特開 2023-88493 検出システム、検出方法及び記憶媒体

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】公開特許公報(A)

(11)【公開番号】P2023088493

(43)【公開日】2023-06-27

(54)【発明の名称】検出システム、検出方法及び記憶媒体

(51)【国際特許分類】

   H01L 21/027 20060101AFI20230620BHJP

   B05C 11/08 20060101ALI20230620BHJP

【ＦＩ】

H01L21/30 564C

H01L21/30 569C

B05C11/08

【審査請求】未請求

【請求項の数】16

【出願形態】ＯＬ

(21)【出願番号】P 2021203264

(22)【出願日】2021-12-15

(71)【出願人】

【識別番号】000219967

【氏名又は名称】東京エレクトロン株式会社

(74)【代理人】

【識別番号】100096389

【弁理士】

【氏名又は名称】金本 哲男

(74)【代理人】

【識別番号】100101557

【弁理士】

【氏名又は名称】萩原 康司

(74)【代理人】

【識別番号】100167634

【弁理士】

【氏名又は名称】扇田 尚紀

(74)【代理人】

【識別番号】100187849

【弁理士】

【氏名又は名称】齊藤 隆史

(74)【代理人】

【識別番号】100212059

【弁理士】

【氏名又は名称】三根 卓也

(72)【発明者】

【氏名】牧 準之輔

【テーマコード（参考）】

4F042

5F146

【Ｆターム（参考）】

4F042AA07

4F042AB00

4F042DH09

4F042EB05

4F042EB09

4F042EB18

4F042EB21

5F146JA04

5F146LA01

(57)【要約】

【課題】基板処理装置の処理空間内の構造物の状態を検出する撮像デバイス等の状態検出部が設けられた検出用基板をより有効的に活用できるようにする。
【解決手段】基板を処理する基板処理装置を備え、前記基板処理装置の処理空間内の構造物の状態を検出する検出システムであって、前記構造物の状態を検出する状態検出部が設けられた検出用基板と、処理対象の基板及び前記検出用基板それぞれを前記基板処理装置の前記処理空間に対して搬入出するように構成された搬送装置と、制御装置と、を備え、前記検出用基板は、基板表面内の互いに交わる二方向それぞれについて加速度を検出する加速度検出部がさらに設けられ、前記制御装置は、前記処理空間に対する前記検出用基板の搬入出時に当該検出用基板が搬入出方向に移動したときの、前記加速度検出部による検出結果に基づいて、前記処理空間内における前記検出用基板上の前記状態検出部の向きを推定する。
【選択図】図６

【特許請求の範囲】

【請求項1】

基板を処理する基板処理装置を備え、前記基板処理装置の処理空間内の構造物の状態を検出する検出システムであって、
前記構造物の状態を検出する状態検出部が設けられた検出用基板と、
処理対象の基板及び前記検出用基板それぞれを前記基板処理装置の前記処理空間に対して搬入出するように構成された搬送装置と、
制御装置と、を備え、
前記検出用基板は、基板表面内の互いに交わる二方向それぞれについて加速度を検出する加速度検出部がさらに設けられ、
前記制御装置は、前記処理空間に対する前記検出用基板の搬入出時に当該検出用基板が搬入出方向に移動したときの、前記加速度検出部による検出結果に基づいて、前記処理空間内における前記検出用基板上の前記状態検出部の向きを推定する、検出システム。

【請求項2】

前記搬入出方向への移動時の加速度の履歴が取り得るパターンが予め分類されており、
前記制御装置は、前記加速度検出部により検出された加速度の履歴が前記パターンのいずれに該当するか、前記互いに交わる方向それぞれについて判定し、判定結果に基づき、前記向きを推定する、請求項１に記載の検出システム。

【請求項3】

前記制御装置は、前記搬入出方向への移動時前半の加速度と前記搬入出方向への移動時後半の加速度との大小関係に基づき、前記加速度検出部により検出された加速度の履歴が前記パターンのいずれに該当するかを判定する、請求項２に記載の検出システム。

【請求項4】

前記検出用基板は、前記加速度検出部が２つ設けられ、
２つの前記加速度検出部はそれぞれ、互いに異なる方向にかかる加速度を測定し、
前記制御装置は、一の前記加速度検出部による検出結果に基づいて推定された前記向きの範囲と、他の前記加速度検出部による検出結果に基づいて推定された前記向きの範囲とで重なる範囲を、前記向きの範囲として新たに推定する、請求項１～３のいずれか１項に記載の検出システム。

【請求項5】

前記互いに交わる二方向は、第１方向と第２方向であり、
前記第１方向にかかる加速度及び前記第２方向にかかる加速度それぞれを軸とする平面を加速度平面としたとき、
前記制御装置は、前記加速度平面における、前記移動時前半の前記第１方向にかかる加速度と前記移動時前半の前記第２方向にかかる加速度とにより表される点の位置、または、前記移動時後半の前記第１方向にかかる加速度と前記移動時後半の前記第２方向にかかる加速度とにより表される点の位置の少なくともいずれか一方に基づいて、前記向きを推定する、請求項１に記載の検出システム。

【請求項6】

前記検出用基板を回転させる回転機構をさらに備える、請求項１～５のいずれか１項に記載の検出システム。

【請求項7】

前記制御装置は、前記向きの推定結果に基づいて、前記検出用基板を回転させ、前記状態検出部による検出対象の前記構造物に対応する向きになるよう、前記向きを補正する、請求項６に記載の検出システム。

【請求項8】

前記制御装置は、前記向きが、前記状態検出部による検出対象の前記構造物に対応する向きとされた後、前記状態検出部による検出範囲内に前記検出対象の前記構造物が収まるまで前記検出用基板を段階的に回転させ、前記検出範囲内に前記検出対象の前記構造物が収まったときの前記状態検出部からの出力に基づいて、前記検出対象の前記構造物の状態を検出する、請求項６または７に記載の検出システム。

【請求項9】

基板処理装置の処理空間内の構造物の状態を検出する検出方法であって、
前記構造物の状態を検出する状態検出部と、基板表面内の互いに交わる二方向それぞれについて加速度を検出する加速度検出部と、が設けられた検出用基板を、前記処理空間内に対し搬入出する工程と、
前記搬入出する工程時に前記検出用基板が搬入出方向に移動したときの、前記加速度検出部による検出結果に基づいて、前記処理空間内における前記検出用基板上の前記状態検出部の向きを推定する工程と、を含む検出方法。

【請求項10】

前記搬入出方向への移動時の加速度の履歴が取り得るパターンが予め分類されており、
前記向きを推定する工程は、前記加速度検出部により検出された加速度の履歴が前記パターンのいずれに該当するか、前記互いに交わる方向それぞれについて判定し、判定結果に基づき、前記向きを推定する、請求項９に記載の検出方法。

【請求項11】

前記向きを推定する工程は、前記搬入出方向への移動時前半の加速度と前記搬入出方向への移動時後半の加速度との大小関係に基づき、前記加速度検出部により検出された加速度の履歴が前記パターンのいずれに該当するかを判定する、請求項１０に記載の検出方法。

【請求項12】

前記検出用基板は、前記加速度検出部が２つ設けられ、
２つの前記加速度検出部はそれぞれ、互いに異なる方向にかかる加速度を測定し、
前記向きを推定する工程は、前記向きの範囲を推定する工程を含み、
前記向きの範囲を推定する工程は、一の前記加速度検出部による検出結果に基づいて推定された前記向きの範囲と、他の前記加速度検出部による検出結果に基づいて推定された前記向きの範囲とで重なる範囲を、前記向きの範囲として新たに推定する、請求項９～１１のいずれか１項に記載の検出方法。

【請求項13】

前記互いに交わる二方向は、第１方向と第２方向であり、
前記第１方向にかかる加速度及び前記第２方向にかかる加速度それぞれを軸とする平面を加速度平面としたとき、
前記向きを推定する工程は、前記加速度平面における、前記移動時前半の前記第１方向にかかる加速度と前記移動時前半の前記第２方向にかかる加速度とにより表される点の位置、または、前記移動時後半の前記第１方向にかかる加速度と前記移動時後半の前記第２方向にかかる加速度とにより表される点の位置の少なくともいずれか一方に基づいて、前記向きを推定する、請求項９に記載の検出方法。

【請求項14】

前記向きの推定結果に基づいて、前記検出用基板を回転させ、前記状態検出部による検出対象の前記構造物に対応する向きになるよう、前記向きを補正する工程をさらに含む、請求項９～１３のいずれか１項に記載の検出方法。

【請求項15】

前記向きが、前記状態検出部による検出対象の前記構造物に対応する向きとされた後、前記状態検出部による検出範囲内に前記検出対象の前記構造物が収まるまで前記検出用基板を段階的に回転させ、前記検出範囲内に前記検出対象の前記構造物が収まったときの前記状態検出部からの出力に基づいて、前記検出対象の前記構造物の状態を検出する工程をさらに含む、請求項９～１４のいずれか１項に記載の検出方法。

【請求項16】

請求項９～１５のいずれか１項に記載の検出方法を検出システムに実行させるために、前記検出方法を制御する制御装置のコンピュータ上で動作するプログラムを記憶した読み取り可能なコンピュータ記憶媒体。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本開示は、検出システム、検出方法及び記憶媒体に関する。

【背景技術】

【0002】

特許文献１に開示の装置は、基板搬送ロボットの搬送アームに基板のかわりに所定の治具を保持させる。この状態で、ノズルが吐出位置に移動され、ノズルと治具とが所定の相対的位置関係になるまで近接する。そして、当該近接状態において基板搬送ロボットがＸ方向とＹ方向とに動作され、治具がＸ方向とＹ方向とに移動する。この移動に伴って、治具に付設した投光部からの光がノズルによって遮光される位置があるため、治具に付設した受光部から得られる出力に基づいて演算が行われ、ノズル位置が特定される。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0003】

【特許文献1】特開２０００－１２４１７号公報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0004】

本開示にかかる技術は、基板処理装置の処理空間内の構造物の状態を検出する撮像デバイス等の状態検出部が設けられた検出用基板をより有効的に活用できるようにする。

【課題を解決するための手段】

【0005】

本開示の一態様は、基板を処理する基板処理装置を備え、前記基板処理装置の処理空間内の構造物の状態を検出する検出システムであって、前記構造物の状態を検出する状態検出部が設けられた検出用基板と、処理対象の基板及び前記検出用基板それぞれを前記基板処理装置の前記処理空間に対して搬入出するように構成された搬送装置と、制御装置と、を備え、前記検出用基板は、基板表面内の互いに交わる二方向それぞれについて加速度を検出する加速度検出部がさらに設けられ、前記制御装置は、前記処理空間に対する前記検出用基板の搬入出時に当該検出用基板が搬入出方向に移動したときの、前記加速度検出部による検出結果に基づいて、前記処理空間内における前記検出用基板上の前記状態検出部の向きを推定する。

【発明の効果】

【0006】

本開示によれば、基板処理装置の処理空間内の構造物の状態を検出する撮像デバイス等の状態検出部が設けられた検出用基板の利便性をより友好的に活用することができる。

【図面の簡単な説明】

【0007】

【図1】ウェハ処理システムの内部構成の概略を示す説明図である。

【図2】ウェハ処理システムの正面側の内部構成の概略を模式的に示す図である。

【図3】ウェハ処理システムの背面側の内部構成の概略を模式的に示す図である。

【図4】レジスト塗布装置の構成の概略を示す縦断面図である。

【図5】レジスト塗布装置の構成の概略を示す横断面図である。

【図6】検出用ウェハの一例の概略を示す平面図である。

【図7】処理空間内における検出用ウェハ上のカメラの向きの推定原理を説明するための図である。

【図8】処理空間内における検出用ウェハ上のカメラの向きの推定原理を説明するための図である。

【図9】処理空間内における検出用ウェハ上のカメラの向きの推定原理を説明するための図である。

【図10】検出用ウェハの搬入時の加速度の履歴が取り得るパターンの例を示す図である。

【図11】処理空間内でのカメラの向きの推定に用いられるテーブルの一例を示す図である。

【図12】溶剤吐出ノズルの高さの検出処理時の当該溶剤吐出ノズルと検出用ウェハとの位置関係の例を示す図である。

【図13】ステップＳ４の検出工程の一例を説明するためのフローチャートである。

【図14】加速度の検出結果に基づく処理空間内におけるカメラの向きの推定方法の、他の例を説明するための図である。

【図15】加速度の検出結果に基づく処理空間内におけるカメラの向きの推定方法の、他の例を説明するための図である。

【図16】加速度の検出結果に基づく処理空間内におけるカメラの向きの推定方法の、他の例を説明するための図である。

【発明を実施するための形態】

【0008】

半導体デバイス等の製造プロセスでは、半導体ウェハ（以下、「ウェハ」という。）等の基板上にレジストパターンを形成するため所定の処理が行われる。上記所定の処理とは、例えば、基板上にレジスト液を供給しレジストの被膜を形成するレジスト塗布処理等である。また、レジスト膜が形成された基板の周縁部の上方に配置された溶剤吐出ノズルから溶剤を供給して、基板周縁部のレジスト膜を除去する処理（ＥＢＲ（Edge Bead Removal）処理）が行われる場合もある。レジスト塗布処理やＥＢＲ処理等の所定の処理は、基板処理装置により行われる。

【0009】

ところで、所望のＥＢＲ処理結果を得るためには、ＥＢＲ処理を行う基板処理装置の処理空間内において、溶剤吐出ノズルの基板表面に対する高さ（以下、「溶剤吐出ノズルの高さ」と省略することがある。）を適切にしておく必要がある。そのため、装置立ち上げ時やメンテナンス時に、溶剤吐出ノズルの高さを測定または検出することが行われている。

【0010】

また、溶剤吐出ノズルの高さを検出するための撮像デバイスが設けられた検出用基板を、基板搬送装置で基板処理装置の処理空間内に搬入して、この検出用基板上の撮像デバイスで溶剤吐出ノズルを撮像し、その撮像結果に基づいて、溶剤吐出ノズルの高さを検出することが考えられている。

【0011】

しかし、基板搬送装置により基板処理装置の処理空間内に搬入された時の、検出用基板上の撮像デバイスの向きは一定ではない。そのため、検出用基板の周縁部の上方に配置された溶剤吐出ノズルが検出用基板上の撮像デバイスの画角内に入るよう、撮像前に検出用基板を処理空間内で回転させる必要がある場合がある。この場合、処理空間内に搬入された時の撮像デバイスの向きによっては、検出用基板を略一回転させることがある。また、検出用基板を回転させる場合、検出用基板の周縁部表面に、高さがある部材を設けると、当該高さがある部材と、検出用基板の周縁部の上方に配置された溶剤吐出ノズルとが干渉するおそれがある。そのため、上述のように撮像デバイスの向きによっては検出用基板を略一回転させることがある場合、検出用基板の周縁部には、高さがある部材を全く設けることができない。
溶剤吐出ノズルの高さを検出するための撮像デバイス以外の、処理空間内の構造物の状態を検出するための状態検出部が設けられた検出用基板についても同様である。

【0012】

そこで、本開示にかかる技術は、基板処理装置の処理空間内の構造物の状態を検出する撮像デバイス等の状態検出部が設けられた検出用基板の利便性を向上させる。

【0013】

以下、本実施形態にかかる検出システム及び検出方法を、図面を参照して説明する。なお、本明細書及び図面において、実質的に同一の機能構成を有する要素においては、同一の符号を付することにより重複説明を省略する。

【0014】

＜ウェハ処理システム＞
図１は、検出システムとしてのウェハ処理システム１の内部構成の概略を示す説明図である。図２及び図３は、各々ウェハ処理システム１の正面側及び背面側の内部構成の概略を模式的に示す図である。なお、以下の例において、ウェハ処理システム１は、ウェハＷに対して塗布現像処理を行う塗布現像処理システムである

【0015】

ウェハ処理システム１は、図１に示すように、複数枚の基板としてのウェハＷを収容したカセットＣが搬入出されるカセットステーション１０と、ウェハＷに所定の処理を施す複数の各種処理装置を備えた処理ステーション１１と、を有する。そして、ウェハ処理システム１は、カセットステーション１０と、処理ステーション１１と、処理ステーション１１に隣接する露光装置１２との間でウェハＷの受け渡しを行うインターフェイスステーション１３と、を一体に接続した構成を有している。

【0016】

カセットステーション１０には、カセット載置台２０が設けられている。カセット載置台２０には、ウェハ処理システム１の外部に対してカセットＣを搬入出する際に、カセットＣを載置するカセット載置板２１が複数設けられている。また、一実施形態において、いずれかのカセットＣには、ウェハＷ以外に、後述の検出用ウェハＷｊも収容されている。

【0017】

カセットステーション１０には、図のＡ方向に延びる搬送路２２上を移動自在なウェハ搬送装置２３が設けられている。ウェハ搬送装置２３は、上下方向及び鉛直軸周り（θ方向）にも移動自在であり、各カセット載置板２１上のカセットＣと、後述する処理ステーション１１の第３のブロックＧ３の受け渡し装置との間でウェハＷ及び検出用ウェハＷｊを搬送できる。

【0018】

処理ステーション１１には、各種装置を備えた複数例えば４つのブロックＧ１、Ｇ２、Ｇ３、Ｇ４が設けられている。例えば処理ステーション１１の正面側（図１のＡ方向負方向側）には、第１のブロックＧ１が設けられ、処理ステーション１１の背面側（図１のＡ方向正方向側）には、第２のブロックＧ２が設けられている。また、処理ステーション１１のカセットステーション１０側（図１のＢ方向負方向側）には、第３のブロックＧ３が設けられ、処理ステーション１１のインターフェイスステーション１３側（図１のＢ方向正方向側）には、第４のブロックＧ４が設けられている。

【0019】

第１のブロックＧ１には、図２に示すように複数の液処理装置、例えば現像処理装置３０、レジスト塗布装置３１が下からこの順に配置されている。現像処理装置３０は、ウェハＷを現像処理するものであり、レジスト塗布装置３１は、ウェハＷにレジスト液を塗布してレジスト膜を形成するものである。

【0020】

例えば現像処理装置３０、レジスト塗布装置３１はそれぞれ、上下方向と水平方向に並べて設けられている。なお、これら現像処理装置３０、レジスト塗布装置３１の数や配置は、任意に選択できる。

【0021】

これら現像処理装置３０、レジスト塗布装置３１では、例えばスピン塗布法により、ウェハＷ上に所定の処理液が供給される。スピン塗布法では、例えば吐出ノズルからウェハＷ上に処理液を吐出すると共に、ウェハＷを回転させて、処理液をウェハＷの表面に拡散させる。

【0022】

第２のブロックＧ２には、図３に示すようにウェハＷの加熱や冷却といった熱処理を行う熱処理装置４０や、レジスト液とウェハＷとの定着性を高めるためのアドヒージョン装置４１が設けられている。これら熱処理装置４０、アドヒージョン装置４１は、上下方向と水平方向に並べて設けられており、その数や配置は、任意に選択できる。

【0023】

例えば第３のブロックＧ３には、複数の受け渡し装置５０、５１、５２、５３、５４、５５が下から順に設けられている。また、第４のブロックＧ４には、複数の受け渡し装置６０、６１、６２が下から順に設けられている。

【0024】

図１に示すように第１のブロックＧ１～第４のブロックＧ４に囲まれた領域には、基板搬送領域としてのウェハ搬送領域Ｄが形成されている。ウェハ搬送領域Ｄには、搬送装置としてのウェハ搬送装置７０が配置されている。

【0025】

ウェハ搬送装置７０は、例えばＡ方向、Ｂ方向、θ方向及び上下方向に移動自在な搬送アーム７０ａを有している。ウェハ搬送装置７０は、ウェハ搬送領域Ｄ内を移動し、周囲の第１のブロックＧ１、第２のブロックＧ２、第３のブロックＧ３及び第４のブロックＧ４内の所定の装置にウェハＷ及び検出用ウェハＷｊを搬送できる。ウェハ搬送装置７０は、例えば図３に示すように上下に複数台配置され、例えば各ブロックＧ１～Ｇ４の同程度の高さの所定の装置にウェハＷ及び検出用ウェハＷｊを搬送できる。

【0026】

また、ウェハ搬送領域Ｄには、第３のブロックＧ３と第４のブロックＧ４との間で直線的にウェハＷを搬送するシャトル搬送装置８０が設けられている。

【0027】

シャトル搬送装置８０は、例えば図３のＢ方向に直線的に移動自在になっている。シャトル搬送装置８０は、ウェハＷを支持した状態でＢ方向に移動し、第３のブロックＧ３の受け渡し装置５２と第４のブロックＧ４の受け渡し装置６２との間でウェハＷを搬送できる。

【0028】

図１に示すように第３のブロックＧ３のＸ方向正方向側の隣には、ウェハ搬送装置９０が設けられている。ウェハ搬送装置９０は、例えばＸ方向、θ方向及び上下方向に移動自在な搬送アーム９０ａを有している。ウェハ搬送装置９０は、ウェハＷを支持した状態で上下に移動して、第３のブロックＧ３内の各受け渡し装置にウェハＷを搬送できる。

【0029】

インターフェイスステーション１３には、ウェハ搬送装置９５と受け渡し装置９６が設けられている。ウェハ搬送装置９５は、例えばＹ方向、θ方向及び上下方向に移動自在な搬送アーム９５ａを有している。ウェハ搬送装置９５は、例えば搬送アーム９５ａにウェハＷ及び検出用ウェハＷｊを支持して、第４のブロックＧ４内の各受け渡し装置、受け渡し装置９６及び露光装置１２との間でウェハＷ及び検出用ウェハＷｊを搬送できる。

【0030】

以上のウェハ処理システム１には、図１に示すように制御装置Ｕが設けられている。制御装置Ｕは、例えばＣＰＵやメモリなどを備えたコンピュータにより構成され、プログラム格納部（図示せず）を有している。プログラム格納部には、ウェハ処理システム１におけるウェハ処理を制御するプログラムが格納されている。また、プログラム格納部には、後述の、検出用ウェハＷｊを用いた検出結果に基づいて、レジスト塗布装置３１等の処理装置の処理空間内に位置する構造物の状態を検出するプログラムが格納されている。すなわち、プログラム格納部には、検出用ウェハＷｊを用いた検出処理をウェハ処理システム１に実行させるために、上記ウェハ処理システム１を制御する制御装置Ｕのコンピュータ上で動作するプログラムが格納されている。なお、上記プログラムは、コンピュータに読み取り可能な記憶媒体Ｍに記録されていたものであって、当該記憶媒体Ｍから制御装置Ｕにインストールされたものであってもよい。記憶媒体Ｍは、一時的なものであっても非一時的なものであってもよい。また、プログラムの一部または全ては専用ハードウェア（回路基板）で実現してもよい。

【0031】

＜レジスト塗布装置３１＞
次に、上述した塗布装置３１の構成について説明する。図４及び図５はそれぞれ、レジスト塗布装置３１の構成の概略を示す縦断面図及び横断面図である。
レジスト塗布装置３１は、図４及び図５に示すように、内部に処理空間１００ｓを有し且つ内部を密閉可能な処理容器１００を有している。処理容器１００のウェハ搬送装置７０側の側面には、ウェハＷの搬入出口（図示せず）が形成され、当該搬入出口には開閉シャッタ（図示せず）が設けられている。

【0032】

処理容器１００内の中央部には、基板保持部としてのスピンチャック１１０が設けられている。スピンチャック１１０は、ウェハＷを保持するものであり、回転自在に構成されている。また、スピンチャック１１０は、水平な上面を有し、当該上面には、例えばウェハＷを吸引する吸引口（図示せず）が設けられている。この吸引口からの吸引により、ウェハＷをスピンチャック１１０上に吸着保持できる。このスピンチャック１１０は、検出用ウェハＷｊを吸着保持した状態で回転することもできる。

【0033】

スピンチャック１１０の下方には、回転機構としてのチャック駆動部１１１が設けられている。チャック駆動部１１１は、例えばモータ等を備えており、スピンチャック１１０を所望の速度で回転させることができ、これにより、スピンチャック１１０に保持されたウェハＷを所望の速度で回転させることができる。また、チャック駆動部１１１には、例えばシリンダ等の昇降駆動源が設けられており、これによりスピンチャック１１０が昇降自在になっている。

【0034】

スピンチャック１１０の周囲には、ウェハＷから飛散又は落下する液体を受け止め、回収するカップ１１２が設けられている。カップ１１２の下面には、回収した液体を排出する排出管１１３と、カップ１１２内の雰囲気を真空引きして排気する排気管１１４が接続されている。

【0035】

図５に示すようにカップ１１２のＡ方向負方向（図５中の下方向）側には、Ｂ方向（図５中の左右方向）に沿って延伸するレール１２０、１２１が形成されている。レール１２０、１２１は、例えばカップ１１２のＢ方向負方向（図５中の左方向）側の外方からＢ方向正方向（図５中の右方向）側の外方まで形成されている。レール１２０、１２１にはそれぞれ、第１のアーム１２２、第２のアーム１２３が取り付けられている。

【0036】

第１のアーム１２２には、図４及び図５に示すように、レジスト液を吐出してウェハＷ上に供給するレジスト吐出ノズル１２４が支持されている。
第１のアーム１２２は、図５に示すノズル駆動部１２５により、レール１２０上を移動自在である。これにより、レジスト吐出ノズル１２４は、カップ１１２のＹ方向正方向側の外方に設置された待機部１２６からカップ１１２内のウェハＷの中心部上方まで移動できる。また、第１のアーム１２２は、ノズル駆動部１２５によって昇降自在であり、レジスト吐出ノズル１２４の高さを調節できる。

【0037】

レジスト吐出ノズル１２４には、レジスト液の供給源（図示せず）が接続されている。また、レジスト吐出ノズル１２４と上記レジスト液の供給源との間の供給管（図示せず）には、レジスト液の流れを制御するバルブや流量調節部等を含む供給機器群が設けられている。

【0038】

第２のアーム１２３には、図４及び図５に示すように、溶剤吐出ノズル１２７が支持されている。溶剤吐出ノズル１２７は、構造物の一例であり、ウェハＷの表面上に形成されたレジスト膜の周縁部を除去する除去液として、レジスト膜の溶剤を吐出してウェハＷ上に供給する。
第２のアーム１２３は、ノズル駆動部１２８により、レール１２１上を移動自在である。これにより、溶剤吐出ノズル１２７は、カップ１１２のＹ方向負方向側の外方に設置された待機部１２９からカップ１１２内のウェハＷの周縁領域上方まで移動できる。また、第２のアーム１２３は、ノズル駆動部１２８によって昇降自在であり、溶剤吐出ノズル１２７の高さを調節できる。

【0039】

溶剤吐出ノズル１２７には、溶剤の供給源（図示せず）が接続されている。また、溶剤吐出ノズル１２７と上記溶剤の供給源との間の供給管（図示せず）には、溶剤の流れを制御するバルブや流量調節部等を含む供給機器群が設けられている。

【0040】

＜検出用ウェハ＞
上述のようなレジスト塗布装置３１を備えるウェハ処理システム１では、装置立ち上げ時やメンテナンス時に、スピンチャック１１０に保持されたウェハＷを基準とした溶剤吐出ノズル１２７の高さ（以下、「溶剤吐出ノズル１２７の高さ」と省略する。）が検出される。本実施形態において、溶剤吐出ノズル１２７の高さの検出には、検出用基板としての検出用ウェハＷｊが用いられる。

【0041】

図６は、検出用ウェハＷｊの一例の概略を示す側面図及び平面図である。
検出用ウェハＷｊは、ウェハＷと同形状に形成された本体２００を有する。検出用ウェハＷｊの表面（具体的には本体２００の上面）には、カメラ２１０と加速度センサ２２０とが設けられている。

【0042】

カメラ２１０は、状態検出部の一例且つ撮像部の一例であり、溶剤吐出ノズル１２７の高さを検出するためのものであり、溶剤吐出ノズル１２７等を撮像する。

【0043】

加速度センサ２２０は、加速度検出部の一例であり、検出用ウェハＷｊの表面内の互いに交わる二方向である第１方向及び第２方向それぞれについて、加速度を検出する。本実施形態において、第１及び第２方向はそれぞれ、互いに直交する図６のＸ方向及びＹ方向である。

【0044】

また、本実施形態において、カメラ２１０は、検出用ウェハＷｊの平面視における中心すなわち本体２００の平面視における中心を通り図のＸ方向に平行な直線上であって、Ｘ方向正側に設けられている。また、カメラ２１０は、溶剤吐出ノズル１２７が検出用ウェハＷｊの周縁部の上方に位置するときに溶剤吐出ノズル１２７と干渉しないウェハ中央寄りの位置に設けられている。

【0045】

さらに、検出用ウェハＷｊは、本体２００の周縁部の上面に、溶剤吐出ノズル１２７の高さより高い部材２３０を設けてもよい。上記高い部材２３０は、例えば、溶剤吐出ノズル１２７以外の処理空間１００ｓ内の構造物の状態を検出する他の検出部である。

【0046】

また、検出用ウェハＷｊは、電源（図示せず）や制御部（図示せず）を有する。検出用ウェハＷｊの制御部は、プロセッサ及び記憶手段を有し、記憶手段に記憶されたプログラムを実行して、カメラ２１０による撮像結果や加速度センサ２２０による検出結果が無線通信等により制御装置Ｕに送信されるよう制御する。

【0047】

＜検出用ウェハＷｊ上のカメラ２１０の向きの推定原理＞
本実施形態では、検出用ウェハＷｊを用いた溶剤吐出ノズル１２７の高さの検出の際、ウェハ搬送装置７０により、検出用ウェハＷｊが図７に示すように処理容器１００内すなわち処理空間１００ｓ内に搬入される。そして、溶剤吐出ノズル１２７の高さの検出に先立って、搬入後の処理空間１００ｓ内における検出用ウェハＷｊ上のカメラ２１０の向きが推定される。

【0048】

以下では、まず、本実施形態での、処理空間１００ｓ内における検出用ウェハＷｊ上のカメラ２１０の向き（すなわち周方向にかかるカメラの位置）の推定原理について図８及び図９を用いて説明する。なお、本実施形態において、「周方向」とは、スピンチャック１１０の回転中心を中心とした周方向を意味する。

【0049】

検出用ウェハＷｊは、上述のように、溶剤吐出ノズル１２７の高さの検出の際、ウェハ搬送装置７０により、処理空間１００ｓ内に搬入される。このとき、検出用ウェハＷｊは、処理空間１００ｓ外の所定の位置から処理空間１００ｓ内のスピンチャック１１０の直上の位置まで直線的に移動する。また、このとき、検出用ウェハＷｊの速度履歴は、複雑なものではなく、例えば、速度が零から徐々に大きくなり、所定の値に到達した後は、徐々に小さくなり零に戻るような履歴である。

【0050】

そのため、ウェハ搬送装置７０により搬入出方向（具体的には搬入方向）に移動しているときの検出用ウェハＷｊの向き（以下、「搬送時の検出用ウェハＷｊの向き」という。）と、加速度センサ２２０による検出結果との間には、図８及び図９に示すように相関が生じる。

【0051】

一部を抜粋して説明すると、例えば、図８の左側に示すように、搬送時の検出用ウェハＷｊの向きが、搬入方向とＸ方向正方向が一致する向きの場合、搬送中に加速度センサ２２０により検出されるＸ方向の加速度は、次第に増加していった後、減少に転じ、その後、再び上昇する。一方、加速度センサ２２０により検出されるＹ方向の加速度は、搬送中、常に零である。
また、図９の中央右側に示すように、搬送時の検出用ウェハＷｊの向きが、搬入方向とＹ方向正方向が一致する向きの場合、搬送中に加速度センサ２２０により検出されるＹ方向の加速度は、次第に増加していった後、減少に転じ、その後、再び上昇する。一方、加速度センサ２２０により検出されるＸ方向の加速度は、搬送中、常に零である。
さらに、図８の右側に示すように、搬送時の検出用ウェハＷｊの向きが、Ｘ方向正方向が搬入方向と１３５°を成す向きの場合、搬送中に加速度センサ２２０により検出されるＸ方向の加速度は、次第に減少していった後、増加に転じ、その後、再び減少する。搬送中に加速度センサ２２０により検出されるＹ方向の加速度についても同様である。
また、図９の右側に示すように、搬送時の検出用ウェハＷｊの向きが、Ｘ方向正方向が搬入方向と３１５°を成す向きの場合、搬送中に加速度センサ２２０により検出されるＸ方向の加速度は、次第に増加していった後、減少に転じ、その後、再び増加する。搬送中に加速度センサ２２０により検出されるＹ方向の加速度についても同様である。

【0052】

そして、搬送時の検出用ウェハＷｊの向きと、搬入後の処理空間１００ｓ内における検出用ウェハＷｊ上のカメラ２１０の向き（以下、「処理空間１００ｓ内でのカメラ２１０の向き」という。）とは一定の関係にある。
そこで、本実施形態では、制御装置Ｕが、処理空間１００ｓに対する検出用ウェハＷｊの搬入時に当該検出用ウェハＷｊが搬入方向に移動したときの、加速度センサ２２０による検出結果に基づいて、処理空間１００ｓ内でのカメラ２１０の向きを推定する。具体的な推定方法については後述する。

【0053】

＜溶剤吐出ノズル１２７の高さの検出＞
続いて、ウェハ処理システム１における、検出用ウェハＷｊを用いた溶剤吐出ノズル１２７の高さの検出処理の一例について、図１０～図１３を用いて説明する。図１０は、検出用ウェハＷｊの搬入時の加速度の履歴が取り得るパターンの例を示す図である。図１１は、処理空間１００ｓ内でのカメラ２１０の向きの推定に用いられるテーブルの一例を示す図である。図１２は、溶剤吐出ノズル１２７の高さの検出処理時の当該溶剤吐出ノズル１２７と検出用ウェハＷｊとの位置関係の例を示す図である。図１３は、後述のステップＳ４の検出工程の一例を説明するためのフローチャートである。

【0054】

（ステップＳ１：搬入及び加速度の検出）
まず、制御装置Ｕの制御の下、検出用ウェハＷｊが、ウェハ搬送装置７０によって、レジスト塗布装置３１の処理空間１００ｓ内に搬入されると共に、搬入時の検出用ウェハＷｊの加速度が加速度センサ２２０によって検出される。

【0055】

具体的には、まず、検出用ウェハＷｊが、制御装置Ｕの制御の下、カセット載置台２０上のカセットＣから取り出され、ウェハ搬送装置７０の搬送アーム７０ａに保持される。その後、制御装置Ｕの制御の下、搬送アーム７０ａに保持された検出用ウェハＷｊが、レジスト塗布装置３１の外側の所定の位置から、当該レジスト塗布装置３１の処理空間１００ｓ内のスピンチャック１１０の直上の位置まで、搬入方向に沿って、直線的に移動する。次いで、制御装置Ｕの制御の下、検出用ウェハＷｊが搬送アーム７０ａからスピンチャック１１０に受け渡される。受け渡し後、搬送アーム７０ａは、レジスト塗布装置３１から抜き出される。

【0056】

また、上述の搬入方向への直線的な移動の際、検出用ウェハＷｊ上の加速度センサ２２０によって、検出用ウェハＷｊのＸ方向及びＹ方向それぞれの加速度が検出される。加速度の検出結果は、無線通信により制御装置Ｕに送信される。

【0057】

（ステップＳ２：処理空間１００ｓ内でのカメラ２１０の向きの推定）
続いて、制御装置Ｕが、ステップＳ１での加速度の検出結果に基づいて、処理空間１００ｓ内でのカメラ２１０の向きを推定する。

【0058】

具体的には、搬入方向への直線的な移動時の加速度の履歴が取り得るパターンを予め分類し、その分類のための情報（以下、「分類情報」という。）を記憶部（図示せず）に記憶させておく。そして、制御装置Ｕが、分類情報に基づき、加速度センサ２２０により検出された加速度の履歴が上記パターンのいずれに該当するか、Ｘ方向及びＹ方向それぞれについて判定し、判定結果に基づき、処理空間１００ｓ内でのカメラ２１０の向きを推定する。
すなわち、制御装置Ｕが、搬入出方向への移動時の加速度の履歴が取り得る、予め分類されたパターンのいずれに、加速度センサ２２０により検出された加速度の履歴が該当するか、Ｘ方向及びＹ方向それぞれについて判定し、判定結果に基づき、処理空間１００ｓ内でのカメラ２１０の向きを推定する。

【0059】

また、制御装置Ｕは、例えば、搬入方向への直線的な移動時前半の加速度と搬入方向への直線的な移動時後半の加速度との大小関係に基づき、加速度センサ２２０により検出された加速度の履歴が上記パターンのいずれに該当するかを判定する。

【0060】

以下、より具体的に説明する。ここで、上記移動時前半の加速度の履歴を示す指数Ａと上記移動時後半の加速度の履歴を示す指数Ｂを以下のように定義する。
Ａ＝αｆ－αｔ
Ｂ＝αｂ－αｔ
αｆ：上記移動時前半の加速度の平均
αｂ：上記移動時後半の加速度の平均
αｔ：搬入方向への直線的な移動中全体の平均

【0061】

制御装置Ｕは、指数Ａと指数Ｂに基づき、加速度センサ２２０により検出された加速度の履歴が以下のパターン（１）～（３）のいずれに該当するかを判定する。なお、Ａ－Ｂの絶対値が所定の値以下であるときは、下記パターン（２）に該当すると判定される。
（１）（図１０の中央に示すような）Ａ＞Ｂのパターン
（２）（図１０の上部に示すような）Ａ≒Ｂのパターン
（３）（図１０の下部に示すような）Ａ＜Ｂのパターン

【0062】

そして、制御装置Ｕは、例えば、上記パターンにかかる判定結果と、図１１のテーブルＴに基づいて、処理空間１００ｓ内でのカメラ２１０の向き（具体的には、処理空間１００ｓ内でのカメラ２１０の向きの範囲）を推定する。テーブルＴは、Ｘ方向の加速度の履歴のパターンと、Ｙ方向の加速度の履歴のパターンと、処理空間１００ｓ内でのカメラ２１０の向きとの対応関係を示す情報の一例である。

【0063】

例えば、Ｘ方向について検出された加速度の履歴がＡ＞Ｂのパターン（１）であり、Ｙ方向について検出された加速度の履歴がＡ≒Ｂのパターン（２）である場合、制御装置Ｕは、図１１のテーブルＴに基づいて、処理空間１００ｓ内でのカメラ２１０の向きの範囲を、０°±４５°と推定する。

【0064】

なお、加速度センサ２２０により検出された加速度の履歴のパターンとして、上述のパターン（１）、（２）、（３）の組み合わせに代えて、以下のパターン（１ａ）、（２ａ）、（３ａ）の組み合わせまたはパターン（１ｂ）、（２ｂ）、（３ｂ）の組み合わせを用いてもよい。

【0065】

（１ａ）（図１０の中央に示すような）Ａ＞閾値Ｔｈのパターン
（２ａ）（図１０の上部に示すような）Ａ≒閾値Ｔｈのパターン
（３ａ）（図１０の下部に示すような）Ａ＜閾値Ｔｈのパターン

【0066】

（１ｂ）（図１０の中央に示すような）Ｂ＜閾値Ｔｈのパターン
（２ｂ）（図１０の上部に示すような）Ｂ≒閾値Ｔｈのパターン
（３ｂ）（図１０の下部に示すような）Ｂ＞閾値Ｔｈのパターン

【0067】

この場合、制御装置Ｕは、加速度センサ２２０により検出された加速度の履歴が、パターン（１ａ）、（２ａ）、（３ａ）のいずれに該当するかの判定や、パターン（１ｂ）、（２ｂ）、（３ｂ）のいずれに該当するかの判定を行う。そして、制御装置Ｕは、判定結果と、図１１のテーブルと同様なテーブルに基づいて、処理空間１００ｓ内でのカメラ２１０の向きを推定する。

【0068】

（ステップＳ３：処理空間１００ｓ内でのカメラ２１０の向きの補正）
処理空間１００ｓ内でのカメラ２１０の向きの推定後、制御装置Ｕは、推定結果と、処理空間１００ｓ内における溶剤吐出ノズル１２７の周方向位置の情報と、に基づいて、検出用ウェハＷｊを保持したスピンチャック１１０を回転させ、上記カメラ２１０の向きを溶剤吐出ノズル１２７に対応する向きに補正する。
制御装置Ｕは、例えば、図１２（Ａ）に示すように、検出用ウェハＷｊにおける上記カメラ２１０の向きの範囲Ｒの最大値に該当する部分が、溶剤吐出ノズル１２７と対向するよう、上記カメラ２１０の向きを補正する。
なお、制御装置Ｕが、検出用ウェハＷｊにおける上記カメラ２１０の向きの範囲Ｒの最小値に該当する部分が、溶剤吐出ノズル１２７と対向するよう、上記カメラ２１０の向きを補正してもよい。

【0069】

また、上記カメラ２１０の向きの補正は、図１２（Ａ）に示すように、溶剤吐出ノズル１２７が平面視で検出用ウェハＷｊと重なる領域から退避された状態で行われる。補正の際に、溶剤吐出ノズル１２７と前述の高い部材２３０とが干渉するのを避けるためである。

【0070】

（ステップＳ４：溶剤吐出ノズル１２７の高さの検出）
次いで、図１２（Ｂ）に示すように、制御装置Ｕの制御の下、溶剤吐出ノズル１２７が検出用ウェハＷｊと重なる領域まで移動された後、当該溶剤吐出ノズル１２７の高さが検出される。

【0071】

ステップＳ４では、具体的には、まず、図１３に示すように、制御装置Ｕの制御の下、カメラ２１０による撮像が行われる（ステップＳ４ａ）。撮像結果は、制御装置Ｕに出力される。

【0072】

次いで、制御装置Ｕが、カメラ２１０による検出範囲内に溶剤吐出ノズル１２７が収まっているか否か、すなわち、カメラ２１０により撮像された画像内に溶剤吐出ノズル１２７が収まっているか否かを判定する（ステップＳ４ｂ）。

【0073】

収まっていない場合（ＮＯの場合）は、制御装置Ｕの制御の下、スピンチャック１１０に保持された検出用ウェハＷｊが所定の角度（例えば１０°）回転される（ステップＳ４ｃ）。その後、ステップＳ４ａに戻り、再度、制御装置Ｕの制御の下、カメラによる撮像が行われる。
つまり、カメラ２１０による検出範囲内に溶剤吐出ノズル１２７が収まるまで、段階的に検出用ウェハＷｊが回転される。

【0074】

そして、ステップＳ４ｂの判定の結果、カメラ２１０による検出範囲内すなわちカメラにより撮像された画像内に溶剤吐出ノズル１２７が収まっている場合（ＹＥＳの場合）、制御装置Ｕは、カメラ２１０による撮像結果に基づき、溶剤吐出ノズル１２７の高さを検出する（ステップＳ４ｃ）。

【0075】

＜加速度の検出タイミングの他の例＞
以上では、検出用ウェハＷｊを処理空間１００ｓ内に搬入する時に、加速度センサ２２０により加速度を検出し、その検出結果を、処理空間１００ｓ内でのカメラ２１０の向きの推定に用いていた。これに代えて、検出用ウェハＷｊを、処理空間１００ｓ内に搬入した後、処理空間１００ｓから搬出し、再び処理空間１００ｓ内に戻すものとし、搬出の際の、検出用ウェハＷｊの搬入出方向にかかる直線的な移動時の加速度を、加速度センサ２２０により検出し、その検出結果を上記カメラ２１０の向きの推定に用いてもよい。

【0076】

＜本実施形態の主な効果＞
以上のように、本実施形態では、溶剤吐出ノズル１２７の高さの検出に用いるカメラ２１０が設けられた検出用ウェハＷｊに、加速度センサ２２０が設けられている。そして、本実施形態では、処理空間１００ｓに対する検出用ウェハＷｊの搬入出時に当該検出用ウェハＷｊが搬入出方向に直線的に移動したときの、加速度センサ２２０による検出結果に基づいて、処理空間１００ｓ内でのカメラ２１０の向きを推定する。そのため、本実施形態によれば、処理空間１００ｓ内でのカメラ２１０の向きを、推定結果に基づいて、溶剤吐出ノズル１２７の高さの検出の前に補正することができる。その結果、溶剤吐出ノズル１２７の位置に対するカメラ２１０の向きを調整するために検出用ウェハＷｊを回転させる量を、抑えることができる。したがって、前述のような高い部材２３０を設けても、検出用ウェハＷｊの周縁部上方に配置された溶剤吐出ノズル１２７と干渉することがない。よって、本実施形態によれば、検出用ウェハＷｊをより有効的に活用することができる。

【0077】

また、本実施形態によれば、異なるレジスト塗布装置３１間で、検出用ウェハＷｊを共通にすることができる。そのため、処理空間１００ｓ内でのカメラ２１０の向きを検出するためのユニットを、レジスト塗布装置３１毎に、処理空間１００ｓ内に設ける必要がない。したがって、ウェハ処理システム１全体のコストの増加を抑制することができる。

【0078】

＜加速度の検出結果に基づく処理空間１００ｓ内でのカメラ２１０の向きの推定方法の他の例１＞
以上の例では、検出用ウェハＷｊに加速度センサ２２０を１つ設けていたが、この加速度センサ２２０に加えて、図１４に示すように、当該加速度センサ２２０とは異なる方向にかかる加速度を検出する加速度センサ２２０Ａを検出用ウェハＷｊに設けてもよい。加速度センサ２２０Ａは、例えば、Ｘ方向に対し＋２２．５°の角度を成すＸａ方向にかかる加速度と、Ｙ方向に対し＋２２．５°の角度を成すＹａ方向にかかる加速度と、を検出する。

【0079】

この場合、制御装置Ｕは、図１５に示すように、加速度センサ２２０による検出結果に基づいて推定された上記カメラ２１０の向きの範囲Ｒと、加速度センサ２２０Ａによる検出結果に基づいて推定された上記カメラ２１０の向きの範囲ＲＡと、で重なる範囲を、新たに上記カメラ２１０の向きの範囲ＲＢとして推定する。例えば、１つの加速度センサ２２０による検出結果に基づいて推定された上記カメラ２１０の向きの精度は、±４５°であるが、上述のように、２つの加速度センサ２２０、２２０Ａを用いることにより、上記カメラの向きの精度を±２５°にすることができる。

【0080】

＜加速度の検出結果に基づく処理空間１００ｓ内でのカメラ２１０の向きの推定方法の他の例２＞
加速度の検出結果に基づく処理空間１００ｓ内でのカメラ２１０の向きの推定は、以下のようにして行ってもよい。
この推定方法では、図１６に示すように、Ｘ方向にかかる加速度αｘ及びＹ方向にかかる加速度αｙそれぞれを軸とする平面を加速度平面ＰＬとする。
そして、制御装置Ｕは、加速度平面ＰＬにおける以下の点Ｃまたは点Ｄの少なくともいずれか一方に基づいて、処理空間１００ｓ内でのカメラ２１０の向きを推定する。

【0081】

点Ｃ（αｘ１、αｙ１）
点Ｄ（αｘ２、αｙ２）

【0082】

αｘ１は、搬入方向への直線的な移動時前半のＸ方向にかかる加速度であり、より具体的には、例えば、上記移動時前半のＸ方向にかかる加速度の履歴を示す前述の指数Ａである。
αｙ１は、上記移動時前半のＹ方向にかかる加速度であり、より具体的には、例えば、上記移動時前半のＹ方向にかかる加速度の履歴を示す前述の指数Ｂである。
αｘ２は、上記移動時後半のＸ方向にかかる加速度であり、より具体的には、例えば、上記移動時後半のＸ方向にかかる加速度の履歴を示す前述の指数Ａである。
αｙ２は、上記移動時後半のＹ方向にかかる加速度であり、より具体的には、例えば、上記移動時後半のＹ方向にかかる加速度の履歴を示す前述の指数Ｂである。

【0083】

そして、制御装置Ｕは、例えば、加速度平面ＰＬにおいて、原点から点Ｃに向かうベクトルがαｘ軸正方向に対し成す角度θを、処理空間１００ｓ内でのカメラ２１０の向きと推定する。

【0084】

＜カメラ２１０による検出対象の他の例＞
以上では、カメラ２１０の撮像結果に基づき、溶剤吐出ノズル１２７の高さを検出していた。これに加えて、例えば、カメラ２１０の撮像結果に基づき、カップ１１２の所定の部分の高さを検出するようにしてもよい。この検出は、例えば、周方向に互いに離間した複数個所（例えば６箇所）について行われる。
なお、カップ１１２の所定の部分の高さを検出するためのカメラを、カメラ２１０とは別に、検出用ウェハＷｊに設けてもよい。

【0085】

今回開示された実施形態はすべての点で例示であって制限的なものではないと考えられるべきである。上記の実施形態は、添付の請求の範囲及びその主旨を逸脱することなく、様々な形態で省略、置換、変更されてもよい。

【符号の説明】

【0086】

１ ウェハ処理システム
３１ レジスト塗布装置
７０ ウェハ搬送装置
１２７ 溶剤吐出ノズル
２１０ カメラ
２２０ 加速度センサ
２２０Ａ 加速度センサ
Ｕ 制御装置
Ｗ ウェハ
Ｗｊ 検出用ウェハ

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】

【図6】

【図7】

【図8】

【図9】

【図10】

【図11】

【図12】

【図13】

【図14】

【図15】

【図16】