(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】公開特許公報(A)
(11)【公開番号】P2023093004
(43)【公開日】2023-07-04
(54)【発明の名称】真空蒸着装置、自転角度判定方法及び被蒸着物の製造方法
(51)【国際特許分類】
C23C 14/54 20060101AFI20230627BHJP
C23C 14/52 20060101ALI20230627BHJP
【ＦＩ】
C23C14/54 C
C23C14/52
【審査請求】未請求
【請求項の数】23
【出願形態】ＯＬ
(21)【出願番号】P 2021208370
(22)【出願日】2021-12-22
(71)【出願人】
【識別番号】000231464
【氏名又は名称】株式会社アルバック
(74)【代理人】
【識別番号】110003339
【氏名又は名称】弁理士法人南青山国際特許事務所
(72)【発明者】
【氏名】田中 美和
(72)【発明者】
【氏名】市川 竜弥
【テーマコード（参考）】
4K029
【Ｆターム（参考）】
4K029AA24
4K029CA01
4K029DA03
4K029DA10
4K029DA12
4K029DB21
4K029JA03
(57)【要約】
【課題】被蒸着物が自公転可能な真空蒸着装置において、被蒸着物の自転角度を正確に判定することができる技術を提供すること。
【解決手段】本技術に係る真空蒸着装置は、複数のホルダと、撮像部と、制御部とを具備する。前記複数のホルダは、蒸着物が蒸着される被蒸着物をそれぞれ保持可能であり、公転軸の周りをそれぞれ自転しながら公転可能とされる。前記撮像部は、被蒸着物を保持した前記複数のホルダのうち少なくとも１つのホルダを撮像可能とされる。前記制御部は、前記撮像部により撮像された画像に基づき、前記被蒸着物の自転角度を判定する。
【選択図】図１
【解決手段】本技術に係る真空蒸着装置は、複数のホルダと、撮像部と、制御部とを具備する。前記複数のホルダは、蒸着物が蒸着される被蒸着物をそれぞれ保持可能であり、公転軸の周りをそれぞれ自転しながら公転可能とされる。前記撮像部は、被蒸着物を保持した前記複数のホルダのうち少なくとも１つのホルダを撮像可能とされる。前記制御部は、前記撮像部により撮像された画像に基づき、前記被蒸着物の自転角度を判定する。
【選択図】図１
【特許請求の範囲】
【請求項1】
蒸着物が蒸着される被蒸着物をそれぞれ保持可能であり、公転軸の周りをそれぞれ自転しながら公転可能な複数のホルダと、
被蒸着物を保持した前記複数のホルダのうち少なくとも１つのホルダを撮像可能な撮像部と、
前記撮像部により撮像された画像に基づき、前記被蒸着物の自転角度を判定する制御部と
を具備する真空蒸着装置。
被蒸着物を保持した前記複数のホルダのうち少なくとも１つのホルダを撮像可能な撮像部と、
前記撮像部により撮像された画像に基づき、前記被蒸着物の自転角度を判定する制御部と
を具備する真空蒸着装置。
【請求項2】
請求項１に記載の真空蒸着装置であって、
前記制御部は、前記被蒸着物を自公転させながら被蒸着物に蒸着を行う動的蒸着モードと、前記被蒸着物を静止させて被蒸着物に蒸着を行う静的蒸着モードとを切り換える
をさらに具備する真空蒸着装置。
前記制御部は、前記被蒸着物を自公転させながら被蒸着物に蒸着を行う動的蒸着モードと、前記被蒸着物を静止させて被蒸着物に蒸着を行う静的蒸着モードとを切り換える
をさらに具備する真空蒸着装置。
【請求項3】
請求項２に記載の真空蒸着装置であって、
前記制御部は、前記静的蒸着モードにおいて、前記撮像部に撮像を行わせて前記被蒸着物の自転角度を判定する
真空蒸着装置。
前記制御部は、前記静的蒸着モードにおいて、前記撮像部に撮像を行わせて前記被蒸着物の自転角度を判定する
真空蒸着装置。
【請求項4】
請求項１～３のうちいずれか１項に記載の真空蒸着装置であって、
前記撮像部の画角は、前記ホルダが１回転自転したときに、前記ホルダが公転方向に移動する範囲を少なくとも含む
真空蒸着装置。
前記撮像部の画角は、前記ホルダが１回転自転したときに、前記ホルダが公転方向に移動する範囲を少なくとも含む
真空蒸着装置。
【請求項5】
請求項１～４のうちいずれか１項に記載の真空蒸着装置であって、
前記公転軸に垂直な方向の軸回りに前記ホルダを回動させて、前記被蒸着物に対する前記蒸着物の入射角度を調整する入射角度調整機構
をさらに具備する真空蒸着装置。
前記公転軸に垂直な方向の軸回りに前記ホルダを回動させて、前記被蒸着物に対する前記蒸着物の入射角度を調整する入射角度調整機構
をさらに具備する真空蒸着装置。
【請求項6】
請求項５に記載の真空蒸着装置であって、
前記撮像部の画角は、前記入射角度の調整による前記ホルダの回動により、前記ホルダが摂動方向に摂動したときの摂動範囲を少なくとも含む
真空蒸着装置。
前記撮像部の画角は、前記入射角度の調整による前記ホルダの回動により、前記ホルダが摂動方向に摂動したときの摂動範囲を少なくとも含む
真空蒸着装置。
【請求項7】
請求項１～６のうちいずれか１項に記載の真空蒸着装置であって、
前記ホルダは、前記被蒸着物の自転角度の判定のためのマークを有する
真空蒸着装置。
前記ホルダは、前記被蒸着物の自転角度の判定のためのマークを有する
真空蒸着装置。
【請求項8】
請求項７に記載の真空蒸着装置であって、
前記マークは、前記ホルダの自転軸から外れた位置に設けられ、前記ホルダの自公転に応じて、前記自転軸回りを回転する
真空蒸着装置。
前記マークは、前記ホルダの自転軸から外れた位置に設けられ、前記ホルダの自公転に応じて、前記自転軸回りを回転する
真空蒸着装置。
【請求項9】
請求項８に記載の真空蒸着装置であって、
前記ホルダは、フランジ部を有し、
前記マークは、フランジ部に設けられる
真空蒸着装置。
前記ホルダは、フランジ部を有し、
前記マークは、フランジ部に設けられる
真空蒸着装置。
【請求項10】
請求項９に記載の真空蒸着装置であって、
前記マークは、前記フランジ部を貫通する穴部である
真空蒸着装置。
前記マークは、前記フランジ部を貫通する穴部である
真空蒸着装置。
【請求項11】
請求項８～１０のうちいずれか１項に記載の真空蒸着装置であって、
前記制御部は、前記画像内におけるマークの位置及びホルダの中心位置に基づき、前記自転角度を判定する
真空蒸着装置。
前記制御部は、前記画像内におけるマークの位置及びホルダの中心位置に基づき、前記自転角度を判定する
真空蒸着装置。
【請求項12】
請求項１～１１のうちいずれか１項に記載の真空蒸着装置であって、
前記制御部は、前記画像内におけるホルダを、前記ホルダの正面から見たように補正する補正処理を実行し、補正処理後の画像に基づいて、前記自転角度を判定する
真空蒸着装置。
前記制御部は、前記画像内におけるホルダを、前記ホルダの正面から見たように補正する補正処理を実行し、補正処理後の画像に基づいて、前記自転角度を判定する
真空蒸着装置。
【請求項13】
請求項１～１２のうちいずれか１項に記載の真空蒸着装置であって、
真空チャンバと、
前記真空チャンバに設けられた第１の窓部とさらに具備し、
前記撮像部は、前記真空チャンバの外側から前記第１の窓部を介して前記ホルダを撮像する
真空蒸着装置。
真空チャンバと、
前記真空チャンバに設けられた第１の窓部とさらに具備し、
前記撮像部は、前記真空チャンバの外側から前記第１の窓部を介して前記ホルダを撮像する
真空蒸着装置。
【請求項14】
請求項１３に記載の真空蒸着装置であって、
前記第１の窓部に前記蒸着物が蒸着することを防止する第１の防着部
をさらに具備する真空蒸着装置。
前記第１の窓部に前記蒸着物が蒸着することを防止する第１の防着部
をさらに具備する真空蒸着装置。
【請求項15】
請求項１４に記載の真空蒸着装置であって、
前記第１の防着部は、前記真空チャンバの内部において、前記第１の窓部を遮蔽する遮蔽状態と、第１の窓部を露出させる露出状態とを切り換える第１のシャッタを含む
真空蒸着装置。
前記第１の防着部は、前記真空チャンバの内部において、前記第１の窓部を遮蔽する遮蔽状態と、第１の窓部を露出させる露出状態とを切り換える第１のシャッタを含む
真空蒸着装置。
【請求項16】
請求項１４又は１５に記載の真空蒸着装置であって、
前記第１の防着部は、前記真空チャンバの内部において、前記第１の窓部と前記蒸着物の蒸着源との間に介在された防着板を含む
真空蒸着装置。
前記第１の防着部は、前記真空チャンバの内部において、前記第１の窓部と前記蒸着物の蒸着源との間に介在された防着板を含む
真空蒸着装置。
【請求項17】
請求項１～１６のうちいずれか１項に記載の真空蒸着装置であって、
前記撮像部による撮像時に前記ホルダに対して光を照射する照明部
をさらに具備する真空蒸着装置。
前記撮像部による撮像時に前記ホルダに対して光を照射する照明部
をさらに具備する真空蒸着装置。
【請求項18】
請求項１７に記載の真空蒸着装置であって、
真空チャンバと、
前記真空チャンバに設けられた第２の窓部とさらに具備し、
前記照明部は、前記真空チャンバの外側から前記第２の窓部を介して前記ホルダに光を照射する
真空蒸着装置。
真空チャンバと、
前記真空チャンバに設けられた第２の窓部とさらに具備し、
前記照明部は、前記真空チャンバの外側から前記第２の窓部を介して前記ホルダに光を照射する
真空蒸着装置。
【請求項19】
請求項１８に記載の真空蒸着装置であって、
前記第２の窓部に前記蒸着物が蒸着することを防止する第２の防着部
をさらに具備する真空蒸着装置。
前記第２の窓部に前記蒸着物が蒸着することを防止する第２の防着部
をさらに具備する真空蒸着装置。
【請求項20】
請求項１９に記載の真空蒸着装置であって、
前記第２の防着部は、前記真空チャンバの内部において、前記第２の窓部を遮蔽する遮蔽状態と、第２の窓部を露出させる露出状態とを切り換える第２のシャッタを含む
真空蒸着装置。
前記第２の防着部は、前記真空チャンバの内部において、前記第２の窓部を遮蔽する遮蔽状態と、第２の窓部を露出させる露出状態とを切り換える第２のシャッタを含む
真空蒸着装置。
【請求項21】
請求項１～２０のうちいずれか１項に記載の真空蒸着装置であって、
前記複数のホルダにおける各自転軸を回転可能に支持し、前記公転軸回りを回転可能な回転体と、
前記ホルダに設けられ、前記ホルダによる自公転に応じて、前記自転軸回りを回転する目視用の第１のマークと、
前記回転体に設けられ、前記回転体による回転に応じて、前記公転軸回りを回転する目視用の第２のマークであって、前記ホルダが所定の自転角度となったときに前記目視用の第１のマークとその位置が一致する目視用の第２のマークと
をさらに具備する真空蒸着装置。
前記複数のホルダにおける各自転軸を回転可能に支持し、前記公転軸回りを回転可能な回転体と、
前記ホルダに設けられ、前記ホルダによる自公転に応じて、前記自転軸回りを回転する目視用の第１のマークと、
前記回転体に設けられ、前記回転体による回転に応じて、前記公転軸回りを回転する目視用の第２のマークであって、前記ホルダが所定の自転角度となったときに前記目視用の第１のマークとその位置が一致する目視用の第２のマークと
をさらに具備する真空蒸着装置。
【請求項22】
蒸着物が蒸着される被蒸着物をそれぞれ保持可能であり、公転軸の周りをそれぞれ自転しながら公転可能な複数のホルダにおいて、前記被蒸着物を保持した前記複数のホルダのうち少なくとも１つのホルダを撮像部により撮像し、
前記撮像部により撮像された画像に基づき、前記被蒸着物の自転角度を判定する
自転角度判定方法。
前記撮像部により撮像された画像に基づき、前記被蒸着物の自転角度を判定する
自転角度判定方法。
【請求項23】
蒸着物が蒸着される被蒸着物をそれぞれ保持可能であり、公転軸の周りをそれぞれ自転しながら公転可能な複数のホルダにおいて、前記被蒸着物を保持した前記複数のホルダのうち少なくとも１つのホルダを撮像部により撮像し、
前記撮像部により撮像された画像に基づき、前記被蒸着物の自転角度を判定し、
判定された前記被蒸着物の自転角度に基づき、前記被蒸着物に蒸着物を蒸着させる
蒸着物が蒸着された被蒸着物の製造方法。
前記撮像部により撮像された画像に基づき、前記被蒸着物の自転角度を判定し、
判定された前記被蒸着物の自転角度に基づき、前記被蒸着物に蒸着物を蒸着させる
蒸着物が蒸着された被蒸着物の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本技術は、真空蒸着装置などの技術に関する。
【背景技術】
【0002】
真空蒸着法は、真空中において、金属や酸化物などの蒸着材料を加熱して蒸発させ、その蒸気を基板等の被蒸着物に対して付着及び堆積させることで、被蒸着物に成膜を行う技術である。
【0003】
真空蒸着法の一種として、真空チャンバ内で基板などの被蒸着物を自公転させながら成膜を行う技術が知られている（例えば下記特許文献１参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0004】
【特許文献1】特開２００９－２６３７６２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0005】
被蒸着物が自公転可能な真空蒸着装置において、被蒸着物の自転角度を正確に判定することができる技術が求められている。
【0006】
以上のような事情に鑑み、本技術の目的は、被蒸着物が自公転可能な真空蒸着装置において、被蒸着物の自転角度を正確に判定することができる技術を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【0007】
本技術に係る真空蒸着装置は、複数のホルダと、撮像部と、制御部とを具備する。
前記複数のホルダは、蒸着物が蒸着される被蒸着物をそれぞれ保持可能であり、公転軸の周りをそれぞれ自転しながら公転可能とされる。
前記撮像部は、被蒸着物を保持した前記複数のホルダのうち少なくとも１つのホルダを撮像可能とされる。
前記制御部は、前記撮像部により撮像された画像に基づき、前記被蒸着物の自転角度を判定する。
前記複数のホルダは、蒸着物が蒸着される被蒸着物をそれぞれ保持可能であり、公転軸の周りをそれぞれ自転しながら公転可能とされる。
前記撮像部は、被蒸着物を保持した前記複数のホルダのうち少なくとも１つのホルダを撮像可能とされる。
前記制御部は、前記撮像部により撮像された画像に基づき、前記被蒸着物の自転角度を判定する。
【0008】
これにより、被蒸着物が自公転可能な真空蒸着装置において、被蒸着物の自転角度を正確に判定することができる。
【0009】
上記真空蒸着装置において、前記制御部は、前記被蒸着物を自公転させながら被蒸着物に蒸着を行う動的蒸着モードと、前記被蒸着物を静止させて被蒸着物に蒸着を行う静的蒸着モードとを切り換えてもよい。
【0010】
上記真空蒸着装置において、前記制御部は、前記静的蒸着モードにおいて、前記撮像部に撮像を行わせて前記被蒸着物の自転角度を判定してもよい。
【0011】
上記真空蒸着装置において、前記撮像部の画角は、前記ホルダが１回転自転したときに、前記ホルダが公転方向に移動する範囲を少なくとも含んでいてもよい。
【0012】
上記真空蒸着装置において、前記公転軸に垂直な方向の軸回りに前記ホルダを回動させて、前記被蒸着物に対する前記蒸着物の入射角度を調整する入射角度調整機構をさらに具備していてもよい。
【0013】
上記真空蒸着装置において、前記撮像部の画角は、前記入射角度の調整による前記ホルダの回動により、前記ホルダが摂動方向に摂動したときの摂動範囲を少なくとも含んでいてもよい。
【0014】
上記真空蒸着装置において、前記ホルダは、前記被蒸着物の自転角度の判定のためのマークを有していてもよい。
【0015】
上記真空蒸着装置において、前記マークは、前記ホルダの自転軸から外れた位置に設けられ、前記ホルダの自公転に応じて、前記自転軸回りを回転してもよい。
【0016】
上記真空蒸着装置において、前記ホルダは、フランジ部を有し、前記マークは、フランジ部に設けられてもよい。
【0017】
上記真空蒸着装置において、前記マークは、前記フランジ部を貫通する穴部であってもよい。
【0018】
上記真空蒸着装置において、前記制御部は、前記画像内におけるマークの位置及びホルダの中心位置に基づき、前記自転角度を判定してもよい。
【0019】
上記真空蒸着装置において、前記制御部は、前記画像内におけるホルダを、前記ホルダの正面から見たように補正する補正処理を実行し、補正処理後の画像に基づいて、前記自転角度を判定してもよい。
【0020】
上記真空蒸着装置において、真空チャンバと、前記真空チャンバに設けられた第１の窓部とさらに具備し、前記撮像部は、前記真空チャンバの外側から前記第１の窓部を介して前記ホルダを撮像してもよい。
【0021】
上記真空蒸着装置において、前記第１の窓部に前記蒸着物が蒸着することを防止する第１の防着部をさらに具備していてもよい。
【0022】
上記真空蒸着装置において、前記第１の防着部は、前記真空チャンバの内部において、前記第１の窓部を遮蔽する遮蔽状態と、第１の窓部を露出させる露出状態とを切り換える第１のシャッタを含んでいてもよい。
【0023】
上記真空蒸着装置において、前記第１の防着部は、前記真空チャンバの内部において、前記第１の窓部と前記蒸着物の蒸着源との間に介在された防着板を含んでいてもよい。
【0024】
上記真空蒸着装置において、前記撮像部による撮像時に前記ホルダに対して光を照射する照明部をさらに具備していてもよい。
【0025】
上記真空蒸着装置において、真空チャンバと、前記真空チャンバに設けられた第２の窓部とさらに具備し、前記照明部は、前記真空チャンバの外側から前記第２の窓部を介して前記ホルダに光を照射してもよい。
【0026】
上記真空蒸着装置において、前記第２の窓部に前記蒸着物が蒸着することを防止する第２の防着部をさらに具備していてもよい。
【0027】
上記真空蒸着装置において、前記第２の防着部は、前記真空チャンバの内部において、前記第２の窓部を遮蔽する遮蔽状態と、第２の窓部を露出させる露出状態とを切り換える第２のシャッタを含んでいてもよい。
【0028】
上記真空蒸着装置において、前記複数のホルダにおける各自転軸を回転可能に支持し、前記公転軸回りを回転可能な回転体と、前記ホルダに設けられ、前記ホルダによる自公転に応じて、前記自転軸回りを回転する目視用の第１のマークと、前記回転体に設けられ、前記回転体による回転に応じて、前記公転軸回りを回転する目視用の第２のマークであって、前記ホルダが所定の自転角度となったときに前記目視用の第１のマークとその位置が一致する目視用の第２のマークとをさらに具備していてもよい。
【0029】
本技術に係る自転角度判定方法は、蒸着物が蒸着される被蒸着物をそれぞれ保持可能であり、公転軸の周りをそれぞれ自転しながら公転可能な複数のホルダにおいて、前記被蒸着物を保持した前記複数のホルダのうち少なくとも１つのホルダを撮像部により撮像し、
前記撮像部により撮像された画像に基づき、前記被蒸着物の自転角度を判定する。
前記撮像部により撮像された画像に基づき、前記被蒸着物の自転角度を判定する。
【0030】
本技術に係る蒸着物が蒸着された被蒸着物の製造方法は、蒸着物が蒸着される被蒸着物をそれぞれ保持可能であり、公転軸の周りをそれぞれ自転しながら公転可能な複数のホルダにおいて、前記被蒸着物を保持した前記複数のホルダのうち少なくとも１つのホルダを撮像部により撮像し、前記撮像部により撮像された画像に基づき、前記被蒸着物の自転角度を判定し、判定された前記被蒸着物の自転角度に基づき、被蒸着物に蒸着物を蒸着させる。
【発明の効果】
【0031】
以上のように、本技術によれば、被蒸着物が自公転可能な真空蒸着装置において、被蒸着物の自転角度を正確に判定することができる技術を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【0032】
【図1】本技術の一実施形態に係る真空蒸着装置を示す模式的な側面図である。
【図2】真空蒸着装置の内部において、その上部を上側からみた模式図である模式図である。
【図3A】各ホルダ及び各ウェハが自公転しているときの様子を上側から見た図である。
【図3B】各ホルダ及び各ウェハが自公転しているときの様子を上側から見た図である。
【図4】撮像対象ホルダを示す分解斜視図である。
【図5】撮像対象ホルダにおける筒部及びフランジ部を上側から見た図である。
【図6】撮像対象ホルダにおける他の例を示す図である。
【図7】第１のシャッタ及び第２のシャッタを正面側から見た図である。
【図8】撮像部による画角を説明するための図であり、撮像部による画像上での撮像対象ホルダ及びウェハの動きを示す図である。
【図9】撮像部による画角と、第１のシャッタ及び第２のシャッタとの関係を示す図である。
【図10】撮像部による画角と、防着板との関係を示す図である。
【図11】制御装置における制御部の処理を示すフローチャートである。
【図12】補正処理を説明するための図である。
【図13】補正処理を予め記憶させる方法の一例を示す図である。
【図14】撮像対象ホルダの自転角度がそれぞれ０°、３０°、６０°、９０°、１２０°、１５０°、１８０°、２１０°、２４０°、２７０°、３００°、３３０°である場合における補正処理後の画像を示す図である。
【図15】ホルダ及びウェハの自転角度を判定するときの処理を示す図である。
【図16】真空蒸着装置の内部において、その上部を上側からみた模式図であり、目視用のマークを示す図である。
【発明を実施するための形態】
【0033】
以下、本技術に係る実施形態を、図面を参照しながら説明する。
【0034】
≪第１実施形態≫
＜真空蒸着装置１００の全体構成＞
図１は、本技術の一実施形態に係る真空蒸着装置１００を示す模式的な側面図である。図２は、真空蒸着装置１００の内部において、その上部を上側からみた模式図である。図１に示すように、真空蒸着装置１００は、真空容器としての真空チャンバ２０を備えている。
＜真空蒸着装置１００の全体構成＞
図１は、本技術の一実施形態に係る真空蒸着装置１００を示す模式的な側面図である。図２は、真空蒸着装置１００の内部において、その上部を上側からみた模式図である。図１に示すように、真空蒸着装置１００は、真空容器としての真空チャンバ２０を備えている。
【0035】
真空チャンバ２０の内部において、その上側には、ウェハ１（被蒸着物）をそれぞれ保持可能な複数のホルダ１０と、各ホルダ１０にそれぞれ固定された自転軸２１と、各自転軸２１にそれぞれ固定された自転用歯車２２とが配置されている。
【0036】
また、真空チャンバ２０の内部において、その上側には、ホルダ１０の自転軸２１を回転可能に支持することが可能であり、公転軸２３を中心軸として回転可能な回転体２４と、ホルダ１０の自転用歯車２２と噛み合う固定歯車２６とが配置されている。
【0037】
ここで、図２において、回転体２４の下側のホルダ１０や、ホルダ１０の下側に保持されるウェハ１等は、回転体２４の下側、ホルダ１０下側等に隠れて本来見えないが、本実施形態を理解しやすいように、図２では、ホルダ１０及びウェハ１等を実線で図示している。これについては、後述の図３Ａ、図３Ｂ、及び図１６においても同様である。
【0038】
また、真空チャンバ２０の内部において、その下側には、蒸着源としての蒸着材料を貯蔵する坩堝３１と、坩堝３１内の蒸着材料に対して電子ビームを照射することで、蒸着材料を加熱する電子ビーム装置３２とが配置されている。
【0039】
また、真空チャンバ２０の内部において、その下側には、坩堝３１及び電子ビーム装置３２を覆うように設けられた隔壁３３と、隔壁３３に設けられた開口を開閉可能な蒸着源用シャッタ３４とが配置される。
【0040】
また、真空チャンバ２０の外部には、真空チャンバ２０の内部を真空排気する真空ポンプ４１が設けられている。また、真空チャンバ２０の外部には、ウェハ１を保持した複数のホルダ１０のうち少なくも１つのホルダ１０を撮像可能な撮像部４３と、撮像部４３による撮像時に撮像対象となるホルダ１０（及びウェハ１）に対して光を照射する照明部４４とが設けられている。
【0041】
また、真空チャンバ２０の外部には、撮像部４３により撮像された画像を表示する表示部４５と、真空蒸着装置１００の各部を統括的に制御する制御装置４６とが設けられている。
【0042】
また、真空チャンバ２０を構成する外壁部において、撮像部４３に対応する位置には第１の窓部４７が設けられており、照明部４４に対応する位置には第２の窓部４８が設けられている。
【0043】
真空チャンバ２０内部において、第１の窓部４７に対応する位置には、第１の窓部４７に蒸着物が付着及び堆積してしまうことを防止するための第１の防着部５１が設けられている。第１の防着部５１は、第１のシャッタ５３と、防着板５４とを含む。
【0044】
真空チャンバ２０の内部において、第２の窓部４８に対応する位置には、第２の窓部４８に蒸着物が付着及び堆積してしまうことを防止するための第２の防着部５２が設けられている。第２の防着部５２は、第２のシャッタ５５を含む（防着板を含んでいてもよい）。
【0045】
＜真空蒸着装置１００の各部の構成の詳細＞
固定歯車２６は、円盤状に構成された外歯車であり、その外周面の下側には、ホルダ１０の自転用歯車２２と噛み合う複数の歯部が形成されている。真空チャンバ２０内部において、その天面部には複数の支柱２７が固定されており、固定歯車２６は、これらの支柱２７の下端部に固定されている。また、固定歯車２６の中心位置には、公転軸２３を挿通させるための貫通口が設けられている。
固定歯車２６は、円盤状に構成された外歯車であり、その外周面の下側には、ホルダ１０の自転用歯車２２と噛み合う複数の歯部が形成されている。真空チャンバ２０内部において、その天面部には複数の支柱２７が固定されており、固定歯車２６は、これらの支柱２７の下端部に固定されている。また、固定歯車２６の中心位置には、公転軸２３を挿通させるための貫通口が設けられている。
【0046】
公転軸２３は、上下方向（Ｚ軸方向）の軸であり、真空チャンバ２０の内外に挿通している。公転軸２３は、回転導入器６２を介して真空チャンバ２０の天面部に回転可能に軸支されている。回転導入器６２は、フェローシール等により構成されており、公転軸２３を回転可能に支持しつつ、真空チャンバ２０内の気密性を保持することが可能とされている。公転軸２３の上端部側は、モータ６１に連結されており、公転軸２３の下端部側は、回転体２４の中心位置に固定されている。
【0047】
モータ６１は、制御装置４６（制御部）からの指令に応じて駆動し、その駆動により公転軸２３を回転させる。モータ６１に対してロータリエンコーダ等の回転角検出器が設けられていてもよく、この場合、回転角検出器による回転角の情報は、制御装置４６に対してフィードバックされる。
【0048】
回転体２４は、複数のホルダ１０における各自転軸２１を回転可能に軸支することが可能とされており、また、公転軸２３を中心軸として回転可能とされている。回転体２４は、円盤状に構成されており、その中心位置が公転軸２３の下端部に固定されている。また、回転体２４は、径方向の外周側において、周方向に均等な間隔で、各ホルダ１０の自転軸２１を回転可能に軸支している。
【0049】
回転体２４において、ホルダ１０の自転軸２１を軸支する箇所よりも径方向の内側の位置には、入射角度調整機構２５が設けられている。入射角度調整機構２５は、公転軸２３に垂直な方向の軸回りにホルダ１０を回動させて、ウェハ１に対する蒸着物の入射角度を調整する。入射角度は、上下方向（Ｚ軸方向）に対してホルダ１０の下面及びウェハ１の表面がなす角度である。
【0050】
入射角度調整機構２５は、例えば、ヒンジ機構等により構成される。入射角度調整機構２５による入射角度の調整は、モータ等により自動で行われてもよいし、手動で行われてもよい。各ウェハ１における入射角度は、典型的には、各ウェハ１で共通の角度とされるが、一部のウェハ１における入射角度を他のウェハ１の入射角度とは異なるように設定することもできる。
【0051】
自転軸２１は、回転体２４に回転可能に軸支されている。自転軸２１の上端部側は、自転用歯車２２の回転中心に固定されており、自転軸２１の下端部側は、ホルダ１０の回転中心に固定されている。
【0052】
自転用歯車２２は、円盤状に構成された外歯車であり、その外周面には、固定自転用歯車２２と噛み合う複数の歯部が形成されている。固定歯車２６及び自転用歯車２２は、入射角度調整機構２５によりホルダ１０が回動したとしてもそれぞれの歯部が適切に噛み合うように設計されている。
【0053】
ここで、本実施形態におけるホルダ１０の回動のための構成（入射角調整機構２５、ホルダ回動時の固定歯車２５、自転用歯車２２の噛み合わせ構造等）は、自転軸２１へ適切な駆動力が供せられる状態を保ちつつ、ウェハ１に対する蒸着物の入射角度を調整及び固定できる構成であれば、どのような構成であっても構わない。
【0054】
複数のホルダ１０は、ウェハ１をそれぞれ保持可能であり、公転軸２３の周りをそれぞれ自転しながら公転可能とされている。
【0055】
ウェハ１は、蒸着物が蒸着される被蒸着物の一例である。被蒸着物は、蒸着物が蒸着される対象物であればどのようなものであっても構わない。ウェハ１は、円盤状に構成されており、一部にオリエンテーション・フラット（以下、省略してオリフラと呼ぶ）による直線的な切り欠きを有している。
【0056】
また、本実施形態においては、ウェハ１には、その表面において特定の角度方向に延在する不図示の突起部又は溝部（あるいはこれらの両方）が設けられており、ウェハ１の表面だけでなく、突起部（特に、一方向に延在する側面）又は溝部（特に、一方向に延在する内壁面）に対しても蒸着物が蒸着される。
【0057】
図３Ａ及び図３Ｂは、各ホルダ１０及び各ウェハ１が自公転しているときの様子を上側から見た図である。図２及び図３を参照して、複数のホルダ１０は、周方向に一定の間隔（６０°）で配置されており、この一定の間隔を保ったまま、公転軸２３の周りを自転しながら公転する。図に示す例では、ホルダ１０の数が６つ（６０°間隔）である場合の一例が示されているが、ホルダ１０の数については、特に限定されず、適宜変更することができる。
【0058】
各ホルダ１０（各ウェハ１）が自公転するときの公転速度、及び自転速度は、各ホルダ１０（各ウェハ１）において共通である。本実施形態において、各ホルダ１０（各ウェハ１）の公転方向は、上側からみて反時計回りである（下側（ホルダ１０の正面側）から見て時計回り）。また、各ホルダ１０（各ウェハ１）の自転方向は、上側から見て反時計回りである（下側（ホルダ１０の正面側）から見て時計回り）。なお、自公転の回転方向は、逆であってもよい。
【0059】
図３Ａ及び図３Ｂを参照して、各ホルダ１０及び各ウェハ１における公転角度及び自転角度について説明する。各ホルダ１０及び各ウェハ１における公転角度は、真空チャンバ２０基準の座標系において、１２時の位置が０°とされており、反時計回り（上側から見て）の方向が、角度が増える方向とされている。各ホルダ１０及び各ウェハ１における自転角度は、公転軸２３を基準としたオリフラの角度に基づき設定されており、反時計回り（上側から見て）の方向が、角度が増える方向とされている。
【0060】
図３Ａの上側の図には、各ホルダ１０及び各ウェハ１における公転角度が０°、６０°、１２０°、１８０°、２４０°であり、自転角度が０°であるときの様子が示されている。各ホルダ１０及び各ウェハ１において、自転角度が０°となるのは、公転軸２３の中心と、自転軸２１の中心（ホルダ１０及びウェハ１の中心）とを結んだ直線が、オリフラによる直線と直交する状態であって、かつ、オリフラが自転軸２１よりも径方向の外側になる状態である。
【0061】
図３Ａの中央の図には、各ホルダ１０及び各ウェハ１における公転角度が１５°、７５°、１３５°、１９５°、２５５°、３１５°であり、自転角度が９０°であるときの様子が示されている。各ホルダ１０及び各ウェハ１において、自転角度が９０°となるのは、公転軸２３の中心と、自転軸２１の中心（ホルダ１０及びウェハ１の中心）とを結んだ直線が、オリフラによる直線と平行な状態であって、かつ、オリフラが自転軸２１よりも左側（上側から見て）になる状態である。
【0062】
図３Ａの下側の図には、各ホルダ１０及び各ウェハ１における公転角度が３０°、９０°、１５０°、２１０°、２７０°、３３０°であり、自転角度が１８０°であるときの様子が示されている。各ホルダ１０及び各ウェハ１において、自転角度が１８０°となるのは、公転軸２３の中心と、自転軸２１の中心（ホルダ１０及びウェハ１の中心）とを結んだ直線が、オリフラによる直線と直交する状態であって、かつ、オリフラが自転軸２１よりも径方向の内側になる状態である。
【0063】
図３Ｂの上側の図には、各ホルダ１０及び各ウェハ１における公転角度が４５°、１０５°、１６５°、２２５°、２８５°、３４５°であり、自転角度が２７０°であるときの様子が示されている。各ホルダ１０及び各ウェハ１において、自転角度が２７０°となるのは、公転軸２３の中心と、自転軸２１の中心（ホルダ１０及びウェハ１の中心）とを結んだ直線が、オリフラによる直線と平行な状態であって、かつ、オリフラが自転軸２１よりも右側（上側から見て）になる状態である。
【0064】
図３Ｂの下側の図には、各ホルダ１０及び各ウェハ１における公転角度が６０°、１２０°、１８０°、２４０°、３００°、３６０°であり、自転角度が３６０°であるときの様子が示されている。各ホルダ１０及び各ウェハ１において、自転角度が３６０°となるのは、公転軸２３の中心と、自転軸２１の中心（ホルダ１０及びウェハ１の中心）とを結んだ直線が、オリフラによる直線と直交する状態であって、かつ、オリフラが自転軸２１よりも径方向の外側になる状態である。つまり、自転角度３６０°は、自転角度０°と同じである。
【0065】
図３から理解されるように、各ホルダ１０及び各ウェハ１における自転角度は、公転運動に応じて変わるが、その自転角度は、各ホルダ１０及び各ウェハ１で共通である。
【0066】
図３に示す例では、各ホルダ１０及び各ウェハ１が一回転（３６０°）自転したとき、各ホルダ１０及び各ウェハ１が６０°ずつ公転するように設計されている。一方、各ホルダ１０及び各ウェハ１が一回転（３６０°）自転したときに、各ホルダ１０及び各ウェハ１が公転する角度は、６０°に限られず適宜変更可能である。
【0067】
なお、本実施形態では、各ホルダ１０及び各ウェハ１が一回転（３６０°）自転したときに各ホルダ１０及び各ウェハ１が公転する角度（６０°）は、各ホルダ１０における周方向での間隔（６０°）と一致するように設計されている。
【0068】
なお、これらの角度については、必ずしも一致していなくてもよい。この場合には、モータ６１のパルス制御による、各ホルダ１０及び各ウェハ１の原点位置（後述）への位置合わせは行われず、撮像部４３により撮像されたホルダ１０及びウェハ１の画像に基づいてその位置合わせが行われる。
【0069】
図２及び図３において、撮像部４３による撮像対象となるホルダ１０が黒の円で強調表示されている。本実施形態では、撮像対象となるホルダ１０が１つ決まっている。この撮像対象となるホルダ１０は、真空チャンバ２０基準の座標系において、原点の基準となるホルダ１０（図２、図３Ａの上側において、１２時の位置のホルダ１０）が公転角度０°に位置するときに、公転角度６０°に位置するホルダ１０である。
【0070】
なお、以降の説明において、撮像対象となるホルダ１０を他のホルダ１０と区別する場合には、そのホルダ１０を撮像対象ホルダ１０ａと呼ぶ。また、以降の説明では、真空チャンバ２０基準の座標系において、原点の基準となるホルダ１０（図２、図３Ａの上側において、１２時の位置のホルダ１０）が公転角度０°、自転角度０°となり、撮像対象ホルダ１０ａが公転角度６０°、自転角度０°となる位置を原点位置と呼ぶ（図２及び図３Ａの上側参照）。
【0071】
【0072】
図４及び図５に示すように、撮像対象ホルダ１０ａは、筒部１１と、筒部１１の下側に固定されたフランジ部１２と、ヒートシンク１３とを有している。また、ホルダ１０は、筒部１１との間でウェハ１及びヒートシンク１３を挟み込んで固定する蓋部１４と、蓋部１４の中心に固定された軸部１５とを有している。
【0073】
筒部１１は、筒体１１ａと、筒体１１ａの下側に設けられた底部１１ｂとを有している。筒体１１ａは、円筒状に構成されており、内部にウェハ１及びヒートシンク１３を収納可能とされる。
【0074】
筒部１１の底部１１ｂには、ウェハ１をはめ込むためのはめ込み溝１１ｃが形成されており、このはめ込み溝１１ｃの下側の位置には、ウェハ１を下側から露出させるための露出口１１ｄが設けられている。
【0075】
はめ込み溝１１ｃは、ウェハ１の外形（ＸＹ方向）と同様の形状（円形で一部が直線的な形状）を有しており、ウェハ１よりも若干大きなサイズとされている。また、露出口１１ｄは、ウェハ１の外形（ＸＹ方向）と同様の形状（円形で一部が直線的な形状）を有しており、ウェハ１よりも若干小さはサイズとされている。
【0076】
筒体１１ａの上側には、周方向に所定の間隔で３つの係止部３が設けられている。３つの係止部３は、それぞれＬ字状に構成されており、蓋部１４に設けられた３つの突起１４ａを係止可能とされている。
【0077】
係止部３は、第１の係止部３ａ、第２の係止部３ｂ及び第３の係止部３ｃを含む。第１の係止部３ａ及び第２の係止部３ｂは、オリフラに対応する側に設けられており、第３の係止部は、オリフラとは反対側に設けられている。
【0078】
本実施形態において、第１の係止部３ａ及び第２の係止部３ｂの周方向での間隔は、１１０°とされている。また、第２の係止部３ｂ及び第３の係止部３ｃの周方向での間隔は、１２５°とされており、第３の係止部３ｃ及び第１の係止部３ａの周方向での間隔は、１２５°とされている。
【0079】
つまり、本実施形態では、複数の係止部３の間における周方向での間隔のうち、少なくとも１つの間隔が他の間隔とは異なっている。これにより、ウェハ１をホルダにセットするときに、常に同じ向きにウェハ１をセットすることができる（例えば、原点位置においてウェハ１を自転角度０°でセットできる）。なお、複数の係止部３の間における周方向での間隔を全て同じ間隔（等間隔）とすることもできる（突起１４ａにおいて同様）。
【0080】
ここでの例では、係止部３の数が３つである場合について説明したが、係止部３の数についてはこれに限られず、適宜変更可能である（突起１４ａにおいて同様）。
【0081】
フランジ部１２は、円環状であり、筒部１１よりもその外径が大きく形成されている。フランジ部１２には、上下方向に貫通する穴部２が設けられている。この穴部２は、ホルダ１０及びウェハ１における自転角度を判定するための基準とされるマークである。
【0082】
穴部２は、自転軸２１の中心（ホルダ１０及びウェハ１の中心）を通り、かつ、ウェハ１のオリフラによる直線の中心を通る直線上に配置される。穴部２は、撮像対象ホルダ１０ａの自転軸２１から外れた位置に設けられており、撮像対象ホルダ１０ａの自公転に応じて、自転軸２１回りを回転する。
【0083】
図に示す例では、穴部２の形状が円形とされているが、この形状については適宜変更可能である。なお、穴部２のその他の形状としては、楕円、多角形（△、□、☆）、×印、＋印等が挙げられる。なお、典型的には、穴部２の直上には、光を反射するような構造物は配置されない。つまり、穴部２を介して背面側の回転体２４が見える状態となる。これにより、撮像部４３により撮像された画像内において、穴部２と他の部分とのコントラストを大きくすることができる。
【0084】
ヒートシンク１３は、ウェハ１の上側に配置され、蒸着時におけるウェハ１による熱を外部へと放出する。なお、ヒートシンク１３は省略されてもよい。
【0085】
蓋部１４は、円盤状に構成されており、その外径が筒部１１の内径よりも若干小さく構成されている。蓋部１４の外周面には、その外周面から径方向の外側に向けて突出する３つの突起１４ａが設けられている。３つ突起１４ａは周方向に沿って所定の間隔（３つの係止部３と同じ間隔：１１０°、１２５°、１２５°）で形成されている。３つの突起１４ａは、３つのＬ字状の係止部３に対して上側からはまり込んだ後に、軸回りに回転されることで、３つの係止部３により係止される。
【0086】
軸部１５は、蓋部１４の上側において、蓋部１４の中心位置に固定されている。軸部１５は、自転軸２１の下側を構成する部材である。軸部１５は、その上側に嵌合部１５ａを有している。嵌合部１５ａは、自転軸２１の上側を構成する部材（不図示）と嵌合可能に構成されている。嵌合部１５ａが嵌合することにより、自転軸２１の下側を構成する部材である軸部１５と、自転軸２１の上側を構成する部材とが嵌合し、これにより、一体的な自転軸２１が構成される。
【0087】
ここで、撮像対象ホルダ１０ａとそれ以外のホルダ１０の違いは、撮像対象ホルダ１０ａ以外のホルダ１０にはフランジ部１２及び穴部２が設けられていない点である。なお、全てのホルダ１０に対してフランジ部１２及び穴部２が設けられていてもよい。
【0088】
図６は、撮像対象ホルダ１０ａにおける他の例を示す図である。図６に示す例では、フランジ部１２が省略されている。また、図６に示す例では、穴部２は、筒部１１の底部１１ｂを上下方向に貫通するように設けられている。
【0089】
穴部２は、図４及び図５に示す例と同様に、自転軸２１の中心（ホルダ１０及びウェハ１の中心）を通り、かつ、ウェハ１のオリフラによる直線の中心を通る直線上に配置される。また、穴部２は、撮像対象ホルダ１０ａの自転軸２１から外れた位置に設けられており、撮像対象ホルダ１０ａの自公転に応じて、自転軸２１回りを回転する。
【0090】
また、例えば、図４及び図５に示す例において、筒部１１の筒体１１ａの厚さ（径方向）が厚くされて、筒体１１ａの外径がフランジ部１２の外径の位置まで広げられてもよい（この場合、フランジ部１２は省略される）。この場合、筒体１１ａに対して穴部２が設けられてもよい。
【0091】
再び図１を参照して、真空チャンバ２０の内部において、その下側には、蒸着源としての蒸着材料を貯蔵する坩堝３１が配置されている。坩堝３１は、公転軸２３の真下の位置に配置される。坩堝３１は、複数の坩堝３１がレボルバーにより切り替えられるタイプであってもよい。この場合、例えば、坩堝３１内の蒸着材料が少なくなった場合や、蒸着材料を異なる材料へと切り替える場合等に、レボルバーにより坩堝３１が切り替えられる。
【0092】
電子ビーム装置３２は、坩堝３１の近傍に配置されている。電子ビーム装置３２は、坩堝３１内の蒸着材料に対して電子ビームを照射することで、蒸着材料を加熱し、蒸着材料を蒸発させる。
【0093】
電子ビーム装置３２は、ケーブル６４を介して電源６３に電気的に接続されている。ケーブル６４は、電流導入器６５を介して、真空チャンバ２０の内外に挿通している。電流導入器６５は、ケーブル６４を真空チャンバ２０の内外に挿通させつつ、真空チャンバ２０内の気密性を保持することが可能とされている。電源６３は、制御装置４６に電気的に接続されており、制御装置４６の指令により電子ビーム装置３２に対して電力を供給して電子ビーム装置３２から電子ビームを出射させる。
【0094】
なお、図に示す例では、蒸着の方式として、電子ビーム方式が用いられているが、蒸着の方式は、抵抗加熱方式、高周波誘導方式、レーザ式、あるいは、２以上の方式の切り替え式等であってもよく、その方式は特に限定されない。
【0095】
隔壁３３は、坩堝３１及び電子ビーム装置３２を覆うように設けられており、真空チャンバ２０内部の空間を上側の第１の空間（ウェハ１側）と、下側の第２の空間（蒸着源側）に区分する。
【0096】
隔壁３３において、その上部には、第１の窓部４７に対応する位置に防着板５４が設けられている。防着板５４は、真空チャンバ２０の内部において、第１の窓部４７と蒸着物の蒸着源との間に介在される。防着板５４は、樹脂又は金属などの材料により構成された平板状の部材であり、第１の窓部４７に蒸着物が付着及び堆積することを防止する。防着板５４は、上下方向（Ｚ軸方向）に対して所定の角度傾斜して配置される。
【0097】
なお、第２の窓部４８に対応する位置に、第２の窓部４８に蒸着物が付着及び堆積することを防止するための防着板が設けられていてもよい。この防着板は、真空チャンバの内部において、第２の窓部４８と蒸着物の蒸着源との間に介在される。
【0098】
また、隔壁３３において、坩堝３１に対応する位置には、開口が設けられている。蒸着源用シャッタ３４は、隔壁３３に設けられた開口の開閉状態を切り換え可能とされる。蒸着源用シャッタ３４は、蒸着材料の加熱の開始直後においては、開口を閉じた状態とし、蒸着材料の蒸発が安定したタイミングで、開口を開放してウェハ１に対する蒸着を開始させる。
【0099】
蒸着源用シャッタ３４は、モータなどのアクチュータ６６の駆動軸６７に固定されている。駆動軸６７は、回転導入器６８を介して真空チャンバ２０の底部に回転可能に軸支されている。回転導入器６８は、フェローシール等により構成されており、駆動軸６７を回転可能に支持しつつ、真空チャンバ２０内の気密性を保持することが可能とされている。
【0100】
アクチュエータ６８は、制御装置４６に電気的に接続されており、制御装置４６の指令により駆動軸６７を駆動させることで、蒸着源用シャッタ３４を駆動させ、隔壁３３における開口の開閉状態を切り換える。
【0101】
真空ポンプ４１は、排気管４２を介して真空チャンバ２０の内部と連結されており、真空チャンバ２０の内部を真空排気することが可能とされている。真空ポンプ４１は、制御装置４６と電気的に接続されており、制御装置４６の指令に応じて、真空チャンバ２０を真空排気する。
【0102】
表示部４５は、例えば、液晶ディスプレイ等により構成され、撮像部４３により撮像された画像（静止画、動画を含む）等を制御部（画像処理部）の指令に応じて表示させる。表示部４５は、例えば、真空チャンバ２０の側壁部の外部において、ユーザが見やすい位置に固定される。
【0103】
撮像部４３は、制御部（画像処理部）の指令に応じて、第１の窓部４７を介して複数のホルダ１０（及び複数のウェハ１）のうち、少なくとも１つのホルダ１０（及びウェハ１）を撮像する。本実施形態では、撮像部４３は、複数のホルダ１０のうち１つのホルダ１０（ウェハ１）を撮像するように構成されている。なお、図２及び図３において、撮像対象ホルダ１０ａは黒い円で強調表示されている。
【0104】
【0105】
照明部４４は、撮像部４３による撮像時において、制御部（画像処理部）の指令に応じて、第２の窓部４８を介して撮像対象ホルダ１０ａ（及びウェハ１）に対して光を照射する。照明部４４の投光軸は、例えば、上下方向（Ｚ軸方向）に対して、４５°～９０°程度とされる。
【0106】
図１に示す例では、照明部４４による投光軸が撮像部４３による受光軸よりも上側（ウェハ１側）に配置されているが、受光軸が投光軸よりも上側（ウェハ１側）に配置されていてもよい。つまり、撮像部４３が照明部４４よりも上側に配置されていてもよい。
【0107】
また、図１に示す例では、撮像部４３による受光軸が照明部４４による投光軸と異なっているが、受光軸及び投光軸が一致していてもよい。つまり、撮像部４３及び照明部４４が同じ位置に配置されていてもよい。撮像部４３及び照明部４４が同じ位置に配置される場合、第２の窓部４８、第２のシャッタ５５（及び対応する防着板）を省略することもできる。
【0108】
なお、照明部４４は、省略することもできる（例えば、真空チャンバ２０に設けられた窓部４７、４８や、その他の窓部（ユーザが内部の様子を見るための窓部等）から十分に光が取り込まれる場合等）。照明部４４が省略される場合、第２の窓部４８、第２のシャッタ５５（及び対応する防着板）も省略することができる。
【0109】
以上では、可視光領域における光が、撮像部４３において十分な精度の画像が得られる光量となる場合について記載している。一方、他の波長領域、特に赤外領域に於ける感度をもつ撮像部４３が用いられる場合も照明部４４を省略することができる。成膜時に於いては穴部２の表面とその上部との間に温度差が発生することから、赤外線画像において、そのコントラストが高くなり、穴部２の位置を容易に検出することができる。従って、赤外線画像が用いられるこのような手法は、上記温度差が発生する成膜時において、穴部２の位置を検出するという観点から好ましい。
【0110】
第１の窓部４７及び第２の窓部４８は、ガラス、アクリル系樹脂等により構成された透明の部材であり、真空チャンバ２０の側壁部の一部を構成する。
【0111】
第１のシャッタ５３は、真空チャンバ２０の内部において、第１の窓部４７を遮蔽する遮蔽状態と、第１の窓部４７を露出させる露出状態とを切り換える。第２のシャッタ５５は、真空チャンバ２０の内部において、第２の窓部４８を遮蔽する遮蔽状態と、第２の窓部４８を露出させる露出状態とを切り換える。第１の窓部４７及び第２の窓部４８は、撮像部４３による撮像時に露出状態とされ、それ以外のタイミングでは、遮蔽状態とされる。
【0112】
図７は、第１のシャッタ５３及び第２のシャッタ５５を正面側から見た図である。図７の上側の図は、第１のシャッタ５３及び第２のシャッタ５５による窓部４７、４８の遮蔽状態を示しており、図７の下側の図は、第１のシャッタ５３及び第２のシャッタ５５による窓部４７、４８の露出状態を示している。
【0113】
図７に示すように、第１のシャッタ５３は、第１の窓部４７を遮蔽することが可能なように、第１の窓部４７よりも大きなサイズで構成されている。同様に、第２のシャッタ５５は、第２の窓部４８を遮蔽することが可能なように、第２の窓部４８よりも大きなサイズで構成されている。
【0114】
図７に示す例では、第１の窓部４７及び第２の窓部４８の形状、並びに、第１のシャッタ５３及び第２のシャッタ５５の形状が円形とさている。一方、これらの形状については、矩形などであってもよく、その形状については特に限定されない。
【0115】
第１のシャッタ５３は、外周の一部が駆動軸５７に固定されており、第２のシャッタ５５も、外周の一部が駆動軸５７に固定されている。第１のシャッタ５３及び第２のシャッタ５５は駆動軸５７を挟んで反対側に設けられており、駆動軸５７を回転軸として一体的に回転する。
【0116】
駆動軸５７は、第１の窓部４７及び第２の窓部４８における平面に直交する方向の軸である。駆動軸５７は、モータなどのアクチュエータ５６により駆動される（図１参照）。駆動軸５７は、回転導入器５８を介して真空チャンバ２０の側壁部に回転可能に軸支されている。回転導入器５８は、フェローシール等により構成されており、駆動軸５７を回転可能に支持しつつ、真空チャンバ２０内の気密性を保持することが可能とされている。
【0117】
アクチュエータ５６は、制御装置４６に電気的に接続されており、制御装置４６の指令により駆動軸５７を駆動させることで、第１のシャッタ５３及び第２のシャッタ５５を駆動させ、第１の窓部４７及び第２の窓部４８の遮蔽状態及び露出状態を切り換える。
【0118】
制御装置４６は、真空蒸着装置１００に専用の装置であってもよいし、ＰＣ（Personal Computer）等の汎用の装置であってもよい。制御装置４６は、制御部、記憶部、操作部、通信部等を含む。
【0119】
制御部は、記憶部に記憶された各種のプログラムに基づき種々の演算を実行し、真空蒸着装置１００の各部を統括的に制御する。
【0120】
制御部は、ハードウェア、又は、ハードウェア及びソフトウェアの組合せにより実現される。ハードウェアは、制御部の一部又は全部として構成され、このハードウェアとしては、ＣＰＵ（Central Processing Unit）、ＤＳＰ（Digital Signal Processor）、ＧＰＵ（Graphics Processing Unit）、ＶＰＵ（Vision Processing Unit）、ＦＰＧＡ（Field Programmable Gate Array）、ＰＬＣ（Programmable Logic Controller）、ＡＳＩＣ（Application Specific Integrated Circuit）、あるいは、これらのうち２以上の組合せなどが挙げられる。
【0121】
制御部は、画像処理部を含む。画像処理部は、撮像部による撮像に関する処理や、撮像された画像の画像処理、表示部による画像の表示に関する処理等を実行する。なお、画像処理部は、制御装置４６の外部に別体で設けられていてもよい。
【0122】
記憶部は、制御部の処理に必要な各種のプログラムや、各種のデータが記憶される不揮発性のメモリと、制御部の作業領域として用いられる揮発性のメモリとを含む。
【0123】
なお、上記各種のプログラムは、光ディスク、半導体メモリなどの可搬性の記録媒体から読み取られてもよいし、ネットワーク上のサーバ装置からダウンロードされてもよい。
【0124】
操作部は、ユーザによる各種の操作を入力し、制御部へと出力する。通信部は、例えば、ネットワーク上のサーバ装置等の他の装置との間で通信可能に構成されている。
【0125】
＜本技術の基本的な考え方＞
ここで、本技術の基本的な考え方について触れておく。後述のように、本実施形態では、ウェハ１を自公転させながらウェハ１に蒸着を行う動的蒸着モードと、ウェハ１を静止させてウェハ１に蒸着を行う静的蒸着モードとが切り換えられる。
ここで、本技術の基本的な考え方について触れておく。後述のように、本実施形態では、ウェハ１を自公転させながらウェハ１に蒸着を行う動的蒸着モードと、ウェハ１を静止させてウェハ１に蒸着を行う静的蒸着モードとが切り換えられる。
【0126】
このように、本実施形態では、１つの真空蒸着装置１００において、動的蒸着モードと、静的蒸着モードとを切り換えることができるので、例えば、動的蒸着と静的蒸着とを別々の装置により行う場合に比べてコストを削減することができる。
【0127】
動的蒸着モードでは、ウェハ１を自公転させながら蒸着を行うことで、ウェハ１の表面に対して蒸着物を均一に蒸着させる。一方、静的蒸着モードでは、ウェハ１を静止させて蒸着を行うことで、ウェハ１の表面に設けられた、特定の角度方向に延在する突起部又は溝部（あるいはこれらの両方）に蒸着物を蒸着させる。特に、ある角度方向に延在する突起部の立面（側面）に対する成膜方法として、本技術は有効であることから、以降の説明では、静的蒸着モードにおける成膜対象が突起部の側面であるとして説明する。
【0128】
動的蒸着モードにおいては、ウェハ１の自転速度や公転速度は正確に制御する必要はあるが、一方で、ウェハ１の現在の自転角度を正確に制御する必要性はあまりない。一方、静的蒸着モードにおいては、ウェハ１の現在の自転角度を正確に制御する必要がある。
【0129】
これは、ウェハ１の表面上に設けられた突起部の側面が走る方向の関係で、その突起部の側面に蒸着を行うためのウェハ１の自転角度が或る程度決まるためである。つまり、ウェハ１の自転角度を不正確な角度としてしまうと、目的とする突起部の側面に蒸着物を蒸着させることができない。
【0130】
ウェハ１の自転角度の制御は、公転軸２３を回転させるモータのパルス制御や、そのモータに設けられた回転角検出器等の情報にのみ基づいて行うこともできるが、この場合、ウェハ１の自転角度が不正確になりやすい。
【0131】
このため、本実施形態では、静的蒸着モードにおいて、撮像対象ホルダ１０ａ及びウェハ１を撮像部４３により撮像させ、撮像された画像に基づき、現在の自転角度が目的とする自転角度となっているかどうかを制御部（画像処理部）により判定させることとしている。これにより、静的蒸着モードにおいて、ウェハ１の自転角度を正確に制御することができ、ウェハ１の表面に設けられた突起部の側面に適切に蒸着物を蒸着させることができる。
【0132】
なお、本実施形態では、静的蒸着モードにおいて、撮像部４３による撮像及び制御部（画像処理部）によるウェハ１の自転角度の判定が行われるが、動的蒸着モードにおいて、撮像部４３による撮像及び制御部（画像処理部）によるウェハ１の自転角度の判定が行われてもよい。
【0133】
＜撮像部４３による画角＞
次に、撮像部４３による画角の条件について説明する。図８は、撮像部４３による画角を説明するための図であり、撮像部４３による画像上での撮像対象ホルダ１０ａ及びウェハ１の動きを示す図である。
次に、撮像部４３による画角の条件について説明する。図８は、撮像部４３による画角を説明するための図であり、撮像部４３による画像上での撮像対象ホルダ１０ａ及びウェハ１の動きを示す図である。
【0134】
図８において、点線の矩形は、撮像部４３によるが画角を示している。また、一点鎖線は、撮像部４３による画像内での撮像対象ホルダ１０ａ及びウェハ１の公転軌道（撮像部４３からの見た目上のホルダ１０及びウェハ１の公転軌道）を示している。
【0135】
また、図８において２本の点線の曲線は、撮像部４３による画像内での撮像対象ホルダ１０ａ及びウェハ１の摂動範囲（撮像部４３からの見た目上のホルダ１０及びウェハ１の摂動範囲）を示している。なお、摂動については後述する。
【0136】
図８では、撮像対象ホルダ１０ａ及びウェハ１が自転角度０°～３６０°で回転した場合（図３の黒の円参照）における、撮像部４３における画像内での撮像対象ホルダ１０ａ及びウェハ１の動き（撮像部４３からの見た目上のホルダ１０の動き）が示されている。
【0137】
まず、撮像部４３の横方向の画角について説明する。撮像部４３による横方向の画角は、ホルダ１０及びウェハ１の公転方向に対応する。
【0138】
撮像部４３の横方向の画角は、ホルダ１０及びウェハ１が１回転（３６０°）自転したときに、ホルダ１０及びウェハ１が公転方向に移動する範囲を少なくとも含む。
【0139】
例えば、撮像部４３の横方向の画角において、右側の境界線は、自転角度が０°のときの撮像対象ホルダ１０ａの下面全体（穴部２を含む）及びウェハ１の表面全体を撮像可能なように設定される。また、撮像部４３の横方向の画角において、左側の境界線は、自転角度が３６０°のときの撮像対象ホルダ１０ａの下面全体（穴部２を含む）及びウェハ１の表面全体を撮像可能なように設定される。
【0140】
次に、撮像部４３の縦方向の画角について説明する。撮像部４３による縦方向の画角は、ホルダ１０及びウェハ１の摂動方向に対応する。
【0141】
ここで、摂動とは、ホルダ１０及びウェハ１による公転軌道が摂動方向（径方向）にずれてホルダ１０及びウェハ１が摂動方向にずれることを意味する。また、摂動範囲とは、ホルダ１０及びウェハ１が摂動方向（径方向）に摂動する範囲を意味する。
【0142】
上述のように、ホルダ１０及びウェハ１は、入射角度調整機構２５によって回動されてその入射角度が調整される。このとき、ホルダ１０及びウェハ１が摂動方向に摂動する。
【0143】
撮像部４３による縦方向の画角は、入射角度の調整によるホルダ１０及びウェハ１の回動により、ホルダ１０及びウェハ１が摂動方向に摂動したときの摂動範囲を少なくとも含む。
【0144】
例えば、撮像部４３の縦方向の画角において、上側の境界線は、撮像対象ホルダ１０ａ及びウェハ１が摂動方向において最も内側に摂動したときに、撮像対象ホルダ１０ａの下面全体（穴部２を含む）及びウェハ１の表面全体を撮像可能なように設定される。また、撮像部４３の縦方向の画角において、下側の境界線は、撮像対象ホルダ１０ａ及びウェハ１が摂動方向において最も外側に摂動したときに、撮像対象ホルダ１０ａの下面全体（穴部２を含む）及びウェハ１の表面全体を撮像可能なように設定される。
【0145】
なお、入射角度の調整によるホルダ１０及びウェハ１の回動によってホルダ１０及びウェハ１が摂動するとき、撮像部４３における画像内において、撮像対象ホルダ１０ａの下面及びウェハ１表面の見た目上の面積が変わる。
【0146】
つまり、撮像対象ホルダ１０ａの下面及びウェハ１表面の見た目上の面積は、撮像部４３による受光軸に対して撮像対象ホルダ１０ａの下面及びウェハ１表面が垂直に近づくほど大きくなる。逆に、この見た目上の面積は、撮像部４３による受光軸に対して撮像対象ホルダ１０ａの下面及びウェハ１表面が垂直から遠ざかるほど小さくなる。従って、この点についても考慮されて、撮像部４３による縦方向の画角が設定されてもよい。
【0147】
図９は、撮像部４３による画角と、第１のシャッタ５３及び第２のシャッタ５５との関係を示す図である。図９に示すように、第１のシャッタ５３及び第２のシャッタ５５は、第１の窓部４７及び第２の窓部４８の露出状態において、撮像部４３の横方向の画角外に位置するように、その位置が設定されている。
【0148】
図１０は、撮像部４３による画角と、防着板５４との関係を示す図である。図１０に示すように、防着板５４は、撮像部４３の縦方向の画角外に位置するように、その位置が設定されている（第２の窓部４８に対応する防着板が設けられる場合には、この防着板についても同様）。
【0149】
＜動作説明＞
次に、制御装置４６における制御部の処理について説明する。図１１は、制御装置４６における制御部の処理を示すフローチャートである。
次に、制御装置４６における制御部の処理について説明する。図１１は、制御装置４６における制御部の処理を示すフローチャートである。
【0150】
図１１におけるフローチャートのＳＴＡＲＴ時の真空チャンバ２０の内部初期状態としては、制御装置４６の指令に基づき真空ポンプ４１が稼働し、蒸着に適した真空度となっていることを前提とする。一方、以下に述べる蒸着シーケンスに基づき、大気開放のステップを含め、蒸着前のステップのいずれかの時点で蒸着に適した真空度とするステップが挿入されてもよい。
【0151】
まず、制御部は、蒸着シーケンスに基づき、次の蒸着モードが、動的蒸着モード及び静的動着モードのいずれであるかを判定する（ステップ１０１）。
【0152】
蒸着シーケンスにおいては、動的蒸着モード及び静的蒸着モードの順番が予め計画されている。例えば、蒸着シーケンスにおいて、蒸着モードの順番は、動的蒸着モード→静的蒸着モードの順番、静的蒸着モード→動的蒸着モードの順番、動的蒸着モード及び静的蒸着モードが交互に繰り返される順番等により計画されている。
【0153】
ここで、蒸着シーケンスは、例えば、被蒸着物であるウェハ１に求められる成膜（付着や堆積）を実現するための具体的な動作順序を、予め制御部内の不図示の記憶部より読み出すことによって得られる。
【0154】
蒸着シーケンスにおいて、動的蒸着モードは、自公転速度、入射角度、蒸着物の種類（レボルバーによる坩堝３１の選択）等の情報と関連付けられている。また、蒸着シーケンスにおいて、静的蒸着モードは、自転角度、入射角度、蒸着物の種類等の情報と関連付けられている。
【0155】
なお、本実施形態の説明では、動的蒸着モードにおいて、入射角度、蒸着物の種類のうちいずれかが異なる場合には、これらは異なる動的蒸着モードであるとする。また、静的蒸着モードにおいて、自転角度、入射角度、蒸着物の種類のうちいずれか１つが異なる場合には、これらは異なる静的蒸着モードであるとして説明する。
【0156】
従って、本実施形態では、蒸着シーケンスにおいて、動的蒸着モード→動的蒸着モードのように、動的蒸着モードが連続する場合がある（入射角度、蒸着物の種類が異なる場合）。また、静的蒸着モード→静的蒸着モードのように、静的蒸着モードが連続する場合がある（自転角度、入射角度、蒸着物の種類が異なる場合）。
【0157】
次の蒸着モードを判定すると、制御部は、その蒸着モードが静的蒸着モードであるかどうかを判定する（ステップ１０２）。次の蒸着モードが静的蒸着モードではない場合（ステップ１０２のＮＯ）、つまり、次の蒸着モードが動的蒸着モードである場合、制御部は、動的蒸着モードを開始させる（ステップ１２２）。
【0158】
動的蒸着モードを開始させると、制御部は、ウェハ１の蒸着物に対する入射角度を変更する必要があるかどうかを判定する（ステップ１２３）。
【0159】
入射角度を変更する必要がある場合（ステップ１２３のＹＥＳ）、制御部は、入射角度調整機構２５を駆動させて、各ホルダ１０及び各ウェハ１を回動させ、入射角度を変更する（ステップ１２４）。そして、制御部は、次のステップ１２５へ進む。
【0160】
一方、入射角度を変更する必要がない場合（ステップ１２３のＮＯ）、制御部は、ステップ１２４を飛ばして（入射角度を変更せずに）、次のステップ１２５へ進む。
【0161】
ステップ１２５では、制御部は、蒸着物の種類を変更する必要があるかどうかを判定する。蒸着物の種類を変更する必要がある場合（ステップ１２５のＹＥＳ）、制御部は、レボルバー（不図示）を駆動させて坩堝３１を変更することで、蒸着物の種類を変更する（ステップ１２６）。そして、制御部は、次のステップ１２７へ進む。
【0162】
一方、蒸着物の種類を変更する必要がない場合（ステップ１２５のＮＯ）、制御部は、ステップ１２６を飛ばして（蒸着物の種類を変更せずに）、次のステップ１２７へ進む。
【0163】
ステップ１２７では、制御部は、各ホルダ１０及び各ウェハ１を自公転させながら、ウェハ１の表面に対して蒸着物を蒸着させる。次に、制御部は、動的蒸着が終了したかどうかを判定する（ステップ１２８）。
【0164】
動的蒸着が終了していない場合（ステップ１２８のＮＯ）、制御部は、ステップ１２７へ戻り、引き続き、動的蒸着を実行する。動的蒸着が終了した場合（ステップ１２８のＹＥＳ）、制御部は、蒸着シーケンスに含まれる全ての蒸着モードが終了したかどうかを判定する（ステップ１２９）。
【0165】
蒸着シーケンスに含まれる全ての蒸着モードのうち未だ終了していない蒸着モードが残っている場合（ステップ１２９のＮＯ）、制御部は、ステップ１０１へ戻り、蒸着シーケンスから次の蒸着モードを判定する。一方、蒸着シーケンスに含まれる全ての蒸着モードが終了した場合（ステップ１２９のＹＥＳ）、制御部は、処理を終了する。
【0166】
ステップ１０２において、次の蒸着モードが静的蒸着モードである場合（ステップ１０２のＹＥＳ）、制御部は、静的蒸着モードを開始させる（ステップ１０３）。静的蒸着モードを開始させると、制御部は、ウェハ１の蒸着物に対する入射角度を変更する必要があるかどうかを判定する（ステップ１０４）。
【0167】
入射角度を変更する必要がある場合（ステップ１０４のＹＥＳ）、制御部は、入射角度調整機構２５を駆動させて、各ホルダ１０及び各ウェハ１を回動させ、入射角度を変更する（ステップ１０５）。そして、制御部は、次のステップ１０６へ進む。
【0168】
一方、入射角度を変更する必要がない場合（ステップ１０４のＮＯ）、制御部は、ステップ１０５を飛ばして（入射角度を変更せずに）、次のステップ１０６へ進む。
【0169】
ステップ１０６では、制御部は、蒸着物の種類を変更する必要があるかどうかを判定する。蒸着物の種類を変更する必要がある場合（ステップ１０６のＹＥＳ）、制御部は、レボルバー（不図示）を駆動させて坩堝３１を変更することで、蒸着物の種類を変更する（ステップ１０７）。そして、制御部は、次のステップ１０８へ進む。
【0170】
一方、蒸着物の種類を変更する必要がない場合（ステップ１０６のＮＯ）、制御部は、ステップ１０７を飛ばして（蒸着物の種類を変更せずに）、次のステップ１０８へ進む。
【0171】
ステップ１０８では、制御部は、前回の蒸着モードが静的蒸着モードであるかどうかを判定する。前回の蒸着モードが静的蒸着モードである場合（ステップ１０８のＹＥＳ）、制御部は、各ホルダ１０及び各ウェハ１の自転角度が、前回の静的蒸着モードにおける自転角度と同じであるかどうかを判定する（ステップ１０９）。
【0172】
各ホルダ１０及び各ウェハ１の自転角度が、前回の静的蒸着モードにおける自転角度と同じである場合（ステップ１０９のＹＥＳ）（例えば、前回の静的蒸着モードと走る方向が同じ突起部の側面に対して蒸着を行う場合）、制御部は、ステップ１１０～ステップ１１５を飛ばして（自転角度の変更、撮像による自転角度の確認等の処理を実行せずに）、ステップ１１６へ進む。
【0173】
ステップ１０８において、前回の蒸着モードが動的蒸着モードである場合（ステップ１０８のＮＯ）、制御部は、ステップ１０９を飛ばして、次のステップ１１０へ進む。また、ステップ１０９において、前回の蒸着モードが静的蒸着モードであるものの、今回の自転角度が前回の自転角度とは異なる場合（ステップ１０９のＮＯ）（例えば、前回の静的蒸着モードとは走る方向が異なる突起部の側面に対して蒸着を行う場合）、制御部は、次のステップ１１０へ進む。
【0174】
ステップ１１０では、制御部は、モータ６１により公転軸２３を駆動して、各ホルダ１０及び各ウェハ１を原点位置に移動させる。
【0175】
なお、上述のように、原点位置とは、真空チャンバ２０を基準とした座標系において、原点の基準となるホルダ１０（図２、図３Ａの上側において、１２時の位置のホルダ１０）が公転角度０°、自転角度０°となり、撮像対象ホルダ１０ａが公転角度６０°、自転角度０°となる位置である（図２及び図３Ａの上側参照）。
【0176】
各ホルダ１０及び各ウェハ１を原点位置へ移動させると、次に、制御部は、モータ６１により公転軸２３を回転させて、各ホルダ１０及び各ウェハ１を目標とする自転角度となる位置へと移動させる（ステップ１１１）。なお、目標とする自転角度が、原点位置における自転角度（つまり、自転角度０°）と一致する場合、制御部は、ステップ１１１の処理を省略する。次に、制御部（画像処理部）は、撮像部４３により撮像対象ホルダ１０ａ及びウェハ１を撮像させる（ステップ１１２）。
【0177】
次に、制御部（画像処理部）は、実際に撮像された撮像対象ホルダ１０ａ及びウェハ１の画像を、撮像対象ホルダ１０ａの下面及びウェハ１の表面を正面から見たように補正する補正処理を実行する（ステップ１１３）。
【0178】
【0179】
図１２の上側の図を参照して、撮像部４３の投光軸が、撮像対象ホルダ１０ａの下面、ウェハ１の表面に対して垂直ではないので、その画像内において、撮像対象ホルダ１０ａの下面、ウェハ１の表面は楕円形状となる。一方、図１２の下側の図を参照して、その画像が補正処理されると、その画像内において、撮像対象ホルダ１０ａの下面、ウェハ１の表面は円形となり、撮像対象ホルダ１０ａの下面及びウェハ１の表面を正面から見たように補正される。
【0180】
ここで、ステップ１１３による補正処理のための事前設定について説明する。制御部（画像処理部）は、実際撮像された画像をどのように補正すると、正面画像のように補正処理を行うとことができるかを、事前設定により、ホルダ１０及びウェハ１における自転角度毎、入射角度毎に予め記憶している。
【0181】
図１３は、事前設定により、補正処理を予め記憶させる方法の一例を示す図である。図１３の一番上を参照して、撮像対象ホルダ１０ａの下面にチェスボード柄のボードを張り付けた状態で、撮像対象ホルダ１０ａが或る自転角度及び或る入射角度に設定される。
【0182】
なお、このときの撮像対象ホルダ１０ａの自転角度のパターンは、例えば、０°、３０°、６０°、９０°、１２０°、１５０°、１８０°、２１０°、２４０°、２７０°、３００°、３３０°の１２パターンである。また、このときの撮像対象ホルダ１０ａの入射角度のパターンは、例えば、６０°、７０°、８０°、９０°の４パターンである。この場合、全てのパターンは、１２×４で４８パターンである。
【0183】
この４８パターンにおいて、図１３の上側の図のような画像がそれぞれ撮像部４３により撮像される。その後、図１３の中央の図のように、チェスボードの白マスの部分が検出され、白マス部分の間隔が均等になるように補正処理が行われると、図１３の下側の図のように、撮像対象ホルダ１０ａの下面を正面から見たような画像となる。この補正処理の方法は、４８パターンそれぞれについて行われ、４８パターンのそれぞれについて関連付けて記憶される。
【0184】
図１１のステップの説明に戻る。補正処理を実行すると、次に、制御部（画像処理部）は、補正処理後の画像に基づいて、ホルダ１０及びウェハ１の自転角度を判定する（ステップ１１４）。
【0185】
図１４は、撮像対象ホルダ１０ａの自転角度がそれぞれ０°、３０°、６０°、９０°、１２０°、１５０°、１８０°、２１０°、２４０°、２７０°、３００°、３３０°である場合における補正処理後の画像を示す図である。
【0186】
ステップ１１４において、制御部（画像処理部）は、補正処理後の画像について、撮像対象ホルダ１０ａ及びウェハ１の中心位置の検出と、穴部２の位置の検出とを行い、これらの位置に基づいて、ホルダ１０及びウェハ１の自転角度を判定する。
【0187】
図１５は、ホルダ１０及びウェハ１の自転角度を判定するときの処理を示す図である。まず、制御部（画像処理部）は、撮像対象ホルダ１０ａの外形の検出し、撮像対象ホルダ１０ａの外形から撮像対象ホルダ１０ａ及びウェハ１の中心位置（自転軸の中心位置）を検出する。
【0188】
次に、制御部（画像処理部）は、穴部２の位置を検出する。そして、制御部（画像処理部）は、撮像対象ホルダ１０ａ及びウェハ１の中心位置（自転軸の中心位置）と、穴部２の位置とを結んだ直線に対して直交する方向の直線であって、かつ、撮像対象ホルダ１０ａ及びウェハ１の中心位置（自転軸の中心位置）を通る直線の方向を判定する。
【0189】
この直線の方向は、ウェハ１におけるオリフラと平行な直線となる。制御部（画像処理部）は、画像内におけるこの直線の方向に基づいて、ホルダ１０及びウェハ１の自転角度を判定する。なお、制御部（画像処理部）は、画像内においてこの直線の方向がどの方向となったときに、ホルダ１０及びウェハ１の自転角度がどの角度となるかについては、予め記憶している。
【0190】
ホルダ１０及びウェハ１の自転角度を判定した後、制御部は、次のステップ１１５へ進む。ステップ１１５では、制御部（画像処理部）は、ホルダ１０及びウェハ１の自転角度が目標値となる自転角度に対して所定の範囲内（例えば、±１０°以内）となっているかどうかを判定する。
【0191】
ホルダ１０及びウェハ１の自転角度が目標値に対して所定の範囲内（例えば、±１０°以内）となっていない場合（ステップ１１５のＮＯ）、制御部（画像処理部）は、エラー回数を＋１とする（ステップ１１９）。そして、制御部（画像処理部）は、エラー回数が２回以下であるかどうかを判定する（ステップ１２０）。
【0192】
エラー回数が２回以下の場合（ステップ１２０のＹＥＳ）、制御部（画像処理部）は、ステップ１１０へ戻り、再び、ステップ１１０以下の処理を実行する。一方、エラー回数が３回である場合（ステップ１２０のＮＯ）、制御部（画像処理部）は、表示部４５の画面上にエラーによる警告を表示させて（ステップ１２１）処理を終了する。
【0193】
なお、ここでの説明では、エラーとなったときに、各ホルダ１０及び各ウェハ１を再び原点位置に戻してから、各ホルダ１０及び各ウェハ１を目標となる自転角度の位置に再び移動させる場合について説明した。
【0194】
一方、制御部（画像処理部）は、ステップ１１４において、各ホルダ１０及び各ウェハ１の自転角度を認識している。従って、制御部（画像処理部）は、上記所定の範囲（±１０°）に対して現在の自転角度が何度足りない、何度行き過ぎている等の判断を行うことができる。従って、制御部（画像処理部）は、エラーとなったときに、この判断に基づき、差分の分だけ各ホルダ１０及び各ウェハ１を自公転させて、自転角度を所定の範囲内に収める処理を実行してもよい。
【0195】
ステップ１１５において、ホルダ１０及びウェハ１の自転角度が目標値に対して所定の範囲内である場合（ステップ１１５のＹＥＳ）、制御部は、ステップ１１６へ進む。ステップ１１６では、制御部は、各ホルダ１０及び各ウェハ１を静止させた状態で蒸着を行い、ウェハ１に設けられた突起部の側面に蒸着物を蒸着させる。
【0196】
次に、制御部は、静的蒸着が終了（目的とする突起部の側面への蒸着が終了）したかどうかを判定する（ステップ１１７）。静的蒸着が終了（目的とする突起部の側面への蒸着が終了）していない場合（ステップ１１７のＮＯ）、制御部は、ステップ１１６へ戻り、引き続き静的蒸着を実行する。
【0197】
一方、静的蒸着が終了（目的とする突起部の側面への蒸着が終了）した場合（ステップ１１７のＹＥＳ）、制御部は、蒸着シーケンスに含まれるすべての蒸着モードが終了したかどうかを判定する（ステップ１１８）。
【0198】
蒸着シーケンスに含まれる全ての蒸着モードのうち未だ終了していない蒸着モードが残っている場合（ステップ１１８のＮＯ）、制御部は、ステップ１０１へ戻り、蒸着シーケンスから次の蒸着モードを判定する。一方、蒸着シーケンスに含まれる全ての蒸着モードが終了した場合（ステップ１１８のＹＥＳ）、制御部は、処理を終了する。
【0199】
ここで、図１１に示す例の場合、前回の蒸着モードが静的蒸着モードであり、今回の蒸着モードが静的蒸着モードである場合において（ステップ１０８のＹＥＳ）、かつ、自転角度を変更する必要がある場合（ステップ１０９のＮＯ）、各ホルダ１０及び各ウェハ１が再び原点位置に戻されてから（ステップ１１０）、各ホルダ１０及び各ウェハ１が目標となる自転角度の位置に再び移動される（ステップ１１１）。
【0200】
一方、制御部（画像処理部）は、ステップ１１４において、前回の静的蒸着モードにおける各ホルダ１０及び各ウェハ１の自転角度を認識している。従って、制御部（画像処理部）は、各ホルダ１０及び各ウェハ１の現在の自転角度から、どの程度自公転を行えば、今回の静的蒸着モードにおける自転角度の位置へと各ホルダ１０及び各ウェハ１を移動させることができるかを判断することができる。従って、制御部（画像処理部）は、自転角度を変更させるとき、原点位置への復帰処理を省略して、差分の分だけホルダ１０及びウェハ１を自公転させて、現在の自転角度を目的とする自転角度へと変更することもできる。
【0201】
なお、自転角度を変更する必要がある場合において、原点位置に一旦復帰させる処理を実行すると、モータ６１から自転軸２１に至るまでの回転伝達機構におけるバックラッシュやヒステリシス等（非線形部）の不感帯の影響を低減（エラー回数を低減）することができるので、この点で好ましい。
【0202】
＜ユーザによる目視用のマーク４＞
次に、ユーザによる目視用のマーク４について説明する。上述の図１４において、例えば、ホルダ１０及びウェハ１の自転角度が０°の図を参照する。仮に、自転角度０°の画像が表示部４５に表示され、ユーザがその画像を目視したとする。しかし、ユーザは、この画像を見たとしても、ホルダ１０及びウェハ１の自転角度が０°であると直感的に判断することが難しい。
次に、ユーザによる目視用のマーク４について説明する。上述の図１４において、例えば、ホルダ１０及びウェハ１の自転角度が０°の図を参照する。仮に、自転角度０°の画像が表示部４５に表示され、ユーザがその画像を目視したとする。しかし、ユーザは、この画像を見たとしても、ホルダ１０及びウェハ１の自転角度が０°であると直感的に判断することが難しい。
【0203】
そこで、ユーザがホルダ１０及びウェハ１の自転角度を直感的に認識することができるように、目視用のマーク４が設けられていてもよい。
【0204】
図１６は、真空蒸着装置１００の内部において、その上部を上側からみた模式図であり、目視用のマーク４を示す図である。図１６に示すように、目視用のマーク４は、撮像対象ホルダ１０ａに設けられた第１の目視用のマーク４ａと、回転体２４に設けられた第２の目視用のマーク４ｂとを含む。
【0205】
ここで、図１６において、第１の目視用のマーク４ａ及び第２の目視用のマーク４ｂは、、固定歯車２６の下側、回転体２４の下側、ホルダ１０の下側等に隠れて本来見えないが、本実施形態を理解しやすいように、図１６では、第１の目視用のマーク４ａ及び第２の目視用のマーク４ｂを実線で図示している。
【0206】
第１の目視用のマーク４ａは、撮像対象ホルダ１０ａによる自公転に応じて、自転軸２１回りを回転する。第２の目視用マークは、回転体２４による回転に応じて、公転軸２３回りを回転し、かつ、撮像対象ホルダ１０ａが所定の自転角度となったときに目視用の第１のマークとその位置が一致する。
【0207】
第１の目視用のマーク４ａは、撮像対象ホルダ１０ａの下面に形成されている。第１の目視用のマーク４ａは、自転軸２１の位置を中心として放射状に延びる線状に構成されている。第１の目視用のマーク４ａは、自転軸２１回りに３０°の間隔で設けられている（合計で１２本）。
【0208】
第２の目視用のマーク４ｂは、回転体２４の下面に形成されている。第２の目視用のマーク４ｂは、公転軸２３の位置を中心として放射状に延びる線状に構成されている。第２の目視用のマーク４ｂは、公転軸２３回りに１５°の間隔で設けられており、原点位置において、公転角度６０°７５°、９０°、１０５°、１２０°の位置に設けられている（合計で５本）。
【0209】
第２の目視用のマーク４ｂは、撮像対象ホルダ１０ａの自転角度が０°、９０°、１８０°、２７０°、３６０°となったときに、第１の目視用マーク３ａとその位置が一致する。ユーザは、第１の目視用マーク及び第２の目視用マークが一致しているとき、ホルダ１０及びウェハ１の自転角度が、０°、９０°、１８０°、２７０°、３６０°等の区切りのよい角度になってると直感的に認識することができる。
【0210】
なお、第１の目視用のマーク４ａの周方向の間隔及び本数、並びに、第２の目視用のマーク４ｂの周方向の間隔及び本数等は、ここで挙げた例に限られず適宜変更することができる。また、第１の目視用のマーク４ａは、全てのホルダ１０に対して設けられていてもよいし、第２の目視用のマーク４ｂは、回転体２４の全周に亘って設けられていてもよい。
【0211】
＜作用等＞
以上説明したように、本実施形態に係る真空蒸着装置１００は、蒸着物が蒸着されるウェハ１をそれぞれ保持可能であり、公転軸２３の周りをそれぞれ自転しながら公転可能な複数のホルダ１０と、ウェハ１を保持した複数のホルダ１０のうち少なくとも１つのホルダ１０を撮像可能な撮像部４３と、撮像部４３により撮像された画像に基づき、ウェハ１の自転角度を判定する制御部とを備えている。
以上説明したように、本実施形態に係る真空蒸着装置１００は、蒸着物が蒸着されるウェハ１をそれぞれ保持可能であり、公転軸２３の周りをそれぞれ自転しながら公転可能な複数のホルダ１０と、ウェハ１を保持した複数のホルダ１０のうち少なくとも１つのホルダ１０を撮像可能な撮像部４３と、撮像部４３により撮像された画像に基づき、ウェハ１の自転角度を判定する制御部とを備えている。
【0212】
これにより、ウェハ１が自公転可能な真空蒸着装置１００において、ウェハ１の自転角度を正確に判定することができる。
【0213】
特に、自公転タイプの真空蒸着装置１００は、１つの駆動力（モータ６１）から自転軸２１に至るまでの回転伝達機構が複数存在するため、バックラッシュやヒステリシス等（非線形部）の不感帯が存在する。従って、駆動力（モータ６１）側のパルス制御や、回転角検出器のみに基づく位置検出では、バックラッシュやヒステリシス等の影響は誤差として許容せざるを得ない。なお、バックラッシュやヒステリシス等は、蒸着時に加えられる熱に対処するために設けられているので（これらが存在しない場合、回転伝達機構の早期破壊に繋がる）、これらの存在は、真空蒸着装置１００に対して必須の構成となる。
【0214】
すなわち、バックラッシュやヒステリシス等の誤差を許容できないことが条件となる静的蒸着において、本実施形態に係る技術思想は、より効果を発揮する。また、本実施形態では、異なる自転角度条件での静的蒸着や、動的蒸着も併せて実施することができ、これらを連続的に切り替えて蒸着を実行可能な真空蒸着装置１００を提供することができる。
【0215】
また、本実施形態では、動的蒸着モードと、静的蒸着モードとが切り替えられるタイプとされている。これにより、動的蒸着モードと、静的蒸着モードとを別々の装置に分担して行わせる場合に比べて、費用を削減することができる。
【0216】
また、本実施形態では、静的蒸着モードにおいて、ウェハ１の自転角度が判定され、その自転角度が制御される。これにより、静的蒸着モードにおいて、ウェハ１の突起部の側面に適切に蒸着物を蒸着させることができる。
【0217】
また、本実施形態では、撮像部４３の横方向の画角は、撮像対象ホルダ１０ａが１回転自転したときに、撮像対象ホルダ１０ａが公転方向に移動する範囲を少なくとも含んでいる。これにより、ウェハ１の自転角度を正確に判定して、自転角度を正確に制御することができる。
【0218】
また、本実施形態では、撮像部４３の縦方向の画角は、入射角度の調整による撮像対象ホルダ１０ａの回動により、撮像対象ホルダ１０ａが摂動方向に摂動したときの摂動範囲を少なくとも含んでいる。これにより、ウェハ１の自転角度を正確に判定して、自転角度を正確に制御することができる。
【0219】
また、入射角度調整機構２５の別実施形態として、手動の回転導入および直線導入機構を用いて入射角度調整可能とすれば（例えば、ネジを回す事で入射角度が調整可能となる入射角度調整機構を用い、当該ネジ頭に嵌合する軸を用い、この軸について真空チャンバ２０内部へと回転および直線導入する手動のマニピュレーション機構を用いる）、真空チャンバ２０内部の真空度を保持した状態で手動での入射角度が調整可能となる。このようにすることで、手動であっても真空チャンバ２０を大気開放せず、蒸着に適した真空度を保持することができる（例えば、図１１のステップ１０５及び１２４における入射角度の変更を、自動ではなく手動で行うこともできる）。従って、図１１の各ステップにより成膜を実施する上で、工程が短縮され、生産効率を向上させることができる。
【0220】
また、本実施形態では、撮像対象ホルダ１０ａが、ウェハ１の自転角度の判定のためのマークを有している。これにより、ウェハ１の自転角度をさらに正確に判定して、自転角度を正確に制御することができる。
【0221】
また、本実施形態では、このマークは、フランジ部１２を貫通する穴部２とされている。これにより、穴部２と、穴部２以外の部分との間のコントラストを大きくすることができ、ウェハ１の自転角度の判断材料となるマークを容易に検出することができる。
【0222】
本実施形態において、全てのホルダ１０に対してマークが設けられていてもよく、この場合、全てのホルダに対して、サイズや形状等が異なるマークがそれぞれ設けられていてもよい。これにより、各ホルダ１０を区別することが可能となる。例えば、マークは、同じ形状で異なるサイズとされるか、同じサイズで異なる形状（例えば、円、楕円、多角形（△、□、☆）、×印、＋印等）とされるか、あるいは、異なるサイズで異なる形状とされる。
【0223】
このように、各ホルダ１０を区別して認識することで、図１１のステップ１０４における原点位置への復帰作業において、撮像部４３による画角内に位置するホルダの位置情報を利用することができる。これにより、原点位置への復帰作業に掛かる時間を短縮することができ、生産性を向上させることができる。また、上述のエラー等の異常時において、異常の基となったホルダ１０を素早く特定することができる。
【0224】
また、本実施形態では、画像内におけるマークの位置及びホルダ１０の中心位置に基づき、自転角度が判定される。これにより、ウェハ１の自転角度をさらに正確に判定して、自転角度を正確に制御することができる。
【0225】
また、本実施形態では、撮像対象ホルダ１０ａ及びウェハ１の画像を、撮像対象ホルダ１０ａの下面及びウェハ１の表面を正面から見たように補正する補正処理が実行される。これにより、ウェハ１の自転角度をさらに正確に判定して、自転角度を正確に制御することができる。
【0226】
また、本実施形態では、撮像部４３における第１の窓部４７に対応する位置に、第１のシャッタ５３及び防着板５４が設けられる。これにより、第１の窓部４７に蒸着物が蒸着してしまうことを適切に防止することができる。
【0227】
また、本実施形態では、撮像部４３による撮像時にホルダ１０に対して光を照射する照明部４４が設けられている。これにより、ウェハ１の自転角度をさらに正確に判定して、自転角度を正確に制御することができる。
【0228】
また、本実施形態では、照明部４４における第２の窓部４８に対応する位置に、第２のシャッタ５５（及び防着板）が設けられる。これにより、第２の窓部４８に蒸着物が蒸着してしまうことを適切に防止することができる。
【0229】
また、本実施形態において、目視用のマーク４が設けられる場合、ユーザは、その目視用のマーク４を画像を介して間接的、あるいは、直接的に目視することで、ウェハ１の自転角度を直感的に認識することができる。
【符号の説明】
【0230】
１…ウェハ
２…穴部
１０…ホルダ
２０…真空チャンバ
３１…坩堝
４３…撮像部
４４…照明部
４６…制御装置
４７…第１の窓部
４８…第２の窓部
５３…第１のシャッタ
５４…防着板
５５…第２のシャッタ
１００…真空蒸着装置
２…穴部
１０…ホルダ
２０…真空チャンバ
３１…坩堝
４３…撮像部
４４…照明部
４６…制御装置
４７…第１の窓部
４８…第２の窓部
５３…第１のシャッタ
５４…防着板
５５…第２のシャッタ
１００…真空蒸着装置
【図1】
【図2】
【図3A】
【図3B】
【図4】
【図5】
【図6】
【図7】
【図8】
【図9】
【図10】
【図11】
【図12】
【図13】
【図14】
【図15】
【図16】