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| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 7947616 | 成膜方法及び成膜装置 | 2026年11月10日 | |
| 特許 7947561 | ガス分析装置用のイオン源並びにこれを具備するガス分析装置 | 2026年11月10日 | |
| 特許 7947560 | ガス分析装置用のイオン源並びにこれを具備するガス分析装置 | 2026年11月10日 | |
| 特許 7947243 | 真空蒸着装置用の蒸着源 | 2026年11月10日 | |
| 特許 7942388 | タングステンスパッタリングターゲット、タングステンスパッタリングターゲット組立体およびその製造方法 | 2026年10月27日 | |
| 特許 7942126 | 搬送装置及びこの搬送装置を備えるインライン式の真空処理装置 | 2026年10月27日 | |
| 特許 7929104 | スパッタリング装置 | 2026年10月 2日 | |
| 特許 7926640 | 基板処理装置、および、基板処理方法 | 2026年 9月29日 | |
| 特許 7922588 | 成膜方法及び成膜装置 | 2026年 9月16日 | |
| 特許 7918011 | 成膜方法 | 2026年 9月 9日 | |
| 特許 7912088 | PVDスパッタリング法を通したタングステンの比抵抗及び応力制御方法 | 2026年 8月27日 | |
| 特許 7908140 | 成膜方法および成膜装置 | 2026年 8月19日 | |
| 特許 7904439 | ターゲット組立体およびターゲット組立体の製造方法 | 2026年 8月12日 | |
| 特許 7894716 | スパッタリングターゲット機構、成膜装置、及び成膜方法 | 2026年 7月24日 | |
| 特許 7890860 | 成膜装置 | 2026年 7月15日 |
40 件中 1-15 件を表示
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7947616 7947561 7947560 7947243 7942388 7942126 7929104 7926640 7922588 7918011 7912088 7908140 7904439 7894716 7890860
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商標権侵害の回避と否定の理論と実務「商標・ブランドの変更」と「商標の類似」 ~どこまで商標を変更すれば侵害にならないか~
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