特開 2023-76998出願番号 特願 2021-190068
レジスト組成物
公報発行日 2023年6月5
公報URL https://ipforce.jp/patent-jp-P_A1-2023-76998 ログイン済みの方はこのURLへ
［この特許公報を共有したい場合］あなたがログインしてこの特許公報を表示すれば、他の人はログインしなくてもこのURLで見ることができるようになります。
※ 共同出願を含む
知財ポータルサイト IP Force にログインすれば、この公報の全文を閲覧できます。 ログインはこちら ログイン・ユーザー登録
技術分野
レジスト組成物に関する。さらに詳しくは、電子線、極端紫外線のような放射線を用いたリソグラフィーに適するレジスト組成物、レジスト膜、パターン形成方法及び電子デバイスの製造方法
要約特許出願時に添付された[要約書]
【課題】従来のＥＢ、ＥＵＶのような放射線用のフォトレジスト組成物にはない、高い吸収感度を持つレジスト組成物を提供する。
【解決手段】下記成分（Ａ）～（Ｅ）を含有する、レジスト組成物。（Ａ）下記式（１）で表されるフェノール三核体モノマー（Ｂ）金属アルコキシド（Ｃ）光酸発生剤（Ｄ）多官能メチロール架橋剤（Ｅ）溶剤
【選択図】なし
発明が解決しようとする課題[発明の詳細な説明]から抜粋
本発明の目的は、従来のＥＢ、ＥＵＶのような放射線用のフォトレジスト組成物にはない、高い吸収感度を持つレジスト組成物を提供することである。
課題を解決するための手段[発明の詳細な説明]から抜粋
本発明者らは、課題を解決するため鋭意検討した結果、カルボン酸含有三核体モノマーと金属アルコキシドから得られる金属錯体が、高いＥＢ及びＥＵＶ吸収特性を持ち、また、効率良く光酸発生剤に電子を渡し、発生した酸が多官能メチロール架橋剤と三核体モノマーの架橋構造を形成することにより、高い放射線吸収感度を有するレジスト膜となることを見出し、本発明を完成させた。
発明の効果[発明の詳細な説明]から抜粋
本発明によれば、ＥＢ、ＥＵＶのような放射線に対し、高い吸収感度を持つレジスト組成物を提供することができる。
この発明についての権利主張の範囲[特許請求の範囲]
知財ポータルサイト IP Force にログインして確認する (無料)
この特許公報に記載されている図面[図面の簡単な説明]から抜粋
【図1】
実施例１で合成したフェノール三核体モノマー（Ａ）のＧＰＣチャートである。
【図2】
実施例１で合成したフェノール三核体モノマー（Ａ）の１３Ｃ－ＮＭＲチャートである。
【図3】
実施例１で調製した金属錯体溶液のＦＴ－ＩＲスペクトルである。
全ての図面はログインすると無料で閲覧できます。ログイン・ユーザー登録
［広告欄］
ログインすれば広告は減ります
ログインすれば広告は減ります