特開 2023-89799 基板搬送装置及び基板搬送方法

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】公開特許公報(A)

(11)【公開番号】P2023089799

(43)【公開日】2023-06-28

(54)【発明の名称】基板搬送装置及び基板搬送方法

(51)【国際特許分類】

   H01L 21/677 20060101AFI20230621BHJP

   H01L 21/027 20060101ALI20230621BHJP

【ＦＩ】

H01L21/68 A

H01L21/30 562

【審査請求】未請求

【請求項の数】12

【出願形態】ＯＬ

(21)【出願番号】P 2021204532

(22)【出願日】2021-12-16

(71)【出願人】

【識別番号】000219967

【氏名又は名称】東京エレクトロン株式会社

(74)【代理人】

【識別番号】110002756

【氏名又は名称】弁理士法人弥生特許事務所

(72)【発明者】

【氏名】下青木 剛

(72)【発明者】

【氏名】佐々木 慶介

(72)【発明者】

【氏名】松下 一也

(72)【発明者】

【氏名】中野 雄介

(72)【発明者】

【氏名】中野 響

【テーマコード（参考）】

5F131

5F146

【Ｆターム（参考）】

5F131AA02

5F131BA12

5F131BA13

5F131BA14

5F131BB03

5F131BB13

5F131BB22

5F131CA12

5F131DA62

5F131DB03

5F131DB62

5F131DB72

5F131HA09

5F131HA12

5F131HA37

5F131JA05

5F131JA08

5F131JA09

5F131JA12

5F131KA22

5F131KA49

5F131KA54

5F146JA27

5F146KA07

5F146LA11

(57)【要約】

【課題】基板搬送装置について外部へのパーティクルの放出を抑制する。
【解決手段】第１貫通口が形成され、第１駆動機構を内部に備える第１筐体と、基板を保持すると共に第１貫通口を介して第１駆動機構に接続され、第１筐体に対して横方向に移動する基板保持部と、第２貫通口が形成され、第２貫通口を介して接続される第１筐体を昇降させる第２駆動機構を内部に備える第２筐体と、第１筐体内から第２筐体内に亘って形成される排気路と、第１貫通口から吸引した気体を排気路の下流側へ第１の排気流量で排気するように第１筐体に設けられると共に排気路に位置する第１排気機構と、排気路において第１排気機構の下流側で第２筐体に設けられ、第２貫通口から吸引した気体及び排気路の上流側から供給された気体を、排気路の下流側へ第１排気流量よりも大きい第２排気流量で排気する第２排気機構と、を備える装置を構成する。
【選択図】図４

【特許請求の範囲】

【請求項1】

内外を連通させる第１貫通口が形成され、第１駆動機構を内部に備える第１筐体と、
基板を保持すると共に前記第１貫通口を介して前記第１駆動機構に接続され、当該第１筐体に対して横方向に移動する基板保持部と、
内外を連通させる第２貫通口が形成され、前記第２貫通口を介して接続される前記第１筐体を昇降させる第２駆動機構を内部に備える第２筐体と、
前記第１筐体内から前記第２筐体内に亘って形成され、当該第１筐体及び当該第２筐体のうち第２筐体側を下流側とする排気路と、
前記第１貫通口から吸引した気体を前記排気路の下流側へ第１の排気流量で排気するように前記第１筐体に設けられると共に当該排気路に位置する第１排気機構と、
前記排気路において前記第１排気機構の下流側で前記第２筐体に設けられ、前記第２貫通口から吸引した気体及び当該排気路の上流側から供給された気体を、前記排気路の下流側へ前記第１排気流量よりも大きい第２排気流量で排気する第２排気機構と、
を備える基板搬送装置。

【請求項2】

内外を連通させる第３貫通口が形成され、前記第３貫通口を介して接続される前記第２筐体を横方向に移動させる第３駆動機構を内部に備える第３筐体を備え、
前記排気路は第１筐体内から前記第３筐体内に亘って形成され、前記第２筐体及び当該第３筐体のうち第３筐体側を下流側とし、
前記排気路において前記第２排気機構の下流側で前記第３筐体に設けられ、前記第３貫通口から吸引した気体及び当該排気路の上流側から供給された気体を、前記排気路の下流側へ前記第２排気流量よりも大きい第３排気流量で排気する第３排気機構を備える請求項１記載の基板搬送装置。

【請求項3】

前記第１貫通口の外周縁との間に第１の隙間が形成されるように前記第１貫通口に重なる第１シール部と、
前記第２貫通口の外周縁との間に第２の隙間が形成されるように前記第２貫通口に重なる第２シール部と、
前記第３貫通口の外周縁との間に第３の隙間が形成されるように前記第３貫通口に重なる第３シール部と、が設けられる請求項２記載の基板搬送装置。

【請求項4】

前記第１排気流量と前記第２排気流量との合計は、前記第３排気流量よりも大きい請求項３記載の基板搬送装置。

【請求項5】

前記第１の貫通口の開口方向における前記第１の隙間の幅、前記第２の貫通口の開口方向における前記第２の隙間の幅、前記第２の貫通口の開口方向における前記第２の隙間の幅は各々、１．０ｍｍより小さい請求項４記載の基板搬送装置。

【請求項6】

前記第１の貫通口の開口方向における前記第１の隙間の幅及び前記第２の貫通口の開口方向における前記第２の隙間の幅よりも、前記第３の貫通口の開口方向における前記第３の隙間の幅が大きい請求項３ないし５のいずれか一つに記載の基板搬送装置。

【請求項7】

前記第１の貫通口の開口方向における前記第１の隙間の幅、及び前記第２の貫通口の開口方向における前記第２の隙間の幅は、１．０ｍｍより小さい請求項６記載の基板搬送装置。

【請求項8】

前記第１駆動機構による前記第１筐体の移動距離及び前記第２駆動機構による前記第２筐体の移動距離よりも、前記第３駆動機構による前記第３筐体の移動距離の方が大きい請求項４ないし７のいずれか一つに記載の基板搬送装置。

【請求項9】

前記第２の貫通口の開口方向における前記第２の隙間の幅と、前記第２筐体とが対応し、
前記第３の貫通口の開口方向における前記第３の隙間の幅と、前記第３筐体とが対応しているとすると、
前記第２の隙間の幅及び前記第３の隙間の幅について、前記第２駆動機構による前記第２筐体の移動距離及び前記第３駆動機構による前記第３筐体の移動距離のうち大きい方の移動距離を有する筐体に対応する幅の方が大きい請求項３記載の基板搬送装置。

【請求項10】

前記第１貫通口または前記第２貫通口の圧力を検出するための圧力検出部が設けられる請求項１ないし９のいずれか一つに記載の基板搬送装置。

【請求項11】

前記圧力検出部によって検出される圧力に基づいて異常の有無を判定する判定機構を備える請求項１０記載の基板搬送装置。

【請求項12】

内外を連通させる第１貫通口が形成され、第１駆動機構を内部に備える第１筐体と、
基板を保持すると共に前記第１貫通口を介して前記第１駆動機構に接続され、当該第１筐体に対して横方向に移動する基板保持部と、
内外を連通させる第２貫通口が形成され、前記第２貫通口を介して接続される前記第１筐体を昇降させる第２駆動機構を内部に備える第２筐体と、
を備える基板搬送装置を用いた基板搬送方法において、
前記第１筐体内から前記第２筐体内に亘って形成され当該第２筐体内側を下流側とする排気路の当該下流側へ、前記第１貫通口から吸引した気体を当該第１筐体に設けられると共に当該排気路に位置する第１排気機構によって第１の排気流量で排気する工程と、
前記排気路において前記第１排気機構の下流側で前記第２筐体に設けられる第２排気機構により、前記第２貫通口から吸引した気体及び当該排気路の上流側から供給された気体を、前記排気路の下流側へ前記第１排気流量よりも大きい第２排気流量で排気する工程と、
圧力検出部により、前記第１貫通口または前記第２貫通口の圧力を検出する工程と、
前記圧力に基づいて異常の有無を判定する工程と、
を備える基板搬送方法。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本開示は、基板搬送装置及び基板搬送方法に関する。

【背景技術】

【0002】

半導体デバイスの製造に用いられる基板処理装置には、基板である半導体ウエハ（以下、ウエハと記載する）を処理する処理モジュールと、当該処理モジュールに対して基板を受け渡す基板搬送装置（基板搬送機構）と、が設けられる。特許文献１には、基板の搬送路の雰囲気を排気する構成とされた基板搬送機構について記載されている

【先行技術文献】

【特許文献】

【0003】

【特許文献1】ＷＯ／２０２１／１１７６８４号公報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0004】

本開示は、基板搬送装置について外部へのパーティクルの放出を抑制することができる技術を提供する。

【課題を解決するための手段】

【0005】

本開示の基板搬送装置は、内外を連通させる第１貫通口が形成され、第１駆動機構を内部に備える第１筐体と、
基板を保持すると共に前記第１貫通口を介して前記第１駆動機構に接続され、当該第１筐体に対して横方向に移動する基板保持部と、
内外を連通させる第２貫通口が形成され、前記第２貫通口を介して接続される前記第１筐体を昇降させる第２駆動機構を内部に備える第２筐体と、
前記第１筐体内から前記第２筐体内に亘って形成され、当該第１筐体及び当該第２筐体のうち第２筐体側を下流側とする排気路と、
前記第１貫通口から吸引した気体を前記排気路の下流側へ第１の排気流量で排気するように前記第１筐体に設けられると共に当該排気路に位置する第１排気機構と、
前記排気路において前記第１排気機構の下流側で前記第２筐体に設けられ、前記第２貫通口から吸引した気体及び当該排気路の上流側から供給された気体を、前記排気路の下流側へ前記第１排気流量よりも大きい第２排気流量で排気する第２排気機構と、
を備える。

【発明の効果】

【0006】

本開示は、基板搬送装置について外部へのパーティクルの放出を抑制することができる。

【図面の簡単な説明】

【0007】

【図1】本開示の基板処理装置の一実施形態に係る塗布、現像装置の横断平面図である。

【図2】前記塗布、現像装置の縦断正面図である。

【図3】前記塗布、現像装置に設けられる処理ブロックの斜視図である。

【図4】前記処理ブロックに設けられる搬送機構の概略縦断側面図である。

【図5】前記搬送機構が備える基台の横断平面図である。

【図6】前記基台の縦断側面図である。

【図7】前記搬送機構が備えるフレームの縦断正面図である。

【図8】前記搬送機構が備える左右駆動用ブロックの横断平図である

【図9】評価試験の結果を示すチャート図である。

【図10】前記搬送機構の一部を示す模式図である。

【図11】前記搬送機構の一部を示す模式図である。

【図12】評価試験の結果を示すグラフ図である。

【図13】評価試験の結果を示すチャート図である。

【図14】評価試験の結果を示すチャート図である。

【図15】評価試験の結果を示すチャート図である。

【図16】前記基台の他の構成例を示す横断平面図である。

【発明を実施するための形態】

【0008】

本開示の基板搬送装置の一実施形態に係る搬送機構Ｆ１～Ｆ６を備える塗布、現像装置１について、図１の平面図及び図２の縦断正面図を参照して説明する。塗布、現像装置１は大気雰囲気にてウエハＷを搬送して処理を行う装置であり、キャリアブロックＤ１と、処理ブロックＤ２と、インターフェイスブロックＤ３と、が横方向に一列に接続されることで構成されている。以降の説明では、このブロックの列に沿った方向を左右方向とする。インターフェイスブロックＤ３には、処理ブロックＤ２が接続される側とは反対側に露光機Ｄ４が接続されている。ウエハＷは搬送容器であるキャリアＣに収納された状態で、当該キャリアブロックＤ１に設けられるステージ１１に載置される。キャリアブロックＤ１は、ステージ１１上のキャリアＣに対してウエハＷを搬入及び搬出する搬送機構１２を備える。

【0009】

続いて、処理ブロックＤ２の構成を説明する。処理ブロックＤ２は、互いに区画された６つの単位ブロックＨ１～Ｈ６が、番号順に下から積層されて構成されている。各単位ブロックＨ（Ｈ１～Ｈ６）において、互いに並行してウエハＷの搬送及び処理が行われる。単位ブロックＨ１～Ｈ３が互いに同様の構成であり、単位ブロックＨ４～Ｈ６が互いに同様の構成である。単位ブロックＨ１～Ｈ６のうち、代表して図１に示す単位ブロックＨ６について説明する。単位ブロックＨ６の前後の中央には、左右に直線状に伸びるウエハＷの搬送路１３が形成されている。搬送路１３に対する前方側には、２つの現像モジュール１４が左右に並んで設けられている。搬送路１３対する後方側には、露光後、現像前の加熱処理であるＰＥＢ（Post Exposure Bake）を行う加熱モジュール１５が左右に多数並んで設けられている。また、この加熱モジュール１５は上下に積層されている。上記の搬送路１３には、単位ブロックＨ６にてウエハＷを搬送する搬送機構Ｆ６が設けられている。

【0010】

単位ブロックＨ１～Ｈ３について、単位ブロックＨ６との差異点を中心に説明すると、単位ブロックＨ１～Ｈ３は、現像モジュール１４の代わりにレジスト膜形成モジュールを備えている。レジスト膜形成モジュールは、ウエハＷにレジストを供給（塗布）してレジスト膜を形成する。また、単位ブロックＨ１～Ｈ３においては、ＰＥＢ用の加熱モジュール１５の代わりに、レジスト膜形成後のウエハＷを加熱するための加熱モジュールが設けられる。図２では、搬送機構Ｆ６に相当する各単位ブロックＨ１～Ｈ５の搬送機構について、Ｆ１～Ｆ５として示している。

【0011】

そして、各単位ブロックＨ１～Ｈ６の搬送路１３の左端部には、当該単位ブロックＨ１～Ｈ６に跨がるように上下に延びるタワーＴ１が設けられている。タワーＴ１には、単位ブロックＨ１～Ｈ６に各々対応する高さに受け渡しモジュールＴＲＳ、温度調整モジュールＳＣＰＬが設けられており、タワーＴ１の近傍に設けられる昇降自在な搬送機構１６により、当該タワーＴ１のモジュール間でウエハＷを受け渡しが可能となっている。

【0012】

タワーＴ１のＴＲＳ、ＳＣＰＬについて、対応する単位ブロックＨ１～Ｈ６と同じ数字を付してＴＲＳ１～ＴＲＳ６、ＳＣＰＬ１～ＳＣＰＬ６として示している。このＴＲＳ１～ＴＲＳ６及び後述の各所のＴＲＳは、搬送機構間でのウエハＷの受け渡しのためにウエハＷを仮置きするモジュールであり、搬送機構Ｆ１～Ｆ６がアクセスする。またタワーＴ１には、搬送機構１６とキャリアブロックＤ１の搬送機構１２との間でウエハＷの受け渡しを行うためのＴＲＳ７、ＴＲＳ８も設けられている。上記のＳＣＰＬ１～ＳＣＰＬ６は、ウエハＷの温度を調整可能なモジュールである。

【0013】

続いて、インターフェイスブロックＤ３について説明する。インターフェイスブロックＤ３は、単位ブロックＨ１～Ｈ６に跨がるように上下に伸びるタワーＴ２～Ｔ４を備えている。またインターフェイスブロックＤ３には搬送機構１７～１９が設けられており、これらの搬送機構１７～１９によってタワーＴ２～Ｔ４に各々設けられる各種のモジュール間をウエハＷが受け渡されるが、説明の複雑化を避けるために、タワーＴ２に設けられるモジュール以外のモジュールの表示は省略する。

【0014】

タワーＴ２は、単位ブロックＨ１～Ｈ６の各高さにＴＲＳを備えており、単位ブロックと同じ高さに位置するＴＲＳについて、当該単位ブロックと同じ数字と英字のＡとを付すことで、ＴＲＳ１Ａ～ＴＲＳ６Ａとして示す。さらに、タワーＴ２には、露光機Ｄ４との間でウエハＷを受け渡すためのモジュールであるＩＣＰＬ、ＴＲＳ７Ａが設けられている。ＩＣＰＬはＳＣＰＬと同様に、ウエハＷの温度を調整する。

【0015】

キャリアＣから搬送機構１２により払い出されたウエハＷは、タワーＴ１の受け渡しモジュールＴＲＳ７に搬送され、搬送機構１６によりタワーＴ１の受け渡しモジュールＴＲＳ１～ＴＲＳ３に振り分けられる。そして当該ウエハＷは、搬送機構Ｆ１～Ｆ３により受け取られ、温度調整モジュールＳＣＰＬ１～ＳＣＰＬ３→レジスト膜形成モジュール→加熱モジュールの順で搬送される。そのように搬送されてレジスト膜が形成されたウエハＷは、受け渡しモジュールＴＲＳ１Ａ～ＴＲＳ３Ａに搬送され、搬送機構１７→ＩＣＰＬ→搬送機構１９→露光機Ｄ４の順で搬送され、レジスト膜が露光される。

【0016】

露光後のウエハＷは、搬送機構１９→ＴＲＳ７Ａの順で搬送された後、搬送機構１８により、受け渡しモジュールＴＲＳ４Ａ～ＴＲＳ６Ａに振り分けられる。そのようにＴＲＳ４Ａ～ＴＲＳ６Ａに搬送されたウエハＷは、搬送機構Ｆ４～Ｆ６により加熱モジュール１５→温度調整モジュールＳＣＰＬ４～ＳＣＰＬ６→現像モジュール１４の順で搬送される。それによりレジスト膜が現像されて、ウエハＷにレジストパターンが形成される。現像後のウエハＷは、受け渡しモジュールＴＲＳ４～ＴＲＳ６に搬送され、搬送機構１６→受け渡しモジュールＴＲＳ８の順で搬送され、搬送機構１２により、キャリアＣに搬入される。

【0017】

また塗布、現像装置１は、制御部１０を備えている。制御部１０はコンピュータにより構成されており、プログラム、メモリ及びＣＰＵを備えている。プログラムには、後述する塗布、現像装置１における一連の動作を実施することができるようにステップ群が組み込まれている。そして、当該プログラムによって制御部１０は塗布、現像装置１の各部に制御信号を出力し、各搬送機構の動作や各モジュールの動作が制御されることで、既述した搬送経路でのウエハＷの搬送及びウエハＷの処理が行われる。その搬送機構の動作の制御には、後述する各ファンＢ１～Ｂ３の動作の制御も含まれる。上記のプログラムは、例えばコンパクトディスク、ハードディスク、ＤＶＤなどの記憶媒体に格納されて、制御部１０にインストールされる。

【0018】

処理ブロックＤ２の搬送機構Ｆ１～Ｆ６は、互いに同様に構成されている。以下、代表して搬送機構Ｆ６について、図３の斜視図及び図４の概略側面図を参照して先ず、その概略構成を説明する。搬送機構Ｆ６は構成部材として、２つの保持部２と、基台３と、昇降台４と、フレーム５と、左右駆動用ブロック６と、を備えている。左右駆動用ブロック６は既述した加熱モジュール１５の下方に設けられており、搬送路１３に沿って左右に伸びる長尺な平面視矩形状の部材である。フレーム５は起立した角枠として形成され、その下端部が左右駆動用ブロック６に対して前方側に位置している。フレーム５は、左右駆動用ブロック６の駆動機構に接続され、左右に（即ち、横方向に）直線移動する。

【0019】

昇降台４については後端側がフレーム５に囲まれると共に、当該フレーム５の駆動機構に接続され、鉛直方向に昇降する。昇降台４上には平面視矩形状に形成された基台３が設けられ、基台３は昇降台４によって鉛直軸回りに回転自在である。そして、基台３には２つの保持部２が接続されている。各保持部２は基台３の駆動機構に接続されることで互いに独立して進退可能であり、当該基台３の長さ方向に沿って水平に（即ち、横方向に）直線移動する。各保持部２はウエハＷの裏面を保持する基板保持部を構成しており、進行方向が開放された平面視で概ねＣ字形状の水平な板状体をなす。２つの保持部２は基台３の移動中は互いに重なるように基台３上に設けられ、以降は上側の保持部２を２Ａ、下側の保持部２を２Ｂとして記載する場合が有る。搬送機構Ｆ６をなす各構成部材が以上のように動作可能であることで、基台３が各モジュールの正面に位置した状態で保持部２Ａ、２Ｂが各々モジュール内に進入し、当該モジュールに対してウエハＷを受け渡すことができる。

【0020】

保持部２、昇降台４、フレーム５の各直線移動距離を図３中にＵ１、Ｕ２、Ｕ３として夫々示している。この直線移動距離とは、単位ブロックＨ６にて搬送機構Ｆ６によって既述した経路でウエハＷを搬送するにあたり直線移動する構成部材に関して、当該直線上で最も一端側に位置した状態と最も他端側に位置した状態との間の距離、即ち搬送時における移動ストロークである。直線移動距離Ｕ１～Ｕ３の大きさを比較すると、フレーム５の直線移動距離Ｕ３＞昇降台４の直線移動距離Ｕ２＞保持部２の直線移動距離Ｕ１である。

【0021】

上記した搬送機構Ｆ６の各部を直線移動させる駆動機構（後述する駆動機構３３Ａ、３３Ｂ、５４、６３）は搬送機構Ｆ６の内部に設けられており、これらの駆動機構と、駆動させる対象の構成部材とを接続するために、搬送機構Ｆ６はその内外を連通させる開口が設けられた構成とされる。その開口を介して、搬送機構Ｆ６内の異物がパーティクルとして搬送路１３へ放出されることが抑制されるように搬送機構Ｆ６内は排気される。従って、搬送機構Ｆ６の各部から搬送機構Ｆ６の外側の大気が取込まれる。基台３の外部から当該基台３内に取込まれた大気については、昇降台４、フレーム５、左右駆動用ブロック６を順番に流れ、搬送機構Ｆ６の外部へと排出されるように、搬送機構Ｆ６内には各構成部材間を跨がる排気路６０が形成されている。そして、その排気路６０の各段にファンが設けられた構成となっている。図４では、このように搬送機構Ｆ６に取込まれて流れる大気について、矢印で示している。上記したパーティクルの種類は様々であり、主なものとしては例えば駆動機構に用いられるグリス（グリスパーティクル）である。搬送機構Ｆ６においては、当該パーティクルについての放出がより確実に抑制されるように、各ファンの排気流量及び搬送機構Ｆ６の各開口の大きさが設定されている。

【0022】

上記の開口及び排気路６０の概要についてさらに説明しておくと、既述した搬送機構Ｆ６を構成する基台３、昇降台４、フレーム５及び左右駆動用ブロック６については筐体（後述する３１、４１、５１、６１）を備え、これら筐体同士が互いに接続されることで、当該排気路６０が形成されている。そして基台３、フレーム５及び左右駆動用ブロック６の各筐体３１、５１、６１には、筐体の壁部を貫通することで当該筐体の内外を連通させる貫通口としてスリット（後述する３２Ａ、３２Ｂ、５５、６４）が形成される。このスリットからのパーティクルの排出を抑制するために、筐体の内側から当該スリットに重なるシールベルトが設けられる。直線移動する構成部材（保持部２、昇降台４またはフレーム５）は、このシールベルトの一部を貫いて駆動機構に接続される。そして、当該構成部材の直線移動と共にシールベルトは移動可能であり、常時スリットに重なる。そして、このシールベルトは風圧等の影響で撓んだ際に筐体と擦れることでパーティクルが発生しないように、筐体から若干離れている。従って、上記した搬送機構Ｆ６の内外を連通させる開口は、スリットの外周縁（開口縁）とシールベルトとがなす環状の隙間であり、後述の隙間Ｒ１～Ｒ３が該当する。

【0023】

続いて、搬送機構Ｆ６の各部の構成について詳しく説明する。説明にあたり、駆動機構、当該駆動機構によって直線移動する構成部材（保持部２、昇降台４またはフレーム５）、当該構成部材を移動させるために開口するスリット、当該スリットに重なるシールベルト、当該シールベルトが掛けられるプーリを互いに「対応する」関係にある部材として表記する場合が有る。

【0024】

先ず、図５の横断平面図及び図６の縦断側面図を参照して基台３について説明する。なお、図６は保持部２の進退方向に見た断面図である。基台３は平面視で長方形の筐体３１を備えており、当該長方形の長辺をなす側壁に、第１貫通口であるスリット３２Ａ、３２Ｂが上下に並んで設けられている。スリット３２Ａ、３２Ｂは、筐体３１の長さ方向に伸びる。筐体３１内には、駆動機構３３Ａ、３３Ｂが異なる高さに夫々設けられている。駆動機構３３Ａとスリット３２Ａと保持部２Ａとが互いに対応する関係であり、駆動機構３３Ｂとスリット３２Ｂと保持部２Ｂとが互いに対応する関係である。

【0025】

第１駆動機構である駆動機構３３Ａは、ガイドレール３４、各々水平軸周りに回転可能なプーリ３５、３６、プーリ３５に接続されて当該プーリ３５を回転させるモータ３７、及びプーリ３５、３６に掛け渡されている無端（即ち環状）の駆動ベルト３８により構成されている。ガイドレール３４の伸長方向及びプーリ３５、３６の配列方向は、上記した保持部２Ａの移動方向と同じであり、プーリ３５、３６の回転軸はこの配列方向に直交して水平に伸びる。上記した保持部２Ａの側方には接続部材２１が設けられており、各接続部材２１は保持部２Ａから下方に伸びた後、屈曲されて基台３に向い、スリット３２Ａを介して筐体３１内に進入し、上記のガイドレール３４及び駆動ベルト３８に接続されている。

【0026】

また筐体３１内には、互いに組となると共に鉛直軸回りに回転可能な複数のプーリ２２が設けられている。スリット３２Ａの開口方向に見ると、組となるプーリ２２はスリット３２Ａの長さ方向に離れ、スリット３２Ａを挟むように配置されている。このように組となる複数のプーリ２２に、無端のシールベルト２３が掛け渡されている。第１シール部であるシールベルト２３の幅は、スリット３２Ａの幅よりも大きい。そしてシールベルト２３の周の一部がスリット３２Ａに重なると共に、当該スリット３２Ａが形成された筐体３１の側壁と近接、且つ対向する。それによってスリット３２Ａの外周縁の全周に亘り、幅がＬ１である隙間Ｒ１が形成されている。この幅Ｌ１について、より詳しく述べるとスリット３２Ａの開口方向における隙間Ｒ１の幅であり、即ちスリット３２Ａの外周縁とシールベルト２３とのなす距離である。なお、この幅Ｌ１は、シールベルト２３を撓みが無いようにプーリ２２に掛けた場合における当該シールベルト２３とスリット３２Ａの外周縁との距離であり、後述の幅Ｌ２、Ｌ３も同様にシールベルトの撓みが無いとした場合のシールベルトとスリットの外周縁との距離である。

【0027】

上記した保持部２Ａの接続部材２１は、このシールベルト２３におけるスリット３２Ａに重なる部位の一部を貫通することで、既述したように駆動機構３３Ａに接続されている。従って、モータ３７の回転により駆動ベルト３８が回動し、ガイドレール３４の長さ方向に沿って保持部２Ａが移動する。シールベルト２３はこの保持部２Ａの移動に応じて回動可能であり、第１の隙間である隙間Ｒ１の幅Ｌ１は一定の大きさに保たれる。

【0028】

筐体３１内には、保持部２Ｂに対応するシールベルト２３及びシールベルト用のプーリ２２も設けられている。保持部２Ｂに対応する駆動機構３３Ｂ、シールベルト２３、プーリ２２については、保持部２Ａに対応するこれらの部材と同様の構成である。また、保持部２Ｂは、保持部２Ａと同様に接続部材２１を介してシールベルト２３、駆動機構３３に接続されている。

【0029】

ところで、互いに組となりシールベルト２３が掛け渡される複数のプーリ２２について、図５では図示を簡素にするために２つであるように示しているが、各シールベルト２３が上記したようにスリット３２Ａ、３２Ｂに重なることができる個数、配置であればよく、実際には３つ以上設けられてもよい。以降に説明する昇降台４、フレーム５に対応するシールベルト用のプーリについても、プーリ２２と同様に２つが組となっているものとして示すが３つ以上が組となって、それらのプーリにシールベルトが掛け渡される構成であってもよい。また、昇降台４に対応する各部材、フレーム５に対応する各部材の構成については、以上に述べた保持部２に対応する各部材の構成と略同様であるため、以降の説明で昇降台４、フレーム５に対応する各部材については、保持部２に対応する各部材との差異点を中心に説明する。

【0030】

基台３をなす筐体３１について補足して説明すると、当該筐体３１の下面には、鉛直下方に突出して、昇降台４を構成する筐体４１内に進入する円筒部２４が形成されており（図４参照）、円筒部２４内の空間２５を介して筐体３１内と、昇降台４を構成する筐体４１内とが連通している。当該筐体４１内には、当該円筒部２４を筒軸回りに回転させることで、基台３を回転させる回転機構が設けられるが、図示は省略する。なお、筐体３１、４１は第１筐体に相当する。

【0031】

昇降台４をなす筐体４１の左側の側壁、右側の側壁には、夫々フレーム５へ向けて突出して進入する昇降スライダ４２が設けられている。この昇降スライダ４２内には流路４３が形成され、当該流路を介して筐体４１内はフレーム５を構成する筐体５１内に連通する。また、筐体４１内には第１排気機構であるファンＢ１が設けられている。このファンＢ１によって上記した基台３のスリット３２Ａ、３２Ｂから、搬送路１３の大気が取込まれる。そして、この大気は筐体３１内、筐体４１内を流れて当該ファンＢ１によって吸気され、流路４３を介してフレーム５を構成する筐体５１内へと排出される。

【0032】

続いて、フレーム５について図７の縦断正面図を参照して説明する。上記したようにフレーム５は筐体５１を備えている。そして、フレーム５の左右の鉛直に伸びる部位を柱部５２とすると、２つの柱部５２は、搬送路１３を前後方向に見て互いに鏡面対称に構成されており、左側の柱部５２の右側壁、右側の柱部５２の左側壁に、鉛直方向に伸びるスリット５３が各々形成されている。上記の昇降台４の昇降スライダ４２は第２貫通口であるスリット５３を介して筐体５１内に進入しており、当該昇降スライダ４２の流路４３は筐体５１内に開口している。

【0033】

第２筐体である筐体５１内における各柱部５２を形成する部位には、昇降台４に各々対応する駆動機構５４、シールベルト用のプーリ５５の組及びシールベルト５６が設けられている。第２駆動機構である駆動機構５４における上記した駆動機構３３との差異点としては、昇降台４の移動方向に対応して、ガイドレール３４の伸長方向及びプーリ３５、３６の配列方向について鉛直方向であること、及びプーリ３５、３６が前後方向に伸びる水平軸回りに回転可能であることが挙げられる。シールベルト用の各プーリ５５についても、そのプーリ３５、３６と同様、鉛直方向に離れて設けられると共に、前後の水平軸回りに回転可能である。スリット５３の開口方向に見て、プーリ５５はスリット５３を挟むように位置し、これらのプーリ５５に第２シール部をなすシールベルト５６が掛け渡されている。

【0034】

スリット５３の開口方向に見た当該スリット５３とシールベルト５６との位置関係は、上記した基台３におけるスリット３２Ａとシールベルト２３との位置関係と同様である。従って、スリット５３の外周縁の全周に亘ってシールベルト５６が近接、対向している。当該スリット５３の外周縁とシールベルト５６との隙間をＲ２、当該外周縁とシールベルト５６との距離である隙間Ｒ２の幅（即ち、隙間Ｒ２についてのスリット５３の開口方向における幅）をＬ２として図７中に示している。なお、上記の昇降台４の昇降スライダ４２は、シールベルト５６におけるスリット５３に重なる部位の一部を貫通することで、駆動機構５４を構成するガイドレール３４及び駆動ベルト３８に接続されている。従って、駆動機構５４のモータ３７の回転により昇降台４が昇降可能であり、その昇降台４の昇降の際には、第２の隙間である隙間Ｒ２の幅Ｌ２が一定の大きさに保たれるようにシールベルト２３が回動する。

【0035】

柱部５２及び左右駆動用ブロック６の横断平面図である図８も参照して説明すると、各柱部５２の底部の後方側にファンＢ２が設けられている。そして、これらのファンＢ２に挟まれてブロック状の水平スライダ５８が設けられている。この水平スライダ５８の後端側は、左右駆動用ブロック６内に進入している。各ファンＢ２によってスリット５３から搬送路１３の大気が取込まれる。そしてスリット５３から流入した大気と、上記のようにファンＢ１によって筐体５１内に流入した大気とが、ファンＢ２によって吸気され、水平スライダ５８内に形成された流路５９を介して左右駆動用ブロック６を構成する筐体６１内へと排出される。

【0036】

続いて、左右駆動用ブロック６について上記の図８を参照して説明する。なお、この図８では点線の矢印で各部における大気の流れを示している。上記したように左右駆動用ブロック６は、第３筐体である筐体６１を備えており、筐体６１の前面には左右に延びるスリット６２が形成されている。上記したフレーム５の水平スライダ５８は第３貫通口であるスリット６２を介して筐体６１内に進入し、当該水平スライダ５８の流路５９は筐体６１内に開口している。

【0037】

筐体６１内には、フレーム５に各々対応する駆動機構６３、シールベルト用のプーリ６４の組及びシールベルト６５が設けられている。第３駆動機構である駆動機構６３についての基台３の駆動機構３３との差異点としては、フレーム５の移動方向に対応して、ガイドレール３４の伸長方向及びプーリ３５、３６の配列方向について左右の水平方向であること、及びプーリ３５、３６が前後の水平軸回りに回転可能であることが挙げられる。シールベルト用のプーリ６４については左右の水平方向に離れて設けられ、鉛直軸回りに回転可能である。スリット６２の開口方向に見て、組となるプーリ６４はスリット６２を挟むように位置し、これらのプーリ６４に第３シール部をなすシールベルト６５が掛け渡されている。

【0038】

スリット６２の開口方向に見た当該スリット６２とシールベルト６５との位置関係は、上記したスリット３２Ａとシールベルト２３との位置関係と同様である。従って、スリット６２の外周縁の全周に亘ってシールベルト６５が近接、対向している。当該スリット６２の外周縁とシールベルト６５との隙間をＲ３、当該外周縁とシールベルト６５との距離である隙間Ｒ３の幅（即ち、隙間Ｒ３についてのスリット６２の開口方向における幅）をＬ３として示している。なお、上記した水平スライダ５８は、シールベルト６５におけるスリット６２に重なる部位の一部を貫通することで、駆動機構６３を構成するガイドレール３４及び駆動ベルト３８に接続されている。従って、駆動機構６３のモータ３７の回転により、フレーム５が左右に移動可能であり、そのフレーム５の移動の際には、第３の隙間である隙間Ｒ３の幅Ｌ３が一定の大きさに保たれるようにシールベルト６５が回動する。

【0039】

筐体６１内において、当該筐体６１の後方側の壁部における左端部、右端部にファンＢ３が各々設けられている。各ファンＢ３によってスリット６２から搬送路１３の大気が取込まれる。そしてスリット６２から流入した大気と、上記のようにファンＢ１、Ｂ２を介して水平スライダ５８から筐体５１内に流入した大気とが、ファンＢ３によって吸気される。そのように吸気される大気はファンＢ３に接続される図示しない排気路を介して筐体６１内から排出される。

【0040】

以上に述べたように、図４で説明した搬送機構Ｆ６における排気路６０は筐体３１内から、筐体４１内及び筐体５１内を介して筐体６１内に亘るように形成され、筐体３１、４１、５１、６１の順で下流側へと向う。なお、フレーム５に２つ設けられるファンＢ２については、排気路６０の上流端をなす基台３の筐体３１内から当該排気路６０を下流側に見て、互いに同じ長さの位置に設けられる。また、左右駆動用ブロック６に２つ設けられるファンＢ３についても筐体３１内から排気路６０を下流側に見て、互いに同じ長さの位置に設けられる。

【0041】

ところで基台３のファン４３による排気流量（単位時間あたりの排気量）をＥｘ、フレーム５の２つのファンＢ２による排気流量をＥｚ、左右駆動用ブロック６の２つのファンＢ３による排気流量をＥｙとする。つまり、排気路６０の下流側に向けて見たときに流路方向の同じ位置におけるファンについては１つのファンとみなし、当該流路方向の異なる位置の各ファンの排気流量について異なる符号で表すものとする。さらに具体的に述べると、Ｅｚは排気路６０の流路方向の同じ位置に２つ設けられるファンＢ２の排気流量の合計、Ｅｙは排気路６０の流路方向の同じ位置に２つのファンＢ３の排気流量の合計である。Ｅｘは第１排気流量、Ｅｚは第２排気流量、Ｅｙは第３排気流量である。

【0042】

搬送機構Ｆ６全体の排気流量ΣＥとすると、ΣＥ＝Ｅｘ＋Ｅｚ＋Ｅｙ－Ｅloss（式１）として表すことができる。Ｅlossは排気流量に対する損失分を表しており、搬送機構Ｆ６の組み立ての精度や設計の精度などによって変化すると共に不可避的に生じる要素である。搬送機構Ｆ６から外部へのグリス等のパーティクルの飛散を抑制するには、Ｅlossを低減させるように搬送機構Ｆ６を構成すること、あるいは各ファンＢ１～Ｂ３の排気流量を大きくすることでΣＥを大きくするという対処が考えられる。しかし実験及び検証によってそのような対処の他に、Ｅｘ、Ｅｙ、Ｅｚ間のバランスや、上記した隙間Ｒ１～Ｒ３の幅Ｌ１～Ｌ３のバランスを適切に設定することが、上記のパーティクルの飛散を抑制する上で有効であることが確認された。以降はその実験及び検証についても適宜説明する。

【0043】

具体的に排気流量Ｅｘ、Ｅｙ、Ｅｚについて、Ｅｘ＜Ｅｚ＜Ｅｙとなるように、各ファンＢ１～Ｂ３の回転数が設定される。これは排気路６０の下流側の位置ほど、設けられる排気機構による排気流量を大きくすることで、排気路６０の途中で大気の流れが淀んだり、滞留したりすることを防ぐためである。その淀みや滞留を防止することで、排気路６０に接続された構成とされている隙間Ｒ１～Ｒ３からパーティクルが漏れ出すことを防止する。

【0044】

排気流量の大小関係を検証した評価試験１について説明する。評価試験１－１として、上記したようにＥｘ＜Ｅｚ＜Ｅｙとなるように設定した。そして搬送機構Ｆ６により、所定の周回路にて繰り返しウエハＷを搬送した。この搬送を１０枚のウエハＷについて行った。その後、各ウエハＷに付着したパーティクルのうち、グリスパーティクルについての個数を検出した。そして、１０枚のウエハＷに付着したグリスパーティクルの合計÷上記の周回路を周回させた回数÷搬送したウエハＷの枚数である１０について算出した。当該算出値をグリスパーティクル個数／ループ数とする。比較試験１－２として、Ｅｚ＜Ｅｘ＜Ｅｙとしたことを除いて評価試験１－１と同様の試験を行い、グリスパーティクル個数／ループ数を算出した。

【0045】

この評価試験１の結果を、図９にボックスチャートとして示している。なお、この図９のボックスチャート及び後述の各図のボックスチャートでは、中央値（第２四分位点）、第１四分位点、第３四分位点を表すボックスの横棒上に点を付し、これらの各四分位点を表す横棒が近接した場合でも各四分位点が識別されるようにしている。この図９のボックスチャートに示すように、評価試験１－１では評価試験１－２に比べてグリスパーティクル個数／ループ数が小さかった。評価試験１－２では、Ｅｘ＞Ｅｚであることにより、排気路６０におけるファンＢ１、Ｂ２間にてグリスパーティクルの流れの淀み、滞留が起こったものと考えられる。その結果、基台３の駆動機構３３Ａ、３３Ｂで発生した当該グリスパーティクルがフレーム５の隙間Ｒ２から搬送路１３に放出されたことで、評価試験１－１よりもグリスパーティクル個数／ループ数が多くなったと推定される。このように評価試験１－１では、隙間Ｒ１～Ｒ３からのグリスパーティクルの放出が抑制されたことが示された。なお、以降に述べる各評価試験では、この評価試験１－１と同じくＥｘ＜Ｅｚ＜Ｅｙとなるように設定している。

【0046】

ところで図１０では搬送機構Ｆ６の一部について、モデルＧ１として極めて概略的に示している。モデルＧ１は筐体７１、ファン７２、開口部７３を備え、筐体７１内に設けられるファン７２により吸引され、筐体７１の壁部に設けられる開口部７３を介して筐体７１の外部から内部へと大気が流入する。ファン７２は上記したファンＢ１～Ｂ３のいずれかに該当し、開口部７３は隙間Ｒ１～Ｒ３のうちのファン７２に対応する隙間である。従ってファン７２がＢ１である場合、Ｂ２である場合、Ｂ３である場合の夫々において、開口部７３は隙間Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３である。そして筐体７１は、既述した排気路６０を形成する各筐体３１～６１においてファン７２から開口部７３までの流路を形成する部位に相当する。開口部７３を介さずに筐体７１内をファン７２に向けて流れる大気の流量をＥ１、開口部７３の断面積をＡ１、開口部７３における筐体７１内へ流入する大気の速度をＶ１、開口部７３における圧力をＰ１とすると、ファン７２の総排気流量ΣＥについてはΣＥ＝Ｅ１＋Ｐ１×Ｖ１×Ａ１（式２）として表すことができる。

【0047】

図１１でも搬送機構Ｆ６の一部について、モデルＧ１と同様のモデルＧ２として概略的に示している。ただしこのモデルＧ２では、開口部７３の断面積がＡ２であり、モデルＧ１の開口部７３の断面積Ａ１よりも小さい。モデルＧ２においてこの断面積以外に変更が無いとすると、モデルＧ２の搬送機構Ｆ６の総排気流量ΣＥとしては、モデルＧ１の式２と同様の式であるΣＥ＝Ｅ２＋Ｐ２×Ｖ２×Ａ２（式３）として表すことができる。式３中のＥ２は、上記のＥ１と同じく、開口部７３を介さずに筐体７１内をファン７２に向けて流れる大気の流量である。またＰ２、Ｖ２は、夫々モデルＧ２での開口部７３の圧力、当該開口部７３における筐体７１内へ流入する大気の速度である。

【0048】

モデルＧ１、Ｇ２が、搬送機構Ｆ６における同じ部位を表しているものとする。つまり、モデルＧ１、Ｇ２は、同じ部位で隙間Ｒ（Ｒ１～Ｒ３のうちのいずれか）のみが変更された状態を表しているものとする。その場合、流量Ｅ１、Ｅ２は互いに同じである。そして、モデルＧ１、Ｇ２が置かれる環境が同じであることから、モデルＧ１、Ｇ２が外部から受けるエネルギーも同じである。式２中のＰ１×Ｖ１×Ａ１、及び式３中のＰ２×Ｖ２×Ａ２についてはその外部のエネルギーによって影響を受ける要素であるが、当該エネルギーが同じであることで、Ｐ１×Ｖ１×Ａ１＝Ｐ２×Ｖ２×Ａ２とみなすことができる。つまり、モデルＧ１、Ｇ２間でファン７２の総排気流量ΣＥは同じであると考えることができる。そして断面積Ａ１、Ａ２の違いの影響により、Ｐ１＞Ｐ２、Ｖ１＜Ｖ２という関係になる。

【0049】

上記のようにＶ１＜Ｖ２であることから、モデルＧ１よりもモデルＧ２の方が、高い流速で開口部７３から筐体７１内に大気が流れ込む。これは大気の高い流速によって、パーティクルを筐体７１内に押し込め、開口部７３を介した筐体７１の外部への放出を防止できるということになる。従って、開口部７３に相当する隙間Ｒ１～Ｒ３について、より小さく構成することが有効であると考えられる。

【0050】

なお、隙間Ｒ１～Ｒ３の幅Ｌ１～Ｌ３について、評価試験１では１．０ｍｍとして行っており、説明の便宜上、この１．０ｍｍを基準値とする。以降に述べる実験においては幅Ｌ１～Ｌ３を当該基準値よりも小さい縮小値とする場合が有る。従って、ファンＢ１～Ｂ３のうちの一つのファンと当該ファンに対応する隙間と、当該ファンと隙間との間の排気路を形成する筐体と、に関して、当該隙間を基準値とした場合にはモデルＧ１で表され、当該隙間を縮小値とした場合にはモデルＧ２で表されるものと考えることができる。なお、ファンＢ１～Ｂ３の排気流量についてＥｘ、Ｅｙ、Ｅｚとして表すものとしたが、以降は、対応する隙間の幅が縮小値である場合には便宜上、Ｅに「′」を付してＥ′ｘ、Ｅ′ｙ、Ｅ′ｚとして夫々示す場合が有る。つまり、対応する隙間についてモデルＧ２で表されるファンの排気流量については、Ｅ′として表す。

【0051】

上記した各隙間Ｒ１～Ｒ３を小さくした方が好ましいという考察に基づき、評価試験２を行った。評価試験１との差異点を中心に述べると、この評価試験２では基台３における隙間Ｒ１の幅Ｌ１を縮小値に設定し、隙間Ｒ２及びＲ３における幅Ｌ２、Ｌ３は基準値に設定している。そして評価試験１と同様に、１０枚のウエハＷについて周回路を周回するように搬送し、グリスパーティクル個数／ループ数を算出した。縮小値としては、０．５ｍｍ、０．７ｍｍ、０．８５ｍｍのいずれかとした。なお、幅Ｌ１について同一の設定で、周回路でのウエハＷの搬送、及びグリスパーティクル個数／ループ数の算出を３回行い、この３回の平均値を算出した。

【0052】

図１２のグラフは評価試験２の結果を示したものであり、横軸に幅Ｌ１を、縦軸にグリスパーティクル個数／ループ数を夫々示している。そして、上記したグリスパーティクル個数／ループ数の平均値を点で表し、各点に基づいた近似直線を点線で示している。このグラフに示されるように幅Ｌ１が小さいほど、グリスパーティクル個数／ループ数の値が小さい。このように評価試験２の結果は、上記した各隙間を小さくすることで当該隙間を通過する大気の速度を高めてパーティクルの放出を抑制することができるという推論に適合したものとなった。また、この評価試験２からは幅Ｌ１について、例えば０．５ｍｍ～０．８５ｍｍの範囲とすることが好ましく、この範囲中においてより小さい値とすることがより好ましいことが示された。

【0053】

なお、シールベルト２３が設けられる各筐体３１は、十分な強度を確保するために例えば金属により構成されている。隙間Ｒ１の幅Ｌ１を縮小値とすると、これらのシールベルト２３が撓んだ際に筐体３１に接触して当該筐体３１からの金属のパーティクルの発生量が上昇することが考えられる。それを防ぐために、これらの筐体３１の内壁におけるスリット３２Ａ、３２Ｂの外周縁については、例えば樹脂などの当該筐体３１をなす金属よりも弾性が高い部材により構成することで、当該パーティクルの発生が抑えられるようにしてもよい。シールベルト５６、６５が設けられる筐体５１、６１についても、そのようにスリットの外周縁を樹脂により構成してもよい。

【0054】

続いて、評価試験３について説明する。この評価試験３では、隙間Ｒ１～Ｒ３の幅Ｌ１～Ｌ３について、基準値としたものと、縮小値としたものとの組み合わせを変えて、評価試験１、２と同様に１０枚のウエハＷについて周回路を周回するように搬送し、グリスパーティクル個数／ループ数を算出した。この評価試験３では縮小値を０．５ｍｍとした。評価試験３－１では幅Ｌ１～Ｌ３をいずれも基準値とした。評価試験３－２では幅Ｌ１のみを縮小値とし、幅Ｌ２、Ｌ３は基準値とした。評価試験３－３では幅Ｌ１、Ｌ２が縮小値とし、幅Ｌ３は基準値とした。評価試験３－４では幅Ｌ１～Ｌ３をいずれも縮小値とした。従って評価試験３－２ではＥ′ｘ、評価試験３－３ではＥ′ｘ、Ｅ′ｚ、評価試験３－４ではＥ′ｘ、Ｅ′ｚ、Ｅ′ｙとしている。なお、幅Ｌ１～Ｌ３が縮小値とされた評価試験３－４では、搬送機構Ｆ６全体の排気流量ΣＥ′について式１と同様の式４：ΣＥ′＝Ｅ′ｘ＋Ｅ′ｚ＋Ｅ′ｙ－Ｅ′lossとして表すことができる。Ｅ′lossは、上記のＥlossと同様、排気流量の損失分である。

【0055】

図１３のボックスチャートは評価試験３の結果を示している。このチャートに示すように、グリスパーティクル個数／ループ数について、評価試験３－１に比べると評価試験３－２では小さい。そして、評価試験３－３では評価試験３－２よりもさらに低く、略０であり、評価試験３－１～３－４の中で最も好ましい結果となった。しかし、評価試験３－４では評価試験３－１よりは小さいが、評価試験３－２、３－３よりも大きい値となった。上記の推論によれば、隙間Ｒ１～Ｒ３の全てを縮小値とする評価試験３－４では評価試験３－３と同等以上にグリスパーティクルが放出されることが見込まれるが、その見込みとは異なる結果となった。

【0056】

上記の評価試験３－４の結果については、左右駆動用ブロック６の筐体６１内での大気の圧縮が影響していると考えられる。図３で説明したように、フレーム５の直線移動距離Ｕ３は、保持部２の直線移動距離Ｕ１及び昇降台４の直線移動距離Ｕ２よりも大きい。そのため筐体６１内を移動する水平スライダ５８について、筐体６１内の左端部あるいは右端部に向けて移動する際に、比較的長い距離を移動する場合が有る。その場合、その筐体６１内の左端部または右端部において大気が高い圧縮率をもって圧縮される。

【0057】

隙間Ｒ３の幅Ｌ３が基準値であって比較的大きい場合（モデルＧ１で隙間Ｒ３及び隙間Ｒ３に対応するファンＢ３を表せる場合）は、筐体６１内へ流れる隙間Ｒ３の大気の流速が比較的小さいので、この大気が隙間Ｒ３を塞ぐ作用は比較的低く、筐体６１の密閉性は抑えられている。従って、当該筐体６１内で圧縮された大気は、その隙間Ｒ３内を拡散あるいは隙間Ｒ３外へと拡散することができる。その拡散により排気路６０の上流側への影響は比較的小さい。

【0058】

しかし隙間Ｒ３の幅Ｌ３が縮小値であって比較的小さい場合（モデルＧ２で隙間Ｒ３及び隙間Ｒ３に対応するファンＢ３を表せる場合）は、筐体６１内へ流れる隙間Ｒ３の大気の流速が比較的大きいので、この大気が隙間Ｒ３を塞ぐ作用は比較的高く、筐体６１の密閉性が高くなる。従って、筐体６１内で圧縮された大気は、隙間Ｒ３内及び隙間Ｒ３を介した外部への放出がなされ難い。それ故に、排気路６０における大気の滞留や逆流が起こり、排気路６０を流れる途中であったり、各駆動機構に付着していたりするグリスパーティクルが、排気路６０の上流側に接続される隙間Ｒ１、Ｒ２を介して搬送路１３へ放出されてしまったことで上記した結果となったと考えられる。

【0059】

評価試験３の実験条件について補足すると、Ｅｘ＋Ｅｚ＜Ｅｙという関係となるように各ファンＢ１～Ｂ３の排気流量を設定した上で、上記した隙間Ｒ１～Ｒ３の幅Ｌ１～Ｌ３を各々変更して評価試験３－１～３－４を実施している。従って、評価試験３－４はＥ′ｘ＋Ｅ′ｚ＜Ｅ′ｙという関係が成立した状態で行われた。グリスパーティクルの放出を抑制するためには、この評価試験３－４におけるＥ′ｘ＋Ｅ′ｚ＜Ｅ′ｙの関係が成立しないようにすることが有効であると考えられる。具体的には例えばＥ′ｘ＋Ｅ′ｚ＞Ｅ′ｙとする。つまり、ファンＢ１～Ｂ３についてＥｘ＋Ｅｚ＞Ｅｙという関係が得られるように設定した上で、隙間Ｒ１～Ｒ３の幅Ｌ１～Ｌ３を各々縮小値、即ち１．０ｍｍより小さい値にすることが有効であると考えられる。なお、そのようにＥ′ｘ＋Ｅ′ｚ＞Ｅ′ｙとすることは、Ｅ′ｘ＋Ｅ′ｚ＜Ｅ′ｙとすることに比べてＥ′ｙが比較的小さい値になるということであり、それは上記した隙間Ｒ３における大気の速度の上昇が防止されるということになる。従って、筐体６１の密閉性が高くなることが防止され、隙間Ｒ３及び筐体６１の外部への大気の拡散が可能であるため、上記した隙間Ｒ１、Ｒ２からのパーティクルの放出を抑制することができると考えられる。

【0060】

また、上記した評価試験３－４の条件であるＥ′ｘ＋Ｅ′ｚ＜Ｅ′ｙの関係を解消するにあたり、Ｅ′ｘ＋Ｅ′ｚ＞Ｅｙとなるようにしてもよい。これは評価試験３－２での設定のように、隙間Ｒ３の幅Ｌ３のみ縮小値とはしないということである。即ち隙間Ｒ１、Ｒ２の幅Ｌ１、Ｌ２よりも隙間Ｒ３の幅Ｌ３が大きくなるように設定することになる。それによって隙間Ｒ３における大気の速度を低下させ、上記した隙間Ｒ１、Ｒ２からのパーティクルの放出を抑制することができる。

【0061】

続いて、評価試験４について説明する。この評価試験４は評価試験４－１～４－４として、上記した評価試験３－１～３－４と同様の試験を行っているが、検出対象をグリスパーティクルのみならず、全ての種類のパーティクルとしている。グリスパーティクルの個数の代わりに全種のパーティクルの個数を用いた他は、グリスパーティクル個数／ループ数の算出方法と同様の算出方法でパーティクル個数／ループ数を算出した。

【0062】

図１４のボックスチャートは評価試験４の結果を示している。当チャートに示されるように、評価試験４－１に比べると評価試験４－２～４－４では、パーティクル個数／ループ数が抑制される傾向にあることが確認された。従って、隙間Ｒ１～Ｒ３の幅Ｌ１～Ｌ３を縮小値である０．５ｍｍとしても、グリスパーティクル以外のパーティクルによる汚染のリスクの上昇は抑制されていることが確認された。そして、この評価試験４の結果からは、隙間Ｒ１～Ｒ３の幅Ｌ１～Ｌ３について１．０ｍｍよりも小さい値とすることで各種のパーティクルの搬送路１３への放出を抑制できることが示された。

【0063】

以上に述べたように、搬送機構Ｆ６の各ファンＢ１～Ｂ３の排気流量についてＥｘ＜Ｅｚ＜Ｅｙとする。それにより、各隙間Ｒ１～Ｒ３からの搬送路１３へのグリスパーティクルの放出を抑制することができ、従って当該搬送路１３を搬送されるウエハＷへの当該パーティクルの付着を防止することができる。その結果として、ウエハＷから製造される半導体製品の歩留りの低下を防止することができる。

【0064】

そして、評価試験３で述べたように上記の左右駆動用ブロック６での大気の圧縮による隙間Ｒ１、Ｒ２からのグリスパーティクルの放出を抑えるためにＥｘ＋Ｅｚ＞Ｅｙ（即ち、第１排気流量と第２排気流量との合計が第３排気流量よりも大きい）となるようにする。そして、隙間Ｒ１～Ｒ３を縮小値とする１．０ｍｍより小さい値とすることもグリスパーティクルの放出を抑制するにあたり有効である。評価試験２の結果を考慮すれば、これら隙間Ｒ１～Ｒ３は、例えば０．８５ｍｍ以下とすることが好ましく、０．５ｍｍ以下であるとより好ましい。また、評価試験３で述べたように隙間Ｒ１、Ｒ２の幅Ｌ１、Ｌ２については、隙間Ｒ３の幅Ｌ３よりも小さくすることによって、上記のグリスパーティクルの放出を抑制してもよい。この場合の隙間Ｒ１、Ｒ２の幅Ｌ１、Ｌ２についても評価試験の結果を考慮すれば、例えば０．８５ｍｍ以下とすることが好ましく、０．５ｍｍ以下であるとより好ましい。

【0065】

上記したように処理ブロックＤ２に設けられる他の搬送機構Ｆ１～Ｆ５についても搬送機構Ｆ６と同様の構成であるため、ファンＢ１～Ｂ３及び隙間Ｒ１～Ｒ３について、既述した搬送機構Ｆ６と同様の設定を行うことが好ましい。また、インターフェイスブロックＤ３における搬送機構１９、キャリアブロックＤ１における搬送機構１２についても搬送機構Ｆ１～Ｆ６と同様の構成であるため、搬送機構Ｆ１～Ｆ６と同様の設定を行うことが好ましい。

【0066】

そして、インターフェイスブロックＤ３に設けられる搬送機構１７、１８については、左右駆動用ブロック６が設けられず、そのためにファンＢ２によって排気された大気が装置の外部に排出されることを除いて搬送機構Ｆ６と同様の構成である。また、処理ブロックＤ２における搬送機構１６については、基台３が回転しないことを除いて搬送機構１７、１８と同様の構成である。これらの左右駆動用ブロック６が設けられない搬送機構１６～１８についても下流側のファンほど排気流量が大きくなるようにすればよい。従って、Ｅｘ＜ＥｚとなるようにファンＢ１、Ｂ２の排気流量を設定すればよい。そして、各スリットがなす隙間Ｒ１～Ｒ２の幅についても例えば搬送機構Ｆ６について示した値、即ち１．０ｍｍより小さい値とすればよい。

【0067】

次に評価試験５について説明する。この評価試験５では、図１５に示すように基台３に配管７４の一端を設けてスリット３２Ａの一端に開口するようにした。配管７４の他端は、圧力計７５に接続されている。つまり、圧力計７５によってスリット３２Ａの圧力を計測できるように構成した。そして、評価試験２と同様に隙間Ｒ１の幅Ｌ１を０．５ｍｍ、０．７ｍｍ、０．８５ｍｍのいずれかに設定して搬送機構Ｆ６を稼働させて、当該圧力を検出した。

【0068】

図１６はこの評価試験５の結果を示している。隙間Ｒ１の幅Ｌ１が小さいほどスリット３２Ａの圧力が小さく、幅Ｌ１とスリット３２Ａの圧力との間には正の相関関係が有ることが分かる。この評価試験５の結果と、幅Ｌ１によってグリスパーティクルの放出量が変化したことを示す評価試験２の結果とを合わせて考えると、搬送機構Ｆ６の稼働中にスリット３２Ａの圧力を検出することで、幅Ｌ１が適正であるか否か（シールベルト２３と筐体３１との位置関係が適正であるか否か）を判定することができる。そして、その幅Ｌ１についての判定は、グリスパーティクルの放出量が異常であるか否かを判定することになる。

【0069】

従って、搬送機構Ｆ６の各スリット３２Ａ、３２Ｂ、５３、６２に各々配管７４の一端が開口するように設けるようにする。つまり、図１５ではスリット３２Ａのみに配管７４の一端を設ける例を示したが他のスリットにも同様に配管７４の一端を設ける。そして各配管７４の他端に接続された圧力計７５により、例えば搬送機構Ｆ６によるウエハＷの搬送中における各スリット３２Ａ、３２Ｂ、５３、６２の圧力を検出する。なお、これら配管７４及び圧力計７５は圧力検出部をなし、圧力計７５は圧力の検出値に相当する信号を判定機構に相当する制御部１０に送信する。そして、制御部１０は各圧力計７５からの検出値が予め設定された許容範囲内に収まるか否かを判定し、許容範囲内を外れたスリットが有ればその旨を所定の画面表示や音声出力によりユーザーに報知する。そのような構成とすることで、搬送路１３の雰囲気をより清浄に保ち、ウエハＷの歩留りの低下がより確実に防止される。

【0070】

なお、搬送機構Ｆ６の全てのスリットの圧力を監視することに限られず、一部のみのスリットの圧力を監視することで異常の有無を検出してもよい。また、圧力計７５によって検出される圧力は制御部１０を構成するモニタに表示され、異常の有無の判定は装置のユーザーが行ってもよい。

【0071】

ところで搬送機構Ｆ６について、単位ブロックＨ６に設けられるモジュールの配置によっては、フレーム５の直線移動距離Ｕ３よりも昇降台４の直線移動距離Ｕ２が大きくなることが考えられる。その場合には、左右駆動用ブロック６の筐体６１内よりもフレーム５の筐体５１内において大気の圧縮率が高くなるので、排気路６０において筐体５１の上流側での大気の滞留や逆流を抑制するために隙間Ｒ２は比較的大きくして、筐体５１内の密閉性を緩和する。その一方で筐体３１、５１については密閉性を高くして隙間Ｒ１、Ｒ３における大気の流速を高めてパーティクルの放出を抑制することが有効である。そのため隙間Ｒ１、Ｒ３の幅Ｌ１、Ｌ３よりも隙間Ｒ２の幅Ｌ２を大きくすることが好ましい。

【0072】

以上のことから隙間Ｒ２の幅Ｌ２と昇降台４とが対応し、隙間Ｒ３の幅Ｌ３とフレーム５とが対応しているとすると、幅Ｌ２、Ｌ３の関係としては直線移動距離Ｕ２、Ｕ３のうちの大きい方の直線移動距離を有する構成要素（昇降台４またはフレーム５）に対応する幅の方を大きくすることが有効である。また、幅Ｌ１も含めた幅Ｌ１～幅Ｌ３間の関係としては、直線移動距離Ｕ２、Ｕ３のうちの大きい方の直線移動距離を有する構成要素に対応する幅を最も大きくすることが好ましい。

【0073】

なお上記の例では排気路６０において、流路方向の３つの異なる位置にファンＢ１、Ｂ２、Ｂ３を夫々設けているが、そのように３つの異なる位置に設けることに限られない。例えば、基台３の筐体３１内にもファンを設けることで計４つの異なる位置にファンを設けるようにしてもよい。その場合においても、排気路６０の流路方向において同じ位置におけるファンはまとめて一つの排気機構として、排気路の下流側に設けられる排気機構の排気流量ほど大きくなるように各ファンを動作させればよい。また、排気機構としてはファンを用いることには限られず、ブロワなどにより構成してもよい。

【0074】

また、フレーム５は対応する駆動機構６３のガイドレール３４が直線状に形成されることで直線状に移動するが、例えばこのガイドレール３４が曲線状に形成されることで弧を描くように移動する構成であってもよい。フレーム５以外の他の構成部材についても同様に、直線状に移動する構成とされることには限られない。また、上記した各搬送機構は大気雰囲気で用いられることには限られず、窒素ガスなど他の種類の気体が存在する雰囲気で使用することができる。

【0075】

なお、基板の搬送対象であるモジュールの構成については任意であり、既述したレジスト塗布、現像を行うものの他に、例えばレジスト以外の膜を形成するもの、検査のためにウエハＷ表面を撮像するもの、ウエハＷの表面または裏面を洗浄するものなどのモジュールに対してウエハＷを搬送することができる。さらに、円形基板であるウエハＷの搬送を行うことには限られず、例えばフラットパネルディスプレイの製造用の基板などの角型の基板を搬送する搬送機構に本技術を適用してもよい。

【0076】

今回開示された実施形態は、全ての点で例示であって制限的なものではないと考えられるべきである。上記の実施形態は、添付の特許請求の範囲及びその趣旨を逸脱することなく、様々な形態で省略、置換、変更及び組み合わせがなされてもよい。

【符号の説明】

【0077】

Ｂ１、Ｂ２ ファン
Ｅｘ、Ｅｚ 排気流量
Ｆ６ 搬送機構
Ｒ１、Ｒ２ 隙間
Ｗ ウエハ
２ 保持部
３１、４１、５１ 筐体
３２Ａ、５５ スリット
３３Ａ、５４ 駆動機構
６０ 排気路

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】

【図6】

【図7】

【図8】

【図9】

【図10】

【図11】

【図12】

【図13】

【図14】

【図15】

【図16】