０には、プローブカード１５の位置を確認するステージ側カメラ１９が配置されている。

【0016】

図２は、検査装置１のステージ３０を示す概略側面図である。図２に示すように、検査装置１は、ステージ３０を支持するフレーム構造３１を有する。フレーム構造３１に設置されたステージ３０は、収容室１２内において適宜の３次元位置（Ｘ軸方向、Ｙ軸方向およびＺ軸方向）にウエハＷを搬送する。ステージ３０は、移動部３２（Ｘ軸移動機構３３、Ｙ軸移動機構３４、Ｚ軸移動機構４０）、基台３５、針研機構６０、ステージ制御部７０およびモータドライバ部８０を有する。

【0017】

フレーム構造３１は、移動部３２を支持する上ベース３１０と、ステージ制御部７０およびモータドライバ部８０を支持する下ベース３１１と、上ベース３１０や下ベース３１１の四隅に設けられる複数の支柱３１２と、を含む２段構造を呈している。

【0018】

移動部３２のＸ軸移動機構３３は、上ベース３１０の上面に固定されてＸ軸方向に沿って延在する複数のガイドレール３３０と、各ガイドレール３３０間にわたって配置されるＸ軸可動体３３１と、を含む。Ｘ軸可動体３３１は、図示しないＸ軸動作部（モータ、ギア機構など）を内部に有し、このＸ軸動作部はモータドライバ部８０に接続されている。これにより、Ｘ軸可動体３３１は、モータドライバ部８０からの電力供給に基づきＸ軸方向に往復動する。

【0019】

同様に、Ｙ軸移動機構３４は、Ｘ軸可動体３３１の上面に固定されてＹ軸方向に沿って延在する複数のガイドレール３４０と、各ガイドレール３４０間にわたって配置されるＹ軸可動体３４１と、を含む。Ｙ軸可動体３４１には、平面視で長方形状の水平移動台３４２が設置されている。Ｙ軸可動体３４１も、図示しないＹ軸動作部（モータ、ギア機構など）を内部に有し、このＹ軸動作部はモータドライバ部８０に接続されている。これにより、Ｙ軸可動体３４１は、モータドライバ部８０からの電力供給に基づきＹ軸方向に往復動する。

【0020】

Ｚ軸移動機構４０は、水平移動台３４２（Ｙ軸可動体３４１）に設置されるとともに、その上部において基台３５を保持している。Ｚ軸移動機構４０は、基台３５をＺ軸方向（鉛直方向）に変位させることで、基台３５に載置されたウエハＷを昇降させる本実施形態の昇降機構を構成している。このＺ軸移動機構４０の構成については後に詳述する。

【0021】

以上の移動部３２により搬送される基台３５は、適宜の保持手段（真空吸着、メカニカルチャックなど）により、その上面においてウエハＷを保持するチャックとして機能する。基台３５は、Ｚ軸移動機構４０に係合されるボトムプレート３５０と、ボトムプレート３５０の上側に積層されるチャックトップ３５１と、を有する。

【0022】

ボトムプレート３５０は、Ｚ軸移動機構４０に係合可能な適宜の平面形状（略多角形状）に形成される。チャックトップ３５１は、平面視で円形状に形成され、ボトムプレート３５０よりも厚みを持つように構成されている。チャックトップ３５１の上面は、ウエハＷを載置面する載置面３５ａとなっている。また、基台３５は、載置面３５ａの温度を調整する温調機構、載置面３５ａの温度を検出する温度センサ、および載置面３５ａに載置されたウエハＷを真空吸着する吸着機構などを備えた構成でもよい（共に不図示）。

【0023】

ステージ３０の針研機構６０は、水平移動台３４２において、Ｚ軸移動機構４０の隣接位置に設置される。針研機構６０の上部には、プローブカード１５から下方に突出しているプローブ１６を研磨する研磨体６１が設けられる。針研機構６０は、研磨体６１をＺ軸方向に変位させる研磨側Ｚ軸移動機構６２を有する。研磨側Ｚ軸移動機構６２は、基台３５のＺ軸移動機構４０と略同様に構成される。

【0024】

ステージ制御部７０は、検査装置１のコントローラ９０に接続され、コントローラ９０の指令に基づき、ステージ３０の動作を制御する。ステージ制御部７０は、例えば、ステージ３０全体の動作を制御するメイン制御部、移動部３２の動作を制御するＰＬＣ、温調機構を制御する温度コントローラ、照明制御部、電源ユニットなどを有する（共に不図示）。ステージ制御部７０のメイン制御部は、図示しない１以上のプロセッサ、メモリ、入出力インタフェースおよび電子回路等を有するステージ用コンピュータ内臓ボードを適用し得る。１以上のプロセッサは、ＣＰＵ、ＡＳＩＣ、ＦＰＧＡ、複数のディスクリート半導体からなる回路等のうち１つまたは複数を組み合わせたものであり、メモリに記憶されたプログラムおよびレシピを実行処理する。メモリは、不揮発性メモリおよび揮発性メモリを含み、ステージ制御部７０の記憶部を形成している。

【0025】

ステージ制御部７０は、ローダ１３からステージ３０の基台３５にウエハＷを受け取った後、水平方向（Ｘ軸－Ｙ軸方向）に移動部３２を移動させ、所定のテスタ２０のプローブカード１５にウエハＷが対向するように位置合わせを行う。位置合わせ後に、ステージ制御部７０は、ステージ３０により基台３５を上昇させ、プローブカード１５のプローブ１６にウエハＷを接触させる。この状態で、検査装置１のコントローラ９０は、テスタ２０による電気的検査を開始する。また、ステージ制御部７０は、テスタ２０の検査終了後に、上記と逆動作により、検査後のウエハＷを下降および水平移動させ、ローダ１３にウエハＷを戻す。

【0026】

図３は、ステージ３０のＺ軸移動機構４０を拡大して示す斜視図である。図３に示すように、Ｚ軸移動機構４０は、水平移動台３４２に設置される支持フレーム４１を有する。支持フレーム４１は、基台３５の昇降方向と直交する方向（水平方向：Ｘ軸‐Ｙ軸方向）に沿って一連に連続する部材である。ここで、「昇降方向と直交する方向に沿って一連に連続する」とは、支持フレーム４１が分離せずに連続することにより、平面視で所定の形状を呈していることをいう。この支持フレーム４１は、Ｚ軸移動機構４０の４つの昇降部４５を保護するとともに、各昇降部４５の昇降をガイドする。つまり、Ｚ軸移動機構４０は、上記した１つの基台３５（チャック：図１も参照）を、４つの昇降部４５により昇降させる構成としている。

【0027】

各昇降部４５は、基台３５を直接支持するＺ軸可動体４６と、Ｚ軸可動体４６を昇降させる駆動モータ４７と、Ｚ軸可動体４６の昇降を案内するガイド部４８と、を含む。すなわち、Ｚ軸移動機構４０は、１つの支持フレーム４１と、４つのＺ軸可動体４６、４つの駆動モータ４７と、４つのガイド部４８と、を含んで構成されている。

【0028】

図４は、Ｚ軸移動機構４０の支持フレーム４１を示す斜視図である。図４に示すように、支持フレーム４１は、一対の側壁４２と、当該一対の側壁４２の間を延在する１つの連結壁４３とを有し、平面視でＨ字状に形成されている。一対の側壁４２の上面および連結壁４３の上面が面一に連なることで、支持フレーム４１の上部は平坦状に形成されている。支持フレーム４１の下部は、一対の側壁４２の下面に対して、連結壁４３の下部の大部分が突出しており、段差状を呈している。連結壁４３は、水平移動台３４２に支持フレーム４１を固定した状態で、水平移動台３４２（Ｙ軸可動体３４１）に形成された孔３４２ａ（図５参照）に挿入され、Ｙ軸可動体３４１よりも下方に突出している。

【0029】

一対の側壁４２は、水平移動台３４２の上面に固定される。各側壁４２は、側面視で、Ｘ軸方向に長く延在し、かつＺ軸方向に短く延在する略長方形状を呈している。そして、各側壁４２のＸ軸方向（長辺）の中間位置に、連結壁４３が連結されている。また、各側壁４２のＺ軸方向の長さは、基台３５の昇降距離よりも短く設定されている。一対の側壁４２の下面寄り所定位置には、複数のネジ止め用空間４２０が形成されている。このネジ止め用空間４２０から各側壁４２を貫通した固定ネジ４２１が水平移動台３４２に螺合されることで、支持フレーム４１は水平移動台３４２に強固に固定される（図３も参照）。

【0030】

連結壁４３は、Ｙ軸方向（幅方向）かつＺ軸方向（高さ方向、鉛直方向）に延在する略長方形状に形成されている。連結壁４３のＹ軸方向の長さは、側壁４２のＸ軸方向の長さよりも長い。また、支持フレーム４１は、連結壁４３のＺ軸方向の長さが側壁４２のＺ軸方向の長さよりも充分に（例えば、２倍程度）長いことで、連結壁４３の下側が一対の側壁４２よりも下方向に延出した形状となっている。

【0031】

連結壁４３の壁面４３ａ、４３ｂには、４つの昇降部４５のガイド部４８がそれぞれ固定される。このガイド部４８は、Ｚ軸方向に延在する一対のレール４９を有する。一対のレール４９は、連結壁４３の上端から下端までの間を直線状に延在し、ネジ止めなどの固定手段によって強固に固定されている。またガイド部４８は、一対のレール４９の間かつ連結壁４３の壁面４３ａ、４３ｂの上部に、Ｚ軸可動体４６の上昇を制限する移動制限ブロック５０を有する。

【0032】

そして、Ｚ軸移動機構４０は、連結壁４３のＸ軸方向の一方の壁面４３ａに２つのガイド部４８（一対のレール４９、移動制限ブロック５０）を備えるとともに、連結壁４３のＸ軸方向の他方の壁面４３ｂに２つのガイド部４８を備える。一方の壁面４３ａおよび他方の壁面４３ｂに設けられる各２つのガイド部４８がＹ軸方向に並ぶことで、一方の壁面４３ａおよび他方の壁面４３ｂの各々には、４つのレール４９がＺ軸方向に沿って互いに平行に延在している。

【0033】

図３に戻り、昇降部４５の駆動モータ４７は、水平移動台３４２に固定され、Ｚ軸正方向に突出する軸部４７０を有する。この駆動モータ４７の種類は、特に限定されるものではないが、Ｚ軸移動機構４０の小型化を図るために、例えば、ダイレクトドライブモータを適用するとよい。ダイレクトドライブモータは、減速機構を備えずに軸部４７０の軸方向に対して低く構成され、また低速かつ高トルクで回転することができる。

【0034】

駆動モータ４７とＺ軸可動体４６の間には、当該駆動モータ４７の回転運動をＺ軸可動体４６の直線運動に変換する動力変換部５１が設けられている。例えば、動力変換部５１は、駆動モータ４７のロータ（不図示）に連結されるナット５２に対して、ボールネジ５３を螺合した構造を採ることができる。このボールネジ５３は、駆動モータ４７の軸部４７０と同軸にあり、駆動モータ４７内の適宜の位置でスプライン嵌合されるとともに、その上端側にＺ軸可動体４６が固定される。この動力変換部５１によって、昇降部４５は、ナット５２の回転下にボールネジ５３（軸部４７０）をＺ軸方向に沿って往復動させ、このボールネジ５３に連れてＺ軸可動体４６を昇降させる。

【0035】

さらに、駆動モータ４７は、ロータの回転角度を検出するエンコーダ５４と、基台３５からロータにかかる荷重値をトルク（電流値）として検出するトルクセンサ５５（図６参照）と、を備える。

【0036】

昇降部４５のＺ軸可動体４６は、基台３５を支持する部材であり、駆動モータ４７の駆動に基づき昇降することで、当該基台３５を昇降させる。本実施形態に係るＺ軸移動機構４０は、４つのＺ軸可動体４６（昇降部４５）の各々を個別に昇降させることにより、基台３５のチルトを調整可能としている。

【0037】

図５は、Ｚ軸移動機構４０を概略的に示す縦断面図である。図５に示すように、Ｚ軸可動体４６は、水平方向（Ｘ軸－Ｙ軸方向）に平行な横延在部４６０と、横延在部４６０に連なるとともに鉛直方向に平行な縦延在部４６１と、を有し、側面断面視で、略Ｌ字状に形成されている。

【0038】

横延在部４６０は、平面視で、略多角形状に形成され、Ｘ軸方向中央部からＸ軸方向外側寄り（連結壁４３から離れた位置）にボールネジ５３（軸部４７０）が連結されている。Ｚ軸可動体４６は、このボールネジ５３のＺ軸方向の直線運動に基づき、鉛直方向に昇降する。

【0039】

縦延在部４６１は、支持フレーム４１の連結壁４３の隣接位置で、当該連結壁４３に対向するように設けられている。縦延在部４６１は、Ｙ軸方向に短く延在する一方で、Ｚ軸方向に長く延在する長方形状に形成されている。縦延在部４６１において支持フレーム４１の連結壁４３に対向する対向面には、一対のレール４９に配置される一対のスライダ５６が設けられている。スライダ５６は、レール４９に係合することで、Ｚ軸方向（レール４９の延在方向）への移動がガイドされる。このレール４９およびスライダ５６により、Ｚ軸可動体４６は、水平方向（Ｘ軸－Ｙ軸方向）へのＺ軸可動体４６の離脱が防止されつつ、Ｚ軸方向への移動がガイドされる。

【0040】

また図３に示すように、Ｚ軸可動体４６は、基台３５のボトムプレート３５０に接触する接触子５７を、横延在部４６０の上面に固定している。すなわち、基台３５は、４つの接触子５７に支持される。この接触子５７は、平坦状の上面を有する硬質なブロックに形成されている。なお、Ｚ軸移動機構４０は、接触子５７に代えて、ロードセルなどの荷重センサを適用した構成でもよい。これにより例えば、ステージ制御部７０は、荷重センサが検出した荷重を用いて、基台３５のチルト状態などを一層精度よく認識することができる。

【0041】

図６は、Ｚ軸移動機構４０の駆動モータ４７、モータドライバ部８０およびステージ制御部７０を示すブロック図である。図６に示すように、ステージ制御部７０の内部には、駆動モータ４７を駆動するＺ軸用コントローラ７１が４つの駆動モータ４７毎に設けられている。また、モータドライバ部８０の内部には、各Ｚ軸用コントローラ７１の目標位置に基づき、駆動モータ４７に供給する電流を制御するサーボアンプ８１がそれぞれ設けられている。なお、サーボアンプ８１は、駆動モータ４７に一体化していてもよい。

【0042】

Ｚ軸用コントローラ７１は、ＰＬＣなどが適用され、ステージ制御部７０のメイン制御部から基台３５の昇降位置に関わる位置指令を制御周期毎に受信することで、駆動モータ４７の目標位置を算出する。ＰＬＣは、プロセッサ（または集積回路）を有している。Ｚ軸用コントローラ７１は、算出した目標位置をサーボアンプ８１に出力する目標位置出力部７２を備える。サーボアンプ８１は、目標位置出力部７２から受信した目標位置に応じて駆動モータ４７に供給する電力を調整する。

【0043】

また、駆動モータ４７に設けられたエンコーダ５４が検出するロータの回転角度は、サーボアンプ８１の位置制御器８２にフィードバックされる。サーボアンプ８１は、位置制御器８２内で目標位置に対する実位置の差分を算出し、差分に応じて駆動モータ４７に供給する電力を調整する。

【0044】

一方、トルクセンサ５５が検出するトルクは、ステージ制御部７０に送信される。トルクセンサ５５のトルクは、複数のプローブ１６からウエハＷおよび基台３５にかかる荷重を、各昇降部４５にて分散した荷重値に相当する。そして、ステージ制御部７０は、トルクセンサ５５から受信したトルクに基づき、目標位置に対する補正量（チルト補正量）を算出する補正量算出部７３を有する。

【0045】

補正量算出部７３は、４つのトルクセンサ５５から検出した各トルクに基づき、４つの駆動モータ４７の目標位置を補正するチルト補正量を最終的に算出する。例えば、補正量算出部７３は、４つのトルクセンサ５５の各トルクから複数のプローブ１６が基台３５上にかける荷重負荷位置を抽出し、さらに荷重負荷位置から基台３５全体のチルト状態を推定して、チルト状態に基づき各チルト補正量を得る。

【0046】

荷重負荷位置は、基台３５上に設定された数十～数百点の位置において、複数のプローブ１６がウエハＷに接触した際に、各駆動モータ４７にかかる各トルクを予めデータベース化しておくことが好ましい。これにより、補正量算出部７３は、取得した４つのトルクに基づき荷重負荷位置を認識できる。また例えば、補正量算出部７３は、荷重負荷位置と基台３５のチルト状態との関係を示す荷重‐チルト特性のマップ情報ＭＩまたは関数を保有しており、認識した荷重負荷位置に基づき、基台３５全体のチルト状態を推定する。チルト状態は、基台３５が傾いているＸ軸－Ｙ軸方向の位置や傾いている度合（チルト量）などで示される。

【0047】

補正量算出部７３は、推定した基台３５全体のチルト状態に基づき、基台３５の載置面３５ａを水平にするための各駆動モータ４７のチルト補正量を設定する。チルト状態からチルト補正量の算出は、例えば、所定の演算式を用いてもよく、チルト状態に対応する各駆動モータ４７のチルト補正量を記述したデータを用いてもよい。これにより例えば、一の駆動モータ４７のトルクが他の駆動モータ４７のトルクよりも相対的に大きい場合には、プローブ１６の荷重が一の駆動モータ４７に多くかかっていることになる。このため、補正量算出部７３は、相対的に大きなトルクがかかっている一の駆動モータ４７のチルト補正量を、他の駆動モータ４７のチルト補正量よりも大きく設定する。

【0048】

４つのＺ軸用コントローラ７１は、補正量算出部７３が算出した各々のチルト補正量を受信すると、その受信タイミングと同周期の位置指令にチルト補正量を加えることで、補正した目標位置を算出する。目標位置出力部７２は、この補正した目標位置をサーボアンプ８１に出力する。これにより、Ｚ軸移動機構４０は、プローブ１６の荷重によって基台３５が傾いた場合でも、４つの昇降部４５（駆動モータ４７）の各々が適切に昇降して基台３５を水平にすることができる。

【0049】

図２に戻り、ステージ３０の隣接位置に配置される針研機構６０も、ステージ３０と同じ構成からなる研磨側Ｚ軸移動機構６２を有する。すなわち、研磨側Ｚ軸移動機構６２は、研磨側支持フレーム６３と、研磨側支持フレーム６３に支持されるとともに、研磨体６１を昇降させる４つの研磨側昇降部６４と、を備える。研磨側支持フレーム６３は、支持フレーム４１と同様に、一対の側壁および連結壁（不図示）を有し、平面視でＨ字状に形成されている。また、各研磨側昇降部６４は、昇降部４５と同様に、研磨側駆動モータ６５、研磨側動力変換部６６、研磨側Ｚ軸可動体６７および研磨側ガイド部６８を有する。

【0050】

この研磨側Ｚ軸移動機構６２も、プローブ１６に研磨体６１を接触させる際に、４つの研磨側昇降部６４により研磨体６１のチルトを補正することができる。換言すれば、針研機構６０も、荷重を受ける研磨体６１（本開示の基台３５に相当）の姿勢を適切に調整する機能を有する。つまりプローブ１６の研磨時に、針研機構６０は、研磨体６１を水平に保つことで、プローブ１６の研磨量を均等化することができる。

【0051】

本実施形態に係るステージ３０および検査装置１は、基本的には以上のように構成され、以下その作用について説明する。

【0052】

まずＺ軸移動機構４０が４つの昇降部４５を有することの意義について、図７を参照して説明する。図７は、Ｚ軸移動機構４０の駆動モータ４７の軸部４７０（昇降部４５）の配置例を示す概略説明図であり、（ａ）は、本実施形態に係るＺ軸移動機構４０を示し、（ｂ）は、参考例に係るＺ軸移動機構１００を示す。なお、図７中では、４つの駆動モータ４７または３つの駆動モータ４７を結ぶ線が基台３５に外接しているが、この線は基台３５よりも内側に位置してもよい。

【0053】

図７（ｂ）に示すように、参考例に係るＺ軸移動機構１００は、３つの駆動モータ４７により基台３５を昇降させる。この場合、３つの駆動モータ４７の配置は、基台３５の姿勢を安定してバランスさせるために、基台３５に対して大きく離れた位置に配置される。すなわち、３つの駆動モータ４７で基台３５を支持するＺ軸移動機構１００では、ステージ３０の平面サイズが大きくなる。

【0054】

これに対し、図７（ａ）に示すように、本実施形態に係るＺ軸移動機構４０は、４つの駆動モータ４７により基台３５を昇降させる。このＺ軸移動機構４０は、参考例に係るＺ軸移動機構１００に比べて、基台３５の近くに４つの駆動モータ４７を配置することができる。つまり、Ｚ軸移動機構４０は、４つの駆動モータ４７によってステージ３０の平面サイズを小さくしつつ、基台３５を安定してバランスさせることができる。

【0055】

図８は、ウエハＷの検査時におけるステージ３０の動作を示すフローチャートである。図９は、プローブ１６の荷重に対するステージ３０による基台３５の動作を示す説明図であり、（ａ）は、プローブ１６の荷重の中心がずれた場合を示し、（ｂ）は、基台３５の姿勢の調整を示す。

【0056】

検査装置１は、ウエハＷの検査時に、コントローラ９０の制御に基づきステージ３０の基台３５の載置面３５ａにウエハＷを載置する。基台３５にウエハＷが載置されると、ステージ制御部７０は、コントローラ９０から移動指示を受信する。これにより図８に示すように、ステージ制御部７０は、移動部３２を制御して、水平方向（Ｘ軸－Ｙ軸方向）に沿ってウエハＷを搬送する（ステップＳ１）。この水平方向の搬送によって、ステージ３０は、テスタ２０の下方にウエハＷを配置させる。

【0057】

その後、ステージ制御部７０は、各Ｚ軸用コントローラ７１から各サーボアンプ８１に、駆動モータ４７の目標位置を出力する（ステップＳ２）。これにより、各サーボアンプ８１から適宜の電力が各駆動モータ４７に供給され、各駆動モータ４７は、基台３５を鉛直方向上側に上昇させる。各Ｚ軸可動体４６は、駆動モータ４７の上昇時に、昇降方向と直交する方向に沿って連続する支持フレーム４１に固定された各ガイド部４８にガイドされる。そのため、各Ｚ軸可動体４６は、鉛直方向に沿って円滑に変位し、基台３５をガタツキなく上昇させる。また、ステージ制御部７０は、プローブカード１５のプローブ１６に基台３５が接触するまで、同じ昇降速度で各Ｚ軸可動体４６を上昇させる。したがって、ステージ３０は、基台３５の載置面３５ａの水平を良好に維持することができる。

【0058】

基台３５の上昇に伴って、テスタ２０が支持している各プローブ１６がウエハＷに接触する。この際、図９（ａ）に示すように、各プローブ１６の荷重の重心が、基台３５の中心からずれていると、基台３５にチルト（傾き）が発生する。一例として、各プローブ１６から約５００ｋｇの荷重が基台３５の外周部付近にかかった場合、基台３５は、μｍ単位で傾くことになる。

【0059】

このため、ステージ制御部７０は、Ｚ軸移動機構４０の４つの昇降部４５を独立的に制御して、基台３５のチルト状態を補正することで載置面３５ａを水平化する。具体的には、ステージ制御部７０は、基台３５の上昇時に、各トルクセンサ５５からトルク（荷重値）をそれぞれ取得する（ステップＳ３）。

【0060】

そして、ステージ制御部７０は、プローブ１６がウエハＷの任意の位置に接触した際における、リアルタイムの各トルクを取得し、補正量算出部７３により４つの昇降部４５毎のチルト補正量を算出する（ステップＳ４）。補正量算出部７３は、上記したように、各トルクに基づき各プローブ１６の荷重負荷位置を抽出し、さらに荷重負荷位置から基台３５全体のチルト状態を推定し、チルト状態に基づき各チルト補正量を算出する。各チルト補正量は、基台３５のチルト状態を３次元座標上で高精度に補正可能な値となっている。

【0061】

ステージ制御部７０の各Ｚ軸用コントローラ７１は、補正量算出部７３から送信されたチルト補正量を位置指令に加算して、補正した目標位置を各サーボアンプ８１に出力する（ステップＳ５）。これにより、各サーボアンプ８１は、この補正した目標位置に応じた電力を各駆動モータ４７に供給し、各駆動モータ４７は、相互に独立して回転し、Ｚ軸可動体４６を昇降させる。例えば図９（ｂ）に示すように、ステージ３０は、基台３５においてプローブ１６から荷重がかかっている箇所付近の１つまたは２つのＺ軸可動体４６が他の箇所のＺ軸可動体４６よりも僅かに上昇する。その結果、ステージ３０は、基台３５の載置面３５ａの傾きを補正して、載置面３５ａを水平にすることができる。

【0062】

ステージ３０によって載置面３５ａが水平に保たれることで、各プローブ１６の荷重のバラツキが抑制され、各プローブ１６の接触抵抗を安定化させることができる。このため、ステージ制御部７０は、ウエハＷの電気的検査を開始するために、基台３５のチルト補正済の情報を検査装置１のコントローラ９０などに送信する（ステップＳ６）。この情報に基づき、コントローラ９０は、ステージ３０に搬送されたウエハＷの検査を開始する。なお、コントローラ９０は、検査側カメラ２９の画像情報を受信して載置面３５ａが水平となったことを認識し、検査を開始してもよい。これにより、検査装置１は、ウエハＷを精度よく検査可能となり、ウエハＷの検査においてイールドを向上させることができる。

【0063】

また、４つの昇降部４５を有するＺ軸移動機構４０は、基台３５のチルトを調整することに限定されず、検査時に種々の制御を行うことができる。以下、図１０を参照して、Ｚ軸移動機構４０の他の制御について説明する。図１０（ａ）は、ステージ３０による載置面補正を示す概略説明図であり、図１０（ｂ）は、ステージ３０による平行補正を示す概略説明図である。

【0064】

図１０（ａ）に示すように、例えば、基台３５は、温度の影響を受けることで載置面３５ａが凹状または凸状に反るように変形する場合があり、これにより載置面３５ａの平面度が低下する。そのため、ステージ３０は、Ｚ軸移動機構４０を用いて載置面補正を実施することができる。載置面補正において、ステージ制御部７０は、検査側カメラ２９により撮像した載置面３５ａの画像情報に基づき、この載置面３５ａの反りを検出することで、載置面３５ａの反りに応じて４つの昇降部４５の昇降を独立して調整する。よって載置面３５ａが反った場合でも、複数のプローブ１６が接触する箇所の載置面３５ａを水平にすることができ、各プローブ１６の接触抵抗を安定化させることが可能となる。

【0065】

また、図１０（ｂ）に示すように、プローブカード１５側が傾斜した場合に、ステージ３０は、プローブカード１５の傾斜に合うように基台３５の載置面３５ａを傾斜させる平行補正を実施することができる。例えば平行補正において、ステージ３０は、ステージ側カメラ１９により撮像したプローブカード１５の画像情報に基づき、プローブカード１５の傾斜状態（傾斜の方向、チルト量）を算出し、この傾斜状態に応じて４つの昇降部４５の昇降を独立して調整する。これにより、プローブカード１５が傾斜した場合でも、複数のプローブ１６に対して載置面３５ａを平行に対向させることができ、各プローブ１６の接触抵抗を安定化させることが可能となる。

【0066】

また、ステージ３０は、上記した実施形態に限定されず、種々の変形例を採ることができる。図１１は、変形例に係るＺ軸移動機構４０Ａ、４０Ｂを示す概略説明図であり、（ａ）は、方形状の支持フレーム４１Ａを有するＺ軸移動機構４０Ａを示し、（ｂ）は、十字形状の支持フレーム４１Ｂを有するＺ軸移動機構４０Ｂを示す。

【0067】

図１１（ａ）に示すように、Ｚ軸移動機構４０Ａは、平面視で、長方形状（方形環状）の支持フレーム４１Ａを有し、支持フレーム４１Ａの内側の壁面４３ｃ、４３ｄに４つの昇降部４５のガイド部４８を固定した構成でもよい。例えば、ガイド部４８は、支持フレーム４１の一対の短辺にそれぞれ２つずつ設けられ、内側に配置されたＺ軸可動体４６の変位をガイドする。この場合でも、支持フレーム４１は、各昇降部４５を安定して昇降させることで、基台３５のチルトを補正することができる。

【0068】

また図１１（ｂ）に示すように、Ｚ軸移動機構４０Ｂは、平面視で、十字形状の支持フレーム４１Ｂを有し、この支持フレーム４１の壁面４３ｅ、４３ｆ、４３ｇ、４３ｈに４つの昇降部４５のガイド部４８を固定した構成でもよい。この場合でも、支持フレーム４１は、ガイド部４８を強固に固定することができ、各昇降部４５を安定して昇降させることができる。なお図１１（ｂ）に例示するように、各昇降部４５のガイド部４８は、異なる壁面４３ｅ、４３ｆ、４３ｇ、４３ｈに複数のレール４９を備えてよい（この構成は、他のＺ軸移動機構４０、４０Ａにも適用可能である）。

【0069】

また図１２は、変形例に係る昇降部４５Ａ、４５Ｂを示す概略説明図であり、（ａ）は、駆動モータ４７に適用した磁気ギヤードモータ５８Ａを示し、（ｂ）は、駆動モータ４７とＺ軸可動体４６の間に適用した磁気減速機構５８Ｂを示す。図１２に示すように、ステージ３０は、４つの駆動モータ４７自体、または４つＺ軸可動体４６と４つの駆動モータ４７との間に、磁気により駆動モータ４７の回転運動を減速させる磁気減速部５８を備えてもよい。

【0070】

例えば、磁気減速部５８としては、図１２（ａ）に示すように、駆動モータ４７として磁気減速機能を備えた磁気ギヤードモータ５８Ａを適用した構成があげられる。一例として、磁気ギヤードモータ５８Ａは、ステータ５８１と、ステータ５８１と同軸の高速ロータ５８２および低速ロータ５８３とを有する。ステータ５８１は、磁気ギヤードモータ５８Ａの外周部側に位置し、複数のコイルを周方向に沿って環状に配置しており、Ｚ軸用コントローラ７１の制御下にモータドライバ部８０から各コイルに対して三相交流電力が供給される。高速ロータ５８２は、磁気ギヤードモータ５８Ａの中心側に設けられ、その外周面には複数の磁極（Ｎ極、Ｓ極）が周方向に沿って環状に配置されている。低速ロータ５８３は、ステータ５８１と高速ロータ５８２との間に配置された環状部材であり、複数のポールピースを周方向に沿って環状に配置している。そして、低速ロータ５８３には、この低速ロータ５８３の回転をＺ軸可動体４６の直線運動に変換する動力変換部５１（図３参照）が連結されている。

【0071】

以上のように構成された磁気ギヤードモータ５８Ａは、モータドライバ部８０（図２参照）からの三相交流電力に基づき、内側の高速ロータ５８２を回転させる。そして、高速ロータ５８２の回転に応じて、高速ロータ５８２の外側に配置された低速ロータ５８３が低速、高トルクで回転する。磁気ギヤードモータ５８Ａの減速比は、高速ロータ５８２の磁極数と低速ロータ５８３のポールピース数との割合で設定することができる。昇降部４５Ａは、このように磁気ギヤードモータ５８Ａを適用することで、Ｚ軸可動体４６を昇降させる際の消費電力を大幅に低減できる。また、磁気ギヤードモータ５８Ａは、小型化を図りつつ、トルクを増大できることで、フットプリントを可及的に小さくできる。さらに、磁気ギヤードモータ５８Ａは、高速ロータ５８２および低速ロータ５８３を相互に非接触としてトルク伝達を行うことができるので、振動低減につながり、ステージ３０の移動においてウエハＷのコンタクト性能を向上させる。その結果、テスト時のイールド向上を期待することができる。

【0072】

あるいは、磁気減速部５８は、図１２（ｂ）に示すように、各駆動モータ４７と各Ｚ軸可動体４６（動力変換部５１）との間に、磁気減速機構５８Ｂをそれぞれ備えた構成でもよい。磁気減速機構５８Ｂは、例えば、複数のポールピースを環状に配置したステータ５８６と、ステータ５８６の内側で複数の磁極を環状に配置した高速ロータ５８７と、ステータ５８６の外側で複数の磁極を環状に配置した低速ロータ５８８と、を有する。この場合、ステータ５８６は固定されている一方で、駆動モータ４７の軸部４７０に高速ロータ５８７が連結されている。高速ロータ５８７は、駆動モータ４７の回転に追従して回転する。低速ロータ５８８は、高速ロータ５８７の磁極の回転がステータ５８６の複数のポールピースを介して伝達されることで、高速ロータ５８７の回転に対して減速した状態で回転するようになる。したがって、磁気減速機構５８Ｂを有する昇降部４５Ｂも、磁気ギヤードモータ５８Ａと同様に、消費電力の低減、小型化、軽量化、振動低減等の効果を得ることができる。

【0073】

以上の実施形態で説明した本開示の技術的思想および効果について以下に記載する。

【0074】

本開示の第１の態様は、ステージ３０であって、被搬送体（ウエハＷ）を載置する１つの基台３５と、基台３５を昇降可能に支持する４つの可動体（Ｚ軸可動体４６）と、４つの可動体の各々に対応して設けられ、当該４つの可動体を個別に昇降させる４つの駆動モータ４７と、４つの可動体の各々の昇降を案内する４つのガイド部４８と、基台３５の昇降方向と直交する方向に沿って一連に連続し、かつ昇降方向に平行な壁面４３ａ～４３ｈを有し、当該壁面４３ａ～４３ｈに４つのガイド部４８の全てを固定する１つの支持フレーム４１、４１Ａ、４１Ｂと、を有する。

【0075】

上記によれば、ステージ３０は、４つの可動体（Ｚ軸可動体４６）を個別に昇降させることで、基台３５の姿勢を適切に調整することができる。特に、ステージ３０は、昇降方向と直交する平面方向に一連に連続する支持フレーム４１、４１Ａ、４１Ｂにより、４つのガイド部４８を固定することで、各可動体を円滑に昇降させることが可能となり、基台３５にかかる荷重の均等化を促すことができる。さらに、４つの可動体、４つの駆動モータ４７および４つのガイド部４８は、ステージ３０の平面サイズを可及的に小さくできる。

【0076】

また、基台３５の昇降時に４つの駆動モータ４７毎の目標位置を設定し、目標位置に基づき４つの駆動モータ４７の動作を制御する制御部（ステージ制御部７０）と、４つの駆動モータ４７の各々に設けられ、当該駆動モータ４７のトルクを検出する４つのトルクセンサ５５と、を備え、制御部は、４つのトルクセンサ５５の各々からフィードバックされたトルクに基づき、４つの駆動モータ４７毎の目標位置を補正する。これにより、ステージ３０は、基台３５にかかる荷重に基づき、４つの可動体を精度よく昇降させることができる。

【0077】

また、制御部（ステージ制御部７０）は、４つのトルクセンサ５５のトルクに基づき、基台３５のチルト状態を認識し、基台３５のチルト状態に応じて４つの駆動モータ４７毎の目標位置を補正する補正値を算出する。これにより、ステージ３０は、４つの駆動モータ４７を一層精度よく制御することが可能となり、例えば、基台３５が水平から傾いた場合でも基台３５を迅速に水平に戻すことができる。

【0078】

また、支持フレーム４１は、昇降方向を直交する方向に、一対の側壁４２と、一対の側壁４２の間を連結する連結壁４３と、を有することで、平面視でＨ字状に形成され、４つの可動体（Ｚ軸可動体４６）、４つの駆動モータ４７および４つのガイド部４８は、一対の側壁４２の間に配置されている。これにより、ステージ３０は、支持フレーム４１により４つのガイド部４８を安定して支持することで、可動体の昇降をスムーズに行うことができる。

【0079】

また、支持フレーム４１は、連結壁４３の一方の壁面４３ａに４つのガイド部４８のうち２つを固定しているとともに、連結壁４３の他方の壁面４３ｂに４つのガイド部４８のうち残りの２つを固定している。これにより、ステージ３０は、２つの可動体（Ｚ軸可動体４６）が連結壁４３の延在方向に沿って並ぶように設けられ、平面サイズをより小さくすることができる。

【0080】

また、４つの可動体（Ｚ軸可動体４６）各々は、４つの駆動モータ４７の各々に接続される横延在部４６０と、横延在部４６０の延在方向と直交して延在し４つのガイド部４８の各々に案内される縦延在部４６１と、有する。これにより、４つの可動体は、ガイド部４８との接触区間が長くなり、ガイド部４８に沿って一層安定して昇降できる。

【0081】

また、支持フレーム４１、４１Ａ、４１Ｂおよび４つのガイド部４８は、昇降方向に沿って４つの駆動モータ４７の設置位置よりも長く延在している。これにより、ステージ３０は、可動体（Ｚ軸可動体４６）の昇降距離をかせぐことができ、また可動体を安定して昇降させることが可能となる。

【0082】

また、４つの駆動モータ４７は、ダイレクトドライブモータである。これにより、ステージ３０は、駆動モータ４７の高さを小さくでき、基台３５の昇降方向にもコンパクト化を促すことができる。

【0083】

また、４つの駆動モータ４７自体、または４つ可動体（Ｚ軸可動体４６）と４つの駆動モータ４７との間に、磁気により駆動モータ４７の回転運動を減速させる磁気減速部５８を備える。これにより、ステージ３０は、消費電力の低減、小型化、軽量化、振動低減等の効果を得ることができる。

【0084】

また、磁気減速部５８は、ステータ５８１、当該ステータ５８１と同軸の高速ロータ５８２および低速ロータ５８３を有し、駆動モータ４７自体を構成する磁気ギヤードモータ５８Ａである。このように磁気ギヤードモータ５８Ａを採用することで、ステージ３０は、駆動モータ４７自体の小型化を促すことができるので、ステージ３０全体（例えば、Ｚ軸方向の高さ等）の小型化をより一層促進することが可能となる。

【0085】

また、磁気減速部５８は、４つの可動体（Ｚ軸可動体４６）と４つの駆動モータ４７との間に、ステータ５８６、当該ステータ５８６と同軸の高速ロータ５８７および低速ロータ５８８を有する磁気減速機構５８Ｂをそれぞれ備える。このように磁気減速機構５８Ｂを備えた場合でも、ステージ３０は、駆動モータ４７の回転をスムーズに減速してＺ軸可動体４６を昇降させることができる。そのため、小型の駆動モータ４７を採用することができ、結果的にステージ３０全体としての小型化を促進できる。

【0086】

また、本開示の第２の態様は、基板（ウエハＷ）を載置して搬送するステージ３０を有し、搬送された基板にプローブ１６を押圧して当該基板の電気的特性を検査する検査装置１であって、ステージ３０は、１つの基台３５と、基台３５を昇降可能に支持する４つの可動体（Ｚ軸可動体４６）と、４つの可動体の各々に対応して設けられ、当該４つの可動体を個別に昇降させる４つの駆動モータ４７と、４つの可動体の各々の昇降を案内する４つのガイド部４８と、基台３５の昇降方向と直交する方向に沿って一連に連続し、かつ昇降方向に平行な壁面４３ａ～４３ｈを有し、当該壁面４３ａ～４３ｈに４つのガイド部４８の全てを固定する１つの支持フレーム４１、４１Ａ、４１Ｂと、を有する。

【0087】

また、本開示の第３の態様は、ステージ３０の動作方法であって、１つの基台３５を搬送する工程と、４つの駆動モータ４７を個別に駆動して、当該４つの駆動モータ４７の各々に設けられた４つの可動体（Ｚ軸可動体４６）により基台３５を昇降させる工程と、を有し、基台３５を昇降させる工程では、基台３５の昇降方向と直交する方向に沿って一連に連続する１つの支持フレーム４１、４１Ａ、４１Ｂにおいて、昇降方向に平行な壁面４３ａ～４３ｈに固定された４つのガイド部４８の各々により、４つの可動体の各々の昇降を案内する。

【0088】

第２および第３の態様でも、基台３５の姿勢を適切に調整して、基台３５にかかる荷重の均等化を促すことができる。

【0089】

今回開示された実施形態に係るステージ３０、検査装置１およびステージ３０の動作方法は、すべての点において例示であって制限的なものではない。実施形態は、添付の請求の範囲およびその主旨を逸脱することなく、様々な形態で変形および改良が可能である。上記複数の実施形態に記載された事項は、矛盾しない範囲で他の構成も取り得ることができ、また、矛盾しない範囲で組み合わせることができる。

【符号の説明】

【0090】

１ 検査装置
３０ ステージ
３５ 基台
４１、４１Ａ、４１Ｂ 支持フレーム
４３ａ～４３ｈ 壁面
４６ Ｚ軸可動体
４７ 駆動モータ
４８ ガイド部
Ｗ ウエハ

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】

【図6】

【図7】

【図8】

【図9】

【図10】

【図11】

【図12】