特開 2023-75684 ゲートバルブ及び駆動方法。

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】公開特許公報(A)

(11)【公開番号】P2023075684

(43)【公開日】2023-05-31

(54)【発明の名称】ゲートバルブ及び駆動方法。

(51)【国際特許分類】

   F16K 3/18 20060101AFI20230524BHJP

   F16K 51/02 20060101ALI20230524BHJP

【ＦＩ】

F16K3/18 B

F16K51/02 B

【審査請求】未請求

【請求項の数】7

【出願形態】ＯＬ

(21)【出願番号】P 2021188737

(22)【出願日】2021-11-19

(71)【出願人】

【識別番号】000219967

【氏名又は名称】東京エレクトロン株式会社

(74)【代理人】

【識別番号】100126480

【弁理士】

【氏名又は名称】佐藤 睦

(74)【代理人】

【識別番号】100140431

【弁理士】

【氏名又は名称】大石 幸雄

(74)【代理人】

【識別番号】100135677

【弁理士】

【氏名又は名称】澤井 光一

(74)【代理人】

【識別番号】100131598

【弁理士】

【氏名又は名称】高村 和宗

(72)【発明者】

【氏名】網倉 紀彦

(72)【発明者】

【氏名】北 正知

【テーマコード（参考）】

3H053

3H066

【Ｆターム（参考）】

3H053AA02

3H053BA24

3H053DA09

3H066AA03

3H066BA38

(57)【要約】

【課題】ガスリークを低減できるゲートバルブ及び駆動方法を提供する。
【解決手段】本開示に係るゲートバルブは、第１の開口部が設けられた第１のチャンバを有する真空処理装置において前記第１の開口部を開閉するゲートバルブであって、前記第１の開口部を開閉するための弁体と、前記弁体が前記第１の開口部を閉じる位置である閉位置と前記弁体が前記第１の開口部を開放する位置である開位置を少なくとも取るように、前記弁体を移動させる駆動部と、第１のガスライン及び第２のガスラインと、前記第１のガスライン及び前記第２のガスラインの一方を前記駆動部に接続する第１の切り替えバルブとを備え、前記駆動部は、前記第１のガスライン又は前記第２のガスラインから供給されたガスの圧力によって前記弁体を前記開位置から前記閉位置に移動し、前記第２のガスラインから供給されたガスの圧力によって前記弁体を前記閉位置に保持する。
【選択図】 図２

【特許請求の範囲】

【請求項1】

第１の開口部が設けられた第１のチャンバを有する真空処理装置において前記第１の開口部を開閉するゲートバルブであって、
前記第１の開口部を開閉するための弁体と、
前記弁体が前記第１の開口部を閉じる位置である閉位置と前記弁体が前記第１の開口部を開放する位置である開位置を少なくとも取るように、前記弁体を移動させる駆動部と、
第１のガスライン及び第２のガスラインと、
前記第１のガスライン及び前記第２のガスラインの一方を前記駆動部に接続する第１の切り替えバルブと
を備え、
前記駆動部は、
前記第１のガスライン又は前記第２のガスラインから供給されたガスの圧力によって前記弁体を前記開位置から前記閉位置に移動し、
前記第２のガスラインから供給されたガスの圧力によって前記弁体を前記閉位置に保持する、ゲートバルブ。

【請求項2】

前記第１の切り替えバルブは、
前記第１のガスラインから前記駆動部にガスを供給するか否かを切り替えるノーマルクローズバルブと、
前記第２のガスラインから前記駆動部にガスを供給するか否かを切り替えるノーマルオープンバルブと
を有する、請求項１に記載のゲートバルブ。

【請求項3】

前記駆動部は、前記弁体を移動させるエアシリンダを有し、
前記第１の切り替えバルブは、前記第１のガスラインを前記エアシリンダに接続するか、前記第２のガスラインを前記エアシリンダに接続するかを切り替える、請求項２に記載のゲートバルブ。

【請求項4】

前記駆動部に接続された第３のガスラインを更に備え、
前記駆動部は、第３のガスラインから供給されたガスの圧力によって前記弁体を前記開位置に保持する、請求項１から３のいずれか１項に記載のゲートバルブ。

【請求項5】

前記第１のガスラインにガスを供給するか、前記第３のガスラインにガスを供給するかを切り替える第２の切り替えバルブを備えた、請求項４に記載のゲートバルブ。

【請求項6】

前記第１のガスラインに供給されるガス、前記第２のガスラインに供給されるガス、及び、前記第３のガスラインに供給されるガスは、圧縮空気である、請求項１から５のいずれか１項に記載のゲートバルブ。

【請求項7】

第１の開口部が設けられた第１のチャンバを有する真空処理装置において前記第１の開口部を開閉するゲートバルブの駆動方法であって、
前記ゲートバルブは、
前記第１の開口部を開閉するための弁体と、
前記弁体が前記第１の開口部を閉じる位置である閉位置と前記弁体が前記第１の開口部を開放する位置である開位置を少なくとも取るように、前記弁体を移動させる駆動部と、
第１のガスライン及び第２のガスラインと、
前記第１のガスライン及び前記第２のガスラインの一方を前記駆動部に接続する第１の切り替えバルブと
を備え、
前記駆動方法は、
前記駆動部が、前記第１のガスライン又は前記第２のガスラインから供給されたガスの圧力によって前記弁体を前記開位置から前記閉位置に移動する工程と、
前記第２のガスラインから供給されたガスの圧力によって前記弁体を前記閉位置に保持する工程と
を含む、駆動方法。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本開示の例示的実施形態は、ゲートバルブ及び駆動方法に関する。

【背景技術】

【0002】

弁体が閉塞位置と開放位置の間で移動するゲートバルブとして、特許文献１に記載されたゲートバルブがある。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0003】

【特許文献1】特開２０１８－１０９８６号公報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0004】

本開示は、ガスリークを低減できるゲートバルブ及び駆動方法を提供する。

【課題を解決するための手段】

【0005】

本開示の一つの例示的実施形態において、第１の開口部が設けられた第１のチャンバを有する真空処理装置において前記第１の開口部を開閉するゲートバルブが提供される。ゲートバルブは、前記第１の開口部を開閉するための弁体と、前記弁体が前記第１の開口部を閉じる位置である閉位置と前記弁体が前記第１の開口部を開放する位置である開位置を少なくとも取るように、前記弁体を移動させる駆動部と、前記駆動部に接続された第１のガスラインと、前記駆動部に接続された第２のガスラインとを備え、前記駆動部は、前記第１のガスライン又は前記第２のガスラインから供給されたガスの圧力によって前記弁体を前記開位置から前記閉位置に移動し、前記第２のガスラインから供給されたガスの圧力によって前記弁体を前記閉位置に保持する。

【発明の効果】

【0006】

本開示の一つの例示的実施形態によれば、ガスリークを低減できるゲートバルブ及び駆動方法を提供することができる。

【図面の簡単な説明】

【0007】

【図1】基板処理システムＰＳの一例を概略的に示す図である。

【図2】ゲートバルブＧＶの構成の一例を概略的に示す図である。

【図3】ゲートバルブＧＶの状態の一例を概略的に示す図である。

【図4】ゲートバルブＧＶの状態の一例を概略的に示す図である。

【図5】ゲートバルブＧＶの状態の一例を概略的に示す図である。

【図6】ゲートバルブＧＶの構成の一例を概略的に示す図である。

【発明を実施するための形態】

【0008】

以下、本開示の各実施形態について説明する。

【0009】

一つの例示的実施形態において、第１の開口部が設けられた第１のチャンバを有する真空処理装置において第１の開口部を開閉するゲートバルブが提供される。ゲートバルブは、第１の開口部を開閉するための弁体と、弁体が第１の開口部を閉じる位置である閉位置と弁体が第１の開口部を開放する位置である開位置を少なくとも取るように、弁体を移動させる駆動部と、第１のガスライン及び第２のガスラインと、第１のガスライン及び第２のガスラインの一方を駆動部に接続する第１の切り替えバルブとを備え、駆動部は、第１のガスライン又は第２のガスラインから供給されたガスの圧力によって弁体を開位置から閉位置に移動し、第２のガスラインから供給されたガスの圧力によって弁体を閉位置に保持する。

【0010】

一つの例示的実施形態において、第１の切り替えバルブは、第１のガスラインから駆動部にガスを供給するか否かを切り替えるノーマルクローズバルブと、第２のガスラインから駆動部にガスを供給するか否かを切り替えるノーマルオープンバルブとを有する。

【0011】

一つの例示的実施形態において、駆動部は、弁体を移動させるエアシリンダを有し、第１の切り替えバルブは、第１のガスラインをエアシリンダに接続するか、第２のガスラインをエアシリンダに接続するかを切り替える。

【0012】

一つの例示的実施形態において、駆動部に接続された第３のガスラインを更に備え、駆動部は、第３のガスラインから供給されたガスの圧力によって弁体を開位置に保持する。

【0013】

一つの例示的実施形態において、第１のガスラインにガスを供給するか、第３のガスラインにガスを供給するかを切り替える第２の切り替えバルブを備える。

【0014】

一つの例示的実施形態において、第１のガスラインに供給されるガス、第２のガスラインに供給されるガス、及び、第３のガスラインに供給されるガスは、圧縮空気である。

【0015】

一つの例示的実施形態において、第１の開口部が設けられた第１のチャンバを有する真空処理装置において第１の開口部を開閉するゲートバルブの駆動方法が提供される。ゲートバルブは、第１の開口部を開閉するための弁体と、弁体が第１の開口部を閉じる位置である閉位置と弁体が第１の開口部を開放する位置である開位置を少なくとも取るように、弁体を移動させる駆動部と、第１のガスライン及び第２のガスラインと、前記第１のガスライン及び前記第２のガスラインの一方を前記駆動部に接続する第１の切り替えバルブと、制御部とを備え、駆動方法は、駆動部が、第１のガスライン又は第２のガスラインから供給されたガスの圧力によって弁体を開位置から閉位置に移動する工程と、第２のガスラインから供給されたガスの圧力によって弁体を閉位置に保持する工程とを含む。

【0016】

以下、図面を参照して、本開示の各実施形態について詳細に説明する。なお、各図面において同一または同様の要素には同一の符号を付し、重複する説明を省略する。特に断らない限り、図面に示す位置関係に基づいて上下左右等の位置関係を説明する。図面の寸法比率は実際の比率を示すものではなく、また、実際の比率は図示の比率に限られるものではない。

【0017】

＜基板処理システムＰＳの構成＞
図１は、一つの例示的実施形態に係る基板処理システムＰＳを概略的に示す図である。基板処理システムＰＳは、基板処理モジュールＰＭ１～ＰＭ６（以下、総称して「基板処理モジュールＰＭ」ともいう。）と、搬送モジュールＴＭと、ロードロックモジュールＬＬＭ１及びＬＬＭ２（以下、総称して「ロードロックモジュールＬＬＭ」ともいう。）と、ローダーモジュールＬＭ、ロードポートＬＰ１からＬＰ３（以下、総称して「ロードポートＬＰ」ともいう。）とを有する。制御部ＣＴは、基板処理システムＰＳの各構成を制御して、基板Ｗに所定の処理を実行する。

【0018】

基板処理モジュールＰＭは、その内部において、基板Ｗに対して、エッチング処理、トリミング処理、成膜処理、アニール処理、ドーピング処理、リソグラフィ処理、クリーニング処理、アッシング処理等の処理を実行する。基板処理モジュールＰＭの一部は、測定モジュールであってよく、基板Ｗ上に形成された層の厚さや、基板Ｗ上に形成されたパターンの寸法等を測定してもよい。

【0019】

搬送モジュールＴＭは、基板Ｗを搬送する搬送装置２２を有する。搬送モジュールＴＭは、基板処理モジュールＰＭ間又は基板処理モジュールＰＭとロードロックモジュールＬＬＭとの間で、基板Ｗを搬送する。基板処理モジュールＰＭ及びロードロックモジュールＬＬＭは、搬送モジュールＴＭに隣接して配置されている。搬送モジュールＴＭと基板処理モジュールＰＭ及びロードロックモジュールＬＬＭとは、開閉可能なゲートバルブＧＶによって空間的に隔離又は連結される。本実施形態において、搬送モジュールＴＭに含まれる搬送装置２２（図２参照）は、搬送モジュールＴＭのチャンバ２０の内部空間２０ｓ（図２参照）から基板処理モジュールＰＭのチャンバ１０（図２参照）の内部空間１０ｓに基板Ｗを搬送して、基板Ｗを基板支持部１１に載置する。また、搬送装置２２は、基板処理モジュールＰＭの内部空間１０ｓから搬送モジュールＴＭの内部空間２０ｓに基板Ｗを搬送する。搬送装置２２は、基板処理モジュールＰＭのチャンバ１０に形成された開口部１２を介して、搬送モジュールＴＭと基板処理モジュールＰＭとの間で、基板Ｗを移動する。一例として、搬送装置２２は、シリコンウェハ等の基板を搬送するハンドラであってよい。

【0020】

ロードロックモジュールＬＬＭ１及びＬＬＭ２は、搬送モジュールＴＭとローダーモジュールＬＭとの間に設けられている。ロードロックモジュールＬＬＭは、その内部の圧力を、大気圧又は真空に切り替えることができる。ロードロックモジュールＬＬＭは、大気圧であるローダーモジュールＬＭから真空である搬送モジュールＴＭへ基板Ｗを搬送し、また、真空である搬送モジュールＴＭから大気圧であるローダーモジュールＬＭへ搬送する。

【0021】

ローダーモジュールＬＭは、基板Ｗを搬送する搬送装置を有し、ロードロックモジュールＬＬＭとロードポートＬＰとの間で基板Ｗを搬送する。ロードポートＬＰ内の内部には、例えば２５枚の基板Ｗが収納可能なＦＯＵＰ（Ｆｒｏｎｔ Ｏｐｅｎｉｎｇ Ｕｎｉｆｉｅｄ Ｐｏｄ）または空のＦＯＵＰが載置できる。ローダーモジュールＬＭは、ロードポートＬＰ内のＦＯＵＰから基板Ｗを取り出して、ロードロックモジュールＬＬＭに搬送する。また、ローダーモジュールＬＭは、ロードロックモジュールＬＬＭから基板Ｗを取り出して、ロードポートＬＰ内のＦＯＵＰに搬送する。

【0022】

制御部ＣＴは、基板処理システムＰＳの各構成を制御して、基板Ｗに所定の処理を実行する。制御部ＣＴは、プロセスの手順、プロセスの条件、搬送条件等が設定されたレシピを格納する。制御部ＣＴは、当該レシピに従って、基板Ｗに所定の処理を実行するように、基板処理システムＰＳの各構成を制御する。制御部ＣＴは、図２に示す各構成を直接又は間接的に制御してよい。また、制御部ＣＴは、図２に示す各構成を電気的に又は機械的に制御してよい。機械的な制御は、図２に示す各構成を、ガスを用いて制御することを含む。

【0023】

＜ゲートバルブＧＶの構成＞
図２は、一つの例示的実施形態に係るゲートバルブＧＶの構成を概略的に示す図である。ゲートバルブＧＶは、弁体３０と、駆動部４０と、切り替えバルブ５０、５２及び５６と、ガスライン６０、６２、６４、６６及び６８を備える。切り替えバルブ５０は、第２の切り替えバルブの一例である。切り替えバルブ５２は、第１の切り替えバルブの一例である。ガスライン６２、６４及び６６は、それぞれ、第１のガスライン、第２のガスライン及び第３のガスラインの一例である。

【0024】

弁体３０は、基板処理モジュールＰＭの内部空間１０ｓと、搬送モジュールＴＭの内部空間２０ｓとを、空間的に隔離又は連結するよう構成されている。一例として、弁体３０は、基板処理モジュールＰＭのチャンバ１０及び搬送モジュールＴＭのチャンバ２０に連結されたチャンバ３４に収容されている。そして、開口部１２は、チャンバ１０からチャンバ３４に連通して設けられている。なお、図２におけるチャンバ１０、２０及び３４の断面図は、図１におけるＡＡ´断面の一部を概略的に示したものである。

【0025】

弁体３０には、Ｏリング３２が設けられている。弁体３０が、Ｏリング３２を、開口部１２の周囲においてチャンバ３４の内壁に押圧すると、基板処理モジュールＰＭの内部空間１０ｓと搬送モジュールＴＭの内部空間２０ｓとが空間的に隔離される。また、Ｏリング３２がチャンバ３４の内壁から離れると、基板処理モジュールＰＭの内部空間１０ｓと搬送モジュールＴＭの内部空間２０ｓとが空間的に連結される。

【0026】

駆動部４０は、弁体３０を移動するよう構成されている。一例として、駆動部４０は、チャンバ３４の内部空間において、図２におけるｘ１方向及びｘ２方向並びにｚ１方向及びｚ２方向に、弁体３０を移動する（以下、ｘ１方向及びｘ２方向を総称して「ｘ方向」、ｚ１方向及びｚ２方向を総称して「ｚ方向」ともいう。）。

【0027】

駆動部４０は、シリンダ４１及び４５を有する。駆動部４０は、シリンダ４１の内部にピストン４２を有する。ピストン４２には、ガスケット４３が設けられている。また、駆動部４０は、シャフト４４を有する。シャフト４４の一端にはピストン４２が接続されており、また、シャフト４４の他端には弁体３０が接続されている。そして、ピストン４２がシリンダ４１内をｚ方向に移動すると、弁体３０がチャンバ３４内においてｚ方向に移動する。

【0028】

また、駆動部４０は、シリンダ４５の内部にピストン４６を有する。ピストン４６には、ガスケット４７が設けられている。また、駆動部４０は、シャフト４８を有する。シャフト４８の一端にはピストン４６が接続されており、また、シャフト４８の他端にはシャフト４４が接続されている。そして、ピストン４６がシリンダ４５内をｘ方向に移動すると、シャフト４４がｘ方向に移動して、弁体３０がチャンバ３４内においてｘ方向に移動する。

【0029】

切り替えバルブ５０は、給気ポート及び排気ポートを有する。切り替えバルブ５０の給気ポートには、ガスライン６０が接続されている。そして、ガス供給源７０からバルブ８０及びガスライン６０を介して、切り替えバルブ５０の給気ポートにガスが供給される。そして、切り替えバルブ５０は、ガスライン６２及び６６の一方を給気ポートに接続して、当該一方にガス供給源７０からガスを供給するとともに、他方を排気ポートに接続して、当該他方を流れるガスを排気する。一例として、切り替えバルブ５０は、ソレノイドバルブであってよい。また、一例として、ガス供給源７０から供給されるガスは、圧縮空気であってよい。

【0030】

切り替えバルブ５２は、ガスライン６２及び６４の一方を、ガスライン６８に接続するバルブである。ガスライン６２は、切り替えバルブ５０の状態に応じて、切り替えバルブ５０の給気ポート又は排気ポートに接続される。また、ガスライン６４には、バルブ８２を介して、ガス供給源７２からガスが供給される。バルブ８２は、切り替えバルブ５２がガスライン６４をガスライン６８に接続している状態において、ガス供給源７２からガスライン６４にガスが常時供給されるよう制御されてよい。

【0031】

一例として、切り替えバルブ５２は、パイロットポート５４を有する。切り替えバルブ５２は、パイロットポート５４にガスが供給されるか否かに応じて、切り替えバルブ５２の状態を切り替える。一例として、切り替えバルブ５２は、パイロットポート５４にガスが供給されているときに、ガスライン６２をガスライン６８に接続し、他方で、パイロットポート５４にガスが供給されていないときにガスライン６４をガスライン６８に接続する。また、一例として、パイロットポート５４は、ガスライン６６に接続されてよい。即ち、切り替えバルブ５２は、ガス供給源７０からガスライン６６にガスが供給されているときに、ガスライン６２をガスライン６８に接続し、他方で、ガスライン６６が切り替えバルブ５０の排気ポートに接続されているときに、ガスライン６４をガスライン６８に接続してよい。

【0032】

一例として、ガス供給源７０は、搬送モジュールＴＭの動作に使用されるガスであってよい。ガス供給源７０が搬送モジュールＴＭの動作に使用されるガスである場合、搬送モジュールＴＭのメンテナンス時において、バルブ８０を閉状態にしてよい。即ち、搬送モジュールＴＭのメンテナンス時において、当該ガスは搬送モジュールＴＭ及びパイロットポート５４に供給されない。従って、切り替えバルブ５２は、ガスライン６４をガスライン６８に接続する。これにより、駆動部４０にはガス供給源７２からガスが供給される。

【0033】

ガスライン６８は、バルブ８８を介して分岐部７６に接続されている。分岐部７６は、ガスライン６８を分岐してシリンダ４１及び４５に接続する。ガスライン６８にガスが供給されている場合、分岐部７６は、ガスライン６８に供給されたガスを分岐して、シリンダ４１及び４５に供給する。分岐部７６は、ガスライン６８に供給されたガスの圧力及び／又は流量を調整して、シリンダ４１にガスを供給する。また、分岐部７６は、ガスライン６８に供給されたガスの圧力及び／又は流量を調整して、シリンダ４５にガスを供給する。

【0034】

切り替えバルブ５６は、ガスライン６６を駆動部４０に接続するか否かを切り替えるバルブである。切り替えバルブ５６は、パイロットポート５８を有する。切り替えバルブ５６は、パイロットポート５８にガスが供給されているときに、ガスライン６６を駆動部４０に接続し、他方で、パイロットポート５８にガスが供給されていないときに、ガスライン６６を駆動部４０に接続しないよう構成されている。

【0035】

パイロットポート５８には、バルブ８４を介してガス供給源７４からガスが供給されてよい。一例として、ガス供給源７４は、基板処理モジュールＰＭの動作に使用されるガスであってよい。ガス供給源７４が基板処理モジュールＰＭの動作に使用されるガスである場合、基板処理モジュールＰＭのメンテナンス時において、バルブ８４を閉状態にしてよい。即ち、基板処理モジュールＰＭのメンテナンス時において、当該ガスは基板処理モジュールＰＭ及び切り替えバルブ５６に供給されない。従って、切り替えバルブ５６は、閉状態となり、ガスライン６６は駆動部４０に接続されない。

【0036】

ガスライン６６は、分岐部７８を介して駆動部４０に接続されている。分岐部７８は、ガスライン６６を分岐してシリンダ４１及び４５に接続する。ガスライン６６にガスが供給されている場合、分岐部７８は、ガスライン６６に供給されたガスを分岐して、シリンダ４１及び４５に供給する。分岐部７８は、ガスライン６６に供給されたガスの圧力及び／又は流量を調整して、シリンダ４１にガスを供給する。また、分岐部７８は、ガスライン６６に供給されたガスの圧力及び／又は流量を調整して、シリンダ４５にガスを供給する。

【0037】

次に、図２から図５を参照して、本実施形態に係るゲートバルブＧＶの動作の一例について説明する。

【0038】

＜弁体３０を開位置に保持＞
図２は、弁体３０が開位置にあるときのゲートバルブＧＶの状態の一例を示す図である。図２に示すように弁体３０を開位置に保持する場合、切り替えバルブ５０において、ガスライン６６が切り替えバルブ５０の給気ポートに接続され、ガスライン６２が排気ポートに接続される。これにより、ガス供給源７０からガスライン６６にガスが供給されると、ガスライン６６からパイロットポート５４にガスが供給されて、切り替えバルブ５２によって、ガスライン６２がガスライン６８に接続される。これにより、シリンダ４１の内部空間のうちピストン４２よりもｚ２方向側にある空間、及び、シリンダ４５の内部空間のうちピストン４６よりもｘ２方向にある空間が、切り替えバルブ５０の排気ポートに接続される。

【0039】

他方で、シリンダ４１の内部空間のうちピストン４２よりもｚ１方向側にある空間、及び、シリンダ４５の内部空間のうちピストン４６よりもｘ１方向にある空間に、ガス供給源７０からガスライン６６及び分岐部７８を介して、ガスが供給される。これにより、ピストン４２はｚ２方向に押圧され、また、ピストン４６はｘ２方向に押圧される。従って、弁体３０は、図２に示す開位置に保持される。

【0040】

なお、弁体３０が開位置にある場合に、弁体３０が保持される位置は、図示する位置に限られない。弁体３０は、基板処理モジュールＰＭの内部空間１０ｓと搬送モジュールＴＭの内部空間２０ｓが空間的に連結される位置にあればよい。また、弁体３０は、搬送装置２２が開口部１２を通って基板支持部１１に基板Ｗを搬送できる位置にあってよい。

【0041】

＜弁体３０を開位置から閉位置に移動＞
図３は、弁体３０を開位置から閉位置に移動させるときのゲートバルブＧＶの状態の一例を概略的に示す図である。弁体３０を開位置から閉位置に移動する場合、切り替えバルブ５０において、ガスライン６６が切り替えバルブ５０の排気ポートに接続され、ガスライン６２が給気ポートに接続される。これにより、ガス供給源７０からパイロットポート５４にガスが供給されないため、切り替えバルブ５２によって、ガスライン６４がガスライン６８に接続される。これにより、シリンダ４１の内部空間のうちピストン４２よりもｚ２方向側にある空間、及び、シリンダ４５の内部空間のうちピストン４６よりもｘ２方向にある空間に、ガス供給源７２からガスが供給される。

【0042】

他方で、シリンダ４１の内部空間のうちピストン４２よりもｚ１方向側にある空間、及び、シリンダ４５の内部空間のうちピストン４６よりもｘ１方向にある空間は、ガスライン６６を介して排気ポートに接続される。これにより、ピストン４２はｚ１方向に押圧され、また、ピストン４６はｘ１方向に押圧される。これにより、弁体３０は、図３におけるｚ１方向及びｘ１方向に移動する。

【0043】

＜弁体３０を閉位置に保持＞
図４は、弁体３０が閉位置にあるときのゲートバルブＧＶの状態の一例を概略的に示す図である。弁体３０が開位置からｚ１方向及びｘ１方向に移動して、図４に示すように開口部１２を閉じた後、切り替えバルブ５０及び５２は、引き続き、図３と同じ状態を取ってよい。即ち、切り替えバルブ５０において、ガスライン６６は排気ポートに接続されてよい。また、切り替えバルブ５２において、ガスライン６４がガスライン６８に接続されてよい。これにより、弁体３０が閉位置まで移動した後も、ガス供給源７２からシリンダ４１及び４５に、ガスが供給される。従って、弁体３０が閉位置に移動した後、即ち、弁体３０が閉位置に保持されるときに、ガス供給源７２から供給されたガスによって、シリンダ４１及び４５において、ピストン４２及び４６に対して、それぞれｚ１方向及びｘ１方向に、十分な圧力を与えることができる。これにより、弁体３０がチャンバ３４の内壁に押圧されるので、基板処理モジュールＰＭの内部空間１０ｓと搬送モジュールＴＭの内部空間２０ｓとを空間的に隔離することができる。

【0044】

本実施形態によれば、弁体３０が閉位置に保持されるときに、ガス供給源７２から供給されたガスによって、弁体３０がチャンバ３４の内壁に、所定の圧力を保ちながら押圧される。これにより、基板処理モジュールＰＭの内部空間１０ｓの圧力が、搬送モジュールＴＭの内部空間２０ｓの圧力よりも高い場合であっても、内部空間１０ｓから内部空間２０ｓへのガスのリークを低減させることができる。

【0045】

＜弁体３０を閉位置から開位置に移動＞
図５は、弁体３０を閉位置から開位置に移動させるときのゲートバルブＧＶの状態の一例を概略的に示す図である。弁体３０を閉位置から開位置に移動する場合、切り替えバルブ５０において、ガスライン６６が切り替えバルブ５０の給気ポートに接続され、ガスライン６２が排気ポートに接続される。これにより、ガス供給源７０からガスライン６６にガスが供給されると、ガスライン６６からパイロットポート５４にガスが供給されて、切り替えバルブ５２によって、ガスライン６２がガスライン６８に接続される。これにより、シリンダ４１の内部空間のうちピストン４２よりもｚ２方向側にある空間、及び、シリンダ４５の内部空間のうちピストン４６よりもｘ２方向にある空間が、切り替えバルブ５０の排気ポートに接続される。

【0046】

他方で、シリンダ４１の内部空間のうちピストン４２よりもｚ１方向側にある空間、及び、シリンダ４５の内部空間のうちピストン４６よりもｘ１方向にある空間に、ガス供給源７０からガスライン６６及び分岐部７８を介して、ガスが供給される。これにより、ピストン４２はｚ２方向に押圧され、また、ピストン４６はｘ２方向に押圧される。これにより、弁体３０は、図５におけるｚ２方向及びｘ２方向に移動する。弁体３０が閉位置からｚ２方向及びｘ２方向に移動して開位置に到達すると、図２に示すように、弁体３０は当該開位置に保持される。

【0047】

図６は、他の例示的実施形態に係るゲートバルブＧＶの構成を概略的に示す図である。また、図６は、弁体３０が開位置にあるときのゲートバルブＧＶの状態の一例を示す。図６に示すゲートバルブＧＶは、図２から図５に示すゲートバルブＧＶにおける切り替えバルブ５０に替えて、切り替えバルブ５２－１及び５２－２を有する。

【0048】

切り替えバルブ５２－１は、ガスライン６２をガスライン６８に接続するか否かを切り替えるバルブである。また、切り替えバルブ５２－２は、ガスライン６４をガスライン６８に接続するか否かを切り替えるバルブである。切り替えバルブ５２－１は、パイロットポート５４－１を有する。また、切り替えバルブ５２－２は、パイロットポート５４－２を有する。パイロットポート５４－１及び５４－２は、いずれもガスライン６６に接続されている。

【0049】

切り替えバルブ５２－１は、ノーマルクローズ型のバルブである。他方で、切り替えバルブ５２－２は、ノーマルオープン型のバルブである。即ち、図６に示すように、ガス供給源７０からガスライン６６を介してパイロットポート５４－１及び５４－２にガスが供給されると、切り替えバルブ５２－１はガスライン６２をガスライン６８に接続する一方で、切り替えバルブ５２－２はガスライン６４をガスライン６８に接続しない。他方で、ガス供給源７０からガスライン６６を介してパイロットポート５４－１及び５４－２にガスが供給されない場合、切り替えバルブ５２－１はガスライン６２をガスライン６８に接続しない一方で、切り替えバルブ５２－２はガスライン６４をガスライン６８に接続する。即ち、切り替えバルブ５２－１及び５２－２は、ガスライン６２及び６４の一方をガスライン６８に接続するように構成されている。

【0050】

これにより、図６に記載されたゲートバルブＧＶは、図２から図５に記載されたゲートバルブＧＶと同様に、弁体３０を開位置から閉位置に移動して、弁体３０を閉位置に保持でき、また、弁体３０を閉位置から開位置に移動して、弁体３０を開位置に保持することができる。

【0051】

以上説明した実施形態によれば、ゲートバルブＧＶが、基板処理モジュールＰＭの動作に使用するガス及び／又は搬送モジュールＴＭの動作に使用するガスから独立して制御できるガス（一例として、ガス供給源７２から供給されるガス）を使用して弁体３０を閉位置に保持できる。これにより、基板処理モジュールＰＭ及び／又は搬送モジュールＴＭのメンテナンス時においても、基板処理モジュールＰＭと搬送モジュールＴＭとの間におけるリークを低減したゲートバルブを提供することができる。

【0052】

以上の各実施形態は、説明の目的で説明されており、本開示の範囲及び趣旨から逸脱することなく種々の変形をなし得る。

【符号の説明】

【0053】

１０…チャンバ、１０ｓ…内部空間、１２…開口部、２０…チャンバ、２０ｓ…内部空間、２２…搬送装置、３０…弁体、３２…Ｏリング、３４…チャンバ、４０…駆動部、４１、４５…シリンダ、４２、４６…ピストン、４３、４７…ガスケット、４４、４８…シャフト、５０、５２、５２－１、５２－２…切り替えバルブ、５４、５４－１、５４－２…パイロットポート、５６…切り替えバルブ、５８…パイロットポート、６０、６２、６４、６６、６８…ガスライン、７０、７２、７４…ガス供給源、７６、７８…分岐部、８０、８２、８４、８８…バルブ、ＣＴ…制御部、ＧＶ…ゲートバルブ、ＰＭ…基板処理モジュール、ＰＳ…基板処理システム、ＴＭ…搬送モジュール

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】

【図6】