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■ 2024年 出願公開件数ランキング 第649位 38件 (2023年:第641位 46件)
■ 2024年 特許取得件数ランキング 第429位 59件 (2023年:第259位 132件)
(ランキング更新日:2024年11月22日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特許 7587937 | 導電膜の形成方法、および、成膜装置 | 2024年11月21日 | |
特許 7586681 | プラズマCVD装置 | 2024年11月19日 | |
特許 7579665 | 真空噴霧凍結用ノズル、凍結乾燥装置、および造粒方法 | 2024年11月 8日 | |
特許 7575335 | 圧電体膜の形成方法及び圧電デバイス | 2024年10月29日 | |
特許 7575432 | 情報処理装置、情報処理方法およびプログラム | 2024年10月29日 | |
特許 7574451 | 真空処理装置 | 2024年10月28日 | |
特許 7572846 | プラズマ成膜装置及びプラズマ成膜方法 | 2024年10月24日 | |
特許 7572997 | 真空処理装置及び真空処理方法 | 2024年10月24日 | |
特許 7569650 | エッチング方法、および、エッチング装置 | 2024年10月18日 | |
特許 7550243 | マグネトロンスパッタリング装置用のカソードユニット及びマグネトロンスパッタリング装置 | 2024年 9月12日 | |
特許 7550316 | 基板保持装置 | 2024年 9月12日 | |
特許 7550326 | 成膜装置、および搬送方法 | 2024年 9月12日 | |
特許 7544895 | 質量分析計及び質量分析システム | 2024年 9月 3日 | |
特許 7543176 | プラズマ処理装置およびそのメンテナンス方法 | 2024年 9月 2日 | |
特許 7543448 | マグネトロンスパッタリング装置用のカソードユニット及びマグネトロンスパッタリング装置 | 2024年 9月 2日 |
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7587937 7586681 7579665 7575335 7575432 7574451 7572846 7572997 7569650 7550243 7550316 7550326 7544895 7543176 7543448
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11月22日(金) -
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11月22日(金) - 東京 港区
11月22日(金) -
11月22日(金) - 大阪 大阪市
11月22日(金) -
11月22日(金) -
11月25日(月) -
11月25日(月) - 岐阜 各務原市
11月26日(火) -
11月26日(火) - 東京 港区
11月26日(火) -
11月26日(火) -
11月26日(火) -
11月27日(水) - 東京 港区
11月27日(水) -
11月27日(水) -
11月27日(水) -
11月27日(水) -
11月28日(木) - 東京 港区
11月28日(木) - 島根 松江市
11月28日(木) - 京都 京都市
11月28日(木) -
11月28日(木) - 大阪 大阪市
11月28日(木) -
11月29日(金) - 東京 港区
11月29日(金) - 茨城 ひたちなか市
11月30日(土) -
12月1日(日) -
12月1日(日) -
11月25日(月) -
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