特開 2023-77326 真空処理装置

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】公開特許公報(A)

(11)【公開番号】P2023077326

(43)【公開日】2023-06-05

(54)【発明の名称】真空処理装置

(51)【国際特許分類】

   H01L 21/677 20060101AFI20230529BHJP

   C23C 14/56 20060101ALI20230529BHJP

   C23C 14/50 20060101ALI20230529BHJP

   C23C 16/44 20060101ALI20230529BHJP

【ＦＩ】

H01L21/68 A

C23C14/56 G

C23C14/50 K

C23C16/44 F

【審査請求】未請求

【請求項の数】3

【出願形態】ＯＬ

(21)【出願番号】P 2021190594

(22)【出願日】2021-11-24

(71)【出願人】

【識別番号】000231464

【氏名又は名称】株式会社アルバック

(74)【代理人】

【識別番号】110000305

【氏名又は名称】弁理士法人青莪

(72)【発明者】

【氏名】永田 純一

(72)【発明者】

【氏名】吉田 雄一

(72)【発明者】

【氏名】鈴木 傑之

(72)【発明者】

【氏名】梅原 政司

【テーマコード（参考）】

4K029

4K030

5F131

【Ｆターム（参考）】

4K029AA24

4K029JA01

4K029JA06

4K029KA02

4K029KA03

4K029KA09

4K030CA17

4K030GA12

5F131AA03

5F131AA12

5F131AA32

5F131BA01

5F131BA19

5F131BB03

5F131BB05

5F131BB13

5F131CA12

5F131DA05

5F131DA22

5F131DA42

5F131DA52

5F131DA62

5F131DA63

5F131DC18

(57)【要約】

【課題】搬送トレイの上下部にて非接触で上方に牽引した状態で移動を案内する場合でも、搬送部への搬送トレイの差し込みや搬送部からの搬送トレイの引き抜きを可能にした真空処理装置ＶＭの提供。
【解決手段】互いに連結される第１チャンバＰｃと第２チャンバＬｃとに起立姿勢の搬送トレイＴｒをＸ軸方向に搬送する搬送手段Ｔｍが設けられ、第１チャンバ内に傾動自在な傾動部２を備えて水平姿勢と垂直姿勢との間で搬送トレイの姿勢を変更可能とし、搬送手段は、搬送トレイの上部を非接触でＺ軸方向上方に牽引した状態でＸ軸方向の移動を案内する第１案内部４と、搬送トレイの下部を非接触でＺ軸方向上方に牽引した状態でＸ軸方向の移動を案内する第２案内部６と、搬送トレイを接触支持して搬送トレイを搬送する搬送部５とを備え、第１チャンバ内に存する第２案内部の部分を少なくともＹ軸方向に移動させる駆動部７２ａ，７２ｂを設けた。
【選択図】図３

【特許請求の範囲】

【請求項1】

一方の面に被処理基板が配置される搬送トレイを搬送しながら、被処理基板の処理面に対して所定の真空処理を施す真空処理装置であって、
水平面内で互いに直交する二方向をＸ軸方向及びＹ軸方向、Ｘ軸方向及びＹ軸方向に直交する方向をＺ軸方向と、被処理基板の処理面がＺ軸方向上方を向く搬送トレイの姿勢を水平姿勢、処理面がＹ軸方向一方を向く姿勢を起立姿勢とし、
Ｘ軸方向に互いに連結される第１チャンバと第２チャンバとを備え、第１チャンバと第２チャンバとに起立姿勢の搬送トレイをＸ軸方向に沿って搬送する搬送手段が設けられ、第１チャンバ内に、搬送トレイを保持した状態で傾動自在な傾動部を備えて水平姿勢と垂直姿勢との間で搬送トレイの姿勢を変更可能としたものにおいて、
搬送手段は、第１チャンバと第２チャンバとの内部に設けられて、搬送トレイの上部を非接触でＺ軸方向上方に牽引した状態でＸ軸方向への移動を案内する第１案内部と、搬送トレイの下部を非接触でＺ軸方向上方に牽引した状態でＸ軸方向への移動を案内する第２案内部と、搬送トレイを接触支持してＸ軸方向前後に搬送トレイを搬送する搬送部とを備え、第１チャンバ内に存する第２案内部の部分を少なくともＹ軸方向に移動させる駆動部を設けたことを特徴とする真空処理装置。

【請求項2】

請求項１記載の真空処理装置であって、前記第１チャンバと前記第２チャンバとにＹ軸方向に間隔を存して第１案内部、搬送部及び第２案内部を夫々設けた第１搬送路と第２搬送路とが設けられるものにおいて、
前記第２案内部は、前記他方の面側で前記搬送トレイの下部に形成した支持板部のＺ軸方向上面に設けた一方の磁石と、この一方の磁石とＺ軸方向上方から引き合うように、第１チャンバ及び第２チャンバ内で第１搬送路及び第２搬送路に沿って配置される支持壁のＺ軸方向下面に設けた他方の磁石とを備え、各第２案内部の部分を他方の磁石を含む支持壁の可動部分とし、各可動部分を前記駆動部により一体にＹ軸方向に移動させるように構成したことを特徴とする真空処理装置。

【請求項3】

前記搬送部は、前記第１チャンバ及び第２チャンバ内で前記第１及び第２の各搬送路に沿って配置されて前記搬送トレイの下面に点接触する転動体を有し、第１チャンバ内に存する各転動体を一体にＹ軸方向及びＺ軸方向の少なくとも一方に移動させる他の駆動部を設けたことを特徴とする請求項２記載の真空処理装置。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、一方の面に被処理基板が配置される搬送トレイを搬送しながら、被処理基板の処理面に対して所定の真空処理を施す真空処理装置に関し、より詳しくは、搬送トレイの姿勢変更を可能とする第１チャンバとこれに連設される第２チャンバとを備えるものに関する。

【背景技術】

【0002】

上記種の真空処理装置は、例えば特許文献１で知られている。以下、搬送トレイの移動方向をＸ軸方向、Ｘ軸方向に直交する重力加速度方向をＺ軸方向、Ｘ軸方向及びＺ軸方向に直交する方向をＹ軸方向とし、また、被処理基板（以下、「基板」という）の処理面がＺ軸方向上方を向く搬送トレイ（及び基板）の姿勢を水平姿勢、処理面がＹ軸方向一方を向く姿勢を起立姿勢として説明する。上記特許文献１記載のものは、例えば、大気雰囲気に存する処理前の基板を水平姿勢で搬送して搬送トレイに配置し、起立姿勢（Ｚ軸に対して所定角度で搬送トレイが傾斜する姿勢を含む）に姿勢変更した後、起立姿勢の搬送トレイを真空雰囲気の各真空（処理）チャンバへと搬送するために、第１チャンバと第２チャンバとを備える。第１チャンバは、例えば、搬送トレイへの基板の着脱が実施される所謂ポジションチャンバと称されるものであり、その内部には、例えば、他方の面側から搬送トレイを保持した状態で傾動自在な傾動部と、傾動部をＹ軸方向左右に移動自在な移動部とが設けられている。

【0003】

第１チャンバにて水平姿勢の搬送トレイに基板が配置されると、傾動部は、搬送トレイを持ち上げながら回転して搬送トレイを起立姿勢とし、移動部により後述の搬送部のＺ軸方向上方の位置までＹ軸方向一方に移動した後、搬送トレイを差し込むように搬送部へと受け渡す。搬送部から処理済みの基板Ｓｗがある搬送トレイＴｒを受け取るときには、傾動部は、他方の面側から搬送トレイを保持し、Ｚ軸方向上方に引き抜くように起立姿勢の搬送トレイを持ち上げた後、搬送トレイを持ち下げながら搬送トレイを回転させて水平姿勢に変更してＹ軸方向他方に所定位置まで移動し、搬送トレイからの処理済みの基板の回収が可能となる。

【0004】

Ｘ軸方向にゲートバルブを介して連設される第２チャンバは所謂ロードロックチャンバと称されるものであり、その内部を大気雰囲気と真空雰囲気との切換えが可能なように真空ポンプや大気開放弁などが設けられ、例えば、真空雰囲気の各真空チャンバへの搬送トレイの搬送を可能としている。第１チャンバと第２チャンバとには、起立姿勢の搬送トレイをＸ軸方向に沿って搬送する搬送手段が設けられている。搬送手段は、搬送トレイの上部を非接触でＺ軸方向上方に牽引した状態でＸ軸方向への移動を案内する案内部（以下、「第１案内部」という）と、搬送トレイを接触支持して搬送する搬送部とを備える（例えば、特許文献２参照）。第１案内部としては、搬送トレイのＺ軸方向上面に設けられる一方の磁石（以下、「第１磁石」という）、この第１磁石からＺ軸方向上方に間隔を置いて、且つ、第１磁石と引き合うように第１チャンバ及び第２チャンバ内上部にＸ軸方向に沿って配置される他方の磁石（以下、「第２磁石」という）とを備えるものが一般に使用されている。

【0005】

搬送部としては、搬送トレイのＺ軸方向下面にＸ軸方向にのびるように設けた円筒状のレール部材に係合する、所定曲率で湾曲した凹溝を設けた搬送ローラとを備えるものが一般に使用されている。そして、各搬送ローラの回転により第１案内部でＸ軸方向に案内しながら第１チャンバと第２チャンバとの間で搬送トレイがＸ軸方向前後に搬送される。通常は、所謂スループットを高めるために、第１チャンバと第２チャンバとには、第１案内部と搬送部とを夫々設けた２つのレーン（行き搬送路と戻り搬送路）がＹ軸方向に間隔を置いて設けられ、第１チャンバと第２チャンバとの間で搬送トレイの同時搬送ができるようにしている。

【0006】

上記搬送手段の搬送部では、通常、摩耗粉（発塵）の抑制を目的として、第１案内部に搬送トレイの重量（基板が配置されている場合には、基板重量も含む）の一部を牽引させることで、搬送トレイの残余の重量を接触支持する搬送ローラに印加する面圧及び荷重を軽減させている。これと同時に、搬送部の搬送ローラと共にＹ軸方向の自由度等について制限する構成となっている。つまり、上記搬送手段によって搬送トレイを搬送する際、第１案内部が搬送トレイに対し、Ｚ軸方向上下を軸にした回転（ヨー）、Ｘ軸方向前後を軸にした回転（ロール）やＹ軸方向の移動について、搬送トレイの上部においてその移動をある範囲に制限する（移動の自由度を制限する）構成となっており、同様に搬送ローラも搬送トレイの下部において、Ｚ軸方向上下を軸にした回転（ヨー）、Ｘ軸方向前後を軸にした回転（ロール）やＹ軸方向の移動について、その移動をある範囲に制限する構成となっている。なお、Ｚ軸方向の移動とＹ軸方向前後を軸にした回転（ピッチング）の自由度については、搬送ローラがその移動の制限する構成となっており、案内部は搬送ローラに印加する面圧ならびに荷重を軽減させる効果のみを奏する構成となっている。

【0007】

上記搬送部の構成では、Ｘ軸或いはＺ軸方向前後を軸にした搬送トレイの回転やＹ軸方向左右の移動の自由度に一定の制限を加えることができる（即ち、搬送トレイの下部の搬送ローラからの逸脱を防止することができる）が、搬送トレイ下部における移動の自由度の制限は、レール部材と搬送ローラの凹溝等による機械的な係合要素を用いる構成である。このため、搬送ローラの凹溝内では搬送トレイの移動に伴って係合部材がＹ軸方向左右に滑り移動する場合があり、このときの滑り摩擦に伴って係合部材と搬送ローラの回転に伴って凹溝内で摩耗粉を発生させてしまうという問題がある。特に、常時、Ｚ軸方向に対して所定角度で搬送トレイを傾斜させて搬送させるような場合にはより顕著になる。

【0008】

このような問題を解決するために、搬送トレイを接触支持する搬送部の部分を例えば球体などの転動体で構成してＺ軸方向の自由度のみを制限する構成にすると共に、搬送トレイのＺ軸方向下部にて非接触でＺ軸方向上方に牽引した状態でＸ軸方向への移動を案内する他の案内部（以下、「第２案内部」という）を設けることが提案される。第２案内部としては、上記第１案内部と同様に、搬送トレイのＺ軸方向下部に設けた一方の磁石（以下、「第３磁石」という）と、この第３磁石からＺ軸方向上方に間隔を置いて、且つ、第３磁石と引き合うようにして第１チャンバ及び第２チャンバ内に設けられる他方の磁石（以下、「第４磁石」という）とで構成することが考えられる。このような場合、第３磁石は、例えば、搬送トレイの他方の面側でその下端にＹ軸方向外方に延出させて支持板部を形成してそのＺ軸方向上面に設け、第４磁石は、第１チャンバ及び第２チャンバ内に行き搬送路及び戻り搬送路に沿って搬送トレイの支持板部にＺ軸方向に間隔を置いて対峙する水平壁部を持つ支持壁を夫々設け、この水平壁部のＺ軸方向下面に設ければよい。

【0009】

以上によれば、搬送トレイの上部にて第１案内部で案内しながら搬送トレイを搬送する際に、搬送トレイにＸ軸方向前後を軸にした搬送トレイの回転（ロール）やＹ軸方向左右の移動の自由度があっても、搬送部の部分では転がり摩擦しか発生しないため、上記従来例のような滑り摩擦に伴う摩耗粉の発生を可及的に抑制することができる。これに加えて、第２案内部により搬送部で接触支持される搬送トレイの残余の重量の一部もまた牽引されることで、搬送トレイを接触支持する搬送部の部分に加わる搬送トレイの荷重を軽減でき、その上、搬送トレイの下部におけるＸ軸方向前後を軸にした搬送トレイの回転（ロール）やＹ軸方向左右の移動の自由度を制限されることで、摩擦に伴う摩耗粉の発生を一層抑制することができる。なお、本発明において、搬送トレイの「Ｚ軸方向下部」は、Ｚ軸方向下端部のみを指すものではなく、搬送部で接触支持された搬送トレイの重心よりＺ軸方向下方に位置する部分をいう。然し、上記のように第２案内部を設けると、互いに近接する第３磁石と第４磁石との干渉により搬送部への搬送トレイの差し込み動作や搬送部からの搬送トレイの引き抜き動作が阻害されるという問題を生じる。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0010】

【特許文献1】再表２０１２－１４０８０１号公報

【特許文献2】特開２００５－２８９５５６号公報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0011】

本発明は、以上の点に鑑み、滑り摩擦に伴う摩耗粉の発生を可及的に抑制するために、搬送トレイのＺ軸方向上下部にて非接触でＺ軸方向上方に牽引した状態でＸ軸方向への移動を案内する構成を採用した場合でも、搬送部への搬送トレイの差し込みや搬送部からの搬送トレイの引き抜きを可能にした真空処理装置を提供することをその課題とするものである。

【課題を解決するための手段】

【0012】

上記課題を解決するために、一方の面に被処理基板が配置される搬送トレイを搬送しながら、被処理基板の処理面に対して所定の真空処理を施す本発明の真空処理装置は、水平面内で互いに直交する二方向をＸ軸方向及びＹ軸方向、Ｘ軸方向及びＹ軸方向に直交する方向をＺ軸方向と、被処理基板の処理面がＺ軸方向上方を向く搬送トレイの姿勢を水平姿勢、処理面がＹ軸方向一方を向く姿勢を起立姿勢とし、Ｘ軸方向に互いに連結される第１チャンバと第２チャンバとを備え、第１チャンバと第２チャンバとに起立姿勢の搬送トレイをＸ軸方向に沿って搬送する搬送手段が設けられ、第１チャンバ内に、搬送トレイを保持した状態で傾動自在な傾動部を備えて水平姿勢と垂直姿勢との間で搬送トレイの姿勢を変更可能とし、搬送手段は、第１チャンバと第２チャンバとの内部に設けられて、搬送トレイの上部を非接触でＺ軸方向上方に牽引した状態でＸ軸方向への移動を案内する第１案内部と、搬送トレイの下部を非接触でＺ軸方向上方に牽引した状態でＸ軸方向への移動を案内する第２案内部と、搬送トレイを接触支持してＸ軸方向前後に搬送トレイを搬送する搬送部とを備え、第１チャンバ内に存する第２案内部の部分を少なくともＹ軸方向に移動させる駆動部を設けたことを特徴とする。

【0013】

本発明において、前記第１チャンバと前記第２チャンバとにＹ軸方向に間隔を存して第１案内部、搬送部及び第２案内部を夫々設けた第１及び第２の各搬送路が設けられる場合、前記第２案内部は、前記他方の面側で前記搬送トレイの下部に形成した支持板部のＺ軸方向上面に設けた一方の磁石と、この一方の磁石とＺ軸方向上方から引き合うように、第１チャンバ及び第２チャンバ内で各搬送路に沿って配置される支持壁のＺ軸方向下面に設けた他方の磁石とを備え、各第２案内部の部分を他方の磁石を含む支持壁の可動部分とし、各可動部分を一体に前記駆動部によりＹ軸方向に移動させる構成を採用することができる。

【0014】

以上によれば、搬送部への搬送トレイの差し込みや搬送部からの搬送トレイの引き抜きの際には、駆動部により他の磁石を含む第２案内部の部分（他方の磁石を含む支持壁の可動部分）をＹ軸方向一方に退避させておけば、第２案内部としての一方の磁石と他方の磁石とが干渉して搬送トレイの差し込みや引き抜きが阻害されるといった不具合は生じない。この場合、上記部分をＺ軸方向に移動させる他の駆動部を更に設け、例えば、搬送トレイを引き抜く際に傾動部で起立姿勢の搬送トレイを保持するの先立って上記部分をＺ軸方向上方に移動退避させておけば、例えば、傾動部で搬送トレイを保持するときの振動で互いに近接する両磁石が接触してしまうといった不具合も生じない。しかも、独立して上記部分のみを移動させるだけであるため、スループットの低下を招くといった不具合も生じない。

【0015】

なお、第２案内部の可動部分をＹ軸方向に退避させるときにこれが搬送部に干渉する虞があるときには、前記搬送部は、前記第１チャンバ及び第２チャンバ内で前記第１及び第２の各搬送路に沿って配置されて前記搬送トレイの下面に点接触する転動体を有し、第１チャンバ内に存する各転動体を一体にＹ軸方向及びＺ軸方向の少なくとも一方に移動させる他の駆動部を設けることが好ましい。

【図面の簡単な説明】

【0016】

【図1】本実施形態のインライン式の真空処理装置の縦断面図。

【図2】図１に示すインライン式の真空処理装置の横断面図。

【図3】搬送トレイの搬送状態を示す部分拡大図。

【図4】（ａ）～（ｆ）は、搬送部からの搬送トレイの受け取り、搬送部への搬送トレイの受け渡し操作を説明する図。

【発明を実施するための形態】

【0017】

以下、図面を参照して、被処理基板をフラットパネルディスプレイの製造に利用される大面積のガラス基板（以下、「基板Ｓｗ」という）とし、基板Ｓｗが配置される搬送トレイＴｒを真空チャンバ内で後述の搬送路Ｔｐ１，Ｔｐ２に沿って搬送しながら、基板Ｓｗの一方の面（処理面）に成膜処理、熱処理、エッチング処理といった各種の真空処理を施すインライン式のものを例に本発明の真空処理装置の実施形態を説明する。以下においては、搬送路Ｔｐ１，Ｔｐ２に沿った搬送トレイＴｒの移動方向をＸ軸方向、Ｘ軸方向に直交する重力加速度方向をＺ軸方向、Ｘ軸方向及びＺ軸方向に直交する方向をＹ軸方向とする。また、搬送トレイＴｒに配置された基板Ｓｗの処理面がＺ軸方向上方を向く搬送トレイ（及び基板Ｓｗ）の姿勢を水平姿勢、基板Ｓｗの処理面がＹ軸方向一方を向く搬送トレイＴｒ（及び基板Ｓｗ）の姿勢を起立姿勢（Ｚ軸に対して所定角度で搬送トレイＴｒが傾斜する姿勢も含む）とする。

【0018】

図１～図３を参照して、真空処理装置ＶＭは、図外の搬送ロボットにより処理前の基板Ｓｗを水平姿勢で搬送トレイＴｒの一方の面に配置し、または、水平姿勢の搬送トレイＴｒから処理済みの基板Ｓｗを取り出すためのポジションチャンバ（第１チャンバ）Ｐｃを備える。搬送トレイＴｒは、基板Ｓｗより一回り大きな輪郭の板状体１１で構成され、板状体１１には、起立姿勢にしたときに基板Ｓｗの下辺が当接する基板受け部１２と、板状体１１に対して基板Ｓｗの縁部を局所的に押圧するクランプなどの押圧部（図示せず）とが設けられ、真空処理の間、起立姿勢の基板Ｓｗを搬送トレイＴｒに保持することができる。基板Ｓｗに対する真空処理によっては、マスクプレートが基板Ｓｗと共に取り付けられるようにしてもよい。このような搬送トレイＴｒとしては公知のものが利用できるため、これ以上の説明は省略する。

【0019】

大気雰囲気に維持されるポジションチャンバＰｃには、他方の面側から搬送トレイＴｒを保持した状態で傾動自在な傾動部２が備えられ、水平姿勢と起立姿勢との間で搬送トレイＴｒの姿勢を変更することができる。傾動部２は保持板２１を備え、保持板２１の所定位置には、特に図示して説明しないが、バキュームチャックなどの保持機構が設けられ、搬送トレイＴｒを起立姿勢にしたときでも保持板２１から基板Ｓｗが離脱しないようにしている。保持板２１には、Ｘ軸方向に間隔を置いて立設されて、単軸ロボットなどの機構（図示せず）によりＺ軸方向上下に同期して伸縮自在な２本のフレーム２２に設けた回転軸２３が連結され、モータＭｔにより回転軸２３を一方向に回転駆動すると、保持板２１が回転軸２３回りに回転して搬送トレイＴｒを傾動するようにしている。各フレーム２２の下端は、Ｙ軸方向にのびるようにポジションチャンバＰｃに設けた単軸ロボットの移動機構２４に連結され、Ｙ軸方向左右に往復動自在となっている。

【0020】

ポジションチャンバＰｃにて水平姿勢の搬送トレイＴｒに基板Ｓｗが配置されると、傾動部２は、搬送トレイＴｒを持ち上げながら回転して搬送トレイＴｒを起立姿勢とし、移動機構２４により後述の搬送部のＺ軸方向上方の位置までＹ軸方向一方に移動した後、搬送トレイＴｒを差し込むように搬送部へと受け渡す。一方、後述の搬送部から処理済みの基板Ｓｗがある搬送トレイＴｒを受け取るときには、傾動部２は、他方の面側から搬送トレイＴｒを保持した後、Ｚ軸方向上方に引き抜くように起立姿勢の搬送トレイＴｒを持ち上げた後、搬送トレイＴｒを持ち下げながら搬送トレイＴｒを回転させて水平姿勢に変更してＹ軸方向他方に所定位置まで移動し、搬送トレイＴｒからの処理済みの基板Ｓｗの回収が可能となる。

【0021】

ポジションチャンバＰｃのＸ軸方向前方には、ゲートバルブＧｖ１を介してロードロックチャンバ（第２チャンバ）Ｌｃが連設されている。ロードロックチャンバＬｃには、特に図示して説明しないが、真空ポンプからの排気管とベントガスを導入するベントガスラインとが夫々接続され、ロードロックチャンバＬｃを真空雰囲気と大気雰囲気とに適宜切り換えることができる。ロードロックチャンバＬｃのＸ軸方向前方には、基板Ｓｗの処理面に対して実施しようとする各種の真空処理に応じた数の処理チャンバＶｃ１～ＶｃｎがゲートバルブＧｖ２，Ｇｖｎを介して順次連設されている。各処理チャンバＶｃ１，Ｖｃｎは、Ｘ軸方向に沿ってのびる隔離壁３１によってＹ軸方向で左右２室に隔絶され、各室３１ａ，３１ｂには、例えば、スパッタリングカソードといった各種の真空処理の実施に必要な装置３２が夫々設けられている。そして、基板Ｓｗの処理面がＹ軸方向左方（図２中、下方）を向く起立姿勢で搬送トレイＴｒが各真空処理チャンバＶｃ１，Ｖｃｎの各室３１ａ，３１ｂを夫々通過する間に、基板Ｓｗの処理面に対し各種の真空処理が施される。Ｘ軸方向前方で最下流側に位置する処理チャンバＶｃｎにはターンバックチャンバＢｃが連設されている。

【0022】

ターンバックチャンバＢｃには、上面に搬送ローラ４１を設けたＹ軸方向左右に移動自在な移動ステージ４が設けられ、処理チャンバＶｃｎのＹ軸方向左側の室３１ａから受け取った搬送トレイＴｒを再度処理チャンバＰｃｎのＹ軸方向右側の室３１ｂに戻すことができる。そして、ポジションチャンバＰｃとターンバックチャンバＢｃとの間でＸ軸方向にのびる２本の搬送路に沿って搬送トレイＴｒを起立姿勢で夫々搬送できるように搬送手段Ｔｍが設けられている。以下において、互いにＸ軸方向に連設されたポジションチャンバＰｃからロードロックチャンバＬｃ、各処理チャンバＶｃ１，ＶｃｎのＹ軸方向左側の室３１ａを経てターンバックチャンバＢｃに通じる、搬送トレイＴｒがＸ軸方向前方（図１、２中、左側から右側）に搬送されるものを行き搬送路Ｔｐ１、逆に、ターンバックチャンバＴｃからＹ軸方向右側の室３１ｂ、ロードロックチャンバＬｃを経てポジションチャンバＰｃに通じる、搬送トレイＴｒがＸ軸方向後方（図１中、右側から左側）に搬送されるものを戻り搬送路Ｔｐ２とする。

【0023】

搬送手段Ｔｍは、起立姿勢の搬送トレイＴｒを非接触でＺ軸方向上方に牽引した状態で、Ｘ軸方向前方または後方への移動を案内する第１案内部４と、第１案内部４によりその重量の一部が牽引された搬送トレイＴｒの残余の重量を接触支持してＸ軸方向前方または後方に搬送トレイＴｒを搬送する搬送部５と、搬送トレイＴｒのＺ軸方向下部にて非接触でＺ軸方向上方に牽引した状態でＸ軸方向前方または後方への移動を案内する第２案内部６とを備える。第１案内部４は、搬送トレイＴｒの板状体１１のＺ軸方向上面にその上辺に沿って取り付けたＸ軸方向に長手の第１磁石４１と、行き搬送路Ｔｐ１及び戻り搬送路Ｔｐ２に沿ってポジションチャンバＰｃ、ロードロックチャンバＬｃ及び各処理チャンバＶｃ１，Ｖｃｎ内のＺ軸方向上部に夫々配置した第２磁石４２とを備える。第１磁石４１と第２磁石４２とは、その対向面の極性が異なるように着磁され、これにより、搬送トレイＴｒを非接触でＺ軸方向上方に牽引した状態でＸ軸方向前後への移動を夫々案内する。なお、第１磁石４１と第２磁石４２とはＹ軸方向に間隔を置いて複数例で設けることもでき、この場合には、第１磁石４１と第２磁石４２との互いに向かい合うものの極性を交互に変えることが好ましい。

【0024】

搬送部５は、行き搬送路Ｔｐ１及び戻り搬送路Ｔｐ２に沿ってポジションチャンバＰｃ、ロードロックチャンバＬｃ及び各処理チャンバＶｃ１，Ｖｃｎ内の下部にＸ軸方向に間隔を置いて設けられる転動体としての搬送コロ５１を備える。各搬送コロ５１は、ポジションチャンバＰｃ、ロードロックチャンバＬｃ及び各処理チャンバＶｃ１，Ｖｃｎ内の所定位置に夫々軸支される軸体５１ａと、各軸体５１ａに夫々外嵌されて搬送トレイＴｒのＺ軸方向下面に接触する車輪部５１ｂとで構成される。この場合、単一の軸体５１ａには、Ｙ軸方向に間隔を置いて少なくとも２個の車輪部５１ｂが取り付けられ、車輪部５１ｂの先端はまた、径方向外方に向かって先細りである楕円状に形成され、車輪部５１ｂが搬送トレイＴｒのＺ軸方向の下面に点接触するようにしている。本実施形態では、各搬送コロ５１が、Ｚ軸方向の自由度のみを制限した状態で搬送トレイＴｒを接触支持する搬送部５の部分を構成する。特に図示して説明しないが、各搬送コロ５１の軸体５１ａには、プーリー、歯車、駆動ベルトやモータといった公知の動力伝達機構が連結され、行き搬送路Ｔｐ１及び戻り搬送路Ｔｐ２毎に各搬送コロ５１が同期して同方向に回転駆動される。

【0025】

第２案内部６は、搬送トレイＴｒのＺ軸方向下部に設けた第３磁石（一方の磁石）６１と、行き搬送路Ｔｐ１及び戻り搬送路Ｔｐ２に沿ってポジションチャンバＰｃ、ロードロックチャンバＬｃ及び各処理チャンバＶｃ１，Ｖｃｎ内の下部に夫々配置した第４磁石６２とを備える。搬送トレイＴｒの板状体１１には、基板Ｓｗが配置される一方の面に背向する他方の面側（図３中、左側）でその下端にその外方に向けて延出させて支持板部１３が形成され、支持板部１３のＺ軸方向上面に第３磁石６１が設けられている。他方、行き搬送路Ｔｐ１及び戻り搬送路Ｔｐ２に沿ってポジションチャンバＰｃ、ロードロックチャンバＬｃ及び各処理チャンバＶｃ１，Ｖｃｎ内のＺ軸方向下部には、搬送トレイＴｒの支持板部１３にＺ軸方向に間隔を置いて対峙する水平壁部６３ａを持つ支持壁６３がＸ軸方向に沿ってのびるように夫々設けられ、水平壁部６３ａの下面に第４磁石６２が設けられている。第３磁石６１と第４磁石６２とは、その対向面の極性が異なるように着磁され、これにより、搬送トレイＴｒのＺ軸方向下部を非接触でＺ軸方向上方に牽引した状態でＸ軸方向前後への移動を夫々案内する。なお、第３磁石６１と第４磁石６２とは、上記同様、Ｙ軸方向に間隔を置いて複数列で設けることもでき、この場合には、第３磁石６１と第４磁石６２との互いに向かい合うものの極性を交互に変えることが好ましい。

【0026】

以上の構成を採用すれば、搬送トレイＴｒをＸ軸方向前後に搬送する際、搬送トレイＴｒの下面と搬送部５の部分として、転動体である点接触の搬送コロ５１を用いたことから、搬送トレイＴｒ側の軌道面と転動体間の滑り摩擦が発生しないため、上記従来例のような滑り摩擦に伴う摩耗粉の発生を可及的に抑制することができる。しかも、第１案内部４によって搬送トレイＴｒの重量の一部が牽引されることに加えて、第２案内部６によって、搬送コロ５１で接触支持される搬送トレイＴｒの残余の重量の一部もまた牽引されることで、各搬送コロ５１に加わる搬送トレイＴｒの荷重をより一層軽減することができ、その上、第２案内部６によって搬送トレイＴｒの下部におけるＸ軸方向前後を軸にした搬送トレイＴｒの回転（ロール）やＹ軸方向左右の移動の自由度が制限されることで、摩擦に伴う摩耗粉の発生をより一層抑制することができる。但し、ポジションチャンバＰｃにて、搬送部５に対する搬送トレイＴｒの受け渡しまたは受け取りの際に、互いに近接する第３磁石６１と第４磁石６２との干渉により搬送コロ５１への搬送トレイＴｒの差し込み動作や搬送コロ５１からの搬送トレイＴｒの引き抜き動作が阻害されないように構成しておく必要がある。

【0027】

本実施形態では、両支持壁６３のポジションチャンバＰｃ内に存する部分がＹ軸方向左右及びＺ軸方向上下に移動自在な可動部分６３Ｌ，６３Ｒとして夫々構成されている。各可動部分６３Ｌ，６３Ｒは、ポジションチャンバＰｃ内に設けた共通の第１の可動ベース７１に夫々立設されている。第１の可動ベース７１には、これをＹ軸方向左右及びＺ軸方向上下に所定のストローク長で夫々移動できる（第１の）駆動部７２ａ，７２ｂが連結されている。駆動部７２ａ，７２ｂとしては、エアシリンダや直動モータなどの公知のものが利用できる。加えて、ポジションチャンバＰｃ内に存する各搬送コロ５１の軸体５１ａには、図示省略の軸受を備える支持ロッド５２ａ，５２ｂが連結され、各支持ロッド５２ａ，５２ｂのＺ軸方向下端がポジションチャンバＰｃ内に設けた共通の第２の可動ベース７３に夫々取り付けられている。第２の可動ベース７３には、これをＹ軸方向左右及びＺ軸方向上下に所定のストローク長で夫々独立して移動できる（第２の）駆動部７４ａ，７４ｂが連結されている。第２の駆動部７４ａ，７４ｂとしては、上記同様、エアシリンダや直動モータなどの公知のものが利用できる。なお、次の搬送トレイＴｒを行き搬送路Ｔｐ１に受け渡すのに際し、第１の可動ベース７１をＹ軸方向左側に移動させたときに、戻り搬送路Ｔｐ２側の可動部分６３Ｒと行き搬送路Ｔｐ１側の搬送用コロ５１とが干渉する場合には、これを避けるために、（第３の）駆動部７５を更に設け、行き搬送路Ｔｐ１側の可動部分６３ＬのみをＹ軸方向左右に更に移動自在に構成してもよい。以下に、図４を参照して、ポジションチャンバＰｃにて、戻り搬送路Ｔｐ２から搬送トレイＴｒを受け取り、行き搬送路Ｔｐ１に搬送トレイＴｒを受け渡す操作について説明する。

【0028】

ポジションチャンバＰｃ内で戻り搬送路Ｔｐ２の受取位置まで搬送トレイＴｒが搬送されてくると（図４（ａ）参照）、傾動部２により他方の面側から搬送トレイＴｒを保持した後（以降、この搬送トレイＴｒのＺ軸方向における位置を「保持位置」という）、一方の第１の駆動部７２ａにより第１の可動ベース７１、ひいては、両支持壁６３Ｌ，６３ＲをＺ軸方向に上昇させ、一方の第２の駆動部７４ａにより第２の可動ベース７３、ひいては、各搬送コロ５１をＺ軸方向に下降させる（図４（ｂ）参照）。次に、他方の第１の駆動部７２ｂにより第１の可動ベース７１を、また、他方の第２の駆動部７４ｂにより第２の可動ベース７３を同期させてＹ軸方向左側に移動させる（図４（ｃ）参照）。なお、第１の可動ベース７１をＹ軸方向左側に移動させたときに、戻り搬送路Ｔｐ２側の可動部分６３Ｒと行き搬送路Ｔｐ１側の搬送用コロ５１とが干渉しないような場合には、第２の可動ベース７３の移動は不要にできる。そして、処理済みの基板Ｓｗがある搬送トレイＴｒをＺ軸方向上方に引き抜くように保持位置から持上げられて戻り搬送路Ｔｐ２上から取り去れる。その後、特に図示して説明しないが、保持板２１を回転させて水平姿勢に戻され、ポジションチャンバｐｃにて水平姿勢の搬送トレイＴｒに対する処理後の基板Ｓｗと処理前の基板Ｓｗとが交換される。

【0029】

次に、他方の第１及び第２の各駆動部７２ｂ，７４ｂにより第１及び第２の各可動ベース７１，７３を元の位置までＹ軸方向右側に移動させ、第３の駆動部７５により可動部分６３ＬをＹ軸方向左側に移動させ、この状態で、傾動部２により行き搬送路Ｔｐ１の搬送部５に起立姿勢の搬送トレイＴｒを保持位置まで移動して待機させる（図４（ｄ）参照）。そして、一方の第２の駆動部７４ａにより第２の可動ベース７３を元の位置までＺ軸方向に上昇させて各搬送コロ５１で搬送トレイＴｒを接触支持させる（図４（ｅ）参照）。最後に、第３の駆動部７５により可動部分６３Ｌを元の位置までＹ軸方向右側に移動させ、一方の第１の駆動部７２ａにより第１の可動ベース７１を元の位置までＺ軸方向に下降させた後、傾動部２を離脱させる（図４（ｆ）参照）。これにより、ポジションチャンバＰｃとロードロックチャンバＬｃとの間で搬送トレイＴｒの同時搬送が可能な状態となる。

【0030】

以上の実施形態によれば、搬送部５への搬送トレイＴｒの差し込みや搬送部５からの搬送トレイＴｒの引き抜きの際には、第２案内部６としての第３磁石６１と第４磁石６２とが干渉して搬送トレイＴｒの差し込み動作や引き抜き動作が阻害されるといった不具合は生じない。しかも、可動部分６３Ｌ，６３Ｒを事前にＺ軸方向上方に移動退避させているため、傾動部２で搬送トレイＴｒを保持するときの振動で互いに近接する第３及び第４の両磁石６１，６２が接触してしまうといった不具合も生じない。その上、ポジションチャンバＰｃ内の可動部分６３Ｌ，６３Ｒと搬送コロ５１のみを移動させるだけであるため、スループットの低下を招くといった不具合も生じない。

【0031】

以上、本発明の実施形態について説明したが、本発明の技術思想の範囲を逸脱しない限り、種々の変形が可能である。上記実施形態では、傾動部２により他方の面側から搬送トレイＴｒを保持するものを例に説明したが、搬送トレイＴｒを起立姿勢にしたときでも保持板２１から基板Ｓｗが離脱しないように搬送トレイＴｒを保持できるものであれば、その形態は問わない。また、上記実施形態では、搬送部５として、搬送トレイＴｒのＺ軸方向の下面に点接触して支持する搬送コロ５１を備えるものを例に説明したが、Ｚ軸方向の自由度のみを制限した状態で搬送トレイＴｒを接触支持できるものであれば、これに限定されるものではく、例えば、球体（図示せず）で接触支持するようにしてもよい。

【0032】

また、上記実施形態では、第１案内部４と第２案内部６として、互いに引き合うように配置した一対の磁石４１，４２，６１，６２を備えるものを例に説明したが、第１案内部４として、搬送トレイＴｒの重量（基板Ｓｗ重量も含む）の大半を牽引できると共に、少なくともＸ軸方向の自由度、Ｚ軸方向上下の移動とＹ軸方向左右を軸とした回転（ピッチング）の自由度がある程度制限できるものであれば、これに限定されるものではない。特に図示して説明しないが、例えば、ポジションチャンバＰｃ、ロードロックチャンバＬｃ及び各処理チャンバＶｃ１，Ｖｃｎ内上部にレール部材を設け、このレール部材に摺動自在に係合するスライダに設け、スライダにＸ軸方向に間隔を置いて吊設した複数本のワイヤで搬送トレイＴｒを牽引した状態で案内するようにしてもよい。他方、第２案内部６もまた、特に、Ｘ軸方向前後を軸にした搬送トレイＴｒの回転（ロール）やＹ軸方向左右の移動の自由度がある程度制限できるものであれば、これに限定されるものではなく、上記第１案内部と同様の構成を採用するようにしてもよい。

【0033】

更に、上記実施形態では、搬送部５に備わる転動体として単一の軸体５１ａに少なくとも２個の車輪部５１ｂを設けた搬送コロ５１を例に説明したが、これに限定されるものでなく、１個の車輪部とした構成でも不都合はない。また、搬送トレイＴｒのＺ軸方向の自由度を制限すると共に搬送トレイＴｒへＸ軸方向の駆動力を転がり接触による摩擦力にて伝達されるように構成されるのであれば不都合はない。つまり、滑り接触ではなく転がり接触で駆動可能となるための垂直抗力が第１案内部４によりその重量の一部が牽引された搬送トレイＴｒの残余の重量として確保され、これに必要な安全率を付与した構成とすれば理想的な実施形態となる。更に、上記実施形態では、車輪部５１ｂの先端が搬送トレイＴｒのＺ軸方向の下面に点接触するようにし、その点接触部位は、軸体５１ａを経由して回転駆動力が伝達される機構としたが、この車輪部と軸体との嵌合部に例えば等速ジョイントを用いれば、確実に転がり接触によって搬送トレイＴｒへ駆動力を伝達することもできる。

【0034】

また、上記実施形態では、第１チャンバをポジションチャンバＰｃ、第２チャンバをロードロックチャンバとしたものを例に説明したが、これに限定されるものではない。例えば、ロードロックチャンバに水平姿勢の基板を搬送し、ロードロックチャンバ内が所定圧力まで真空排気されると、ロードロックチャンバに連設されたポジションチャンバに搬送して水平姿勢の基板を搬送トレイに配置した後、起立姿勢に変更し、この状態で例えば処理チャンバに搬送するものにおいて、第１チャンバとしてのポジションチャンバと第２チャンバとしての処理チャンバとの間で搬送トレイを搬送するものにも本発明は適用することができる。

【符号の説明】

【0035】

ＶＭ…真空処理装置、Ｓｗ…基板（被処理基板）、Ｔｒ…搬送トレイ、１３…支持板部、Ｐｃ…ポジションチャンバ（第１チャンバ）、Ｌｃ…ロードロックチャンバ（第２チャンバ）、Ｖｃ１，Ｖｃｎ…処理チャンバ（第２チャンバ）、Ｔｍ…搬送手段、２…傾動部、４…第１案内部、５…搬送部、５１…搬送コロ（転動体）、６…第２案内部、Ｔｐ１…行き搬送路（第１搬送路）、Ｔｐ２…戻り搬送路（第２搬送路）、６１…第３磁石（一方の磁石）、６２…第４磁石（他方の磁石）、６３…支持壁、６３Ｌ，６３Ｒ…支持壁の可動部分、７２ａ，７２ｂ…駆動部、７４ａ，７４ｂ…第２の駆動部（他の駆動部）。

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】