特開 2023-71095 搬送装置

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】公開特許公報(A)

(11)【公開番号】P2023071095

(43)【公開日】2023-05-22

(54)【発明の名称】搬送装置

(51)【国際特許分類】

   B65G 49/06 20060101AFI20230515BHJP

   B65G 54/02 20060101ALI20230515BHJP

   B65G 21/20 20060101ALI20230515BHJP

   H01L 21/677 20060101ALI20230515BHJP

【ＦＩ】

B65G49/06 Z

B65G54/02

B65G21/20 A

H01L21/68 A

【審査請求】未請求

【請求項の数】4

【出願形態】ＯＬ

(21)【出願番号】P 2021183705

(22)【出願日】2021-11-10

(71)【出願人】

【識別番号】000231464

【氏名又は名称】株式会社アルバック

(74)【代理人】

【識別番号】110000305

【氏名又は名称】弁理士法人青莪

(72)【発明者】

【氏名】永田 純一

(72)【発明者】

【氏名】吉田 雄一

(72)【発明者】

【氏名】鈴木 傑之

(72)【発明者】

【氏名】梅原 政司

【テーマコード（参考）】

3F021

3F025

5F131

【Ｆターム（参考）】

3F021AA01

3F021BA02

3F021CA06

3F025BA06

3F025BA08

3F025BC01

3F025BC04

3F025BC06

3F025BC10

5F131AA02

5F131CA12

5F131DA05

5F131DA22

5F131DA23

5F131DA42

5F131DB12

5F131DB62

5F131DB72

5F131GA14

5F131HA09

5F131HA33

5F131HA35

5F131JA08

5F131JA16

5F131JA24

(57)【要約】

【課題】搬送トレイを接触支持する搬送部の部分での摩耗粉の発生を可及的に抑制することができる構成を持つ搬送装置を提供する。
【解決手段】真空チャンバＰｃ，Ｌｃ，Ｖｃ１～Ｖｃｎ，Ｂｃ内で搬送路Ｔｐ１，Ｔｐ２に沿って被処理基板Ｓｗが配置される搬送トレイＴｒを搬送するための本発明の搬送装置ＴＭ_１は、搬送路に沿った搬送トレイの移動方向をＸ軸方向、Ｘ軸方向に直交する重力加速度方向をＺ軸方向とし、搬送トレイを非接触でＺ軸方向上方に牽引した状態でＸ軸方向への移動を案内する第１案内部４と、第１案内部によりその重量の一部が牽引された搬送トレイの残余の重量を接触支持してＸ軸方向前方に搬送トレイを搬送する搬送部５とを備え、搬送トレイを接触支持する搬送部の部分がＺ軸方向の自由度のみを制限するように構成される。
【選択図】図３

【特許請求の範囲】

【請求項1】

真空チャンバ内で搬送路に沿って被処理基板が配置される搬送トレイを搬送するための搬送装置であって、
搬送路に沿った搬送トレイの移動方向をＸ軸方向、Ｘ軸方向に直交する重力加速度方向をＺ軸方向とし、搬送トレイを非接触でＺ軸方向上方に牽引した状態でＸ軸方向への移動を案内する第１案内部と、第１案内部によりその重量の一部が牽引された搬送トレイの残量の重量を接触支持してＸ軸方向前方に搬送トレイを搬送する搬送部とを備えるものにおいて、
搬送トレイを接触支持する搬送部の部分がＺ軸方向の自由度のみを制限するように構成されることを特徴とする搬送装置。

【請求項2】

前記搬送部の部分が前記搬送トレイのＺ軸方向下面に点接触する転動体で構成されることを特徴とする請求項１に記載の搬送装置。

【請求項3】

前記搬送トレイのＺ軸方向下部にて非接触でＺ軸方向上方に牽引した状態でＸ軸方向への移動を案内する第２案内部を更に備えることを特徴とする請求項１または請求項２記載の搬送装置。

【請求項4】

前記第２案内部は、前記搬送トレイの下部に設けた一方の磁石と、この一方の磁石とＺ軸方向上方から引き合うように前記真空チャンバ内で前記搬送路に沿って設けた他方の磁石とを備えることを特徴とする請求項３記載の搬送装置。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、真空チャンバ内で搬送路に沿って被処理基板が配置される搬送トレイを搬送するための搬送装置に関する。

【背景技術】

【0002】

上記種の搬送装置は、例えば特許文献１で知られている。このものは、搬送路に沿った搬送トレイの移動方向をＸ軸方向、Ｘ軸方向に直交する重力加速度方向をＺ軸方向とし、Ｘ軸方向及びＺ軸方向に直交する方向をＹ軸方向とし、搬送トレイを非接触でＺ軸方向上方に牽引した状態でＸ軸方向への移動を案内する案内部（第１案内部）と、搬送トレイを接触支持して搬送する搬送部とを備える。案内部としては、搬送トレイの上部に設けられる第１磁石と、この第１磁石からＺ軸方向上方に間隔を置いて、且つ、第１磁石と引き合うように真空チャンバ内で搬送路に沿って設けられる第２磁石とを備えるものが一般に使用される。他方、搬送部としては、搬送トレイのＺ軸方向下面にＸ軸方向にのびるように設けた円筒状のレール部材に係合する所定曲率で湾曲した凹溝を設けた搬送ローラを備えるものが一般に使用される。そして、搬送トレイのレール部材を介して搬送ローラで搬送トレイの下部を接触支持し、搬送ローラの回転によりその上部を案内部でガイドしながらＸ軸方向前方へと搬送トレイが搬送される。

【0003】

上記搬送装置の搬送部では、通常、摩耗粉（発塵）の抑制を目的として、案内部に搬送トレイの重量（基板が配置されている場合には、基板重量も含む）の一部を牽引させることで、搬送トレイの残余の重量を接触支持する搬送ローラに印加する面圧及び荷重を軽減させている。これと同時に、搬送部の搬送ローラと共にＹ軸方向の自由度等について制限する構成となっている。つまり、この搬送装置によって搬送トレイを搬送する際、案内部が搬送トレイに対し、Ｚ軸方向上下を軸にした回転（ヨー）、Ｘ軸方向前後を軸にした回転（ロール）やＹ軸方向の移動について、搬送トレイの上部においてその移動をある範囲に制限する（移動の自由度を制限する）構成となっており、同様に搬送ローラも搬送トレイの下部において、Ｚ軸方向上下を軸にした回転（ヨー）、Ｘ軸方向前後を軸にした回転（ロール）やＹ軸方向の移動について、その移動をある範囲に制限する構成となっている。なお、Ｚ軸方向の移動とＹ軸方向前後を軸にした回転（ピッチング）の自由度については、搬送ローラがその移動の制限する構成となっており、案内部は搬送ローラに印加する面圧ならびに荷重を軽減させる効果のみを奏する構成となっている。

【0004】

上記搬送部の構成では、Ｘ軸或いはＺ軸方向前後を軸にした搬送トレイの回転やＹ軸方向左右の移動の自由度に一定の制限を加えることができる（即ち、搬送トレイの下部の搬送ローラからの逸脱を防止することができる）が、搬送トレイ下部における移動の自由度の制限は、レール部材と搬送ローラの凹溝等による機械的な係合要素を用いる構成である。このため、搬送ローラの凹溝内では搬送トレイの移動に伴って係合部材がＹ軸方向左右に滑り移動する場合があり、このときの滑り摩擦に伴って係合部材と搬送ローラの回転に伴って凹溝内で摩耗粉を発生させてしまうという問題がある。特に、常時、Ｚ軸方向に対して所定角度で搬送トレイを傾斜させて搬送させるような場合にはより顕著になる。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0005】

【特許文献1】特開２００５－２８９５５６号公報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0006】

本発明は、以上の点に鑑み、搬送トレイを接触支持する搬送部の部分での摩耗粉の発生を可及的に抑制することができる構成を持つ搬送装置を提供することをその課題とするものである。

【課題を解決するための手段】

【0007】

上記課題を解決するために、真空チャンバ内で搬送路に沿って被処理基板が配置される搬送トレイを搬送するための本発明の搬送装置は、搬送路に沿った搬送トレイの移動方向をＸ軸方向、Ｘ軸方向に直交する重力加速度方向をＺ軸方向とし、搬送トレイを非接触でＺ軸方向上方に牽引した状態でＸ軸方向への移動を案内する第１案内部と、第１案内部によりその重量の一部が牽引された搬送トレイの残余の重量を接触支持してＸ軸方向前方に搬送トレイを搬送する搬送部とを備え、搬送トレイを接触支持する搬送部の部分がＺ軸方向の自由度のみを制限するように構成されることを特徴とする。この場合、例えば、前記搬送部の部分を前記搬送トレイのＺ軸方向下面に点接触する転動体で構成することができる。

【0008】

以上によれば、搬送部の部分を例えば球体などの転動体で構成すると、搬送トレイの上部にて第１案内部でガイド案内しながら搬送トレイを搬送する際に、搬送トレイにＸ軸方向前後を軸にした搬送トレイの回転（ロール）やＹ軸方向左右の移動の自由度があっても、搬送部の部分では転がり摩擦しか発生しないため、上記従来例のような滑り摩擦に伴う摩耗粉の発生を可及的に抑制することができる。

【0009】

本発明においては、前記搬送トレイのＺ軸方向下部にて非接触でＺ軸方向上方に牽引した状態でＸ軸方向への移動を案内する第２案内部を更に備える構成を採用することができる。これにより、第１案内部により搬送トレイの重量の一部が牽引されることに加えて、第２案内部により搬送部で接触支持される搬送トレイの残余の重量の一部もまた牽引されることで、搬送トレイを接触支持する搬送部の部分に加わる搬送トレイの荷重を軽減でき、摩擦に伴う摩耗粉の発生を一層抑制することができる。この場合、前記第２案内部は、前記搬送トレイの下部に設けた一方の磁石と、この一方の磁石とＺ軸方向上方から引き合うように前記真空チャンバ内で前記搬送路に沿って設けた他方の磁石とを備える構成を採用すれば、搬送トレイの下部におけるＸ軸方向前後を軸にした搬送トレイの回転（ロール）やＹ軸方向左右の移動の自由度を制限でき、摩擦に伴う摩耗粉の発生を一層抑制することができる。なお、本発明において、搬送トレイの「Ｚ軸方向下部」は、Ｚ軸方向下端部のみを指すものではなく、搬送部で接触支持された搬送トレイの重心よりＺ軸方向下方に位置する部分をいう。

【図面の簡単な説明】

【0010】

【図1】本発明の実施形態の搬送装置を備えるインライン式の真空処理装置の縦断面図。

【図2】図１に示すインライン式の真空処理装置の横断面図。

【図3】搬送トレイの搬送状態を示す部分拡大図。

【図4】搬送装置の変形例を説明する図。

【発明を実施するための形態】

【0011】

以下、図面を参照して、被処理基板をフラットパネルディスプレイの製造に利用される大面積のガラス基板（以下、「基板Ｓｗ」という）とし、基板Ｓｗの一方の面（処理面）に成膜処理、熱処理、エッチング処理といった各種の真空処理を施すことができるインライン式の真空処理装置に適用したものを例に、真空チャンバ内で搬送路に沿って基板Ｓｗが配置される搬送トレイＴｒを搬送するための本発明の搬送装置ＴＭ_１の実施形態を説明する。以下においては、搬送路Ｔｐ１，Ｔｐ２に沿った搬送トレイＴｒの移動方向をＸ軸方向、Ｘ軸方向に直交する重力加速度方向をＺ軸方向、Ｘ軸方向及びＺ軸方向に直交する方向をＹ軸方向とする。また、搬送トレイＴｒにセットされた基板Ｓｗの一方の面（処理面）がＹ軸方向一方を向く搬送トレイＴｒ（及び基板Ｓｗ）の姿勢を起立姿勢（Ｚ軸に対して所定角度で搬送トレイＴｒが傾斜する姿勢も含む）、搬送トレイＴｒにセットされた基板Ｓｗの処理面がＺ軸方向上方を向く搬送トレイＴｒ（及び基板Ｓｗ）の姿勢を水平姿勢とする。

【0012】

図１～図３を参照して、インライン式の真空処理装置Ｖｍは、図外の搬送ロボットにより処理前の基板Ｓｗを水平姿勢で搬送トレイＴｒの一方の面に配置し、または、水平姿勢の搬送トレイＴｒから処理済みの基板Ｓｗを取り出すためのポジションチャンバＰｃを備える。搬送トレイＴｒは、基板Ｓｗより一回り大きな輪郭の板状体１１で構成され、板状体１１には、起立姿勢にしたときに基板Ｓｗの下辺が当接する基板受け部１２と、板状体１１に対して基板Ｓｗの縁部を局所的に押圧するクランプなどの押圧部（図示せず）とが設けられ、真空処理の間、起立姿勢の基板Ｓｗを搬送トレイＴｒに保持することができる。基板Ｓｗに対する真空処理によっては、マスクプレートが基板Ｓｗと共に取り付けられるようにしてもよい。このような搬送トレイＴｒとしては公知のものが利用できるため、これ以上の説明は省略する。

【0013】

大気雰囲気に維持されるポジションチャンバＰｃには、他方の面側から搬送トレイＴｒを保持した状態で傾動自在な傾動部２が備えられ、水平姿勢と起立姿勢との間で搬送トレイＴｒの姿勢を変更することができる。傾動部２は保持板２１を備え、保持板２１の所定位置には、特に図示して説明しないが、バキュームチャックなどの保持機構が設けられ、搬送トレイＴｒを起立姿勢にしたときでも保持板２１から基板Ｓｗが離脱しないようにしている。保持板２１には、Ｘ軸方向に間隔を置いて立設されて、単軸ロボットなどの機構（図示せず）によりＺ軸方向上下に同期して伸縮自在な２本のフレーム２２に設けた回転軸２３が連結され、モータＭｔにより回転軸２３を一方向に回転駆動すると、保持板２１が回転軸２３回りに回転して搬送トレイＴｒを傾動するようにしている。各フレーム２２の下端は、Ｙ軸方向にのびるようにポジションチャンバＰｃに設けた単軸ロボットの移動機構２４に連結され、Ｙ軸方向左右に往復動自在となっている。

【0014】

ポジションチャンバＰｃにて水平姿勢の搬送トレイＴｒに基板Ｓｗが配置されると、傾動部２は、搬送トレイＴｒを持ち上げながら回転して搬送トレイＴｒを起立姿勢とし、移動機構２４により後述の搬送部のＺ軸方向上方の位置までＹ軸方向一方に移動した後、搬送トレイＴｒを差し込むように搬送部へと受け渡す。一方、後述の搬送部から処理済みの基板Ｓｗがある搬送トレイＴｒを受け取るときには、傾動部２は、他方の面側から搬送トレイＴｒを保持した後、Ｚ軸方向上方に引き抜くように起立姿勢の搬送トレイＴｒを持ち上げた後、搬送トレイＴｒを持ち下げながら搬送トレイＴｒを回転させて水平姿勢に変更してＹ軸方向他方に所定位置まで移動し、搬送トレイＴｒからの処理済みの基板Ｓｗの回収が可能となる。

【0015】

ポジションチャンバＰｃのＸ軸方向前方には、ゲートバルブＧｖ１を介してロードロックチャンバＬｃが連設されている。ロードロックチャンバＬｃには、特に図示して説明しないが、真空ポンプからの排気管とベントガスを導入するベントガスラインとが夫々接続され、ロードロックチャンバＬｃを真空雰囲気と大気雰囲気とに適宜切り換えることができる。ロードロックチャンバＬｃのＸ軸方向前方には、基板Ｓｗの処理面に対して実施しようとする各種の真空処理に応じた数の処理チャンバＶｃ１～ＶｃｎがゲートバルブＧｖ２，Ｇｖｎを介して順次連設されている。各処理チャンバＶｃ１，Ｖｃｎは、Ｘ軸方向に沿ってのびる隔離壁３１によってＹ軸方向で左右２室に隔絶され、各室３１ａ，３１ｂには、例えば、スパッタリングカソードといった各種の真空処理の実施に必要な装置３２が夫々設けられている。そして、基板Ｓｗの処理面がＹ軸方向一方（図２中、下方）を向く起立姿勢で搬送トレイＴｒが各処理チャンバＶｃ１，Ｖｃｎの各室３１ａ，３１ｂを夫々通過する間に、基板Ｓｗの処理面に対し各種の真空処理が施される。Ｘ軸方向前方で最下流側に位置する処理チャンバＶｃｎにはターンバックチャンバＢｃが連設されている。これらポジションチャンバＰｃ、ロードロックチャンバＬｃ、処理チャンバＶｃ１～Ｖｃｎ及びターンバックチャンバＢｃが、本実施形態の真空チャンバを構成する。

【0016】

ターンバックチャンバＢｃには、特に図示して説明しないが、上面に搬送ローラを設けたＹ軸方向(図２中、上下方向)に移動自在な移動ステージが設けられ、処理チャンバＶｃｎのＹ軸方向左側の室３１ａから受け取った搬送トレイＴｒを再度処理チャンバＶｃｎのＹ軸方向右側の室３１ｂに戻すことができる。そして、ポジションチャンバＰｃとターンバックチャンバＢｃとの間でＸ軸方向にのびる２本の搬送路Ｔｐ１，Ｔｐ２に沿って搬送トレイＴｒを起立姿勢で夫々搬送できるように本実施形態の搬送装置ＴＭ_１が設けられている。以下において、互いにＸ軸方向に連設されたポジションチャンバＰｃからロードロックチャンバＬｃ、各処理チャンバＶｃ１，ＶｃｎのＹ軸方向左側の室３１ａを経てターンバックチャンバＢｃに通じる、搬送トレイＴｒがＸ軸方向前方（図１，２中、左側から右側）に搬送されるものを行き搬送路Ｔｐ１、逆に、ターンバックチャンバＴｃからＹ軸方向右側の室３１ｂ、ロードロックチャンバＬｃを経てポジションチャンバＰｃに通じる、搬送トレイＴｒがＸ軸方向後方（図１中、右側から左側）に搬送されるものを戻り搬送路Ｔｐ２とする。

【0017】

搬送装置ＴＭ_１は、起立姿勢の搬送トレイＴｒを非接触でＺ軸方向上方に牽引した状態で、Ｘ軸方向前方または後方への移動を案内する第１案内部４と、第１案内部４によりその重量の一部が牽引された搬送トレイＴｒの残余の重量を接触支持してＸ軸方向前方または後方に搬送トレイＴｒを搬送する搬送部５と、搬送トレイＴｒのＺ軸方向下部にて非接触でＺ軸方向上方に牽引した状態でＸ軸方向前方または後方への移動を案内する第２案内部６とを備える。第１案内部４は、搬送トレイＴｒの板状体１１のＺ軸方向上面にその上辺に沿って取り付けたＸ軸方向に長手の第１磁石４１と、行き搬送路Ｔｐ１及び戻り搬送路Ｔｐ２に沿ってポジションチャンバＰｃ、ロードロックチャンバＬｃ及び各処理チャンバＶｃ１，Ｖｃｎ内のＺ軸方向上部に夫々配置した第２磁石４２とを備える。第１磁石４１と第２磁石４２とは、その対向面の極性が異なるように着磁され、これにより、搬送トレイＴｒを非接触でＺ軸方向上方に牽引した状態でＸ軸方向前後への移動を夫々案内する。なお、第１磁石４１と第２磁石４２とはＹ軸方向に間隔を置いて複数列で設けることもでき、この場合には、第１磁石４１と第２磁石４２との互いに向かい合うものの極性を交互に変えることが好ましい。

【0018】

搬送部５は、行き搬送路Ｔｐ１及び戻り搬送路Ｔｐ２に沿ってポジションチャンバＰｃ、ロードロックチャンバＬｃ及び各処理チャンバＶｃ１，Ｖｃｎ内の下部にＸ軸方向に間隔を置いて複数設けられる転動体としての搬送コロ５１を備える。各搬送コロ５１は、ポジションチャンバＰｃ、ロードロックチャンバＬｃ及び各処理チャンバＶｃ１，Ｖｃｎ内の所定位置に夫々軸支される軸体５１ａと、各軸体５１ａに夫々外嵌されて搬送トレイＴｒのＺ軸方向下面に接触する車輪部５１ｂとで構成される。この場合、単一の軸体５１ａには、Ｙ軸方向に間隔を置いて少なくとも２個の車輪部５１ｂが取り付けられ、車輪部５１ｂの先端はまた、径方向外方に向かって先細りである楕円状に形成され、車輪部５１ｂが搬送トレイＴｒのＺ軸方向の下面に点接触するようにしている。本実施形態では、各搬送コロ５１が、Ｚ軸方向の自由度のみを制限した状態で搬送トレイＴｒを接触支持する搬送部５の部分を構成する。特に図示して説明しないが、各搬送コロ５１の軸体５１ａには、プーリー、歯車、駆動ベルトやモータといった公知の動力伝達機構が連結され、行き搬送路Ｔｐ１及び戻り搬送路Ｔｐ２毎に各搬送コロ５１が同期して同方向に回転駆動される。

【0019】

第２案内部６は、搬送トレイＴｒのＺ軸方向下部に設けた第３磁石（一方の磁石）６１と、行き搬送路Ｔｐ１及び戻り搬送路Ｔｐ２に沿ってポジションチャンバＰｃ、ロードロックチャンバＬｃ及び各処理チャンバＶｃ１，Ｖｃｎ内の下部に夫々配置した第４磁石６２とを備える。搬送トレイＴｒの板状体１１には、基板Ｓｗが配置される一方の面に背向する他方の面側（図３中、左側）でその下端にその外方に向けて延出させて支持板部１３が形成され、支持板部１３のＺ軸方向上面に第３磁石６１が設けられている。他方、行き搬送路Ｔｐ１及び戻り搬送路Ｔｐ２に沿ってポジションチャンバＰｃ、ロードロックチャンバＬｃ及び各処理チャンバＶｃ１，Ｖｃｎ内のＺ軸方向下部には、搬送トレイＴｒの支持板部１３にＺ軸方向に間隔を置いて対峙する水平壁部６３ａを持つ支持壁６３がＸ軸方向に沿ってのびるように夫々設けられ、水平壁部６３ａの下面に第４磁石６２が設けられている。第３磁石６１と第４磁石６２とは、その対向面の極性が異なるように着磁され、これにより、搬送トレイＴｒのＺ軸方向下部を非接触でＺ軸方向上方に牽引した状態でＸ軸方向前後への移動を夫々案内する。なお、第３磁石６１と第４磁石６２とは、上記同様、Ｙ軸方向に間隔を置いて複数列で設けることもでき、この場合には、第３磁石６１と第４磁石６２との互いに向かい合うものの極性を交互に変えることが好ましい。また、搬送部５に対する搬送トレイＴｒの受け渡しまたは受け取りの際に、第３磁石６１と第４磁石６４とが干渉する場合には、ポジションチャンバＰｃ内の支持壁６３をＹ軸方向左右に一体に移動自在に構成することが好ましい。

【0020】

以上の実施形態によれば、搬送トレイＴｒをＸ軸方向前後に搬送する際、搬送トレイＴｒの下面と搬送部５の部分として、転動体である点接触の搬送コロ５１を用いたことから、転動体と搬送トレイＴｒ側の軌道面との間の滑り摩擦が発生しないため、上記従来例のような滑り摩擦に伴う摩耗粉の発生を可及的に抑制することができる。しかも、第１案内部４によって搬送トレイＴｒの重量の一部が牽引されることに加えて、第２案内部６によって、搬送コロ５１で接触支持される搬送トレイＴｒの残余の重量の一部もまた牽引されることで、各搬送コロ５１に加わる搬送トレイＴｒの荷重をより一層軽減することができ、その上、第２案内部６によって搬送トレイＴｒの下部におけるＸ軸方向前後を軸にした搬送トレイＴｒの回転（ロール）やＹ軸方向左右の移動の自由度が制限されることで、摩擦に伴う摩耗粉の発生をより一層抑制することができる。

【0021】

以上、本発明の実施形態について説明したが、本発明の技術思想の範囲を逸脱しない限り、種々の変形が可能である。上記実施形態では、搬送部５として、搬送トレイＴｒのＺ軸方向の下面に点接触して支持する搬送コロ５１を備えるものを例に説明したが、Ｚ軸方向の自由度のみを制限した状態で搬送トレイＴｒを接触支持できるものであれば、これに限定されるものではない。例えば、変形例に係る搬送装置ＴＭ_２では、同一の部材、要素に同一の符号を付した図４に示すように、搬送トレイＴｒのＺ軸方向下面に対峙させてポジションチャンバＰｃ、ロードロックチャンバＬｃ及び各処理チャンバＶｃ１，Ｖｃｎ内にはレール板７が設けられ、レール板７のＺ軸方向上面には、Ｘ軸方向及びＹ軸方向に沿って半球状の球受け部７１が複数個設けられ、各球受け部７１には、転動自在に球体７２に格納されている。そして、転動体としての各球体７２によりＺ軸方向の自由度のみを制限した状態で搬送トレイＴｒを接触支持することができる。この場合、特に図示して説明しないが、搬送トレイＴｒをＸ軸方向前後に搬送する駆動手段が別途設けられ、このような駆動手段としては、推進コイルを設けた公知のリニアモータなどを利用することができる。

【0022】

また、上記実施形態では、第１案内部４と第２案内部６として、互いに引き合うように配置した一対の磁石４１，４２，６１，６２を備えるものを例に説明したが、第１案内部４として、搬送トレイＴｒの重量（基板Ｓｗ重量も含む）の一部を牽引できると共に、少なくともＸ軸方向の自由度、Ｚ軸方向上下の移動とＹ軸方向左右を軸とした回転（ピッチング）の自由度がある程度制限できるものであれば、これに限定されるものではない。特に図示して説明しないが、例えば、ポジションチャンバＰｃ、ロードロックチャンバＬｃ及び各処理チャンバＶｃ１，Ｖｃｎ内上部にレール部材を設け、このレール部材に摺動自在に係合するスライダに設け、スライダにＸ軸方向に間隔を置いて吊設した複数本のワイヤで送トレイＴｒを牽引した状態で案内するようにしてもよい。他方、第２案内部６もまた、特に、Ｘ軸方向前後を軸にした搬送トレイＴｒの回転（ロール）やＹ軸方向左右の移動の自由度がある程度制限できるものであれば、これに限定されるものではなく、上記第１案内部と同様の構成を採用するようにしてもよい。

【0023】

更に、上記実施形態では、搬送部５に備わる転動体として単一の軸体５１ａに少なくとも２個の車輪部５１ｂを設けた搬送コロ５１を例に説明したが、これに限定されるものでなく、１個の車輪部とした構成でも不都合はない。また、搬送トレイＴｒのＺ軸方向の自由度を制限すると共に搬送トレイＴｒへＸ軸方向の駆動力を転がり接触による摩擦力にて伝達されるように構成されるのであれば不都合はない。つまり、滑り接触ではなく転がり接触で駆動可能となるための垂直抗力が第１案内部４によりその重量の一部が牽引された搬送トレイＴｒの残余の重量として確保され、これに必要な安全率を付与した構成とすれば理想的な実施形態となる。更に、上記実施形態では、車輪部５１ｂの先端が搬送トレイＴｒのＺ軸方向の下面に点接触するようにし、その点接触部位は、軸体５１ａを経由して回転駆動力が伝達される機構としたが、この車輪部と軸体との嵌合部に例えば等速ジョイントを用いれば、確実に転がり接触によって搬送トレイＴｒへ駆動力を伝達することもできるため、変形例に係る搬送装置ＴＭ_２で述べた軸方向前後に搬送する別途の駆動手段を設ける必要が無い構成とすることもできる。また、上記実施形態では、搬送トレイＴｒの板状体１１に、基板Ｓｗが配置される一方の面に背向する他方の面側でその下端に支持板部１３を形成し、支持板部１３のＺ軸方向上面に第３磁石６１を設けたものを例に説明したが、第３磁石６１を配置できれば、その形態は問わない。例えば、搬送トレイＴｒの板状体１１に、基板Ｓｗが配置される一方の面側に支持板部１３を形成し、その上面に第３磁石６１を配置してもよい。

【符号の説明】

【0024】

ＴＭ_１，ＴＭ_２…搬送装置、Ｓｗ…基板（被処理基板）、Ｔｐ１，Ｔｐ２…搬送路、Ｔｒ…搬送トレイ、Ｐｃ…ポジションチャンバ（真空チャンバ）、Ｌｃ…ロードロックチャンバ（真空チャンバ）、Ｖｃ１～Ｖｃｎ…処理チャンバ（真空チャンバ）、Ｂｃ…ターンバックチャンバ（真空チャンバ）、４…第１案内部、５…搬送部、５１…搬送コロ（転動体）、６…第２案内部、６１…第３磁石（一方の磁石）、６２…第４磁石（他方の磁石）。

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】