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■ 2026年 出願公開件数ランキング 第636位 26件
(
2025年:第800位 31件)
■ 2026年 特許取得件数ランキング 第553位 26件
(
2025年:第545位 43件)
(ランキング更新日:2026年8月10日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 7894716 | スパッタリングターゲット機構、成膜装置、及び成膜方法 | 2026年 7月24日 | |
| 特許 7890860 | 成膜装置 | 2026年 7月15日 | |
| 特許 7890494 | ガス分析装置用のイオン源並びにこれを具備するガス分析装置 | 2026年 7月14日 | |
| 特許 7887288 | 基板処理装置、および、基板処理方法 | 2026年 7月 9日 | |
| 特許 7883374 | 真空処理装置及び真空処理方法 | 2026年 7月 1日 | |
| 特許 7883401 | 測定装置、成膜装置および膜厚測定方法 | 2026年 7月 1日 | |
| 特許 7881304 | 真空処理方法及び真空処理装置 | 2026年 6月29日 | |
| 特許 7878948 | 成膜方法及び弾性波デバイス | 2026年 6月23日 | |
| 特許 7873102 | 真空処理装置及び真空処理方法 | 2026年 6月11日 | |
| 特許 7867862 | 真空蒸着装置用の蒸着源 | 2026年 6月 1日 | |
| 特許 7865781 | 真空蒸着装置用の蒸着源 | 2026年 5月26日 | |
| 特許 7865786 | 成膜方法 | 2026年 5月26日 | |
| 特許 7865801 | 成膜方法 | 2026年 5月26日 | |
| 特許 7857098 | 真空蒸着装置、自転角度判定方法及び被蒸着物の製造方法 | 2026年 5月12日 | |
| 特許 7856456 | 真空蒸着装置用の蒸着源 | 2026年 5月11日 |
27 件中 1-15 件を表示
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7894716 7890860 7890494 7887288 7883374 7883401 7881304 7878948 7873102 7867862 7865781 7865786 7865801 7857098 7856456
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