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(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】公開特許公報(A)
(11)【公開番号】P2023083964
(43)【公開日】2023-06-16
(54)【発明の名称】シール部材の取り外し方法、及び気体供給ノズル
(51)【国際特許分類】
F16J 15/00 20060101AFI20230609BHJP
H01L 21/02 20060101ALI20230609BHJP
F16J 15/10 20060101ALI20230609BHJP
【ＦＩ】
F16J15/00 D
H01L21/02 Z
F16J15/10 C
F16J15/10 T
【審査請求】未請求
【請求項の数】9
【出願形態】ＯＬ
(21)【出願番号】P 2021197998
(22)【出願日】2021-12-06
(71)【出願人】
【識別番号】000219967
【氏名又は名称】東京エレクトロン株式会社
(74)【代理人】
【識別番号】110002756
【氏名又は名称】弁理士法人弥生特許事務所
(72)【発明者】
【氏名】李 威
【テーマコード（参考）】
3J040
【Ｆターム（参考）】
3J040AA17
3J040BA02
3J040EA16
3J040EA22
3J040FA05
3J040HA03
3J040HA15
3J040HA30
(57)【要約】 （修正有）
【課題】溝部に収容された環状のシール部材を簡便に取り外す技術を提供する。
【解決手段】密閉空間を有する装置を構成し、互いに当接する第１の部材の第１の当接面６１と第２の部材の第２の当接面との間に配置される環状のシール部材５を取り外すにあたり、前記第１の当接面には、前記シール部材を収容する溝部６と、前記溝部に収容された前記シール部材との間に気体が流れる流路を形成し、前記溝部の開口の縁部から突出するように開口させた気体導入流路と、が設けられている。そして、前記気体導入流路の開口に気体供給ノズル８４を接続する工程と、前記気体供給ノズルから前記気体導入流路に高圧気体を供給し、前記溝部と前記シール部材との間に進入させて、前記シール部材を前記溝部から押し出す工程と、を実施する。
【選択図】図７Ｂ
【解決手段】密閉空間を有する装置を構成し、互いに当接する第１の部材の第１の当接面６１と第２の部材の第２の当接面との間に配置される環状のシール部材５を取り外すにあたり、前記第１の当接面には、前記シール部材を収容する溝部６と、前記溝部に収容された前記シール部材との間に気体が流れる流路を形成し、前記溝部の開口の縁部から突出するように開口させた気体導入流路と、が設けられている。そして、前記気体導入流路の開口に気体供給ノズル８４を接続する工程と、前記気体供給ノズルから前記気体導入流路に高圧気体を供給し、前記溝部と前記シール部材との間に進入させて、前記シール部材を前記溝部から押し出す工程と、を実施する。
【選択図】図７Ｂ
【特許請求の範囲】
【請求項1】
密閉空間を有する装置を構成し、互いに当接する第１の部材の第１の当接面と第２の部材の第２の当接面との間に配置された環状のシール部材の取り外し方法であって、
前記第１の当接面には、前記シール部材を収容し、前記第１の当接面において開口する溝部と、前記溝部に収容された前記シール部材の側面との間に隙間を形成して気体が流れる流路を構成すると共に、前記第１の当接面と対向する位置から見たとき、前記溝部の開口の縁部から突出するように前記流路の端部を開口させた気体導入流路と、が設けられていることと、
高圧気体を供給するための気体供給ノズルを、前記気体導入流路の開口に接続する工程と、
次いで、前記気体供給ノズルから前記気体導入流路に高圧気体を供給することにより、前記溝部と前記シール部材との間に前記高圧気体を進入させて、前記シール部材の少なくとも一部を前記溝部から押し出す工程と、を含むことと、を有する方法。
前記第１の当接面には、前記シール部材を収容し、前記第１の当接面において開口する溝部と、前記溝部に収容された前記シール部材の側面との間に隙間を形成して気体が流れる流路を構成すると共に、前記第１の当接面と対向する位置から見たとき、前記溝部の開口の縁部から突出するように前記流路の端部を開口させた気体導入流路と、が設けられていることと、
高圧気体を供給するための気体供給ノズルを、前記気体導入流路の開口に接続する工程と、
次いで、前記気体供給ノズルから前記気体導入流路に高圧気体を供給することにより、前記溝部と前記シール部材との間に前記高圧気体を進入させて、前記シール部材の少なくとも一部を前記溝部から押し出す工程と、を含むことと、を有する方法。
【請求項2】
前記溝部は、アリ溝である、請求項１に記載の方法。
【請求項3】
前記気体導入流路は、前記第１の当接面に前記アリ溝を形成するフライス加工を行った際に、上部側の切削径よりも下部側の切削径の方が大きなエンドミルを進入させたエントリーポイントである、請求項２に記載の方法。
【請求項4】
前記エントリーポイントである前記気体導入流路の開口は、前記第１の当接面と対向する位置から見たとき、前記溝部の開口の縁部の一方側のみから突出するように形成されている、請求項３に記載の方法。
【請求項5】
前記密閉空間を有する装置には、前記第１の当接面と前記第２の当接面との間に前記シール部材が配置された前記第１の部材と前記第２の部材との部材当接部が複数、設けられていることと、
前記複数の部材当接部には、前記気体導入流路の開口の開口径が相違するものが含まれていることと、
前記気体供給ノズルを接続する工程では、前記気体導入流路の開口の前記開口径に対応させて、前記高圧気体を吐出する吐出口の口径が相違する前記気体供給ノズルを接続することと、を有する、請求項１ないし４のいずれか一つに記載の方法。
前記複数の部材当接部には、前記気体導入流路の開口の開口径が相違するものが含まれていることと、
前記気体供給ノズルを接続する工程では、前記気体導入流路の開口の前記開口径に対応させて、前記高圧気体を吐出する吐出口の口径が相違する前記気体供給ノズルを接続することと、を有する、請求項１ないし４のいずれか一つに記載の方法。
【請求項6】
前記密閉空間を有する装置は、真空容器に基板を収容し、前記真空容器に処理ガスを供給して前記基板の処理を行う基板処理装置である、請求項１ないし４のいずれか一つに記載の方法。
【請求項7】
気体供給ノズルであって、
密閉空間を有する装置を構成する互いに当接する第１の部材の第１の当接面と第２の部材の第２の当接面との間に配置された環状のシール部材を収容する溝部と、前記溝部に収容された前記シール部材の側面との間に形成される隙間に、前記シール部材の少なくとも一部を前記溝部から押し出す高圧気体を供給するよう接続可能に構成された気体供給ノズル。
密閉空間を有する装置を構成する互いに当接する第１の部材の第１の当接面と第２の部材の第２の当接面との間に配置された環状のシール部材を収容する溝部と、前記溝部に収容された前記シール部材の側面との間に形成される隙間に、前記シール部材の少なくとも一部を前記溝部から押し出す高圧気体を供給するよう接続可能に構成された気体供給ノズル。
【請求項8】
前記気体供給ノズルは、前記第１の当接面に押し当てることにより、前記溝部の開口の縁部から突出した気体導入流路の開口に接続するため、平坦な先端面を有し、且つ、前記先端面が前記気体導入流路の開口の口径よりも大きな外径を有するように構成された、請求項７に記載の気体供給ノズル。
【請求項9】
前記気体供給ノズルは、前記気体導入流路の開口内に挿入可能な外径の先端部を有し、前記先端部には、前記溝部側へ向けて配置される傾斜面が形成され、当該傾斜面には、前記高圧気体を供給するための吐出口が形成されている、請求項７に記載の気体供給ノズル。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本開示は、シール部材の取り外し方法、及び気体供給ノズルに関する。
【背景技術】
【0002】
ＦＰＤ（Flat Panel Display）や半導体装置の製造装置には、真空容器内に基板であるガラス基板やウエハを配置し、処理ガスを供給して、エッチング処理や成膜処理などを行うものがある。これらの装置においては、処理ガスの供給系統や、真空容器、真空容器の排気系統などの密閉された空間（密閉空間）を形成するため、これらの機器を構成する複数の部材間に、多数のシール部材が設けられる。また、基板に露光用のレジスト液や現像液を塗布する塗布、現像装置や、洗浄液によって基板を洗浄する洗浄装置においても、多数のシール部材が使用される。シール部材としては、環状のＯ－リングを採用する場合が一般的である。
【0003】
これらＯ－リングは、１台の装置に数十個～１００個以上も設けられる場合がある。このため、装置のメンテナンスの際には、これら多数のＯ－リングを取り外す作業が発生する。一方で、確実な気密性能を発揮するためには、Ｏ－リングを各部材の所定の位置に正確に取り付ける必要がある。そこで、Ｏ－リングを取り付ける位置に溝部を設け、この溝部内にＯ－リングを収容した状態で使用することがある。特に、Ｏ－リングの脱落を防ぐために、溝部としてしばしばアリ溝が用いられる。溝部に収容されたＯ－リングは、従来、ピックアップ用の治具を用いて取り外していたが、多数のＯ－リングの取り外しは、長い時間を要する作業となってしまう。
【0004】
特許文献１には、Ｏリングを取り付ける溝部の外周に、ピンセットなどの治具を挿入する取り外し用窪みを設ける技術が記載されている。また、特許文献２には、Ｏリングが設けられたアリ溝の底部に、耐圧容器の側面と導通する導通孔を連通させ、圧縮空気などの流体によりＯリングを浮き上がらせてアリ溝より取り出す技術が記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0005】
【特許文献1】特開２００５－２９８８９３号公報
【特許文献2】実開昭６１－８９５５３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0006】
本開示は、溝部に収容された環状のシール部材を簡便に取り外す技術を提供する。
【課題を解決するための手段】
【0007】
本開示は、密閉空間を有する装置を構成し、互いに当接する第１の部材の第１の当接面と第２の部材の第２の当接面との間に配置された環状のシール部材の取り外し方法であって、
前記第１の当接面には、前記シール部材を収容し、前記第１の当接面において開口する溝部と、前記溝部に収容された前記シール部材の側面との間に隙間を形成して気体が流れる流路を構成すると共に、前記第１の当接面と対向する位置から見たとき、前記溝部の開口の縁部から突出するように前記流路の端部を開口させた気体導入流路と、が設けられていることと、
高圧気体を供給するための気体供給ノズルを、前記気体導入流路の開口に接続する工程と、
次いで、前記気体供給ノズルから前記気体導入流路に高圧気体を供給することにより、前記溝部と前記シール部材との間に前記高圧気体を進入させて、前記シール部材の少なくとも一部を前記溝部から押し出す工程と、を含むことと、を有する方法である。
前記第１の当接面には、前記シール部材を収容し、前記第１の当接面において開口する溝部と、前記溝部に収容された前記シール部材の側面との間に隙間を形成して気体が流れる流路を構成すると共に、前記第１の当接面と対向する位置から見たとき、前記溝部の開口の縁部から突出するように前記流路の端部を開口させた気体導入流路と、が設けられていることと、
高圧気体を供給するための気体供給ノズルを、前記気体導入流路の開口に接続する工程と、
次いで、前記気体供給ノズルから前記気体導入流路に高圧気体を供給することにより、前記溝部と前記シール部材との間に前記高圧気体を進入させて、前記シール部材の少なくとも一部を前記溝部から押し出す工程と、を含むことと、を有する方法である。
【発明の効果】
【0008】
本開示によれば、溝部に収容された環状のシール部材を簡便に取り外すことができる。
【図面の簡単な説明】
【0009】
【図1】Ｏ－リングが設けられている基板処理装置の一例である。
【図2A】Ｏ－リングを収容した溝部の第１の構成例を示す平面図である。
【図2B】Ｏ－リングを収容した溝部の第２の構成例を示す平面図である。
【図3】溝部の形成方法の一例を示す縦断側面図である。
【図4】Ｏ－リングを取り外すエアガンの構成例を示す側面図である。
【図5】気体供給ノズルの第１の構成例を示す斜視図である。
【図6】前記気体供給ノズルの使用態様例を示す縦断側面図である。
【図7A】前記気体供給ノズルの作用例を示す第１の斜視図である。
【図7B】前記気体供給ノズルの作用例を示す第２の斜視図である。
【図8】気体供給ノズルの第２の構成例を示す斜視図である。
【図9】前記気体供給ノズルの使用態様例を示す縦断側面図である。
【図10】大型Ｏ－リングを収容した溝部の構成例を示す平面図である。
【図11A】大型Ｏ－リングを取り外す作用例を示す第１の縦断側面図である。
【図11B】大型Ｏ－リングを取り外す作用例を示す第２の縦断側面図である。
【図12】比較例１、２にて使用した治具の外観写真である。
【図13】実施例、比較例の結果を示すグラフである。
【発明を実施するための形態】
【0010】
＜エッチング装置１＞
初めに、環状のシール部材であるアリ溝６が取り付けられる基板処理装置の一例として、ＦＰＤ用のガラス基板Ｇに対してエッチング処理を行うエッチング装置１の構成例について、図１を参照しながら簡単に説明する。
本例のエッチング装置１は、真空容器２１内の載置台３上にガラス基板Ｇを載置し、当該ガラス基板Ｇに対してプラズマ処理を実施するように構成されている。真空容器２１内には、ゲートバルブ１６により開閉される搬送口２２を介してガラス基板Ｇが搬送され、当該真空容器２１の内部空間は、複数の排気路２３１を介して真空排気機構２３により真空排気されるように構成される。排気路２３１には、例えばＡＰＣ（Automatic Pressure Control）バルブなどの圧力調整部２３２が介設されている。真空排気機構２３は、複数の排気路２３のそれぞれに設けてもよいし、共通して設けてもよい。
初めに、環状のシール部材であるアリ溝６が取り付けられる基板処理装置の一例として、ＦＰＤ用のガラス基板Ｇに対してエッチング処理を行うエッチング装置１の構成例について、図１を参照しながら簡単に説明する。
本例のエッチング装置１は、真空容器２１内の載置台３上にガラス基板Ｇを載置し、当該ガラス基板Ｇに対してプラズマ処理を実施するように構成されている。真空容器２１内には、ゲートバルブ１６により開閉される搬送口２２を介してガラス基板Ｇが搬送され、当該真空容器２１の内部空間は、複数の排気路２３１を介して真空排気機構２３により真空排気されるように構成される。排気路２３１には、例えばＡＰＣ（Automatic Pressure Control）バルブなどの圧力調整部２３２が介設されている。真空排気機構２３は、複数の排気路２３のそれぞれに設けてもよいし、共通して設けてもよい。
【0011】
載置台３はプラズマ生成用の電極を兼ねるものであり、例えばプラズマ生成用の高周波電源３１及びイオン引き込み用のバイアス電力を供給する高周波電源３２が夫々整合器３１１、３２１を介して接続されている。この例の載置台３には、温調媒体流路３３が内蔵され、ガラス基板Ｇを設定温度に維持するように構成される。載置台３は絶縁部材３４により支持されると共に、ガラス基板Ｇの受け渡しに用いられる昇降ピン３５が昇降機構３５１により昇降可能に挿通されている。
【0012】
真空容器２１の天井部には、載置台３と対向するように、上部電極４が配置されている。上部電極４はガスシャワーヘッドを兼用するものであり、中空状に形成されていて、その下面には多数のガス吐出孔４１が設けられている。ガスシャワーヘッドである上部電極４は、バルブＶ１と流量調整部４３とを備えたガス供給路４２を介して、処理ガスのガス供給源４４に接続されている。
【0013】
このエッチング装置１によれば、外部から搬送されたガラス基板Ｇが載置台３上に載置されると、真空容器２１内を真空排気機構２３により真空排気して所定の真空度に調節した後、処理ガスであるエッチングガスを供給する。一方、載置台３にプラズマ発生用、及びイオン引き込み用の高周波電力を印加し、ガラス基板Ｇの上方側の空間に形成されたプラズマを利用して、ガラス基板Ｇに対するエッチング処理を実行する。所定の期間が経過したら、エッチングガスの供給、高周波電力の印加を停止し、真空容器２１内の圧力調節を行った後、処理後のガラス基板Ｇを搬出する。
【0014】
＜Ｏ－リング５の配置例＞
以上に説明したエッチング装置１は、密閉空間においてガラス基板Ｇにエッチングガスを供給し、真空容器２１内の真空排気を行うように構成されているところ、本開示の「密閉空間を有する装置」に相当している。このエッチング装置１には、内部を気密に保つため、環状のシール部材である多数のＯ－リング５が設けられている。
以上に説明したエッチング装置１は、密閉空間においてガラス基板Ｇにエッチングガスを供給し、真空容器２１内の真空排気を行うように構成されているところ、本開示の「密閉空間を有する装置」に相当している。このエッチング装置１には、内部を気密に保つため、環状のシール部材である多数のＯ－リング５が設けられている。
【0015】
図１には、エッチング装置１に設けられている多数のＯ－リング５の配置位置の一部を例示してある。図１には、ガス供給路４２の末端部のフランジと上部電極（ガスシャワーヘッド）４との間、上部電極４の外周側に設けられたフランジと、真空容器２１の上面の開口の周囲に形成され、当該フランジを受ける段差部との間、真空容器２１に設けられた覗き穴２４の周囲の壁部と、この覗き穴２４を覆う窓部２４１との間、下部電極である載置台３と、載置台３を支持する絶縁部材３４の段差部との間、真空容器２１の下面部と、排気路２３１の末端部のフランジとの間を、Ｏ－リング５の配置位置として例示している。
【0016】
これらの配置位置において、各Ｏ－リング５は、各部材の当接面間に配置されている。そして、この当接面を構成する一方の部材には、Ｏ－リング５を収容するための溝部であるアリ溝６が形成されている。アリ溝６が形成されている部材（図１中の上部電極４のガス供給路４２との接続部、真空容器２１の上面の開口の周囲の段差部、覗き穴２４が形成された真空容器２１の壁部、絶縁部材３４の段差部、真空容器２１の下面部）は、本開示の第１の部材に相当している。一方、アリ溝６に収容されたＯ－リング５を挟んで第１の部材と当接した状態となる部材（図１中のガス供給路４２のフランジ、上部電極４の外周側のフランジ、窓部２４１、載置台３、排気路２３１のフランジ）は、本開示の第２の部材に相当している。また、第１の部材が第２の部材と当接する面は第１の当接面となり、第２の部材が第１の部材と当接する面は第２の当接面となる。
【0017】
＜アリ溝６の構成＞
以下、図２Ａ～図１１Ｂを参照しながら、アリ溝６内に配置されたＯ－リング５を取り外す手法について説明する。なお、これらの図のうち、座標軸を併記した各図は、第１の部材６１の当接面（第１の当接面）を第２の部材の当接面（第２の当接面）側に向ける方向をＺ軸に設定してある。
図２Ａは、比較的小径の小型Ｏ－リング５ａが配置される第１の部材６１の平面図である。小型Ｏ－リング５ａが配置される位置としては、ガス供給路４２のフランジと上部電極４の上面との間、真空容器２１の壁部と窓部２４１との間を例示できる。第１の部材６１には、エッチングガスなどの流体が流れる流体流路６１１を囲むようにアリ溝６が形成されている。アリ溝６は、第２の部材との当接面（第１の当接面）側へ向けて開口するように設けられている。
以下、図２Ａ～図１１Ｂを参照しながら、アリ溝６内に配置されたＯ－リング５を取り外す手法について説明する。なお、これらの図のうち、座標軸を併記した各図は、第１の部材６１の当接面（第１の当接面）を第２の部材の当接面（第２の当接面）側に向ける方向をＺ軸に設定してある。
図２Ａは、比較的小径の小型Ｏ－リング５ａが配置される第１の部材６１の平面図である。小型Ｏ－リング５ａが配置される位置としては、ガス供給路４２のフランジと上部電極４の上面との間、真空容器２１の壁部と窓部２４１との間を例示できる。第１の部材６１には、エッチングガスなどの流体が流れる流体流路６１１を囲むようにアリ溝６が形成されている。アリ溝６は、第２の部材との当接面（第１の当接面）側へ向けて開口するように設けられている。
【0018】
さらに、本例の第１の部材６１を当接面と対向する位置から見たとき（図中のＺ軸側から平面視したとき）、当該当接面には、アリ溝６の開口の縁部から突出するようにエントリーポイント（Entry Point：ＥＰ）６０１、６０２が開口している。
図２Ａに示す例では、アリ溝６の外周側の縁部から外方側へ突出するようにＥＰ６０１が開口している。また、図２Ｂに示す例では、アリ溝６の外周側及び内周側のそれぞれの縁部から、さらに外方側及び内方側へ突出するようにＥＰ６０２が開口している。
図２Ａに示す例では、アリ溝６の外周側の縁部から外方側へ突出するようにＥＰ６０１が開口している。また、図２Ｂに示す例では、アリ溝６の外周側及び内周側のそれぞれの縁部から、さらに外方側及び内方側へ突出するようにＥＰ６０２が開口している。
【0019】
図３（ａ）、（ｂ）に示すように、これらのＥＰ６０１、６０２は、上部側の切削径よりも下部側の切削径の方が大きなエンドミル７を用いてアリ溝６のフライス加工を行った際に形成される。なお、図示の便宜上、これらの図において、エンドミル７の刃は、記載を省略してある。
【0020】
初めに、図２ＡのＥＰ６０１が形成される加工手法について、図３（ａ）、（ｂ）を参照しながら説明する。
フライス加工によりアリ溝６を形成する際には、予め形成しておいた不図示のドリル穴に沿ってエンドミル７を進入させ、切削径の方が大きなエンドミル７の下部の回転に対応した形の縦穴を形成する（図３（ａ））。この縦穴がエンドミル７を進入させるためのＥＰ６０１に相当する。
フライス加工によりアリ溝６を形成する際には、予め形成しておいた不図示のドリル穴に沿ってエンドミル７を進入させ、切削径の方が大きなエンドミル７の下部の回転に対応した形の縦穴を形成する（図３（ａ））。この縦穴がエンドミル７を進入させるためのＥＰ６０１に相当する。
【0021】
しかる後、図３（ｂ）に示すように流体流路６１１が形成されている方向へ向けてエンドミル７を移動させる。すると上部側の切削径よりも下部側の切削径の方が大きなエンドミル７によって第１の部材６１が切削され、エンドミル７の側面形状に沿った傾斜面が形成される。その後、図２Ａに示すように、流体流路６１１を囲む周方向に沿ってエンドミル７を一周させるフライス加工を行う。そして、ＥＰ６０１の形成位置にエンドミル７が戻ってきたら、エンドミル７をＥＰ６０１内に進入させた後、取り出す。
上述の加工動作により、図６に示すように、逆テーパー状の側壁面を有するアリ溝６が形成される。そして、アリ溝６の外周側の縁部から外方側へ突出するようにＥＰ６０１が開口した状態となる。
上述の加工動作により、図６に示すように、逆テーパー状の側壁面を有するアリ溝６が形成される。そして、アリ溝６の外周側の縁部から外方側へ突出するようにＥＰ６０１が開口した状態となる。
【0022】
一方、図２Ｂに示されているＥＰ６０２の場合には、図３（ａ）に示すように、ＥＰ６０２を形成した位置から、そのままアリ溝６を形成するフライス加工を開始すると、アリ溝６の外内周の双方の縁部から突出するようにＥＰ６０２が開口した状態となる。
【0023】
ここで出願人は、図２Ａに示すように、アリ溝６の外周側の縁部のみから外側へ突出するようにＥＰ６０１を形成すること、言い換えると、流体流路６１１側へ突出しないようにＥＰ６０１を形成することを提案している（例えば特開２０２０－１９６０５３）。この構成により、ＥＰ６０１の形成位置を流体流路６１１から遠ざけ、例えば真空容器２１内でのガラス基板Ｇの処理により生成した反応生成物がＥＰ６０１内に堆積することを抑制している。反応生成物の堆積抑制により、パーティクルの発生や、機器の腐食の発生を抑えることができる。
【0024】
また、図２Ａに示す構成のＥＰ６０１は、アリ溝６からＯ－リング５を取り外すための本例の手法を適用するに好適な構成となっている。そこで、以下の説明では、図２Ａに示すＥＰ６０１が設けられたアリ溝６からＯ－リング５を取り外す場合について説明する。
なお後述するように、図２Ｂに記載のＥＰ６０２が設けられたアリ溝６に対して、本例の手法を適用することも可能である。
なお後述するように、図２Ｂに記載のＥＰ６０２が設けられたアリ溝６に対して、本例の手法を適用することも可能である。
【0025】
＜気体導入路、及び気体供給ノズル８４＞
本例においては、アリ溝６からＯ－リング５を押し出すための気体を導入する気体導入流路として上述のＥＰ６０１を利用する。このＥＰ６０１に対しては、気体供給ノズル８４を用いて高圧気体が供給される。図４は、エアガン８に気体供給ノズル８４を設けた例を示している。エアガン８は、市販のものを利用することが可能であり、本体８１に設けられたアダプタ８６に対し、継手８５を介して気体供給ノズル８４を取り付けている。
本例においては、アリ溝６からＯ－リング５を押し出すための気体を導入する気体導入流路として上述のＥＰ６０１を利用する。このＥＰ６０１に対しては、気体供給ノズル８４を用いて高圧気体が供給される。図４は、エアガン８に気体供給ノズル８４を設けた例を示している。エアガン８は、市販のものを利用することが可能であり、本体８１に設けられたアダプタ８６に対し、継手８５を介して気体供給ノズル８４を取り付けている。
【0026】
このエアガン８の本体８１をエア供給ライン８３に接続し、レバー８２を作動させることにより、気体供給ノズル８４から高圧気体が供給される。高圧気体としては、例えば工場用力として供給される清浄空気を利用することが可能である。また、「高圧」とは、大気圧より高い圧力の気体であり、一般的な工場用力の清浄空気として、０．４～１ＭＰａの範囲内の圧力を例示するこができる。
【0027】
図５は、気体供給ノズル８４の構成例の外観斜視図を示している。当該図に示すように、この例の気体供給ノズル８４は、直管状の本体部８４１の端部に円錐状の先端部８４２を設けた構成となっている。また先端部８４２の先端面８４３は、本体部８４１の軸方向と直交する平坦な面となっている。そしてこの先端面８４３に、高圧気体を吐出するための吐出口８４５が形成されている。
【0028】
＜作用説明＞
上述の構成の気体供給ノズル８４を用い、アリ溝６からＯ－リング５を取り外す操作の内容を説明する。図６、図７Ａに示すように、気体供給ノズル８４は、エアガン８に取り付けた状態にて、先端面８４３が第１の部材６１の当接面に押し当てられる。これにより、気体導入流路であるＥＰ６０１に対して気体供給ノズル８４が接続された状態となる（気体供給ノズル８４を接続する工程）。なお、図６、図７Ａにおいて、エアガン８の記載は省略してある（以下、図７Ｂについても同じ）。また、作業効率の観点からは、気体供給ノズル８４を第１の部材６１の当接面にネジなどによって固定しない方が好ましい。
上述の構成の気体供給ノズル８４を用い、アリ溝６からＯ－リング５を取り外す操作の内容を説明する。図６、図７Ａに示すように、気体供給ノズル８４は、エアガン８に取り付けた状態にて、先端面８４３が第１の部材６１の当接面に押し当てられる。これにより、気体導入流路であるＥＰ６０１に対して気体供給ノズル８４が接続された状態となる（気体供給ノズル８４を接続する工程）。なお、図６、図７Ａにおいて、エアガン８の記載は省略してある（以下、図７Ｂについても同じ）。また、作業効率の観点からは、気体供給ノズル８４を第１の部材６１の当接面にネジなどによって固定しない方が好ましい。
【0029】
ここで図６に示すように、気体供給ノズル８４の先端面８４３の外径は、ＥＰ６０１の開口の口径よりも大きく形成されている。この構成により、気体供給ノズル８４をＥＰ６０１に接続したとき、先端部８４２の先端部がＥＰ６０１内に入り込むことなく、ＥＰ６０１の開口を気体供給ノズル８４の先端面８４３で覆った状態とすることができる。この結果、気体供給ノズル８４の吐出口８４５がＥＰ６０１の開口と連通した状態となり、気体供給ノズル８４からＥＰ６０１に高圧気体を導入することができる。
【0030】
図２Ａを用いて説明したように、本例のＥＰ６０１は、当接面と対向する位置から見て、アリ溝６の開口の縁部から突出するように開口している。この構成に伴い、図６に示すように、アリ溝６に収容されたＯ－リング５の側面とＥＰ６０１の側壁面との間には隙間が形成され、この隙間が気体の流れる流路となる。なお、Ｏ－リング５の断面が円形である場合、多角形のような辺を有しないため所謂「側面」に相当する箇所が特定できないが、便宜上、アリ溝６の内壁に対応したＯ－リング５の表面部分をＯ－リング５の「側面」と呼ぶこととする。
【0031】
次いで、図７Ｂに示すように、気体供給ノズル８４からＥＰ６０１に高圧気体を供給する。図中、白抜きの矢印は、気体の流れを模式的に表している（後述の図１１Ｂにおいて同じ）。ここで図６に示すように、アリ溝６の下部側の左右両隅の領域と、例えば断面形状が円形に構成されたＯ－リング５との間には、隙間が形成される。ＥＰ６０１に供給された高圧気体は、この隙間内に進入、充満する。
【0032】
さらに気体供給ノズル８４からの高圧気体の供給を継続すると、Ｏ－リング５とアリ溝６との間の隙間内の気体の圧力が上昇する。この結果、図７Ｂに示すように、Ｏ－リング５の少なくとも一部がアリ溝６から押し出される（Ｏ－リング５をアリ溝６から押し出す工程）。押し出されたＯ－リング５は、手で容易にアリ溝６から取り外すことができる。
【0033】
ここで、図２Ａに示すＥＰ６０１は、アリ溝６の外周側の縁部のみから外側へ突出するように構成されている。このため、図６を用いて説明したように、気体供給ノズル８４の先端面８４３で、ＥＰ６０１の開口を覆うと、気体供給ノズル８４と連通した気密な空間を形成することができる。この構成により、気体供給ノズル８４から供給された高圧気体が外部へ漏れ出しにくく、比較的少量の高圧流体で効率的にＯ－リング５を押し出すことができる。
【0034】
この点、図２Ｂに記載のように、アリ溝６の外内周の双方の縁部から突出するように開口したＥＰ６０２では、図２ＡのＥＰ６０１と比較して、ＥＰ６０２の開口面積が小さく、高圧気体を流入させにくい。また、ＥＰ６０２に気体供給ノズル８４を接続したとき、この接続位置から見て、Ｏ－リング５を介して反対側の位置にもう一つのＥＰ６０２が開口した状態となる。このため、気体供給ノズル８４と連通した気密な空間を形成することが難しく、供給した高圧気体の一部がＯ－リング５を押し出すために使われずに、外部へ漏れ出してしまうおそれがある。
但し、図２Ｂに示す構成のＥＰ６０２であっても、十分な圧力及び流量の高圧流体を供給すれば、本例の手法を適用して、アリ溝６からＯ－リング５を押し出すことは可能である。
但し、図２Ｂに示す構成のＥＰ６０２であっても、十分な圧力及び流量の高圧流体を供給すれば、本例の手法を適用して、アリ溝６からＯ－リング５を押し出すことは可能である。
【0035】
次に、本開示の技術を適用するに当たっての、Ｏ－リング５を収容する溝部がアリ溝６によって構成されていることの利点について説明する。例えば縦断面が矩形状の溝部に対しても、Ｏ－リング５を収容することは可能である。一方で、溝部の縦断面が矩形状の場合、溝部がアリ溝６である場合と比較して、Ｏ－リング５の側面と溝部の側壁面との間に形成される隙間は小さくなる。このため、アリ溝６の場合と比較して、高圧気体が進入しにくく、Ｏ－リング５を押し出す力が弱くなってしまう場合がある。
【0036】
また、アリ溝６は、開口の幅が狭くなっているため、ピックアップ用の治具を用いてＯ－リング５を取り出しにくい構造である。一方で、既述のように、溝部の縦断面が矩形状の場合と比較して、Ｏ－リング５とアリ溝６との間に形成される隙間は大きいため、高圧気体を利用した取り外しに適した溝部の構造であると言える。
【0037】
一方で、縦断面が矩形状の溝部にＯ－リング５が収容されている場合であっても、十分な圧力及び流量の高圧流体を供給すれば、本例の手法を適用して、溝部からＯ－リング５を押し出すことは可能である。
ここで、縦断面が矩形状の溝部を形成するためには、例えば、上部側の切削径と下部側の切削径とが等しい、円筒状のエンドミル７を用いてフライス加工を行う。この場合、ＥＰ６０１の直径と、溝部の開口の幅とはほぼ等しくなるので、図３（ａ）の状態から溝部を形成したとしても、ＥＰ６０１の開口は、溝部の縁部から突出した状態とはならない。従って、溝部の縁部から突出した状態のＥＰ６０１の開口を形成するためには、例えば図３（ｂ）を用いて説明した手法適用して加工を行うことが必要となる。
ここで、縦断面が矩形状の溝部を形成するためには、例えば、上部側の切削径と下部側の切削径とが等しい、円筒状のエンドミル７を用いてフライス加工を行う。この場合、ＥＰ６０１の直径と、溝部の開口の幅とはほぼ等しくなるので、図３（ａ）の状態から溝部を形成したとしても、ＥＰ６０１の開口は、溝部の縁部から突出した状態とはならない。従って、溝部の縁部から突出した状態のＥＰ６０１の開口を形成するためには、例えば図３（ｂ）を用いて説明した手法適用して加工を行うことが必要となる。
【0038】
また図１を用いて例示したように、エッチング装置１においては、様々な位置に第１の部材と前記第２の部材との部材当接部が設けられ、これらの部材当接部に各々Ｏ－リング５が設けられている。このとき、各当接部に設けられるＯ－リング５には、気密保持のための耐圧性能などに応じ、太さの異なるものが用いられる場合がある。この場合、Ｏ－リング５の太さに対応した幅を有するアリ溝６を形成しなければならない。アリ溝６の幅は、エンドミル７の切削径により変化するため、複数の部材当接部の中には、ＥＰ６０１の開口径が異なるものが含まれることになる。
【0039】
この点、既述のように、気体供給ノズル８４は、エアガン８から取り外し可能な構成となっている。そこで、高圧気体を吐出する吐出口８４５の口径や先端面８４３の直径が相違する複数種類の気体供給ノズル８４を準備しておくことができる。これにより、ＥＰ６０１の開口径に対応させ、これらの気体供給ノズル８４を取り換えて使用することが可能となる。
【0040】
＜他の例に係る気体供給ノズル８４ａ＞
図８、図９に記載の気体供給ノズル８４ａは、先端部８４２に傾斜面８４４が形成されている点において、先端面８４３が平坦となっている、図５、図６に示す気体供給ノズル８４と異なる。
本例の気体供給ノズル８４ａにおいて、先端部８４２は、傾斜面８４４が形成された部分をＥＰ６０１内に挿入することが可能な直径となっている。そして、図９に示すように、Ｏ－リング５の上面及び側面を覆うように傾斜面８４４の形成部分をＥＰ６０１内に挿入することにより、気体供給ノズル８４と連通した気密な空間を形成することができる。
この構成によっても、気体供給ノズル８４ａから供給された高圧気体が外部へ漏れ出しにくく、比較的少量の高圧流体で効率的にＯ－リング５を押し出すことができる。
図８、図９に記載の気体供給ノズル８４ａは、先端部８４２に傾斜面８４４が形成されている点において、先端面８４３が平坦となっている、図５、図６に示す気体供給ノズル８４と異なる。
本例の気体供給ノズル８４ａにおいて、先端部８４２は、傾斜面８４４が形成された部分をＥＰ６０１内に挿入することが可能な直径となっている。そして、図９に示すように、Ｏ－リング５の上面及び側面を覆うように傾斜面８４４の形成部分をＥＰ６０１内に挿入することにより、気体供給ノズル８４と連通した気密な空間を形成することができる。
この構成によっても、気体供給ノズル８４ａから供給された高圧気体が外部へ漏れ出しにくく、比較的少量の高圧流体で効率的にＯ－リング５を押し出すことができる。
【0041】
＜大型Ｏ－リング５ｂの取り外し＞
図２Ａ、図７Ｂなどでは、アリ溝６から小型Ｏ－リング５ａを取り外す例について説明した。一方で、アリ溝６には周長が１０ｃｍ～数ｍにもなる大型Ｏ－リング５ｂが設けられる場合もある。図１に示したエッチング装置１において、大型Ｏ－リング５ｂが配置される位置としては、上部電極４のフランジと、真空容器２１の上面の開口の周囲の段差部との間、真空容器２１の下面と排気路２３１のフランジとの間、載置台３と絶縁部材３４の段差部との間を例示できる。
図２Ａ、図７Ｂなどでは、アリ溝６から小型Ｏ－リング５ａを取り外す例について説明した。一方で、アリ溝６には周長が１０ｃｍ～数ｍにもなる大型Ｏ－リング５ｂが設けられる場合もある。図１に示したエッチング装置１において、大型Ｏ－リング５ｂが配置される位置としては、上部電極４のフランジと、真空容器２１の上面の開口の周囲の段差部との間、真空容器２１の下面と排気路２３１のフランジとの間、載置台３と絶縁部材３４の段差部との間を例示できる。
【0042】
例えば図１０には、図１に示す真空容器２１の上面に形成され、上部電極４が配置される開口６２１の周囲に設けられた段差部に対してアリ溝６を形成し、大型Ｏ－リング５ｂを収容した例を示している。この例においても、図２Ａ、図６を用いて説明した例と同様のＥＰ６０１が形成されている。
【0043】
大きさが相違する場合であっても、大型Ｏ－リング５ｂを取り外す手法に相違はない。即ち、図１１Ａに示すように、気体供給ノズル８４をＥＰ６０１に接続する。しかる後、気体供給ノズル８４から、ＥＰ６０１に高圧気体を供給する。ＥＰ６０１に供給された高圧気体は、大型Ｏ－リング５ｂとアリ溝６との隙間内に進入する点は、図６を用いて説明した例と同様である。
【0044】
一方で、大型Ｏ－リング５ｂの周長が長い場合には、圧力損失も大きく、大型Ｏ－リング５ｂとアリ溝６との隙間全体に高圧空気が行き渡ることが困難な場合もある。但し、高圧気体を連続的に供給することにより、例えば高圧気体の進入が行き詰まった位置の圧力が上昇し、図１１Ｂに示すように大型Ｏ－リング５ｂの少なくとも一部がアリ溝６から押し出される。押し出された大型Ｏ－リング５ｂは、手で容易にアリ溝６から取り外すことができる。
【0045】
以上に説明した各実施の形態に係る手法によれば、以下の効果がある。ＥＰ６０１を利用してアリ溝６に高圧気体を供給することにより、アリ溝６に収容されたＯ－リング５を押し出して、簡便に取り外すことができる。
【0046】
本例のＯ－リング５の取り外し法を適用可能な密閉空間を有する装置は、図１に例示したエッチング装置１に限定されない。真空容器２１内に基板であるガラス基板Ｇや半導体ウエハを配置し、成膜ガスを供給して成膜処理を行う成膜装置や、アッシングガスを供給して不要なレジスト膜の除去を行うアッシング装置に設けられたＯ－リング５に対して適用することもできる。また、基板に露光用のレジスト液や現像液を塗布する塗布、現像装置や、洗浄液で基板を洗浄する枚葉式やバッチ式の洗浄装置に設けられたＯ－リング５について、本例の手法を用いて取り外しを行ってもよい。
さらには、基板処理装置に限定されず、基板を基板処理装置間において移送する装置の油圧系統を構成する部材間に設けられるＯ－リング５や、基板を保管する装置の清浄空気若しくは温度調節媒体の循環系統を構成する部材間に設けられるＯ－リング５など、密閉空間を有し流体をシールする構造を有する各種の装置に対しても、本例の手法を適用することが可能である。
さらには、基板処理装置に限定されず、基板を基板処理装置間において移送する装置の油圧系統を構成する部材間に設けられるＯ－リング５や、基板を保管する装置の清浄空気若しくは温度調節媒体の循環系統を構成する部材間に設けられるＯ－リング５など、密閉空間を有し流体をシールする構造を有する各種の装置に対しても、本例の手法を適用することが可能である。
【0047】
今回開示された実施形態は全ての点で例示であって制限的なものではないと考えられるべきである。上記の実施形態は、添付の請求の範囲及びその主旨を逸脱することなく、様々な形態で省略、置換、変更されてもよい。
【実施例0048】
（ベンチマークテスト）
異なる手法を用いてアリ溝６からＯ－リング５を取り外すベンチマークテストを行い、作業の所要時間を比較した。
異なる手法を用いてアリ溝６からＯ－リング５を取り外すベンチマークテストを行い、作業の所要時間を比較した。
【0049】
Ａ．テスト条件
金属板の表面に、外径１４ｍｍのＯ－リング５を収容可能であり、図２Ａ、図６に示すＥＰ６０１を備えた構成のアリ溝６を１０個形成し、これらのアリ溝６から全てのＯ－リング５を取り外す作業を実施した。全体の取り外し作業に要した時間から、１個当たりの平均の作業時間（取り外し時間）を算出した。
（実施例）図５に示す構成の気体供給ノズル８４を用い、図６～図７Ｂを用いて説明した手法によりＯ－リング５を取り外した。エアガン８には、高圧流体として０．５ＭＰａの空気を供給した。
（比較例１）図１２（ａ）に示す構成の先端が扁平な治具を用い、手作業によりＯ－リング５を取り外した。
（比較例２）図１２（ｂ）に示す構成の先端が鋭利な治具を用い、手作業によりＯ－リング５を取り外した。
金属板の表面に、外径１４ｍｍのＯ－リング５を収容可能であり、図２Ａ、図６に示すＥＰ６０１を備えた構成のアリ溝６を１０個形成し、これらのアリ溝６から全てのＯ－リング５を取り外す作業を実施した。全体の取り外し作業に要した時間から、１個当たりの平均の作業時間（取り外し時間）を算出した。
（実施例）図５に示す構成の気体供給ノズル８４を用い、図６～図７Ｂを用いて説明した手法によりＯ－リング５を取り外した。エアガン８には、高圧流体として０．５ＭＰａの空気を供給した。
（比較例１）図１２（ａ）に示す構成の先端が扁平な治具を用い、手作業によりＯ－リング５を取り外した。
（比較例２）図１２（ｂ）に示す構成の先端が鋭利な治具を用い、手作業によりＯ－リング５を取り外した。
【0050】
【符号の説明】
【0051】
５ Ｏ－リング
６ アリ溝
６０１ ＥＰ
６１ 第１の部材
８４ 気体供給ノズル
６ アリ溝
６０１ ＥＰ
６１ 第１の部材
８４ 気体供給ノズル
【図1】
【図2A】
【図2B】
【図3】
【図4】
【図5】
【図6】
【図7A】
【図7B】
【図8】
【図9】
【図10】
【図11A】
【図11B】
【図12】
【図13】