特開 2023-85920 セメントクリンカの製造方法、セメントクリンカの製造システム、汚泥供給方法、及び汚泥供給装置

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】公開特許公報(A)

(11)【公開番号】P2023085920

(43)【公開日】2023-06-21

(54)【発明の名称】セメントクリンカの製造方法、セメントクリンカの製造システム、汚泥供給方法、及び汚泥供給装置

(51)【国際特許分類】

   C04B 7/38 20060101AFI20230614BHJP

   C02F 11/00 20060101ALI20230614BHJP

   C04B 7/43 20060101ALI20230614BHJP

【ＦＩ】

C04B7/38

C02F11/00 M ZAB

C04B7/43

【審査請求】未請求

【請求項の数】11

【出願形態】ＯＬ

(21)【出願番号】P 2021200240

(22)【出願日】2021-12-09

(71)【出願人】

【識別番号】521297587

【氏名又は名称】ＵＢＥ三菱セメント株式会社

(74)【代理人】

【識別番号】100088155

【弁理士】

【氏名又は名称】長谷川 芳樹

(74)【代理人】

【識別番号】100145012

【弁理士】

【氏名又は名称】石坂 泰紀

(74)【代理人】

【識別番号】100212026

【弁理士】

【氏名又は名称】中村 真生

(72)【発明者】

【氏名】追立 修士

(72)【発明者】

【氏名】中河 久典

(72)【発明者】

【氏名】上野 修

【テーマコード（参考）】

4D059

【Ｆターム（参考）】

4D059AA01

4D059AA03

4D059AA05

4D059AA23

4D059BB02

4D059BF15

4D059CB01

4D059CB06

4D059CC04

4D059EB01

(57)【要約】

【課題】セメントクリンカの品質の安定化を図る。
【解決手段】本開示の一側面に係るセメントクリンカの製造方法は、加熱工程と、吸引工程と、供給工程とを含む。加熱工程は、汚泥が供給される加熱部においてセメント原料を加熱する。吸引工程は、ポンプ圧送部のピストンを移動させることで、収容部から汚泥を吸引する。供給工程は、第１位置から第２位置までピストンを移動させることで、吸引した汚泥を加熱部に接続された供給配管内に送り出す。供給工程は、第１位置から、第１位置と第２位置との間の中間位置までピストンを移動させることと、中間位置においてピストンを停止させることと、中間位置から第２位置までピストンを移動させることと、を含む。
【選択図】図３

【特許請求の範囲】

【請求項1】

汚泥が供給される加熱部においてセメント原料を加熱する加熱工程と、
ポンプ圧送部のピストンを移動させることで、収容部から汚泥を吸引する吸引工程と、
第１位置から第２位置まで前記ピストンを移動させることで、吸引した汚泥を前記加熱部に接続された供給配管内に送り出す供給工程と、を含み、
前記供給工程は、
前記第１位置から、前記第１位置と前記第２位置との間の中間位置まで前記ピストンを移動させることと、
前記中間位置において前記ピストンを停止させることと、
前記中間位置から前記第２位置まで前記ピストンを移動させることと、を含む、セメントクリンカの製造方法。

【請求項2】

前記供給工程において、前記第１位置からの前記ピストンの移動開始のタイミングから所定時間が経過したときに前記ピストンを停止させることで、前記中間位置に前記ピストンを停止させる、請求項１に記載のセメントクリンカの製造方法。

【請求項3】

前記供給工程において、前記中間位置に対応する位置に配置されたセンサによって前記ピストンの到達が検知されたときに前記ピストンを停止させることで、前記中間位置に前記ピストンを停止させる、請求項１に記載のセメントクリンカの製造方法。

【請求項4】

前記供給工程は、前記ピストンを前記第１位置と前記第２位置との間で停止させずに前記第１位置から前記第２位置まで移動させる第１動作モードで前記ピストンを駆動することを更に含み、
動作モードの切替に関するユーザ指示に基づいて、前記第１動作モードから、前記ピストンを前記第１位置から前記中間位置まで移動させて前記中間位置で停止させた後に、前記ピストンを前記第２位置まで移動させる第２動作モードに切り替える、請求項１～３のいずれか一項に記載のセメントクリンカの製造方法。

【請求項5】

前記供給工程は、前記ピストンを前記第１位置と前記第２位置との間で停止させずに前記第１位置から前記第２位置まで移動させる第１動作モードで前記ピストンを駆動することを更に含み、
前記供給配管内の圧力を示す情報に基づいて、前記第１動作モードから、前記ピストンを前記第１位置から前記中間位置まで移動させて前記中間位置で停止させた後に、前記ピストンを前記第２位置まで移動させる第２動作モードに切り替える、請求項１～３のいずれか一項に記載のセメントクリンカの製造方法。

【請求項6】

前記供給工程は、前記ピストンを前記第１位置と前記第２位置との間で停止させずに前記第１位置から前記第２位置まで移動させる第１動作モードで前記ピストンを駆動することを更に含み、
前記加熱部でのセメント原料の加熱状況を示す情報に基づいて、前記第１動作モードから、前記ピストンを前記第１位置から前記中間位置まで移動させて前記中間位置で停止させた後に、前記ピストンを前記第２位置まで移動させる第２動作モードに切り替える、請求項１～３のいずれか一項に記載のセメントクリンカの製造方法。

【請求項7】

前記加熱部でのセメント原料の加熱状況を示す情報は、前記加熱部の温度、前記加熱部において加熱された後のセメント原料の温度、前記加熱部から排出される排ガスに含まれる所定成分の濃度、及び前記加熱部に供給されるエネルギー源の供給量から成る群から選択される１種以上の情報を含む、請求項６に記載のセメントクリンカの製造方法。

【請求項8】

タンク内に収容された汚泥をスクリューフィーダによって前記収容部を含む下流領域に向けて送り出す送出工程を更に含み、
前記タンク内に収容されている汚泥の含水率は８０％以下である、請求項１～７のいずれか一項に記載のセメントクリンカの製造方法。

【請求項9】

セメント原料を加熱する加熱部を有し、セメントクリンカを生成するセメントクリンカ製造装置と、
汚泥を収容する収容部と、前記加熱部に接続された供給配管と、ピストンの往復移動によって前記収容部から汚泥を吸引して、前記供給配管内に汚泥を送り出すポンプ圧送部とを有し、前記加熱部に対して汚泥を供給する汚泥供給装置と、
前記汚泥供給装置を制御する制御装置と、を備え、
前記制御装置は、前記ピストンを第１位置から第２位置まで移動させることで、前記収容部から吸引した汚泥を前記供給配管内に送り出す供給制御を実行し、
前記供給制御は、
前記第１位置から、前記第１位置と前記第２位置との間の中間位置まで前記ピストンを移動させることと、
前記中間位置において前記ピストンを停止させることと、
前記中間位置から前記第２位置まで前記ピストンを移動させることと、を含む、セメントクリンカの製造システム。

【請求項10】

セメント原料を加熱する加熱部に対して汚泥を供給する汚泥供給方法であって、
ポンプ圧送部のピストンを移動させることで、収容部から汚泥を吸引する吸引工程と、
第１位置から第２位置まで前記ピストンを移動させることで、吸引した汚泥を前記加熱部に接続された供給配管内に送り出す供給工程と、を含み、
前記供給工程は、
前記第１位置から、前記第１位置と前記第２位置との間の中間位置まで前記ピストンを移動させることと、
前記中間位置において前記ピストンを停止させることと、
前記中間位置から前記第２位置まで前記ピストンを移動させることと、を含む、汚泥供給方法。

【請求項11】

汚泥を収容する収容部と、
セメント原料を加熱する加熱部に接続された供給配管と、
ピストンの往復移動によって、前記収容部から汚泥を吸引して前記供給配管内に汚泥を送り出すポンプ圧送部と、を備え、
前記ポンプ圧送部は、前記ピストンを第１位置から第２位置まで移動させることで、前記収容部から吸引した汚泥を前記供給配管内に送り出す供給動作を実行し、
前記供給動作は、
前記第１位置から、前記第１位置と前記第２位置との間の中間位置まで前記ピストンが移動することと、
前記中間位置において前記ピストンが停止することと、
前記中間位置から前記第２位置まで前記ピストンが移動することと、を含む、汚泥供給装置。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本開示は、セメントクリンカの製造方法、セメントクリンカの製造システム、汚泥供給方法、及び汚泥供給装置に関する。

【背景技術】

【0002】

特許文献１には、低含水率汚泥の輸送方法が開示されている。この輸送方法は、汚泥を解砕し塊状物とする工程と、塊状物に滑材を添加する工程と、滑材が添加された塊状物を、圧送ポンプを介して輸送する工程とを含む。また、上記輸送方法では、塊状物の含水率を調整することが行われる。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0003】

【特許文献1】特開２００７－２６０５２６号公報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0004】

本開示は、セメントクリンカの品質の安定化に有用なセメントクリンカの製造方法、セメントクリンカの製造システム、汚泥供給方法、及び汚泥供給装置を提供する。

【課題を解決するための手段】

【0005】

本開示の一側面に係るセメントクリンカの製造方法は、加熱工程と、吸引工程と、供給工程とを含む。加熱工程は、汚泥が供給される加熱部においてセメント原料を加熱する。吸引工程は、ポンプ圧送部のピストンを移動させることで、収容部から汚泥を吸引する。供給工程は、第１位置から第２位置までピストンを移動させることで、吸引した汚泥を加熱部に接続された供給配管内に送り出す。供給工程は、第１位置から、第１位置と第２位置との間の中間位置までピストンを移動させることと、中間位置においてピストンを停止させることと、中間位置から第２位置までピストンを移動させることと、を含む。

【0006】

供給配管内に導入される汚泥の含水率が低くなると、ピストンの１回の往復動作によって汚泥が加熱部に導入されずに、ピストンの複数回の往復動作によって多くの量の汚泥の塊が加熱部に導入され得る。加熱部に導入される汚泥の塊の量が多いと、汚泥の塊の一部が焼却されない可能性があり、加熱部でのセメント原料の加熱に対して影響を及ぼすおそれがある。これに対して、上記製造方法では、第１位置から第２位置までピストンを移動させる間に、上記中間位置でピストンを停止させる。これにより、第２位置に向かうピストンの連続した移動に伴って供給配管内に送り出される汚泥の量が少なくなる。そのため、汚泥の含水率が低くなり、ピストンの複数回の往復動作によって汚泥の塊が加熱部に導入される場合でも、加熱部に導入される汚泥の塊の量が少なくなる。その結果、汚泥が焼却されないことに起因した、加熱部での加熱への影響を抑制できる。従って、セメントクリンカの品質の安定化に有用である。

【0007】

上記製造方法は、供給工程において、第１位置からのピストンの移動開始のタイミングから所定時間が経過したときにピストンを停止させることで、上記中間位置にピストンを停止させてもよい。この場合、中間位置にピストンを停止させるためにセンサ等を設置する必要がない。従って、装置構成の簡素化に有用である。

【0008】

上記製造方法は、供給工程において、中間位置に対応する位置に配置されたセンサによってピストンの到達が検知されたときにピストンを停止させることで、中間位置にピストンを停止させてもよい。この場合、ピストンの往復動作を繰り返し実行する際に、ピストンを第１位置と第２位置との間の目標位置に安定して停止させることができ、汚泥の塊の量が多くなってしまう可能性が更に低減される。従って、セメントクリンカの品質の安定化に更に有用である。

【0009】

供給工程は、ピストンを第１位置と第２位置との間で停止させずに第１位置から第２位置まで移動させる第１動作モードでピストンを駆動することを更に含んでもよい。上記製造方法は、動作モードの切替に関するユーザ指示に基づいて、第１動作モードから、ピストンを第１位置から中間位置まで移動させて中間位置で停止させた後に、ピストンを第２位置まで移動させる第２動作モードに切り替えてもよい。この場合、汚泥による加熱部での加熱への影響がないと判断される期間では、第１動作モードでピストンを動作させることができる。従って、ピストンの動作の簡素化とセメントクリンカの品質の安定化との両立に有用である。

【0010】

供給工程は、ピストンを第１位置と第２位置との間で停止させずに第１位置から第２位置まで移動させる第１動作モードでピストンを駆動することを更に含んでもよい。上記製造方法は、供給配管内の圧力を示す情報に基づいて、第１動作モードから、ピストンを第１位置から中間位置まで移動させて中間位置で停止させた後に、ピストンを第２位置まで移動させる第２動作モードに切り替えてもよい。供給配管内の圧力から、供給配管内の汚泥の含水率を推定することができる。そのため、上記方法では、供給配管内の汚泥の含水率が低くなったときに、第２動作モードに切り替えることができる。その結果、汚泥の含水率が高く、汚泥に起因した加熱部での加熱への上記影響がないと判断される期間では、第１動作モードでピストンを動作させることができる。従って、ピストンの動作の簡素化とセメントクリンカの品質の安定化との両立に有用である。

【0011】

供給工程は、ピストンを第１位置と第２位置との間で停止させずに第１位置から第２位置まで移動させる第１動作モードでピストンを駆動することを更に含んでもよい。上記製造方法は、加熱部でのセメント原料の加熱状況を示す情報に基づいて、第１動作モードから、ピストンを第１位置から中間位置まで移動させて中間位置で停止させた後に、ピストンを第２位置まで移動させる第２動作モードに切り替えてもよい。セメント原料の加熱状況から、既に加熱部に導入された汚泥に起因した加熱部での加熱への影響を推定することができる。そのため、上記方法では、汚泥に起因した加熱部での加熱への影響があるときに、その影響を低減又は解消するために第２動作モードに切り替えることができる。その結果、汚泥に起因した加熱部での加熱への上記影響がないと推定される期間では、第１動作モードでピストンを動作させることができる。従って、ピストンの動作の簡素化とセメントクリンカの品質の安定化との両立に有用である。

【0012】

加熱部でのセメント原料の加熱状況を示す情報は、加熱部の温度、加熱部において加熱された後のセメント原料の温度、加熱部から排出される排ガスに含まれる所定成分の濃度、及び加熱部に供給されるエネルギー源の供給量から成る群から選択される１種以上の情報を含んでもよい。これらの情報は、既に加熱部に導入された汚泥に起因した加熱部での加熱への上記影響によって変動する。従って、汚泥による加熱部での加熱への影響を把握したうえで、ピストンの動作を制御することが可能となる。

【0013】

上記製造方法は、タンク内に収容された汚泥をスクリューフィーダによって上記収容部を含む下流領域に向けて送り出す送出工程を更に含んでもよい。タンク内に収容されている汚泥の含水率は８０％以下であってもよい。タンク内に収容されている汚泥の含水率が低いと、ピストンの１回の往復動作によって汚泥が加熱部に導入されずに、ピストンの複数回の往復動作によって多くの量の汚泥の塊が加熱部に導入される現象が起こる可能性が高くなる。上記製造方法では、ピストンが中間位置で一旦停止し、加熱部に導入される汚泥の塊の量が少なくなるので、汚泥が焼却されないことに起因した加熱部での加熱への影響を抑制できる。従って、セメントクリンカの品質の安定化に有用である。

【0014】

本開示の一側面に係るセメントクリンカの製造システムは、セメントクリンカ製造装置と、汚泥供給装置と、汚泥供給装置を制御する制御装置と、を備える。セメントクリンカ製造装置は、セメント原料を加熱する加熱部を有し、セメントクリンカを生成する。汚泥供給装置は、汚泥を収容する収容部と、加熱部に接続された供給配管と、ピストンの往復移動によって収容部から汚泥を吸引して、供給配管内に汚泥を送り出すポンプ圧送部とを有し、加熱部に対して汚泥を供給する。制御装置は、ピストンを第１位置から第２位置まで移動させることで、収容部から吸引した汚泥を供給配管内に送り出す供給制御を実行する。供給制御は、第１位置から、第１位置と第２位置との間の中間位置までピストンを移動させることと、中間位置においてピストンを停止させることと、中間位置から第２位置までピストンを移動させることと、を含む。この製造システムでは、第１位置から第２位置までピストンが移動する間に、上記中間位置でピストンが停止する。従って、上記製造方法と同様に、セメントクリンカの品質の安定化に有用である。

【0015】

本開示の一側面に係る汚泥供給方法は、セメント原料を加熱する加熱部に対して汚泥を供給する方法である。汚泥供給方法は、ポンプ圧送部のピストンを移動させることで、収容部から汚泥を吸引する吸引工程と、第１位置から第２位置までピストンを移動させることで、吸引した汚泥を加熱部に接続された供給配管内に送り出す供給工程と、を含む。供給工程は、第１位置から、第１位置と第２位置との間の中間位置までピストンを移動させることと、中間位置においてピストンを停止させることと、中間位置から第２位置までピストンを移動させることと、を含む。この汚泥供給方法では、第１位置から第２位置までピストンを移動させる間に、上記中間位置でピストンを停止させる。従って、上記製造方法と同様に、セメントクリンカの品質の安定化に有用である。

【0016】

本開示の一側面に係る汚泥供給装置は、汚泥を収容する収容部と、セメント原料を加熱する加熱部に接続された供給配管と、ピストンの往復移動によって、収容部から汚泥を吸引して供給配管内に汚泥を送り出すポンプ圧送部と、を備える。ポンプ圧送部は、ピストンを第１位置から第２位置まで移動させることで、収容部から吸引した汚泥を供給配管内に送り出す供給動作を実行する。供給動作は、第１位置から、第１位置と第２位置との間の中間位置までピストンが移動することと、中間位置においてピストンが停止することと、中間位置から第２位置までピストンが移動することと、を含む。この汚泥供給装置では、第１位置から第２位置までピストンが移動する間に、上記中間位置でピストンが停止する。従って、上記製造方法と同様に、セメントクリンカの品質の安定化に有用である。

【発明の効果】

【0017】

本開示によれば、セメントクリンカの品質の安定化に有用なセメントクリンカの製造方法、セメントクリンカの製造システム、汚泥供給方法、及び汚泥供給装置が提供される。

【図面の簡単な説明】

【0018】

【図1】図１は、セメントクリンカの製造システムの一例を示す模式図である。

【図2】図２は、汚泥供給装置の一例を示す模式図である。

【図3】図３は、ポンプ圧送部の一例を示す模式図である。

【図4】図４は、制御装置のハードウェア構成の一例を示す模式図である。

【図5】図５は、制御装置が実行する一連の処理の一例を示すフローチャートである。

【図6】図６（ａ）及び図６（ｂ）は、ポンプ圧送部の動作の一例を示す模式図である。

【図7】図７（ａ）及び図７（ｂ）は、ポンプ圧送部の動作の一例を示す模式図である。

【図8】図８は、制御装置が実行する一連の処理の一例を示すフローチャートである。

【図9】図９（ａ）及び図９（ｂ）は、ポンプ圧送部の動作の一例を示す模式図である。

【図10】図１０（ａ）及び図１０（ｂ）は、ポンプ圧送部の動作の一例を示す模式図である。

【図11】図１１（ａ）及び図１１（ｂ）は、変形例に係るポンプ圧送部を示す模式図である。

【発明を実施するための形態】

【0019】

以下、図面を参照して一実施形態について説明する。説明において、同一要素又は同一機能を有する要素には同一の符号を付し、重複する説明を省略する。また、上下左右等の位置関係は、特に断らない限り、図面に示す位置関係に基づくものとし、各要素の寸法比率は図示の比率に限られるものではない。

【0020】

［セメントクリンカの製造システム］
図１には、一実施形態に係るセメントクリンカの製造システムが模式的に示されている。図１に示される製造システム１（セメントクリンカの製造システム）は、セメント原料を焼成することでセメントクリンカを製造するシステムである。製造システム１は、セメントクリンカ製造装置２と、制御装置９０と、を有する。

【0021】

セメントクリンカ製造装置２は、セメント原料を加熱してセメントクリンカを生成する装置である。セメントクリンカ製造装置２は、例えば、プレヒータ１０と、ロータリキルン３０と、クリンカクーラ３８と、汚泥供給装置４０と、を有する。以下、セメントクリンカ製造装置２に含まれる各装置と、制御装置９０とについてそれぞれ説明する。

【0022】

プレヒータ１０は、ニューサスペンションプレヒータ（ＮＳＰ）である。プレヒータ１０は、ロータリキルン３０でのセメント原料の焼成の前に、ロータリキルン３０からの排ガスを含む高温のガス（以下、単に「高温ガス」という。）を用いて、セメント原料の予熱及び仮焼を行う。高温ガスは、セメント原料を予熱及び仮焼できる程度の温度を有する。プレヒータ１０は、複数のサイクロンと、仮焼炉１４と、ライジングダクト１６と、原料供給部１７と、を有する。複数のサイクロンは、例えば、サイクロンＣ１，Ｃ２，Ｃ３，Ｃ４を含む。図１に示される例と異なり、サイクロンの個数が、５個以上又は３個以下であってもよい。

【0023】

サイクロンＣ１，Ｃ２，Ｃ３，Ｃ４は、上からこの順で配置されており、各サイクロンは、セメント原料（予熱した原料）と高温ガスとを分離する。仮焼炉１４は、ロータリキルン３０からの排ガスを含む高温ガスによってセメント原料の仮焼を行う炉体である。仮焼炉１４は、セメント原料を加熱する加熱部として機能する。仮焼炉１４での加熱温度は、一例では、７００℃～９００℃程度である。

【0024】

仮焼炉１４は、ライジングダクト１６を介してロータリキルン３０の窯尻３２に接続されている。仮焼炉１４の下端には、ライジングダクト１６の一端と接続される通風口１４ａが設けられている。ライジングダクト１６は、ロータリキルン３０からの排ガスを、通風口１４ａを介して仮焼炉１４内に導く。ロータリキルン３０の窯尻３２からの排ガスは、ライジングダクト１６内及び仮焼炉１４内を上昇するように流れる。

【0025】

仮焼炉１４は、石炭（例えば微粉炭）等のエネルギー源と空気とを混合させて、仮焼炉１４の内部に燃焼ガスを供給するバーナ（不図示）を有する。上記高温ガスには、ロータリキルン３０からの排ガスと、仮焼炉１４のバーナからの燃焼ガスとが含まれる。仮焼炉１４の内部において、バーナからの燃焼ガスによって、旋回しながら上昇する旋回流が形成されてもよい。仮焼炉１４において生成された高温ガス（仮焼炉１４から排出される排ガス）は、サイクロンＣ４に流れ、その後、サイクロンＣ３，Ｃ２，Ｃ１をこの順に通過するように上方に流れる。

【0026】

原料供給部１７は、サイクロンＣ１とサイクロンＣ２との間のガスダクトに、前工程（原料工程）で生成されたセメント原料を投入する。供給されたセメント原料は、サイクロン間のガスダクトでの高温ガスとの熱交換、及びサイクロンでの高温ガスとの分離を繰り返しながら、サイクロンＣ１，Ｃ２，Ｃ３の順に下降する。サイクロンＣ３で高温ガスと分離されたセメント原料が、仮焼炉１４の内部に導入される。仮焼炉１４での高温ガスとの熱交換により、セメント原料に含まれる石灰石（炭酸カルシウム：ＣａＣＯ３）の脱炭酸が行われる。仮焼された（脱炭酸）されたセメント原料は、高温ガスと共にサイクロンＣ４に導入され、サイクロンＣ４で高温ガスと分離された後に、ロータリキルン３０の窯尻３２に供給される。

【0027】

ロータリキルン３０は、プレヒータ１０で予熱及び仮焼された後のセメント原料を焼成する装置である。ロータリキルン３０での加熱温度は、一例では、１０００℃～１５００℃程度である。ロータリキルン３０は、本体部３４と、その本体部３４の後端に設けられたバーナ３６とを有する。ロータリキルン３０は、バーナ３６からの燃焼ガスによってセメント原料を加熱することで、セメントクリンカを生成する。ロータリキルン３０は、生成したセメントクリンカをクリンカクーラ３８に排出する。クリンカクーラ３８は、冷却用の空気等を用いてセメントクリンカを冷却する。

【0028】

汚泥供給装置４０は、仮焼炉１４に対して汚泥を供給する装置である。汚泥が仮焼炉１４内に供給されることで、汚泥の一部の成分（例えば、Ａｌ_２Ｏ_３）がセメント原料として用いられる。汚泥は、燃えやすい性質を有する。汚泥供給装置４０は、仮焼炉１４の上半分のいずれかの箇所に設けられた供給口から、仮焼炉１４内に汚泥を導入してもよい。汚泥供給装置４０から仮焼炉１４に導入された汚泥は、仮焼炉１４内において、落下しつつ高温ガスにより焼却される。

【0029】

汚泥供給装置４０は、いかなる種類の汚泥を仮焼炉１４に供給してもよい。汚泥供給装置４０は、複数種類の汚泥が混合された汚泥を仮焼炉１４に供給してもよい。汚泥供給装置４０によって供給される汚泥は、水分が多い未消化汚泥と、水分が少ない消化汚泥とを含んでもよい。一例では、未消化汚泥の含水率は８３％～８５％であり、消化汚泥の含水率は、７８～７９％であり、又は７８％よりも小さい。汚泥供給装置４０によって供給される汚泥は、臭気が強い汚泥を含んでもよい。有機汚泥（有機性汚泥）の臭気は強い傾向がある。有機汚泥の具体例としては、下水汚泥、屎尿汚泥、及び余剰汚泥等が挙げられる。

【0030】

図２には、汚泥供給装置４０の一例が模式的に示されている。図２に示される汚泥供給装置４０では、外部への臭気の漏れを防ぐため、汚泥が密閉された空間に収容され、密閉された状態で汚泥が仮焼炉１４まで輸送される。汚泥供給装置４０は、例えば、密閉設備４２と、タンク４４と、スクリューフィーダ４６と、注液部４８と、ホッパ４９と、ポンプ圧送部５０と、供給配管５２と、を有する。

【0031】

密閉設備４２は、汚泥の臭気の漏れを防ぐように、密閉された空間を形成する設備である。密閉設備４２は、タンク４４、スクリューフィーダ４６、注液部４８の一部、ホッパ４９、ポンプ圧送部５０、及び供給配管５２の一部を収容する。密閉設備４２の１つの側壁には、シャッターにより開閉可能な搬入口が設けられてもよい。その搬入口からトラック等を用いて、種々の汚泥がタンク４４内に供給されてもよい。

【0032】

タンク４４に収容されている汚泥は、下水汚泥、屎尿汚泥、及び余剰汚泥から成る群から選択される少なくとも１つを含んでもよい。タンク４４に収容されている汚泥の含水率は、８０％以下であってもよい。一例では、タンク４４に収容されている汚泥の含水率の上限値は、７８％、７６％、又は７５％である。タンク４４内の汚泥の含水率は、汚泥のサンプルを４０℃の炉内で２４時間乾燥させ、乾燥前後のサンプルの重量に基づき以下の式（１）で算出することができる。
含水率（％）＝（乾燥前重量－乾燥後重量）／乾燥前重量×１００ （１）

【0033】

スクリューフィーダ４６は、タンク４４内の汚泥を下流に向けて送り出す装置である。スクリューフィーダ４６から送り出された汚泥は、ホッパ４９まで搬送される。本開示は、搬送される汚泥の流れを基準に「上流」及び「下流」の用語を使用する。すなわち、汚泥は上流から下流に向けて搬送される。スクリューフィーダ４６とポンプ圧送部５０との間には、他のホッパ、及び、他のフィーダが設けられてもよい。注液部４８は、汚泥の含水率を上昇させるように、スクリューフィーダ４６によって送り出されている汚泥に対して液体を供給する。

【0034】

ホッパ４９（収容部）は、スクリューフィーダ４６から送り出された汚泥を受け入れて、その汚泥を一時的に収容する。ホッパ４９は、上記スクリューフィーダ４６よりも下流の領域に配置されている。ホッパ４９は、汚泥を収容するための空間（以下、「収容空間Ｓ」という。）を形成する。ホッパ４９は、例えば、底壁と側壁とを含み、上端が開放された収容空間Ｓを形成する。

【0035】

ポンプ圧送部５０は、ピストンの往復移動によって、ホッパ４９から汚泥を吸引して、仮焼炉１４に向けて汚泥を圧送するピストンポンプである。ポンプ圧送部５０と仮焼炉１４との間は、供給配管５２によって接続されている。供給配管５２では、汚泥の臭気が外部に漏れないように、その管内が密閉されている。ポンプ圧送部５０から圧送される汚泥は、供給配管５２を通して仮焼炉１４の内部に導かれる。

【0036】

製造システム１（汚泥供給装置４０）の稼働開始後に、ポンプ圧送部５０は、汚泥を供給配管５２の一方の端部５２ａから管内に汚泥を徐々に送り出す。これにより、供給配管５２内において汚泥が充填される。汚泥が管内に充填された状態で、ポンプ圧送部５０が、ある量の汚泥を端部５２ａから供給配管５２内に汚泥を更に送り出すと、供給配管５２の仮焼炉１４に接続されている他方の端部５２ｂから、端部５２ｂ及び端部５２ｂの近傍に位置していた汚泥が仮焼炉１４内に導入され得る。ポンプ圧送部５０は、ある量の汚泥を供給配管５２内に送り出して、供給配管５２内の汚泥の一部を仮焼炉１４内に導入する動作（ピストンの往復移動）を繰り返し実行する。

【0037】

図３には、ポンプ圧送部５０の一例が模式的に示されている。ポンプ圧送部５０は、ポンプ部６０と、切替部７０と、開閉バルブ７８とを有する。ポンプ部６０は、ホッパ４９内の汚泥を吸引して、吸引した汚泥を送り出す機能を有する。ポンプ部６０は、２系統の（１組の）ピストン機構を有してもよい。ポンプ部６０は、例えば、容器６２Ａ、ピストン６４Ａ、ピストン駆動部６６Ａ、及び位置センサ６８Ａ，６９Ａと、容器６２Ｂ、ピストン６４Ｂ、ピストン駆動部６６Ｂ、及び位置センサ６８Ｂ，６９Ｂと、を含む。

【0038】

容器６２Ａは、その内部に汚泥を収容することが可能となるように構成されている。容器６２Ａは、一方向に沿って延びるように筒状に形成されている。以下、容器６２Ａの延在方向を「方向Ｄ」と表記する。容器６２Ａの方向Ｄにおける一端は、開口されており、ホッパ４９の１つの側壁に接続されている。ホッパ４９内の汚泥は、容器６２Ａの方向Ｄにおける一端から、容器６２Ａ内に導入され得る。

【0039】

ピストン６４Ａは、容器６２Ａ内に設けられており、容器６２Ａ内において、ホッパ４９内の収容空間Ｓと接続される吸引空間を形成する。ピストン６４Ａの方向Ｄにおける位置によって、容器６２Ａとピストン６４Ａとによって区画される上記吸引空間の容積が変化する。ピストン６４Ａは、容器６２Ａの方向Ｄ２における断面を塞ぐことが可能な形状を有する。ピストン６４Ａは、方向Ｄに沿って延びるピストンロッドを介してピストン駆動部６６Ａに接続されていてもよい。

【0040】

ピストン駆動部６６Ａは、制御装置９０からの動作指示に基づいて、ピストン６４Ａを方向Ｄに沿って往復移動させるように構成された駆動部である。ピストン駆動部６６Ａは、例えば、油圧シリンダである。ピストン駆動部６６Ａは、方向Ｄにおいて、所定の後退位置Ｐ１と所定の前進位置Ｐ２との間でピストン６４Ａを往復移動させてもよい。方向Ｄにおいて、ホッパ４９、前進位置Ｐ２、及び後退位置Ｐ１が、この順に並ぶ。本開示では、後退位置Ｐ１（第１位置）と前進位置Ｐ２（第２位置）との間を「１ストローク」と定義する。１ストロークの距離は、０．５ｍ～２．０ｍ程度であってもよい。

【0041】

本開示では、ピストンを後退位置Ｐ１から前進位置Ｐ２まで移動させることを「前進」と称し、ピストンを前進位置Ｐ２から後退位置Ｐ１まで移動させることを「後退」と称する。前進位置Ｐ２から後退位置Ｐ１に向かってピストン６４Ａが後退していくことで、容器６２Ａ内の吸引領域の容積が増加していき、ホッパ４９の収容空間Ｓから汚泥が容器６２Ａ内に吸引されていく。後退位置Ｐ１から前進位置Ｐ２に向かってピストン６４Ａが前進していくことで、容器６２Ａ内の吸引領域の容積が減少していき、容器６２Ａ内から汚泥が押し出される。

【0042】

位置センサ６８Ａは、後退位置Ｐ１にピストン６４Ａが達したことを検知（感知）するセンサである。位置センサ６８Ａは、例えば、前進位置Ｐ２から後退位置Ｐ１に向かってピストン６４Ａが後退する際に、後退位置Ｐ１にピストン６４Ａが到達したときに、ピストン６４Ａの到達を示す信号を生成する。位置センサ６８Ａは、ピストン６４Ａの後退位置Ｐ１への到達を検知できれば、いずれの方式のセンサであってもよく、いずれの位置に配置されてもよい。位置センサ６８Ａは、ピストン６４Ａの後退位置Ｐ１への到達を直接検知してもよく、ピストン６４Ａに接続された部材（例えば、上記ピストンロッド）の一部の到達を検知することで、ピストン６４Ａの後退位置Ｐ１への到達を検知してもよい。

【0043】

位置センサ６９Ａは、前進位置Ｐ２にピストン６４Ａが達したことを検知（感知）するセンサである。位置センサ６９Ａは、例えば、後退位置Ｐ１から前進位置Ｐ２に向かってピストン６４Ａが前進する際に、前進位置Ｐ２にピストン６４Ａが到達したときに、ピストン６４Ａの到達を示す信号を生成する。位置センサ６９Ａは、ピストン６４Ａの前進位置Ｐ２への到達を検知できれば、いずれの方式のセンサであってもよく、いずれの位置に配置されてもよい。位置センサ６９Ａは、ピストン６４Ａの前進位置Ｐ２への到達を直接検知してもよく、ピストン６４Ａに接続された部材の一部の到達を検知することで、ピストン６４Ａの前進位置Ｐ２への到達を検知してもよい。

【0044】

容器６２Ｂは、容器６２Ａと同様の構成及び同様の機能を有する。ピストン６４Ｂは、ピストン６４Ａと同様の構成及び同様の機能を有する。ピストン駆動部６６Ｂは、ピストン駆動部６６Ａと同様の構成及び同様の機能を有する。位置センサ６８Ｂ，６９Ｂは、位置センサ６８Ａ，６９Ａとそれぞれ同様の機能を有する。ピストン駆動部６６Ｂは、ピストン６４Ａの後退によって容器６２Ａ内に汚泥が吸引されている最中には、ピストン６４Ｂを後退位置Ｐ１から前進位置Ｐ２に向かって前進させる。ピストン駆動部６６Ｂは、ピストン６４Ａの前進によって容器６２Ａから汚泥が送出されている最中には、ピストン６４Ｂを前進位置Ｐ２から後退位置Ｐ１に向かって後退させる。

【0045】

切替部７０は、ポンプ圧送部５０からの圧送の状態を、第１状態と第２状態との間で切り替える。第１状態は、容器６２Ａから供給配管５２への汚泥の送出が可能であり、且つ、ホッパ４９の収容空間Ｓから容器６２Ｂへの汚泥の吸引が可能な状態である。第１状態では、容器６２Ｂから供給配管５２への汚泥の送出ができず、且つ、ホッパ４９の収容空間Ｓから容器６２Ａへの汚泥の吸引ができない。

【0046】

第２状態は、容器６２Ｂから供給配管５２への汚泥の送出が可能であり、且つ、ホッパ４９の収容空間Ｓから容器６２Ａへの汚泥の吸引が可能な状態である。第２状態では、容器６２Ａから供給配管５２への汚泥の送出ができず、且つ、ホッパ４９の収容空間Ｓから容器６２Ｂへの汚泥の吸引ができない。切替部７０は、例えば、接続管７２と、切替駆動部７４とを有する。

【0047】

接続管７２は、容器６２Ａの開放された端部と供給配管５２の端部５２ａとの間、及び、容器６２Ｂの開放された端部と供給配管５２の端部５２ａとの間それぞれを、異なるタイミングで接続する配管である。接続管７２は、その端部７２ａの接続先を、容器６２Ａの端部又は容器６２Ｂの端部に切り替えることが可能となるように設けられている。接続管７２の端部７２ａと反対側の端部７２ｂは、端部７２ａの接続先に依らずに、供給配管５２の端部５２ａに接続されている。接続管７２の端部７２ａが容器６２Ａの端部と接続されることで上記第１状態となり、端部７２ａが容器６２Ｂの端部と接続されることで上記第２状態となる。

【0048】

切替駆動部７４は、制御装置９０からの動作指示に基づいて、容器６２Ａの端部と供給配管５２の端部５２ａとの間が接続される第１状態と、容器６２Ｂの端部と供給配管５２の端部５２ａとの間が接続される第２状態とを切り替えるように、接続管７２を駆動する。容器６２Ａの端部と供給配管５２の端部５２ａとの間が接続管７２を介して接続された状態では、ホッパ４９内の収容空間Ｓと容器６２Ｂ内の空間（上記吸引空間）とが接続されている。容器６２Ｂの端部と供給配管５２の端部５２ａとの間が接続管７２を介して接続された状態では、収容空間Ｓと容器６２Ａ内の空間（上記吸引空間）とが接続されている。

【0049】

開閉バルブ７８は、制御装置９０からの動作指示に基づいて、供給配管５２内の流路の開閉状態を切り替えるバルブである。開閉バルブ７８は、供給配管５２において、ホッパ４９に接続される端部５２ａの近傍に設けられていてもよい。開閉バルブ７８は、制御装置９０からの動作指示に基づいて、供給配管５２内の流路を閉状態から開状態に切り替える。開閉バルブ７８は、制御装置９０からの動作指示に基づいて、供給配管５２内の流路を開状態から閉状態に切り替える。開閉バルブ７８が開状態であるときに、供給配管５２内（より詳細には、供給配管５２のうちの開閉バルブ７８よりも下流部分）に汚泥を導入することが可能であり、供給配管５２から仮焼炉１４内に汚泥が供給される。開閉バルブ７８は、供給配管５２内の開閉状態の切替が可能であれば、どのような種類のバルブであってもよい。

【0050】

図１に示されるように、セメントクリンカ製造装置２は、取得装置８２を備えてもよい。取得装置８２は、仮焼炉１４でのセメント原料の加熱状況を示す情報（以下、「加熱情報」という。）を取得する装置である。取得装置８２は、取得した加熱情報を制御装置９０に出力する。取得装置８２は、例えば、仮焼炉１４でのセメント原料の加熱状況を示す温度を計測する。取得装置８２は、仮焼炉１４の温度を計測してもよい。仮焼炉１４の温度は、仮焼炉１４でのセメント原料の加熱状況によって変動する。取得装置８２は、仮焼炉１４の外表面から放射される赤外線等を検出することで、その外表面の温度を計測してもよい。

【0051】

図２に示されるように、セメントクリンカ製造装置２は、圧力計８４を備えてもよい。圧力計８４は、供給配管５２内の圧力を計測する。圧力計８４は、供給配管５２内の圧力を示す情報（以下、「圧力情報」という。）を制御装置９０に出力する。供給配管５２内に充填されている汚泥の含水率によって、供給配管５２内の圧力が変動し得る。供給配管５２内の汚泥の含水率が低くなると、供給配管５２内の圧力が高くなる傾向があり、供給配管５２内の汚泥の含水率が高くなると、供給配管５２内の圧力が低くなる傾向がある。

【0052】

制御装置９０は、少なくとも汚泥供給装置４０を制御するコンピュータである。制御装置９０は、セメントクリンカ製造装置２の全体を制御するコンピュータであってもよい。以下では、制御装置９０が、セメントクリンカ製造装置２の全体を制御するコンピュータである場合を例示する。制御装置９０は、図４に示されるように、回路９１を有する。回路９１は、少なくとも１つのプロセッサ９２と、メモリ９３と、ストレージ９４と、入出力ポート９５と、タイマ９６とを含む。ストレージ９４は、セメントクリンカ製造装置２に含まれる各要素を制御するためのプログラムを記録する。ストレージ９４は、ハードディスク、不揮発性の半導体メモリ、磁気ディスク、光ディスク等の、コンピュータ読み取り可能な記録媒体である。

【0053】

メモリ９３は、ストレージ９４からロードされたプログラム、プロセッサ９２の演算結果等を一時的に記憶する。プロセッサ９２は、メモリ９３と協働してプログラムを実行することで、セメントクリンカ製造装置２に含まれる各要素に対する制御を実行する。入出力ポート９５は、プロセッサ９２からの指令に応じ、ピストン駆動部６６Ａ，６６Ｂ、位置センサ６８Ａ，６８Ｂ，６９Ａ，６９Ｂ、切替駆動部７４、及び開閉バルブ７８等の間で電気信号の入出力を行う。タイマ９６は、プロセッサ９２からの指令により所定周期のクロックパルスをカウントして経過時間を計測する。

【0054】

制御装置９０には、入出力デバイス９８が接続されてもよい。入出力デバイス９８は、作業員等のオペレータからの指示を制御装置９０に入力すると共に、制御装置９０からの情報をオペレータに報知するための装置である。入出力デバイス９８は、入力デバイスとして、キーボード、操作パネル、又はマウスを含んでいてもよく、出力デバイスとして、モニタ（例えば液晶ディスプレイ）を含んでいてもよい。入出力デバイス９８は、入力デバイス及び出力デバイスが一体化されたタッチパネルであってもよい。制御装置９０及び入出力デバイス９８が一体化されていてもよい。

【0055】

制御装置９０は、仮焼炉１４に供給される微粉炭の供給量（単位時間あたりの供給量）を、仮焼炉１４の温度の計測結果に応じて調節してもよい。制御装置９０は、仮焼炉１４の温度が所定の目標範囲に含まれるように（目標温度に近づくように）、微粉炭の供給量を調節してもよい。制御装置９０は、ポンプ圧送部５０から供給される汚泥の供給量（単位時間あたりの供給量）が、所定の目標範囲に含まれるようにポンプ圧送部５０を制御してもよい。一例では、制御装置９０は、ピストン６４Ａ及びピストン６４Ｂの往復動作による汚泥の吸引と汚泥の送出とを含む動作が所定の周期で繰り返されるようにポンプ圧送部５０を制御する。

【0056】

制御装置９０は、ポンプ圧送部５０の動作モードを切り替えるように構成されていてもよい。制御装置９０は、後退位置Ｐ１と前進位置Ｐ２との間の１ストロークにおいてピストン６４Ａ，６４Ｂを停止させることなく動作させる動作モード（以下、「第１動作モード」という。）でポンプ圧送部５０を制御してもよい。制御装置９０は、１ストロークにおいてピストン６４Ａ，６４Ｂを一旦停止させて動作させる動作モード（以下、「第２動作モード」という。）でポンプ圧送部５０を制御してもよい。

【0057】

第１動作モードでは、制御装置９０は、ピストン６４Ａを後退位置Ｐ１と前進位置Ｐ２との間で停止させずに後退位置Ｐ１から前進位置Ｐ２まで移動させるように、ピストン駆動部６６Ａによりピストン６４Ａを駆動させる。第１動作モードでは、制御装置９０は、ピストン６４Ｂについても、ピストン６４Ａの駆動と同様にピストン駆動部６６Ｂにより駆動させる。

【0058】

第２動作モードでは、制御装置９０は、ピストン６４Ａを後退位置Ｐ１から、後退位置Ｐ１と前進位置Ｐ２との間の中間位置Ｐｍまで移動させて、その中間位置Ｐｍで停止させるようにピストン駆動部６６Ａを制御する。その後、制御装置９０は、ピストン６４Ａを中間位置Ｐｍから前進位置Ｐ２まで移動させるように、ピストン駆動部６６Ａを制御する。第２動作モードでは、制御装置９０は、ピストン６４Ｂについても、ピストン６４Ａに対する制御と同様にピストン駆動部６６Ｂを制御する。

【0059】

供給配管５２から仮焼炉１４への汚泥の供給では、ピストン６４Ａ，６４Ｂが前進を開始してから停止するまでの間の移動距離に応じた量の汚泥が仮焼炉１４内へ投入され得る。第２動作モードでは、中間位置Ｐｍでピストンが一度停止するので、ピストン６４Ａ，６４Ｂが前進を開始して中間位置Ｐｍで停止するまでの間の移動距離に応じた量の汚泥が仮焼炉１４内へ投入され得る。その後、ピストン６４Ａ，６４Ｂが、前進を再開してから前進位置Ｐ２で停止するまでの間の移動距離に応じた量の汚泥が仮焼炉１４へ投入され得る。そのため、第２動作モードにおいて、ピストンの移動から停止までの１回の動作に伴う汚泥の供給量（１回の供給動作で投入される汚泥の量）が、第１動作モードでの１回の動作に伴う供給量よりも小さくなり得る。

【0060】

制御装置９０は、作業員等のオペレータの指示がない限り、第１動作モードでポンプ圧送部５０を制御してもよい。制御装置９０は、オペレータからの切替指示（ユーザ指示）に基づいて、第１動作モードから第２動作モードに切り替えてもよい。仮焼炉１４へ送られる汚泥の含水率が低いと、仮焼炉１４の通風口１４ａを塞いでしまう場合がある。汚泥の含水率が低いと、以下の現象が生じると考えられる。含水率が低くなり供給配管５２内の汚泥が硬くなると、１回のピストンの往復動作によって汚泥が仮焼炉１４内に押し出されない場合がある。この場合、複数回のピストンの往復動作を実行した後に、仮焼炉１４内に多くの汚泥が塊となって一気に押し出される可能性がある。多くの汚泥が塊となって仮焼炉１４内に導入されると、汚泥の一部が焼却されずに、通風口１４ａの一部が詰まってしまうおそれがある。仮焼炉１４の通風口１４ａを汚泥が塞いでしまうと、ライジングダクト１６からの高温ガスの通風障害が発生し、仮焼炉１４の温度が低下してしまうトラブルが発生し得る。

【0061】

オペレータは、通風口１４ａが塞がれていると推定した場合、又は汚泥の含水率が低下していると推定した場合に、ポンプ圧送部５０の動作モードの切替を行ってもよい。オペレータは、取得装置８２による温度の計測結果の推移、又は、圧力計８４による計測結果の推移を確認しながら、第２動作モードでの制御が必要か否かを判断してもよい。オペレータは、切替が必要であると判断したときに、入出力デバイス９８を介して、制御装置９０に切替指示を入力してもよい。第２動作モードへの切替後、制御装置９０は、オペレータの指示に基づいて、第２動作モードから第１動作モードに切り替えてもよい。

【0062】

［セメントクリンカの製造方法］
上述の製造システム１を用いて、セメント原料からセメントクリンカを製造することができる。製造システム１におけるセメントクリンカの製造方法は、予熱仮焼工程（加熱工程）と、焼成工程と、冷却工程と、汚泥供給工程と、を含む。以上の工程により生成されたセメントクリンカが粉砕等を含む仕上げ工程を経ることで、セメントが製造される。

【0063】

予熱仮焼工程では、プレヒータ１０によってセメント原料の予熱及び仮焼が行われる。予熱仮焼工程では、微粉炭及び汚泥が供給されている仮焼炉１４において、セメント原料の仮焼（加熱）が行われてもよい。焼成工程では、ロータリキルン３０によってセメント原料の焼成が行われ、その結果、セメントクリンカが生成される。焼成工程では、ロータリキルン３０において、予熱及び仮焼された後のセメント原料が焼成（加熱）される。冷却工程では、ロータリキルン３０で生成されたセメントクリンカが、クリンカクーラ３８によって冷却される。

【0064】

汚泥供給工程は、予熱仮焼工程、焼成工程、及び冷却工程が実行されている期間の少なくとも一部と重複する期間において実行される。汚泥供給工程（汚泥供給方法）では、汚泥供給装置４０によって汚泥が仮焼炉１４に供給される。汚泥供給工程は、例えば、受入工程と、送出工程と、注液工程と、圧送工程と、を含む。受入工程では、タンク４４内に含水率が８０％以下である汚泥が供給されて、タンク４４内に当該汚泥が収容される。

【0065】

送出工程では、スクリューフィーダ４６によって、タンク４４内の汚泥が、ホッパ４９及びポンプ圧送部５０を含む下流領域に向けて送り出される。注液工程では、スクリューフィーダ４６によって送り出されている汚泥に対して、液体が供給される。送出工程及び注液工程を経ることで、ホッパ４９内に汚泥が収容される。

【0066】

圧送工程では、ポンプ圧送部５０によって、ホッパ４９内の汚泥が供給配管５２を通して仮焼炉１４内に向けて圧送される。供給配管５２内が汚泥で充填されている状態で、圧送工程においてポンプ圧送部５０から供給配管５２内に汚泥が導入されることで、供給配管５２内に充填されていた汚泥の一部が仮焼炉１４内に導入される。圧送工程は、吸引工程と、供給工程と、を含む。

【0067】

吸引工程では、ピストン駆動部６６Ａによってピストン６４Ａが前進位置Ｐ２から後退位置Ｐ１に移動することで、ホッパ４９から容器６２Ａ内に汚泥が吸引される。吸引工程では、ピストン駆動部６６Ｂによってピストン６４Ｂが前進位置Ｐ２から後退位置Ｐ１に移動することで、ホッパ４９から容器６２Ｂ内に汚泥が吸引される。容器６２Ａ内への汚泥の吸引と容器６２Ｂ内への汚泥の吸引とは、交互に実行される。

【0068】

供給工程では、容器６２Ａ内に汚泥が充填されている状態で、ピストン駆動部６６Ａによってピストン６４Ａが後退位置Ｐ１から前進位置Ｐ２に移動することで、汚泥が供給配管５２内に送り出される。供給工程では、容器６２Ｂ内に汚泥が充填されている状態で、ピストン駆動部６６Ｂによってピストン６４Ｂが後退位置Ｐ１から前進位置Ｐ２に移動することで、汚泥が供給配管５２内に送り出される。容器６２Ａからの汚泥の送り出しと容器６２Ｂからの汚泥の送り出しとは、交互に実行される。

【0069】

供給工程の実行内容の詳細は、ポンプ圧送部５０の動作モードの設定（切替結果）によって変化する。第１動作モードに設定されている場合、供給工程では、ピストン６４Ａ，６４Ｂが、後退位置Ｐ１と前進位置Ｐ２との間で停止することなく、前進位置Ｐ２まで前進するようにピストン駆動部６６Ａ，６６Ｂが制御される。第２動作モードに設定されている場合、供給工程では、ピストン６４Ａ，６４Ｂが、後退位置Ｐ１から中間位置Ｐｍまで移動して中間位置Ｐｍで停止した後に、中間位置Ｐｍから前進位置Ｐ２まで前進するようにピストン駆動部６６Ａ，６６Ｂが制御される。

【0070】

続いて、図５～図１０を用いて、第２動作モードでの制御装置９０による制御方法の一例を説明する。図５は、ポンプ圧送部５０の動作モードが第２動作モードに切り替えられている場合に、ピストン６４Ａを１ストロークの前進させる際に実行される一連の処理を示すフローチャートである。この一連の処理は、製造システム１の稼働開始後、供給配管５２内に汚泥が充填されている状態で実行される。この一連の処理の初期状態では、ピストン６４Ａが後退位置Ｐ１に位置し、ピストン６４Ｂが前進位置Ｐ２に位置している。また、開閉バルブ７８は開状態であり、容器６２Ａと供給配管５２とが接続管７２を介して接続されている。

【0071】

制御装置９０は、最初にステップＳ０１を実行する。ステップＳ０１では、制御装置９０が、ピストン６４Ａの前進を開始するようにピストン駆動部６６Ａを制御し、ピストン６４Ｂの後退を開始するようにピストン駆動部６６Ｂを制御する。図６（ａ）には、ステップＳ０１が開始された後の様子が模式的に示されている。ステップＳ０１の実行により、容器６２Ａ内の汚泥が接続管７２を介して供給配管５２に導入されるのが開始され、ホッパ４９の収容空間Ｓから容器６２Ｂ内への汚泥の吸引が開始される。

【0072】

次に、制御装置９０は、ステップＳ０２，Ｓ０３を実行する。ステップＳ０２では、制御装置９０が、ステップＳ０１の実行から所定の設定時間（所定時間）が経過するまで待機する。ステップＳ０３では、制御装置９０が、ピストン６４Ａの前進を中断するようにピストン駆動部６６Ａを制御し、ピストン６４Ｂの後退を中断するようにピストン駆動部６６Ｂを制御する。上記設定時間は、オペレータにより予め設定されていてもよい。上記設定時間は、移動を中断させた際にピストン６４Ａ及びピストン６４Ｂが、後退位置Ｐ１と前進位置Ｐ２との間で停止するように設定されている。

【0073】

図６（ｂ）には、ステップＳ０３の実行後の様子が模式的に示されている。中間位置Ｐｍは、後退位置Ｐ１からのピストン６４Ａの移動開始のタイミングから上記設定時間が経過してピストン６４Ａを停止させたときに、ピストン６４Ａが停止する位置に相当する。ステップＳ０３の実行後に、ピストン６４Ａが停止する位置と、ピストン６４Ｂが停止する位置とが、互いに略一致していてもよく、互いに異なっていてもよい。ステップＳ０３の実行と略同一のタイミングで、制御装置９０は、開状態から閉状態に切り替わるように開閉バルブ７８を制御してもよい。

【0074】

次に、制御装置９０は、ステップＳ０４を実行する。ステップＳ０４では、制御装置９０が、ステップＳ０３の実行後から所定の停止時間が経過するまで待機する。上記停止時間は、オペレータにより予め設定されていてもよい。停止時間は、供給配管５２の端部５２ｂから仮焼炉１４に導入され得る汚泥の塊が途切れる程度の時間に設定されてもよい。停止時間は、第１動作モードでピストンを１ストローク移動させる時間の１／４～３／４程度であってもよく、一例では、１．０秒～３．０秒程度である。

【0075】

次に、制御装置９０は、ステップＳ０５を実行する。ステップＳ０５では、制御装置９０が、ピストン６４Ａの前進を再開するようにピストン駆動部６６Ａを制御し、ピストン６４Ｂの後退を再開するようにピストン駆動部６６Ｂを制御する。ステップＳ０５の実行と略同一のタイミングで、又は、ステップＳ０５の実行前に、制御装置９０は、閉状態から開状態に切り替わるように開閉バルブ７８を制御してもよい。図７（ａ）には、ピストン６４Ａ，６４Ｂの移動を再開させた後の様子が模式的に示されている。

【0076】

次に、制御装置９０は、ステップＳ０６，Ｓ０７を実行する。ステップＳ０６では、制御装置９０が、ピストン６４Ａが前進位置Ｐ２に到達するまで待機する。制御装置９０は、ピストン６４Ａの前進位置Ｐ２への到達を示す信号を位置センサ６９Ａから受けるまで待機してもよい。ステップＳ０７では、制御装置９０が、ピストン６４Ａの前進を停止するようにピストン駆動部６６Ａを制御する。以上のステップにより、ピストン６４Ａが中間位置Ｐｍから前進位置Ｐ２まで移動して、容器６２Ａ内の汚泥が、接続管７２を介して供給配管５２内に更に導入される。

【0077】

ステップＳ０６，Ｓ０７の実行と並行して、制御装置９０は、ステップＳ０８，Ｓ０９を実行する。ステップＳ０８では、例えば、制御装置９０が、ピストン６４Ｂが後退位置Ｐ１に到達するまで待機する。制御装置９０は、ピストン６４Ｂの後退位置Ｐ１への到達を示す信号を位置センサ６８Ｂから受けるまで待機してもよい。ステップＳ０９では、制御装置９０が、ピストン６４Ｂの後退を停止するようにピストン駆動部６６Ｂを制御する。以上のステップにより、ピストン６４Ｂが後退位置Ｐ１まで移動して、容器６２Ｂ内に汚泥が充填される。

【0078】

次に、制御装置９０は、ステップＳ１１，Ｓ１２，Ｓ１３を実行する。ステップＳ１１では、制御装置９０が、開状態から閉状態に切り替わるように開閉バルブ７８を制御する。ステップＳ１２では、制御装置９０が、容器６２Ａと供給配管５２とが接続された第１状態から、接続管７２を介して容器６２Ｂと供給配管５２とが接続された第２状態に切り替わるように、切替部７０の切替駆動部７４を制御する。図７（ｂ）には、接続管７２による接続状態の切替の様子が例示されている。ステップＳ１３では、制御装置９０が、閉状態から開状態に切り替わるように開閉バルブ７８を制御する。

【0079】

図８は、ポンプ圧送部５０の動作モードが第２動作モードに切り替えられている場合に、ピストン６４Ａを１ストローク分後退させる際に実行される一連の処理を示すフローチャートである。図８に示される一連の処理は、上述のステップＳ１３の実行が完了した後に続けて実行される。

【0080】

ステップＳ１３の実行後に、制御装置９０は、ステップＳ２１を実行する。ステップＳ２１では、制御装置９０が、ピストン６４Ａの後退を開始するようにピストン駆動部６６Ａを制御し、ピストン６４Ｂの前進を開始するようにピストン駆動部６６Ｂを制御する。図９（ａ）には、ステップＳ２１が開始された後の様子が模式的に示されている。ステップＳ２１の実行により、ホッパ４９の収容空間Ｓから容器６２Ａ内への汚泥の吸引が開始され、容器６２Ｂ内の汚泥が接続管７２を介して供給配管５２に導入されるのが開始される。

【0081】

次に、制御装置９０は、ステップＳ２２，Ｓ２３を実行する。ステップＳ２２では、制御装置９０が、ステップＳ２１の実行から所定の設定時間が経過するまで待機する。ステップＳ２３では、制御装置９０が、ピストン６４Ａの後退を中断するようにピストン駆動部６６Ａを制御し、ピストン６４Ｂの前進を中断するようにピストン駆動部６６Ｂを制御する。上記設定時間は、上述したステップＳ０２で用いる設定時間と同じ時間に予め設定されていてもよい。

【0082】

図９（ｂ）には、ステップＳ２３の実行後の様子が模式的に示されている。中間位置Ｐｍは、後退位置Ｐ１からのピストン６４Ｂの移動開始のタイミングから上記設定時間が経過してピストン６４Ｂを停止させたときに、ピストン６４Ｂが停止する位置に相当する。ステップＳ２３の実行後にピストン６４Ｂが停止する位置と、上述のステップＳ０３の実行後にピストン６４Ａが停止する位置とが、互いに略一致していてもよく、互いに異なっていてもよい。ステップＳ２３の実行と略同一のタイミングで、制御装置９０は、開状態から閉状態に切り替わるように開閉バルブ７８を制御してもよい。

【0083】

次に、制御装置９０は、ステップＳ２４を実行する。ステップＳ２４では、制御装置９０が、ステップＳ２３の実行後から所定の停止時間が経過するまで待機する。上記停止時間は、上述したステップＳ０４で用いる停止時間と同じ時間に予め設定されていてもよい。

【0084】

次に、制御装置９０は、ステップＳ２５を実行する。ステップＳ２５では、制御装置９０が、ピストン６４Ａの後退を再開するようにピストン駆動部６６Ａを制御し、ピストン６４Ｂの前進を再開するようにピストン駆動部６６Ｂを制御する。ステップＳ２５の実行と略同一のタイミングで、又は、ステップＳ２５の実行前に、制御装置９０は、閉状態から開状態に切り替わるように開閉バルブ７８を制御してもよい。図１０（ａ）には、ピストン６４Ａ，６４Ｂの移動を再開させた後の様子が模式的に示されている。

【0085】

次に、制御装置９０は、ステップＳ２６，Ｓ２７を実行する。ステップＳ２６では、制御装置９０が、ピストン６４Ａが後退位置Ｐ１に到達するまで待機する。制御装置９０は、ピストン６４Ａの後退位置Ｐ１への到達を示す信号を位置センサ６８Ａから受けるまで待機してもよい。ステップＳ２７では、制御装置９０が、ピストン６４Ａの後退を停止するようにピストン駆動部６６Ａを制御する。以上のステップにより、ピストン６４Ａが後退位置Ｐ１まで移動して、容器６２Ａ内に汚泥が充填される。

【0086】

ステップＳ２６，Ｓ２７の実行と並行して、制御装置９０は、ステップＳ２８，Ｓ２９を実行する。ステップＳ２８では、例えば、制御装置９０が、ピストン６４Ｂが前進位置Ｐ２に到達するまで待機する。制御装置９０は、ピストン６４Ｂの前進位置Ｐ２への到達を示す信号を位置センサ６９Ｂから受けるまで待機してもよい。ステップＳ２９では、制御装置９０が、ピストン６４Ｂの前進を停止するようにピストン駆動部６６Ｂを制御する。以上のステップにより、ピストン６４Ｂが中間位置Ｐｍから前進位置Ｐ２まで移動して、容器６２Ｂ内に充填されている汚泥が、接続管７２を介して供給配管５２内に導入される。

【0087】

次に、制御装置９０は、ステップＳ３１，Ｓ３２，Ｓ３３を実行する。ステップＳ３１では、制御装置９０が、開状態から閉状態に切り替わるように開閉バルブ７８を制御する。ステップＳ３２では、制御装置９０が、容器６２Ｂと供給配管５２とが接続された第２状態から、接続管７２を介して容器６２Ａと供給配管５２とが接続された第１状態に切り替わるように、切替部７０の切替駆動部７４を制御する。図１０（ｂ）には、接続管７２による接続状態の切替の様子が例示されている。ステップＳ３３では、制御装置９０が、閉状態から開状態に切り替わるように開閉バルブ７８を制御する。

【0088】

以上に例示した一連の処理（供給工程）では、制御装置９０は、後退位置Ｐ１から前進位置Ｐ２までピストン６４Ａを移動させることで、ホッパ４９から吸引した汚泥を供給配管５２に送り出す供給制御を実行する。制御装置９０は、供給制御において、後退位置Ｐ１から中間位置Ｐｍまでピストン６４Ａをピストン駆動部６６Ａにより移動させることと、中間位置Ｐｍにおいてピストン６４Ａをピストン駆動部６６Ａにより停止させることと、中間位置Ｐｍから前進位置Ｐ２までピストン６４Ａをピストン駆動部６６Ｂにより移動させることと、を実行する。制御装置９０は、供給制御において、ピストン６４Ｂの動作についても、ピストン６４Ａと同様の動作が実行されるようにピストン駆動部６６Ｂを制御する。

【0089】

制御装置９０は、所定の周期ごとに、ステップＳ０１からステップＳ１３までの一連の処理と、ステップＳ２１からステップＳ３３までの一連の処理とを実行する。これにより、所定の周期ごとに、供給配管５２から仮焼炉１４に汚泥が供給される。ポンプ圧送部５０の動作モードが、中間位置Ｐｍにおいてピストンを停止させない第１動作モードに設定されている場合、制御装置９０は、上記一連の処理においてステップＳ０２～Ｓ０５の実行、及びステップＳ２２～Ｓ２５の実行が省略された一連の処理を実行する。

【0090】

［変形例］
上述した一連の処理は一例であり、適宜変更可能である。上記一連の処理において、制御装置９０は、一のステップと次のステップとを並列に実行してもよく、上述した例とは異なる順序で各ステップを実行してもよい。制御装置９０は、いずれかのステップを省略してもよく、いずれかのステップにおいて上述の例とは異なる処理を実行してもよい。

【0091】

取得装置８２は、仮焼炉１４の温度に代えて又は加えて、仮焼炉１４で加熱された後のセメント原料の温度を示す情報を、仮焼炉１４でのセメント原料の加熱状況を示す加熱情報として取得してもよい。取得装置８２は、例えば、サイクロンＣ４のセメント原料の出口付近において窯尻３２に投入される直前のセメント原料の温度を計測してもよい。仮焼炉１４で加熱された後のセメント原料の温度は、仮焼炉１４でのセメント原料の加熱状況によって変動する。

【0092】

取得装置８２は、仮焼炉１４の温度に代えて又は加えて、仮焼炉１４から排出される排ガスに含まれる所定成分の濃度を示す情報を、上記加熱情報として取得してもよい。取得装置８２は、仮焼炉１４からの排ガスに含まれる一酸化炭素の濃度を計測してもよい。仮焼炉１４からの排ガスに含まれる所定成分（例えば、一酸化炭素）の濃度は、仮焼炉１４でのセメント原料の加熱状況によって変動する。

【0093】

制御装置９０が、仮焼炉１４の温度を目標範囲に維持するように、汚泥以外の微粉炭等のエネルギー源の仮焼炉１４への供給量を調節する場合、その供給量が、仮焼炉１４でのセメント原料の加熱状況によって変動する。すなわち、仮焼炉１４の温度が目標範囲から低下すると微粉炭等の供給量が増加され、仮焼炉１４の温度が目標範囲を上回ると微粉炭等の供給量が減少される。制御装置９０は、仮焼炉１４へのエネルギー源の供給量を示す情報を、上記加熱情報として取得してもよい。

【0094】

上述の例では、オペレータからの切替指示に基づいて、ポンプ圧送部５０の動作モードが、第１動作モードから、中間位置Ｐｍでピストンを停止させる第２動作モードに切り替えられるが、動作モードの切替方法は、この例に限られない。制御装置９０は、仮焼炉１４でのセメント原料の加熱状況を示す上記加熱情報に基づいて、第１動作モードから第２動作モードに切り替えてもよい。

【0095】

制御装置９０は、仮焼炉１４の温度、仮焼炉１４において加熱された後のセメント原料の温度、仮焼炉１４から排出される排ガスに含まれる所定成分の濃度、及び仮焼炉１４に供給されるエネルギー源の供給量から成る群から選択される１種以上の情報に基づいて、第１動作モードから第２動作モードに切り替えてもよい。制御装置９０は、いずれかの加熱情報と所定閾値との比較結果に応じて、第１動作モードから第２動作モードに切り替えてもよい。

【0096】

一例では、制御装置９０は、仮焼炉１４の温度又は加熱後のセメント原料の温度が、所定の閾値を下回った場合に、第１動作モードから第２動作モードに切り替えてもよい。制御装置９０は、仮焼炉１４からの排ガスの一酸化炭素の濃度が、所定の閾値を上回った場合に、第１動作モードから第２動作モードに切り替えてもよい。制御装置９０は、仮焼炉１４へのエネルギー源（例えば、微粉炭）の供給量が所定の閾値を上回った場合に、第１動作モードから第２動作モードに切り替えてもよい。第２動作モードへの切替後、制御装置９０は、いずれかの加熱情報に基づいて、第２動作モードから第１動作モードに切り替えてもよい。

【0097】

制御装置９０は、加熱情報に代えて又は加えて、圧力計８４によって取得される供給配管５２内の圧力を示す上記圧力情報に基づいて、第１動作モードから第２動作モードに切り替えてもよい。一例では、制御装置９０は、供給配管５２内の圧力の計測値が、所定の閾値を上回った場合に、第１動作モードから第２動作モードに切り替えてもよい。

【0098】

制御装置９０は、第１動作モードでのポンプ圧送部５０に対する制御を実行せずに、製造システム１が稼働している間に、第２動作モードでポンプ圧送部５０を動作させてもよい。制御装置９０は、ピストン６４Ａ，６４Ｂを前進位置Ｐ２から後退位置Ｐ１に後退させる吸引工程において、ピストン６４Ａ，６４Ｂを後退位置Ｐ１と前進位置Ｐ２との間で停止させなくてもよい。

【0099】

図１１（ａ）には、ポンプ圧送部５０の別の例が示されている。後退位置Ｐ１からの移動の開始タイミングからの設定時間の経過に代えて、中間位置Ｐｍに対応する位置に配置された位置センサ７９Ａによってピストン６４Ａの到達が検知（感知）された場合に、ピストン６４Ａを停止させるようにピストン駆動部６６Ａを制御してもよい。中間位置Ｐｍは、位置センサ７９Ａがピストン６４Ａの到達を検知する位置に略一致してもよい。

【0100】

位置センサ７９Ａは、例えば、後退位置Ｐ１から前進位置Ｐ２に向かってピストン６４Ａが前進する際に、検知可能な位置にピストン６４Ａが到達したときに、ピストン６４Ａの到達を示す信号を生成する。位置センサ７９Ａは、ピストン６４Ａの到達を検知できれば、いずれの方式のセンサであってもよく、いずれの位置に配置されてもよい。位置センサ７９Ａは、後退位置Ｐ１と前進位置Ｐ２との間に配置されて、ピストン６４Ａの到達を直接検知してもよい。位置センサ７９Ａは、ピストン６４Ａに接続された部材（例えば、上記ピストンロッド）の一部の到達を検知することで、ピストン６４Ａの到達を検知してもよい。制御装置９０は、ピストン６４Ｂについても、位置センサによる検知結果に応じて、後退位置Ｐ１と前進位置Ｐ２との間で停止させてもよい。

【0101】

図１１（ｂ）には、第２動作モードでのピストンの駆動方法の別の例が示されている。制御装置９０は、ピストン６４Ａを後退位置Ｐ１から前進位置Ｐ２に向かって前進させる際に、後退位置Ｐ１と前進位置Ｐ２との間の２箇所以上の中間位置でそれぞれピストン６４Ａを停止させてもよい。制御装置９０は、ピストン６４Ｂについても、後退位置Ｐ１と前進位置Ｐ２との間の２箇所以上の中間位置でそれぞれピストン６４Ａを停止させてもよい。

【0102】

一例では、制御装置９０は、後退位置Ｐ１から第１中間位置ｐｍ１までピストン６４Ａを移動させて、第１中間位置ｐｍ１でピストン６４Ａを停止させるようにピストン駆動部６６Ａを制御する。そして、制御装置９０は、第１中間位置ｐｍ１から第２中間位置ｐｍ２までピストン６４Ａを移動させて、第２中間位置ｐｍ２でピストン６４Ａを停止させるようにピストン駆動部６６Ａを制御する。その後、制御装置９０は、第２中間位置ｐｍ２から前進位置Ｐ２までピストン６４Ａを移動させるようにピストン駆動部６６Ａを制御する。

【0103】

ポンプ圧送部５０は、２系統のピストン機構に代えて、１系統（単一の）ピストン機構を有してもよい。汚泥供給装置４０は、仮焼炉１４に代えて又は加えて、ロータリキルン３０（加熱部）に対して汚泥を供給してもよい。

【0104】

［実施形態の効果］
以上に説明したセメントクリンカの製造方法では、後退位置Ｐ１から前進位置Ｐ２までピストン６４Ａ，６４Ｂを移動させる間に、中間位置Ｐｍでピストン６４Ａ，６４Ｂを停止させる。これにより、前進位置Ｐ２に向かうピストン６４Ａ，６４Ｂの連続した移動に伴って供給配管５２内に送り出される汚泥の量が少なくなる。そのため、汚泥の含水率が低くなり、ピストン６４Ａ，６４Ｂの複数回の往復動作によって汚泥の塊が仮焼炉１４に導入される場合でも、仮焼炉１４に導入される汚泥の塊の量が少なくなる。その結果、汚泥が焼却されないことに起因した仮焼炉１４での加熱への影響（例えば、高温ガスの通風障害による仮焼炉１４の温度低下）を抑制できる。従って、セメントクリンカの品質の安定化に有用である。

【0105】

以上に説明した上記製造方法は、供給工程において、後退位置Ｐ１からのピストン６４Ａ，６４Ｂの移動開始のタイミングから所定の設定時間が経過したときにピストン６４Ａ，６４Ｂを停止させることで、中間位置Ｐｍにピストン６４Ａ，６４Ｂを停止させてもよい。この場合、中間位置Ｐｍにピストン６４Ａ，６４Ｂを停止させるために位置センサ等を設置する必要がない。従って、ポンプ圧送部５０の装置構成の簡素化に有用である。

【0106】

以上に説明した上記製造方法は、供給工程において、中間位置Ｐｍに対応する位置に配置されたセンサによってピストン６４Ａ，６４Ｂの到達が検知されたときにピストン６４Ａ，６４Ｂを停止させることで、中間位置Ｐｍにピストン６４Ａ，６４Ｂを停止させてもよい。この場合、ピストン６４Ａ，６４Ｂの往復動作を繰り返し実行する際に、ピストン６４Ａ，６４Ｂを後退位置Ｐ１と前進位置Ｐ２との間の目標位置に安定して停止させることができ、汚泥の塊の量が多くなってしまう可能性が更に低減される。従って、セメントクリンカの品質の安定化に更に有用である。

【0107】

以上に説明した上記製造方法は、動作モードの切替に関するユーザ指示に基づいて、第１動作モードから第２動作モードに切り替えてもよい。この場合、汚泥に起因した仮焼炉１４への上記影響がないと判断される期間では、第１動作モードでピストン６４Ａ，６４Ｂを動作させることができる。従って、ピストン６４Ａ，６４Ｂの動作の簡素化とセメントクリンカの品質の安定化との両立に有用である。

【0108】

以上に説明した上記製造方法は、供給配管内の圧力を示す情報に基づいて、第１動作モードから第２動作モードに切り替えてもよい。供給配管５２内の圧力から、供給配管５２内の汚泥の含水率を推定することができる。そのため、上記方法では、供給配管５２内の汚泥の含水率が低くなったときに、第２動作モードに切り替えることができる。その結果、汚泥の含水率が高く、汚泥に起因した仮焼炉１４での加熱への上記影響がないと判断される期間では、第１動作モードでピストン６４Ａ，６４Ｂを動作させることができる。従って、ピストン６４Ａ，６４Ｂの動作の簡素化とセメントクリンカの品質の安定化との両立に有用である。

【0109】

以上に説明した上記製造方法は、仮焼炉１４でのセメント原料の加熱状況を示す情報に基づいて、第１動作モードから第２動作モードに切り替えてもよい。セメント原料の加熱状況から、既に仮焼炉１４に導入された汚泥に起因した仮焼炉１４での加熱への上記影響を推定することができる。そのため、上記方法では、汚泥に起因した仮焼炉１４での加熱への上記影響があるときに、その影響を低減又は解消するために第２動作モードに切り替えることができる。その結果、汚泥に起因した仮焼炉１４での加熱への影響がないと推定される期間では、第１動作モードでピストン６４Ａ，６４Ｂを動作させることができる。従って、ピストン６４Ａ，６４Ｂの動作の簡素化とセメントクリンカの品質の安定化との両立に有用である。

【0110】

仮焼炉１４でのセメント原料の加熱状況を示す情報（加熱情報）は、仮焼炉１４の温度、仮焼炉１４において加熱された後のセメント原料の温度、仮焼炉１４から排出される排ガスに含まれる所定成分の濃度、及び仮焼炉１４に供給されるエネルギー源の供給量から成る群から選択される１種以上の情報を含んでもよい。これらの情報は、仮焼炉１４に既に導入された汚泥に起因した仮焼炉１４での加熱への上記影響によって変動する。従って、汚泥による仮焼炉１４への影響を把握したうえで、ピストン６４Ａ，６４Ｂの動作を制御することが可能となる。

【0111】

以上に説明した上記製造方法は、タンク４４内に収容された汚泥をスクリューフィーダ４６によってホッパ４９を含む下流領域に向けて送り出す送出工程を更に含んでもよい。タンク４４内に収容されている汚泥の含水率は８０％以下であってもよい。タンク４４に収容されている汚泥の含水率が低いと、ピストン６４Ａ，６４Ｂの１回の往復動作によって汚泥が仮焼炉１４に導入されずに、ピストン６４Ａ，６４Ｂの複数回の往復動作によって多くの量の汚泥の塊が仮焼炉１４に導入される現象が起こる可能性が高くなる。上記製造方法では、ピストン６４Ａ，６４Ｂが中間位置Ｐｍで一旦停止し、仮焼炉１４に導入される汚泥の塊の量が少なくなるので、汚泥が焼却されないことに起因した仮焼炉１４での加熱への影響を抑制できる。従って、セメントクリンカの品質の安定化に有用である。

【符号の説明】

【0112】

１…セメントクリンカの製造システム、２…セメントクリンカ製造装置、１４…仮焼炉、４０…汚泥供給装置、４４…タンク、４６…スクリューフィーダ、４９…ホッパ、５０…ポンプ圧送部、５２…供給配管、６４Ａ，６４Ｂ…ピストン、Ｐ１…後退位置、Ｐ２…前進位置、Ｐｍ…中間位置、７９Ａ…位置センサ、９０…制御装置。

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】

【図6】

【図7】

【図8】

【図9】

【図10】

【図11】