知財求人 - 知財ポータルサイト「IP Force」
特開2023-96716感光性樹脂組成物、硬化膜、硬化膜付き基板およびその製造方法、ならびに表示装置
(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】公開特許公報(A)
(11)【公開番号】P2023096716
(43)【公開日】2023-07-07
(54)【発明の名称】感光性樹脂組成物、硬化膜、硬化膜付き基板およびその製造方法、ならびに表示装置
(51)【国際特許分類】
G03F 7/004 20060101AFI20230630BHJP
G03F 7/027 20060101ALI20230630BHJP
B41M 5/00 20060101ALI20230630BHJP
G02B 5/20 20060101ALI20230630BHJP
G03F 7/20 20060101ALI20230630BHJP
G09F 9/00 20060101ALI20230630BHJP
G09F 9/30 20060101ALI20230630BHJP
C08F 290/06 20060101ALI20230630BHJP
【ＦＩ】
G03F7/004 501
G03F7/027 515
G03F7/027 502
B41M5/00 120
G02B5/20
G03F7/20 501
G09F9/00 313
G09F9/30 349A
C08F290/06
【審査請求】未請求
【請求項の数】15
【出願形態】ＯＬ
(21)【出願番号】P 2021212655
(22)【出願日】2021-12-27
(71)【出願人】
【識別番号】000006644
【氏名又は名称】日鉄ケミカル＆マテリアル株式会社
(74)【代理人】
【識別番号】110002952
【氏名又は名称】弁理士法人鷲田国際特許事務所
(72)【発明者】
【氏名】國松 登
(72)【発明者】
【氏名】今野 高志
【テーマコード（参考）】
2H148
2H186
2H197
2H225
4J127
5C094
5G435
【Ｆターム（参考）】
2H148AA03
2H148AA07
2H186AB11
2H186BA08
2H186DA18
2H186FA07
2H186FB04
2H186FB11
2H186FB15
2H186FB29
2H186FB32
2H186FB36
2H186FB38
2H186FB41
2H186FB44
2H186FB48
2H186FB56
2H197CA02
2H197CA05
2H197CA06
2H197CA09
2H197CA10
2H197CE01
2H197HA08
2H225AC32
2H225AC36
2H225AC43
2H225AC44
2H225AC47
2H225AC54
2H225AC58
2H225AC72
2H225AC79
2H225AD06
2H225AD07
2H225AD15
2H225AE06P
2H225AE12P
2H225AN02P
2H225AN33P
2H225AN36P
2H225AN38P
2H225AN39P
2H225AN42P
2H225AN72P
2H225AN82P
2H225AN94P
2H225AN97P
2H225AP00P
2H225AP03P
2H225AP08P
2H225AP10P
2H225BA01P
2H225BA05P
2H225BA16P
2H225BA20P
2H225BA22P
2H225BA29P
2H225BA32P
2H225BA33P
2H225CA15
2H225CA16
2H225CB05
2H225CC01
2H225CC13
4J127AA03
4J127AA04
4J127BB041
4J127BB081
4J127BB221
4J127BC031
4J127BC121
4J127BD181
4J127BE341
4J127BE34Y
4J127BE411
4J127BE41Y
4J127BF451
4J127BF45X
4J127BF45Y
4J127BF45Z
4J127BG051
4J127BG05X
4J127BG05Y
4J127BG05Z
4J127BG251
4J127BG25Y
4J127BG25Z
4J127CB271
4J127DA06
4J127EA13
4J127FA17
4J127FA30
5C094ED02
5C094ED13
5G435HH04
(57)【要約】
【課題】光を十分に散乱させ、かつより等方的に散乱させることができる硬化膜を作製できる感光性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】（Ａ）光硬化性化合物と、（Ｂ）平均粒径が１００ｎｍ以上６００ｎｍ以下である、屈折率が１．９以上２．７以下の金属酸化物からなる粒子と、（Ｃ）光重合開始剤と、を含む感光性樹脂組成物。（Ｂ）成分が、中空率が１０％以上９０％以下の粒子であるとき、（Ｂ）成分の含有量は、固形分の全質量に対して１５質量％以上７０質量％以下であり、（Ｂ）成分が、中空率が１０％未満の金属酸化物粒子であるとき、（Ｂ）成分の含有量は、固形分の全質量に対して２５質量％以上７０質量％以下である。
【選択図】図１
【解決手段】（Ａ）光硬化性化合物と、（Ｂ）平均粒径が１００ｎｍ以上６００ｎｍ以下である、屈折率が１．９以上２．７以下の金属酸化物からなる粒子と、（Ｃ）光重合開始剤と、を含む感光性樹脂組成物。（Ｂ）成分が、中空率が１０％以上９０％以下の粒子であるとき、（Ｂ）成分の含有量は、固形分の全質量に対して１５質量％以上７０質量％以下であり、（Ｂ）成分が、中空率が１０％未満の金属酸化物粒子であるとき、（Ｂ）成分の含有量は、固形分の全質量に対して２５質量％以上７０質量％以下である。
【選択図】図１
【特許請求の範囲】
【請求項1】
（Ａ）光硬化性化合物と、
（Ｂ）平均粒径が１００ｎｍ以上６００ｎｍ以下である、屈折率が１．９以上２．７以下の金属酸化物からなる粒子と、
（Ｃ）光重合開始剤と、
を含み、
（Ｂ）成分が、中空率が１０％未満の粒子であるとき、（Ｂ）成分の含有量は、固形分の全質量に対して１５質量％以上７０質量％以下であり、
（Ｂ）成分が、中空率が１０％以上９０％以下の粒子であるとき、（Ｂ）成分の含有量は、固形分の全質量に対して２５質量％以上７０質量％以下である、
感光性樹脂組成物。
（Ｂ）平均粒径が１００ｎｍ以上６００ｎｍ以下である、屈折率が１．９以上２．７以下の金属酸化物からなる粒子と、
（Ｃ）光重合開始剤と、
を含み、
（Ｂ）成分が、中空率が１０％未満の粒子であるとき、（Ｂ）成分の含有量は、固形分の全質量に対して１５質量％以上７０質量％以下であり、
（Ｂ）成分が、中空率が１０％以上９０％以下の粒子であるとき、（Ｂ）成分の含有量は、固形分の全質量に対して２５質量％以上７０質量％以下である、
感光性樹脂組成物。
【請求項2】
（Ａ）成分は、（Ａ１）不飽和基含有アルカリ可溶性樹脂と、（Ａ２）少なくとも２個のエチレン性不飽和結合を有する光重合性化合物と、を含み、
（Ａ１）成分の含有量は、固形分の全質量に対して５質量％以上７０質量％以下であり、（Ａ２）成分の含有量は、固形分の全質量に対して１質量％以上２０質量％以下である、請求項１に記載の感光性樹脂組成物。
（Ａ１）成分の含有量は、固形分の全質量に対して５質量％以上７０質量％以下であり、（Ａ２）成分の含有量は、固形分の全質量に対して１質量％以上２０質量％以下である、請求項１に記載の感光性樹脂組成物。
【請求項3】
（Ａ１）成分は、一般式（１）で表される不飽和基含有アルカリ可溶性樹脂である、請求項２に記載の感光性樹脂組成物。
（式（１）中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲ４は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数１～５のアルキル基、ハロゲン原子またはフェニル基であり、Ｒ５は、水素原子またはメチル基であり、Ｘは、－ＣＯ－、－ＳＯ２－、－Ｃ（ＣＦ３）２－、－Ｓｉ（ＣＨ３）２－、－ＣＨ２－、－Ｃ（ＣＨ３）２－、－Ｏ－、フルオレン－９，９－ジイル基または直結合であり、Ｙは４価のカルボン酸残基であり、Ｚは、それぞれ独立して、水素原子または一般式（２）で表される置換基である。ただし、Ｚのうち１個以上は一般式（２）で表される置換基であり、ｎは平均値が１～２０である。）
（式（２）中、Ｗは２価または３価のカルボン酸残基であり、ｍは１または２であり、＊は、結合部位である。）
【化1】
【化2】
【請求項4】
（Ｄ）エポキシ化合物と（Ｅ）任意成分としてのエポキシ化合物の硬化剤および／または硬化促進剤とを含み、
（Ｄ）成分および（Ｅ）成分の合計含有量は、固形分の全質量に対して５質量％以上３５質量％以下である、
請求項２または３に記載の感光性樹脂組成物。
（Ｄ）成分および（Ｅ）成分の合計含有量は、固形分の全質量に対して５質量％以上３５質量％以下である、
請求項２または３に記載の感光性樹脂組成物。
【請求項5】
（Ａ）成分は、（Ａ２）少なくとも２個のエチレン性不飽和結合を有する光重合性化合物を含み、
（Ａ２）成分の含有量は、固形分の全質量に対して３０質量％以上８３質量％以下である、請求項１に記載の感光性樹脂組成物。
（Ａ２）成分の含有量は、固形分の全質量に対して３０質量％以上８３質量％以下である、請求項１に記載の感光性樹脂組成物。
【請求項6】
請求項１～５のいずれか１項に記載の感光性樹脂組成物を硬化してなる、硬化膜。
【請求項7】
請求項６に記載の硬化膜を有する、硬化膜付き基板。
【請求項8】
前記硬化膜に対して前記硬化膜側から垂直に白色光を照射したときの直進した透過光の角度を０°とした場合の、６０°における散乱光の強度は、６°における散乱光の強度に対して５０％以上である、請求項７に記載の硬化膜付き基板。
【請求項9】
平均粒径が１００ｎｍ以上６００ｎｍ以下であり、中空率が１０％未満である、屈折率が１．９以上２．７以下の金属酸化物からなる粒子を含む硬化膜を有する、光散乱層と、
平均粒径が１００ｎｍ以上６００ｎｍ以下であり、中空率が１０％以上９０％以下である粒子を含む硬化膜を有する、波長変換層と、
を有する、硬化膜付き基板であって、
前記光散乱層が有する前記硬化膜は、請求項１に記載の感光性樹脂組成物を基板上に塗布し、硬化させてなる、硬化膜付き基板。
平均粒径が１００ｎｍ以上６００ｎｍ以下であり、中空率が１０％以上９０％以下である粒子を含む硬化膜を有する、波長変換層と、
を有する、硬化膜付き基板であって、
前記光散乱層が有する前記硬化膜は、請求項１に記載の感光性樹脂組成物を基板上に塗布し、硬化させてなる、硬化膜付き基板。
【請求項10】
前記波長変換層は、屈折率が１．９以上２．７以下の金属酸化物からなる前記粒子を含む、請求項９に記載の硬化膜付き基板。
【請求項11】
前記波長変換層は、前記硬化膜の全質量に対する前記粒子の含有量が５質量％以上７０質量％以下である、請求項９または１０に記載の硬化膜付き基板。
【請求項12】
請求項７～１１のいずれか１項に記載の硬化膜付き基板を有する、表示装置。
【請求項13】
請求項１～５のいずれか１項に記載の感光性樹脂組成物を基板上に塗布する工程と、
前記塗布された感光性樹脂組成物を露光する工程と、を有する、
硬化膜付き基板の製造方法。
前記塗布された感光性樹脂組成物を露光する工程と、を有する、
硬化膜付き基板の製造方法。
【請求項14】
前記露光する工程は、前記塗布された感光性樹脂組成物を、フォトマスクを介して露光する工程である、請求項１３に記載の硬化膜付き基板の製造方法。
【請求項15】
前記塗布する工程は、前記感光性樹脂組成物をインクジェットにより塗布する工程である、請求項１３または１４に記載の硬化膜付き基板の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、感光性樹脂組成物、硬化膜、硬化膜付き基板およびその製造方法、ならびに表示装置に関する。
【背景技術】
【0002】
画像や映像を表示する表示装置として、光源からの光（たとえば青色光）の波長を変換して他の色の光（たとえば赤色光や緑色光）にする波長変換層と、波長変換層を経ない光（たとえば青色光）の放射角度を波長変換層から出射する光の放射角度にあわせるための光散乱層と、を有する表示装置が知られている（たとえば、特許文献１および特許文献２）。また、波長変換層に隣接して光散乱層を配置して出射した光を波長変換層に戻し、波長変換層における変換効率を高めた表示装置も知られている（たとえば特許文献３）。
【0003】
このような光散乱層として、光を散乱させるための微粒子を樹脂中に分散させてなる層が知られている。たとえば、特許文献１および特許文献２には、平均粒径が１～１００ｎｍの金属酸化物を樹脂に分散させた分散層が記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0004】
【特許文献1】国際公開第２０１６／１２９４１９号
【特許文献2】特開２０２０－２０５４１７号公報
【特許文献3】特開２０１９－０４９６１９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0005】
上述した光散乱機能を有する硬化膜には、光を十分に散乱させること、および散乱角度によらず光の強度をより均一にすること（等方的に散乱させること）が要求される。
【0006】
本発明は、上記事情に鑑みてなされたものであり、光を十分に散乱させ、かつより等方的に散乱させることができる硬化膜を作製できる感光性樹脂組成物、硬化膜および当該硬化膜を有する硬化膜付き基板、当該硬化膜付き基板の製造方法、ならびに当該硬化膜を有する表示装置を提供することをその目的とする。
【課題を解決するための手段】
【0007】
上記課題を解決するための本発明の一態様に関する感光性樹脂組成物は、（Ａ）光硬化性化合物と、（Ｂ）平均粒径が１００ｎｍ以上６００ｎｍ以下である、屈折率が１．９以上２．７以下の金属酸化物からなる粒子と、（Ｃ）光重合開始剤と、を含む。（Ｂ）成分が、中空率が１０％未満の金属酸化物粒子であるとき、（Ｂ）成分の含有量は、固形分の全質量に対して１５質量％以上７０質量％以下であり、（Ｂ）成分が、中空率が１０％以上９０％以下の粒子であるとき、（Ｂ）成分の含有量は、固形分の全質量に対して２５質量％以上７０質量％以下である。
【0008】
本発明の他の態様に関する硬化膜は、前記感光性樹脂組成物を硬化させてなる硬化膜である。
【0009】
本発明の他の態様に関する硬化膜付き基板は、前記硬化膜を含む。
【0010】
本発明の他の態様に関する硬化膜付き基板は、平均粒径が１００ｎｍ以上６００ｎｍ以下であり、中空率が１０％未満である、屈折率が１．９以上２．７以下の金属酸化物からなる粒子を含む硬化膜を有する、光散乱層と、平均粒径が１００ｎｍ以上６００ｎｍ以下であり、中空率が１０％以上９０％以下である粒子を含む硬化膜を有する、波長変換層と、を有し、前記光散乱層が有する前記硬化膜は、前記感光性樹脂組成物を基板上に塗布し、硬化させてなる。
【0011】
本発明の他の態様に関する硬化膜付き基板の製造方法は、前記感光性樹脂組成物を基板上に塗布する工程と、前記塗布された感光性樹脂組成物を露光する工程と、を有する。
【発明の効果】
【0012】
本発明によれば、光を十分に散乱させ、かつより等方的に散乱させることができる硬化膜を作製できる感光性樹脂組成物、硬化膜および当該硬化膜を有する硬化膜付き基板、当該硬化膜付き基板の製造方法、ならびに当該硬化膜を有する表示装置が提供される。
【図面の簡単な説明】
【0013】
【発明を実施するための形態】
【0014】
１．感光性樹脂組成物
以下、本発明の一実施形態に関する感光性樹脂組成物は、（Ａ）光硬化性化合物と、（Ｂ）平均粒径が１００ｎｍ以上６００ｎｍ以下である、屈折率が１．９以上２．７以下の金属酸化物からなる粒子と、（Ｃ）光重合開始剤と、を含む。
以下、本発明の一実施形態に関する感光性樹脂組成物は、（Ａ）光硬化性化合物と、（Ｂ）平均粒径が１００ｎｍ以上６００ｎｍ以下である、屈折率が１．９以上２．７以下の金属酸化物からなる粒子と、（Ｃ）光重合開始剤と、を含む。
【0015】
１－１．（Ａ）成分
（Ａ）成分は、光の照射により重合および硬化する光硬化性化合物である。（Ａ）成分は、感光性樹脂組成物に所定の感光性を付与する。
（Ａ）成分は、光の照射により重合および硬化する光硬化性化合物である。（Ａ）成分は、感光性樹脂組成物に所定の感光性を付与する。
【0016】
（Ａ）成分は、感光性樹脂組成物の用途に応じて適宜選択して使用することができる。たとえば、フォトリソグラフィーにより硬化膜をパターン化するときには、（Ａ）成分は、感光性樹脂組成物の塗膜にアルカリ現像性を付与するための（Ａ１）不飽和基含有アルカリ可溶性樹脂を含むことが好ましく、さらに露光感度を高めるための（Ａ２）少なくとも２個のエチレン性不飽和結合を有する光重合性化合物を含むことが好ましい。また、インクジェット法により微細なパターン状に感光性樹脂組成物を付与した後に硬化させるときには、（Ａ）成分は、（Ａ２）少なくとも２個のエチレン性不飽和結合を有する光重合性化合物を少なくとも含めばよい。
【0017】
１－１－１．（Ａ１）成分
（Ａ１）成分は、不飽和基含有アルカリ可溶性樹脂である。（Ａ１）成分は、アルカリ現像に対する可溶性を、感光性樹脂組成物の塗膜に付与することができる。
（Ａ１）成分は、不飽和基含有アルカリ可溶性樹脂である。（Ａ１）成分は、アルカリ現像に対する可溶性を、感光性樹脂組成物の塗膜に付与することができる。
【0018】
（Ａ１）成分は、１分子中に重合性不飽和基と、アルカリ可溶性を発現するための酸性基を有することが好ましく、重合性不飽和基とカルボキシ基とを有することがより好ましい。（Ａ１）成分は、上記樹脂であれば特に限定されることなく、様々な種類の樹脂であり得る。（Ａ１）成分は、重合性不飽和基を有するため、感光性樹脂組成物に優れた光硬化性を与え、また硬化時に分子量が大きくなりバインダーとしての作用を発揮する。また、（Ａ１）成分は、酸性基を有するため、現像性およびパターニング特性（パターン線幅、パターン直線性）などの硬化膜の物性を向上させる。
【0019】
（Ａ１）成分は、エポキシ基を２個以上有するエポキシ化合物と（メタ）アクリル酸との反応物を、さらに多塩基酸カルボン酸またはその無水物と反応させて得られる不飽和基含有アルカリ可溶性樹脂であることが好ましい。上記不飽和基含有アルカリ可溶性樹脂の製造時に、ヒドロキシ基と多塩基酸カルボン酸との反応でポリエステルが生成する。（Ａ１）成分は、上記ポリエステルの平均の重合度が２～５００程度の低分子量の樹脂であることが好ましい。なお、「（メタ）アクリル酸」とは、アクリル酸およびメタクリル酸の総称であり、「（メタ）アクリロイル基」は、アクリロイル基およびメタクリロイル基の総称であり、「（メタ）アクリレート」は、アクリレートおよびメタクリレートの総称であり、いずれもこれらの一方または両方を意味する。
【0020】
上記エポキシ基を２個以上有するエポキシ化合物の例には、ビスフェノールＡ型エポキシ化合物、ビスフェノールＦ型エポキシ化合物、ビスフェノールフルオレン型エポキシ化合物、ビスナフトールフルオレン型エポキシ化合物、ジフェニルフルオレン型エポキシ化合物、フェノールノボラック型エポキシ化合物、（ｏ，ｍ，ｐ－）クレゾールノボラック型エポキシ化合物、フェノールアラルキル型エポキシ化合物、ビフェニル型エポキシ化合物（例えば、ｊＥＲ ＹＸ４０００：三菱ケミカル株式会社製、「ｊＥＲ」は同社の登録商標）、ナフタレン骨格を含むフェノールノボラック化合物（例えば、ＮＣ－７０００Ｌ：日本化薬株式会社製）、ナフトールアラルキル型エポキシ化合物、トリスフェノールメタン型エポキシ化合物（例えば、ＥＰＰＮ－５０１Ｈ：日本化薬株式会社製）、テトラキスフェノールエタン型エポキシ化合物などの芳香族構造を有するエポキシ化合物、多価アルコールのグリシジルエーテル、多価カルボン酸のグリシジルエステル、メタクリル酸とメタクリル酸グリシジルの共重合体に代表される（メタ）アクリル酸グリシジルをユニットとして含む（メタ）アクリロイル基を有するモノマーの共重合体、水素化ビスフェノールＡジグリシジルエーテル（例えば、リカレジンＨＢＥ－１００：新日本理化株式会社製、「リカレジン」は同社の登録商標）などのグリシジル基を有するエポキシ化合物、１，４－シクロヘキサンジメタノール－ビス３，４－エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、２－（３，４－エポキシ）シクロヘキシル－５，１－スピロ（３，４－エポキシ）シクロヘキシル－ｍ－ジオキサン（例えば、アラルダイトＣＹ１７５：ハンツマン社製、「アラルダイト」は同社の登録商標）、ビス（３，４－エポキシシクロヘキシルメチル）アジペート（例えば、ＣＹＲＡＣＵＲＥ ＵＶＲ－６１２８：ダウ・ケミカル社製）、３’，４’－エポキシシクロヘキシルメチル３，４－エポキシシクロヘキサンカルボキシレート（例えば、セロキサイド２０２１Ｐ：株式会社ダイセル製、「セロキサイド」は同社の登録商標）、ブタンテトラカルボン酸テトラ（３，４－エポキシシクロヘキシルメチル）修飾ε－カプロラクトン（例えば、エポリードＧＴ４０１：株式会社ダイセル製、「エポリード」は同社の登録商標）、エポキシシクロヘキシル基を有するエポキシ化合物（例えば、ＨｉＲＥＭ－１：四国化成工業株式会社製）、ジシクロペンタジエン骨格を有する多官能エポキシ化合物（例えば、ＨＰ７２００シリーズ：ＤＩＣ株式会社製）、２，２－ビス（ヒドロキシメチル）－１－ブタノールの１，２－エポキシ－４－（２－オキシラニル）シクロヘキサン付加物（例えば、ＥＨＰＥ３１５０：株式会社ダイセル製）などの脂環式エポキシ化合物、エポキシ化ポリブタジエン（例えば、ＮＩＳＳＯ－ＰＢ・ＪＰ－１００：日本曹達株式会社製、「ＮＩＳＳＯ－ＰＢ」は同社の登録商標）、シリコーン骨格を有するエポキシ化合物等が含まれる。
【0021】
（Ａ１）成分の他の好ましい樹脂の例には、アクリル共重合体であるアルカリ可溶性樹脂が含まれる。
【0022】
上記アクリル共重合体の例には、（メタ）アクリル酸、（メタ）アクリル酸エステル等の共重合体であって、（メタ）アクリロイル基およびカルボキシ基を有する樹脂が含まれる。上記樹脂の例には、グリシジル（メタ）アクリレートを含む（メタ）アクリル酸エステル類を溶剤中で共重合させて得られた共重合体に、（メタ）アクリル酸を反応させ、最後にジカルボン酸またはトリカルボン酸の無水物を反応させて得られる重合性不飽和基含有アルカリ可溶性樹脂が含まれる。上記共重合体は、特開２０１４－１１１７２２号公報に示されている、両端の水酸基を（メタ）アクリル酸でエステル化されたジエステルグリセロールに由来する繰返し単位２０～９０モル％、およびこれと共重合可能な１種類以上の重合性不飽和化合物に由来する繰返し単位１０～８０モル％で構成され、数平均分子量（Ｍｎ）が２０００～２００００かつ酸価が３５～１２０ｍｇＫＯＨ／ｇである共重合体、および特開２０１８－１４１９６８号公報に示されている、（メタ）アクリル酸エステル化合物に由来するユニットと、（メタ）アクリロイル基およびジまたはトリカルボン酸残基を有するユニットと、を含む、重量平均分子量（Ｍｗ）３０００～５００００、酸価３０～２００ｍｇ／ＫＯＨの重合体である重合性不飽和基含有アルカリ可溶性樹脂を参考にできる。
【0023】
硬化膜の耐熱性および耐溶剤性をより高める観点からは、（Ａ１）成分は複数個の芳香環を有することが好ましく、フルオレン構造を含む繰り返し単位を有することがより好ましく、ビスアリールフルオレン骨格を含む繰り返し単位を有することがさらに好ましい。たとえば、（Ａ１）成分は、下記一般式（１）で表される樹脂であることが好ましい。
【0024】
【化1】
【0025】
【化2】
【0026】
次に、上記一般式（１）で表されるアルカリ可溶性樹脂の製造方法について詳細に説明する。
【0027】
先ず、一般式（３）で表される１分子内に２個のエポキシ基を有するエポキシ化合物（ａ－１）（以下、単に「エポキシ化合物（ａ－１）」ともいう）に不飽和基含有モノカルボン酸（例えば（メタ）アクリル酸）を反応させ、エポキシ（メタ）アクリレートを得る。なお、「（メタ）アクリル酸」とは、アクリル酸およびメタクリル酸の総称であり、「（メタ）アクリロイル基」は、アクリロイル基およびメタクリロイル基の総称であり、これらの一方または両方を意味する。
【0028】
【化3】
【0029】
エポキシ化合物（ａ－１）は、ビスフェノール類とエピクロルヒドリンとを反応させることにより得られる２個のグリシジルエーテル基を有するエポキシ化合物である。
【0030】
上記ビスフェノール類の例には、ビス（４－ヒドロキシフェニル）ケトン、ビス（４－ヒドロキシ－３，５－ジメチルフェニル）ケトン、ビス（４－ヒドロキシ－３，５－ジクロロフェニル）ケトン、ビス（４－ヒドロキシフェニル）スルホン、ビス（４－ヒドロキシ－３，５－ジメチルフェニル）スルホン、ビス（４－ヒドロキシ－３，５－ジクロロフェニル）スルホン、ビス（４－ヒドロキシフェニル）ヘキサフルオロプロパン、ビス（４－ヒドロキシ－３，５－ジメチルフェニル）ヘキサフルオロプロパン、ビス（４－ヒドロキシ－３，５－ジクロロフェニル）ヘキサフルオロプロパン、ビス（４－ヒドロキシフェニル）ジメチルシラン、ビス（４－ヒドロキシ－３，５－ジメチルフェニル）ジメチルシラン、ビス（４－ヒドロキシ－３，５－ジクロロフェニル）ジメチルシラン、ビス（４－ヒドロキシフェニル）メタン、ビス（４－ヒドロキシ－３，５－ジクロロフェニル）メタン、ビス（４－ヒドロキシ－３，５－ジブロモフェニル）メタン、２，２－ビス（４－ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２－ビス（４－ヒドロキシ－３，５－ジメチルフェニル）プロパン、２，２－ビス（４－ヒドロキシ－３，５－ジクロロフェニル）プロパン、２，２－ビス（４－ヒドロキシ－３－メチルフェニル）プロパン、２，２－ビス（４－ヒドロキシ－３－クロロフェニル）プロパン、ビス（４－ヒドロキシフェニル）エーテル、ビス（４－ヒドロキシ－３，５－ジメチルフェニル）エーテル、ビス（４－ヒドロキシ－３，５－ジクロロフェニル）エーテル、９，９－ビス（４－ヒドロキシフェニル）フルオレン、９，９－ビス（４－ヒドロキシ－３－メチルフェニル）フルオレン、９，９－ビス（４－ヒドロキシ－３－クロロフェニル）フルオレン、９，９－ビス（４－ヒドロキシ－３－ブロモフェニル）フルオレン、９，９－ビス（４－ヒドロキシ－３－フルオロフェニル）フルオレン、９，９－ビス（４－ヒドロキシ－３－メトキシフェニル）フルオレン、９，９－ビス（４－ヒドロキシ－３，５－ジメチルフェニル）フルオレン、９，９－ビス（４－ヒドロキシ－３，５－ジクロロフェニル）フルオレン、９，９－ビス（４－ヒドロキシ－３，５－ジブロモフェニル）フルオレン、４，４’－ビフェノール、３，３’－ビフェノール等が含まれる。これらの中でも、密着性をより高める観点から、フルオレン－９，９－ジイル基を有するビスフェノール類が好ましい。これらは、その１種のみを単独で使用してもよく、２種以上を併用してもよい。
【0031】
上記不飽和基含有モノカルボン酸化合物の例には、アクリル酸、メタクリル酸以外に、アクリル酸やメタクリル酸に無水コハク酸、無水マレイン酸、無水フタル酸等の酸一無水物を反応させた化合物などが含まれる。
【0032】
上記エポキシ化合物（ａ－１）と（メタ）アクリル酸との反応は、公知の方法を使用することができる。たとえば、特開平４－３５５４５０号公報には、２つのエポキシ基を有するエポキシ化合物１モルに対し、約２モルの（メタ）アクリル酸を使用することにより、重合性不飽和基を含有するジオール化合物が得られることが記載されている。本発明において、上記反応で得られる化合物は、重合性不飽和基を含有するジオール化合物であり、一般式（４）で表される重合性不飽和基を含有するジオール（ｄ）（以下、単に「一般式（４）で表されるジオール（ｄ）」ともいう）である。
【0033】
【化4】
【0034】
一般式（４）で表されるジオール（ｄ）の合成、およびそれに続く多価カルボン酸またはその無水物の付加反応、さらにカルボキシ基との反応性を有する重合性不飽和基を有する単官能エポキシ化合物等を反応させて、一般式（１）で表されるアルカリ可溶性樹脂の製造においては、通常、溶媒中で必要に応じて触媒を用いて反応を行う。
【0035】
溶媒の例には、エチルセロソルブアセテート、ブチルセロソルブアセテート等のセロソルブ系溶媒；ジグライム、エチルカルビトールアセテート、ブチルカルビトールアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等の高沸点のエーテル系もしくはエステル系の溶媒；シクロヘキサノン、ジイソブチルケトン等のケトン系溶媒等が含まれる。なお、使用する溶媒、触媒等の反応条件に関しては特に制限されないが、例えば、水酸基を持たず、反応温度より高い沸点を有する溶媒を反応溶媒として用いることが好ましい。
【0036】
また、カルボキシ基とエポキシ基との反応においては触媒を使用することが好ましく、例えば、特開平９－３２５４９４号公報には、テトラエチルアンモニウムブロマイド、トリエチルベンジルアンモニウムクロライド等のアンモニウム塩、トリフェニルホスフィン、トリス（２，６－ジメトキシフェニル）ホスフィン等のホスフィン類等が記載されている。
【0037】
次に、エポキシ化合物（ａ－１）と（メタ）アクリル酸との反応で得られる一般式（４）で表されるジオール（ｄ）と、ジカルボン酸もしくはトリカルボン酸またはその酸無水物（ｂ）、およびテトラカルボン酸またはその酸二無水物（ｃ）とを反応させて、一般式（１）で表される１分子内にカルボキシ基および重合性不飽和基を有するアルカリ可溶性樹脂を得ることができる。
【0038】
【化5】
【0039】
【化6】
【0040】
一般式（１）で表されるアルカリ可溶性樹脂を合成するために使用される酸成分は、一般式（４）で表されるジオール（ｄ）分子中の水酸基と反応し得る多価の酸成分であり、ジカルボン酸もしくはトリカルボン酸またはそれらの酸一無水物（ｂ）とテトラカルボン酸またはその酸二無水物（ｃ）とを併用することが必要である。上記酸成分のカルボン酸残基は、飽和炭化水素基または不飽和炭化水素基のいずれでもよい。また、これらのカルボン酸残基には－Ｏ－、－Ｓ－、カルボニル基等のヘテロ元素を含む結合を含んでいてもよい。
【0041】
上記ジカルボン酸もしくはトリカルボン酸またはそれらの酸一無水物（ｂ）としては、鎖式炭化水素ジカルボン酸もしくはトリカルボン酸、脂環式炭化水素ジカルボン酸もしくはトリカルボン酸、芳香族炭化水素ジカルボン酸もしくはトリカルボン酸、またはそれらの酸一無水物等を用いることができる。
【0042】
上記鎖式炭化水素ジカルボン酸またはトリカルボン酸の酸一無水物の例には、コハク酸、アセチルコハク酸、マレイン酸、アジピン酸、イタコン酸、アゼライン酸、シトラリンゴ酸、マロン酸、グルタル酸、クエン酸、酒石酸、オキソグルタル酸、ピメリン酸、セバシン酸、スベリン酸、ジグリコール酸等の酸一無水物、および任意の置換基が導入されたジカルボン酸またはトリカルボン酸の酸一無水物等が含まれる。
【0043】
脂環式炭化水素ジカルボン酸またはトリカルボン酸の酸一無水物の例には、シクロブタンジカルボン酸、シクロペンタンジカルボン酸、ヘキサヒドロフタル酸、テトラヒドロフタル酸、メチルテトラヒドロフタル酸、メチル－３，６－エンドメチレンテトラヒドロフタル酸、ノルボルナンジカルボン酸、クロレンド酸、ヘキサヒドロトリメリット酸等の酸一無水物、および任意の置換基が導入されたジカルボン酸またはトリカルボン酸の酸一無水物等が含まれる。
【0044】
芳香族ジカルボン酸またはトリカルボン酸の酸一無水物の例には、フタル酸、イソフタル酸、トリメリット酸、１，８－ナフタレンジカルボン酸、２，３－ナフタレンジカルボン酸等の酸一無水物、および任意の置換基が導入されたジカルボン酸またはトリカルボン酸の酸一無水物が含まれる。
【0045】
ジカルボン酸またはトリカルボン酸の酸一無水物の中では、コハク酸、イタコン酸、テトラヒドロフタル酸、ヘキサヒドロトリメリット酸、フタル酸、トリメリット酸が好ましく、コハク酸、イタコン酸、テトラヒドロフタル酸であることがより好ましい。また、ジカルボン酸もしくはトリカルボン酸においては、それらの酸一無水物を用いることが好ましい。上述したジカルボン酸またはトリカルボン酸の酸一無水物は、その１種のみを単独で使用してもよく、２種以上を併用してもよい。
【0046】
また、テトラカルボン酸またはその酸二無水物（ｃ）としては、鎖式炭化水素テトラカルボン酸、脂環式炭化水素テトラカルボン酸、芳香族炭化水素テトラカルボン酸、またはそれらの酸二無水物等を用いることができる。
【0047】
鎖式炭化水素テトラカルボン酸の例には、ブタンテトラカルボン酸、ペンタンテトラカルボン酸、ヘキサンテトラカルボン酸、および脂環式炭化水素基、不飽和炭化水素基等の置換基が導入された鎖式炭化水素テトラカルボン酸等が含まれる。
【0048】
上記脂環式テトラカルボン酸の例には、シクロブタンテトラカルボン酸、シクロペンタンテトラカルボン酸、シクロヘキサンテトラカルボン酸、シクロへプタンテトラカルボン酸、ノルボルナンテトラカルボン酸、および鎖式炭化水素基、不飽和炭化水素基等の置換基が導入された脂環式テトラカルボン酸等が含まれる。
【0049】
芳香族テトラカルボン酸の例には、ピロメリット酸、ベンゾフェノンテトラカルボン酸、ビフェニルテトラカルボン酸、ジフェニルエーテルテトラカルボン酸、ジフェニルスルホンテトラカルボン酸、ナフタレン－１，４，５，８－テトラカルボン酸、ナフタレン－２，３，６，７－テトラカルボン酸等が含まれる。
【0050】
テトラカルボン酸またはその酸二無水物の中では、ビフェニルテトラカルボン酸、ベンゾフェノンテトラカルボン酸、ジフェニルエーテルテトラカルボン酸であることが好ましく、ビフェニルテトラカルボン酸、ジフェニルエーテルテトラカルボン酸であることがより好ましい。また、テトラカルボン酸またはその酸二無水物においては、その酸二無水物を用いることが好ましい。上述したテトラカルボン酸またはその酸二無水物は、その１種のみを単独で使用してもよく、２種以上を併用してもよい。
【0051】
ジオール（ｄ）と酸成分（ｂ）および（ｃ）との反応方法は、特に限定されず、公知の方法を採用することができる。たとえば、特開平９－３２５４９４号公報には、反応温度が９０～１４０℃でエポキシ（メタ）アクリレートとテトラカルボン酸二無水物を反応させる方法が記載されている。
【0052】
このとき、化合物の末端がカルボキシ基となるように、エポキシ（メタ）アクリレート（ジオール（ｄ））、ジカルボン酸もしくはトリカルボン酸またはそれらの酸一無水物（ｂ）、およびテトラカルボン酸二無水物（ｃ）のモル比が、（ｄ）：（ｂ）：（ｃ）＝１．０：０．０１～１．０：０．２～１．０となるように反応させることが好ましい。
【0053】
たとえば、酸一無水物（ｂ）、酸二無水物（ｃ）を用いる場合には、ジオール（ｄ）に対する酸成分の量〔（ｂ）／２＋（ｃ）〕のモル比［〔（ｂ）／２＋（ｃ）〕／（ｄ）］が０．５より大きく１．０以下となるように反応させることが好ましい。上記モル比が０．５より大きいと、一般式（１）で表される不飽和基含有硬化性樹脂の末端が酸無水物とならないので、未反応酸二無水物の含有量が増大するのを抑制して、硬化性組成物の経時安定性を高めることができる。また、上記モル比が１．０以下だと、重合性不飽和基を含有するジオール（ｄ）のうち未反応の成分の残存量が増大するのを抑制して、硬化性組成物の経時安定性を高めることができる。なお、一般式（１）で表される不飽和基含有硬化性樹脂の酸価、分子量を調整する目的で、（ｂ）、（ｃ）および（ｄ）の各成分のモル比を、上述の範囲で任意に変更することができる。
【0054】
なお、ジオール（ｄ）の合成、およびそれに続く多価カルボン酸またはその無水物の反応は、通常、溶媒中で必要に応じて触媒を用いて行う。
【0055】
上記溶媒の例には、エチルセロソルブアセテート、およびブチルセロソルブアセテートなどのセロソルブ系溶媒、ジグライム、エチルカルビトールアセテート、ブチルカルビトールアセテート、およびプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートなどの高沸点のエーテル系またはエステル系の溶媒、ならびに、シクロヘキサノン、およびジイソブチルケトンなどのケトン系溶媒等が含まれる。なお、使用する溶媒、触媒等の反応条件に関しては特に制限されないが、たとえば、水酸基を持たず、反応温度より高い沸点を有する溶媒を反応溶媒として用いることが好ましい。
【0056】
また、エポキシ基とカルボキシ基またはヒドロキシル基との反応は、触媒を使用して行うことが好ましい。上記触媒として、特開平９－３２５４９４号公報には、テトラエチルアンモニウムブロマイド、トリエチルベンジルアンモニウムクロライド等のアンモニウム塩、トリフェニルホスフィン、およびトリス（２，６－ジメトキシフェニル）ホスフィンなどのホスフィン類などが記載されている。
【0057】
（Ａ１）成分は、重量平均分子量（Ｍｗ）が１０００以上４００００以下の化合物であることが好ましく、２０００以上２００００以下の化合物であることがより好ましい。（Ａ１）成分のＭｗがより高いほど、硬化膜の密着性および柔軟性を高め、かつ架橋密度を調整しやすくなる。一方で、（Ａ１）成分のＭｗがより低いほど、溶媒への（Ａ１）成分の溶解性が高まり、かつ（Ａ２）成分との相溶性を高めて、硬化膜の白濁抑止性、平坦性およびパターニング性を高めることができる。
【0058】
（Ａ１）成分は、同様の観点から、酸価が３０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上２００ｍｇＫＯＨ／ｇ以下であることが好ましい。
【0059】
本明細書において、各成分の重量平均分子量（Ｍｗ）および数平均分子量（Ｍｎ）は、ゲルパーミュエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）（たとえば、「ＨＬＣ－８２２０ＧＰＣ」（東ソー株式会社製））で求めたスチレン換算値とすることができる。また、酸価は、電位差滴定装置（たとえばｍ「ＣＯＭ－１６００」（平沼産業株式会社製））を用いて求めた値とすることができる。ただし、モノマーなどの、構造から分子量が計算できる化合物については、構造から計算して得た値をその化合物の分子量としてもよい。
【0060】
なお、（Ａ１）成分は、１種類のみを単独で使用してもよく、２種以上を併用してもよい。
【0061】
１－１－２．（Ａ２）成分
（Ａ２）成分は、少なくとも２個のエチレン性不飽和結合を有する光重合性化合物である。（Ａ２）成分は、感光性樹脂組成物の露光感度を高め、かつ硬化時に適度な架橋構造を形成して基板への硬化膜の密着性を高め、かつ硬化膜の現像性（解像性、たとえばパターンの直線性）を高める。
（Ａ２）成分は、少なくとも２個のエチレン性不飽和結合を有する光重合性化合物である。（Ａ２）成分は、感光性樹脂組成物の露光感度を高め、かつ硬化時に適度な架橋構造を形成して基板への硬化膜の密着性を高め、かつ硬化膜の現像性（解像性、たとえばパターンの直線性）を高める。
【0062】
（Ａ２）成分の具体例には、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラメチレングリコールジ（メタ）アクリレート、グリセロールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、グリセロールトリ（メタ）アクリレート、ソルビトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ソルビトールヘキサ（メタ）アクリレート、フォスファゼンのアルキレンオキサイド変性ヘキサ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート等の（メタ）アクリル酸エステル類、２－ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２－ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート等の水酸基を有する（メタ）アクリル酸エステル類、エチレン性二重結合を有する化合物として（メタ）アクリロイル基を有する樹枝状ポリマー等が含まれる。
【0063】
感光性樹脂組成物の露光感度をより高め、かつ硬化膜の架橋密度を高めて密着性を高める観点からは、（Ａ２）成分は、３個以上のエチレン性不飽和結合を有することが好ましく、５個以上のエチレン性不飽和結合を有することがより好ましい。
【0064】
同様の観点から、（Ａ２）成分のアクリル当量は、５０以上３００以下であることが好ましく、８０以上２００以下であることがより好ましい。なお、（Ａ２）成分は遊離のカルボキシ基を有しない。
【0065】
なお、インクジェット法によって感光性樹脂組成物を付与し、パターンを形成するときは、感光性樹脂組成物の粘度上昇を抑制する観点から、（Ａ２）成分は、２個のエチレン性不飽和結合を有することが好ましい。同様の観点から、（Ａ２）成分としては、１，６－ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、１，９－ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、１，１０－デカンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、および３－メチル－１，５ペンタンジオールジ（メタ）アクリレートが好ましい。
【0066】
また、感光性樹脂組成物が（Ａ２）成分として２個のエチレン性不飽和結合を有する化合物を含むとき、硬化膜の形状変化や収縮を抑制する観点から、樹枝状ポリマーなどの、高分子量体であるマクロマーを併用してもよい。上記樹枝状ポリマーの例には、アクリル基を有する枝分子を放射状に組み立てた球状の巨大分子であるデンドリマーアクリレート、ハイパーブランチアクリルポリマー、およびハイパーブランチアクリルオリゴマーなどが含まれる。
【0067】
フォトリソグラフィーなどによりパターンを形成するときは、感光性樹脂組成物の塗膜にアルカリ現像性を付与しつつ、硬化膜の密着性、直線性、精細度および硬度を高めるため、（Ａ１）成分と（Ａ２）成分とを併用することが好ましい。このとき、（Ａ１）成分の含有量は、固形分の全質量に対して５質量％以上７０質量％以下であって、（Ａ２）成分の含有量は、固形分の全質量に対して１質量％以上２０質量％以下であることが好ましい。感光性樹脂組成物は、（Ｂ）成分によってアルカリ現像性が低下する傾向がある。そのため、硬化膜にアルカリ現像性を付与する（Ａ１）成分の量はより多いことが好ましい。一方で、（Ａ２）成分をより多くすることで、感光性樹脂組成物の露光感度、ならびに硬化膜の密着性、直線性、精細度および硬度をより高めことができる。光の散乱性を高めるための（Ｂ）成分を添加しつつ、これらの特性のバランスを考慮して（Ａ１）成分および（Ａ２）成分のそれぞれの含有量を調整すればよい。
【0068】
たとえば、（Ａ１）成分の含有量は、固形分の全質量に対して５質量％以上７０質量％以下であることが好ましく、５質量％以上６０質量％以下であることがより好ましく、１０質量％以上５０質量％以下であることがさらに好ましく、２０質量％以上５０質量％以下であることが特に好ましい。また、（Ａ２）成分の含有量は、固形分の全質量に対して１質量％以上２０質量％以下であることが好ましく、２質量％以上１５質量％以下であることがより好ましく、３質量％以上１０質量％以下であることがさらに好まし、４質量％以上１０質量％以下であることが特に好ましい。
【0069】
なお、（Ａ２）成分は、１種類のみを単独で使用してもよく、２種以上を併用してもよい。
【0070】
また、インクジェット法によって感光性樹脂組成物を付与し、パターンを形成するときは、アルカリ現像性は必ずしも必要とはされない。そのため、感光性樹脂組成物の粘度上昇を抑制する観点から、（Ａ１）成分の含有量は固形分の全質量に対して０質量％以上５質量％以下であることが好ましく、０質量％以上１質量％以下であることがより好ましい。一方で、（Ａ２）成分の含有量は、固形分の全質量に対して３０質量％以上８３質量％以下であることが好ましく、３５質量％以上８３質量％以下であることがより好ましく、４０質量％以上８０質量％以下であることがさらに好ましい。
【0071】
１－２．（Ｂ）成分
（Ｂ）成分は、平均粒径が１００ｎｍ以上６００ｎｍ以下の粒子であり、屈折率が１．９以上２．７以下の金属酸化物からなる粒子である。（Ｂ）成分は、硬化膜の光散乱性を高め、また光（特には光）をより等方的に散乱させる。
（Ｂ）成分は、平均粒径が１００ｎｍ以上６００ｎｍ以下の粒子であり、屈折率が１．９以上２．７以下の金属酸化物からなる粒子である。（Ｂ）成分は、硬化膜の光散乱性を高め、また光（特には光）をより等方的に散乱させる。
【0072】
（Ｂ）成分の平均粒径が１００ｎｍ以上であると、硬化膜の光散乱性をより高め、かつ光をより等方的に散乱させることができる。（Ｂ）成分の平均粒径が６００ｎｍ以下であると、硬化膜の密着性、直線性、精細度および平坦性などの諸特性が低下しにくい。また、（Ｂ）成分の平均粒径が６００ｎｍ以下であると、インクジェット法による吐出性を高めやすい。上記観点から、（Ｂ）成分の平均粒径は、１００ｎｍ以上４５０ｎｍ以下であることが好ましく、１５０ｎｍ以上４００ｎｍ以下であることがより好ましい。
【0073】
（Ｂ）成分が、屈折率が１．９以上２．７以下の金属酸化物を材料としてなる粒子であると、硬化膜を透過する光を適当に屈折させて、光をより等方的に散乱させることができる。上記観点から、（Ｂ）成分の材料である金属酸化物の屈折率が、２．１以上２．７以下であることが好ましく、２．３以上２．７以下であることがより好ましい。
【0074】
（Ｂ）成分の平均粒径は、動的光散乱法の粒度分布計「粒径アナライザーＦＰＡＲ－１０００」を用い、キュムラント法により求めることができる。また、金属酸化物の屈折率は、アッベ屈折率計で５８９ｎｍの波長の光で測定することができる。
【0075】
（Ｂ）成分の材料としての、屈折率が１．９以上２．７以下である金属酸化物の例には、酸化チタン（チタニア：ＴｉＯ２）、酸化ジルコニウム（ジルコニア：ＺｒＯ２）、酸化亜鉛（ＺｎＯ）、酸化スズ（ＳｎＯ２）、アンチモンドープ酸化スズ（ＡＴＯ）、インジウム・スズ酸化物（ＩＴＯ）、チタン酸バリウム（ＢａＴｉＯ３）、五酸化ニオブ（Ｓｂ２Ｏ５）等の金属酸化物が含まれる。これらのうち、光の散乱性に優れ、かつ光を等方的に散乱させやすいことから、酸化チタンおよび酸化ジルコニウムが好ましく、酸化チタンがより好ましい。
【0076】
（Ｂ）成分は、中実粒子であってもよいし、中空粒子であってもよい。なお、本明細書において、中実粒子とは、中空率が１０％未満である粒子を意味し、中空粒子とは、中空率が１０％以上９０％以下である粒子を意味する。
【0077】
なお、本明細書において、中空率とは、粒子の外径から算出される当該粒子の体積に対する、当該粒子の中空径から算出される当該粒子内部の空隙の容積の比率を意味する。上記粒子の外径および中空径は、電子顕微鏡を用いた観察によって計測することができる。
【0078】
なお、本発明者らの知見によると、中実粒子は、中空粒子と比較して粒子への光の透過率が低いため、粒子に照射された光の大部分を散乱させる。そのため、中実粒子は、光散乱層における光の光散乱性を高めることができる。このような粒子は、反射による光源からの光の再利用効率を高めることができるため、光散乱層に好適である。
【0079】
（Ｂ）成分が中実粒子であるとき、（Ｂ）成分の含有量は、固形分の全質量に対して１５質量％以上７０質量％以下であり、１５質量％以上６０質量％以下であることが好ましく、２０質量％以上５０質量％以下であることがより好ましく、３０質量％以上５０質量％以下であることがさらに好ましい。（Ｂ）成分が中空粒子であるとき、（Ｂ）成分の含有量は、固形分の全質量に対して１０質量％以上７０質量％以下であり、２０質量％以上６０質量％以下であることが好ましく、３０質量％以上５０質量％以下であることがより好ましい。（Ｂ）成分をより多くすることで、硬化膜の光散乱性を高め、かつより等方的に光を散乱させることができる。ただし、他の成分の相対量が少なくなることによる硬化膜の密着性、直線性、精細度および平坦性などの諸特性の低下を抑制するため、（Ｂ）成分の上記含有量は７０質量％以下とする。
【0080】
１－３．（Ｃ）成分
（Ｃ）成分は、光重合開始剤である。
（Ｃ）成分は、光重合開始剤である。
【0081】
（Ｃ）成分は、重合性不飽和結合を有し付加重合可能な化合物の重合を開始させ得る化合物であれば、特に限定されるものではない。（Ｃ）成分の例には、アセトフェノン化合物、トリアジン化合物、ベンゾイン化合物、ベンゾフェノン化合物、チオキサントン化合物、イミダゾール化合物、アシルオキシム化合物などの光重合開始剤が含まれる。なお、本明細書において、光重合開始剤は増感剤を含む意味で使用される。
【0082】
アセトフェノン化合物の例には、アセトフェノン、ジエトキシアセトフェノン、２－ヒドロキシ－２－メチル－１－フェニルプロパン－１－オン、ベンジルジメチルケタール、２－ヒドロキシ－２－メチル－１－〔４－（２－ヒドロキシエトキシ）フェニル〕プロパン－１－オン、１－ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２－メチル－２－モルホリノ－１－（４－メチルチオフェニル）プロパン－１－オン、２－ベンジル－２－ジメチルアミノ－１－（４－モルホリノフェニル）ブタン－１－オン、２－ヒドロキシ－２－メチル－１－〔４－（１－メチルビニル）フェニル〕プロパン－１－オンのオリゴマーなどが含まれる。
【0083】
トリアジン化合物の例には、２，４，６－トリス（トリクロロメチル）－１，３，５－トリアジン、２－メチル－４，６－ビス（トリクロロメチル）－１，３，５－トリアジン、２－フェニル－４，６－ビス（トリクロロメチル）－１，３，５－トリアジン、２－（４－クロロフェニル）－４，６－ビス（トリクロロメチル）－１，３，５－トリアジン、２－（４－メトキシフェニル）－４，６－ビス（トリクロロメチル）－１，３，５－トリアジン、２－（４－メトキシナフチル）－４，６－ビス（トリクロロメチル）－１，３，５－トリアジン、２－（４－メトキシスチリル）－４，６－ビス（トリクロロメチル）－１，３，５－トリアジン、２－（３，４，５－トリメトキシスチリル）－４，６－ビス（トリクロロメチル）－１，３，５－トリアジン、２－（４－メチルチオスチリル）－４，６－ビス（トリクロロメチル）－１，３，５－トリアジン、2－（ピプロニル）－４，６－ビス（トリクロロメチル）－１，３，５－トリアジンなどが挙げられる。
【0084】
ベンゾイン化合物の例には、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、ベンゾイン－ｔｅｒｔ－ブチルエーテルなどが含まれる。
【0085】
ベンゾフェノン化合物の例には、ベンゾフェノン、ｏ－ベンゾイル安息香酸メチル、４－フェニルベンゾフェノン、４－ベンゾイル－４’－メチルジフェニルサルファイド、３，３’，４，４’－テトラ（ｔｅｒｔ－ブチルパーオキシカルボニル）ベンゾフェノン、２，４，６－トリメチルベンゾフェノン、４，４‘－ビス（Ｎ，Ｎ－ジエチルアミノ）ベンゾフェノンなどが含まれる。
【0086】
チオキサントン化合物の例には、チオキサントン、２－クロロチオキサン、２－メチルチオキサントン、２－イソプロピルチオキサントン、４－イソプロピルチオキサントン、２，４－ジエチルチオキサントン、２，４－ジクロロチオキサントン、１－クロロ－４－プロポキシチオキサントンなどが含まれる。
【0087】
イミダゾール化合物の例には、２－（ｏ－クロロフェニル）－４，５－フェニルイミダゾール２量体、２－（ｏ－クロロフェニル）－４，５－ジ（ｍ－メトキシフェニル）イミダゾール２量体、２－（ｏ－フルオロフェニル）－４，５－ジフェニルイミダゾール２量体、２－（ｏ－メトキシフェニル）－４，５－ジフェニルイミダゾール２量体、２，４，５－トリアリールイミダゾール２量体などが含まれる。
【0088】
アシルオキシム化合物の例には、１－［９－エチル－６－（２－メチルベンゾイル）－９Ｈ－カルバゾール－３－イル］－ビシクロヘプチル－１－オンオキシム－Ｏ－アセテート、１－［９－エチル－６－（２－メチルベンゾイル）－９Ｈ－カルバゾール－３－イル］－アダマンチルメタン－１－オンオキシム－Ｏ－ベンゾアート、１－［９－エチル－６－（２－メチルベンゾイル）－９Ｈ－カルバゾール－３－イル］－アダマンチルメタン－１－オンオキシム－Ｏ－アセテート、１－［９－エチル－６－（２－メチルベンゾイル）－９Ｈ－カルバゾール－３－イル］－テトラヒドロフラニルメタン－１－オンオキシム－Ｏ－ベンゾアート、１－［９－エチル－６－（２－メチルベンゾイル）－９Ｈ－カルバゾール－３－イル］－テトラヒドロフラニルメタン－１－オンオキシム－Ｏ－アセテート、１－［９－エチル－６－（２－メチルベンゾイル）－９Ｈ－カルバゾール－３－イル］－チオフェニルメタン－１－オンオキシム－Ｏ－ベンゾアート、１－［９－エチル－６－（２－メチルベンゾイル）－９Ｈ－カルバゾール－３－イル］－チオフェニルメタン－１－オンオキシム－Ｏ－アセテート、１－［９－エチル－６－（２－メチルベンゾイル）－９Ｈ－カルバゾール－３－イル］－モロフォニルメタン－１－オンオキシム－Ｏ－ベンゾアート、１－［９－エチル－６－（２－メチルベンゾイル）－９Ｈ－カルバゾール－３－イル］－モロフォニルメタン－１－オンオキシム－Ｏ－アセテート、１－［９－エチル－６－（２－メチルベンゾイル）－９Ｈ－カルバゾール－３－イル］－エタン－１－オンオキシム－Ｏ－ビシクロヘプタンカルボキシレート、１－［９－エチル－６－（２－メチルベンゾイル）－９Ｈ－カルバゾール－３－イル］－エタン－１－オンオキシム－Ｏ－トリシクロデカンカルボシキレート、１－［９－エチル－６－（２－メチルベンゾイル）－９Ｈ－カルバゾール－３－イル］－エタン－１－オンオキシム－Ｏ－アダマンタンカルボシキレート、１－［４－（フェニルスルファニル）フェニル］オクタン－１，２－ジオン，２－Ｏ－ベンゾイルオキシム、１－［９－エチル－６－（２－メチルベンゾイル）カルバゾール－３－イル］エタノン－Ｏ－アセチルオキシム、（２－メチルフェニル）（７－ニトロ－９，９－ジプロピル－９Ｈ－フルオレン－２－イル）－アセチルオキシム、エタノン，１－［７－（２－メチルベンゾイル）－９，９－ジプロピル－９Ｈ－フルオレン－２－イル］－１－（Ｏ－アセチルオキシム）、エタノン，１－（－９，９－ジブチル－７－ニトロ－９Ｈ－フルオレン－２－イル）－１－Ｏ－アセチルオキシム、エタノン，１－［９－エチル－６－（２－メチルベンゾイル）－９Ｈ－カルバゾール－３－イル］－，１－（Ｏ－アセチルオキシム）、１，２－オクタンジエン，１－［４－（フェニルチオ）－，２－（Ｏ－ベンゾイルオキシム）］、エタノン，１－［９－エチル－６－（２－メチルベンゾイル）－９Ｈ－カルバゾール－３－イル］－，１－（Ｏ－アセチルオキシム）、１－（４－フェニルスルファニルフェニル）ブタン－１，２－ジオン－２－オキシム－Ｏ－ベンゾアート、１－（４－メチルスルファニルフェニル)ブタン－１，２－ジオン－２－オキシム－Ｏ－アセテート、１－（４－メチルスルファニルフェニル）ブタン－１－オンオキシム－Ｏ－アセテート、４－エトキシ－２－メチルフェニル－９－エチル－６－ニトロ－９Ｈ－カルバゾロ－３－イル－Ｏ－アセチルオキシムなどが含まれる。上記光重合開始剤は、１種類のみを単独で使用してもよく、２種以上を併用してもよい。
【0089】
これらのうち、（Ｃ）成分は、アシルオキシム系（ケトオキシムを含む）光重合開始剤が好ましい。アシルオキシム系光重合開始剤は、感度が高いため、アクリル当量が比較的大きい（Ａ２）成分を含む感光性樹脂組成物でも、十分な感光性を担保することができ、硬化膜の現像性（解像性）を十分に高めることができる。
【0090】
アシルオキシム系光重合開始剤の例には、一般式（５）または一般式（６）で表されるＯ－アシルオキシム系光重合開始剤、１－［４－（フェニルスルファニル）フェニル］オクタン－１，２－ジオン－，２－Ｏ－ベンゾイルオキシム（Ｉｒｇａｃｕｒｅ ＯＸＥ－０１、ＢＡＳＦ社製、「Ｉｒｇａｃｕｒｅ」は同社の登録商標）、エタノン，１－［９－エチル－６－（２－メチルベンゾイル）－９Ｈ－カルバゾ－ル－３－イル］－，１－（Ｏ－アセチルオキシム）（Ｉｒｇａｃｕｒｅ ＯＸＥ－０２、ＢＡＳＦ社製）などが含まれる。
【0091】
【化7】
【0092】
式（５）中、Ｒ６、Ｒ７は、それぞれ独立に、Ｃ１～Ｃ１５のアルキル基、Ｃ６～Ｃ１８のアリール基、Ｃ７～Ｃ２０のアリールアルキル基またはＣ４～Ｃ１２の複素環基であり、Ｒ８はＣ１～Ｃ１５のアルキル基、Ｃ６～Ｃ１８のアリール基またはＣ７～Ｃ２０のアリールアルキル基である。ここで、アルキル基およびアリール基はＣ１～Ｃ１０のアルキル基、Ｃ１～Ｃ１０のアルコキシ基、Ｃ１～Ｃ１０のアルカノイル基、ハロゲンで置換されていてもよく、アルキレン部分は、不飽和結合、エーテル結合、チオエーテル結合、エステル結合を含んでいてもよい。また、アルキル基は直鎖、分岐または環状のいずれのアルキル基であってもよい。
【0093】
【化8】
【0094】
式（６）中、Ｒ９およびＲ１０はそれぞれ独立に、炭素数１～１０の直鎖状もしくは分岐状のアルキル基であるか、炭素数４～１０のシクロアルキル基、シクロアルキルアルキル基もしくはアルキルシクロアルキル基であるか、または炭素数１～６のアルキル基で置換されていてもよいフェニル基である。Ｒ１１は独立して炭素数２～１０の直鎖状もしくは分岐状のアルキル基またはアルケニル基であり、当該アルキル基またはアルケニル基中の－ＣＨ２－基の一部が－Ｏ－基で置換されていてもよい。さらに、これらＲ９～Ｒ１１の基中の水素原子の一部がハロゲン原子で置換されていてもよい。
【0095】
なお、（Ｃ）成分としては、活性ラジカル発生剤または酸発生剤を使用してもよい。
【0096】
活性ラジカル発生剤の例には、２，４，６－トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド、２，２’－ビス（ｏ－クロロフェニル）－４，４’，５，５’－テトラフェニル－１，２’－ビイミダゾール、１０－ブチル－２－クロロアクリドン、２－エチルアントラキノン、ベンジル、９，１０－フェナンスレンキノン、カンファーキノン、フェニルグリオキシル酸メチル、チタノセン化合物などが含まれる。
【0097】
酸発生剤の例には、４－ヒドロキシフェニルジメチルスルホニウムｐ－トルエンスルホナート、４－ヒドロキシフェニルジメチルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、４－アセトキシフェニルジメチルスルホニウムｐ－トルエンスルホナート、４－アセトキシフェニル・メチル・ベンジルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、トリフェニルスルホニウムｐ－トルエンスルホナート、トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ジフェニルヨードニウムｐ－トルエンスルホナート、ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロアンチモネートなどのオニウム塩類、ニトロベンジルトシレート類、ベンゾイントシレート類などが含まれる。
【0098】
また、それ自体では光重合開始剤や増感剤として作用しないが、上述の化合物と組み合わせて用いることにより、光重合開始剤や増感剤の能力を増大させ得るような化合物を添加してもよい。そのような化合物の例には、ベンゾフェノンと組みわせて使用すると効果のあるアミン系化合物が含まれる。上記アミン系化合物の例には、トリエチルアミン、トリエタノールアミン、メチルジエタノールアミン、トリイソプロパノールアミン、４－ジメチルアミノ安息香酸メチル、４－ジメチルアミノ安息香酸エチル、４－ジメチルアミノ安息香酸イソアミル、安息香酸２－ジメチルアミノエチル、４－ジメチルアミノ安息香酸２－エチルヘキシル、Ｎ，Ｎ－ジメチルパラトルイジン、４，４’－ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン、４，４’－ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、４，４’－ビス（エチルメチルアミノ）ベンゾフェノンなどが含まれる。
【0099】
（Ｃ）成分の含有量は、（Ａ）成分の合計１００質量部に対して、０．１質量部以上３０質量部以下であることが好ましく、０．２質量部以上１０質量部以下であることがより好ましい。（Ｃ）成分の含有量が０．１質量部以上であると、適度な光重合の速度を有するので、十分な感度を担保できる。また、（Ｃ）成分の含有量が３０質量部以下であると、マスクに対して忠実な線幅を再現できるとともにパターンエッジをシャープにすることができる。なお、（Ｃ）成分の含有量は、用いる（Ｃ）成分の種類に応じて、好適な範囲に設定すすることができる。
【0100】
なお、（Ｃ）成分は、１種類のみを単独で使用してもよく、２種以上を併用してもよい。
【0101】
１－４．（Ｄ）成分、（Ｅ）成分
感光性樹脂組成物は、（Ｄ）エポキシ化合物、および（Ｅ）任意成分としてのエポキシ化合物の硬化剤および硬化促進剤を含んでいてもよい。感光性樹脂組成物は、（Ｅ）成分として、硬化剤および硬化促進剤の双方を含んでいてもよいし、いずれか一方のみを含んでいてもよい。
感光性樹脂組成物は、（Ｄ）エポキシ化合物、および（Ｅ）任意成分としてのエポキシ化合物の硬化剤および硬化促進剤を含んでいてもよい。感光性樹脂組成物は、（Ｅ）成分として、硬化剤および硬化促進剤の双方を含んでいてもよいし、いずれか一方のみを含んでいてもよい。
【0102】
（Ｄ）成分は、硬化膜の耐溶剤性を高めることができる。また、フォトリソグラフィーにより硬化膜をパターン化するときなどには、（Ｄ）成分は、感光性樹脂組成物を低温（たとえば１５０℃以下）のポストベークで硬化させることができるため、硬化膜の作製効率を高めることができる。また、（Ｅ）成分は、（Ｄ）成分の硬化性を高めて、低温のポストベークでもより硬化させやすくすることができる。
【0103】
（Ｄ）成分の例には、（Ａ）成分について上述したエポキシ基を２個以上有するエポキシ化合物が含まれる。なお、これらの化合物は、その１種類の化合物のみを用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
【0104】
（Ｄ）成分は、上述したエポキシ化合物のうち、ビスフェノールＡ型エポキシ化合物、ビスフェノールＦ型エポキシ化合物、ビスフェノールフルオレン型エポキシ化合物、ビスナフトールフルオレン型エポキシ化合物、フェノールノボラック型エポキシ化合物、クレゾールノボラック型エポキシ化合物、ビフェニル型エポキシ化合物が好ましく、ビフェニル型エポキシ化合物がより好ましい。ビフェニル型のエポキシ化合物は、要求特性に合わせた硬化物の機械的強度や耐溶剤性と、光硬化時のマイクロレンズ形成用組成物のパターニング性を両立することができるとともに、感光性樹脂組成物を設計する自由度を大きくできる。
【0105】
（Ｄ）成分のエポキシ当量は、１００ｇ／ｅｑ以上５００ｇ／ｅｑ以下であることが好ましく、１００ｇ／ｅｑ以上４００ｇ／ｅｑ以下であることがより好ましく、１００ｇ／ｅｑ以上２５０ｇ／ｅｑ以下であることがさらに好ましい。また、（Ｄ）成分の数平均分子量（Ｍｎ）は、１００以上５０００以下であることが好ましい。（Ｄ）成分のエポキシ当量が１００ｇ／ｅｑ以上であると、硬化膜の耐溶剤性が高まる。（Ｄ）成分のエポキシ当量が５００ｇ／ｅｑ以下であると、後工程でアルカリ性の薬液を使う場合でも十分な耐アルカリ性を維持することができる。また、（Ｄ）成分のＭｎが５０００以下であると、後工程でアルカリ性の薬液を使う場合でも十分な耐アルカリ性を維持することができる。
【0106】
なお、（Ｄ）成分のエポキシ当量は、電位差滴定装置「ＣＯＭ－１６００」（平沼産業株式会社製）を用いて１／１０Ｎ－過塩素酸溶液で滴定して求めることができる。
【0107】
なお、（Ｄ）成分は、１種類のみを単独で使用してもよく、２種以上を併用してもよい。
【0108】
（Ｅ）成分としての硬化剤の例には、エポキシ樹脂の硬化に寄与するアミン系化合物、多価カルボン酸化合物、フェノール樹脂、アミノ樹脂、ジシアンジアミド、ルイス酸錯化合物等が含まれる。
【0109】
多価カルボン酸化合物の例には、多価カルボン酸、多価カルボン酸の無水物、および多価カルボン酸の熱分解性エステルが含まれる。多価カルボン酸とは１分子中に２つ以上のカルボキシ基を有する化合物をいい、例えば、コハク酸、マレイン酸、シクロヘキサン－１，２－ジカルボン酸、シクロヘキセン－１，２－ジカルボン酸、シクロヘキセン－４，５－ジカルボン酸、ノルボルナン－２，３－ジカルボン酸、フタル酸、３，６－ジヒドロフタル酸、１，２，３，６－テトラヒドロフタル酸、メチルテトラヒドロフタル酸、ベンゼン－１，２，４－トリカルボン酸、シクロヘキサン－１，２，４－トリカルボン酸、ベンゼン－１，２，４，５－テトラカルボン酸、シクロヘキサン－１，２，４，５－テトラカルボン酸、ブタン－１，２，３，４－テトラカルボン酸等が含まれる。多価カルボン酸の無水物の例には、上記化合物の酸無水物が含まれる。これは分子間酸無水物でもよいが、一般には分子内で閉環した酸無水物が用いられる。多価カルボン酸の熱分解性エステルの例には、上記化合物のｔ－ブチルエステル、１－（アルキルオキシ）エチルエステル、１－（アルキルスルファニル）エチルエステル（ただし、アルキルは炭素数１～２０の飽和または不飽和の炭化水素基であり、炭化水素基は分岐構造や環構造を有していてもよく、任意の置換基で置換されていてもよい）等が含まれる。また、多価カルボン酸化合物としては２つ以上のカルボキシ基を有する重合体または共重合体も用いることができ、そのカルボキシ基は無水物または熱分解性エステルであってもよい。
【0110】
また、上記重合体または共重合体の例には、（メタ）アクリル酸を構成成分として含む重合体または共重合体（（Ａ１）成分を除く）、無水マレイン酸を構成成分として含む共重合体、テトラカルボン酸二無水物をジアミンやジオールと反応させて酸無水物を開環させた化合物等が含まれる。これらのうち、フタル酸、３，６－ジヒドロフタル酸、１，２，３，６－テトラヒドロフタル酸、メチルテトラヒドロフタル酸、ベンゼン－１，２，４－トリカルボン酸の各無水物が好ましい。多価カルボン酸化合物をエポキシ化合物の硬化剤として用いるときは、エポキシ化合物のエポキシ基の１モルに対して、多価カルボン酸化合物のカルボキシ基が０．５～１．５モル、より好ましくは０．６～１．２モルになるように配合するのがよい。
【0111】
硬化促進剤の例には、エポキシ樹脂の硬化促進に寄与する三級アミン、四級アンモニウム塩、三級ホスフィン、四級ホスホニウム塩、ホウ酸エステル、ルイス酸、有機金属化合物、イミダゾール類等が含まれる。これらのうち、１，８－ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデカ－７－エンもしくは１，５－ジアザビシクロ［４．３．０］ノナ－５－エンまたはこれらの塩が好ましい。
【0112】
（Ｄ）成分および（Ｅ）成分の含有量は、固形分の全質量に対して５質量％以上３５質量％以下であることが好ましく、１０質量％以上３０質量％以下であることがより好ましい。（Ｄ）成分および（Ｅ）成分の上記含有量を５質量％以上とすると、硬化膜の耐溶剤性をより高めることができ、特にポストベークを低温で行っても、耐溶剤性が高い硬化膜を得ることができる。（Ｄ）成分および（Ｅ）成分の上記含有量を３５質量％以下とすると、基板への硬化膜の密着性をより高めることができる。
【0113】
硬化促進剤の含有量は、（Ｄ）成分の含有量を１００質量部としたときに０．０１質量部以上２質量部以下となる量であることが好ましい。硬化促進剤の添加量を０．０１質量部以上とすると、熱硬化後の樹脂膜パターンの耐溶剤性の発現状況等により添加量を調整することができる。また、硬化促進剤の添加量を２質量部以下とするとエポキシ化合物の硬化速度を適正な範囲とすることができる。
【0114】
なお、（Ｅ）成分は、１種類のみを単独で使用してもよく、２種以上を併用してもよい。
【0115】
１－５．（Ｇ）成分
感光性樹脂組成物は、（Ｇ）溶媒を含んでいてもよい。
感光性樹脂組成物は、（Ｇ）溶媒を含んでいてもよい。
【0116】
（Ｇ）成分の例には、メタノール、エタノール、ｎ－プロパノール、イソプロパノール、エチレングリコール、プロピレングリコール等のアルコール類；α－もしくはβ－テルピネオール等のテルペン類；アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、Ｎ－メチル－２－ピロリドン等のケトン類、トルエン、キシレン、テトラメチルベンゼン等の芳香族炭化水素類；メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、メチルカルビトール、エチルカルビトール、ブチルカルビトール、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、トリエチレングリコールモノエチルエーテル等のグリコールエーテル類；酢酸エチル、酢酸ブチル、セロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート、ブチルセロソルブアセテート、カルビトールアセテート、エチルカルビトールアセテート、ブチルカルビトールアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート等の酢酸エステル類などが含まれる。（Ｇ）成分は、その１種類のみを単独で使用してもよく、２種類以上を併用してもよい。
【0117】
（Ｇ）成分の含有量は、目標とする粘度によって変化するが、感光性樹脂組成物の全質量に対して３０質量％以上９０質量％以下であることが好ましい。（Ｇ）成分の含有量が３０質量％以上であると、基板上に感光性樹脂組成物を塗布しやすい粘度とすることができ、９０質量％以下であると、基板上に感光性樹脂組成物を塗布した後の乾燥に要する時間を短縮することができる。
【0118】
１－６．その他の成分
感光性樹脂組成物には、必要に応じて、（Ｈ）カップリング剤、（Ｉ）界面活性剤、（Ｊ）熱重合禁止剤および酸化防止剤、その他の樹脂成分、可塑剤、充填剤、レベリング剤、消泡剤、紫外線吸収剤、および粘度調整剤等の添加剤を配合することができる。
感光性樹脂組成物には、必要に応じて、（Ｈ）カップリング剤、（Ｉ）界面活性剤、（Ｊ）熱重合禁止剤および酸化防止剤、その他の樹脂成分、可塑剤、充填剤、レベリング剤、消泡剤、紫外線吸収剤、および粘度調整剤等の添加剤を配合することができる。
【0119】
カップリング剤の例には、シランカップリング剤などが含まれる。シランカップリング剤としては、反応基として、アミノ基、イソシアネート基、ウレイド基、エポキシ基、ビニル基、（メタ）アクリル基、メルカプト基等を有するものが好ましく、エポキシ基、イソシアネート基、メタクリル基を有するものがより好ましい。上記カップリング剤の具体例には、３－（グリシジルオキシ）プロピルトリメトキシシラン、３－アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３－イソシアナトプロピルトリエトキシシラン、３－ウレイドプロピルトリエトキシシラン等が含まれる。
【0120】
熱重合禁止剤および酸化防止剤の例には、ハイドロキノン、ハイドロキノンモノメチルエーテル、ピロガロール、ｔｅｒｔ－ブチルカテコール、フェノチアジン、ヒンダードフェノール系化合物等が含まれる。
【0121】
その他の樹脂成分の例には、ビニル樹脂、ポリエステル樹脂、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリエーテル樹脂、およびメラミン樹脂等が含まれる。
【0122】
可塑剤の例には、ジブチルフタレート、ジオクチルフタレート、リン酸トリクレジル等が含まれる。充填剤の例には、ガラスファイバー、シリカ、マイカ、アルミナ等が含まれる。
【0123】
レベリング剤や消泡剤の例には、シリコーン系、フッ素系、アクリル系の化合物が含まれる。
【0124】
紫外線吸収剤の例には、ベンゾトリアゾール化合物、ベンゾフェノン化合物、トリアジン化合物などが含まれる。
【0125】
１－７．製造方法
感光性樹脂組成物は、上述の各成分を混合することにより得ることができる。
感光性樹脂組成物は、上述の各成分を混合することにより得ることができる。
【0126】
２．用途
上述の感光性樹脂組成物によれば、光散乱性が良好であり、かつ光（特には青色光）をより等方的に散乱させる硬化膜を作製することができる。そのため、上述の感光性樹脂組成物は、画像表示装置などの光散乱層の作製に好適に用いることができる。この光散乱層は、発光素子の発光層とそれに隣接する層との層間や、透明電極と透明基板との層間、透明基板と空気との層間などに配置させてもよいし、量子ドットや蛍光発光材料および有機発光材料を含む波長変換層に隣接して配置してもよい。また、青色光を出射する光源と、当該青色光を緑色および赤色に変換する波長変換層（緑および赤のサブピクセル）とを備える表示装置において、波長変換層を設けない青のサブピクセルに配置して、各色のサブピクセルから出射する光の放射角度（指向性）を揃えるための光散乱層として用いてもよい。また、青色光を出射する光源と、緑色光を出射する光源と、当該青色光を赤色に変換する波長変換層（赤のサブピクセル）とを備える表示装置において、波長変換層を設けない青のサブピクセルおよび緑のサブピクセルに配置して、各色のサブピクセルから出射する光の放射角度（指向性）を揃えるための光散乱層として用いてもよい。
上述の感光性樹脂組成物によれば、光散乱性が良好であり、かつ光（特には青色光）をより等方的に散乱させる硬化膜を作製することができる。そのため、上述の感光性樹脂組成物は、画像表示装置などの光散乱層の作製に好適に用いることができる。この光散乱層は、発光素子の発光層とそれに隣接する層との層間や、透明電極と透明基板との層間、透明基板と空気との層間などに配置させてもよいし、量子ドットや蛍光発光材料および有機発光材料を含む波長変換層に隣接して配置してもよい。また、青色光を出射する光源と、当該青色光を緑色および赤色に変換する波長変換層（緑および赤のサブピクセル）とを備える表示装置において、波長変換層を設けない青のサブピクセルに配置して、各色のサブピクセルから出射する光の放射角度（指向性）を揃えるための光散乱層として用いてもよい。また、青色光を出射する光源と、緑色光を出射する光源と、当該青色光を赤色に変換する波長変換層（赤のサブピクセル）とを備える表示装置において、波長変換層を設けない青のサブピクセルおよび緑のサブピクセルに配置して、各色のサブピクセルから出射する光の放射角度（指向性）を揃えるための光散乱層として用いてもよい。
【0127】
光散乱層として用いるとき、硬化膜は、透明基板（たとえばガラス基板）上に製膜されたときの４５０ｎｍの光の透過率が５５％未満であることが好ましく、５０％未満であることがより好ましい。なお、透過率がより低いほど、より多くの光が散乱している（光の散乱性が高い）ことを示す。
【0128】
また、光散乱層として用いるとき、硬化膜は、透明基板上に製膜されたときに、硬化膜側から垂直に白色光を照射したときの直進した透過光の角度を０°とした場合の、６０°における散乱光の強度が、６°における散乱光の強度に対して５０％以上であることが好ましく、６０％以上であることがより好ましい。なお、上記強度比が高いほど、より等方的に光が散乱していることを示す。
【0129】
上記光散乱層は、中実粒子を含む層であってもよいし、中空粒子を含む層であってもよいが、光散乱効率をより高める観点からは、中実粒子を含む層であることが好ましい。
【0130】
上記光散乱層は、波長変換層を有する画像表示装置に用いることができる。図１Ａおよび図１Ｂは、光散乱層および波長変換層を有する画像表示装置の構成例を示す模式断面図である。なお、理解を容易にするため、図１Ａおよび図１Ｂでは積層方向の縮尺を変更して、各層の厚みを強調している。
【0131】
図１Ａに示す画像表示装置１００は、青色光源から発せられる青色光の透過方向（図中矢印方向、図中上から下に向かう方向）に、この順に、第１の保護層１１０、光散乱層１２０（第１の光散乱層１２０）および波長変換層１２２、第２の保護層１３０、カラーフィルター層１４０およびガラス基板１５０を有する。
【0132】
第１の保護層１１０は、たとえば光散乱層１２０および波長変換層１２２の画素間に生じる凹凸を平坦化すること、画像表示装置１００の信頼性を向上させることなどを目的として形成される層である。第１の保護層１１０は、エポキシ樹脂やアクリル樹脂などを用いた公知の保護層であればよい。
【0133】
光散乱層１２０は、上述の感光性樹脂組成物を塗布し硬化させてなる層であり、（Ａ）成分の硬化物（樹脂）を母材とした硬化膜中に（Ｂ）成分が分散してなる層である。光散乱層１２０中の（Ｂ）成分の含有量は、感光性樹脂組成物中の固形分に対する（Ｂ）成分の量が維持される。そのため、（Ｂ）成分が、平均粒径が１００ｎｍ以上６００ｎｍ以下であり、中空率が１０％未満である、屈折率が１．９以上２．７以下の金属酸化物からなる粒子であるときは、（Ｂ）成分の含有量は、硬化膜の全質量に対して１５質量％以上７０質量％以下である。また、（Ｂ）成分が、平均粒径が１００ｎｍ以上６００ｎｍ以下であり、中空率が１０％以上９０％以下である、屈折率が１．９以上２．７以下の金属酸化物からなる粒子であるときは、（Ｂ）成分の含有量は、硬化膜の全質量に対して１０質量％以上７０質量％以下である。
【0134】
波長変換層１２２は、エポキシ樹脂やアクリル樹脂などを母材とした硬化膜中に、波長変換用の量子ドットや蛍光発光材料および有機発光材料を含む層であり、青色光の波長を変換して赤色光や緑色光にする。図１Ａに示す画像表示装置は、青色光を赤色光に変換する波長変換層１２２ａと、青色光を緑色光に変換する波長変換層１２２ｂと、を有する。これらの波長変換層は、層中で光を散乱させて光の移動距離を長くし、光の変換効率を高めるための粒子を含んでいてもよい。
【0135】
光散乱層１２０と波長変換層１２２とは、同一平面上に配置されており、隔壁層１２４によって区分けされた各画素に、光散乱層１２０、波長変換層１２２ａおよび波長変換層１２２ｂのいずれかが配置される。
【0136】
第２の保護層１３０は、たとえばカラーフィルター層１４０の画素間に生じる凹凸を平坦化すること、製造工程における熱処理や薬品処理に対するカラーフィルター層１４０の耐久性を向上させること、画像表示装置１００の信頼性を向上させることなどを目的として形成される層である。第２の保護層１３０は、エポキシ樹脂やアクリル樹脂などを用いた公知の保護層であればよい。
【0137】
カラーフィルター層１４０は、色素を含むことにより、波長変換層１２２を通して波長を変換された光に含まれる、所望の波長以外の波長を有する光を吸収する層である。カラーフィルター層１４０は、赤色のカラーフィルター１４０ａ、緑色のカラーフィルター１４０ｂ、および青色のカラーフィルター１４０ｃの、色素が異なる複数のカラーフィルターを有する。これらのカラーフィルターは、同一平面上に配置されており、ブラックマトリクス１４４によって区分けされた各画素に、いずれかのカラーフィルターが配置される。ただし、いずれも青色光の透過方向における、波長変換層１２２ａ（赤色）に対応する位置には赤色のカラーフィルター１４０ａが、第２の波長変換層１２２ａ（緑色）に対応する位置には緑色のカラーフィルター１４０ｂが、光散乱層１２０に対応する位置には青色のカラーフィルター１４０ｃが、それぞれ配置される。
【0138】
そして、カラーフィルター層１４０に接して、ガラス基板１５０が配置される。
【0139】
なお、画像表示装置１００の構成はこれに限定されることはなく、たとえば図１Ｂに示すように、カラーフィルター層１４０とガラス基板１５０との間に、第２の光散乱層１６０を設けてもよい。
【0140】
上述の感光性樹脂組成物を硬化させてなる光散乱層は、画像表示装置１００の第１の光散乱層１２０または第２の光散乱層１６０として使用することができる。なお、第１の光散乱層１２０および第２の光散乱層１６０のいずれか一方に上記光散乱層を使用してもよいし、第１の光散乱層１２０および第２の光散乱層１６０の双方に上記光散乱層を使用してもよい。
【0141】
ところで、波長変換層１２２は、層中で光を屈折させて波長変換層を透過する光の移動距離を長くし、波長の変換効率を高めるための粒子を含むことが好ましい。ここで、本発明者らの知見によれば、画像表示装置１００に用いる波長変換層１２２は、上記粒子として中空粒子を含むことが好ましい。中空粒子は、中空粒子よりも透過率が高いにもかかわらず、散乱強度も高いという特性を有する。そのため、中空粒子は、波長変換層中での光の減光が生じにくく、一方で、波長変換層中で光を散乱させて光の移動距離を長くしやすいので、波長変換効率を高めることができる。このとき波長変換層１２２に用いる中空粒子は、波長変換層中での光の散乱効率を高める観点から、上述した感光性樹脂組成物の（Ｂ）成分として用いられる中空粒子であることが好ましい。
【0142】
画像表示装置１００には、それぞれの画素ごとに発光ダイオード（ＬＥＤ）や有機発光ダイオード（ＯＬＥＤ）などの発光素子が配置されており、画素毎の透過光の差を小さくするように、それぞれの画素毎に配置された発光素子から発する光の強度を変更することができる。
【0143】
画像表示装置１００から得られる４００ｎｍ～４８０ｎｍの範囲の青色発光強度、４８０ｎｍ～５９０ｎｍの範囲の緑色発光強度、および５９０ｎｍ～７５０ｎｍの範囲の赤色発光強度のバランスをより良好にする観点からは、画像表示装置１００は、（Ｂ）成分として中実粒子を含む上述の感光性樹脂組成物を塗布し硬化させてなる層を光散乱層１２０または光散乱層１６０として有し、中空粒子を含む層を波長変換層１２２として有することが好ましい。具体的には、光散乱層１２０または光散乱層１６０は、平均粒径が１００ｎｍ以上６００ｎｍ以下であり、中空率が１０％未満である、屈折率が１．９以上２．７以下の金属酸化物からなる粒子を含む硬化膜を有し、上記硬化膜の全質量に対する上記粒子の含有量が５質量％以上７０質量％以下である層であることが好ましい。また、波長変換層１２２は、平均粒径が１００ｎｍ以上６００ｎｍ以下であり、中空率が１０％以上９０％以下である粒子を含む硬化膜を有する層であることが好ましい。
【0144】
なお、波長変換層１２２は、中空粒子を含む感光性樹脂組成物を硬化してなる層であればよく、波長変換層を形成するための感光性樹脂組成物の組成は特に限定されない。ただし、（Ｂ）成分として中空粒子を含む上述の感光性樹脂組成物（ただし、中空粒子の量（感光性樹脂組成物中の固形分の全質量に対する中空粒子の含有量）は後述する範囲に変更することが好ましい。）を用いて波長変換層１２２を形成することは、精細なパターン形成をする観点から好ましい。
【0145】
具体的には、波長変換層１２２が含む中空粒子は、屈折率が１．９以上２．７以下の金属酸化物を材料としてなる粒子であることが好ましく、２．１以上２．７以下の金属酸化物を材料としてなる粒子であることがより好ましく、２．３以上２．７以下の金属酸化物を材料としてなる粒子であることがさらに好ましい。なお、波長変換層１２２が含む中空粒子は、光散乱層１２０が含む粒子との屈折率の差がより小さいことが好ましく、たとえば両者の屈折率の差は０以上０．５以下であることが好ましく、０以上０．３以下であることがより好ましく、両者は同一の金属酸化物を材料としてなる粒子であることがさらに好ましい。
【0146】
また、波長変換層１２２が含む中空粒子は、平均粒径が１００ｎｍ以上４５０ｎｍ以下であることが好ましく、１５０ｎｍ以上４００ｎｍ以下であることがより好ましい。
【0147】
また、波長変換層１２２は、上記硬化膜の全質量に対する上記粒子の含有量が５質量％以上７０質量％以下であり、５質量％以上６０質量％以下であることが好ましく、５質量％以上５０質量％以下であることがより好ましく、５質量％以上３５質量％以下であることがより好ましい。
【0148】
なお、上述の実施態様では、青色光を出射する光源と、当該青色光を緑色および赤色に変換する波長変換層（緑および赤のサブピクセル）とを備える表示装置について説明をしたが、青色光を緑色光に変換する波長変換層１２２ｂのかわりに光散乱層を配置して、緑色のサブピクセルは緑色光を出射する光源からの光の放射角度（指向性）を光散乱層で揃える構成としてもよい。
【0149】
硬化膜は、上述の感光性樹脂組成物を基板上に塗布する工程と、塗布された感光性樹脂組成物を露光して硬化させる工程と、により作製することができる。
【0150】
感光性樹脂組成物の塗布は、浸漬法、スプレー法、スピンコート法、ロールコート法、カーテンコート法、およびスクリーン印刷法などの方法により行うことができる。これらの方法によって、所望の厚さに塗布した後、溶剤を除去する（プリベーク）ことにより、塗膜が形成される。プリベークはオーブン、ホットプレート等により加熱することによって行われる。プリベークにおける加熱温度および加熱時間は使用する溶剤に応じて適宜選択されればよく、たとえば６０～１１０℃の温度（基板の耐熱温度を超えないように設定）で１～３分間行なえばよい。
【0151】
露光では、フォトマスクを介して塗膜に放射線を照射して露光することにより、パターンに対応した部分のレジストのみを感光させて光硬化させる。放射線の例には、可視光線、紫外線、遠紫外線、電子線、およびＸ線などが含まれる。これらのうち、波長が２５０ｎｍ以上４５０ｎｍ以下の紫外線が好ましい。紫外線の照射は、超高圧水銀灯、高圧水銀ランプ、メタルハライドランプ、遠紫外線灯等の光源を用いて行うことができる。放射線の露光量は、２５ｍＪ／ｃｍ２以上３０００ｍＪ／ｃｍ２以下であることが好ましい。
【0152】
アルカリ現像により、露光されなかった部分の塗膜を除去する。アルカリ現像は、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、水酸化カリウム、ジエタノールアミン、およびテトラメチルアンモニウムヒドロキシドなどを含む水溶液により行うことができる。現像液には、必要に応じて界面活性剤を添加してもよい。シャワー現像法、スプレー現像法、ディップ（浸漬）現像法、パドル（液盛り）現像法などにより現像液を塗膜に接触させることにより露光されず硬化しなかった塗膜が除去される。現像温度は、２０～３５℃であることが好ましい。
【0153】
アルカリ現像後、ポストベークにより、パターニングされた硬化膜を本硬化し、基板への密着性を高める。ポストベークは、１８０～２５０℃の温度で２０～６０分間行うなどの公知の方法により行うことができる。ただし、耐熱温度が１５０℃以下の基板上に光散乱性を有する硬化膜パターンを形成している場合などには、現像後、８０～１４０℃の温度（基板の耐熱温度を超えないように設定）および２０～９０分の条件で熱処理（ポストベーク）が行われることが好ましく、温度９０～１２０℃、加熱時間３０～６０分の条件で行われることがより好ましい。（Ｄ）成分や（Ｅ）成分を含有するときは、このような低温でも感光性樹脂組成物を十分に硬化および密着させることができる。
【0154】
なお、感光性樹脂組成物の塗布をインクジェット法により行い、パターン化された塗膜を形成してもよい。その後、上述の放射線による露光を行って塗膜を硬化させて、基板上に硬化膜を作製することができる。また、露光では、フォトマスクを介して塗膜に放射線を照射して露光してもよく、その後上述のアルカリ現像により露光されなかった部分の塗膜を除去してもよい。
【実施例0155】
以下、実施例および比較例に基づいて、本発明の実施形態を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【0156】
まず、Ａ成分のアルカリ可溶性樹脂の合成例から説明するが、これらの合成例における樹脂の評価は、断りのない限り以下の通りに行った。各種測定機器について、同一の機種を使用した場合には、２か所目から機器メーカー名を省略している。また、［実験１］および［実験２］において、測定用硬化膜付き基板の作製に使用しているガラス基板は、全て同じ処理を施したガラス基板を使用している。
【0157】
［固形分濃度］
合成例中で得られた樹脂溶液１ｇをガラスフィルター〔重量：Ｗ０（ｇ）〕に含浸させて秤量し〔Ｗ１（ｇ）〕、１６０℃にて２時間加熱した後の重量〔Ｗ２（ｇ）〕から次式より求めた。
固形分濃度（重量％）＝１００×（Ｗ２－Ｗ０）／（Ｗ１－Ｗ０）
合成例中で得られた樹脂溶液１ｇをガラスフィルター〔重量：Ｗ０（ｇ）〕に含浸させて秤量し〔Ｗ１（ｇ）〕、１６０℃にて２時間加熱した後の重量〔Ｗ２（ｇ）〕から次式より求めた。
固形分濃度（重量％）＝１００×（Ｗ２－Ｗ０）／（Ｗ１－Ｗ０）
【0158】
［エポキシ当量］
樹脂溶液をジオキサンに溶解させた後に臭化テトラエチルアンモニウムの酢酸溶液を加え、電位差滴定装置「ＣＯＭ－１６００」（平沼産業株式会社製）を用いて１／１０Ｎ－過塩素酸溶液で滴定して求めた。
樹脂溶液をジオキサンに溶解させた後に臭化テトラエチルアンモニウムの酢酸溶液を加え、電位差滴定装置「ＣＯＭ－１６００」（平沼産業株式会社製）を用いて１／１０Ｎ－過塩素酸溶液で滴定して求めた。
【0159】
［酸価］
樹脂溶液をジオキサンに溶解させ、電位差滴定装置「ＣＯＭ－１６００」を用いて１／１０Ｎ－ＫＯＨ水溶液で滴定して求めた。
樹脂溶液をジオキサンに溶解させ、電位差滴定装置「ＣＯＭ－１６００」を用いて１／１０Ｎ－ＫＯＨ水溶液で滴定して求めた。
【0160】
［分子量］
ゲルパーミュエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）「ＨＬＣ－８２２０ＧＰＣ」（東ソー株式会社製、溶媒：テトラヒドロフラン、カラム：ＴＳＫｇｅｌＳｕｐｅｒ Ｈ－２０００（２本）＋ＴＳＫｇｅｌＳｕｐｅｒ Ｈ－３０００（１本）＋ＴＳＫｇｅｌＳｕｐｅｒ Ｈ－４０００（１本）＋ＴＳＫｇｅｌＳｕｐｅｒ Ｈ－５０００（１本）（東ソー株式会社製）、温度：４０℃、速度：０．６ｍｌ／ｍｉｎ）にて測定し、標準ポリスチレン（東ソー株式会社製、ＰＳ－オリゴマーキット）換算値として重量平均分子量（Ｍｗ）を求めた。
ゲルパーミュエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）「ＨＬＣ－８２２０ＧＰＣ」（東ソー株式会社製、溶媒：テトラヒドロフラン、カラム：ＴＳＫｇｅｌＳｕｐｅｒ Ｈ－２０００（２本）＋ＴＳＫｇｅｌＳｕｐｅｒ Ｈ－３０００（１本）＋ＴＳＫｇｅｌＳｕｐｅｒ Ｈ－４０００（１本）＋ＴＳＫｇｅｌＳｕｐｅｒ Ｈ－５０００（１本）（東ソー株式会社製）、温度：４０℃、速度：０．６ｍｌ／ｍｉｎ）にて測定し、標準ポリスチレン（東ソー株式会社製、ＰＳ－オリゴマーキット）換算値として重量平均分子量（Ｍｗ）を求めた。
【0161】
また、以下の合成例等で使用する略号は次のとおりである。
ＡＡ ：アクリル酸
ＢＰＦＥ ：ビスフェノールフルオレン型エポキシ化合物（９，９－ビス（４－ヒドロキシフェニル）フルオレンとクロロメチルオキシランとの反応物）
ＢＰＤＡ ：３，３’，４，４’－ビフェニルテトラカルボン酸二無水物
ＴＨＰＡ ：テトラヒドロ無水フタル酸
ＴＥＡＢ ：臭化テトラエチルアンモニウム
ＰＧＭＥＡ ：プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート
ＡＡ ：アクリル酸
ＢＰＦＥ ：ビスフェノールフルオレン型エポキシ化合物（９，９－ビス（４－ヒドロキシフェニル）フルオレンとクロロメチルオキシランとの反応物）
ＢＰＤＡ ：３，３’，４，４’－ビフェニルテトラカルボン酸二無水物
ＴＨＰＡ ：テトラヒドロ無水フタル酸
ＴＥＡＢ ：臭化テトラエチルアンモニウム
ＰＧＭＥＡ ：プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート
【0162】
［合成例１］
還留冷却器付き５００ｍｌ四つ口フラスコ中にＢＰＦＥ（１１４．４ｇ、０．２３モル）、ＡＡ（３３．２ｇ、０．４６モル）、ＰＧＭＥＡ（１５７ｇ）およびＴＥＡＢ（０．４８ｇ）を仕込み、１００～１０５℃で２０時間撹拌して反応させた。次いで、フラスコ内にＢＰＤＡ（３５．３ｇ、０．１２モル）、ＴＨＰＡ（１８．３ｇ、０．１２モル）を仕込み、１２０～１２５℃で６時間撹拌し、重合性不飽和基含有アルカリ可溶性樹脂（Ａ１－１）を得た。得られた樹脂溶液の固形分濃度は５６．５質量％、酸価（固形分換算）は１０３ｍｇＫＯＨ/ｇ、ＧＰＣ分析によるＭｗは３６００であった。
還留冷却器付き５００ｍｌ四つ口フラスコ中にＢＰＦＥ（１１４．４ｇ、０．２３モル）、ＡＡ（３３．２ｇ、０．４６モル）、ＰＧＭＥＡ（１５７ｇ）およびＴＥＡＢ（０．４８ｇ）を仕込み、１００～１０５℃で２０時間撹拌して反応させた。次いで、フラスコ内にＢＰＤＡ（３５．３ｇ、０．１２モル）、ＴＨＰＡ（１８．３ｇ、０．１２モル）を仕込み、１２０～１２５℃で６時間撹拌し、重合性不飽和基含有アルカリ可溶性樹脂（Ａ１－１）を得た。得られた樹脂溶液の固形分濃度は５６．５質量％、酸価（固形分換算）は１０３ｍｇＫＯＨ/ｇ、ＧＰＣ分析によるＭｗは３６００であった。
【0163】
［合成例２］
合成例１のＢＰＦＥを、ビスフェノールフルオレン骨格の重合度を増やしたＢＰＦＥに変えた以外は、合成例１と同じ仕込み量と合成方法用いて、重合性不飽和基含有アルカリ可溶性樹脂（Ａ１－２）を得た。得られた樹脂溶液の固形分濃度は５０．０質量％、酸価（固形分換算）は９２ｍｇＫＯＨ/ｇ、ＧＰＣ分析によるＭｗは６０００であった。
合成例１のＢＰＦＥを、ビスフェノールフルオレン骨格の重合度を増やしたＢＰＦＥに変えた以外は、合成例１と同じ仕込み量と合成方法用いて、重合性不飽和基含有アルカリ可溶性樹脂（Ａ１－２）を得た。得られた樹脂溶液の固形分濃度は５０．０質量％、酸価（固形分換算）は９２ｍｇＫＯＨ/ｇ、ＧＰＣ分析によるＭｗは６０００であった。
【0164】
［実施例１］
以下の成分を用いて、フォトリソグラフィー用の感光性樹脂組成物を調製した。
以下の成分を用いて、フォトリソグラフィー用の感光性樹脂組成物を調製した。
【0165】
（重合性不飽和基含有アルカリ可溶性樹脂）
（Ａ１－１）：上記合成例１で得られた樹脂溶液（固形分濃度５６．５質量％）
（Ａ１－２）：上記合成例２で得られた樹脂溶液（固形分濃度５０．０質量％）
（Ａ１－１）：上記合成例１で得られた樹脂溶液（固形分濃度５６．５質量％）
（Ａ１－２）：上記合成例２で得られた樹脂溶液（固形分濃度５０．０質量％）
【0166】
（光重合性化合物）
（Ａ２－１）：ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとヘキサアクリレートとの混合物（ＤＰＨＡ（アクリル当量９６～１１５）、日本化薬株式会社製）
（Ａ２－１）：ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとヘキサアクリレートとの混合物（ＤＰＨＡ（アクリル当量９６～１１５）、日本化薬株式会社製）
【0167】
（金属酸化物粒子分散体）
（Ｂ－１）：中空チタニア粒子（平均粒径３０６ｎｍ）、中空率約３０％、濃度３０質量％、分散剤３質量％、ＰＧＭＥＡ６７質量％の中空チタニア粒子分散体
（Ｂ－２）：中実チタニア粒子（平均粒径２００ｎｍ）、中空率０％、濃度３０質量％、分散剤３質量％、ＰＧＭＥＡ６７質量％のチタニア粒子分散体
（Ｂ－１）：中空チタニア粒子（平均粒径３０６ｎｍ）、中空率約３０％、濃度３０質量％、分散剤３質量％、ＰＧＭＥＡ６７質量％の中空チタニア粒子分散体
（Ｂ－２）：中実チタニア粒子（平均粒径２００ｎｍ）、中空率０％、濃度３０質量％、分散剤３質量％、ＰＧＭＥＡ６７質量％のチタニア粒子分散体
【0168】
（光重合開始剤）
（Ｃ）：１，２－オクタンジオン，１－［４－（フェニルチオ）フェニル］－，２－（Ｏ－ベンゾイルオキシム）（ＩｒｇａｃｕｒｅＯＸＥ－０１、ＢＡＳＦ社製、「Ｉｒｇａｃｕｒｅ」は同社の登録商標）
（Ｃ）：１，２－オクタンジオン，１－［４－（フェニルチオ）フェニル］－，２－（Ｏ－ベンゾイルオキシム）（ＩｒｇａｃｕｒｅＯＸＥ－０１、ＢＡＳＦ社製、「Ｉｒｇａｃｕｒｅ」は同社の登録商標）
【0169】
（エポキシ化合物）
（Ｄ）：３，４－エポキシシクロヘキサンカルボン酸（３’，４’－エポキシシクロヘキシル）メチル（セロキサイド２０２１Ｐ（エポキシ当量１３５）、株式会社ダイセル製）
（Ｄ）：３，４－エポキシシクロヘキサンカルボン酸（３’，４’－エポキシシクロヘキシル）メチル（セロキサイド２０２１Ｐ（エポキシ当量１３５）、株式会社ダイセル製）
【0170】
（硬化剤および硬化促進剤）
（Ｅ－１）：ベンゼン１，２，４－トリカルボン酸－１，２－無水物
（Ｅ－２）：１，８－ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデカ－７－エン（ＤＢＵ（Ｒ））を２質量％含有するＰＧＭＥＡ溶液、サンアプロ株式会社製）
（Ｅ－１）：ベンゼン１，２，４－トリカルボン酸－１，２－無水物
（Ｅ－２）：１，８－ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデカ－７－エン（ＤＢＵ（Ｒ））を２質量％含有するＰＧＭＥＡ溶液、サンアプロ株式会社製）
【0171】
（溶剤）
（Ｇ－１）：プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ）
（Ｇ－２）：１－メトキシ－２－プロパノール（ＭＭＰＧ）
（Ｇ－１）：プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ）
（Ｇ－２）：１－メトキシ－２－プロパノール（ＭＭＰＧ）
【0172】
（その他添加剤）
（カップリング剤）
（Ｈ）：３－グリシドキシプロピルトリメトキシシラン
（界面活性剤）
（Ｉ）：メガファックＦ－５６０（２０質量％含有ＰＧＭＥＡ溶液）（ＤＩＣ株式会社製）
（カップリング剤）
（Ｈ）：３－グリシドキシプロピルトリメトキシシラン
（界面活性剤）
（Ｉ）：メガファックＦ－５６０（２０質量％含有ＰＧＭＥＡ溶液）（ＤＩＣ株式会社製）
【0173】
［実施例１］
上記の配合成分を表１に示す割合で配合して、実施例１～５および比較例１～２の感光性樹脂組成物を調製した。表１の数値はすべて質量部を表す。
上記の配合成分を表１に示す割合で配合して、実施例１～５および比較例１～２の感光性樹脂組成物を調製した。表１の数値はすべて質量部を表す。
【0174】
【表1】
【0175】
［評価］
実施例１～５、比較例１～２の感光性樹脂組成物を用いて、以下の評価を行った。評価結果を表２に示す。
実施例１～５、比較例１～２の感光性樹脂組成物を用いて、以下の評価を行った。評価結果を表２に示す。
【0176】
［現像特性評価］
（現像特性評価用の硬化膜の作製）
表１に示した感光性樹脂組成物を、予め低圧水銀灯で波長２５４ｎｍの照度１０００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射して表面を洗浄した、１２５ｍｍ×１２５ｍｍのガラス基板「＃１７３７」（コーニング社製）（以下「ガラス基板」という）上に、加熱硬化処理後の膜厚が４．０μｍとなるようにスピンコーターを用いて塗布し、ホットプレートを用いて９０℃で２分間プリベークをして硬化膜（塗膜）を作製した。次いで、上記硬化膜（塗膜）上にライン／スペース＝２０μｍ／２０μｍのネガ型フォトマスクを被せ、ｉ線照度３０ｍＷ／ｃｍ２の超高圧水銀ランプで５０ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射して、光硬化反応を行った。
（現像特性評価用の硬化膜の作製）
表１に示した感光性樹脂組成物を、予め低圧水銀灯で波長２５４ｎｍの照度１０００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射して表面を洗浄した、１２５ｍｍ×１２５ｍｍのガラス基板「＃１７３７」（コーニング社製）（以下「ガラス基板」という）上に、加熱硬化処理後の膜厚が４．０μｍとなるようにスピンコーターを用いて塗布し、ホットプレートを用いて９０℃で２分間プリベークをして硬化膜（塗膜）を作製した。次いで、上記硬化膜（塗膜）上にライン／スペース＝２０μｍ／２０μｍのネガ型フォトマスクを被せ、ｉ線照度３０ｍＷ／ｃｍ２の超高圧水銀ランプで５０ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射して、光硬化反応を行った。
【0177】
次いで、露光した上記硬化膜（塗膜）を２５℃、０．０４％水酸化カリウム溶液により１ｋｇｆ／ｃｍ２のシャワー圧にて、パターンが現れ始める現像時間（ブレイクタイム＝ＢＴ）から２０秒間、現像処理を行った後、５ｋｇｆ／ｃｍ２のスプレー水洗を行い、上記硬化膜（塗膜）の未露光部分を除去してガラス基板上に硬化膜パターンを形成し、熱風乾燥機を用いて１２０℃で６０分間、本硬化（ポストベーク）し、実施例１～５、および比較例１～２に係る硬化膜付き基板を得た。
【0178】
上記で得られた実施例１～５および比較例１～２の感光性樹脂組成物を硬化してなる硬化膜について、以下の項目について評価した結果を表２に示す。
【0179】
（パターン密着性）
（評価方法）
本硬化（ポストベーク）後の２０μｍマスクパターンを光学顕微鏡で観察した。なお、△以上を合格とした。
（評価基準）
○：全く剥離していない
△：一部が剥離している
×：大部分が剥離している
（評価方法）
本硬化（ポストベーク）後の２０μｍマスクパターンを光学顕微鏡で観察した。なお、△以上を合格とした。
（評価基準）
○：全く剥離していない
△：一部が剥離している
×：大部分が剥離している
【0180】
（パターン直線性）
（評価方法）
本硬化（ポストベーク）後の２０μｍマスクパターンを光学顕微鏡で観察した。なお、△以上を合格とした。
（評価基準）
○：パターンエッジ部分のギザつきが認められない
△：パターンエッジ部分のギザつきが一部に認められる
×：パターンエッジ部分のギザつきが大部分に認められる
（評価方法）
本硬化（ポストベーク）後の２０μｍマスクパターンを光学顕微鏡で観察した。なお、△以上を合格とした。
（評価基準）
○：パターンエッジ部分のギザつきが認められない
△：パターンエッジ部分のギザつきが一部に認められる
×：パターンエッジ部分のギザつきが大部分に認められる
【0181】
（パターン精細度）
（評価方法）
本硬化（ポストベーク）後の１０～５０μｍマスクパターンを光学顕微鏡観察した。なお、△以上を合格とした。
（評価基準）
○：１５μｍ以上２５μｍ未満のパターンが形成されている
△：２５μｍ以上～５０μｍ未満のパターンが形成されている
×：パターンが形成されていない
（評価方法）
本硬化（ポストベーク）後の１０～５０μｍマスクパターンを光学顕微鏡観察した。なお、△以上を合格とした。
（評価基準）
○：１５μｍ以上２５μｍ未満のパターンが形成されている
△：２５μｍ以上～５０μｍ未満のパターンが形成されている
×：パターンが形成されていない
【0182】
［薬品耐性評価］
（耐溶剤性評価用の硬化膜の作製）
表１に示した感光性樹脂組成物を、ガラス基板上に、加熱硬化処理後の膜厚が４．０μｍとなるようにスピンコーターを用いて塗布し、ホットプレートを用いて９０℃で２分間プリベークをして硬化膜（塗膜）を作製した。次いで、上記硬化膜（塗膜）上にライン／スペース＝２０μｍ／２０μｍのネガ型フォトマスクを被せ、ｉ線照度３０ｍＷ／ｃｍ２の超高圧水銀ランプで５０ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射して、光硬化反応を行った。
（耐溶剤性評価用の硬化膜の作製）
表１に示した感光性樹脂組成物を、ガラス基板上に、加熱硬化処理後の膜厚が４．０μｍとなるようにスピンコーターを用いて塗布し、ホットプレートを用いて９０℃で２分間プリベークをして硬化膜（塗膜）を作製した。次いで、上記硬化膜（塗膜）上にライン／スペース＝２０μｍ／２０μｍのネガ型フォトマスクを被せ、ｉ線照度３０ｍＷ／ｃｍ２の超高圧水銀ランプで５０ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射して、光硬化反応を行った。
【0183】
次いで、露光した上記硬化膜（塗膜）を２５℃、０．０５％水酸化カリウム溶液により１ｋｇｆ／ｃｍ２のシャワー圧にて６０秒間、現像処理を行った後、５ｋｇｆ／ｃｍ２のスプレー水洗を行い、上記硬化膜（塗膜）の未露光部分を除去してガラス基板上に硬化膜パターンを形成し、熱風乾燥機を用いて１２０℃で６０分間、本硬化（ポストベーク）し、実施例１～５、および比較例１～２に係る硬化膜付き基板を得た。
（評価方法）
ガラス基板上に作製した硬化膜の表面をＰＧＭＥＡに浸漬したウエスで連続して２０往復擦った。なお、△以上を合格とした。
（評価基準）
○：硬化膜の表面に溶解が見られず、傷も付いていない
△：硬化膜の表面のごく一部に溶解が見られ、ごく一部に傷も付いている
×：硬化膜の表面が軟化しており、大部分に傷が付いている
（評価方法）
ガラス基板上に作製した硬化膜の表面をＰＧＭＥＡに浸漬したウエスで連続して２０往復擦った。なお、△以上を合格とした。
（評価基準）
○：硬化膜の表面に溶解が見られず、傷も付いていない
△：硬化膜の表面のごく一部に溶解が見られ、ごく一部に傷も付いている
×：硬化膜の表面が軟化しており、大部分に傷が付いている
【0184】
［光学特性評価］
（透過率の評価）
（評価方法）
耐溶剤性評価用に作製した硬化膜と同様の硬化膜を用いて、紫外可視近赤外分光光度計「ＵＨ４１５０」（株式会社日立ハイテクサイエンス製）を用い、４５０ｎｍの透過率を測定した。なお、△以上を合格とした。
（評価基準）
○：透過率が５０％未満
△：透過率が５０％以上５５％未満
×：透過率が５５％以上
（透過率の評価）
（評価方法）
耐溶剤性評価用に作製した硬化膜と同様の硬化膜を用いて、紫外可視近赤外分光光度計「ＵＨ４１５０」（株式会社日立ハイテクサイエンス製）を用い、４５０ｎｍの透過率を測定した。なお、△以上を合格とした。
（評価基準）
○：透過率が５０％未満
△：透過率が５０％以上５５％未満
×：透過率が５５％以上
【0185】
［光散乱性の評価］
耐溶剤性評価用に作製した硬化膜と同様の硬化膜の表面に対し、垂直に白色光を照射し、透過散乱光についてゴニオフォトメータ「ＧＰ－１」（ニッカ電測株式会社製）を用いて測定した。なお、△以上を合格とした。
（評価基準）
◎：直進した透過光の角度を０°とした場合の６°、６０°における散乱光の強度の評価を行い、６０°における散乱光強度が６°における散乱光強度に対し６５％以上
○：直進した透過光の角度を０°とした場合の６°、６０°における散乱光の強度の評価を行い、６０°における散乱光強度が６°における散乱光強度に対し６０％以上６５％未満
△：直進した透過光の角度を０°とした場合の６°、６０°における散乱光の強度の評価を行い、６０°における散乱光強度が６°における散乱光強度に対し５０以上６０％未満
×：直進した透過光の角度を０°とした場合の６°、６０°における散乱光の強度の評価を行い、６０°における散乱光強度が６°における散乱光強度に対し５０％未満
耐溶剤性評価用に作製した硬化膜と同様の硬化膜の表面に対し、垂直に白色光を照射し、透過散乱光についてゴニオフォトメータ「ＧＰ－１」（ニッカ電測株式会社製）を用いて測定した。なお、△以上を合格とした。
（評価基準）
◎：直進した透過光の角度を０°とした場合の６°、６０°における散乱光の強度の評価を行い、６０°における散乱光強度が６°における散乱光強度に対し６５％以上
○：直進した透過光の角度を０°とした場合の６°、６０°における散乱光の強度の評価を行い、６０°における散乱光強度が６°における散乱光強度に対し６０％以上６５％未満
△：直進した透過光の角度を０°とした場合の６°、６０°における散乱光の強度の評価を行い、６０°における散乱光強度が６°における散乱光強度に対し５０以上６０％未満
×：直進した透過光の角度を０°とした場合の６°、６０°における散乱光の強度の評価を行い、６０°における散乱光強度が６°における散乱光強度に対し５０％未満
【0186】
【表2】
【0187】
上記実施例１～５、比較例１～２の結果から明らかなように、特定の平均粒径を有する粒子である、特定の屈折率を有する金属酸化物の粒子を含む感光性樹脂組成物を用いることにより、光散乱性に優れるとともに、精細なパターン形成をすることができる硬化膜を作製できることがわかった。これらの硬化膜は、ディスプレイにおける光拡散層として最適である。
【0188】
［実施例２］
以下の成分を用いて、インクジェット塗布用の感光性樹脂組成物を調製した。
以下の成分を用いて、インクジェット塗布用の感光性樹脂組成物を調製した。
【0189】
（光重合性化合物）
（Ａ２－２）：１，６－ヘキサンジオールジアクリレート（１，６ＨＸ－Ａ）（ライトアクリレート１．６ＨＸ－Ａ、共栄社化学株式会社製）
（Ａ２－２）：１，６－ヘキサンジオールジアクリレート（１，６ＨＸ－Ａ）（ライトアクリレート１．６ＨＸ－Ａ、共栄社化学株式会社製）
【0190】
（金属酸化物粒子分散体）
（Ｂ－３）：中空チタニア粒子（平均粒径３０６ｎｍ）、中空率約３０％、濃度６０質量％、分散剤６質量％、１．６ＨＸ－Ａが３４質量％の中空チタニア粒子分散体
（Ｂ－４）：中実チタニア粒子（平均粒径２００ｎｍ）、中空率０％、濃度６０質量％、分散剤６質量％、１．６ＨＸ－Ａが３４質量％の中実チタニア粒子分散体
（Ｂ－３）：中空チタニア粒子（平均粒径３０６ｎｍ）、中空率約３０％、濃度６０質量％、分散剤６質量％、１．６ＨＸ－Ａが３４質量％の中空チタニア粒子分散体
（Ｂ－４）：中実チタニア粒子（平均粒径２００ｎｍ）、中空率０％、濃度６０質量％、分散剤６質量％、１．６ＨＸ－Ａが３４質量％の中実チタニア粒子分散体
【0191】
（光重合開始剤）
（Ｃ）：１，２－オクタンジオン，１－［４－（フェニルチオ）フェニル］－，２－（Ｏ－ベンゾイルオキシム）（ＩｒｇａｃｕｒｅＯＸＥ－０１、ＢＡＳＦ社製、「Ｉｒｇａｃｕｒｅ」は同社の登録商標）
（Ｃ）：１，２－オクタンジオン，１－［４－（フェニルチオ）フェニル］－，２－（Ｏ－ベンゾイルオキシム）（ＩｒｇａｃｕｒｅＯＸＥ－０１、ＢＡＳＦ社製、「Ｉｒｇａｃｕｒｅ」は同社の登録商標）
【0192】
（その他添加剤）
（界面活性剤）
（Ｉ）：メガファックＦ－５６３（ＤＩＣ株式会社製）
（界面活性剤）
（Ｉ）：メガファックＦ－５６３（ＤＩＣ株式会社製）
【0193】
上記の配合成分を表３に示す割合で配合して、実施例６～１０および比較例３～４の感光性樹脂組成物を調製した。表３の数値はすべて質量部を表す。
【0194】
【表3】
【0195】
［評価］
実施例６～１０および比較例３～４の感光性樹脂組成物を用いて、以下の評価を行った。評価結果を表４に示す。
実施例６～１０および比較例３～４の感光性樹脂組成物を用いて、以下の評価を行った。評価結果を表４に示す。
【0196】
［薬品耐性評価］
（耐溶剤性評価用の硬化膜の作製）
表１に示した感光性樹脂組成物を、ガラス基板上に、硬化処理後の膜厚が４．０μｍとなるようにスピンコーターを用いて塗布し、塗膜を作製した。次いで、上記塗膜に、ｉ線照度３０ｍＷ／ｃｍ２の超高圧水銀ランプで５０ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射して、光硬化反応を行うことにより、実施例６～１０、および比較例３～４に係る硬化膜付き基板を得た。
（耐溶剤性評価用の硬化膜の作製）
表１に示した感光性樹脂組成物を、ガラス基板上に、硬化処理後の膜厚が４．０μｍとなるようにスピンコーターを用いて塗布し、塗膜を作製した。次いで、上記塗膜に、ｉ線照度３０ｍＷ／ｃｍ２の超高圧水銀ランプで５０ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射して、光硬化反応を行うことにより、実施例６～１０、および比較例３～４に係る硬化膜付き基板を得た。
【0197】
（評価方法）
ガラス基板上に作製した硬化膜の表面をＰＧＭＥＡに浸漬したウエスで連続して２０往復擦った。なお、△以上を合格とした。
（評価基準）
○：硬化膜の表面に溶解が見られず、傷も付いていない
△：硬化膜の表面のごく一部に溶解が見られ、ごく一部に傷も付いている
×：硬化膜の表面が軟化しており、大部分に傷が付いている
ガラス基板上に作製した硬化膜の表面をＰＧＭＥＡに浸漬したウエスで連続して２０往復擦った。なお、△以上を合格とした。
（評価基準）
○：硬化膜の表面に溶解が見られず、傷も付いていない
△：硬化膜の表面のごく一部に溶解が見られ、ごく一部に傷も付いている
×：硬化膜の表面が軟化しており、大部分に傷が付いている
【0198】
［光学特性評価］
（透過率の評価）
（評価方法）
耐溶剤性評価用に作製した硬化膜と同様の硬化膜を用いて、紫外可視近赤外分光光度計「ＵＨ４１５０」（株式会社日立ハイテクサイエンス製）を用い、４５０ｎｍの透過率を測定した。なお、△以上を合格とした。
（評価基準）
○：透過率が５０％未満
△：透過率が５０％以上５５％未満
×：透過率が５５％以上
（透過率の評価）
（評価方法）
耐溶剤性評価用に作製した硬化膜と同様の硬化膜を用いて、紫外可視近赤外分光光度計「ＵＨ４１５０」（株式会社日立ハイテクサイエンス製）を用い、４５０ｎｍの透過率を測定した。なお、△以上を合格とした。
（評価基準）
○：透過率が５０％未満
△：透過率が５０％以上５５％未満
×：透過率が５５％以上
【0199】
［光散乱性の評価］
耐溶剤性評価用に作製した硬化膜と同様の硬化膜の表面に対し、垂直に白色光を照射し、透過散乱光についてゴニオフォトメータ「ＧＰ－１」（ニッカ電測株式会社製）を用いて測定した。なお、△以上を合格とした。
（評価基準）
◎：直進した透過光の角度を０°とした場合の６°、６０°における散乱光の強度の評価を行い、６０°における散乱光強度が６°における散乱光強度に対し６５％以上
○：直進した透過光の角度を０°とした場合の６°、６０°における散乱光の強度の評価を行い、６０°における散乱光強度が６°における散乱光強度に対し６０％以上６５％未満
△：直進した透過光の角度を０°とした場合の６°、６０°における散乱光の強度の評価を行い、６０°における散乱光強度が６°における散乱光強度に対し５０以上６０％未満
×：直進した透過光の角度を０°とした場合の６°、６０°における散乱光の強度の評価を行い、６０°における散乱光強度が６°における散乱光強度に対し５０％未満
耐溶剤性評価用に作製した硬化膜と同様の硬化膜の表面に対し、垂直に白色光を照射し、透過散乱光についてゴニオフォトメータ「ＧＰ－１」（ニッカ電測株式会社製）を用いて測定した。なお、△以上を合格とした。
（評価基準）
◎：直進した透過光の角度を０°とした場合の６°、６０°における散乱光の強度の評価を行い、６０°における散乱光強度が６°における散乱光強度に対し６５％以上
○：直進した透過光の角度を０°とした場合の６°、６０°における散乱光の強度の評価を行い、６０°における散乱光強度が６°における散乱光強度に対し６０％以上６５％未満
△：直進した透過光の角度を０°とした場合の６°、６０°における散乱光の強度の評価を行い、６０°における散乱光強度が６°における散乱光強度に対し５０以上６０％未満
×：直進した透過光の角度を０°とした場合の６°、６０°における散乱光の強度の評価を行い、６０°における散乱光強度が６°における散乱光強度に対し５０％未満
【0200】
【表4】
【0201】
上記実施例６～１０、比較例３～４の結果から明らかなように、特定の屈折率粒子である、特定の屈折率を有する金属酸化物の粒子を含む感光性樹脂組成物を用いることにより、光散乱性に優れるとともに、精細なパターン形成をすることができる硬化膜を作製できることがわかった。これらの硬化膜は、ディスプレイにおける光拡散層として最適である。なお、上記実施例６～１０、比較例４の加工性樹脂組成物を市販のインクジェットヘッドヘッドから吐出したところ、問題なくパターンを形成することができた。
【0202】
［実施例３］
以下の方法で光散乱層および波長変換層を有する硬化膜付き基板を作製し、評価した。
以下の方法で光散乱層および波長変換層を有する硬化膜付き基板を作製し、評価した。
【0203】
以下に新たに合成例等で使用する略号と合成例を説明する。
【0204】
ＴＰＰ ：トリフェニルホスフィン
ＭＥＫ ：２－ブタノン
Ｃ６ＦＭＡ ：ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）ＣＯＯＣＨ２ＣＨ２（ＣＦ２）６Ｆ
ＭＡＡ ：メタクリル酸
２－ＨＥＭＡ ：２－ヒドロキシエチルメタクリレート
Ｖ－６５ ：２，２’－アゾビス（２，４－ジメチルバレロニトリル）
ｎ－ＤＭ ：ｎ－ドデシルメルカプタン
ＢＥＩ ：１，１－（ビスアクリロイルオキシメチル）エチルイソシアネート
ＤＢＴＤＬ ：ジブチル錫ジラウレート
ＴＢＱ ：ｔ－ブチル－ｐ－ベンゾキノン
ＭＥＫ ：２－ブタノン
Ｃ６ＦＭＡ ：ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）ＣＯＯＣＨ２ＣＨ２（ＣＦ２）６Ｆ
ＭＡＡ ：メタクリル酸
２－ＨＥＭＡ ：２－ヒドロキシエチルメタクリレート
Ｖ－６５ ：２，２’－アゾビス（２，４－ジメチルバレロニトリル）
ｎ－ＤＭ ：ｎ－ドデシルメルカプタン
ＢＥＩ ：１，１－（ビスアクリロイルオキシメチル）エチルイソシアネート
ＤＢＴＤＬ ：ジブチル錫ジラウレート
ＴＢＱ ：ｔ－ブチル－ｐ－ベンゾキノン
【0205】
［合成例３］
還留冷却器付き１Ｌの四つ口フラスコ中に、ＢＰＦＥ（２４４．３ｇ、０．５０ｍｏｌ）、ＡＡ（７２．１ｇ、１．０ｍｏｌ）、ＴＰＰ（０．４５ｇ）、およびＰＧＭＥＡ（３１８ｇ）を仕込み、１００～１０５℃の加熱下で１２時間撹拌し、反応生成物を得た。次いで、得られた反応生成物にＢＰＤＡ（９４．２ｇ、０．３２ｍｏｌ）およびＴＨＰＡ（３．０４ｇ、０．０２ｍｏｌ）を仕込み、１１５～１２０℃の加熱下で６時間撹拌し、重合性不飽和基含有アルカリ可溶性樹脂溶液を得た。得られた樹脂溶液の固形分濃度は５６．５質量％であり、酸価（固形分換算）は９０ｍｇＫＯＨ／ｇであり、ＧＰＣ分析によるＭｗは４６００であった。
還留冷却器付き１Ｌの四つ口フラスコ中に、ＢＰＦＥ（２４４．３ｇ、０．５０ｍｏｌ）、ＡＡ（７２．１ｇ、１．０ｍｏｌ）、ＴＰＰ（０．４５ｇ）、およびＰＧＭＥＡ（３１８ｇ）を仕込み、１００～１０５℃の加熱下で１２時間撹拌し、反応生成物を得た。次いで、得られた反応生成物にＢＰＤＡ（９４．２ｇ、０．３２ｍｏｌ）およびＴＨＰＡ（３．０４ｇ、０．０２ｍｏｌ）を仕込み、１１５～１２０℃の加熱下で６時間撹拌し、重合性不飽和基含有アルカリ可溶性樹脂溶液を得た。得られた樹脂溶液の固形分濃度は５６．５質量％であり、酸価（固形分換算）は９０ｍｇＫＯＨ／ｇであり、ＧＰＣ分析によるＭｗは４６００であった。
【0206】
［合成例４］
還留冷却器付き５００ｍｌ四つ口フラスコ中にＢＰＦＥ（１１４．４ｇ、 ０．２３ｍｏｌ）、ＡＡ（３３．２ｇ、０．４６ｍｏｌ）、ＰＧＭＥＡ（１５６ｇ）及びＴＥＡＢ（０．４８ｇ）を仕込み、１００～１０５℃で加熱下に２０時間撹拌して反応させた。次いで、フラスコ内にＢＰＤＡ（４４．１ｇ、０．１５ｍｏｌ）、ＴＨＰＡ（０．７６ｇ、０．００５ｍｏｌ）を仕込み、１２０～１２５℃で加熱下に６時間撹拌し、重合性不飽和基含有アルカリ可溶性樹脂溶液を得た。得られた樹脂溶液の固形分濃度は５５．６質量％、酸価（固形分換算）は９３ｍｇＫＯＨ／ｇ、ＧＰＣ分析によるＭｗは８３００であった。
還留冷却器付き５００ｍｌ四つ口フラスコ中にＢＰＦＥ（１１４．４ｇ、 ０．２３ｍｏｌ）、ＡＡ（３３．２ｇ、０．４６ｍｏｌ）、ＰＧＭＥＡ（１５６ｇ）及びＴＥＡＢ（０．４８ｇ）を仕込み、１００～１０５℃で加熱下に２０時間撹拌して反応させた。次いで、フラスコ内にＢＰＤＡ（４４．１ｇ、０．１５ｍｏｌ）、ＴＨＰＡ（０．７６ｇ、０．００５ｍｏｌ）を仕込み、１２０～１２５℃で加熱下に６時間撹拌し、重合性不飽和基含有アルカリ可溶性樹脂溶液を得た。得られた樹脂溶液の固形分濃度は５５．６質量％、酸価（固形分換算）は９３ｍｇＫＯＨ／ｇ、ＧＰＣ分析によるＭｗは８３００であった。
【0207】
［合成例５］：
撹拌機を備えた内容積１，０００ｃｍ３のオートクレーブに、ＭＥＫ（４１５．１ｇ）、Ｃ６ＦＭＡ（８１．０ｇ）、ＭＡＡ（１８．０ｇ）、２－ＨＥＭＡ（８１．０ｇ）、重合開始剤であるＶ－６５（５．０ｇ）およびｎ－ＤＭ（４．７ｇ）を仕込み、窒素雰囲気下で撹拌しながら、５０℃で２４時間重合させ、さらに７０℃にて５時間加熱し、重合開始剤を不活性化し、共重合体の溶液を得た。共重合体は、数平均分子量（Ｍｎ）が５，５４０、Ｍｗは１３，２００であった。次いで、撹拌機を備えた内容積３００ｃｍ３のオートクレーブに上記共重合体の溶液（１３０．０ｇ）、ＢＥＩ（３３．５ｇ）、ＤＢＴＤＬ（０．１３ｇ）、ＴＢＱ（１．５ｇ）を仕込み、撹拌しながら、４０℃で２４時間反応させ、粗重合体を合成した。得られた粗重合体の溶液にヘキサンを加えて再沈精製した後、真空乾燥し、撥インク剤６５．６ｇを得た。撥インク剤はＭｎ７，５４０、Ｍｗ１６，２００、フッ素原子の含有率１４．８（質量％）、Ｃ＝Ｃの含有量３．７３ｍｍｏｌ／ｇおよび酸価３５．１ｍｇＫＯＨ／ｇであった。
撹拌機を備えた内容積１，０００ｃｍ３のオートクレーブに、ＭＥＫ（４１５．１ｇ）、Ｃ６ＦＭＡ（８１．０ｇ）、ＭＡＡ（１８．０ｇ）、２－ＨＥＭＡ（８１．０ｇ）、重合開始剤であるＶ－６５（５．０ｇ）およびｎ－ＤＭ（４．７ｇ）を仕込み、窒素雰囲気下で撹拌しながら、５０℃で２４時間重合させ、さらに７０℃にて５時間加熱し、重合開始剤を不活性化し、共重合体の溶液を得た。共重合体は、数平均分子量（Ｍｎ）が５，５４０、Ｍｗは１３，２００であった。次いで、撹拌機を備えた内容積３００ｃｍ３のオートクレーブに上記共重合体の溶液（１３０．０ｇ）、ＢＥＩ（３３．５ｇ）、ＤＢＴＤＬ（０．１３ｇ）、ＴＢＱ（１．５ｇ）を仕込み、撹拌しながら、４０℃で２４時間反応させ、粗重合体を合成した。得られた粗重合体の溶液にヘキサンを加えて再沈精製した後、真空乾燥し、撥インク剤６５．６ｇを得た。撥インク剤はＭｎ７，５４０、Ｍｗ１６，２００、フッ素原子の含有率１４．８（質量％）、Ｃ＝Ｃの含有量３．７３ｍｍｏｌ／ｇおよび酸価３５．１ｍｇＫＯＨ／ｇであった。
【0208】
以下の成分を用いて、感光性樹脂組成物を調製した。
【0209】
（アルカリ可溶性樹脂）
（１）：上記合成例３で得られた樹脂溶液（固形分濃度５６．５質量％）
（２）：上記合成例１で得られた樹脂溶液（固形分濃度５６．５質量％）
（３）：上記合成例４で得られた樹脂溶液（固形分濃度５５．６質量％）
（４）：クレゾールノボラック型エポキシ樹脂をＡＡ、次いでＴＨＰＡと反応させて、アクリロイル基とカルボキシル基とを導入した樹脂をヘキサンで精製した樹脂、固形分７０質量％、酸価（固形分換算）６０ｍｇＫＯＨ／ｇ
（１）：上記合成例３で得られた樹脂溶液（固形分濃度５６．５質量％）
（２）：上記合成例１で得られた樹脂溶液（固形分濃度５６．５質量％）
（３）：上記合成例４で得られた樹脂溶液（固形分濃度５５．６質量％）
（４）：クレゾールノボラック型エポキシ樹脂をＡＡ、次いでＴＨＰＡと反応させて、アクリロイル基とカルボキシル基とを導入した樹脂をヘキサンで精製した樹脂、固形分７０質量％、酸価（固形分換算）６０ｍｇＫＯＨ／ｇ
【0210】
（光重合性化合物）
（１）：ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとヘキサアクリレートとの混合物（ＤＰＨＡ（アクリル当量９６～１１５）、日本化薬株式会社製）
（１）：ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとヘキサアクリレートとの混合物（ＤＰＨＡ（アクリル当量９６～１１５）、日本化薬株式会社製）
【0211】
（光重合開始剤）
（１）：エタノン，１－［９－エチル－６－（２－メチルベンゾイル）－９Ｈ－カルバゾール－３－イル］－，１－（０－アセチルオキシム）（イルガキュアＯＸＥ０２、ＢＡＳＦ社製）
（２）：１－［４－（フェニルスルファニル）フェニル］オクタン－１，２－ジオン ２－Ｏ－ベンゾイルオキシム（イルガキュアＯＸＥ０１、ＢＡＳＦ社製）
（３）：ビス（２，４，６－トリメチルベンゾイル）－フェニルホスフィンオキサイド
（４）：イソプロピルチオキサントン
（１）：エタノン，１－［９－エチル－６－（２－メチルベンゾイル）－９Ｈ－カルバゾール－３－イル］－，１－（０－アセチルオキシム）（イルガキュアＯＸＥ０２、ＢＡＳＦ社製）
（２）：１－［４－（フェニルスルファニル）フェニル］オクタン－１，２－ジオン ２－Ｏ－ベンゾイルオキシム（イルガキュアＯＸＥ０１、ＢＡＳＦ社製）
（３）：ビス（２，４，６－トリメチルベンゾイル）－フェニルホスフィンオキサイド
（４）：イソプロピルチオキサントン
【0212】
（エポキシ化合物）
（１）：テトラメチルビフェニル系エポキシ樹脂（ＹＸ－４０００、日本化薬社製）
（１）：テトラメチルビフェニル系エポキシ樹脂（ＹＸ－４０００、日本化薬社製）
【0213】
（溶剤）
（１）：プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ）
（２）：シクロヘキサノン（ＡＮＯＮ）
（３）：ジエチレングリコールジメチルエーテル（ＤＭＤＧ）
（４）：ジエチレングリコールメチルエチルエーテル（ＥＤＭ）
（５）：プロピレングリコールモノメチルエーテル（ＰＧＭＥ）
（６）：ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート（ＥＤＧＡＣ）
（１）：プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ）
（２）：シクロヘキサノン（ＡＮＯＮ）
（３）：ジエチレングリコールジメチルエーテル（ＤＭＤＧ）
（４）：ジエチレングリコールメチルエチルエーテル（ＥＤＭ）
（５）：プロピレングリコールモノメチルエーテル（ＰＧＭＥ）
（６）：ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート（ＥＤＧＡＣ）
【0214】
（カップリング剤）
（１）：３－メルカプトプロピルトリメトキシシラン（KBM－803、信越化学（株）製）
（２）：３－グリシドキシプロピルトリメトキシシラン
（１）：３－メルカプトプロピルトリメトキシシラン（KBM－803、信越化学（株）製）
（２）：３－グリシドキシプロピルトリメトキシシラン
【0215】
（界面活性剤）
（１）：ＢＹＫ－３３０（ビックケミー社製）
（２）：ＦＺ－２１２２（１質量％ＰＧＭＥＡ溶液）（東レ・ダウコーニング社製）
（３）：ＢＹＫ－３０２（１質量％ＰＧＭＥＡ溶液）（ビックケミー社製）
（１）：ＢＹＫ－３３０（ビックケミー社製）
（２）：ＦＺ－２１２２（１質量％ＰＧＭＥＡ溶液）（東レ・ダウコーニング社製）
（３）：ＢＹＫ－３０２（１質量％ＰＧＭＥＡ溶液）（ビックケミー社製）
【0216】
（顔料分散体）
（１）：カーボンブラック濃度２５．０質量％、高分子分散剤濃度５．０質量％のＰＧＭＥＡ分散液（固形分３０．０質量％）
（２）：微粒化されたピグメント・レッド２５４（ＢＥＴ法による比表面積８５ｍ２／ｇ、キュムラント法による平均粒径７２ｎｍ））１５％、高分子分散剤１０％のＰＧＭＥＡ溶液
（３）：微粒化されたピグメント・グリーン７（ＢＥＴ法による比表面積７５ｍ２／ｇ、キュムラント法による平均粒径３２ｎｍ）１５％、高分子分散剤１０％のＰＧＭＥＡ溶液
（４）：微粒化されたピグメント・ブルー１５：６（ＢＥＴ法による比表面積９０ｍ２／ｇ、キュムラント法による平均粒径５７ｎｍ）１５質量％、高分子分散剤１０質量％のＰＧＭＥＡ溶液
（１）：カーボンブラック濃度２５．０質量％、高分子分散剤濃度５．０質量％のＰＧＭＥＡ分散液（固形分３０．０質量％）
（２）：微粒化されたピグメント・レッド２５４（ＢＥＴ法による比表面積８５ｍ２／ｇ、キュムラント法による平均粒径７２ｎｍ））１５％、高分子分散剤１０％のＰＧＭＥＡ溶液
（３）：微粒化されたピグメント・グリーン７（ＢＥＴ法による比表面積７５ｍ２／ｇ、キュムラント法による平均粒径３２ｎｍ）１５％、高分子分散剤１０％のＰＧＭＥＡ溶液
（４）：微粒化されたピグメント・ブルー１５：６（ＢＥＴ法による比表面積９０ｍ２／ｇ、キュムラント法による平均粒径５７ｎｍ）１５質量％、高分子分散剤１０質量％のＰＧＭＥＡ溶液
【0217】
（撥インク剤）
（１）：合成例５で得られた撥インク剤
（１）：合成例５で得られた撥インク剤
【0218】
上記の配合成分を表５に示す割合で配合して、感光性樹脂組成物を調製した。表５の数値はすべて質量部を表す。
【0219】
【表5】
【0220】
［硬化膜付き基板の作製方法］
図１に示した基板を作製するに当たっては、前記各層を、先に述べた順番とは逆の順番で形成した。波長変換層に用いる量子ドットが熱に弱い性質があることから、熱工程を必要とする各層の中で、波長変換層の形成をできるだけ後にする必要があるためである。
図１に示した基板を作製するに当たっては、前記各層を、先に述べた順番とは逆の順番で形成した。波長変換層に用いる量子ドットが熱に弱い性質があることから、熱工程を必要とする各層の中で、波長変換層の形成をできるだけ後にする必要があるためである。
【0221】
まず、予め低圧水銀灯で波長２５４ｎｍの照度１０００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射して表面を洗浄した１２５ｍｍ×１２５ｍｍのガラス基板「＃１７３７」（コーニング社製）（以下「ガラス基板」という）上に、表５に記載のＢＭ用組成物を、スピンコーターを用いてポストベーク後の膜厚が１．１μｍとなるように塗布し、ホットプレートを用いて９０℃で２分間プリベークした。その後、露光ギャップを１００μｍに調整し、乾燥塗膜の上にライン／スペース＝２０μｍ／１０μｍのネガ型フォトマスクを介して、ｉ線照度３０ｍＷ／ｃｍ２の超高圧水銀ランプで８０ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射し、感光部分の光硬化反応を行った。次に、この露光済み塗膜を２５℃、０．０５％水酸化カリウム水溶液で、パターンが現れ始める現像時間＋３０秒間現像を行って、更に水洗を行って、塗膜の未露光部を除去してガラス基板上に画素パターンを形成し、その後、熱風乾燥機を用いて２３０℃、３０分間熱ポストベークすることによりブラックマトリクス層を形成した。
【0222】
次に、前記ブラックマトリクス層が形成された基板に対して、表５に記載のＣＦ用組成物（赤）を、スピンコーターを用いてポストベーク後の膜厚が２．０μｍとなるように塗布し、ホットプレートを用いて９０℃で２分間プリベークした。その後、前記ブラックマトリクスパターンの開口部の、赤画素に相当する部分のみが露光されるように配置した、２０μｍの開口部を有するネガ型フォトマスクを介して、ｉ線照度３０ｍＷ／ｃｍ２の超高圧水銀ランプで１００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射し、露光部分の光反応を行った。次に、塗膜に対して２３℃の０．４％炭酸ナトリウム水溶液で１分間現像を行い、更に水洗を行って、塗膜の未露光部を除去した。その後、熱風乾燥機を用いて２３０℃、３０分間ポストベークすることにより、赤色着色層（１色目の画素パターン）を得た。次に、上記の手順を表５に記載のＣＦ用組成物（緑）を用いて同一の基板上に繰り返して実施し、緑画素に相当する部分に緑色着色層（２色目の画素パターン）を得た。更に、上記の手順を表５に記載のＣＦ用組成物（青）を用いて同一の基板上に繰り返して実施し、青画素に相当する部分に青色着色層（３色目の画素パターン）を得た。こうして赤色・緑色・青色の３色の画素パターンを有する着色層を形成した。
【0223】
続いて、前記ブラックマトリクス層の上に着色層が形成された基板に対して、表５に記載の保護層用組成物を、スピンコーターを用いてポストベーク後の膜厚が１．５μｍになるように塗布し、ホットプレートを用いて９０℃２分間プリベークした。その後、ｉ線照度３０ｍＷ／ｃｍ２の超高圧水銀ランプで１００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を全面に照射し、光反応を行った。その後、熱風乾燥機を用いて２３０℃で６０分間、本硬化（ポストベーク）しを行うことにより、保護層を形成した。
【0224】
以上により、ガラス基板上にブラックマトリクス層、着色層、保護層の順で形成されたカラーフィルター層を形成した。
【0225】
続いて、前記カラーフィルター層の各着色層に対応する光散乱層、波長変換層を形成するための区分け目的の隔壁層を形成するため、前期カラーフィルター層に対して、表５に記載の隔壁用組成物を、スピンコーターを用いてポストベーク後の膜厚が５．０μｍとなるように塗布し、ホットプレートを用いて９０℃２分間プリベークした。その後、前記カラーフィルター層のブラックマトリクスパターンの領域が露光されるように配置した、ライン／スペース＝２０μｍ／１０μｍのネガ型フォトマスクを介して、ｉ線照度３０ｍＷ／ｃｍ２の超高圧水銀ランプで１５０ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射し、露光部分の光反応を行った。次に、塗膜に対して２３℃の０．４％テトラメチル水酸化アンモニウム水溶液で１分間現像を行い、更に水洗を行って、塗膜の未露光部を除去した。その後、熱風乾燥機を用いて２３０℃、３０分間ポストベークすることにより、隔壁層を形成した。
【0226】
次に、光散乱層および波長変換層を形成した。
【0227】
表６に、光散乱層および波長変換層の形成に用いた感光性樹脂組成物を示す。
光散乱層の形成には、表１の実施例３と同じ感光性樹脂組成物を用いた。波長変換層の形成には、量子ドット分散体として、以下の材料を、
（Ｆ－１）：ＣｄＳｅ／ＺｎＳコアシェルタイプ、リガンド修飾済み、発光波長５４０ｎｍ（ＭＥＲＣＫ社製）、濃度５０質量％、ＰＧＭＥＡ５０質量％の緑色量子ドット分散体
（Ｆ－２）：ＣｄＳｅ／ＺｎＳコアシェルタイプ、リガンド修飾済み、発光波長６３０ｎｍ（ＭＥＲＣＫ社製）、濃度５０質量％、ＰＧＭＥＡ５０質量％の赤色量子ドット分散体
光重合開始剤として以下の材料を、
（Ｃ－２）：２，４，６－トリメチルベンゾイル－ジフェニルフォスフィンオキサイド（Ｏｍｎｉｒａｄ ＴＰＯ、ＩＧＭ ｒｅｓｉｎｓ社製）
それぞれ用いた以外は、光散乱層に用いた材料と同じ材料を使用した。
光散乱層の形成には、表１の実施例３と同じ感光性樹脂組成物を用いた。波長変換層の形成には、量子ドット分散体として、以下の材料を、
（Ｆ－１）：ＣｄＳｅ／ＺｎＳコアシェルタイプ、リガンド修飾済み、発光波長５４０ｎｍ（ＭＥＲＣＫ社製）、濃度５０質量％、ＰＧＭＥＡ５０質量％の緑色量子ドット分散体
（Ｆ－２）：ＣｄＳｅ／ＺｎＳコアシェルタイプ、リガンド修飾済み、発光波長６３０ｎｍ（ＭＥＲＣＫ社製）、濃度５０質量％、ＰＧＭＥＡ５０質量％の赤色量子ドット分散体
光重合開始剤として以下の材料を、
（Ｃ－２）：２，４，６－トリメチルベンゾイル－ジフェニルフォスフィンオキサイド（Ｏｍｎｉｒａｄ ＴＰＯ、ＩＧＭ ｒｅｓｉｎｓ社製）
それぞれ用いた以外は、光散乱層に用いた材料と同じ材料を使用した。
【0228】
実施例として作製した硬化膜付き基板では、波長変換層（緑画素および赤画素）に中空粒子を用いた。一方、比較例として作製した硬化膜付き基板では、波長変換層（緑画素および赤画素）に、光散乱層と同じ中実粒子を用いた。なお、本実験において使用した中空粒子および中実粒子は、固形分中の濃度が同等になるように調整した。上記の配合成分を表６に示す割合で配合して、光散乱層、波長変換層（緑）および波長変換層（赤）の感光性樹脂組成物を調製した。表Ｚの数値はすべて質量％を表す。
【0229】
【表6】
【0230】
光散乱層を以下の方法で作製した。
【0231】
ガラス基板にカラーフィルター層および隔壁層を形成した基板に、表６に示す光散乱層用の組成物を、４．０μｍとなるようにスピンコーターを用いて塗布し、ホットプレートを用いて９０℃で２分間プリベークをして硬化膜（塗膜）を作製した。次いで、上記硬化膜（塗膜）上に２０μｍ幅の開口部を有するネガ型フォトマスクを、開口部がカラーフィルター層の青色着色層に合わせて被せ、ｉ線照度３０ｍＷ／ｃｍ２の超高圧水銀ランプで５０ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射して、光硬化反応を行った。次いで、露光した上記硬化膜（塗膜）を２５℃、０．０４％水酸化カリウム溶液により１ｋｇｆ／ｃｍ２のシャワー圧にて、パターンが現れ始める現像時間（ブレイクタイム＝ＢＴ）から２０秒間、現像処理を行った後、５ｋｇｆ／ｃｍ２のスプレー水洗を行い、上記硬化膜（塗膜）の未露光部分を除去してガラス基板上に硬化膜パターンを形成し、熱風乾燥機を用いて１２０℃で６０分間、本硬化（ポストベーク）し、光散乱層を形成した。
【0232】
続いて、波長変換層を次に示す方法で作製した。
【0233】
表６に示した感光性樹脂組成物を、前記基板上に、加熱硬化処理後の膜厚が４．０μｍとなるようにスピンコーターを用いて塗布し、ホットプレートを用いて９０℃で２分間プリベークをして硬膜（塗膜）を作製した。次いで、上記硬化膜（塗膜）上に２０μｍの開口部を有するネガ型フォトマスクを、波長変換層（緑）用の感光性樹脂組成物の場合は開口部がカラーフィルター層の緑色着色層に合せるようにして、波長変換層（赤）用の感光性樹脂組成物の場合は開口部がカラーフィルター層の赤色着色層に合せるようにして被せ、それぞれ、窒素雰囲気下で、波長３９５ｎｍのＬＥＤ光源から２０００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射して、光硬化反応を行った。 次いで、露光した上記硬化膜（塗膜）を２５℃、０．０４％水酸化カリウム溶液により１ｋｇｆ／ｃｍ２のシャワー圧にて、パターンが現れ始める現像時間（ブレイクタイム＝ＢＴ）から２０秒間、現像処理を行った後、５ｋｇｆ／ｃｍ２のスプレー水洗を行い、上記硬化膜（塗膜）の未露光部分を除去してガラス基板上に硬化膜パターンを形成し、熱風乾燥機を用いて１２０℃で６０分間、本硬化（ポストベーク）し、波長変換層を作成した。
【0234】
最後に保護層を形成した。保護層は、光散乱層に用いた感光性樹脂組成物から金属酸化物粒子を除いた組成物を、加熱硬化後の膜厚が２．０μｍとなるようにスピンコーターを用いて塗布し、ホットプレートを用いて９０℃で２分間プリベークをして硬化膜（塗膜）を作製した。次いで、上記硬化膜（塗膜）に対して、ｉ線照度３０ｍＷ／ｃｍ２の超高圧水銀ランプで５０ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射して、光硬化反応を行った。次いで、熱風乾燥機を用いて１２０℃で６０分間、本硬化（ポストベーク）し、保護層を形成した。
【0235】
以上により、カラーフィルター層の上に光散乱層および波長変換層を形成した硬化膜付き基板を得た。
【0236】
［評価］
前記硬化膜付き基板を用いて、以下の評価を行った。
前記硬化膜付き基板を用いて、以下の評価を行った。
【0237】
青色光源として、青色ＬＥＤ（ピーク波長４５０ｎｍ）を面発光光源として用い、その上に本実施例および比較例の硬化膜付き基板を、カラーフィルター層が上になるようにガラス面を上にして載せ、ガラス面側から積分球付きの分光放射計を用いて、分光スペクトルを測定した。
【0238】
その結果、本実施例の硬化膜付き基板から得られるスペクトルは、４００ｎｍ～４８０ｎｍの範囲の青色発光強度（光散乱層を経由して発せられるＬＥＤ光源の光の強度）、４８０ｎｍ～５９０ｎｍの範囲の緑色発光強度（緑色画素の波長変換層を経由して発せられる光の強度）、５９０ｎｍ～７５０ｎｍの範囲の赤色発光強度（赤色画素の波長変換層を経由して発せられる光の強度）のバランスが優れているのに対し、比較例の硬化膜付き基板から得られるスペクトルは、青色発光強度に対して、緑色発光強度および赤色発光強度が相対的に弱く、３色のバランスが悪いことがわかった。
【産業上の利用可能性】
【0239】
本発明の感光性樹脂組成物によれば、光散乱性に優れた硬化膜付き基板を得ることができる。例えば、表示装置における光拡散層などに有用である。特に、透過散乱光の分布に優れる点がディスプレイの視野角を広げる効果がある。さらに、この感光性樹脂組成物は低温で硬化しても耐溶剤性を得ることができる。
【符号の説明】
【0240】
１００ 画像表示装置
１１０ 第１の保護層
１２０ 光散乱層
１２２、１２２ａ、１２２ｂ 波長変換層
１２４ 隔壁層
１３０ 第２の保護層
１４０ カラーフィルター層
１４０ａ 赤色のカラーフィルター
１４０ｂ 緑色のカラーフィルター
１４０ｃ 青色のカラーフィルター
１５０ ガラス基板
１６０ 光散乱層
１１０ 第１の保護層
１２０ 光散乱層
１２２、１２２ａ、１２２ｂ 波長変換層
１２４ 隔壁層
１３０ 第２の保護層
１４０ カラーフィルター層
１４０ａ 赤色のカラーフィルター
１４０ｂ 緑色のカラーフィルター
１４０ｃ 青色のカラーフィルター
１５０ ガラス基板
１６０ 光散乱層
【図1】